KR19980016889A - 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 - Google Patents
사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 Download PDFInfo
- Publication number
- KR19980016889A KR19980016889A KR1019960036584A KR19960036584A KR19980016889A KR 19980016889 A KR19980016889 A KR 19980016889A KR 1019960036584 A KR1019960036584 A KR 1019960036584A KR 19960036584 A KR19960036584 A KR 19960036584A KR 19980016889 A KR19980016889 A KR 19980016889A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- particle
- measuring device
- cyclone
- end portion
- air
- Prior art date
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 140
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 34
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 15
- 238000005070 sampling Methods 0.000 abstract description 5
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000013100 final test Methods 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2202—Devices for withdrawing samples in the gaseous state involving separation of sample components during sampling
- G01N1/2211—Devices for withdrawing samples in the gaseous state involving separation of sample components during sampling with cyclones
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/24—Suction devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/02—Devices for withdrawing samples
- G01N1/22—Devices for withdrawing samples in the gaseous state
- G01N1/2202—Devices for withdrawing samples in the gaseous state involving separation of sample components during sampling
- G01N2001/222—Other features
- G01N2001/2223—Other features aerosol sampling devices
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
본 발명은 측정하고자 하는 공기시료 중 먼지 등의 입자를 농축시켜 공기시료의 청정도를 측정하기 위하여 사용될 수 있는 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기에 관한 것이다.
본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기는, 협폭단부와 광폭단부를 갖는 사이클론집속체(9)의 상기 협폭단부가 수렴관(10)을 통하여 상기 입자측정기(1)의 인입관(5)에 연결되고, 상기 광폭단부가 배기관(12)에 의하여 상기 입자측정기(1)의 펌프(2)에 연결되며, 상기 사이클론집속체(9)의 광폭단부의 측벽을 통하여 연결관(6)이 연결되어 이루어진다.
따라서, 대량의 프레시에어를 샘플로 채취하여 단시간내에 입경 0.1㎛의 파티클까지 측정할 수 있도록 함으로써 종래의 입자측정기(1)에 비하여 신뢰도가 높은 측정결과를 제공하며, 또한, 무지향흡입관(13)의 사용에 의하여 샘플링 위치에 따른 편차가 적은 측정결과를 제공할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 발명은 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 측정하고자 하는 공기시료 중 먼지 등의 입자를 농축시켜 공기시료의 청정도를 측정하기 위하여 사용될 수 있는 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기에 관한 것이다.
청정실(Clean Room)이란 일정한 목적을 위하여 제진시킨 공간으로서 그 공간의 공기 중에 부유하는 먼지(부유입자)를 원하는 숫자 이하로 제어하여 청정실내에서 행하여지는 작업대상체의 내, 외부에 먼지가 다다르지 못하도록 하며, 동시에 공기조화와 밝기(조도) 및 특별한 목적에 따라 소음, 진동 등의 방지까지도 수행되어 작업대상체에 가해지는 공정의 최적화를 달성하도록 한다.
특히, 반도체의 생산라인의 경우에서는 패턴의 형성이나 레티클의 제작 등의 기본설계에서부터 웨이퍼의 제조공정, 검사공정, 어셈블리/팩케이지(Assembly/Package)공정, 최종시험공정, 품질검사공정 등을 거치게 되며, 이러한 공정들 중 특히 웨이퍼의 제조공정은 확산 - 노광, 현상 - 에칭 - 확산 등의 공정들을 반복하여 수행하여야 하기 때문에 먼지오염이나 온도 및 습도의 조절 등이 매우 중요하며, 전반적으로 반도체의 수율의 증대 및 제품의 정밀도나 신뢰도의 향상 등의 면에서 오염되지 않아야 함은 당연한 것이다.
