KR20020002431A - An optical recording medium and method for using same - Google Patents

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KR20020002431A
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recording
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도미에다까시
찌바기요시
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야스이 쇼사꾸
데이진 가부시키가이샤
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Abstract

기판 및 적어도 상기 기판 상에 순차 형성된 기록층 및 상부 무기층을 포함하고, 상기 상부 무기층의 면상에 위치한 광 헤드로부터 상기 기록 매체에 빔을 조사하는 것에 의해 기록과 재생을 행하고, 상기 기록 매체에 상기 기록용 빔을 조사할 때 상기 광 기록 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화되지 않도록 상기 상부 무기층을 형성하며, 바람직하게는, A) 상기 상부 무기층은, 상기 기록용 빔을 상기 기록 매체에 조사할 때 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도가 상기 광 기록 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하는 수준까지 증가하지 않는 두께를 갖는 제 1 유전층을 포함한다, 또는 B) 상기 상부 무기층은, 기록용 광 빔을 상기 기록 매체 상에 조사할 때, 상기 기록 매체의 상부 표면 온도가 상기 광 기록 매체의 표면 상에 존재하는 외래 물질이 기화되는 수준까지 증가하지 않는 제 2 유전층, 금속층, 및 제 3 유전층으로 순차 형성된 층상구조를 구비하는 라미네이트를 포함한다.Recording and reproducing by irradiating a beam to the recording medium from an optical head positioned on a surface of the upper inorganic layer, the recording layer including a substrate and at least a recording layer and an upper inorganic layer sequentially formed on the substrate. The upper inorganic layer is formed so that foreign materials existing on the upper surface of the optical recording medium are not vaporized when the recording beam is irradiated. Preferably, A) the upper inorganic layer is configured to cause the recording beam to A first dielectric layer having a thickness such that when irradiated to a recording medium, the temperature of the upper surface of the recording medium does not increase to a level at which foreign material present on the upper surface of the optical recording medium vaporizes, or B) the upper portion In the inorganic layer, when irradiating a recording light beam onto the recording medium, an upper surface temperature of the recording medium is present on the surface of the optical recording medium. Includes a laminate having a layered structure sequentially formed of a second dielectric layer, a metal layer, and a third dielectric layer that do not increase to the level at which the foreign material vaporizes.

Description

광 기록 매체 및 이를 사용하는 방법{AN OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR USING SAME}Optical recording medium and method of using the same {AN OPTICAL RECORDING MEDIUM AND METHOD FOR USING SAME}

현재 일반적으로 사용되는 대부분의 기록 매체는 레이저 빔이 기판을 통하여 기록층에 조사되는 타입이다.Most of the recording media generally used today are of a type in which a laser beam is irradiated onto the recording layer through the substrate.

이와 대조적으로, 최근에 매체의 표면으로부터 매우 작은 거리를 두고 위치한 광 헤드를 사용하여 레이저 빔을 조사하는 타입이 주목을 받고 있으며, 이것은 하드디스크의 헤드와 유사한 플라잉 슬라이더를 가지고 있고, 대물렌즈가 탑재되어 있는 플라잉 광 헤드를 사용하여, 레이저는 기판을 통과하지 않고 기록층의 면으로부터 매체 상에 조사된다 (출판사 Ohm Co.에서 1996년 5월에 발행한 일본 잡지 'Electronics' 페이지 87~91). 이와 같은 타입의 매체를 층 면 입사 타입(layer side incident type) 매체라고 한다.In contrast, recently, the type of laser beam irradiation using an optical head located at a very small distance from the surface of the medium has attracted attention, which has a flying slider similar to the head of a hard disk, and an objective lens is mounted. Using a flying optical head, the laser is irradiated onto the medium from the surface of the recording layer without passing through the substrate (Japanese magazine 'Electronics' pages 87-91 published in May 1996 by publisher Ohm Co.). This type of medium is called a layer side incident type medium.

이와 같은 층 면 입사 타입 매체에서는, 통상의 광 헤드에 사용하는 초점 제어용 엑츄에이터를 사용하지 않고, 광 헤드를 매체의 표면으로부터 일정한 높이로 비행하게 함으로써 빔의 초점을 기록층에 맞춘다. 상기의 문헌에서 설명된 바와 같이, 광 헤드를 기록 매체의 표면에 더욱 더 근접시키는 것이, 촛점에서의 빔의 직경을 더욱 더 작게하여 기록 밀도를 더욱 증가시킬 수 있으므로, 바람직하며, 통상 대물렌즈와 기록 매체의 표면 사이의 간격은 1 ㎛ 이하이다.In such a layer plane incidence type medium, the focus of the beam is focused on the recording layer by allowing the optical head to fly at a constant height from the surface of the medium without using the focus control actuator used for the ordinary optical head. As described in the above document, bringing the optical head closer to the surface of the recording medium is preferable, since the diameter of the beam at the focus can be made smaller to further increase the recording density. The interval between the surfaces of the recording medium is 1 탆 or less.

또 다른 층 면 입사 타입이 제안되었다. 즉, 위에서 설명한 미소 간격 시스템(Small gap system)과 달리, 광 기록 매체에 정보를 기록하고 재생하는 데 종래의 기판-면 입사 타입 매체(substrate-side incident type mediums)에 사용하는 광 헤드와 유사한 초점 제어용 엑츄에이터를 구비한 광 헤드를 사용하지만, 빔은 기판을 통과하지 않고 기록층 면으로부터 매체에 입사된다 (출판사 Shin-Gijutsu Communications에서 1998년 2월에 발행된 잡지 "O plus E" Vol. 20, No. 2, 페이지 183~186 및 1998년 5월 10-13일의 OSA Technical Digest Series Volume 8인 "Optical Data Storage Conference Edition"의 프리젠테이션 WA2, 페이지 131-133).Another layer plane incidence type has been proposed. That is, unlike the small gap system described above, a focal point similar to that of an optical head used in conventional substrate-side incident type mediums for recording and reproducing information on the optical recording medium is described. Although an optical head with a control actuator is used, the beam is incident on the medium from the recording layer side without passing through the substrate (the magazine "O plus E" Vol. 20, published in February 1998 by the publisher Shin-Gijutsu Communications, No. 2, pages 183-186, and presentation WA2, pages 131-133 of the OSA Technical Digest Series Volume 8, "Optical Data Storage Conference Edition", May 10-13, 1998).

상기의 2 가지 문헌의 기술은 2 개의 특정 렌즈의 조합으로 얻어지는 높은 개구수(Numerical Aperture, NA)를 가진 광학 시스템과 현재 사용되는 매체에 비해 상당한 정도로 기록 밀도를 증가시킬 수 있는 유기 코팅층 (예컨데, 빔이 입사되는 면 상에 100 ㎛의 두께로 형성된 투명층 또는 광 경화 수지층)의 광학적 특성을 결합함으로써 기록 밀도를 증대시키려 한다. 그러나, 이 기술에서는, 광 헤드와 기록층 사이의 거리가 적어도 유기 코팅층의 두께만큼 증가하고, 기판-면 입사 타입 (substrate-side incident type) 과 같은 광학 시스템의 사용으로 인하여 광 헤드와 매체의 표면 사이의 거리가 증가하므로, 기록 밀도가 제한된다.The above two documents describe an optical system with a high numerical aperture (NA) obtained with a combination of two specific lenses and an organic coating layer that can increase the recording density to a significant degree compared to the media currently used (e.g., It is intended to increase the recording density by combining the optical properties of a transparent layer or a photocurable resin layer formed to a thickness of 100 mu m on the surface on which the beam is incident. In this technique, however, the distance between the optical head and the recording layer increases at least by the thickness of the organic coating layer, and due to the use of an optical system such as a substrate-side incident type, the surface of the optical head and the medium Since the distance between them increases, the recording density is limited.

이와 반대로, 미소 간격 방식의 층 면 입사 타입 매체가 이론적으로 더 높은 기록 밀도를 얻을 수 있어, 주목을 받고 있다. 층 면 입사 타입 (layer side incident type) 매체가 종래의 매체에 비해 더 높은 기록 밀도를 가질 수 있어 이에 대한 연구가 이미 시작되었지만, 실용적 수준의 기록과 재생을 아직 얻을 수 없어 앞으로도 해결해야 할 다양한 문제가 있다.On the contrary, the layer spacing type medium of the micro-gap type has attracted attention because it can theoretically obtain a higher recording density. Although research has already begun as layer side incident type media can have higher recording densities than conventional media, various problems to be solved in the future as practical recording and reproduction have not yet been achieved. There is.

본 발명은 미소 간격 방식의 층 면 입사 타입 (layer side incident type) 매체의 개선에 관한 것으로서, 본 발명자들이 발견한 다음의 문제점을 해결하려는 것이다.The present invention is directed to the improvement of a layer side incident type medium of a small spacing method, and is intended to solve the following problems found by the present inventors.

즉, 본 발명자들은 폴리카보네이트 기판 (polycarbonate substrate) 상에 반사층, 하부 유전층, 기록층 및 상부 유전층으로 구성된 층 면 입사 타입 (layer side incident type) 매체에 대한 연구를 행하여, 플라잉 광 헤드 상에 탑재된 대물렌즈가 흐려지거나 또는 먼지가 끼는 문제점을 발견하였다. 재생시에는, 트랙킹 제어(tracking control)에 문제가 없었다. 그러나, 비교적 고출력의 레이저 빔을 기록 또는 소거를 위해 조사하면, 대물렌즈에 먼지가 끼어 트랙킹 제어가 즉각적으로 어려워질 뿐만 아니라, 심지어 재생마저 불가능하였다.That is, the present inventors have conducted research on a layer side incident type medium composed of a reflective layer, a lower dielectric layer, a recording layer, and an upper dielectric layer on a polycarbonate substrate, and mounted on a flying optical head. We found that the objective lens is blurred or dusty. During playback, there was no problem with tracking control. However, irradiating a relatively high power laser beam for recording or erasing not only makes the tracking control difficult immediately because of dust in the objective lens, but even reproduction is impossible.

본 발명의 목적은 상기의 문제를 해결하기 위한 것으로서, 렌즈에 먼지가 끼는 것을 방지하고 장기간 사용할 수 있는 미소 간격 방식의 층 면 입사 타입 매체(layer side incident type medium in a small gap manner)를 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide a layer side incident type medium in a small gap manner that can prevent dust from getting into the lens and can be used for a long time. will be.

본 발명은 광 기록 매체 및 그 기록 매체를 기록 및 재생하는 방법에 관한 것이다. 더욱 상세히 설명하면, 본 발명의 광 기록 매체는 기록 매체의 표면으로부터 매우 작은 거리를 두고 위치한 광 헤드에 의해 기판과 마주하는 매체의 기록 층의 면으로부터 매체의 표면에 레이저 빔이 조사되는 타입이다.The present invention relates to an optical recording medium and a method for recording and reproducing the recording medium. More specifically, the optical recording medium of the present invention is a type in which a laser beam is irradiated onto the surface of the medium from the surface of the recording layer of the medium facing the substrate by the optical head located at a very small distance from the surface of the recording medium.

도 1은 매체의 층 면으로부터 기판을 통과하지 않고 플라잉 광 헤드를 사용하여 빔을 조사함으로써, 기록용 매체 또는 광 디스크에 광학적으로 기록을 하는 시스템을 나타낸 도면이다.1 is a diagram showing a system for optically recording onto a recording medium or an optical disc by irradiating a beam using a flying optical head without passing through the substrate from the layer surface of the medium.

도 2는 매체의 반사율과 상부 유전층의 두께 사이의 관계를 나타낸 도면이다.2 shows the relationship between the reflectance of the medium and the thickness of the upper dielectric layer.

도 3 내지 도 5는 본 발명에 따른 광 기록 매체의 단면도이다.3 to 5 are sectional views of the optical recording medium according to the present invention.

본 발명에 따르면, 상기 목적 및 그 외 다른 목적은, 기판 및 그 기판 상에 적어도 기록층 및 상부 무기층을 순차로 포함하며, 상부 무기층 면에 위치한 광 헤드로부터 상기의 매체에 빔을 조사하여 기록과 재생을 행하고, 상기 상부 무기층은 기록용 빔이 기록 매체에 조사될 때 상기의 광 기록 매체 표면 상에 존재하는 외래 물질이 기화하지 않도록 구성되는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체를 제공함으로써 광 기록 매체를 제공함으로써, 달성할 수 있다. 특히, 상부 무기층은 다음의 2 가지 특징 중의 하나를 갖도록 구성된다.According to the present invention, the above and other objects include a substrate and at least a recording layer and an upper inorganic layer sequentially on the substrate, and irradiating a beam to the medium from an optical head located on the upper inorganic layer surface. Recording and reproducing, and wherein the upper inorganic layer is configured so that foreign materials existing on the surface of the optical recording medium are not vaporized when the recording beam is irradiated to the recording medium. By providing a recording medium, this can be achieved. In particular, the upper inorganic layer is configured to have one of the following two characteristics.

A) 상기 상부 무기층은, 기록용 빔이 기록 매체에 조사될 때 광 기록 매체의 표면에 존재하는 외래물질이 기화하는 수준까지 기록 매체의 상부 표면 온도가 증가하지 않는 두께를 갖는 유전층 (본 발명의 제 1 태양)을 구비하며; 또는A) The upper inorganic layer is a dielectric layer having a thickness such that the upper surface temperature of the recording medium does not increase to the level at which foreign materials present on the surface of the optical recording medium vaporize when the recording beam is irradiated onto the recording medium (the present invention) A first aspect of); or

B) 상기 상부 무기층은, 상기 기록층 상에 제 2 유전층, 금속층 및 제 3 유전층 순으로 형성된 라미네이트를 포함함으로써, 기록용 빔이 상기 기록 매체 상에 조사될 때, 상기 광 매체의 표면에 존재하는 외래의 물질이 기화하는 수준까지 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도는 증가하지 않는다 (본 발명의 제 2 태양).B) said upper inorganic layer comprises a laminate formed on said recording layer in the order of a second dielectric layer, a metal layer and a third dielectric layer, thereby being present on the surface of said optical medium when a recording beam is irradiated on said recording medium. The temperature of the upper surface of the recording medium does not increase to the level where the foreign substance vaporizes (second aspect of the present invention).

본 명세서에서, 기록이란 용어는 넓은 의미로서 사용되며, 기입 (또한, 좁은 의미로서 기록이라고도 한다) 과 소거 (erasing) 를 포함한다. 상 변화 타입 광 기록 매체 (phase change-type optical recording medium) 에서는, 통상 기입 용의 고 에너지 및 소거 용의 중간 정도의 에너지를 가지는 펄스 빔을 기록시에 사용하지만, 재생의 경우 저 에너지를 가진 빔을 사용하여, 직접 덮어쓰기를 행한다. 광자기 기록 매체(magneto-optical recording medium)에서는, 통상 먼저 중간 정도 에너지의 소거용 빔으로 스캐닝한 후 고 에너지의 기입용 빔으로 스캐닝함으로써, 기록을 행한다. 본 발명에서는, 넓은 의미에서의 기록, 즉 기입과 소거 동안 매체 표면의 온도 상승을 억제시켜야 한다.In this specification, the term recording is used in a broad sense and includes writing (also called writing in a narrow sense) and erasing. In a phase change-type optical recording medium, a pulse beam having a high energy for writing and a medium energy for erasing is usually used for recording, but a beam having low energy for reproduction. Use to overwrite directly. In a magneto-optical recording medium, recording is usually performed by first scanning with a medium energy erasing beam and then scanning with a high energy writing beam. In the present invention, it is necessary to suppress the temperature rise of the surface of the medium during writing in a broad sense, i.e., writing and erasing.

본 발명자들에 의한 연구에 의하면, 대물렌즈의 흐려짐과 먼지는 외래물질, 특히 물과 물 속에 함유된 유기 물질이 부착된 것임이 밝혀졌다. 본 발명자들은 먼지의 원인과 렌즈에 먼지가 부착되는 메카니즘을 규명하기 위하여 실험과 고찰을 반복하였으며, 그 원인이 기록 매체, 즉 층 면 입사 타입 광 기록 매체의 표면에 부착된 외래물질 특히, 부착된 수분 및/또는 그 부착된 수분에 함유 또는 흡착된 공기 중의 기름 안개와 같은 유기 성분이다라는 결론에 도달하였다.The study by the inventors revealed that the clouding and dust of the objective lens are attached to foreign substances, in particular water and organic substances contained in the water. The present inventors have repeated experiments and considerations to identify the cause of dust and the mechanism by which dust adheres to the lens, and the cause is caused by foreign substances, especially those attached to the surface of the recording medium, that is, the layered incident type optical recording medium. It has been concluded that it is an organic component such as oil mist in air contained or adsorbed in water and / or its attached water.

