KR20000013740A - Bit line discharge circuit in a semiconductor memory device - Google Patents

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KR20000013740A
KR20000013740A KR1019980032777A KR19980032777A KR20000013740A KR 20000013740 A KR20000013740 A KR 20000013740A KR 1019980032777 A KR1019980032777 A KR 1019980032777A KR 19980032777 A KR19980032777 A KR 19980032777A KR 20000013740 A KR20000013740 A KR 20000013740A
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임정주
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윤종용
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Abstract

PURPOSE: A bit line discharge circuit is provided to make a big voltage difference between bit lines when reading data in a low voltage and high speed operation. CONSTITUTION: The bit line discharge circuit comprises: a memory cell array; a bit line discharge circuit for discharging a corresponding bit line of a pair of bit lines connected to a corresponding memory cell; and a sense amplifier for sensing a voltage difference between the bit lines and outputting data of the memory cell.

Description

반도체 메모리 장치의 비트 라인 디스챠지 회로(BIT LINE DISCHARGE CIRCUIT OF SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE)BIT LINE DISCHARGE CIRCUIT OF SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE

본 발명은 반도체 메모리 장치(semiconductor memory device)에 관한 것으로서, 구체적으로는 비트 라인 디스챠지 회로(bit line discharge circuit)에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly to bit line discharge circuits.

도 1을 참조하면, 반도체 메모리 장치는 메모리 셀 어레이(10), 행 디코더(20), 열 디코더(30) 그리고 센스 앰프(40)를 구비한다. 상기 메모리 셀 어레이(10)는 복수 개의 메모리 셀들과 행의 방향으로 상기 메모리 셀들을 따라 신장하는 복수 개의 워드 라인들 및 상기 메모리 셀들을 따라 열의 방향으로 신장하는 복수 개의 비트 라인 쌍들을 구비한다. 상기 행 디코더(20)는 기입 및 독출 동작 동안에 행 어드레스(R_ADDR)를 받아들여서 상기 메모리 셀 어레이(10)의 상기 워드 라인들 중 대응되는 하나의 워드 라인을 선택한다.Referring to FIG. 1, a semiconductor memory device includes a memory cell array 10, a row decoder 20, a column decoder 30, and a sense amplifier 40. The memory cell array 10 includes a plurality of memory cells and a plurality of word lines extending along the memory cells in a row direction and a plurality of bit line pairs extending along the memory cells in a column direction. The row decoder 20 receives a row address R_ADDR during a write and read operation to select a corresponding one of the word lines of the memory cell array 10.

상기 열 디코더(30)는 상기 기입 및 독출 동작 동안에 열 어드레스(C_ADDR)를 받아들여서 상기 메모리 셀 어레이(10)의 비트 라인 쌍들 중 대응되는 하나의 비트 라인 쌍들을 선택한다. 상기 센스 앰프(40)는 상기 기입 동작 동안에 외부로부터의 데이터(DATA)를 선택된 상기 비트 라인 쌍을 통해 상기 행 어드레스(R_ADDR) 및 열 어드레스(C_ADDR)에 의해 선택된 메모리 셀로 공급하고 그리고 독출 동작 동안에 상기 선택된 메모리 셀로부터 출력되는 데이터(DATA)를 센싱하여 출력한다.The column decoder 30 receives a column address C_ADDR during the write and read operations to select a corresponding one of the bit line pairs of the bit line pairs of the memory cell array 10. The sense amplifier 40 supplies data DATA from outside during the write operation to the memory cell selected by the row address R_ADDR and the column address C_ADDR through the selected bit line pair and during the read operation. The data DATA output from the selected memory cell is sensed and output.

