KR102659360B1 - Malodorous gas treatment system using pretreatment and plasma - Google Patents

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Abstract

본 발명은 악취를 제거함과 난분해성 성분을 효율적으로 정화시킬 수 있는 악취가스 처리 장치이다. 악취를 제거하는 악취 처리 유닛, 악취 처리 유닛 후단에 배치되는 가스 이송 유닛과 가스를 반응하여 정화시키는 플라즈마 처리 유닛을 포함할 수 있다.The present invention is an odor gas treatment device that can remove odors and efficiently purify non-decomposable components. It may include an odor treatment unit that removes odor, a gas transfer unit disposed behind the odor treatment unit, and a plasma treatment unit that reacts and purifies the gas.

Description

전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 장치{Malodorous gas treatment system using pretreatment and plasma}Malodorous gas treatment system using pretreatment and plasma}

본 출원은 다양한 산업분야에서 발생하는 폐가스 내 악취를 제거하고 난분해성 성분을 효율적으로 정화시키는 악취가스 처리 장치에 관한 것이다.This application relates to an odorous gas treatment device that removes odors from waste gases generated in various industrial fields and efficiently purifies non-decomposable components.

산업의 발달에 따라 환경 오염문제는 갈수록 심각해지고 있으며, 오염물질에 대한 규제도 더욱 강화되고 있다. 특히 산업분야에 발생하는 폐가스는 발생원이 다양하고 대기온난화 등 대기오염의 주원인으로 평가되고 있는 난분해성 가스(VOCS, PFCS, NF3, SF6 )뿐만 아니라 악취 유발 물질(NH3, H2S)이 포함되어 있다.With the development of industry, environmental pollution problems are becoming more serious, and regulations on pollutants are becoming more stringent. In particular, waste gases generated in the industrial field have diverse sources and contain not only non-decomposable gases (VOC S , PFC S , NF 3 , SF 6 ), which are evaluated as the main causes of air pollution such as air warming, but also odor-causing substances (NH 3 , H 2 ). S) is included.

기존에는 산업 폐가스 내의 난분해성 폐가스를 무해화 처리하기 위하여 반응시키는 방식을 이용하였으나, 대용량 처리의 한계가 있을 뿐만 아니라 폐가스내 악취를 효과적으로 제거하지 못하는 문제점이 있다.Previously, a reaction method was used to detoxify non-decomposable waste gases in industrial waste gases, but there were limitations in large-capacity treatment and the problem of not being able to effectively remove odors in the waste gases.

본원발명은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 1) 폐가스 내 악취를 효율적으로 제거하고, 2) 악취가 제거된 가스를 후단 반응유닛에 연속적으로 수송하며, 3) 상기 악취가 제거된 가스를 효율적으로 반응하여 정화시키는 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention is intended to solve the conventional problems: 1) efficiently remove odor in waste gas, 2) continuously transport the odor-removed gas to the rear reaction unit, and 3) efficiently remove the odor-removed gas. The purpose is to provide a pretreatment and purification device for malodorous gases using plasma.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본원발명에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 장치는 악취를 제거하는 악취 처리 유닛(100); 상기 악취 처리 유닛(100) 후단에 배치되며, 악취가 제거된 가스를 이송하는 가스 이송 유닛(200);상기 가스 이송 유닛(200)에서 공급되는 가스를 플라즈마 반응처리하는 플라즈마 처리 유닛(300);를 포함하는 악취가스 처리 장치이다.An odor gas treatment device using pretreatment and plasma according to the present invention to solve the above problems includes an odor treatment unit 100 that removes odor; A gas transfer unit 200 disposed at the rear of the odor treatment unit 100 and transporting a gas from which odor has been removed; a plasma processing unit 300 for plasma reaction processing the gas supplied from the gas transfer unit 200; It is an odorous gas treatment device that includes a.

