KR20010092073A - Verify read method for use in a nand-type flash memory device - Google Patents

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KR20010092073A
KR20010092073A KR1020000014003A KR20000014003A KR20010092073A KR 20010092073 A KR20010092073 A KR 20010092073A KR 1020000014003 A KR1020000014003 A KR 1020000014003A KR 20000014003 A KR20000014003 A KR 20000014003A KR 20010092073 A KR20010092073 A KR 20010092073A
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KR1020000014003A
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신덕준
권석천
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윤종용
삼성전자 주식회사
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    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16HGEARING
    • F16H1/00Toothed gearings for conveying rotary motion
    • F16H1/02Toothed gearings for conveying rotary motion without gears having orbital motion
    • F16H1/04Toothed gearings for conveying rotary motion without gears having orbital motion involving only two intermeshing members
    • F16H1/06Toothed gearings for conveying rotary motion without gears having orbital motion involving only two intermeshing members with parallel axes
    • F16H1/10Toothed gearings for conveying rotary motion without gears having orbital motion involving only two intermeshing members with parallel axes one of the members being internally toothed

Abstract

PURPOSE: A verify read method of a NAND type flash memory device is provided, which supports a 1K read verify operation without increasing a memory area. CONSTITUTION: The flash memory device includes a memory cell array(100), a row decoder circuit(120), the first page buffer circuit(140) and the second page buffer circuit(160). The memory cell array includes a plurality of bit lines, for example, 1K bit lines and redundant bit lines. The even-numbered bit lines(BLm, m=0,2,4,...,1023) among the above bit lines are connected electrically to the first page buffer circuit arranged on an upper part of the memory cell array, and the other bit lines(BLn, n=1,3,4,...,1022) are connected electrically to the second page buffer circuit arranged on a lower part of the memory cell array. String corresponding to each bit line includes a string select transistor(SST), a plurality of floating gate memory cell transistors(M0-M15) and a ground select transistor(GST). A drain of the string select transistor is connected to a corresponding bit line, and its gate is connected to a string select line(SSL). The ground select transistor has a source connected to a common source line and a gate connected to the gate of the ground select line. Drain-source channels of the above memory cell transistors are connected serially between the source of the string select transistor and the drain of the ground select transistor, and their gates are connected to corresponding word lines(WL0-WL15) respectively. The string select line and the word lines and the ground select line are connected to the row decoder circuit electrically. The first and the second page buffer circuit include page buffers corresponding to each bit line.

Description

낸드형 플래시 메모리 장치의 검증 읽기 방법{VERIFY READ METHOD FOR USE IN A NAND-TYPE FLASH MEMORY DEVICE}VERIFY READ METHOD FOR USE IN A NAND-TYPE FLASH MEMORY DEVICE}

본 발명은 비휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 낸드형 플래시 메모리 장치 (NAND type flash memory device)의 읽기 검증 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a read verification method of a NAND type flash memory device.

전기적으로 소거 및 프로그램 가능한 비휘발성 반도체 메모리 중에서 낸드형플래시 메모리 장치의 셀 어레이 구조는 스트링을 선택하는 증가형 트랜지스터로서 스트링 선택 트랜지스터 (string select transistor)와 그라운드를 선택하는 그라운드 선택 트랜지스터 (ground select transistor) 사이에 직렬 연결된 복수 개의 플로팅 게이트 메모리 셀 트랜지스터들 스트링 단위로 구성된다. 각 스트링의 메모리 셀들은, 일반적으로, 16개의 플로팅 게이트 메모리 셀 트랜지스터들로 이루어져 있다. 스트링이 선택될 때, 스트링 선택 트랜지스터의 게이트와 그라운드 선택 트랜지스터의 게이트에는 전원 전압이 인가되고, 읽기 동작 동안 선택된 메모리 셀 트랜지스터에 연결된 워드 라인에는 0V의 그라운드 전압이 인가되며, 나머지 메모리 셀 트랜지스터들에 각각 연결된 워드 라인들에는 전원 전압이 인가된다.Among the electrically erasable and programmable nonvolatile semiconductor memories, the cell array structure of the NAND flash memory device is an incremental transistor for selecting a string, and a string select transistor and a ground select transistor for selecting ground. The plurality of floating gate memory cell transistors connected in series are configured in string units. Each string of memory cells is generally comprised of sixteen floating gate memory cell transistors. When the string is selected, a power supply voltage is applied to the gate of the string select transistor and the gate of the ground select transistor, and a ground voltage of 0 V is applied to the word line connected to the selected memory cell transistor during a read operation, and the remaining memory cell transistors are applied to the gate line of the string select transistor. A power supply voltage is applied to each of the connected word lines.