종래의 기술에 따른 반도체 메모리 장치의 독출 동작은 하나의 상기 워드 라인이 선택되고, 미리 프리챠지(precharge)되어 있던 선택된 상기 한 쌍의 비트 라인들 중 하나의 비트 라인의 전하(charge)들이 상기 메모리 셀내에 구비된 방전 트랜지스터를 통해 방전된다. 상기 센스 앰프(40)는 상기 독출 동작 동안에 선택된 상기 한 쌍의 비트 라인들 간의 전압 차를 센싱한다. 이때, 상기 센스 앰프가 정상적으로 센싱하기 위해서는 한 쌍을 이루는 비트 라인들 간의 전압차가 소정의 전압 레벨이상 벌어져야 한다.In a read operation of a semiconductor memory device according to the related art, one of the word lines is selected, and charges of one bit line of the selected pair of bit lines that have been precharged in advance are stored in the memory. It discharges through the discharge transistor provided in the cell. The sense amplifier 40 senses the voltage difference between the pair of bit lines selected during the read operation. At this time, in order for the sense amplifier to normally sense, the voltage difference between the pair of bit lines must be increased by a predetermined voltage level or more.

그런데, 상기 반도체 메모리 장치의 집적도가 높아짐에 따라 상기 비트 라인들에 형성되는 커패시턴스(capacitance)가 상대적으로 증가되고, 상기 메모리 셀내의 풀-다운 트랜지스터의 구동 능력이 작아진다. 그리고, 동작 전압(operating voltage)이 낮아짐으로 인해서 상기 비트 라인들 간의 전압 차는 작아진다. 상기 비트 라인들 간의 전압 차가 작아질 경우에는 잘못된 데이터를 출력하는 오동작이 발생된다.However, as the degree of integration of the semiconductor memory device increases, the capacitance formed in the bit lines is relatively increased, and the driving capability of the pull-down transistor in the memory cell is reduced. As the operating voltage is lowered, the voltage difference between the bit lines becomes smaller. When the voltage difference between the bit lines is small, a malfunction that outputs wrong data occurs.

따라서 본 발명의 목적은 저전압 및 고속 동작하에서의 독출 동작시 비트 라인들 간의 큰 전압 차를 발생시키는 반도체 메모리 장치의 비트 라인 디스챠지 회로를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a bit line discharge circuit of a semiconductor memory device which generates a large voltage difference between bit lines in a read operation under low voltage and high speed operation.

도 1은 일반적인 반도체 메모리 장치의 블록도;1 is a block diagram of a general semiconductor memory device;

도 2는 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치의 디스챠지 회로의 상세 회로도; 및2 is a detailed circuit diagram of a discharge circuit of a semiconductor memory device according to the present invention; And

도 3은 본 발명에 따른 독출 동작을 보여주는 동작 파형도이다.3 is an operational waveform diagram showing a read operation according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호 설명* Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 메모리 셀 어레이 200 : 비트 라인 디스챠지 회로100: memory cell array 200: bit line discharge circuit

300 : 센스 앰프300: sense amplifier

(구성)(Configuration)

상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일특징에 의하면, 각각이 복수 개의 워드 라인들 및 복수 쌍의 비트 라인들에 각각 연결되는 메모리 셀들의 어레이와; 독출 동작 동안에 대응하는 메모리 셀로부터의 데이터를 감지하는 감지 수단 및; 상기 독출 동작 동안에 선택된 워드 라인과 동시에 활성화되는 제 1 제어 신호 및 상기 제 1 제어 신호와 상보적인 레벨을 가지는 제 2 제어 신호에 응답해서 대응되는 한 쌍의 비트 라인들 중 하나의 비트 라인에 챠지된 전하들을 방전하는 비트 라인 방전 수단을 포함한다.According to one aspect of the present invention for achieving the above object, an array of memory cells each connected to a plurality of word lines and a plurality of pair of bit lines; Sensing means for sensing data from a corresponding memory cell during a read operation; Charged in one bit line of a pair of bit lines corresponding to a first control signal activated simultaneously with the selected word line and a second control signal having a level complementary to the first control signal during the read operation; Bit line discharge means for discharging charges.

