KR20000071433A - Surface acoustic wave resonator, surface acoustic wave filter, duplexer, communication apparatus, and surface acoustic wave device - Google Patents

Surface acoustic wave resonator, surface acoustic wave filter, duplexer, communication apparatus, and surface acoustic wave device Download PDF

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KR20000071433A
KR20000071433A KR1020000012095A KR20000012095A KR20000071433A KR 20000071433 A KR20000071433 A KR 20000071433A KR 1020000012095 A KR1020000012095 A KR 1020000012095A KR 20000012095 A KR20000012095 A KR 20000012095A KR 20000071433 A KR20000071433 A KR 20000071433A
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무라타 야스타카
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Abstract

본 발명에 따른 표면 탄성파 공진자는, 랑가사이트(langasite) 단결정으로 이루어지는 압전 기판; 및 주로 Al로 구성되며, 상기 압전 기판상에 형성되는 인터디지털 트랜스듀서;를 포함한다. 상기 압전 기판의 방향을 규정하는 오일러 각(Euler angle) (ψ, θ, φ)는, 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이거나, 또는 그와 동등하며, 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자(勵磁)되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 약 0.005∼0.15 사이에 있다.The surface acoustic wave resonator according to the present invention comprises: a piezoelectric substrate made of langasite single crystal; And an interdigital transducer mainly composed of Al and formed on the piezoelectric substrate. Euler angles (ψ, θ, φ) defining the direction of the piezoelectric substrate are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, or equivalent to each other. The film thickness H of the interdigital transducer is between about 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength? Of the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate.

Description

표면 탄성파 공진자, 표면 탄성파 필터, 듀플렉서, 통신 장치 및 표면 탄성파 디바이스{Surface acoustic wave resonator, surface acoustic wave filter, duplexer, communication apparatus, and surface acoustic wave device}Surface acoustic wave resonator, surface acoustic wave filter, duplexer, communication apparatus, and surface acoustic wave device

본 발명은, 표면 탄성파 공진자와, 그 표면 탄성파 공진자를 포함하는 표면 탄성파 필터, 듀플렉서 및 통신 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 압전 기판으로서 랑가사이트(La3Ga5SiO14) 단결정을 이용한 표면 탄성파 공진자에 관한 것이다.The present invention, the surface of the elastic wave resonator, a surface the surface acoustic wave filter, including the acoustic wave resonator, relates to a duplexer and a communication apparatus and, more particularly, Palanga site as the piezoelectric substrate (La 3 Ga 5 SiO 14) using a single crystal A surface acoustic wave resonator.

이동 통신기기에 포함되는 대역 통과 필터 및 다른 부품에, 표면 탄성파 공진자가 널리 이용되고 있다. 그러한 표면 탄성파 공진자 및 표면 탄성파 필터는, 압전 기판상에 빗살모양 전극이 형성된 인터디지털 트랜스듀서(IDT)를 포함한다.Surface acoustic wave resonators are widely used in band pass filters and other components included in mobile communication devices. Such surface acoustic wave resonators and surface acoustic wave filters include interdigital transducers (IDTs) in which comb-shaped electrodes are formed on piezoelectric substrates.

상술한 표면 탄성파 공진자 및 표면 탄성파 필터에 포함되는 압전 기판은, 니오브산 리튬(LiNbO3), 탄탈산 리튬(LiTaO3), 석영, 사붕산 리튬(Li2B4O7)과 같은 압전 단결정으로 만들어질 수 있다.Piezoelectric substrates included in the surface acoustic wave resonators and surface acoustic wave filters described above include piezoelectric single crystals such as lithium niobate (LiNbO 3 ), lithium tantalate (LiTaO 3 ), quartz, and lithium tetraborate (Li 2 B 4 O 7 ). Can be made with

이들 표면 탄성파 공진자 및 표면 탄성파 필터에서는, 주로 전기 에너지와 기계 에너지 사이의 변환 효율을 나타내는 전기기계 결합계수(K2)가 가능한 한 커야하고, 온도에 의해 영향을 받는 주파수의 변동율을 나타내는 군속 지연 시간의 온도 특성(TCD)이 작아야 한다.In these surface acoustic wave resonators and surface acoustic wave filters, an electromechanical coupling coefficient (K 2 ) mainly representing the conversion efficiency between electrical energy and mechanical energy should be as large as possible, and group delay showing the rate of change of the frequency affected by temperature. The temperature characteristic (TCD) of time should be small.

상기 LiNbO3나 LiTaO3으로 이루어진 기판을 가지는 표면 탄성파 필터는 K2이 크기 때문에, 공진 주파수와 반공진 주파수 사이의 차이가 크고, 비교적 넓은 대역폭을 가진다는 장점이 있다. 그러나, 대조적으로, 표면 탄성파 필터는 석영과 비교하여 큰 TCD를 가지기 때문에, 온도에 의해 영향을 받는 주파수 변동이 크다는 단점이 있다.Since the surface acoustic wave filter having a substrate made of LiNbO 3 or LiTaO 3 has a large K 2 , the difference between the resonant frequency and the anti-resonant frequency is large and has a relatively wide bandwidth. However, in contrast, since the surface acoustic wave filter has a large TCD compared with quartz, there is a disadvantage in that the frequency variation affected by the temperature is large.