또한, 상기 악취 처리 유닛(100)은 상기 악취 처리 유닛의 전단에 형성된 악취가스를 흡입하는 유입구(110); 상기 악취 처리 유닛의 후단에 형성된 악취가스를 배출하는 배출구(170); 상기 유입구에 인접하여 설치된 미세입자를 제거하는 프리필터(120); 상기 프리필터의 후단에 소정 거리 이격되어 순차적으로 설치되는 제1 광촉매필터(130) 및 제2 광촉매필터(140); 상기 제2 광촉매필터(140) 후단에 소정 거리 이격되어 설치되며, 필터 프레임 내에 충진되는 흡착제와 상기 흡착제 내부에 형성되는 열선을 포함하는 복합필터(150); 상기 악취 처리 유닛에서 상기 프리필터와 상기 제1 광촉매필터 사이 이격 공간 및 상기 제1 광촉매필터와 상기 제2 광촉매필터 사이 이격공간에 설치되며 상기 제1 광촉매필터 및 상기 제2 광촉매필터의 표면에 직접 조사하는 UV램프(160);를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the odor treatment unit 100 includes an inlet 110 for sucking in odor gas formed at the front of the odor treatment unit; An outlet 170 for discharging odor gas formed at the rear end of the odor treatment unit; A pre-filter 120 installed adjacent to the inlet to remove fine particles; A first photocatalyst filter 130 and a second photocatalyst filter 140 which are sequentially installed at a predetermined distance apart from the rear end of the pre-filter; a composite filter (150) installed at a predetermined distance apart from the rear end of the second photocatalytic filter (140) and including an adsorbent filled in a filter frame and a heating wire formed inside the adsorbent; In the odor treatment unit, it is installed in a space between the pre-filter and the first photocatalyst filter and a space between the first photocatalyst filter and the second photocatalyst filter, and is directly on the surfaces of the first photocatalyst filter and the second photocatalyst filter. It is characterized in that it includes a UV lamp (160) for irradiation.

또한, 상기 가스 이송 유닛(200)은 상기 악취 처리 유닛의 배출구를 통해 배출되는 가스를 가압하는 가스 압축기(210); 상기 압축기에서 배출되는 압축가스를 저장하는 리시브(Receive) 탱크(220)를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the gas transfer unit 200 includes a gas compressor 210 that pressurizes the gas discharged through the outlet of the odor treatment unit; It is characterized by including a receive tank 220 that stores the compressed gas discharged from the compressor.

또한, 상기 플라즈마 처리 유닛(300)은 상기 리시브 탱크(220)에서 공급되는 악취제거 가스를 반응하는 제2반응부(340); 상기 제2반응부(340)의 외주면에 구비되며 제2반응부(340)와 연통되도록 설치되는 제1반응부(310); 상기 제1반응부(310)의 상기 제2반응부(340)와 연통되는 일단의 대면 타단에 구비되고, 내부의 전자파 발진에 의해 생성된 플라즈마에 의해 점화된 플라즈마 화염을 상기 제1반응부(310)의 내부 공간으로 발산시키는 플라즈마 처리기(330); 상기 제2반응부의(340)의 하단에 설치되어, 내부의 압력을 제어하고, 상기 제2반응부(340)로부터 배출되는 가스의 와류 형성을 조절하는 압력제어부(350)를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the plasma processing unit 300 includes a second reaction unit 340 that reacts the odor removal gas supplied from the receiving tank 220; A first reaction unit 310 provided on the outer peripheral surface of the second reaction unit 340 and installed to communicate with the second reaction unit 340; It is provided at the other end of the first reaction unit 310, which is in communication with the second reaction unit 340, and sends a plasma flame ignited by plasma generated by internal electromagnetic wave oscillation to the first reaction unit ( A plasma processor 330 that emits plasma into the internal space of 310); It is installed at the bottom of the second reaction unit 340, and includes a pressure control unit 350 that controls the internal pressure and regulates the formation of a vortex of gas discharged from the second reaction unit 340. do.

