KR20010040194A - Process for preparing aluminum and/or magnesium with improved corrosion resistance after deoxidizing without using chromium compounds - Google Patents

Process for preparing aluminum and/or magnesium with improved corrosion resistance after deoxidizing without using chromium compounds Download PDF

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KR20010040194A
KR20010040194A KR1020000063474A KR20000063474A KR20010040194A KR 20010040194 A KR20010040194 A KR 20010040194A KR 1020000063474 A KR1020000063474 A KR 1020000063474A KR 20000063474 A KR20000063474 A KR 20000063474A KR 20010040194 A KR20010040194 A KR 20010040194A
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칼슨로렌스알.
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사또미 유따까
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Abstract

PURPOSE: A method for forming a base metal of a chromate coated film on the surface of aluminum or magnesium by using a treating solution not containing hexavalent chromium or ferricyanide. CONSTITUTION: The surface of metal is brought into contact with a solution for desmutting/removing an oxide film and then rinsed with rinse containing at least one chelating agent. As the solution for desmutting/removing the oxide film, a strong acid solution containing, as indispensable components, nitric acid and Fe¬3+ ion and further containing one kind or more selected from anions including molybdic acid ion, persulfuric acid ion and fluorine, sulfuric acid and a surfactant is used. The chelating agent can be selected from gluconic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, EDTA and NTA.

Description

크롬 화합물을 사용하지 않는 탈산화막 처리후에 우수한 내식성을 나타내는, 알루미늄 및/또는 마그네슘의 처리방법{PROCESS FOR PREPARING ALUMINUM AND/OR MAGNESIUM WITH IMPROVED CORROSION RESISTANCE AFTER DEOXIDIZING WITHOUT USING CHROMIUM COMPOUNDS}PROCESS FOR PREPARING ALUMINUM AND / OR MAGNESIUM WITH IMPROVED CORROSION RESISTANCE AFTER DEOXIDIZING WITHOUT USING CHROMIUM COMPOUNDS}

본 발명은 처리 프로세스의 탈산화막 공정과 화성처리 공정과의 사이에 물에 킬레이트제를 첨가한 세척액으로써 세척함으로써 알루미늄 및/또는 마그네슘의 내식성을 높이는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of improving the corrosion resistance of aluminum and / or magnesium by washing with a washing liquid in which a chelating agent is added to water between the deoxidation film process and the chemical conversion process of the treatment process.

알루미늄 및 마그네슘 물체는 알루미늄 혹은 마그네슘이 적어도 각각 51 중량%인 표면을 가진 모든 물체를 뜻하는 것으로 이해하여야 하는 것인데, 항공우주 산업에서는, (가) 알루미늄 또는 마그네슘을 상당한 농도의 6가 크롬, 페리시안 이온, 및/또는 플루오르화 수소산을 함유하는 수용액 조성물과 접촉시켜 탈산화막 처리하는 공정, (나) 물로 세척(rinse)하는 공정, 및 (다) 세척된 표면위에 크로메이트 전환 코우팅을 형성한 후에 도장처리 등을 하여 알루미늄 표면을 유기 바인더 함유 코우팅으로 하는 공정순서에 의하여 전통적으로 달성해 오던 내식성을 필요로 하고 있다. 종래의 탈산화막 처리용 조성물의 6가 크롬 및 페리시안화물 성분은 환경적으로 문제가 많다. 황산 및/또는 질산과 제2철 이온을 함유하는 탈산화막 처리용 조성물도 알려져 있으며 환경적으로 훨씬 문제는 없으나, 이제까지는 이들 탈산화제로써 처리된 알루미늄 및 마그네슘 기재에서는 항공우주 분야에 적당한 것으로 생각되는 내식성을 달성하지 못하고 있다.Aluminum and magnesium objects are to be understood as meaning any object having a surface of at least 51% by weight of aluminum or magnesium. In the aerospace industry, (a) aluminum or magnesium is contained in significant concentrations of hexavalent chromium, ferricane Deoxidation treatment by contact with an aqueous solution composition containing ions and / or hydrofluoric acid, (b) rinsing with water, and (c) coating after forming a chromate conversion coating on the washed surface. There is a need for corrosion resistance, which has traditionally been achieved by a process sequence in which an aluminum surface is coated with an organic binder by treatment or the like. The hexavalent chromium and ferricyanide components of the conventional deoxidation film treatment compositions have many environmental problems. Compositions for the treatment of deoxidized films containing sulfuric acid and / or nitric acid and ferric ions are also known and have no environmental problems, but so far, aluminum and magnesium substrates treated with these deoxidants are considered suitable for aerospace applications. Corrosion resistance is not achieved.

이하, 본 발명을 알루미늄만의 용도에 대해 설명하는데, 그 이유는 본 발명은 알루미늄이 주적용 대상이기는 하지만 마그네슘에도 준용할 수 있기 때문이다. 따라서, 본 발명의 한가지 과제는 상당량의 크롬을 사용하지 않고 기재를 탈산화막 처리하는 단계와, 탈산화막 처리된 기재를 세척하는 단계와, 탈산화막 처리되고 세척된 기재를 이와 순간적으로 반응하는 적당한 수용액 조성물과 접촉시켜 탈산화막 처리되고 세척된 기재위에 크롬 함유 전환 코우팅을 형성하는 단계를 포함하는 방법으로 알루미늄 기재에 우수한 내식성을 부여하는 것이다.Hereinafter, the present invention will be described for the use of aluminum only, because the present invention can be applied mutatis mutandis to magnesium although aluminum is the main application. Accordingly, one object of the present invention is to provide a suitable aqueous solution to deoxidize the substrate without using a significant amount of chromium, to clean the deoxidized substrate, and to react the deoxidized and washed substrate instantaneously with it. Contacting the composition to form a chromium-containing conversion coating on the deoxidized and washed substrate to impart good corrosion resistance to the aluminum substrate.

다른 과제는 이러한 방법에 적합한 처리 조성물을 제공하는 것이다.Another task is to provide a treatment composition suitable for this method.

기타의 과제는 아래의 설명으로부터 명백히 알 수 있게 된다.Other challenges will be apparent from the description below.

특허청구의 범위 및 실시예의 경우를 제외하고는, 혹은 별달리 명시하지 않는 한, 본 발명의 명세서에서 재료의 양 혹은 반응조건 및 용도를 나타내기 위하여 사용되는 모든 수량은 본 발명의 가장 넓은 범위를 기재함에 있어서 "약"이란 용어로 기재되는 것으로 이해해야 한다. 그러나, 기재된 수치한정 범위내에서의 실시가 일반적으로 바람직하다. 또한, 명세서에서 별달리 명시하지 않는 한, 퍼센트, "부" 및 비의 값들은 중량 혹은 질량기준이고, "폴리머"란 용어는 "올리고머(oligomer)", "공중합체", "터폴리머(terpolymer)" 등을 포함하며, 본 발명과 관련하여 주어진 목적에 적당하거나 바람직한 일군 혹은 한부류의 재료는 해당 군 혹은 부류에서의 각 요소를 2종 이상을 혼합한 혼합물이 동등하게 적당하거나 바람직한 것을 의미한다. 또한, 화학용어상의 각 성분의 기재는, 1종 이상의 새로 첨가된 성분과, 기타 성분들이 첨가될 때에 조성물중에 이미 존재하고 있는 1종 이상의 성분과의 사이에서 명세서에 기재된 화학반응에 의하여 조성물내에서 그대로 발생할 때 혹은 명세서의 기재에서 특정된 조합에 부가될 때의 각 성분을 의미하며, 일단 혼합된 혼합물중의 각 성분사이의 불특정의 화학작용을 반드시 배제하지 않는다. 이온형태의 재료는 조성물 전체에 대하여, 그리고 조성물에 첨가된 물질에 대하여 전기적인 중성을 나타낼 정도의 충분한 반대 이온(counter ion)이 존재함을 의미하고, 이온의 농도로 나타낸 농도는 어떠한 특정 조성물중에 존재하는 실질적인 정도의 이온화, 응집 등과는 관계없이 조성물에 첨가된 물질중에 함유되는 완전한 화학당량의 특정 이온을 포함하는 것으로 이해해야 한다. 암시적으로 특정된 이온은 될 수 있는 한, 이온형태로 명시된 기타 성분들중에서 선택하는 것이 바람직하다. 혹은 이들 반대이온을 본 발명의 목적에 역으로 작용하는 반대이온을 피하는 경우외에는 임의로 선택해도 좋다. "몰(mole)"이란 용어는 "그람 몰"을 의미하는데, 화학종(chemical species)이 이온인가, 불안정한가, 가정적인가, 혹은 실제로 확정된 분자를 가진 안정한 중성의 물질인가 와는 관계없이 이 용어 자체와 그 모든 문법적인 변형을 존재하는 모든 종류와 수의 원자로 정의된 화학종에 대해 사용할 수 있다. 그리고 "용액", "가용성", "균일상(homogeneous phase)" 등의 용어는 진정한 평형 용액 혹은 균일용액을 포함할 뿐만 아니라, 적어도 100 시간 혹은 바람직하게는 적어도 1000 시간동안에 재료를 기계적으로 혼란을 주지않고 18 ∼ 25℃의 범위내의 농도에서 유지하면서 관찰하였을 경우의 육안으로 검출가능한 상분리 경향을 전혀 나타내지 않는 분산물도 포함하는 것으로 이해해야 한다.Except in the claims and the examples, or unless otherwise indicated, all quantities used to indicate the quantity or reaction conditions and uses of materials in the specification of the invention describe the broadest scope of the invention. It is to be understood that the term "about" is used in the description. However, implementation within the numerical limits described is generally preferred. Also, unless stated otherwise in the specification, the values of percentage, "part" and ratio are by weight or mass, and the term "polymer" is "oligomer", "copolymer", "terpolymer" And a group or a class of materials suitable or preferred for a given purpose in connection with the present invention means that a mixture of two or more of the elements in the group or class is equally suitable or preferred. In addition, the description of each component in the chemical terminology is described in the composition by the chemical reaction described in the specification between one or more newly added components and one or more components already present in the composition when the other components are added. It means each component as it occurs as it is or added to the combination specified in the description of the specification, and does not necessarily exclude unspecified chemical action between each component in the mixture once mixed. Ionic material means that there are enough counter ions present in the composition and sufficient to exhibit electrical neutrality with respect to the material added to the composition, the concentration of which is expressed as the concentration of ions in any particular composition It is to be understood that it contains a complete chemical equivalent of a particular ion contained in the material added to the composition, regardless of the substantial degree of ionization, aggregation, etc. present. Implicitly specified ions are preferably selected from among other components specified in ionic form, as far as possible. Or you may select these counterions arbitrarily except the case where the counterion which acts against the objective of this invention is avoided. The term "mole" means "gram mol", regardless of whether the chemical species is an ion, unstable, hypothetical, or actually a stable neutral substance with a fixed molecule. And all its grammatical variations can be used for any species defined by any kind and number of atoms present. And the terms "solution", "soluble", "homogeneous phase", etc. not only include a true equilibrium solution or a homogeneous solution, but also mechanically disrupt the material for at least 100 hours or preferably at least 1000 hours. It is to be understood that it also includes dispersions which do not exhibit any visually detectable phase separation tendency when observed and maintained at a concentration within the range of 18 to 25 ° C.

