KR20000003482U - Automatic matching device - Google Patents
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Abstract
본 고안은 자동정합장치에 관한 것으로, 고주파발생장치로부터 공급되는 고주파전력을 공진시켜 부하로 공급하는 콘덴서 및 가변인덕터와, 상기 고주파발생장치와 부하의 정합여부를 감지하는 정합감지센서와, 상기 정합감지센서에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 상기 가변인덕터의 인덕터값을 조절하도록 제어신호를 출력하는 제어수단 및, 상기 제어수단에서 출력된 제어신호에 따라 상기 가변인덕터의 인덕터값을 전기적으로 조절하여 상기 고주파발생장치와 부하를 정합시키는 가변인덕터구동수단을 포함하여 구성되어, 고주파전원장치와 부하를 매우 신속하게 정합시킴으로써, 고주파전원장치의 방전과도기 손상을 줄여 고주파전원장치의 수명을 연장시킬 수 있을 뿐만 아니라 주변기기에 대한 노이즈 발생시간을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to an automatic matching device, comprising: a capacitor and a variable inductor for resonating high frequency power supplied from a high frequency generator to a load, a match detecting sensor for detecting whether the high frequency generator matches a load, and the matching unit. Control means for outputting a control signal to adjust the inductor value of the variable inductor according to a sensing signal input and detected by a sensing sensor; and electrically adjusting the inductor value of the variable inductor according to the control signal output from the control means. And a variable inductor driving means for matching the high frequency generator with the load, and by matching the high frequency power supply with the load very quickly, it is possible to extend the life of the high frequency power supply by reducing the discharge transient damage of the high frequency power supply. In addition to reducing noise generation time for peripheral devices And it is.
Description
본 고안은 자동정합장치에 관한 것으로, 고주파전력을 생성하는 고주파전원장치와 이 고주파전원장치로부터 고주파전력을 공급받아 플라즈마를 생성하여 반도체 웨이퍼를 가공하거나 건식코팅을 하는 챔버를 서로 정합시켜 챔버에 최대 고주파전력을 전달하는 자동정합장치에 관한 것이다.The present invention relates to an automatic matching device, wherein a high frequency power supply generating high frequency power and a chamber receiving high frequency power from the high frequency power supply to generate a plasma to process semiconductor wafers or dry coatings are matched to each other. It relates to an automatic matching device for transmitting high frequency power.
도 1은 종래 기술에 의한 자동정합장치의 회로도로서, 자동정합기(2)가 고주파전원장치(1)와 챔버(3, 4) 사이에 전기적으로 연결되어 있다.1 is a circuit diagram of a conventional automatic matching device, in which an automatic matching device 2 is electrically connected between the high frequency power supply 1 and the chambers 3 and 4.
상기 자동정합기(2)는, 상기 고주파전원장치(1)로부터 공급되는 고주파전력을 공진시켜 챔버(3, 4)로 공급하는 가변콘덴서(VC1, VC2) 및 인덕터(L)와, 상기 가변콘덴서(VC1, VC2)의 용량을 조절하기 위한 모터(7, 8)와, 상기 고주파발생장치(1)와 챔버(3, 4)의 정합여부를 감지하는 정합감지센서(5) 및, 상기 정합감지센서(5)에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 상기 가변콘덴서(VC1, VC2)의 용량을 조절하도록 상기 모터(7, 8)를 구동제어하는 제어수단(6)을 포함하여 구성되어 있다.The automatic matching device 2 includes variable capacitors VC1 and VC2 and an inductor L for resonating high frequency power supplied from the high frequency power supply 1 to the chambers 3 and 4, and the variable capacitor. Motors 7 and 8 for adjusting the capacities of VC1 and VC2, Matching sensor 5 for detecting whether the high frequency generator 1 and the chambers 3 and 4 match, and the matching detection. And control means (6) for controlling the drive of the motors (7) and (8) to adjust the capacities of the variable capacitors (VC1, VC2) according to the sensed signal input by the sensor (5).
이때, 상기 가변콘덴서(VC1, VC2)는 모터(7, 8)에 의해 기계적으로 용량이 가변되는 콘덴서이고, 인덕터(L)는 고정된 인덕터값을 가지는 인덕터이다.In this case, the variable capacitors VC1 and VC2 are capacitors whose capacitance is mechanically changed by the motors 7 and 8, and the inductor L is an inductor having a fixed inductor value.