렌즈가 흐려지는 메카니즘은 상대적으로 고출력을 갖는 레이저의 조사로 인해 매체 표면이 고온에 도달하게 되어, 매체의 표면에 부착된 수분과 유기물질들이 기화하여 플라잉 광 헤드의 대물렌즈 상에 응축되는 것으로 생각되었다. 그럼에도 불구하고, 광 기록 매체는 하드디스크와 달리 제거가능한 매체로서, 공기 중에서 사용되기 때문에, 광 기록 매체가 공기 중의 수분이나 유기물질들과 접촉되는 것을 방지하는 것은 불가능하므로, 매체의 표면 상에 공기 중의 수분 또는 유기물질의 존재 또는 부착을 통상 피할 수 없다.The lens dimming mechanism was thought to cause the surface of the medium to reach a high temperature due to the irradiation of a laser with a relatively high power, condensing on the objective lens of the flying optical head by vaporizing moisture and organic substances attached to the surface of the medium. . Nevertheless, since the optical recording medium is a removable medium unlike a hard disk, since it is used in air, it is impossible to prevent the optical recording medium from coming into contact with moisture or organic substances in the air, and therefore, on the surface of the medium, The presence or adhesion of moisture or organic matter in the water is usually unavoidable.

본 발명자들은, 매체 표면에 부착된 물질들이 기화하는 온도보다 매체 표면의 온도를 낮게 함으로써 상기의 문제를 해결할 수 있다는 아이디어에 도달하였으며, 이 아이디어를 다양한 방법으로 연구하였다.The inventors have come up with the idea that the above problem can be solved by lowering the temperature of the surface of the medium than the temperature at which the substances attached to the surface of the medium vaporize, and have studied the idea in various ways.

먼저, 본 발명자들은 종래의 구조를 가진 광 기록 매체에 대해 기록과 재생 동안의 온도에 대한 모의실험를 행하였으며, 이러한 구조에서는 매체 표면의 온도를 바람직하게 낮추는 것이 불가능함을 발견하였다.First, the inventors have simulated the temperature during recording and reproduction of an optical recording medium having a conventional structure, and found that it is impossible to lower the temperature of the medium surface in such a structure.

여기서, 본 발명의 제 1 태양에 따르면, 본 발명자들은 매체 표면의 온도를 낮추기 위해 상부 유전층의 두께를 증가시킬 수 있음을 착안하였으며, 상부 유전층의 두께를 증가시켰을 경우 매체가 광 기록 매체로서 원하는 특성을 유지하면서 원하는 낮춰진 매체의 표면 온도를 가질 수 있는 지를 결정하기 위해 연구하였다. 도 2는 컴퓨터 모의실험의 결과로서 매체의 반사율과 상부 유전층의 두께 사이의 관계를 나타낸 것이다.Here, according to the first aspect of the present invention, the inventors have conceived that the thickness of the upper dielectric layer can be increased in order to lower the temperature of the surface of the medium, and when the thickness of the upper dielectric layer is increased, the medium is desired as an optical recording medium. The determination was made to determine if it could have the desired lower surface temperature of the medium. Figure 2 shows the relationship between the reflectance of the medium and the thickness of the upper dielectric layer as a result of the computer simulation.

도 2에 나타낸 바와 같이, 상부 유전층의 두께가 증가하더라도 동일한 반사율, 즉 광 기록 매체에 요구되는 반사율을 얻을 수 있음을 확인할 수 있었으며, 따라서 레이저 빔이 조사되는 동안에 증가된 두께를 가진 상부 유전층의 단열에 의해 매체 표면의 온도를 억제시킬 수 있는 것으로 추측되었다.As shown in FIG. 2, it can be seen that even if the thickness of the upper dielectric layer is increased, the same reflectance, that is, the reflectance required for the optical recording medium, can be obtained. Therefore, the insulation of the upper dielectric layer with the increased thickness while the laser beam is irradiated is shown. It was estimated that the temperature of the surface of the medium can be suppressed by the method.

상술한 컴퓨터 모의실험 및 고찰의 결과에 기초하여, 증가된 두께의 상부 유전층을 갖는 광 기록 매체를 제조하고, 플라잉 광 헤드를 사용하여 기록과 재생 실험하였으며, 그 결과 기대했던 대로 상당한 개선을 확인함으로써, 본 발명, 특히 본 발명의 제 1 태양을 완성하였다.Based on the results of the above computer simulations and considerations, an optical recording medium having an increased thickness of the upper dielectric layer was produced, recording and reproducing experiments were performed using a flying optical head, and as a result, by confirming the significant improvement as expected. The present invention, particularly the first aspect of the present invention, has been completed.

유사하게, 본 발명의 제 2 태양에 따르면, 본 발명자들은 종래의 매체에서와 같이 상부 유전층을 2 개의 유전층으로 분리하고, 2 개의 유전층의 사이에 높은 열전도도를 갖는 금속층을 삽입하여 매체 표면의 온도를 낮출 수 있음을 착안하였다. 이하, 상기 2 개의 유전층과 그것들 사이의 금속층을 총칭하여 무기 보호층 (inorganic protecting layer) 또는 상부 무기층 (upper inorganic layer) 이라 한다. 본 발명자들은 위와 같은 상부 무기층을 사용하여 상부 무기층의 구조를 변경 및 조절하는 경우 광 기록 매체로서 요구되는 특성을 유지하면서 광 기록 매체가 원하는 광 기록 매체의 표면 온도를 가질 수 있는 지 여부를 조사하였다.Similarly, in accordance with a second aspect of the present invention, the inventors have separated the top dielectric layer into two dielectric layers, as in conventional media, and inserted a metal layer with high thermal conductivity between the two dielectric layers so that the temperature of the surface of the media It was conceived that can be lowered. Hereinafter, the two dielectric layers and the metal layer therebetween are collectively referred to as an inorganic protecting layer or an upper inorganic layer. The inventors have determined whether the optical recording medium can have the desired surface temperature of the optical recording medium while maintaining the properties required as the optical recording medium when changing and adjusting the structure of the upper inorganic layer using the upper inorganic layer as described above. Investigate.

상기와 같이 3 층으로 구성된 상부 무기층을 갖는 광 기록 매체를 제작하고 플라잉 광 헤드를 사용하여 기록과 재생을 실험하였으며, 그 결과 기대했던 대로 상당히 개선되었음 확인할 수 있었으며, 이렇게 본 발명, 특히 본 발명의 제 2 태양을 완성하였다.As described above, an optical recording medium having an upper inorganic layer composed of three layers was manufactured and recording and reproduction were tested using a flying optical head, and as a result, it was confirmed that the improvement was considerably improved. Completed the second aspect.

이상으로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에서, 외래물질이란 광 기록 매체의 상부표면에 부착된 외래물질이며, 기록용 빔이 조사되는 동안 상기 매체의 표면 온도가 외래물질이 기화되는 온도보다 낮게 유지되도록 하는 것이 필요하다. 주요한 외래물질은 수분이다. 따라서, 매체의 표면 온도는 150℃보다 높지 않게 유지하는 것이 바람직하며, 100℃보다 높지 않는 것이 더욱 더 바람직하다.As can be seen from the above, in the present invention, the foreign material is a foreign material attached to the upper surface of the optical recording medium, and the surface temperature of the medium is kept lower than the temperature at which the foreign material is vaporized while the recording beam is irradiated. It is necessary to make it possible. The main foreign substance is moisture. Therefore, it is preferable to keep the surface temperature of the medium not higher than 150 ° C, and even more preferably not higher than 100 ° C.

또한, 본 발명에 따르면, 다음의 방법을 제공한다.In addition, according to the present invention, the following method is provided.

기판 및 상기 기판 상에 적어도 기록층 및 상부 무기층으로 순차 형성된 층을 포함하는 기록 매체를 제공하는 단계, 및Providing a recording medium comprising a substrate and a layer sequentially formed on said substrate with at least a recording layer and an upper inorganic layer, and

상기 무기층의 면상에 위치한 광 헤드로부터 상기 기록 매체에 빔을 조사하여 기록 및 재생을 하는 단계를 포함하며,Irradiating a beam to the recording medium from an optical head located on the surface of the inorganic layer to perform recording and reproduction;

상기 상부 무기층은, 상기 기록용 빔이 상기 기록 매체에 조사될 때, 상기 광 기록 매체의 상부 표면 상에 존재하는 외래 물질이 기화되지 않도록 형성되는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체의 기록 및 재생 방법을 제공한다.And the upper inorganic layer is formed so that foreign materials existing on the upper surface of the optical recording medium are not vaporized when the recording beam is irradiated to the recording medium. To provide.

바람직하게는, 상부 무기층은 위에서 설명한 2 가지의 특징 A)와 B) 중 하나의 특징을 갖는다.Preferably, the upper inorganic layer has one of the two features A) and B) described above.

본 발명의 광 기록 매체는 기판 상에 적어도 기록층 및 상부 무기층을 순차로 구비하며, 기록과 재생을 위해 상부 무기층의 면으로부터 빔을 조사한다. 바람직하게는, 상기 매체는 기판 상에 형성된 반사층, 하부 유전층, 기록층 및 상부 유전층을 순차로 구비한다.The optical recording medium of the present invention comprises at least a recording layer and an upper inorganic layer in sequence on a substrate, and irradiates a beam from the surface of the upper inorganic layer for recording and reproduction. Preferably, the medium includes a reflective layer, a lower dielectric layer, a recording layer, and an upper dielectric layer sequentially formed on a substrate.

일 예로서, 기록과 재생을 위해 플라잉 광 헤드를 이용하여 상부 무기층으로부터 상기 매체에 빔을 조사하는 상기 층 면 입사 타입의 광 기록 매체를 간단히 설명한다.As an example, a brief description will be given of the layer plane incident type optical recording medium which irradiates a beam from the upper inorganic layer to the medium using a flying optical head for recording and reproduction.

도 1을 참조하면, 기판 (1a) 및 기록층을 포함하는 층상구조 (1b)를 포함하는 광 기록 매체 또는 디스크 (1) 상에 또는 그 상부에, 서스펜션 (3) 에 현수된 플라잉 슬라이더 (2) 가 도시되어 있다. 상기의 광 디스크 (1) 가 회전하는 동안 플라잉 슬라이더 (2) 는 광디스크 (1) 상을 비행하며, 비행고도 (H) 는 광디스크 (1) 의 회전 속도 및 플라잉 슬라이더 (2) 의 모양, 무게 등에 의해 결정되며, 이는 예컨대 약 100nm를 가질 수 있다. 이 예의 경우, 플라잉 슬라이더 (2) 상에 2 개의 렌즈 (4, 5)의 조합을 포함하는 대물 렌즈가 탑재되어 있다. 레이저 빔 (6)은 광학 시스템을 통해 조사된다. 광-자기 기록 매체 (magneto-optical recording medium)의 경우는, 추가적으로 자기장 (미도시) 이 인가된다.Referring to FIG. 1, a flying slider 2 suspended in a suspension 3, on or above an optical recording medium or disk 1 comprising a layered structure 1b comprising a substrate 1a and a recording layer. ) Is shown. While the optical disk 1 is rotating, the flying slider 2 is flying on the optical disk 1, and the flying altitude H is the rotational speed of the optical disk 1 and the shape, weight, etc. of the flying slider 2, and the like. Determined by way of example, and may have about 100 nm, for example. In this example, an objective lens including a combination of two lenses 4 and 5 is mounted on the flying slider 2. The laser beam 6 is irradiated through the optical system. In the case of a magneto-optical recording medium, an additional magnetic field (not shown) is applied.

광학 시스템이 플라잉 광 헤드를 사용하고, 레이저 빔이 기판을 통과하지 않고 층의 면으로부터 매체에 조사되는 것을 제외하면, 종래의 광 기록 시스템의 경우와 같이 기록과 재생이 수행된다.Recording and reproduction are performed as in the case of the conventional optical recording system, except that the optical system uses a flying optical head and the laser beam is irradiated to the medium from the side of the layer without passing through the substrate.

(본 발명의 제 1 태양)(1st aspect of this invention)

이하, 본 발명의 제 1 태양을 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the 1st aspect of this invention is demonstrated.

도 3은 본 발명의 제 1 태양인 광 기록 매체의 예이다. 도 3에서, 부호 11은 기판, 부호 16은 단열층, 부호 12는 반사층, 부호 13은 하부 유전층, 부호 14는 상 변화 타입의 기록층과 같은 광 기록층이고, 부호 15는 상부 유전층이다. 반사층 (12) 과 하부 유전층 (13) 을 포함하는 이러한 반사층 구조는 현재 광자기 및 상 변화 타입의 기록 매체에서 가장 일반적으로 사용되며, 높은 S/N (잡음대 재생신호출력비) 값을 제공하는데, 반사층이 급속 냉각 구조 (rapid coolingconstruction) 라 하는 불필요한 열 확산을 방지함으로써 정보 기록용 기록 스팟의 에지 (edge of recording spot) 를 이용하는 에지 기록 시스템 (edge recording system) 에 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에서, 이러한 반사층을 갖는 구조는 고기록 밀도용으로 사용하는 것이 바람직하다.3 is an example of an optical recording medium which is the first aspect of the present invention. In Fig. 3, reference numeral 11 is a substrate, numeral 16 is a heat insulating layer, numeral 12 is a reflective layer, numeral 13 is an optical recording layer such as a recording layer of a phase change type, numeral 15 is an upper dielectric layer. This reflective layer structure comprising a reflective layer 12 and a lower dielectric layer 13 is currently most commonly used in recording media of magneto-optical and phase change types, and provides a high S / N (noise to reproduction signal output ratio) value, It is preferable to use the edge recording system in which the reflective layer makes use of the edge of the recording spot for information recording by preventing unnecessary heat diffusion called rapid cooling construction. Further, in the present invention, it is preferable to use the structure having such a reflective layer for high recording density.

다음으로, 상부 유전층 (15)의 두께를 표 1과 도 2를 참조하여 설명한다. 표 1은 실험에 사용된 상 변화 타입 기록 매체의 층의 구조 및 광학적 특성을 나타낸 것이다. 표 1에서 기판의 재료들 및 광학적 특성은 반사율과는 관계가 없으므로 나타내지 않았다.Next, the thickness of the upper dielectric layer 15 will be described with reference to Table 1 and FIG. Table 1 shows the structure and optical properties of the layers of the phase change type recording medium used in the experiment. In Table 1, the materials and optical properties of the substrate are not shown because they are independent of reflectance.

표 1Table 1

구성Configuration 물질matter 두께(nm)Thickness (nm) 굴절률Refractive index 소멸계수Extinction coefficient 기 판Board --- 반사층Reflective layer AlCrAlCr 150150 1.2261.226 5.4175.417 하부 유전층Lower dielectric layer ZnSㆍSiO2 ZnS, SiO 2 1818 2.182.18 0.020.02 기록층Recording layer GeSbTeGeSbTe 2222 4.0994.099 3.7883.788 상부 유전층Upper dielectric layer ZnSㆍSiO2 ZnS, SiO 2 0-6000-600 2.182.18 0.020.02

도 2는 표 1에 나타낸 바와 같이, 상부 유전층 (15) 의 두께가 변화할 때 상기 구성을 갖는 광 기록 매체의 반사율의 모의실험 결과를 나타내며, 가로 좌표는 상부 유전층 (15) 의 두께이며, 세로 좌표는 반사율이다. 도 2에서 빛의 간섭 때문에 매체 반사율의 1차 피크는 대략 150 nm에서 나타나며, 2차 피크는 대략 300 nm, 3차 피크는 대략 450 nm에서 나타난다. 또한, 이러한 반사율의 특징은 실제로 제작된 광 기록 매체에 대한 실험에서도 확인되었다.2 shows the simulation results of the reflectance of the optical recording medium having the above structure when the thickness of the upper dielectric layer 15 is changed, as shown in Table 1, and the abscissa is the thickness of the upper dielectric layer 15, and is vertical. The coordinate is the reflectance. In FIG. 2, due to the interference of light, the primary peak of the media reflectance appears at approximately 150 nm, the secondary peak is approximately 300 nm, and the tertiary peak is approximately 450 nm. In addition, the characteristics of these reflectances were confirmed in experiments on the optical recording medium actually produced.