상기한 바와 같이 처리된 알루미늄의 내식성은, 공정중에서의 탈산화막 처리와 전환 코우팅 형성단계 사이에서 물 이외에 킬레이트제의 성분을 함유한 세척액을 사용함으로써 상당히 증가시킬 수 있음을 발견하였다.It has been found that the corrosion resistance of aluminum treated as described above can be significantly increased by using a wash solution containing a component of a chelating agent in addition to water between the in-process deoxidation treatment and the conversion coating forming step.

본 발명에 의하여 처리되는 알루미늄 기재를 탈산화막 처리할 수 있는 방법이면 어떠한 방법이라도 사용할 수 있는데, 단, 그 방법은 본 발명의 환경적인 과제를 달성하기 위해서 크롬을 거의 사용하지 않아야 한다. 따라서, 본 발명에 의한 방법은 아래에 나오는 미합중국 특허들중에서 교시하는 탈산화막 처리단계를 포함하는데, 본 명세서에서 명백히 기재한 것과 일치하지 않아도 좋은 정도를 제외하고는 미합중국 특허들 모두, 즉 제5,393,447호 (1995. 2. 28), 제5,227,016호 (1993. 7. 13), 제5,052,421호 (1991. 10. 1), 제4,886,616호 (1989. 12. 12), 및 제3,728,188호 (1973. 8. 17)에 개시된 내용을 본 발명에서 인용자료로서 원용하고 있다.Any method can be used as long as the aluminum substrate treated by the present invention can be subjected to a deoxidation film treatment. However, the method should hardly use chromium in order to achieve the environmental problem of the present invention. Accordingly, the method according to the present invention comprises a deoxidation film treatment step taught from the following US patents, all of which are US patents, ie 5,393,447 except to the extent that they do not have to be consistent with those explicitly set forth herein. (28 February 1995), 5,227,016 (July 13, 1993), 5,052,421 (October 1, 1991), 4,886,616 (12.12 December 1989), and 3,728,188 (8 August 1973) 17 is incorporated herein by reference in the present invention.

바람직하게는 본 발명에 의한 방법에서의 탈산화막 처리단계는, 아래의 것들을 함유하여서 된 액상의 탈산화막 처리 조성물을 피처리 기재와 접촉시킴으로써 달성된다.Preferably, the deoxidation film treatment step in the method according to the present invention is achieved by contacting a liquid deoxidized film treatment composition containing the following with a substrate to be treated.

물 및;Water and;

(A1) 질산;(A 1 ) nitric acid;

(B1) 제2철 이온; 및 선택적으로 아래의 성분들중의 1종 이상:(B 1 ) ferric ions; And optionally one or more of the following ingredients:

(C1) 몰리브덴산염 및/또는 축합 몰리브덴산 음이온,(C 1 ) molybdate and / or condensed molybdate anion,

(D1) 과황산 (즉, S2O8 -2, 소위 "퍼옥시디술페이트") 음이온,(D 1 ) persulfate (ie S 2 O 8 -2 , so-called “peroxydisulfate”) anions,

(E1) 플루오르 함유 음이온,(E 1 ) fluorine-containing anions,

(F1) 황산 및/또는 황산 이온,(F 1 ) sulfuric acid and / or sulfate ions,

(G1) 계면 활성제, 및(G 1 ) surfactant, and

(H1) 염료 혹은 기타 착색제.(H 1 ) Dyes or other colorants.

여러가지 이유로 해서 이들 탈산화막 처리 조성물은 종래의 마찬가지 목적으로 조성물에 사용된 많은 성분들을 실질적으로 함유하지 않아야 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는 아래에 나온 각각의 바람직하게 최소화된 성분에 대해서는 독립하여, 본 발명의 방법으로 금속과 직접 접촉시킬 경우, 이들 성분은 아래의 각 성분, 즉 6가 크롬, 실리카, 실리콘 1 원자당 적어도 4개의 플루오르 원자를 함유하지 않는 실리케이트, 페리시아나이드, 페로시아나이드, 티오우레아, 피라졸 화합물, 당질, 글루콘산 및 그 염, 글리세린, α-글루코헵탄산 및 그 염, 및 미오이노시톨포스페이트 에스테르 및 이들의 염을 바람직하게는 증가하는 순서로 1.0, 0.35, 0.10, 0.08, 0.04, 0.02, 0.01, 0.001 혹은 0.0002 퍼센트 이하 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 제1철 이온의 함량은 제2철 이온의 함량에 대하여 5% 이하, 보다 바람직하게는 3% 이하, 더 한층 바람직하게는 1.1% 이하인 것이 바람직하다.For various reasons, it is desirable that these deoxidation film treatment compositions be substantially free of many of the components used in the composition for similar purposes in the prior art. Specifically, independently of each of the preferably minimized components listed below, when directly contacted with a metal by the method of the present invention, these components are at least per component of each of the following components: hexavalent chromium, silica, silicon Silicates, ferricyanides, ferrocyanides, thioureas, pyrazole compounds, saccharides, gluconic acid and salts thereof, glycerin, α-glucoheptanoic acid and salts thereof, and myoinositol phosphate esters, containing no four fluorine atoms and Preferably, these salts contain 1.0, 0.35, 0.10, 0.08, 0.04, 0.02, 0.01, 0.001 or 0.0002 percent or less in increasing order. In addition, the content of ferrous ions is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, still more preferably 1.1% or less relative to the content of ferric ion.

본 발명에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물에 있어서 질산 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 총 조성물 1 리터당의 몰로서 10, 9, 8, 7.4, 6.8, 6.4, 6.2, 6.1, 6.0, 5.9, 5.7, 5.5, 5.3, 5.1, 4.9, 4.7, 4.5, 4.3, 4.1 또는 3.9 이하인데 (이하, 통상적으로 "1 리터당의 몰"을 간단히 "mole(s)/l"라 함), 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.5, 1.0, 1.5, 2.0, 2.5, 3.0, 3.3, 3.5 또는 3.7 mole(s)/l이다.In the deoxidation film treatment composition used in the present invention, the nitric acid concentration is preferably 10, 9, 8, 7.4, 6.8, 6.4, 6.2, 6.1, 6.0, 5.9, 5.7, as moles per liter of the total composition in increasing order. No more than 5.5, 5.3, 5.1, 4.9, 4.7, 4.5, 4.3, 4.1 or 3.9 (hereinafter commonly referred to as "mole (s) / l", commonly referred to as "moles per liter"), independently increasing preferably At least 0.5, 1.0, 1.5, 2.0, 2.5, 3.0, 3.3, 3.5 or 3.7 mole (s) / l.

제2철 이온에 대해서는 본 발명에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물은, 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.009, 0.02, 0.035, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08 또는 0.09 mole/l이고, 고도의 제거율을 필요로 할 경우에는 보다 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.11, 0.13, 0.14, 0.15, 0.17 또는 0.19 mole(s)/l이며, 독립하여 이 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 1.0, 0.70, 0.62, 0.58, 0.50, 0.45, 0.37 또는 0.30 mole/l 이하이며, 최대의 경제성을 고려해서는 보다 바람직하게는 증가하는 순서로 0.27, 0.25, 0.23, 또는 0.21 mole/l 이하이다. 독립하여, 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에서의 질산농도 [mole(s)/l]에 대한 제2철 이온의 농도 [mole(s)/l]의 비는, 바람직하게는 증가하는 순서로 0.05:1.0, 0.010:1.0, 0.015:1.0, 0.020:1.0, 0.025:1.0, 0.030:1.0, 0.035:1.0, 0.040:1.0, 0.045:1.0, 0.048:1.0, 0.050:1.0 또는 0.052:1.0 이상이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 0.40:1.0, 0.30:1.0, 0.20:1.0, 0.10:1.0, 0.090:1.0, 0.070:1.0, 0.060:1.0, 0.055:1.0, 0.053:1.0, 0.055:1.0 또는 0.053:1.0 이하이다.As for ferric ions, the deoxidation film treatment composition used in the present invention is preferably at least 0.009, 0.02, 0.035, 0.05, 0.06, 0.07, 0.08 or 0.09 mole / l in increasing order, and requires a high removal rate. More preferably at least 0.11, 0.13, 0.14, 0.15, 0.17 or 0.19 mole (s) / l in increasing order, and independently these concentrations are preferably 1.0, 0.70, 0.62, It is 0.58, 0.50, 0.45, 0.37 or 0.30 mole / l or less, and considering maximum economy, More preferably, it is 0.27, 0.25, 0.23, or 0.21 mole / l or less in increasing order. Independently, the ratio of the concentration of ferric ion [mole (s) / l] to the nitric acid concentration [mole (s) / l] in the deoxidation film treatment composition used in the method of the present invention is preferably increased. 0.05: 1.0, 0.010: 1.0, 0.015: 1.0, 0.020: 1.0, 0.025: 1.0, 0.030: 1.0, 0.035: 1.0, 0.040: 1.0, 0.045: 1.0, 0.048: 1.0, 0.050: 1.0 or 0.052: 1.0 Above, independently, preferably in increasing order: 0.40: 1.0, 0.30: 1.0, 0.20: 1.0, 0.10: 1.0, 0.090: 1.0, 0.070: 1.0, 0.060: 1.0, 0.055: 1.0, 0.053: 1.0, 0.055: 1.0 or 0.053: 1.0 or less.

