KR19990071841A - Ring Interferometer Structure for Diffraction Grating Formation - Google Patents

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KR19990071841A
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프랑소와 웰릿
피터 알렉산더 크루그
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클레어 박스터
더 유니버시티 오브 시드니
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings

Abstract

감광성 물질(40)에 회절 격자와 같은 구조를 형성하기 위한 방법 및 장치를 개시한다. 그 방법 및 장치는 적어도 두 개의 간섭성 광 빔(33,38)을 형성하고, 간섭성 빔들이 구조 스테이징 영역(45)에서 간섭하도록 실질적으로 동등한 경로를 따라 일련의 반사 소자(35,37) 주위에 역 전파 방법으로 그 빔들을 반사시킨다. 구조 스테이징 영역은 그리고 나서 개선된 질을 갖는 회절 구조 등을 형성하는 데에 이용될 수 있다.A method and apparatus for forming a structure such as a diffraction grating in the photosensitive material 40 is disclosed. The method and apparatus form at least two coherent light beams 33, 38 and surround a series of reflective elements 35, 37 along a substantially equivalent path such that the coherent beams interfere in the structural staging area 45. The beams are reflected by the back propagation method. The structural staging area can then be used to form diffractive structures and the like with improved quality.

Description

회절 격자 형성을 위한 고리형 간섭계 구조Ring Interferometer Structure for Diffraction Grating Formation

도 1은 광 섬유를 포함할 수 있는 광 도파관(3) 상에 회절 격자를 형성하기 위한 최초로 알려진 설비(1)를 도시한다. 이 설비(1)는 UV 빔(5)을 발생시키는 자외선 레이저(4)를 구비하며, 이 UV 빔(5)은 빔 스플리터(6)에 의해 두 개의 간섭성 빔(7,8)으로 스플릿된다. 빔 스플리터(6)는 반투명 거울 혹은 위상 마스크를 포함 할 수 있다. UV 빔(7,8)은 간섭성 빔(12,13)을 반사시키는 거울(10,11)에 의해 반사된다. 두 개의 빔(12,13)은 서로 간섭하여, 감광성 광 섬유(3) 상에 투영된 간섭 무늬를 형성하고, 또한 회절 격자(2)를 형성한다.FIG. 1 shows a first known installation 1 for forming a diffraction grating on an optical waveguide 3 which may comprise optical fibers. The plant 1 has an ultraviolet laser 4 for generating a UV beam 5, which is split into two coherent beams 7, 8 by a beam splitter 6. . Beam splitter 6 may comprise a translucent mirror or a phase mask. The UV beams 7, 8 are reflected by mirrors 10, 11 reflecting the coherent beams 12, 13. The two beams 12, 13 interfere with each other to form an interference fringe projected onto the photosensitive optical fiber 3 and also form a diffraction grating 2.

감광성 광 섬유(3)는 단지 간섭 무늬의 밝은 줄무늬(fringe)에 의해서만 영향을 받으므로, 이 무늬는 영구 굴절율 회절 격자로 변환된다. 섬유(3)는 UV 광의 작용으로 그 섬유의 물리적 성질이 영구적으로 변화된다는 점에서 감광성이다. 광 섬유의 경우에 변화되는 것은 굴절율이지만 본 발명은 그것에 제한되지 않고 흡광도, 밀도, 화학적 조성 혹은 부피와 같은 다른 성질들까지 확장된다.Since the photosensitive optical fiber 3 is only affected by the bright fringes of the interference fringes, the fringes are converted into a permanent refractive index diffraction grating. The fiber 3 is photosensitive in that the physical properties of the fiber are permanently changed by the action of UV light. In the case of an optical fiber it is the refractive index that is changed but the invention is not limited thereto but extends to other properties such as absorbance, density, chemical composition or volume.

도 1의 장치에서, 빔(7,8)의 경로 중 하나의 경로에 거울을 한 개 더 추가하여, 빔들 중 하나의 프로필을 반전시키도록 한다는 것이 또 알려져 있다. 두 개의 접거울(10,11)만이 사용될 때 한 빔이 다른 한 빔에 대해 반전되지 않고, 두 개의 빔 프로필(12,13)은 교차점(2)에서 동일할 것이다. 빔 스플리터(6)와 접거울(10,11)에 의해 정한 개구 전체를 따라서 좁은 빔을 주사하기 위한 3개 거울 장치를 이용하여, 확장된 회절 격자를 만들어내도록 하는 것이 또한 알려져 있다.In the arrangement of FIG. 1, it is also known to add one more mirror to one of the paths of the beams 7, 8 to invert the profile of one of the beams. When only two fold mirrors 10, 11 are used, one beam is not inverted relative to the other, and the two beam profiles 12, 13 will be identical at the intersection 2. It is also known to produce an expanded diffraction grating using three mirror arrangements for scanning narrow beams along the entire opening defined by the beam splitter 6 and the mirrors 10, 11.

도 2는 (21)과 같은 광 섬유 상에 회절 격자를 형성하기 위한 두 번째로 알려진 장치(20)를 도시한다. 이 장치에서, 광 섬유(21)는 위상 혹은 진폭 마스크(22) 바로 뒤에 위치한다. UV 빔(23)은 위상 마스크(22)에 의해 회절되어, (24,25)와 같은 회절 오다(order)를 만들어 낸다. 회절 오다(24,25)는 서로 간섭하여, 감광성 광 섬유(21)가 위치한 위상 마스크(22) 바로 뒤에 간섭 무늬(26)를 생성한다. 이 구조(20)에서, 회절 격자 주기는 위상 마스크(22)의 주기에 의해 결정될 것이다. 광 섬유(21)에서의 회절 격자의 브랙(Bragg) 파장은, 단지 예를 들어 회절 격자가 형성되는 동안 회절 격자를 잡아늘임(stretching)으로써 변화될 수 있다.2 shows a second known apparatus 20 for forming a diffraction grating on an optical fiber such as (21). In this device, the optical fiber 21 is located immediately after the phase or amplitude mask 22. The UV beam 23 is diffracted by the phase mask 22, producing a diffraction order such as (24, 25). The diffraction orders 24 and 25 interfere with each other to produce an interference fringe 26 directly behind the phase mask 22 where the photosensitive optical fiber 21 is located. In this structure 20, the diffraction grating period will be determined by the period of the phase mask 22. The Bragg wavelength of the diffraction grating in the optical fiber 21 can only be changed by, for example, stretching the diffraction grating while the diffraction grating is formed.

상기와 같이, 오다(24,25)를 포함한 다수의 회절 오다를 제공하는 빔 스플리터로서 위상 마스크(22)를 사용하는 것이 가능하다. 그러므로 위상 마스크(22)는 도 1의 장치에서도 빔 스플리터(6)와 UV 레이저 광원(4)의 배향(orientation)을 변경함으로써 빔 스플리터(6)로 이용될 수 있다.As described above, it is possible to use the phase mask 22 as a beam splitter that provides multiple diffraction orders including orders 24 and 25. Therefore, the phase mask 22 can also be used as the beam splitter 6 by changing the orientation of the beam splitter 6 and the UV laser light source 4 even in the apparatus of FIG. 1.

알려진 또 다른 장치에서는, Kashyap에 의하여, 도 1의 두 개의 거울(10,11)을 고체 실리카 블록으로 대치하여 UV 빔 전체가 블록의 사이드에서 내부로 반사되도록 한다. 이 구조를 이용할 때, 간섭 무늬에 이용하고자 하는 두 개 이외의 모든 회절 오다는 차단될 수 있다. 이 구조는 또한 기계적으로 더욱 안정하지만, 간섭 빔들 사이의 각을 쉽게 조절할 수는 없다.In another known device, Kashyap replaces the two mirrors 10, 11 of FIG. 1 with a solid silica block so that the entire UV beam is reflected internally at the side of the block. When using this structure, all diffraction coming other than the two to be used for the interference fringe can be blocked. This structure is also more mechanically stable, but the angle between the interfering beams cannot be easily adjusted.

상기한 모든 간섭 구조에서, 빔을 스플릿 하는 데에 빔 스플리터가 이용되든 위상 마스크가 이용되든 간에, 결과적인 두 개의 빔(7,8)은, 교차하여 회절 격자(2)를 형성하기 전에 다른 물리적 경로를 따른다. 그러므로 도 1의 장치가 갖는 일반적인 문제점은, 거울(10,11)에서의 약간의 기계적 흔들림이 회절격자(2)를 발생시키는 노광 동안 간섭 무늬의 위상을 바꾸어서 결과적으로 콘트라스트의 손실 및/혹은 간섭 무늬의 전체적인 "씻김(washing out)"을 야기한다는 점이다. 따라서 공기의 흐름이나 이동 등으로부터 초래되는 것과 같은 어떠한 진동으로부터 장치(1)를 안정시키는데에는 대단한 주의가 필요하다는 것이 밝혀졌고, 그러한 안정화 요구는 도 1의 장치의 이용을 엄격하게 제한한다.In all of the above interference structures, whether beam splitters or phase masks are used to split the beams, the resulting two beams 7, 8 intersect other physical elements before they cross to form the diffraction grating 2. Follow the path. Therefore, a general problem with the apparatus of FIG. 1 is that a slight mechanical shake in the mirrors 10, 11 reverses the phase of the interference fringe during exposure which causes the diffraction grating 2, resulting in loss of contrast and / or interference fringe. It causes the overall "washing out" of. It has thus been found that great care is required to stabilize the device 1 from any vibrations, such as from air flow or movement, and such stabilization requirements severely limit the use of the device of FIG.

본 발명은, 적어도 두 개의 광 빔 바람직하게는 자외선 광 빔의 교차에 의해 생기는 간섭 무늬 내에 광 섬유 같은 도파관과 같은 감광성 광학 물질을 놓아둠으로써 그 물질들 상에 무늬를 형성하는 것에 관한 것이다. 회절 격자의 주기 혹은 간섭 무늬는 사잇각 및 교차하는 빔의 성질에 의해 결정된다.The present invention relates to the formation of a pattern on such materials by placing a photosensitive optical material, such as a waveguide, such as an optical fiber, in an interference pattern resulting from the intersection of at least two light beams, preferably ultraviolet light beams. The period or interference fringe of the diffraction grating is determined by the angle of incidence and the nature of the intersecting beam.

본 발명의 범위 내에는 어떠한 다른 형태들이 있을 수 있지만, 본 발명의 바람직한 형태를 단지 실시예로써 첨부 도면을 참조하여 기술 할 것이다.While there may be any other forms within the scope of the invention, the preferred form of the invention will be described with reference to the accompanying drawings by way of example only.

도 1은 종래 기술에 따라 회절 격자를 형성하기 위한 최초의 방법을 도시한 것이고;1 shows the first method for forming a diffraction grating according to the prior art;

도 2는 종래 기술에 따라 회절 격자를 형성하기 위한 두 번째의 방법을 도시한 것이고;2 shows a second method for forming a diffraction grating according to the prior art;

도 3은 본 발명의 바람직한 실시예의 장치의 개략도이고;3 is a schematic diagram of a device of a preferred embodiment of the present invention;

도 4는 도 3의 장치의 사시도이고;4 is a perspective view of the apparatus of FIG. 3;

도 5는 3개의 거울을 이용한 택일적 실시예의 개략도를 도시한 것이다.5 shows a schematic diagram of an alternative embodiment using three mirrors.

그러므로, 본 발명의 목적은, 감광성 광 도파관 상에 회절 격자와 같은 구조를 형성하기 위한 개선된 방법과 장치를 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide an improved method and apparatus for forming a diffraction grating-like structure on a photosensitive optical waveguide.

본 발명의 바람직한 면에서는, 광섬유와 같은 감광성 광학 물질에 회절 격자와 같은 구조를 형성하는 방법을 제공하고 있다. 그 방법은 다음의 단계를 포함한다: (1)바람직하게는 한 개의 간섭성 빔을 회절 격자를 통해 통과시키는 방법에 의해 만들어지는 처음으로 두 개의 간섭성 광빔을 만드는 단계, (2)두 개의 빔이 소정의 위치에서 간섭하도록, 복수의 반사 소자를 포함하는 광 회로 주위로 두 빔을 역전파시키는 단계, (3)광 도파관에 원하는 구조를 생성하도록 소정의 위치에 감광성 광도파관을 위치시키는 단계.In a preferred aspect of the present invention, a method of forming a structure such as a diffraction grating in a photosensitive optical material such as an optical fiber is provided. The method includes the following steps: (1) making the first two coherent light beams, preferably made by a method of passing one coherent beam through a diffraction grating, (2) two beams Back propagating two beams around an optical circuit comprising a plurality of reflective elements so as to interfere at this predetermined position; (3) placing the photosensitive optical waveguide at a predetermined position to create a desired structure in the optical waveguide.

본 발명은 다수의 상이한 유형의 구조를 형성하는 데 유용하지만, 회절 격자 구조를 만드는데 가장 유용하다.Although the present invention is useful for forming many different types of structures, it is most useful for making diffraction grating structures.

간섭성 빔들은 위상 마스크, 회절 격자 혹은 부분적으로 투명한 거울을 이용하여 만들어질 수 있다. 광학 물질에는 광 도파관 혹은 광 섬유가 포함될 수 있다. 간섭성 빔은 감광성 광학 물질에 확장된 구조를 형성하기 위해 위상 마스크를 따라 스위프(sweep)될 수 있다. 부가적으로, 굴절 소자는 쳐프(chirp)된 회절 격자 혹은 아포다이즈(apodize)된 회절 격자와 같은 상이한 구조를 생성하기 위해 이동시키거나 회전시킬 수 있다. 광학 물질은 다양한 각으로 위치하여 블레이즈(blaze) 된 회절 격자 등을 생성할 수 있다.Coherent beams can be made using a phase mask, a diffraction grating or a partially transparent mirror. Optical materials may include optical waveguides or optical fibers. The coherent beam can be swept along the phase mask to form an extended structure in the photosensitive optical material. Additionally, the refractive element can be moved or rotated to produce different structures, such as chirped diffraction gratings or apodized diffraction gratings. The optical material may be positioned at various angles to produce a blazed diffraction grating or the like.

택일적인 다른 실시예에서는, 확장된 회절 격자 구조, 쳐프된 회절 격자 혹은 아포다이즈된 회절 격자 등을 만드는 방법 등을 설명할 것이다. 광학 물질은 다양한 각으로 위치하여 아포다이즈된 회절 격자와 같은 다른 효과들을 내도록 할 수 있다.In another alternative embodiment, a method of making an extended diffraction grating structure, a chirped diffraction grating or an apodized diffraction grating, or the like will be described. The optical material may be positioned at various angles to produce other effects such as an apodized diffraction grating.

본 발명의 두 번째 면에서는, 감광성 물질에 구조를 만들기 위한 장치를 제공하고 있는데 이 장치는 다음을 포함한다: (1)적어도 두 개의 간섭성 광 빔을 생성하는 간섭성광 생성 수단; (2)상기 간섭성 빔이 구조 스테이징 영역에서 간섭하도록, 역으로 전파하는 실질적으로 동일한 경로를 따라 상기 간섭성 빔을 반사시키는 복수의 반사 소자; 및 (3)상기 구조 스테이징 영역에 상기 감광성 물질을 설치하는 구조 스테이징 수단을 포함한다.In a second aspect of the invention, there is provided an apparatus for making a structure on a photosensitive material, the apparatus comprising: (1) coherent light generating means for generating at least two coherent light beams; (2) a plurality of reflective elements for reflecting the coherent beam along substantially the same path propagating backwards such that the coherent beam interferes in the structure staging area; And (3) structural staging means for installing the photosensitive material in the structural staging area.

바람직하게는, 간섭성광 생성 수단은 더 나아가 간섭성광을 상기 간섭성광 생성 수단에 입력하기 위한 간섭성광 입력 수단을 포함하며, 이 경우 상기 간섭성광 입력 수단은 상기 간섭성광 생성 수단을 따라 주사되어서 상기 감광성 물질에 확장된 해당 구조를 생성할 수 있다.Preferably, the coherent light generating means further comprises coherent light input means for inputting coherent light into the coherent light generating means, in which case the coherent light input means is scanned along the coherent light generating means so that the photosensitive It is possible to create corresponding structures that extend to the material.

도 3은, 바람직한 실시예의 장치(30)를 도시한 것이다. 이 장치에서, 자외선 레이저 빔(31)은 위상 혹은 진폭 마스크(32) 위에 부딪치는데, 이것은 회절 소자로서 행동하여 빔(31)에 의해 정해지는 축 주위로 대칭인 방향을 갖는 예를 들어 (33,38)과 같은 다수의 회절 오다를 만들어 낸다. 도 3에서는, 단지 1차 회절 오다 (+1, -1)가 도시되어 있다. 생성될 지도 모르는 더 이상의 회절 오다는 차단 될 수 있고 설비(30)의 그 이상의 부분을 형성하지 않는다. 1차 회절 오다 빔(33)은 거울(35)에 의해 먼저 반사(34)된 후 거울(37)에 의해 다시 반사(36)된다. 반사된 빔(36)은 그리고 나서 감광성 광 도파관(40) 위에 부딪친다. 도 4에서 더욱 잘 도시되어 있고 이하에서 기술하는 바와 같이, 광 도파관(40)은 UV 빔(31)이 위상 마스크(32)에 부딪치는 지점(41)으로부터 (33,34,36)선의 수평면에 관하여 수직인 방향으로 변위되어진다.3 shows a device 30 of a preferred embodiment. In this arrangement, the ultraviolet laser beam 31 impinges on the phase or amplitude mask 32, which acts as a diffractive element and has a symmetrical direction about an axis defined by the beam 31, for example (33, Produces many diffraction orders such as 38). In Fig. 3 only the first order diffraction orders (+1, -1) are shown. Any further diffraction coming that may be generated may be blocked and do not form any further part of the installation 30. The first diffraction order beam 33 is first reflected 34 by the mirror 35 and then reflected 36 by the mirror 37. The reflected beam 36 then impinges on the photosensitive optical waveguide 40. As shown better in FIG. 4 and described below, the optical waveguide 40 is in the horizontal plane of the line (33, 34, 36) from the point 41 where the UV beam 31 strikes the phase mask 32. Displaced in a direction perpendicular to it.

두 번째의 1차 회절 빔(38)은, 먼저 거울(37)에 의해 반사(42)되고 그 다음으로 거울(35)에 의해 반사(43)된다는 점에서 반대의 경로를 통과한다. 두 거울(35,37)은 두 빔(36,43)이 광 섬유 도파관(40)의 같은 지점 위에 부딪치도록 조정될 수 있으며, 그로 인해 간섭 효과로써 회절 격자(45)를 생성한다. 택일적으로, 광 섬유 도파관이 간섭하는 빔들의 중첩 위치로 이동될 수 있다. 섬유(40)의 올바른 배치와 거울(35,37)의 각은 우선 가시광 광원을 이용함으로써 그리고 기구들을 정렬시킴으로써 결정되지만, 가시광 광원은 UV 광 광원과는 다른 각으로 회절될 것이라는 사실이 고려되어져야 한다.The second primary diffraction beam 38 passes through the opposite path in that it is first reflected 42 by the mirror 37 and then by the mirror 43. The two mirrors 35, 37 can be adjusted such that the two beams 36, 43 strike on the same point of the optical fiber waveguide 40, thereby creating a diffraction grating 45 with an interference effect. Alternatively, the optical fiber waveguide can be moved to the overlapping position of the interfering beams. The correct placement of the fiber 40 and the angle of the mirrors 35, 37 are determined first by using a visible light source and by aligning the instruments, but it should be taken into account that the visible light source will be diffracted at a different angle than the UV light source. do.

반대로 진행하는 두 빔들은 실질적으로 동일한 광로를 지나가지만 반대 방향으로 이동하므로, 거울(35,37) 중 하나의 어떠한 이동이나 진동 혹은 광로의 흔들림은 실질적으로 동일한 모양으로 양쪽 빔에 영향을 줄 것이며, 결과적으로 간섭하는 두 빔들의 상대적 위상이 유지된다. 따라서, 간섭 무늬는 실질적으로 안정되게 유지되며, 그렇지 않은 경우 생기는 회절 격자의 "씻김"의 효과들은 일어나지 않는다.Since the two traveling beams pass through substantially the same optical path but move in the opposite direction, any movement, vibration or shaking of one of the mirrors 35 and 37 will affect both beams in substantially the same shape, As a result, the relative phase of the two interfering beams is maintained. Thus, the interference fringe remains substantially stable, and the effects of "washing" of the diffraction grating that otherwise occur do not occur.

도 4는 도 3의 장치의 사시도를 도시하고 있다. UV 빔(31)은 위상 마스크(32)에 부딪쳐서 회절된 빔(33,38)을 생성한다. 단지 회절된 빔(33)의 연속적인 경로만을 도시하고 있다. 이 빔은 거울(35)과 거울(37)에 의해 반사되어서, 섬유(40)상에 UV 빔(31)의 경로의 수직으로 위인 지점에서 부딪치는 빔(36)을 형성한다. 빔(38)의 경로는 대칭으로 유사하다.4 shows a perspective view of the device of FIG. 3. The UV beam 31 strikes the phase mask 32 to produce diffracted beams 33 and 38. Only the continuous path of the diffracted beam 33 is shown. This beam is reflected by the mirror 35 and mirror 37 to form a beam 36 which strikes on the fiber 40 at a point vertically above the path of the UV beam 31. The path of the beam 38 is similar in symmetry.

바람직한 장치(30)에 부가적으로 여러 가지 변형이 가능하다. 예를 들어, 반사 회절 격자를 위상 마스크(32) 대신에 사용할 수 있다. 다른 빔 오다들을 반사에 이용할 수 있다. 수직 방향의 작은 경사도를 변화시킬 수 있다. 바람직하게는, 광섬유(40)를 UV 빔(31)의 수직의 위치에 가능한 한 가까운 수직 위치에 위치시킨다.Various modifications are possible in addition to the preferred device 30. For example, a reflective diffraction grating can be used in place of the phase mask 32. Other beam orders can be used for reflection. It is possible to change the small inclination in the vertical direction. Preferably, the optical fiber 40 is located in a vertical position as close as possible to the vertical position of the UV beam 31.

도파관(40)은 또한 회절 소자(32)의 앞쪽 혹은 그 뒤쪽의 일정한 거리에 배치할 수 있으며, 반사 거울(35,37)의 각은 그에 따라 조절하여 도파관(40) 상에서 교차하는 빔들의 중첩을 최대로 할 수 있다. 이는 조율가능한 격자 주기를 제공하는 효과를 가지며, 이것은 교차하는 빔들(36,43)의 각에 의해 달라질 것이다.The waveguide 40 may also be placed at a constant distance in front of or behind the diffractive element 32, with the angles of the reflecting mirrors 35, 37 adjusted accordingly to overlap the beams intersecting on the waveguide 40. You can do it at maximum. This has the effect of providing a tunable grating period, which will vary with the angle of the intersecting beams 36,43.

더 나아가, 택일적인 장치에서, 만약 두 개의 빔이 반대의 방향으로 실질적으로 동일한 경로를 따라 진행한다면 두 개의 거울(35,37)보다 더 많은 거울이 이용될 수 있을 것이다. 바람직하게는, 회절 격자가 이용되지 않는 경우 거울의 수는 짝수인데 이는 이 경우 두 빔 프로필들의 공간적인 상호관계가 허용될 것이기 때문이다.Furthermore, in an alternative arrangement, more mirrors than two mirrors 35, 37 may be used if the two beams travel along substantially the same path in the opposite direction. Preferably, the number of mirrors is even if no diffraction grating is used because in this case the spatial correlation of the two beam profiles will be allowed.

바람직한 실시예의 장치가 수많은 상당한 이점을 갖는다는 것은 명백하다. 이점에는 다음의 것들이 포함된다:It is clear that the device of the preferred embodiment has a number of significant advantages. This includes the following:

(1) 거울(35,37)내의 어떠한 움직임도 양쪽의 빔에 영향을 줄 것이므로, 장치(30)는 고유의 안정성을 보장하며, 결과적으로 간섭 무늬의 줄무늬 이동이 최소화될 것이다. 따라서 장치(30)의 기계적인 안정성을 확보하기 위하여 특별한 주의는 필요하지 않다.(1) Since any movement in the mirrors 35 and 37 will affect both beams, the device 30 will ensure inherent stability, and consequently the movement of the stripes of the interference fringe will be minimized. Therefore, no special care is necessary to ensure the mechanical stability of the device 30.

(2) 만약 원하지 않는 어떠한 회절 빔들이 차단될 수 있다면, 그리고 이용되는 회절 빔들이 동등한 강도를 갖는다면, 광 도파관(40) 상에서 간섭하는 빔들 또한 동일한 거울에 의해 반사되어져 동등한 강도를 가질 것이다. 따라서 교차하는 빔(36,43)의 최대 중첩 영역 내에 도파관이 위치할 때 회절 격자는 높은 콘트라스트를 가질 것이다.(2) If any undesired diffraction beams can be blocked, and if the diffraction beams used have equal intensity, the interfering beams on the optical waveguide 40 will also be reflected by the same mirror to have equal intensity. Thus, the diffraction grating will have high contrast when the waveguide is located within the maximum overlap region of the intersecting beams 36, 43.

(3) 격자 주기는 반사 거울(35,37)의 각을 조정함으로써 그리고 그로인해 빔(36,43)의 교차점을 조정함으로써 조절될 수 있다. 거울(35,37)의 각을 변화시킬 때, 교차하는 빔(36,43)의 최대 중첩 영역은 위상 마스크(32)를 향하여 혹은 그로부터 멀어지게 이동할 수 있다. 그러므로, 도파관(40)의 위치는 최대 줄무늬 콘트라스트를 얻기 위해 그에 따라 조정되어야 한다. 미미한 각 변화에 대해서는, 간섭 무늬의 고유의 무감지성이 유지된다는 사실이 밝혀졌다. 수학적인 분석을 통해, 하나의 거울의 이동에 대한 감지성은 단지 2차 오류 교정 기간을 도입하기 위한 것으로만 나타남을 알 수 있다.(3) The grating period can be adjusted by adjusting the angles of the reflecting mirrors 35, 37 and thereby adjusting the intersection of the beams 36, 43. When varying the angles of the mirrors 35, 37, the maximum overlapping area of the intersecting beams 36, 43 may move towards or away from the phase mask 32. Therefore, the position of the waveguide 40 must be adjusted accordingly in order to obtain the maximum stripe contrast. For each minor change, it was found that the inherent insensitivity of the interference fringe was maintained. Mathematical analysis shows that the sensitivity to the movement of one mirror appears only to introduce a second error correction period.

(4) 바람직한 실시예의 한가지 이점은 두 개의 교차하는 빔은 서로에 대하여 공간적으로 반전되지 않는다는 점이다. 따라서, 빔의 고도의 공간 간섭성은 요구되지 않는데, 이는 빔의 동일한 부분들이 그 부분들 자체와 간섭하며, 종래 기술의 방법이 이용되는 경우처럼 빔의 대칭적으로 반대 편인 다른 부분과 간섭하지 않기 때문이다. 결과적으로, 세부적인 바람직한 실시예에서, 좁은 빔을 위상 마스크(32)를 따라서 주사함으로써 긴 회절 격자를 형성하는 데에 이용할 수 있다. 일시적인 간섭성의 정도는 그러나 더 긴 회절 격자에 요구되며, 여기서 이것은 빔들 사이의 경로차이다.(4) One advantage of the preferred embodiment is that the two intersecting beams are not spatially inverted with respect to each other. Thus, the high spatial coherence of the beam is not required because the same parts of the beam interfere with the parts themselves and do not interfere with other parts of the beam that are symmetrically opposite as in the case of the prior art method. to be. As a result, in a detailed preferred embodiment, it can be used to form a long diffraction grating by scanning a narrow beam along the phase mask 32. The degree of transient coherence is however required for longer diffraction gratings, where this is the path difference between the beams.