이 실시예에 있어서, 상기 비트 라인 방전 수단은, 제 1 노드와, 상기 제 1 및 제 2 제어 신호들에 응답해서 대응되는 비트 라인들 중 제 1 비트 라인에 챠지된 전하들을 상기 제 1 노드로 전달하는 제 1 전달 회로와, 제 2 노드와, 상기 제 1 및 제 2 제어 신호들에 응답해서 대응되는 비트 라인들 중 제 2 비트 라인에 챠지된 전하들을 상기 제 2 노드로 전달하는 제 2 전달 회로와, 상기 제 1 및 제 2 노드들 사이의 도전 경로를 차단하는 차단 회로 및, 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 챠지된 전하들을 선택적으로 방전하는 방전 회로를 포함한다.In this embodiment, the bit line discharging means includes a first node and charges charged in a first bit line among corresponding bit lines in response to the first and second control signals to the first node. A first transfer circuit for transferring, a second node, and a second transfer for transferring charges charged to a second bit line of corresponding bit lines in response to the first and second control signals to the second node; A circuit, a blocking circuit for blocking a conductive path between the first and second nodes, and a discharge circuit for selectively discharging charges charged in the first and second bit lines, respectively.

이 실시예에 있어서, 상기 방전 회로는, 상기 제 1 노드와 접지 전압 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 제 2 노드에 연결되는 게이트를 가지는 제 1 NMOS 트랜지스터 및, 상기 제 2 노드와 상기 접지 전압 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 제 1 노드에 연결되는 게이트를 가지는 제 2 NMOS 트랜지스터들 포함한다.In this embodiment, the discharge circuit includes a first NMOS transistor having a current path formed between the first node and a ground voltage and a gate connected to the second node, and between the second node and the ground voltage. And second NMOS transistors having a current path formed in the gate and a gate connected to the first node.

(작용)(Action)

이와같은 장치에 의해서, 독출 동작시 비트 라인들 간에 발생되는 전압 차를 커지게 함으로써, 독출 동작 속도를 향상시킬 수 있다.With such a device, the read operation speed can be improved by increasing the voltage difference generated between the bit lines during the read operation.

(실시예)(Example)

이하 본 발명의 실시예에 따른 참조도면 2 및 도 3에 의거하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a detailed description will be made based on reference drawings 2 and 3 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 신규한 반도체 메모리 장치는 메모리 셀 어레이(100), 비트 라인 디스챠지 회로(200) 그리고 센스 앰프(300)를 제공한다. 상기 비트 라인 디스챠지 회로(200)는 독출 동작이 시작될 때, 상기 메모리 셀 어레이(100)의 대응되는 메모리 셀에 연결된 한 쌍의 비트 라인들 중 하나의 비트 라인을 디스챠지시킨다. 상기 센스 앰프(300)는 상기 비트 라인들 간의 전압 차를 센싱하여 상기 메모리 셀(100)로부터의 데이터를 출력한다.Referring to FIG. 2, the novel semiconductor memory device of the present invention provides a memory cell array 100, a bit line discharge circuit 200, and a sense amplifier 300. The bit line discharge circuit 200 discharges one bit line of a pair of bit lines connected to a corresponding memory cell of the memory cell array 100 when a read operation is started. The sense amplifier 300 senses a voltage difference between the bit lines and outputs data from the memory cell 100.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 반도체 메모리 장치는 메모리 셀 어레이(100), 비트 라인 디스챠지 회로(200) 그리고 센스 앰프(300)를 포함한다. 상기 메모리 셀 어레이(100)는 복수 개의 메모리 셀들과 행의 방향으로 상기 메모리 셀들을 따라 신장하는 복수 개의 워드 라인들(W/L0, W/L1, ... W/Ln-1, W/Ln) 및 상기 메모리 셀들을 따라 열의 방향으로 신장하는 복수 쌍의 비트 라인 쌍들(B/L0, B/L0b, ..., B/Ln, B/Lnb)을 구비한다. 상기 비트 라인 디스챠지 회로(200)는 전달 게이트들(210, 220)과 NMOS 트랜지스터들(230, 240, 250)을 포함한다. 상기 전달 게이트(210)는 각 쌍의 비트 라인들 중 하나의 비트 라인(B/L)과 노드(N1)의 사이에 형성되는 전류 통로 및 신호들(sig, sigb)에 의해 제어되는 게이트들을 가진다. 상기 전달 회로(220)는 비트 라인(B/Lb)과 노드(N2)의 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 신호들(sig, sigb)에 의해 제어되는 게이트들을 가진다.Referring to FIG. 2, a semiconductor memory device according to the present invention includes a memory cell array 100, a bit line discharge circuit 200, and a sense amplifier 300. The memory cell array 100 includes a plurality of word lines W / L0, W / L1, ... W / Ln-1, W / Ln that extend along the memory cells in a row direction. And a plurality of pairs of bit line pairs B / L0, B / L0b, ..., B / Ln, and B / Lnb extending along the memory cells in a column direction. The bit line discharge circuit 200 includes transfer gates 210 and 220 and NMOS transistors 230, 240 and 250. The transfer gate 210 has gates controlled by current paths and signals sig and sigb formed between one of the bit lines B / L and the node N1 of each pair of bit lines. . The transfer circuit 220 has a current path formed between the bit line B / Lb and the node N2 and gates controlled by the signals sig and sigb.