2차 또는 그 이상의 피크의 두께만큼 더 큰 두께를 사용할 필요가 없고, 이와 같이 층이 더 두꺼워질수록 생산성이 감소되기 때문에, 종래의 광 기록 매체에사용되는 상부 유전층의 두께는 1차 피크가 있는 범위에 있었다.Since there is no need to use a thickness that is as large as the thickness of the second or more peaks, and as the layer becomes thicker in this way, productivity decreases, the thickness of the upper dielectric layer used in conventional optical recording media has a primary peak. Was in range.

여기서, 피크 영역은 규격 등에 의해 미리 규정된 바와 같이, 매체의 반사율이 기록 및/또는 재생에 요구되는 반사율과 동일 또는 초과하는 반사율을 갖는 피크를 포함하는 영역으로 정의한다. 특히, 도 2의 예에서, 반사율의 하한이 20 %일 때, 1차 피크 범위는 대략 상부 유전층 두께의 90 nm 내지 195 nm의 범위이다.Here, the peak area is defined as an area including a peak having a reflectance equal to or greater than the reflectance required for recording and / or reproducing, as previously defined by the specification or the like. In particular, in the example of FIG. 2, when the lower limit of the reflectance is 20%, the primary peak range is approximately 90 nm to 195 nm of the upper dielectric layer thickness.

광자기 기록 매체 또는 상 변화 타입 광 기록 매체에서 요구되는 광 기록 매체의 반사율은 드라이브의 설계 또는 표준규격에 의존하지만, 통상 20 내지 50%의 범위이다.The reflectance of the optical recording medium required in the magneto-optical recording medium or the phase change type optical recording medium depends on the design or standard of the drive, but is usually in the range of 20 to 50%.

광 기록 매체에 관한 표준 규격의 예는, 230 MB의 용량을 가진 3.5 인치 자기-광 기록 매체의 반사율이 12 내지 25 %인 ISO/IEC 13963, 2.6 MB의 용량을 가진 120 mm DVD-RAM의 그루브 랜드 영역(groove land region)의 반사율이 15 내지 25 % 인 ISO/IEC 16824, 및 4.7 GB 또는 9 GB 이중층 용량을 갖는 120 mm DVD-RAM의 경우 단일층의 반사율이 45 내지 85%이고 이중층의 반사율이 18 내지 30% 인 ISO/IEC 16448이 있다.An example of a standard for optical recording media is ISO / IEC 13963 with a reflectance of 12 to 25% for a 3.5 inch magneto-optical recording medium with a capacity of 230 MB, a groove of 120 mm DVD-RAM with a capacity of 2.6 MB. ISO / IEC 16824 with 15-25% reflectivity in the groove land region, and 120-mm DVD-RAM with 4.7 GB or 9 GB double layer capacity for 45-85% single layer reflectivity There is ISO / IEC 16448 which is 18-30%.

본 발명의 제 1 태양에서는, 상부 유전층의 두께를, 빛이 입사되는 면의 매체 표면의 온도가 매체의 표면에 부착된 외래 물질이 기화하는 온도보다 더 낮고 매체의 반사율이 요구되는 값과 동일하거나 더 큰 값을 갖도록, 선택한다. 상부 유전층의 두께는 2차 피크 영역과 동일하거나 더 큰 것이 바람직하다. 이와 같은 두께의 상부 유전층을 사용함으로써, 기록층의 온도가 높은 온도까지 상승하더라도 매체 표면의 온도를 억제할 수 있다. 만약 제 3차 피크 영역과 동일하거나 또는 더 큰 두께를 사용하면, 더욱 상당한 효과를 얻을 수 있다. 부수적으로, 매체 표면의 온도 상승을 억제하면, 부가적인 효과로서 상부 유전층 상에 형성될 수 있는 윤활층의 내열성에 대한 요건을 상당히 경감시킬 수 있다.In a first aspect of the invention, the thickness of the upper dielectric layer is equal to a value at which the temperature of the surface of the medium on the side where light is incident is lower than the temperature at which the foreign material attached to the surface of the medium vaporizes and the reflectance of the medium is required. Choose to have a larger value. The thickness of the upper dielectric layer is preferably equal to or greater than the secondary peak region. By using the upper dielectric layer of such a thickness, even if the temperature of the recording layer rises to a high temperature, the temperature of the surface of the medium can be suppressed. If a thickness equal to or greater than the third peak area is used, a more significant effect can be obtained. Incidentally, suppressing the temperature rise of the medium surface can significantly reduce the requirement for the heat resistance of the lubricating layer that can be formed on the upper dielectric layer as an additional effect.

상기의 고찰과 실험에서는, 소거시에 비해 기록시에 반사율이 감소하는 상 변화 타입의 광 기록 매체를 사용하지만, 반대 타입 매체 (reversed-type medium), 즉, 소거시에 비해 기록시의 반사율이 증가하는 상 변화 타입 광 기록 매체의 경우도 동일한 효과를 얻을 수 있음은 자명하다. 또한, 동일한 효과를 광자기 기록 매체의 경우에도 얻을 수 있음은 자명하다.In the above considerations and experiments, a phase change type optical recording medium is used in which the reflectance decreases at the time of recording as compared with erasing, but the reversed-type medium, i.e., the reflectance at the time of erasing is used. Obviously, the same effect can be obtained with an increasing phase change type optical recording medium. It is obvious that the same effect can be obtained also in the case of a magneto-optical recording medium.

상부 유전층 (15) 의 두께는 매체 표면의 온도를 낮추기 위해 더욱 더 두꺼운 것이 바람직하고, 생산성을 위해서는 더욱 얇은 것이 바람직하다. 따라서, 상부유전층 (15) 의 두께는 1㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 두께가 1㎛를 초과하면, 상부 유전층의 응력이 너무 높아져, 그 층은 박리되거나 휘어지게 된다.The thickness of the upper dielectric layer 15 is preferably thicker for lowering the temperature of the medium surface, and thinner for productivity. Therefore, it is preferable that the thickness of the upper dielectric layer 15 does not exceed 1 micrometer. In addition, when the thickness exceeds 1 mu m, the stress of the upper dielectric layer becomes too high, and the layer is peeled off or warped.

매체의 상부 표면과 광 헤드의 대물렌즈 사이의 거리는 기록 밀도를 증가시키기 위해 가능한 한 작은 것이 바람직하다. 따라서, 본 발명은 특히 매체의 상부 표면과 광 헤드의 대물 렌즈 사이의 거리가 대략 1㎛ 이하인 경우에 적용하는 것이 바람직하다. 여기서, 대물 렌즈는 광학 시스템의 빔의 출력단을 의미하며, 이미 언급한 문헌인 "Electronics"에 설명한 솔리드 이머젼 렌즈 (solid immersion lens) 를 포함한다.The distance between the upper surface of the medium and the objective lens of the optical head is preferably as small as possible to increase the recording density. Therefore, the present invention is particularly preferably applied when the distance between the upper surface of the medium and the objective lens of the optical head is approximately 1 탆 or less. Here, the objective lens means the output end of the beam of the optical system, and includes the solid immersion lens described in the above-mentioned document "Electronics".

상부 유전층의 굴절율은 1.70 이상인 것이 바람직하다. 현미경에서 높은굴절율를 가진 기름을 대물렌즈와 샘플 또는 관찰대상 물체 사이에 삽입하는 것은 현미경의 분해능을 증가시키는 것으로 알려져 있다. 본 발명에서는, 높은 굴절율을 갖는 상부 유전층을 사용함으로써 빔 초점의 퍼짐 (beam waist) 을 더욱 더 억제시킬 수 있다. 상부 유전층을 복수의 유전층으로 구성하면, 상부 유전층의 굴절율은 계산에 의한 복소귤절율이다. 이 복소굴절율은 다층막의 각 전송행렬의 곱으로부터 구한 전체 전송행렬로부터 구할 수 있다 (Metal-dielectric multilayer, J. Macdonald, Adam Hilger(London), page 8, 1971).The refractive index of the upper dielectric layer is preferably at least 1.70. Injecting oil with high refractive index between the objective lens and the sample or object under microscope is known to increase the resolution of the microscope. In the present invention, the use of an upper dielectric layer having a high refractive index can further suppress beam waist spreading. When the upper dielectric layer is composed of a plurality of dielectric layers, the refractive index of the upper dielectric layer is a calculated complex regulation. This complex refractive index can be obtained from the entire transmission matrix obtained from the product of each transmission matrix of the multilayer film (Metal-dielectric multilayer, J. Macdonald, Adam Hilger (London), page 8, 1971).

상부 유전층은 ZnSㆍSiO2, ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2및 Y2O3와 같은 캘코지나이드 (calcogenides), 질화물 (nitrides), 산화물 및 이들의 조합으로 된 층일 수 있다. 이러한 층들의 조성은 화학양론적 (stoichiometric) 이거나 거의 화학양론적일 수 있다. 이들 중, ZnSㆍSiO2로 된 층이, 낮은 열전도도를 갖고 열에 의해 쉽게 결정화될 수 없는 안정한 비정질상태이기 때문에, 바람직하다. 상부 유전층은 스퍼터링과 같은 물리적 기상 증착에 의해 형성할 수도 있다. ZnSㆍSiO2층은 약 80 mol % 대 약 20 mol%의 ZnS와 SiO2의 혼합물을 스퍼터링하여 형성할 수 있다.The upper dielectric layer is composed of calcogenides, nitrides, such as ZnS.SiO 2 , ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 and Y 2 O 3 , Oxide and combinations thereof. The composition of these layers can be stoichiometric or nearly stoichiometric. Among them, the layer of ZnS.SiO 2 is preferable because it is a stable amorphous state having low thermal conductivity and cannot be easily crystallized by heat. The upper dielectric layer may be formed by physical vapor deposition, such as sputtering. The ZnS.SiO 2 layer may be formed by sputtering a mixture of about 80 mol% to about 20 mol% ZnS and SiO 2 .

도 4는 제 1 상부 유전층 (15a) 과 제 2 상부 유전층 (15b) 의 2 층으로 나누어진 본 발명의 제 1 태양의 바람직한 실시형태를 나타낸 것이다. 제 1 유전층 (15a) 은 낮은 열 전도도를 갖고 제 2 유전층 (15b) 은 높은 경도를 갖는다.4 shows a preferred embodiment of the first aspect of the invention divided into two layers, first upper dielectric layer 15a and second upper dielectric layer 15b. The first dielectric layer 15a has a low thermal conductivity and the second dielectric layer 15b has a high hardness.

만약 상부 유전층이 복수의 층으로 이루어지면, 전체 두께는 매체 표면의 외래 물질이 기화되는 온도보다 낮은 매체 표면 온도를 유지할 수 있도록 설정한다. 예를 들면, 도 2에서 2차 피크 영역의 두께 또는 그 이상의 두께를 사용할 수 있다. 견고한 제 2 상부 유전층은 실리콘 질화물 또는 DLC (hydrogenated diamond-like carbon)로 형성할 수 있다. 이 경우, 견고한 상부 유전층의 두께는 통상 10 내지 150 nm 범위이며, 상부 유전층의 잔존 부분은 낮은 열전도도를 갖는 상부 유전층으로 구성된다.If the upper dielectric layer is made up of a plurality of layers, the overall thickness is set to maintain the media surface temperature lower than the temperature at which the foreign material on the media surface is vaporized. For example, in FIG. 2, the thickness of the secondary peak region or more may be used. The rigid second top dielectric layer can be formed of silicon nitride or hydrogenated diamond-like carbon (DLC). In this case, the thickness of the solid top dielectric layer typically ranges from 10 to 150 nm, and the remaining portion of the top dielectric layer consists of the top dielectric layer with low thermal conductivity.

낮은 열전도도를 갖는 상부 유전층은 5 Watt/(m×K) 이하의 열전도도를 갖는 것이 바람직하며, 유전층의 열 전도도를 직접적으로 측정하는 것은 어렵기 때문에 열전도도는 모의실험에 의해 간접적으로 측정하며, 여기서 m은 미터를 나타내고 K는 절대온도를 나타낸다.The upper dielectric layer having low thermal conductivity preferably has a thermal conductivity of 5 Watt / (m × K) or less, and since it is difficult to directly measure the thermal conductivity of the dielectric layer, the thermal conductivity is indirectly measured by simulation. Where m is the meter and K is the absolute temperature.

도 4에는, 상부 장벽 또는 결정화 가속층 (17) 및 하부 장벽 또는 결정화 가속층 (18) 이 도시되어 있지만, 이들 층은 선택적인 것이다.In FIG. 4, an upper barrier or crystallization acceleration layer 17 and a lower barrier or crystallization acceleration layer 18 are shown, but these layers are optional.

(본 발명의 제 2 태양)(2nd aspect of this invention)

다음으로, 본 발명의 제 2 태양을 설명한다.Next, a second aspect of the present invention will be described.

도 5는 본 발명의 제 2 태양에 따른 광 기록 매체의 예를 도시한 것이다. 도 5에서, 부호 21은 기판, 부호 26은 단열층, 부호 22는 반사층, 부호 23은 하부 유전층, 부호 24는 상 변화 타입 기록 매체와 같은 광 기록층, 및 부호 25는 무기 보호층을 나타낸다. 상기 무기 보호층 (25) 은 제 1 상부 유전층 (25a) (최상부 상부 유전층), 제 2 상부 유전층 (25b) (최하부 상부 유전층) 및 금속층 (25c) 를 포함한다. 반사층 (22) 및 하부 유전층 (23) 을 포함하는 이 반사층 구조는현행 광자기 및 상 변화 타입 기록 매체에 있어서 가장 일반적으로 사용되며, 본 발명의 제 1 태양과 관련하여 설명한 바와 같이, 높은 C/N (carrier to noise ratio) 을 제공한다. 또한, 도 5에서, 단열층 (26) 과 함께 비록 선택적이지만, 상부 장벽 또는 결정화 가속층 (27) 및 하부 장벽 또는 결정화 가속층 (28) 이 도시되어 있다.5 shows an example of an optical recording medium according to the second aspect of the present invention. In Fig. 5, reference numeral 21 denotes a substrate, reference numeral 26 denotes a heat insulating layer, reference numeral 22 denotes a lower dielectric layer, reference numeral 24 denotes an optical recording layer such as a phase change type recording medium, and reference numeral 25 denotes an inorganic protective layer. The inorganic protective layer 25 includes a first top dielectric layer 25a (topmost dielectric layer), a second top dielectric layer 25b (bottom top dielectric layer), and a metal layer 25c. This reflective layer structure comprising reflective layer 22 and lower dielectric layer 23 is most commonly used in current magneto-optical and phase change type recording media, and as described in connection with the first aspect of the present invention, a high C / It provides N (carrier to noise ratio). In addition, in FIG. 5, although optional, together with the thermal insulation layer 26, an upper barrier or crystallization acceleration layer 27 and a lower barrier or crystallization acceleration layer 28 are shown.

다음으로, 무기 보호층에 대해 설명한다. 금속층 (25c) 은 매체의 표면 온도 상승을 막아주는 열 확산층으로 기능하며, 이것은 본 발명의 가장 중요한 역할이다. 즉, 기록 또는 소거 동안 빔은 주로 기록층에 의해 흡수되어 열로 변환된다. 이러한 기록층의 열이 매체의 표면으로 이동하면서, 매체 표면의 온도가 상승한다. 그러나, 본 발명의 제 2 태양에는, 기록층으로부터 매체의 표면까지의 경로에 높은 열 전도도를 갖는 금속층이 존재하기 때문에, 열은 금속층을 따라 횡방향으로 확산되고, 이에 의해 매체 표면 온도의 상승이 억제된다. 이것은 실험을 통해 확인하였다.Next, an inorganic protective layer is demonstrated. The metal layer 25c functions as a heat diffusion layer that prevents the surface temperature rise of the medium, which is the most important role of the present invention. That is, during recording or erasing, the beam is mainly absorbed by the recording layer and converted into heat. As the heat of such a recording layer moves to the surface of the medium, the temperature of the surface of the medium rises. However, in the second aspect of the present invention, since there is a metal layer having high thermal conductivity in the path from the recording layer to the surface of the medium, heat diffuses laterally along the metal layer, whereby the rise of the medium surface temperature is prevented. Suppressed. This was confirmed through experiments.

