KR20010013529A - Polyalkylene naphthalate, composition thereof, film, and processes for producing these - Google Patents

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Abstract

본 발명은 나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트로서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1) 및 (2) 를 만족하는 비율로 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트이다.The present invention is a polyalkylene naphthalate having a naphthalenedicarboxylic acid component as a main dicarboxylic acid component and an aliphatic glycol component as a main glycol component, wherein the polyalkylene naphthalate comprises (a) an antimony compound and (b) A sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having an ester-forming functional group is a polyalkylene naphthalate for film, which is characterized by containing the following formulas (1) and (2), respectively.

0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1)

0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2)

(상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(Wherein Sb and S are molar ratios of sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units each having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate (unit: mmol%)) Is displayed.)

본 발명의 필름은 표면평탄성이 우수하여 자기기록매체용 베이스 필름에 적합하다. 또한 고속감기성이 우수하고, 안정된 제막이 가능하여, 공업적으로 유리하게 제조할 수 있다.The film of the present invention is excellent in surface flatness and is suitable for a base film for a magnetic recording medium. Moreover, it is excellent in high-speed cold property, and stable film forming is possible, and it can manufacture industrially advantageously.

Description

폴리알킬렌나프탈레이트, 그의 조성물, 필름 및 이들의 제조방법 {POLYALKYLENE NAPHTHALATE, COMPOSITION THEREOF, FILM, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE}POLYALKYLENE NAPHTHALATE, COMPOSITION THEREOF, FILM, AND PROCESSES FOR PRODUCING THESE}

나프탈렌디카르복실산을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트, 그중에서도 폴리에틸렌나프탈레이트는 우수한 물리적 및 화학적 성질을 가지고 있기 때문에 섬유, 필름, 및 수지 등에 이용되고 있다. 그중에서도 폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 강도, 내열성 및 내약품성 등의 제특성과 비용을 양립시키는 필름으로서, 사진용 필름, 자기테이프용 필름의 베이스필름으로 사용되고 있다.Polyalkylene naphthalates containing naphthalenedicarboxylic acid as the main dicarboxylic acid component and aliphatic glycol as the main glycol component, among them, polyethylene naphthalate has excellent physical and chemical properties, so it is used for fibers, films, resins, and the like. It is becoming. Among them, polyethylene naphthalate film is a film that is compatible with various properties such as strength, heat resistance and chemical resistance and cost, and is used as a base film for photographic films and magnetic tape films.

폴리에틸렌나프탈레이트 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름과 동일한 방법에 의해 제막 제조된다.A polyethylene naphthalate film is formed into a film by the same method as polyester films, such as polyethylene terephthalate.

통상적으로 폴리에스테르 필름은 압출마개로부터 용융압출된 필름상 폴리에스테르 용융물을 회전냉각드럼 표면에서 급냉한 후, 수평, 수직방향으로 연신하여 제조한다. 이 경우 필름의 표면 결점을 없애고 두께의 균일성을 높이기 위해서는 용융압출된 필름상 폴리에스테르와 회전냉각드럼 표면과의 밀착성을 높일 필요가 있다. 그 방법으로, 압출마개와 회전냉각드럼 표면의 사이에 와이어 모양의 금속전극 (이하, 정전와이어라고 함) 을 설치하여 상기 필름상 용융물의 표면에 정전하를 석출시키는 방법 (이하, 정전캐스트법이라고 함) 이 알려져 있다.Typically, the polyester film is prepared by quenching the film-like polyester melt melt-extruded from the extrusion stopper on the surface of the rotary cooling drum, and then stretched in the horizontal and vertical directions. In this case, in order to eliminate the surface defects of the film and to increase the uniformity of the thickness, it is necessary to improve the adhesion between the melt-extruded film-like polyester and the surface of the rotary cooling drum. In this way, a wire-shaped metal electrode (hereinafter referred to as an electrostatic wire) is provided between the extrusion plug and the surface of the rotary cooling drum to deposit an electrostatic charge on the surface of the film-like melt (hereinafter referred to as the electrostatic cast method). Is known.

필름 제막에 있어서 생산성을 높이고 제조 비용을 줄이는 것은 필름품질의 향상과 함께 중요한 문제이고, 때문에 상기 회전냉각드럼의 주속을 빠르게 하여 제막속도를 향상시키는 것이 가장 효과적인 방법이다. 그러나, 상기 정전 캐스트법에서 회전냉각드럼의 주속을 빠르게 하면 필름상 물질의 표면으로의 단위면적 정전하량이 감소되어 회전냉각드럼과의 밀착성이 저하되고, 필름의 표면 상에 표면결점을 발생시킨다거나, 필름 두께가 불균일하게 되는 등의 문제가 발생한다. 이 밀착성을 높이기 위해 상기 전극에 인가하는 전압을 높여 용융 폴리에스테르 상에서의 정전하량을 많게 하는 방법을 취할 수도 있으나, 인가전압을 너무 높이면 전극과 회전냉각드럼의 사이에 아크방전이 발생하고, 냉각드럼면 상의 필름상 물질이 파괴되어 냉각드럼 표면에 손상을 주기도 한다. 따라서, 전극에 인가하는 전압을 일정 정도 이상으로 높이는 것은 사실상 불가능하다.In film forming, increasing productivity and reducing manufacturing cost are important issues along with improvement of film quality, and therefore, it is the most effective method to increase the film forming speed by increasing the peripheral speed of the rotary cooling drum. However, when the circumferential speed of the rotary cooling drum is increased in the electrostatic cast method, the unit area electrostatic charge to the surface of the film-like material is reduced, thereby decreasing the adhesion to the rotary cooling drum and causing surface defects on the surface of the film. The problem that the film thickness becomes nonuniform arises. In order to increase the adhesion, a method of increasing the voltage applied to the electrode to increase the amount of static charge on the molten polyester may be employed. However, if the applied voltage is too high, an arc discharge occurs between the electrode and the rotary cooling drum, and the cooling drum The film-like material on the surface may break and damage the cooling drum surface. Therefore, it is virtually impossible to raise the voltage applied to the electrode to a certain degree or more.

이러한 정전캐스트법의 한계를 극복하고, 제막 속도를 향상시켜 고효율로 폴리에스테르 필름을 제조하는 방법으로 용융 폴리에스테르의 비(比)저항을 낮추는 방법이 여러가지로 제안되고 있다.Various methods have been proposed to overcome the limitations of the electrostatic cast method and to lower the specific resistance of molten polyester as a method of producing a polyester film with high efficiency by improving the film forming speed.

예를 들면, 폴리에스테르를 형성하는 디카르복실산 성분에 대해 0.1 ∼ 45 mmol% 의 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염을 중합착체 중에 함유시킨 용융필름의 교류체적저항률의 값이 6.5 ×108Ωcm 이하인 폴리에스테르를 사용하는 방법 (일본 특허공보 평7-5675호) 등이 제안되어 있다.For example, the value of the alternating volume resistivity of a molten film containing sulfonic acid quaternary phosphonium salt having 0.1 to 45 mmol% of ester-forming functional groups in the polymer complex with respect to the dicarboxylic acid component forming the polyester is 6.5. A method of using polyester having a size of 10 8 ? Cm or less (Japanese Patent Laid-Open No. 7-5675) and the like have been proposed.

또한, 일반적으로 폴리에스테르의 제조에서는 통상적인 촉매가 사용되고 있고, 특히 안티몬 화합물은 중합속도가 빠르고, 얻어지는 폴리에스테르의 열안정성, 말단 카르복실기량 및 연화점 (軟化点) 등의 제특성이 우수하여 널리 사용되고 있으나, 안티몬 화합물은 폴리머 및 필름의 제조공정에서 석출되는 경우가 많고, 석출입자가 필름 표면에 작은 돌기를 형성하는 결점을 갖는다는 것이 알려져 있다 (일본 공개특허공보 평8-53541호).In general, conventional catalysts are used in the production of polyesters, and especially antimony compounds have a high polymerization rate and are widely used because of excellent properties such as thermal stability, amount of terminal carboxyl groups, and softening point of polyesters obtained. However, antimony compounds are often precipitated in the manufacturing process of polymers and films, and it is known that the precipitated particles have a defect of forming small protrusions on the film surface (Japanese Patent Laid-Open No. 8-53541).

한편, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름의 제조에 있어서, 안티몬 화합물 등의 촉매성분의 석출에 의한 필름표면의 미세한 요철의 발생을 억제하고, 표면평탄성이 뛰어난 필름을 제조 하는 것 또한 제막시의 정전밀착성이 우수한 필름을 제조하는 것을 목적으로 하여, 폴리에틸렌나프탈레이트 중에 칼슘 화합물, 마그네슘 화합물, 인 화합물 및 안티몬 화합물을 특정비율로 특정량 첨가하는 방법이 일본 특허공개공보 평8-104744호에 기재되어 있다.On the other hand, in the production of polyethylene naphthalate film, it is possible to suppress the occurrence of minute irregularities on the surface of the film by precipitation of catalyst components such as antimony compounds, to produce a film having excellent surface flatness, and also to provide excellent film film with excellent electrostatic adhesion. For the purpose of producing the same, a method of adding a specific amount of calcium compound, magnesium compound, phosphorus compound and antimony compound in polyethylene naphthalate in a specific ratio is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-104744.

그러나, 상기 제안한 촉매성분의 선택 및 그 첨가비율의 적정화 기술에 의해서도 촉매성분의 석출에 의한 미소돌기의 존재 및 이에 따른 장해를 충분히 방지하기는 어려운 것을 알 수 있다.However, it is also difficult to sufficiently prevent the presence of microprotrusions and the resulting obstacles due to the precipitation of the catalyst components even by the technique of selecting the catalyst component and optimizing the addition ratio thereof.

특히 필름 표면의 평탄성 및 균일성이 요구되는 금속증착 비디오용 테이프로 대표되는 고밀도 자기기록매체용 필름에 있어서 필름표면의 미소돌기의 존재는 에러의 원인이 되므로 바람직하지 않다.In the case of a film for a high density magnetic recording medium represented by a metal-deposited video tape requiring flatness and uniformity of the film surface, the presence of micro projections on the film surface is not preferable because it causes an error.

폴리알킬렌나프탈레이트 필름의 제막시에 생산성을 높이기 위해 제막속도를 상승시키면, 촉매로서 사용된 안티몬 화합물의 석출이 제막시의 권취(卷取)최고속도에 영향을 미치는 것을 알 수 있었다.When the film formation rate was increased to increase the productivity during film formation of the polyalkylene naphthalate film, it was found that the precipitation of the antimony compound used as the catalyst affects the maximum winding speed during film formation.

나아가, 상기 안티몬 화합물의 석출은 필름제막시의 제막안정성에도 관계하는 것을 알 수 있었다.Furthermore, it turned out that precipitation of the said antimony compound is related also to the film forming stability at the time of film forming.

즉, 안티몬 화합물의 석출에 의한 조대입자(粗大粒子)의 형성을 억제하고, 석출되었다고 하여도 그 크기와 수를 억제함으로써, 권취최고속도를 향상시키면서 균질한 필름을 안정적이고 공업적으로 유리하게 생산할 수 있는 것이 판명되었다.In other words, by suppressing the formation of coarse particles due to the precipitation of antimony compounds and suppressing the size and number of the precipitates even when precipitated, it is possible to stably and industrially produce a homogeneous film while improving the maximum winding speed. It turned out to be possible.

본 발명은 폴리알킬렌나프탈레이트, 그 조성물, 필름 및 이들의 제조방법에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 안티몬 화합물 및 특정 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물을 특정비율 함유한 폴리알킬렌나프탈레이트, 그것으로 제조한 필름 및 이들의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to polyalkylene naphthalates, compositions thereof, films and methods for their preparation. More specifically, the present invention relates to a polyalkylene naphthalate containing a specific ratio of an antimony compound and a specific sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound, a film made thereof, and a method for producing the same.

본 발명자들은, 안티몬 화합물을 촉매로 사용하여 폴리알킬렌나프탈레이트 필름을 제조하는 경우에 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염을 첨가하면, 그 농도에 비교하여 필름 중의 환원 안티몬으로 생각되어지는 미소석출입자가 증대하는 것을 발견하였다.The present inventors believe that when a sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group is added to produce a polyalkylene naphthalate film using an antimony compound as a catalyst, it is considered to be reduced antimony in the film compared to the concentration thereof. It was found that the micro precipitated particles increased.

이렇게 해서 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염의 농도 및 양자의 비율을 적정화하여 얻어지는 폴리알킬렌나프탈레이트를 가지고 정전캐스트법에 의해 필름을 제조하는 경우, 회전냉각드럼 상으로의 밀착성이 우수하고, 고속의 권취속도를 달성할 수 있으면서 안정된 제막생산성을 얻을 수 있는 것을 발견하였다. 또한, 얻어진 필름은 표면의 평탄성과 균일성이 우수하여 고밀도의 자기기록매체용으로 적절한 필름임을 알 수 있었다.Thus, when the film is produced by electrostatic casting with polyalkylene naphthalate obtained by optimizing the concentration of sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an antimony compound and an ester-forming functional group and the ratio of both, adhesion to the rotary cooling drum It was found that this excellent, high-speed winding speed can be achieved and stable film production productivity can be obtained. In addition, the obtained film was excellent in the flatness and uniformity of the surface, it was found that the film is suitable for high-density magnetic recording media.

발명을 해결하기 위한 수단Means for Solving the Invention

본 발명은 상기 발견에 기초하여 달성된 것으로, 나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트로서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1) 및 (2) 를 만족하는 비율로 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트이다.This invention was achieved based on the said discovery, The polyalkylene naphthalate which makes a naphthalene dicarboxylic acid component a main dicarboxylic acid component, and makes an aliphatic glycol component a main glycol component, The said polyalkylene naphthalate, (a) an antimony compound and (b) a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having an ester-forming functional group, respectively, in a proportion satisfying the following formulas (1) and (2): Phthalate.