반도체 제조공정에서 상기한 청정실의 오염관리는 매우 중요한 것으로서, 청정실의 오염관리를 적절하게 하기 위하여는 청절실내로 유입되는 공기로부터의 제진 및 여러 오염원들의 청정실내로의 유입의 방지도 중요하지만, 청정실 자체의 청정도를 측정하고, 측정된 데이터를 기준으로 청정실을 관리하고, 공기조화기 및 제진을 위한 여과시스템을 운전하는 것 또한 중요한 사항이라 할 수 있다.
따라서, 청정실의 오염관리를 위하여는 실제 청정실내의 임의로 샘플링된 위치에서의 오염정도를 측정하여야 할 필요가 있으며, 이를 위하여 일반적으로 입자측정기가 사용되고 있다.
이 입자측정기는 먼지입자를 측정하는 방법에 따라 여러 가지 입자측정기가 다양하게 개발되어 상용적으로 공급되고 있으며, 특히 레이저광원을 사용하여 레이저광선이 통과하는 경로 중에 존재하는 먼지입자에 의한 레이저광선의 산란정도를 측정하여 오염도를 측정하는 광학입자측정기가 널리 사용되고 있으며, 광학입자측정기를 예로 들어 설명하면 레이저광선을 방출하는 레이저광원, 상기 레이저광원에 대향되는 위치에 취부되어 레이저광선을 차단하는 차단벽, 상기 레이저광원으로부터 상기 차단벽에로 지향되는 레이저광선의 경로에 대하여 수직으로 취부된 감지기로 구성되어 있다.
종래의 입자측정기를 도1에 개략적으로 도시하였으며, 이는 상기한 바와 같은 입자측정기(1)를 중심으로 하여 상기 입자측정기(1)를 통하여 측정하고자 하는 프레시에어의 순환을 위한 수단으로서 유속측정기(3)가 취부된 펌프(2)가 상기 입자측정기(1)의 일측에 연결되어 있으며, 상기 입자측정기(1)의 타측에는 상기 입자측정기(1)내로 측정하고자 하는 프레시에어가 유입될 수 있는 인입관(5)이 연결되어 있다. 또한, 상기 인입관(5)에는 가요성의 가능한 연결관(6)을 통하여 지향흡입관(7)이 연결되어 있으며, 상기 지향흡입관(7)에는 흡입구(8)가 형성되어 있어 상기 펌프(2)의 가동에 의하여 측정하고자 하는 프레시에어가 상기 지향흡입관(7)과 연결관(6) 및 인입관(5)을 통하여 상기 입자측정기(1)내로 유입되어 공기 중에 존재하는 먼지입자의 양을 측정하고, 측정이 완료된 프레시에어는 펌프(2)를 통하여 방출된다.
상기에서의 입자측정기(1)와 펌프(2) 및 상기 펌프(2)에 취부된 유속측정기(3) 등은 모두 상용적으로 구입하여 사용이 가능한 정도로 공지된 것으로서, 당해 기술분야에서 숙련된 자들에게는 용이하게 이해될 수 있는 것이다.
특히, 상기 펌프(2)내에는 제진필터가 내장되어 있으며, 이 제진필터에 의한 제진으로 인하여 청정실 내에서의 파티클의 측정을 위한 입자측정기의 가동으로 별도로 오염이 발생하지 않으며, 오히려 제진효과를 높일 수 있게 한다.
또한, 상기에서 연결관(6)은 자재굴곡이 가능한 중공의 관이 사용될 수 있으며, 테프론(Teflon)이나 타이곤(Tygon) 등과 같은 상표명의 합성수지관이 사용되고 있다.
그러나, 상기한 바와 같은 종래의 입자측정기(1)는 측정되는 프레시에어의 측정량이 한정되어 있으며, 반면에 청정실 자체는 점차 대형화되어 가고 있는 추세로서, 전체 청정실의 총공기량에 비하여 측정되는 샘플량은 매우 적어 결과적으로 수득되는 데이터의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있었다.