금속층이 열 확산층으로 기능하기 위해서는 높은 열 전도도를 갖는 것이 바람직하다. 따라서, 금속층은 금, 은, 구리, 알루미늄 및 이들의 합금을 포함하는 것이 바람직하다. 특히, 0.5 at% (atomic %) 이상의 Cu를 함유하는 은을 포함하는 합금은 높은 열전도를 가지고, Au에 비해 가격이 싸고, Al에 비해 더 높은 열 전도도를 갖고, 단일 Ag에 비해 내식성이 우수하므로, 본 발명에서는, Ag 합금은 바람직하다. 성능상 파장의 의존도가 더 낮고, 다양한 파장에 대해 하나의 광 헤드를 사용할 수 있으므로, Cu가 20 at% 이하인 은 합금이 바람직하다. 또한, Ag와 Cu의 합금에는 약 3 at %까지의 Ti, Ta, Pd, Nb, Ni 등을 첨가할 수도 있다.In order for the metal layer to function as a heat diffusion layer, it is desirable to have high thermal conductivity. Therefore, the metal layer preferably contains gold, silver, copper, aluminum and alloys thereof. In particular, alloys containing silver containing at least 0.5 at% (atomic%) of Cu have high thermal conductivity, are inexpensive compared to Au, have higher thermal conductivity than Al, and are superior in corrosion resistance to single Ag. In the present invention, Ag alloy is preferable. Silver alloys with Cu of 20 at% or less are preferred because of their lower dependence on performance and the use of one optical head for various wavelengths. In addition, up to about 3 at% of Ti, Ta, Pd, Nb, Ni, or the like may be added to the alloy of Ag and Cu.

열 전도도의 측정은 어렵기 때문에, 금속층의 열 전도도를 알아내는 것은 어렵다. 그러나, 모의실험등으로부터 금속층의 열 전도도는 대략 50 W/(m×K) 이상인 것으로 생각된다 (m은 미터, K는 절대온도를 나타냄).Since the measurement of the thermal conductivity is difficult, it is difficult to find the thermal conductivity of the metal layer. However, it is considered from simulations or the like that the thermal conductivity of the metal layer is approximately 50 W / (m × K) or more (m is a meter and K represents an absolute temperature).

금속층의 두께는 5 내지 50 nm의 범위인 것이 바람직하다. 만약 두께가 5 nm 미만이면, 열 확산의 효과가 미흡하여 매체의 표면 온도 증가를 억제하는 효과가 감소된다. 만약 두께가 50 nm보다 크면, 매체의 반사율이 너무 커져 현재의 광자기 기록 매체 또는 상 변화 타입 기록 매체에서의 표준 반사율인 약 20% 내지 약 50% 범위에서 멀리 벗어나게 된다. 요구되는 매체의 반사율을 드라이브의 증폭 이득을 포함한 설계에 의해 조절할 수 있지만, 새로운 버전은 구 버전과 호환성을 가져야하므로, 너무 높은 반사율은 피해야 한다. 또한, 본 발명은, 기록층의 결정상태와 비정질상태 사이의 반사율 차이를 이용하여 재생 신호를 얻는, 상 변화 타입 광 기록 매체에 적용하는 것이 바람직하다. 그러나, 상 변화 타입 광 기록 매체서는, 금속층이 50 nm 보다 더 두꺼워지면 기록층이 결정질일 때와 비정질일 때 나타나는 반사율의 차이가 작아져, 우수한 C/N 비를 얻을 수 없으므로 이는 매우 바람직하지 않다.The thickness of the metal layer is preferably in the range of 5 to 50 nm. If the thickness is less than 5 nm, the effect of thermal diffusion is insufficient and the effect of suppressing the increase in the surface temperature of the medium is reduced. If the thickness is larger than 50 nm, the reflectance of the medium becomes too large to deviate from the range of about 20% to about 50%, which is the standard reflectivity in current magneto-optical recording media or phase change type recording media. The reflectivity of the required media can be adjusted by the design including the amplification gain of the drive, but too high reflectance should be avoided since the new version must be compatible with the older version. Further, the present invention is preferably applied to a phase change type optical recording medium in which a reproduction signal is obtained by using the difference in reflectance between the crystalline state and the amorphous state of the recording layer. However, in the phase change type optical recording medium, when the metal layer is thicker than 50 nm, the difference in reflectance when the recording layer is crystalline and when it is amorphous becomes small, so that an excellent C / N ratio cannot be obtained, which is not preferable. .

또한, 금속층이 20 내지 50 nm의 두께를 갖는 상 변화 타입 광 기록 매체에서는, 기록층이 비정질 (기록된 부분) 일 때의 매체의 반사율을 결정질(소거된 부분) 일 때의 반사율보다 더 크게 할 수 있다. 이러한 매체를 기록시에 매체의반사율이 증가하기 때문에 "로우 투 하이 구조" (low to high Polarity) 라고 하며, 이것은 고밀도 기록의 경우 지터를 감소시킬 수 있는 것으로 알려져 있다. 특히, 용이한 직접 덮어쓰기를 특징으로 하는 상 변화 타입 광 기록 매체에서는, 기록층의 온도 증가가 기록된 마크 부분 (비정질 부분) 과 소거된 부분 (결정 부분) 간에 차이가 있으면, 이전의 기록된 마크 부분에 새로 기입된 기록된 마크 부분과 이전의 소거된 부분에 새로 기입된 기록된 마크 부분이 서로 다른 크기와 모양을 가지게 되어 신호의 품질을 열화시키게 된다 (지터를 증가시키게 된다). 따라서, 소거된 부분 (결정 부분) 에 새로운 기록 마크 부분을 기입을 하는 것은, 비정질 부분에 새로운 기록 마크 부분을 기입하는 것보다 결정질을 녹이는 열만큼 더 높은 열 용량을 요구한다. 그러므로, 결정질을 녹일 만큼의 열용량에 해당하는 증가된 에너지의 양만큼 매체가 빔을 흡수하는 것이 바람직하다, 즉 매체의 반사율을 상기의 열용량에 해당하는 수준만큼 작게 하는 것이 바람직하다. 이는, 매체의 반사율이 비정질 부분보다 소거된 부분 (결정질 부분) 에서 더 작은 매체가 바람직하기 때문이다.Further, in a phase change type optical recording medium having a metal layer having a thickness of 20 to 50 nm, the reflectance of the medium when the recording layer is amorphous (recorded portion) is made larger than the reflectance when crystalline (erased portion). Can be. Such medium is referred to as "low to high polarity" because the reflectance of the medium increases when recording, which is known to reduce jitter in high density recording. In particular, in a phase change type optical recording medium characterized by easy direct overwriting, if the temperature increase of the recording layer differs between the recorded mark portion (amorphous portion) and the erased portion (crystal portion), the previously recorded The recorded mark portion newly written in the mark portion and the recorded mark portion newly written in the previous erased portion have different sizes and shapes, resulting in deterioration of the signal quality (increasing jitter). Therefore, writing a new recording mark portion in the erased portion (crystal portion) requires a higher heat capacity by heat of melting crystalline than writing a new recording mark portion in the amorphous portion. Therefore, it is desirable for the medium to absorb the beam by an increased amount of energy corresponding to the heat capacity to melt the crystalline, i.e., to reduce the reflectance of the medium by a level corresponding to the above heat capacity. This is because a medium in which the reflectance of the medium is smaller in the erased portion (crystalline portion) than in the amorphous portion is preferable.

또한, 무기 보호층 (25) 은 기록층 (24) 과 금속층 (25c) 사이에 제 1 상부 유전층 (25a) 을 포함하고, 금속층 (25c) 상에 제 2 상부 유전층 (25b) 을 포함한다.In addition, the inorganic protective layer 25 includes a first upper dielectric layer 25a between the recording layer 24 and the metal layer 25c and a second upper dielectric layer 25b on the metal layer 25c.

제 1 및 제 2 상부 유전층의 굴절율은 1.70 이상이 바람직하다. 본 발명에서는, 높은 굴절율을 가지는 상부 유전층을 사용함으로써 빔 초점의 퍼짐을 더욱 억제할 수 있다.The refractive index of the first and second upper dielectric layers is preferably 1.70 or more. In the present invention, spreading of the beam focus can be further suppressed by using an upper dielectric layer having a high refractive index.

제 1 상부 유전층 (25a) 은 적절한 기록 감도를 제공하고, 기록층 (24) 과 금속층 (25c) 을 보호하는 역할을 한다. 제 1 상부 유전층 (25a) 이 없으면, 빔이 조사되는 동안 기록층의 온도 상승이 매우 작고, 기록 감도가 매우 작아져, 기록층의 용융과 기록층 성분의 혼합을 억제할 수 없게 된다. 기록 감도의 관점에서, 제 1 상부 유전층은 낮은 열 전도도를 갖고 열적으로 안정하며, 즉, 고온에서 열화되지 않으며 안정한 비정질 물질이어야 바람직하다.The first upper dielectric layer 25a provides an appropriate recording sensitivity and serves to protect the recording layer 24 and the metal layer 25c. Without the first upper dielectric layer 25a, the temperature rise of the recording layer is very small and the recording sensitivity is very small while the beam is being irradiated, so that melting of the recording layer and mixing of the recording layer components cannot be suppressed. In view of the recording sensitivity, the first upper dielectric layer is preferably an amorphous material which has a low thermal conductivity and is thermally stable, i.e., does not deteriorate at high temperatures and is stable.

제 1 상부 유전층은 ZnSㆍSiO2, ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2및 Y2O3와 같은 캘코지나이드, 질화물, 산화물 및 이들의 조합으로 된 층일 수 있다. 이러한 층들의 조성은 화학양론적이거나 또는 거의 화학양론적일 수 있다. 이들 중, ZnSㆍSiO2로 된 층이, 낮은 열 전도도를 갖고 열에 의해 쉽게 결정화되지 않는 안정한 비정질이기 때문에, 바람직하다. 제 1 상부 유전층은 스퍼터링과 같은 물리적 기상 증착에 의해 형성할 수 있다. ZnSㆍSiO2층은 약 80 mol% 대 약 20 mol%의 비를 갖는 ZnS와 SiO2의 혼합물을 스퍼터링하여 형성할 수 있다. 제 1 상부 유전층은 5 Watt/(m×K) 이하의 열 전도도를 갖는 것이 바람직하며, 유전층의 열 전도도를 직접적으로 측정하는 것은 어렵기 때문에 모의실험 등에 의해 간접적으로 측정하며, 여기서 m은 미터를 나타내고 K는 절대온도를 나타낸다.The first upper dielectric layer is a chalcogenide such as ZnS.SiO 2 , ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 and Y 2 O 3 , nitrides, oxides, and their It may be a combination layer. The composition of these layers can be stoichiometric or nearly stoichiometric. Among them, the layer of ZnS.SiO 2 is preferable because it is a stable amorphous that has low thermal conductivity and is not easily crystallized by heat. The first upper dielectric layer can be formed by physical vapor deposition, such as sputtering. The ZnS.SiO 2 layer may be formed by sputtering a mixture of ZnS and SiO 2 having a ratio of about 80 mol% to about 20 mol%. Preferably, the first upper dielectric layer has a thermal conductivity of 5 Watt / (m × K) or less, and it is indirectly measured by simulation or the like because it is difficult to directly measure the thermal conductivity of the dielectric layer, where m is a meter. K represents absolute temperature.

제 1 상부 유전층의 두께는, 기록 감도와 기록층의 보호라는 관점에서, 적어도 10 nm 이상이 바람직하고, 생산성의 관점에선 1 ㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 일부 유전 물질은 만약 그 층의 두께가 1 ㎛를 초과하면, 제 1 상부 유전층에 너무 높은 응력을 가하여 박리시키거나, 그층이 휘어지게 한다.The thickness of the first upper dielectric layer is preferably at least 10 nm or more from the viewpoint of the recording sensitivity and the protection of the recording layer, and preferably not more than 1 µm from the viewpoint of productivity. Some dielectric materials, if the thickness of the layer exceeds 1 μm, exert too high stress on the first upper dielectric layer to cause it to delaminate or bend the layer.

제 2 상부 유전층 (25b) 은 금속층 (25c) 의 부식을 방지하며, 광 헤드의 접촉에 의한 매체 표면의 손상을 방지하고, 및 매체 표면 온도의 상승을 방지하는 역할을 한다. 이러한 관점에서, 제 2 상부 유전층 (25b) 의 두께는 적어도 10 nm 이상이 바람직하고, 매체 표면의 손상을 방지하며 매체 표면의 온도상승을 억제하는 더욱 우수한 효과를 얻기 위해서는 40 nm 이상이 더욱 더 바람직하다. 또한, 매체 표면의 온도 상승을 억제하는 효과는 제 2 상부 유전층 (25b) 상에 형성될 수 있는 윤활층의 내열성에 대한 요건을 상당하게 완화할 수 있으므로 바람직하다. 그러나, 제 2 유전층 (25b) 의 두께는 생산성의 관점에서는 1㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 상기 층의 두께가 1㎛를 초과하면, 일부 유전체는 제 2 상부 유전층에 너무 높은 응력을 초래하여, 상기 층을 박리시키거나 휘어지게 한다.The second upper dielectric layer 25b serves to prevent corrosion of the metal layer 25c, to prevent damage to the surface of the media by contact of the optical head, and to prevent the rise of the media surface temperature. In view of this, the thickness of the second upper dielectric layer 25b is preferably at least 10 nm or more, and even more preferably 40 nm or more in order to obtain a better effect of preventing damage to the surface of the medium and suppressing the temperature rise of the surface of the medium. Do. In addition, the effect of suppressing the temperature rise of the medium surface is preferable because it can significantly alleviate the requirement for the heat resistance of the lubrication layer that can be formed on the second upper dielectric layer 25b. However, it is preferable that the thickness of the second dielectric layer 25b does not exceed 1 μm from the viewpoint of productivity. If the thickness of the layer exceeds 1 μm, some dielectrics cause too high stress on the second upper dielectric layer, causing the layer to peel off or warp.

또한, 굴절율이 1.70 이상인 유전층을 사용하는 경우에도, 더 높은 기록 밀도를 얻기 위해서는 기록층 (24) 과 광 헤드의 대물렌즈 사이의 거리가 가능한 한 작은 것이 바람직하다. 따라서, 무기 보호층 (25) 의 전체 두께, 즉, 제 1, 제 2 상부 유전층 (25a 및 25b) 및 금속층 (25c) 의 전체 두께는 1 ㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다.Further, even when a dielectric layer having a refractive index of 1.70 or more is used, it is preferable that the distance between the recording layer 24 and the objective lens of the optical head is as small as possible in order to obtain higher recording density. Therefore, the total thickness of the inorganic protective layer 25, that is, the total thicknesses of the first and second upper dielectric layers 25a and 25b and the metal layer 25c preferably does not exceed 1 μm.

제 2 상부 유전층 (25b) 의 재료는 제 1 상부 유전층 (25a) 의 물질과 동일할 수 있다. 또한, 제 2 상부 유전층은 직접적으로 플라잉 광 헤드와 면하고있어, 헤드 슬라이더는 제 2 상부 유전층 (25b) 에 접촉 또는 손상을 줄 수 있다. 따라서, 이러한 접촉과 손상으로부터 견딜 수 있는 견고한 유전층이 바람직하다. 이러한 견고한 제 2 상부 유전층은 실리콘 질화물 또는 DLC (hydrogenated diamond-like carbon) 로 이루어질 수 있다.The material of the second upper dielectric layer 25b may be the same as the material of the first upper dielectric layer 25a. In addition, the second upper dielectric layer directly faces the flying light head, so that the head slider can contact or damage the second upper dielectric layer 25b. Therefore, a solid dielectric layer that can withstand such contact and damage is desirable. This rigid second top dielectric layer may be made of silicon nitride or hydrogenated diamond-like carbon (DLC).