낸드형 플래시 메모리 장치의 읽기 동작은 페이지 단위로 수행되며, 선택된 블록에 배열되는 선택된 워드 라인의 메모리 셀들에 저장된 데이터는 낸드형 플래시 메모리 장치 내의 페이지 버퍼 회로에 의해서 판독되며, 그렇게 판독된 데이터는 페이지 버퍼 회로 내의 래치들에 각각 저장된 후 순차적으로 출력된다. 메모리 셀은, 일반적으로, 메모리 셀 트랜지스터의 부유 게이트 (floating gate)에 전자가 전기적으로 포획됨에 따라 높아진 문턱 전압 (increased threshold voltage)을 가지며, "프로그램된 셀" (programmed cell) 또는 "오프 셀" (OFF cell)이라 불린다. 이때, 오프 셀은 데이터 '0'을 저장한다고 정의한다. 이와 반대로, 전기적으로 공핍형 트랜지스터 (depletion type transistor)가 되어 문턱 전압이 음의 값을 갖는 메모리 셀은 "소거된 셀" (erased cell) 또는 "온 셀" (ON cell)이라 불린다. 이때, 온 셀은 데이터 '1'을 저장한다고 정의한다.The read operation of the NAND flash memory device is performed in units of pages, and the data stored in the memory cells of the selected word line arranged in the selected block is read by the page buffer circuit in the NAND flash memory device, and the read data is stored in pages. Each is stored in the latches in the buffer circuit and then sequentially output. Memory cells generally have an increased threshold voltage as electrons are electrically trapped in the floating gate of the memory cell transistor, and are a "programmed cell" or "off cell". It is called (OFF cell). At this time, the off cell is defined to store data '0'. In contrast, a memory cell that is an electrically depletion type transistor and has a negative threshold voltage is called an "erased cell" or an "on cell". At this time, the on-cell is defined to store the data '1'.

기본적으로 읽기 동작에서 선택된 스트링으로 감지 전류가 인가된다. 이때, 프로그램된 셀 즉, 오프 셀 트랜지스터는 비록 대응하는 워드 라인에 0V의 그라운드 전압을 인가하더라도 높은 문턱 전압을 갖기 때문에 턴 오프된다. 그 결과로서, 선택된 스트링에 대응하는 비트 라인은 플로팅 상태가 되며, 그 결과 비트 라인의 전압은 점차적으로 높아진다. 이와 반대로, 소거된 셀, 즉 온 셀 트랜지스터는 대응하는 워드 라인에 0V의 그라운드 전압이 인가될 때 음의 문턱 전압을 갖기 때문에 턴 온된다. 즉, 온 셀 트랜지스터의 드레인-소오스 채널이 형성되어, 대응하는 비트 라인으로 공급되는 전류가 공통 소오스 라인을 통해 방전된다. 그러므로, 온 셀 트랜지스터에 대응하는 비트 라인의 전압은 점차적으로 낮아진다.By default, sense current is applied to the selected string in a read operation. At this time, the programmed cell, that is, the off cell transistor, is turned off because it has a high threshold voltage even if a ground voltage of 0V is applied to the corresponding word line. As a result, the bit line corresponding to the selected string is in a floating state, with the result that the voltage of the bit line is gradually increased. In contrast, an erased cell, that is, an on cell transistor, is turned on because it has a negative threshold voltage when a ground voltage of 0V is applied to the corresponding word line. That is, the drain-source channel of the on cell transistor is formed so that the current supplied to the corresponding bit line is discharged through the common source line. Therefore, the voltage of the bit line corresponding to the on cell transistor is gradually lowered.