이와는 반대로, 상술한 석영으로 구성되는 기판을 가지는 표면 탄성파 필터는, 매우 낮은 TCD로 인해 온도에 따라 생기는 주파수의 변동이 거의 없다는 장점이 있다. 그러나, 그러한 표면 탄성파 필터는 K2이 작기 때문에, 공진 주파수와 반공진 주파수 사이의 차이가 작고, 상대적으로 대역폭이 좁다는 단점이 있다.On the contrary, the surface acoustic wave filter having the substrate made of quartz has an advantage that there is little variation in frequency caused by temperature due to a very low TCD. However, such a surface acoustic wave filter has a disadvantage that since K 2 is small, the difference between the resonance frequency and the anti-resonant frequency is small and the bandwidth is relatively narrow.

결과적으로, LiNbO3나 LiTaO3보다 TCD가 작고, 석영보다 K2이 큰 재료로서, Li2B4O7이 표면 탄성파 필터나 표면 탄성파 공진자에 이용되고 있다. 그러나, Li2B4O7은 조해성(潮解性)을 가지기 때문에 취급이 어렵고, 게다가 단결정의 성장 속도가 늦기 때문에, 생산성이 낮다는 단점이 있다. 또한, Li2B4O7은 주파수에 대한 온도 특성은 좋다. 그러나, K2에 대한 온도 특성이 나쁘고, 그 결과, 온도에 따라 대역이 변화한다는 문제점이 있다.As a result, Li 2 B 4 O 7 is used for the surface acoustic wave filter and the surface acoustic wave resonator as a material having a smaller TCD than LiNbO 3 or LiTaO 3 and a larger K 2 than quartz. However, Li 2 B 4 O 7 has a disadvantage in that it is difficult to handle because it has deliquescent properties, and further, productivity is low because the growth rate of the single crystal is slow. In addition, Li 2 B 4 O 7 has a good temperature characteristic with respect to frequency. However, the bad and the temperature characteristic of the K 2, there is a problem that as a result, the band is changed with the temperature.

최근, 상술한 바와 같은 문제점을 해결하는 재료로서 La3Ga5SiO14가 연구되고 있다. 그 이유는, La3Ga5SiO14는 조해성은 없기 때문에 취급이 용이하고, 또한 Li2B4O7에 비해 단결정의 성장 속도가 빠르기 때문이다. 게다가, La3Ga5SiO14는 LiNbO3또는 LiTaO3과 비교하여 TCD가 작고, 석영보다 K2이 크다. 이와 같은 La3Ga5SiO14단결정 기판의 전파 방향 및 유망한 오일러 각·전파방향에 관한 다수의 이론상 해석이나 실험 결과에 대한 보고가 이루어지고 있다.Recently, La 3 Ga 5 SiO 14 has been studied as a material for solving the above problems. The reason for this is that La 3 Ga 5 SiO 14 is easy to handle because it has no deliquescent property, and the growth rate of the single crystal is faster than that of Li 2 B 4 O 7 . In addition, La 3 Ga 5 SiO 14 has a smaller TCD and larger K 2 than quartz compared to LiNbO 3 or LiTaO 3 . A number of theoretical analyzes and experimental results regarding the propagation direction and the promising Euler angle and propagation direction of such a La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal substrate have been reported.

그러나, 이들 보고에서의 실측 결과 및 그와 관련된 자료 등은, 단지 La3Ga5SiO14단결정 기판을 사용하여 실험한 결과이다. 결과적으로, La3Ga5SiO14단결정 기판 단독으로 사용되는 경우에 TCD가 최적이며, 그 외의 요소가 부가된 경우에는 최적이 되는 것은 아니다.However, the measured results and the related data in these reports are the results of experiments using only a La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal substrate. As a result, TCD is optimal when the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal substrate is used alone, but not optimal when other elements are added.

상술한 문제들을 해결하기 위해, 본 발명의 바람직한 구현예는, La3Ga5SiO14단결정을 이용한 표면 탄성파 공진자의 TCD를 향상시키는 것을 목적으로 한다.In order to solve the above problems, a preferred embodiment of the present invention is to improve the TCD of the surface acoustic wave resonator using La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal.

도 1은 본 발명의 제 1 구현예를 설명하는 표면 탄성파 공진자의 사시도이다.1 is a perspective view of a surface acoustic wave resonator illustrating a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제 2 구현예를 설명하기 위한 세로결합형 표면 탄성파 필터의 사시도이다.2 is a perspective view of a vertically coupled surface acoustic wave filter for explaining a second embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제 3 구현예를 설명하기 위한 가로결합형 표면 탄성파 필터의 사시도이다.3 is a perspective view of a horizontally coupled surface acoustic wave filter for explaining a third embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제 4 구현예를 설명하기 위한 통신 장치의 블록도이다.4 is a block diagram of a communication device for explaining a fourth embodiment of the present invention.

