KR19990042412A - Method of Forming Fluorescent Film of Flat Panel Display Device - Google Patents

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김봉철
이남양
한윤수
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김영남
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Abstract

본 발명은 전착법을 이용해 풀 칼라의 형광막 형성시 서로 다른 색의 형광막을 전착시키지 않아 서로의 혼색을 방지할 수 있는 평판표시소자의 형광막 형성방법에 관한 것으로, 유리 기판(22) 상에 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)을 형성하는 제 1 단계와, 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)의 사이에 감광성 고분자를 이용하여 전면에 코팅하고, 건조한 후, 노광, 현상하여 비전도성 절연막(20)을 형성하는 제 2 단계와, 유리 기판(22)의 제 1 투명도전막(29) 상에 전착용 양극(24)을 인쇄하고, 형광막 전착액(28)을 갖는 전착조(36)내에서 전착법에 의해 전압을 가하여 형광막을 형성하는 제 3 단계와, 제 3 단계를 반복해서 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32) 상에 각각의 형광막을 형성한 후, 비전도성 절연막(20)을 제거하는 제 4 단계 공정으로 이루어지도록 구성된 특징이 있다.The present invention relates to a method of forming a fluorescent film of a flat panel display device that can prevent mixing of each other by electrodepositing fluorescent films of different colors when forming a full color fluorescent film by using an electrodeposition method. The first step of forming the first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30, the third transparent conductive film 32, the first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30 and And a second step of coating the entire surface using a photosensitive polymer between the third transparent conductive films 32, and then drying and exposing and developing the non-conductive insulating films 20, and the first of the glass substrates 22. A third step of printing the electrodeposited anode 24 on the transparent conductive film 29 and applying a voltage by an electrodeposition method in the electrodeposition tank 36 having the fluorescent film electrodeposition liquid 28 to form a fluorescent film; After repeating step 3 to form respective fluorescent films on the second transparent conductive film 30 and the third transparent conductive film 32, The non-conductive insulating film 20 is characterized in that it is configured to be carried out in a fourth step process.

Description

평판표시소자의 형광막 형성방법Method of Forming Fluorescent Film of Flat Panel Display Device

본 발명은 평판표시소자의 형광막 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전착법을 이용해 풀 칼라의 형광막 형성시 서로 다른 색의 형광막을 전착시키지 않아 서로의 혼색을 방지할 수 있는 평판표시소자의 형광막 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming a fluorescent film of a flat panel display device, and more particularly, to forming a full color fluorescent film using an electrodeposition method, which does not electrodeposit fluorescent films of different colors to prevent mixing of each other. It relates to a method for forming a fluorescent film.

일반적으로 종래의 평판표시소자는 진공중에서 캐소드로부터 방출되어지는 전자가 애노드의 형광막을 때려 형광막을 발광하는 면에서는 브라운관과 유사점은 있지만, 브라운관은 전자총에서 높은 전압을 걸어 방출하는 것으로, 그 전자의 이동 거리가 긴 반면에 평판표시소자는 브라운관과는 달리 수십 만개의 캐소드에 전기장을 형성하여 전자가 방출되는 것을 이용한다.In general, a flat panel display device has a similarity to a CRT in that electrons emitted from a cathode in a vacuum hit a fluorescent film of an anode and emit a fluorescent film.However, CRT emits a high voltage from an electron gun. On the other hand, the flat panel display device, unlike the CRT, forms an electric field in hundreds of thousands of cathodes and uses electrons to be emitted.

그러나 평판표시소자의 브라운관과는 다르게 샤도우 마스크 등이 없으므로 형광막의 두께 및 형광막의 균일도에 의하여 그 품위를 좌우하게 되므로, 평판표시소자에서는 형광막의 두께 및 막 균일도를 일정하게 하는 것이 필수적인 것으로 그 것에 관한 기술들이 연구되어 제시되고는 있지만, 평판표시소자의 형광막 두께, 형광막의 균일도 등을 해결하여 치밀한 형광막을 형성시키는 것에는 별다른 효과를 얻지 못하였다.However, unlike a CRT of a flat panel display device, since there is no shadow mask or the like, the quality is influenced by the thickness of the fluorescent film and the uniformity of the fluorescent film. Although techniques have been researched and suggested, the effect of forming a compact fluorescent film by solving the thickness of the fluorescent film of the flat panel display and the uniformity of the fluorescent film has not been obtained.