실제적인 예를 들어 보면, 반도체 생산라인을 비롯한 정밀전자 산업용 청정실은 생산성의 향상을 위하여 높이 3.5미터, 폭 100미터, 길이 100미터의 규모wjdeh로 대형화되어 있으며, 고청정도를 유지하기 위하여 시간당 400회 이상 프레시에어를 궤환시키고 있음에도 불구하고 입자측정기(1)의 1회 측정시의 샘플량은 28.3리터에 지나지 않기 때문에 결과적으로 약 1.27 * 10-7, 즉 천만분의 1에 해당하는 샘플에 대한 측정치로 청정실 전체를 관리하는 것으로 되어 상당히 불합리하며, 오차(편차)가 심화되어 측정치에 대한 신뢰도를 저하시키고 있다.
달리, 측정횟수를 증가시키면 오차(편차)를 줄일 수 있기는 하나, 역시 전체 청정실의 총공기량에 비하여 여전히 적은 수치의 샘플량이 되는 한계가 있으며, 측정자체에 장시간이 소요되어 실시간 측정결과를 얻을 수 없게 되는 문제점이 있었다.
또한, 측정기의 측정용량 즉, 샘플량을 높여 단시간내에 많은 샘플공기를 측정하여 청정실내의 입자농도 수준을 정확히 측정하는 것을 고려할 수 있으나, 도2에 나타낸 바와 같이 피측정시료 공기의 양과 최소 가측입경이 반비례관계에 있으며, 헬륨-네온 레이져(He-Ne Laser ; Helium-Neon Laser)를 채용한 범용 입자측정기(1)에서는 28.3리터의 샘플량에 대하여 최소 0.09㎛까지(100% 효율기준) 밖에 측정할 수 없는 문제점이 있어 실용화가 불가능하였다.
본 발명의 목적은 대용량의 프레시에어에 대하여 먼지입자의 수를 측정할 수 있는 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기를 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은, 대용량의 샘플량에 대하여 0.1㎛까지 측정할 수 있는 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기를 제공하는 데 있다.
본 발명의 또다른 목적은, 흡입관의 위치에 무관하게 프레시에어를 고르게 흡입할 수 있는 무지향흡입관을 갖는 입자측정기를 제공하는 데 있다.
도1은 종래의 입자측정기를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도2는 프레시에어 샘플량에 대한 먼지입자의 최소가측입경의 관계를 도시한 그래프이다.
도3은 본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기를 개략적으로 도시한 사시도이다.
도4는 본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기의 사이클론집속체 부분의 수직단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
1 : 입자측정기2 : 펌프
3 : 유속측정기4 : 속도조절기
5 : 인입관6 : 연결관
7 : 지향흡입관8 : 흡입구
9 : 사이클론집속체10 : 수렴관
11 : 입자우회관12 : 배기관
13 : 무지향흡입관14 : 흡입공
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기는, 협폭단부와 광폭단부를 갖는 사이클론집속체의 상기 협폭단부가 수렴관을 통하여 상기 입자측정기의 인입관에 연결되고, 상기 광폭단부가 배기관에 의하여 상기 입자측정기의 펌프에 연결되며, 상기 사이클론집속체의 광폭단부의 측벽을 통하여 연결관이 연결되어 이루어진다.
또한, 상기 연결관의 단부에는 다수의 흡입공들이 형성된 무지향흡입관이 연결될 수 있다.
더욱이, 상기 사이클론집속체의 협폭단부와 상기 수렴관을 서로 연결하는 입자우회관이 연결될 수 있다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도3에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기는, 샘플공기유입구 및 측정된 샘플공기의 배기를 위한 펌프를 구비하여 반도체 청정실의 파티클 농도를 측정하는 반도체용 입자측정기에 있어서, 상기 샘플공기유입구에 샘플공기의 체적을 증대시키기 위한 사이클론집속체가 설치된 것을 특징으로 한다.
상기에서 제진필터와 유속측정기(3)가 취부된 펌프(2)를 갖는 종래의 입자측정기(1)는 상용적으로 구입하여 사용할 수 있을 정도로 당해 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자에게는 용이하게 이해될 수 있는 정도의 것이다.