도 5는 오일러 각에 관한 온도와 주파수 변동의 관계를 나타내는 특성도이다.5 is a characteristic diagram showing a relationship between temperature and frequency variation with respect to the Euler angle.

도 6은 오일러 각과 정점 온도의 관계를 나타내는 특성도이다.6 is a characteristic diagram showing the relationship between the Euler angle and the peak temperature.

도 7은 전극 막 두께에 관한 온도와 주파수 변동의 관계를 나타내는 특성도이다.7 is a characteristic diagram showing the relationship between temperature and frequency variation with respect to electrode film thickness.

도 8은 본 발명의 바람직한 구현예를 설명하기 위한 전극 막 두께와 오일러 각의 관계를 나타내는 특성도이다.8 is a characteristic diagram showing a relationship between an electrode film thickness and an Euler angle for explaining a preferred embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 표면 탄성파 공진자1: surface acoustic wave resonator

2 : 압전 기판2: piezoelectric substrate

3 : 인터디지털 트랜스듀서3: interdigital transducer

3a, 3b : 빗살모양 전극3a, 3b: comb-shaped electrode

본 발명의 바람직한 구현예에 따른 표면 탄성파 공진자는, 랑가사이트 단결정으로 이루어지는 압전 기판, 및 Al를 포함하고 상기 압전 기판상에 형성되는 인터디지털 트랜스듀서를 포함하며, 상기 압전 기판의 오일러 각 (ψ, θ, φ)는, 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이고, 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 약 0.005∼0.15 사이에 있다.A surface acoustic wave resonator according to a preferred embodiment of the present invention includes a piezoelectric substrate made of langagasite single crystal, and an interdigital transducer including Al and formed on the piezoelectric substrate, wherein the Euler angle (ψ, θ and φ) are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, respectively, and the film thickness H of the interdigital transducer is used to determine the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate. It is between about 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength [lambda].

상기 압전 기판의 오일러 각 (12°, θ, 37°)을 가로축에 좌표로 나타내고, 상기 압전 기판에 여자되는 파장 λ에 대한 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H의 비율 H/λ를 세로축에 좌표로 나타내었을 때, 표면 탄성파의 θ 및 H/λ는, 아래에 기재된 점 :Euler angles (12 °, θ, 37 °) of the piezoelectric substrate are plotted on the horizontal axis, and the ratio H / λ of the film thickness H of the interdigital transducer to the wavelength λ excited on the piezoelectric substrate is coordinated on the vertical axis. When denoted by θ and H / λ of the surface acoustic wave, the points described below:

A(θ=152°, H/λ=0.005)A (θ = 152 °, H / λ = 0.005)

B(θ=153.5°, H/λ=0.005)B (θ = 153.5 °, H / λ = 0.005)

C(θ=155°, H/λ=0.15)C (θ = 155 °, H / λ = 0.15)

D(θ=153.5°, H/λ=0.15)D (θ = 153.5 °, H / λ = 0.15)

에 의해 둘러싸인 영역, 또는 상기 영역을 둘러싸는 선상에 포함된다.It is included in the area | region enclosed by or the line surrounding this area | region.

본 발명의 여러가지 바람직한 구현예에 따른 표면 탄성파 공진자는, 표면 탄성파 필터, 듀플렉서 또는 통신 장치에 제공될 수 있다.A surface acoustic wave resonator according to various preferred embodiments of the present invention may be provided in a surface acoustic wave filter, a duplexer, or a communication device.

본 발명의 바람직한 구현예에 따르면, 우수한 TCD를 가지는 표면파 공진자를 달성할 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, it is possible to achieve a surface wave resonator having an excellent TCD.

본 발명을 설명하기 위해, 도면에 몇 개의 바람직한 예를 나타내는데, 본 발명에 나타낸 정확한 배열 및 수단에 한정되는 것은 아니다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS To illustrate the invention, some preferred examples are shown in the drawings, but are not limited to the precise arrangements and instrumentalities shown in the invention.

이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described with reference to drawings.

도 1은 본 발명의 제 1 구현예를 나타내는 표면 탄성파 공진자의 사시도이다.1 is a perspective view of a surface acoustic wave resonator showing a first embodiment of the present invention.

도 1과 같이, 표면 탄성파 공진자(1)는 La3Ga5SiO14단결정을 포함하는 압전 기판(2)상에 하나의 IDT를 형성하고, 그 양측에 반사기(4)를 형성한다.As shown in FIG. 1, the surface acoustic wave resonator 1 forms one IDT on a piezoelectric substrate 2 including La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals, and forms reflectors 4 on both sides thereof.

인터디지털 트랜스듀서(3)는 Al 또는 Au와 같은 전극 재료로 형성되는 것이 바람직하며, 한 쌍의 빗살모양 전극(3a, 3b)이 서로 깍지끼워지는 형상으로 구성된다.The interdigital transducer 3 is preferably formed of an electrode material such as Al or Au, and has a shape in which a pair of comb-shaped electrodes 3a and 3b are interdigitated with each other.