또한, 상기 플라즈마 처리 유닛(300)은 상기 제2반응부(340)에 하단에 설치된 상기 압력제어부(350)에 대면하는 위치에 형성된 반응가스 배출구(360)를 통해서 배출되는 배가스를 처리하는 배가스 처리유닛(370)을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the plasma processing unit 300 processes exhaust gas discharged through the reaction gas outlet 360 formed at a position facing the pressure control unit 350 installed at the bottom of the second reaction unit 340. Characterized in that it includes a unit 370.

본원 발명에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 장치에 의하면, 다양한 복합오염물질을 제거할 수 있는 전처리 유닛과 고온, 고밀도의 플라즈마 화염을 이용하는 플라즈마 처리유닛을 이용하여 대용량 산업 악취가스를 고효율 정화시킬 수 있다.According to the odor gas treatment device using pretreatment and plasma according to the present invention, large-capacity industrial odor gas can be purified with high efficiency using a pretreatment unit that can remove various complex pollutants and a plasma processing unit that uses a high-temperature, high-density plasma flame. You can.

도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리공정 흐름도이다.
도 2은 본 발명의 일실시 예에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리장치 구성도이다.Figure 1 is a flow chart of an odorous gas treatment process using pretreatment and plasma according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a block diagram of an odorous gas treatment device using pretreatment and plasma according to an embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본원 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본원 발명을 쉽게 실시할 수 있도록 실시예를 통해 상세히 설명한다. 다만, 본원 발명의 바람직한 실시예에 대한 동작 원리를 상세하게 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본원 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, with reference to the attached drawings, the present invention will be described in detail through examples so that those skilled in the art can easily practice the present invention. However, when explaining in detail the operating principle of a preferred embodiment of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known function or configuration may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description will be omitted.

본 출원에서 “포함한다” 또는 “구비하다” 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In this application, terms such as “comprise” or “comprise” are intended to designate the presence of features, numbers, components, parts, or a combination thereof described in the specification, but not one or more other features, numbers, operations, It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the presence or addition of components, parts, or combinations thereof.

또한, 어떤 구성요소를 포함한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In addition, including a certain component does not mean excluding other components unless specifically stated to the contrary, but rather means that other components may be further included.

또한, 다르게 정의되지 않는 한 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Additionally, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as generally understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless clearly defined in the present application, should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense. No.

도 1은 본 발명의 일실시 예에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리공정 흐름도이다.Figure 1 is a flow chart of an odorous gas treatment process using pretreatment and plasma according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 공정은 유입 가스의 악취/VOC/탄화수소 등의 복합 악취를 제거하는 프리필터, 제1 광촉매 필터, 제2 광촉매 필터 및 복합 필터로 구성된 악취 처리 시스템; 상기 악취 처리 시스템을 통해 유입 가스에서 복합 악취를 제거한 제1 정화가스를 이송하는 가스 이송 시스템; 및 상기 가스 이송 시스템을 통해 이송된 제1 정화 가스를 플라즈마 반응기를 통해 플라즈마 반응 처리하여 2차 정화가스를 배가스로 제공하는 플라즈마 처리 시스템으로 구성되어 있다. 여기서, 상기 악취가스 처리 공정은 악취/VOC/탄화수소 등(이하, "복합 악취"라 한다)을 포함하는 가스를 처리할 수 있고, 상기 복합악취를 포함하는 가스를 이하 "악취가스"라 한다.Referring to Figure 1, the odor gas treatment process using pretreatment and plasma of the present invention includes a pre-filter, a first photocatalyst filter, a second photocatalyst filter, and a composite filter that removes complex odors such as odor/VOC/hydrocarbon from the incoming gas. configured odor treatment system; a gas transfer system that transfers a first purified gas from which complex odors have been removed from the incoming gas through the odor treatment system; and a plasma processing system that processes the first purified gas transferred through the gas transfer system through a plasma reaction through a plasma reactor to provide a second purified gas as exhaust gas. Here, the odor gas treatment process can treat gas containing odor/VOC/hydrocarbon, etc. (hereinafter referred to as “complex odor”), and the gas containing the complex odor is hereinafter referred to as “odor gas.”