본 발명에서는 이러한 종래의 입자측정기(1)에서 측정되는 공기 즉, 프레시에어의 샘플량을 증대시킴에 있어 단순히 전체 샘플량을 증가시키는 대신 사이클론의 원리에 의하여 공기에 비하여 중량이 많이 나가는 먼지입자에 원심력을 가하여 먼지입자가 집중된 부분의 샘플을 취하여 입자측정기(1)내로 유입시켜 먼지입자의 수를 계수하도록 함으로써 샘플량의 증가에도 불구하고 종래의 입자측정기(1)에서와 동일하게 입경 0.1㎛의 파티클까지 측정가능하게 한 점에 특징이 있는 것이다.
상기에서 사이클론집속체(9)는 본 발명에 따른 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기에서 최초로 사용되는 것으로서, 도4에 단면으로 나타낸 바와 같이, 협폭단부와 광폭단부를 가지며, 상기 협폭단부가 수렴관을 통하여 상기 입자측정기의 인입관에 연결되고, 상기 광폭단부가 배기관에 의하여 상기 입자측정기의 펌프에 연결되며, 상기 사이클론집속체의 광폭단부의 측벽을 통하여 연결관이 연결되어 이루어지며, 이는 일반적인 사이클론의 원리와 동일하며, 광폭단부와 협폭단부를 갖는 중공의 원뿔체가 될 수 있다.
여기에서 사이클론원리라 함은 점점 좁아지는 원통체 내에서 유체를 회전운동시키면 유체 중에 포함된 보다 중량이 많이 나가는 입자들이 원심력의 작용을 받아 점차 원통체의 가장자리 쪽으로 집중되는 것으로서, 본 발명에서는 먼지입자가 포함된 공기 즉, 프레시에어를 상기 사이클론집속체(9)내에서 회전운동시켜 먼지입자들이 원심력을 받아 사이클론집속체(9)의 내벽 근처에 집중되도록 하는 역할을 한다.
특히, 상기 사이클론집속체(9)의 내벽은 전기적 광택(Electric Polishing)처리가 될 수 있다. 여기에서 전기적 광택은 전기적 에너지를 사용하여 상기 내벽을 매끄럽게 표면가공하는 것으로서, 이러한 표면가공에 의하여 상기 사이클론집속체(9)의 내벽의 평활도를 높임으로써 상기 사이클론집속체(9) 내에서의 공기흐름에 대한 저항을 최소화하여 펌프(2)의 출력을 증대시킬 필요없이 효과적으로 펌프(2)의 흡입일률을 최대한 활용토록 함과 동시에 프레시에어 중의 먼지입자가 사이클론집속체(9)의 내벽에 임의로 고착되는 것을 방지한다.
상기 입자측정기(1)의 인입관(5)에 연결되는 상기 수렴관(10)은 상기 사이클론집속체(9)의 협폭단부에 연결되어 상기 협폭단부를 통하여 상기 사이클론집속체(9)에 의하여 먼지입자들이 집중되어 방출되는 공기흐름을 상기 사이클론집속체(9)로부터 상기 인입관(5)을 통하여 상기 입자측정기(1)내로 유입시키는 역할을 한다.
특히, 상기 사이클론집속체(9)의 협폭단부와 상기 수렴관(10)을 서로 연결하는 입자우회관(11)이 연결될 수 있다. 상기 입자우회관(11)은 상기 사이클론집속체(9) 내에서의 공기흐름의 회전운동에 의하여 상기 사이클론집속체(9)의 내벽 근처에 집중된 먼지입자들을 별도로 회전운동하는 공기흐름의 일부와 함께 별도로 우회시켜 상기 사이클론집속체(9)의 협폭단부를 통하여 상기 수렴관(10)내로 유입되는 공기흐름과 함께 상기 입자측정기(1)의 인입관(5)으로 유입시키는 역할을 한다. 이 입자우회관(11)에 의하여 일단 상기 사이클론집속체(9)에 의하여 집중된 먼지입자들이 보다 효과적으로 상기 입자측정기(1)내로 유입될 수 있도록 한다.
