KR20010099852A - Coating Compositions Containing Cerium Dioxide - Google Patents

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페터 카펠렌
헤르베르트 크루그
스테판 세페우르
사비네 스테인
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빌프리더 하이더
바이엘 악티엔게젤샤프트
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Abstract

본 발명은 이산화세륨을 포함하는 코팅 조성물에 관한 것이다. 상기 코팅 조성물은 에폭시기를 포함하는 가수분해성 실란을 기본으로 한다. 또한, 본 발명은 상기 조성물로 코팅된 제품 및 그의 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a coating composition comprising cerium dioxide. The coating composition is based on a hydrolyzable silane comprising an epoxy group. The present invention also relates to products coated with the composition and uses thereof.

Description

이산화세륨을 함유하는 코팅 조성물 {Coating Compositions Containing Cerium Dioxide}[0001] Coating Compositions Containing Cerium Dioxide [0002]

본 발명은 이산화세륨을 함유하고 에폭시기를 함유하는 가수분해성 실란을 기재로 하는 코팅 조성물, 그로 코팅된 제품 및 그의 용도에 관한 것이다.The present invention relates to a coating composition based on a hydrolyzable silane containing cerium dioxide and containing an epoxy group, a product coated therewith and a use thereof.

코팅물로서 적합한 물질은 개질된 알콕시실란을 사용하여 알콕시드, 예를 들어 알루미늄 프로판올레이트 또는 알루미늄 부탄올레이트로부터 졸-겔 방법에 의해 제조할 수 있다. 이러한 졸-겔 방법은 실질적으로 출발 성분의 혼합물을 반응시켜 가수분해 및 축합 공정에 의해 점성의 액상을 형성한다는 특징을 갖는다. 이 합성 방법에 의해 종래의 유기 중합체에 비해 표면 경도가 증가된 유기적으로 개질된 무기 기본 구조를 형성한다. 그러나, 결정적인 단점은 알루미늄 함유 성분의 높은 반응성으로 인해 높은 수준의 저장 안정성 (포트 수명)을 달성할 수 없다는 것이다. 또한, 생성층은 무기 재료에 비해 여전히 비교적 연질이다. 그 이유는 시스템 내의 무기 성분들이 뚜렷한 가교 작용을 하지만, 그 크기가 작기 때문에 예를 들어 경도 및 내마모성과 같은 기계적 특성을 보유하지 못하게 되기 때문이다. 이 경우에 존재하는 입자 크기는 수 마이크로미터이기 때문에, 무기 성분의 유리한 기계적 특성은 소위 충전된 중합체에 의해 충분히 이용될 수 있다. 그러나, 이 경우에 물질의 투명도가 손실됨에 따라 광학 분야에서의 적용은 더이상 불가능하다.내마모성이 증가된 투명층의 제조에 작은 SiO2(예, 에어로실스 (등록상표)(Aerosils)) 입자를 사용할 수 있지만, 사용 가능한 낮은 농도에서 달성될 수 있는 내마모성의 수준은 상기에 언급한 시스템과 유사하다. 충전제양의 상한치는 응집 또는 지나친 점도의 증가를 일으키는 작은 입자의 높은 표면 반응성에 의해 결정된다.Suitable materials as coatings can be prepared from alkoxides, such as aluminum propanolate or aluminum butanolate, using a modified alkoxysilane by the sol-gel process. Such a sol-gel process is characterized in that a mixture of substantially the starting components is reacted to form a viscous liquid phase by a hydrolysis and condensation process. This synthetic method forms an organically modified inorganic basic structure with increased surface hardness compared to conventional organic polymers. A crucial disadvantage, however, is that a high level of storage stability (pot life) can not be achieved due to the high reactivity of the aluminum containing component. In addition, the resulting layer is still relatively soft compared to inorganic materials. The reason is that inorganic components in the system have a pronounced cross-linking action, but because of their small size, they do not have mechanical properties such as hardness and abrasion resistance, for example. Since the particle size present in this case is a few micrometers, the advantageous mechanical properties of the inorganic component can be fully utilized by so-called filled polymers. In this case, however, application in the optical field is no longer possible as the transparency of the material is lost. Small SiO 2 (e.g. Aerosils (R) (Aerosils)) particles can be used in the manufacture of transparent layers with increased abrasion resistance. However, the level of abrasion resistance that can be achieved at low usable concentrations is similar to the system mentioned above. The upper limit of the amount of filler is determined by the high surface reactivity of the small particles causing agglomeration or excessive viscosity increase.

WO 95/13326은 상기에 기재된 시스템에 비해 크게 증가된 경도를 갖고 높은 광학적 투명성을 나타내는, 유기적으로 개질된 무기 시스템의 제조 방법을 기재하고 있다. 또한, 상기 공보는 부식으로부터 금속 표면을 보호하기에 적합한 유기적으로 개질된 무기 시스템뿐 아니라 친수성 코팅제에 적합한 상응하는 시스템을 기재하고 있다. 조성물은 Si, Al 및 B 또는 전이 금속의 산화물, 수산화물, 질화물 및 탄화물로부터 선택되고 입자 크기가 1 내지 100 nm 범위인 입상의 물질, 바람직하게는 베마이트 및(또는) 또는 비이온성 계면활성제 및(또는) 방향족 폴리올을, 에폭시기를 갖고 Si에 직접적으로 결합된 라디칼을 포함하는 1종 이상의 예비가수분해된 규소 화합물에 첨가하는 것으로 구성된 제조 방법에 의해 얻는다. 높은 스크래치 내성은 예비가수분해된 규소 화합물을 입상의 물질과 조합함으로써 달성된다. 한편, 예비가수분해된 규소 화합물을 계면활성제와 조합하여 친수성 코팅물을 생산하는 반면, 예비가수분해된 규소 화합물을 방향족 폴리올과 조합하여 부식 억제 코팅물을 얻을 수 있다. 필요한 경우, 제조 공정에 소수성 또는 발유성 코팅제를 제조하기 위한 플루오르화된 실란을 첨가할 수 있거나, 또는 가교 촉매로서 루이스 염기 또는 알콜레이트를 첨가할 수 있거나, 또는 가수분해성 화합물을 추가로 첨가할 수 있다.WO 95/13326 discloses a method of making an organically modified inorganic system that exhibits high optical transparency with greatly increased hardness compared to the systems described above. In addition, the publication describes a corresponding system suitable for hydrophilic coatings as well as organically modified inorganic systems suitable for protecting metal surfaces from corrosion. The composition comprises a particulate material selected from oxides, hydroxides, nitrides and carbides of Si, Al and B or transition metals and having a particle size in the range of 1 to 100 nm, preferably a boehmite and / or nonionic surfactant and Or aromatic polyol is added to at least one prehydrolyzed silicon compound containing an epoxy group and a radical directly bonded to Si. High scratch resistance is achieved by combining the prehydrolyzed silicon compound with the particulate material. On the other hand, the prehydrolyzed silicon compound is combined with a surfactant to produce a hydrophilic coating, while a prehydrolyzed silicon compound can be combined with an aromatic polyol to obtain a corrosion inhibiting coating. If desired, fluorinated silanes may be added to the manufacturing process to make hydrophobic or oil-based coatings, or Lewis bases or alcoholates may be added as crosslinking catalysts, or hydrolyzable compounds may be added have.

DE-OS 40 20 316은 경화 후에 내마모성 및 가요성 코팅물을 생산하는 가수분해성 실란 기재 코팅물을 기재하고 있다. 이 코팅물은 물 대 존재하는 가수분해성기의 몰비가 1:1 내지 0.4:1로 에폭시기를 함유하는 1종 이상의 규소 화합물을 물과 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 또한, 규소 화합물 외에, 예를 들어 알루미늄, 티타늄, 지르코늄, 바나듐, 주석, 납 및 붕소의 추가의 가수분해성 화합물도 사용할 수 있다. 조성물의 경화에 특히 적합한 촉매는 60℃ 초과 온도에서 에폭시기의 가교반응을 일으키는 3차 아민이다.DE-OS 40 20 316 describes hydrolysable silane-based coatings which produce abrasion resistant and flexible coatings after curing. The coating can be obtained by reacting at least one silicon compound containing an epoxy group with water in a molar ratio of water to an existing hydrolyzable group of from 1: 1 to 0.4: 1. In addition to the silicon compounds, further hydrolysable compounds of aluminum, titanium, zirconium, vanadium, tin, lead and boron may be used. Particularly suitable catalysts for curing the compositions are tertiary amines which cause a crosslinking reaction of the epoxy groups at temperatures above 60 < 0 > C.