도 2은 본 발명의 일실시 예에 따른 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리장치 구성도이다.Figure 2 is a configuration diagram of an odorous gas treatment device using pretreatment and plasma according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 전처리와 플라즈마를 이용한 악취가스 처리 장치는 악취 처리 유닛(100), 가스 이송 유닛(200) 및 플라즈마 처리 유닛(300)으로 구성된다.As shown in FIG. 2, the apparatus for treating malodorous gas using pretreatment and plasma of the present invention consists of an malodor treatment unit 100, a gas transfer unit 200, and a plasma processing unit 300.

먼저 도 2에 도시된 바와 같이 본 발명의 악취 처리 유닛(100)의 전단에 구비된 유입구(110)를 통해서 유입된 악취가스는 상기 유입구(110)과 인접하여 설치된 프리필터(120)를 통과하면서 상기 악취가스의 각종 입자상 물질 및 기타 이물질들이 제거된 후, 프리필터(120) 후단에 소정 거리 이격되면서 나란히 이격되어 설치된 제1 광촉매필터(130) 및 제2 광촉매필터(140)을 순차적으로 통과하면서 자외선 및 광촉매 산화반응에 의해 상기 악취가스의 악취성 물질이 제거된다.First, as shown in FIG. 2, the odor gas flowing in through the inlet 110 provided at the front of the odor treatment unit 100 of the present invention passes through the pre-filter 120 installed adjacent to the inlet 110. After various particulate substances and other foreign substances in the odorous gas are removed, it sequentially passes through the first photocatalyst filter 130 and the second photocatalyst filter 140, which are installed side by side at a predetermined distance apart from the prefilter 120. Odorous substances in the odorous gas are removed by ultraviolet rays and photocatalytic oxidation reaction.

또한, 제2 광촉매필터(140)과 소정거리 이격되면서 악취 처리 유닛(100)의 후단부에 설치된 복합필터(150)를 통과하면서 상기 악취가스에 잔존하는 미반응 악취성 물질을 흡착, 제거할 수 있도록 한 후, 악취성 물질을 완전히 제거한 1차 정화가스를 후단에 구비된 배출구(170)를 통해 악취 제거 유닛(100)의 외부로 배출할 수 있도록 구성된다. 이때, 상기 복합필터(150)는 상기 제2 광촉매필터(140) 후단에 소정 거리 이격되어 설치되며, 필터 프레임 내에 충진되는 흡착제와 상기 흡착제 내부에 형성되는 열선을 구비하여 상기 악취가스에 잔존하는 미반응 악취성 물질을 흡착, 제거할 수 있다.In addition, unreacted odorous substances remaining in the odor gas can be adsorbed and removed while passing through the composite filter 150 installed at the rear end of the odor treatment unit 100 while being spaced a predetermined distance from the second photocatalytic filter 140. After this, the primary purified gas from which odorous substances have been completely removed can be discharged to the outside of the odor removal unit 100 through the outlet 170 provided at the rear end. At this time, the composite filter 150 is installed at a predetermined distance apart from the rear end of the second photocatalytic filter 140, and is provided with an adsorbent filled in the filter frame and a heating wire formed inside the adsorbent to remove any remaining traces of the odorous gas. Reactive odorous substances can be adsorbed and removed.

상기 제1 광촉매필터(130) 전단과 제2 광촉매필터(140)의 전단에는 상기 각각의 광촉매필터에 자외선을 조사하는 UV 램프(160)가 소정거리 이격되어 설치되어 있다. 또한, 상기 UV 램프(160)은 상기 프리필터(120)과 상기 제1 광촉매필터(130) 사이 이격공간에 설치되어 있는 제1 UV 램프(161)과 상기 제1 광촉매필터(130)과 상기 제2 광촉매필터(140)사이 이격공간에 설치되어 있는 제2 UV 램프(162)로 구성되어 있다.UV lamps 160 that irradiate ultraviolet rays to each photocatalyst filter are installed at a predetermined distance apart from the front end of the first photocatalyst filter 130 and the second photocatalyst filter 140. In addition, the UV lamp 160 includes a first UV lamp 161 installed in the space between the pre-filter 120 and the first photocatalytic filter 130, the first photocatalytic filter 130, and the first photocatalytic filter 130. It consists of a second UV lamp (162) installed in the space between the two photocatalyst filters (140).