다음으로, 본 발명의 제 2 구현예에 대해 설명한다. 도 2는 본 발명의 제 2 구현예를 나타내는 세로결합형 표면 탄성파 필터의 사시도이다.Next, a second embodiment of the present invention will be described. Figure 2 is a perspective view of a longitudinally coupled surface acoustic wave filter showing a second embodiment of the present invention.

도 2에 도시하는 바와 같이, 세로결합형 표면 탄성파 필터(11)는, La3Ga5SiO14단결정으로 구성된 압전 기판(12)상에, 적어도 두 개의 IDT(13, 13)를 배치하고, 그 IDT의 양 단면에 반사기(14, 14)를 형성한다.As shown in FIG. 2, in the vertically coupled surface acoustic wave filter 11, at least two IDTs 13 and 13 are disposed on a piezoelectric substrate 12 composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals. Reflectors 14 and 14 are formed on both end surfaces of the IDT.

IDT(13)는, Al 또는 Au와 같은 전극 재료로 형성되어 있고, 한 쌍의 빗살모양 전극(13a, 13b)이 서로 깍지끼워지듯이 배열된다. 또한, IDT는 표면 탄성파 전파방향으로 일정한 간격을 두고, 평행하게 배열된다.The IDT 13 is formed of an electrode material such as Al or Au, and the pair of comb-shaped electrodes 13a and 13b are arranged so as to sandwich each other. The IDTs are arranged in parallel at regular intervals in the surface acoustic wave propagation direction.

더욱이, 본 발명의 제 3 구현예에 대해 설명한다. 도 3은 본 발명의 바람직한 제 3 구현예를 나타내는 가로결합형 표면 탄성파 필터의 사시도이다.Moreover, a third embodiment of the present invention will be described. 3 is a perspective view of a horizontally coupled surface acoustic wave filter showing a third preferred embodiment of the present invention.

도 3에 도시하는 바와 같이, 가로결합형 표면 탄성파 필터(21)는, La3Ga5SiO14단결정으로 구성된 압전 기판(22)상에 IDT(23)를 형성하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 3, the transverse coupling type surface acoustic wave filter 21 preferably forms an IDT 23 on a piezoelectric substrate 22 composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals.

IDT(23)은 Al 또는 Au와 같은 전극 재료로 구성되며, 빗살모양 전극(23a, 23b)이 서로 깍지끼워지듯이 배열되어 있다.The IDT 23 is made of an electrode material such as Al or Au, and the comb-shaped electrodes 23a and 23b are arranged as interdigitated with each other.

본 발명의 제 4 구현예 및 제 5 구현예에 대해 설명한다. 도 4는 본 발명의 제 4 구현예를 나타내는 듀플렉서 및 본 발명의 제 5 구현예를 나타내는 통신 장치의 블록도이다.A fourth embodiment and a fifth embodiment of the present invention will be described. 4 is a block diagram of a duplexer showing a fourth embodiment of the present invention and a communication device showing a fifth embodiment of the present invention.

도 4에 도시하는 바와 같이, 통신 장치(31)는, 수신용 표면 탄성파 필터(32) 및 송신용 표면 탄성파 필터(33)를 가지는 듀플렉서(34)의 안테나 단자에 접속되는 안테나(35)를 포함한다. 또한, 통신 장치(31)는, 수신 회로(36)에 접속된 출력 단자 및 송신 회로(37)에 접속된 입력 단자를 포함한다. 듀플렉서(34)의 수신용 표면 탄성파 필터(32)와 송신용 표면 탄성파 필터(33)에는, 제 2 구현예 및 제 3 구현예에 상술한 표면 탄성파 필터(11, 21)가 각각 이용된다.As shown in FIG. 4, the communication device 31 includes an antenna 35 connected to an antenna terminal of a duplexer 34 having a receiving surface acoustic wave filter 32 and a transmitting surface acoustic wave filter 33. do. In addition, the communication device 31 includes an output terminal connected to the reception circuit 36 and an input terminal connected to the transmission circuit 37. As the surface acoustic wave filter 32 for reception and the surface acoustic wave filter 33 for transmission of the duplexer 34, the surface acoustic wave filters 11 and 21 described above in the second and third embodiments are used, respectively.

상술한 표면 탄성파 디바이스의 기판으로서 이용되는 La3Ga5SiO14의 오일러 각에 의해 온도 및 주파수 변동의 변화에 관한 실험을 수행하였다. 도 5에서, 온도에 영향을 받는 주파수 변동의 실측값을 ■∼◆로 나타내고, 그 근사값을 곡선으로 나타낸다.An experiment on the change of temperature and frequency variation was performed by the Euler angle of La 3 Ga 5 SiO 14 used as the substrate of the surface acoustic wave device described above. In FIG. 5, actual values of frequency fluctuations affected by temperature are represented by ˜- ◆, and an approximation value is indicated by a curve.