DE-OS 30 21 018은 알킬트리알콕시실란의 부분적으로 가수분해된 축합 산물, 유기 카르복실산 및 음이온성 플루오르화탄소 표면 활성제를 포함하는 코팅 조성물을 개시하고 있다. 사용된 실란은 에폭시기를 포함하지 않는다. 이 조성물은 내마모성 표면뿐 아니라 우수한 투명성, 내열성 및 기재 물질에 대한 접착성, 및 내수성을 갖는 표면 코팅제를 생산한다.DE-OS 30 21 018 discloses a coating composition comprising a partially hydrolyzed condensate of an alkyl trialkoxysilane, an organic carboxylic acid and an anionic fluorocarbon surfactant. The silane used does not contain an epoxy group. This composition produces surface coatings having not only abrasion resistant surfaces but also excellent transparency, heat resistance, adhesion to substrate materials, and water resistance.

US-5 134 191은 에폭시기 함유 유기 규소 화합물 및 무기 서브미크론 입자, 예를 들어 실리카 졸을 포함하고 경화 촉매로서 최소량의 안티몬 화합물로 경화가능한 경질의 코팅 조성물을 개시하고 있다. 이 조성물은 플라스틱 광학 제품용 코팅 필름으로 사용할 수 있다. 또한, 이 조성물은 알루미늄 화합물을 임의로 포함할 수 있다.US-5 134 191 discloses a hard coating composition comprising an epoxy group-containing organosilicon compound and inorganic submicron particles, such as silica sol, which can be cured with a minimum amount of antimony compound as a curing catalyst. This composition can be used as a coating film for plastic optical products. In addition, the composition may optionally comprise an aluminum compound.

DE-OS 43 38 361은 에폭시기 함유 규소 화합물, 특히 바람직한 베마이트를포함한 Si, Al, B 또는 전이금속의 나노 스케일의 산화물 또는 수산화물, 계면활성제 및 방향족 폴리올을 포함하는 코팅 조성물을 개시하고 있다. 또한, 조성물은 루이스 염기, 티타늄, 지르코늄 또는 알루미늄의 알콜레이트를 포함할 수 있다.DE-OS 43 38 361 discloses coating compositions comprising oxides or hydroxides of Si, Al, B or transition metal nanoscale inclusive of epoxy group containing silicon compounds, particularly preferred boehmite, surfactants and aromatic polyols. In addition, the composition may comprise an alcoholate of a Lewis base, titanium, zirconium or aluminum.

본 발명의 목적은 더욱 향상된 가수분해 안정성, 스크래치 내성 및 UV 안정성을 갖는 조성물을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide compositions with improved hydrolytic stability, scratch resistance and UV stability.

상기 목적은The above-

(a) Si에 직접 결합되고 가수분해에 의해 절단될 수 없으며 에폭시기를 함유하는, 1종 이상의 라디칼을 함유하는 1종 이상의 규소 화합물 (A),(a) at least one silicon compound (A) containing at least one radical which is bonded directly to Si and which can not be cleaved by hydrolysis and contains an epoxy group,

(b) 입자 크기 1 내지 100 nm 범위의 입상 베마이트 (B) 0.5 내지 15 중량%,(b) 0.5 to 15% by weight of particulate boehmite (B) in the particle size range of 1 to 100 nm,

(c) 입자 크기 1 내지 100 nm 범위의 입상 산화세륨 (C) 5 내지 30 중량%,(c) 5 to 30% by weight of granular cerium (C) particles having a particle size in the range of 1 to 100 nm,

(d) 1종 이상의 가수분해성 규소 화합물 (D) 및(d) at least one hydrolysable silicon compound (D) and

(e) 1종 이상의 가수분해성 알루미늄 화합물 (E)(e) at least one hydrolyzable aluminum compound (E)

를 포함하는 코팅 조성물에 의해 달성된다.≪ / RTI >

본 발명에 따른 조성물의 친수성을 달성하기 위해서, 촉매로서 루이스 염기 (F)를 추가로 사용할 수 있다.In order to achieve hydrophilicity of the composition according to the present invention, Lewis base (F) may be further used as a catalyst.

또한, 1종 이상의 비가수분해성 라디칼, 예를 들어 디알킬디알콕시실란, 바람직하게는 디메틸디메톡시실란을 갖는 가수분해성 규소 화합물 (G)를 추가로 사용할 수 있다. 규소 화합물 (D)의 일부를 규소 화합물 (G)로 대체시키면 생성 코팅물의 경도를 감소시킬 수 있다.In addition, a hydrolyzable silicon compound (G) having at least one non-hydrolyzable radical such as a dialkyldialkoxysilane, preferably dimethyldimethoxysilane, can be further used. Substituting a part of the silicon compound (D) with the silicon compound (G) can reduce the hardness of the resulting coating.

장기간 친수성을 달성하기 위해서 바람직하게는 비이온성 계면활성제 (G)를첨가하고(하거나) 부식 억제성 (축합수에 대한 내성 증가)을 달성하기 위해서 방향족 폴리올 (H)를 추가로 사용할 수 있다.In order to achieve long-term hydrophilicity, the aromatic polyol (H) may be additionally used in order to add a non-ionic surfactant (G) and / or achieve corrosion inhibition (resistance to condensed water).

화합물 (A) 내지 (H)는 하기에서 보다 상세하게 기재한다.The compounds (A) to (H) are described in more detail below.

규소 화합물 (A)The silicon compound (A)

규소 화합물 (A)는 2 또는 3, 바람직하게는 3개의 가수분해성 라디칼, 및 1 또는 2개, 바람직하게는 1개의 비가수분해성 라디칼을 갖는 규소 화합물이다. 단일 라디칼, 또는 2개의 비가수분해성 라디칼 중 적어도 1개는 에폭시기를 갖는다.The silicon compound (A) is a silicon compound having 2 or 3, preferably 3 hydrolyzable radicals and 1 or 2, preferably 1 nonhydrolyzable radical. A single radical, or at least one of the two non-hydrolyzable radicals, has an epoxy group.

가수분해성 라디칼의 예는 할로겐 (F, Cl, Br 및 I, 특히 Cl 및 Br), 알콕시 (특히 C1-4-알콕시, 예를 들어 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시 및 n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시 및 tert-부톡시), 아릴옥시 (특히 C6-10-아릴옥시, 예를 들어 페녹시), 아실옥시 (특히 C1-4-아실옥시, 예를 들어 아세톡시 및 프로피오닐옥시) 및 알킬카르보닐 (예를 들어 아세틸)이다. 특히 바람직한 가수분해성 라디칼은 알콕시기, 특히 메톡시 및 에톡시이다.Examples of hydrolysable radicals are halogens (F, Cl, Br and I, especially Cl and Br), alkoxy (especially C 1-4 -alkoxy, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy and n- butoxy, tert-butoxy), aryloxy (especially C 6-10 -aryloxy , such as phenoxy), acyloxy (especially C 1-4 -acyloxy, For example acetoxy and propionyloxy) and alkylcarbonyl (for example acetyl). Particularly preferred hydrolysable radicals are alkoxy groups, especially methoxy and ethoxy.

에폭시기를 갖지 않는 비가수분해성 라디칼의 예는 수소, 알킬, 특히 C1-4-알킬 (예를 들어 메틸, 에틸, 프로필 및 부틸), 알케닐 (C2-4-알케닐, 예를 들어 비닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐 및 부테닐), 알키닐 (특히 C2-4-알키닐, 예를 들어 아세틸레닐 및 프로파르길) 및 아릴 (특히 C6-10-아릴, 예를 들어 페닐 및 나프틸)이고, 상기에 언급된 기는 하나 이상의 치환기, 예를 들어 할로겐 및 알콕시를 임의로 포함할 수 있다. 또한, 메타크릴- 및 메타크릴옥시-프로필 라디칼도 언급할 수 있다.Examples of non-hydrolyzable radicals having no epoxy group include hydrogen, alkyl, especially C 1-4 -alkyl (e.g. methyl, ethyl, propyl and butyl), alkenyl (C 2-4 -alkenyl, (Especially C 2-4 -alkynyl, such as acetylenyl and propargyl) and aryl (especially C 6-10 -aryl, such as, for example, 1-propenyl, 2- For example phenyl and naphthyl), and the abovementioned groups may optionally contain one or more substituents, for example halogen and alkoxy. Methacryl- and methacryloxy-propyl radicals may also be mentioned.

에폭시기를 갖는 비가수분해성 라디칼의 예는 특히 글리시딜 또는 글리시딜옥시기를 포함하는 라디칼이다.Examples of non-hydrolyzable radicals having epoxy groups are radicals, in particular those comprising glycidyl or glycidyloxy groups.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 규소 화합물 (A)의 구체적인 예는 예를 들어 본원의 참고 문헌으로 포함된 EP-A-195 493의 8면 및 9면에서 찾아볼 수 있다.Specific examples of silicon compounds (A) which can be used in accordance with the invention can be found, for example, on pages 8 and 9 of EP-A-195 493, incorporated herein by reference.

