KR20010104320A - Vertically integrated semiconductor system - Google Patents

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KR20010104320A
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semiconductor
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base
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KR1020017008283A
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미카엘 즈몰라
안드레아스 쿡스
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추후제출
인피니언 테크놀로지스 아게
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Abstract

본 발명은 제 1 및 제 2 기본면을 갖는 적어도 하나의 반도체 칩을 포함하는 반도체 장치에 관한 것이다. 상기 제 1 및 제 2 기본면에는 상기 반도체 칩에 의해 관통되는 연결부를 수단으로 서로 연결되는 액티브 구조체가 제공된다. 상기 적어도 하나의 반도체 칩의 기본면들 중 하나는 지지체의 제 1 기본면 위에 배치된다.The present invention relates to a semiconductor device comprising at least one semiconductor chip having a first and a second base surface. The first and second base surfaces are provided with active structures that are connected to each other by means of connection portions penetrated by the semiconductor chip. One of the base surfaces of the at least one semiconductor chip is disposed above the first base surface of the support.

Description

수직 집적 반도체 장치{VERTICALLY INTEGRATED SEMICONDUCTOR SYSTEM}Vertical Integrated Semiconductor Device {VERTICALLY INTEGRATED SEMICONDUCTOR SYSTEM}

신기술의 범주에서는, 예컨대 다수의 반도체 칩의 스택이 차례로 설치될 수 있도록 하기 위해, 반도체 칩을 얇게 연마하는 것이 관심의 대상이 되고있다. 상기 목적을 위해 2 개 또는 그 이상의 층을 연결하기 위한 관통 접속부가 가능하도록 반도체 칩을 얇게 연마한다. 회로 구조를 위한 반도체 칩의 배면을 이용하기 위해, 전체 높이가 더 낮은 반도체 칩-스택을 사용하는 방법 외에도, 상기와 같이 얇게 연마된 반도체 칩의 관통 접속 방법도 도입될 수 있다. 이는 특히 IC의 안전 카드 및 칩 카드의 영역에서 관심을 불러일으키고 있는데, 그 이유는 상기 방식으로 물리적 부식에 대한 액티브 보호 구조가 구현될 수 있기 때문이다(예: 배면 안전 실드).In the category of new technology, it is of interest to thinly polish a semiconductor chip, for example, so that a stack of a plurality of semiconductor chips can be installed in turn. For this purpose, the semiconductor chip is thinly polished to enable a through connection for connecting two or more layers. In order to use the back side of the semiconductor chip for the circuit structure, in addition to the method of using a semiconductor chip-stack having a lower overall height, a through connection method of the thinly polished semiconductor chip as described above may also be introduced. This is of particular interest in the area of safety cards and chip cards in ICs, since active protection against physical corrosion can be implemented in this way (eg back safety shields).

이러한 목적으로 오늘날의 반도체 칩은 15-20㎛의 두께까지 연마된다. 그 결과, 생산된 반도체 칩을 더 가공하는 것이 상대적으로 어려워지게 된다. 한 편으로는 반도체 칩을 "롤링"할 수 있으나, 다른 한 편으로는 종래 방식의 지지체 위에 설치하기가 매우 어렵다. 또한 스택의 층들 사이에 와이어링이 형성될 수 있으며, 이는 최악의 경우 장치의 온도 수용 능력의 감소로 이어질 수 있다.To this end, today's semiconductor chips are polished to a thickness of 15-20 μm. As a result, further processing of the produced semiconductor chip becomes relatively difficult. On the one hand it is possible to "roll" a semiconductor chip, but on the other hand it is very difficult to install on a conventional support. Wiring can also be formed between the layers of the stack, which in the worst case can lead to a decrease in the temperature carrying capacity of the device.

고출력 컴퓨터의 경우 전술한 스택이 이미 사용되고 있으나, 칩의 설치 및 처리에 드는 비용이 매우 높다. 처리시, 즉 제조시 전술한 문제를 방지하기 위해 설치 동안에만 반도체 칩에 연결되고, 반도체 칩 스택이 장착된 후 제거되는 임시 지지체를 사용한다. 높은 비용 외에도 수많은 방법 단계에 의해 진행되는 복잡한 제조 방법은 저비용 어플리케이션에 적절하지 못하다.In the case of high power computers, the stack described above is already used, but the cost of installing and processing the chip is very high. In order to avoid the above mentioned problems during processing, ie during manufacturing, a temporary support is used which is connected to the semiconductor chip only during installation and which is removed after the semiconductor chip stack is mounted. In addition to the high cost, the complex manufacturing process by many method steps is not suitable for low cost applications.

