KR19980011651U - Magnetron's And Shield Structure - Google Patents

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김광호
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Abstract

본 고안은 마그네트론의 엔드실드 구조에 관한 것으로, 하부엔드실드의 상측부의 단면적이 양극베인과 하부폴피스 사이로 소정넓이로 확장되어 있고, 이러한 하부엔드실드에 음전압이 인가되어 작용공간으로 방출된 열전자로 인한 전자군이 나선형의 운동을 하는 중에, 하부폴피스 부근으로 접근하는 경우, 양극베인과 하부폴리스 사이로 그 단면적인 확장된 하부엔드실드에 인가되어 인는 음전압에 의해 전자군에 반발력이 발생하게 되므로써, 작용공간 내의 전자군과 하부폴피스 간의 충돌이 방지되므로, 전자군과의 충돌로 인한 하부폴피스의 손상을 방지할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to the end shield structure of the magnetron, wherein the cross-sectional area of the upper portion of the lower end shield is extended to a predetermined width between the anode vane and the lower pole piece, and a negative voltage is applied to the lower end shield to release the hot electrons into the working space. When a group of electrons due to spiral approach near the lower pole piece, it is applied to the lower end shield that extends in cross-section between the anode vane and the lower poly, causing phosphorus to generate a repulsive force in the electron group due to negative voltage. Therefore, since the collision between the electron group and the lower pole piece in the working space is prevented, damage to the lower pole piece due to the collision with the electron group is prevented.

Description

마그네트론의 엔드실드 구조Magnetron End Shield Structure

본 고안은 마그네트론에 관한 것으로, 특히 작용공간 내의 전자군에 의해 하부폴피스가 손상되는 것을 방지하는 데에 적합한 마그네트론의 엔드실드 구조에 관한 것이다.The present invention relates to a magnetron, and more particularly, to an end shield structure of a magnetron suitable for preventing the lower pole piece from being damaged by an electron group in the working space.

일반적으로, 마그네트론이란 외부로부터 제공되는 고전압에 의해 초고주파를 발생하는 것으로서, 의료용, 전자렌지용, 기타 가열용에 사용되는 2450㎒의 고주파를 발생하는 마그네트론과 공업용 가열렌지, 연속파 레이다에 사용되는 915㎒의 고주파를 발생하는 마그네트론으로 구분되는데, 본 고안은 전자렌지에 사용되는 마그네트론에 관련된다.In general, magnetron generates ultra-high frequency by high voltage from outside, and it is 915MHz that is used in magnetron, industrial heating range, continuous wave radar that generates high frequency of 2450MHz for medical, microwave and other heating. It is divided into a magnetron generating high frequency of, the present invention relates to a magnetron used in a microwave oven.

한편, 도 1은 종래의 통상적인 마그네트론의 구조를 나타내는 단면도이다.On the other hand, Figure 1 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional conventional magnetron.

동도면을 참조하면 알 수 있듯이, 동파이프 등에 의해 원통형상으로 형성된 양극체(6)의 내부에는 고주파 성분을 유기시키도록 공동공진기를 형성하는 복수개의(일반적으로, 짝수개임) 양극베인(8)이 축심방향을 향하여 동일한 간격으로 배치되어 있고, 이러한 양극체(6)와 양극베인(8)에 의해 양극부가 구성된다.As can be seen from the same figure, a plurality of (generally even) anode vanes 8 which form a cavity resonator to induce high frequency components inside the anode body 6 formed in a cylindrical shape by copper pipes or the like. It is arrange | positioned at equal intervals toward this axial direction, and the anode part is comprised by such a cathode body 6 and the anode vane 8.

그리고, 캐패시턴스를 변화시켜 균일한 공진주파수를 얻기 위해 양극베인(8)의 선단부측에는 그 상하부에 각각 내측 및 외측균압링(8a, 8b)이 양극베인(8)에 각각 교번적으로 접속배치되어 있고, 양극체(6)의 중심축상에는 복수개의 양극베인(8)의 선단부와 필라멘트(12) 사이에 작용공간(10)이 형성되어 있다.In order to change the capacitance to obtain a uniform resonant frequency, inner and outer equalization rings 8a and 8b are alternately connected to the anode vanes 8 at upper and lower ends thereof, respectively, on the tip side of the anode vanes 8, respectively. On the central axis of the positive electrode body 6, a working space 10 is formed between the front ends of the plurality of positive electrode vanes 8 and the filaments 12.

