KR102653731B1 - Organic compound and light emitting diode and organic light emitting diode display device using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group, electron acceptor)가 치환되어, 우수한 정공 주입 특성 및 전하 생성 특성을 가지는 유기 화합물 및 상기 유기 화합물이 적어도 하나의 유기물층에 적용된 발광다이오드 및 표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to a conjugated benzene ring constituting a fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or an aromatic moiety directly or indirectly connected to the benzene ring. It relates to an organic compound in which an electron withdrawing group (electron acceptor) is substituted and has excellent hole injection and charge generation characteristics, and to a light emitting diode and display device in which the organic compound is applied to at least one organic material layer.

Description

유기 화합물과 이를 이용한 발광다이오드 및 유기발광다이오드 표시장치{ORGANIC COMPOUND AND LIGHT EMITTING DIODE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE USING THE SAME}Organic compounds and light emitting diodes and organic light emitting diode display devices using the same {ORGANIC COMPOUND AND LIGHT EMITTING DIODE AND ORGANIC LIGHT EMITTING DIODE DISPLAY DEVICE USING THE SAME}

본 발명은 유기발광다이오드에 사용되는 유기 화합물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 전하 이동 특성 및 정공 주입 특성이 우수하여 발광다이오드의 구동 전압을 낮출 수 있는 유기 화합물과, 이를 이용한 발광 다이오드 및 유기발광다이오드 표시장치에 관한 것이다. The present invention relates to organic compounds used in organic light-emitting diodes, and more specifically, to organic compounds that have excellent charge transfer characteristics and hole injection characteristics and can lower the driving voltage of light-emitting diodes, and light-emitting diodes and organic light-emitting diodes using the same. It's about the display device.

최근 표시장치의 대형화에 따라 공간 점유가 적은 평면표시소자의 요구가 증대되고 있는데, 이러한 평면표시소자 중 하나로서 발광다이오드를 포함하며 유기전계발광소자(organic electroluminescent device: OELD)라고도 불리는 유기발광다이오드표시장치(organic light emitting diode (OLED) display device)의 기술이 빠른 속도로 발전하고 있다.Recently, as display devices have become larger, the demand for flat display devices that occupy less space is increasing. One of these flat display devices is an organic light emitting diode display, which includes a light emitting diode and is also called an organic electroluminescent device (OELD). The technology of organic light emitting diode (OLED) display devices is developing at a rapid pace.

발광다이오드는 전자 주입 전극(음극)과 정공 주입 전극(양극) 사이에 형성된 유기발광층에 전하를 주입하면 전자와 정공이 쌍을 이룬 후 소멸하면서 빛을 내는 소자이다. 전자와 정공이 만나서 엑시톤(Exciton)을 형성하고 이것이 바닥상태(ground state)로 에너지 천이가 발생하면서 빛이 발생한다. 이를 채택한 유기발광다이오드 표시장치는 플라스틱 같은 휠 수 있는(flexible) 투명 기판 위에도 소자를 형성할 수 있을 뿐 아니라, 낮은 전압에서 (10V이하) 구동이 가능하고, 또한 전력 소모가 비교적 적으며, 색순도가 뛰어나다는 장점이 있다. 뿐만 아니라, 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device, LCD)의 백라이트 유닛을 발광다이오드의 발광 화소부가 대체할 수 있으므로, 매우 얇은 디스플레이를 구현할 수 있다. A light-emitting diode is a device that emits light when charge is injected into the organic light-emitting layer formed between the electron injection electrode (cathode) and the hole injection electrode (anode), the electrons and holes pair and then disappear. When electrons and holes meet, they form exciton, and when energy transitions to the ground state, light is generated. The organic light emitting diode display device that adopts this not only can form elements on flexible transparent substrates such as plastic, but can also be driven at low voltage (10V or less), consumes relatively little power, and has excellent color purity. It has the advantage of being outstanding. In addition, since the backlight unit of a liquid crystal display device (LCD) can be replaced with the light-emitting pixel part of a light-emitting diode, a very thin display can be implemented.

유기발광층은 발광물질층의 단일층 구조를 갖거나, 발광 효율 향상을 위해 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 유기발광층은, 정공주입층(hole injection layer, HIL), 정공수송층(hole transporting layer; HTL), 발광물질층(emitting material layer; EML), 전자수송층(electron transporting layer, ETL) 및 전자주입층(electron injection layer, EIL)으로 구성되는 다층 구조를 가질 수 있다. The organic light emitting layer may have a single layer structure of the light emitting material layer, or may have a multilayer structure to improve light emitting efficiency. For example, the organic light-emitting layer includes a hole injection layer (HIL), a hole transporting layer (HTL), an emitting material layer (EML), an electron transporting layer (ETL), and It may have a multi-layer structure consisting of an electron injection layer (EIL).

