KR19980077351A - Plasma Display Device And Method Of Manufacturing The Same - Google Patents

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KR19980077351A
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    • H01J11/44Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means

Abstract

본 발명에 따르면, 제 1 및 제 2 기판 부재와; 상기 제 1 및 제 2 기판 부재의 대향하는 내측면에 상호 직각으로 교차하는 방향으로 각각 형성된 제 1 전극 및 제 2 전극과; 상기 제 1 기판상에 적층된 유전층과; 상기 제 2 기판상에 다수의 셀을 형성하도록 적층된 격벽 부재와; 상기 격벽 부재의 내측에 도포된 형광체와; 상기 다수의 셀내에 충전된 불활성 개스;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 상기 형광체로부터 발광되는 빛이 통과하는 유전층의 표면은 소정의 곡률을 가지는 만곡면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 장치에서는 휘도가 향상되고 색의 간섭이 방지된다.According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: first and second substrate members; First and second electrodes respectively formed in directions crossing at right angles to opposite inner surfaces of the first and second substrate members; A dielectric layer stacked on the first substrate; A partition member stacked to form a plurality of cells on the second substrate; A phosphor coated on the inside of the partition member; And an inert gas charged in the plurality of cells, wherein the surface of the dielectric layer through which light emitted from the phosphor passes is formed with a curved surface having a predetermined curvature. The manufacturing method is provided. In the apparatus of the present invention, luminance is improved and color interference is prevented.

Description

플라즈마 디스플레이 장치 및 그것의 제조 방법Plasma Display Device And Method Of Manufacturing The Same

본 발명은 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 곡면화된 투명 유전체층을 구비함으로써 형광체의 발광이 집속될 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a plasma display device and a method of manufacturing the same, which include condensed transparent dielectric layers and which emit light of a phosphor.

통상적으로 플라즈마 디스플레이 장치는 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT를 대체할 수 있는 패널로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 장치는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.In general, a plasma display device is used to display an image using a gas discharge phenomenon, and is excellent in various display capacities such as display capacity, brightness, contrast, afterimage, viewing angle, etc., and has been spotlighted as a panel that can replace CRT. . In such a plasma display device, a discharge is generated in a gas between the electrodes by a direct current or an alternating voltage applied to the electrode, and the phosphor emits light by exciting the phosphor by radiation of ultraviolet rays.

따라서 플라즈마 디스플레이 장치는 방전 메카니즘에 의하여 교류형(AC형)과 직류형(DC형)으로 양분될 수 있다. 직류형이란 플라즈마 표시 패널을 구성하는 각 전극들이 방전셀에 봉입되는 가스층에 직접적으로 노출되어 그에 인가되는 전압이 그대로 방전 가스층에 인가되는 것이고, 교류형이란 각 전극들이 방전 가스층과 유전체층에 의하여 분리되어 방전 현상시 발생되는 하전입자들을 상기 전극들이 흡수하지 않고 벽전하를 형상하게 되며, 이와 같은 벽전하를 이용하여 다음 방전을 일으키는 것이다.Therefore, the plasma display apparatus can be divided into AC type (AC type) and DC type (DC type) by the discharge mechanism. In the DC type, each electrode constituting the plasma display panel is directly exposed to the gas layer encapsulated in the discharge cell, and the voltage applied thereto is applied to the discharge gas layer as it is. In the AC type, each electrode is separated by the discharge gas layer and the dielectric layer. The charged particles generated during the discharge phenomenon are not absorbed by the electrodes to form wall charges, and the next discharge is generated by using such wall charges.

도 1에는 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 구조에 대한 개략적인 분해 사시도가 도시되어 있으며, 이것은 교류형 플라즈마 디스플레이 장치에 대한 것이다.FIG. 1 is a schematic exploded perspective view of the structure of a general plasma display device, which is for the AC plasma display device.

도면을 참조하면, 전면 유리 기판(11)과 배면 유리 기판(12) 사이에 투명한 제 1 전극(13a)과 제 2 전극(13b)이 형성된다. 제 1 전극(13a)과 제 2 전극(13b)은 전면 유리 기판(11) 및 배면 유리 기판(12)의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되며, 기판(11,12)이 상호 조립되었을 때 상호 직각으로 교차하게 된다. 전면 유리 기판(11)의 내측면에는 유전층(14)과 보호층(15)이 차례로 적층된다. 도면에 도시되어 있지 않으나, 보호층(15)의 내측면에는 선택적으로 블랙 매트릭스가 형성될 수 있으며, 이러한 블랙 매트릭스는 각각의 화소로부터 형성되는 빛의 상호 간섭을 방지하는 기능을 가진다.Referring to the drawings, a transparent first electrode 13a and a second electrode 13b are formed between the front glass substrate 11 and the back glass substrate 12. The first electrode 13a and the second electrode 13b are formed in a stripe shape on the inner surfaces of the front glass substrate 11 and the back glass substrate 12, respectively, when the substrates 11 and 12 are assembled to each other. Cross at right angles. The dielectric layer 14 and the protective layer 15 are sequentially stacked on the inner surface of the front glass substrate 11. Although not shown in the drawings, a black matrix may be selectively formed on the inner surface of the protective layer 15, and the black matrix has a function of preventing mutual interference of light formed from each pixel.