상기 NMOS 트랜지스터(230)는 상기 노드들(N1, N2)의 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 신호(sigb)에 의해 제어되는 게이트를 가진다. 상기 NMOS 트랜지스터(240)는 상기 노드(N1)와 접지 전압(VSS)의 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 노드(N2)에 연결되는 게이트를 가진다. 상기 NMOS 트랜지스터(250)는 상기 노드(N2)와 상기 접지 전압(VSS)의 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 노드(N1)에 연결되는 게이트를 가진다. 상기 센스 앰프(300)는 상기 각 쌍의 비트 라인들(B/L0, B/L0b, ..., B/Ln, B/Lnb)과 데이터 라인(data line)의 사이에 연결된다.The NMOS transistor 230 has a current path formed between the nodes N1 and N2 and a gate controlled by the signal sigb. The NMOS transistor 240 has a current path formed between the node N1 and the ground voltage VSS and a gate connected to the node N2. The NMOS transistor 250 has a current path formed between the node N2 and the ground voltage VSS and a gate connected to the node N1. The sense amplifier 300 is connected between the pair of bit lines B / L0, B / L0b, ..., B / Ln, and B / Lnb and a data line.

이하 도 2 및 도 3을 참조하여 본 발명의 비트 라인 디스챠지 회로의 동작이 설명된다.Hereinafter, the operation of the bit line discharge circuit of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 and 3.

도 2 및 도 3을 참조하면, 반도체 메모리 장치 특히, SRAM은 한 쌍의 비트 라인들에 연결되는 래치 회로 형태의 복수 개의 메모리 셀들을 가진다. 상기 SRAM의 독출 동작은 선택된 메모리 셀에 연결된 각 쌍의 상기 비트 라인들의 전압 차를 이용하여 수행된다. 예컨대, 상기 SRAM의 독출 동작은 복수 개의 상기 메모리 셀들 중 대응하는 하나의 메모리 셀(C00)을 선택하여 상기 메모리 셀(C00)에 저장된 데이터를 읽어내는 동작이다. 상기 독출 동작이 시작되면, 상기 메모리 셀(C00 ; 도시되지 않음)을 선택하기 위해서 상기 메모리 셀에 대응되는 워드 라인(W/L0)과 비트 라인(B/L0)이 선택된다. 상기 독출 동작이 시작될 때, 상기 메모리 셀(C00)에 연결된 한 쌍의 비트 라인들(B/L0, B/L0b)은 상기 독출 동작 이전에 수행되는 프리챠지 동작 동안에 소정의 전압 레벨{e.g.(1/2)VCC}로 프리챠지되어 있다.2 and 3, a semiconductor memory device, in particular an SRAM, has a plurality of memory cells in the form of latch circuits connected to a pair of bit lines. The read operation of the SRAM is performed by using a voltage difference between the pair of bit lines connected to the selected memory cell. For example, the read operation of the SRAM is an operation of reading data stored in the memory cell C00 by selecting one memory cell C00 of the plurality of memory cells. When the read operation is started, a word line W / L0 and a bit line B / L0 corresponding to the memory cell are selected to select the memory cell C00 (not shown). When the read operation is started, the pair of bit lines B / L0 and B / L0b connected to the memory cell C00 may have a predetermined voltage level {eg (1) during the precharge operation performed before the read operation. / 2) precharged to VCC}.