상기 사이클론집속체(9)의 광폭단부를 상기 입자측정기(1)의 펌프(2)에 연결하는 상기 배기관(12)은 상기 사이클론집속체(9)의 중심부 내측으로 연장 돌출되어 취부된 것으로서, 사이클론원리에 따라 먼지입자들이 원심력을 받아 상기 사이클론집속체(9)의 내벽 근처에 집중됨에 따라 상대적으로 먼지입자들이 거의 존재하지 않는 중심부 근처의 공기흐름을 상기 입자측정기(1)를 통하지 않고 직접 펌프(2)쪽으로 분기시켜 상기 펌프(2)를 통하여 배출토록 함으로써 상기 입자측정기(1)를 통하는 공기흐름의 양 즉, 샘플링된 프레시에어의 양을 줄여 보다 정확하고, 또한 측정가능한 최소입경의 한계를 높일 수 있도록 한다.
특히, 상기 입자측정기(1)로 흡입되는 전체 공기의 양이 상기 입자우회관(11)을 통하는 공기의 양과 상기 협폭단부로부터 수렴관(10)으로 직접 흡입되는 공기의 양으로 반분되도록 설계할 수 있으며, 이러한 구성에 의하여 전체 흡입되는 프레시에어가 모두 입자측정기(1)를 거치는 대신에 일부만이 입자측정기(1)를 거치도록 하고, 먼지입자가 거의 포함되지 않는 절반정도의 프레시에어는 상기 입자측정기(1)를 거치지 않고 바로 펌프(2)를 통하여 배출될 수 있도록 할 수 있다.
상기 사이클론집속체(9)의 광폭단부의 측벽을 통하여 외부의 공기를 샘플링하여 유입시키는데 사용되는 상기 연결관(6)은 종래의 입자측정기(1)에서 사용되던 연결관(6)과 동일 또는 유사한, 가요성의, 중공의 관이 사용될 수 있으며, 테프론(Teflon)이나 타이곤(Tygon) 등과 같은 상표명의 합성수지관이 사용될 수 있다.
특히, 상기 연결관(6)의 단부에는 다수의 흡입공(14)들이 형성된 무지향흡입관(13)이 연결될 수 있다. 이 무지향흡입관(13)은 종래의 입자측정기(1)의 연결관(6)의 단부에 취부되어 사용되던 지향흡입관(7)과는 달리 사방으로부터 고르게 공기를 흡입할 수 있도록 함으로써 지향흡입관(7)의 사용에서 샘플링위치에 따라 장치의 벽 등에 부착되어 있던 먼지입자들의 흡입 등에 의한 편차의 발생가능성을 줄일 수 있다. 이 무지향흡입관(13)은 중공의 원통체에 다수의 흡입공(14)들을 형성시켜 이루어질 수 있으며, 이 흡입공(14)들을 통하여 먼지입자들을 포함한 프레시에어가 샘플링되어 상기 연결관(6)을 통하여 상기 사이클론집속체(9)내로 유입될 수 있다.
상기 펌프(2)에는 속도조절기(4)가 부착될 수 있으며, 상기 펌프(2)에 부착된 속도조절기(4)는 샘플공기의 양을 조절할 수 있도록 하는 것으로서, 통상의 가변저항기 등이 사용될 수 있다.
특히, 상기 입자측정기(1)는 레이저광원을 이용하여 파티클 수를 측정하는 광학입자측정기가 사용될 수 있으며, 이러한 광학입자측정기는 당해 기술분야에서 통상의 지식을 갖는 자에게는 용이하게 이해될 수 있는 것임은 자명한 것이다.
상기한 바와 같은 구성에 따른 본 발명의 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기는 다음과 같이 동작한다.