유기발광다이오드를 제작하는 과정을 간단히 살펴보면,Briefly looking at the process of manufacturing organic light emitting diodes,

(1) 먼저, 투명기판 위에 인듐-틴-옥사이드(indium tin oxide; ITO)와 같은 물질을 증착하여 양극(anode)을 형성한다.(1) First, a material such as indium tin oxide (ITO) is deposited on a transparent substrate to form an anode.

(2) 상기 양극 상에 정공주입층(HIL: hole injection layer)을 5 nm 내지 30 nm 두께로 형성한다. (2) A hole injection layer (HIL) is formed on the anode to a thickness of 5 nm to 30 nm.

(3) 다음, 상기 정공주입층 상에 정공수송층을 형성한다. 이러한 정공수송층은 4,4'-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]-biphenyl(NPB)과 같은 유기물을 30 nm 내지 70 nm 정도 증착하여 형성된다. 인광 소자의 경우, 삼중항 엑시톤을 발광물질층 내에 효과적으로 가두기 위하여, 정공수송층과 발광물질층 사이에 전자차단층(EBL: electron blocking layer)과 같은 엑시톤 차단층을 형성하기도 한다. (3) Next, a hole transport layer is formed on the hole injection layer. This hole transport layer is formed by depositing an organic material such as 4,4'-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]-biphenyl (NPB) to a thickness of approximately 30 nm to 70 nm. In the case of phosphorescent devices, in order to effectively confine triplet excitons within the light-emitting material layer, an exciton blocking layer such as an electron blocking layer (EBL) is sometimes formed between the hole transport layer and the light-emitting material layer.

(4) 다음, 상기 정공수송층 상에 발광물질층 (EML: emitting material layer)을 형성한다. 상기 발광물질층은 적절한 호스트(host)와 도펀트(dopant)를 포함할 수 있다. (4) Next, an emitting material layer (EML) is formed on the hole transport layer. The light emitting material layer may include an appropriate host and dopant.

(5) 다음, 상기 발광물질층 상에 전자수송층(ETL: electron transport layer) 및 전자주입층(EIL: electron injecting layer)을 형성한다. 예를 들어, 전자수송층으로 tris(8-hydroxy-quinolate)aluminum (Alq3)을 이용하고, 전자주입층으로 LiF를 이용한다. 인광 소자의 경우, 삼중항 엑시톤을 발광물질층 내에 효과적으로 가두기 위해, 전자수송층 형성 전에 정공차단층(HBL: hole blocking layer)을 형성할 수 있다.(5) Next, an electron transport layer (ETL) and an electron injecting layer (EIL) are formed on the light emitting material layer. For example, tris(8-hydroxy-quinolate)aluminum (Alq 3 ) is used as the electron transport layer, and LiF is used as the electron injection layer. In the case of a phosphorescent device, a hole blocking layer (HBL) may be formed before forming the electron transport layer in order to effectively confine triplet excitons within the light emitting material layer.

(6) 다음, 상기 전자주입층 상에 음극(cathode)을 형성한다.(6) Next, a cathode is formed on the electron injection layer.

종래 발광다이오드에서 정공주입층이나 정공수송층 소재는 미국특허 제4,720,432호 및 미국특허 제5,061,569호에 기재된 방향족 디아민 유도체나 방향족 축합 디아민 유도체가 알려져 있다. 상업적으로, 정공주입층이나 정공수송층에 사용되는 디아민 또는 폴리아민 소재로는 DNTPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis-[4-(phenyl-m-tolyl-amino)-phenyl]-biphenyl-4,4'-diamine), NPB(N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenylbenzidine)와 같은 방향족 디아민 유도체가 많이 알려져 있다. In conventional light emitting diodes, aromatic diamine derivatives or aromatic condensed diamine derivatives described in U.S. Patent No. 4,720,432 and U.S. Patent No. 5,061,569 are known as materials for the hole injection layer or hole transport layer. Commercially, the diamine or polyamine material used in the hole injection layer or hole transport layer is DNTPD (N,N'-diphenyl-N,N'-bis-[4-(phenyl-m-tolyl-amino)-phenyl]- Many aromatic diamine derivatives such as biphenyl-4,4'-diamine) and NPB (N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenylbenzidine) are known.