본 발명은 제 1 및 제 2 기본면을 갖는 적어도 하나의 반도체 칩을 포함하는 반도체 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor device comprising at least one semiconductor chip having a first and a second base surface.

도 1은 지지체의 한 기본면 상에 반도체 칩을 갖는, 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 1 실시예.1 shows a first embodiment of a semiconductor device according to the invention with a semiconductor chip on one base surface of the support.

도 2는 지지체의 두 기본면 상에 반도체 칩을 갖는, 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 2 실시예.2 shows a second embodiment of a semiconductor device according to the invention with semiconductor chips on two basic surfaces of the support.

도 3은 지지체의 관통 접속부의 특별한 형태를 갖는, 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 3 실시예.3 shows a third embodiment of the semiconductor device according to the invention, which has a special form of a through connection of a support.

본 발명의 목적은 저렴한 비용으로 제조할 수 있는, 얇게 연마된 반도체 칩을 갖춘 반도체 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a semiconductor device having a thinly polished semiconductor chip which can be manufactured at low cost.

상기 목적은 청구항 제 1항의 특징들에 의해 달성된다. 청구항 제 1항에는 제 1 및 제 2 기본면을 가진 적어도 하나의 반도체 칩을 갖춘 반도체 장치가 제안되어있다. 이 때 반도체 칩은 제 1 및 제 2 기본면 위에 액티브 구조체들을 가지며, 상기 액티브 구조체들은 상기 반도체 칩을 관통하는 연결부들에 의해 서로 연결되며, 적어도 하나의 반도체 칩의 기본면들 중 하나가 지지체의 제 1 기본면 위에 배치된다.This object is achieved by the features of claim 1. Claim 1 proposes a semiconductor device with at least one semiconductor chip having a first and a second base surface. In this case, the semiconductor chip has active structures on the first and second base surfaces, and the active structures are connected to each other by connecting portions passing through the semiconductor chip, and one of the base surfaces of the at least one semiconductor chip is connected to the support. It is disposed on the first base surface.

얇게 연마된 반도체 칩을 비용이 저렴한 지지체 위에 지속적으로 장착하는 것이 제안된다. 그로 인해 액티브 구조체의 관통 접속의 장점 및 그에 필요한 반도체 칩 재료의 얇은 두께가 높은 기계적 안정성과 결합된다. 선행 기술과 달리 반도체 장치내에 지지체가 남겨지기 때문에 제조시 높은 조작의 편리성이 보증된다. 이 때 지지체의 제 1 기본면 위에 다수의 칩을 배치할 수 있는 가능성이 존재한다. 본 발명의 한 실시예에서는 자신의 제 1 및 제 2 기본면 위에 액티브 구조체를 가진 적어도 하나의 추가 반도체 칩이 지지체의 제 1 기본면의 반대편에 놓인 제 2 기본면 위에 제공되며, 상기 추가 반도체 칩의 하나의 기본면이 상기 지지체를 향하고, 상기 추가 반도체 칩은 지지체의 제 1 기본면 위에 있는 반도체 칩의 반대편에 놓인다. 이 경우 반도체 칩 장치는 지지체의 양편에 "샌드위치" 구조의 형태로 제공된다. 이로써 필요 공간이 적은 반도체 장치의 구현이 가능하다.It is proposed to continuously mount thinly polished semiconductor chips onto an inexpensive support. The advantages of the through connection of the active structure and the thin thickness of the semiconductor chip material thereby required are combined with high mechanical stability. Unlike the prior art, since the support remains in the semiconductor device, high convenience of manufacturing is ensured. At this time, there is a possibility to arrange a plurality of chips on the first base surface of the support. In one embodiment of the present invention, at least one additional semiconductor chip having an active structure on its first and second base surfaces is provided on a second base surface opposite the first base surface of the support, wherein the additional semiconductor chip One base surface of the substrate faces the support, and the additional semiconductor chip lies opposite the semiconductor chip above the first base surface of the support. In this case, the semiconductor chip device is provided in the form of a "sandwich" structure on both sides of the support. This makes it possible to implement a semiconductor device with less required space.

