KR19990013984U - Wafer stage of electron microscope for wafer inspection - Google Patents
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Abstract
본 고안은 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지에 관한 것으로서, 종래와 같이 접지 및 고정핀을 통해 웨이퍼의 가장자리에서 방전이 일어나도록 하는 것은 물론, 웨이퍼 스테이지 상면 중앙부에 새로이 형성된 방전수단 내지 접지선이 형성된 웨이퍼 유무 센서를 통해 웨이퍼의 중앙부에 대전된 전하도 방전되도록 함에 의해 전자현미경에서 얻어지는 영상을 선명하고 초점이 뚜렷하게 하여 정확한 검사가 이루어질 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to a wafer stage of an electron microscope for wafer inspection, and discharges occur at the edge of the wafer through grounding and fixing pins as in the prior art, as well as a wafer having a newly formed discharge means or ground line in the center of the upper surface of the wafer stage. The charges charged at the center of the wafer are also discharged through the presence sensor to make the image obtained by the electron microscope clear and in focus so that accurate inspection can be performed.
Description
본 고안은 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지에 관한 것으로서, 특히 시료인 웨이퍼가 대전(charging)되는 것을 방지하여 정확한 검사가 가능하도록 하는 웨이퍼 스테이지에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer stage of an electron microscope for wafer inspection, and more particularly, to a wafer stage capable of accurate inspection by preventing the wafer, which is a sample, from being charged.
웨이퍼의 표면에 형성된 패턴의 선폭이 적절한지 혹은 이물질은 없는지 등을 분석하기 위하여 사용되는 전자현미경을 웨이퍼 검사용 전자현미경이라 하는데, 이러한 웨이퍼 검사용 전자현미경은 일반적인 전자현미경과 마찬가지로 시료인 웨이퍼에 전자빔을 주사한 후 반사되는 빔을 분석하여 영상화하게 되는 것으로 작용을 행하게 되며, 이를 위해 웨이퍼는 웨이퍼 스테이지에 고정되어 스테이지 도어를 통해 진공관의 내부로 투입된 후 정렬되어 검사되게 된다.An electron microscope used to analyze whether the line width of the pattern formed on the surface of the wafer is appropriate or there is no foreign material is called an electron microscope for wafer inspection. The electron microscope for wafer inspection is an electron beam on a sample wafer like the general electron microscope. After scanning, the beam is reflected and analyzed to image it. To this end, the wafer is fixed to the wafer stage, is introduced into the inside of the vacuum tube through the stage door, and is aligned and inspected.
도 1 은 종래의 일반적인 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 상면을 도시한 평면도이고, 도 2 는 종래의 일반적인 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 하면을 도시한 저면도로서, 이에 도시한 바와 같이, 웨이퍼 스테이지의 상면에는 웨이퍼의 하부를 지지하는 웨이퍼 받침핀(1)이 형성되어 있고, 웨이퍼의 측부를 고정함과 아울러 웨이퍼에 대전된 전하를 방전하기 위한 접지 및 고정핀(2)이 형성되어 있다. 또한 웨이퍼 스테이지의 상면 중앙에는 웨이퍼가 스테이지상에 있는지 여부를 감지하기 위한 웨이퍼 유무 센서(3)가 설치되어 있다.1 is a plan view showing a top surface of a wafer stage of a conventional wafer inspection electron microscope, and FIG. 2 is a bottom view showing a bottom surface of a wafer stage of a conventional wafer inspection electron microscope. As shown in FIG. On the upper surface of the stage, wafer support pins 1 supporting the lower part of the wafer are formed, and ground and fixing pins 2 for fixing the side of the wafer and for discharging the electric charges charged on the wafer are formed. In addition, a wafer presence sensor 3 is provided at the center of the upper surface of the wafer stage to detect whether the wafer is on the stage.