앞서 설명된 읽기 방법에 따라 페이지 단위로 데이터를 읽는 종래 기술의 동작 설명 및 문제점을 설명하면 다음과 같다. 메모리 밀도의 증가에 따른 셀 사이즈의 감소가 셀 전류 감소의 결과를 초래한다. 그러한 셀 전류의 감소는 낸드형 플래시 메모리 장치에서 셀 데이터를 판별하기 위해 셀 스트링 비트 라인에 공급되는 전류의 양이 감소되게 하며, 그 결과 오프 셀이 선택되는 경우 비트 라인의 전압을 오프 셀과 온 셀을 판별할 수 있는 전압까지 올리는 시간이 길어진다. 또한, 오프 셀과 온 셀을 판별할 수 있는 전류차가 작아짐에 따라 데이터 감지 동작 역시 어렵다.The operation description and problems of the prior art for reading data in page units according to the above-described reading method are as follows. The decrease in cell size with increasing memory density results in a decrease in cell current. Such a decrease in cell current causes the amount of current supplied to the cell string bit line to determine cell data in the NAND flash memory device to be reduced, resulting in the voltage on the bit line being turned off and on when the off cell is selected. The time to raise to the voltage which can distinguish a cell becomes long. In addition, as the current difference for discriminating between the off cell and the on cell is small, the data sensing operation is also difficult.

이를 개선하기 위한 기술로서, 비트 라인이 요구되는 전압 레벨로 충전되도록 미리 많은 양의 전류를 비트 라인에 공급한 후 미리 정해진 적은 양의 전류를 비트 라인으로 공급하는 것이다. 이러한 스킴에 따르면, 선택된 메모리 셀에 저장된 데이터에 비트 라인 상의 전압 레벨이 미약하게 변화될 때, 비트 라인과 감지 증폭기에 연결되는 데이터 라인 선 충전 레벨을 제어하는 수단을 통해 감지 증폭기의 입력이 되는 노드의 기생 용량 성분과 비트 라인의 기생 용량 성분이전기적으로 분리된다. 그 결과, 작은 비트 라인의 변화에 따라 감지 증폭기의 입력이 되는 노드가 큰 폭으로 변화되기 때문에, 데이터를 판독할 때 생기는 속도 손실을 개선할 수 있을 뿐만 아니라, 데이터를 판독할 때 소량의 전류가 공급되기 때문에 노이즈 면역성 (noise immunity)을 개선할 수 있다.As a technique to improve this, a large amount of current is supplied to the bit line in advance so that the bit line is charged to a required voltage level, and then a predetermined amount of current is supplied to the bit line. According to this scheme, when the voltage level on the bit line is slightly changed in the data stored in the selected memory cell, the node serving as the input of the sense amplifier through means for controlling the data line precharge level connected to the bit line and the sense amplifier. The parasitic capacitance component of and the parasitic capacitance component of the bit line are electrically separated. As a result, the node that becomes the input of the sense amplifier is changed greatly according to the change of the small bit line, so that not only can improve the speed loss caused when reading data, but also a small amount of current Since supplied, noise immunity can be improved.

낸드형 플래시 메모리 장치에서 페이지 단위의 메모리 셀들에 저장된 데이터가 한번에 읽혀지기 때문에, 앞서 설명된 읽기 스킴 (이하, 비트 라인 선 충전 읽기 방법-bit line pre-charged read method-이라 칭함)은 온 셀의 비트 라인이 선택된 경우 선 충전된 비트 라인 전압이 낮아질 때 오프 셀의 인접한 비트 라인들과 선택된 온 셀의 비트 라인 사이의 커플링 현상을 겪는다. 그러한 커플링 현상을 방지하기 위해서는 선택된 비트 라인에 인접한 비트 라인들은 그라운드 전압으로 차폐되어야 한다.Since the data stored in the memory units of the page unit are read at one time in the NAND flash memory device, the above-described read scheme (hereinafter, referred to as a bit line pre-charged read method) is used. When the bit line is selected, a coupling phenomenon between the adjacent bit lines of the off cell and the bit line of the selected on cell is experienced when the precharged bit line voltage is lowered. To prevent such coupling, the bit lines adjacent to the selected bit line must be shielded with ground voltage.

