KR19990021448U - Semiconductor Wafer Polishing Machine - Google Patents
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Abstract
본 고안은 반도체 웨이퍼 연마장치에 관한 것으로, 종래 기술에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치는 슬러리를 공급하는 슬러리공급관이 고정되어 있어 구동장치인 전동기에 의하여 회전구동되는 플랫턴의 회전수에 따라 웨이퍼 캐리어에 고정되어 있는 반도체 웨이퍼에 불균일하게 공급됨과 더불어 상기 반도체 웨이퍼가 불균일하게 연마되고, 또 상기 슬러리가 재 기능을 발휘하지 못하고 낭비되는 문제점이 있었다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치는 슬러리를 공급하는 슬러리공급관을 소정의 각으로 회전구동하여 상기 플랫턴의 회전수의 변화에 따라 상기 슬러리의 공급위치를 변화시킴으로써 상기 반도체 웨이퍼에 균일하게 상기 슬러리를 공급함과 더불어 상기 반도체 웨이퍼를 균일하게 연마할 수 있게 되고, 또 상기 반도체 웨이퍼에 공급되는 슬러리가 대부분 기능을 발휘하게 되므로 그 슬러리가 낭비되는 것을 방지할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.The present invention relates to a semiconductor wafer polishing apparatus, and the semiconductor wafer polishing apparatus according to the prior art is fixed to the wafer carrier according to the rotational speed of the flat turn driven by an electric motor as a slurry supply pipe for supplying slurry is fixed. There was a problem that the semiconductor wafer was unevenly supplied to the semiconductor wafer, and the semiconductor wafer was unevenly polished, and the slurry was not functioned again and wasted. In order to solve this problem, the semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention rotates the slurry supply pipe for supplying the slurry at a predetermined angle to change the supply position of the slurry according to the change in the rotation speed of the flatton. Since the slurry is uniformly supplied to the semiconductor wafer, the semiconductor wafer can be polished uniformly, and the slurry supplied to the semiconductor wafer exhibits most of its functions, so that the slurry can be prevented from being wasted. have.
Description
본 고안은 반도체 웨이퍼 연마장치에 관한 것으로, 특히 슬러리를 분사공급하는 노즐이 설치된 공급관을 소정의 각으로 회전시킬 수 있는 구동장치를 설치함으로써 패드가 고정되어 회전구동하는 플랫턴의 회전수 변화에 따라 항상 상기 슬러리의 공급위치를 일정하게 함과 아울러 상기 반도체 웨이퍼를 균일하게 연마할 수 있도록 한 반도체 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor wafer polishing apparatus, and in particular, by installing a driving device capable of rotating a supply pipe provided with a nozzle for supplying a slurry at a predetermined angle, in accordance with a change in the rotational speed of a flat turn where the pad is fixed and driven. The present invention relates to a semiconductor wafer polishing apparatus which makes it possible to uniformly polish the semiconductor wafer while maintaining a constant supply position of the slurry.
일반적으로, 반도체 웨이퍼에 증착공정을 수행한 후 그 반도체 웨이퍼의 증착면을 평탄하게 연마하게 되는데, 이러한 연마는 상기 도 1에 도시된 바와 같은 연마장치에서 수행되게 된다.In general, after performing a deposition process on a semiconductor wafer to polish the deposition surface of the semiconductor wafer evenly, such polishing is performed in a polishing apparatus as shown in FIG.