본 발명에 따라 특히 바람직한 규소 화합물 (A)는 하기 화학식의 화합물이다.A particularly preferred silicon compound (A) according to the present invention is a compound of the following formula:

R3SiR'R 3 SiR '

상기 식에서, 라디칼 R은 동일하거나 상이하고 (바람직하게는 동일함) 가수분해성기 (바람직하게는 C1-4-알콕시, 특히 메톡시 및 에톡시)를 나타내고, R'는 글리시딜- 또는 글리시딜옥시-(C1-20)-알킬렌 라디칼, 특히 β-글리시딜옥시에틸-, γ-글리시딜옥시프로필-, δ-글리시딜옥시부틸-, ε-글리시딜옥시펜틸-, ω-글리시딜옥시헥실-, ω-글리시딜옥시옥틸-, ω-글리시딜옥시노닐-, ω-글리시딜옥시데실-, ω-글리시딜옥시도데실- 및 2-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸을 나타낸다.(Preferably C 1-4 -alkoxy, in particular methoxy and ethoxy), and R 'represents a glycidyl or glycidyl group, Cydyloxy- (C 1-20 ) -alkylene radicals, in particular? -Glycidyloxyethyl-,? -Glycidyloxypropyl-,? -Glycidyloxybutyl-,? -Glycidyloxypentyl ω-glycidyloxydecyl-, ω-glycidyloxydodecyl-, ω-glycidyloxydecyl-, ω-glycidyloxydecyl-, ω-glycidyloxydecyl-, (3,4-epoxycyclohexyl) -ethyl.

본 발명에서는 입수하기에 용이한 γ-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란 (이하 GPTS로 약칭)을 사용하는 것이 특히 바람직하다.In the present invention, it is particularly preferable to use γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane (hereinafter abbreviated as GPTS) which is easy to obtain.

입상의 베마이트 (B)The particulate boehmite (B)

입상의 베마이트 (B)는 1 내지 100 nm, 바람직하게는 2 내지 50 nm 및 특히바람직하게는 5 내지 20 nm 범위의 입자 크기로 사용하는 것이 바람직하다. 이 물질은 분말 형태로 사용할 수 있으나 졸 (특히 산-안정화된 졸)의 형태로 사용하는 것이 바람직하다. 나노 스케일의 베마이트 입자를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 입상의 베마이트는 분말 형태로 구입할 수 있으며 이로부터 (산-안정화된) 졸의 제조 방법은 선행 기술에 공지되어 있다. 또한, 하기에 기술한 제조예를 참고할 수 있다. pH 2.5 내지 3.5, 바람직하게는 2.8 내지 3.2 범위의 베마이트를 사용하는 것이 특히 바람직하며, 예를 들어 묽은 HCl 중에 베마이트 분말을 현탁시킴으로써 얻을 수 있다.The boehmite (B) in the granular phase is preferably used in a particle size in the range of 1 to 100 nm, preferably 2 to 50 nm, and particularly preferably 5 to 20 nm. This material can be used in powder form, but is preferably used in the form of a sol (especially an acid-stabilized sol). Particularly preferred is the use of nanoscale boehmite particles. The particulate boehmite can be purchased in powder form, and the process for preparing (acid-stabilized) sol from it is known in the prior art. In addition, the production examples described below can be referred to. Particular preference is given to using boehmite in the pH range of 2.5 to 3.5, preferably in the range of 2.8 to 3.2, for example by suspending the boehmite powder in dilute HCl.

입상의 산화세륨 (C)The granular cerium oxide (C)

입상의 산화세륨 (C)는 1 내지 100 nm, 바람직하게는 2 내지 50 nm 및 특히 바람직하게는 5 내지 20 nm 범위의 입자 크기로 사용하는 것이 바람직하다. 이 물질은 분말 형태로 사용할 수 있으나 졸의 형태 (특히 산-안정화된 졸)로 사용하는 것이 바람직하다. 입상의 산화세륨은 졸 및 분말 형태로 구입할 수 있으며 이로부터 (산-안정화된) 졸의 제조 방법은 선행 기술에 공지되어 있다. 또한, 하기에 기술한 제조예를 참고할 수 있다.The granular cerium (C) is preferably used in a particle size in the range of 1 to 100 nm, preferably 2 to 50 nm, and particularly preferably 5 to 20 nm. This material can be used in powder form, but is preferably used in the form of a sol (especially an acid-stabilized sol). Granular cerium oxide can be purchased in the form of sol and powder, and the method of preparing the (acid-stabilized) sol from it is known in the prior art. In addition, the production examples described below can be referred to.

가수분해성 규소 화합물 (D)The hydrolyzable silicon compound (D)

규소 화합물 (A)외에, 가수분해성 규소 화합물이 또한 본 발명에 따른 조성물의 제조에 사용되며 규소 화합물 (A)와 함께 가수분해되는 것이 바람직하다.In addition to the silicon compound (A), it is preferred that the hydrolyzable silicon compound is also used in the preparation of the composition according to the present invention and is hydrolyzed together with the silicon compound (A).

가수분해성 규소 화합물 (D)는 하기 화학식의 화합물이다.The hydrolyzable silicon compound (D) is a compound of the following formula:

RxSiR'4-x R x SiR ' 4-x

상기 식에서, R은 가수분해성 라디칼을 나타내고, R'는 비가수분해성 라디칼을 나타내고, x는 1 내지 4일 수 있다. 하나 이상의 라디칼 R 및(또는) R'이 화합물 (D)에 존재하는 경우, 이들 라디칼은 동일하거나 상이할 수 있다. x는 1보다 큰 것이 바람직하다. 즉, 화합물 (D)는 하나 이상, 바람직하게는 2개 이상의 가수분해성 라디칼을 갖는다.Wherein R represents a hydrolyzable radical, R 'represents a nonhydrolyzable radical, and x may be from 1 to 4. When more than one radical R and / or R 'is present in compound (D), these radicals may be the same or different. x is preferably greater than one. That is, the compound (D) has at least one, preferably at least two hydrolysable radicals.

가수분해성 라디칼의 예는 할로겐 (F, Cl, Br 및 I, 특히 Cl 및 Br), 알콕시 (특히 C1-4-알콕시, 예를 들어 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시 및 n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시 및 tert-부톡시), 아릴옥시 (특히 C6-10-아릴옥시, 예를 들어 페녹시), 아실옥시 (특히 C1-4-아실옥시, 예를 들어 아세톡시 및 프로피오닐옥시) 및 알킬카르보닐 (예를 들어 아세틸)이다. 특히 바람직한 가수분해성 라디칼은 알콕시기, 특히 메톡시 및 에톡시이다.Examples of hydrolysable radicals are halogens (F, Cl, Br and I, especially Cl and Br), alkoxy (especially C 1-4 -alkoxy, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy and n- butoxy, tert-butoxy), aryloxy (especially C 6-10 -aryloxy , such as phenoxy), acyloxy (especially C 1-4 -acyloxy, For example acetoxy and propionyloxy) and alkylcarbonyl (for example acetyl). Particularly preferred hydrolysable radicals are alkoxy groups, especially methoxy and ethoxy.

비가수분해성 라디칼의 예는 수소, 알킬, 특히 C1-4-알킬 (예를 들어 메틸, 에틸, 프로필 및 n-부틸, 이소부틸, sec-부틸 및 tert-부틸), 알케닐 (특히 C1-2-알케닐, 예를 들어 비닐, 1-프로페닐, 2-프로페닐 및 부테닐), 알키닐 (특히 C2-4-알키닐, 예를 들어 아세틸레닐 및 프로파르길) 및 C6-10-아릴 (예를 들어, 페닐 및 나프틸)이고, 상기에 언급된 기는 하나 이상의 치환기, 예를 들어 할로겐 및 알콕시를 임의로 포함할 수 있다. 또한, 메타크릴- 및 메타크릴옥시-프로필 라디칼도 들 수있다.Examples of non-hydrolyzable radical is hydrogen, alkyl, especially C 1-4 - alkyl (e.g. methyl, ethyl, propyl, and n- butyl, isobutyl, sec- butyl and tert- butyl), alkenyl (especially C 1 2 - alkenyl, such as vinyl, 1-propenyl, 2-propenyl and butenyl), alkynyl (especially C 2-4 - alkynyl, for example, acetyl alkylenyl and propargyl), and C 6 -10 -aryl (e.g., phenyl and naphthyl), and the above-mentioned groups may optionally contain one or more substituents, such as halogen and alkoxy. Also, methacryl- and methacryloxy-propyl radicals can be mentioned.

