KR20010021286A - Variable inductance element - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: To raise a Q-value while an inductance is efficiently fine-adjusted by separating a specified island region from a conductor provided on the surface of an insulating substrate by trimming so that a zigzag inductor pattern is formed. CONSTITUTION: After the upper surface of an insulating substrate 1 is polished, a wide-area conductor pattern 2 is formed on it by a thin-film forming method. Then a laser beam is emitted to form an U-shape trimming groove 10 on a variable inductance element 9, and two island-like square regions 3 are separated from the conductor pattern 2 to form a zigzag inductor pattern 4. Here, a pattern width V of a part of the insulating substrate 1 of the inductor pattern 4 which extends parallel in its widthwise direction is equal to a pattern width H of a part which extends parallel in its lengthwise direction, with a distance D between legs of the U-shape trimming group 10 being set twice the pattern width V or longer.

Description

가변 인덕턴스 소자{Variable Inductance Element}Variable Inductance Element

본 발명은 가변 인덕턴스 소자, 더욱 상세하게는 특히 이동 전화등의 이동 통신 기기에 사용되는 가변 인덕턴스 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a variable inductance element, and more particularly to a variable inductance element used in a mobile communication device such as a mobile telephone.

근래에, 휴대용 전화등의 이동 통신 기기가 대단히 소형화되었고, 기기에 사용되는 전자 부품의 크기를 작게 하려는 요구가 강하다. 게다가, 고주파수가 이동 통신 기기에 사용될 때, 기기의 회로는 더욱 복잡해지고, 더구나 기기내에 실장되는 전자 부품은 균일한 특성과 고정밀도를 갖도록 요구된다.In recent years, mobile communication devices such as portable telephones have become extremely miniaturized, and there is a strong demand for reducing the size of electronic components used in the devices. In addition, when the high frequency is used in a mobile communication device, the circuit of the device becomes more complicated, and furthermore, the electronic components mounted in the device are required to have uniform characteristics and high precision.

그러나, 균일한 특성과 고정밀도를 지닌 파라미터(parameter)를 포함하는 각각의 전자 부품이 회로를 형성하는데 사용되더라도, 각 실장된 전자 부품의 파라미터 편차가 전체적으로 결합된 효과를 가져서, 어떤 경우에는 원하는 기능이 행해질 수 있다. 따라서, 필요하다면 전자 회로를 구성하는 전자 부품의 일부 파라미터들을 바꿀 수 있다. 일부 전자 부품은 파라미터를 정교하게 조절하더라도, 원하는 회로 기능이 이행될 수 없을 수 있다.However, even if each electronic component including parameters having uniform characteristics and high precision is used to form a circuit, the parameter variation of each mounted electronic component has an overall combined effect, and in some cases, a desired function. This can be done. Thus, if necessary, some parameters of the electronic components constituting the electronic circuit can be changed. Some electronic components may not be able to perform the desired circuit function even if the parameters are finely adjusted.

도 8은 그러한 종래의 미세 조절 방법의 예를 도시한다. 미세 조절 방법에 따라, 인덕턴스 소자로 작용하는 트리밍 영역(trimming area) 34가 신호 패턴 31과 32 사이에 형성된다. 트리밍 영역 34는 빔이 선형적으로 움직일 때, 레이저 트리밍 기계(도시되지 않음)로부터 방출된 레이저 빔으로 방사(irradiate)된다. 트리밍 영역 34는 레이저 빔의 이동 트랙(mevement track)에 맞게 부분적으로 제거되고, 그 결과 선형 트리밍 홈(groove) 35가 형성된다. 따라서, 트리밍 영역 34의 면적은 트리밍 영역 34의 인덕턴스가 정교하게 조절되도록 바뀐다.8 shows an example of such a conventional fine adjustment method. According to the fine adjustment method, a trimming area 34 serving as an inductance element is formed between the signal patterns 31 and 32. Trimming area 34 is irradiated with a laser beam emitted from a laser trimming machine (not shown) when the beam moves linearly. The trimming area 34 is partially removed in accordance with the movement track of the laser beam, resulting in a linear trimming groove 35. Therefore, the area of the trimming region 34 is changed so that the inductance of the trimming region 34 is finely adjusted.