도 5에 도시하듯이, La3Ga5SiO14단결정에서는, 주파수 변동이 거의 제로가 되는 주파수의 정점 온도를 가지는 곡선을 그리는 것을 알 수 있다. 또한, La3Ga5SiO14단결정의 오일러 각(ψ, θ, φ)의 θ가 커지는데 따라, 이 곡선이 고온측으로 이동하는 것을 알 수 있다.As shown in Fig. 5, it can be seen that in the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal, a curve having a peak temperature of a frequency at which the frequency variation becomes almost zero is drawn. In addition, La 3 Ga 5 SiO 14 according to the I θ of Euler angles (ψ, θ, φ) of the single crystal grows, it can be seen that this curve moves to the high temperature.

다음으로, 오일러 각(ψ, θ, φ)의 θ가 변할 때, 주파수 변동이 거의 제로가 되는 주파수의 정점 온도를 계측하였다. 도 6은 정점 온도를 ■로 나타내고, 그 근사값을 선으로 나타내어, θ(오일러 각(ψ, θ, φ)의 오일러 각(12°, θ, 37°)에서의 커트각)를 변동시킴으로써 어떻게 정점 온도가 변화하는지를 나타내는 것이다.Next, when the θ of the Euler angles ψ, θ, and φ changes, the peak temperature of the frequency at which the frequency variation becomes almost zero was measured. Fig. 6 shows the peak temperature by ■, the approximation of which is represented by a line, and how the peak is changed by varying θ (cut angle at Euler angles (12 °, θ, 37 °) of the oiler angles (ψ, θ, φ)). It indicates whether the temperature changes.

도 6에서 도시하듯이, La3Ga5SiO14단결정의 오일러 각(ψ, θ, φ)의 θ가 커지는데 따라, 도 5에 나타낸 곡선이 θ에 따라 고온측으로 이동함과 마찬가지로, 주파수의 정점 온도가 고온측으로 이동하는 것을 알 수 있다.As shown in Fig. 6, as the θ of the Euler angles (ψ, θ, φ) of the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal increases, the peak of frequency is similar to the curve shown in Fig. 5 moving toward the high temperature side according to θ. It can be seen that the temperature moves to the high temperature side.

다음으로, La3Ga5SiO14단결정의 압전 기판상에 형성되는 Al 전극의 막 두께 H의 변화에 따라, 온도에 대한 주파수 변동의 곡선이 어떻게 변화하는지를 도 7에 나타낸다.Next, FIG. 7 shows how the curve of the frequency variation with respect to temperature changes with the change in the film thickness H of the Al electrode formed on the piezoelectric substrate of the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal.

도 7에서, ■는 오일러 각(ψ, θ, φ)가 각각 대략 (12°, 153°, 37°)인 La3Ga5SiO14단결정으로 구성된 압전 기판상에 막 두께 1500Å의 Al 전극이 형성되었을 때의 실측값을 나타내고, ●은 오일러 각(ψ, θ, φ)가 각각 대략 (12°, 153°, 37°)인 La3Ga5SiO14단결정으로 구성된 압전 기판상에 막 두께 7500Å의 Al 전극이 형성되었을 때의 실측값을 나타낸다. 도 7에서 나타내듯이, Al 전극의 막 두께 H가 두꺼워질수록, 곡선이 저온측으로 이동하는 것을 알 수 있다.In Fig. 7, an Al electrode having a film thickness of 1500Å is formed on a piezoelectric substrate composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals having Euler angles (ψ, θ, φ) of approximately (12 °, 153 °, 37 °), respectively. Is a measured value of 7500, on a piezoelectric substrate composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals having Euler angles (ψ, θ, φ) of approximately (12 °, 153 °, 37 °), respectively. The measured value at the time of forming an Al electrode is shown. As shown in Fig. 7, it can be seen that as the film thickness H of the Al electrode becomes thicker, the curve moves to the low temperature side.

상술한 바와 같이, La3Ga5SiO14단결정의 오일러 각(ψ, θ, φ)의 θ가 커질수록, 주파수 변동이 거의 제로가 되는 정점 온도는 고온측으로 이동하고, Al 전극의 두께 H가 두꺼워질수록 정점 온도는 저온측으로 이동하는 것을 확인할 수 있었다.As described above, as the θ of the Euler angles (ψ, θ, φ) of the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal increases, the peak temperature at which the frequency variation becomes almost zero moves to the high temperature side, and the thickness H of the Al electrode becomes thicker. As the temperature increases, the peak temperature moves to the low temperature side.

표면 탄성파 공진자 및 표면 탄성파 필터와 같은 표면 탄성파 디바이스는 상온에서 이용되기 때문에, 주파수 변동이 거의 제로가 되는 정점 온도를 약 20℃∼30℃ 사이로 설정하면, 표면 탄성파 디바이스의 주파수 변동이 최소화될 수 있다.Since surface acoustic wave devices such as surface acoustic wave resonators and surface acoustic wave filters are used at room temperature, the frequency fluctuation of the surface acoustic wave device can be minimized by setting the peak temperature at which the frequency fluctuation is almost zero between about 20 ° C and 30 ° C. have.