사용될 수 있는 규소 화합물 (D)의 구체적인 예는 하기와 같다.Specific examples of the silicon compound (D) which can be used are as follows.

Si(OCH3)4, Si(OC2H5)4, Si(O-n- 또는 이소-C3H7)4, Si (OCH 3) 4, Si (OC 2 H 5) 4, Si (On- or iso -C 3 H 7) 4,

Si(OC4H9)4, SiCl4, HSiCl3, Si(OOCCH3)4, Si (OC 4 H 9) 4 , SiCl 4, HSiCl 3, Si (OOCCH 3) 4,

CH3-SiCl3,CH3-Si(OC2H5)3, C2H5-SiCl3,C2H5-Si(OC2H5)3 CH 3 -SiCl 3 , CH 3 -Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 2 H 5 -SiCl 3 , C 2 H 5 -Si (OC 2 H 5 ) 3

C3H7-Si(OCH3)3,C6H5-Si(OCH3)3, C6H5-Si(OC2H5)3,C 3 H 7 -Si (OCH 3 ) 3 , C 6 H 5 -Si (OCH 3 ) 3 , C 6 H 5 -Si (OC 2 H 5 ) 3 ,

(CH3O)3-Si-C3H6-Cl, (CH 3 O) 3 -Si- C 3 H 6 -Cl,

(CH3)2SiCl2, (CH3)2Si(OCH3)2, (CH3)2Si(OC2H5)2,(CH 3 ) 2 SiCl 2 , (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , (CH 3 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 2 ,

(CH3)2Si(OH)2, (C6H5)2SiCl2, (C6H5)2Si(OCH3)2, (CH 3) 2 Si (OH ) 2, (C 6 H 5) 2 SiCl 2, (C 6 H 5) 2 Si (OCH 3) 2,

(C6H5)2Si(OC2H5)2, (이소-C3H7)3SiOH,(C 6 H 5 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 2 , (iso-C 3 H 7 ) 3 SiOH,

CH2=CH-Si(OOCCH3)3,CH 2 = CH-Si (OOCCH 3 ) 3 ,

CH2=CH-SiCl3, CH2=CH-Si(OCH3)3, CH2=CH-Si(OC2H5)3, CH 2 = CH-SiCl 3, CH 2 = CH-Si (OCH 3) 3, CH 2 = CH-Si (OC 2 H 5) 3,

CH2=CH-Si(OC2H4OCH3)3, CH2=CH-CH2-Si(OCH3)3,CH 2 = CH-Si (OC 2 H 4 OCH 3 ) 3 , CH 2 = CH-CH 2 -Si (OCH 3 ) 3 ,

CH2=CH-CH2-Si(OC2H5)3,CH 2 = CH-CH 2 -Si (OC 2 H 5 ) 3 ,

CH2=CH-CH2-Si(OOCCH3)3,CH 2 = CH-CH 2 -Si (OOCCH 3 ) 3 ,

CH2=C(CH3)3-COO-C3H7-Si(OCH3)3,CH 2 ═C (CH 3 ) 3 -COO-C 3 H 7 -Si (OCH 3 ) 3 ,

CH2=C(CH3)3-COO-C3H7-Si(OC2H5)3.CH 2 ═C (CH 3 ) 3 -COO-C 3 H 7 -Si (OC 2 H 5 ) 3 .

라디칼 R이 동일하거나 상이할 수 있고, 가수분해성기, 바람직하게는 탄소원자 1 내지 4의 알콕시기, 특히 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시 또는 tert-부톡시를 나타내는 SiR4화합물이 특히 바람직하다.The radicals R can be the same or different and are hydrolyzable groups, preferably alkoxy groups of 1 to 4 carbon atoms, in particular methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, isobutoxy, is SiR 4 compounds representing the sec- butoxy or tert- butoxycarbonyl is particularly preferred.

가수분해성 알루미늄 화합물 (E)The hydrolyzable aluminum compound (E)

화합물 (E)는 하기 화학식의 Al의 화합물이 바람직하다.The compound (E) is preferably a compound of Al represented by the following formula.

Al(R'")3 Al (R '') 3

상기 식에서, 라디칼 R'"는 동일하거나 상이할 수 있고 가수분해성기를 나타낸다.In the above formula, the radicals R " " may be the same or different and represent a hydrolyzable group.

가수분해성기의 예는 할로겐 (F, Cl, Br 및 I, 특히 Cl 및 Br), 알콕시 (특히 C1-6-알콕시, 예를 들어 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시 및 n-부톡시, 이소부톡시, sec-부톡시 또는 tert-부톡시, n-펜틸옥시, n-헥실옥시), 아릴옥시 (특히 C6-10-아릴옥시, 예를 들어 페녹시), 아실옥시 (특히 C1-4-아실옥시, 예를 들어 아세톡시 및 프로피오닐옥시) 및 알킬카르보닐 (예를 들어 아세틸), 또는 C1-6-알콕시-C2-3-알킬기, 즉 상기에 기재된 의미를 갖는 C1-6-알킬-에틸렌 글리콜 또는 -프로필렌 글리콜, 알콕시로부터 유도된 기이다. R'"은 에탄올레이트, sec-부탄올레이트, n-프로판올레이트 또는 n-부톡시 에탄올레이트가 특히 바람직하다.Examples of hydrolysable groups are halogens (F, Cl, Br and I, in particular Cl and Br), alkoxy (especially C 1-6 -alkoxy, such as methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy and n- butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy), aryloxy (especially C 6-10 -aryloxy , such as phenoxy), acyl aryloxy (especially C 1-4 - acyloxy, such as acetoxy and propionyloxy) and alkylcarbonyl (for example acetyl), or C 1-6 - alkoxy -C 2-3 - alkyl group, that is the C 1-6 -alkyl-ethylene glycol or -propylene glycol having the stated meaning, or a group derived from an alkoxy. R "is particularly preferably ethanolate, sec-butanolate, n-propanolate or n-butoxyethanolate.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 가수분해성 알루미늄 화합물 (E)의 예는 Al(OCH3)3, Al(OC2H5)3, Al(O-n-C3H7)3, Al(O-이소-C3H7)3, Al(OC4H9)3, Al(O-이소-C4H9)3, Al(O-sec-C4H9)3, AlCl3, AlCl(OH)2, Al(OC2H4OC4H9)3이다.Examples of the hydrolyzable aluminum compound (E) which can be used according to the invention Al (OCH 3) 3, Al (OC 2 H 5) 3, Al (OnC 3 H 7) 3, Al (O- iso -C 3 H 7) 3, Al (OC 4 H 9) 3, Al (O- iso -C 4 H 9) 3, Al (O-sec-C 4 H 9) 3, AlCl 3, AlCl (OH) 2, Al a (OC 2 H 4 OC 4 H 9) 3.

루이스 염기 (F)Lewis base (F)

루이스 염기 (F)는 바람직하게는 질소 화합물이다. 이러한 질소 화합물은 예를 들어 N-헤테로사이클, 아미노기 함유 페놀, 폴리시클릭 아민 및 암모니아 (바람직하게는 수용액 형태)으로부터 선택할 수 있다. 이들의 구체적인 예는 1-메틸이미다졸, 2-(N,N-디메틸아미노메틸)페놀, 2,4,6-트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀 및 1,8-디아자비시클로[5.4.0]-7-운데센이다. 이들 화합물 중에서 1-메틸이미다졸이 특히 바람직하다.The Lewis base (F) is preferably a nitrogen compound. Such nitrogen compounds may be selected, for example, from N-heterocycles, amino group-containing phenols, polycyclic amines and ammonia (preferably in the form of aqueous solutions). Specific examples thereof include 1-methylimidazole, 2- (N, N-dimethylaminomethyl) phenol, 2,4,6-tris (N, N-dimethylaminomethyl) phenol and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene. Among these compounds, 1-methylimidazole is particularly preferable.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 질소 함유 루이스 염기의 또다른 클래스는 하나 이상의 1차, 2차 또는 3차 아미노기를 포함하는 하나 이상의 비가수분해성 라디칼을 갖는 가수분해성 실란이다. 이러한 실란은 규소 화합물 (A)와 함께 가수분해될 수 있으며, 이어서 유기적으로 개질된 무기 네트워크 내에 통합된 루이스 염기를 나타낸다. 질소 함유 규소 화합물은 하기 화학식의 화합물이 바람직하다.Another class of nitrogen containing Lewis bases that can be used in accordance with the present invention is hydrolyzable silanes having at least one non-hydrolyzable radical comprising at least one primary, secondary or tertiary amino group. This silane can be hydrolyzed with the silicon compound (A), and then represents a Lewis base incorporated in an organically modified inorganic network. The nitrogen-containing silicon compound is preferably a compound represented by the following formula.