0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1)

0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2)

(상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(Wherein Sb and S are molar ratios of sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units each having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate (unit: mmol%)) Is displayed.)

이하에서 본 발명에 대해 더욱 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에서의 폴리알킬렌나프탈레이트는, 나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하여 형성된 폴리에스테르이다. 여기서 "주된" 이란, 폴리에스테르를 구성하는 전체 반복단위의 적어도 70 몰%, 바람직하게는 적어도 80 몰% 이상이 알킬렌나프탈레이트 단위인 것을 의미한다.Polyalkylene naphthalate in this invention is polyester formed using the naphthalenedicarboxylic acid component as a main dicarboxylic acid component, and the aliphatic glycol component as a main glycol component. By "main" here it is meant that at least 70 mol%, preferably at least 80 mol% or more of the total repeating units constituting the polyester are alkylene naphthalate units.

이러한 폴리알킬렌나프탈레이트는 실질적으로는 선형이고, 필름형성성, 특히 용융성형에 의한 우수한 필름형성성을 가지고 있다.Such polyalkylene naphthalates are substantially linear and have excellent film formability, in particular film formation by melt molding.

여기서 나프탈렌디카르복실산으로는, 직접에스테르화 법에 의한 경우 2,6-나프탈렌디카르복실산 및 2,7-나프탈렌디카르복실산 등이 적절하고, 에스테르 교환법에 의해 폴리머를 제조하는 경우에는 이들 디카르복실산의 저급 알킬에스테르를 원료로서 사용할 수 있다.As naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, etc. are suitable in the case of a direct esterification method, and when a polymer is manufactured by a transesterification method, Lower alkyl esters of these dicarboxylic acids can be used as raw materials.

이들 저급 알킬에스테르로는, 예를 들면 2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸, 2,6-나프탈렌디카르복실산디에틸 및 2,7-나프탈렌디카르복실산디메틸 등을 들 수 있고, 그중에서도 바람직한 것은 공업적으로 용이하게 구할 수 있는 2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸이다.Examples of these lower alkyl esters include dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, dimethyl 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and the like. Is dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid which can be easily obtained industrially.

본 발명에 있어서 지방족 글리콜로는, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,4-시클로헥산디메탄올 등과 같은 탄소수 2 ∼ 10 의 폴리메틸렌글리콜 혹은 시클로헥산디메탄올과 같은 지환족 디올을 예로 들 수 있으며, 그중에서도 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 또는 1,4-부탄디올이 바람직하고, 에티렌글리콜이 가장 바람직하다.In the present invention, aliphatic glycols include alicyclic diols such as polymethylene glycol having 2 to 10 carbon atoms such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, or cyclohexanedimethanol. For example, ethylene glycol, propylene glycol, or 1,4-butanediol is preferable, and ethylene glycol is the most preferable.

본 발명의 폴리에스테르에 있어서, 그 특징이 손상되지 않는 범위에서 소량의 공중합성분이 공중합된 코폴리머일 수도 있다.In the polyester of the present invention, a copolymer obtained by copolymerizing a small amount of copolymerization components in a range in which the characteristics thereof are not impaired may be used.

제 삼 성분은, 글리콜 성분으로 디에틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 1,4-시클로헥산디메탄올 등의 디올을 들 수 있고, 그중에서도 바람직한 것은 디에틸렌글리콜이다.The third component includes diols such as diethylene glycol, neopentyl glycol, polyalkylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol as the glycol component. Among them, diethylene glycol is preferable.

폴리알킬렌나프탈레이트 중에 있어서의 디에틸렌글리콜 단위의 바람직한 함유량은 0.4 ∼ 3 중량%, 특히 바람직한 것은 0.8 ∼ 2 중량% 이다. 디에틸렌글리콜 단위의 함유량이 0.4 중량% 미만인 경우에는 폴리머의 결정화가 억제되지 못하고, 용융에너지가 커지기 때문에, 필름형성시 미용융 폴리머가 잔류하여 필름표면에 조대돌기를 형성하므로 바람직하지 않다. 한편, 3 중량% 를 넘으면 필름형성후의 강도, 예를 들면 영율이 저하되고, 내구성이 떨어지게 되므로 바람직하지 않다.The preferable content of the diethylene glycol unit in the polyalkylene naphthalate is 0.4 to 3% by weight, particularly preferably 0.8 to 2% by weight. When the content of the diethylene glycol unit is less than 0.4% by weight, the crystallization of the polymer is not suppressed and the melting energy is increased. Therefore, the unmelted polymer remains during the film formation, which is not preferable because coarse protrusions are formed on the film surface. On the other hand, when it exceeds 3 weight%, since the strength after film formation, for example, Young's modulus falls and durability falls, it is unpreferable.

또한, 본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트에 있어서, 제 삼 성분의 디카르복실산 성분으로, 테레프탈산, 이소프탈산, 숙신산, 아디프산, 세바신산 및 프탈산 등의 디카르복실산 및 이들의 에스테르형성성 유도체, 트리멜리트산, 피로멜리트산 등 다관능 다가카르복실산 및 이들 에스테르형성성 유도체 등을 들 수 있다. 이들중에서 바람직한 것은, 테레프탈산, 이소프탈산 및 이들 에스테르형성성 유도체 (예를 들면, 테레프탈산디메틸 및 이소프탈산디메틸 등) 이다. 테레프탈산 성분 및 이소프탈산 성분을 전체 디카르복실산 성분의 20 몰% 이하로 하는 것이 본 발명의 효과를 손상하지 않으므로 바람직하다. 특히 바람직한 것은 10 몰% 이하이다.Further, in the polyalkylene naphthalate of the present invention, as the dicarboxylic acid component of the third component, dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid and phthalic acid, and ester formability thereof. And polyfunctional polycarboxylic acids such as derivatives, trimellitic acid and pyromellitic acid, and ester ester derivatives thereof. Preferred among these are terephthalic acid, isophthalic acid and these ester-forming derivatives (for example, dimethyl terephthalate and dimethyl isophthalate). It is preferable to set the terephthalic acid component and the isophthalic acid component to 20 mol% or less of the total dicarboxylic acid component because it does not impair the effect of the present invention. Especially preferred is 10 mol% or less.

본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트에는 본 발명의 목적을 손상하지 않는 한, 예를 들면 히드록시안식향산과 같은 방향족 옥시산 성분, ω-히드록시카프론산과 같은 지방족 옥시산 등의 옥시카르복실산 성분에서 유래하는 성분이 포함되어 있을 수도 있다.The polyalkylene naphthalate of the present invention may be used in oxycarboxylic acid components such as, for example, aromatic oxyacid components such as hydroxybenzoic acid and aliphatic oxyacids such as ω-hydroxycapronic acid, so long as the object of the present invention is not impaired. The derived component may be contained.

본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트는, 그 전체 반복단위의 적어도 80 몰%, 바람직하게는 적어도 90 몰% 가 에틸렌-2,6-나프탈레이트 또는 에틸렌-2,7-나프탈레이트인 것이 특히 유리하다.The polyalkylene naphthalate of the present invention is particularly advantageous that at least 80 mol%, preferably at least 90 mol% of the total repeating units thereof is ethylene-2,6-naphthalate or ethylene-2,7-naphthalate.

또한, 본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트 중에는, 표면평탄성, 건열열화성 등의 물성을 손상시키지 않는 범위에서 광안정제, 산화방지제 및 차광제 등의 첨가제를 필요에 따라 함유시킬 수 있다.Moreover, in the polyalkylene naphthalate of this invention, additives, such as a light stabilizer, antioxidant, and a light-shielding agent, can be contained as needed in the range which does not impair physical properties, such as surface flatness and dry heat deterioration property.

본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트는 그 자체 공지의 방법으로 제조할 수 있다. 바람직한 제조법으로는, 예를 들면 나프탈렌디카르복실산의 에스테르형성성 유도체 및 지방족 글리콜을 에스테르 교환촉매의 존재하에서 가열하여 에스테르 교환반응을 행하고, 이어서 중축합촉매의 존재하에 중축합반응을 행하여 제조하는 방법이 있다.The polyalkylene naphthalate of the present invention can be produced by a method known per se. As a preferable manufacturing method, for example, ester-forming derivatives and aliphatic glycols of naphthalenedicarboxylic acid are heated in the presence of a transesterification catalyst to perform transesterification, followed by polycondensation in the presence of a polycondensation catalyst. There is a way.

상기 폴리에스테르로는, o-클로로페놀 중의 용액으로 35 ℃에서 측정하여 구한 고유점도가 0.4 ∼ 0.9 인 것이 바람직하고, 특히 0.45 ∼ 0.75 인 것이 바람직하다 (이하에서 특별히 밝히지 않는 한, 고유점도는 o-클로로페놀 중의 용액으로 35 ℃에서 측정하여 구한 값으로 한다).As said polyester, it is preferable that the intrinsic viscosity measured and calculated | required at 35 degreeC with the solution in o-chlorophenol is 0.4-0.9, and it is especially preferable that it is 0.45-0.75 (unless specifically indicated below, intrinsic viscosity is o It is a value obtained by measuring at 35 ° C. with a solution in chlorophenol).

본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트에서 촉매로서의 안티몬 화합물의 양은 하기식 (1) 을 만족시킬 필요가 있다.The amount of antimony compound as catalyst in the polyalkylene naphthalate of the present invention needs to satisfy the following formula (1).

0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1)

(상기 식 중, Sb 는 안티몬 화합물의 전체 디카르복실산 성분에 대한 몰비를 나타내고, 단위는 mmol% 이다.) 보다 바람직한 안티몬 화합물의 양은 하기식 (1') 을 만족하는 양이다.(In the above formula, Sb represents the molar ratio of the total dicarboxylic acid component of the antimony compound, and the unit is mmol%.) The more preferable amount of the antimony compound is an amount that satisfies the following formula (1 ').

5 ≤ Sb ≤70 (1')5 ≤ Sb ≤70 (1 ')

특히 바람직한 Sb 양으로는 10 ∼ 60 mmol% 의 범위이다. 이 양이 80 mmol% 를 넘으면 안티몬에서 기인하는 흑색이물이 발생하기 쉬워지고, 필름으로 했을 때의 표면평탄성이 악화되어 바람직하지 않다. 또한, Sb 양이 너무 적으면 중합반응이 진행되지 않기 때문에 바람직하지 않다.Particularly preferred Sb amount is in the range of 10 to 60 mmol%. When this amount exceeds 80 mmol%, black foreign matters originating in antimony tend to occur, and the surface flatness of the film deteriorates, which is not preferable. If the amount of Sb is too small, it is not preferable because the polymerization reaction does not proceed.

본 발명에서 사용할 수 있는 안티몬 화합물은 특별히 한정되지 않으나, 삼산화안티몬 및 오산화안티몬 등을 예로 들 수 있다. 그중에서도 특히 삼산화안티몬이 바람직하다.The antimony compound that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include antimony trioxide, antimony pentoxide, and the like. Among them, antimony trioxide is particularly preferable.

본 발명에서 안티몬 화합물은, 에스테르 교환반응의 개시전, 에스테르 교환반응 중, 에스테르 교환반응의 종료후 및 중축합반응의 직전 등의 임의의 단계에서 첨가하여도 된다.In the present invention, the antimony compound may be added at any stage, such as before the start of the transesterification reaction, during the transesterification reaction, after the end of the transesterification reaction, or just before the polycondensation reaction.

본 발명에서 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염은 하기식 (2) 을 만족시킬 필요가 있다.In the present invention, the sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group needs to satisfy the following formula (2).

0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2)

(상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 성분의 몰비를 나타내고, 단위는 mmol% 이다.)(Wherein Sb and S each represent a molar ratio of the sulfonic acid quaternary phosphonium salt component having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate, wherein the unit is mmol%) to be.)

보다 바람직한 S/Sb 의 비는 하기식 (2') 를 만족하는 범위이다.More preferable ratio of S / Sb is the range which satisfy | fills following formula (2 ').

0.001 ≤ S/Sb ≤0.3 (2')0.001 ≤ S / Sb ≤0.3 (2 ')

가장 바랍직한 S/Sb 의 비는 0.01 ∼ 0.2 의 범위이다.The most preferable ratio of S / Sb is in the range of 0.01 to 0.2.

S/Sb 비가 0.4 를 넘는 경우에는 안티몬에서 기인하는 흑색이물이 발생하기 쉬어지고, 필름으로 했을 때의 표면평탄성이 악화되어 바람직하지 않다. 또한, 0 인 경우에는 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염이 존재하지 않는 경우로서, 정전밀착성이 악화되어 제막생산성이 악화되어 버린다.When the S / Sb ratio is more than 0.4, black foreign matters caused by antimony tend to occur, and the surface flatness of the film deteriorates, which is not preferable. In addition, in the case of 0, when there is no sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group, electrostatic adhesion deteriorates and film forming productivity deteriorates.

본 발명에서 사용할 수 있는 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염으로는, 예를 들면 하기식으로 표시되는 화합물을 바람직한 예로 들 수 있다.As a sulfonic acid quaternary phosphonium salt which has an ester forming functional group which can be used by this invention, the compound represented by a following formula is mentioned, for example.