결과적으로, La3Ga5SiO14단결정의 오일러 각(ψ, θ, φ)의 θ값에 의해, 주파수의 정점 온도를 고온측으로 이동시키는데 따라, Al 전극의 막 두께 H를 결정하면, 주파수의 정점 온도를 바람직하게는 약 20℃∼30℃ 사이로 설정할 수 있다.As a result, when the film thickness H of the Al electrode is determined by shifting the peak temperature of the frequency to the high temperature side by the θ value of the Euler angles (ψ, θ, φ) of the La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal, the peak of the frequency is determined. The temperature can preferably be set between about 20 ° C and 30 ° C.

La3Ga5SiO14단결정의 특성이 가장 좋은 오일러 각(ψ, θ, φ)이 각각 대략 (12°, 152°∼155°, 37°)인 범위에서, 주파수의 정점 온도가 약 20℃∼30℃ 사이에 있도록, Al 전극의 막 두께 H의 값을 실험에 의해 산출하였다.In the range where the Euler angles (ψ, θ, φ) having the best properties of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals are approximately (12 °, 152 ° to 155 °, 37 °), the peak temperature of the frequency is about 20 ° C to The value of the film thickness H of the Al electrode was calculated by experiment so as to be between 30 ° C.

그 결과, 오일러 각이 대략 (12°, 152°, 37°)일 때, H/λ=0.005에서의 주파수의 정점 온도가 약 20℃이고, 오일러 각이 대략 (12°, 153.5°, 37°)일 때, H/λ=0.005에서의 주파수의 정점 온도가 약 30℃임을 알 수 있었다.As a result, when Euler angles are approximately (12 °, 152 °, 37 °), the peak temperature of the frequency at H / λ = 0.005 is about 20 ° C, and Euler angles are approximately (12 °, 153.5 °, 37 °). ), It can be seen that the peak temperature of the frequency at H / λ = 0.005 is about 30 ° C.

더욱이, 오일러 각이 대략 (12°, 153.5°, 37°)일 때, H/λ=0.15에서의 주파수의 정점 온도가 약 20℃이고, 오일러 각이 대략 (12°, 155°, 37°)일 때, H/λ=0.15에서의 주파수의 정점 온도가 약 30℃임을 알 수 있었다.Moreover, when the Euler angle is approximately (12 °, 153.5 °, 37 °), the peak temperature of the frequency at H / λ = 0.15 is about 20 ° C, and the Euler angle is approximately (12 °, 155 °, 37 °) It was found that the peak temperature of the frequency at H / λ = 0.15 was about 30 ° C.

주파수의 정점 온도가 약 20℃∼30℃인 범위로 설정되는 오일러 각과 H/λ에 의해 둘러싸인 영역을 도 8의 그래프로 나타내었다. 즉, 약 20℃∼30℃의 범위에 있는 주파수의 정점 온도는, 점 A[오일러 각(12°, 152°, 37°), H/λ=0.005], 점 B[오일러 각(12°, 153.5°, 37°), H/λ=0.005], 점 C[오일러 각(12°, 155°, 37°), H/λ=0.15] 및 점 D[오일러 각(12°, 153.5°, 37°), H/λ=0.15]로 둘러싸인 영역, 또는 그 영역을 둘러싸는 선상에 있고, 주파수 변동은 이 영역 또는 이 영역을 둘러싸는 선상보다 작다.The area surrounded by the Euler angle and H / λ set in the range where the peak temperature of the frequency is about 20 ° C to 30 ° C is shown in the graph of FIG. 8. That is, the peak temperature of the frequency in the range of about 20 ° C to 30 ° C is defined as point A (oiler angles (12 °, 152 °, 37 °), H / λ = 0.005), point B [oiler angle (12 °, 153.5 °, 37 °), H / λ = 0.005], point C [Euler angle (12 °, 155 °, 37 °), H / λ = 0.15] and point D [Euler angle (12 °, 153.5 °, 37 °), H / λ = 0.15] or on a line surrounding the area, and the frequency variation is smaller than this area or on a line surrounding this area.

오일러 각(ψ, θ, φ)은 표면 탄성파의 전파 방향을 나타내는데, 이 전파 방향에 대해서는, IDT의 제조 공정에서의 오차에 의해, 37°±2°의 오차가 발생하는 것이다.Euler angles (ψ, θ, φ) represent the propagation direction of the surface acoustic wave, but an error of 37 ° ± 2 ° occurs in this propagation direction due to an error in the IDT manufacturing process.

본 발명의 제 1 구현예∼제 3 구현예에서는, 오일러 각의 ψ가 약 12°인 경우에 대해 설명하였지만, 그러나 지금부터 12°±1°의 범위에서는 거의 동등한 값을 얻을 수 있다고 판명되고 있다. 즉, ψ가 약 11° 또는 13°인 경우에도, ψ가 12°인 경우와 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.In the first to third embodiments of the present invention, the case where Euler angle? Is about 12 ° has been described. However, from now on, it has been found that almost equivalent values can be obtained in the range of 12 ° ± 1 °. . That is, even when ψ is about 11 ° or 13 °, the same effect as that when ψ is 12 ° can be obtained.

