KR20010010515A

KR20010010515A - Reticle arrangement system for a stepper machine

Info

Publication number: KR20010010515A
Application number: KR1019990029457A
Authority: KR
Inventors: 진훤
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 1999-07-21
Filing date: 1999-07-21
Publication date: 2001-02-15

Abstract

PURPOSE: A reticle aligning system is to prevent a pollutant from being adhered to a lens or a cover glass of a reticle aligning block and to increase a life time or a maintenance cycle of the lens or cover glass. CONSTITUTION: A reticle aligning system of a stepper device comprises: a light source(10); a shutter block(20) having a shutter mirror(21) to pass or block and reflect the light emerging from the light source; a reticle aligning block(30) including a cover glass(31) for receiving the light reflected at the shutter mirror and a light focusing lens for focusing the light which passed the cover glass; an optical fiber for receiving the light collected by the focusing lens and transmitting it to a necessary part of the stepper device; and a reticle aligning block shutter(61) arranged in the middle of the shutter mirror and the reticle aligning block at an optical path for selectively blocking a progress of light. The reticle aligning block shutter is opened and closed by a motor and is made of a black based color which is excellent in absorbing a light.

Description

Reticle arrangement system for a stepper machine

본 발명은 스테퍼장비의 레티클 정렬 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체장치 제조에 사용하는 노광용 스테퍼장비에 있어서 웨이퍼 스테이지와 레티클 사이의 정렬을 위한 시스템으로서 광경로상의 렌즈 오염을 억제할 수 있는 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a reticle alignment system of stepper equipment, and more particularly, a system for suppressing lens contamination on an optical path as a system for alignment between a wafer stage and a reticle in exposure stepper equipment for use in semiconductor device manufacturing. It is about.

반도체장치는 좁은 면적의 기판에 다수의 소자를 고도로 집적시킨 정밀한 장치이다. 그리고 반도체장치가 고집적화됨에 따라 개별 반도체소자의 크기는 더욱 작아지므로 소자를 이루는 구성영역과 그 배선도 점차 작아지게 된다. 따라서 반도체장치의 제조를 위해서는 엄밀하고 정확한 공정 작업이 필요하다.Semiconductor devices are precision devices in which a large number of devices are highly integrated on a narrow substrate. As the semiconductor device is highly integrated, the size of the individual semiconductor devices is further reduced, so that the constituent regions constituting the devices and their wirings are gradually smaller. Therefore, rigorous and accurate process work is required for the manufacture of semiconductor devices.

반도체장치는 대개 실리콘 기판상에 다수의 반도체, 도체, 부도체 막을 형성하고 패턴닝하는 과정을 결합하여 이루어지며 그 과정에서 전기, 전자 소자들을 형성, 배선하게 된다. 육안으로 판별하기 어려운 크기의 소자 요소들을 구성하는 것은 개개의 기계적인 방법을 통해서는 불가능한 것이며 결국 소자 패턴은 포토리소그래피와 에칭이라는 화학적인 방법에 의해 형성된다.A semiconductor device is usually formed by combining and patterning a plurality of semiconductor, conductor and non-conductor films on a silicon substrate, and in the process, electrical and electronic devices are formed and wired. Constructing device elements of a size that is difficult to visually determine is impossible through individual mechanical methods, and the device pattern is formed by chemical methods such as photolithography and etching.

포토리소그래피는 감광성 막을 패턴을 형성할 물질막 위에 도포하고 일정 패턴을 가진 필름의 역할을 하는 레티클을 중간에 놓은 다음 노광을 시켜 감광막에 화학적인 변화를 일으킨 다음 현상하여 그 패턴을 감광막에 남기는 전사라는 작업을 의미하며, 감광성막으로 이루어진 패턴을 마스크로 하여 하부 물질막을 식각하여 결국 패턴을 대상 물질막에 옮기는 전사작업 혹은 반응을 에칭이라 한다.Photolithography is a transfer process in which a photosensitive film is applied onto a material film to form a pattern, a reticle serving as a film having a predetermined pattern is placed in the middle, and then exposed to light to cause a chemical change in the photosensitive film, followed by development to leave the pattern on the photosensitive film. An operation refers to a transfer operation or a reaction in which a lower material film is etched using a pattern made of a photosensitive film as a mask, and eventually the pattern is transferred to a target material film.