따라서, 최근에는 1950년대부터 CRT의 제조에 응용을 한 것이 발표되었으며, 자동차의 페인팅등에도 응용되었던 전착법을 사용하고 있다.Therefore, recently, the application of CRT to the production of the CRT has been announced since the 1950s, and the electrodeposition method, which has been applied to the painting of automobiles, is used.

상기의 전착법은 막 두께와 막 농도가 균일할 뿐만 아니라, 형광막의 형성 속도가 빠르며 두께의 조절이 용이하며 불규칙적인 물체를 코팅할 수 있는 장점을 가지고 있다.The electrodeposition method has the advantage that the film thickness and the film concentration are not only uniform, but also the formation rate of the fluorescent film is fast, the thickness can be easily adjusted, and an irregular object can be coated.

상기 전착법이란 전착 대상물을 매질에 용해된 바인더를 이용하여 음극 또는 양극으로 이동시키고, 음극 또는 양극에서의 화학반응을 통해 매질에 불용성이 된 바인더가 석출되어 전착 대상물과 함께 코팅되는 것을 말한다.The electrodeposition method means that the electrodeposition object is moved to the negative electrode or the positive electrode using a binder dissolved in the medium, and a binder insoluble in the medium is deposited by chemical reaction at the negative electrode or the positive electrode and coated with the electrodeposition object.

상기와 같은 원리를 이용하여 최근에는 도 1 에 도시한 바와 같이, 평판표시소자의 유리 기판(8) 상에 형광막을 형성하였다.In recent years, as shown in FIG. 1, the fluorescent film was formed on the glass substrate 8 of the flat panel display element by using the above principle.

상기 종래의 형광막 전착 방법은, 전착조(4)의 내부에 형광막 전착액(16)을 넣고, 유리 기판(8)에 세로로 길게 투명 도전막R(10)과, 투명도전막G(12)와, 투명도전막B(14)가 형성된 것을 전착조(4)의 형광막 전착액(16)에 담근다.In the conventional fluorescent film electrodeposition method, the fluorescent film electrodeposition liquid 16 is placed inside the electrodeposition tank 4, and the transparent conductive film R 10 and the transparent conductive film G (12) are vertically long on the glass substrate 8. ) And the transparent conductive film B 14 are dipped in the fluorescent film electrodeposition liquid 16 of the electrodeposition tank 4.

상기 전착액(16)에 음극(2)을 연결하고, 양극(6)을 투명 도전막R(10)에 연결하여 전류를 인가하면 투명도전막R(10)상에 전착액(16)에 혼합되어 있는 형광막이 전착된다.When the cathode 2 is connected to the electrodeposition liquid 16, and the anode 6 is connected to the transparent conductive film R 10 to apply an electric current, the electrode 2 is mixed with the electrodeposition liquid 16 on the transparent conductive film R 10. The fluorescent film is electrodeposited.

상기와 같은 방법으로 전착조(4)에 전착액을 바꾸어 전극만을 바꾸어 연결하여 투명도전막G(12)상에 연결하여 전류를 인가하며 투명도전막G(12)상에 원하는 패턴의 형광막을 형성할 수 있고, 계속해서 투명 도전막B(14)에도 상기와 같은 방법으로 형광막을 형성할 수 있다.By changing the electrodeposition liquid to the electrodeposition tank 4 in the same way as described above, the electrode is connected to the transparent conductive film G 12 by connecting only the electrodes, thereby applying a current, and forming a fluorescent film having a desired pattern on the transparent conductive film G 12. Subsequently, a fluorescent film can also be formed on the transparent conductive film B 14 by the same method as described above.