상기 메모리 셀(C00)이 선택되고, 상기 메모리 셀(C00)에 '1'의 데이터가 저장된 상태라면 상기 비트 라인(B/L0)에 챠지된 전하들은 상기 프리챠지 전압 레벨로 유지되고, 상기 비트 라인(B/L0b)에 챠지된 전하들을 상기 메모리 셀(C00)의 풀-다운(pull-down) 트랜지스터를 통해 상기 접지 전압(VSS)으로 디스챠지된다. 이로인해, 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)의 사이에는 미세한 전압 차가 발생된다. 상기 센스 앰프(300)는 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)에 발생된 미세한 전압 차를 증폭하여 상기 데이터 라인으로 출력한다. 상기 비트 라인 디스챠지 회로(200)는 상기 독출 동작이 시작될 때 즉, 상기 워드 라인(W/L0)과 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)이 선택될 때, 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b) 중 하나의 비트 라인에 챠지된 전하들을 선택적으로 디스챠지시킨다.If the memory cell C00 is selected and data of '1' is stored in the memory cell C00, the charges charged in the bit line B / L0 are maintained at the precharge voltage level. Charges charged in the line B / L0b are discharged to the ground voltage VSS through a pull-down transistor of the memory cell C00. As a result, a minute voltage difference is generated between the bit lines B / L0 and B / L0b. The sense amplifier 300 amplifies the minute voltage difference generated in the bit lines B / L0 and B / L0b and outputs the amplified voltage to the data line. The bit line discharge circuit 200 performs the bit lines when the read operation starts, that is, when the word line W / L0 and the bit lines B / L0 and B / L0b are selected. The charges charged in one of the bit lines B / L0 and B / L0b are selectively discharged.

상기 워드 라인(W/L0)과 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)이 선택되면, 상기 메모리 셀(C00)에는 '1'의 데이터가 저장되어 있으므로 상기 비트 라인(B/L0)은 상기 프리챠지 전압 레벨로 유지되고 그리고 상기 비트 라인(B/L0b)은 상기 프리챠지 전압 레벨보다 미세하게 낮은 전압 레벨을 유지한다. 이때, 상기 비트 라인 디스챠지 회로(200)의 상기 NMOS 트랜지스터(230)는 로우 레벨의 상기 신호(sigb)의 제어에 의해 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)을 분리한다. 상기 전달 게이트들(210, 220)은 상기 신호들(sig, sigb)의 제어에 의해 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)에 챠지된 전하들을 상기 NMOS 트랜지스터들(240, 250)로 전달한다. 상기 NMOS 트랜지스터(240)는 상기 노드(N2)에 챠지된 전하들 즉, 상기 비트 라인(B/L0b)의 전압 레벨에 따라 상기 노드(N1)에 챠지된 전하들을 디스챠지시킨다. 상기 NMOS 트랜지스터(250)는 상기 노드(N1)에 챠지된 전하들 즉, 상기 비트 라인(B/L0)의 전압 레벨에 따라 상기 노드(N2)에 챠지된 전하들을 디스챠지시킨다.When the word line W / L0 and the bit lines B / L0 and B / L0b are selected, since data of '1' is stored in the memory cell C00, the bit line B / L0 is stored. Is maintained at the precharge voltage level and the bit line B / L0b maintains a voltage level slightly lower than the precharge voltage level. In this case, the NMOS transistor 230 of the bit line discharge circuit 200 separates the bit lines B / L0 and B / L0b by controlling the signal sigb at a low level. The transfer gates 210 and 220 transfer charges charged in the bit lines B / L0 and B / L0b to the NMOS transistors 240 and 250 by controlling the signals sig and sigb. To pass. The NMOS transistor 240 discharges the charges charged in the node N2, that is, the charges charged in the node N1 according to the voltage level of the bit line B / L0b. The NMOS transistor 250 discharges charges charged in the node N1, that is, charges charged in the node N2 according to the voltage level of the bit line B / L0.