상기 반도체 웨이퍼 연마장치는, 본체에 설치고정된 구동장치인 전동기의 회전축(미도시)에 삽입설치되어 회전구동하는 디스크형의 플랫턴(1)이 있고, 그 플랫턴(1)에는 상기 반도체 웨이퍼(w)와 접촉하여 연마할 수 있도록 소프트한 폴리텍스 재질의 패드(미도시)가 설치고정되어 있으며, 상기 전동기가 설치고정된 상기 본체에는 연마하고자 하는 반도체 웨이퍼(w)를 장착하여 회전구동하고 상기 플랫턴(1)에 설치된 패드에 접촉할 수 있도록 하는 웨이퍼 캐리어(2)가 설치되어 있고, 또 상기 본체에는 상기 웨이퍼 캐리어(2)에 장착된 반도체 웨이퍼(w)와 상기 패드가 접촉함에 있어 기계적인 마찰력과 화학적인 반응으로 상기 반도체 웨이퍼(w)를 연마할 수 있도록 슬러리를 분사공급할 수 있는 노즐(3a)이 구비된 슬러리공급관이 설치고정되어 있다.The semiconductor wafer polishing apparatus includes a disk-shaped flat turn 1 inserted into a rotating shaft (not shown) of a motor, which is a drive device fixed to a main body, for rotating and driving, and the flat turn 1 has the semiconductor wafer. A soft polytex pad (not shown) is installed and fixed so as to be polished in contact with (w), and the semiconductor wafer (w) to be polished is rotated and mounted on the main body where the motor is installed and fixed. The wafer carrier 2 is provided to be in contact with the pad provided on the flatton 1, and the main body is provided in contact with the pad and the semiconductor wafer w mounted on the wafer carrier 2. The slurry supply pipe is provided with a nozzle (3a) that can be supplied by spraying the slurry to polish the semiconductor wafer (w) by mechanical friction and chemical reaction.
그리고, 상기 본체에는 상기 플랫턴(1)에 고정설치된 패드와 상기 웨이퍼 캐리어(2)에 장착된 반도체 웨이퍼(w)가 접촉하여 변형되는 상기 패드를 원상복귀하는 패드컨디션너(4)가 설치되어 있고, 그 패드컨디션너(4)는 액츄에이터(미도시)에 의하여 상기 플랫턴(1)에 설치된 패드와 접촉할 수 있도록 구동된다.The main body is provided with a pad conditioner 4 for restoring the pad which is fixed by contacting the pad fixed to the flat turn 1 with the semiconductor wafer w mounted on the wafer carrier 2. The pad conditioner 4 is driven by an actuator (not shown) so as to be in contact with the pad provided on the flat turn 1.
상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼 연마장는, 먼저 상기 웨이퍼 캐리어(2)에 상기 반도체 웨이퍼(w)가 장착됨과 아울러 상기 구동장치인 전동기가 회전구동함에 따라 상기 패드가 설치고정된 플랫턴(1)이 고속으로 회전구동하게 되고, 회전구동하는 상기 플랫턴(1)의 패드에 상기 웨이퍼 캐리어(2)에 장착된 반도체 웨이퍼(w)를 접촉함과 아울러 상기 슬러리공급관의 노즐(3a)을 통하여 상기 슬러리를 상기 반도체 웨이퍼(w)와 패드가 접촉하는 부분에 공급하므로써 그 반도체 웨이퍼(w)는 기계적인 마찰력과 화학적인 반응에 의하여 연마된다.In the semiconductor wafer polishing site constructed as described above, the semiconductor wafer w is first mounted on the wafer carrier 2 and the flat turn 1 on which the pad is fixed is fastened as the electric motor as the driving device rotates. The semiconductor wafer w mounted on the wafer carrier 2 is brought into contact with a pad of the flat turn 1 which is driven in rotation, and the slurry is supplied through the nozzle 3a of the slurry supply pipe. The semiconductor wafer w is polished by mechanical friction and chemical reaction by supplying it to the portion where the semiconductor wafer w and the pad come into contact with each other.
이때, 상기 반도체 웨이퍼(w)와 상기 소프트한 패드가 접촉하게 되어 그 패드는 변형되게 되므로 상기 액츄에이터를 구동하여 상기 패드컨디션너(4)를 상기 패드와 접촉시킴으로써 그 패드는 원상 복구되는 것이다.At this time, the semiconductor wafer w and the soft pad are brought into contact with each other so that the pad is deformed. Thus, the pad is restored by driving the actuator to contact the pad conditioner 4 with the pad.