상기와 같이 구성된 종래 기술에 의한 자동정합기는, 정합감지센서(5)가 고주파발생장치(1)와 챔버(3, 4)의 정합여부를 감지하는 감지신호를 제어수단(6)으로 입력하면, 상기 제어수단(6)은 상기 정합감지센서(5)에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 모터(7, 8)을 구동제어하여 가변콘덴서(VC1, VC2)의 용량을 조절함으로써, 고주파발생장치(1)와 챔버(4, 5)를 정합시켜 플라즈마를 생성시킨다.The automatic matching device according to the related art configured as described above, when the matching detection sensor 5 inputs a detection signal for detecting whether the high frequency generator 1 and the chambers 3 and 4 are matched with the control means 6, The control means 6 drives and controls the motors 7 and 8 according to the sensing signal input and detected by the matching sensor 5 to adjust the capacities of the variable capacitors VC1 and VC2, thereby generating a high frequency generator. (1) and the chambers 4 and 5 are matched to generate a plasma.
그러나, 상기와 같은 종래 기술에 의한 자동정합기는 가변콘덴서의 용량을 기계적으로 가변하는 방식을 취하고 있기 때문에, 고주파발생장치와 부하를 정합시키는데 작게는 수초에서 길게는 수십초가 걸려 고주파전원장치의 방전과도기 손상이 증가하여 고주파전원장치의 수명을 짧아지고, 주변기기에 대한 노이즈 발생시간이 증가하게 되는 문제점이 있었다.However, since the automatic matching device according to the related art has a method of mechanically varying the capacity of the variable capacitor, it takes a few seconds to several tens of seconds to match the high frequency generator and the load, and thus the discharge transient of the high frequency power supply. As the damage is increased, the lifespan of the high frequency power supply device is shortened, and the noise generation time for the peripheral device is increased.
또한, 종래 기술에 의한 자동정합기는 가변인덕터의 인덕터값을 기계적으로 가변하는 방식을 취할수도 있는데, 이와 같은 가변인덕터의 인덕터값을 기계적으로 가변하는 방식은 구성하기가 매우 어려운 문제점이 있었다.In addition, the automatic matching device according to the prior art may take a method of mechanically varying the inductor value of the variable inductor. Such a method of mechanically varying the inductor value of the variable inductor has a problem that is very difficult to configure.
즉, 탭방식을 채택하여 가변인덕터의 인덕터값을 가변시킬 경우에는 인덕터값이 정밀하게 조절되지 못하고, 연속적인 접촉방식을 채택하여 가변인덕터의 인덕터값을 가변시킬 경우에는 접촉저항에 의해 대전력에서는 사용하지 못하게 되는 문제점이 있는 것이다.In other words, when the inductor value of the variable inductor is changed by using the tap method, the inductor value cannot be precisely adjusted, and when the inductor value of the variable inductor is changed by the continuous contact method, the contact resistance is increased due to the contact resistance. There is a problem that can not be used.
따라서, 본 고안은 상기와 같은 종래의 제 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 가변인턱터의 인덕터값을 전기적으로 가변시켜 고주파전원장치와 부하를 매우 신속하게 정합시킴으로써, 고주파전원장치의 방전과도기 손상을 줄여 고주파전원장치의 수명을 연장시킬 수 있을 뿐만 아니라 주변기기에 대한 노이즈 발생시간을 감소시킬 수 있는 자동정합장치를 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention has been devised to solve the above-mentioned problems of the prior art, by electrically varying the inductor value of the variable inductor to match the high frequency power supply with the load very quickly, thereby eliminating the discharge and ceramic damage of the high frequency power supply. The purpose of the present invention is to provide an automatic matching device that can reduce the noise generation time of peripheral devices as well as extend the life of the high frequency power supply.