몰리브덴산 이온의 존재가 필요하지 않더라도, 일반적으로 바람직하다. 몰리브덴산염 혹은 축합 몰리브덴 음이온의 형태로 존재하는 이들 몰리브덴 원자만이 효과가 있는 것으로 믿어지고, 또한 이 성분의 일부로 생각할 수 있다 하더라도, 더욱이는 몰리브덴 양이온 등의 기타 형태의 몰리브덴이 조성물중에 존재할 경우에서도 몰리브덴산 이온의 응집도가 통상적으로 불확실하고, 또한 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에서의 몰리브덴산 이온의 양호한 작용에 영향을 미친다고는 생각되지 않기 때문에, 이들 이온의 농도를 몰리브덴 원자로서 그 화학량론적인 당량으로 나타낸다. 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물에 있어서 몰리브덴산 이온중에서의 이 몰리브덴 원자의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.00080, 0.0015, 0.0025, 0.0050, 0.0070, 0.0080, 0.0085, 0.0090 또는 0.0094 mole/l이고, 독립하여 바람직하게는 0.58, 0.41, 0.28, 0.20, 0.16, 0.12, 0.10 또는 0.094 mole/l 이하이며, 경제성을 고려해서 보다 바람직하게는 증가하는 순서로 0.080, 0.060, 0.040, 0.030, 0.025, 0.020, 0.0180, 0.0160, 0.0140, 0.0120, 0.0100 또는 0.0096 mole/l 이하이다. 독립하여, 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에서의 질산농도 [mole(s)/l]에 대한 몰리브덴산 이온중에서의 몰리브덴 원자의 농도 [mole(s)/l]의 비는, 바람직하게는 증가하는 순서로 0.00020:1.0, 0.00040:1.0, 0.00080:1.0, 0.0010:1.0, 0.0013:1.0, 0.0017:1.0, 0.0020:1.0, 0.0023:1.0 또는 0.0025:1.0 이상이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 0.030:1.0, 0.017:1.0, 0.0130:1.0, 0.0110:1.0, 0.0090:1.0, 0.0070:1.0, 0.0050:1.0, 0.0040:1.0, 0.0035:1.0, 0.0030:1.0 또는 0.0027:1.0 이하이다.Although the presence of molybdate ions is not required, they are generally preferred. Although only those molybdenum atoms present in the form of molybdates or condensed molybdenum anions are believed to be effective and may be considered part of this component, furthermore, even if other forms of molybdenum such as molybdenum cations are present in the composition Since the degree of aggregation of acid ions is usually uncertain and does not appear to affect the good action of molybdate ions in the deoxidation film treatment composition used in the method of the present invention, the concentration of these ions is determined as a molybdenum atom. Expressed in stoichiometric equivalents. In the deoxidation film treatment composition used in the method of the present invention, the concentration of these molybdenum atoms in the molybdate ion is preferably at least 0.00080, 0.0015, 0.0025, 0.0050, 0.0070, 0.0080, 0.0085, 0.0090 or 0.0094 mole in increasing order. / l, independently, preferably 0.58, 0.41, 0.28, 0.20, 0.16, 0.12, 0.10, or 0.094 mole / l or less, and more preferably 0.080, 0.060, 0.040, 0.030, 0.025, 0.020, 0.0180, 0.0160, 0.0140, 0.0120, 0.0100 or 0.0096 mole / l or less. Independently, the ratio of the concentration [mole (s) / l] of the molybdenum atom in the molybdate ion to the nitric acid concentration [mole (s) / l] in the deoxidized film treatment composition used in the method of the present invention is preferable. Preferably in an increasing order of at least 0.00020: 1.0, 0.00040: 1.0, 0.00080: 1.0, 0.0010: 1.0, 0.0013: 1.0, 0.0017: 1.0, 0.0020: 1.0, 0.0023: 1.0 or 0.0025: 1.0, independently increasing preferably 0.030: 1.0, 0.017: 1.0, 0.0130: 1.0, 0.0110: 1.0, 0.0090: 1.0, 0.0070: 1.0, 0.0050: 1.0, 0.0040: 1.0, 0.0035: 1.0, 0.0030: 1.0 or 0.0027: 1.0 or less.

상기한 바와 같이 임의의 선택 성분 (D1)인 과황산 이온의 존재는 본 발명의 조성물로써 극히 두꺼운 층의 얼룩이 제거될 때에만 바람직하고, 또한 본 발명의 조성물로써 처리되는 표면을, 철 쇼트(iron shot) 혹은 기타의 방법으로 쇼트 피이닝(shot peening)하여 작은 철입자들을 매립한 다음에, 철입자를 황화철로 전환할 수 있는 황화 나트륨, 트리에탄올 아민 및 알칼리를 함유한 보편적으로 사용되는 용액 등의 용액으로 엣칭했을 경우에도 바람직하다. 이러한 적용을 위하여 과황산염의 산화작용은, 과황산염을 생략한 기타 마찬가지의 조성물보다 훨씬 신속한 얼룩제거(desmutting) 및/또는 탈산화막 처리를 할 수 있도록 한다. 이들 특수한 적용을 위하여 본 발명의 방법에서 사용하는 탈산화막 처리 조성물중에서의 과황산염의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.020, 0.042, 0.051 또는 0.060 mole(s)/l이고, 독립하여 실제 작업용 조성물중에서의 이 농도는 바람직하게는 0.19, 0.16, 0.10, 0.091 또는 0.080 mole(s)/l 이하이다. 또한, 독립하여 과황산염을 함유하는 작업용 조성물에 있어서 몰리브덴산염의 농도 [mole(s)/l]에 대한 과황산염의 농도 [mole(s)/l]의 비는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 5:1.0, 10:1.0, 15:1.0, 20:1.0 또는 24:1.0이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 200:1.0, 150:1.0, 100:1.0, 80:1.0, 60:1.0, 55:1.0, 50:1.0, 45:1.0, 40:1.0, 35:1.0, 30:1.0 또는 26:1.0 이하이다.The presence of persulfate ions, which is optional component (D 1 ) as described above, is preferred only when the extremely thick layer of stains is removed with the composition of the present invention, and the surface treated with the composition of the present invention may be prepared by iron shot ( commonly used solutions containing sodium sulfide, triethanol amine and alkali, which can be shot peening by iron shot or other methods to bury small iron particles, and then convert the iron particles to iron sulfide, etc. It is also preferable when etching with the solution of. The oxidation of the persulfate for this application allows for much faster desmuting and / or deoxidation treatment than other similar compositions omitting the persulfate. The concentration of persulfate in the deoxidation film treatment composition used in the process of the invention for these particular applications is preferably at least 0.020, 0.042, 0.051 or 0.060 mole (s) / l in increasing order, independently for practical use. This concentration in the composition is preferably 0.19, 0.16, 0.10, 0.091 or 0.080 mole (s) / l or less. In addition, in an operation composition containing persulfate independently, the ratio of the concentration of the molybdate [mole (s) / l] to the concentration of the molybdate [mole (s) / l] is preferably at least in increasing order. 5: 1.0, 10: 1.0, 15: 1.0, 20: 1.0 or 24: 1.0 independently, preferably in increasing order of 200: 1.0, 150: 1.0, 100: 1.0, 80: 1.0, 60: 1.0, 55: 1.0, 50: 1.0, 45: 1.0, 40: 1.0, 35: 1.0, 30: 1.0 or 26: 1.0 or less.

한편, 제거되는 평균두께의 얼룩 및/또는 산화물만으로 피처리면이 피복되어 있고, 또한 이 얼룩 및/또는 산화물이 실질적으로 철 및/또는 황화철 개재물을 함유하지 않으면, 과황산염은 조성물중의 기타 여러가지 주요 성분보다 훨씬 비싸므로 경제성의 이유로 해서 본 발명의 조성물로부터 생략하는 것이 바람직하다.On the other hand, if the surface to be treated is covered only with the stain and / or oxide of the average thickness to be removed, and the stain and / or oxide does not substantially contain iron and / or iron sulfide inclusions, the persulfate may be various other major components in the composition. Since it is much more expensive than the components, it is preferable to omit it from the composition of the present invention for economic reasons.