이때, 상기 비트 라인(B/L0b)은 프리챠지 전압 레벨로 챠지된 전하들이 상기 메모리 셀(C00)의 상기 풀-다운 트랜지스터를 통해 디스챠지되어 전압 레벨이 낮아진다. 이로인해, 상기 NMOS 트랜지스터(240)가 상기 노드(N1)에서 상기 접지 전압(VSS)으로 디스챠지시키는 전하들의 양이 점차적으로 줄어들어 상기 비트 라인(B/L0)은 상기 프리챠지 전압 레벨을 유지된다. 이로써, 상기 NMOS 트랜지스터(250)가 상기 노드(N2)에서 상기 접지 전압(VSS)으로 디스챠지시키는 전하들의 양은 일정하게 유지된다. 상기한 바와 같은 동작으로 인해서, 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)간에 발생되는 전압 차는 더욱 커지게 된다.In this case, the bit lines B / L0b are discharged through the pull-down transistor of the memory cell C00 to be charged at a precharge voltage level, thereby lowering the voltage level. As a result, the amount of charges that the NMOS transistor 240 discharges from the node N1 to the ground voltage VSS gradually decreases so that the bit line B / L0 maintains the precharge voltage level. . As a result, the amount of charges discharged by the NMOS transistor 250 from the node N2 to the ground voltage VSS is kept constant. Due to the above operation, the voltage difference generated between the bit lines B / L0 and B / L0b becomes larger.

도 3의 독출 동작 초기의 종래의 기술에 따른 상기 비트 라인(B/L0b)의 디스챠지된 전압은 '0.8' 볼트(volt)를 나타내고 있다. 그러나 본 발명에 따른 상기 비트 라인(B/L0b)의 디스챠지된 전압은 '0.457 ∼ 0.5' 볼트(volt)의 사이에서 일정하게 유지된다. 최근 반도체 메모리 장치의 집적도가 높아지고, 그리고 동작 속도가 고속화되는 추세에 따라 동작 전압 또한 낮아지는 추세이다. 상기 동작 전압이 낮아지고, 동작 속도가 고속화됨에 따라 상기 비트 라인에 인가되는 전압이 낮아지고 그리고 상기 센스 앰프(300)의 센싱 동작에 주어지는 시간은 줄어들게 된다. 상기 비트 라인에 인가되는 전압이 낮아지면, 상기 비트 라인들이 가지는 커패시턴스는 동일한데 비해 동작 전압이 낮아지므로 상기 비트 라인들의 전압 차가 발생되는 시간이 길어진다. 본 발명의 비트 라인 디스챠지 회로(200)는 빠른 시간내에 상기 비트 라인들(B/L0, B/L0b)의 전압 차를 커지게 한다. 이로써, 저전압 및 고속 동작하에서의 독출 동작시 비트 라인들 간에 발생되는 전압 차를 커지게 함으로써, 독출 동작 속도를 향상시킬 수 있다.The discharged voltage of the bit line B / L0b according to the related art in the early stage of the read operation of FIG. 3 represents '0.8' volt. However, the discharged voltage of the bit line B / L0b according to the present invention remains constant between '0.457 and 0.5' volts. Recently, as the degree of integration of semiconductor memory devices increases and the operating speed becomes higher, the operating voltage also decreases. As the operating voltage is lowered and the operating speed is increased, the voltage applied to the bit line is lowered and the time given to the sensing operation of the sense amplifier 300 is reduced. When the voltage applied to the bit line is lowered, the capacitance of the bit lines is the same but the operating voltage is lowered, so that the time difference between the bit lines is generated. The bit line discharge circuit 200 of the present invention increases the voltage difference between the bit lines B / L0 and B / L0b in a short time. Thus, the read operation speed can be improved by increasing the voltage difference generated between the bit lines during the read operation under the low voltage and the high speed operation.