한편, 배면 유리 기판(12)에는 격벽(17)이 형성되며, 격벽(17)에 의해 셀(19)이 형성된다. 셀(19)내에는 아르곤과 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 각각의 셀(19)을 형성하는 격벽(17)의 내측에는 소정 부위에 형광체(18)가 도포된다.On the other hand, the partition wall 17 is formed in the back glass substrate 12, and the cell 19 is formed by the partition wall 17. As shown in FIG. The cell 19 is filled with an inert gas such as argon. In addition, the phosphor 18 is applied to a predetermined portion inside the partition wall 17 forming each cell 19.

위와 같은 구성을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 작동을 개략적으로 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the plasma display device having the configuration described above as follows.

우선 전극(13a,13b)의 방전을 일으키려면 소위 트리거 전압(trigger voltage)이라 불리우는 고전압이 인가되어야 한다. 트리거 전압에 의해 유전층(14)에 양이온이 축전되면 방전이 발생하게 된다. 트리거 전압이 쓰레숄드 전압(threshold voltage)을 넘어서면 셀(19)내에 충전된 아르곤 개스등은 방전에 의해 플라즈마 상태가 되며, 전극(13a,13b) 사이에서 안정적인 방전 상태를 유지할 수 있다. 안정된 방전 상태에서는 방전광중에서 자외선 영역의 광들이 형광체(18)에 충돌하여 발광하게 되며, 그에 따라서 셀(19)별로 형성되는 각각의 화소는 화상을 디스플레이할 수 있게 한다.First, in order to cause discharge of the electrodes 13a and 13b, a high voltage called a trigger voltage must be applied. Discharge occurs when cations are stored in the dielectric layer 14 by the trigger voltage. When the trigger voltage exceeds the threshold voltage, the argon gas or the like charged in the cell 19 becomes a plasma state by discharge, and can maintain a stable discharge state between the electrodes 13a and 13b. In the stable discharge state, the light in the ultraviolet region collides with the phosphor 18 in the discharge light to emit light, so that each pixel formed for each cell 19 can display an image.

위와 같은 구조를 가지는 플라즈마 디스플레이 장치에서는 발광되는 빛의 일부만을 이용할 수 있으며, 따라서 휘도 효율이 저하되는 문제점이 있다. 이러한 현상은 여러 가지 원인에 기인한 것이지만, 많은 원인들중의 하나는 형광체로부터 발광되는 빛의 입사가 방사형으로 이루어지며 그에 따라 빛이 산란되기 때문이다.In the plasma display apparatus having the above structure, only a part of the light emitted may be used, and thus there is a problem that the luminance efficiency is lowered. This phenomenon is due to various causes, but one of many causes is that the incident light emitted from the phosphor is radial and the light is scattered accordingly.

도 2 및 도 3은 도 1에 도시된 플라즈마 디스플레이 장치를 조립된 상태에서 선 II-II 및 선 III-III 을 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도이다.2 and 3 are cross-sectional views illustrating some of the cross sections taken along the lines II-II and III-III in the assembled state of the plasma display device shown in FIG. 1.

도 2를 참조하면, 도면에서 P 로 표시된 지점으로부터 화살표 방향을 따라 방사상으로 이루어지기 때문에, 빛의 입사 경로가 격벽(17)에 의해서 차단되며, 또한 도 3을 참조하면 P 지점으로부터 입사되는 빛의 경로는 전극(13a)에 의해 차단된다. 즉, 플라즈마 방전에 의해 발생되는 광량의 일부만이 유전층(14)과 전면 유리 기판(11)을 통과하여 화상 형성에 기여하는 것이다. 또한 유전층(14)과 전면 유리 기판(11)을 통과한 빛이라 할지라도 그 경로는 인접한 셀(19)로부터 발생한 빛의 경로와 상호 간섭되는 방향으로 입사하므로, 색의 혼합 현상을 회피할 수 없다. 물론 빛의 간섭을 방지할 수 있도록 선택적으로 블랙 매트릭스가 형성될 수도 있으나, 빛의 경로에 따른 색의 혼합 현상을 근본적으로 방지하기에는 곤란하다는 문제점이 있다.Referring to FIG. 2, since the radiation is made radially along the direction of the arrow from the point marked P in the drawing, the incident path of light is blocked by the partition wall 17, and also referring to FIG. The path is blocked by the electrode 13a. That is, only a part of the amount of light generated by the plasma discharge passes through the dielectric layer 14 and the front glass substrate 11 to contribute to image formation. In addition, even though the light passes through the dielectric layer 14 and the front glass substrate 11, the path is incident in a direction that mutually interferes with the path of the light generated from the adjacent cell 19, so color mixing cannot be avoided. . Of course, the black matrix may be selectively formed to prevent the interference of light, but there is a problem that it is difficult to fundamentally prevent the mixing of colors along the light path.