그러나, DNTPD 또는 NPB를 이용하여 정공주입층을 형성할 경우, 정공주입층과 정공수송층 사이의 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital) 에너지 레벨의 차이로 인하여 정공 주입이 어렵게 되고 발광다이오드의 구동 전압이 상승하는 문제가 있다. 또한, 전하생성층을 형성할 경우, 높은 LUMO 값으로 인하여 전하가 생성되지 않는다(DNTPD의 HOMO 값은 -5.1 eV이고, LUMO 값은 -2.0 eV이다.). 결국, 충분한 발광 휘도를 얻기 위해 높은 인가 전압이 요구되는데, 높은 구동 전압과 전류 밀도는 소자를 구성하는 재료에 강한 스트레스가 가해진다. 따라서 재료의 안정성 및 소자 수명에 영향을 미쳐, 소자 수명 저하 및 소비 전력이 커지는 문제점을 갖고 있다. However, when forming a hole injection layer using DNTPD or NPB, hole injection becomes difficult due to the difference in HOMO (Highest Occupied Molecular Orbital) energy level between the hole injection layer and the hole transport layer, and the driving voltage of the light emitting diode increases. there is a problem. Additionally, when forming a charge generation layer, charges are not generated due to the high LUMO value (the HOMO value of DNTPD is -5.1 eV and the LUMO value is -2.0 eV). Ultimately, a high applied voltage is required to obtain sufficient luminance, and high driving voltage and current density place strong stress on the materials that make up the device. Therefore, it affects the stability of the material and the lifespan of the device, causing problems such as lowering the lifespan of the device and increasing power consumption.

이를 해결하기 위하여 미국 특허 제6,566,807호에서는 정공수송층에 전자 수용성(electron acceptor) 화합물을 도핑하거나 별도의 층을 형성하는 방법이 제안되었다. 하지만, 전자 수용성 화합물은 발광다이오드 소자의 제조 공정에서 취급상 불안정하거나 구동 시에 내열성 등의 안정성이 부족하여, 수명이 저하된다는 문제점이 있다. To solve this problem, US Patent No. 6,566,807 proposed a method of doping the hole transport layer with an electron acceptor compound or forming a separate layer. However, electron-accepting compounds are unstable in handling during the manufacturing process of light-emitting diode devices or lack stability such as heat resistance during operation, which reduces their lifespan.

예를 들어, 발광다이오드 소자에 사용되는 대표적인 전자 수용성 화합물인 F4-TCNQ(테트라플루오로디시아노퀴노디메탄)은 분자량이 작고 불소로 치환되어 있어 쉽게 승화되며, 진공 증착 시에 장치 내에 확산되어 장치나 소자를 오염시킬 우려가 있다. 또한 HATCN(1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylenehexacarbonitrile)은 결정화로 인하여 증착 두께에 제약이 있으며 전류가 누설되는 문제점을 가지고 있다. For example, F4-TCNQ (tetrafluorodicyanoquinodimethane), a representative electron-accepting compound used in light-emitting diode devices, has a small molecular weight and is substituted with fluorine, so it is easily sublimated and diffuses into the device during vacuum deposition. There is a risk of contaminating the device. Additionally, HATCN (1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylenehexacarbonitrile) has limitations in deposition thickness due to crystallization and has problems with current leakage.

한편, 발광다이오드의 성능을 더욱 개선시키고 백색 발광다이오드를 구현할 수 있도록, 복수의 단위 소자들을 적층(stack)시킴으로써 제조되는 적층식(tandem type) 발광다이오드가 제안되었다. 이러한 적층식 발광다이오드는, 양극과 음극에서 한 쌍의 정공과 전자가 주입될 때, 발광물질층의 개수만큼 전류 밀도 당 발광 효율은 증가하지만, 두께가 증가하기 때문에 높은 구동 전압과 소비 전력의 문제가 발생한다. 따라서 각 단위 소자에 양전하 및 음전하를 각각 공급하기 위하여 각 단위 소자들 사이에 배치되는 전하 생성층(charge generation layer, CGL)을 갖는다. Meanwhile, in order to further improve the performance of the light emitting diode and implement a white light emitting diode, a tandem type light emitting diode manufactured by stacking a plurality of unit devices has been proposed. In these stacked light emitting diodes, when a pair of holes and electrons are injected from the anode and cathode, the luminous efficiency per current density increases by the number of light emitting material layers, but due to the increased thickness, there are problems with high driving voltage and power consumption. occurs. Therefore, in order to supply positive and negative charges to each unit device, there is a charge generation layer (CGL) disposed between each unit device.