또한, 작용공간(10) 내에는 텅스텐(W)과 산화토륨(ThO2)의 혼합물로 형성되어 나선형상으로 권선된 필라멘트(12)가 양극체(6)와 동축현상으로 배치되어 있고, 이러한 필라멘트(12)는 외부로부터 제공되는 동작전류에 의해 가열되어 열전자를 방출한다.In addition, in the working space 10, a filament 12 formed of a mixture of tungsten (W) and thorium oxide (ThO 2 ) and wound in a spiral shape is disposed coaxially with the anode body 6. 12 is heated by an operating current provided from the outside to emit hot electrons.

한편, 필라멘트(12)의 양단부에는 방출된 열전자가 중심축 방향으로 방사되는 것을 방지하기 위해 상부 및 하부엔드실드(14, 16)이 각각 고착되어 있는데, 하부엔드실드(16)의 중앙부에는 몰리브덴제의 중앙지지체인 제 1필라멘트전극(20)이 중앙부에 형성된 관통구멍을 통해서 상부엔드실드(14)의 하단부에 용접고착되어 있고, 하부엔드실드(16)의 바닥면에는 몰리브덴제의 제 2필라멘트전극(22)이 용접고착되어 있다.On the other hand, the upper and lower end shields 14 and 16 are fixed to both ends of the filament 12 to prevent radiated hot electrons from radiating in the central axis direction. Molybdenum is formed at the center of the lower end shield 16. The first filament electrode 20, which is a central support of the welding, is welded and fixed to the lower end of the upper end shield 14 through a through hole formed in the center, and a second filament electrode made of molybdenum is formed on the bottom surface of the lower end shield 16. 22) is welded.

여기에서, 제 1 및 제 2필라멘트전극(20, 22)은 마그네트론의 음극을 지지고정하는 절연세라믹(18)에 형성된 관통구멍을 통해 전원단자(28, 30)에 접속되어 있는 제 1 및 제 2 외부접속단자(24, 26)에 전기적으로 접속되어 필라멘트(12)에 전류를 공급하는 캐소드지지대이고, 제 1 필라멘트전극(20)은 필라멘트(12)의 중심축을 관통하면서 상부엔드실드(14)을 지지한다.Here, the first and second external filament electrodes 20 and 22 are connected to the power supply terminals 28 and 30 through through holes formed in the insulating ceramic 18 supporting the cathode of the magnetron. A cathode support is electrically connected to the connection terminals 24 and 26 to supply current to the filament 12. The first filament electrode 20 supports the upper end shield 14 while passing through the central axis of the filament 12. do.

또한, 양극체(6)의 양측개구부에는 필라멘트(12)와 양극베인(8)에 간의 작용공간(10) 내에 자속을 균일하게 형성하도록 자로를 형성하는 상부 및 하부폴리스(32, 34)가 용접고착되어 있는데, 이러한 상부 및 하부폴리스(32, 34)는 깔대기형상의 자성체이다.In addition, both sides of the anode body 6 are welded to the upper and lower polypolises 32 and 34 which form a magnetic path to uniformly form the magnetic flux in the working space 10 between the filament 12 and the anode vane 8. The upper and lower polypolises 32 and 34 are fixed, funnel-shaped magnetic bodies.

그리고, 상부 및 하부폴리스(32, 34)의 상하부에는 상부 및 하부실드컵(36, 38)이 각각 밀착되어 용접고착되어 있고, 상부 및 하부실드컵(36, 38)의 상하부에는 양극체(6)의 내부를 진공상태로 밀봉하기 위하여 안테나세라믹(40) 및 절연세라믹(18)이 밀착되어 용접고착되어 있다.In addition, upper and lower shield cups 36 and 38 are adhered and welded to upper and lower portions of the upper and lower polices 32 and 34, respectively, and anode bodies 6 are disposed on upper and lower shield cups 36 and 38, respectively. The antenna ceramic 40 and the insulating ceramic 18 are brought into close contact with each other in order to seal the inside of the vacuum chamber under vacuum.