종래의 가변 인덕턴스 소자에 있어, 트리밍 영역 34의 면적이 작아진다면, 인덕턴스의 가변폭이 좁아져서, 회로가 정교하게 조절될 수 없다. 그러므로, 트리밍 영역 34는 큰 면적을 갖는다. 한편, 고정밀 레이저 트리밍 기계를 사용할 때는, 한 번의 트리밍으로 형성된 트리밍 홈 35의 홈폭(트리밍 폭)이 일반적으로 얇다. 이런 이유로, 넓은 트리밍 폭이 요구되는 경우는, 도 9에 보이는 것처럼 방사 위치가 평행하게 움직일 때, 레이저에 의한 방사가 반복 되어야 한다. 따라서, 정교한 조절을 하는데 시간이 많이 걸리는 문제가 생기게 된다.In the conventional variable inductance element, if the area of the trimming region 34 is small, the variable width of the inductance is narrowed, so that the circuit cannot be finely adjusted. Therefore, the trimming area 34 has a large area. On the other hand, when using a high precision laser trimming machine, the groove width (trim width) of the trimming groove 35 formed by one trim is generally thin. For this reason, when a wider trimming width is required, radiation by the laser must be repeated when the radiation positions move in parallel as shown in FIG. Therefore, it takes a long time to make a fine adjustment.

따라서, 본 발명의 목적은 인덕턴스가 효과적으로 정교하게 조절될 수 있는 높은 Q 인자를 포함하는 가변 인덕턴스를 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a variable inductance comprising a high Q factor in which the inductance can be effectively and precisely adjusted.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 가변 인덕턴스 소자의 외형을 보여주는 사시도 ;1 is a perspective view showing the appearance of a variable inductance element according to a first embodiment of the present invention;

도 2는 도 1의 가변 인덕턴스 소자의 인덕턴스를 바꾸는 방법을 나타내는 사시도 ;2 is a perspective view showing a method of changing the inductance of the variable inductance element of FIG. 1;

도 3은 도 1의 가변 인덕턴스 소자의 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 평면도 ;3 is a plan view of a tortuous inductor pattern of the variable inductance element of FIG. 1;

도 4는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 가변 인덕터 소자의 도체 패턴을 보여주는 평면도 ;4 is a plan view showing a conductor pattern of the variable inductor element according to the second embodiment of the present invention;

도 5는 도 4의 가변 인덕턴스 소자의 꼬불꼬불한 인덕턴스 패턴을 보여주는 평면도 ;5 is a plan view showing a tortuous inductance pattern of the variable inductance element of FIG. 4;

도 6은 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 변형 실시예를 보여주는 평면도 ;6 is a plan view showing a modified embodiment of the tortuous inductor pattern;

도 7은 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 다른 변형 실시예를 보여주는 평면도 ;7 is a plan view showing another modified embodiment of the serpentine inductor pattern;

도 8은 종래의 가변 인덕턴스 소자의 인덕턴스 값을 조절하는 방법을 나타내고,8 shows a method of adjusting an inductance value of a conventional variable inductance device,

도 9는 종래의 가변 인덕턴스 소자의 인덕턴스 값을 조절하는 방법의 문제점을 나타낸다.9 illustrates a problem of a method of adjusting an inductance value of a conventional variable inductance device.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1...절연 기판 2, 22...도체 패턴1 ... insulated substrate 2, 22 ... conductor pattern

3, 23...섬 모양 직사각형 부분 4, 24...인덕터 패턴3, 23 ... island shape rectangular part 4, 24 ... inductor pattern

9, 20...인덕턴스 소자 10, 27...U자형 트리밍 홈9, 20 ... Inductance element 10, 27 ... U-shaped trimming groove

21...회로판 D...거리21 Circuit board D distance

V, H...폭 L...펄스 레이저 빔V, H ... Width L ... Pulse Laser Beam

위 목적을 이루기 위하여, 본 발명에 따르면, a) 절연 기판, 및 b) 소정의 섬 모양 부분이 인덕터 패턴으로부터 분리되도록, 절연 기판의 표면 위에 제공된 도체를 트리밍함으로써 경계 지어진 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴을 포함하는 가변 인덕턴스 소자가 제공된다.In order to achieve the above object, according to the present invention, a substantially twisted inductor pattern bordered by trimming a conductor provided on the surface of the insulated substrate such that a) the insulated substrate and b) a predetermined island portion is separated from the inductor pattern. There is provided a variable inductance element comprising a.