본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 휘도를 향상시키고 빛의 간섭을 방지할 수 있는 플라즈마 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a plasma display device that can improve the brightness and prevent light interference.

본 발명의 다른 목적은 셀내에서 발생된 빛을 집속시킬 수 있도록 곡면화된 표면을 가진 유전층을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a plasma display device having a dielectric layer having a curved surface to focus light generated in a cell.

본 발명의 다른 목적은 곡면화된 유전층을 구비한 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a plasma display device having a curved dielectric layer.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 장치의 개략적인 분해 사시도.1 is a schematic exploded perspective view of a typical plasma display device.

도 2는 도 1의 플라즈마 디스플레이 장치를 조립한 상태에서 선 II-II를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도.FIG. 2 is a cross-sectional view showing a part of a cross section taken along the line II-II in the assembled state of the plasma display device of FIG. 1; FIG.

도 3은 도 1의 플라즈마 디스플레이 장치를 조립한 상태에서 선III-III를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view showing a part of a cross section taken along line III-III in the assembled state of the plasma display device of FIG. 1;

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 구성된 플라즈마 디스플레이 장치를 도 1의 선 II-II를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도.4 is a cross-sectional view showing a portion of a cross section taken along the line II-II of FIG. 1, according to an embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따라 구성된 플라즈마 디스플레이 장치를 도 1의 선 III-III를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도.FIG. 5 is a cross-sectional view showing a portion of a cross section taken along line III-III of FIG. 1 of a plasma display device constructed in accordance with another embodiment of the present invention;

도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일 실시예에 따라서 플라즈마 디스플레이 장치를 제조하는 방법을 개시하는 설명도.6A-6C are explanatory views illustrating a method of manufacturing a plasma display device according to an embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 따라서 플라즈마 디스플레이 장치를 제조하는 방법을 개시하는 설명도.7A to 7C are explanatory diagrams illustrating a method of manufacturing a plasma display device according to another embodiment of the present invention.

도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명Brief description of the main symbols in the drawings

11.12.41.42. 기판 13a,13b,43a,43b. 전극11.12.41.42. Substrates 13a, 13b, 43a, 43b. electrode

14.44. 유전층 15.45. 보호층.14.44. Dielectric layer 15.45. Protective layer.

17.47. 격벽 18.48. 형광체17.47. Bulkhead 18.48. Phosphor

19.49. 셀 61.71. 기판19.49. Cell 61.71. Board

63.73. 전극 62.64. 유전체 페이스트층63.73. Electrode 62.64. Dielectric paste layer

72. 유전체 페이스트층 75. 연마 방지용 마스크72. Dielectric paste layer 75. Anti-polishing mask

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따르면, 제 1 및 제 2 기판 부재와; 상기 제 1 및 제 2 기판 부재의 대향하는 내측면에 상호 직각으로 교차하는 방향으로 각각 형성된 제 1 전극 및 제 2 전극과; 상기 제 1 기판상에 적층된 유전층과; 상기 제 2 기판상에 다수의 셀을 형성하도록 적층된 격벽 부재와; 상기 격벽 부재의 내측에 도포된 형광체와; 상기 다수의 셀내에 충전된 불활성 개스;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서, 상기 형광체로부터 발광되는 빛이 통과하는 유전층의 표면은 소정의 곡률을 가지는 만곡면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치가 제공된다.In order to achieve the above object, according to the invention, the first and second substrate members; First and second electrodes respectively formed in directions crossing at right angles to opposite inner surfaces of the first and second substrate members; A dielectric layer stacked on the first substrate; A partition member stacked to form a plurality of cells on the second substrate; A phosphor coated on the inside of the partition member; A plasma display device comprising: an inert gas charged in the plurality of cells, wherein the surface of the dielectric layer through which light emitted from the phosphor passes is formed as a curved surface having a predetermined curvature. Is provided.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 유전층의 만곡면을 통해 굴절되는 빛은 평행광으로 집속된다.According to one feature of the invention, the light refracted through the curved surface of the dielectric layer is focused into parallel light.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 유전층의 만곡면은 상기 다수의 셀내에서 상기 격벽의 길이 방향과 동일한 방향으로 그에 평행하게 연장된다.According to another feature of the invention, the curved surface of the dielectric layer extends parallel to it in the same direction as the longitudinal direction of the partition wall in the plurality of cells.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 유전층의 만곡면은 상기 다수의 셀내에서 격벽의 길이 방향에 대하여 직각의 방향으로 연장된다.According to another feature of the invention, the curved surface of the dielectric layer extends in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall in the plurality of cells.