플루오르화 성분 (E1)은 본 발명의 대부분의 탈산화막 처리 조성물에서 바람직하고, 또한 가용성 플루오르 이온 혹은 바이플루오르 이온으로 제공되는 것이 바람직한데, 보다 바람직하게는 후자의 경우이다. 이것은 탈산화막 처리 조성물중에서의 이온화 혹은 응집의 실제적인 정도와는 관계없이 존재하게 되는 플루오르화 수소산 혹은 플루오로금속산 착화합물 또는 이들의 이온과 같이 플루오르 이온으로서의 화학량론적인 당량으로 간주된다. 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에서의 플루오라이드로서의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.01, 0.028, 0.045, 0.055, 0.060, 0.065, 0.070, 0.074 또는 0.078 mole/l 이고, 최대속도의 탈얼룩 및/또는 탈산화막 처리 작용을 위해서는 보다 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.080, 0.85, 0.090, 0.095, 0.100 또는 0.103 mole/l 이며, 독립하여 작업용 조성물중에서의 이 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 1.0, 0.7, 0.4, 0.28, 0.24, 0.22, 0.20 또는 0.19 mole/l 이하이고, 경제성을 고려하여 보다 바람직하게는 0.120, 0.110 또는 0.105 mole/l이다. 이론에 구속되는 것은 아니지만, 플루오르 이온의 주기능은 처리된 표면의 엣칭을 약간 촉진하는 것이라 생각되므로, 알루미늄 보다 전기화학적으로 훨씬 비활성인 원소의 함량이 비교적 높은 2xxx 및 7xxx 시리즈의 알루미늄 합금 등의 합금을 처리할 경우에 있어서 이 플루오르 이온의 사용이 특히 바람직하다. 이들 합금을 처리할 경우에는 본 발명의 방법에서의 탈얼룩 및/또는 탈산화막 처리 단계에서 합금의 노출된 표면으로부터 1시간당 1.3 ×10-4내지 6.4 ×10-4cm의 깊이 범위에서의 엣칭속도가 바람직하다. 이러한 엣칭속도는 바람직한 량의 상기한 플루오르 이온에 의해 달성될 수 있겠으나, 그렇지 못할 경우에는 이러한 바람직한 속도를 얻기 위해서는 플루오르의 농도를 조정하는 것이 바람직하다. 종래에 보다 용이하게 탈얼룩되는 것으로 인식되고 있었던 기타 합금의 경우에서는 상기한 임의의 선택성분으로 기재된 바와 같이 플루오르 이온의 양을 감소시키거나 함께 생략해도 좋다.The fluorinated component (E 1 ) is preferred in most of the deoxidation film treatment compositions of the present invention and is preferably provided as soluble fluorine ions or bifluor ions, more preferably in the latter case. This is regarded as stoichiometric equivalents as fluorine ions, such as hydrofluoric acid or fluorometallic acid complexes or ions thereof that will exist regardless of the actual degree of ionization or aggregation in the deoxidation film treatment composition. The concentration as fluoride in the deoxidation film treatment composition used in the process of the invention is preferably at least 0.01, 0.028, 0.045, 0.055, 0.060, 0.065, 0.070, 0.074 or 0.078 mole / l, in increasing order, with a maximum rate For destaining and / or deoxidation treatment of, the concentration is more preferably at least 0.080, 0.85, 0.090, 0.095, 0.100 or 0.103 mole / l in increasing order, and independently this concentration in the working composition is preferably increased. It is 1.0, 0.7, 0.4, 0.28, 0.24, 0.22, 0.20 or 0.19 mole / l or less in order to carry out, More preferably, it is 0.120, 0.110 or 0.105 mole / l in consideration of economy. While not being bound by theory, it is believed that the main function of fluorine ions is to slightly promote etching of the treated surface, so alloys such as aluminum alloys of the 2xxx and 7xxx series, which have relatively higher content of elements that are much more electrochemically inert than aluminum. The use of this fluorine ion is particularly preferred when treating. When treating these alloys, the etch rate in the depth range of 1.3 × 10 −4 to 6.4 × 10 −4 cm per hour from the exposed surface of the alloy in the destaining and / or deoxidation film treatment step in the process of the invention Is preferred. This etch rate may be achieved by the preferred amount of fluorine ions described above, but otherwise it is desirable to adjust the concentration of fluorine to achieve this desired rate. In the case of other alloys which were conventionally recognized as being more easily destained, the amount of fluorine ions may be reduced or omitted together as described with any of the optional components described above.

임의의 선택성분 (F1)인 황산이온이 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에 존재하는 것이 일반적으로 바람직하다. 본 발명의 방법에서 사용되는 탈산화막 처리 조성물중에서 존재하는 어떠한 황산의 황산이온으로 환산한 화학량론적인 당량을 포함하여 황산이온의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.06, 0.10, 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.35, 0.41, 0.48, 0.53, 0.57 또는 0.59 mole/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 5, 2.5, 1.9, 1.6, 1.2, 0.92, 0.85, 0.78, 0.73, 0.68, 0.64, 0.62 또는 0.60 mole/l 이하이다. 일반적으로 성능에 불필요한 영향을 미치는 기타의 물질을 피하기 위해서는 본 발명에 의한 조성물중에서의 황산염의 함량을 황산 제2철 및/또는 황산으로부터만 얻는 것이 바람직하다. 또한, 독립하여 본 발명에 의한 작업용 조성물중에서의 질산의 몰농도에 대한 황산이온의 몰농도의 비는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.020:1.0, 0.030:1.0, 0.040:1.0, 0.050:1.0, 0.060:1.0, 0.070:1.0, 0.080:1.0, 0.090:1.0, 0.11:1.0, 0.13:1.0 또는 0.15:1.0이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 1.2:1.0, 1.0:1.0, 0.8:1.0, 0.60:1.0, 0.50:1.0, 0.40:1.0, 0.30:1.0, 0.25:1.0, 0.20:1.0, 0.18:1.0 또는 0.16:1.0 이하이다.It is generally preferred that sulfate ion, which is an optional ingredient (F 1 ), is present in the deoxidation film treatment composition used in the process of the invention. The concentration of sulfate ions, including stoichiometric equivalents of any sulfuric acid present in the deoxidation film treatment composition used in the process of the present invention, is preferably in increasing order of at least 0.06, 0.10, 0.15, 0.20, 0.25, 0.30, 0.35, 0.41, 0.48, 0.53, 0.57 or 0.59 mole / l, independently, preferably in increasing order of 5, 2.5, 1.9, 1.6, 1.2, 0.92, 0.85, 0.78, 0.73, 0.68, 0.64 , 0.62 or 0.60 mole / l or less. In general, it is desirable to obtain the content of sulphate in the composition according to the invention only from ferric sulfate and / or sulfuric acid in order to avoid other substances which have an unnecessary effect on performance. In addition, the ratio of the molar concentration of sulfate ion to the molar concentration of nitric acid in the working composition according to the present invention is preferably at least 0.020: 1.0, 0.030: 1.0, 0.040: 1.0, 0.050: 1.0, 0.060: 1.0, 0.070: 1.0, 0.080: 1.0, 0.090: 1.0, 0.11: 1.0, 0.13: 1.0 or 0.15: 1.0, independently, preferably in increasing order of 1.2: 1.0, 1.0: 1.0, 0.8: 1.0, 0.60: 1.0, 0.50: 1.0, 0.40: 1.0, 0.30: 1.0, 0.25: 1.0, 0.20: 1.0, 0.18: 1.0 or 0.16: 1.0 or less.

성분 (G)에 대해서는 피처리면에 존재하는 유기 혼입물을 용해하고 표면장력을 저하시키는데 유효한 대부분의 계면 활성제를 원칙적으로 사용할 수 있으나, 많은 종류의 계면 활성제는 고도의 산화성의 산성 조성물에서는 불안정하다. 바람직한 계면 활성제에서 발휘되는 다른 귀중한 기능은, 처리된 금속표면을 본 발명의 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물과의 접촉으로부터 제거할 때의 시간과 표면을 세척할 때의 시간 사이에서 실제로 발생할 수 있는 지연시간 동안에 처리된 표면이 얼룩투성이로 건조되지 않도록 하는 것이다. 이 기술분야에서는 처리된 표면을 오염시키는 기회를 극소화하기 위하여 탈얼룩 혹은 탈산화막 처리후에 신속히 세척하는 것이 공지되어 있다 하더라도 항공기 날개부분 등의 대형의 물체를 탈얼룩 처리할 경우에 있어서 실제로 2분 내지 3분 정도 지연되는 일이 통상적이며, 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물이 표면에서 건조되면 건조된 부분의 얼룩은 거의 불가피하다.For component (G), most surfactants effective in dissolving the organic incorporation present on the surface to be treated and lowering the surface tension can be used in principle, but many types of surfactants are unstable in highly oxidizing acidic compositions. Another valuable function of the preferred surfactants is the delay that can actually occur between the time when the treated metal surface is removed from contact with the destain / deoxidation film treatment composition of the present invention and the time when the surface is cleaned. This ensures that the treated surface does not dries dry over time. Although it is known in the art to quickly clean after destaining or deoxidizing film to minimize the chance of contaminating the treated surface, it is actually 2 minutes to destaining large objects such as aircraft wings. A delay of about 3 minutes is common, and when the destaining / deoxidation film treatment composition is dried on the surface, staining of the dried portion is almost inevitable.

기타 여러가지 계면 활성제보다 훨씬 안정하고, 쉽사리 기포를 생성하지 않으면서도 조성물의 표면장력을 감소시키는데 적당하며, 처리와 세척 사이에 적어도 3분까지의 이송시간 동안에 건조부분을 형성하지 않는 것이 판명된 것으로서, 따라서 계면 활성제를 필요로 할 경우에 특히 바람직한 계면 활성제는 에톡실화된 아세틸렌성 디올이다. 사용시에는 이들은 작업용 조성물중에서 바람직하게는 증가하는 순서로서 조성물 1 리터당 그람수로 (이하, 간단히 "g/L"라 함") 0.01 ∼ 10, 0.1 ∼ 5, 0.25 ∼ 4, 0.55 ∼ 3.0, 0.75 ∼ 2.5, 0.85 ∼ 2.0, 0.85 ∼ 1.5, 0.90 ∼ 1.5, 0.85 ∼ 1.2, 또는 0.90 ∼ 1.10의 범위내에서의 농도로 존재하는 것이 바람직하다. 가장 바람직하게는 존재할 경우의 계면 활성제 성분은, 두가지의 에톡실화된 테트라메틸 데시네디올, 즉 하나는 HLB (hydrophile-lipophile balance)가 7 내지 9의 범위인 것과, 나머지 하나는 HLB가 11.5 내지 14.5의 범위인 것의 각각을 등량씩 함유한 것이다. 그러나, 특히 과황산염이 조성물중에 함유되지 않으면 어떠한 계면 활성제도 전혀 필요하지 않다.It has been found to be much more stable than many other surfactants, suitable for reducing the surface tension of the composition without easily producing bubbles, and not forming dry parts during transfer times of up to at least 3 minutes between treatment and washing, Thus a particularly preferred surfactant when requiring a surfactant is an ethoxylated acetylenic diol. In use, these are in the grams per liter of composition (hereinafter, simply referred to as "g / L") in increasing order, preferably in the working composition, 0.01 to 10, 0.1 to 5, 0.25 to 4, 0.55 to 3.0, 0.75 to 0.7 It is preferably present at a concentration within the range of 2.5, 0.85 to 2.0, 0.85 to 1.5, 0.90 to 1.5, 0.85 to 1.2, or 0.90 to 1.10. Most preferably, the surfactant component when present is two ethoxy Silylated tetramethyl decinediol, ie, one containing an equal amount of each of the hydrophile-lipophile balance (HLB) in the range of 7 to 9, and the other in the HLB range of 11.5 to 14.5. If no persulfate is present in the composition, no surfactant is required at all.