이상의 구성에 더하여, 트리밍 패턴의 형상과 크기를 바꿈으로써, 섬 모양 부분의 개수와 면적, 그리고 섬 모양 부분 사이의 간격이 변한다. 이로 인해, 인덕터 패턴의 꼬불거림의 폭과 개수가 변하여, 인덕턴스를 변하게 한다. 바람직하게는 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕턴스의 패턴 폭을 상수값으로 정하고, 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 이웃 부분 사이의 거리를 인덕터 패턴의 패턴 폭의 두 배가 되게 정함으로써, 각 이웃 부분에 생성된 자기장 사이의 거리가 멀어지고, 자기장이 서로 간섭하는 것을 방지할 수 있다.In addition to the above configuration, by changing the shape and size of the trimming pattern, the number and area of the island-like portions and the distance between the island-like portions change. For this reason, the width and the number of twisting of the inductor pattern change, thereby changing the inductance. Preferably, the pattern width of the substantially inductance is set to a constant value, and the distance between neighboring portions of the substantially inductor pattern is made to be twice the pattern width of the inductor pattern, thereby creating The distance between the magnetic fields can be increased, and the magnetic fields can be prevented from interfering with each other.

이하에서, 본 발명의 가변 인덕턴스 소자에 대한 실시예를 첨부 도면을 참조하여 기술할 것이다.Hereinafter, embodiments of the variable inductance element of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

(실시예)(Example)

(제 1 실시예)(First embodiment)

도 1에 보이듯이, 절연 기판 1의 상면이 매끄러운 표면을 갖도록 연마된 후, 넓은 면적을 갖는 도체 패턴 2가 후막 인쇄 또는 사진석판술(photolithography)등의 박막 형성 방법에 의해 절연 기판 1의 상면 위에 형성된다. 후막 인쇄 방법에 따라, 개구(opening)를 갖는 마스크(mask)가 절연 기판 1의 상면을 덮도록 원하는 패턴으로 만들어지고, 도전성 페이스트가 마스크 위에 전기적으로 도포되며, 이로 인해 비교적 큰 두께를 갖는 도체는 마스크의 개구를 통하여 노출된 절연 기판 1의 상면에 원하는 패턴(제 1 실시예의 경우, 도체 패턴 2)으로 형성된다.As shown in FIG. 1, after the upper surface of the insulating substrate 1 is polished to have a smooth surface, the conductor pattern 2 having a large area is formed on the upper surface of the insulating substrate 1 by a thin film forming method such as thick film printing or photolithography. Is formed. According to the thick film printing method, a mask having an opening is made in a desired pattern so as to cover the top surface of the insulating substrate 1, and an electrically conductive paste is electrically applied on the mask, whereby a conductor having a relatively large thickness The upper surface of the insulating substrate 1 exposed through the opening of the mask is formed in a desired pattern (conductor pattern 2 in the first embodiment).

사진 석판술의 예가 아래에 기술된다. 비교적 두께가 얇은 도전성 막이 실질적으로 절연 기판 1의 전체 상면 위에 형성된다. 그런 후, 저항막(예를 들어, 감광성 수지(photosensitive resin)등)이 스핀 코팅 또는 인쇄에 의해 도전성 막의 거의 전체에 형성된다. 다음으로, 소정의 이미지 패턴(image pattern)을 갖는 마스크 막이 저항막의 상면을 덮도록 배치되고, 저항막의 원하는 부분은 UV 광선등의 방사에 의해 경화된다. 이런 후, 저항막이 제거되고, 그것의 경화된 부분이 남게되며, 도전성 막의 노출 부분은 제거되어, 이로 인해 도체가 원하는 패턴으로 형성되고, 그런 후 경화된 저항막이 또한 제거된다.Examples of photolithography are described below. A relatively thin conductive film is formed over substantially the entire upper surface of the insulating substrate 1. Then, a resistive film (for example, a photosensitive resin or the like) is formed almost all over the conductive film by spin coating or printing. Next, a mask film having a predetermined image pattern is disposed to cover the upper surface of the resistive film, and the desired portion of the resistive film is cured by radiation such as UV light. After this, the resistive film is removed, and its cured portion remains, and the exposed portion of the conductive film is removed, thereby forming a conductor in a desired pattern, and then the cured resistive film is also removed.

다음으로, 다른 사진 석판술 방법에 따라, 감광 도전성 페이스트가 절연 기판 1의 상면 위에 도포될 수 있고, 거기에 형성된 소정의 이미지 패턴을 갖는 마스크막이 감광 도전성 페이스트를 덮으며, 그런 다음 노출되고 현상된다. 도전성 패턴 2는 절연 기판 1의 거의 전체에 제공된다.Next, according to another photolithographic method, a photosensitive conductive paste can be applied on the upper surface of the insulating substrate 1, and a mask film having a predetermined image pattern formed thereon covers the photosensitive conductive paste, and is then exposed and developed. . The conductive pattern 2 is provided almost all over the insulating substrate 1.

도전성 패턴 2의 한 쪽단 2a는 도 1, 2, 및 3에 보이는 것처럼 절연 기판 1의 좌측 뒷 부분에 도출되는 반면, 다른 쪽단 2b는 도 1, 2, 및 3에 보이는 것처럼 절연 기판 1의 우측 앞부분에 도출된다. 유리, 유리 세라믹, 알루미나(alumina), 페라이트(ferrite)등이 절연 기판 1의 재료로 사용될 수 있다. Ag, Ag-Pd, Cu, Au, Ni, Al등이 도체 패턴 2의 재료로 사용될 수 있다.One end 2a of the conductive pattern 2 is drawn to the left rear portion of the insulating substrate 1 as shown in FIGS. 1, 2 and 3, while the other end 2b is the right front portion of the insulating substrate 1 as shown in FIGS. 1, 2 and 3 Is derived. Glass, glass ceramics, alumina, ferrite, and the like may be used as the material of the insulating substrate 1. Ag, Ag-Pd, Cu, Au, Ni, Al, or the like may be used as the material of the conductor pattern 2.

게다가, 액체 절연 재료(폴리마이드(polymide)등)가 스핀 코팅과 프린팅등에 의해 절연 기판 1의 상면 전체에 피복되고, 건조되며, 이로 인해 도체 패턴 2를 덮는 절연 보호막(도시되지 않음)이 형성된다.In addition, a liquid insulating material (polymide, etc.) is coated on the entire upper surface of the insulating substrate 1 by spin coating and printing, and dried, thereby forming an insulating protective film (not shown) covering the conductor pattern 2. .

다음으로, 외부 입출력 전극 6과 7이 절연 기판 1의 각 단부 위에 길이 방향으로 각각 제공된다. 외부 입출력 전극 6이 도체 패턴 2의 단부 2a에 전기적으로 접속되고, 외부 입출력 전극 7은 도체 패턴 2의 단부 2b에 전기적으로 접속된다. 외부 입출력 전극 6과 7은 Ag, Ag-Pd, Cu, Ni, NiCr, NiCu등의 도전성 페이스트로 피복하고 소성하고, 건조 또는 습식 도금하거나, 또는 피복과 소성 그리고 도금을 혼합함으로써 형성된다. 이상 기술된 것처럼 얻어진 가변 인덕턴스 소자 9는 인쇄 회로판등에 실장되고, 도체 패턴 2가 트림된다. 특히, 도 2에 보이듯이, 가변 인덕턴스 소자 9의 상면은 펄스 레이저 빔 L이 이동되는 동안 펄스 레이저 빔 L로 방사되어서, U자형 트리밍 홈 10이 가변 인덕턴스 소자 9 내에 형성된다. 도 3에 보이듯이, 두 트리밍 홈 10은 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 4를 형성하기 위해 섬 모양의 2개의 직사각형 부분 3을 도체 패턴 2로부터 분리한다. 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 4의 말단 2a 및 2b는 각각 외부 입출력 전극 6과 7에 전기적으로 접속된다.Next, external input / output electrodes 6 and 7 are provided in the longitudinal direction on each end of the insulating substrate 1, respectively. The external input / output electrode 6 is electrically connected to the end 2a of the conductor pattern 2, and the external input / output electrode 7 is electrically connected to the end 2b of the conductor pattern 2. The external input / output electrodes 6 and 7 are formed by coating and firing with conductive pastes such as Ag, Ag-Pd, Cu, Ni, NiCr, and NiCu, and drying or wet plating, or by mixing the coating with the firing and plating. The variable inductance element 9 obtained as described above is mounted on a printed circuit board or the like and the conductor pattern 2 is trimmed. In particular, as shown in FIG. 2, the upper surface of the variable inductance element 9 is radiated with the pulse laser beam L while the pulse laser beam L is moved, so that the U-shaped trimming groove 10 is formed in the variable inductance element 9. As shown in FIG. 3, the two trimming grooves 10 separate the island-shaped two rectangular portions 3 from the conductor pattern 2 to form a tortuous inductor pattern 4. Terminals 2a and 2b of the serpentine inductor pattern 4 are electrically connected to the external input / output electrodes 6 and 7, respectively.

트리밍 홈 10의 패턴을 모양과 크기를 바꿈으로써, 섬 모양 부분 3의 개수(본 실시예에서는 2개)와 면적 그리고 섬 모양 부분 3 사이의 간격이 변한다. 이렇게 해서, 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 4의 폭과 꼬불거림의 개수가 변하게 됨으로써, 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 4의 인덕턴스가 넓은 범위에 걸쳐 연속적으로 변할 수 있고, 원하는 인덕턴스로 효과적이고 정교하게 조절할 수 있다. 이때, 인덕턴스 소자 9에 고주파수 회로에 요구되는 Q 인자가 제공될 수 있다.By changing the shape and size of the pattern of the trimming groove 10, the number of island-shaped portions 3 (two in this embodiment), the area, and the distance between the island-shaped portions 3 change. In this way, by changing the width and the number of twists of the inductor pattern 4, the inductance of the inductor pattern 4 can be continuously changed over a wide range, and can be effectively and precisely adjusted to the desired inductance. In this case, the Q factor required for the high frequency circuit may be provided to the inductance element 9.

꼬불꼬불한 인덕터 패턴 4를 형성하도록 도체 패턴 2 내에 U자형 트리밍 홈 10을 형성함으로써, 종래의 선형 트리밍에 의한 것과 비교해서 보다 넓은 범위에 대해 인덕턴스가 조절될 수 있다. 예를 들어, 가변 인덕턴스 소자의 크기가 2.0mm ×1.25mm인 경우에, 종래의 선형 트리밍에 의해서는 겨우 0.15nH 정도의 범위에 대해서만 조절할 수 있었다. 반면에, 제 1 실시예에서 처럼 U자형 패턴 트리밍에 의하면, 1.0nH(종래의 트리밍 방법의 것보다 6.7배 정도가 넓음)정도의 범위가 조절된다.By forming the U-shaped trimming grooves 10 in the conductor pattern 2 to form the serpentine inductor pattern 4, the inductance can be adjusted over a wider range as compared with the conventional linear trimming. For example, when the size of the variable inductance element is 2.0 mm x 1.25 mm, the conventional linear trimming can only adjust the range of about 0.15 nH. On the other hand, according to the U-shaped pattern trimming as in the first embodiment, the range of about 1.0nH (about 6.7 times wider than that of the conventional trimming method) is adjusted.

게다가, 본 발명의 제 1 실시예에서는, 절연 기판 1의 폭방향에 평행하게 연장된 인덕터 패턴 4의 패턴 폭 V의 부분은 절연 기판 1의 길이 방향에 평행하게 연장된 그것의 패턴 폭 H의 부분과 동일하고, 각 U자형 트리밍 홈 10의 다리 부분 사이의 거리 D는 패턴 폭 V(또는 패턴 폭 H)보다 적어도 2배이상 길게 정해진다. 이렇게 해서, 인덕터 패턴 4의 패턴 폭이 실질적으로 그것의 전체 길이에 대해 일정하다. 인덕터 패턴 4의 이웃 부분 사이의 거리는 패턴 폭보다 적어도 2배이상 길다. 결국, 인덕터 패턴 4의 이웃 부분내에 발생된 자기장 사이의 거리가 멀어지게되며, 이는 자기장이 서로 간섭되는 것을 막는다. 따라서, 인덕터 소자 9의 Q 인자가 보다 높아질 수 있다. 구체적으로, Q 인자를 종래의 가변 인덕턴스 소자의 인자에 비해 약 40%정도까지 높일 수 있다.In addition, in the first embodiment of the present invention, the portion of the pattern width V of the inductor pattern 4 extending parallel to the width direction of the insulating substrate 1 is the portion of its pattern width H extending parallel to the longitudinal direction of the insulating substrate 1. The distance D between the leg portions of each U-shaped trimming groove 10 is determined to be at least two times longer than the pattern width V (or pattern width H). In this way, the pattern width of inductor pattern 4 is substantially constant over its entire length. The distance between neighboring portions of inductor pattern 4 is at least twice as long as the pattern width. As a result, the distance between the magnetic fields generated in the neighboring portion of the inductor pattern 4 becomes far, which prevents the magnetic fields from interfering with each other. Therefore, the Q factor of the inductor element 9 can be higher. Specifically, the Q factor can be increased by about 40% compared to that of the conventional variable inductance element.