상기 제1 UV 램프(161)은 상기 제1 광촉매필터(130)의 표면을 직접 조사하여 오존(O3)을 발생시킨다. 상기 생성된 오존은 상기 악취가스의 악취성 물질(H2S, CH4 등)을 산화시켜서 완전 무해하게 처리한다. 상기 제1 UV 램프(161)는 바람직하게 150nm 이상 200nm 이하범위의 파장을 조사한다.The first UV lamp 161 generates ozone (O 3 ) by directly irradiating the surface of the first photocatalytic filter 130. The generated ozone oxidizes the odorous substances (H 2 S, CH 4 , etc.) in the odor gas and renders them completely harmless. The first UV lamp 161 preferably radiates a wavelength in the range of 150 nm to 200 nm.

또한, 제2 UV 램프(162)는 상기 제2 광촉매필터(140) 표면을 직접 조사하여 상기 제2 광촉매필터(140) 내부에 수용된 촉매의 표면에서 산소가 반응하여 슈퍼옥사이드 라디칼(O2 -)을 생성하여, 상기 악취가스의 대부분의 악취성 물질 및 VOCS(휘발성유기화합물)을 분해시켜 제거한다. 상기 제2 UV 램프(162)는 바람직하게 350nm 이상 380nm 이하 범위의 파장을 조사한다.In addition, the second UV lamp 162 directly irradiates the surface of the second photocatalyst filter 140 so that oxygen reacts on the surface of the catalyst contained within the second photocatalyst filter 140 to form superoxide radicals (O 2 - ). By generating, most of the odorous substances and VOC S (volatile organic compounds) of the odorous gas are decomposed and removed. The second UV lamp 162 preferably radiates a wavelength in the range of 350 nm to 380 nm.

또한, 상기 제2 광촉매필터(140)를 통과한 악취가스는 복합필터(150)에 의해 잔류하는 악취성 물질과 기타 오염물질이 제거되어 최종적으로 악취가 제거된 1차 정화가스를 악취 제거 유닛(100)의 외부로 배출한다.In addition, the odorous gas that has passed through the second photocatalytic filter 140 has its remaining odorous substances and other contaminants removed by the composite filter 150, and the first purified gas from which the odor has been removed is finally transferred to the odor removal unit ( 100) is discharged to the outside.

상기 악취 처리 유닛(100)으로부터 배출되는 1차 정화가스는 가스 이송 유닛(200)을 통하여 후단 플라즈마 처리 유닛(300)에 공급된다.The primary purification gas discharged from the odor treatment unit 100 is supplied to the downstream plasma treatment unit 300 through the gas transfer unit 200.

상기 가스 이송 유닛(200)의 전단에 구비된 가스 압축기(210)를 이용하여 상기 악취 처리 유닛(100)에서 배출되는 1차 정화가스를 가압하여 후단 리시브 탱크(220)에 공급한다. 상기 리시브 탱크(220)는 1차 정화가스를 후단 플라즈마 처리 유닛(300)의 한 개 혹은 다수개의 가스 주입부(320)에 정량적으로 공급하기 위한 가스 저장조 역할을 한다. 상기 가스 압축기(210)의 운전 압력은 상기 악취 처리 유닛(100)에서 배출되는 1차 정화가스를 상기 플라즈마 처리 유닛(300)에 안정적으로 공급하여 안정적으로 운전할 수 있는 압력범위로 특히 한정되지 않는다.The primary purified gas discharged from the odor treatment unit 100 is pressurized using a gas compressor 210 provided at the front of the gas transfer unit 200 and supplied to the rear receiving tank 220. The receiving tank 220 serves as a gas storage tank to quantitatively supply the primary purified gas to one or more gas injection units 320 of the downstream plasma processing unit 300. The operating pressure of the gas compressor 210 is not particularly limited to a pressure range that can be stably operated by stably supplying the primary purification gas discharged from the odor treatment unit 100 to the plasma processing unit 300.