또한 본 발명에 따르면, 제 1 전극이 형성된 기판 부재의 일측 표면에 소정 패턴의 마스크를 배치하고 유전체 페이스트를 도포하여 소정 패턴의 유전체 페이스트층을 형성하는 단계, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트층이 형성된 기판 부재 표면의 전체 면적에 걸쳐서 유전체 페이스트를 도포하는 단계 및, 상기 유전체 페이스트층의 표면이 유동할 수 있도록 상기 유전체 페이스트 층을 소성시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법이 제공된다.Further, according to the present invention, by placing a mask of a predetermined pattern on one surface of the substrate member on which the first electrode is formed and applying a dielectric paste to form a dielectric paste layer of a predetermined pattern, the substrate on which the dielectric paste layer of the predetermined pattern is formed A method of manufacturing a plasma display device is provided that includes applying a dielectric paste over the entire area of a member surface and firing the dielectric paste layer so that the surface of the dielectric paste layer can flow.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트 층을 형성하는 단계는 소정 두께에 도달할때까지 페이스트의 도포 및 건조가 반복된다.According to another feature of the invention, the step of forming the dielectric paste layer of the predetermined pattern is repeated application and drying of the paste until the predetermined thickness is reached.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트 층이 형성되는 부위는 완성된 플라즈마 디스플레이 장치에서 셀의 위치에 대응된다.According to another feature of the invention, the portion where the dielectric paste layer of the predetermined pattern is formed corresponds to the position of the cell in the completed plasma display device.

또한 본 발명에 따르면, 제 1 전극이 형성된 기판 부재의 일측 표면에 균일한 두께의 유전체 페이스트 층을 형성하고 그 위에 소정 패턴의 연마 방지용 마스크 부재를 배치하는 단계, 상기 유전체 페이스트층의 표면에 연마 입자를 분사함으로써 연마 방지용 마스크 부재로 차폐되지 아니한 부위의 유전체 페이스트층의 두께를 감소시키는 단계 및, 상기 유전체 페이스트 층의 표면이 유동할 수 있도록 상기 유전체 페이스트 층을 소성시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법이 제공된다.Further, according to the present invention, forming a dielectric paste layer having a uniform thickness on one surface of the substrate member on which the first electrode is formed and disposing a mask pattern for preventing polishing of a predetermined pattern thereon, the abrasive particles on the surface of the dielectric paste layer Reducing the thickness of the dielectric paste layer in a portion not shielded by the anti-polishing mask member by spraying a; and firing the dielectric paste layer so that the surface of the dielectric paste layer can flow. A manufacturing method is provided.

본 발명의 일 특징에 따르면, 상기 연마 방지용 마스크 부재에 의해 차폐되는 부위는 완성된 플라즈마 디스플레이 장치에서 셀의 위치에 대응된다.According to one feature of the invention, the portion shielded by the anti-polishing mask member corresponds to the position of the cell in the completed plasma display device.

이하 본 발명을 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to an embodiment shown in the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따라 구성된 플라즈마 디스플레이 장치를 도 1의 선 II-II를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a part of a cross section taken along the line II-II of FIG. 1 according to the present invention.

도면을 참조하면, 플라즈마 디스플레이 장치(40)의 전체적인 구성은 도 1에 도시된 것과 유사하다. 즉, 전면 유리 기판(41)과 배면 유리 기판(42) 사이에는 제 1 전극(43a)과 제 2 전극(43b)이 스트라이프 형상으로 상호 직각으로 교차되게끔 형성된다. 전면 유리 기판(42)의 상부에는 유전층(44)과 보호층(45)이 차례로 적층된다. 선택적으로는, 보호층(45)의 상부에 도시되지 아니한 블랙 매트릭스가 형성될 수 있다. 배면 유리 기판(42)에는 격벽(47)과 셀(49)이 형성되며, 셀(49)내에는 아르곤과 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 격벽(47)의 내측에는 소정 부위에 형광체(48)가 도포된다.Referring to the drawings, the overall configuration of the plasma display device 40 is similar to that shown in FIG. That is, the first electrode 43a and the second electrode 43b are formed to cross each other at right angles in a stripe shape between the front glass substrate 41 and the rear glass substrate 42. The dielectric layer 44 and the protective layer 45 are sequentially stacked on the top glass substrate 42. Alternatively, a black matrix, not shown, may be formed on top of the protective layer 45. A partition wall 47 and a cell 49 are formed in the rear glass substrate 42, and an inert gas such as argon is filled in the cell 49. In addition, the phosphor 48 is applied to a predetermined portion inside the partition 47.