우선, 상기 입자측정기(1)에 의한 측정을 위한 상기 사이클론집속체(9)내로의 프레시에어의 인입은 상기 사이클론집속체(9)의 연결관(6)을 통하여 외부로부터 유입될 수 있으며, 프레시에어의 유입의 원동력은 종래의 입자측정기(1)에 부착되어 있는 펌프(2)의 구동에 의한 흡인력이다. 즉, 상기 펌프(2)의 구동에 의하여 이에 연결된 상기 입자측정기(1)를 통하는 공기흐름이 발생하게 되고, 이는 곧 인입관(5)과 수렴관(10)에 의하여 상기 입자측정기(1)에 연결된 상기 사이클론집속체(9)내로의 공기흐름을 일으킬 수 있게 된다.
일단 상기 사이클론집속체(9)의 광폭단부의 일측면에서 그 내부로 인입된 공기흐름은 상기 사이클론집속체(9)가 하방으로 갈수록 점점 좁아져서 협폭단부를 형성하기 때문에 그 내부에서 점점 좁아지는 하방으로 향하는 공기흐름은 유속이 증가되게 되고, 동시에 시계방향이나 반시계방향으로의 회전운동을 하면서 상기 협폭단부쪽으로 흐르게 된다. 공기흐름의 속도의 증가 및 일방향으로의 회전운동에 의하여 상기 공기흐름 중에 포함되어 있을 수 있는 먼지입자는 원심력의 작용을 받게 되어 상기 사이클론집속체(9)의 내벽 근처에로 집중되게 되며, 상기 사이클론집속체(9)의 중심부분에서의 먼지입자는 거의 존재할 수 없는 상태가 된다.
상기 사이클론집속체(9)의 내벽 근처에 집중된 먼지입자들은 공기흐름과 함께 상기 입자우회관(11)을 통하여 수렴관(10)내로 유입되며, 계속해서 상기 수렴관(10)에 연결된 인입관(5)을 통하여 상기 입자측정기(1)내로 유입되어 먼지입자가 계수될 수 있게 된다.
한편, 상기 사이클론집속체(9)의 광폭단부의 중심부에는 내측, 하방으로 돌출되어 연장된 배기관(12)의 일측단부가 고정되어 있으며, 이 배기관(12)의 타측단부는 상기한 입자측정기(1)의 펌프(2)에 연결되어 있으며, 먼지입자들이 원심력의 작용을 받아 상기 사이클론집속체(9)의 내벽 근처로 집중되어 먼지입자들이 거의 존재하지 않는 중심부분의 공기는 상기 입자측정기(1)를 통과하지 않고, 바로 상기 배기관(12)을 통하여 펌프(2)로 유입된 후 배출되게 된다.
결과적으로, 본 발명에 따라 종래의 입자측정기(1)에 취부된 상기 사이클론집속체(9)는 다량의 프레시에어를 취하여 그 중에 포함된 먼지입자들을 집속시켜 상기 프레시에어의 일부와 함께 상기 입자측정기(1)내로 유입시켜 먼지입자의 수를 계수할 수 있도록 하며, 잔여의 프레시에어는 상기 입자측정기(1)를 통하지 않고 직접 펌프(2)를 통하여 배출될 수 있도록 하는 역할을 하는 것으로서, 먼지입자들을 집속시키는 역할을 한다.
더욱이, 이러한 방법으로 먼지입자들을 집속시켜 기존의 입자측정기(1)에서 샘플링되어 측정되던 공기량과 동일한 정도의 소량의 공기량에 대한 측정을 가능하게 하여 대량의 공기량의 측정에 따른 측정가능한 입경을 저하시키지 않으면서도 대량의 프레시에어를 샘플로 채취하여 단시간내에 입경 0.1㎛의 파티클까지 측정할 수 있도록 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 대량의 공기량의 측정에 따른 가측가능한 입경을 저하시키지 않으면서도 대량의 프레시에어를 샘플로 채취하여 단시간내에 입경 0.1㎛의 파티클까지 측정할 수 있도록 함으로써 종래의 입자측정기(1)에 비하여 신뢰도가 높은 측정결과를 제공할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 의하면 무지향흡입관(13)의 사용에 의하여 샘플링 위치에 따른 편차가 적은 측정결과를 제공할 수 있는 효과가 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (8)
- 샘플공기유입구 및 측정된 샘플공기의 배기를 위한 펌프를 구비하여 반도체 청정실의 파티클 정도를 측정하는 반도체용 입자측정기에 있어서,상기 샘플공기유입구에 샘플공기의 체적을 증대시키기 위한 사이클론집속체가 설치된 것을 특징으로 하는 반도체용 입자측정기.