상기한 바와 같이, 저전압 및 고속 동작하에서의 독출 동작시 비트 라인들 간에 발생되는 전압 차를 커지게 함으로써, 독출 동작 속도를 향상시킬 수 있다.As described above, the read operation speed can be improved by increasing the voltage difference generated between the bit lines during the read operation under the low voltage and the high speed operation.

Claims (3)

각각이 복수 개의 워드 라인들 및 복수 쌍의 비트 라인들에 각각 연결되는 메모리 셀들의 어레이와;An array of memory cells each connected to a plurality of word lines and a plurality of pairs of bit lines, respectively; 독출 동작 동안에 대응하는 메모리 셀로부터의 데이터를 감지하는 감지 수단 및;Sensing means for sensing data from a corresponding memory cell during a read operation; 상기 독출 동작 동안에 선택된 워드 라인과 동시에 활성화되는 제 1 제어 신호 및 상기 제 1 제어 신호와 상보적인 레벨을 가지는 제 2 제어 신호에 응답해서 대응되는 한 쌍의 비트 라인들 중 하나의 비트 라인에 챠지된 전하들을 방전하는 비트 라인 방전 수단을 포함하는 반도체 메모리 장치.Charged in one bit line of a pair of bit lines corresponding to a first control signal activated simultaneously with the selected word line and a second control signal having a level complementary to the first control signal during the read operation; And a bit line discharge means for discharging charges. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 비트 라인 방전 수단은,The bit line discharge means, 제 1 노드와,The first node, 상기 제 1 및 제 2 제어 신호들에 응답해서 대응되는 비트 라인들 중 제 1 비트 라인에 챠지된 전하들을 상기 제 1 노드로 전달하는 제 1 전달 회로와,A first transfer circuit transferring charges charged to a first bit line among corresponding bit lines to the first node in response to the first and second control signals; 제 2 노드와,The second node, 상기 제 1 및 제 2 제어 신호들에 응답해서 대응되는 비트 라인들 중 제 2 비트 라인에 챠지된 전하들을 상기 제 2 노드로 전달하는 제 2 전달 회로와,A second transfer circuit transferring charges charged to a second bit line among corresponding bit lines to the second node in response to the first and second control signals; 상기 제 1 및 제 2 노드들 사이의 도전 경로를 차단하는 차단 회로 및,A blocking circuit for blocking a conductive path between the first and second nodes; 상기 제 1 및 제 2 비트 라인들에 각각 챠지된 전하들을 선택적으로 방전하는 방전 회로를 포함하는 반도체 메모리 장치.And a discharge circuit for selectively discharging charges charged in the first and second bit lines, respectively. 제 2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 방전 회로는,The discharge circuit, 상기 제 1 노드와 접지 전압 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 제 2 노드에 연결되는 게이트를 가지는 제 1 NMOS 트랜지스터 및,A first NMOS transistor having a current path formed between the first node and a ground voltage and a gate connected to the second node; 상기 제 2 노드와 상기 접지 전압 사이에 형성되는 전류 통로 및 상기 제 1 노드에 연결되는 게이트를 가지는 제 2 NMOS 트랜지스터들 포함하는 반도체 메모리 장치.And second NMOS transistors having a current path formed between the second node and the ground voltage and a gate connected to the first node.
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