본 발명의 특징에 따르면, 각각의 셀(49)내에 도포된 형광체(48)로부터 발생하는 빛이 통과하는 유전층(44)의 표면(도면 번호 44a 로 지시됨)은 소정의 곡률을 가지는 만곡면으로 형성된다. 도 4에서 각각의 셀(49)은 양측면의 격벽(47)들과, 상부의 유전층(44) 및 보호층(45)과, 하부의 형광체(48) 사이에 형성되어 있다. 만곡면(44a)은 상기 셀(47)의 상부를 형성하는 유전층(44)을 변형시킴으로써 형성된다. 즉, 만곡면(44a)은 유전층(44)을 셀(47)의 내측을 향해 볼록하게 변형시킴으로써 형성되며, 이것은 격벽(47)의 길이 방향으로 그것과 평행하게 연장된다. 유전층(44)의 만곡면(44a)은 일종의 집속 렌즈의 기능을 가지며, 따라서 만곡면(44a)을 통해서 전면 유리 기판(41)의 외부로 방출되는 빛은 그 경로가 평행한 평행광의 형태를 가질 수 있다. 즉, 도 4에서 도면 부호 P'로 표시된 지점에서 발광된 빛은 화살표 A 로 지시된 방사상으로 입사되지만, 일단 유전층(44)의 만곡면(44a)을 통과할때는 굴절되며, 그에 따라 A' 의 방향으로 입사되는 것이다. 따라서 도 4의 격벽(47)의해 입사 경로가 차단당하는 빛의 양이 감소될 수 있으며, 인접한 다른 셀의 화소로부터 발생한 빛과의 간섭도 배제될 수 있다.According to a feature of the invention, the surface of dielectric layer 44 (indicated by reference numeral 44a) through which light generated from phosphor 48 applied in each cell 49 passes is a curved surface having a predetermined curvature. Is formed. In FIG. 4, each cell 49 is formed between partition walls 47 on both sides, an upper dielectric layer 44 and a protective layer 45, and a lower phosphor 48. Curved surface 44a is formed by modifying dielectric layer 44 forming the top of cell 47. That is, the curved surface 44a is formed by convexly deforming the dielectric layer 44 toward the inside of the cell 47, which extends parallel to it in the longitudinal direction of the partition wall 47. The curved surface 44a of the dielectric layer 44 has a function of a kind of focusing lens, and thus light emitted to the outside of the front glass substrate 41 through the curved surface 44a has a form of parallel light whose path is parallel. Can be. That is, the light emitted at the point denoted by P 'in FIG. 4 is incident radially as indicated by the arrow A, but is refracted once passing through the curved surface 44a of the dielectric layer 44, thus the direction of A'. It is incident to. Accordingly, the amount of light blocked by the incident path by the partition wall 47 of FIG. 4 may be reduced, and interference with light generated from pixels of other adjacent cells may be excluded.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따라 구성된 플라즈마 디스플레이 장치를 도 1의 선 III-III 를 따라 절단한 단면중 일부를 도시한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a portion of a cross section taken along line III-III of FIG. 1 according to another embodiment of the present invention.

도 5에 도시된 실시예는 도 4의 실시예와 유사하지만, 유전층(44)에 형성된 만곡면(54a)이 격벽(47)의 길이 방향과 직각으로 형성된다는 점에서 상이하다. 환언하면, 유전층(44)을 볼록하게 형성함으로써 형성되는 만곡면(54a)은 제 1 전극(43a)의 길이 방향과 동일한 방향으로 연장되다. 도 5의 실시예에서 도면 부호 P'로 표시된 지점에서 발광된 빛은 화살표 A 로 지시된 방사상으로 입사되지만, 일단 유전층(44)의 만곡면(54a)을 통과할때는 굴절되며, 그에 따라 A' 의 방향으로 입사되는 것이다. 이때 제 1 전극(43a)에 의해 입사 경로가 차단당하거나 분산되는 빛이 감소될 수 있다.The embodiment shown in FIG. 5 is similar to the embodiment of FIG. 4, but differs in that the curved surface 54a formed in the dielectric layer 44 is formed perpendicular to the longitudinal direction of the partition wall 47. In other words, the curved surface 54a formed by forming the dielectric layer 44 convex extends in the same direction as the longitudinal direction of the first electrode 43a. In the embodiment of FIG. 5 the light emitted at the point indicated by the reference P 'is incident radially as indicated by the arrow A, but is refracted once it passes through the curved surface 54a of the dielectric layer 44 and thus of A'. Incident in the direction. In this case, light in which the incident path is blocked or dispersed by the first electrode 43a may be reduced.

도 6a 내지 도 6c 에는 만곡된 유전층 표면을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법이 개략적으로 도시되어 있다.6A to 6C schematically illustrate a method of manufacturing a plasma display device having a curved dielectric layer surface.