- 제 1 항에 있어서,상기 사이클론집속체가 협폭단부와 광폭단부를 가지며, 상기 협폭단부가 수렴관을 통하여 상기 입자측정기의 인입관에 연결되고, 상기 광폭단부가 배기관에 의하여 상기 입자측정기의 펌프에 연결되며, 상기 사이클론집속체의 광폭단부의 측벽을 통하여 연결관이 연결되어 이루어짐을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 2 항에 있어서,상기 연결관의 단부에 다수의 흡입공들이 형성된 무지향흡입관이 연결됨을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 2 항에 있어서,입자우회관이 상기 사이클론집속체의 협폭단부와 상기 수렴관을 서로 연결함을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 4 항에 있어서,상기 입자측정기로 흡입되는 전체 공기의 양이 상기 입자우회관을 통하는 공기의 양과 상기 협폭단부로부터 수렴관으로 직접 흡입되는 공기의 양으로 반분되도록 설계된 것을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 사이클론집속체의 내벽이 전기적 광택처리가 된 것을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 1 항에 있어서,상기 펌프에 샘플공기의 양을 조절할 수 있는 속도조절기가 부착된 것을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
- 제 1 항에 있어서,상기 입자측정기가 레이저광원을 이용하여 파티클 수를 측정하는 광학입자측정기임을 특징으로 하는 상기 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960036584A KR100219420B1 (ko) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 |
| TW086104499A TW386275B (en) | 1996-08-29 | 1997-04-09 | Particle measuring device having cyclone -shaped collector for semiconductor cleanroom application |
| JP9104690A JP2983926B2 (ja) | 1996-08-29 | 1997-04-22 | サイクロン集束体を有する粒子測定器 |
| US08/912,431 US6082179A (en) | 1996-08-29 | 1997-08-18 | Particle measuring device having funnel-shaped collector for semiconductor clean room applications |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960036584A KR100219420B1 (ko) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR19980016889A true KR19980016889A (ko) | 1998-06-05 |
| KR100219420B1 KR100219420B1 (ko) | 1999-10-01 |
Family
ID=19471525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019960036584A KR100219420B1 (ko) | 1996-08-29 | 1996-08-29 | 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6082179A (ko) |
| JP (1) | JP2983926B2 (ko) |
| KR (1) | KR100219420B1 (ko) |
| TW (1) | TW386275B (ko) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000019717A (ja) * | 1998-07-06 | 2000-01-21 | Mitsubishi Electric Corp | マスク検査装置および半導体デバイスの製造方法 |
| US7024950B2 (en) * | 2000-11-30 | 2006-04-11 | Texas Instruments Incorporated | Method for intelligent sampling of particulates in exhaust lines |
| WO2004001388A1 (en) * | 2002-06-24 | 2003-12-31 | Sarnoff Corporation | Method and apparatus for concentrated airborne particle collection |
| JP5338322B2 (ja) * | 2008-01-11 | 2013-11-13 | ダイキン工業株式会社 | 空気調和装置の室内ユニット |
| DK176920B1 (da) * | 2008-10-30 | 2010-05-17 | Smidth As F L | Fremgangsmåde og apparat til analyse af partikelholdige gasser |
| DE102010037425B4 (de) * | 2010-09-09 | 2012-06-06 | Eurofins Wej Contaminants Gmbh | Verfahren zur Entnahme einer repräsentativen Probe von Partikeln aus Schüttgut zur Bestimmung einer Mykotoxinkontamination des Schüttguts |
| CN102606669A (zh) * | 2012-03-22 | 2012-07-25 | 谢宁 | 三维摇动式磁流变阻尼器 |
| CN103968881A (zh) * | 2014-05-20 | 2014-08-06 | 上海理工大学 | 洁净室自净时间测试装置及方法 |
| USD739772S1 (en) * | 2014-10-27 | 2015-09-29 | Airgle Corporation | Particle counter |