상기 가스 이송 유닛(200)에서 공급되는 1차 정화가스는 제1반응부(310)의 외주면의 일측에 형성되어 있는 가스 주입부(320)를 통하여 플라즈마 처리 유닛(300)에 공급된다. 제1반응부(310)에서 상기 공급된 1차 정화가스와 상기 플라즈마 처리기(330)로부터 점화된 플라즈마 화염이 혼합되어 반응한다.The primary purification gas supplied from the gas transfer unit 200 is supplied to the plasma processing unit 300 through the gas injection unit 320 formed on one side of the outer peripheral surface of the first reaction unit 310. In the first reaction unit 310, the supplied primary purification gas and the plasma flame ignited from the plasma processor 330 are mixed and reacted.

또한, 상기 제1반응부(310)에서 생성되는 가스는 제2반응부(340) 내부에 공급되어, 2차 반응을 한다. 상기 제2반응부(340) 내부는 하단에 설치된 압력제어부(350)에 의해 와류 형성이 조절되고, 2차 반응 후 플라즈마 처리된 반응가스는 2차 정화가스로서 제2반응부(340)의 상단에 구비된 반응가스 배출구(360)를 통하여 배출된다.Additionally, the gas generated in the first reaction unit 310 is supplied into the second reaction unit 340 and undergoes a secondary reaction. Inside the second reaction unit 340, vortex formation is controlled by the pressure control unit 350 installed at the bottom, and the reaction gas treated with plasma after the secondary reaction is a secondary purification gas and is disposed at the top of the second reaction unit 340. It is discharged through the reaction gas outlet 360 provided in .

또한, 상기 반응가스 배출구(360)을 통해 배출된 2차 정화가스는 후단에 설치된 배가스 처리 유닛(370)을 통해 잔재 오염물질 제거한 후 대기로 배출될 수 있다.In addition, the secondary purification gas discharged through the reaction gas outlet 360 may be discharged into the atmosphere after removing remaining contaminants through the exhaust gas treatment unit 370 installed at the rear.

본원 발명이 속한 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본원 발명의 범주내에서 다양한 응용 및 변형을 수행하는 것이 가능할 것이다.Those of ordinary skill in the field to which the present invention pertains will be able to perform various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above contents.

100: 악취 처리 유닛
110: 유입구
120: 프리필터
130: 제1 광촉매필터
140: 제2 광촉매필터
150: 복합필터
160: UV 램프
161: 제1 UV 램프
162: 제2 UV 램프
170: 배출구
200: 가스 이송 유닛
210: 가스 압축기
220: 리시브 탱크
300: 플라즈마 처리 유닛
310: 제1반응부
320: 가스 주입부
330: 플라즈마 처리기
340: 제2반응부
350: 압력제어부
360: 반응가스 배출구
370: 배가스 처리 유닛100: Odor treatment unit
110: inlet
120: Pre-filter
130: First photocatalyst filter
140: Second photocatalyst filter
150: Complex filter
160: UV lamp
161: first UV lamp
162: second UV lamp
170: outlet
200: gas transfer unit
210: gas compressor
220: Receive Tank
300: Plasma processing unit
310: first reaction unit
320: gas injection part
330: Plasma processor
340: Second reaction unit
350: Pressure control unit
360: reaction gas outlet
370: Flue gas treatment unit

Claims (5)