(여기서, A 는 탄소수 6 ∼ 18 의 방향고리를 포함하는 기이고, Y1및 Y2는 동일하거나 상이하며, 수소원자 또는 에스테르형성성 관능기이고 (단, Y1및 Y2가 동시에 수소원자인 경우는 없다), n 은 1 또는 2 이고, 그리고 R1,R2,R3및R4는 동일하거나 또는 상이하고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 벤질기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기이다.)(Wherein A is a group containing an aromatic ring having 6 to 18 carbon atoms, Y 1 and Y 2 are the same or different, a hydrogen atom or an ester-forming functional group, provided that Y 1 and Y 2 are hydrogen atoms simultaneously) N is 1 or 2, and R <1> , R <2> , R <3> and R <4> are the same or different, and are a C1-C18 alkyl group, a benzyl group, or a C6-C12 aryl group. )

상기 식에서 A 는 탄소수 6 ∼ 18 의 방향고리를 포함하는 기이고, 예를 들면 벤젠골격, 나프탈렌골격 혹은 비페닐골격을 포함하는 기가 바람직하다. 이러한 방향고리는, Y1, Y2및 술폰산 4 급 포스포늄염기 외에, 예를 들면 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 등으로 방향핵수소가 치환될 수도 있다.In the formula, A is a group containing an aromatic ring having 6 to 18 carbon atoms, for example, a group containing a benzene skeleton, a naphthalene skeleton or a biphenyl skeleton is preferable. In addition to the Y 1 , Y 2, and sulfonic acid quaternary phosphonium bases, such aromatic rings may be substituted with aromatic hydrocarbons by, for example, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.

Y1및 Y2는 수소원자 또는 에스테르형성성 관능기이지만, 동시에 수소원자인 경우는 없다, 에스테르형성성 관능기는, 예를 들면 -COOH, -COOR', -OCOR', -(CH2)mOH, - (OCH2)mOH 등을 들 수 있다. 이들 기 중 R' 은 탄소수 1 ∼ 4 의 저급 알킬기 또는 페닐기이고, m 은 1 ∼ 10 의 정수이다, R' 으로는 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필 또는 n-부틸 등을 바람직한 것으로 들 수 있다.Y 1 and Y 2 are hydrogen atoms or ester-forming functional groups, but they are not hydrogen atoms at the same time. The ester-forming functional groups are, for example, -COOH, -COOR ', -OCOR',-(CH 2 ) m OH ,-(OCH 2 ) m OH and the like. Of these groups, R 'is a lower alkyl group or phenyl group having 1 to 4 carbon atoms, m is an integer of 1 to 10, and R' is preferably methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl or n-butyl. Can be.

또한, 술폰산 4 급 포스포늄염의 염기부분 (P+R1R2R3R4) 을 구성하는 R1, R2, R3및R4는 동일하거나 상이할 수 있고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기, 벤질기 또는 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기이고, 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 도데실 및 스테아릴 등을 들 수 있다. 또한 탄소수 6 ∼ 12 의 아릴기로는, 예를 들면 페닐, 나프틸 및 비페닐 등을 들 수 있다. 상기 술폰산 4 급 포스포늄염의 바람직한 구체예로는, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 3,5-디카르복시벤젠술폰산에틸트리부틸포스포늄염, 3,5-디카르복시벤젠술폰산벤질트리부틸포스포늄염, 3,5-디카르복시벤젠술폰산페닐트리부틸포스포늄염, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라페닐포스포늄염, 3,5-디카르복시벤젠술폰산부틸트리페닐포스포늄염, 3,5-디카르보메톡시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 3,5-디카르보메톡시벤젠술폰산에틸트리부틸포스포늄염, 3,5-디카르보메톡시벤젠술폰산벤질트리부틸포스포늄염, 3,5-디카르보메톡시벤젠술폰산페닐트리부틸포스포늄염, 3,5-디(β-히드록시에톡시카르보닐)벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염,3,5-디(β-히드록시에톡시카르보닐)벤젠술폰산테트라페닐포스포늄염, 3-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 3-디카르복시벤젠술폰산테트라페닐포스포늄염, 3-디(β-히드록시에톡시카르보닐)벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 3-디(β-히드록시에톡시카르보닐)벤젠술폰산테트라페닐포스포늄염, 4-디(β-히드록시에톡시카르보닐)벤젠술폰산 테트라부틸포스포늄염, 비스페놀A-3,3-디(술폰산테트라부틸포스포늄염), 2,6-디카르복시나프탈렌-4-술폰산테트라부틸포스포늄염 등을 들 수 있다. 상기 술폰산 4 급 포스포늄염은 한가지 종류만을 단독으로 사용할 수도 있고, 2 종류 이상을 병용할 수도 있다.In addition, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 constituting the base portion (P + R 1 R 2 R 3 R 4 ) of the sulfonic acid quaternary phosphonium salt may be the same or different, and have an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. , A benzyl group or a C6-C12 aryl group, and examples of the C1-C18 alkyl group include methyl, ethyl, propyl, butyl, dodecyl, stearyl and the like. Moreover, as a C6-C12 aryl group, phenyl, naphthyl, biphenyl, etc. are mentioned, for example. As a preferable specific example of the said sulfonic acid quaternary phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonic acid tetrabutyl phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonic acid ethyl tributyl phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonic acid Benzyl tributyl phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonate phenyl tributyl phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonate tetraphenyl phosphonium salt, 3, 5- dicarboxy benzene sulfonate butyl triphenyl phosphonium salt , 3,5-dicarbomethoxybenzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt, 3,5-dicarbomethoxybenzenesulfonate ethyl tributylphosphonium salt, 3,5-dicarbomethoxybenzenesulfonate benzyl tributylphosphonium salt , 3,5-dicarbomethoxybenzenesulfonate phenyltributylphosphonium salt, 3,5-di (β-hydroxyethoxycarbonyl) benzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt, 3,5-di (β-hydride Roxyethoxycarbonyl) benzene sulfonic acid tetraphenyl phosphonium salt, 3-dicarboxy benzene sulfonic acid tetra Butyl phosphonium salt, 3-dicarboxy benzene sulfonic acid tetraphenyl phosphonium salt, 3-di ((beta) -hydroxyethoxycarbonyl) benzene sulfonic acid tetra butyl phosphonium salt, 3-di ((beta-hydroxyethoxycarbonyl) ) Benzenesulfonic acid tetraphenylphosphonium salt, 4-di ((beta-hydroxyethoxycarbonyl) benzenesulfonic acid tetrabutylphosphonium salt, bisphenol A-3,3-di (sulfonic acid tetrabutylphosphonium salt), 2,6 -Dicarboxy naphthalene-4-sulfonic acid tetrabutyl phosphonium salt, etc. are mentioned. The said sulfonic acid quaternary phosphonium salt may be used individually by 1 type, and may use two or more types together.

본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트는 용융시의 교류체적저항율이 2.0 ×108Ωcm 이하가 되도록 상기 술폰산 4 급 포스포늄염을 폴리알킬렌나프탈레이트 중에 함유시키는 것이 바람직하다. 용융시의 교류체적저항율이 2.0 ×108Ωcm 이하인 폴리알킬렌나프탈레이트라면 비교적 빠르게 회전하는 냉각드럼 상에도 밀착하기에 충분한 전하량을 부여할 수 있어, 본 발명의 목적의 하나인 제막속도의 향상을 달성할 수 있다.In the polyalkylene naphthalate of the present invention, it is preferable to contain the sulfonic acid quaternary phosphonium salt in the polyalkylene naphthalate so that the AC volume resistivity at the time of melting becomes 2.0x10 <8> ohm cm or less. Polyalkylene naphthalate having an AC volume resistivity of 2.0 × 10 8 Ωcm or less at the time of melting can provide sufficient charge amount to adhere even on a relatively fast rotating cooling drum, thereby achieving an improvement in the film forming speed, which is one of the objects of the present invention. can do.

또한 본 발명에 있어서, 상기 술폰산 4 급 포스포늄염은 폴리알킬렌나프탈레이트 주쇄 중에 또는 말단에 함유, 다시 말해 공중합되어 있을 수도 있고, 또는 단순히 폴리머중에 혼합되어 있을 뿐이라도 상관없다. 어떤 상태로 함유되어 있더라도 제막속도의 향상은 달성될 수 있다.In the present invention, the sulfonic acid quaternary phosphonium salt may be contained in the polyalkylene naphthalate main chain or at the terminal, that is, copolymerized, or simply mixed in the polymer. In any state, the improvement of the film forming speed can be achieved.

본 발명에 있어서, 이러한 폴리알킬렌나프탈레이트는 용융시의 교류체적저항률 값이 2.0 ×108∼ 6.0 ×106Ωcm 의 범위에 있는 것이 바람직하다.In the present invention, the polyalkylene naphthalate preferably has an AC volume resistivity value in the range of 2.0 × 10 8 to 6.0 × 10 6 Ωcm at the time of melting.

본 발명에 있어서 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염을 폴리알킬렌나프탈레이트에 함유시키는 방법으로는, 전술한 폴리알킬렌나프탈레이트의 합성이 종료될 때까지의 임의의 단계에서 첨가할 수 있다. 폴리알킬렌나프탈레이트의 중합에서의 중축합반응 개시전에 첨가하는 것이 바람직하다.In the present invention, as the method of containing the sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group in the polyalkylene naphthalate, it can be added at any stage until the synthesis of the aforementioned polyalkylene naphthalate is completed. . It is preferable to add before starting polycondensation reaction in superposition | polymerization of polyalkylene naphthalate.

또한, 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염을 상기 비율보다도 고농도로 함유하는 폴리알킬렌나프탈레이트를 일단 제조하고, 필름의 제조단계에 있어서 술폰산 4 급 포스포늄염 성분을 함유하지 않는 폴리알킬렌나프탈레이트와 블렌드하여 소정의 함유량으로 조정한 후, 필름 용융성형하는 방법을 채용할 수도 있다.In addition, polyalkylene naphthalate containing a sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group at a higher concentration than the above ratio is produced once, and polyalkyl which does not contain a sulfonic acid quaternary phosphonium salt component in the production step of the film. After blending with rennaphthalate and adjusting it to a predetermined content, a method of film melt molding may be employed.

본 발명자들의 연구에 의하면, 본 발명의 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 추가로 칼슘 화합물, 마그네슘 화합물 및 인 화합물을 하기식 (3) ∼ (5) 를 동시에 만족시키는 비율로 함유하고 있는 것이 바람직하다는 것을 알 수 있다.According to the study of the present inventors, it is preferable that the said polyalkylene naphthalate of this invention contains a calcium compound, a magnesium compound, and a phosphorus compound at the ratio which satisfy | fills following formula (3)-(5) simultaneously. Able to know.

10 ≤(Mg + Ca) ≤120 (3)10 ≤ (Mg + Ca) ≤120 (3)

0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4)0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4)

0.5 ≤(Mg + Ca)/P ≤8.0 (5)0.5 ≤ (Mg + Ca) / P ≤8.0 (5)

(상기 식 중, Mg, Ca 및 P 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 함유하는 전체 인 화합물의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(In the above formula, Mg, Ca and P each contain a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having a magnesium compound, a calcium compound and an ester-forming functional group per all dicarboxylic acid components forming a polyalkylene naphthalate). Molar ratio of the total phosphorus compound (unit is mmol%).)

칼슘 화합물, 마그네슘 화합물 및 인 화합물의 바람직한 첨가 비율은 하기식 (3'), (4') 및 (5') 을 만족하는 비율이다,The preferable addition ratio of a calcium compound, a magnesium compound, and a phosphorus compound is a ratio which satisfy | fills following formula (3 '), (4'), and (5 ').

20 ≤(Mg + Ca) ≤110 (3')20 ≤ (Mg + Ca) ≤ 110 (3 ')

0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4')0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4 ')

1 ≤(Mg + Ca)/P ≤7 (5')1 ≤ (Mg + Ca) / P ≤ 7 (5 ')

(상기 식중, Mg, Ca 및 P 는 상기식 (3), (4) 및 (5) 에서의 정의와 동일한 의미를 갖는다.)(In the above formula, Mg, Ca and P have the same meaning as the definitions in the formulas (3), (4) and (5).)

본 발명에 있어서 사용할 수 있는 칼슘 화합물 및 마그네슘 화합물로는, Ca 및 Mg 의 산화물, 염화물, 탄산염 및 카르복실산염 등이 바람직하고, 특히 아세트산염 즉 아세트산 칼슘, 아세트산 마그네슘이 바람직하다.As the calcium compound and magnesium compound which can be used in the present invention, oxides, chlorides, carbonates and carboxylates of Ca and Mg are preferable, and acetates, that is, calcium acetate and magnesium acetate are particularly preferable.

본 발명에 있어서, 칼슘 화합물 및 마그네슘 화합물의 첨가시기는 폴리에스테르 제조공정의 어느 단계에서 첨가하여도 상관없다.In the present invention, the addition time of the calcium compound and the magnesium compound may be added at any stage of the polyester production process.

칼슘 화합물 및 마그네슘 화합물은, 본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트에 있어서 폴리머 용융시의 저항비를 저하시키는 효과를 갖지만, 제조 단계에 있어서 나프탈렌디카르복실산 디메틸과 지방족 글리콜을 사용하는 에스테르 교환반응을 채용하는 경우에는 에스테르 교환반응 촉매로서도 사용할 수 있다.The calcium compound and the magnesium compound have an effect of lowering the resistance ratio during melting of the polymer in the polyalkylene naphthalate of the present invention, but employ a transesterification reaction using dimethyl naphthalenedicarboxylic acid and aliphatic glycol in the production step. In this case, it can also be used as a transesterification catalyst.

따라서, 에스테르 교환반응 촉매로도 사용할 경우는 에스테르 교환반응의 개시전에 첨가한다.Therefore, when using also as a transesterification catalyst, it adds before starting transesterification reaction.