물론 레티클의 패턴을 감광성막에 옮기기 위한 노광작업은 매우 정밀하고 정확하게 이루어져야 하는데 이런 노광작업을 빠르고 능률적으로 진행하기 위해 개발된 장비로 스테퍼가 있다. 스테퍼에서는 광원의 빛을 일정 세기로 조사하는데 그 빛은 셔터를 거쳐 레티클을 통과하고 렌즈시스템을 지나 스테이지에 있는 웨이퍼 상면에 닿아 웨이퍼상에 도포된 감광성 포토레지스트막에 화학적 변화를 일으키게 한다. 웨이퍼에는 반도체장치 개개를 형성할 다이 혹은 칩이 여러개 형성되므로 하나의 웨이퍼를 가지고 작업할 때 한 레티클의 패턴을 웨이퍼에 형성될 각각의 칩에 전사하기 위해서 스테퍼는 한 칩에 대한 노광작업이 끝나면 바로 웨이퍼의 다음 칩의 위치에 패턴이 찍히도록 기계적으로 옮겨주게 된다. 그리고 웨이퍼의 스테이지가 기계적으로 옮겨지는 동안 웨이퍼가 노출되면 노광 불량이 생길 수 있으므로 셔터는 빛을 가려 웨이퍼가 움직이는 중에 웨이퍼가 빛에 노출되지 않도록 한다.Of course, the exposure work to transfer the pattern of the reticle to the photosensitive film must be very precise and accurate. Stepper is an equipment developed to perform such exposure work quickly and efficiently. In the stepper, the light from the light source is irradiated at a constant intensity, which passes through the reticle through the shutter, passes through the lens system, and reaches the top surface of the wafer on the stage, causing chemical changes in the photosensitive photoresist film applied on the wafer. Since the wafer is formed with several dies or chips to form individual semiconductor devices, the stepper immediately transfers a pattern of one reticle to each chip to be formed on the wafer when working with one wafer. It is mechanically moved to pattern the next chip position on the wafer. In addition, if the wafer is exposed while the stage of the wafer is mechanically moved, the exposure may be defective, so the shutter covers the light so that the wafer is not exposed to the light while the wafer is moving.

한편 반도체장치는 한번의 노광만으로 이루어지는 것이 아니고 다수의 노광과정이 결합되어 소자나 배선이 형성되는 것이므로 각각의 단계에서 이루어지는 패턴은 그 전과 그 다음 단계에서 이루어지는 패턴과 정확히 부합되는 위치에 형성되어야 한다. 그러기 위해 웨이퍼나 레티클은 정확한 위치에 놓여야 하고 레티클의 패턴은 각 칩에서 위치에 부합되어야 하며 웨이퍼 스테이지와 레티클 장착대도 상대적으로 정확하게 놓여야 한다. 상대적으로 정확한 위치에 설비의 부분과 웨이퍼, 레티클을 놓는 작업을 정렬(어라인먼트:Alignment)이라 하며, 정확한 배열 즉 정렬을 위해서 웨이퍼 각 칩과 레티클에는 정렬키라는 표지가 있고 장비 각 부의 정렬 상태를 측정하기 위한 자체의 정렬 시스템을 가진다.On the other hand, the semiconductor device does not consist of only one exposure, but a plurality of exposure processes are combined to form elements or wires. Therefore, the pattern formed in each step should be formed at a position exactly matching the pattern formed in the previous and subsequent steps. To do this, the wafer or reticle must be placed in the correct position, the pattern of the reticle must match the position on each chip, and the wafer stage and reticle mount must be placed relatively accurately. The placement of equipment, wafers, and reticles in a relatively accurate location is called alignment, and each chip and reticle on the wafer is labeled with an alignment key for correct alignment, that is, alignment. Has its own alignment system to measure.