유입된 악취가스의 복합악취를 제거하는 악취 처리 유닛;
상기 악취 처리 유닛 후단에 배치되며, 상기 복합악취가 제거된 1차 정화가스를 이송하는 가스 이송 유닛; 및
상기 가스 이송 유닛에서 공급되는 1차 정화가스를 플라즈마 반응처리하는 플라즈마 처리 유닛;을 포함하고,
상기 악취 처리 유닛은, 상기 악취 처리 유닛의 전단에 형성되어 상기 악취가스를 흡입하는 유입구; 상기 유입구를 통해서 유입된 악취가스에서 미세입자를 제거하는 프리필터; 상기 프리필터의 후단에 소정 거리 이격되어 순차적으로 설치되어 상기 악취가스가 순차적으로 통과되게 하면서 광촉매 산화반응 처리하는 제1 광촉매필터 및 제2 광촉매필터; 상기 프리필터와 상기 제1 광촉매필터 사이 이격 공간 및 상기 제1 광촉매필터와 상기 제2 광촉매필터 사이 이격공간에 설치되며 상기 제1 광촉매필터 및 상기 제2 광촉매필터의 표면에 자외선을 직접 조사하는 UV램프; 상기 제2 광촉매필터 후단에 소정 거리 이격되어 설치되며, 필터 프레임 내에 충진되는 흡착제와 상기 흡착제 내부에 형성되는 열선을 포함하여 상기 악취가스에 잔존하는 미반응 악취성 물질을 흡착, 제거하는 복합필터; 및 상기 악취 처리 유닛의 후단에 형성되어 상기 복합필터를 통과하여 1차 정화가스를 상기 악취 처리 유닛의 외부로 배출하는 배출구;를 포함하고,
상기 가스 이송 유닛은, 상기 배출구를 통해 배출되는 1차 정화가스를 가압하는 가스 압축기; 및 상기 가스 압축기에서 배출되는 압축가스를 저장하는 리시브(Receive) 탱크;를 포함하고,
상기 플라즈마 처리 유닛은, 상기 리시브 탱크에서 공급되는 압축가스와 플라즈마 반응하는 공간으로서 중심부의 제2 반응부; 상기 제2반응부의 외주면에 설치되며 상기 제2반응부와 연통되도록 설치되는 제1 반응부; 상기 제1반응부의 외주면의 일측에 형성되어 상기 리시브 탱크에서 저장된 압축가스의 1차 정화가스를 상기 제1반응부에 제공하는 가스 주입부; 상기 제1반응부의 상기 제2반응부와 연통되는 일단의 대면 타단에 설치되고, 내부의 전자파 발진에 의해 생성된 플라즈마에 의해 점화된 플라즈마 화염을 상기 제1반응부의 내부 공간으로 발산시키는 플라즈마 처리기; 및 상기 제2반응부의 하단에 설치되어, 내부의 압력을 제어하고, 상기 제2반응부로부터 배출되는 가스의 와류 형성을 조절하는 압력제어부;를 포함하여,
상기 제1반응부에서 상기 1차 정화가스와 상기 플라즈마 처리기로부터 점화된 플라즈마 화염이 혼합되어 1차 플라즈마 반응하고,
상기 제1반응부에서 생성되는 1차 플라즈마 반응가스는 상기 제2반응부의 내부에 공급되어 2차 플라즈마 반응처리하여 2차 정화가스를 배출하는 것을 특징으로 하는 악취가스 처리 장치.An odor treatment unit that removes complex odors from incoming odor gases;
a gas transfer unit disposed at a rear end of the odor treatment unit and transferring a primary purification gas from which the complex odor has been removed; and
It includes a plasma processing unit for plasma reaction processing the primary purification gas supplied from the gas transfer unit,
The malodor treatment unit includes an inlet formed at the front of the malodor treatment unit to suck the malodor gas; A pre-filter that removes fine particles from the odorous gas introduced through the inlet; a first photocatalyst filter and a second photocatalyst filter which are sequentially installed at a predetermined distance apart from the pre-filter and undergo photocatalytic oxidation reaction while sequentially passing the odor gas; UV is installed in the space between the pre-filter and the first photocatalyst filter and the space between the first photocatalyst filter and the second photocatalyst filter and directly irradiates ultraviolet rays to the surfaces of the first photocatalyst filter and the second photocatalyst filter. lamp; A composite filter installed at a predetermined distance behind the second photocatalytic filter and including an adsorbent filled in the filter frame and a heating wire formed inside the adsorbent to adsorb and remove unreacted odorous substances remaining in the odorous gas; and an outlet formed at a rear end of the odor treatment unit to discharge the primary purification gas through the composite filter to the outside of the odor treatment unit,
The gas transfer unit includes a gas compressor that pressurizes the primary purified gas discharged through the outlet; And a receive tank that stores the compressed gas discharged from the gas compressor,
The plasma processing unit includes a second reaction portion at the center as a space for plasma reaction with compressed gas supplied from the receiving tank; a first reaction unit installed on the outer peripheral surface of the second reaction unit and in communication with the second reaction unit; a gas injection unit formed on one side of the outer peripheral surface of the first reaction unit to provide a primary purification gas of the compressed gas stored in the receiving tank to the first reaction unit; a plasma processor installed at the other end of the first reaction unit in communication with the second reaction unit, and dispersing a plasma flame ignited by plasma generated by internal electromagnetic wave oscillation into the internal space of the first reaction unit; And a pressure control unit installed at the bottom of the second reaction unit to control the internal pressure and the vortex formation of the gas discharged from the second reaction unit.
In the first reaction unit, the primary purge gas and the plasma flame ignited from the plasma processor are mixed and undergo a primary plasma reaction,
The first plasma reaction gas generated in the first reaction unit is supplied to the inside of the second reaction unit, undergoes secondary plasma reaction treatment, and discharges a second purification gas. 제1항에 있어서,
상기 플라즈마 처리 유닛은,
상기 제2반응부에 하단에 설치된 상기 압력제어부에 대면하는 위치에 형성된 반응가스 배출구를 형성하고,
상기 반응가스를 통해 배출되는 2차 정화가스를 처리하는 배가스 처리유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 악취가스 처리 장치.According to paragraph 1,
The plasma processing unit,
Forming a reaction gas outlet formed at a position facing the pressure control unit installed at the bottom of the second reaction unit,
An odorous gas treatment device comprising an exhaust gas treatment unit that processes secondary purification gas discharged through the reaction gas. 제1항에 있어서,
상기 UV 램프은, 상기 프리필터와 상기 제1 광촉매필터 사이 이격공간에 설치되어 있는 제1 UV 램프와,
상기 제1 광촉매필터와 상기 제2 광촉매필터 사이 이격공간에 설치되어 있는 제2 UV 램프 구성되고,
상기 제1 UV 램프는 상기 제1 광촉매필터의 표면을 직접 조사하여 오존(O3)을 발생시키고 생성된 오존을 통해 상기 악취가스의 악취성 물질을 산화시키고,
상기 제2 UV 램프는 상기 제2 광촉매필터의 표면을 직접 조사하여 상기 제2 광촉매필터 내부에 수용된 촉매의 표면에서 산소가 반응하여 슈퍼옥사이드 라디칼(O2 -)을 생성하여, 상기 악취가스의 악취성 물질 및 VOCS 분해시켜 제거하는 것을 특징으로 하는 악취가스 처리 장치.According to paragraph 1,
The UV lamp includes a first UV lamp installed in the space between the pre-filter and the first photocatalyst filter,
Consisting of a second UV lamp installed in the space between the first photocatalyst filter and the second photocatalyst filter,
The first UV lamp directly irradiates the surface of the first photocatalytic filter to generate ozone (O 3 ) and oxidizes the odorous substances in the odorous gas through the generated ozone,
The second UV lamp directly irradiates the surface of the second photocatalyst filter, and oxygen reacts on the surface of the catalyst accommodated inside the second photocatalyst filter to generate superoxide radicals (O 2 - ), thereby eliminating the odor of the odor gas. An odor gas treatment device characterized in that it decomposes and removes toxic substances and VOC S. 삭제delete 삭제delete
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