게다가, 본 발명의 제 1 구현예∼제 3의 구현예에서는, 표면 탄성파 공진자, 세로결합형 표면 탄성파 필터 및 가로결합형 표면 탄성파 필터를 예로 들어 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 복수의 쌍의 트랜스듀서를 가지는 가로형 표면 탄성파 필터 및 표면 탄성파 공진자를 사다리 회로모양으로 배치한 래더형 필터를 이용하여도 되고, 어떤 형태의 표면 탄성파 디바이스에 의해서도 동등한 효과를 얻을 수 있다.In addition, in the first to third embodiments of the present invention, the surface acoustic wave resonator, the longitudinally coupled surface acoustic wave filter, and the transversely coupled surface acoustic wave filter have been described as examples, but are not limited thereto. For example, a horizontal surface acoustic wave filter having a plurality of pairs of transducers and a ladder filter in which the surface acoustic wave resonators are arranged in a ladder circuit shape may be used, and an equivalent effect can be obtained by any type of surface acoustic wave device. .

더욱이, 본 발명의 제 1 구현예∼제 3의 구현예에서는, 반사기를 가지는 표면 탄성파 공진자에 대해 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 본 발명은 반사기가 없는 표면 탄성파 디바이스에 적용할 수 있다.Further, in the first to third embodiments of the present invention, the surface acoustic wave resonator having a reflector has been described, but is not limited thereto. The present invention is applicable to surface acoustic wave devices without reflectors.

본 발명의 바람직한 구현예에 대하여 개시하였지만, 여기서 개시된 구현예 외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것이다. 따라서 본 발명의 범위가 이하의 특허청구범위의 영역에 한정되지 않는다는 사실을 알 수 있다.Although a preferred embodiment of the present invention has been disclosed, it is apparent to those skilled in the art that other modifications based on the technical idea of the present invention can be carried out in addition to the embodiments disclosed herein. will be. Therefore, it is understood that the scope of the present invention is not limited to the scope of the following claims.

본 발명에 따르면, La3Ga5SiO14압전 기판의 오일러 각과 전극의 막 두께를 최적화함으로써 주파수 변동이 작은 표면 탄성파 디바이스를 얻을 수 있다.According to the present invention, the surface acoustic wave device with small frequency variation can be obtained by optimizing the Euler angle of the La 3 Ga 5 SiO 14 piezoelectric substrate and the film thickness of the electrode.

Claims (21)