그러나, 상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼 연마장치는 상기 슬러리를 공급하는 슬러리공급관이 고정되어 있어 구동장치인 전동기에 의하여 회전구동되는 플랫턴의 회전수에 따라 상기 웨이퍼 캐리어에 고정되어 있는 반도체 웨이퍼에 불균일하게 공급됨과 더불어 상기 반도체 웨이퍼가 불균일하게 연마되고, 또 상기 슬러리가 재 기능을 발휘하지 못하고 낭비되는 문제점이 있었다.However, the semiconductor wafer polishing apparatus configured as described above is fixed to the semiconductor wafer fixed to the wafer carrier in accordance with the rotational speed of the flat turn driven by the electric motor, which is a slurry supply pipe for supplying the slurry. In addition to being supplied, there was a problem that the semiconductor wafer was unevenly polished and the slurry was not functioned again and wasted.
따라서, 본 고안의 목적은 상기의 문제점을 해결하여 연마되는 반도체 웨이퍼에 균일하게 슬러리를 공급함과 아울러 상기 반도체 웨이퍼를 균일하게 연마하고, 또 슬러리의 낭비를 방지할 수 있는 반도체 웨이퍼 연마장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above problems and to provide a semiconductor wafer polishing apparatus capable of uniformly supplying a slurry to a semiconductor wafer to be polished and polishing the semiconductor wafer uniformly and preventing waste of the slurry. have.
도 1은 종래 기술에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 구조를 보인 평면도.1 is a plan view showing the structure of a semiconductor wafer polishing apparatus according to the prior art.
도 2는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 구조를 보인 측면도.Figure 2 is a side view showing the structure of a semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention.
도 3은 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 구조를 보인 평면도.3 is a plan view showing the structure of a semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention;
** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 간단한 설명 **** Brief description of symbols for the main parts of the drawing **
13 : 플랫턴 14 : 패드13: flat turn 14: pad
15 : 웨이퍼 캐리어 16 : 슬러리공급관15 wafer carrier 16 slurry supply pipe
17 : 스텝핑모터 18 : 제어기17: stepping motor 18: controller
본 고안의 목적은 주구동장치에 의하여 회전구동되고 반도체 웨이퍼면과 접촉하여 연마되는 패드가 설치고정된 플랫턴과, 반도체 웨이퍼를 장착고정하여 회전구동함과 아울러 그 반도체 웨이퍼를 상기 플랫턴에 설치고정된 패드와 접촉시키는 웨이퍼 캐리어와, 그 웨이퍼 캐리어에 장착고정된 반도체 웨이퍼와 상기 패드가 접촉할 때 기계적인 마찰력과 화학적인 반응을 제공할 수 있는 슬러리를 공급하는 슬러리공급관과, 그 슬러리공급관을 소정의 각으로 회전구동하는 공급관구동장치와, 상기 플랫턴의 회전수를 감지할 수 있는 회전센서와, 그 회전센서에 감지된 회전수에 따라 상기 슬러리공급관을 구동하는 공급관구동장치를 제어하는 제어기를 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 연마장치에 의하여 달성된다.An object of the present invention is to provide a flat turn with a pad that is rotationally driven by the main driving device and is polished in contact with the surface of the semiconductor wafer, and a semiconductor wafer is mounted on the flat turn while the semiconductor wafer is fixed by rotation. A slurry supply pipe for supplying a wafer carrier for contacting with a fixed pad, a slurry that can provide a mechanical frictional force and a chemical reaction when the semiconductor wafer mounted and fixed to the wafer carrier contacts the pad, and the slurry supply pipe. A controller for controlling a supply pipe driving device for rotating the supply pipe driving device to rotate at a predetermined angle, a rotation sensor for sensing the rotation speed of the flat turn, and a supply pipe driving device for driving the slurry supply pipe according to the rotation speed detected by the rotation sensor. It is achieved by a semiconductor wafer polishing apparatus comprising a.
다음은, 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 일실시예를 첨부된 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.Next, an embodiment of a semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 구조를 보인 측면도이고, 도 3은 본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치의 구조를 보인 평면도이다.2 is a side view showing the structure of the semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention, Figure 3 is a plan view showing the structure of the semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention.