그러나, 상기와 같은 종래의 형광막 형성방법은, 유리 기판(8) 상에 형성되어 있는 투명도전막R(10)과, 투명도전막G(12)와, 투명도전막B(14)를 세로로 길게 형성하여 전착액(16)에 담근 후에 상부측에 전류를 인가하여 형광막을 형성하게 되면 유리 기판(8)의 투명도전막R(10) 상에 형광막이 전착되나, 그 다음 공정으로 투명도전막G(12)에 형광막 전착시 주변에 있는 투명도전막R(10)과 투명도전막B(14)에의 패턴간에 아주 미세한 것으로, 즉 10∼150㎛로 누설전류가 발생되어 주변의 투명도전막 등에도 전착이 되어 ITO투명도전막상에 형성되는 형광막이 혼색이 되어 칼라가 혼탁해지는 문제점이 있었다.However, in the conventional fluorescent film forming method as described above, the transparent conductive film R (10), the transparent conductive film (G) 12, and the transparent conductive film (B 14) formed on the glass substrate (8) are formed lengthwise. After immersing in the electrodeposition liquid 16 to apply a current to the upper side to form a fluorescent film, the fluorescent film is electrodeposited on the transparent conductive film R 10 of the glass substrate 8, but the transparent conductive film G 12 is then processed. Is very fine between the pattern between the transparent conductive film R (10) and the transparent conductive film B (14) at the time of electrodeposition of the fluorescent film, i.e., a leakage current is generated at 10 to 150 占 퐉 and electrodeposited to the surrounding transparent conductive film, etc. There was a problem that the fluorescent film formed on the conductive film became mixed and the color became turbid.

또한, 상기의 전착법은 전압이 높을수록 상기와 같은 혼색 현상은 두드러지게 나타나는 것을 이는 형광막의 비중이 높고 입자의 크기가 크므로 저전압에서는 전착이 어려운 문제점등이 있었다.In addition, in the electrodeposition method, the higher the voltage, the mixed color phenomenon is more prominent. This is because the specific gravity of the fluorescent film is high and the particle size is large.

따라서, 본 발명은 종래와 같은 문제점을 감안하여 창출된 것으로, 그 목적은 형광막의 두께가 균일하며, 형성되는 형광막의 혼색을 방지할 수 있는 평판표시소자의 형광막 형성방법을 제공함에 있다.Accordingly, the present invention has been made in view of the same problems as in the prior art, and an object thereof is to provide a method of forming a fluorescent film of a flat panel display device having a uniform thickness of the fluorescent film and preventing color mixing of the formed fluorescent film.

도 1 은 종래의 형광막을 제조하는 방법을 나타내는 도면.1 is a view showing a method for producing a conventional fluorescent film.

도 2 는 본 발명의 평판표시소자의 형광막을 형성하는 것을 나타내는 도면.Fig. 2 is a diagram showing forming a fluorescent film of the flat panel display device of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

20: 비전도성 절연막 22: 유리 기판20: non-conductive insulating film 22: glass substrate

24: 전착용 양극 28: 형광막 전착액24: anode for electrodeposition 28: fluorescent film electrodeposition liquid

29: 제 1 투명도전막 30: 제 2 투명도전막29: first transparent conductive film 30: second transparent conductive film

32: 제 3 투명도전막 36: 전착조32: third transparent conductive film 36: electrodeposition tank