R3SiR"R 3 SiR "

상기 식에서, 라디칼 R은 동일하거나 상이하고 (바람직하게는 동일함) 가수분해성기 (바람직하게는 C1-4-알콕시 및 특히 메톡시 및 에톡시)이고, R"는 Si에 결합되고 하나 이상의 1차, 2차 또는 3차 아미노기를 포함하는 비가수분해성 라디칼을 나타낸다. 이러한 실란의 구체적인 예는 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-[N'-(2'-아미노에틸)-2-아미노에틸]-3-아미노프로필트리메톡시실란 및 N-[3-(트리에톡시실릴)프로필]-4,5-디히드로이미다졸이다.(Preferably C 1-4 -alkoxy and especially methoxy and ethoxy), R "is bonded to Si and is substituted by one or more of 1 Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) silane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, Aminopropyltrimethoxysilane and N- [3- (triethoxysilyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- [N '- Propyl] -4,5-dihydroimidazole.

루이스 염기는 통상 규소 화합물 (A)의 에폭시기 1 몰 당 0.01 내지 0.5몰양으로 상응하는 조성물에 사용된다. 에폭시기 1몰당 루이스 염기 0.02 내지 0.3 및 특히 0.05 내지 0.1 몰 범위의 양이 바람직하다.The Lewis base is usually used in the corresponding compositions at 0.01 to 0.5 moles per mole of epoxy group of the silicon compound (A). An amount of Lewis base per mole of epoxy group of 0.02 to 0.3 and especially 0.05 to 0.1 mole is preferable.

계면활성제 (G)Surfactant (G)

장기간 안개 방지 효과를 달성하고 코팅제의 친수성을 증가시킬 목적으로 사용될 수 있는 계면활성제 (G)는 비이온성 계면활성제가 바람직하다. 실온에서 액체 형태인 비이온성 계면활성제가 특히 바람직하다. 본 발명에 따른 방법에 의한 조성물의 제조시 이러한 계면활성제를 사용할 수 있을뿐 아니라 약 50 내지 60℃에서 열확산에 의해 연속적으로 (바람직하게 수용액으로) 도입할 수 있다. 바람직한 계면활성제는 다양한 쇄길이의 폴리옥시에틸렌 올레일 에테르 (예, Brij(등록상표) 92,96 또는 98, ICI사), 다양한 쇄길이의 폴리옥시에틸레 세틸 에테르 (예. Malipal(등록상표) 24/30 내지 24/100, Huls사 및 Disponil(등록상표) 05, Henkel사), 나트륨 라우릴 설페이트 (예, Sulfopon (등록상표) 101 Spezial, Henkel사), 라우릴-피리디늄 클로라이드 (예, Dehydquad C Christ (등록상표), Henkel사) 및 폴리옥시에틸렌-소르비탄 모노올레에이트 (예, Tween, Riedel de Haen 사)이다.The surfactant (G) which can be used for the purpose of achieving a long-term antifogging effect and increasing the hydrophilicity of the coating agent is preferably a nonionic surfactant. Particularly preferred are nonionic surfactants in liquid form at room temperature. These surfactants can be used not only in the preparation of the composition according to the method according to the present invention but also continuously (preferably in aqueous solution) by thermal diffusion at about 50 to 60 占 폚. Preferred surfactants are polyoxyethylene oleyl ethers of various chain lengths (e.g., Brij (R) 92,96 or 98, ICI), polyoxyethyl retecyl ethers of various chain lengths (e.g., Malipal (R) (E.g., 24/30 to 24/100, Huls and Disponil (R) 05, Henkel), sodium lauryl sulfate (e.g. Sulfopon TM 101 Spezial, Henkel), lauryl- Dehydquad C Christ < (R) >, Henkel) and polyoxyethylene-sorbitan monooleate (e.g. Tween, Riedel de Haen).

계면활성제는 통상적으로 코팅 조성물을 기준으로 0.1 내지 35 중량%의 양으로 사용한다.Surfactants are typically used in amounts of from 0.1 to 35% by weight, based on the coating composition.

방향족 폴리올 (H)The aromatic polyol (H)

본 발명에 따라 사용되는 방향족 폴리올은 평균 분자량이 1000 이하이다. 이러한 폴리올의 예는 2개 이상의 페닐 고리 상에 히드록시기를 포함하는 폴리페닐렌에테르뿐 아니라 방향족 고리가 단일 결합, -O-, -CO-, -SO2- 등에 의해 서로 결합되고 방향족기에 결합된 (바람직하게) 2개 이상의 히드록시기를 갖는 올리고머이다.The aromatic polyol used according to the present invention has an average molecular weight of 1000 or less. Examples of such polyols include not only polyphenylene ethers having a hydroxy group on two or more phenyl rings but also aromatic polyphenylene ethers having aromatic rings bonded to each other by a single bond, -O-, -CO-, -SO 2 - Preferably an oligomer having two or more hydroxy groups.

특히 바람직한 방향족 폴리올은 방향족 디올이다. 이들 중 하기 화학식의 화합물이 특히 바람직하다.Particularly preferred aromatic polyols are aromatic diols. Particularly preferred among these are compounds of the formula:

상기 식에서, X는 (C1-C8)-알킬렌 또는 -알킬리덴 라디칼, (C6-C14)-아릴렌 라디칼, , -O-, -S-, -CO- 또는 -SO2-를 나타내고, n은 0 또는 1이다. X는 바람직하게는 C1-C4-알킬렌 또는 -알킬리덴, 특히 -C(CH3)2- 및 -SO2-이다. 화합물의 방향족 고리는 OH기외에 최고 3 또는 4개의 추가의 치환기, 예를 들어, 할로겐, 알킬 및 알콕시를 포함할 수 있다.X is a (C 1 -C 8 ) -alkylene or -alkylidene radical, a (C 6 -C 14 ) -arylene radical, -O-, -S-, -CO- or -SO 2 - , And n is 0 or 1. X is preferably C 1 -C 4 -alkylene or -alkylidene, especially -C (CH 3 ) 2 - and -SO 2 -. The aromatic ring of the compound may contain up to three or four additional substituents, such as halogen, alkyl and alkoxy, outside the OH moiety.

본 발명에 따라 사용될 수 있는 방향족 폴리올 (H)의 구체적인 예는 비스페놀 A, 비스페놀 S 및 1,5-디히드록시나프탈렌이고, 비스페놀 A가 바람직하다.Specific examples of the aromatic polyol (H) which can be used in accordance with the present invention are bisphenol A, bisphenol S and 1,5-dihydroxynaphthalene, and bisphenol A is preferred.

폴리올 (H)은 통상적으로 규소 화합물 (A)의 에폭시 고리 1몰 당 방향족 폴리올 (H)의 히드록시기가 0.2 내지 1.5 몰, 바람직하게는 0.3 내지 1.2몰, 특히 0.6 내지 1.0 몰이 존재하는 양으로 사용된다.The polyol (H) is usually used in an amount such that 0.2 to 1.5 mol, preferably 0.3 to 1.2 mol, especially 0.6 to 1.0 mol, of the hydroxyl group of the aromatic polyol (H) per 1 mol of the epoxy ring of the silicon compound (A) .

2개 이상의 에폭시기를 갖는 규소 화합물 (A)를 본 발명에 따른 조성물에 사용하면 코팅제 및 성형체의 축합수에 대한 안정성을 향상시킨다.When the silicone compound (A) having two or more epoxy groups is used in the composition according to the present invention, the stability against the condensation water of the coating agent and the molded article is improved.

본 발명에 따른 조성물은 바람직하게는 하기에 보다 상세하게 기재된 방법에 의해 얻어지며, 이 방법에서는 pH 범위가 2.5 내지 3.5, 바람직하게는 2.8 내지 3.2인 물질 (B)의 졸을 다른 성분의 혼합물과 반응시킨다.The composition according to the invention is preferably obtained by the process described in more detail below, in which a sol of the substance (B) having a pH range of from 2.5 to 3.5, preferably from 2.8 to 3.2, Respectively.

보다 바람직하게, 본 발명에 따른 조성물은 하기에 정의된 바와 같은 방법에 의해 얻어지며, 이 방법에서는 바람직하게는 특정 온도에서, (A)와 (D)의 혼합물에 상기에 정의된 졸을 2회 분량으로 첨가하고, (E)의 첨가는 또한 특정 온도에서 (B)의 2회 첨가 사이에 수행한다.More preferably, the composition according to the invention is obtained by a process as defined below, wherein preferably at a specific temperature, the mixture of (A) and (D) And the addition of (E) is also carried out between two additions of (B) at a certain temperature.