(매체의 다른 구성요소)(Other components of the medium)

상부 무기층의 성분들이 기록층으로 확산되는 것을 방지하기 위한 장벽층 (17 또는 27) 을 상부 무기층과 기록층 사이에 삽입하는 것은 품질을 안정화하기 위해 바람직하다. 또한, 고속 회전하는 경우에 사용할 수 있는 상 변화 타입 광 기록 매체를 제조하기 위해, 결정화 가속층을, 기록층에 인접하거나 접촉하여, 삽입할 수도 있다. 또한, 동일한 이유에서 장벽층 또는 결정화 가속층 (18 또는 28) 을, 하부 유전층 (13 또는 23) 과 기록층 (14 또는 24) 사이에 삽입할 수도 있다.It is desirable to insert a barrier layer 17 or 27 between the upper inorganic layer and the recording layer to prevent the components of the upper inorganic layer from diffusing into the recording layer in order to stabilize the quality. In addition, in order to manufacture a phase change type optical recording medium that can be used when rotating at high speed, the crystallization acceleration layer may be inserted adjacent to or in contact with the recording layer. Further, for the same reason, a barrier layer or a crystallization acceleration layer 18 or 28 may be inserted between the lower dielectric layer 13 or 23 and the recording layer 14 or 24.

장벽층의 전형적인 예로는 GeN 층과 SiN 층이 있으며, 분석이 용이하지는 않으나, Ge/N과 Si/N 사이의 비율은 3/4 이거나 화학양론적 비율에 근접한 것으로 가정된다. 또한, Cr이 첨가된 GeN 층, 즉, GeCrN으로 된 층 및 SiAlN층을 사용한다. GeCrN 층은 Ar과 N2의 혼합가스 분위기 (약 10 내지 50 %의 N2) 에서 10 내지 30 at %의 Cr을 함유한 Ge 합금 타겟을 스퍼터링함으로써 형성한다. SiAlN 층은 Ar과 N2의 혼합가스 분위기에서 SiAl 타겟을 스퍼터링함으로써 형성할 수 있다. 질화물은 일반적으로 밀도가 높고 내열성이 우수하기 때문에, 질화물 층은,상 변화 타입 광 기록 매체에 흔히 사용되는 ZnSㆍSiO2의 황 원소가 기록층으로 확산하는 것을 방지하는데에, 우수한 효과를 갖는다. 이러한 질화물 층을 전형적인 상 변화 타입 광 기록층인 GeSbTe 층에 면하여 제공하는 경우, 매체의 소거시 감도를 향상시키며, 질화물 층은 결정화를 가속시키는 우수한 효과를 갖는 것으로 생각된다. 결정화를 가속화시키는 이론적 이유는 분명하지 않지만, 상기 질화물 층은, GeSbTe 층이 결정화 온도까지 가열될 때, 결정화를 위한 핵생성을 가속시키거나 증가시키는 효과를 가지는 것으로 생각된다.Typical examples of barrier layers include GeN layers and SiN layers, which are not easy to analyze, but the ratio between Ge / N and Si / N is assumed to be 3/4 or close to stoichiometric ratio. In addition, a GeN layer to which Cr is added, that is, a layer made of GeCrN and a SiAlN layer is used. The GeCrN layer is formed by sputtering a Ge alloy target containing 10-30 at% Cr in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 (about 10-50% N 2 ). The SiAlN layer can be formed by sputtering a SiAl target in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 . Since nitride is generally high in density and excellent in heat resistance, the nitride layer has an excellent effect in preventing the diffusion of sulfur elements of ZnS.SiO 2 commonly used in phase change type optical recording media into the recording layer. When such a nitride layer is provided facing the GeSbTe layer, which is a typical phase change type optical recording layer, it is believed that the sensitivity is improved upon erasing of the medium, and the nitride layer has an excellent effect of accelerating crystallization. While the theoretical reason for accelerating crystallization is not clear, it is believed that the nitride layer has the effect of accelerating or increasing nucleation for crystallization when the GeSbTe layer is heated to the crystallization temperature.

윤활층은, 광학적 성질에 손상을 주지 않는 한, 광 헤드의 접촉과 충돌에 의해 야기되는 충격을 완화하기 위해, 필요하다면 제 2 상부 유전층 상에 형성할 수도 있다.The lubricating layer may be formed on the second upper dielectric layer, if necessary, to mitigate the impact caused by contact and collision of the optical head, as long as it does not damage the optical properties.

광자기 기록 매체의 광자기 기록층에서는, 광 빔, 통상적으로 레이저 빔을 기록층의 온도를 올리기 위해 조사함으로써 기록층의 보자력을 감소시키고, 기록층의 가열된 부분의 자성 모멘트를 외부 자기장에 의해 역전시켜 기록 및/또는 소거를 행한다. 기록층의 온도는 약 200℃까지 증가한다.In the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium, the coercive force of the recording layer is reduced by irradiating a light beam, typically a laser beam, to raise the temperature of the recording layer, and the magnetic moment of the heated portion of the recording layer is controlled by an external magnetic field. Reverse and recording and / or erasing is performed. The temperature of the recording layer increases to about 200 ° C.

상 변화 타입 광 기록 매체의 상 변화 타입 광 기록층에서는, 광 빔, 통상 레이저 빔은 물질의 비정질과 결정질 사이의 변화, 즉 상변화를 위해 조사되며, 이 상 변화를 기록 및/또는 소거에 이용한다. 기록층의 온도는 기록하는 동안 약 600℃까지 상승하고, 소거하는 동안은 약 170℃까지 상승한다. 상 변화타입 광 기록 매체는 광자기 기록 매체에 비하여 재료 비용이 적어 유리하며, 드라이브는, 광-자기 기록에 비해 기록과 소거 메커니즘이 상 변화를 이용하는 것처럼 단순하기때문에 저렴할 수가 있으며, 재생용 광디스크 (CD-ROM 등) 와 호환성을 갖도록 하는 것이 용이하다.In a phase change type optical recording layer of a phase change type optical recording medium, a light beam, usually a laser beam, is irradiated for a change between amorphous and crystalline material, that is, a phase change, and the phase change is used for recording and / or erasing. . The temperature of the recording layer rises to about 600 ° C. during recording and rises to about 170 ° C. during erasing. A phase change type optical recording medium is advantageous in that it has a lower material cost than that of a magneto-optical recording medium, and a drive can be inexpensive because the recording and erasing mechanism is as simple as using phase change in comparison with the optical-magnetic recording medium. It is easy to be compatible with the CD-ROM).

광자기 기록 매체의 광자기 기록층은 공지되어 있으며, 예를 들면, 희토류 또는 TbFeCo와 같은 전이 금속 합금으로 이루어질 수 있다. 상 변화 타입 광 기록 매체의 상 변화 타입 광 기록층은 공지되어 있으며, 예컨데, GeSbTe 와 InSbTe와 같은 캘코지나이드 (carcogenide) 합금으로 이루어질 수 있다. 기록층의 두께는 특별히 제한되지 않으나, 일반적으로 12 내지 30 nm 범위이다.Magneto-optical recording layers of magneto-optical recording media are known and may be made of, for example, rare earth or transition metal alloys such as TbFeCo. A phase change type optical recording layer of a phase change type optical recording medium is known, and may be made of a chalcogenide alloy such as GeSbTe and InSbTe, for example. The thickness of the recording layer is not particularly limited, but is generally in the range of 12 to 30 nm.

본 발명은, 자기광 기록 매체 (예컨대 200℃) 에 비해 상 변화 타입 광 기록 매체의 경우, 기록층의 온도가 더욱 고온 (예컨대 600℃) 까지 증가하고, 매체의 표면 온도가 고온일 때 흐려짐과 먼지 문제가 더욱 심각해지므로, 상 변화 타입 광 기록 매체에 적용하는 것이 보다 바람직하다. 상 변화 타입 광 기록 매체의 경우, 본 발명의 효과를 더욱 더 분명하고 유리하게 얻을 수 있다.In the case of a phase change type optical recording medium compared to a magneto-optical recording medium (for example, 200 ° C.), the temperature of the recording layer is increased to a higher temperature (for example, 600 ° C.), and is blurred when the surface temperature of the medium is high. Since the dust problem becomes more serious, it is more preferable to apply it to a phase change type optical recording medium. In the case of a phase change type optical recording medium, the effects of the present invention can be obtained more clearly and advantageously.

반사층은 일반적으로 2 내지 5%의 Ti, Ta, Cr, Au 등이 함유된 알루미늄 합금으로 제작된다. 선택적으로는, Ag 합금이나 Au 합금을 또한 사용할 수 있다. 본 발명에서, 반사층의 물질과 두께는 특별히 한정되지 않는다.The reflective layer is generally made of an aluminum alloy containing 2 to 5% of Ti, Ta, Cr, Au and the like. Alternatively, Ag alloys or Au alloys may also be used. In the present invention, the material and the thickness of the reflective layer are not particularly limited.

일반적으로, 반사층의 두께는 40 내지 200 nm 범위이다.In general, the thickness of the reflective layer is in the range from 40 to 200 nm.

하부 유전층은 상부 유전층과 유사할 수 있다.The lower dielectric layer may be similar to the upper dielectric layer.

일반적으로, 하부 유전층의 두께는 15 내지 50 nm 범위이다.In general, the thickness of the lower dielectric layer is in the range of 15 to 50 nm.

본 발명서, 기판은 매체의 광학적 특성과 무관하므로, 기판은 본 발명에서 특별히 한정되지 않으며, 유리나 플라스틱과 같은 어떠한 공지의 물질일 수 있다.이러한 물질 중 비용과 기계적 특성면에서 우수한 폴리카보네이트 수지가 바람직하다. 낮은 흡습성을 요하는 경우, 비정질 지방족 폴리오레핀 수지 (aliphatic polyolefin resin) 가 바람직하다.In the present invention, since the substrate is independent of the optical properties of the medium, the substrate is not particularly limited in the present invention, and may be any known material such as glass or plastic. Among these materials, a polycarbonate resin having excellent cost and mechanical properties desirable. In cases where low hygroscopicity is required, amorphous aliphatic polyolefin resins are preferred.

기판의 내열성이 낮은 경우, 기판과 반사층 사이에 단열층을 형성할 수도 있다. 이러한 단열층은 기록층에서 발생하는 열 효과로 인한 기판의 변형을 방지하는 효과가 있다. 특히, 결정화를 위한 초기 열처리 단계 또는 한번에 넓은 영역의 매체를 가열하는 초기화 단계에서 기판이 더욱 쉽게 변형될 수 있으며, 이 단계에서 단열층의 효과는 중요하다. 이 단열층은 낮은 열 전도도를 가져야 하며, 2 nm 이상의 두께를 가져야 한다.When the heat resistance of the substrate is low, a heat insulating layer may be formed between the substrate and the reflective layer. Such a heat insulating layer has an effect of preventing deformation of the substrate due to the heat effect generated in the recording layer. In particular, the substrate may be more easily deformed in an initial heat treatment step for crystallization or in an initialization step of heating a large area of media at one time, in which the effect of the thermal insulation layer is important. This insulating layer should have low thermal conductivity and have a thickness of at least 2 nm.

가열되는 기록층으로부터의 열 전달 방식은 아래와 같이 생각된다. 기록층의 열은 보통 하부 유전층을 통하여 높은 열 전도도를 가진 알루미늄 합금으로 된 반사층을 따라 발산하며, 반면에 반사층의 일부의 열은 기판으로 전달된다. 반사층의 열이 반사층을 따라서만 발산하면, 기판의 온도가 상승하는 문제는 발생하지 않는다.The heat transfer method from the recording layer to be heated is considered as follows. The heat of the recording layer usually dissipates through the lower dielectric layer along the reflective layer of aluminum alloy with high thermal conductivity, while the heat of part of the reflective layer is transferred to the substrate. If the heat of the reflecting layer only diverges along the reflecting layer, there is no problem that the temperature of the substrate rises.

그러므로, 단열층의 열 전도도는 반사층의 열 전도도와의 관계에서 결정된다. 만약 반사층의 열전도도가 높으면, 열은 기판에 거의 도달되지 않고 단열층의 단열은 불필요하다. 만약 반사층의 열전전도가 낮으면, 단열층의 열 전도도가 충분히 낮아야 한다. 단열층의 열 전도도는 대략 반사층의 열전도도의 1/10 이하여야 한다. 단열층 두께가 너무 얇으면, 단열층 효과를 얻을 수 없으므로, 두께는 적어도 2 nm 보다 커야 한다.Therefore, the thermal conductivity of the thermal insulation layer is determined in relation to the thermal conductivity of the reflective layer. If the heat conductivity of the reflective layer is high, heat hardly reaches the substrate and heat insulation of the heat insulating layer is unnecessary. If the thermal conductivity of the reflective layer is low, the thermal conductivity of the thermal insulation layer should be sufficiently low. The thermal conductivity of the insulating layer should be approximately 1/10 of that of the reflective layer. If the heat insulation layer thickness is too thin, the heat insulation layer effect cannot be obtained, so the thickness must be at least 2 nm.

단열층 재료는, ZnS SiO2, ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al2O3, SiO2, Ta2O5, TiO2및 Y2O3와 같은 캘코지나이드, 질화물, 산화물 및 이것들의 조합으로 된 재료를 포함한, 상부 유전층에 대해 설명한 재료들 중의 어느 하나의 재료이다.The heat insulating layer material may be selected from the group consisting of chalcogenides such as ZnS SiO 2 , ZnS, SiN, GeN, AlSiN, Al 2 O 3 , SiO 2 , Ta 2 O 5 , TiO 2 and Y 2 O 3 , nitrides, oxides and combinations thereof. Any one of the materials described for the upper dielectric layer, including the material.

단열층의 열 전도도는 상부 유전층, 또는 제 1 상부 유전층의 열 전도도와 가급적 유사하면 바람직하다. 이 열 전도도는 대략 5 Watt/(m×K)로 생각된다.The thermal conductivity of the thermal insulation layer is preferably as similar as the thermal conductivity of the upper dielectric layer, or the first upper dielectric layer. This thermal conductivity is considered to be approximately 5 Watt / (m × K).

특히, 본 발명의 광 기록 매체는, 매체와 광 헤드 시스템의 대물렌즈 사이의 거리가 대략 1.0㎛ 이하인 광 헤드 시스템에서 이 매체를 사용하는 경우에, 바람직하다. 이와 같은 광 헤드 시스템의 일반적인 예는 플라잉 광 헤드이다. 플라잉 광 헤드에서는, 매체와 광 헤드 시스템의 대물렌즈 사이의 거리가 매우 작으며, 기화된 물질에 의해 대물렌즈가 흐려지는 것이 매우 심각하다. 플라잉 광 헤드는 도 1에서 나타낸 바와 같다. 플라잉 헤드는 매체의 회전에 기한 공기 유동을 타고 매체의 표면으로부터 일정 거리를 둔 채 비행한다. 특히, 짐벌 (gimbals) 이라고 불리는 판 스프링 구조에 의해 지지되는 슬라이더가 대물렌즈를 고정하고 매체의 회전에 의한 공기 유동에 의해 매체의 표면으로부터 일정한 거리를 두고 비행한다.In particular, the optical recording medium of the present invention is preferable when the medium is used in an optical head system in which the distance between the medium and the objective lens of the optical head system is approximately 1.0 mu m or less. A general example of such an optical head system is a flying optical head. In flying optical heads, the distance between the medium and the objective lens of the optical head system is very small, and it is very serious that the objective lens is blurred by vaporized material. The flying optical head is as shown in FIG. The flying head travels at a distance from the surface of the medium in an air flow due to the rotation of the medium. In particular, a slider supported by a leaf spring structure called gimbals fixes the objective lens and flies a certain distance from the surface of the medium by air flow caused by the rotation of the medium.

실시예Example

(실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3)(Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3)

도 4와 유사한 구조를 가진 상 변화 타입 기록 매체 (장벽층 또는 결정화 가속층 (17 및 18) 은 형성하지 않음) 를 제작하였다. 특히, 매체는 기판 (11),단열층 (16), 반사층 (12), 하부 유전층 (13), 기록층 (14), 제 1 상부 유전층 (15a) 및 제 2 상부 유전층 (15b) 을 포함한다. 제 1 상부 유전층 (15a) 의 두께를 달리 하였다. 이렇게 제작된 상 변화 타입 광 기록 매체를 평가하였다.A phase change type recording medium (no barrier layer or crystallization acceleration layers 17 and 18 were formed) having a structure similar to that of FIG. In particular, the medium includes a substrate 11, an insulating layer 16, a reflective layer 12, a lower dielectric layer 13, a recording layer 14, a first upper dielectric layer 15a and a second upper dielectric layer 15b. The thickness of the first upper dielectric layer 15a was varied. The phase change type optical recording medium thus produced was evaluated.