또한 노광에 의한 패턴이 정확한 깊이와 폭을 가지고 이루어지기 위해서는 노광시 빛의 세기가 적정한 수준이 되어야 하며 그 전제로서 우선 패턴의 상이 명확하게 웨이퍼의 감광성막 위에 맺혀야 한다. 따라서 스테퍼의 광원의 빛이 레티클과 렌즈 시스템을 등의 경로를 지나면서 정확한 상이 웨이퍼면에 맺히도록 촛점 거리도 조절하는 장치가 필요하다.In addition, in order for the pattern by exposure to have an accurate depth and width, the light intensity at the time of exposure must be at an appropriate level, and as a premise, the image of the pattern must be clearly formed on the photosensitive film of the wafer. Therefore, there is a need for a device that adjusts the focal length so that the light of the stepper light source passes through the reticle and the lens system through the back path and the correct image is formed on the wafer surface.

이상에서 언급한 정렬 및 촛점 조절을 위해서 구비된 것으로 레티클 정렬 블럭(Reticle Alignment block)이 있다. 도1은 레티클 정렬 블럭을 포함하는 종래의 스테퍼 장비의 레티클 정렬 시스템 구성을 개략적으로 나타낸 것이다.There is a reticle alignment block provided for the above-described alignment and focus adjustment. Figure 1 schematically illustrates a reticle alignment system configuration of a conventional stepper equipment including a reticle alignment block.

광원(10)으로는 주로 수은램프를 많이 사용하며 노광단계에서 미세패턴에 대한 해상도를 높이기 위해 필터를 통해 얻어진 파장이 짧은 자외선(UV light)을 사용한다. 램프가 켜져있는 동안 빛이 계속 방출되는데 방출된 빛은 바람개비의 날개와 같이 회전하는 셔터 미러(21)를 가진 셔터 블럭(20)에서 셔터 미러(21)에 의해 차단되지 않으면 도시되지 않은 레티클과 노광렌즈 시스템을 거쳐 웨이퍼상면에 닿게 된다. 그리고 셔터 미러(21)에 의해 광원에서 나온 빛이 차단되는 동안은 빛은 웨이퍼에 닿지 않게 되고 이 시간 동안에 웨이퍼 스테이지가 기계적으로 움직여 다음 칩을 노광하기 위한 웨이퍼 이동을 실시한다.As the light source 10, mercury lamps are mainly used, and UV light having a short wavelength obtained through a filter is used to increase the resolution of the micropattern in the exposure step. Light continues to be emitted while the lamp is on, and the emitted light is not blocked by the shutter mirror 21 in the shutter block 20, which has a shutter mirror 21 that rotates like a vane blade, and not shown reticle and exposure. It reaches the wafer top surface through the lens system. While the light emitted from the light source is blocked by the shutter mirror 21, the light does not touch the wafer, during which time the wafer stage is mechanically moved to perform wafer movement for exposing the next chip.

그리고 셔터 미러에 부딪힌 빛은 셔터 미러의 설치각에 따라 일정하게 반사하여 레티클 정렬 블럭(30)의 커버 글래스(31)를 통과하고 집광 렌즈(32)를 통해 집광된 다음 광파이버(40)의 입력단으로 들어간다. 이 빛은 광파이버를 통해 유도되어 레티클 정렬 및 촛점 조절 광학계(50)로 들어가 스테퍼의 일정 기준점에 있는 웨이퍼 스테이지의 얼라인먼트 키를 통과하고 노광렌즈 시스템을 거쳐 레티클 설치대의 정렬키를 통과하거나 닿아 정렬이 제대로 이루어졌는지를 알게 한다.Light hitting the shutter mirror is constantly reflected according to the installation angle of the shutter mirror, passes through the cover glass 31 of the reticle alignment block 30, is collected through the condenser lens 32, and then enters the input end of the optical fiber 40. Enter This light is guided through the optical fiber and enters the reticle alignment and focusing optics 50 through the alignment key of the wafer stage at a certain reference point of the stepper, and through the exposure lens system through the alignment key of the reticle mount or through the touch of the reticle mount. Make sure it is done.