가수분해성 규소 화합물 (A)는 수용액 중에서 산 촉매를 사용하여 (바람직하게는 실온에서) 화합물 (D)와 함께 예비가수분해될 수 있다. 이때, 가수분해성기 1몰당 물 약 1/2몰을 사용하는 것이 바람직하다. 예비가수분해용 촉매로 염산을 사용하는 것이 바람직하다.The hydrolyzable silicon compound (A) can be prehydrolyzed with the compound (D) using an acid catalyst (preferably at room temperature) in an aqueous solution. At this time, it is preferable to use about 1/2 mol of water per mol of the hydrolyzable group. It is preferable that hydrochloric acid is used as the preliminary moisture-decomposing catalyst.

입상의 베마이트 (B)는 물에 현탁시키고, pH는 2.5 내지 3, 바람직하게 2.8 내지 3.2로 조정하는 것이 바람직하다. 산성화에는 염산을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 상태하에서 투명한 졸이 형성된다.It is preferred that the particulate boehmite (B) is suspended in water and the pH is adjusted to 2.5 to 3, preferably 2.8 to 3.2. It is preferable to use hydrochloric acid for acidification. Under this condition, a transparent sol is formed.

화합물 (D)를 화합물 (A)와 혼합한다. 이어서, 상기에 기재된 바와 같은 현탁된 입상의 베마이트 (B)의 1회 분량을 첨가한다. 이 양은 혼합물 내에 함유된 물이 화합물 (A) 및 (D)의 절반-화학양론적 가수분해에 충분한 정도로 선택하는 것이 바람직하다.Compound (D) is mixed with compound (A). A single portion of the suspended particulate boehmite (B) as described above is then added. This amount is preferably selected to a degree sufficient for the water contained in the mixture to be half-stoichiometric hydrolysis of compounds (A) and (D).

첨가 후 수 분 후에, 졸은 약 28 내지 35℃로 가온되고 약 20분 후에 투명해진다. 이어서, 혼합물을 0.5 내지 3시간, 바람직하게는 1 내지 2시간 교반한다. 배치를 약 0℃로 냉각시킨다. 이어서, 화합물 (E)를 첨가하고, 그동안 약 3℃의 온도가 초과하지 않는다. 화합물 (E)의 첨가가 완료되면, 졸을 0℃에서 0.5 내지 3시간, 바람직하게는 1 내지 2시간 더 교반한다. 이어서, 입상의 물질 (B)의 잔여량을 첨가하고, 그동안 5℃의 온도가 초과하지 않는다. 이어서, 반응기 온도를 20℃로 조정하여 조성물을 실온으로 만든다. 실온은 20 내지 23℃의 온도인 것으로 이해된다. 화합물 (C)는 UV에 대해 스크래치 내성 코팅계를 안정화하기 위해 첨가한다. 화합물 (C)는 졸의 형태가 바람직하다. 조성물은 4℃ 냉장고에 보관한다.After several minutes after the addition, the sol is warmed to about 28-35 占 폚 and becomes clear after about 20 minutes. Then, the mixture is stirred for 0.5 to 3 hours, preferably 1 to 2 hours. The batch is cooled to about 0 < 0 > C. Then, the compound (E) is added, and the temperature of about 3 캜 is not exceeded. When the addition of the compound (E) is completed, the sol is stirred at 0 캜 for 0.5 to 3 hours, preferably for 1 to 2 hours. Subsequently, the residual amount of the granular substance (B) is added, and the temperature of 5 占 폚 is not exceeded in the meantime. The reactor temperature is then adjusted to 20 DEG C to bring the composition to room temperature. It is understood that the room temperature is a temperature of 20 to 23 캜. Compound (C) is added to stabilize the scratch resistant coating system against UV. The compound (C) is preferably in the form of a sol. The composition is stored in a refrigerator at 4 ° C.

화합물 (E) 및, 임의로 루이스 염기 (F)는 0℃에서 물질 (B)의 1회 분량의 첨가 후 서서히 첨가하는 것이 바람직하다.Compound (E) and, optionally, Lewis base (F) are preferably added slowly at 0 캜 after the addition of a single portion of the substance (B).

조성물의 유동학적 특성을 조정하기 위해서, 임의의 원하는 제조 단계에서 불활성 용매를 임의로 첨가할 수 있다. 이러한 용매는 실온에서 액체인 알콜이 바람직하고, 알콕시드의 가수분해 중에 형성되는 알콜이 더 바람직하다. 특히 바람직한 알콜은 C1-8-알콜, 특히 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, tert-부탄올, n-펜탄올, 이소펜탄올, n-헥산올, n-옥탄올 및 n-부톡시에탄올이다. 또한, C1-6-글리콜 에테르, 특히 n-부톡시에탄올이 바람직하다.To adjust the rheological properties of the composition, an inert solvent may optionally be added at any desired stage of preparation. Such solvents are preferably alcohols which are liquid at room temperature, and more preferred are alcohols formed during hydrolysis of the alkoxide. Particularly preferred alcohols are C 1-8 -alcohols, in particular methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, tert-butanol, n- pentanol, isopentanol, And n-butoxyethanol. In addition, C 1-6 -glycol ethers, especially n-butoxyethanol, are preferred.

또한, 본 발명에 따른 조성물은 통상의 첨가제, 예를 들어 착색제, 유동제, UV 안정화제, 광개시제, 감광제 (조성물의 광화학적 경화를 원하는 경우) 및 열 중합 촉매를 포함할 수 있다.The compositions according to the invention may also comprise customary additives such as colorants, flow agents, UV stabilizers, photoinitiators, photosensitizers (if photochemical curing of the composition is desired) and thermal polymerization catalysts.

기판의 도포법은 예를 들어 침지, 도장, 브러싱, 칼날 도포, 롤 코팅, 분무, 강하 필름 도장, 원심분리 코팅 및 회전 코팅법과 같은 표준 코팅법에 의해 수행한다.The coating method of the substrate is carried out by standard coating methods such as immersion, painting, brushing, blade coating, roll coating, spraying, drop film coating, centrifugal coating and spin coating.

코팅된 기판의 경화는 실온에서 먼저 부분 건조 후에 임의로 수행한다. 경화는 50 내지 300℃, 특히 70 내지 200℃ 및 특히 바람직하게 90 내지 180℃에서 임의로 감압하에서 열적 방법으로 수행한다. 이러한 조건 하에서 완전히 경화시키는 데 필요한 시간은 200분 미만, 바람직하게는 100분 미만 및 보다 바람직하게는 60분 미만이어야 한다. 경화된 층의 층두께는 0.5 내지 100 ㎛, 바람직하게는 1 내지 20 ㎛ 및 특히 2 내지 10 ㎛이어야 한다.Curing of the coated substrate is optionally performed after partial drying first at room temperature. The curing is carried out in a thermal manner under reduced pressure, optionally at 50 to 300 ° C, in particular at 70 to 200 ° C and particularly preferably at 90 to 180 ° C. The time required to fully cure under these conditions should be less than 200 minutes, preferably less than 100 minutes and more preferably less than 60 minutes. The layer thickness of the cured layer should be from 0.5 to 100 mu m, preferably from 1 to 20 mu m and especially from 2 to 10 mu m.

불포화된 화합물 및 광개시제가 존재하는 경우, 또한 방사선 조사 후 경화를 실시할 수 있으며, 임의로 이후에 열적 방법으로 후경화시킨다.If unsaturated compounds and photoinitiators are present, they can also be cured after irradiation and, optionally, postcured by a thermal method.

코팅용 기판 재료의 선택에는 제한이 없다. 본 발명에 따른 코팅 조성물은 바람직하게는 목재, 직물, 종이, 석기, 금속, 유리, 세라믹 및 플라스틱의 코팅에 적절하며, 특히 문헌 [Becker/Braun, Kunststofftaschenbuch, Carl Hanser Verlag, Munich, Vienna 1992]에 기재된 바와 같이 열가소성 물질의 코팅에 적합하다. 조성물은 투명 열가소성 물질 및 바람직하게는 폴리카보네이트의 코팅, 또는 금속 또는 금속화 표면의 코팅에 매우 적합하다. 본 발명에 따라 얻어지는 안경 렌즈, 광학 렌즈, 자동차 유리창 및 특히 열기록 헤드를 코팅할 수 있다.There is no restriction on the selection of the substrate material for coating. The coating compositions according to the present invention are preferably suitable for coating of wood, textile, paper, stone, metal, glass, ceramic and plastic and are particularly suitable for coating in the context of Becker / Braun, Kunststofftaschenbuch, Carl Hanser Verlag, Munich, Vienna 1992 And is suitable for coating thermoplastic materials as described. The composition is well suited for coating transparent thermoplastic materials and preferably polycarbonate, or for coating metal or metallized surfaces. The spectacle lens, the optical lens, the automobile window, and especially the thermal recording head obtained according to the present invention can be coated.