사용된 기판 (11) 은 내부 직경이 15 mm인 구멍뿐만 아니라 두께가 1.2 mm 및 직경이 120 mm인 폴리카보네이트 플라스틱 기판으로서, 다음과 같은 형태였다. 기판 (11) 은 연속적인 서보 (servo) 를 위해 인젝션 몰딩 (injection molding) 에 의해 형성된 반지름 25 mm 내지 반지름 58 mm의 V자 모양의 나선형 홈을 가졌다. 그 홈들은 깊이가 90 nm, 바닥 너비가 0.12 ㎛, 트렉 피치가 0.7 ㎛이었다. 랜드 상에 기록을 하였다.The substrate 11 used was a polycarbonate plastic substrate having a thickness of 1.2 mm and a diameter of 120 mm as well as a hole having an internal diameter of 15 mm, and was of the following form. The substrate 11 had a V-shaped helical groove having a radius of 25 mm to 58 mm formed by injection molding for continuous servo. The grooves were 90 nm deep, 0.12 μm bottom width, and 0.7 μm trek pitch. A record was made on the land.

상 변화 타입 광 기록 매체를 얻기 위해, 상기 기판 상에 다음의 층들을 형성하였고, 이 매체의 층 면으로부터 빔을 조사하였다. 단열층 (16), 하부 유전층 (13) 및 제 1 상부 유전층 (15a) 은 몰 % 비가 80 : 20인 ZnS-SiO2타겟을 스퍼터링하여 얻어진 ZnS-SiO2층이었다. 단열층 (16) 의 두께는 80 nm, 하부 유전층 (13) 의 두께는 18 nm이었고, 제 1 상부 유전층 (15a) 의 두께는 표 2에 나타낸 바와 같았다. ZnS-SiO2층의 굴절율은 대략 2.18이었다.In order to obtain a phase change type optical recording medium, the following layers were formed on the substrate, and a beam was irradiated from the layer side of the medium. The heat insulating layer 16, the lower dielectric layer 13 and the first upper dielectric layer 15a were ZnS-SiO 2 layers obtained by sputtering a ZnS-SiO 2 target having a molar% ratio of 80:20. The thickness of the heat insulating layer 16 was 80 nm, the thickness of the lower dielectric layer 13 was 18 nm, and the thickness of the first upper dielectric layer 15a was as shown in Table 2. The refractive index of the ZnS-SiO 2 layer was approximately 2.18.

기록층 (14) 은 Ge:Sb:Te의 원자비가 2:2:5인 GeSbTe 합금 타겟을 스퍼터링하여 증착한 GeSbTe 층이었으며, 두께는 22 nm였다. 반사층 (12) 은 Al:Cr의 원자비가 97:3인 AlCr 합금을 스퍼터링하여 증착한 AlCr 합금층이었으며, 두께는 150 nm였다.The recording layer 14 was a GeSbTe layer deposited by sputtering a GeSbTe alloy target having an atomic ratio of Ge: Sb: Te of 2: 2: 5 and having a thickness of 22 nm. The reflective layer 12 was an AlCr alloy layer deposited by sputtering an AlCr alloy having an atomic ratio of Al: Cr of 97: 3, and the thickness was 150 nm.

제 2 상부 유전층 (15b) 은 Ar과 N2의 혼합가스 분위기에서 Si 타겟을 스퍼터링하여 얻은 SiN층이었다. SiN 층의 원자비율은 3:4의 화학양론비에 가까울 것으로 생각되었지만, 정밀한 분석은 어려웠다. 제 2 상부 유전층 (15b) 은 굴절율이 2.08이었고, 두께는 120 nm이었다.The second upper dielectric layer 15b was a SiN layer obtained by sputtering a Si target in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 . The atomic ratio of the SiN layer was thought to be close to the stoichiometric ratio of 3: 4, but precise analysis was difficult. The second upper dielectric layer 15b had a refractive index of 2.08 and a thickness of 120 nm.

마그네트론 스퍼터링에 의해 기판 (11) 상에 상기 무기층을 형성하였다. 사용한 장비는 인라인 스퍼터링 장비 (Anelva Corp.에서 제작한 ILC3102-형) 로서 타겟은 8인치의 직경을 갖고, 자전하며 또한 소정의 반지름을 두고 축주위를 공전한다. 증착된 층의 두께는 증착 시간으로 제어하였다.The inorganic layer was formed on the substrate 11 by magnetron sputtering. The equipment used was an in-line sputtering equipment (type ILC3102-manufactured by Anelva Corp.) with a target of 8 inches in diameter, rotating and revolving around the axis with a predetermined radius. The thickness of the deposited layer was controlled by the deposition time.

표 2는 제 1 상부 유전층의 두께를 변화시킨 제 1 내지 4 실시예 및 제 1 내지 3의 비교예에서 상부 유전층들의 두께를 나타낸 것이다. 또한, 표 2는 결정화를 위한 초기 열처리 후의 매체의 반사율를 나타내고, 상부 유전층 전체가 속해 있는 해당 피크 영역의 차수를 나타낸다. 피크 영역은 앞에서 간섭 피크와 관련하여 정의하였다.Table 2 shows the thicknesses of the upper dielectric layers in the first to fourth examples and the first to third comparative examples in which the thickness of the first upper dielectric layer was changed. In addition, Table 2 shows the reflectance of the medium after the initial heat treatment for crystallization, and the order of the corresponding peak area to which the entire upper dielectric layer belongs. Peak areas were defined previously in terms of interference peaks.

표 2TABLE 2

샘플의 번호Number of samples 층의 두께Layer thickness 피크 영역의 차수Order of peak area 매체의 반사율(파장은 685nm)Reflectance of the medium (wavelength is 685 nm) 제 1 상부유전층 (nm)First upper dielectric layer (nm) 제 2 상부유전층 (nm)Second upper dielectric layer (nm) 전체 유전층 (nm)Total dielectric layer (nm) 실시예 1실시예 2실시예 3실시예 4비교예 1비교예 2비교예 3Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3 155205325485154575155205325485154575 120120120120120120120120 120 120 120 120 120 120 275325445605135165195275325445605135165195 2차2차3차4차1차1차1차2nd 2nd 3rd 4th 1st 1st 1st 3238363738422532383637384225

위와 같이 제작한 상 변화 타입 광 기록 매체를 파장이 685 nm인 레이저 다이오드를 가진 플라잉 광 헤드가 있는 장치에서 분석하였다. 먼지 또는 흐려짐을 직접 측정하는 것은 어려웠기 때문에, 레이저 빔이 조사될 때의 트랙킹 오류 신호의 무질서도를 관찰하여 대물 렌즈의 흐려짐과 오염을 평가하였다. 플라잉 광 헤드는, 앞서 설명하고 도 1에서 도시된 바와 같이, 슬라이더 방식으로서, 대물렌즈가 슬라이더 상에 장착되고 이 대물렌즈가 매체의 표면으로부터 0.38 ㎛의 거리를 두고 비행하도록, 제어되었다. 트랙킹 제어는, 2 개로 나눠진 (dual) 포토디텍터에 의해 되돌아오는 빛을 감지하고, 푸쉬-풀 (push-pull) 신호 또는 소위 트랙킹 오류 신호 (tracking error signal, 이 후부터 "TES"라 함) 라고 불리는 2 개로 나누어져 되돌아오는 빛들 사이의 차이를 이용하여, 행하였다. 매체의 회전 속도는 8 m/sec로 일정하였다. 이러한 분석 절차는 다음과 같았다.The above-described phase change type optical recording medium was analyzed in a device with a flying optical head having a laser diode having a wavelength of 685 nm. Since it was difficult to directly measure dust or blur, the disorder of the tracking error signal when the laser beam was irradiated was observed to evaluate the blur and contamination of the objective lens. The flying optical head was controlled as described above and shown in FIG. 1, in a slider manner, in which an objective lens was mounted on the slider and the objective lens was flying at a distance of 0.38 μm from the surface of the medium. Tracking control detects the light coming back by a dual photodetector and is called a push-pull signal or so-called tracking error signal (hereinafter referred to as "TES"). This was done using the difference between the lights that were split into two and returned. The rotational speed of the medium was constant at 8 m / sec. This analysis procedure was as follows.

결정화를 위한 초기 열처리 후에 기록 매체의 샘플을 분석 장비 안에 배치하였다. TES의 무질서도를 평가하기 위한 기준 진폭으로서 점프 신호를 측정하기 위해, 1.2 mW 출력의 재생용 빔을 반복적으로 동일한 트랙에 조사하였다. 이러한 빔의 반복적인 조사에 의한 재생은 소거된 부분에 대한 정지 모드의 재생이었다. 트랙은 나선 모양이기 때문에, 동일 트랙을 반복적으로 재생하기 위해서 빔은 한 회전당 한 트랙 피치의 거리만큼 움직이거나 점프를 해야만 하며, 이를 "트랙 점프"라 한다. 반복적인 재생이 정지 모드 (still mode) 에서 정상이면, 1 회전당 1회씩 트랙 점프가 일어날 때 사인파 형태의 큰 출력 (점프 진폭이라 칭함) 이 관찰되는 것을 제외하면, 빔이 트랙의 중심으로 향하게 되는 1 회전하는 동안 TES는 0에 근접한다.After the initial heat treatment for crystallization, a sample of the recording medium was placed in the analysis equipment. In order to measure the jump signal as a reference amplitude for evaluating the disorder of TES, a reproducing beam of 1.2 mW output was repeatedly irradiated on the same track. The reproduction by the repeated irradiation of this beam was the reproduction of the stop mode for the erased portion. Since the track is spiral, the beam must move or jump a distance of one track pitch per revolution in order to play the same track repeatedly, which is called "track jump". If repetitive playback is normal in still mode, the beam is directed towards the center of the track except that a large output (called jump amplitude) in sinusoidal form is observed when a track jump occurs once per revolution. During one revolution, TES approaches zero.

일반적으로, TES 무질서도는, 트랙 점프시의 진폭을 제외하고 점프 진폭에 대한 1회전시의 최대 진폭의 퍼센트 진폭에 의해 평가한다. 0.7 ㎛ 트랙 피치를 가진 매체에서 허용되는 오프-트랙 폭 (off-track width) 이 0.05 ㎛인 경우, 이러한 무질서도는 43%를 초과해서는 안된다. 허용되는 오프-트랙 폭은, 시스템의 S/N등에 의존하므로 고정값을 갖지 않지만 기판의 면으로부터 빔을 조사하는 종래의 광 기록 매체의 일반적인 요건을 고려하여, 43%가 되도록 선택하였다. 무질서도가 이러한 평가기준 43%보다 커지면, 빔이 트랙의 중심으로부터 허용되는 영역의 외곽에 있는 한 점 또는 한 선 상을 통과함을 의미한다. 만약 무질서도가 더욱 커지면, 빔은 상기 트랙에 머물 수 없게 된다, 즉 트랙킹 제어가 불가능해진다.In general, TES disorder is assessed by the percent amplitude of the maximum amplitude at one revolution to the jump amplitude, excluding the amplitude at track jump. If the allowable off-track width is 0.05 [mu] m in media with a 0.7 [mu] m track pitch, this disorder should not exceed 43%. The permissible off-track width is chosen to be 43%, taking into account the general requirements of conventional optical recording media that do not have a fixed value but irradiate a beam from the surface of the substrate since it depends on the S / N of the system. If the disorder is greater than 43% of this criterion, it means that the beam passes over a point or line outside the permissible area from the center of the track. If the disorder is greater, the beam cannot stay on the track, i.e. tracking control becomes impossible.

제 1 내지 4의 실시예 및 제 1 내지 3의 비교예의 모든 샘플들에서, 상기 재생만을 행한 경우 정상적 트랙킹 제어가 가능했으며, 1회전당 TES의 무질서도는 기껏해야 매체가 정상임을 나타내는 20%를 초과하지 않았다. 이렇게 샘플의 점프 진폭을 측정하였다.In all the samples of Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3, normal tracking control was possible when only the regeneration was performed, and the disorder of TES per revolution was at most 20%, indicating that the medium was normal. It did not exceed. Thus the jump amplitude of the sample was measured.

다음으로, 먼지와 흐려짐을 샘플들에 대한 다음의 실험에 의해 평가하였다. 평가시 상술한대로 1.2 mW의 출력을 갖는 재생용 빔을 정지모드로 조사하였던 경로를 따라 기록용 빔에 해당하는 강한 빔 (이하, "평가 레이저 출력"이라 함) 을 대략 1회전 주기동안 샘플에 조사아였으며, 성능 평가를 위해 TES의 무질서도를 측정하였다.Next, dust and cloudiness were evaluated by the following experiment on the samples. A strong beam (hereinafter referred to as an "evaluation laser output") corresponding to the recording beam is irradiated to the sample for approximately one rotation period along the path where the reproduction beam having an output of 1.2 mW was irradiated in the stop mode as described above in the evaluation. The disorder of TES was measured for performance evaluation.

여기서, 일반적으로, 기록층이 고온을 필요로 하기 때문에 기록과 소거를 위한 경우 강한 레이저 출력을 사용한다. 실험을 한 샘플들에서, 기록 마크를 소거하는데 약 4 mW의 레이저 출력이 필요하였고, 기록용으로는 약 7.8 mW 레이저 피크 출력이 필요하였다.Here, in general, a strong laser power is used for recording and erasing because the recording layer requires a high temperature. In the samples tested, a laser power of about 4 mW was needed to erase the recording marks and about 7.8 mW laser peak power for recording.

상기 실험에서, 1.2 mW의 출력의 재생용 빔을 정지모드에서 조사하는 동안, 강한 평가 레이저 출력을 약 1회전의 주기 동안 샘플에 조사하였고, 성능 평가를 위해 그 후 TES 무질서도를 평가하였다. 이러한 평가에서, 샘플은, 적어도 소거 출력에 해당하는 약 4 mW의 출력의 레이저가 조사된 뒤에, TES의 무질서도가 상기 기준 값인 43%를 초과하지 않아야 하는 기준을 물론 만족해야만 한다. 그러나, 실제 사용시에는, 약 6mW 또는 기록용 빔의 피크 전력의 약 7.8 mW 미만인 레이저 출력을 조사한 후에, TES 무질서도가 상기 기준값인 43%를 초과하지 않으면, 문제점은 발생하지 않는데, 이러한 실험의 경우는 연속적인 빔 (일정한 강도를 갖는 DC 레이저 빔) 을 조사하고, 그에 의해 실제 사용하는 펄스 빔을 평가 출력으로 조사하는 경우 보다 매체의 온도가 더 높아지게 되기 때문이다. 이 후자의 사실 또는 임계값은 1-7 의 변형된 무작위 데이터에 대한 별도의 재생 실험을 통해 확인하였다. 따라서, TES의 무질서도가 43%의 허용 한계가 되었을 때, 각 샘플의 평가 레이저 출력을 결정하였다. 이 기준을 만족한 샘플은 만족스러울 수 있으며, 위에서 언급한 바와 같이 실제 사용시에 문제가 없다. 이 결과를 표 3에 나타내었다.In this experiment, while irradiating a regeneration beam of 1.2 mW in the stationary mode, a strong evaluation laser power was irradiated to the sample for a period of about one rotation, and then TES disorder was evaluated for performance evaluation. In this evaluation, the sample must, of course, meet the criterion that the disorder of the TES should not exceed 43% of the reference value after the laser has been irradiated at least about 4 mW corresponding to the erase power. However, in actual use, after irradiating a laser output of about 6 mW or less than about 7.8 mW of the peak power of the recording beam, if the TES disorder does not exceed the reference value of 43%, no problem arises. This is because the temperature of the medium is higher than when irradiating a continuous beam (a DC laser beam having a constant intensity), thereby irradiating the pulse beam actually used with the evaluation output. This latter fact or threshold was confirmed by separate regeneration experiments on 1-7 modified random data. Therefore, when the disorder of TES reached an allowable limit of 43%, the evaluation laser power of each sample was determined. Samples that meet this criterion can be satisfactory, and as mentioned above, there are no problems in actual use. The results are shown in Table 3.