본 고안에 의한 반도체 웨이퍼 연마장치는 상기 도 2와 도 3에 도시된 바와 같이 본체(11)에 설치고정된 주구동장치인 전동기(12)의 회전축(12a)에 삽입설치되어 회전구동하는 디스크형의 플랫턴(13)이 있고, 그 플랫턴(13)에는 상기 반도체 웨이퍼(w)와 접촉하여 연마할 수 있도록 소프트한 폴리텍스 재질의 패드(14)가 설치고정되어 있으며, 또 상기 본체(11)에는 연마하고자 하는 반도체 웨이퍼(w)를 장착하여 회전구동하고 상기 플랫턴(13)에 설치된 패드(14)에 접촉할 수 있도록 하는 웨이퍼 캐리어(15)가 설치되어 있고, 상기 웨이퍼 캐리어(15)에 장착된 반도체 웨이퍼(w)와 상기 패드(14)가 접촉함에 있어 기계적인 마찰력과 화학적인 반응으로 상기 반도체 웨이퍼(w)를 연마할 수 있도록 슬러리를 분사공급하는 노즐(미도시)이 구비된 슬러리공급관(16)의 일측이 상기 본체(11)에 설치고정된 공급관구동장치인 스텝핑모터(17)의 회전축(17a)에 삽입고정되어 있다.The semiconductor wafer polishing apparatus according to the present invention is a disk type that is inserted into the rotating shaft 12a of the electric motor 12, which is a main driving device fixed to the main body 11, as shown in FIGS. The flat turn 13 is provided, and the flat turn 13 is provided with a pad 14 made of a soft polytex material so as to be polished in contact with the semiconductor wafer w. ) Is provided with a wafer carrier 15 for mounting and rotating the semiconductor wafer w to be polished and making contact with the pad 14 provided on the flat turn 13, and the wafer carrier 15. And a nozzle (not shown) for spraying and supplying a slurry to polish the semiconductor wafer w by mechanical friction and chemical reaction when the semiconductor wafer w mounted on the pad 14 contacts with the pad 14. One side of the slurry supply pipe 16 It is inserted fixed to the rotating shaft (17a) of the feed tube driving apparatus of the stepping motor 17 fixed to the main body (11).
그리고, 상기 전동기(12)에는 상기 플랫턴(13)의 회전수를 감지할 수 있는 회전센서인 타코메타(12b)가 설치되어 있으며, 그 타코메타(12b)에 의하여 감지된 상기 플랫턴(13)의 회전수는 제어기(18)에 전달되고, 그 제어기(18)는 상기 플랫턴(13)의 회전수에 따라 상기 스텝핑모터(17)의 회전각도를 소정의 각으로 제어함으로써 상기 슬러리공급관(16)의 노즐의 위치가 상기 플랫턴(13)에 고정설치된 패드(14)면에서 0 ∼ 45°정도로 구동되게 되는 것이다.In addition, the motor 12 is provided with a tachometer 12b which is a rotation sensor capable of detecting the number of revolutions of the flatton 13, and the flattener 13 detected by the tachometer 12b. The rotation speed is transmitted to the controller 18, and the controller 18 controls the rotation angle of the stepping motor 17 at a predetermined angle according to the rotation speed of the flat turn 13 to supply the slurry to the slurry supply pipe 16. The position of the nozzle is to be driven about 0 ~ 45 ° from the pad 14 surface fixed to the flat turn (13).
상기 제어기(18)는 상기 슬러리가 상기 반도체 웨이퍼(w)면에 균일하게 공급될 수 있도록 상기 플랫턴(13)의 회전수가 많을 경우에는 상기 슬러리공급관(16)의 단부에 설치된 노즐의 위치를 그 플랫턴(13)의 회전축 쪽으로 위치할 수 있도록 상기 스텝핑모터(17)를 구동하고, 상기 플랫턴(13)의 회전수가 적을 경우에는 상기 슬러리공급관(16)의 단부에 설치된 노즐의 위치를 상기 플랫턴(13)의 외주연 쪽으로 위치할 수 있도록 상기 스텝핑모터(17)를 구동하게 되는 것이다.The controller 18 determines the position of the nozzle provided at the end of the slurry supply pipe 16 when the rotation speed of the flat turn 13 is high so that the slurry can be uniformly supplied to the surface of the semiconductor wafer w. The stepping motor 17 is driven to be positioned toward the rotation axis of the flat turn 13, and when the rotation speed of the flat turn 13 is small, the position of the nozzle provided at the end of the slurry supply pipe 16 is changed to the flat position. The stepping motor 17 is driven to be positioned toward the outer circumference of the turn 13.