본 발명의 또 다른 실시예에서는 제 1 및/또는 제 2 기본면의 지지체가 액티브 구조체의 반도체 칩의 콘택에 연결되는 콘택 단자들을 포함한다. 상기 지지체는 간단한 패시브 연결 구조체들을 수용하기 위해 사용될 수 있으며, 그로 인해 한 편으로는 액티브 구조체의 복잡성이 감소될 수 있고, 다른 한 편으로는 액티브 구조체 및 지지체의 분리에 대한 높은 안전성이 보증될 수 있다. 따라서 하나의 반도체 칩의 콘택을 패시브 연결 구조체를 통해 지지체내에 연결할 수 있고, 또는 상이한 반도체 칩의 콘택을 패시브 연결 구조체를 통해 지지체내에 연결할 수 있다. 상기 연결 구조체들은 지지체 내 하나 또는 다수의 평면에 제공될 수 있다.In another embodiment of the present invention, the support of the first and / or second base surface comprises contact terminals connected to the contacts of the semiconductor chip of the active structure. The support can be used to accommodate simple passive connection structures, thereby reducing the complexity of the active structure on the one hand and ensuring high safety for separation of the active structure and the support on the other hand. have. Thus, the contacts of one semiconductor chip can be connected in the support via the passive connection structure, or the contacts of different semiconductor chips can be connected in the support through the passive connection structure. The connecting structures may be provided in one or a plurality of planes in the support.

여기서는 지지체의 제 1 기본면 위에 있는 콘택 단자들이 서로 연결되고, 및/또는 지지체의 제 2 기본면 위에 있는 콘택 단자들이 서로 연결되며, 및/또는 상기 지지체의 제 1 및 제 2 기본면 위에 있는 콘택 단자들이 관통 접속부를 통해 서로 연결된다. 지지체의 대립 배치된 기본면 위에 위치하는 2 개의 반도체 칩간의 전기적 연결이 지지체 내 관통 접속부를 통해 구현될 수 있다. 안전 관련 어플리케이션의 경우, 반도체 장치는 적어도 2 개의 반도체 칩이 서로 전기적으로 연결될 때에만 동작하도록 하는 것이 바람직하다. 그러면 반도체 칩의 서로 연결된 콘택이 바람직하게는 각각 반도체 칩의, 지지체를 향하는 면 위에 위치하게 된다. 반도체 칩 중 하나와 지지체 사이의 콘택이 분리되면, 반도체 칩 위에 구현된 회로가 더 이상 동작할 수 없게 될 것이다. 따라서 라인 위에 형성된 전하 전위를 검사하는 데에 방해가 될 수 있다.Wherein the contact terminals on the first base surface of the support are connected to each other and / or the contact terminals on the second base surface of the support are connected to each other and / or contacts on the first and second base surfaces of the support. The terminals are connected to each other via through connections. Electrical connection between two semiconductor chips positioned on opposingly disposed base surfaces of the support may be implemented through through connections in the support. For safety related applications, it is desirable for the semiconductor device to only operate when at least two semiconductor chips are electrically connected to each other. The interconnected contacts of the semiconductor chips are then preferably located on the surfaces facing the support, respectively, of the semiconductor chips. If the contact between one of the semiconductor chips and the support is separated, the circuit implemented on the semiconductor chip will no longer be able to operate. Thus, it can be a hindrance to checking the charge potential formed on the line.

바람직한 실시예에서는 지지체에 제 1 기본면으로부터 제 2 기본면까지 규칙적인 간격으로 연장되는 관통 접속부 및 비도전 영역이 배치된다. 반도체 칩의 콘택의 적절한 최소 간격이 유지된다면, 반도체 칩의 액티브 표면상에서의 콘택의 위치에 상관없이 사용될 수 있는 일반 지지체를 이용할 수 있다는 장점이 있다.In a preferred embodiment, the support is arranged with through connections and non-conductive areas extending at regular intervals from the first base surface to the second base surface. If an appropriate minimum spacing of the contacts of the semiconductor chip is maintained, there is an advantage that a general support can be used that can be used regardless of the position of the contact on the active surface of the semiconductor chip.

