KR19990011406A

KR19990011406A - Gas transmission pipe

Info

Publication number: KR19990011406A
Application number: KR1019970034497A
Authority: KR
Inventors: 김한성; 오원석; 박형욱; 오재영
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 1997-07-23
Filing date: 1997-07-23
Publication date: 1999-02-18

Abstract

본 발명은 웨이퍼 조립 공정에 사용되는 가스 전송관에 관한 것으로서, 가스 전송관은 외주면에 절연층이 형성된 것을 특징으로 하는 가스 전송관이며, 바람직하게는 웨이퍼 가공실과 기계적으로 결합되어 진공을 인가함에 이용됨으로써, 아크 방전의 발생을 없애 장치의 수명을 연장하여 원가를 절감하고, 가스 누출로 인한 공정 불량을 방지하는 효과가 있다.The present invention relates to a gas transmission tube used in a wafer assembly process, wherein the gas transmission tube is a gas transmission tube characterized in that an insulating layer is formed on an outer circumferential surface thereof, and is preferably used to mechanically couple a wafer processing chamber to apply a vacuum. By doing so, it is possible to reduce the cost by extending the life of the device by eliminating the generation of arc discharge, and to prevent the process failure due to gas leakage.

Description

Gas transmission pipe

본 발명은 웨이퍼 조립 공정에서 사용되는 가스 공급관에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가스의 누출의 발생을 막기 위한 가스 공급관에 관한 것이다.The present invention relates to a gas supply pipe used in a wafer assembling process, and more particularly to a gas supply pipe for preventing the leakage of gas.

웨이퍼 조립 공정은 크게 산화 공정, 확산 공정, 이온주입 공정, 화학기상증착 공정, 사진식각 공정, 금속 공정, 및 시험 공정으로 분류될 수 있다. 집적회로를 형성하기 위한 대부분의 공정은 신뢰성의 확보를 위하여 진공 상태에서 작업이 이루어진다. 따라서, 웨이퍼 조립 공정에 사용되는 설비에는 진공을 인가하거나 가스를 배출하기 위하여 진공 장치를 구비하고 있다. 진공 장치와 작업이 진행되는 웨이퍼 공정실(wafer process chamber)과의 연결은 가스 공급관이 이용된다. 현재 사용중인 웨이퍼 조립 장비에 있어서 웨이퍼 공정실에 가스를 주입시켜주는 가스 전송관의 재질은 모두가 스테인래스스틸로 제작된다.The wafer assembly process can be broadly classified into an oxidation process, a diffusion process, an ion implantation process, a chemical vapor deposition process, a photolithography process, a metal process, and a test process. Most of the processes for forming integrated circuits work in a vacuum to ensure reliability. Therefore, the apparatus used for a wafer assembly process is equipped with the vacuum apparatus for applying a vacuum or discharging a gas. The gas supply pipe is used for the connection between the vacuum apparatus and the wafer process chamber where the operation is performed. In the current wafer assembly equipment, all materials of the gas transfer pipe that inject gas into the wafer processing chamber are made of stainless steel.

도 1은 종래의 웨이퍼 조립 장비에 사용되는 가스 전송관을 나타낸 절개 사시도이다.1 is a cutaway perspective view showing a gas transmission tube used in a conventional wafer assembly equipment.

도 1을 참조하면, 이 가스 전송관(30)은 일측이 웨이퍼 가공실과 연결되고, 타측이 벨로우즈 가스관(34)과 연결되는 것으로서, 가스 공급관(30)의 재질은 스테인레스스틸로 이루어지며, 관 또는 케이블의 형태를 갖고 있다. 가스 전송관(30)의 일측에는 다른 부분과 연결할 때, 가스의 누출을 막도록 단단히 조여주는 고정 너트(33)가 결합되어 있다.Referring to FIG. 1, the gas transmission pipe 30 has one side connected to a wafer processing chamber and the other side connected to a bellows gas pipe 34, and the material of the gas supply pipe 30 is made of stainless steel. It has the form of a cable. One side of the gas transmission pipe 30 is coupled to the fixing nut 33 for tightly tightening to prevent the leakage of gas when connected to the other part.

그런데, 이러한 구조의 가스 전송관이 RF(radio frequency)용 케이블에 가까이 위치하거나 접촉하였을 경우에 케이블에 흐르는 전기로 인하여 가스 전송관과 케이블 사이에 아아크 방전이 발생되어 가스 전송관에 구멍이 생길 수 있다. 이렇게 가스 전송관에 구멍은 가스의 누출로 이어지게 된다. 웨이퍼 조립 공정에서 고진공을 인가하는 것이 작업 환경을 만들어주기 위한 가장 기본적인 조건의 하나이기 때문에, 이러한 가스 누출은 공정의 정상적인 진행에 영향을 미칠 수 있다. 정상적인 조건하에서 작업이 이루어지면 공정 불량을 유발시켜 불량 제품을 제조하게 된다. 그에 따라 원가 상승을 초래할 뿐만 아니라 부품 손실에 따른 교체에 소모되는 작업자의 노고와 시간 손실, 및 설비 가동율이 저하된다.However, when a gas transmission tube having such a structure is located near or in contact with a radio frequency (RF) cable, arc discharge may occur between the gas transmission tube and the cable due to electricity flowing through the cable, and thus a hole may be formed in the gas transmission tube. have. Thus, the hole in the gas transmission pipe leads to the leakage of gas. Since applying high vacuum in the wafer assembly process is one of the most basic conditions for creating a working environment, these gas leaks can affect the normal progress of the process. If the work is done under normal conditions, the process will be inferior and manufacture the defective product. This not only leads to an increase in costs, but also reduces labor, time lost, and facility utilization rate of workers consumed in replacement due to component loss.