도 3 은 이러한 종래의 웨이퍼 유무 센서의 구조를 보인 측단면도로서, 이에 도시한 바와 같이, 종래의 웨이퍼 유무 센서(3)는 웨이퍼의 하면 중앙을 지지하는 비전도성 수지봉(3a)과, 상기 비전도성 수지봉(3a)의 하부에 형성되어 접지 및 센싱을 행하는 접지 및 센서겸용판(3b)으로 구성된다.3 is a side cross-sectional view showing the structure of the conventional wafer presence sensor. As shown in the drawing, the conventional wafer presence sensor 3 includes a non-conductive resin rod 3a supporting the center of the lower surface of the wafer and the vision. It is formed in the lower part of the conductive resin rod 3a, and is comprised from the ground and sensor combined plate 3b which performs grounding and sensing.
한편, 상기 웨이퍼 스테이지의 하면에는 스테이지를 고정하는 스테이지 고정홈(4)과, 접지작용과 센싱을 행하는 접지 및 센서라인(5)이 형성되어 있다.On the other hand, a lower surface of the wafer stage is provided with a stage fixing groove 4 for fixing the stage, and a ground and sensor line 5 for grounding and sensing.
상기한 바와 같은 구조로 되는 종래의 웨이퍼 스테이지는 상기 웨이퍼 받침핀(1)으로 웨이퍼의 하면을 지지하고 접지 및 고정핀(2)으로 웨이퍼의 측부를 지지한 상태에서 진공관의 내부로 삽입되어 정렬된 후 전자빔이 발사되어 검사공정을 진행하게 되는데, 상기 접지 및 고정핀(2)은 웨이퍼의 측부를 상기 접지 및 센서라인(5)을 통해 접지 시키므로써 검사과정중에 조사된 전자빔에 의해 웨이퍼의 일부 영역이 대전되어 정확한 영상이 얻어지지 못하는 현상을 방지하게 된다.The conventional wafer stage having the structure as described above is inserted into and aligned with the inside of the vacuum tube while supporting the lower surface of the wafer with the wafer support pin 1 and supporting the side of the wafer with the ground and fixing pins 2. Then, the electron beam is fired to proceed with the inspection process. The grounding and fixing pin 2 grounds the side of the wafer through the grounding and sensor line 5 so that a portion of the wafer is exposed by the electron beam irradiated during the inspection process. This charging prevents the phenomenon that an accurate image cannot be obtained.
그러나, 종래 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지에서는 웨이퍼의 가장자리에 대한 접지는 상기 접지 및 고정핀에 의해 이루어지나, 웨이퍼의 중앙부에 대한 접지가 이루어지지 못해 웨이퍼 중앙부에 대전된 전하를 조속히 방전시키지 못함에 따라, 검사결과 얻어지는 영상이 선명하지 못하고 초점이 흐리게 되는 등으로 정확한 검사가 행해지기 어려운 문제점이 있었는데, 이러한 현상은 대전된 전하가 신속히 이동하여 접지부를 통해 방전될 수 있는 도체와 달리 반도체인 실리콘 웨이퍼의 경우에는 전하의 이동 속도가 느리기 때문에 발생하는 현상이다.However, in the wafer stage of the conventional wafer inspection electron microscope, the ground of the edge of the wafer is made by the ground and the pin, but the ground of the wafer is not grounded, and thus the charge charged in the center of the wafer cannot be discharged quickly. As a result, it is difficult to carry out accurate inspection because the image obtained as a result of the inspection is not clear and the focus is blurred. This phenomenon is different from that of a conductor, in which a charged charge is rapidly moved and discharged through a ground part. In the case of a wafer, the phenomenon occurs because the speed of charge transfer is slow.
따라서, 상기한 바와 같은 문제점을 인식하여 안출된 본 고안의 목적은 웨이퍼의 가장자리 뿐만아니라 웨이퍼의 중앙부에 대전된 전하도 신속히 방전될 수 있도록 함에 의해 정확한 검사가 행해질 수 있도록 하는데 적합한 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지를 제공하고자 하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention devised by recognizing the problems described above is a wafer inspection electron microscope suitable for enabling accurate inspection to be performed by quickly discharging not only the edge of the wafer but also the charge charged at the center of the wafer. To provide a wafer stage.