도 6a를 참조하면, 제 1 전극(63)이 형성된 전면 유리 기판(61)이 마련되어 있다. 투명한 제 1 전극(63)은 종래 기술에 따라 형성될 수 있다. 종래 기술에 따른 제 1 전극(63)의 형성을 일예로서 간단히 설명하면 다음과 같다. ITO 성막을 전면 유리 기판(61)에 형성하고, 그 위에 포토레지스트 층을 적층시킨다. 다음에 마스크를 이용하여 포토레지스트 층을 노광하고 현상함으로써, 경화된 소정 패턴의 포토레지스트만을 잔류시킨다. 소정 패턴의 포토레지스트를 상부 표면에 가지고 있는 ITO 성막을 에칭을 통해 식각하면, 포토 레지스트 패턴 하부의 ITO 층만이 잔류하고 다른 부분은 제거된다. 잔류한 ITO 성막은 전면 유리 기판(61)의 상부 표면에 도 3a에 도시된 소정 패턴의 제 1 전극(63)에 해당하며, 경화된 소정 패턴의 포토레지스트를 제거함으로써 완성된다.Referring to FIG. 6A, the front glass substrate 61 on which the first electrode 63 is formed is provided. The transparent first electrode 63 can be formed according to the prior art. The formation of the first electrode 63 according to the prior art will be briefly described as an example. ITO film-forming is formed on the front glass substrate 61, and a photoresist layer is laminated on it. Next, by exposing and developing the photoresist layer using a mask, only the photoresist of the cured predetermined pattern is left. When the ITO film formation having the photoresist of the predetermined pattern on the upper surface is etched through etching, only the ITO layer under the photoresist pattern remains and other portions are removed. The remaining ITO film formation corresponds to the first electrode 63 of the predetermined pattern shown in FIG. 3A on the upper surface of the front glass substrate 61, and is completed by removing the cured predetermined pattern of photoresist.

위와 같은 제 1 전극(63)을 가진 유리 기판(61)에 소정 패턴을 가지는 마스크를 이용하여 소정 두께의 유전체 페이스트층(62)을 특정 부위에 형성한다. 유전체 페이스트층(62)은 최종 완성된 유전층에서 특정 부위의 두께를 상대적으로 두껍게 함으로써 유전층 표면을 만곡면으로 형성될 수 있도록 하기 위한 것이다. 유전체 페이스트층(62)의 형성은 소정 패턴의 마스크(미도시)를 유리 기판(61)의 상부에 배치한 상태에서 페이스트를 도포하고 이를 건조시키는 방식으로 진행되며, 소정 두께로 형성될 수 있을때까지 수회 반복된다. 유전체 페이스트층(62)이 형성되는 부위는 도 4 및 도 5에서 만곡면(44a,54a)이 형성되는 부위에 각각 해당한다.A dielectric paste layer 62 having a predetermined thickness is formed on a specific site by using a mask having a predetermined pattern on the glass substrate 61 having the first electrode 63 as described above. The dielectric paste layer 62 is intended to form the curved surface of the dielectric layer by relatively thickening a specific portion of the final dielectric layer. Formation of the dielectric paste layer 62 proceeds by applying a paste in a state where a mask (not shown) of a predetermined pattern is disposed on the glass substrate 61 and drying it, until it can be formed to a predetermined thickness. Repeat several times. The portion where the dielectric paste layer 62 is formed corresponds to the portion where the curved surfaces 44a and 54a are formed in FIGS. 4 and 5, respectively.

도 6b에 도시된 것은 소정 위치에만 유전체 페이스트층(62)이 형성된 유리 기판(61)의 상부 표면 전체에 걸쳐서 다시 유전체 페이스트층(64)이 형성된 것을 도시한다. 즉, 도 6b에서는 마스크를 이용하지 아니하고, 페이스트를 유리 기판(61)의 상부 표면 전체에 도포한다. 도면에서 알 수 있는 바와 같이, 이전의 공정에서 형성된 페이스트층(62)이 있는 부위(도면 부호 65 로 지시됨)에는 유전층(64)의 두께가 다른 부위보다도 두껍게 형성된다.6B shows that the dielectric paste layer 64 is again formed over the entire upper surface of the glass substrate 61 in which the dielectric paste layer 62 is formed only at a predetermined position. That is, in FIG. 6B, the paste is applied to the entire upper surface of the glass substrate 61 without using a mask. As can be seen from the figure, the portion of the paste layer 62 formed in the previous step (indicated by reference numeral 65) is formed to have a thicker thickness of the dielectric layer 64 than other portions.

기판의 전체 면적에 대한 페이스트의 도포가 종료되면 후공정인 건조 및 소성 과정을 통해 도 6c에 도시된 것과 같은 유전층(66)이 형성될 수 있다. 이때 소성 과정에서 가해지는 열은 페이스트의 표면을 용융시키고, 그에 따라 페이스트는 유동성을 가질 수 있다. 이러한 유동성은 유전층(66)의 표면이 도 6c에 도시된 것과 같은 소정의 곡률을 가진 만곡면으로 형성될 수 있게 한다. 유전층(66) 표면에 형성된 만곡면의 곡률은 최초에 형성되는 유전체 페이스트층(62)의 두께를 조절함으로써 조절될 수 있다. 유전층(66) 표면에 형성된 만곡면(67)은 그곳을 통과하는 빛이 평행광으로 집속될 수 있는 곡률을 가진다.When the application of the paste to the entire area of the substrate is finished, the dielectric layer 66 as shown in FIG. 6C may be formed through a subsequent drying and firing process. At this time, the heat applied during the firing process melts the surface of the paste, and thus the paste may have fluidity. This fluidity allows the surface of the dielectric layer 66 to be formed into a curved surface with a predetermined curvature as shown in FIG. 6C. The curvature of the curved surface formed on the surface of the dielectric layer 66 can be adjusted by adjusting the thickness of the dielectric paste layer 62 formed initially. The curved surface 67 formed on the surface of the dielectric layer 66 has a curvature in which light passing therethrough can be focused into parallel light.