또한, 마그네트론의 출력부를 구성하는 상부실드컵(36)의 상부개구단부에는 후술될 안테나캡(42)을 절연시키는 원통형상의 안테나세라믹(40)이 접합되어 있고, 안테나세라믹(40)의 상부측 선단부에는 구리물질인 배기관(44)이 접합되어 있으며, 배기관(44) 내측 중앙부에는 공동공진기 내에서 발진되는 고주파를 출력하기 위해 안테나(46)가 구비되는데, 이러한 안테나(46)은 양극베인(8)으로부터 도출되며, 상부폴피스(32)의 중앙부를 통해 관통되어 축상으로 연장되면서 그 끝부분이 배기관(44)내에 고정되어 있다.In addition, a cylindrical antenna ceramic 40 for insulating the antenna cap 42 to be described later is bonded to the upper opening end of the upper shield cup 36 constituting the output portion of the magnetron, and an upper end portion of the antenna ceramic 40 is connected. The exhaust pipe 44, which is a copper material, is bonded thereto, and an antenna 46 is provided at the inner central portion of the exhaust pipe 44 to output high frequency oscillated in the cavity resonator, and the antenna 46 has a bipolar vane 8. Derived from, it is penetrated through the central portion of the upper pole piece 32 and extends axially, the end is fixed in the exhaust pipe (44).

그리고, 배기관(44)의 외측면에는 배기관(44)의 용접고착부를 보호하고, 전계집중으로 발생되는 스파크를 방지하며, 고주파 안테나의 역할을 하고, 고주파를 외부로 출력하는 창(Window)역할을 하는 안테나세라믹(40)과 안테나캡(42)이 씌워져 있다.In addition, the outer surface of the exhaust pipe 44 protects the welded portion of the exhaust pipe 44, prevents sparks generated by electric field concentration, serves as a high frequency antenna, and serves as a window for outputting high frequency to the outside. An antenna ceramic 40 and an antenna cap 42 are covered.

상기한 바와 같은 구성부재로 이루어진 마그네트론의 동작과정은 하기와 같다.The operation process of the magnetron made of the above-described members is as follows.

먼저, 외부전원이 전원단자(28, 30)를 통해 제 1 및 제 2외부접속단자(24, 26)로 제공되면, 제 1 외부접속단자(24), 제 1필라멘트전극(20), 상부엔드실드(14), 필라멘트(12), 하부엔드실드(16), 제 2필라멘트전극(22), 제 2외부접속단자(26)로 이루어지는 폐회로가 구성되어 필라멘트(12)에 동작전류가 공급된다.First, when an external power source is provided to the first and second external connection terminals 24 and 26 through the power terminals 28 and 30, the first external connection terminal 24, the first filament electrode 20, and the upper end are provided. A closed circuit composed of the shield 14, the filament 12, the lower end shield 16, the second filament electrode 22, and the second external connection terminal 26 is configured to supply an operating current to the filament 12.

그 다음, 필라멘트(12)로 제공되는 동작전류에 의해 필라멘트(12)가 가열되어 필라멘트(12)로부터 열전자가 방출되고, 방출된 열전자에 의한 전자군이 형성된다.Then, the filament 12 is heated by the operating current provided to the filament 12 to emit hot electrons from the filament 12, thereby forming an electron group by the released hot electrons.

이때, 제 2필라멘트전극(22)과 양극부(즉, 양극체(6)와 양극베인(8)에 인가되는 구동전압에 의해 필라멘트(12)와 양극베인(8) 간의 작용공간(10)내에는 강한 전계가 형성되고, 마그네트A(2)와 마그네트K(4)에 의해 발생된 자계가 하부폴피스(34)를 따라 작용공간(10) 쪽으로 인도되어 작용공간(10)을 통해 상부폴피스(32)로 진행하면서 작용공간(10) 내에 높은 자계가 형성된다.At this time, in the working space 10 between the filament 12 and the anode vane 8 by the driving voltage applied to the second filament electrode 22 and the anode portion (that is, the anode body 6 and the anode vane 8). The strong electric field is formed, the magnetic field generated by the magnet A (2) and the magnet K (4) is guided along the lower pole piece 34 toward the working space (10) to the upper pole piece through the working space (10) Proceeding to 32, a high magnetic field is formed in the working space 10.

따라서, 필라멘트(12)로부터 작용공간(10)으로 방출된 열전자로 형성되는 전자군이 작용공간(10) 내에 형성된 강한 전계 및 높은 자계에 의해 양극부(양극체(6)와 양극베인(8)) 방향으로 나선형의 회전운동을 하면서 진행되고, 전자군의 이러한 운동은 작용공간(10)의 모든 공간에서 이루어진다.Therefore, the electron group formed by the hot electrons emitted from the filament 12 into the working space 10 is formed by the strong electric field and the high magnetic field formed in the working space 10, and thus the anode portion (the anode body 6 and the anode vane 8). It proceeds in a spiral rotational motion in the direction of), and this movement of the electron group is performed in all spaces of the working space 10.

따라서, 양극베인(8)과 공동공진기와의 구조적인 공진회로에 따라 열전자들로 형성된 전자군이 양극부(양극체(6)와 양극베인(8)) 방향으로 반복적으로 진행되면서, 전자군이 회전하는 속도에 상응하는 공진주파수인 2450㎒ 의 고주파가 양극베인(8)으로부터 유기된다.Accordingly, the electron group formed of hot electrons is repeatedly moved toward the anode portion (the anode body 6 and the anode vane 8) according to the structural resonance circuit between the anode vane 8 and the cavity resonator. A high frequency of 2450 MHz, which is a resonance frequency corresponding to the speed of rotation, is induced from the anode vanes 8.

그 다음, 양극베인(8)으로부터 유기된 고주파(2450㎒)가 안테나(46)를 통해 배기관(44)으로 전송되고, 웨이브 가이드(Wave Guide)를 통해 전자렌지로 제공된 다음, 분산장치를 통해 전자렌지의 캐비티(Cavity)로 제공되어 캐비티 내의 음식물의 분자들이 초당 24억 5천만번 정도 진동되면서 발생되는 마찰열에 의해 음식물이 조리된다.Then, the high frequency (2450 MHz) induced from the anode vanes 8 is transmitted to the exhaust pipe 44 through the antenna 46, provided to the microwave through the wave guide, and then electrons through the dispersing device. It is provided to the cavity of the stove to cook the food by the frictional heat generated by the molecules in the cavity vibrating about 2.4 billion times per second.

한편, 도 2는 종래의 통상적인 마그네트론의 엔드실드 구조를 도시한 도면이다.On the other hand, Figure 2 is a view showing the end shield structure of a conventional conventional magnetron.

도 1과 도 2를 참조하면 알 수 있듯이, 필라멘트(12)로부터 방출된 열전자에 의한 전자군이 작용공간(10) 내에 형성된 전계와 자계에 의해 나선형의 운동을 하는 중에, A 지점에 도달하게 되면 하부폴피스(34)에 의해 강하게 끌리게되고, 결국 A 지점의 전자군은 하부폴피스(34)에 부딪치게 된다.1 and 2, when the electron group caused by the hot electrons emitted from the filament 12 reaches the point A during the spiral motion by the electric field and the magnetic field formed in the working space 10, It is attracted strongly by the lower pole piece 34, and eventually the electron group at the point A strikes the lower pole piece 34.

이러한 전자군과 하부폴피스(34) 간의 충돌로 인해 하부폴피스(34)에 열이 발생되어 하부폴피스(34)가 녹아내리는 문제점이 있다.Due to the collision between the electron group and the lower pole piece 34, heat is generated in the lower pole piece 34, so that the lower pole piece 34 melts.

따라서, 본 고안은 상기한 바와 같은 종래기술의 문제점을 감안하여 안출한 것으로, 마그네트론 내의 엔드실드의 단면적을 넓게 하여 작용공간 내의 전자군과 하부폴피스와의 충돌을 방지할 수 있는 마그네트론의 엔드실드 구조를 제공하는 데에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention is conceived in view of the problems of the prior art as described above, and the end shield of the magnetron which can prevent the collision between the electron group and the lower pole piece in the working space by widening the cross-sectional area of the end shield in the magnetron. The purpose is to provide a structure.

상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안은,The present invention to achieve the above object,

도 1은 통상의 전형적인 마그네트론의 단면도를 도시한 도면1 shows a cross-sectional view of a typical typical magnetron.

도 2는 종래의 통상적인 마그네트론의 엔드실드 구조를 도시한 도면2 is a view illustrating an end shield structure of a conventional magnetron according to the related art.