성분 (H)는 조성물중에서 기술적인 목적으로 작용하는 것으로 생각되지 않으나, 적색 등의 눈에 띠는 색깔로 강산이 존재하는 것을 나타내어 작업자들에게 안전상 주의를 준다는데 그 가치가 있다. 작업자들이 쉽사리 인식할 수 있고 조성물의 목적으로 하는 기능에 악영향을 주지 않거나 경제적인 코스트에 부담을 많이 주지않는 염료 혹은 기타 색소의 량은 당업자라면 용이하게 선택할 수 있다.Component (H) is not believed to serve a technical purpose in the composition, but it is valuable to alert workers to safety by indicating the presence of strong acids in a visible color such as red. The amount of dyes or other pigments that can be readily recognized by the workers and which does not adversely affect the intended function of the composition or does not burden the economic cost can be readily selected by those skilled in the art.

상기한 기타의 특징외에도 본 발명의 방법에서 사용되는 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물은 바람직하게는 증가하는 순서로 총산(total acid)의 "포인트(point)"가 적어도 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14 또는 15인 것이 바람직한데, 여기서 말하는 "포인트"라 함은, 적정(titration) 도중에 중금속 수산화물의 침전을 방지하기 위해 과잉량의 플루오르화 칼륨을 함유하는 탈이온수 약 10 mL로써 조성물 시료를 희석한 후에 조성물 시료 5.0 mL를 적정하여 페놀프탈레인 지시약으로 종말점에 도달하는데 소요된 1.0 N 강알칼리 (수산화 나트륨으로 환산)의 mL수와 동일한 것으로 정의된다. 탈얼룩/탈산화막 처리 속도가 가장 높은 경우에 대해서는 작업용 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물의 상기한 정의의 총산의 포인트는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 18, 20, 21, 22 또는 22.5이다. 독립하여 본 발명의 방법에서 사용되는 이러한 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물의 총산의 포인트는 바람직하게는 증가하는 순서로 60, 50, 45, 35, 32, 또는 31 이하이고, 혹은 경제성을 고려해서는 총산의 포인트는 바람직하게는 29, 27, 26, 25 또는 24 이하이다. 또한, 독립하여 본 발명의 방법에서 사용되는 과황산염 함유의 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물에서의 산화-환원(redox) 전위 [이것은 조성물중에 침지한 백금전극의 전위를 동일한 조성물중에 침지한 표준 포화 칼로멜 전극에 대해 비교하여 측정한 것임]는 표준전극 이상의 산화성, 바람직하게는 증가하는 순서로 800 ∼ 1100, 900 ∼ 1050, 950 ∼ 1035, 975 ∼ 1029, 985 ∼ 1020, 991 ∼ 1011, 또는 996 ∼ 1006 mv의 산화성을 나타낸다.In addition to the other features described above, the destain / deoxidation film treatment composition used in the method of the present invention preferably has a "point" of total acid in increasing order of at least 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14 or 15, where the term "point" refers to a composition as about 10 mL of deionized water containing excess potassium fluoride to prevent precipitation of heavy metal hydroxides during titration. After diluting the sample, 5.0 mL of the sample of the composition is titrated and defined as equal to the number of mL of 1.0 N strong alkali (in sodium hydroxide) required to reach the end point with the phenolphthalein indicator. For the highest rates of destain / deoxidation film treatment, the point of total acid of the above definition of the working destain / deoxidation film treatment composition is preferably at least 18, 20, 21, 22 or 22.5 in increasing order. The points of total acidity of such destained / deoxidized film treatment compositions used independently in the process of the present invention are preferably 60, 50, 45, 35, 32, or 31 or less in increasing order, or in view of economics. The point of is preferably 29, 27, 26, 25 or 24 or less. In addition, the oxidation-reduction (redox) potential in the persulfate-containing destain / deoxidation film treatment composition independently used in the method of the present invention (this is a standard saturated calomel in which the potential of the platinum electrode immersed in the composition is immersed in the same composition. Measured in comparison with the electrode] is 800 to 1100, 900 to 1050, 950 to 1035, 975 to 1029, 985 to 1020, 991 to 1011, or 996 to 1006 in the order of increasing the oxidizing property of the standard electrode or more, preferably in increasing order. It shows the oxidative property of mv.

본 발명의 확장된 방법에 사용되는 탈산화막 처리 조성물을 편리한 방법으로 피처리 금속에 적용할 수 있는데, 이들 방법중 몇가지는 당업자에게는 자명하다. 침지법이 가장 간단한 방법인데 가장 자주 사용되고 있다. 그러나 분무법, 로울 코우팅법 등도 사용할 수 있다.The deoxidation film treatment composition used in the expanded process of the present invention can be applied to the metal to be treated in a convenient manner, some of which are apparent to those skilled in the art. Immersion is the simplest and most often used. However, spraying or roll coating may also be used.

탈얼룩/탈산화막 처리 조성물로써 처리한 후에 처리된 표면을, 물에 적어도 1종의 킬레이트제를 가한 용액으로, 본 발명의 방법으로 세척한 다음에 처리한다. 특히, 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물중에 과황산염이 함유되면 처리된 표면을 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물과의 접촉으로부터 제거한 후에 세척을 될 수 있는 한 실질적으로 빨리 완료하는 것이 바람직하며, 아주 실용적으로는 완료한 후에 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물을 표면의 어떤 부분에서 그대로 건조시키는데, 기타의 방법으로는 표면이 얼룩질 수가 있다. 일반적으로 기재를 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물과의 접촉으로부터 제거하는 단계와, 세척액과 접촉시키는 단계 사이에 바람직하게는 증가하는 순서로 60, 50, 40, 30, 20, 15, 10, 8, 6, 또는 4초를 초과하지 않도록 하여 간격을 두는 것이 바람직하다. 그러나, 필요한 경우에는 특히 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물중에 과황산염을 함유하지 않고, 적어도 가장 최고로 바람직한 량의 질산을 함유하는 경우에는 탈얼룩/탈산화막 처리와 킬레이트제 수용액에 의한 세척과의 사이에 90초 정도의 여유를 주어도 내식성의 손실은 없다. 표면을 세척한 후에는 표면을 자주 건조시킨다.After the treatment with the destaining / deoxidation film treatment composition, the treated surface is treated with a solution in which at least one chelating agent is added to water, followed by washing by the method of the present invention. In particular, if the persulfate is contained in the destained / deoxidized film treatment composition, it is desirable to complete the treatment as soon as possible after removal of the treated surface from contact with the destained / deoxidized film treatment composition and as practical as possible. After drying, the destain / deoxidation film treatment composition is dried as it is on any part of the surface, and the surface may be stained by other methods. In general, 60, 50, 40, 30, 20, 15, 10, 8, in the increasing order, preferably between the step of removing the substrate from contact with the destaining / deoxidation film treatment composition and the step of contacting with the cleaning liquid. It is desirable to leave the interval not to exceed 6, or 4 seconds. However, if necessary, in particular, in the case of desulfurization / deoxidation film-containing composition, which contains no persulfate and at least the most preferred amount of nitric acid, between destaining / deoxidation film treatment and washing with an aqueous solution of chelating agent. There is no loss of corrosion resistance even if the allowance is about 90 seconds. After cleaning the surface, dry the surface frequently.

본 발명에 의한 특징적인 공정단계에서의 세척액은, 물과, 카르복실, 카르복실레이트, 비(非)카르복실 히드록실, 아미노, 티오, 포스폰산, 포스포네이트, 포스핀산, 및 포스피네이트기로 된 군으로부터 선택되는 적어도 두개의 친핵기를 함유하는 분자로 된 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 킬레이트제로 구성되며, 이들 기에 있어서 적어도 두개의 기는 결합하여 분자중의 원자와, 분자중의 상기한 친핵기 각각에서의 친핵원자 (산소, 질소, 황, 혹은 포스핀계 인)에 배위공유 결합하는 다가(多價) 금속원자에 의하여 5원환 혹은 6원환을 형성할 수 있는 위치에서 분자를 형성하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 킬레이트제는, 글루콘산, 타르타르산, 에틸렌디아민 테트라아세트산 (이하, 간단히 "EDTA"라 함), 니트릴로트리아세트산 (이하, 간단히 "NTA"라 함), 및 이들 산의 수용성 염으로 된 군으로부터 선택되는 것이고, 보다 바람직하게는 EDTA 및 NTA로부터 선택되는 것이다.The wash liquor in the characteristic process steps according to the invention comprises water, carboxyl, carboxylate, noncarboxyl hydroxyl, amino, thio, phosphonic acid, phosphonate, phosphinic acid, and phosphinate It consists of at least one chelating agent selected from the group consisting of molecules containing at least two nucleophilic groups selected from the group consisting of groups, in which at least two groups are bonded to the atoms in the molecule and the aforementioned parent in the molecule It is preferable to form a molecule at a position where a 5- or 6-membered ring can be formed by a multivalent metal atom covalently covalently bonded to a nucleophilic atom (oxygen, nitrogen, sulfur, or phosphine-based phosphorus) in each nuclear group. Do. More preferably, the chelating agent is composed of gluconic acid, tartaric acid, ethylenediamine tetraacetic acid (hereinafter simply referred to as "EDTA"), nitrilotriacetic acid (hereinafter referred to as simply "NTA"), and water-soluble salts of these acids. It is selected from the group, More preferably, it is selected from EDTA and NTA.