또한 스테퍼의 정렬모드가 아닌 촛점 측정 모드에서는 광파이버를 통해 유도된 빛이 웨이퍼 스테이지와 노광 렌즈 시스템을 거쳐 레티클 스테이지의 일정 위치에서 반사된 다음 수광센서에 감지되어 그 세기로서 웨이퍼 스테이지가 상대적인 노광 촛점거리에 위치하는지를 알게 된다. 즉 가장 광을 강하게 느끼는 곳에서 웨이퍼 스테이지가 스테퍼의 노광 촛점거리에 있게 되는 것이다.In addition, in the focus measurement mode other than the stepper alignment mode, the light guided by the optical fiber is reflected at a certain position of the reticle stage through the wafer stage and the exposure lens system, and then detected by the light receiving sensor so that the wafer stage is the relative exposure focal length as the intensity. You will know if it is located at. In other words, where the light is felt most strongly, the wafer stage is at the exposure focal length of the stepper.

이렇게 스테퍼는 정확한 공정 설치가 가능하도록 자가적 측정 시스템을 갖추고 있다. 그런데 이러한 자가적 측정 시스템은 공정중에 항상 작동할 필요가 있는 것이 아니고 작업을 시작할 때, 레티클을 바꾸거나 웨이퍼를 바꿀 경우 등 일련의 공정을 시작하는 단계에서만 사용되는 것이다. 그리고 그 시간은 전체 공정시간이 10 시간이라면 10 분 정도로 짧은 시간이다. 그러나 현재 레티클 정렬 블록의 경우 광원이 켜져있는 동안은 계속해서 노광에 사용되는 자외선이 셔터 미러에 반사되어 들어오도록 되어 있다.The stepper is equipped with a self-measuring system to ensure accurate process installation. However, these self-measuring systems do not always need to work in the process, but are used only at the beginning of a series of processes, such as when starting work, changing reticles or changing wafers. The time is as short as 10 minutes if the total process time is 10 hours. However, in the case of the reticle alignment block, the ultraviolet light used for exposure continues to be reflected by the shutter mirror while the light source is turned on.

일반적으로 자외선에 노출되어 있다는 것만으로는 레티클 정렬 블럭은 빛이 통과하는 관과 반사경 집광 렌즈등으로 이루어져 구성요소가 마모되거나 변질되는 문제는 없지만 주변 환경에 존재하는 가스 가운데 일정 성분이 자외선에 의해 화학반응을 일으키고 광선의 경로상에 있는 커버 글래스나 집광 렌즈의 표면에 오염물질로 부착되는 현상이 생긴다. 이런 오염 현상은 노광을 위해 셔터를 통과한 빛이 노광 렌즈 시스템으로 들어가는 경우에도 빛이 닿는 부위에 발생한다. 그리고 이런 오염물이 광로를 방해할 경우 평소에 들어와야 할만큼의 빛이 들어오지 않아 빛의 세기가 달라지므로 기준 이상의 세기를 나타내는 곳 즉 스테퍼의 촛점거리에 해당하는 위치를 찾아낼 수 없게되고, 정확한 정렬을 쉽게 확인할 수도 없게 된다. 또한 이러한 문제를 해결하기 위해서는 레티클 정렬 블럭을 교체하거나 개개의 커버 글래스, 집광 렌즈를 교체 세정해야 하는데 이런 작업을 위해서는 공정이 중단되고 교체, 세정을 위한 인력이 필요하게 되므로 문제가 된다.In general, the reticle alignment block consists of a tube through which light passes and a reflector condenser lens, but there is no problem of wear or deterioration of components. It causes a reaction and adheres as a contaminant to the surface of the cover glass or condenser lens in the path of light. This contamination occurs in areas where light hits even when light passing through the shutter enters the exposure lens system for exposure. If these contaminants interfere with the light path, the light intensity is different because the light does not come in as usual, so it is impossible to find a location that corresponds to the intensity of the stepper, that is, the position corresponding to the focus distance of the stepper, It will not be easy to check. In order to solve this problem, it is necessary to replace the reticle alignment block or to replace and clean the individual cover glass and the condenser lens, which is a problem because the process is stopped and manpower for replacement and cleaning is required.