플래시 메모리 장치의 경우 프로그램 한 후 프로그램이 제대로 되었는지 여부를 판별하기 위한 검증 읽기 동작 (verify read operation)이 수행된다. 일반적으로, 플래시 메모리 장치는 프로그램의 용이성을 높이기 위해 2페이지 즉, 1K의 메모리 셀들을 한번에 프로그램하는 1K 프로그램을 지원한다. 이러한 경우, 16K-바이트를 하나의 블록으로 하는 종래 기술의 플래시 메모리 장치의 메모리 셀 구조에서는 1K 프로그램 후 1K 검증 읽기 동작을 수행하는 못하는 문제점이 생긴다. 종래기술에 따른 읽기 방식을 사용하여 그러한 문제를 해결하기 위해서는, 블록의 스트링 수가 2배로 증가되어야 한다. 이는 설계 스펙에 위배될 뿐만 아니라 칩의 면적도 커지는 역효과가 있다. 그러므로 선 충전 방식을 채택하여 이웃한 비트 라인들을 그라운드 차폐하는 종래 기술에 따르면, 선택된 비트 라인이 커플링되는 것을 방지하기 위해서 선택될 비트 라인들의 수를 절반으로 줄여야 하기 때문에, 1K 검증 읽기 동작이 불가능하다.In the case of a flash memory device, a verify read operation is performed to determine whether a program is properly performed after programming. In general, a flash memory device supports a 1K program for programming two pages, that is, 1K memory cells at a time, to increase program ease. In this case, in the memory cell structure of the flash memory device of the prior art having 16K-byte as one block, there is a problem that 1K verify read operation cannot be performed after 1K program. In order to solve such a problem using the read method according to the prior art, the number of strings in the block must be doubled. This not only violates design specifications, but also has the adverse effect of increasing chip area. Therefore, according to the conventional technique of adopting a precharge method to ground shield neighboring bit lines, the 1K verify read operation is not possible because the number of bit lines to be selected must be reduced by half to prevent the selected bit lines from being coupled. Do.

따라서 본 발명의 목적은 메모리 영역의 증가 없이 1K 읽기 검증 동작을 지원하는 낸드형 플래시 메모리 장치의 읽기 검증 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a read verification method of a NAND flash memory device supporting 1K read verification operation without increasing the memory area.

도 1은 본 발명에 따른 낸드형 플래시 메모리 장치를 보여주는 블록도;1 is a block diagram showing a NAND flash memory device according to the present invention;

도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 페이지 버퍼를 보여주는 회로도;2 is a circuit diagram showing a page buffer according to a preferred embodiment of the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 검증 읽기 동작을 설명하기 위한 타이밍도; 그리고3 is a timing diagram for explaining a verify read operation according to the present invention; And

도 4는 메모리 셀에 저장된 데이터에 따른 감지 노드의 전압 변화를 보여주는 도면이다.4 is a diagram illustrating a change in voltage of a sensing node according to data stored in a memory cell.

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 메모리 셀 어레이 120 : 행 디코더 회로100: memory cell array 120: row decoder circuit

140 : 제 1 페이지 버퍼 회로 160 : 제 2 페이지 버퍼 회로140: first page buffer circuit 160: second page buffer circuit

(구성)(Configuration)

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 특징에 의하면, 낸드형 플래시 메모리 장치는 행들을 따라 배열된 워드 라인들과 열들을 따라 배열된 비트 라인들의 교차 영역들에 배열된 메모리 셀들의 어레이와, 상기 워드 라인들에 연결된 행 디코디 회로와, 상기 비트 라인들 중 홀수번째 비트 라인들에 연결된 제 1 페이지 버퍼 회로와, 상기 비트 라인들 중 짝수번째 비트 라인들에 연결된 제 2 페이지 버퍼 회로를 포함하며, 낸드형 플래시 메모리 장치의 메모리 셀 어레이에 저장된 데이터는, 1K 검증 읽기 동작 동안, 상기 홀수번째 비트 라인들을 그라운드 전압으로 차폐한 후, 상기 짝수번째 비트 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이로부터 데이터를 읽는 단계 및; 상기 짝수번째 비트 라인들을 그라운드 전압으로 차폐한 후, 상기 홀수번째 비트 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이로부터 데이터를 읽는 단계를 통해 읽혀진다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, a NAND type flash memory device includes an array of memory cells arranged in cross regions of word lines arranged along rows and bit lines arranged along columns. A row decode circuit connected to the word lines, a first page buffer circuit connected to odd bit lines of the bit lines, and a second page buffer circuit connected to even bit lines of the bit lines; The data stored in the memory cell array of the NAND flash memory device may include data from the memory cell array through the even-numbered bit lines after shielding the odd-numbered bit lines with a ground voltage during a 1K verify read operation. Reading; After shielding the even-numbered bit lines with a ground voltage, the data is read by reading data from the memory cell array through the odd-numbered bit lines.

(작용)(Action)

이와 같은 방법에 의해서, 비트 라인 선 충전 읽기 방식을 이용하는 경우, 홀수번과 짝수번의 비트 라인들을 번갈아 그라운드 전압으로 차폐한 후 2번에 걸쳐 읽기 동작을 수행함으로써, 1K 바이트 검증 읽기 동작이 수행될 수 있다.In this manner, in the case of using the bit line precharge read method, the 1K byte verify read operation may be performed by shielding odd and even bit lines with ground voltage and performing two read operations. have.

(실시예)(Example)

이하 본 발명에 따른 실시예가 참조도면들에 의거하여 상세히 설명된다. 본 발명에 따른 검증 읽기 동작에 따르면, 16K-바이트 블록 구조에서 홀수번 (또는 짝수번)의 비트 라인들과 짝수번 (또는 홀수번)의 비트 라인들을 통해 2번의 읽기 동작이 수행된다. 즉, 첫 번째 읽기 동작 동안에는, 홀수번의 비트 라인들을 통해 읽기 동작을 수행하는 반면에 짝수번의 비트 라인들은 그라운드 전압으로 차폐된다. 그 다음에, 두 번째 읽기 동작 동안에는, 짝수번의 비트 라인들을 통해 읽기 동작을 수행하는 반면에 홀수번의 비트 라인들은 그라운드 전압으로 차폐된다. 이러한 방법에 의하면, 1K 프로그램이 수행된 후 1K 검증 읽기 동작이 수행될 수 있다.Embodiments according to the present invention are described in detail below on the basis of reference drawings. According to the verify read operation according to the present invention, two read operations are performed through odd (or even) bit lines and even (or odd) bit lines in a 16K-byte block structure. That is, during the first read operation, the read operation is performed through the odd bit lines while the even bit lines are shielded by the ground voltage. Then, during the second read operation, the odd bit lines are shielded with the ground voltage while the read operation is performed over the even bit lines. According to this method, the 1K verify read operation may be performed after the 1K program is performed.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 낸드형 플래시 메모리 장치를 개략적으로 보여주는 블록도이다. 플래시 메모리 장치는 메모리 셀 어레이 (100), 행 디코더 회로 (120), 제 1 페이지 버퍼 회로 (140) 그리고 제 2 페이지 버퍼 회로 (160)를 포함한다. 메모리 셀 어레이 (100)는 복수 개의 비트 라인들, 예를 들면, 1K 비트 라인들과 리던던트 비트 라인들을 포함한다. 상기 비트 라인들 중 짝수번째 비트 라인들 (BLm) (m=0, 2, 4, …, 1023)은 메모리 셀 어레이 (100)의 위쪽에 배열된 제 1 페이지 버퍼 회로 (140)에 전기적으로 연결되며, 나머지 비트 라인들 (BLn) (n=1, 3, 5, …, 1022)은 메모리 셀 어레이 (100)의 아래쪽에 배열된 제 2 페이지 버퍼 회로 (160)에 전기적으로 연결된다.1 is a block diagram schematically illustrating a NAND flash memory device according to a preferred embodiment of the present invention. The flash memory device includes a memory cell array 100, a row decoder circuit 120, a first page buffer circuit 140, and a second page buffer circuit 160. The memory cell array 100 includes a plurality of bit lines, for example, 1K bit lines and redundant bit lines. Even-numbered bit lines BLm (m = 0, 2, 4, ..., 1023) of the bit lines are electrically connected to the first page buffer circuit 140 arranged above the memory cell array 100. The remaining bit lines BLn (n = 1, 3, 5,..., 1022) are electrically connected to the second page buffer circuit 160 arranged under the memory cell array 100.

각 비트 라인에 대응하는 스트링은 스트링 선택 트랜지스터 (SST), 복수 개의 플로팅 게이트 메모리 셀 트랜지스터들 (M0-M15), 그리고 그라운드 선택 트랜지스터 (GST)를 포함한다. 스트링 선택 트랜지스터 (SST)의 드레인은 대응하는 비트 라인에 연결되고, 게이트는 스트링 선택 라인 (SSL)에 연결된다. 그라운드 선택 트랜지스터 (GST)는 공통 소오스 라인 (common source line)에 연결된 소오스 및, 그라운드 선택 라인 (GSL)에 연결된 게이트를 갖는다. 상기 메모리 셀 트랜지스터들 (M0-M15)의 드레인-소오스 채널들은 상기 스트링 선택 트랜지스터 (SST)의 소오스와 상기 그라운드 선택 트랜지스터 (GST)의 드레인 사이에 직렬로 연결되며, 게이트들은 대응하는 워드 라인들 (WL0-WL15)에 각각 연결된다. 스트링 선택 라인 (SSL), 워드 라인들 (WL0-WL15) 그리고 그라운드 선택 라인 (GSL)은 행 디코더 회로(120)에 전기적으로 연결된다. 제 1 및 제 2 페이지 버퍼 회로들 (140, 160)은 각 비트 라인에 대응하는 페이지 버퍼들을 포함하며, 상기 페이지 버퍼의 바람직한 실시예가 도 2에 도시되어 있다.The string corresponding to each bit line includes a string select transistor SST, a plurality of floating gate memory cell transistors M0-M15, and a ground select transistor GST. The drain of the string select transistor SST is connected to the corresponding bit line and the gate is connected to the string select line SSL. The ground select transistor GST has a source connected to a common source line and a gate connected to the ground select line GSL. Drain-source channels of the memory cell transistors M0-M15 are connected in series between a source of the string select transistor SST and a drain of the ground select transistor GST, and gates corresponding to the word lines ( WL0-WL15) respectively. The string select line SSL, the word lines WL0-WL15 and the ground select line GSL are electrically connected to the row decoder circuit 120. The first and second page buffer circuits 140, 160 include page buffers corresponding to each bit line, and a preferred embodiment of the page buffer is shown in FIG.

도 2를 참조하면, 공핍형 트랜지스터 (DM)는 대응하는 비트 라인 (BLi)에 연결된 일 전류 전극과 전원 전압에 연결된 게이트를 갖는다. NMOS 트랜지스터 (NM1)는 공핍형 트랜지스터 (DM)의 다른 전류 전극과 S0로 표기된 노드 사이에 연결된소오스-드레인 채널 및, 기준 전압 발생 회로 (미도시됨)로부터 제공되는 신호 또는 비트 라인 셧 오프 신호 (BLSHF)를 받아들이도록 연결된 게이트를 갖는다. PMOS 트랜지스터 (PM)는 전원 전압과 노드 (S0) 사이에 연결된 소오스-드레인 채널과 선충전 제어 회로 (미도시됨)로부터 제공되는 신호 또는 선충전 제어 신호 (PRE)를 받아들이도록 연결된 게이트를 갖는다. 신호 또는 방전 제어 신호 (DCB)가 인가되는 게이트를 갖는 NMOS 트랜지스터 (NM2)는 노드 (S0)와 접지 전압 사이에 연결된 소오스-드레인 채널을 갖는다. 소오스-드레인 채널이 노드 (S0)와 N1로 표기된 래치 노드 사이에 연결된 NMOS 트랜지스터 (NM3)는 신호 (SBL)를 받아들이도록 연결된 게이트를 갖는다. NMOS 트랜지스터들 (NM4, NM5)의 소오스-드레인 채널들은 N2로 표기된 래치 노드와 그라운드 전압 사이에 직렬 연결되며, 게이트들은 노드 (S0)와 신호 또는 래치 제어 신호 (LATCH)에 각각 연결된다.Referring to FIG. 2, the depletion transistor DM has one current electrode connected to a corresponding bit line BLi and a gate connected to a power supply voltage. The NMOS transistor NM1 is a source-drain channel connected between another current electrode of the depletion transistor DM and a node labeled S0 and a signal or bit line shut off signal provided from a reference voltage generator circuit (not shown). Has a gate connected to accept BLSHF). The PMOS transistor PM has a source-drain channel connected between the power supply voltage and the node SO and a gate connected to receive a signal or precharge control signal PRE provided from a precharge control circuit (not shown). NMOS transistor NM2 having a gate to which a signal or discharge control signal DCB is applied has a source-drain channel connected between node SO and ground voltage. NMOS transistor NM3 having a source-drain channel connected between node S0 and a latch node labeled N1 has a gate connected to receive signal SBL. The source-drain channels of the NMOS transistors NM4 and NM5 are connected in series between the latch node labeled N2 and the ground voltage, and the gates are connected to the node SO and the signal or latch control signal LATCH, respectively.

도 3은 본 발명에 따른 검증 읽기 동작을 설명하기 위한 타이밍도이고, 도 4는 메모리 셀에 저장된 데이터에 따른 감지 노드 (S0)의 전압 레벨을 보여주는 도면이다. 이하, 본 발명에 따른 검증 읽기 동작이 참조도면들에 의거하여 상세히 설명된다.3 is a timing diagram illustrating a verify read operation according to the present invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating a voltage level of the sensing node S0 according to data stored in a memory cell. Hereinafter, the verify read operation according to the present invention will be described in detail based on the reference drawings.

본 발명에 따른 검증 읽기 동작에 따르면, 먼저, 짝수번째 비트 라인들이 제 1 페이지 버퍼 회로 (140)를 통해 그라운드 전압으로 차폐되고, 홀수번째 비트 라인들에 대응하는 메모리 셀들에 저장된 데이터가 제 2 페이지 버퍼 회로 (160)를 통해 감지된다. 즉, 512 바이트 (리던던트 셀들을 포함하는 경우, 528 바이트)가 커플링 (coupling) 없이 읽혀진다. 그 다음에, 홀수번째 비트 라인들이 제 2 페이지 버퍼 회로 (160)를 통해 그라운드 전압으로 차폐되고, 짝수번째 비트 라인들에 대응하는 메모리 셀들에 저장된 데이터가 제 1 페이지 버퍼 회로 (140)를 통해 감지된다. 즉, 512 바이트 (리던던트 셀들을 포함하는 경우, 528 바이트)가 커플링 (coupling) 없이 읽혀진다. 그러므로, 비트 라인 선 충전 읽기 방식을 이용하는 경우, 홀수번과 짝수번의 비트 라인들을 번갈아 그라운드 전압으로 차폐한 후 2번에 걸쳐 읽기 동작을 수행함으로써, 1K 바이트 검증 읽기 동작이 수행될 수 있다.According to the verify read operation according to the present invention, first, even-numbered bit lines are shielded with a ground voltage through the first page buffer circuit 140, and data stored in memory cells corresponding to odd-numbered bit lines is stored in a second page. It is sensed through the buffer circuit 160. That is, 512 bytes (528 bytes, if including redundant cells) are read without coupling. The odd-numbered bit lines are then shielded with ground voltage through the second page buffer circuit 160 and data stored in memory cells corresponding to the even-numbered bit lines is sensed through the first page buffer circuit 140. do. That is, 512 bytes (528 bytes, if including redundant cells) are read without coupling. Therefore, in the case of using the bit line precharge read method, the 1K byte verify read operation may be performed by shielding odd and even bit lines with ground voltage and performing a read operation twice.