| KR101670578B1 (ko) * | 2015-02-16 | 2016-10-28 | 가톨릭대학교 산학협력단 | 토양 내 비산 석면 분석을 위한 벤투리 기반 석면 전처리 장치 |
| KR102122689B1 (ko) * | 2019-11-26 | 2020-06-26 | 주식회사 모이기술 | 미세 입자 측정 장치 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3070990A (en) * | 1960-02-11 | 1963-01-01 | Pittsburgh Plate Glass Co | Sampling device and method for analysis of furnace gases |
| CA940810A (en) * | 1971-05-07 | 1974-01-29 | Anthony R. Barringer | Method and apparatus for geochemical surveying |
| US3780567A (en) * | 1972-03-17 | 1973-12-25 | Ecodyne Corp | Drift measurement system |
| CA1034851A (en) * | 1972-10-27 | 1978-07-18 | John C. Westkaemper | Aerial prospecting |
-
1996
- 1996-08-29 KR KR1019960036584A patent/KR100219420B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-04-09 TW TW086104499A patent/TW386275B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-04-22 JP JP9104690A patent/JP2983926B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1997-08-18 US US08/912,431 patent/US6082179A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1090162A (ja) | 1998-04-10 |
| TW386275B (en) | 2000-04-01 |
| KR100219420B1 (ko) | 1999-10-01 |
| US6082179A (en) | 2000-07-04 |
| JP2983926B2 (ja) | 1999-11-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7573573B1 (en) | Method and particle measuring and counting apparatus with selectable channels of a specimen flow | |
| USRE37353E1 (en) | Particle sensor with variable-speed blower | |
| KR19980016889A (ko) | 사이클론집속체를 갖는 반도체용 입자측정기 | |
| US20090237659A1 (en) | High Throughput Particle Counter | |
| US3462608A (en) | Method and apparatus for detecting suspended particles | |
| KR100807433B1 (ko) | 파티클 카운터 | |
| US20080028869A1 (en) | Flow indicator and apparatus for monitoring particles in air | |
| KR101159762B1 (ko) | 입자 측정 장치 | |
| US5456102A (en) | Method and apparatus for particle counting and counter calibration | |
| US6176120B1 (en) | Methods of analyzing water soluble contaminants generated during microelectronic device manufacturing processes | |
| KR101145915B1 (ko) | 다단 임팩터 모듈을 구비한 입자 측정 장치 | |
| US5856623A (en) | Particle counter with sampling probe having adjustable intake area | |
| US11604122B2 (en) | Curtain flow design for optical chambers | |
| KR100568447B1 (ko) | 에어 파티클 측정장치 | |
| JPH01165939A (ja) | 流動する液体中の異物質含分を測定する装置 | |
| JPS5920662Y2 (ja) | 水質測定装置 | |
| RU2801784C1 (ru) | Способ контроля содержания механических примесей в аэрозолях и жидкостях и устройство оптической ячейки для его реализации | |
| JPH04303736A (ja) | 高濃度微粒子計測方法 | |
| JP3136745B2 (ja) | 粒度分布測定装置 | |
| KR20010058840A (ko) | 웨이퍼 검사 장치 | |
| KR19980076568A (ko) | 반도체 공기오염도 측정장치 | |
| JP6779106B2 (ja) | 粒子検出システム及び粒子検出方法 | |
| JP2003004624A (ja) | 粒子検出装置 | |
| JPS6254142A (ja) | 塵埃測定装置 | |
| KR19990065083A (ko) | 다중빔의 형성을 위한 미러유닛과 이를 이용한 다중빔 파티클카운터 및 파티클 측정방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120531 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130531 Year of fee payment: 15 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |