KR19980014082A - Method for forming spacers of liquid crystal displays - Google Patents

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Abstract

본 발명은 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서(spacer) 형성방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 티.에프.티(TFT) 기판의 전극상에 스페이서(spacer)를 선택적으로 도포 형성함으로써 스페이서에서의 광산란에 의한 콘트라스트 비(contrast ratio)의 저하를 방지한 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명은, 스페이서를 포함하는 액정 디스플레이의 제조방법에 있어서, 소정의 대전된 가스를 스페이서가 담겨져 있는 챔버내에 혼입하여 상기 대전된 가스와 스페이서간의 마찰로 인해 각각의 스페이서들이 동일한 극성을 가지도록 대전시키는 대전단계와, 상기 액정 디스플레이의 소정 기판의 전극에 상기 대전된 스페이서와 반대의 극성을 가지도록 바이어스를 인가하는 단계와, 소정의 분사노즐을 통해 상기 대전된 스페이서를 상기 기판상에 분사하여 전기적 인력에 의해 상기 각각의 스페이서들이 상기 기판의 전극에 선택적으로 도포되도록하는 도포단계를 포함하여 된 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a spacer of a liquid crystal display (TFT) liquid crystal display, and more particularly, to a method of selectively forming a spacer on an electrode of a TFT substrate (TFT) liquid crystal display, which prevents deterioration of the contrast ratio due to light scattering in the spacer. To this end, the present invention is directed to a method of manufacturing a liquid crystal display comprising a spacer, wherein a predetermined charged gas is mixed into a chamber containing a spacer so that the friction between the charged gas and the spacer causes each spacer to have the same polarity A step of applying a bias to an electrode of a predetermined substrate of the liquid crystal display so as to have a polarity opposite to that of the charged spacer; and a step of injecting the charged spacer onto the substrate through a predetermined injection nozzle So that each of the spacers is selectively applied to the electrodes of the substrate by an electrical attraction.

Description

티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서(spacer) 형성방법Method for forming a spacer of a TFT liquid crystal display

본 발명은 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서(spacer) 형성방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 티.에프.티(TFT) 기판의 전극상에 스페이서(spacer)를 선택적으로 도포 형성함으로써 스페이서에서의 광산란에 의한 콘트라스트 비(contrast ratio)의 저하를 방지한 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a spacer of a liquid crystal display (TFT) liquid crystal display, and more particularly, to a method of selectively forming a spacer on an electrode of a TFT substrate (TFT) liquid crystal display, which prevents deterioration of the contrast ratio due to light scattering in the spacer.

일반적인 티.에프.티(TFT; thin film transister) 액정 디스플레이에 있어서, 적절한 화질을 얻기 위해서는 액정층의 두께를 일정하게 유지시켜야 한다. 티.에프.티(이하, TFT라 약칭한다) 액정 디스플레이에서 액정층의 두께(이하, 셀 갭(cell gap)이라 칭한다)를 일정하게 유지시키는 구성부재를 스페이서라 하며, 이 스페이서는 통상 실리카(silica) 또는 폴리스틸렌(polystyrene)의 재질로 이루어지는 구형의 형태를 취한다. 상기 스페이서를 포함하는 TFT 액정 디스플레이의 개략적인 형태를 도 1에 나타내 보였다. 도 1을 참조하면, TFT 액정 디스플레이는 소정의 상, 하부 기판(3)과 상기 상, 하부 기판(3) 사이에 개재되어 활성층으로 작용하는 액정층(1)과, 상기 상, 하부 기판(3) 사이에 개재되어 상기 액정층(1)이 일정한 간격을 유지하도록 하는 스페이서(5) 및 상기 기판(3)의 양측부에 설치되어 기판사이에 개재된 액정층(1)을 밀봉시키는 밀봉부재(7)를 포함하여 이루어진다. 여기서, 상기 액정층의 두께, 즉 셀 갭을 일정하게 유지시키는 스페이서(5)는 셀 갭에 따라 적절한 크기를 선택하여 TFT 또는 칼라 필터(C/F; color filter) 기판상에 도포되어 바람직하게 형성되는데, 상기 스페이서(5)의 도포 형성은 습식 스페이서 분사(wet spacer spraying)방식과 건식 스페이서 분사(dry spacer spraying)방식에 의해 이루어진다.In a general thin film transistor (TFT) liquid crystal display, the thickness of the liquid crystal layer must be kept constant to obtain an appropriate image quality. A component that keeps the thickness of a liquid crystal layer (hereinafter referred to as a cell gap) constant in a liquid crystal display (hereinafter referred to as a TFT) is called a spacer, silica, polystyrene, or the like. A schematic view of a TFT liquid crystal display including the spacer is shown in Fig. 1, a TFT liquid crystal display comprises a liquid crystal layer 1 interposed between a predetermined upper and lower substrates 3 and the upper and lower substrates 3 to serve as an active layer, A spacer 5 interposed between the liquid crystal layer 1 and the liquid crystal layer 1 so as to maintain a constant gap therebetween and a sealing member provided on both sides of the substrate 3 to seal the liquid crystal layer 1 interposed between the substrates 7). Here, the spacer 5, which maintains the thickness of the liquid crystal layer, that is, the cell gap, is suitably formed on the TFT or color filter (C / F) substrate by selecting an appropriate size according to the cell gap The application of the spacer 5 is performed by a wet spacer spraying method and a dry spacer spraying method.

상기의 습식 스페이서 분사방식과 건식 스페이서 분사방식을 도 2a 및 도 2b를 참조하여 설명하면 다음과 같다.The wet spacer spraying method and the dry spacer spraying method will be described with reference to FIGS. 2A and 2B.

도 2a는 습식 스페이서 분사방식을 수행하는 장치를 도시한 것으로서, 이 장치에 의한 습식 스페이서 분사방식은 낮은 끓는점을 갖는 용매(예를 들면, 프레온, 알코올)에 초음파를 이용하여 스페이서를 분사하는 단계와, 스페이서가 분사되어 있는 용매를 분사챔버(17)내에 있는 기판(14)에 분사하는 단계 및 상기 기판(14)에 분사된 용매를 증발시키고 스페이서만 남기기 위한 기판(14)의 건조단계를 포함하여 이루어진다. 여기서, 부재번호 11은 스페이서/용매를 담는 탱크이다.FIG. 2A illustrates an apparatus for performing a wet spacer spraying method. The wet spacer spraying method using the apparatus includes a step of spraying a spacer using a ultrasonic wave to a solvent having a low boiling point (for example, Freon, alcohol) , Spraying the sprayed solvent onto the substrate 14 in the spray chamber 17, and drying the substrate 14 to evaporate the sprayed solvent onto the substrate 14 and leave the spacers alone . Here, reference numeral 11 denotes a tank for containing a spacer / solvent.

도 2b는 건식 스페이서 분사방식을 수행하는 장치를 도시한 것으로서, 이 장치에 의한 건식 스페이서 분사방식은, 탱크(12)내에 저장된 스페이서/가스 혼합물을 정전기적으로 또는 에어-제트(ari-jet) 방법으로 분사챔버(18)내에 있는 기판(15)에 분사함으로써 스페이서 도포를 행한다.Figure 2b illustrates an apparatus for performing a dry spacer spraying system in which a dry spacer spraying system is used to spray a spacer / gas mixture stored in the tank 12 electrostatically or by an ari-jet method To the substrate 15 in the injection chamber 18 to perform the spacer application.

상기의 분사방식에 있어서, 습식 스페이서 분사방식은 프레온, 알코올등과 같은 환경오염 규제를 받는 유기용매를 사용하기 때문에 그다지 사용되지 않고 있으며, 이 때문에 건식 스페이서 분사방식이 더욱 자주 이용되고 있다.In the above-described spraying method, the wet spacer spraying method is not used so much because it uses an organic solvent that is subject to environmental pollution regulation such as Freon, alcohol, etc., and therefore, the dry spacer spraying method is more frequently used.

그런데, 상술한 바와 같은 분사방식에 의해 스페이서가 기판의 전극상에 도포되는 경우, 액정 디스플레이의 후면 광원에서 조사된 광이 스페이서에 의해 산란되어 블랙(black) 화면 구동시 콘트라스트 비(比)를 감소시키는 문제점이 있었다.However, when the spacer is applied on the electrode of the substrate by the above-described injection method, the light irradiated from the back light source of the liquid crystal display is scattered by the spacer, thereby reducing the contrast ratio in driving the black screen .

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로서, 스페이서 도포 형성시 각각의 스페이서들이 일정한 극성을 가지도록 대전시키고, TFT 기판의 전극부(예를 들면, 게이트 전극, 소오스/드레인 전극) 또는 칼라 필터(C/F) 기판의 블랙 매트릭스(또는 광차 단층)에 스페이서와 반대의 극성을 가지도록 전압을 인가하여 전기적 인력에 의해 상기 각각의 스페이서들이 TFT 또는 칼라 필터상의 비개구부(非開口部)에 도포되도록 함으로써 스페이서에 의한 광산란을 감소시켜 콘트라스 비를 향상시킨 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법을 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a thin film transistor in which each spacer is charged so as to have a predetermined polarity, A voltage is applied to a black matrix (or a light-blocking layer) of a color filter (C / F) substrate so as to have a polarity opposite to that of the spacers so that each of the spacers is electrically non- To thereby provide a method of forming a spacer of a TFT liquid crystal display in which the light scattering by the spacer is reduced to improve the contrast ratio.

도 1은 일반적인 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이를 개략적으로 도시한 단면도,1 is a cross-sectional view schematically illustrating a conventional TFT liquid crystal display,

도 2a 및 도 2b는 종래의 스페이서 형성을 위한 습식 스페이서 분사장치 및 건식 스페이서 분사장치를 각각 도시한 구성도,FIGS. 2A and 2B are schematic diagrams showing a conventional wet spacer injection device and a dry spacer injection device for forming a spacer, respectively;

도 3은 본 발명에 따른 티.에프.티(TFT) 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법을 수행하는 공정도,3 is a process flow diagram for performing a spacer forming method of a TFT liquid crystal display according to the present invention,

도 4 내지 도 7은 도 3의 공정을 단계별로 수행하는 공정관련 개념도.FIGS. 4 to 7 are process-related conceptual diagrams for performing the process of FIG. 3 step by step.

* 도면의 중요 부분에 대한 부호 설명[0002] DESCRIPTION OF REFERENCE NUMBERS

20 : 대전된 스페이서25 : 스페이서/가스 챔버20: charged spacer 25: spacer / gas chamber

30 : 기판35 : 전극30: substrate 35: electrode

40 : 분사 챔버45 : 노즐40: jetting chamber 45: nozzle

50 : 선택적으로 형성된 스페이서50: selectively formed spacer

상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법은, 스페이서를 포함하는 액정 디스플레이의 제조방법에 있어서, 소정의 대전된 가스를 스페이서가 담겨져 있는 챔버내에 혼입하여 상기 대전된 가스와 스페이서간의 마찰로 인해 각각의 스페이서들이 동일한 극성을 가지도록 대전시키는 대전단계와, 상기 액정 디스플레이의 소정 기판의 전극에 상기 대전된 스페이서와 반대의 극성을 가지도록 바이어스를 인가하는 단계와, 소정의 분사노즐을 통해 상기 대전된 스페이서를 상기 기판상에 분사하여 전기적 인력에 의해 상기 각각의 스페이서들이 상기 기판의 전극에 선택적으로 도포되도록하는 도포단계를 포함하여 된 점에 그 특징이 있다. 본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판은 TFT 기판 또는 칼라 필터 기판이다. 본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 기판의 전극은 게이트 전극, 소오스/드레인 전극이며, 상기 게이트 전극은 스토리지(storage) 캐패시터 전극을 바람직하게 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of forming a spacer in a TFT liquid crystal display, the method comprising: preparing a liquid crystal display including spacers, wherein a predetermined charged gas is mixed in a chamber containing a spacer, Applying a bias to the electrode of a predetermined substrate of the liquid crystal display so as to have a polarity opposite to that of the charged spacer, and applying a bias to the electrode of the predetermined substrate of the liquid crystal display so as to have a polarity opposite to that of the charged spacer, And spraying the charged spacers onto the substrate through a nozzle to selectively apply the respective spacers to the electrodes of the substrate by an electrical attraction force. In a preferred embodiment of the present invention, the substrate is a TFT substrate or a color filter substrate. In a preferred embodiment of the present invention, the electrode of the substrate is a gate electrode, a source / drain electrode, and the gate electrode preferably comprises a storage capacitor electrode.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 스페이서는 실리카, 폴리스틸렌중의 어느 한 재질로 이루어진다.In a preferred embodiment of the present invention, the spacer is made of either silica or polystyrene.

본 발명의 바람직한 실시예에 있어서, 상기 대전된 스페이서의 분사는 건식 스페이서 분사방식에 의한다.In a preferred embodiment of the present invention, the spraying of the charged spacers is by a dry spacer spraying method.

이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a spacer forming method of a TFT liquid crystal display according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법은, 액정 디스플레이의 기판(예를 들면, TFT 기판 또는 칼라 필터 기판)의 전극상에 스페이서를 선택적으로 도포함으로써 광산란에 의한 콘트라스트 비의 저하를 방지한 것으로서, 도 3에 도시되어 있는 바와 같이 스페이서 대전단계(s10)와, 바이어스 인가단계(s20) 및 스페이서의 선택적 도포단계(s30)를 포함하여 이루어진다. 이를 도 4 내지 도 7를 참조하여 보다 더 상세하게 설명하면 다음과 같다.A method for forming a spacer of a TFT liquid crystal display according to the present invention is a method for preventing deterioration of a contrast ratio due to light scattering by selectively applying a spacer on an electrode of a substrate of a liquid crystal display (for example, a TFT substrate or a color filter substrate) , A spacer charging step (s10), a bias applying step (s20) and an optional applying step (s30) of the spacer as shown in Fig. This will be described in more detail with reference to FIGS. 4 to 7. FIG.

먼저, 도 4에 도시되어 있는 바와 같이 대전된 가스를 스페이서(20)가 담겨져 있는 챔버(25)내에 혼입하여 대전된 가스와 스페이서(20)를 마찰시킨다. 상기와 같이 대전된 가스와 스페이서(20)를 챔버(25)내에서 마찰시켜 도시되어 있는 바와 같이 상기 챔버(25)내의 스페이서(20)들이 동일한 극성, 예를 들면 양극으로 대전된 스페이서(20b) 또는 음극으로 대전된 스페이서(20a)가 되도록 대전시킨다. 여기서, 상기 스페이서(20)는 실리카 또는 폴리스틸렌으로 바람직하게 구성된다.First, as shown in FIG. 4, the charged gas is mixed into the chamber 25 containing the spacer 20 to rub the charged gas and the spacer 20. The charged gas and the spacer 20 are rubbed in the chamber 25 so that the spacers 20 in the chamber 25 have the same polarity, for example, an anode charged with the spacers 20b, Or charged to be the negative electrode-charged spacer 20a. Here, the spacer 20 is preferably composed of silica or polystyrene.