세척액중에서의 킬레이트제의 정확한 화학적 특성과는 관계없이 킬레이트제 분자의 총 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.0003, 0.0006, 0.0009, 0.0012, 0.0016, 0.0020, 0.0025, 0.0030, 0.0035, 0.0040, 0.0045, 또는 0.0050 mole/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 0.10, 0.050, 0.040, 0.030, 0.025, 0.020 또는 0.015 mole/l 이하이다. 세척하기 전에 사용되는 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물중에서의 질산의 농도가 적어도 3.0 mole/l이고, 킬레이트제가 타르타르산 혹은 NTA인 경우에는 세척액중에서의 킬레이트제 분자의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 0.013, 0.010 혹은 0.0070 mole/l 이하이다.Regardless of the exact chemical nature of the chelating agent in the wash liquor, the total concentration of the chelating agent molecule is preferably at least 0.0003, 0.0006, 0.0009, 0.0012, 0.0016, 0.0020, 0.0025, 0.0030, 0.0035, 0.0040, 0.0045, in increasing order. Or 0.0050 mole / l, independently, preferably in an increasing order of 0.10, 0.050, 0.040, 0.030, 0.025, 0.020 or 0.015 mole / l. If the concentration of nitric acid in the destain / deoxidation film treatment composition used before washing is at least 3.0 mole / l, and the chelating agent is tartaric acid or NTA, the concentration of the chelating agent molecules in the washing liquid is preferably 0.013 in increasing order. , 0.010 or 0.0070 mole / l or less.

탈얼룩/탈산화막 처리 조성물에서와 같이 접촉시의 온도 및 세척액과 피처리 금속 사이의 접촉시간은 폭넓게 변한다. 일반적인 가이드라인으로서 온도는 통상적으로 바람직하게는 증가하는 순서로 5, 10, 15, 17, 19, 20, 21, 22, 또는 23℃ 이상이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 80, 60, 50, 40, 35, 34, 33, 32, 31, 30, 29, 28, 27 또는 26℃ 이하이며, 접촉시간은 통상적으로 바람직하게는 증가하는 순서로 0.1, 0.5, 1.0. 1.5, 1.8 또는 2.0분 이상이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 32, 20, 15, 10, 8, 7, 6, 5.5, 또는 5.0분 이하이다. 또한, 세척액을 편리한 방법에 의해 처리될 금속표면과 접촉시키는데, 이들 방법중 몇가지는 당업자에게 공지되어 있다. 침지법이 가장 간단하며 가장 자주 사용된다. 그러나 분무법, 로울 코우팅법 등도 사용할 수 있다.As in the destain / deoxidation film treatment composition, the temperature at the time of contact and the contact time between the cleaning liquid and the metal to be treated vary widely. As a general guideline the temperature is typically at least 5, 10, 15, 17, 19, 20, 21, 22, or 23 ° C., preferably in increasing order, independently, preferably in increasing order of 80, 60, 50, 40, 35, 34, 33, 32, 31, 30, 29, 28, 27 or 26 ° C. or less, and the contact time is usually 0.1, 0.5, 1.0 in increasing order. It is at least 1.5, 1.8 or 2.0 minutes and is independently 32, 20, 15, 10, 8, 7, 6, 5.5, or 5.0 minutes, preferably in increasing order. In addition, the wash liquor is contacted with the metal surface to be treated by a convenient method, some of which are known to those skilled in the art. Immersion is the simplest and most often used. However, spraying or roll coating may also be used.

상기한 탈얼룩/탈산화막 처리 및 세척을 크로메이트 전환 코우팅 형성처리에 따라 하는 것이 바람직하다. 이러한 처리, 보다 상세하게는 아래에 나온 미합중국 특허중의 어느 하나의 기술에 따른 처리가 적당한데, 이들 특허의 개시내용 전부는 여기에 명시적으로 기재된 것과 불일치하는 정도를 제외하고는 본 발명에서는 참고로 원용하고 있다.It is preferable to perform the above-mentioned destaining / deoxidation film treatment and washing in accordance with the chromate conversion coating forming treatment. Such treatment, more particularly, treatment in accordance with any one of the United States patents listed below, is suitable, and all of the disclosures of these patents are referenced in the present invention except to the extent that they are inconsistent with those explicitly set forth herein. It is used as.

미합중국 특허 제5,769,967호, 제5,451,271호, 제5,399,209호, 제5,395,655호, 제5,268,042호, 제4,966,634호, 제4,749,418호, 제4,668,305호, 제4,644,029호, 제4,475,957호, 제4,373,968호, 제4,183,772호, 제4,146,410호, 제4,131,489호, 제4,059,452호, 제3,989,550호, 제3,876,435호, 제3,681,207호, 제3,632,447호, 제3,535,168호, 제3,505,129호, 제3,505,352호, 제3,493,441호, 제3,462,319호, 제3,421,949호, 제3,404,046호, 제3,404,044호, 제3,404,043호, 제3,397,091호, 제3,397,090호, 제3,391,032호, 제3,301,031호, 제3,385,738호, 제3,380,858호, 제3,377,212호, 제3,347,713호, 제3,307,890호, 제3,214,302호, 제3,202,551호, 제3,165,596호, 제3,090,710호, 제3,032,447호, 제2,988,465호, 제2,979,935호, 제2,967,791호, 제2,928,763호, 제2,927,046호, 제2,902,390호, 제2,868,682호, 제2,851,385호, 제2,825,697호, 제2,814,577호, 제2,798,830호, 제2,798,829호, 제2,796,370호.U.S. Pat.Nos. 5,769,967, 5,451,271, 5,399,209, 5,395,655, 5,268,042, 4,966,634, 4,749,418, 4,668,305, 4,644,029, 4,475,957,183,772,4,437,183 4,146,410, 4,131,489, 4,059,452, 3,989,550, 3,876,435, 3,681,207, 3,632,447, 3,535,168, 3,505,129, 3,505,352, 3,493,441,9,49,349,349 No. 3,404,046, 3,404,044, 3,404,043, 3,397,091, 3,397,090, 3,391,032, 3,301,031, 3,385,738, 3,380,858, 3,377,212, 307,383,307 3,214,302, 3,202,551, 3,165,596, 3,090,710, 3,032,447, 2,988,465, 2,979,935, 2,967,791, 2,928,763, 2,927,046, 2,902,285,2,852,385 2,825,697, 2,814,577, 2,798,830, 2,798,829, 2,796,370.

본 발명의 방법에서 혹은 본 발명의 방법을 따라 사용되는 바람직한 액상의 크로메이트 전환 코우팅 형성 (이하, 간단히 "크로메이팅"이라 함) 조성물은, 바람직하게는 물 및 아래의 각 성분을 함유한다:The preferred liquid chromate conversion coating forming (hereinafter simply referred to as "chromating") composition used in the method of or according to the method of the present invention preferably contains water and the following components:

(A2) 일정 농도의 용해된 6가 크롬;(A 2 ) a constant concentration of dissolved hexavalent chromium;

(B2) 일정 농도의 용해된 플루오르 함유 음이온; 및 선택적로 아래의 각 성분중의 1종 이상:(B 2 ) a constant concentration of dissolved fluorine containing anions; And optionally one or more of the following components:

(C2) 바로 이전에 나온 성분들 (A2) 및 (B2) 중의 어느 한가지의 일부가 아닌 용해된 알칼리화제;(C 2) the components from the immediately preceding (A 2) and (B 2) an alkali soluble agent that is not part of any one of;

(D2) 바로 이전에 나온 성분들 (A2) 내지 (C2) 중의 어느 한가지의 일부가 아닌 용해된 중성염;(D 2) of the immediately preceding element shown in (A 2) to (C 2) the dissolved neutral salts that are not part of any one of;

(E2) 바로 이전에 나온 성분들 (A2) 내지 (D2) 중의 어느 한가지의 일부가 아닌 용해된 3가 크롬;(E 2) the components from the immediately preceding (A 2) to (D 2) of dissolved trivalent chromium are not part of any one of;

(F2) 액상의 조성물중에 원래부터 존재하는 6가 크롬으로부터 용해된 3가 크롬을 생성한 산화-환원 반응 생성물의 용해물로서, 상기 용해물은 바로 이전에 나온 성분들 (A2) 내지 (E2) 중의 어느 한가지의 일부가 아님;(F 2 ) A lysate of a redox reaction product which produces trivalent chromium dissolved from hexavalent chromium originally present in a liquid composition, wherein the lysate is the components (A 2 ) to ( Not part of any of E 2 );

편리성 및 경제성의 이유로 해서, 또한 크로메이팅 액상 조성물중에서의 전반적인 산성조건이 바람직하기 때문에 본 발명에서 사용하는 크로메이팅 액상 조성물중에서의 용해된 6가 크롬의 가장 바람직한 공급원은 보통 "크롬산", "크롬산 무수물", 혹은 "삼산화 크롬"으로 불리우는 CrO3이다. 그러나, 그 대신에 크로메이트염 및 디크로메이트염 등의 6가 크롬의 공급원을 사용해도 좋다. 이들 공급원과는 관계없이 본 발명의 방법에서 혹은 본 발명의 방법을 따라 사용되는 작업용 크로메이팅 조성물중에 존재하는 6가 크롬 원자의 농도는 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.60, 1.0, 2.0, 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, 또는 5.4 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 50, 40, 30, 20, 15, 10, 8 또는 6 g/l 이하이다.For convenience and economics, the most preferred source of dissolved hexavalent chromium in the chromizing liquid composition used in the present invention is also commonly referred to as "chromic acid", "chromic acid" because the overall acidic conditions in the chromizing liquid composition are also preferred. It is called the anhydride CrO 3, "or" chromium trioxide ". However, a source of hexavalent chromium such as chromate salt and dichromate salt may be used instead. Regardless of these sources, the concentrations of the hexavalent chromium atoms present in the working chromizing compositions used in or according to the method of the present invention are preferably at least 0.60, 1.0, 2.0, 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, or 5.4 g / l, independently, preferably up to 50, 40, 30, 20, 15, 10, 8 or 6 g / l in increasing order.