실시예Example

베마이트 분산액의 제조Preparation of a boehmite dispersion

베마이트 분산액을 제조하기 위해, 0.1 N 염산을 용기에 넣었다. 이어서 베마이트를 교반하면서 서서히 첨가하였다. 이어서, 분산액을 초음파로 약 20분간 처리하였다.To prepare a boehmite dispersion, 0.1 N hydrochloric acid was placed in a vessel. The boehmite was then slowly added with stirring. The dispersion was then treated with ultrasonic waves for about 20 minutes.

스크래치 내성 코팅 시스템의 제조Manufacture of scratch resistant coating systems

GPTS 및 TEOS를 용기에 넣고 혼합하였다. 교반하면서 실란의 절반-화학양론적 예비가수분해에 필요한 양의 베마이트 분산액을 서서히 첨가하였다. 이어서, 반응 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반하였다. 이어서, 용액을 자동 온도 조절 장치를 사용하여 0℃로 냉각시켰다. 이어서, 알루미늄 트리부톡시에탄올레이트를 적하 깔때기를 사용하여 적가하였다. 알루미네이트를 첨가한 후, 0℃에서 1시간 더 교반하였다. 이어서, 자동 온도 조절 장치에 의해 냉각시키면서 베마이트 분산액의 나머지를 첨가하였다. 실온에서 15분간 교반한 후 이산화세륨 분산액 및 유동제를 첨가하였다.GPTS and TEOS were placed in a container and mixed. The amount of boehmite dispersion needed for half-stoichiometric prehydrolysis of silane was slowly added with stirring. The reaction mixture was then stirred at room temperature for 2 hours. The solution was then cooled to 0 < 0 > C using a thermostat. Subsequently, aluminum tributoxyethanolate was added dropwise using a dropping funnel. Aluminate was added, and the mixture was further stirred at 0 ° C for 1 hour. The remainder of the boehmite dispersion was then added while cooling by a thermostat. After stirring at room temperature for 15 minutes, a cerium dioxide dispersion and a flow agent were added.

출발 함량Starting content

실시예 21Example 21 실시예 23Example 23 실시예 25Example 25 TEOSTEOS -- 62.50 g (0.3 몰)62.50 g (0.3 mol) 62.50 g (0.3 몰)62.50 g (0.3 mol) DMDMSDMDMS 36.09 g (0.3 몰)36.09 g (0.3 mol) -- 36.09 g (0.3 몰)36.09 g (0.3 mol) GPTSGPTS 236.34 g (1 몰)236.34 g (1 mole) 236.34 g (1 몰)236.34 g (1 mole) 236.34 g (1 몰)236.34 g (1 mole) 베마이트Bohemite 5.47 g (전체 고형분을 기준으로 2 중량%)5.47 g (2% by weight based on total solids) 5.53 g (전체 고형분을 기준으로 2 중량%)5.53 g (2% by weight based on total solids) 6.14 g (전체 고형분을 기준으로 2 중량%)6.14 g (2% by weight based on total solids) 0.1 N 염산0.1 N hydrochloric acid 48.97 g48.97 g 59.18 g59.18 g 74.21 g74.21 g 이산화세륨 분산액(2.5% 아세트산중 20 중량%)A cerium dioxide dispersion (20% by weight in 2.5% acetic acid) 222.60 g (전체 고형분을 기준으로 17.5 중량%)222.60 g (17.5% by weight based on total solids) 257.14 g (전체 고형분을 기준으로 20 중량%)257.14 g (20% by weight based on total solids) 285.66 g (전체 고형분을 기준으로 20 중량%)285.66 g (20% by weight based on total solids) 절반-화학양론적 예비가수분해를 위한 베마이트 분산액Boehmite dispersion for half-stoichiometric preliminary hydrolysis 36.06 g36.06 g 41.38 g41.38 g 46.83 g46.83 g 알루미늄 트리부톡시에탄올레이트Aluminum tributoxyethanolate 113.57 g (0.3 몰)113.57 g (0.3 mol) 113.57 g (0.3 몰)113.57 g (0.3 mol) 113.57 g (0.3 몰)113.57 g (0.3 mol) 유동제Fluidizing agent 2.00 g (전체 코팅제양을 기준으로 0.3 중량%)2.00 g (0.3% by weight based on the total coating amount) 2.21 g (전체 코팅제양을 기준으로 0.3 중량%)2.21 g (0.3% by weight based on the total coating amount) 2.45 g (전체 코팅제양을 기준으로 0.3 중량%)2.45 g (0.3% by weight based on the total coating amount)

추가의 실시예 및 비교예는 상기 방법에 따라 실시하였고 성분의 양은 표 1에 주어진 값에 따라 변화시켰다.Further examples and comparative examples were carried out according to the above method and the amounts of the components were varied according to the values given in Table 1.

생성된 코팅제를 사용하여 시험편을 다음과 같이 얻었다.Test specimens were obtained as follows using the resulting coatings.

105 ×150 ×4 mm 치수의 비스페놀 A 기재의 폴리카보네이트 판 (Tg = 147℃, Mw = 27,500)을 이소프로판으로 세정하고 3 중량% 아미노프로필트리메톡시실란 및 97 중랑%의 부탄올의 혼합물에 침지시켜 전처리한 후 130℃에서 0.5 시간 동안 열처리하였다. 이어서, 각 판을 침적속도 (V) 60 내지 100 ㎝/분으로 10 내지 20 ㎛ 두께의 코팅층으로 코팅하였다. 실온에서 10분간 냉각 후 코팅된 판을 130℃에서 1시간 동안 건조시켰다. 건조 후 코팅 층의 층두께는 약 2 내지 4 ㎛이었다. 코팅된 판이 완전히 경화되면, 실온에서 2일간 저장한 후 하기에 정의된 바와 같이 시험하였다.A polycarbonate plate (Tg = 147 ° C, Mw = 27,500) of 105 × 150 × 4 mm in size was washed with isopropane and immersed in a mixture of 3% by weight of aminopropyltrimethoxysilane and 97% by weight of butanol And then heat-treated at 130 ° C for 0.5 hour. Each plate was then coated with a coating layer having a thickness of 10 to 20 mu m at a deposition rate (V) of 60 to 100 cm / min. After cooling at room temperature for 10 minutes, the coated plate was dried at 130 DEG C for 1 hour. The layer thickness of the coating layer after drying was about 2 to 4 mu m. Once the coated plates were fully cured, they were stored at room temperature for 2 days and then tested as defined below.

상기 코팅 조성물을 사용하여 얻어진 코팅물의 특성은 다음과 같이 측정하였다.The properties of the coatings obtained using the coating compositions were determined as follows.

크로스 컷 접착 시험 : EN ISO 2409:1994Cross-cut adhesion test: EN ISO 2409: 1994

수중 저장 후의 크로스 컷 접착 시험: 65℃ tt=0/1. 코팅된 판을 EN ISO 2409:1994에 따라 크로스 컷을 만들고 65℃ 온도의 물에 저장하였다. 테이프 시험에서 접착성이 최초로 손실되는 저장 시간(일)을 0 내지 1로 기록하였다.Cross-cut adhesion test after storage in water: 65 ° C tt = 0/1. Coated plates were cut in accordance with EN ISO 2409: 1994 and stored in water at 65 ° C. The storage time (days) in which the adhesive was first lost in the tape test was recorded as 0 to 1.

타버 (Taber) 마모기 시험 : 마모 시험 DIN 52 347 (10000 회, CS10F, 500 g)Taber Magma test: Abrasion test DIN 52 347 (10,000 times, CS10F, 500 g)

내후성 촉진 시험 (Sun test):Weather test (Sun test):

코팅된 시료 (기판으로 마크롤론 (Makrolon) 2808 이용)를 석영 유리 필터가 장착된 내후성 촉진 시험기 (sun test, Heraeus CPS 타입)에서 최대 출력으로 3주간 두었다. 1, 2 및 3 주 후에, 황도를 UV-VIS 분석기 (파라미터: 표준 광 C, 2°표준 관찰기)에 의해 측정하였다. 또한, 시료를 외관상으로 측정하였다 (균열 형성 등).The coated sample (using Makrolon 2808 as substrate) was placed in a weather test accelerator (sun test, Heraeus CPS type) equipped with a quartz glass filter for 3 weeks at full power. After 1, 2 and 3 weeks, the ecliptic was measured by a UV-VIS analyzer (parameter: standard light C, 2 ° standard observer). In addition, samples were visually measured (crack formation, etc.).