도체 패턴 2의 트리밍은 레이저 빔을 사용하는 방법으로 한정되지 않고, 샌드 블래스팅(sand blasting)등의 임의의 방법에 의해 실행될 수 있다. 더욱이, 트리밍 홈 10이 제공될 필요가 없다. 도체 패턴 2가 전기적으로 절삭되면, 트리밍 홈 10을 물리적 감각으로 형성할 필요가 없다.The trimming of the conductor pattern 2 is not limited to the method using the laser beam, but can be performed by any method such as sand blasting. Moreover, trimming groove 10 need not be provided. If the conductor pattern 2 is electrically cut, it is not necessary to form the trimming groove 10 in a physical sense.

(제 2 실시예)(Second embodiment)

본 발명의 제 2 실시예에서는, 도체 패턴 22가 인쇄된 회로판 21 위에 직접 형성된다. 인덕턴스 소자 20으로 작용하는 도체 패턴 22가 신호 패턴 28과 29 사이에 제공된다. 도 5에 보이듯이, 빔이 이동할 때 도체 패턴 22를 펄스 레이저 빔으로 방사함으로써, 레이저 빔으로 방사된 도체 패턴 22의 일부가 에너지로 인해 제거되어 도체 패턴 22 내에 U자형 트리밍 홈 27를 형성한다. 2개의 섬모양 직사각형 부분 23을 도체 패턴 22로부터 분리하여 트리밍 홈 27이 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 24를 형성한다. 지그재그한 인덕터 패턴 24의 양쪽 끝은 신호 패턴 28과 29에 각각 전기적으로 접속된다.In the second embodiment of the present invention, the conductor pattern 22 is formed directly on the printed circuit board 21. Conductor pattern 22 serving as inductance element 20 is provided between signal patterns 28 and 29. As shown in FIG. 5, by radiating the conductor pattern 22 with the pulsed laser beam as the beam moves, a portion of the conductor pattern 22 radiated by the laser beam is removed due to energy to form a U-shaped trimming groove 27 in the conductor pattern 22. As shown in FIG. Two island-shaped rectangular portions 23 are separated from the conductor pattern 22 to form a trimming groove 27 with a tortuous inductor pattern 24. Both ends of the zigzag inductor pattern 24 are electrically connected to signal patterns 28 and 29, respectively.

트리밍 홈 27의 패턴을 모양과 크기를 바꿈으로써, 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 24의 폭과 꼬불거림의 개수가 바뀌고, 꼬불꼬불한 인덕터 패턴 24의 인덕턴스 값은 넓은 범위에 걸쳐 연속적으로 변할 수 있다. 따라서, 인덕턴스가 원하는 값으로 효과적이고 정교하게 조절될 수 있다.By varying the shape and size of the pattern of the trimming groove 27, the width and the number of twists of the tortuous inductor pattern 24 can be changed, and the inductance value of the tortuous inductor pattern 24 can vary continuously over a wide range. Thus, the inductance can be effectively and precisely adjusted to the desired value.

(다른 실시예)(Other embodiment)

본 발명의 가변 인덕턴스 소자는 앞에 기술된 실시예로 국한되지 않는다. 본 발명의 취지와 범주내에서 변화와 변형 실시예가 만들어질 수 있다.The variable inductance element of the present invention is not limited to the embodiment described above. Changes and variations may be made within the spirit and scope of the invention.