좀 더 구체적으로 설명하면, 먼저, 홀수번째 비트 라인들에 관련된 읽기 동작이 수행되기 이전에, 시간 (t1) 동안에, 신호들 (DCB, SBL)의 로우-하이 천이에 따라 각 비트 라인이 그라운드 전압으로 방전됨과 동시에 각 래치 (도 2에서, 인버터들-L1, L2-로 구성됨)가 리세트된다. 그 다음, 신호 (PRE)의 하이-로우 천이에 따라, 시간 (t2) 동안에, 비트 라인이 PMOS 트랜지스터 (PM)로부터의 전류에 의해서 충전된다. 비트 라인이 요구되는 레벨로 충전된 후, 시간 (t3) 동안에, 신호 (PRE)는 그라운드 전압과 전원 전압 사이의 임의의 레벨로 올라가며, 그 결과 선충전시 공급되는 전류보다 적은 양의 전류가 PMOS 트랜지스터로부터 노드 (S0)로 공급된다. 소정 시간이 경과한 후, 시간 (t4) 동안에, 신호 (LATCH)가 로우 레벨에서 하이 레벨로 천이할 때, 노드 (S0)의 레벨에 따라 래치의 상태가 변화될 것이다. 즉, 선택된 메모리 셀에 저장된 데이터가 래치된다. 이때, 짝수번째 비트 라인들은 대응하는 페이지 버퍼 회로에 의해서 그라운드 전압으로 차폐된다. 마찬가지로, 짝수번째 비트 라인들에 관련된 읽기 동작 역시 홀수번째 비트 라인들에 관련된 읽기 동작과 동일하며, 설명의 중복을 피하기 위해서, 그것에 대한 설명은 생략된다. 이때, 홀수번째 비트 라인들은 대응하는 페이지 버퍼 회로에 의해서 그라운드 전압으로 차폐된다.More specifically, first, during the time t1, each bit line is grounded according to the low-high transition of the signals DCB and SBL before the read operation related to the odd bit lines is performed. At the same time, each latch (in Fig. 2, consisting of inverters L1 and L2-) is reset. Then, according to the high-low transition of the signal PRE, during the time t2, the bit line is charged by the current from the PMOS transistor PM. After the bit line is charged to the required level, for a time t3, the signal PRE rises to an arbitrary level between the ground voltage and the supply voltage, so that less current is supplied than the current supplied during precharging the PMOS transistor. Is supplied to node S0. After the predetermined time has elapsed, during the time t4, when the signal LATCH transitions from the low level to the high level, the state of the latch will change according to the level of the node SO. That is, data stored in the selected memory cell is latched. At this time, the even-numbered bit lines are shielded with the ground voltage by the corresponding page buffer circuit. Similarly, the read operation related to the even bit lines is also the same as the read operation related to the odd bit lines, and the description thereof is omitted to avoid duplication of description. At this time, the odd-numbered bit lines are shielded by the ground voltage by the corresponding page buffer circuit.

상기한 바와 같이, 비트 라인 선 충전 읽기 방식을 이용하는 경우, 홀수번과 짝수번의 비트 라인들을 번갈아 그라운드 전압으로 차폐한 후 2번에 걸쳐 읽기 동작을 수행함으로써, 1K 바이트 검증 읽기 동작이 수행될 수 있다.As described above, in the case of using the bit line precharge read method, a 1K byte verify read operation may be performed by shielding odd-numbered and even-numbered bit lines with ground voltage and performing a read operation twice. .

Claims (2)

행들을 따라 배열된 워드 라인들과 열들을 따라 배열된 비트 라인들의 교차 영역들에 배열된 메모리 셀들의 어레이와, 상기 워드 라인들에 연결된 행 디코디 회로와, 상기 비트 라인들 중 홀수번째 비트 라인들에 연결된 제 1 페이지 버퍼 회로와, 상기 비트 라인들 중 짝수번째 비트 라인들에 연결된 제 2 페이지 버퍼 회로를 포함하는 낸드형 플래시 메모리 장치의 검증 읽기 방법에 있어서:An array of memory cells arranged in intersection regions of word lines arranged along rows and bit lines arranged along columns, a row decode circuit connected to the word lines, and an odd bit line of the bit lines 1. A method of verify reading of a NAND type flash memory device comprising: a first page buffer circuit coupled to a second page buffer circuit; and a second page buffer circuit coupled to even bit lines of the bit lines. 상기 홀수번째 비트 라인들을 그라운드 전압으로 차폐한 후, 상기 짝수번째 비트 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이로부터 데이터를 읽는 단계 및;After shielding the odd bit lines with a ground voltage, reading data from the memory cell array through the even bit lines; 상기 짝수번째 비트 라인들을 그라운드 전압으로 차폐한 후, 상기 홀수번째 비트 라인들을 통해 상기 메모리 셀 어레이로부터 데이터를 읽는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 검증 읽기 방법.Reading the data from the memory cell array through the odd bit lines after shielding the even bit lines with a ground voltage. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비트 라인들은 1K인 것을 특징으로 하는 검증 읽기 방법.And the bit lines are 1K.
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