본 발명의 한 실시예에서는 지지체가 바람직하게 반도체 웨이퍼로서 구현된다. 지지체로서 사용되는 반도체 웨이퍼는 저렴한 비용으로 제조될 수 있으며, 또한 액티브 층의 기술적 제한 조건에 영향을 주지 않으면서 기계적 요구에 적절하게 층 두께를 선택할 수 있다는 장점을 갖는다. 이는 물론 예컨대 플라스틱 또는 세라믹으로 된 임의의 다른 모든 지지체에도 적용된다. 또한 지지체로서의 반도체 웨이퍼는 반도체 칩에 매우 간단하게 연결될 수 있다는 장점이 있다. 이를 위해 서로에 대해 열적 팽창 계수가 매칭된다.In one embodiment of the invention, the support is preferably implemented as a semiconductor wafer. Semiconductor wafers used as supports can be manufactured at low cost and also have the advantage of selecting the layer thickness appropriately for the mechanical requirements without affecting the technical constraints of the active layer. This applies of course also to any other support, for example made of plastic or ceramic. In addition, there is an advantage that a semiconductor wafer as a support can be very simply connected to a semiconductor chip. To this end, thermal expansion coefficients are matched with each other.

본 발명 및 본 발명의 장점들이 도면을 참고로 하기에 더 자세히 설명된다.The invention and its advantages are described in more detail below with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 따른 반도체 장치의 가장 간단한 형태를 나타낸다. 지지체(7)의 제 1 기본면(8) 위에 반도체 칩(1)이 제공된다. 상기 반도체 칩(1)은 제 1 기본면(2) 위에 액티브 구조체(5)를 갖는다. 제 2 기본면(3) 위에도 마찬가지로 액티브 구조체(5)가 제공된다. 이 때 반도체 칩(1)의 제 2 기본면(3)이 지지체(7)의 제 1 기본면(8)에 연결된다. 반도체 칩(1)의 액티브 구조체(4,5)는 제 1 기본면(2)으로부터 제 2 기본면(3)까지 뻗는 다수의 연결부들을 통해 서로 연결된다.1 shows the simplest form of a semiconductor device according to the invention. The semiconductor chip 1 is provided on the first base surface 8 of the support 7. The semiconductor chip 1 has an active structure 5 on the first base surface 2. The active structure 5 is likewise provided on the second base surface 3. At this time, the second basic surface 3 of the semiconductor chip 1 is connected to the first basic surface 8 of the support 7. The active structures 4, 5 of the semiconductor chip 1 are connected to each other via a plurality of connecting portions extending from the first base surface 2 to the second base surface 3.

반도체 칩은 예컨대 15 내지 20 ㎛의 두께를 갖는, 얇게 연마된 반도체 칩이다. 지지체는 예컨대 100 ㎛의 두께를 갖는다. 지지체의 층 두께는 물리적 요건에 상응하게 선택될 수 있다. 지지체(7)는 도전되지 않기 때문에 액티브 층(5)의 기술적 제한 조건을 고려할 필요가 없다.The semiconductor chip is a thinly polished semiconductor chip having, for example, a thickness of 15 to 20 mu m. The support has, for example, a thickness of 100 μm. The layer thickness of the support can be selected according to the physical requirements. Since the support 7 is not conductive, it is not necessary to consider the technical constraints of the active layer 5.

도 1의 지지체(7)는 또한 전술한 예에서 반도체 칩(1)의 콘택(도시되지 않음)을 서로 연결시키는 연결 구조체(18)를 갖는다. 상기 지지체(7)는 하나 또는 다수의 추가 와이어링층을 가질 수 있다. 그로 인해 반도체 칩(1)의 액티브 구조체내 와이어링의 복잡성이 감소될 수 있다. 지지체(7)와 반도체 칩(1) 사이의 연결은 예컨대 본딩 또는 라미네이팅에 의해 수행될 수 있다. 이러한 연결은 물론다른 적절한 방법으로도 수행될 수 있다.The support 7 of FIG. 1 also has a connecting structure 18 connecting the contacts (not shown) of the semiconductor chip 1 to each other in the above-described example. The support 7 may have one or more additional wiring layers. This may reduce the complexity of wiring in the active structure of the semiconductor chip 1. The connection between the support 7 and the semiconductor chip 1 can be performed, for example, by bonding or laminating. This connection can of course also be done in other suitable ways.