도 7a 내지 도 7c에는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법이 도시되어 있다.7A to 7C illustrate a method of manufacturing a plasma display device according to another embodiment of the present invention.

도 7a를 참조하면, 우선 제 1 전극(73)이 마련된 유리 기판(71)의 전면에 유전체 페이스트층(72)을 형성하고, 소정 패턴의 연마 방지용 마스크(75)를 배치한다. 제 1 전극은 도 6a를 참고하여 설명된 방법에 따라 형성될 수 있다. 유전체 페이스트층(72)은 페이스트를 기판(71)의 전면에 균일한 두께로 도포하고, 이를 건조시킴으로써 이루어진다. 연마 방지용 마스크(75)는 이후에 수행될 유전체 페이스트층(72)의 연마를 방지하기 위한 것으로서, 마스크(75)에 의해 차폐되는 유전체 페이스트층(72)의 부위는 도 4 및 도 5의 실시예에서 각각 만곡면(44a,54a)이 형성되는 부위에 해당한다.Referring to FIG. 7A, a dielectric paste layer 72 is first formed on an entire surface of a glass substrate 71 on which a first electrode 73 is provided, and a polishing mask 75 having a predetermined pattern is disposed. The first electrode can be formed according to the method described with reference to FIG. 6A. The dielectric paste layer 72 is formed by applying a paste to the entire surface of the substrate 71 with a uniform thickness and drying it. The anti-polishing mask 75 is for preventing the polishing of the dielectric paste layer 72 to be performed later, and the portions of the dielectric paste layer 72 shielded by the mask 75 are illustrated in the embodiments of FIGS. 4 and 5. Corresponds to the site where curved surfaces 44a and 54a are formed, respectively.

도 7b에는 연마를 통해서 유전체 페이스트층의 일부가 제거된 상태가 도시되어 있다. 적절한 공지의 연마 입자를 유전체 페이스트층(72)의 표면에 분사시키면 마스크(75)로 차폐되지 아니한 유전체 페이스트층(72)의 표면은 그 두께가 감소될 수 있는 반면에, 마스크(75)에 의해 차폐된 유전체 페이스트층(72)의 표면은 해당 부분의 두께가 제거되지 아니하고 최초의 두께를 그대로 유지한다. 연마제는 예를 들면 칼슘카보네이트(CaCo3)이다. 결과적으로 도면 번호 72'로 지시된 유전체 페이스트층이 잔류한다. 즉, 완성된 디스플레이 장치에서 픽셀에 해당하는 부위의 유전체 페이스트층의 두께가 다른 곳보다 두껍게 잔류하는 것이다.7B shows a state in which a part of the dielectric paste layer is removed by polishing. Spraying a suitable known abrasive particle onto the surface of the dielectric paste layer 72 may reduce the thickness of the surface of the dielectric paste layer 72 that is not shielded with the mask 75, while the thickness of the mask 75 may be reduced. The surface of the shielded dielectric paste layer 72 maintains the original thickness without removing the thickness of the portion. The abrasive is, for example, calcium carbonate (CaCo 3 ). As a result, a dielectric paste layer indicated at 72 'remains. That is, the thickness of the dielectric paste layer in the portion corresponding to the pixel in the completed display device remains thicker than in other places.

도 7c에는 완성된 상태의 유전층(76)이 도시되어 있으며, 이것은 도 7b에 도시된 유전체 페이스트층(72')을 소성시킴으로써 형성된다. 소성 과정에서 가해지는 열은 유전체 페이스트층(72')의 표면을 유동시킬 수 있으며, 그에 따라 표면이 소정의 곡률을 가지는 유전층(76)으로 형성되는 것이다. 유전층(76)의 표면은 그를 통과하는 빛을 평행광으로 집속시킬 수 있는 곡률을 가진다.The completed dielectric layer 76 is shown in Fig. 7C, which is formed by firing the dielectric paste layer 72 'shown in Fig. 7B. Heat applied during the firing process may flow the surface of the dielectric paste layer 72 ', and thus the surface is formed of the dielectric layer 76 having a predetermined curvature. The surface of the dielectric layer 76 has a curvature that can focus light passing through it into parallel light.

본 발명에 따른 만곡된 표면의 유전층을 가지는 플라즈마 디스플레이 장치는 빛의 경로가 평행하게 집속될 수 있으므로 휘도가 증가하고, 픽셀 사이의 빛의 간섭이 감소될 수 있다는 장점을 가지며, 그에 따라 화상의 해상도가 증가한다는 장점을 가진다.Plasma display device having a curved surface dielectric layer according to the present invention has the advantage that the brightness of the light path can be focused in parallel, the brightness can be increased, and the interference of light between pixels can be reduced, so that the resolution of the image Has the advantage that increases.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, it is merely exemplary, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (9)

제 1 및 제 2 기판 부재와; 상기 제 1 및 제 2 기판 부재의 대향하는 내측면에 상호 직각으로 교차하는 방향으로 각각 형성된 제 1 전극 및 제 2 전극과; 상기 제 1 기판상에 적층된 유전층과; 상기 제 2 기판상에 다수의 셀을 형성하도록 적층된 격벽 부재와; 상기 격벽 부재의 내측에 도포된 형광체와; 상기 다수의 셀내에 충전된 불활성 개스;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서,First and second substrate members; First and second electrodes respectively formed in directions crossing at right angles to opposite inner surfaces of the first and second substrate members; A dielectric layer stacked on the first substrate; A partition member stacked to form a plurality of cells on the second substrate; A phosphor coated on the inside of the partition member; In the plasma display device comprising a; inert gas filled in the plurality of cells, 상기 형광체로부터 발광되는 빛이 통과하는 유전층의 표면은 소정의 곡률을 가지는 만곡면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.And a surface of the dielectric layer through which the light emitted from the phosphor passes is formed as a curved surface having a predetermined curvature. 제 1 항에 있어서, 상기 유전층의 만곡면을 통해 굴절되는 빛은 제 1 기판을 통과할때 평행광으로 집속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.The plasma display apparatus of claim 1, wherein the light refracted through the curved surface of the dielectric layer is focused as parallel light when passing through the first substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 유전층의 만곡면은 상기 다수의 셀내에서 격벽의 길이 방향과 동일한 방향으로 그에 평행하게 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.The plasma display apparatus of claim 1, wherein the curved surface of the dielectric layer extends in parallel with the lengthwise direction of the partition wall in the plurality of cells. 제 1 항에 있어서, 상기 유전층의 만곡면은 상기 다수의 셀내에서 격벽의 길이 방향에 대하여 직각의 방향으로 연장되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.The plasma display apparatus of claim 1, wherein the curved surface of the dielectric layer extends in a direction perpendicular to a length direction of the partition wall in the plurality of cells. 제 1 전극이 형성된 기판 부재의 일측 표면에 소정 패턴의 마스크를 배치하고 유전체 페이스트를 도포하여 소정 패턴의 유전체 페이스트층을 형성하는 단계,Disposing a mask of a predetermined pattern on one surface of the substrate member on which the first electrode is formed and applying a dielectric paste to form a dielectric paste layer of the predetermined pattern, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트층이 형성된 기판 부재 표면의 전체 면적에 걸쳐서 유전체 페이스트를 도포하는 단계 및,Applying a dielectric paste over the entire area of the surface of the substrate member on which the dielectric paste layer of the predetermined pattern is formed; 상기 유전체 페이스트층의 표면이 유동할 수 있도록 상기 유전체 페이스트 층을 소성시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.Firing the dielectric paste layer so that the surface of the dielectric paste layer can flow. 제 5 항에 있어서, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트 층을 형성하는 단계는 소정 두께에 도달할때까지 페이스트의 도포 및 건조가 반복되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.The method of manufacturing a plasma display apparatus according to claim 5, wherein the forming of the dielectric paste layer of the predetermined pattern is repeated applying and drying the paste until the predetermined thickness is reached. 제 5 항에 있어서, 상기 소정 패턴의 유전체 페이스트 층이 형성되는 부위는 완성된 플라즈마 디스플레이 장치에서 셀의 위치에 대응되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.The method of claim 5, wherein a portion where the dielectric paste layer of the predetermined pattern is formed corresponds to a position of a cell in the completed plasma display apparatus. 제 1 전극이 형성된 기판 부재의 일측 표면에 균일한 두께의 유전체 페이스트 층을 형성하고 그 위에 소정 패턴의 연마 방지용 마스크 부재를 배치하는 단계,Forming a dielectric paste layer having a uniform thickness on one surface of the substrate member on which the first electrode is formed, and disposing a polishing pattern mask member of a predetermined pattern thereon; 상기 유전체 페이스트층의 표면에 연마 입자를 분사함으로써 연마 방지용 마스크 부재로 차폐되지 아니한 부위의 유전체 페이스트층의 두께를 감소시키는 단계 및,Reducing the thickness of the dielectric paste layer in the portion not shielded by the anti-polishing mask member by spraying abrasive particles onto the surface of the dielectric paste layer; 상기 유전체 페이스트 층의 표면이 유동할 수 있도록 상기 유전체 페이스트 층을 소성시키는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.Firing the dielectric paste layer so that the surface of the dielectric paste layer can flow. 제 8 항에 있어서, 상기 연마 방지용 마스크 부재에 의해 차폐되는 부위는 완성된 플라즈마 디스플레이 장치에서 셀의 위치에 대응되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치의 제조 방법.9. The method of claim 8, wherein the portion of the plasma display apparatus which is shielded by the anti-polishing mask member corresponds to a position of a cell in the completed plasma display apparatus.
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