따라서, 상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 평판표시소자의 형광막 형성방법은, 유리 기판 상에 제 1 투명도전막과, 제 2 투명도전막과, 제 3 투명도전막을 형성하는 제 1 단계와, 제 1 투명도전막과, 제 2 투명도전막과, 제 3 투명도전막의 사이에 감광성 고분자를 이용하여 전면에 코팅하고, 건조한 후, 노광, 현상하여 비전도성 절연막을 형성하는 제 2 단계와, 유리 기판의 제 1 투명도전막 상에 전착용 양극을 인쇄하고, 형광막 전착액을 갖는 전착조내에서 전착법에 의해 전압을 가하여 형광막을 형성하는 제 3 단계와, 제 3 단계를 반복해서 제 2 투명도전막과, 제 3 투명도전막 상에 각각의 형광막을 형성한 후, 비전도성 절연막을 제거하는 제 4 단계 공정으로 이루어지도록 구성된 특징이 있다.Therefore, in order to achieve the above object, the fluorescent film forming method of the flat panel display device of the present invention, the first step of forming a first transparent conductive film, a second transparent conductive film, and a third transparent conductive film on a glass substrate And a second step of coating the entire surface using a photosensitive polymer between the first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the third transparent conductive film, drying, exposing and developing the glass, and forming a non-conductive insulating film. The second transparent conductive film is repeated by repeating the third step and the third step of printing an electrode for electrodeposition on the first transparent conductive film of the substrate, applying a voltage by electrodeposition in an electrodeposition tank having a fluorescent film electrodeposition solution, and repeating the third step. And a fourth step of removing the non-conductive insulating film after forming each of the fluorescent films on the third transparent conductive film.

상기와 같이 구성된 본 발명의 평판표시소자의 형광막 형성방법을 첨부된 도면을 참조하여 아래와 같이 상세하게 설명한다.The fluorescent film forming method of the flat panel display device of the present invention configured as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2 는 본 발명의 평판표시소자의 형광막 형성방법을 나타내는 도면이다.2 is a view showing a fluorescent film forming method of the flat panel display device of the present invention.

본 발명은, 유리 기판(22) 상에 제 1 단계로 유리 기판(22) 상의 전면에 ITO층을 형성하고, 그위에 감광성 고분자를 코팅하고, 건조시킨 후, 광을 조사하여 노광시키고 현상한다.According to the present invention, an ITO layer is formed on the entire surface of the glass substrate 22 in the first step on the glass substrate 22, the photosensitive polymer is coated thereon, dried, and then exposed to light and developed by irradiation.

그리고 상기의 감광성 고분자 패턴을 이용하여 외부로 노출된 ITO층을 에칭하여 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)을 형성한 후에 감광성 고분자를 제거한다.The photosensitive polymer is formed by etching the ITO layer exposed to the outside using the photosensitive polymer pattern to form the first transparent conductive layer 29, the second transparent conductive layer 30, and the third transparent conductive layer 32. Remove

제 2 단계의 공정으로, 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)의 사이에 감광성 고분자를 이용하여 전면에 코팅하고, 건조한 후, 노광, 현상하여 절연막(20)을 형성한다.In the process of the second step, the first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30, and the third transparent conductive film 32 is coated on the entire surface using a photosensitive polymer, dried, and then exposed, It develops and the insulating film 20 is formed.

제 3 단계의 공정으로, 유리 기판(22)의 제 1 투명도전막(29) 상에 전착용 양극(24)을 인쇄하고, 양극(24)에 전압을 가하고 음극(26)은 형광막 전착액(28) 측에 가해지도록 전착조(36)내에서 1차적으로 적색의 형광막을 형성한다.In the process of the third step, the electrodeposited anode 24 is printed on the first transparent conductive film 29 of the glass substrate 22, the voltage is applied to the anode 24, and the cathode 26 is a fluorescent film electrodeposition liquid ( A red fluorescent film is formed primarily in the electrodeposition tank 36 to be applied to the 28) side.

상기 제 3 단계의 공정을 반복해서 녹색 형광막과 청색 형광막을 형성하기 위하여 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32) 상에 각각에 양극(24)을 인쇄하여 전압을 가하여 각각의 형광막을 형성한다.In order to form the green fluorescent film and the blue fluorescent film by repeating the process of the third step, the anode 24 is printed on each of the second transparent conductive film 30 and the third transparent conductive film 32, and a voltage is applied thereto. To form a fluorescent film.

상기와 같이 제 1 투명도전막(29)과 제 2 투명도전막(30)에 제 3 투명도전막(32) 상의 사이에 감광성 고분자로 형성된 절연막(20)은 비전도성이므로 제 1 투명도전막(29)에 적색 형광막을 형성시 바로 옆에 형성하고 있는 제 2 투명도전막(30)에 전착이 되지 않도록 누설 전류를 차단하고, 제 2 투명도전막(30)에 녹색 형광막을 전착시에는 좌우측에 형성되어 있는 제 1 투명도전막(29)과 제 3 투명도전막(32)에 누설전류를 비전도성 절연막(20)이 차단하므로 각각의 형광막 전착시 혼색되지 않는다.As described above, since the insulating film 20 formed of the photosensitive polymer between the first transparent conductive film 29 and the second transparent conductive film 30 on the third transparent conductive film 32 is non-conductive, the first transparent conductive film 29 is red. When forming the fluorescent film, the leakage current is cut off so as not to be electrodeposited on the second transparent conductive film 30 formed next to the fluorescent film, and when the green fluorescent film is electrodeposited on the second transparent conductive film 30, the first transparency formed on the left and right sides. Since the non-conductive insulating film 20 blocks the leakage current between the front film 29 and the third transparent conductive film 32, the respective fluorescent films are not mixed.

상기와 같이 각각의 삼색 적색, 녹색, 청색 형광막을 형성한 후에는 제 4 단계로 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32), 의 사이에 형성된 비전도성 절연막(20)을 제거한다.After forming the three-color red, green, and blue fluorescent films as described above, in the fourth step, between the first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30, and the third transparent conductive film 32, The formed nonconductive insulating film 20 is removed.

따라서, 본 발명의 평판표시소자의 형광막 형성방법으로 인해 유리 기판에 형성되는 형광막의 두께가 균일하며, 형성되는 형광막의 혼색을 방지할 수 있는 평판표시소자의 선명도를 높일 수 있는 효과가 있다.Therefore, the thickness of the fluorescent film formed on the glass substrate is uniform due to the method of forming the fluorescent film of the flat panel display device of the present invention, and the sharpness of the flat panel display device which can prevent color mixing of the formed fluorescent film is improved.

Claims (1)

평판표시소자의 형광막 형성방법에 있어서,In the fluorescent film forming method of the flat panel display device, 유리 기판(22) 상에 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)을 형성하는 제 1 단계와,A first step of forming the first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30, and the third transparent conductive film 32 on the glass substrate 22, 제 1 투명도전막(29)과, 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32)의 사이에 감광성 고분자를 이용하여 전면에 코팅하고, 건조한 후, 노광, 현상하여 비전도성 절연막(20)을 형성하는 제 2 단계와,The first transparent conductive film 29, the second transparent conductive film 30, and the third transparent conductive film 32 are coated on the entire surface using a photosensitive polymer, dried, and then exposed and developed to form a nonconductive insulating film 20. Forming a second step) 유리 기판(22)의 제 1 투명도전막(29) 상에 전착용 양극(24)을 인쇄하고, 형광막 전착액(28)을 갖는 전착조(36)내에서 전착법에 의해 전압을 가하여 형광막를 형성하는 제 3 단계와,The electrodeposited anode 24 is printed on the first transparent conductive film 29 of the glass substrate 22, and a fluorescent film is applied by applying an electric voltage by the electrodeposition method in the electrodeposition tank 36 having the fluorescent film electrodeposition liquid 28. Forming a third step, 제 3 단계를 반복해서 제 2 투명도전막(30)과, 제 3 투명도전막(32) 상에 각각의 형광막을 형성한 후, 비전도성 절연막(20)을 제거하는 제 4 단계 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 평판표시소자의 형광막 형성방법.After repeating the third step to form each of the fluorescent film on the second transparent conductive film 30 and the third transparent conductive film 32, a fourth step process of removing the non-conductive insulating film 20, characterized in that A method of forming a fluorescent film of a flat panel display device.
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