도면상의 미설명 부호 19는 패드컨디션너이다.Reference numeral 19 in the drawings denotes a pad conditioner.
상기와 같이 구성된 반도체 웨이퍼 연마장치는, 먼저 상기 웨이퍼 캐리어(15)에 상기 반도체 웨이퍼(w)가 장착됨과 아울러 상기 주구동장치인 전동기(12)가 회전구동함에 따라 상기 패드(14)가 설치고정된 플랫턴(13)이 고속으로 회전구동하게 되고, 회전구동하는 상기 플랫턴의 패드(14)에 상기 웨이퍼 캐리어(15)에 장착된 반도체 웨이퍼(w)를 접촉함과 아울러 상기 슬러리공급관(16)의 노즐을 통하여 상기 슬러리를 상기 반도체 웨이퍼(w)와 패드(14)가 접촉하는 부분에 공급한다.In the semiconductor wafer polishing apparatus configured as described above, the pad 14 is installed and fixed as the semiconductor wafer w is first mounted on the wafer carrier 15 and the motor 12, which is the main driving device, is rotated and driven. The flat plate 13 is rotated at high speed, and the semiconductor wafer w mounted on the wafer carrier 15 is brought into contact with the pad 14 of the platen which rotates, and the slurry supply pipe 16 The slurry is supplied to a portion where the semiconductor wafer w and the pad 14 come into contact with each other through a nozzle.
이때, 상기 회전센서인 타코메타(12b)는 상기 플랫턴(13)의 회전수를 감지하여 상기 제어기(18)에 보내고, 그 제어기(18)에 보내진 회전수에 따라 상기 스텝핑모터(17)를 구동하여 상기 슬러리공급관(16)을 소정의 각으로 회전구동함으로써 상기 반도체 웨이퍼(w)에는 균일하게 상기 슬러리가 공급되게 된다.At this time, the tachometer 12b as the rotation sensor senses the rotational speed of the flat turn 13 and sends it to the controller 18, and drives the stepping motor 17 in accordance with the rotational speed sent to the controller 18 Thus, the slurry supply pipe 16 is rotated at a predetermined angle so that the slurry is uniformly supplied to the semiconductor wafer w.
상기와 같이 슬러리를 공급하는 슬러리공급관을 소정의 각으로 회전구동하여 상기 플랫턴의 회전수의 변화에 따라 상기 슬러리의 공급위치를 변화시킴으로써 상기 반도체 웨이퍼에 균일하게 상기 슬러리를 공급함과 더불어 상기 반도체 웨이퍼를 균일하게 연마할 수 있게 되고, 또 상기 반도체 웨이퍼에 공급되는 슬러리가 대부분 기능을 발휘하게 되므로 그 슬러리가 낭비되는 것을 방지할 수 있는 효과를 기대할 수 있다.As described above, the slurry supply pipe for supplying the slurry is rotated at a predetermined angle to change the supply position of the slurry according to the change of the rotation speed of the flatton, thereby uniformly supplying the slurry to the semiconductor wafer, and the semiconductor wafer. It is possible to grind uniformly, and since the slurry supplied to the semiconductor wafer exhibits most functions, the effect of preventing the slurry from being wasted can be expected.
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Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| KR20030095465A (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-24 | 삼성전자주식회사 | Chemical and mechanical polishing apparatus |
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1997
- 1997-11-29 KR KR2019970034945U patent/KR200177334Y1/en not_active IP Right Cessation
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|---|---|---|---|---|
| KR20030095465A (en) * | 2002-06-10 | 2003-12-24 | 삼성전자주식회사 | Chemical and mechanical polishing apparatus |
Also Published As
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|---|---|
| KR200177334Y1 (en) | 2000-04-15 |
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