도 1 은 종래의 일반적인 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 상면을 도시한 평면도.1 is a plan view showing a top surface of a wafer stage of a conventional wafer inspection electron microscope.
도 2 는 종래의 일반적인 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 하면을 도시한 저면도.Fig. 2 is a bottom view showing the bottom surface of a wafer stage of a conventional wafer inspection electron microscope.
도 3 은 종래의 웨이퍼 유무 센서의 구조를 보인 측단면도.Figure 3 is a side cross-sectional view showing the structure of a conventional wafer presence sensor.
도 4 는 본 고안의 일실시례에 의한 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 상면의 구조를 도시한 평면도.4 is a plan view showing the structure of the upper surface of the wafer stage of the wafer inspection electron microscope according to an embodiment of the present invention.
도 5 는 본 고안의 일실시례에 적용되는 웨이퍼 유무 센서의 구조를 도시한 측단면도.Figure 5 is a side cross-sectional view showing the structure of the wafer presence sensor applied to an embodiment of the present invention.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)(Explanation of symbols for the main parts of the drawing)
1;웨이퍼 받침핀 2;접지 및 고정핀1; wafer support pin 2; grounding and fixing pin
30;웨이퍼 유무 센서 30a;접지선30; Wafer presence sensor 30a; Ground wire
30b;비전도성 수지봉 30c;접지 및 센서겸용판30b; non-conductive resin rod 30c; grounding and sensor plate
상기한 바와 같은 본 고안의 목적을 달성하기 위하여, 검사시료인 웨이퍼를 지지하기 위하여 사용되는 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지에 있어서, 상기 웨이퍼 스테이지의 상면 중앙부에는 웨이퍼의 중앙부에 대전된 전하를 방전시키기 위한 방전수단이 형성된 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, in the wafer stage of the wafer inspection electron microscope used to support the wafer, which is an inspection sample, a charge charged in the center of the wafer is discharged to the center of the upper surface of the wafer stage. There is provided a wafer stage of a wafer inspection electron microscope, characterized in that a discharge means for forming the wafer is provided.
또한, 상기 방전수단은 웨이퍼의 하면 중앙부와 접촉하는 접지선과, 상기 접지선을 둘러싸며 형성된 비전도성 수지봉과, 상기 접지선 및 비전도성 수지봉의 하부에 부착되어 웨이퍼의 유무를 센싱함과 아울러 접지를 행하는 접지 및 센서 겸용판을 포함하여 구성되는 웨이퍼 유무 센서인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지가 제공된다.In addition, the discharge means is attached to the ground line in contact with the central portion of the lower surface of the wafer, the non-conductive resin rod formed surrounding the ground line, and attached to the lower portion of the ground wire and non-conductive resin rod to sense the presence of the wafer and to ground There is provided a wafer stage of an electron microscope for wafer inspection, wherein the wafer presence sensor is configured to include a ground and a sensor combined plate.
이하, 첨부도면에 도시한 본 고안의 일실시례에 의거하여 본 고안을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on an embodiment of the present invention shown in the accompanying drawings.
도 4 는 본 고안의 일실시례에 의한 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지 상면의 구조를 도시한 평면도로서, 이에 도시한 바와 같이, 본 고안에 의한 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지는 상면 중앙부에 웨이퍼 중앙부에 대전된 전하를 방전시키기 위한 방전수단이 형성된 것을 제외하고는 종래의 것과 유사하다.4 is a plan view showing the structure of the wafer stage upper surface of the wafer inspection electron microscope according to an embodiment of the present invention, as shown in the drawing, the wafer stage of the wafer inspection electron microscope according to the present invention is located in the center of the upper surface. It is similar to the conventional one except that discharge means for discharging the charged charge in the center of the wafer is formed.