필요한 성분 (B2)이 간단한 플루오르화물, 즉 플루오르화 수소산 및 그 염의 음이온 및 이들의 산염이라 하더라도, 플루오르화물 착화합물을 절대적으로 다량 혹은 전부 함유하는 것이 바람직한데, 여기서 플루오르화물 착화합물이라 함은 일반 화학식 Mx(OH)yFz[여기서 전하(電荷)는 명시적으로 특정되지 않으나 기타 선택방식으로 측정됨; M은 붕소, 실리콘, 알루미늄, 철, 티타늄, 지르코늄, 하프늄으로 된 군으로부터 선택되는 원소이고, x는 +의 정수로서 바람직하게는 1이고, y는 0, 1 혹은 2, 바람직하게는 0이며, z는 적어도 (4-y)의 값을 가진 +의 정수로서, 바람직하게는 (4-y) 또는 (6-y)을 나타냄]에 부합하는 음이온 혹은 산 혹은 음이온을 포한한 염을 뜻하는 것으로 이해해야 한다.Although the necessary component (B 2 ) is a simple fluoride, i.e., anions of hydrofluoric acid and its salts and their salts, it is preferred to contain absolutely large amounts or all of the fluoride complex, wherein the fluoride complex is represented by the general formula M x ( OH) y F z [where charge is not explicitly specified but is measured by other selection methods; M is an element selected from the group consisting of boron, silicon, aluminum, iron, titanium, zirconium, hafnium, x is an integer of +, preferably 1, y is 0, 1 or 2, preferably 0, z is an integer of + having a value of at least (4-y), preferably an salt corresponding to (4-y) or (6-y)] or a salt containing an acid or anion. You have to understand.

보다 바람직하게는 성분 (B2)은 플루오로보레이트 음이온 (BF4 -)을 NaBF4의 농도에 화학량론적으로 상응한 농도로 함유하는데, 즉, 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 1.0, 2.0, 3.0, 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, 또는 7.0 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 50, 40, 30, 20, 15, 13, 11, 10.0, 9.5, 9.0, 8.5, 8.0 또는 7.5 g/l 이하이다. 더욱이, 독립하여 성분 (B2)은 바람직하게는 플루로오로실리케이트, 플루로오로티타네이트, 및 플루로오로지르코네이트로 된 군으로부터 선택되는 이온, 가장 바람직하게는 플루로오로지르코네이트의 이온을 K2ZrF6의 농도에 화학량론 (각 이온의 플루오르 이온 함량에 대한 화학량론)적으로 상응한 농도로 함유하는데, 즉, 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0,3, 0.5, 0.7, 0.9, 1.1, 1.3, 1.5, 1.7, 1.9 또는 2.1 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 20, 15, 10, 8.0, 7.0, 6.0, 5.0, 4.5, 4.0, 3.5, 3.0, 2.6, 또는 2.3 g/l 이하이다. 정확한 농도와는 관계없이 플루로오로실리케이트, 플루로오로티타네이트, 및 플루로오로지르코네이트 음이온의 전부의 몰농도는 바람직하게는 크로메이팅 조성물중의 플루오로보레이트 음이온의 몰농도에 대한 비를 가지는데, 즉 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.02:1.0, 0.04:1.0, 0.06:1.0, 0.08:1.0, 0.10:1.0, 또는 0.12:1.0이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 1.0:1.0, 0.70:1.0, 0.50:1.0, 0.40:1.0, 0.30:1.0, 0.25:1.0, 0.20:1.0, 0.18:1.0, 0.16:1.0, 또는 0.14:1.0 이하이다.More preferably component (B 2 ) contains fluoroborate anion (BF 4 ) at a concentration stoichiometrically corresponding to the concentration of NaBF 4 , ie preferably in increasing order of at least 1.0, 2.0, 3.0 , 3.5, 4.0, 4.5, 5.0, 5.5, 6.0, 6.5, or 7.0 g / l, independently, preferably in increasing order of 50, 40, 30, 20, 15, 13, 11, 10.0, 9.5, 9.0 , 8.5, 8.0 or 7.5 g / l or less. Furthermore, component (B 2 ) is independently an ion selected from the group consisting of fluorosilicate, fluororotitanate, and fluororozirconate, most preferably ion of fluororozirconate Is contained in a concentration corresponding to stoichiometry (stoichiometry for the fluorine ion content of each ion) at a concentration of K 2 ZrF 6 , that is, at least 0,3, 0.5, 0.7, 0.9 in increasing order. , 1.1, 1.3, 1.5, 1.7, 1.9 or 2.1 g / l, independently, preferably in increasing order of 20, 15, 10, 8.0, 7.0, 6.0, 5.0, 4.5, 4.0, 3.5, 3.0, 2.6, Or 2.3 g / l or less. Irrespective of the exact concentration, the molarity of all of the fluororosilicates, fluorourotitanate, and fluorourozirconate anions preferably gives a ratio to the molar concentration of fluoroborate anions in the chromizing composition. Preferably at least 0.02: 1.0, 0.04: 1.0, 0.06: 1.0, 0.08: 1.0, 0.10: 1.0, or 0.12: 1.0 in increasing order, independently 1.0: 1.0 in increasing order , 0.70: 1.0, 0.50: 1.0, 0.40: 1.0, 0.30: 1.0, 0.25: 1.0, 0.20: 1.0, 0.18: 1.0, 0.16: 1.0, or 0.14: 1.0 or less.

적어도 성분 (A2)가 크롬산 유래의 것이면, 임의의 알칼리화제 성분 (C2)을 본 발명의 방법에서 혹은 그 후에 사용되는 액상의 크로메이팅 조성물중에 함유시켜 조성물의 산성도를 저하시키는데, 이렇게 되면 크로메이팅 도중에 과잉의 엣칭이 일어나게 된다. 보다 상세하게는 성분 (C2)는 바람직하게는 알칼리 금속 수산화물중에서 선택한다. 성분 (C2)가 알칼리 금속 수산화물로 구성되면, 바람직하게는 화학량론적으로는 수산화 나트륨의 농도에 대응하는 것인데, 즉 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.090, 0.11, 0.20, 0.30, 0.40, 0.50, 0.55, 0.60, 0.65, 0.70, 0.75, 0.80, 0.85, 또는 0.88 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 8, 6, 4.0, 3.5, 3.0, 2.5, 2.0, 1.8, 1.6, 1.2 또는 1.0 g/l 이하이다.If at least component (A 2 ) is derived from chromic acid, any alkalizer component (C 2 ) is contained in the liquid chromizing composition used in or after the method of the invention to lower the acidity of the composition. Excessive etching occurs during mating. More specifically, component (C 2 ) is preferably selected from alkali metal hydroxides. If component (C 2 ) consists of an alkali metal hydroxide, it is preferably stoichiometrically corresponding to the concentration of sodium hydroxide, ie preferably in increasing order of at least 0.090, 0.11, 0.20, 0.30, 0.40, 0.50, 0.55, 0.60, 0.65, 0.70, 0.75, 0.80, 0.85, or 0.88 g / l, independently, preferably in increasing order of 8, 6, 4.0, 3.5, 3.0, 2.5, 2.0, 1.8, 1.6, 1.2 or 1.0 g / l or less.

또한, 적어도 바람직한 농도의 크롬산 및 알칼리화제가 존재하면, 본 발명의 방법에서 혹은 그 후에 사용되는 크로메이팅 조성물은 임의의 성분 (D2)인 중성염을 함유하는 것이 바람직하다. 보다 상세하게는 이 성분은 질산 나트륨의 농도에 화학량론 (질산이온에 대한 화학량론)적으로 상응하는 량의 알칼리 금속 질산염을 함유하는 것이 바람직한데, 즉 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.2, 0.4, 0.6, 0.8, 1.0, 1.20 또는 1.35 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 10, 8, 6, 5.0, 4.0, 3.0, 2.5, 2.0, 또는 1.5 g/l 이하이다. 더욱이, 독립하여 성분 (D2)는 바람직하게는 염화 나트륨의 농도에 화학량론 (클로라이드에 대한 화학량론)적으로 상응하는 량의 1종 이상의 클로라이드를 함유하는 것이 바람직한데, 즉 바람직하게는 증가하는 순서로 적어도 0.003, 0.006, 0.009, 0.010, 0.015, 0.020, 0.025 또는 0.029 g/l이고, 독립하여 바람직하게는 증가하는 순서로 0.20, 0.15, 0.10, 0.080, 0.070, 0.060, 0.050, 0.040, 0.035 또는 0.031 g/l 이하이다.In addition, if at least preferred concentrations of chromic acid and alkalizer are present, the chromizing composition used in or after the method of the present invention preferably contains a neutral salt of optional component (D 2 ). More specifically, this component preferably contains an amount of alkali metal nitrate in stoichiometric (stoichiometric to nitrate) corresponding to the concentration of sodium nitrate, ie preferably in order of increasing at least 0.2, 0.4 , 0.6, 0.8, 1.0, 1.20 or 1.35 g / l, independently, preferably up to 10, 8, 6, 5.0, 4.0, 3.0, 2.5, 2.0, or 1.5 g / l in increasing order. Furthermore, component (D 2 ) independently preferably contains one or more chlorides in an amount corresponding to a stoichiometric (stoichiometric to chloride) correspondingly to the concentration of sodium chloride, ie preferably to increase At least 0.003, 0.006, 0.009, 0.010, 0.015, 0.020, 0.025 or 0.029 g / l in order, independently 0.20, 0.15, 0.10, 0.080, 0.070, 0.060, 0.050, 0.040, 0.035 or in increasing order independently 0.031 g / l or less.

공지되어 있는 바와 같이 처음에 6가상태로 첨가된 크롬의 일부는, 바람직하게는 1차 산화 생성물로서 이산화 탄소를 생성하는 메탄올, 포름알데히드, 당, 전분 등의 유기 환원제에 의해 그대로 환원작용에 의해 환원되어 3가상태로 된다. 이것이 통상적인 성분 (E2) 및 (F2)의 공급원이다. 이들 성분의 어느 것이라도 본 발명의 방법에서 혹은 그 후에 사용되는 크로메이팅 조성물에서는 바람직하지 않다.As is known, some of the chromium initially added in the hexavalent state is preferably reduced by an organic reducing agent such as methanol, formaldehyde, sugar, starch, etc., which produces carbon dioxide as a primary oxidation product. It is reduced to trivalent state. This is a common source of components (E 2 ) and (F 2 ). None of these components is preferred in the chromizing composition used in or after the method of the present invention.