(5) 택일적인 실시예에서, 회절 격자 주기는 좁은 빔을 주사하는 동안 거울(35,37)의 각을 변화시킴으로써 역학적으로 변화될 수 있다. 이것은 회절 격자에 "쳐프", 즉 그것의 길이에 따른 주기의 변화를 제공하기 위해 이용될 수 있다. 작은 쳐프에 대하여는, 줄무늬 콘트라스트에 미치는 영향이 최소이다. 한편 줄무늬 콘트라스트는 광섬유(40) 상에서 빔들(36,43)의 중첩에 따라 달라지고, 이 중첩은 거울(35,37)의 각을 조정함으로써 달라지므로, 이것은 주기와 줄무늬 콘트라스트 양쪽을 동시에 조절함으로써 아포다이즈된 회절 격자 반사 스펙트럼을 획득하는 데에 유리하게 이용될 수 있다.(5) In an alternative embodiment, the diffraction grating period can be changed dynamically by varying the angles of the mirrors 35 and 37 while scanning the narrow beam. This can be used to give the diffraction grating a “chirp”, ie a change in period along its length. For small chirps, the effect on the striped contrast is minimal. Stripe contrast, on the other hand, depends on the overlap of the beams 36,43 on the optical fiber 40, and this overlap is varied by adjusting the angles of the mirrors 35, 37, which is why the apothesis is controlled by simultaneously adjusting both the period and the stripe contrast. It can be advantageously used to obtain a diced diffraction grating reflection spectrum.

(6)간섭 무늬에 대한 각으로 광 도파관을 위치시킴으로써, 회절 격자 줄무늬가 도파관에 가로인 면에 대한 각을 가지면서 만들어질 수 있다는 점에서 결과적인 회절 격자는 "블레이즈(blaze)"될 수 있다.(6) By positioning the optical waveguide at an angle to the interference fringe, the resulting diffraction grating can be " blazed " in that the diffraction grating stripes can be made with an angle to the plane transverse to the waveguide. .

도 5는 도 3의 장치와 유사하지만 "3개 거울 시스템"을 이용하는 택일적인 장치(50)를 도시하고 있다. 거울(51,52) 및 (53)은 Sagnac Loop를 형성하도록 놓인다. 간섭성 UV 빔(31)을 위상 마스크(32)를 통해 투과시켜서, 최초 및 두 번째 간섭성 빔(55,56)을 형성한다. 빔(56)은 거울(51)에 반사되어 빔(57)을 생성하고, 이것은 차례로 거울(52)에 반사되어 빔(58)을 생성하고, 이것은 차례로 거울(53)에 의해 반사되어 빔(59)을 생성한다. 도 5에서, 두 빔(59,55)은 중첩하는 것으로 도시되어 있고, 그러므로 도 3에 비해서 기술적으로 더욱 정확한 실제 시스템의 묘사를 보여준다. 빔(55)은 전술한 기술에 따라 광섬유(40)가 위치하는 간섭 영역(60)에 도달하기 전에, 거울(53), 거울(52) 및 거울(51)에서 해당하는 일련의 반사를 겪는다.FIG. 5 shows an alternative device 50 similar to the device of FIG. 3 but using a “three mirror system”. Mirrors 51, 52 and 53 are placed to form a Sagnac Loop. The coherent UV beam 31 is transmitted through the phase mask 32 to form the first and second coherent beams 55, 56. Beam 56 is reflected to mirror 51 to produce beam 57, which in turn is reflected to mirror 52 to produce beam 58, which in turn is reflected by mirror 53 to beam 59. ) In FIG. 5, the two beams 59, 55 are shown overlapping, thus showing a technically more accurate depiction of the actual system than in FIG. 3. The beam 55 undergoes a corresponding series of reflections in the mirror 53, mirror 52 and mirror 51 before reaching the interference region 60 where the optical fiber 40 is located in accordance with the techniques described above.

장치(50)는 더 이상의 거울을 추가함으로써 복잡해지지만, UV 빔(31)이 대칭 중심으로부터 변위된 때에, 두 빔 예를 들어 (55,56)이 정확히 같은 경로를 따라 이동하며, 그로인해 고도의 일률성과 진동 무감지성을 가진다는 장점을 갖는다. 이것은 도 3의 장치(30)와 구별되어야 한다. 도 3의 UV 빔(31)을 왼쪽으로 이동할 때, 도 3의 간섭 영역(45)은 반대 방향, 즉 오른쪽으로 이동한다. 이것은 도 3의 두 빔(33,38)이 상이한 경로를 따라 진행한 결과이다. 이것은 UV 빔(31)이 왼쪽(62)으로 이동함에 따라 간섭 영역(60)이 같은 방향으로 움직이는 도 5의 장치와 구분되어야 한다. 장치(50)는 그러므로 입력 빔(31)이 위상 마스크(32)를 따라 스위프됨에 따라 두 개의 역전파 빔이 거의 정확히 동일한 경로를 따라 진행하고 그에 의해 진동, 기류 및 다른 흔들림을 일으키는 작용들의 유해한 영향의 자가 소거를 가능하게 한다는 점에서 많은 장점을 갖는다. 더욱이, 두 빔(55,56)의 경로 길이는 실질적으로 동일할 것이고 따라서 간섭 무늬의 간섭성은 유지될 것이다. 이것은 도 3의 장치와 비교하여 실질적으로 더 긴 회절 격자의 생성을 가능하게 한다.The device 50 is complicated by adding more mirrors, but when the UV beam 31 is displaced from the center of symmetry, the two beams, for example (55, 56), travel along the exact same path, thereby allowing a high degree of It has the advantage of having uniformity and vibration insensitivity. This should be distinguished from the device 30 of FIG. 3. When moving the UV beam 31 of FIG. 3 to the left, the interference region 45 of FIG. 3 moves in the opposite direction, ie to the right. This is the result of the two beams 33 and 38 of FIG. 3 traveling along different paths. This should be distinguished from the apparatus of FIG. 5 in which the interference zone 60 moves in the same direction as the UV beam 31 moves to the left 62. The device 50 therefore has a detrimental effect of the actions that cause the two backpropagating beams to travel along almost exactly the same path as the input beam 31 is swept along the phase mask 32 and thereby cause vibrations, airflow and other shakes. It has many advantages in that it enables self-clearing. Moreover, the path lengths of the two beams 55 and 56 will be substantially the same so that the coherence of the interference fringes will be maintained. This allows the generation of a substantially longer diffraction grating compared to the apparatus of FIG. 3.

더 나아가, 명백하게 거울(51 내지 53) 중 어떠한 하나 이상의 거울이 회전하여 통상의 쳐핑 및 형성된 회절 격자의 파장 내의 변화를 제공할 수 있다. 따라서, 홀수의 거울을 이용함로써 입력 UV 빔(31)의 측 변위는, 역전파 빔 경로의 바람직하지 못한 분리를 초래하게 될 반대 방향으로의 간섭 영역의 이동을 생기지 않게 한다. 반대로, 장치(50)는 간섭 영역(61)이 UV 빔(31)과 일렬로 이동하게 한다. 위상 마스크(32)의 이용 또한 유리하게도 올바른 배향으로 서로의 위에 겹쳐지는 간섭 빔들이 대칭되는 결과가 되고, 따라서 위상 마스크(32)가 빔 스플리터보다 바람직하다.Furthermore, apparently any one or more of the mirrors 51-53 can be rotated to provide a change in wavelength of conventional chirping and diffraction gratings formed. Thus, by using an odd number of mirrors, the side displacement of the input UV beam 31 does not cause the movement of the interference region in the opposite direction, which would result in undesirable separation of the backpropagation beam path. In contrast, the device 50 causes the interference region 61 to move in line with the UV beam 31. The use of the phase mask 32 also advantageously results in symmetry of the interfering beams superimposed on top of each other in the correct orientation, so that the phase mask 32 is preferred over the beam splitter.

넓게 기재된 본 발명의 정신과 범위에서 벗어남이 없이 특정 실시예에 나타난 것처럼 본 발명에 수 많은 변화 및/혹은 개량이 이루어질 수 있다는 것이 당해 기술분야의 기술자들에 의해 생각되어질 것이다. 본 발명의 실시예들은 그러므로 모든 면에서 예시이며, 제한적이 아니라고 생각되어져야 한다.It will be appreciated by those skilled in the art that numerous changes and / or improvements can be made in the present invention as shown in a particular embodiment without departing from the broader spirit and scope of the invention. Embodiments of the invention are therefore to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive.

Claims (28)

감광성 물질에 구조를 형성하는 방법에 있어서, (a) 두 개의 간섭성 광 빔을 형성하는 단계; (b) 두 개의 빔이 소정의 위치에서 간섭하도록, 복수의 반사 소자 주위로 두 빔을 역전파시키는 단계; (c) 상기 구조가 상기 감광성 물질의 소정의 위치에 만들어지도록, 상기 감광성 물질을 상기 소정의 위치에 위치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 물질에 구조를 형성하는 방법.CLAIMS 1. A method of forming a structure in a photosensitive material, comprising: (a) forming two coherent light beams; (b) backpropagating the two beams around the plurality of reflective elements such that the two beams interfere at a predetermined location; (c) positioning the photosensitive material at the predetermined position such that the structure is made at the predetermined position of the photosensitive material. 제 1항에 있어서, 상기 구조가 회절 격자 구조인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the structure is a diffraction grating structure. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 두 개의 간섭성 광 빔을 형성하는 상기 단계가, 두 개의 회절된 간섭성 광 빔을 생성하기 위해 위상 마스크를 통해 한 개의 간섭성 광 빔을 통과시키는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.3. The method of claim 1 or 2, wherein forming the two coherent light beams comprises passing one coherent light beam through a phase mask to produce two diffracted coherent light beams. Characterized in that. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 두 개의 간섭성 광 빔을 형성하는 상기 단계가 회절 격자 내의 한 개의 간섭성 빔의 반사를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.3. A method according to claim 1 or 2, wherein the step of forming two coherent light beams comprises the reflection of one coherent beam in a diffraction grating. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 반사 소자들의 개수가 2의 배수인 것을 특징으로 하는 방법.The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the number of reflective elements is a multiple of two. 제 1항에 있어서, 상기 감광성 물질이 감광성 광 도파관을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the photosensitive material comprises a photosensitive optical waveguide. 제 6항에 있어서, 상기 광 도파관이 광 섬유인 것을 특징으로 하는 방법.7. The method of claim 6, wherein the optical waveguide is an optical fiber. 제 3항에 있어서, 상기 감광성 물질에 확장된 구조를 생성하기 위해, 상기 한 개의 간섭성 광 빔을 상기 위상 마스크를 따라서 주사하는 것을 특징으로 하는 방법.4. The method of claim 3, wherein the one coherent light beam is scanned along the phase mask to produce an extended structure in the photosensitive material. 제 8항에 있어서, 상기 한 개의 간섭성 빔과 소정의 공간적 관계를 유지하기 위해, 소정의 위치의 상기 간섭을 이동시키는 것을 특징으로 하는 방법.9. A method according to claim 8, wherein said interference at a predetermined position is moved to maintain a predetermined spatial relationship with said one coherent beam. 제 1항 또는 제 9항에 있어서, 반사 소자들의 개수가 홀수인 것을 특징으로 하는 방법.10. The method of claim 1 or 9, wherein the number of reflective elements is odd. 제 10항에 있어서, 반사 소자의 수가 3인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 10 wherein the number of reflective elements is three. 제 4항에 있어서, 상기 감광성 물질에 확장된 구조를 생성하기 위해, 상기 한 개의 간섭성 광 빔을 상기 회절 격자를 따라 주사하는 것을 특징으로 하는 방법.5. The method of claim 4, wherein the one coherent light beam is scanned along the diffraction grating to produce an extended structure in the photosensitive material. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 소자들 중 적어도 한 개가 상기 구조의 생성에서 회전 혹은 공간 이동을 겪는 것을 특징으로 하는 방법.13. A method according to any one of the preceding claims, wherein at least one of the reflective elements undergoes rotation or spatial movement in the creation of the structure. 제 13항에 있어서, 상기 구조가 쳐프된 회절격자인 것을 특징으로 하는 방법.The method of claim 13, wherein the structure is a chirped diffraction grating. 제 14항에 있어서, 구조를 상기 간섭 빔의 이등분선에 실질적으로 수직으로 간섭 빔들의 평면에 위치시키는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the structure is located in the plane of the interference beams substantially perpendicular to the bisector of the interference beam. 제 14항에 있어서, 구조를 상기 간섭 빔의 이등분선에 수직이 아닌 각으로 상기 간섭 빔의 평면에 위치시키는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 14, wherein the structure is located in the plane of the interference beam at an angle not perpendicular to the bisector of the interference beam. 제 1항 혹은 제 14항에 있어서, 감광성 물질이 실질적으로 두 간섭 빔의 평면과 실질적으로 일렬이고 상기 빔들의 이등분선에 수직이 아닌 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 1 or 14, wherein the photosensitive material is substantially in line with the plane of the two interfering beams and is not perpendicular to the bisector of the beams. 제 17항에 있어서, 상기 회절 격자가 블레이즈 된 회절 격자인 것을 특징으로 하는 방법.18. The method of claim 17, wherein the diffraction grating is a blazed diffraction grating. 제 1항 혹은 제 14항에 있어서, 감광성 물질이 두 개의 간섭 빔의 평면에 대하여 회전되는 것을 특징으로 하는 방법.15. The method of claim 1 or 14, wherein the photosensitive material is rotated about the plane of the two interference beams. 제 1항 혹은 제 19항에 있어서, 상기 구조가 아포다이즈된 회절 격자인 것을 특징으로 하는 방법.20. The method of claim 1 or 19, wherein the structure is an apodized diffraction grating. 감광성 물질에 구조를 형성하는 장치에 있어서, (a)적어도 두 개의 간섭성 광 빔을 생성하는 간섭성 광 생성 수단; (b)구조 스테이징 영역에서 상기 간섭성 광들을 간섭하게 하기 위해, 역으로 전파하는 실질적으로 동등한 경로를 따라 상기 간섭성 광을 반사시키는 복수의 반사 소자; (c)상기 감광성 물질을 상기 구조 스테이징 영역에 설치하는 구조 스테이징 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 물질에 구조를 형성하는 장치.An apparatus for forming a structure in a photosensitive material, comprising: (a) coherent light generating means for generating at least two coherent light beams; (b) a plurality of reflective elements for reflecting the coherent light along a substantially equal path propagating back to cause interference of the coherent light in a structure staging area; and (c) structural staging means for installing said photosensitive material in said structural staging area. 제 21항에 있어서, 상기 구조가 회절 격자 구조인 것을 특징으로 하는 장치.22. The apparatus of claim 21 wherein the structure is a diffraction grating structure. 제 21항에 있어서, 반사 소자들의 개수가 짝수인 것을 특징으로 하는 장치.22. The apparatus of claim 21, wherein the number of reflective elements is even. 제 21항에 있어서, 상기 구조가 감광성 도파관인 것을 특징으로 하는 장치.22. The apparatus of claim 21 wherein the structure is a photosensitive waveguide. 제 21항에 있어서, 상기 간섭성 광 생성 수단이 더 나아가 간섭성 광을 상기 간섭성 광 생성 수단으로 입력하는 간섭성 광 입력 수단을 포함하는 것과, 상기 감광성 물질에 해당하는 확장된 구조를 생성하기 위해, 상기 간섭성 광 입력 수단을 상기 간섭성 광 생성 수단을 따라 주사할 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.22. The method of claim 21, wherein the coherent light generating means further comprises coherent light input means for inputting coherent light into the coherent light generating means, and generating an extended structure corresponding to the photosensitive material. Device for scanning said coherent light input means along said coherent light generating means. 제 25항에 있어서, 간섭성 광 입력 수단과 상기 구조 스테이징 영역 사이의 공간적인 관계가 유지되도록 하기 위하여, 상기 구조 스테이징 영역에서의 상기 간섭이 상기 간섭성 광 입력 수단의 상기 주사와 병진되는 것을 특징으로 하는 장치.26. The apparatus of claim 25, wherein the interference in the structural staging area is translated with the scanning of the coherent light input means in order to maintain a spatial relationship between the coherent light input means and the structural staging area. Device. 제 21항 혹은 제 26항에 있어서, 반사 소자의 개수가 홀수인 것을 특징으로 하는 장치.27. An apparatus according to claim 21 or 26, wherein the number of reflective elements is odd. 제 27항에 있어서, 반사 소자의 개수가 3인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 장치28. An apparatus according to claim 27, wherein the number of reflective elements is three.
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