본 발명에서는 얇게 연마된 반도체 칩 및 지지체(7)가 서로 지속적으로 연결된다는 사실이 중요하다. 그로 인해 반도체 칩의 간편한 취급이 가능하다. 선행 기술에서 나타난 단점들은, 저비용-어플리케이션을 위해 2 개의 기본면 위에 액티브 구조체를 갖는 반도체 칩 내지는 반도체 칩 스택이 이용됨으로써 회피된다.In the present invention, it is important that the thinly polished semiconductor chip and the support 7 are continuously connected to each other. As a result, the semiconductor chip can be easily handled. Disadvantages of the prior art are avoided by the use of semiconductor chips or semiconductor chip stacks with active structures on two base surfaces for low cost-applications.

도 2는 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 2 실시예를 나타낸다. 지지체(7) 위에 이제 제 1 기본면(8)뿐만 아니라 제 2 기본면(9) 위에도 각각 반도체 칩(1) 또는 반도체 칩(10)이 제공된다. 상기 지지체(7)는 이제 제 1 및 제 2 기본면(8, 9) 위에 콘택 단자들(15, 16)을 갖는다. 상기 콘택 단자들(15, 16)은 관통 접속부를 통해 서로 연결되고, 반도체 칩(1)의 액티브 구조체(5)와 반도체 칩(10)의 액티브 구조체(14) 사이의 전기적 연결을 형성한다. 상기 반도체 칩들(1, 10)과 지지체(7) 사이에 콘택 단자들(15, 16)에 의해 형성된 간격은 예컨대 하부 충전재(도시되지 않음)로 채워질 수 있다.2 shows a second embodiment of a semiconductor device according to the present invention. On the support 7 a semiconductor chip 1 or a semiconductor chip 10 is now provided not only on the first base surface 8 but also on the second base surface 9, respectively. The support 7 now has contact terminals 15, 16 on the first and second base surfaces 8, 9. The contact terminals 15 and 16 are connected to each other through a through connection and form an electrical connection between the active structure 5 of the semiconductor chip 1 and the active structure 14 of the semiconductor chip 10. The gap formed by the contact terminals 15, 16 between the semiconductor chips 1, 10 and the support 7 may be filled with a lower filler (not shown), for example.

반도체 칩 (1) 및 (10)은 그들의 에지들이 서로 반대편에 놓이도록, 즉 각 반도체 칩의 에지가 서로 어느 정도 동일한 높이에서 끝나도록 지지체(7) 위에 배치된다. 그럼으로써 외부 치수가 작은 반도체 장치가 제조된다.The semiconductor chips 1 and 10 are arranged on the support 7 so that their edges are opposite each other, that is, the edges of each semiconductor chip end at some level with each other. As a result, a semiconductor device having a small external dimension is produced.

도 1 및 도 2에 도시된 실시예에서는 지지체(7)의 기본면 위에 각각 단 하나의 반도체 칩이 도시되어있다. 물론 지지체(7)의 제 1 및 제 2 기본면(8, 9) 위에 다수의 반도체 칩들이 서로 나란히 배열되는 것도 고려할 수 있다. 상기 반도체 칩들은 예컨대 지지체(7) 내 연결 구조체들을 통해 서로 연결될 수 있다. 이 때상기 연결 구조체들은, 그들이 지지체의 기본면 위에서 다수의 반도체 칩들의 콘택들을 서로 연결하는 방식으로 제공될 수 있다. 그러나 상기 연결 구조체들은 또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 하나의 반도체 칩의 콘택들만 서로 연결하는 방식으로 제공될 수도 있다.In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, only one semiconductor chip is shown on the base surface of the support 7. It is of course also conceivable that a plurality of semiconductor chips are arranged side by side on the first and second base surfaces 8, 9 of the support 7. The semiconductor chips can be connected to one another, for example, via connecting structures in the support 7. The connection structures may then be provided in such a way that they connect the contacts of the plurality of semiconductor chips to each other on the base surface of the support. However, the connection structures may also be provided in such a manner that only contacts of one semiconductor chip are connected to each other, as shown in FIG. 1.