이러한 목적을 달성하기 위한 본 고안에 따른 자동정합장치는, 고주파발생장치로부터 공급되는 고주파전력을 공진시켜 부하로 공급하는 콘덴서 및 가변인덕터와, 상기 고주파발생장치와 부하의 정합여부를 감지하는 정합감지센서와, 상기 정합감지센서에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 상기 가변인덕터의 인덕터값을 조절하도록 제어신호를 출력하는 제어수단 및, 상기 제어수단에서 출력된 제어신호에 따라 상기 가변인덕터의 인덕터값을 전기적으로 조절하여 상기 고주파발생장치와 부하를 정합시키는 가변인덕터구동수단을 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.The automatic matching device according to the present invention for achieving the above object, the capacitor and the variable inductor to resonate the high frequency power supplied from the high frequency generator to the load, and the matching detection for detecting whether the high frequency generator and the load matched A control means for outputting a control signal to adjust a inductor value of the variable inductor according to a sensor, an input signal sensed and detected by the matching sensor, and an inductor of the variable inductor according to the control signal output from the control means. It characterized in that it comprises a variable inductor driving means for electrically matching the load with the high frequency generator by adjusting the value.
도 1은 종래 기술에 의한 자동정합장치의 회로도,1 is a circuit diagram of an automatic matching device according to the prior art,
도 2는 본 고안의 1실시예에 따른 자동정합장치의 회로도,2 is a circuit diagram of an automatic matching device according to an embodiment of the present invention,
도 3는 본 고안의 1실시예에 의한 가변인덕터구동수단의 구조도,3 is a structural diagram of a variable inductor driving means according to an embodiment of the present invention,
도 4는 본 고안의 2실시예에 의한 가변인덕터구동수단의 구조도,4 is a structural diagram of a variable inductor driving means according to an embodiment of the present invention,
도 5a 및 도 5b는 본 고안의 2실시예에 의한 가변인덕터구동수단의 동작을 설명하기 위한 도면,5a and 5b is a view for explaining the operation of the variable inductor driving means according to an embodiment of the present invention,
도 6은 본 고안의 2실시예에 따른 자동정합장치의 회로도이다.6 is a circuit diagram of an automatic matching device according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>
10 : 고주파전원장치 20 : 자동정합기10: high frequency power supply device 20: automatic matching device
22 : 정합감지센서 24 : 제어수단22: matching detection sensor 24: control means
26 : 가변인덕터구동수단 30, 40 : 챔버26: variable inductor driving means 30, 40: chamber
51 : 페라이트코어 52, 53 : 가변전압공급수단51: ferrite core 52, 53: variable voltage supply means
54, 55 : 고주파차폐필터 61 : 회전축54, 55: high frequency shielding filter 61: rotating shaft
C1, C2, C3 : 콘덴서 VL : 가변인덕터C1, C2, C3: Capacitor VL: Variable Inductor
L, L1, L2 : 인덕터L, L1, L2: Inductors
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 고안의 1실시예에 의한 자동정합장치의 회로도로서, 자동정합기(20)가 고주파전원장치(10)와 챔버(30, 40) 사이에 전기적으로 연결되어 있다.2 is a circuit diagram of an automatic matching device according to an embodiment of the present invention, in which the automatic matching device 20 is electrically connected between the high frequency power supply device 10 and the chambers 30 and 40.
그리고, 상기 자동정합기(20)는 고주파발생장치(10)로부터 공급되는 고주파전력을 공진시켜 챔버(30, 40)로 공급하는 콘덴서(C1, C2) 및 가변인덕터(VL)와, 상기 고주파발생장치(10)와 챔버(30, 40)의 정합여부를 감지하는 정합감지센서(22)와, 상기 정합감지센서(22)에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 상기 가변인덕터(VL)의 인덕터값을 조절하도록 제어신호를 출력하는 제어수단(24) 및, 상기 제어수단(24)에서 출력된 제어신호에 따라 상기 가변인덕터(VR)의 인덕터값을 전기적으로 조절하여 상기 고주파발생장치(10)와 챔버(30, 40)를 정합시키는 가변인덕터구동수단(26)을 포함하여 구성되어 있다.The automatic matcher 20 includes the capacitors C1 and C2 and the variable inductor VL for resonating the high frequency power supplied from the high frequency generator 10 to the chambers 30 and 40, and the high frequency generation. Inductor of the variable inductor (VL) according to the match detection sensor 22 for detecting whether the device 10 and the chamber (30, 40) is matched, and the detection signal input by the match detection sensor 22 Control means 24 for outputting a control signal to adjust the value, and the high frequency generator 10 by electrically adjusting the inductor value of the variable inductor (VR) in accordance with the control signal output from the control means 24 And variable inductor driving means (26) for matching the chambers (30, 40).
그리고, 상기 가변인덕터구동수단(26)의 1실시예는, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 가변인덕터(VL)가 중앙부에 권회된 페라이트코어(51)와, 상기 페라이트코어(51)의 양단부에 권회된 인덕터(L1, L2)와, 상기 제어수단(24)에서 출력된 제어신호에 따라 직류전압을 가변시켜 공급하는 가변전압공급수단(52, 53) 및, 상기 가변전압공급수단(52, 53)에서 공급된 직류전압을 고주파필터링하여 상기 인덕터(L1, L2)로 공급하는 고주파차폐필터(54, 55)를 포함하여 구성되어 있다.In addition, in one embodiment of the variable inductor driving means 26, as shown in FIG. 3, the ferrite core 51 in which the variable inductor VL is wound in a central portion thereof, and both ends of the ferrite core 51. Inductors L1 and L2 wound around the variable voltage, variable voltage supply means 52 and 53 for supplying a variable DC voltage according to the control signal output from the control means 24, and the variable voltage supply means 52, And high frequency shielding filters 54 and 55 for high frequency filtering the DC voltage supplied from 53) and supplying them to the inductors L1 and L2.
그리고, 상기 가변인덕터구동수단(26)의 2실시예는, 도 4와 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 가변인덕터(VL)와 일직선상에 배치된 인덕터(L)와, 상기 인덕터(L)를 회전시키기 위해 상기 인덕터(L)에 연결된 회전축(61) 및, 상기 제어부(24)에서 출력된 제어신호에 따라 상기 회전축(61)을 회전시키는 모터(미도시)를 포함하여 구성되어 있다.The second embodiment of the variable inductor driving means 26 includes an inductor L disposed in line with the variable inductor VL and the inductor, as shown in FIGS. 4 and 5A and 5B. It comprises a rotary shaft 61 connected to the inductor (L) to rotate (L), and a motor (not shown) for rotating the rotary shaft 61 in accordance with a control signal output from the control unit 24 have.
한편, 도 6은 본 고안의 2실시예에 따른 자동정합장치의 회로도로서, 자동정합기(20)가 고주파전원장치(10)와 챔버(40) 사이에 전기적으로 연결되어 있다.On the other hand, Figure 6 is a circuit diagram of the automatic matching device according to the second embodiment of the present invention, the automatic matching device 20 is electrically connected between the high frequency power supply device 10 and the chamber 40.
그리고, 상기 자동정합기(20)는 고주파발생장치(10)로부터 공급되는 고주파전력을 공진시켜 챔버(40)로 공급하는 콘덴서(C1, C2, C3) 및 가변인덕터(VL)와, 상기 고주파발생장치(10)와 챔버(30, 40)의 정합여부를 감지하는 정합감지센서(22)와, 상기 정합감지센서(22)에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 상기 가변인덕터(VL)의 인덕터값을 조절하도록 제어신호를 출력하는 제어수단(24) 및, 상기 제어수단(24)에서 출력된 제어신호에 따라 상기 가변인덕터(VR)의 인덕터값을 전기적으로 조절하여 상기 고주파발생장치(10)와 챔버(30, 40)를 정합시키는 가변인덕터구동수단(26)을 포함하여 구성되어 있다.The automatic matcher 20 includes the capacitors C1, C2 and C3 and the variable inductor VL for resonating the high frequency power supplied from the high frequency generator 10 to the chamber 40, and the high frequency generation. Inductor of the variable inductor (VL) according to the match detection sensor 22 for detecting whether the device 10 and the chamber (30, 40) is matched, and the detection signal input by the match detection sensor 22 Control means 24 for outputting a control signal to adjust the value, and the high frequency generator 10 by electrically adjusting the inductor value of the variable inductor (VR) in accordance with the control signal output from the control means 24 And variable inductor driving means (26) for matching the chambers (30, 40).
그리고, 상기 가변인덕터(VL)가 챔버(40)의 안테나 역할을 겸하며, 상기 가변인덕터(VR)의 양단에는 콘덴서(C2, C3)가 각각 접속되어 있는데, 상기 콘덴서(C2, C3)의 용량을 합한값은 도 2에 도시된 콘덴서(C2)의 용량과 같다.The variable inductor VL also serves as an antenna of the chamber 40, and capacitors C2 and C3 are connected to both ends of the variable inductor VR, respectively. The sum of these values is equal to the capacity of the capacitor C2 shown in FIG. 2.
상기와 같이 구성된 본 고안에 따른 자동정합장치의 작용 및 효과를 상세히 설명하면 다음과 같다.If described in detail the operation and effect of the automatic matching device according to the present invention configured as described above.
고주파전원장치(10)의 후단의 임피던스(Z)는 하기의 수학식 1에 의해 결정된다.The impedance Z of the rear end of the high frequency power supply device 10 is determined by Equation 1 below.
상기 수학식 1에 있어서, XL은 유도리액턴스이고, XC는 용량리액턴스, R은 저항이다.In Equation 1, X L is an inductive reactance, X C is a capacitance reactance, R is a resistance.
이때, 본 고안의 1실시예에 의한 자동정합장치는 도 2에 도시된 바와 같이 콘덴서(C1, C2)의 용량이 고정되어 있으므로, 용량리액턴스(XC)가 일정한 값을 갖게 된다.At this time, in the automatic matching device according to the embodiment of the present invention, since the capacitances of the capacitors C1 and C2 are fixed as shown in FIG. 2, the capacitance reactance X C has a constant value.
따라서, 유도리액턴스(XL)를 조정하므로서
따라서, 본 고안의 1실시예에 의한 자동정합장치는 도 2에 도시된 바와 같이, 정합감지센서(22)가 고주파전원장치(10)와 챔버(30, 40)의 정합여부를 감지하여 제어수단(24)으로 입력하고, 상기 제어수단(24)은 상기 정합감지센서(22)에 의해 감지되어 입력된 감지신호에 따라 전압을 가변하도록 가변인덕터구동수단(26)의 가변전압공급수단(52, 53)을 제어한다.Accordingly, in the automatic matching device according to the embodiment of the present invention, as shown in FIG. 2, the matching detection sensor 22 detects whether the high frequency power supply device 10 and the chambers 30 and 40 match and control means. (24), the control means 24 is detected by the matching detection sensor 22, the variable voltage supply means 52 of the variable inductor driving means 26 to vary the voltage in accordance with the input detection signal 53).
이에 따라, 상기 가변전압공급수단(52, 53)이 직류전압을 가변시켜 고주파차폐필터(54, 55)로 공급하고, 상기 고주파차폐필터(54, 55)는 상기 가변전압공급수단(52, 53)에서 공급된 직류전압을 고주파필터링하여 페라이트코어(51)의 양단부에 권회된 인덕터(L1, L2)로 공급한다.Accordingly, the variable voltage supply means 52, 53 varies the DC voltage to supply the high frequency shielding filters 54, 55, and the high frequency shielding filters 54, 55 supply the variable voltage supply means 52, 53. The high voltage filtering of the DC voltage supplied from) is supplied to the inductors L1 and L2 wound on both ends of the ferrite core 51.
따라서, 상기 인덕터(L1, L2)에서 자력선이 발생하게 되고, 이와 같이 발생되는 자력선의 변화에 의해 가변인덕터(VL)의 인덕터값이 가변됨으로써, 고주파전원장치(10)와 챔버(30, 40)이 자동정합되는 것이다.Accordingly, the magnetic lines are generated in the inductors L1 and L2, and the inductor values of the variable inductors VL are varied by the change of the magnetic lines generated in this manner, whereby the high frequency power supply device 10 and the chambers 30 and 40 are used. This is automatic matching.
한편, 본 고안의 2실시예에 의한 가변인덕터구동수단(26)에 있어서는, 상기 제어수단(24)의 제어에 의해 모터가 구동되어 회전축(61)이 회전하게 되고, 이에 따라 상기 회전축(61)에 연결된 인덕터(L)가 회전하게 된다.On the other hand, in the variable inductor driving means 26 according to the second embodiment of the present invention, the motor is driven by the control of the control means 24 to rotate the rotary shaft 61, accordingly the rotary shaft 61 The inductor L connected to is rotated.
이때, 도 5a에 도시된 바와 같이, 인덕터(L)에서 발생되는 자력선과 가변인덕터(VR)에서 발생되는 자력선이 일치하게 되면 가변인덕터(VR)의 인덕터값이 최대가 되고, 도 5b에 도시된 바와 같이 인덕터(L)과 가변인덕터(VR)에 대하여 90°방향으로 놓이면 가변인덕터(VR)의 인덕터값이 원래의 인더턱값을 가지게 된다.In this case, as shown in FIG. 5A, when the magnetic force lines generated in the inductor L and the magnetic lines generated in the variable inductor VR coincide with each other, the inductor value of the variable inductor VR becomes maximum, and is shown in FIG. 5B. As described above, when the inductor L and the variable inductor VR are placed in the 90 ° direction, the inductor value of the variable inductor VR has an original inductance value.
또한, 상기 인덕터(L)의 권회 방향이 정반대이면 상기 인덕터(L)의 방향에 따라 가변인덕터(VR)의 인덕터값을 최소로 만들 수 있다.In addition, when the winding direction of the inductor L is the opposite, it is possible to minimize the inductor value of the variable inductor VR according to the direction of the inductor L.
따라서, 상기와 같이 가변인덕터(VL)의 인덕터값이 가변됨으로써, 고주파전원장치(10)와 챔버(30, 40)이 자동정합되는 것이다.Therefore, the inductor value of the variable inductor VL is varied as described above, such that the high frequency power supply device 10 and the chambers 30 and 40 are automatically matched.
한편, 본 고안의 2실시예에 의한 자동정합장치는 도 6에 도시된 바와 같이, 가변인덕터(VL)가 챔버(40)의 안테나 역할을 겸하며, 상기 가변인덕터(VR)의 양단에는 콘덴서(C2, C3)가 각각 접속되어 있는데, 상기 콘덴서(C2, C3)의 용량을 합한값은 도 2에 도시된 콘덴서(C2)의 용량과 같다.On the other hand, in the automatic matching device according to the second embodiment of the present invention, as shown in Figure 6, the variable inductor (VL) also serves as an antenna of the chamber 40, both ends of the variable inductor (VR) condenser ( C2 and C3 are connected, respectively, and the sum of the capacities of the capacitors C2 and C3 is the same as that of the capacitor C2 shown in FIG.
이와 같이 가변인덕터(VR)의 양단에는 콘덴서(C2, C3)가 각각 접속함으로써, 직류전압과 고주파를 분리하여 상기 가변인덕터(VR)가 직류전압과 고주파를 동시에 간직하게 되는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 전계에 의한 플라즈마를 억제하고 자계에 의한 플라즈마를 강화하여 플라즈마 균일도를 높일 수 있는 것이다.In this way, the capacitors C2 and C3 are connected to both ends of the variable inductor VR to separate the DC voltage and the high frequency, thereby preventing the variable inductor VR from simultaneously retaining the DC voltage and the high frequency. Instead, the plasma uniformity can be increased by suppressing the plasma by the electric field and strengthening the plasma by the magnetic field.
이상에서 살펴본 바와 같이 본 고안에 따르면, 가변인턱터의 인덕터값을 전기적으로 가변시켜 고주파전원장치와 부하를 매우 신속하게 정합시킴으로써, 고주파전원장치의 방전과도기 손상을 줄여 고주파전원장치의 수명을 연장시킬 수 있을 뿐만 아니라 주변기기에 대한 노이즈 발생시간을 감소시킬 수 있고, 가변인덕터가 부하의 안테나 역할을 겸함으로써 플라즈마의 균일도를 높일 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the present invention, the inductor value of the variable inductor is electrically variable to match the high frequency power supply with the load very quickly, thereby reducing the discharge transient damage of the high frequency power supply and extending the life of the high frequency power supply. In addition, the noise generation time for the peripheral device can be reduced, and the variable inductor also serves as an antenna of the load, thereby increasing the plasma uniformity.
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR2019980013671U KR200248563Y1 (en) | 1998-07-24 | 1998-07-24 | Automatic matching device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR200248563Y1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101429806B1 (en) * | 2012-01-17 | 2014-08-12 | (주)이큐베스텍 | Multi-mode apparatus for generating plasma |
-
1998
- 1998-07-24 KR KR2019980013671U patent/KR200248563Y1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101429806B1 (en) * | 2012-01-17 | 2014-08-12 | (주)이큐베스텍 | Multi-mode apparatus for generating plasma |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR200248563Y1 (en) | 2001-12-17 |
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