표 3TABLE 3

상부 유전층의전체 두께 (nm)Total thickness of upper dielectric layer (nm) 피크 영역의 차수Order of peak area TES 무질서의 한계에서평가 레이저 출력Assess laser power at the limits of TES disorder 실시예 1실시예 2실시예 3실시예 4비교예 1비교예 2비교예 3Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Comparative Example 1 Comparative Example 2 Comparative Example 3 275375445605135165195275375445605135165195 1차 피크1차 피크3차 피크4차 피크1차 피크1차 피크1차 피크1st peak 1st peak 3rd peak 4th peak 1st peak 1st peak 1st peak 6.06.47.17.83.84.35.26.06.47.17.83.84.35.2

표 3에서 나타낸 바와 같이, 비교예 1에서 평가 레이저 출력은 3.8 mW로 낮았으며, 6 mW 평가 기준을 적용하는 경우 트랙킹 제어는 불가능하였다. 즉, TES의 무질서도가 평가 한계를 초과하였으며, 플라잉 광 헤드는 소정의 트랙 상에 머무를 수 없었다.As shown in Table 3, in Comparative Example 1, the evaluation laser power was low as 3.8 mW, and tracking control was not possible when the 6 mW evaluation criteria were applied. That is, the disorder of the TES exceeded the evaluation limit, and the flying optical head could not stay on the predetermined track.

위와 같은 문제의 원인을 알기 위해, 기록 매체 및 광 헤드의 관찰을 실험 전후로 반복하였다. 그 결과, 매체의 내부나 매체의 표면에서는 어떠한 문제도 발견되지 않았으나, 매체에 면하는 대물렌즈의 표면에 액적이 부착되어 있음을 발견하였다. 소량의 탄화수소를 함유한 수분을 주로 발견하기 위해, 라만 분석과 적외선 흡수 분석(infrared absorption analysis)을 수행하였다. 탄화수소는 매우 소량으로 존재하여, 그 규명이 가능하지 않았으나, 그것들은 공기 중에 통상 존재하는 기름 성분이라고 생각되었다. 비교예 1에서는, 심지어 2.5 mW의 평가 전력에 의해서도 TES 무질서도가 관찰되었다. 평가 전력이 점차 증가됨에 따라, 3.8 mW의 평가 출력에서 43%인 한계치를 초과하였다.In order to know the cause of the above problem, observation of the recording medium and the optical head was repeated before and after the experiment. As a result, no problem was found in the inside of the medium or on the surface of the medium, but it was found that droplets adhered to the surface of the objective lens facing the medium. Raman analysis and infrared absorption analysis were performed to find mainly water containing small amounts of hydrocarbons. Hydrocarbons were present in very small amounts and their identification was not possible, but they were thought to be oil components normally present in air. In Comparative Example 1, TES disorder was observed even with an evaluation power of 2.5 mW. As the evaluation power gradually increased, the limit of 43% was exceeded at the evaluation output of 3.8 mW.

표 3에 나타낸 바와 같이, 실시예 1 내지 4에서는, 심지어 6mW의 평가 기준 전력에서도 TES 무질서도는 한계 값인 43% 내의 범위에 있었으며, 매체가 실용적으로 유용한 매체임을 나타내었다. 이와 대조적으로, 비교예 1 내지 비교예 3에서는, 6mW 기준출력보다 낮은 평가 출력에서 TES 무질서도가 43% 한계 값을 초과하였으며, 매체가 안정된 기록을 허용하지 않음을 나타내었다.As shown in Table 3, in Examples 1 to 4, even at an evaluation reference power of 6 mW, the TES disorder was within the limit of 43%, indicating that the medium was a practically useful medium. In contrast, in Comparative Examples 1 to 3, the TES disorder exceeded the 43% limit at an evaluation output lower than the 6 mW reference output, indicating that the medium does not allow stable recording.

(실시예 5 내지 9 및 비교예 4 내지 7)(Examples 5 to 9 and Comparative Examples 4 to 7)

도 5와 유사한 구조를 가진 상 변화 타입 광 기록 매체 (장벽층 또는 결정화 가속층 (27 및 28)은 형성되지 않음) 를 제작하였다. 특히, 매체는 기판 (21), 단열층 (26), 반사층 (22), 하부 유전층 (23), 기록층 (24), 제 1 상부 유전층 (25a), 금속층 (25c) 및 제 2 상부 유전층 (25b)을 포함한다. 제 1 상부 유전층 (25a), 금속층 (25c) 및 제 2 상부 유전층 (25)의 두께를 변화시켰다. 실시예 5 내지 실시예 19에서 사용한 금속층은 5 wt%의 Cu를 함유한 AgCu 층이었다. 비교예 4 내지 비교예 7에서, 금속층이 없는 매체 (비교예 4 내지 비교예 5) 및 두께가 55 nm인 두꺼운 AgCu 금속층을 가진 매체 (비교예 6 및 비교예 7) 를 제작하였다.A phase change type optical recording medium (barrier layers or crystallization acceleration layers 27 and 28 are not formed) having a structure similar to that of FIG. In particular, the medium includes a substrate 21, a heat insulating layer 26, a reflective layer 22, a lower dielectric layer 23, a recording layer 24, a first upper dielectric layer 25a, a metal layer 25c and a second upper dielectric layer 25b. ). The thicknesses of the first upper dielectric layer 25a, the metal layer 25c and the second upper dielectric layer 25 were varied. The metal layer used in Examples 5-19 was an AgCu layer containing 5 wt% Cu. In Comparative Examples 4 to 7, a medium having no metal layer (Comparative Examples 4 to 5) and a medium having a thick AgCu metal layer having a thickness of 55 nm (Comparative Examples 6 and 7) were prepared.

사용한 기판 (21) 은 실시예 1과 동일한 폴리카보네이트 플라스틱 기판이었다.The used substrate 21 was the same polycarbonate plastic substrate as in Example 1.

상기 기판 상에, 빔이 층면으로부터 조사되는 상 변화 타입 광 기록 매체를 얻기 위해, 각각의 층을 형성하였다. 단열층 (26), 하부 유전층 (23) 및 제 1 상부 유전층 (25a) 은 몰 % 비가 80:20인 ZnS와 SiO2의 타겟을 스퍼터링하여 얻은 ZnS-SiO2층이었다. 단열층 (26)의 두께는 80 nm이었고, 하부 유전층 (23)의 두께는 18 nm이었다. 제 1 상부 유전층 (25a) 의 두께는 3 가지 타입중의 하나,즉 표 3에 나타낸 바와 같이, 40 nm (실시예 5 와 6 및 비교예 4), 80 nm (실시예 7 내지 10 및 비교예 5와 6) 와 120 nm (실시예 11 내지 19 및 비교예 7) 이었다. ZnS-SiO2층의 굴절율는 약 2.18이었다.Each layer was formed on the substrate in order to obtain a phase change type optical recording medium in which a beam is irradiated from the layer plane. The heat insulating layer 26, the lower dielectric layer 23 and the first upper dielectric layer 25a were ZnS-SiO 2 layers obtained by sputtering targets of ZnS and SiO 2 having a molar% ratio of 80:20. The thickness of the thermal insulation layer 26 was 80 nm and the thickness of the lower dielectric layer 23 was 18 nm. The thickness of the first upper dielectric layer 25a is one of three types, namely 40 nm (Examples 5 and 6 and Comparative Example 4), 80 nm (Examples 7 to 10 and Comparative Example, as shown in Table 3). 5 and 6) and 120 nm (Examples 11 to 19 and Comparative Example 7). The refractive index of the ZnS-SiO 2 layer was about 2.18.

기록층 (24) 및 반사층 (22) 은 제 1 실시예의 경우와 동일하였다. 즉, 기록층 (24) 은 Ge:Sb:Te의 원자비가 2:2:5인 GeSbTe 합금 타겟을 스퍼터링하여 증착한 GeSbTe 층이었으며, 두께는 22 nm이었다. 반사층 (22) 은 Al:Cr의 원자비가 97:3인 AlCr 합금을 스퍼터링하여 증착한 AlCr 합금 층이었고, 두께는 150 nm이었다.The recording layer 24 and the reflective layer 22 were the same as in the first embodiment. That is, the recording layer 24 was a GeSbTe layer deposited by sputtering a GeSbTe alloy target having an atomic ratio of Ge: Sb: Te of 2: 2: 5, and the thickness was 22 nm. The reflective layer 22 was an AlCr alloy layer deposited by sputtering an AlCr alloy having an atomic ratio of Al: Cr of 97: 3, and the thickness was 150 nm.

제 2 상부 유전층 (25b) 은 Ar과 N2의 혼합가스 분위기에서 Si 타겟을 스퍼터링하여 얻은 SiN층이었다. SiN 층의 원자비는 화학양론비인 3:4에 가까울 것으로 판단되나 정확한 분석은 어려웠다. 제 2 상부 유전층 (25b) 은 2.08의 굴절율을 갖고, 두께는 표 4에서 나타낸 바와 같이 42 nm 내지 225 nm 범위에 걸쳐 변화시켰다.The second upper dielectric layer 25b was a SiN layer obtained by sputtering a Si target in a mixed gas atmosphere of Ar and N 2 . The atomic ratio of the SiN layer is estimated to be close to the stoichiometric ratio of 3: 4, but the exact analysis was difficult. The second upper dielectric layer 25b has a refractive index of 2.08 and the thickness was varied over the range of 42 nm to 225 nm as shown in Table 4.

금속층 (25c) 은 Ag와 Cu의 질량비가 95:5인 AgCu 타겟을 스퍼터링하여 얻어진 AgCu 층이었다. 금속층 (25c) 의 두께는 5 nm 내지 50 nm (실시예 5 내지 실시예 19) 및 55 nm (비교예 6 및 비교예 7) 범위에 걸쳐 변화시켰다.The metal layer 25c was an AgCu layer obtained by sputtering an AgCu target having a mass ratio of Ag and Cu of 95: 5. The thickness of the metal layer 25c was varied over a range of 5 nm to 50 nm (Examples 5 to 19) and 55 nm (Comparative Example 6 and Comparative Example 7).

상기 무기층을, 실시예 1과 동일한 마그네트론 스퍼터링에 의해 기판 (21) 상에 증착하였다. 8개의 기판을 스퍼터링 장비 (ANELVA Corp.에서 제작한 ILC3102-형) 에 나란히 배치하고, 8개의 기판 상에 동일한 층을 동시에 증착하였다. 증착된 막의 두께는 스퍼터링 시간으로 제어하였다.The inorganic layer was deposited on the substrate 21 by the same magnetron sputtering as in Example 1. Eight substrates were placed side by side in a sputtering equipment (type ILC3102- made by ANELVA Corp.) and the same layer was simultaneously deposited on the eight substrates. The thickness of the deposited film was controlled by the sputtering time.

표 4는 실시예 5 내지 19 및 비교예 4 내지 7에서, 제 1 유전층 (25a), 금속층 (25c) 및 제 2 유전층 (25b) 의 두께를 나타낸 것이다. 또한, 표 4는 스퍼터링 직후의 비정질 기록층을 가진 매체의 반사율, 결정화를 위한 초기 열처리 후의 결정성 기록층을 가진 매체의 반사율, 및 상기 양 반사율 사이의 차이를 나타낸다. 또한, 이 측정의 결과를 표 4에 나타내었다. 상기 양 반사율의 차가 표 4에서 음의 값인 매체로서, 비정질 기록층을 가진 매체의 반사율이 결정질 기록층을 가진 매체의 반사율보다 더 큰 매체를 소위 "로우 투 하이 구조" (또는 로우 투 하이 극성) 매체라 한다. 이러한 타입의 매체는 지터, 즉, 에지 기록시에 위치를 감지하는 신호의 분산 정도가 작으므로, 바람직한 매체 구조이다.Table 4 shows the thicknesses of the first dielectric layer 25a, the metal layer 25c and the second dielectric layer 25b in Examples 5 to 19 and Comparative Examples 4 to 7. Table 4 also shows the difference between the reflectance of the medium with the amorphous recording layer immediately after sputtering, the reflectance of the medium with the crystalline recording layer after initial heat treatment for crystallization, and the above reflectance. In addition, the results of this measurement are shown in Table 4. As a medium in which the difference in positive reflectance is negative in Table 4, a medium in which the reflectance of the medium having an amorphous recording layer is larger than the reflectance of the medium having a crystalline recording layer is called a "low to high structure" (or low to high polarity). It is called a medium. This type of medium is a preferred medium structure since jitter, i.e., the degree of dispersion of the signal that senses the position at the time of edge writing is small.

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 3과 동일한 방법으로 광 매체의 샘플에 대한 성능 평가를 수행하였다.Performance evaluation was performed on samples of optical media in the same manner as in Examples 1-4 and Comparative Examples 1-3.

비교예 6 및 7의 경우, 반사율이 너무 크고, 성능 평가 장비에 있어 초점 제어와 트랙킹 제어가 어려워 충분한 평가가 불가능하였다. 비교예 8 및 9에서는, 굴절율이 너무 작아, 성능 평가 장비가 광 헤드 위치를 제어하도록 개선되더라도, 실제 사용시 C/N (Carrier to noise ratio) 비가 매우 작게 될 것이 명백하였다.In Comparative Examples 6 and 7, the reflectance was too large and the focus control and tracking control were difficult in the performance evaluation equipment, and sufficient evaluation was not possible. In Comparative Examples 8 and 9, it was evident that the carrier to noise ratio (C / N) ratio would be very small in practical use, even if the refractive index was too small to improve the performance evaluation equipment to control the optical head position.

실시예 5 내지 19 및 비교예 4와 5에서는, 재생만을 수행하고 매체의 점프 신호를 측정하는 경우, 정상적 트랙킹 제어가 가능하였다. TES 무질서도는 최고치가 20% 이하로, 매체가 정상임을 나타내었다. 즉, 재생을 위한 레이저 출력은 1.2 mW이었으며, 이러한 낮은 출력에서 문제점은 전혀 없었다.In Examples 5 to 19 and Comparative Examples 4 and 5, normal tracking control was possible when only playback was performed and the jump signal of the medium was measured. TES disorder indicated that the media was normal with peaks below 20%. That is, the laser power for regeneration was 1.2 mW, and there was no problem at this low power.

비교예 4에서는, 평가 레이저 출력이 3.5 mW로 작아, 평가 기준 출력인 6mW 이후에는 트랙킹 제어가 불가능하였다. 즉, TES 신호가 성능 평가를 위한 한계이상으로 무질서해져, 광 헤드를 소정의 트랙에서 머무르게 하는 것이 불가능하였다.In Comparative Example 4, the evaluation laser power was as small as 3.5 mW, and tracking control was impossible after 6 mW, which is the evaluation reference output. That is, the TES signal became disordered beyond the limits for performance evaluation, making it impossible to keep the optical head on a given track.

상기 문제의 원인을 발견하기 위해, 기록 매체와 광 헤드의 관찰을 실험 전후로 반복하였다. 그 결과, 매체의 내부 또는 매체의 표면에서는 어떠한 문제도 발견되지 않았으며, 매체에 접한 체 대물렌즈의 표면 상에 액적이 부착되어 있음을 발견하였다. 미량의 탄화수소를 함유한 물방울을 주로 발견하기 위해 라만 분석과 적외선 흡수 분석을 행하였다. 탄화수소는 매우 소량이어서, 그 규명이 불가능하지만, 그것들은 공기 중에 통상 존재하는 기름 성분으로 생각되었다. 비교예 4에서는, 평가 출력 2.5 mW에 의해서도 TES 무질서도를 관찰하였다. 평가 출력을 점차 증가시키면, TES 무질서도도 점차 증가하여, 평가 출력이 3.5 mW에서 한치 43%를 초과하였다.In order to find the cause of the problem, observation of the recording medium and the optical head was repeated before and after the experiment. As a result, no problem was found in the inside of the medium or on the surface of the medium, and it was found that droplets were attached on the surface of the sieve objective lens in contact with the medium. Raman analysis and infrared absorption analysis were conducted mainly to find droplets containing traces of hydrocarbons. Hydrocarbons are so small that their identification is impossible, but they were thought to be oil components normally present in air. In Comparative Example 4, the TES disorder was also observed by the evaluation output of 2.5 mW. Gradually increasing the evaluation output, the TES disorder also gradually increased, exceeding 43% of the evaluation output at 3.5 mW.

표 4에 나타낸 바와 같이, 비교예 5에서는, 반사율 차가 20.3%이기 때문에 우수한 C/N 비를 가질 것으로 기대되었으나, 평가 레이저 4.3 mW에서 TES 무질서도가 허용 한계치 43 %를 초과하였다. 이와 대조적으로, 비교예 5 내지 19에서는, 평가 레이저 출력이 만족스러웠다. 즉, 비교예 4 및 5와 달리, AgCr 합금 금속층만을 제공함으로써 6 mW 이상의 평가 출력을 얻었다.As shown in Table 4, in Comparative Example 5, it was expected to have a good C / N ratio because the reflectance difference is 20.3%, but the TES disorder exceeded the allowable limit of 43% at 4.3 mW of the evaluation laser. In contrast, in Comparative Examples 5 to 19, the evaluation laser output was satisfactory. That is, unlike Comparative Examples 4 and 5, by providing only the AgCr alloy metal layer, an evaluation output of 6 mW or more was obtained.