도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 마그네트론의 엔드실드 구조를 도시한 도면3 is a view showing the end shield structure of the magnetron according to a preferred embodiment of the present invention

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

2 : 마그네트A : 마그네트K2: Magnet A: Magnet K

6 : 양극체8 : 양극베인6: anode body 8: anode vane

10 : 작용공간12 : 필라멘트10: working space 12: filament

(14, 16) : 엔드실드18 : 절연세라믹(14, 16): End shield 18: Insulated ceramic

(20, 22) : 필라멘트전극(24, 26) : 외부접속단자(20, 22): filament electrode (24, 26): external connection terminal

(28, 30) : 전원단(32, 34) : 폴피스(28, 30): Power stage (32, 34): Pole piece

(36, 38) : 실드컵40 : 안테나세라믹(36, 38): Shield Cup 40: Antenna Ceramic

42 : 안테나캡44 : 배기관42: antenna cap 44: exhaust pipe

46 : 안테나46: antenna

본 고안의 상기 및 기타 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야의 숙련자에 의해 첨부되는 도면을 참조하여 하기에 기술되는 본 고안의 바람직한 실시예를 통해 더욱 확실하게 될 것이다.The above and other objects and various advantages of the present invention will become more apparent through the preferred embodiments of the present invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예에 대하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 고안의 바람직한 실시예에 따른 마그네트론의 엔드실드 구조를 도시한 도면이다.3 is a view showing the end shield structure of the magnetron according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면 알 수 있듯이, 하부엔드실드(16)의 상측부의 단면적이 양극베인(8)과 하부폴피스(34) 사이로 확장되어 취부되어 있고, 이러한 하부엔드실드(16)에 음전압이 인가되어 있다.As can be seen with reference to Figure 3, the cross-sectional area of the upper side of the lower end shield 16 is extended between the anode vane 8 and the lower pole piece 34 is mounted, the negative voltage is applied to the lower end shield 16 It is authorized.

따라서, 작용공간(10)으로 방출된 열전자로 인한 전자군이 나선형의 운동을 하는 중에, A 지점에 도달하게 되는 경우, 양극베인(8)과 하부폴피스(34) 사이로 그단면적인 확장된 하부엔드실드(16)에 인가되어 있는 음전압에 의해 전자군에 반발력이 발생하게 된다.Therefore, when the electron group due to the hot electrons emitted to the working space 10 reaches the point A during the spiral motion, the cross-section that extends in cross section between the anode vane 8 and the lower pole piece 34 The negative force applied to the end shield 16 generates a repulsive force in the electron group.

따라서, 본 고안을 이용하면, 작용공간(10) 내의 전자군과 하부폴피스(34) 간의 충돌이 방지되므로, 전자군과의 충돌로 인한 하부폴피스(34)의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.Therefore, by using the present invention, since the collision between the electron group and the lower pole piece 34 in the working space 10 is prevented, the effect of preventing damage to the lower pole piece 34 due to the collision with the electron group. There is.

Claims (1)

동작전류에 의해 가열되어 열전자를 방출하는 필라멘트와, 공동공진기를 형성하며, 중심축 방향을 향해 등간격으로 각각 형성되는 복수개의 양극베인과, 상기 복수개의 양극베인이 그 내측으로 취부되며, 상기 필라멘트와 상기 복수개의 양극베인을 외측으로 둘러싸는 양극체와, 상기 필라멘트와 상기 복수개의 양극베인 간의 작용공간 내에 자속을 균일하게 형성하도록 자로를 형성하는 상부 및 하부폴피스, 상기 필라멘트로부터 방출된 열전자의 방사를 방지하기 위한 상부 및 하부엔드실드로 이루어진 마그네트론에 있어서, 상기 하부엔드실드는, 그 상측부가 상기 양극베인과 상기 하부폴피스 방향으로 단면적이 소정넓이로 확장된 것을 특징으로 하는 마그네트론의 엔드실드 구조.A plurality of anode vanes, each of which is heated by an operating current to emit hot electrons, and forms a cavity resonator, each of which is formed at equal intervals toward the center axis direction, and the plurality of anode vanes are mounted therein; And upper and lower pole pieces forming a magnetic path to uniformly form magnetic flux in the working space between the filament and the plurality of anode vanes, the hot electrons emitted from the filament. A magnetron comprising an upper and a lower end shield for preventing radiation, wherein the lower end shield has an upper side extending in a predetermined width in a direction toward the anode vane and the lower pole piece. rescue.
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