에스테르 교환촉매로서 기능시킬 필요가 없으면 특별히 한정되지는 않지만, 칼슘 화합물과 마그네슘 화합물의 첨가시기는 반응폴리머의 고유점도가 0.2 에 도달하기까지 행하는 것이 상기 화합물을 폴리머 중에 용이하게 분산시킬 수 있기 때문에 바람직한 방법의 예로 들 수 있다. 또한, 첨가순서는 양화합물을 동시 첨가할 수도 또는 각각 시간을 달리하여 첨가할 수도 있다.Although there is no particular limitation as long as it does not need to function as a transesterification catalyst, the addition time of the calcium compound and the magnesium compound is preferably performed until the intrinsic viscosity of the reaction polymer reaches 0.2 so that the compound can be easily dispersed in the polymer. An example of the method is available. In addition, the addition order may add both compounds simultaneously or may add each time.

본 발명에서 칼슘 화합물 및 마그네슘 화합물의 첨가량은, 예를 들면 에스테르 교환법으로 폴리알킬렌나프탈레이트를 얻는 경우, 전체 디카르복실산 성분에 대해 칼슘 및 마그네슘의 함유량이 합계 (Mg + Ca) 가 10 ∼ 120 mmol%, 바람직하게는 20 ∼ 110 mmol%, 특히 바람직하게는 30 ∼ 100 mmol% 가 되도록 반응계에 용해가능한 마그네슘 화합물 및 칼슘 화합물을 에스테르 교환촉매로서 첨가한다. 이하 mmol% 는 전체 디카르복실산 성분에 대한 각 원소의 mmol% 단위의 양을 나타낸다.In the present invention, the addition amount of the calcium compound and the magnesium compound is, for example, when polyalkylene naphthalate is obtained by a transesterification method, the total content of calcium and magnesium (Mg + Ca) is 10 to 120 with respect to all the dicarboxylic acid components. Magnesium compounds and calcium compounds which are soluble in the reaction system are added as a transesterification catalyst so as to be mmol%, preferably 20 to 110 mmol%, particularly preferably 30 to 100 mmol%. The mmol% below represents the amount in mmol% of each element with respect to the total dicarboxylic acid component.

이 양이 120 mmol% 를 넘으면 촉매잔사에 의한 석출입자의 영향으로 필름을 성형했을 때의 표면평탄성이 악화되어 바람직하지 않고, 한편 10 mmol% 미만에서는 에스테르 교환반응이 불충분할 뿐만 아니라, 그후의 중합반응도 지연되어 바람직하지 않다.If the amount exceeds 120 mmol%, the surface flatness of the film is deteriorated due to the effect of precipitated particles due to catalyst residues, which is not preferable. On the other hand, if the amount is less than 10 mmol%, not only the transesterification reaction is insufficient, but also the subsequent polymerization. The reaction is also delayed, which is undesirable.

또한, 칼슘에 대한 마그네슘의 몰비 (Mg/Ca) 는 0.5 ∼ 10 이고, 0.5 ∼ 9.0 이 바람직하다. 특히 바람직하게는 2.0 ∼ 8.0 이다. 이 비가 0.5 이하에서는 촉매잔사에 의한 석출입자의 영향으로 필름에 성형했을 경우 표면평탄성이 악화되어 버린다.Moreover, the molar ratio (Mg / Ca) of magnesium with respect to calcium is 0.5-10, and 0.5-9.0 are preferable. Especially preferably, it is 2.0-8.0. If the ratio is 0.5 or less, surface flatness deteriorates when molded into a film under the influence of precipitated particles due to catalyst residues.

10 을 넘는 경우에는 필름으로 했을 때의 제특성이 악화되어 바람직하지 않다.When it exceeds 10, the various characteristics at the time of using a film deteriorate, and it is not preferable.

또한, 에스테르 교환반응 촉매의 일부를 실활시키기 위해 인 화합물을 첨가하지만, 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염을 포함한 전체 인 원소 첨가량에 대한 에스테르 교환반응 촉매, 즉, 칼슘 및 마그네슘 첨가량의 합계 몰비 다시 말해 (Mg + Ca) / P 는 0.5 ∼ 8.0 의 범위이고, 1.0 ∼ 7.0 이 바람직하다. 특히 바람직한 것은 2.0 ∼ 7.0 이다.In addition, a phosphorus compound is added to deactivate a portion of the transesterification catalyst, but the amount of transesterification catalyst, i.e., calcium and magnesium addition amount, to the total amount of phosphorus element including sulfonic acid quaternary phosphonium salt having an ester-forming functional group is added. In other words, the total molar ratio (Mg + Ca) / P is in the range of 0.5 to 8.0, with 1.0 to 7.0 being preferred. 2.0-7.0 are especially preferable.

이 첨가량의 비가 8 을 넘으면 촉매잔사에 의한 석출입자의 영향으로 필름에 형성했을 경우에 표면평탄성이 악화되어 바람직하지 않고, 한편 0.5 미만에서는 에스테르 교환반응 촉매에 대해 과잉량의 인 화합물로 인해 중합촉매의 안티몬 화합물이 실활되어 실질적으로 중합반응이 길어져서 생산성이 저하되기 때문에 바람직하지 않다.If the ratio of the added amount exceeds 8, the surface flatness deteriorates when it is formed on the film under the influence of precipitated particles due to catalyst residues. On the other hand, when the ratio is less than 0.5, the polymerization catalyst is caused by the excess phosphorus compound for the transesterification catalyst. It is not preferable because the antimony compound is inactivated, the polymerization reaction is substantially long, and the productivity is lowered.

본 발명에 있어서, 상기 인 화합물의 첨가시기는 에스테르 교환반응 또는 에스테르화 반응이 실질적으로 종료한 후에 첨가하는 것이 바람직하다. 첨가에 있어서는 일괄 또는 2 회 이상으로 분할하여 첨가할 수도 있다.In the present invention, the addition time of the phosphorus compound is preferably added after the transesterification reaction or the esterification reaction is substantially completed. In addition, it can also add in batch or divided | segmented into 2 or more times.

본 발명에서 사용할 수 있는 인 화합물로는, 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리-n-부틸포스페이트 및 인산 등이 바람직하다. 더욱 바람직한 것은 트리메틸포스페이트이다.As the phosphorus compound which can be used in the present invention, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, tri-n-butyl phosphate, phosphoric acid and the like are preferable. More preferred is trimethyl phosphate.

또한, 본 발명에 있어서 본 발명의 목적을 방해하지 않는 범위에서 미량의 다른 금속화합물을 포함할 수도 있고, 예를 들면 Zn, Co, Mn, K, Na 등의 금속 화합물을 포함할 수도 있다.In addition, in the present invention, a trace amount of another metal compound may be included in the range that does not interfere with the object of the present invention, and for example, may include metal compounds such as Zn, Co, Mn, K, Na, and the like.

본 발명에서 얻을 수 있는 개질 폴리알킬렌나프탈레이트는, 촉매에서 기인하는 폴리머 불용물의 양이 없거나 극히 적고, 또한 필름 제막성이 우수한 고밀도 자기기록매체용 필름의 성형용 원료로서 특히 유용하다.The modified polyalkylene naphthalate obtained in the present invention is particularly useful as a raw material for forming a film for a high density magnetic recording medium having little or no polymer insoluble matter resulting from the catalyst and having excellent film forming properties.

본 발명의 개질 폴리알킬렌나프탈레이트를 필름에 성형하는 수단으로는 공지의 방법을 사용할 수 있다. 예를 들면 건조된 폴리알킬렌나프탈레이트를 [Tm] ∼ [Tm + 65] ℃ (Tm 은 폴리알킬렌나프탈레이트의 융점 ℃ 이다) 의 온도범위에서 시이트상으로 용융압출하고, 급냉고화하여 미연신필름 (시이트) 을 얻는다. 이어서 상기 미연신필름을 수직방향으로 연신한 후, 수평방향으로 연신한다. 소위 수직·수평축차 이축연신법, 혹은 상기 순서를 반대로 하여 연신하는 방법 등에 의해 연신한다. 연신온도 및 연신배율 등은 그 자체 공지의 수단 및 조건에서 선택할 수 있다.As a means for molding the modified polyalkylene naphthalate of the present invention into a film, a known method can be used. For example, the dried polyalkylene naphthalate is melt-extruded onto a sheet in the temperature range of [Tm]-[Tm + 65] ° C (Tm is the melting point ° C of polyalkylene naphthalate), rapidly cooled and unstretched film ( Sheet). Subsequently, the unstretched film is stretched in the vertical direction, and then stretched in the horizontal direction. Stretching is carried out by a so-called vertical and horizontal difference biaxial stretching method or a method of stretching in reverse order. The stretching temperature, the stretching ratio, and the like can be selected from means and conditions known per se.

본 발명에 의하면 표면평탄성이 우수한 필름을 얻을 수 있고 또한 그 정전밀착성이 양호하기 때문에, 필름 성형이 용이하고, 빠른 권취속도로 성형할 수 있어 생산성이 높은 폴리알킬렌나프탈레이트를 얻을 수 있다.According to the present invention, since a film having excellent surface flatness can be obtained and its electrostatic adhesion is good, it is easy to mold the film, can be molded at a high winding speed, and a high productivity polyalkylene naphthalate can be obtained.

본 발명자들은 상기 본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트로부터의 필름 제조에 대해 좀더 연구를 거듭한 결과, 특정 형상의 불활성미립자를 폴리머 중에 균일하게 분산시킨 조성물로 필름을 제조했을 경우, 표면의 평탄성 및 표면의 균질성이 조금도 손상되지 않고, 나아가 필름의 미끄러짐성과 주행내구성이 한층 개선되는 것을 발견했다.The inventors of the present invention have further studied the film production from the polyalkylene naphthalate of the present invention, when the film is made of a composition in which the inert particles of a specific shape uniformly dispersed in the polymer, the surface flatness and the surface of the It has been found that the homogeneity is not impaired at all, and furthermore, the slipperiness and running durability of the film are further improved.

이렇게 해서 본 발명에 의하면, 나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트로서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1) 및 (2) 를 만족하는 비율로 함유하고, 또한 평균입경이 0.01 ∼ 0.5 ㎛ 인 불활성미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물이 제공된다.Thus, according to this invention, the polyalkylene naphthalate which makes a naphthalene dicarboxylic acid component the main dicarboxylic acid component, and makes an aliphatic glycol component the main glycol component, The said polyalkylene naphthalate is (a) antimony compound And (b) a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having an ester-forming functional group in a proportion satisfying the following formulas (1) and (2), respectively, and containing inert fine particles having an average particle diameter of 0.01 to 0.5 µm. There is provided a polyalkylene naphthalate composition for a film, characterized in that.

0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1)

0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2)

(상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(Wherein Sb and S are molar ratios of sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units each having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate (unit: mmol%)) Indicates.)

상기 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물에 있어서, 폴리알킬렌나프탈레이트는 폴리머 성분, 안티몬 화합물, 술폰산 4 급 포스포늄염, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 인 화합물의 종류 및 이들 비율에 대해 이미 상세하게 설명했기 때문에, 이하의 설명에서는 이들에 대한 설명은 생략한다. 이하 불활성미립자에 대해 상세히 설명한다.In the polyalkylene naphthalate composition, since the polyalkylene naphthalate has already been described in detail with respect to the types and ratios of polymer components, antimony compounds, sulfonic acid quaternary phosphonium salts, magnesium compounds, calcium compounds and phosphorus compounds, In the description of the description thereof will be omitted. Hereinafter, the inert fine particles will be described in detail.

본 발명의 조성물에 있어서 사용되는 불활성미립자는 평균 입경이 0.01 ∼ 0.5 ㎛ 일 필요가 있다. 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 0.4 ㎛ 이다. 평균 입경이 0.01 ㎛ 미만에서는 필름으로 했을 때의 미끄러짐성이나 내마모성이 불충분하다. 또한 평균 입경이 0.5 ㎛ 를 넘는 경우는 표면조도가 너무 커서 필름평탄성이 손상되므로 고밀도 기록용자기매체의 베이스필름에 필요한 평탄성을 얻을 수 없게 된다.The inert fine particles used in the composition of the present invention need to have an average particle diameter of 0.01 to 0.5 µm. More preferably, it is 0.03-0.4 micrometer. If the average particle diameter is less than 0.01 µm, the slip resistance and wear resistance when the film is formed are insufficient. In addition, when the average particle diameter exceeds 0.5 mu m, the surface roughness is so large that the film flatness is impaired, so that the flatness required for the base film of the high density recording magnetic medium cannot be obtained.

이 때 사용되는 불활성미립자는 1 종류만 사용할 수도 있고 2 종류 이상을 사용할 수도 있다. 2 종류 이상을 사용하는 경우에는, 상이한 종류의 불활성미립자를 사용할 수도 있고, 입경이 상이한 입자를 사용할 수도 있으며, 혹은 종류와 입경이 모두 상이한 불활성미립자를 조합하여 사용할 수도 있다.At this time, only one type of inert fine particles may be used, or two or more types may be used. When using two or more types, different types of inert fine particles may be used, particles having different particle diameters may be used, or inert fine particles having different types and particle sizes may be used in combination.

본 발명에서의 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물은 상기 형상의 불활성미립자를 함유하고 있다. 여기서 사용할 수 있는 불활성미립자로는, 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 카올리나이트 및 탈크 등의 무기미립자, 또는 가교폴리스티렌, 가교아크릴, 가교폴리에스테르 등의 가교고분자의 유기미립자 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 그 표면에 폴리머 친화성이 있는 수산기를 갖는 불활성무기미립자, 실리카입자, 티타니아입자 또는 알루미나입자가 바람직하다.The polyalkylene naphthalate composition in this invention contains the inert particle of the said shape. Examples of the inert fine particles that can be used herein include inorganic fine particles such as silica, titania, alumina, zirconia, kaolinite, and talc, or organic fine particles of crosslinked polymers such as crosslinked polystyrene, crosslinked acrylic, and crosslinked polyester. Among these, inert inorganic fine particles, silica particles, titania particles or alumina particles having a hydroxyl group having a polymer affinity on the surface thereof are preferable.