실시예 11 내지 17 및 19에서는, 매체가 반사율 차가 음인 사실로부터 알 수있는 바와 같이 로우 투 하이 극성 매체이었다. 각 샘플에서 반사율 차의 절대치가 17% 이상이었으므로, 매체는 충분한 C/N 비를 제공하며, 그 매체가 로우 투 하이 극성을 갖기 때문에 불안정성, 즉, 고밀도 기록에 요구되는 에지 마크 기록에 의한 재생 신호의 분산이 작을 것으로 기대되었다.In Examples 11-17 and 19, the medium was a low to high polarity medium, as can be seen from the fact that the reflectance difference is negative. Since the absolute value of the reflectance difference in each sample was 17% or more, the medium provided a sufficient C / N ratio, and because the medium had low to high polarity, the instability, i.e., the reproduction signal by the edge mark recording required for high density recording The variance of was expected to be small.

각 예들의 샘플에서, 평가 레이저 출력이 6 mW 이상으로 만족스러웠다.In the samples of each example, the evaluation laser power was satisfactory at 6 mW or more.

이상 설명한 바와 같이, 금속층의 두께가 55 nm인 비교예 6 및 7에서는, 너무 높은 반사율 때문에 성능 평가 장비에 의한 샘플 분석이 불가능하였다. 증폭 이득을 향상시키면 상기 성능 평가를 할 수 있지만, 평가 장비를 개조하여 평가를 하더라도 반사율 차의 절대치가 너무 작아, 충분한 C/N 비를 얻을 없을 것이다.As described above, in Comparative Examples 6 and 7 in which the thickness of the metal layer was 55 nm, sample analysis by the performance evaluation equipment was impossible because of the too high reflectance. Improving the gain of the amplification can perform the above performance evaluation, but even if the evaluation equipment is modified and evaluated, the absolute value of the reflectance difference is so small that a sufficient C / N ratio cannot be obtained.

그러므로, 이러한 평가를 수행하지 않았다.Therefore, no such evaluation was performed.

상기 예들로부터, 5 nm 내지 50 nm의 두께를 갖는 금속층을 형성함으로써 광 헤드의 먼지와 흐려짐을 방지할 수 있음을 알 수 있다. 20 nm 내지 50 nm의 두께를 갖는 금속층이, 로우 투 하이 구조의 극성 매체를 쉽게 제공할 수 있어, 기록 밀도를 증가시키는데 바람직하다.From the above examples, it can be seen that dust and clouding of the optical head can be prevented by forming a metal layer having a thickness of 5 nm to 50 nm. A metal layer having a thickness of 20 nm to 50 nm is preferred for increasing the recording density, since it can easily provide a polar medium of low to high structure.

표 4Table 4

반사율reflectivity TES 무질서도의한계치에서의평가 레이저 출력 (mW)Evaluation at Limits of TES Disorder Laser Power (mW) 제 2 상부 유전층Second upper dielectric layer 금속층Metal layer 제 1 상부 유전층First upper dielectric layer 결정질Crystalline 비정질Amorphous 차이Difference 실시예 5Example 5 4242 1010 4040 30.330.3 9.79.7 20.720.7 66 실시예 6Example 6 4242 1515 4040 50.750.7 28.528.5 22.222.2 6.26.2 실시예 7Example 7 6060 55 8080 40.840.8 20.620.6 20.220.2 6.36.3 실시예 8Example 8 6060 1010 8080 33.433.4 12.112.1 21.321.3 6.56.5 실시예 9Example 9 6060 1515 8080 33.833.8 11.011.0 22.122.1 6.86.8 실시예 10Example 10 6060 2525 8080 49.749.7 28.828.8 20.820.8 7.57.5 실시예 11Example 11 6060 2020 120120 5.65.6 23.723.7 -18.1-18.1 7.67.6 실시예 12Example 12 6060 3030 120120 14.814.8 37.137.1 -22.2-22.2 88 실시예 13Example 13 6060 4040 120120 27.327.3 49.949.9 -22.6-22.6 8.38.3 실시예 14Example 14 6060 4545 120120 40.740.7 61.161.1 -20.4-20.4 8.78.7 실시예 15Example 15 6060 5050 120120 53.153.1 70.170.1 -17.0-17.0 9.39.3 실시예 16Example 16 120120 1010 120120 16.116.1 34.734.7 -18.5-18.5 7.77.7 실시예 17Example 17 120120 1515 120120 26.026.0 47.747.7 -21.7-21.7 88 실시예 18Example 18 225225 55 120120 25.225.2 5.65.6 19.619.6 8.28.2 실시예 19Example 19 225225 3535 120120 14.914.9 37.137.1 -22.3-22.3 9.29.2 비교예 4Comparative Example 4 4242 00 4040 1818 55 1515 3.53.5 비교예 5Comparative Example 5 6060 00 8080 52.152.1 31.831.8 20.320.3 4.34.3 비교예 6Comparative Example 6 6060 5555 8080 76.576.5 65.165.1 11.411.4 N.DN.D 비교예 7Comparative Example 7 6060 5555 120120 63.763.7 77.177.1 -13.4-13.4 N.D.N.D.

주) N.D. : 측정 불가능Note) N.D. : Not measurable

Claims (28)

기판 및 적어도 상기 기판 상에 순차 형성된 기록층 및 상부 무기층을 포함하고, 상기 상부 무기층 면상에 위치한 광 헤드로부터 상기 기록 매체에 빔을 조사하는 것에 의해 기록과 재생을 행하는 광 기록 매체에 있어서,An optical recording medium comprising a substrate and at least a recording layer and an upper inorganic layer sequentially formed on the substrate, wherein recording and reproduction are performed by irradiating a beam to the recording medium from an optical head located on the upper inorganic layer plane, 상기 상부 무기층은, 상기 기록 매체에 기록용 광 빔을 조사할 때 상기 광기록 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하지 않도록 형성하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.And the upper inorganic layer is formed so that foreign materials existing on the upper surface of the optical recording medium do not vaporize when the recording light beam is irradiated onto the recording medium. 제 1항에 있어서, 상기 상부 무기층은, 다음의 2가지 특징,The method of claim 1, wherein the upper inorganic layer has the following two characteristics, A) 상기 상부 무기층은, 상기 기록용 광 빔을 상기 매체에 조사할 때 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도가 상기 광 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하는 수준까지 증가하지 않는 두께를 갖는 제 1유전층을 포함한다, 또는A) The upper inorganic layer has a thickness such that, when irradiating the medium with the recording light beam, the temperature of the upper surface of the recording medium does not increase to the level at which foreign material present on the upper surface of the optical medium vaporizes. Or a first dielectric layer having, or B) 상기 상부 무기층은, 기록용 광 빔을 상기 기록 매체 상에 조사할 때, 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도가 상기 광 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하는 수준까지 증가하지 않는 제 2 유전층, 금속층 및 제 3 유전층으로 순차 형성된 층상구조를 구비하는 라미네이트를 포함한다,B) The upper inorganic layer, when irradiating a recording light beam onto the recording medium, does not increase the temperature of the upper surface of the recording medium to the level where the foreign material present on the upper surface of the optical medium vaporizes. A laminate having a layered structure sequentially formed of a second dielectric layer, a metal layer, and a third dielectric layer, 는 특징 중 어느 하나의 특징을 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체Is an optical recording medium having any one of features 제 2항에 있어서, 상기 외래 물질은 주로 물인 것을 특징으로 하는 광 기록매체.3. The optical record carrier as claimed in claim 2, wherein the foreign material is mainly water. 제 2항에 있어서, 상기 기록층의 상기 상부 표면의 온도는 상기 기록 또는 재생용 광 빔을 상기 기록 매체에 조사할 때 150℃ 이상까지 증가하지 않는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium according to claim 2, wherein the temperature of the upper surface of the recording layer does not increase to 150 ° C or more when the recording or reproducing light beam is irradiated on the recording medium. 제 2항에 있어서, 상기 기록층과 상기 기판 사이에 반사층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.3. The optical recording medium of claim 2, further comprising a reflective layer between the recording layer and the substrate. 제 5항에 있어서, 상기 기판은 플라스틱으로 이루어지고, 상기 광 기록 매체는 상기 기판과 상기 반사층 사이에 단열층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.6. The optical recording medium according to claim 5, wherein the substrate is made of plastic, and the optical recording medium further comprises a heat insulating layer between the substrate and the reflective layer. 제 6항에 있어서, 상기 기록층과 상기 반사층 사이에 제 4 유전층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.7. The optical recording medium of claim 6, further comprising a fourth dielectric layer between the recording layer and the reflective layer. 제 7항에 있어서, 상기 기록층과 상기 제 4 유전층 사이에 장벽층 또는 결정화 가속층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.8. The optical recording medium of claim 7, further comprising a barrier layer or a crystallization acceleration layer between the recording layer and the fourth dielectric layer. 제 2항에 있어서, 상기 기록층과 상기 상부 무기층 사이에 장벽층 또는 결정화 가속층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.3. The optical recording medium of claim 2, further comprising a barrier layer or a crystallization acceleration layer between the recording layer and the upper inorganic layer. 제 2항에 있어서, 상기 기록층은 상 변화 타입 기록층인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.3. The optical recording medium of claim 2, wherein the recording layer is a phase change type recording layer. 제 2항에 있어서, 상기 기록 매체와 함께 사용하기 위한 상기 광 헤드와 상기 기록 매체 사이의 거리는 1㎛인 이하인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium according to claim 2, wherein a distance between the optical head and the recording medium for use with the recording medium is 1 µm or less. 제 2항에 있어서, 상기 기록 매체와 함께 사용하는 상기 광 헤드는 플라잉 광 헤드인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.An optical recording medium according to claim 2, wherein said optical head used with said recording medium is a flying optical head. 제 2항에 있어서, 상기 상부 무기층은 상기 특징 A)를 만족하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium according to claim 2, wherein the upper inorganic layer satisfies the feature A). 제 13항에 있어서, 상기 제 1 유전층은 상기 제 1 유전층의 두께의 증가에 따른 상기 광 기록 매체의 반사율의 제 2 피크 영역의 최소 두께가 광학적 간섭에 의해 발생되는 두께보다 더 큰 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.15. The method of claim 13, wherein the first dielectric layer has a thickness in which the minimum thickness of the second peak region of the reflectance of the optical recording medium as the thickness of the first dielectric layer increases is greater than the thickness generated by optical interference. An optical recording medium. 제 13항에 있어서, 상기 제 1 유전층은 1 ㎛ 미만의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.14. The optical recording medium of claim 13, wherein the first dielectric layer has a thickness of less than 1 mu m. 제 13항에 있어서, 상기 제 1 유전층은 상기 기록 또는 재생용 빔의 파장에서 1.70 이상의 굴절율을 갖는 무기 재료층인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium of claim 13, wherein the first dielectric layer is an inorganic material layer having a refractive index of at least 1.70 at a wavelength of the recording or reproducing beam. 제 13항에 있어서, 상기 제 1 유전층은 상기 기록층 상에 제 5 및 제 6 유전층을 순차로 포함하고, 상기 제 6 유전층은 상기 제 5 유전층보다 더 큰 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.14. The optical recording medium of claim 13, wherein the first dielectric layer includes fifth and sixth dielectric layers sequentially on the recording layer, and the sixth dielectric layer has a greater hardness than the fifth dielectric layer. . 제 2항에 있어서, 상기 상부 무기층은 상기 특징 B)를 만족하는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium according to claim 2, wherein the upper inorganic layer satisfies the feature B). 제 18항에 있어서, 상기 금속층은 주성분으로서 Au, Ag, Cu 및 Al 중 하나이상으로 이루어지며, 5 내지 50 nm의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.19. The optical recording medium according to claim 18, wherein the metal layer comprises at least one of Au, Ag, Cu, and Al as main components, and has a thickness of 5 to 50 nm. 제 18항에 있어서, 상기 제 2 및 제 3 유전층은 상기 기록 또는 재생용 빔의 파장에서 1.70 이상의 굴절율을 갖는 무기 재료인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.19. The optical recording medium of claim 18, wherein the second and third dielectric layers are inorganic materials having a refractive index of at least 1.70 at a wavelength of the recording or reproducing beam. 제 18항에 있어서, 상기 제 3 유전층은 상기 제 2 유전층보다 더 큰 경도를가지는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.19. The optical recording medium of claim 18, wherein the third dielectric layer has a greater hardness than the second dielectric layer. 제 2항에 있어서, 상기 기록 매체는 상기 기록 매체의 표준 규격에의해 요구되는 반사율을 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.The optical recording medium of claim 2, wherein the recording medium has a reflectance required by a standard standard of the recording medium. 제 22항에 있어서, 상기 표준규격은 ISO 표준 규격인 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.23. The optical recording medium of claim 22, wherein the standard is an ISO standard. 제 22항에 있어서, 상기 기록 매체는, 정보의 기록 및 소거된 상태 간에 더 큰 반사율로서 20 내지 50%의 범위 내에서 반사율을 갖는 것을 특징으로 하는 광 기록 매체.23. The optical recording medium according to claim 22, wherein the recording medium has a reflectance within a range of 20 to 50% as a larger reflectance between the recorded and erased state of the information. 기판 및 상기 기판 상에 적어도 기록층 및 상부 무기층으로 순차 형성된 층을 포함하는 기록 매체를 제공하는 단계; 및Providing a recording medium comprising a substrate and a layer sequentially formed on said substrate with at least a recording layer and an upper inorganic layer; And 상기 무기층의 면상에 위치한 광 헤드로부터 상기 기록 매체에 빔을 조사하여 기록 및 재생하는 단계를 포함하고,Irradiating a beam to the recording medium from an optical head located on a surface of the inorganic layer to record and reproduce the same; 상기 상부 무기층은, 상기 기록용 빔이 상기 기록 매체에 조사될 때 상기 광 기록 매체의 상부 표면 상에 존재하는 외래물질이 기화되지 않도록 형성하는 것을 특징으로 하는, 광 기록 매체의 기록 및 재생 방법.And the upper inorganic layer is formed so that foreign materials existing on the upper surface of the optical recording medium are not vaporized when the recording beam is irradiated to the recording medium. . 제 25항에 있어서, 상기 무기층은 다음의 2가지 특징,27. The method of claim 25, wherein the inorganic layer has two characteristics, A) 상기 상부 무기층은, 상기 기록용 광 빔을 상기 매체에 조사할 때 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도가 상기 광 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하는 수준까지 증가하지 않는 두께를 갖는 제 1유전층을 포함한다, 또는A) The upper inorganic layer has a thickness such that, when irradiating the medium with the recording light beam, the temperature of the upper surface of the recording medium does not increase to the level at which foreign substances present on the upper surface of the optical medium vaporize. Or a first dielectric layer having, or B) 상기 상부 무기층은, 기록용 광 빔을 상기 기록 매체 상에 조사할 때, 상기 기록 매체의 상부 표면의 온도가 상기 광 매체의 상부 표면에 존재하는 외래 물질이 기화하는 수준까지 증가하지 않는 제 2 유전층, 금속층 및 제 3 유전층으로 순차 형성된 층상구조를 구비하는 라미네이트를 포함한다,B) The upper inorganic layer, when irradiating a recording light beam onto the recording medium, does not increase the temperature of the upper surface of the recording medium to the level where the foreign material present on the upper surface of the optical medium vaporizes. A laminate having a layered structure sequentially formed of a second dielectric layer, a metal layer, and a third dielectric layer, 는 특징 중 어느 하나의 특징을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.Has a characteristic of any one of the features. 제 26항에 있어서, 상기 외래 물질은 주로 물인 것을 특징으로 하는 방법.27. The method of claim 26, wherein the foreign material is primarily water. 제 26항에 있어서, 상기 기록 매체의 상기 상부 표면의 온도는 상기 기록용 빔을 상기 기록 매체에 조사할 때 150℃ 이상까지 증가하지 않는 것을 특징으로 하는 방법.27. The method of claim 26, wherein the temperature of the upper surface of the recording medium does not increase to 150 ° C or more when the recording beam is irradiated onto the recording medium.
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