따라서 본 발명의 목적은 웨이퍼 조립 공정에 사용되는 가스 전송관의 손상을 방지하여 가스 전송관으로부터의 가스의 누출을 방지하는 가스 전송관을 제공하는 데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a gas transmission tube which prevents the gas transmission tube from leaking by preventing damage to the gas transmission tube used in the wafer assembly process.

도 1은 종래의 웨이퍼 조립 장비에 사용되는 가스 전송관을 나타낸 절개 사시도이고,1 is a cutaway perspective view showing a gas transmission tube used in a conventional wafer assembly equipment,

도 2는 본 발명에 의한 가스 전송관의 절개 사시도이다.2 is a cutaway perspective view of a gas transmission tube according to the present invention.

* 도면의 부호에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for symbols in the drawings

10,30 : 가스 전송관 11 : 내층10,30: gas transmission pipe 11: the inner layer

12 : 절연층 13,33 : 고정 너트12: insulation layer 13,33: fixing nut

14,34 : 벨로우즈 가스관14,34: bellows gas pipe

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 가스 전송관은 웨이퍼 조립 공정에 사용되는 가스 전송관으로서, 가스 전송관은 외주면에 절연층이 형성된 것을 특징으로 한다. 바람직하게는 가스 전송관이 웨이퍼 가공실과 기계적으로 결합되어 진공을 인가함을 특징으로 한다.Gas transmission tube according to the present invention for achieving the above object is a gas transmission tube used in the wafer assembly process, the gas transmission tube is characterized in that the insulating layer is formed on the outer peripheral surface. Preferably, the gas transfer tube is mechanically coupled to the wafer processing chamber to apply a vacuum.

이하 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 가스 전송관을 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, a gas transmission tube according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2를 참조하면, 본 발명에 의한 가스 전송관(10)은 스테인레스 스틸의 내층(11)과 절연층(12)의 2개의 층으로 이루어져 있으며, 내부에 형성된 공간(15)을 통하여 가스가 공급 또는 배출된다. 내층(11)의 외주면에 절연재로 코팅이 되어 형성된 절연층(12)은 내층(11)을 외부로부터 전기적으로 차폐한다. 가스 전송관(10)의 일측에는 앞에서 언급한 고정 너트(13)가 결합되어 있고, 타측에 벨로우즈 가스관(14)이 결합되어 있다.Referring to FIG. 2, the gas transmission pipe 10 according to the present invention is composed of two layers of an inner layer 11 and an insulating layer 12 of stainless steel, and gas is supplied through a space 15 formed therein. Or discharged. The insulating layer 12 formed by coating with an insulating material on the outer circumferential surface of the inner layer 11 electrically shields the inner layer 11 from the outside. One side of the gas transmission pipe 10 is coupled to the above-mentioned fixing nut 13, the other side of the bellows gas pipe 14 is coupled.

웨이퍼 조립 공정의 진행을 위한 작업 환경인 진공 상태를 인가하기 위하여 사용되는 가스 전송관이 이웃하는 RF케이블과 가까운 거리에 있는 것뿐만아니라 접촉이 되더라도 아크 방전이 발생되기 어렵다. 웨이퍼 가공실과 기계적으로 결합되는 가스 전송관을 본 발명과 같은 구조를 갖게 하면 효과를 볼 수 있다.Not only is the gas transmission tube used to apply the vacuum state, which is a working environment for the progress of the wafer assembly process, is close to the neighboring RF cable but also the arc discharge is hardly generated even if it comes into contact. If the gas transmission tube mechanically coupled to the wafer processing chamber has the same structure as the present invention, the effect can be obtained.

따라서 본 발명에 의한 구조에 따르면, 가스 공급관에 절연 코팅된 가스 전송관을 사용함으로써 RF케이블과의 접촉에도 아크 방전의 발생을 없애 장치의 수명을 연장하여 원가를 절감하고, 가스 누출로 인한 공정 불량을 방지할 수 있는 이점(利點)이 있다.Therefore, according to the structure according to the present invention, by using the gas transmission tube insulated coated on the gas supply pipe to eliminate the occurrence of arc discharge even in contact with the RF cable to extend the life of the device to reduce the cost, process failure due to gas leakage There is an advantage that can prevent (利點).

Claims

As a gas transfer tube used in the wafer assembly process,

The gas transmission pipe is a gas transmission pipe, characterized in that the insulating layer is formed on the outer peripheral surface.

The gas transfer pipe of claim 1, wherein the gas transfer pipe is mechanically coupled to a wafer processing chamber to discharge gas.