이들 입자에 관하여 입자 형상 등에 제한은 없으나, 필름 표면을 보다 평탄하고 균일하게 하기 위해서는 단분산(單分散)의 구형 무기미립자를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.Although there is no restriction | limiting in particle shape etc. with respect to these particles, In order to make a film surface more flat and uniform, it is more preferable to use monodisperse spherical inorganic fine particles.

또한 단분산의 구형 무기미립자를 사용하는 경우에는 하기식 (6) 으로 정의되고 체적구형계수 (φ) 가 0.30 ∼ π/6 의 범위에 있는 것이 바람직하다. 이 범위는 미립자의 형상이 구형 또는 그에 가까운 형상임을 의미한다.In addition, when using monodisperse spherical inorganic fine particles, it is preferable to define by following formula (6) and to have a volume spherical coefficient (phi) in the range of 0.30-(pi) / 6. This range means that the shape of the fine particles is spherical or close to the shape.

φ= V / d3(6)φ = V / d 3 (6)

(여기서, V 는 후술하는 측정법에 의해 구해지는 평균 입경으로부터 산출된 평균 체적 (㎛3), d 는 투영면에서의 최대직경의 평균직경 (㎛) 을 의미한다.)(V here means an average volume (μm 3 ) calculated from an average particle diameter determined by the measuring method described below, and d means an average diameter (μm) of the maximum diameter on the projection surface.)

V 는 평균 입경으로부터 용이하게 계산할 수 있다. 또한, d 도 입자를 주사형 전자현미경으로 관찰, 사진투영하고 화상해석함으로써 용이하게 얻을 수 있다.V can be easily calculated from the average particle diameter. In addition, d degree particles can be easily obtained by observing, photographing, and analyzing images with a scanning electron microscope.

또한, 단분산의 구형 무기미립자는 세공(細孔)용적이 1.0 ml/g 이하인 것이 바람직하다. 세공용적이 1.0 ml/g 을 넘는 경우에는 입자가 분쇄되기 쉬워, 제막공정에서의 분쇄나 제품으로 했을 때의 주행내구성 등이 악화되기 때문에 바람직하지 않다.In addition, it is preferable that the monodisperse spherical inorganic fine particles have a pore volume of 1.0 ml / g or less. When the pore volume exceeds 1.0 ml / g, the particles tend to be pulverized, which is not preferable because the pulverization in the film forming step, the running durability when the product is made, and the like deteriorate.

또한, 단분산의 구형 무기미립자는 비표면적이 100 m2/g 이하인 것이 바람직하다. 비표면적이 100 m2/g 을 넘는 경우에는 입자간 상호작용이 증대되어 버리기 때문에 입자간 응집이 발생하기 쉬워 입자분산성이 악화된다.In addition, it is preferable that the monodisperse spherical inorganic fine particles have a specific surface area of 100 m 2 / g or less. When the specific surface area exceeds 100 m 2 / g, the interparticle interaction increases, so that the intergranular aggregation easily occurs, and the particle dispersibility deteriorates.

본 발명에 있어서, 입경, 형상, 세공용적 및 비표면적이 전술한 조건을 만족하는 구형 실리카입자를 사용하는 경우 특히 효과적으로 바람직하다.In the present invention, the use of spherical silica particles in which the particle size, shape, pore volume and specific surface area satisfy the above-mentioned conditions is particularly effective.

본 발명에서 불활성미립자의 폴리알킬렌나프탈레이트에 대한 첨가량은 0.01 ∼ 10 중량% 이고, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 중량% , 특히 바람직하게는 0.02 ∼ 1 중량% 이다. 상기 양이 10 중량 % 를 넘으면 충분한 분산성을 얻을 수 없다. 반대로 0.01 중량% 미만이면 입자첨가의 효과가 충분히 발현되지 않는다.In the present invention, the addition amount of the inert particulates to the polyalkylene naphthalate is 0.01 to 10% by weight, preferably 0.01 to 5% by weight, particularly preferably 0.02 to 1% by weight. If the amount exceeds 10% by weight, sufficient dispersibility may not be obtained. On the contrary, when it is less than 0.01 weight%, the effect of particle addition is not fully expressed.

또한, 얻은 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물 중의 불활성미립자는 균일하게 분산되어 있고, 따라서 폴리알킬렌나프탈레이트를 연신필름으로 했을 경우, 필름중의 입자의 분쇄가 적고 균일한 요철 표면을 얻을 수 있으며, 이활성 (易滑性) 및 내마모성이 우수한 필름을 얻을 수 있다.In addition, the inert fine particles in the obtained polyalkylene naphthalate composition are uniformly dispersed. Therefore, when the polyalkylene naphthalate is a stretched film, the particles in the film are less pulverized and a uniform uneven surface can be obtained. It is possible to obtain a film excellent in corrosion resistance and wear resistance.

본 발명에서 얻은 폴리알킬렌나프탈레이트는 촉매에 기인하는 폴리머 불용물의 양이 없거나 매우 적으면서 필름 제막성이 우수하고, 특히 고밀도 자기기록매체의 베이스필름의 성형용 원료로서 유용하다.The polyalkylene naphthalate obtained in the present invention is excellent in film forming properties with little or no amount of polymer insolubles due to the catalyst, and is particularly useful as a raw material for forming a base film of a high density magnetic recording medium.

이하, 본 발명을 실시예를 들어서 더욱 상세하게 설명하나, 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예에서의 각종 물성 및 특성의 측정 방법 및 정의는 다음과 같다.Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. In addition, the measuring method and definition of various physical properties and characteristics in the Example are as follows.

(1) 평탄성(1) flatness

작은 필름조각의 표면에 알루미늄스패터를 실시하고, 광학현미경으로 미분간섭광을 조사하면서 배율 200 배에서 3 mm ×3 mm 의 범위를 관찰한다. 그리고, 안티몬 석출로 인한 돌기와 인식가능한 입자를 카운트하여 필름의 평탄성을 평가한다. 이 때 불활성미립자에 의한 돌기는 카운트수에서 제한다. 즉, 불활성미립자를 함유하는 경우의 돌기의 카운트는 하기 방법에 따라 구한 값이다.An aluminum spatter is applied to the surface of a small piece of film, and a range of 3 mm x 3 mm is observed at a magnification of 200 times while irradiating differential light with an optical microscope. Then, the flatness of the film is evaluated by counting the projections and the recognizable particles due to antimony precipitation. At this time, the projection by the inert fine particles is subtracted from the count number. That is, the count of the protrusion in the case of containing inert fine particles is the value calculated | required according to the following method.

돌기와 인식가능한 입자를 마킹하여 카운트한다.Count and count protrusions and recognizable particles.

그 후, 필름 표면의 알루미늄을 수산화나트륨 수용액으로 제거하고, 에이꼬엔지니어링사 (주) 제조의 스패터링 장치 (1B-2 형 이온코터 장치) 로 필름 표면을 단계적으로 이온 에칭한다. 각 단계마다 카본 증착을 실시하고, 주사형 전자현미경으로 마킹한 입자를 관찰하여 불활성미립자가 관여하는 입자가 어떠한가를 확인한 후, 불활성미립자 원인의 입자 (예를 들면, 불활성미립자의 응집입자 등) 인 경우에는 상기 카운트의 값으로부터 제한 값으로 평탄성을 평가한다.Thereafter, aluminum on the surface of the film is removed with an aqueous sodium hydroxide solution, and the surface of the film is ion-etched stepwise by a sputtering device (1B-2 type ion coater device) manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd. After each step, carbon deposition was carried out and the particles marked with a scanning electron microscope were observed to determine what particles the inert particles are involved in. Then, the particles of the inert fine particles (for example, agglomerated particles of the inert particles) were identified. In this case, flatness is evaluated from the count value to the limit value.

〈4 단계 측정〉〈4-step measurement〉

◎ 돌기수가 20 개/mm2이하◎ No. of projections 20 / mm 2 or less

○ 돌기수가 21 ∼ 40 개/mm2 ○ number of protrusions 21-40 / mm 2

× 돌기수가 40 ∼ 99개/mm2 X number of protrusions 40-99 / mm 2

×× 돌기수가 100 개/mm2이상X × number of projections 100 / mm 2 or more

(2) 폴리머 중의 석출입자(2) precipitated particles in the polymer

폴리에스테르 필름에 대해, 자기층 및 인라인 코팅층 등이 있는 경우는 이들을 강알카리수 또는 유기용제 등으로 박리제거한 후, 증류수로 충분히 세정하여 건조한다. 자기층 등이 없는 경우도 증류수로 충분히 세정하고 표면부착물을 제거하여 건조한다.When a polyester film has a magnetic layer, an in-line coating layer, etc., it removes them with strong alkaline water, an organic solvent, etc., and wash | cleans with distilled water, and it dries. Even in the absence of a magnetic layer, it is sufficiently washed with distilled water and dried by removing the surface deposits.

폴리에스테르 필름을 100 g 채취하고, 이에 o-클로로페놀 1 kg 을 첨가하여 교반하면서 120 ∼ 140 ℃ 까지 승온하고, 약 3 ∼ 5 시간동안 유지하면서 폴리에스테르를 용해시킨다. 단, 결정화 부분 등이 용해되지 않는 경우, 한번 가온된 o-클로로페놀을 급냉한 다음 다시 상기 용해작업을 행한다.100g of polyester films are extract | collected, 1 kg of o-chlorophenols are added, it heats up to 120-140 degreeC, stirring, and melts polyester, maintaining for about 3 to 5 hours. However, when the crystallization part etc. are not melt | dissolved, the once-warmed o-chlorophenol is quenched and the said dissolution operation is performed again.

이어서 폴리에스테르 중에 함유되어 있는 이물 등을 제거하기 위해, 전술한 o-클로로페놀 용해액을 G-1 유리필터로 여과하고, 이 잔사중량을 시료중량으로 부터 제한다.Subsequently, in order to remove the foreign material etc. which are contained in polyester, the above-mentioned o-chlorophenol dissolution liquid is filtered by G-1 glass filter, and this residue weight is subtracted from a sample weight.

히타치세이사꾸쇼 제조의 초원심분리기 (55P-7 형, 로터 형식 RP-30-2) 로 상기 G-1 유리필터 여과액을 30,000 rpm 으로 한시간 동안 처리하여 o-클로로페놀 용해액 중의 미립자의 원심분리를 행한다. 입자 침강의 확인은 원심분리처리의 전후에서 o-클로로페놀 용해액의 광선투과율을 측정하고, 분리후 액의 광선투과율 375 ㎛ 의 값이 분리전의 값과 비교하여 높은 값 또는 동일한 값으로 되어 있음을 확인한다. 원심분리후, 상등액을 경사법으로 제거하고 분리입자를 꺼낸다. 분리입자에는 불충분한 원심분리로 인해 폴리에스테르 성분의 혼입이 있는 경우가 있으므로, 분리해낸 상기 분리입자에 상온의 o-클로로페놀을 첨가하여 초음파분산기 등으로 상기 분리입자를 균일하게 분산시킨 후, 다시 초원심분리처리를 행한다. 이 조작은 상등액 중의 메탄올 등의 유기용제에 과잉으로 첨가했을 때 폴리에스테르 성분의 재침이 보이지 않을 때까지 반복할 필요가 있다.The G-1 glass filter filtrate was treated for one hour at 30,000 rpm using a Hitachi Seisakusho ultracentrifuge (55P-7 type, rotor type RP-30-2) to centrifuge the fine particles in the o-chlorophenol solution. Separation is performed. Particle sedimentation was confirmed by measuring the light transmittance of the o-chlorophenol solution before and after centrifugation, and after the separation, the value of the light transmittance of 375 μm was higher or equal to that before the separation. Check it. After centrifugation, the supernatant is removed by decantation and the separated particles are taken out. Since the separated particles may contain a polyester component due to insufficient centrifugation, o-chlorophenol at room temperature is added to the separated particles, and the dispersed particles are uniformly dispersed with an ultrasonic disperser, and then again. The ultracentrifugation process is performed. This operation needs to be repeated until the reprecipitation of the polyester component is not seen when excessively added to an organic solvent such as methanol in the supernatant.

상기와 같은 방법으로 분리한 분리입자 (A) 를 100 ℃ 에서 8 시간동안 진공 건조하여 양을 측정한다. 여기서 얻은 분리입자가 촉매금속원소에 기인하는 석출입자이다.The separated particles (A) separated by the above-mentioned method is vacuum dried at 100 ° C. for 8 hours to measure the amount. The separated particles obtained here are precipitated particles derived from catalytic metal elements.

(3) 정전밀착성(3) electrostatic adhesion

폴리머를 180 ℃ 에서 건조한 후 305 ℃ 에서 용융 압출하고, 40 ℃ 로 유지된 캐스팅드럼 상에서 급냉고화시켜 미연신필름을 감을 때, 정전피닝법으로 필름의 두께 불균일이 적으면서, 안정되게 감기는 속도에 의해 정전밀착성을 평가한다.When the polymer is dried at 180 ° C. and melt-extruded at 305 ° C. and rapidly cooled on a casting drum maintained at 40 ° C. to wind the unstretched film, the film is wound at a stable winding speed with little thickness unevenness by the electrostatic peening method. Electrostatic adhesiveness is evaluated.

○: 권취속도 40 m/분 이상○: winding speed 40 m / min or more

△: 권취속도 30 m/분 이상 40 m/분 미만(Triangle | delta): Winding speed 30 m / min or more and less than 40 m / min

×: 권취속도 30 m/분 미만X: less than 30 m / min winding speed

(4) 분산성(4) dispersibility

작은 시료 필름조각을 주사형 전자현미경용 시료대에 고정하고, 에이꼬엔지니어링사 (주) 제조의 스패터링 장치 (1B-2 형 이온코터 장치) 를 사용하여 필름 표면에 하기 조건에서 이온 에칭처리한다.A small piece of sample film is fixed to a sample stand for scanning electron microscope, and ion etching treatment is performed on the surface of the film by using a sputtering device (1B-2 type ion coater device) manufactured by Aiko Engineering Co., Ltd. under the following conditions.

조건은 실린더자(jar) 내에 시료를 설치하고, 약 5 ×10-2Torr 의 진공상태까지 진공도를 높여, 전압 0.90 kV, 전류 5 mA 에서 약 5 분간 이온 에칭을 실시한다. 또한, 같은 장치로 필름 표면에 금 스패터를 행하고, 주사형 전자현미경을 사용하여 5000 배로 5 ㎛ ×10 ㎛ 의 범위를 관찰하여 입자의 응집상태를 관찰하고 평가한다.Under the conditions, a sample was placed in a cylinder jar, the degree of vacuum was increased to a vacuum state of about 5 x 10 -2 Torr, and ion etching was performed for about 5 minutes at a voltage of 0.90 kV and a current of 5 mA. In addition, gold sputtering was performed on the surface of the film by the same apparatus, and the aggregation state of the particles was observed and evaluated by observing the range of 5 µm x 10 µm at 5000 times using a scanning electron microscope.

○ 측정면적내 전체 입자 중의 15 % 미만이 응집입자로서 존재○ Less than 15% of all particles in the measurement area exist as aggregated particles

△ 측정면적내 전체 입자 중의 15 % ∼ 30 % 미만이 응집입자로서 존재△ 15% to less than 30% of all particles in the measurement area exist as aggregated particles

× 측정면적내 전체 입자 중의 30 % 이상이 응집입자로서 존재× At least 30% of all particles in the measured area exist as aggregated particles

(5) 입자의 평균입경(5) Average particle size of particles

입자 입경의 측정은 다음의 수법에 의해 행한다.The particle size is measured by the following method.

불활성무기입자를 매체로 분산시킨 분산액에 물을 첨가하여 저농도의 용액으로 한 후, 시마즈세이사꾸쇼 제조의 원심침강식 입도분포측정 장치 (CAPA-500) 를 사용하여 평균입경을 측정한다.Water was added to the dispersion liquid in which the inert inorganic particles were dispersed in the medium to obtain a low concentration solution, and then the average particle diameter was measured using a centrifugal sedimentation particle size distribution analyzer (CAPA-500) manufactured by Shimadzu Corporation.

(6) 제막생산안정성(6) Film production stability

필름을 권취속도 50 m/분에서 제조했을 경우의 두께 불균일을 평가함으로써 제막생산안정성의 기준으로 한다. 즉, 얻은 필름을 폭방향으로 2 m 의 샘플 필름 조각을 잘라 내고, 안리츠 제조의 전자 마이크로메터로 두께를 측정하고, 두께의 변화 및 평균치를 구해 하기 3 단계의 평가로 제막생산안정성을 나타낸다.The film production stability is evaluated by evaluating the thickness nonuniformity when the film is produced at a winding speed of 50 m / min. That is, the obtained film is cut out in 2 m of sample film pieces in the width direction, the thickness is measured by an electron micrometer manufactured by Anritsu, the thickness change and the average value are obtained, and the film production stability is shown by the following three steps of evaluation.

〈3 단계 평가〉<Three phases of evaluation>

◎ 평균두께와 최대 또는 최소 두께의 차가 0.3 ㎛ 미만◎ The difference between average thickness and maximum or minimum thickness is less than 0.3 ㎛

○ 평균두께와 최대 또는 최소 두께의 차가 0.3 ㎛ 이상 0.5 ㎛ 미만○ The difference between average thickness and maximum or minimum thickness is 0.3 µm or more and less than 0.5 µm

× 평균두께와 최대 또는 최소 두께의 차가 0.5 ㎛ 이상× difference between average and maximum or minimum thickness

실시예 1Example 1

2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸에스테르 100 부와 에틸렌글리콜 60 부, 아세트산마그네슘 4 수염 0.045 부 및 아세트산칼슘 1 수염 0.009 부를 에스테르 교환반응 촉매로 사용하고, 또한 이 때 디에틸렌글리콜의 폴리머 중의 함유량이 0.7 wt% 가 되는 양을 첨가한다.100 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dimethyl ester, 60 parts of ethylene glycol, 0.045 parts of magnesium acetate 4 beard, and 0.009 parts of calcium acetate 1 beard are used as a transesterification catalyst, and the content of diethylene glycol in the polymer The amount to become 0.7 wt% is added.

통상의 방법에 따라서 에스테르 교환반응을 실시한 다음 트리메틸포스페이트 0.011 부를 첨가하여 실질적으로 에스테르 교환반응을 종료한다.After transesterification according to a conventional method, 0.011 part of trimethyl phosphate is added to substantially terminate the transesterification reaction.

이어서 삼산화안티몬 0.023 부, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염 0.002 부의 혼합물을 첨가한다. 이 후, 상기 혼합물을 중합반응기로 옮겨 295 ℃ 까지 승온하고, 26.7 Pa 이하의 진공도 하에서 통상의 방법으로 중축합반응을 행하여 고유점도 0.61 인 개질 폴리에틸렌나프탈레이트를 얻는다. 이 개질 폴리에틸렌나프탈레이트의 290 ℃ 에서의 교류체적저항율 값은 3.1 ×107Ωcm 였다.Then a mixture of 0.023 parts of antimony trioxide and 0.002 parts of 3,5-dicarboxybenzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt is added. Thereafter, the mixture is transferred to a polymerization reactor, the temperature is raised to 295 ° C., and a polycondensation reaction is carried out by a conventional method under a vacuum degree of 26.7 Pa or less to obtain a modified polyethylene naphthalate having an intrinsic viscosity of 0.61. The altered volume resistivity value at 290 ° C. of this modified polyethylene naphthalate was 3.1 × 10 7 Ωcm.

이 개질 폴리에틸렌나프탈레이트의 펠릿을 170 ℃ 에서 3 시간 건조한 후, 압출기호퍼로 공급하여 용융온도 290 ℃ 에서 1 mm 의 슬릿상 대를 통과시키고 200 ㎛ 에서 융용압출한 후, 선상 전극을 이용하여 표면마무리 0.3 초 정도, 표면온도 20 ℃ 의 회전냉각드럼 상에 밀착고화한다. 이 때 냉각드럼의 속도를 서서히 올려 밀착불량으로 인한 필름의 표면결점을 발생시키지 않고 안정되게 냉각필름을 제조할 수 있는 캐스팅 속도는 50 m/분 이다. 이어서, 상기 미연신필름을 75 ℃ 에서 예열하고, 저속, 고속의 롤 사이에서 15 mm 상방으로부터 표면온도 900 ℃ 의 IR 히터 한 대로 가열하여 3.6 배로 연신한 후, 스텐터에 공급하여 105 ℃ 에서 수평방향으로 3.9 배 연신한다. 얻어진 이축연신필름을 230 ℃ 의 온도에서 5 초간 열고정처리하고, 두께 14 ㎛ 의 열고정 이축연신의 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻었다.The modified polyethylene naphthalate pellets were dried at 170 ° C. for 3 hours, fed into an extruder hopper, passed through a 1 mm slit band at a melting temperature of 290 ° C., and melt-extruded at 200 μm, followed by surface finishing using a linear electrode. About 0.3 second, it solidifies on a rotary cooling drum of surface temperature of 20 degreeC. At this time, the casting speed is 50 m / min to increase the speed of the cooling drum slowly and stably produce the cooling film without causing surface defects of the film due to poor adhesion. Subsequently, the unstretched film was preheated at 75 ° C., stretched 3.6 times by heating with a IR heater having a surface temperature of 900 ° C. from 15 mm above between low-speed and high-speed rolls, and fed to a stenter, and then horizontally at 105 ° C. 3.9 times in the direction of stretching. The obtained biaxially oriented film was subjected to heat setting treatment at a temperature of 230 ° C. for 5 seconds to obtain a modified polyethylene naphthalate film having a heat setting biaxial stretching of 14 μm in thickness.

이 필름의 특성을 표 1 및 표 2 에 나타낸다.The characteristics of this film are shown in Table 1 and Table 2.

실시예 2Example 2

2,6-나프탈렌디카르복실산의 비스-β-히드록시에틸에스테르 120 부와 2,6-나프탈렌디카르복실산 85 부에 에틸렌글리콜 30 부와 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염 0.01 부의 혼합물을 첨가하고, 또한 디에틸렌글리콜을 폴리머 중의 함유량이 1.0 wt% 가 되도록 첨가하여 210 ∼ 230 ℃ 의 온도에서 에스테르 반응을 행한다.120 parts of bis-β-hydroxyethyl ester of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 85 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 30 parts of ethylene glycol and 3,5-dicarboxybenzene sulfonic acid tetrabutyl phospho A mixture of 0.01 part of the salt of nium is added, and diethylene glycol is added so that the content in the polymer is 1.0 wt%, and the ester reaction is performed at a temperature of 210 to 230 ° C.

반응에 의해 생성되는 물의 양이 13 부가 된 시점에서 반응 종료하고, 아세트산마그네슘 4 수염 0.045 부 및 아세트산칼슘 1 수염 0.009 부 및 트리메틸포스페이트 0.02 부를 첨가하여 10 분간 교반한 후, 삼산화안티몬 0.046 부를 첨가한다. 이 후, 반응생성물을 중합반응기로 옮기고, 295 ℃ 까지 승온하여 26.7 Pa 이하의 고진공도 하에서 중축합반응을 행하여 고유점도 0.61 인 개질 폴리에틸렌나프탈레이트를 얻는다. 이 개질 폴리에틸렌나프탈레이트의 290 ℃ 에서의 교류체적저항율 값이 3.1 ×107Ωm 였다. 얻어진 개질 폴리에틸렌나프탈레이트를 실시예 1 과 동일한 방법으로 제막하여 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다.The reaction was terminated when the amount of water produced by the reaction was 13 parts added, and 0.045 parts of magnesium acetate 4 beard, 0.009 parts of calcium acetate 1 and 0.02 parts of trimethyl phosphate were added and stirred for 10 minutes, and then 0.046 parts of antimony trioxide was added. Thereafter, the reaction product is transferred to a polymerization reactor, and the temperature is raised to 295 ° C. to carry out a polycondensation reaction under a high vacuum of 26.7 Pa or less to obtain a modified polyethylene naphthalate having an intrinsic viscosity of 0.61. The alternating volume resistivity value at 290 ° C. of this modified polyethylene naphthalate was 3.1 × 10 7 Ωm. The obtained modified polyethylene naphthalate is formed into a film in the same manner as in Example 1 to obtain a modified polyethylene naphthalate film.

이 필름의 특성은, 표 1 및 표 2 에 나타낸 바와 같이, 석출입자가 적고 필름의 평탄성 및 정전밀착성이 우수한 것이다.As shown in Table 1 and Table 2, the characteristics of this film are those having few precipitated particles and excellent film flatness and electrostatic adhesion.

실시예 3Example 3

실시예 1 에 있어서, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디메틸 100 부를 2,6-나프탈렌디카르복실산 디메틸 91 부 및 이소프탈산 디메틸 9 부로 하는 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성은, 표 1 및 표 2 에 나타난 바와 같이, 석출입자가 적고 필름의 평탄성 및 정전밀착성이 우수한 것이었다.Modified polyethylene in the same manner as in Example 1, except that 100 parts of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid was substituted with 91 parts of dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 9 parts of dimethyl isophthalate. Obtain a naphthalate film. As shown in Table 1 and Table 2, the characteristics of this film were low in precipitated particles and excellent in flatness and electrostatic adhesion of the film.

실시예 4 ∼ 6Examples 4-6

실시예 1 에 있어서, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 아세트산마그네슘, 아세트산칼슘, 인산트리메틸 및 삼산화안티몬의 양을 표 1 에 나타낸 양으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성은 표 1 및 표 2 에 나타낸 바와 같이, 석출입자가 적고 필름의 평탄성 및 정전밀착성이 우수한 것이다.Example 1, except that the amount of 3,5-dicarboxybenzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt, magnesium acetate, calcium acetate, trimethyl phosphate and antimony trioxide was changed to the amount shown in Table 1 and In the same manner, a modified polyethylene naphthalate film is obtained. As shown in Table 1 and Table 2, the characteristics of this film are that they have few precipitated particles and are excellent in flatness and electrostatic adhesion of the film.

실시예 7Example 7

실시예 3 에 있어서, 이소프탈산의 양을 표 1 에 나타낸 양으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 3 과 동일한 방법으로 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성은 표 1 및 표 2 에 나타낸 바와 같이, 석출입자가 적고 필름의 평탄성 및 정전밀착성이 우수한 것이다.In Example 3, a modified polyethylene naphthalate film is obtained in the same manner as in Example 3 except that the amount of isophthalic acid is changed to the amount shown in Table 1. As shown in Table 1 and Table 2, the characteristics of this film are that they have few precipitated particles and are excellent in flatness and electrostatic adhesion of the film.

실시예 8Example 8

실시예 3 에 있어서, 나프탈렌디카르복실산 이외의 산성분을 표 1 에 나타낸 산성분 및 양으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 3 과 동일한 방법으로 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성은 표 1 및 표 2 에 나타낸 바와 같이, 석출입자가 적고 필름의 평탄성 및 정전밀착성이 우수한 것이다.In Example 3, a modified polyethylene naphthalate film is obtained in the same manner as in Example 3, except that acid components other than naphthalenedicarboxylic acid are changed to the acid components and amounts shown in Table 1. As shown in Table 1 and Table 2, the characteristics of this film are that they have few precipitated particles and are excellent in flatness and electrostatic adhesion of the film.

비교예 1 ∼ 4Comparative Examples 1 to 4

실시예 1 에 있어서, 3,5-디카르복시벤젠술폰산 테트라부틸포스포늄염, 아세트산마그네슘, 인산트리메틸, 디에틸렌글리콜 및 삼산화안티몬의 양을 표 1 에 나타낸 양으로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1 과 동일한 방법으로 개질 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성은 표 1 및 표 2 에 나타낸 바와 같이, 평탄성이 나쁘고 석출입자도 실시예에 비해 열등한 것이다.Example 1, except that the amounts of 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid tetrabutylphosphonium salt, magnesium acetate, trimethyl phosphate, diethylene glycol and antimony trioxide were changed to the amounts shown in Table 1 In the same manner as in the modified polyethylene naphthalate film is obtained. As shown in Tables 1 and 2, the properties of this film are poor in flatness and inferior in precipitated particles as compared with Examples.

실시예 9Example 9

2,6-나프탈렌디카르복실산디메틸에스테르 100 부와 에틸렌글리콜 60 부, 아세트산마그네슘 4 수염 0.045 부 및 아세트산칼슘 1 수염 0.009 부를 에스테르 교환반응 촉매로 사용하고, 또한 이 때 디에틸렌글리콜을 그의 폴리머 중의 함유량이 0.7 wt% 가 되는 양을 첨가한다.100 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dimethyl ester, 60 parts of ethylene glycol, 0.045 parts of magnesium acetate 4 beard and 0.009 parts of calcium acetate 1 are used as a transesterification catalyst, and diethylene glycol is used in the polymer The amount which content becomes 0.7 wt% is added.

통상의 방법에 따라서 에스테르 교환반응을 시키고, 그후 트리메틸포스페이트 0.011 부를 첨가하여 실질적으로 에스테르 교환반응을 종료한다.The transesterification is carried out according to a conventional method, and then 0.011 parts of trimethyl phosphate is added to substantially terminate the transesterification reaction.

이어서 삼산화안티몬 0.023 부, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염 0.002 부의 혼합물을 첨가한다. 또, 평균입경이 0.06 ㎛ 인 구상 실리카를 폴리머 중의 농도가 0.05 wt% 가 되도록 첨가한다. 이 후, 상기 혼합물을 중합반응기로 옮겨 295 ℃ 까지 승온하고, 26.7 Pa 이하의 고진공 하에서 통상의 방법으로 중축합반응을 행하여 고유점도 0.61 인 폴리에틸렌나프탈레이트 조성물을 얻는다. 이 폴리에틸렌나프탈레이트 조성물의 290 ℃ 에서의 교류체적저항율 값은 3.1 ×107Ωcm 이었다.Then a mixture of 0.023 parts of antimony trioxide and 0.002 parts of 3,5-dicarboxybenzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt is added. Further, spherical silica having an average particle diameter of 0.06 mu m is added so that the concentration in the polymer is 0.05 wt%. Thereafter, the mixture is transferred to a polymerization reactor, the temperature is raised to 295 ° C, and a polycondensation reaction is carried out by a conventional method under a high vacuum of 26.7 Pa or less to obtain a polyethylene naphthalate composition having an intrinsic viscosity of 0.61. The AC volume resistivity value at 290 ° C. of this polyethylene naphthalate composition was 3.1 × 10 7 Ωcm.

이 폴리에틸렌나프탈레이트의 펠릿을 170 ℃ 에서 3 시간 건조한 후, 압출기호퍼로 공급하여, 용융온도 290 ℃ 에서 1 mm 의 슬릿상 대를 통과시키고 200 ㎛ 에서 융용압출한 후, 선상 전극을 이용하여 표면마무리 0.3 초 정도, 표면온도 20 ℃ 의 회전냉각드럼 상에 밀착고화한다. 이 때 냉각드럼의 속도를 서서히 올려 밀착불량으로 인한 필름의 표면결점을 발생시키지 않고 안정되게 냉각필름을 제조할 수 있는 캐스팅 속도는 50 m/분 이다. 이어서, 이 미연신필름을 75 ℃ 에서 예열하고, 저속, 고속의 롤 사이에서 15 mm 상방으로부터 표면온도 900 ℃ 의 IR 히터 한 대로 가열하여 3.9 배 연신한 다음, 스텐터에 공급하고 105 ℃ 에서 수평방향으로 3.9 배 연신한다. 얻어진 이축연신필름을 230 ℃ 의 온도에서 5 초간 열고정처리하여, 두께 14 ㎛ 의 열고정 이축연신필름을 얻는다.The polyethylene naphthalate pellet was dried at 170 ° C. for 3 hours, then fed to an extruder hopper, passed through a 1 mm slit band at a melting temperature of 290 ° C. and melt-extruded at 200 μm, and then surface finished using a linear electrode. About 0.3 second, it solidifies on a rotary cooling drum of surface temperature of 20 degreeC. At this time, the casting speed is 50 m / min to increase the speed of the cooling drum slowly and stably produce the cooling film without causing surface defects of the film due to poor adhesion. Subsequently, the unstretched film was preheated at 75 ° C., stretched 3.9 times by heating with a IR heater having a surface temperature of 900 ° C. from 15 mm above between low-speed and high-speed rolls, and then fed to a stenter and horizontally at 105 ° C. 3.9 times in the direction of stretching. The obtained biaxially oriented film was heat-set for 5 seconds at a temperature of 230 ° C. to obtain a heat-fixed biaxially oriented film having a thickness of 14 μm.

이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

실시예 10Example 10

2,6-나프탈렌디카르복실산의 비스-β-히드록시에틸에스테르 120 부와 2,6-나프탈렌디카르복실산 85 부에 에틸렌글리콜 30 부와 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염 0.01 부의 혼합물을 첨가하고, 또한 디에틸렌글리콜의 폴리머 중의 함유량이 1.0 wt% 가 되도록 첨가하여, 210 ∼ 230 ℃ 의 온도에서 에스테르화 반응을 행한다.120 parts of bis-β-hydroxyethyl ester of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 85 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and 30 parts of ethylene glycol and 3,5-dicarboxybenzene sulfonic acid tetrabutyl phospho A mixture of 0.01 part of the salt of nium is added, and the content of diethylene glycol is added so as to be 1.0 wt%, and the esterification reaction is performed at a temperature of 210 to 230 ° C.

반응에 의해 생성되는 물의 양이 13 부가 된 시점에서 반응 종료하고, 아세트산마그네슘 4 수염 0.045 부 및 아세트산칼슘 1 수염 0.009 부 및 트리메틸포스페이트 0.02 부를 첨가하여 10 분간 교반한 후 삼산화안티몬 0.046 부를 첨가한다. 또, 평균입경이 0.06 ㎛ 의 구상 실리카를 폴리머 중의 농도가 0.05 wt% 가 되도록 첨가한다. 이 후, 반응생성물을 중합반응기로 옮기고, 295 ℃ 까지 승온하여 26.7 Pa 이하의 고진공 하에서 중축합반응을 행하여 고유점도 0.61 인 폴리에틸렌나프탈레이트 조성물을 얻는다. 이 폴리에스테르의 290 ℃ 에서의 교류체적저항율 값이 3.1 ×107Ωm 이었다.The reaction was terminated when the amount of water produced by the reaction was added to 13, and 0.045 parts of magnesium acetate 4 beard, 0.009 parts of calcium acetate 1 and 0.02 parts of trimethyl phosphate were added, stirred for 10 minutes, and then 0.046 parts of antimony trioxide was added. Further, spherical silica having an average particle diameter of 0.06 mu m is added so that the concentration in the polymer is 0.05 wt%. Thereafter, the reaction product is transferred to a polymerization reactor, the temperature is raised to 295 ° C, and a polycondensation reaction is carried out under a high vacuum of 26.7 Pa or less to obtain a polyethylenenaphthalate composition having an intrinsic viscosity of 0.61. The alternating current volume resistivity value at 290 ° C. of this polyester was 3.1 × 10 7 Ωm.

얻어진 폴리에틸렌나프탈레이트 조성물을 실시예 9 와 동일한 방법으로 제막하여 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다.The obtained polyethylene naphthalate composition is formed into a film in the same manner as in Example 9 to obtain a polyethylene naphthalate film.

이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

실시예 11Example 11

실시예 9 에 있어서, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디메틸 100 부를 2,6-나프탈렌디카르복실산 디메틸 91 부 및 이소프탈산 디메틸 9 부로 하는 것을 제외하고는 실시예 9 와 동일한 방법으로 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.In Example 9, the polyethylene and the like in the same manner as in Example 9 except that 100 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dimethyl is 91 parts of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dimethyl and 9 parts of dimethyl isophthalic acid. A phthalate film is obtained. The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

실시예 12 ∼ 17Examples 12-17

실시예 9 에 있어서, 3,5-디카르복시벤젠술폰산 테트라부틸포스포늄염, 아세트산마그네슘, 아세트산칼슘, 인산트리메틸 및 삼산화안티몬의 각 첨가량, 첨가하는 불활성미립자의 종류와 첨가량 및 평균입경을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 9 과 동일한 방법으로 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.In Example 9, the amount of each of the 3,5-dicarboxybenzenesulfonic acid tetrabutylphosphonium salt, magnesium acetate, calcium acetate, trimethyl phosphate and antimony trioxide, the type and amount of the inert fine particles to be added, and the average particle diameter are shown in Table 3, Polyethylene naphthalate films are obtained in the same manner as in Example 9 except for the changes as shown in Tables 4 and 5. The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

실시예 18 및 19Examples 18 and 19

실시예 11 에 있어서, 나프탈렌디카르복실산 이외의 산성분과 그 양 및 불활성미립자의 평균입경을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 11 과 동일한 방법으로 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.Polyethylene in Example 11 was changed in the same manner as in Example 11, except that acid components other than naphthalenedicarboxylic acid, the amount thereof, and the average particle diameter of the inert fine particles were changed as shown in Tables 3, 4, and 5 Obtain a naphthalate film. The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

실시예 20Example 20

실시예 9 에 있어서, 구상 실리카의 폴리머 중의 농도를 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 9 와 동일한 방법으로 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.In Example 9, a polyethylene naphthalate film is obtained in the same manner as in Example 9 except that the concentration of the spherical silica in the polymer is changed as shown in Tables 3, 4, and 5. The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

비교예 5 ∼ 7Comparative Examples 5-7

실시예 9 에 있어서, 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염, 아세트산마그네슘, 인산트리메틸, 디에틸렌글리콜 및 삼산화안티몬의 각 첨가량, 첨가하는 불활성미립자의 종류, 평균입경 및 첨가량을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸 것과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 9 와 동일한 방법으로 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 얻는다. 이 필름의 특성을 표 3, 표 4 및 표 5 에 나타낸다.In Example 9, each addition amount of 3, 5- dicarboxy benzene sulfonate tetrabutyl phosphonium salt, magnesium acetate, trimethyl phosphate, diethylene glycol, and antimony trioxide, the kind, average particle diameter, and addition amount of the inert fine particles added are shown in Table 3. , Polyethylene naphthalate film is obtained by the same method as Example 9 except having changed as shown in Table 4 and Table 5. The characteristics of this film are shown in Table 3, Table 4 and Table 5.

술폰산염 *: 3,5-디카르복시벤젠술폰산테트라부틸포스포늄염Sulfonate *: 3,5-dicarboxybenzenesulfonate tetrabutylphosphonium salt

폴리머 조성Polymer composition 나프탈렌디카르복실산 이외의 산성분Acid components other than naphthalenedicarboxylic acid 불활성미립자Inert particulate 디에틸렌글리콜 함유량(wt%)Diethylene Glycol Content (wt%) 종류Kinds 사용량 (mol%)Usage amount (mol%) 입자종류Particle Type 평균입경(㎛)Average particle size (㎛) 함유량(wt%)Content (wt%) 실시예9Example 9 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.050.05 0.70.7 실시예10Example 10 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.050.05 1.01.0 실시예11Example 11 이소프탈산Isophthalic acid 1010 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.050.05 0.70.7 실시예12Example 12 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.200.20 0.70.7 실시예13Example 13 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.100.10 0.70.7 실시예14Example 14 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 0.050.05 0.70.7 실시예15Example 15 -- -- 실리카알루미나Silica alumina 0.200.20 0.050.05 0.70.7 실시예16Example 16 -- -- 알루미나Alumina 0.500.50 0.050.05 0.70.7 실시예17Example 17 -- -- 티타니아Titania 0.500.50 0.050.05 0.70.7 실시예18Example 18 이소프탈산Isophthalic acid 55 구상 실리카Spherical silica 0.100.10 0.050.05 0.70.7 실시예19Example 19 테레프탈산Terephthalic acid 1010 구상 실리카Spherical silica 0.100.10 0.050.05 0.70.7 실시예20Example 20 -- -- 구상 실리카Spherical silica 0.060.06 3.003.00 0.70.7 비교예5Comparative Example 5 -- -- 구상 실리카Spherical silica 3.003.00 0.050.05 0.70.7 비교예6Comparative Example 6 -- -- 구상 실리카Spherical silica 3.003.00 0.100.10 0.70.7 비교예7Comparative Example 7 -- -- 구상 실리카Spherical silica 3.003.00 11.0011.00 0.30.3

필름 평가Film evaluation 평탄성Flatness 석출입자(wt%)Precipitated Particles (wt%) 분산성Dispersibility 정전밀착성Electrostatic adhesion 제막생산안정성Film Production Stability 실시예9Example 9 0.01 이하0.01 or less 실시예10Example 10 0.01 이하0.01 or less 실시예11Example 11 0.01 이하0.01 or less 실시예12Example 12 0.01 이하0.01 or less 실시예13Example 13 0.010.01 실시예14Example 14 0.010.01 실시예15Example 15 0.010.01 실시예16Example 16 0.010.01 실시예17Example 17 0.010.01 실시예18Example 18 0.01 이하0.01 or less 실시예19Example 19 0.010.01 실시예20Example 20 0.01 이하0.01 or less 비교예5Comparative Example 5 ×× 0.020.02 비교예6Comparative Example 6 ×× 0.030.03 비교예7Comparative Example 7 ×××× 0.030.03 ××

상기 결과로부터 분명히 알 수 있듯이, 본 발명의 폴리알킬렌나프탈레이트는 제막시의 정전밀착성 및 고속 감기성이 우수하고, 얻어지는 필름은 두께가 균일하며 표면평탄성이 우수한 것이다.As is apparent from the above results, the polyalkylene naphthalate of the present invention is excellent in electrostatic adhesiveness and high-speed winding property at the time of film formation, and the film obtained is uniform in thickness and excellent in surface flatness.

본 발명에 따르면, 정전밀착성이 우수하고, 자기기록매체, 특히 고밀도 자기기록매체용 필름의 성형에 유용한 폴리알킬렌나프탈레이트를 고효율로 제조할 수 있다.According to the present invention, polyalkylene naphthalate which is excellent in electrostatic adhesion and useful for forming a magnetic recording medium, especially a film for high density magnetic recording medium, can be produced with high efficiency.

Claims (28)

나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트로서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는 (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1) 및 (2) 를 만족하는 비율로 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.A polyalkylene naphthalate having a naphthalenedicarboxylic acid component as a main dicarboxylic acid component and an aliphatic glycol component as a main glycol component, wherein the polyalkylene naphthalate comprises (a) an antimony compound and (b) an ester-forming functional group. A polyalkylene naphthalate for film comprising sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units having a ratio satisfying the following formulas (1) and (2), respectively. 0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1) 0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2) (상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(Wherein Sb and S are molar ratios of sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units each having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate (unit: mmol%)) Indicates.) 제 1 항에 있어서, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1') 및 (2') 를 만족하는 비율로 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit according to claim 1, wherein the sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having (a) an antimony compound and (b) an ester-forming functional group is contained in a ratio satisfying the following formulas (1 ') and (2') Polyalkylene naphthalate for films characterized by the above-mentioned. 5 < Sb ≤70 (1')5 <Sb ≤70 (1 ') 0.001 ≤ S/Sb ≤0.3 (2')0.001 ≤ S / Sb ≤0.3 (2 ') (상기 식 중, Sb 및 S 는, 상기 제 1 항에서의 정의와 동일한 의미를 갖는다.)(In the above formula, Sb and S have the same meaning as the definition in claim 1 above.) 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 인 화합물을 각각 하기식 (3), (4) 및 (5) 를 만족하는 비율로 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the polyalkylene naphthalate contains a magnesium compound, a calcium compound and a phosphorus compound in a proportion satisfying the following formulas (3), (4) and (5), respectively. 10 ≤(Mg + Ca) ≤120 (3)10 ≤ (Mg + Ca) ≤120 (3) 0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4)0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4) 0.5 ≤(Mg + Ca)/P ≤10 (5)0.5 ≤ (Mg + Ca) / P ≤ 10 (5) (상기 식 중, Mg, Ca 및 P 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 함유하는 전체 인 화합물의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(In the above formula, Mg, Ca and P each contain a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having a magnesium compound, a calcium compound and an ester-forming functional group per all dicarboxylic acid components forming a polyalkylene naphthalate). Molar ratio of the total phosphorus compound (unit is mmol%).) 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 인 화합물을 각각 하기식 (3'), (4') 및 (5') 를 만족하는 비율로 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the polyalkylene naphthalate contains a magnesium compound, a calcium compound and a phosphorus compound in a ratio satisfying the following formulas (3 '), (4') and (5 '), respectively. Rennaphthalate. 20 ≤(Mg + Ca) ≤110 (3')20 ≤ (Mg + Ca) ≤ 110 (3 ') 0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4')0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4 ') 1 ≤(Mg + Ca)/P ≤7 (5')1 ≤ (Mg + Ca) / P ≤ 7 (5 ') (상기 식중, Mg, Ca 및 P 는, 상기 제 3 항에서의 정의와 동일한 의미를 갖는다.)(In said formula, Mg, Ca, and P have the same meaning as the definition in said 3rd term.) 제 1 항에 있어서, 상기 지방족 글리콜 성분이, 에틸렌글리콜 성분, 프로필렌글리콜 성분 및 부틸렌글리콜 성분으로 이루어지는 군에서 선택되는 한 종류 이상의 글리콜 성분인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the aliphatic glycol component is at least one glycol component selected from the group consisting of an ethylene glycol component, a propylene glycol component, and a butylene glycol component. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트가 폴리에틸렌나프탈레이트인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the polyalkylene naphthalate is polyethylene naphthalate. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 전체 디카르복실산 성분당 20 몰% 이하의 테레프탈산 성분 및/또는 이소프탈산 성분을 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the polyalkylene naphthalate contains 20 mol% or less of terephthalic acid component and / or isophthalic acid component per total dicarboxylic acid component. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 전체 반복단위의 적어도 80 몰% 가 에틸렌-2,6-나프탈레이트 단위 또는 에틸렌-2,7-나프탈레이트 단위인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.2. The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein at least 80 mol% of the total repeating units of the polyalkylene naphthalate are ethylene-2,6-naphthalate units or ethylene-2,7-naphthalate units. 제 1 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 디에틸렌글리콜 단위를 0.4 ∼ 3 중량% 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트.The polyalkylene naphthalate for film according to claim 1, wherein the polyalkylene naphthalate contains 0.4 to 3% by weight of diethylene glycol units. 나프탈렌디카르복실산 성분을 주된 디카르복실산 성분으로 하고, 지방족 글리콜 성분을 주된 글리콜 성분으로 하는 폴리알킬렌나프탈레이트로서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1) 및 (2) 를 만족하는 비율로 함유하고, 또한 평균입경이 0.01 ∼ 0.5 ㎛ 인 불활성미립자를 함유하는 것을 특징으로 하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.A polyalkylene naphthalate having a naphthalenedicarboxylic acid component as a main dicarboxylic acid component and an aliphatic glycol component as a main glycol component, wherein the polyalkylene naphthalate is (a) an antimony compound and (b) an ester formability. The sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit which has a functional group is contained in the ratio which satisfy | fills following formula (1) and (2), respectively, and also contains inert fine particles whose average particle diameter is 0.01-0.5 micrometer. Polyalkylene naphthalate composition. 0 < Sb ≤80 (1)0 <Sb ≤80 (1) 0 < S/Sb ≤0.4 (2)0 <S / Sb ≤0.4 (2) (상기 식 중, Sb 및 S 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 안티몬 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(Wherein Sb and S are molar ratios of sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound units each having an antimony compound and an ester-forming functional group per total dicarboxylic acid component forming a polyalkylene naphthalate (unit: mmol%)) Indicates.) 제 10 항에 있어서, 상기 불활성미립자는 폴리알킬렌나프탈레이트에 대해 0.01 ∼ 10 중량% 함유되는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the inert fine particles are contained in an amount of 0.01 to 10 wt% based on the polyalkylene naphthalate. 제 10 항에 있어서, 상기 불활성미립자가 무기미립자인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the inert fine particles are inorganic fine particles. 제 10 항에 있어서, 상기 불활성미립자가 실리카 입자, 티타니아 입자 또는 알루미나 입자인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the inert fine particles are silica particles, titania particles, or alumina particles. 제 10 항에 있어서, 상기 불활성미립자는 세공(細孔)용적이 1.0 ml/g 이하, 비표면적이 100 m2/g 이하인 동시에 단분산된 구상 무기미립자인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the inert fine particles are pore volumes of 1.0 ml / g or less, specific surface area of 100 m 2 / g or less, and monodisperse spherical inorganic fine particles. 제 10 항에 있어서, 상기 불활성미립자는 단분산된 구상 실리카미립자인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the inert fine particles are monodisperse spherical silica fine particles. 제 10 항에 있어서, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 각각 하기식 (1') 및 (2') 를 만족하는 비율로 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The film according to claim 10, which contains (a) an antimony compound and (b) a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having an ester-forming functional group, in a ratio satisfying the following formulas (1 ') and (2'), respectively. Polyalkylene naphthalate composition. 5 < Sb ≤70 (1')5 <Sb ≤70 (1 ') 0.001 < S/Sb ≤0.3 (2')0.001 <S / Sb ≤0.3 (2 ') (상기 식 중, Sb 및 S 는, 상기 제 10 항에서의 정의와 동일한 의미를 갖는다.)(In said formula, Sb and S have the same meaning as the definition in said 10th term.) 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 인 화합물을 각각 하기식 (3), (4) 및 (5) 를 만족하는 비율로 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate contains a magnesium compound, a calcium compound and a phosphorus compound at a ratio satisfying the following formulas (3), (4) and (5), respectively. . 10 ≤(Mg + Ca) ≤120 (3)10 ≤ (Mg + Ca) ≤120 (3) 0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4)0.5 ≤Mg / Ca ≤10 (4) 0.5 ≤(Mg + Ca)/P ≤10 (5)0.5 ≤ (Mg + Ca) / P ≤ 10 (5) (상기 식 중, Mg, Ca 및 P 는, 각각 폴리알킬렌나프탈레이트를 형성하는 전체 디카르복실산 성분당 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물 단위를 함유하는 전체 인 화합물의 몰비 (단위는 mmol%) 를 나타낸다.)(In the above formula, Mg, Ca and P each contain a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound unit having a magnesium compound, a calcium compound and an ester-forming functional group per all dicarboxylic acid components forming a polyalkylene naphthalate). Molar ratio of the total phosphorus compound (unit is mmol%).) 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 마그네슘 화합물, 칼슘 화합물 및 인 화합물을 각각 하기식 (3'), (4') 및 (5') 를 만족하는 비율로 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.11. The polyalkylene naphthalate according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate contains a magnesium compound, a calcium compound and a phosphorus compound at a ratio satisfying the following formulas (3 '), (4') and (5 '), respectively: Lennaphthalate composition. 20 ≤(Mg + Ca) ≤110 (3')20 ≤ (Mg + Ca) ≤ 110 (3 ') 0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4')0.5 ≤Mg / Ca ≤9 (4 ') 1 ≤(Mg + Ca)/P ≤7 (5')1 ≤ (Mg + Ca) / P ≤ 7 (5 ') (상기 식 중, Mg, Ca 및 P 는, 상기 제 17 항에서의 정의와 동일한 의미를 갖는다.)(In said formula, Mg, Ca, and P have the same meaning as the definition in said 17th term.) 제 10 항에 있어서, 상기 지방족 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 성분, 프로필렌글리콜 성분 및 부틸렌글리콜 성분으로 이루어지는 군에서 선택되는 한 종류 이상의 글리콜 성분인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the aliphatic glycol component is at least one glycol component selected from the group consisting of an ethylene glycol component, a propylene glycol component and a butylene glycol component. 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트가 폴리에틸렌나프탈레이트인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for films according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate is polyethylene naphthalate. 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 전체 디카르복실산 성분당 20 몰% 이하의 테레프탈산 성분 및/또는 이소프탈산 성분을 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate contains 20 mol% or less of terephthalic acid component and / or isophthalic acid component per total dicarboxylic acid component. 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는, 전체 반복단위의 적어도 80 몰% 가 에틸렌-2,6-나프탈레이트 단위 또는 에틸렌-2,7-나프탈레이트 단위인 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate is at least 80 mol% of all the repeating units are ethylene-2,6-naphthalate units or ethylene-2,7-naphthalate units. 제 10 항에 있어서, 상기 폴리알킬렌나프탈레이트는 디에틸렌글리콜 단위를 0.4 ∼ 3 중량% 함유하는 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물.The polyalkylene naphthalate composition for film according to claim 10, wherein the polyalkylene naphthalate contains 0.4 to 3% by weight of diethylene glycol units. 나프탈렌디카르복실산을 주된 디카르복실산으로 하고, 그의 에스테르형성성 유도체와, 지방족 글리콜을 주된 글리콜로 하는 글리콜을 에스테르 교환반응 시키고, 이어서 중축합반응시키는 폴리알킬렌나프탈레이트의 제조방법에 있어서, 상기 중축합반응 개시전에, (a) 안티몬 화합물 및 (b) 에스테르형성성 관능기를 갖는 술폰산 4 급 포스포늄염 화합물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 제 1 항 기재의 필름용 폴리알킬렌나프탈레이트의 제조방법.In the manufacturing method of the polyalkylene naphthalate which makes naphthalene dicarboxylic acid the main dicarboxylic acid, ester ester derivative thereof, and the glycol which uses aliphatic glycol as a main glycol, transesterifies, and then polycondenses it, Before the start of the polycondensation reaction, (a) an antimony compound and (b) a sulfonic acid quaternary phosphonium salt compound having an ester-forming functional group is added. . 제 1 항에 기재된 폴리알킬렌나프탈레이트로 형성된 이축배향필름.The biaxially oriented film formed of the polyalkylene naphthalate of Claim 1. 제 10 항에 기재된 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물로 형성된 이축배향필름.The biaxially oriented film formed from the polyalkylene naphthalate composition of Claim 10. 제 1 항에 기재된 폴리알킬렌나프탈레이트로 형성된 이축배향필름을 베이스필름으로 하는 고밀도 자기기록매체.A high density magnetic recording medium comprising a biaxially oriented film formed of the polyalkylene naphthalate according to claim 1 as a base film. 제 10 항에 기재된 폴리알킬렌나프탈레이트 조성물로 형성된 이축배향필름을 베이스필름으로 하는 고밀도 자기기록매체.A high density magnetic recording medium comprising a biaxially oriented film formed of the polyalkylene naphthalate composition according to claim 10 as a base film.
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