랑가사이트(langasite) 단결정으로 이루어지는 압전 기판; 및Piezoelectric substrates composed of langasite single crystals; And 상기 압전 기판상에 형성된 인터디지털 트랜스듀서;를 포함하는 표면 탄성파 공진자로서,A surface acoustic wave resonator comprising: an interdigital transducer formed on the piezoelectric substrate. 상기 압전 기판의 방향을 규정하는 오일러 각(Euler angle) (ψ, θ, φ)가 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이며,Euler angles (ψ, θ, φ) defining the direction of the piezoelectric substrate are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, respectively. 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자(勵磁)되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 0.005∼0.15 사이에 있는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 공진자.The film thickness H of the interdigital transducer is between 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength? Of the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Al로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 공진자.The surface acoustic wave resonator as claimed in claim 1, wherein the interdigital transducer is made of Al. 제 1 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Au로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 공진자.The surface acoustic wave resonator as claimed in claim 1, wherein the interdigital transducer is made of Au. 제 1 항에 있어서, 상기 압전 기판은 La3Ga5SiO14단결정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 공진자.The surface acoustic wave resonator of claim 1, wherein the piezoelectric substrate is made of a La 3 Ga 5 SiO 14 single crystal. 제 1 항에 있어서, 상기 압전 기판의 양 단부상에 반사기가 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 공진자.The surface acoustic wave resonator of claim 1, wherein reflectors are formed on both ends of the piezoelectric substrate. 랑가사이트 단결정으로 구성된 압전 기판 및 상기 압전 기판상에 형성된 인터디지털 트랜스듀서를 포함하는 표면 탄성파 공진자를 구비한 탄성 표면파 필터로서,A surface acoustic wave filter having a surface acoustic wave resonator comprising a piezoelectric substrate composed of a langaceite single crystal and an interdigital transducer formed on the piezoelectric substrate, 상기 압전 기판의 방향을 규정하는 오일러 각 (ψ, θ, φ)가 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이며,Euler angles (ψ, θ, φ) defining the orientation of the piezoelectric substrate are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, respectively. 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 0.005∼0.15 사이에 있는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 필터.The film thickness H of the interdigital transducer is between 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength? Of the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate. 제 6 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Al로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 필터.7. The surface acoustic wave filter of claim 6, wherein the interdigital transducer is made of Al. 제 6 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Au로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 필터.The surface acoustic wave filter of claim 6, wherein the interdigital transducer is made of Au. 제 6 항에 있어서, 상기 압전 기판은 La3Ga5SiO14단결정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 필터.7. The surface acoustic wave filter as claimed in claim 6, wherein the piezoelectric substrate is composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals. 제 6 항에 있어서, 상기 압전 기판의 양 단부상에 반사기가 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 필터.The surface acoustic wave filter of claim 6, wherein reflectors are formed on both ends of the piezoelectric substrate. 랑가사이트 단결정으로 구성된 압전 기판 및 상기 압전 기판상에 형성된 인터디지털 트랜스듀서를 포함하는 표면 탄성파 디바이스를 구비한 듀플렉서로서,A duplexer having a surface acoustic wave device comprising a piezoelectric substrate composed of langagasite single crystal and an interdigital transducer formed on the piezoelectric substrate, 상기 압전 기판의 방향을 규정하는 오일러 각 (ψ, θ, φ)가 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이며,Euler angles (ψ, θ, φ) defining the orientation of the piezoelectric substrate are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, respectively. 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 0.005∼0.15 사이에 있는 것을 특징으로 하는 듀플렉서.The film thickness H of the interdigital transducer is between 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength? Of the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate. 제 11 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Al로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서.12. The duplexer according to claim 11, wherein the interdigital transducer is made of Al. 제 11 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Au로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서.12. The duplexer according to claim 11, wherein the interdigital transducer is made of Au. 제 11 항에 있어서, 상기 압전 기판은 La3Ga5SiO14단결정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서.12. The duplexer according to claim 11, wherein the piezoelectric substrate is composed of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals. 제 11 항에 있어서, 상기 압전 기판의 양 단부상에 반사기가 형성되는 것을 특징으로 하는 듀플렉서.The duplexer according to claim 11, wherein reflectors are formed on both ends of the piezoelectric substrate. 랑가사이트 단결정으로 구성된 압전 기판 및 상기 압전 기판상에 형성된 인터디지털 트랜스듀서를 포함하는 표면 탄성파 공진자를 구비한 통신 장치로서,A communication device having a surface acoustic wave resonator comprising a piezoelectric substrate composed of a langassite single crystal and an interdigital transducer formed on the piezoelectric substrate, 상기 압전 기판의 방향을 규정하는 오일러 각 (ψ, θ, φ)가 각각 약 11°∼13°, 약 152°∼155° 및 약 37°±2°이며,Euler angles (ψ, θ, φ) defining the orientation of the piezoelectric substrate are about 11 ° to 13 °, about 152 ° to 155 ° and about 37 ° ± 2 °, respectively. 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H는, 상기 압전 기판상에 여자되는 표면 탄성파의 파장 λ에 대해 0.005∼0.15 사이에 있는 것을 특징으로 하는 통신 장치.The film thickness H of the interdigital transducer is between 0.005 and 0.15 with respect to the wavelength? Of the surface acoustic wave excited on the piezoelectric substrate. 제 16 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Al로 구성되는 것을 특징으로 하는 통신 장치.17. The communications device of claim 16 wherein the interdigital transducer is comprised of Al. 제 16 항에 있어서, 상기 인터디지털 트랜스듀서는 Au로 구성되는 것을 특징으로 하는 통신 장치.17. The communications device of claim 16 wherein the interdigital transducer is comprised of Au. 제 16 항에 있어서, 상기 압전 기판은 La3Ga5SiO14단결정으로 구성되는 것을 특징으로 하는 통신 장치.17. The communications device of claim 16, wherein said piezoelectric substrate is comprised of La 3 Ga 5 SiO 14 single crystals. 제 16 항에 있어서, 상기 압전 기판의 양 단부상에 반사기가 형성되는 것을 특징으로 하는 통신 장치.17. The communications device of claim 16, wherein reflectors are formed on both ends of the piezoelectric substrate. 랑가사이트 단결정으로 구성되는 압전 기판; 및A piezoelectric substrate composed of rangagasite single crystal; And 상기 압전 기판에 배치된 인터디지털 트랜스듀서;를 포함하는 표면 탄성파 디바이스로서,An interdigital transducer disposed on the piezoelectric substrate, the surface acoustic wave device comprising: 상기 압전 기판의 오일러 각 (12°, θ, 37°)을 가로축에 좌표로 나타내고, 상기 압전 기판에 여자되는 파장 λ에 대한 상기 인터디지털 트랜스듀서의 막 두께 H의 비율 H/λ를 세로축에 좌표로 나타내고,Euler angles (12 °, θ, 37 °) of the piezoelectric substrate are plotted on the horizontal axis, and the ratio H / λ of the film thickness H of the interdigital transducer to the wavelength λ excited on the piezoelectric substrate is coordinated on the vertical axis. Represented by 표면 탄성파의 θ 및 H/λ는, 아래에 기재된 점에 의해 둘러싸인 영역, 또는 상기 영역을 둘러싸는 선상에 포함되는 것을 특징으로 하는 표면 탄성파 디바이스.(Theta) and H / (lambda) of a surface acoustic wave are contained in the area | region enclosed by the point described below, or on the line surrounding the said area | region, The surface acoustic wave device characterized by the above-mentioned. A(θ=152°, H/λ=0.005)A (θ = 152 °, H / λ = 0.005) B(θ=153.5°, H/λ=0.005)B (θ = 153.5 °, H / λ = 0.005) C(θ=155°, H/λ=0.15)C (θ = 155 °, H / λ = 0.15) D(θ=153.5°, H/λ=0.15)D (θ = 153.5 °, H / λ = 0.15)
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