도 1 및 도 2에 도시된 다수의 반도체 장치들을 서로 층층이 쌓아올리는 방법도 고려할 수 있다. 여기서는 2 개의 반도체 칩의 액티브 구조체가 서로 연결될 것이다. 그러면 상기 방식의 반도체 장치의 층 시퀀스는 예컨대 반도체 칩-지지체-반도체 칩-반도체 칩-지지체-반도체 칩의 구조로 이루어지게 된다. 모든 "기본 모듈(1 개의 지지체 및 한 쪽 또는 양쪽에 제공된 반도체 칩으로 구성됨)"은 그 자체만으로 높은 안정성을 갖는 것으로 평가되기 때문에, 이제 2 개의 반도체 칩의 액티브 구조체를 서로 집적 연결시킬 수 있다.Also, a method of stacking a plurality of semiconductor devices illustrated in FIGS. 1 and 2 may be considered. Here, the active structures of the two semiconductor chips will be connected to each other. The layer sequence of the semiconductor device of the above manner is then made of, for example, a structure of a semiconductor chip-support-semiconductor chip-semiconductor chip-support-semiconductor chip. Since every "base module (consisting of one support and semiconductor chips provided on one or both sides)" is evaluated as having high stability by itself, it is now possible to integrate the active structures of two semiconductor chips with each other.

이제 도시된 실시예 중 하나에 따라 "기본 모듈" 위에는, 상기 "기본 모듈"의 하나의 반도체 칩의 액티브 구조체 위로 얇게 연마된, 한 쪽 또는 양쪽에 액티브 구조체를 갖는 단 하나의 추가 반도체 칩을 제공하는 것도 고려해볼 수 있다.Now on top of the "base module" according to one of the illustrated embodiments there is provided only one additional semiconductor chip having an active structure on one or both sides, thinly polished over the active structure of one semiconductor chip of the "base module". You can also consider.

도 3은 본 발명에 따른 반도체 장치의 제 3 실시예를 나타낸다. 도 3의 반도체 장치는 단지, 일반적인 수직 구조, 즉 제 1 기본면(8)으로부터 제 2 기본면(9)까지 연장되는 구조가 교대로 도전되는 영역(관통 접속부, 17)과 도전되지 않는 영역으로 지지체가 구성된다는 점에서 도 2에 도시된 반도체 장치와 차이가 있다. 이 경우, 반도체 칩의 콘택 및 콘택 단자들은 지지체 위에서 서로에 대해 정렬될 필요가 없다. 반도체 칩상에서의 콘택의 위치에 상관없이 사용될 수 있는 보편적인 지지체를 이용할 수 있다. 이 경우 관통 접속부에 의해 반도체 칩의 2 개의 콘택 사이에 단락이 발생하지 않도록, 반도체 칩상에서 콘택의 적절한 최소 간격을 유지하는 것에 주의한다.3 shows a third embodiment of semiconductor device according to the present invention. The semiconductor device of FIG. 3 is merely a general vertical structure, i.e., a region extending from the first base surface 8 to the second base surface 9 in an area in which the semiconductor device (through connection portion 17) is not electrically conductive. It differs from the semiconductor device shown in FIG. 2 in that the support is constructed. In this case, the contact and contact terminals of the semiconductor chip need not be aligned with each other on the support. A universal support can be used that can be used regardless of the location of the contact on the semiconductor chip. In this case, care should be taken to maintain an appropriate minimum distance between the contacts on the semiconductor chip so that a short circuit does not occur between the two contacts of the semiconductor chip by the through connection.

본 발명은 양쪽에 구조화된 반도체 칩과 함께 서로 층을 이루어 배치될 수 있는 반도체 장치를 가능하게 하며, 이로써 상기 반도체 장치의 제조시 간단하고 비용이 저렴한 처리가 가능해진다. 본 발명에 따른 반도체 장치는 훌륭한 기계적 특성을 갖는다. 동시에 얇게 연마되는 반도체 칩에 의해 층 두께가 얇아질 수 있다.The present invention enables semiconductor devices that can be layered with each other with semiconductor chips structured on both sides, thereby enabling simple and low cost processing in the manufacture of the semiconductor devices. The semiconductor device according to the present invention has excellent mechanical properties. At the same time, the layer thickness can be made thin by the semiconductor chip being thinly polished.