본 발명은 알루미늄 합금 7150, 7075, 2024, 2324, 및 6061의 처리에 특히 유리하고, 또한 본 발명에 의한 처리전에 심하게 쇼트 피이닝 (shot peening)되거나 기계적으로 처리된, 및/또는 알칼리성 조성물로 심하게 화학적으로 엣칭 또는 화학적으로 밀링 (milling)된 알루미늄 혹은 마그네슘 합금 표면에도 적용하기가 유리하다.The present invention is particularly advantageous for the treatment of aluminum alloys 7150, 7075, 2024, 2324, and 6061, and also severely with severe shot peening or mechanically treated and / or alkaline compositions prior to treatment with the present invention. It is advantageously applied to chemically etched or chemically milled aluminum or magnesium alloy surfaces.

[실시예]EXAMPLE

본 발명을 아래의 실시예 및 비교예에 의하여 설명하지만, 이들은 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 단일의 탈얼룩/탈산화막 처리용 액상 조성물을 제조하여 각 실시예에 사용하였는데, 이것은 물 이외에 조성물의 나머지 성분으로서 아래의 표 1에 나온 각 성분을 함유한다.Although this invention is demonstrated by the following Example and comparative example, these do not limit this invention. A single liquid composition for destaining / deoxidation film treatment was prepared and used in each example, which contains each component shown in Table 1 below as the remaining components of the composition in addition to water.

[표 1]TABLE 1

성분ingredient 농도, mole(s)/LConcentration, mole (s) / L HNO3 HNO 3 3.83.8 Fe2(SO4)3 Fe 2 (SO 4 ) 3 0.100.10 몰리브덴, (NH4)2Mo2O7으로부터Molybdenum, from (NH 4 ) 2 Mo 2 O 7 0.00940.0094 H2SO4 H 2 SO 4 0.290.29 NH4HF2 NH 4 HF 2 0.0520.052

종래의 시험 패널인 타입 2024-T3 알루미늄을 종래의 방식으로 세척하고, 상기한 탈얼룩/탈산화막 처리 조성물중에 10분간 침지하면서 이 조성물을 26℃에서 유지하였다. 이어서 세척액을 26℃의 온도에서 유지하면서 탈산화막 처리된 패널을 공기중에서 90초 동안 매달아 건조한 다음 킬레이트제 함유의 세척액중에 침지하거나, 혹은 이 세척액중에서 될 수 있는 한 3초 이내에 신속히 침지하였는데, 어느 경우에서도 5분간 유지하였다. 세척액중에서 소요시간동안 경과한 후에 각 패널을 꺼내어 물로 세척한 다음에, 물 이외에 표 2에 나온 각 성분을 함유한 크로메이팅 조성물 수용액중에 침지하였다. 크로메이팅 조성물을 침지하면서 26℃에서 3.0분 동안 유지하였다.Type 2024-T3 aluminum, a conventional test panel, was washed in a conventional manner and kept at 26 ° C. while immersed in the destain / deoxidation film treatment composition described above for 10 minutes. The deoxidized panel was then suspended in air for 90 seconds, dried and then immersed in a chelating agent-containing wash, or as quickly as possible within 3 seconds, while maintaining the wash at a temperature of 26 ° C., in which case It was maintained for 5 minutes at. After elapse of time in the washing solution, each panel was taken out, washed with water, and then immersed in an aqueous solution of chromizing composition containing each component shown in Table 2 in addition to water. The chromizing composition was kept at 26 ° C. for 3.0 minutes while immersed.

[표 2]TABLE 2

성분ingredient 농도, gram(s)/LConcentration, gram (s) / L CrO3 CrO 3 5.55.5 NaBH4 NaBH 4 7.27.2 K2ZrF6 K 2 ZrF 6 2.22.2 NaOHNaOH 0.890.89 NaNO3 NaNO 3 1.41.4 NaClNaCl 0.0310.031

크로메이팅 조성물중에서 상기한 침지시간이 경과한 후에 크로메이트 처리된 시험 각 패널을 꺼내고 물로 세척하여 건조한 다음에 ASTM (American Society for Testing and Materials Method) B117에 따라 염수분무 시험을 하였다. 세척액의 조성, 탈얼룩/탈산화막 처리와 세척 사이의 조건, 및 염수분무 시험 결과를 표 3에 나타낸다.After the above immersion time in the chromizing composition, each panel chromated was taken out, washed with water and dried, followed by a salt spray test according to ASTM (American Society for Testing and Materials Method) B117. Table 3 shows the composition of the wash solution, the conditions between destaining / deoxidation film treatment and washing, and the results of the salt spray test.

[표 3]TABLE 3

탈얼룩/탈산화막 처리 및 세척 사이의 시간, 초Time between destaining / deoxidation and cleaning, seconds 세척액중의 킬레이트제Chelating Agent in Washing Liquid 염수분무 시험 결과Salt Spray Test Results 타입type g(s)/Lg (s) / L 168 시간168 hours 336 시간336 hours 대조 1Contrast 1 <3<3 없음none 적용불가Not applicable 불합격fail 불합격fail 대조 2Contrast 2 9090 없음none 적용불가Not applicable 불합격fail 불합격fail 실시예 1Example 1 <3<3 NTANTA 1.01.0 합격pass 합격pass 실시예 2Example 2 9090 NTANTA 1.01.0 합격pass 합격pass 실시예 3Example 3 <3<3 NTANTA 2.02.0 합격pass 합격pass 실시예 4Example 4 9090 NTANTA 2.02.0 불합격fail 불합격fail 실시예 5Example 5 <3<3 EDTAEDTA 1.01.0 합격pass 합격pass 실시예 6Example 6 9090 EDTAEDTA 1.01.0 불합격fail 불합격fail 실시예 7Example 7 <3<3 EDTAEDTA 2.02.0 합격pass 합격pass 실시예 8Example 8 9090 EDTAEDTA 2.02.0 불합격fail 불합격fail 실시예 9Example 9 <3<3 타르타르산Tartaric acid 1.01.0 합격pass 합격pass 실시예 10Example 10 9090 타르타르산Tartaric acid 1.01.0 불합격fail 불합격fail 실시예 11Example 11 <3<3 타르타르산Tartaric acid 2.02.0 합격pass 합격pass 실시예 12Example 12 9090 타르타르산Tartaric acid 2.02.0 합격/불합격Pass / Fail 합격/불합격Pass / Fail 실시예 13Example 13 <3<3 글루콘산Gluconic Acid 1.01.0 합격pass 합격pass 실시예 14Example 14 9090 글루콘산Gluconic Acid 1.01.0 불합격fail 불합격fail 실시예 15Example 15 <3<3 글루콘산Gluconic Acid 2.02.0 합격pass 합격pass 실시예 16Example 16 9090 글루콘산Gluconic Acid 2.02.0 불합격fail 불합격fail

(주) 5개의 시험 패널로 된 두가지 세트를 표에 나온 각 조건에서 시험하였음. 실시예 12를 제외한 각 예에서 두가지 세트의 패널은 염수분무 시험에서 동일한 결과를 나타내었음. 실시예 12에서는 될 수 있는 한 거의 동일하게 처리되었으나 한 세트의 패널은 합격이었고 한 세트는 불합격이었음.NOTE Two sets of five test panels were tested under each condition shown in the table. In each example except Example 12, the two sets of panels showed the same results in the salt spray test. In Example 12 the treatment was done as nearly as possible, but one set of panels was pass and one set was rejected.

표 3에 나온 각 킬레이트제의 농도는 본 발명의 방법에서 탈얼룩/탈산화막 처리 및 세척 조작 사이에서 신속하게 이동시킨 통상적으로 처리된 각 패널에서의 내식성을 개선하는 효과가 극히 높았고, 이들 두가지 조작사이에 90초간의 간격이 있었다 하더라도 NTA의 농도가 낮을수록 효과가 있었다.The concentrations of each chelating agent shown in Table 3 were extremely effective in improving the corrosion resistance in each conventionally treated panel that was quickly shifted between destaining / deoxidation film treatment and washing operation in the method of the present invention. Even though there was a 90 second interval between them, lower NTA concentrations were effective.

상기한 바와 같이 본 발명은 처리 프로세스의 탈산화막 공정과 화성처리 공정과의 사이에 물에 킬레이트제를 첨가한 세척액으로써 세척함으로써 알루미늄 및/또는 마그네슘의 내식성을 높일 수 있어 이 기술분야에 기여하는 바가 클 것으로 기대된다.As described above, the present invention contributes to the technical field by increasing the corrosion resistance of aluminum and / or magnesium by washing with a washing liquid in which a chelating agent is added to water between the deoxidation film process and the chemical conversion process of the treatment process. It is expected to be large.

Claims (1)

알루미늄 및 마그네슘에 크로메이트 처리를 하기전에,Before chromating aluminum and magnesium, (1) 피처리물을 얼룩 제거제 또는 탈산화막 처리제와 소정 시간에 걸쳐 접촉시키고,(1) the object to be treated is brought into contact with a stain removing agent or a deoxidation film treatment agent over a predetermined time; (2) 상기 처리물을 상기한 처리제로부터 꺼낸후, 이 피처리물을 소정 시간내에 세척액과 접촉시켜 소정 시간에 걸쳐 접촉시키는 전처리 방법에 있어서, 물에 적어도 1종의 킬레이트제를 첨가한 세척액을 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.(2) In the pretreatment method in which the processed material is taken out of the above-described processing agent, and then the processed object is brought into contact with the washing liquid within a predetermined time to be in contact over a predetermined time, the washing liquid containing at least one chelating agent added to water is Using the method.
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