이러한 방전수단은 웨이퍼 스테이지의 상면 중앙부에 형성된 웨이퍼 유무 센서(30)와 별도로 형성하는 것도 가능하나, 웨이퍼 유무 센서(30)의 위치가 웨이퍼의 정중앙부이어서 이 위치에 방전수단을 형성하는 것이 웨이퍼 중앙부에 형성된 전하를 방전하는데 좋으며 전체적인 웨이퍼 스테이지의 구조를 간단하게 한다는 점에서 웨이퍼 유무 센서(30)와 일체가 되도록 형성하는 것이 바람직하다.The discharge means may be formed separately from the wafer presence sensor 30 formed at the center of the upper surface of the wafer stage. However, since the position of the wafer presence sensor 30 is the center of the wafer, the discharge means is formed at this position. It is preferable to be formed so as to be integrated with the wafer presence sensor 30 in view of good discharge of the charge formed in the structure and simplifying the structure of the entire wafer stage.
이러한 방전수단이 형성된 웨이퍼 유무 센서(30)는, 도 5 에 도시한 바와 같이, 웨이퍼의 하면 중앙부와 접촉하는 접지선(30a)과, 상기 접지선(30a)을 둘러싸며 형성된 비전도성 수지봉(30b)과, 상기 접지선(30a) 및 비전도성 수지봉(30b)의 하부에 부착되어 웨이퍼의 유무를 센싱함과 아울러 접지를 행하는 접지 및 센서겸용판(30c)을 포함하여 구성되게 되는데, 종래의 웨이퍼 유무 센서(3)의 경우 웨이퍼의 중앙하부와 비전도성 수지봉(3a)으로만 접촉되도록 되어있던데 반해 본 고안의 경우에는 비전도성 수지봉(30b)의 중앙에 접지선(30a)을 형성하여 이 접지선(30a)이 웨이퍼의 중앙하부와 접촉하여 전하를 방전할 수 있도록 되어 있다.As shown in FIG. 5, the wafer presence sensor 30 having the discharge means includes a ground line 30a contacting the center of the lower surface of the wafer and a non-conductive resin rod 30b formed surrounding the ground line 30a. And, attached to the lower portion of the ground wire (30a) and the non-conductive resin rod (30b) is configured to include a ground and sensor combined plate (30c) for sensing the presence of the wafer as well as grounding, there is a conventional wafer In the case of the sensor 3, the bottom of the wafer and only the non-conductive resin rod 3a are in contact with each other. In the present invention, the ground wire 30a is formed in the center of the non-conductive resin rod 30b. 30a) is in contact with the lower center of the wafer to discharge the charge.
상기 도 4 에서 미도시된 부호는 종래의 것과 동일한 것을 나타낸다.The not shown in FIG. 4 represents the same as the conventional one.
상기한 바와 같은 구조로 되는 방전수단을 구비한 본 고안에 의한 웨이퍼 검사용 전자현미경의 웨이퍼 스테이지는 접지 및 고정핀을 통해 웨이퍼의 가장자리에서 방전이 일어나도록 하는 것은 물론, 상기 방전수단 내지 접지선이 형성된 웨이퍼 유무 센서를 통해 웨이퍼의 중앙부에 대전된 전하도 방전되도록 함에 의해 전자현미경에서 얻어지는 영상을 선명하고 초점이 뚜렷하게 하여 정확한 검사가 이루어질 수 있도록 하는 효과가 있다.The wafer stage of the wafer inspection electron microscope according to the present invention having the discharge means having the structure as described above, as well as the discharge occurs at the edge of the wafer through the ground and the fixing pins, the discharge means to ground line is formed By discharging the electric charge charged in the center of the wafer through the wafer presence sensor, the image obtained by the electron microscope can be sharply and sharply focused, so that accurate inspection can be performed.
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| KR2019970027301U KR19990013984U (en) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | Wafer stage of electron microscope for wafer inspection |
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| KR19990013984U true KR19990013984U (en) | 1999-04-26 |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030006492A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | 구정회 | Methodology of Organic sample inspection Using Charge Reduction Tool in SEM |
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1997
- 1997-09-30 KR KR2019970027301U patent/KR19990013984U/en not_active Application Discontinuation
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| KR20030006492A (en) * | 2001-07-13 | 2003-01-23 | 구정회 | Methodology of Organic sample inspection Using Charge Reduction Tool in SEM |
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