수중 저장 시험:Underwater storage test:

탈이온수로 채워진 유리 데시케이터를 약 65℃ 온도의 건조 캐비넷에 두었다. 경화 후 미리 크로스 컷/테이프 시험을 수행한 코팅된 폴리카보네이트 시료를 건조기에 넣었다. 2, 4, 6, 8, 10, 12 및 14일 후에 시료를 크로스 컷/테이프 시험에 의해 접착성을 시험하였다. 마지막으로 각 경우에 처음의 크로스 컷 시험을 하고 완전히 새로운 크로스 컷/테이프 시험을 수행하였다. 또한, 시료를 외관상으로 평가하였다 (균열 형성, 분리 등).A glass desiccator filled with deionized water was placed in a drying cabinet at about 65 ° C. The coated polycarbonate sample, which had been pre-cross-cut / tape tested after curing, was placed in a dryer. After 2, 4, 6, 8, 10, 12 and 14 days, the samples were tested for adhesion by crosscut / tape test. Finally, in each case a first crosscut test was performed and a completely new crosscut / tape test was performed. In addition, samples were visually evaluated (crack formation, separation, etc.).

끓임 시험:Boiling test:

이 시험에서, 탈이온수가 채워진 스코트 (Schott) 플라스크를 사용하였다. 용기를 폴리스티렌 재킷으로 단열시키고 자석 가열 교반기를 이용하여 끓였다 (온도 약 97℃). 미리 크로스 컷/테이프 시험을 한 시료 (코팅된 폴리카보네이트)를 넣었다. 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 및 8시간 후에 판을 꺼내어 외관상 평가하였다 (균열, 분리 등). 또한, 처음의 크로스 컷 및 새로이 준비된 크로스 컷 모두에 대해 접착성을 시험하였다.In this test, a Schott flask filled with deionized water was used. The vessel was insulated with a polystyrene jacket and boiled using a magnetic heating stirrer (temperature of about 97 ° C). A sample (coated polycarbonate) previously subjected to a cross-cut / tape test was placed. After 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 and 8 hours, the plates were removed and evaluated for appearance (cracking, separation, etc.). In addition, the adhesiveness was tested for both the first cross-cut and the newly prepared cross-cut.

층 두께 측정:Layer thickness measurement:

표면 위로 지시되는 미세 다이아몬드 바늘을 사용하는 프로필 방법에 의해 층 두께를 측정하였다. 측정을 위해서, 코팅되지 않은 영역과 코팅된 영역 사이의 높이의 차이를 확인하기 위해서 코팅 작업시 판의 일부를 떼내어야 한다.The layer thickness was measured by a profiled method using fine diamond needles directed onto the surface. For the measurement, a portion of the plate must be removed during coating to determine the difference in height between the uncoated and coated areas.

Claims (8)

(a) Si에 직접 결합되고 가수분해에 의해 절단될 수 없으며 에폭시기를 함유하는, 1종 이상의 라디칼을 함유하는 1종 이상의 규소 화합물 (A),(a) at least one silicon compound (A) containing at least one radical which is bonded directly to Si and which can not be cleaved by hydrolysis and contains an epoxy group, (b) 입자 크기 1 내지 100 nm 범위의 입상 베마이트 (B) 0.5 내지 15 중량%,(b) 0.5 to 15% by weight of particulate boehmite (B) in the particle size range of 1 to 100 nm, (c) 입자 크기 1 내지 100 nm 범위의 입상 산화세륨 (C) 5 내지 30 중량%,(c) 5 to 30% by weight of granular cerium (C) particles having a particle size in the range of 1 to 100 nm, (d) 1종 이상의 가수분해성 규소 화합물 (D) 및(d) at least one hydrolysable silicon compound (D) and (e) 1종 이상의 가수분해성 알루미늄 화합물 (E)(e) at least one hydrolyzable aluminum compound (E) 를 포함하는 코팅 조성물.≪ / RTI > 제1항에 있어서, (A)가 하기 화학식The positive resist composition according to claim 1, wherein (A) R3SiR'R 3 SiR ' (여기서, 라디칼 R은 동일하거나 상이하고 가수분해성기를 나타내고, 바람직하게는 C1-4-알콕시이고, R'은 글리시딜- 또는 글리시딜옥시-(C1-20)-알킬렌 라디칼임)의 화합물이고,Wherein the radicals R are the same or different and represent hydrolysable groups, preferably C 1-4 -alkoxy and R 'is a glycidyl- or glycidyloxy- (C 1-20 ) -alkylene radical ), ≪ / RTI > (D)가 하기 화학식(D) is represented by the following formula SiR4 SiR 4 (여기서, 라디칼 R은 동일하거나 상이하고 가수분해성기, 바람직하게는 C1-4-알콕시를 나타냄)의 화합물이고,(Wherein the radicals R are the same or different and represent a hydrolyzable group, preferably C 1-4 -alkoxy) (E)가 하기 화학식(E) is represented by the following formula AlR3 AlR 3 (여기서, 라디칼 R은 동일하거나 상이하고 가수분해성기, 바람직하게는 C1-6-알콕시, C1-6-알콕시 프로판올레이트기 또는 C1-6-알콕시 에탄올레이트기를 나타냄)의 화합물인 것을 특징으로 하는 조성물.(Wherein the radicals R are the same or different and represent a hydrolyzable group, preferably a C 1-6 -alkoxy, a C 1-6 -alkoxypropanolate group or a C 1-6 -alkoxyethanolate group) . 제1항 또는 2항에 있어서, (A)가 γ-글리시딜옥시프로필실란이고, (D)가 테트라에톡시실란이고 (E)가 Al(부톡시 에탄올레이트)3인 조성물.According to claim 1 or 2, wherein, (A) the γ- glycidyloxy propyl silane, and, (D) is tetraethoxysilane, and (E) an Al (butoxyethanol rate) to 3 or compositions. 규소 화합물 (A) 및 화합물 (D)를 먼저 혼합한 후The silicon compound (A) and the compound (D) are first mixed a) pH 2.5 내지 3.5인 물질 (B)의 졸의 전체 양의 10 내지 70 중량%의 1 회분을 첨가하고, 이어서a) a batch of 10 to 70% by weight of the total amount of the sol of the substance (B) having a pH of 2.5 to 3.5 is added, b) 화합물 (E)를 첨가하고, 이어서b) Compound (E) is added followed by c) 물질 (B)의 졸의 2 회분 및, 마지막으로c) two doses of the sol of the substance (B), and finally d) 산화세륨 (C) 및d) cerium oxide (C) and e) 임의의 유동제 및 불활성 용매e) any flow agent and inert solvent 를 첨가하는, 제1 내지 3항 중 어느 한 항에 따른 조성물을 제조하는 방법.≪ / RTI > is added to the composition. 단계 a)에서의 첨가를 25℃ 초과 온도에서 수행하고, 단계 b) 및 단계 c)에서의 첨가를 0 ±2℃에서 수행하는, 제1 내지 3항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 제조 방법.The process according to any one of claims 1 to 3, wherein the addition in step a) is carried out at a temperature above 25 ° C and the addition in step b) and step c) is carried out at 0 ± 2 ° C. 임의의 종류, 바람직하게는 열가소성 물질, 특히 바람직하게는 폴리카보네이트의 기판 물질의 코팅에 있어 제1 내지 5항 중 어느 한 항에 따른 조성물의 용도.Use of a composition according to any one of claims 1 to 5 in the coating of a substrate material of any kind, preferably a thermoplastic, particularly preferably a polycarbonate. 제6항에 있어서, 유동학적 특성을 조정하기 위해서 불활성 용매, 바람직하게는 C1-8-알콜 및(또는) 모노알킬 글리콜 에테르, 특히 n-부톡시에탄올을 임의로 포함하는 조성물을 기판 표면에 도포하고 (a) 바람직하게는 90 내지 180℃의 온도에서 열적 방법으로 경화시키거나 (b) 광개시제를 미리 첨가한 후에 광화학적으로 경화시키고, 임의로 열적 방법으로 후경화시킴을 특징으로 하는 용도.The composition of claim 6, wherein the composition optionally comprises an inert solvent, preferably a C 1-8 -alcohol and / or a monoalkyl glycol ether, especially n-butoxyethanol, to adjust the rheological properties, (A) thermally curing at a temperature of preferably 90 to 180 ° C, or (b) pre-curing the photoinitiator after the photoinitiator has been added in advance and optionally postcuring it in a thermal manner. 제1 내지 5항 중 어느 한 항에 따라 얻어진 조성물로 코팅된 제품.A product coated with the composition obtained according to any one of claims 1 to 5.
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