앞의 실시예에서는 각 가변 인덕턴스 소자의 생산에 대해 기술하고 있다. 가변 인덕턴스 소자를 효과적으로 대량 생산하는 경우, 복수개의 가변 인덕턴스 소자가 제공되는 마더 기판(웨이퍼)이 생산되고, 최종 공정에서 웨이퍼가 다이싱 (dicing), 스크라이브 브레이크(scribe break), 레이저 절삭등의 기술에 의해 제품 크기로 절삭된다. 게다가, 인덕터 패턴의 아웃라인에 꼬불꼬불한 모양을 가질 수 있다. 예를 들어, 사인 곡선을 포함하는 모양의 패턴일 수 있다.The previous embodiment describes the production of each variable inductance element. In the case of mass production of variable inductance elements effectively, a mother substrate (wafer) is provided which is provided with a plurality of variable inductance elements, and in the final process, wafers are used for dicing, scribe break, laser cutting, etc. By cutting to product size. In addition, the outline of the inductor pattern may have a serpentine shape. For example, it may be a pattern of a shape including a sine curve.

게다가, 가변 인덕턴스 소자에서는, 한 개의 섬 모양 부분 3(도 6 참조)이 생성되는 방법으로 트리밍 홈 10이 형성될 수 있다. 또한, 트리밍 홈 10이 3개의 섬 모양 부분 3(도 7 참조)을 생성하도록 형성될 수 있다.In addition, in the variable inductance element, the trimming groove 10 can be formed in such a manner that one island portion 3 (see FIG. 6) is created. In addition, trimming groove 10 may be formed to produce three island shaped portions 3 (see FIG. 7).

앞에 기술에서 본 것처럼, 본 발명에 따라, 트리밍 패턴의 모양과 크기를 바꿈으로써, 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 폭과 꼬불거림의 수가 인덕터 패턴의 인덕턴스가 변하도록 바뀐다. 따라서, 넓은 범위에 걸쳐 인덕턴스가 연속적이고 효과적으로 정교하게 조절될 수 있다. 원하는 인덕턴스와 높은 Q 인자를 갖는 고정밀 가변 인덕턴스 소자가 제공될 수 있다.As seen in the foregoing description, in accordance with the present invention, by varying the shape and size of the trimming pattern, the width and the number of twists of the tortuous inductor pattern are changed such that the inductance of the inductor pattern changes. Thus, the inductance can be continuously and effectively finely adjusted over a wide range. High precision variable inductance elements with desired inductance and high Q factors can be provided.

실질적으로 꼬불꼬불한 인덕턴스 패턴의 패턴 폭을 실질적으로 일정한 값으로 정함으로써, 그리고 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 이웃한 부분 사이의 거리를 적어도 패턴 폭의 두 배이상 길게 정함으로써, 이웃한 부분에 발생하는 자기장 사이의 거리가 멀어지고, 이는 자기장이 서로 간섭하는 것을 막을 수 있다. 따라서, 인덕턴스 소자의 Q 인자를 보다 높일 수 있다.By setting the pattern width of the substantially inductance pattern to a substantially constant value, and by setting the distance between neighboring portions of the substantially inductor pattern at least twice as long as the pattern width, The distance between the magnetic fields generated is greater, which can prevent the magnetic fields from interfering with each other. Therefore, the Q factor of the inductance element can be further increased.

Claims (2)

절연 기판 ; 및Insulated substrate; And 소정의 섬 모양 부분을 인덕터 패턴(inductor pattern)으로부터 분리하기 위하여 상기 절연 기판의 표면 위에 제공된 도체(conductor)를 트리밍함으로써 정해진 실질적으로 꼬불꼬불한 상기 인덕터 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 인덕턴스 소자.And the substantially inflexible inductor pattern defined by trimming a conductor provided on the surface of the insulated substrate to separate a predetermined island portion from the inductor pattern. 제 1 항에 있어서, 상기 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 패턴 폭이 실질적으로 일정하며, 상기 실질적으로 꼬불꼬불한 인덕터 패턴의 이웃한 부분 사이의 거리가 적어도 패턴 폭의 두 배이상 긴 것을 특징으로하는 가변 인덕턴스 소자.The pattern width of the substantially inductor pattern is substantially constant, wherein the distance between neighboring portions of the substantially inductor pattern is at least twice as long as the pattern width. Variable inductance element.
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