그 다음, 도 5에 도시되어 있는 바와 같이, TFT 기판 또는 칼라 필터 기판과 같은 액정 디스플레이의 기판(30)상의 전극(35), 예를 들면 게이트 전극, 소오스/드레인 전극에 상기 대전된 스페이서(20)와 반대되는 극성을 가지도록 바이어스(bias)를 인가한다. 여기서, 상기 게이트 전극은 스토리지 캐패시터 전극을 포함한다. 상기와 같이 바이어스가 인가되는 기판(30)을 도 6과 같이 분사 챔버(40)내에 장입하고, 소정의 노즐(45)을 통해 상기 기판(30)상에 상기 대전된 스페이서(20)를 분사한다. 이와 같이 대전된 스페이서(20)를 상기 대전된 스페이서(20)와 반대의 극성으로 바이어스 인가되는 기판(30)에 분사하면, 전기적 인력에 의해 상기 각각의 스페이서(20)들이 상기 기판(30)의 전극(35)에 선택적으로 도포되어 도 7과 같은 형태로 도포된다. 즉, 도 7에 있어서, 게이트 전극(36), 소오스/드레인 전극(37)으로 이루어지는 전극(35)상에 선택적으로 도포된 스페이서(50)들이 형성된다. 여기서, 상기 스페이서(20)의 분사는 도 2b에 도시되어 있는 바와 같은 건식 스페이서 분사장치에 의하며, 상기 게이트 전극(36)에는 스토리지 캐패시터 전극이 바람직하게 포함된다. 이로써, 본 발명에 따른 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법이 완료된다.5, an electrode 35, for example, a gate electrode, a source / drain electrode on the substrate 30 of a liquid crystal display such as a TFT substrate or a color filter substrate is electrically connected to the charged spacer 20 And a bias is applied so as to have a polarity opposite to the polarity. Here, the gate electrode includes a storage capacitor electrode. The substrate 30 to which the bias is applied as described above is charged into the injection chamber 40 as shown in FIG. 6 and the charged spacer 20 is sprayed onto the substrate 30 through the predetermined nozzle 45 . When the charged spacer 20 is sprayed onto the substrate 30 which is biased at a polarity opposite to that of the charged spacer 20, the respective spacers 20 are attracted to the substrate 30 by an electrical attraction, Is selectively applied to the electrode (35) and applied in the form shown in Fig. 7, the spacers 50 selectively coated on the electrodes 35 made up of the gate electrode 36 and the source / drain electrodes 37 are formed. Here, the spraying of the spacer 20 is performed by a dry spacer injector as shown in FIG. 2B, and the gate electrode 36 preferably includes a storage capacitor electrode. Thus, a method of forming a spacer of a TFT liquid crystal display according to the present invention is completed.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 TFT 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법은, 스페이서를 기판의 전극상에 선택적으로 형성할 수 있도록 하기 때문에 스페이서에 의한 광산란을 저감시킬 수 있다. 따라서, 본 발명은 TFT 액정 디스플레이에서 콘트라스트 비을 향상시킬 수 있는 이점을 제공한다.As described above, in the method for forming a spacer of the TFT liquid crystal display according to the present invention, since the spacer can be selectively formed on the electrode of the substrate, the light scattering due to the spacer can be reduced. Therefore, the present invention provides an advantage that the contrast ratio can be improved in a TFT liquid crystal display.

Claims (6)

스페이서를 포함하는 액정 디스플레이의 제조방법에 있어서, 소정의 대전된 가스를 스페이서가 담겨져 있는 챔버내에 혼입하여 상기 대전된 가스와 스페이서간의 마찰로 인해 각각의 스페이서들이 동일한 극성을 가지도록 대전시키는 대전단계와, 상기 액정 디스플레이의 소정 기판의 전극에 상기 대전된 스페이서와 반대의 극성을 가지도록 바이어스를 인가하는 단계와, 소정의 분사노즐을 통해 상기 대전된 스페이서를 상기 기판상에 분사하여 전기적 인력에 의해 상기 각각의 스페이서들이 상기 기판의 전극에 선택적으로 도포되도록하는 도포단계를 포함하여 된 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.A manufacturing method of a liquid crystal display including a spacer, comprising: a charging step of incorporating a predetermined charged gas into a chamber containing a spacer so that each spacer is charged to have the same polarity due to the friction between the charged gas and the spacer; Applying a bias to an electrode of a predetermined substrate of the liquid crystal display so as to have a polarity opposite to that of the charged spacer, spraying the charged spacer on the substrate through a predetermined injection nozzle, Wherein each of the spacers is selectively applied to the electrodes of the substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 TFT 기판인 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.The method of claim 1, wherein the substrate is a TFT substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 기판은 칼라 필터 기판인 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.The method of claim 1, wherein the substrate is a color filter substrate. 제 1 항에 있어서, 상기 전극은 게이트 전극 및 소오스/드레인 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.The method of claim 1, wherein the electrode comprises a gate electrode and a source / drain electrode. 제 4 항에 있어서, 상기 게이트 전극은 스토리지(storage) 캐패시터 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.5. The method of claim 4, wherein the gate electrode comprises a storage capacitor electrode. 제 1 항에 있어서, 상기 대전된 스페이서의 분사는 건식 스페이서 분사방식에 의하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이의 스페이서 형성방법.2. The method of claim 1, wherein the spraying of the charged spacers is by a dry spacer spraying method.
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KR20030047172A (en) * 2001-12-08 2003-06-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method of forming spacer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20030047172A (en) * 2001-12-08 2003-06-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method of forming spacer

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