본 발명은 스테퍼장비의 레티클 정렬 블럭에 레티클 정렬이나 촛점의 조절과 관계없이 광원의 빛이 계속적으로 입사되어 커버 글래스나 집광 렌즈 표면에 오염물질 부착을 유발시키고 이로 인해 정렬 블럭 본래의 기능이 필요할 때 정상 기능을 발휘하지 못하게 되는 문제점을 없애기 위해 개선된 스테퍼장비의 레티클 정렬 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention irrespective of the reticle alignment or focusing of the reticle alignment block of the stepper equipment, the light of the light source is continuously incident, causing contaminant adhesion to the cover glass or the condenser lens surface, and thus the original function of the alignment block is necessary. It is an object of the present invention to provide an improved reticle alignment system of stepper equipment in order to eliminate the problem of malfunctioning.

도1은 레티클 정렬 블럭을 포함하는 종래의 스테퍼장비 레티클 정렬 시스템 구성을 개략적으로 나타낸 구성도이다.Figure 1 is a schematic diagram showing a configuration of a conventional stepper equipment reticle alignment system including a reticle alignment block.

도2는 본 발명의 일 실시예를 나타내는 레티클 정렬 시스템을 개략적으로 도시한 구성도이다.Figure 2 is a schematic diagram showing a reticle alignment system showing an embodiment of the present invention.

※도면 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of symbols for main parts of drawing

10: 광원 20: 셔터 블럭10: light source 20: shutter block

21: 셔터 미러 30: 레티클 정렬 블럭21: shutter mirror 30: reticle alignment block

31: 커버 글래스 32: 집광 렌즈31: cover glass 32: condensing lens

40: 광파이버 50: 레티클 정렬 및 촛점 조절 광학계40: optical fiber 50: reticle alignment and refocusing optics

61: 판형 셔터 62: 지지대61: plate shutter 62: support

63: 구동장치63: drive unit

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 스테퍼장비의 레티클 정렬 시스템은 종래와 같이 광원, 광원에서 나온 빛의 공정 웨이퍼에 대한 셔터역할과 반사판의 역할을 하는 셔터 미러, 상기 셔터 미러에서 반사된 빛을 받아들이는 커버 글래스와 커버 글래스를 통과한 빛을 집광시키는 집광렌즈를 구비하는 레티클 정렬 블럭 및 상기 집광렌즈가 모은 빛을 받아 스테퍼의 필요한 부분에 유도하는 광파이버를 구비하고 차례로 배열하여 이루어지는 스테퍼장비의 레티클 정렬 시스템에 있어서, 광경로상의 상기 셔터 미러와 상기 레티클 정렬 블럭 중간에 광의 진행을 막는 레티클 정렬 블럭 셔터를 더 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The reticle alignment system of the stepper device of the present invention for achieving the above object is a light source, a shutter mirror acting as a shutter and a reflector for the process wafer of the light emitted from the light source, and receives the light reflected from the shutter mirror Is a reticle alignment block having a reticle alignment block including a cover glass and a condenser lens for condensing light passing through the cover glass, and an optical fiber that receives the light collected by the condenser lens and guides the light to the required part of the stepper, and is arranged in sequence. The system is characterized by further comprising a reticle alignment block shutter between the shutter mirror on the optical path and the reticle alignment block to prevent the progress of light.

레티클 정렬 블럭 셔터는 광이 다른 부분으로 반사되어 부작용을 일으키지 않도록 빛에 대한 흡수율이 좋은 검은색으로 형성하는 것이 바람직하며, 셔터의 개폐는 작업자에 의한 조절이 가능하도록 모터나 에어 구동 장치를 통해 이루어질 수 있다.The reticle alignment block shutter is preferably formed in black with good absorption of light so that the light is not reflected to other parts to cause side effects. The opening and closing of the shutter is performed through a motor or an air driving device so that the operator can adjust the shutter. Can be.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시예를 통해 발명을 좀 더 상세히 살펴보기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도2는 본 발명의 일 실시예를 나타내는 레티클 정렬 시스템을 개략적으로 도시한 것이다. 촛점 조절을 위한 또는 레티클의 정렬에 사용되는 레티클 정렬 시스템에 투입되는 빛은 종래와 같이 수은등 같은 광원(10)에서 출발하여 필터를 통해 걸러진 자외선으로 셔터 블럭(20)의 셔터 미러(21)에 의해 반사된 빛이다. 셔터 미러(21)는 주로 알미늄 계통의 금속판을 사용하는데 반사율이 높으며 일정 방향 즉 레티클 정렬 블럭(30)의 커버 글래스(31)로 광원에서 나온 빛을 반사시킬 수 있도록 일정 각도를 이루며 설치되어 있다. 도 2의 예에서는 셔터 미러(21)는 4개의 날개를 가진 바람개비나 풍차와 같은 형태이다. 공정중에는 웨이퍼 노광을 위해 모터가 계속 셔터 미러를 돌리면서 셔터를 개폐하는데 1 회전에 4번 셔터를 개폐할 수 있으므로 셔터를 왕복시키면서 계폐하는 경우에 비해 효율이 높다.2 schematically illustrates a reticle alignment system representing an embodiment of the invention. The light entering the reticle alignment system for focusing or for reticle alignment is initiated by the shutter mirror 21 of the shutter block 20 with ultraviolet light filtered through a filter starting from a light source 10 such as a mercury lamp as conventionally. It is reflected light. The shutter mirror 21 mainly uses an aluminum-based metal plate, and has a high reflectance, and is formed at a predetermined angle so as to reflect light from a light source toward a cover glass 31 of the reticle alignment block 30. In the example of FIG. 2, the shutter mirror 21 is shaped like a pinwheel or windmill with four wings. During the process, the motor continuously opens and closes the shutter while rotating the shutter mirror to expose the wafer. Since the shutter can be opened and closed four times in one rotation, the efficiency is higher than when the shutter is closed while reciprocating.

이렇게 셔터 미러(21)에서 반사된 자외선은 레티클 정렬 블럭(30)의 커버 글래스(31)로 투입되는데 본 발명에서는 그 광의 경로상에 레티클 정렬 블럭 셔터를 추가로 설치한다. 셔터는 여러 형태가 있을 수 있으나 도면에서는 커버 글래스(31)에 투입되는 빛을 전부 막을 수 있을 정도의 크기로 이루어진 판형 셔터(61)를 나타내고 있다. 이 셔터의 한 쪽은 지지대(62)에 의해 모터나 에어 구동 실리더 같은 구동장치(63)에 연결된다. 따라서 모터축에 연결된 셔터 지지대가 모터 회전에 따라 회전하여 판형 셔터에 의해 광로가 개폐될 수도 있고, 지지대와 연결된 실린더 로드가 실린더의 에어가 빠져나감에 따라 실린더 내로 수축하여 들어가고 판형 셔터가 함께 이동하여 광로가 열리는 형태가 될 수도 있을 것이다.The ultraviolet rays reflected from the shutter mirror 21 are introduced into the cover glass 31 of the reticle alignment block 30. In the present invention, the reticle alignment block shutter is additionally installed on the path of the light. The shutter may have various forms, but the drawing shows a plate-shaped shutter 61 that is large enough to block all of the light input to the cover glass 31. One side of the shutter is connected to a drive device 63 such as a motor or an air drive cylinder by a support 62. Therefore, the shutter support connected to the motor shaft rotates as the motor rotates, so that the optical path can be opened and closed by the plate shutter, and the cylinder rod connected to the support contracts into the cylinder as the air of the cylinder escapes, and the plate shutter moves together. It could be that the light path is open.

또한 이 셔터는 오퍼레이터의 조작에 의해 독립적으로 개폐될 수도 있고 혹은 스테퍼의 다른 부분과 연관되어 레티클 정렬이나 촛점거리 확인이 필요할 때만 열리도록 이루어질 수도 있을 것이다. 그리고 대부분의 공정기간 동안 셔터는 광경로를 막고 있는 형태가 된다. 셔터가 반사가 강한 금속판으로 이루어질 경우 반사된 빛이 스테퍼장비 내에서 다른 문제를 일으킬 수 있으므로 셔터는 빛을 흡수하는 특성이 좋은 것을 사용하는 것이 바람직하다.The shutter may also be opened or closed independently by operator manipulation, or may be opened only when reticle alignment or focal length verification is required in conjunction with other parts of the stepper. And during most of the process, the shutter is in the form of blocking the light path. If the shutter is made of a highly reflective metal plate, the reflected light may cause other problems in the stepper equipment, so it is preferable to use a shutter having a good absorbing property.

한편, 정렬이나 촛점 거리의 조절 등의 필요에 의해 셔터가 열리고 빛이 레티클 정렬 블럭으로 들어가는 경우는 빛의 진행과 작용은 종래와 동일한 형태가 된다. 집광렌즈는 렌즈 전면을 통과한 빛을 다른 단부에 연결되어 있는 광파이버의 빛 입구에 대략 맞도록 빛을 모으는 역할을 하는데 빛의 세기는 필요에 따라 증가될 수 있다. 이 증가된 빛은 광파이버를 통해 노광 스테퍼장비의 웨이퍼 스테이지부에서 방출된다. 방출된 빛은 선폭이 좁은 광빔의 형태로 정렬키를 통과하여 정렬에 이용될 수 있고, 일정 경로를 따라 수광센서에 감지되어 그 세기를 통해 노광 렌즈계에서 스테퍼와 웨이퍼 사이의 촛점거리가 정확한지 측정할 수 있다.On the other hand, when the shutter is opened and the light enters the reticle alignment block due to the necessity of alignment or adjustment of the focal length, the progress and action of the light become the same as in the related art. The condenser lens collects the light passing through the front surface of the lens so as to approximately fit the light inlet of the optical fiber connected to the other end, and the light intensity may be increased as necessary. This increased light is emitted from the wafer stage portion of the exposure stepper equipment through the optical fiber. The emitted light can be used for alignment by passing through the alignment key in the form of a light beam with a narrow line width, and detected by a light receiving sensor along a certain path, and the intensity is used to measure whether the focal length between the stepper and the wafer in the exposure lens system is accurate. Can be.

본 발명에 따르면, 특별히 기능을 하지 않는 동안에도 광원에서 나온 빛이 계속 레티클 정렬 블럭의 렌즈나 커버 글래스에 조사되어 그 부분에 오염물질이 부착되는 현상을 막을 수 있고 따라서 레티클 정렬 블럭의 렌즈나 커버 글래스의 사용 수명, 보수 주기를 늘일 수 있다.According to the present invention, the light from the light source can continue to be irradiated to the lens or cover glass of the reticle alignment block while not particularly functioning, thereby preventing contaminants from adhering to the portion of the reticle alignment block. The service life of the glass and the maintenance interval can be extended.

Claims

A shutter block including a light source, a shutter block that serves to pass, block, or reflect light from the light source, a cover glass that receives the light reflected from the shutter mirror, and a condenser lens that condenses the light passing through the cover glass; In the reticle alignment system of the stepper equipment comprising a reticle alignment block comprising and an optical fiber for receiving the light collected by the condensing lens and transmits to the required portion of the stepper equipment,

And a reticle alignment block shutter for selectively blocking the propagation of light in the middle of the shutter mirror on the optical path and the reticle alignment block.

The method of claim 1,

And the reticle alignment block shutter is opened and closed by a motor.

The method according to claim 1 or 2,

The reticle alignment block shutter is a reticle alignment system of stepper equipment, characterized in that the light absorbing material is made of a black color.