Claims (7)

제 1 및 제 2 기본면(2, 3)을 가지고, 상기 제 1 및 제 2 기본면(2, 3) 위에 액티브 구조체(4, 5)를 가지는 적어도 하나의 반도체 칩(1)을 포함하며, 상기 액티브 구조체(4, 5)는 반도체 칩(1)을 관통하는 연결부(6)에 의해 서로 연결되는 반도체 장치로서,At least one semiconductor chip (1) having first and second base surfaces (2, 3) and having active structures (4, 5) on said first and second base surfaces (2, 3), The active structures 4 and 5 are semiconductor devices connected to each other by connecting portions 6 passing through the semiconductor chip 1. 상기 적어도 하나의 반도체 칩(1)의 기본면들 중 하나(3)가 지지체(7)의 제 1 기본면(8) 위에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.A semiconductor device, characterized in that one (3) of the basic surfaces of the at least one semiconductor chip (1) is arranged on the first basic surface (8) of the support (7). 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지체(7)의 제 1 기본면의 반대편에 놓인 제 2 기본면(9) 위에서 액티브 구조체(13, 14)를 갖는 적어도 하나의 추가 반도체 칩(10)이 그의 제 1 및 제 2 기본면(11, 12) 위에 제공되고, 상기 반도체 칩(10)의 기본면들 중 하나(14)는 지지체(7)를 향하며, 상기 반도체 칩(10)은 지지체(7)의 제 1 기본면(8) 위에 있는 반도체 칩(1)의 반대편에 놓이는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.At least one additional semiconductor chip 10 having active structures 13, 14 on the second base surface 9, which is opposite to the first base surface of the support 7, has its first and second base surfaces ( 11, 12, wherein one of the base surfaces 14 of the semiconductor chip 10 faces the support 7, the semiconductor chip 10 having a first base surface 8 of the support 7. A semiconductor device, characterized in that it is placed opposite the semiconductor chip (1) above. 제 1항 또는 2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 지지체(7)가 제 1 및/또는 제 2 기본면(8, 9) 위에 콘택 단자들(15, 16)을 가지며, 상기 콘택 단자들(15, 16)은 액티브 구조체(4, 5)의 반도체 칩(1, 10)의 콘택에 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The support 7 has contact terminals 15, 16 on the first and / or second base surfaces 8, 9, the contact terminals 15, 16 of the active structure 4, 5. A semiconductor device characterized by being connected to a contact of a semiconductor chip (1, 10). 제 1항 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 지지체(7)가 패시브 연결 구조체(18)를 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.A semiconductor device, characterized in that the support (7) has a passive connection structure (18). 제 3항 또는 4항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 지지체(7)의 제 1 기본면(8) 위에 있는 콘택 단자들(15)이 서로 연결되고, 및/또는 상기 지지체(7)의 제 2 기본면(9) 위에 있는 콘택 단자들(16)이 서로 연결되며, 및/또는 상기 지지체(7)의 제 1 및 제 2 기본면 위에 있는 콘택 단자들(15, 16)이 관통 접속부(17)를 통해 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.Contact terminals 15 on the first base surface 8 of the support 7 are connected to each other and / or contact terminals 16 on the second base surface 9 of the support 7. Are connected to each other and / or that the contact terminals (15, 16) on the first and second basic surfaces of the support (7) are connected to each other via a through connection (17). 제 2항 내지 5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 2 to 5, 상기 지지체(7)에 제 1 기본면(8)으로부터 제 2 기본면(9)까지 규칙적인 간격으로 연장되는 관통 접속부(17) 및 비도전 영역이 교대로 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.The semiconductor device according to claim 7, wherein the through connecting portion (17) and the non-conductive region extending from the first base surface (8) to the second base surface (9) at regular intervals are alternately arranged on the support (7). 제 1항 내지 6항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 6, 상기 지지체(7)가 반도체 웨이퍼인 것을 특징으로 하는 반도체 장치.A semiconductor device, characterized in that the support (7) is a semiconductor wafer.
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