전술한 것과 같이, 높은 구동 전압과 높은 전류 밀도는 소자의 수명에 영향을 미칠 수 있으므로, 유기물층의 에너지 준위를 조절하여 발광다이오드의 효율을 높이고 소비 전력을 낮출 필요가 있다. 특히, 발광다이오드 소자의 전극은 금속이나 금속산화물로 구성된다. 따라서 이러한 무기물과 전하 주입 물질로 사용되는 물질 사이의 계면이 안정되지 않는 경우, 외부로부터 가해지는 열이나 내부로부터 발생되는 열 또는 소자에 가해지는 전기장에 의해 소자의 성능이 현격히 저하될 수 있다. 따라서 전극과의 안정적인 계면을 형성하면서 높은 전하 수송 능력을 갖는 물질의 개발이 요구되고 있다.As mentioned above, high driving voltage and high current density can affect the lifespan of the device, so it is necessary to adjust the energy level of the organic layer to increase the efficiency of the light emitting diode and reduce power consumption. In particular, the electrode of a light emitting diode device is made of metal or metal oxide. Therefore, if the interface between the inorganic material and the material used as the charge injection material is not stable, the performance of the device may be significantly deteriorated due to heat applied from the outside, heat generated from the inside, or electric field applied to the device. Therefore, there is a need to develop materials that have high charge transport ability while forming a stable interface with the electrode.

본 발명의 목적은 우수한 전하 수송 능력을 가지고 있으며, 유기물층을 손상하지 않는 유기 화합물 및 상기 유기 화합물을 전하 수송 특성이 요구되는 유기물층에 함유하는 발광다이오드 및 표시장치를 제공하고자 하는 것이다. The purpose of the present invention is to provide an organic compound that has excellent charge transport ability and does not damage the organic material layer, and a light emitting diode and display device containing the organic compound in an organic material layer requiring charge transport properties.

본 발명의 다른 목적은 발광다이오드 소자의 구동 전압을 증가시키지 않으면서도 전하 수송 능력을 향상시킬 수 있는 유기 화합물 및 상기 유기 화합물을 유기물층에 포함하는 발광다이오드 및 표시장치를 제공하고자 하는 것이다. Another object of the present invention is to provide an organic compound capable of improving charge transport ability without increasing the driving voltage of the light emitting diode device, and a light emitting diode and display device including the organic compound in an organic material layer.

본 발명의 일 측면에 따르면, 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹이 치환된 유기 화합물을 제공한다. 상기 유기 화합물은 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는다. According to one aspect of the present invention, a conjugated benzene ring constituting the fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or directly or indirectly connected to the benzene ring. Provides an organic compound in which a strong electron-withdrawing group is substituted on the aromatic moiety. The organic compound has excellent hole injection and charge generation characteristics.

특히, 이 화합물은 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(Deep Lowest Unoccupied Molecular Orbital, deep LUMO)를 가지고 있다. 따라서 정공 수송 능력이 우수한 유기물(Hole Transporting material, HTM)과 인접하여, HTM로부터 전자를 받아 양극으로 이동시키고, 정공은 발광물질층으로 이동시킬 수 있다. 따라서 단일 발광층에서 이 물질은 정공주입층 및/또는 정공수송층에 적용될 수 있고, 적층 구조의 발광다이오드에서는 전하 생성층으로 적용될 수 있다. In particular, this compound has a deep lowest unoccupied molecular orbital (deep LUMO). Therefore, when adjacent to an organic material (Hole Transporting material, HTM) with excellent hole transport ability, electrons can be received from the HTM and moved to the anode, and holes can be moved to the light-emitting material layer. Therefore, in a single light emitting layer, this material can be applied to the hole injection layer and/or hole transport layer, and in a light emitting diode with a stacked structure, it can be applied as a charge generation layer.

따라서 본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명은 상기 유기 화합물이 정공 주입 및/또는 전하 생성이 요구되는 유기물층에 포함되어 있는 발광다이오드에 관한 것이다. Therefore, according to another aspect of the present invention, the present invention relates to a light emitting diode in which the organic compound is included in an organic material layer requiring hole injection and/or charge generation.

즉, 본 발명은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹이 치환된 유기 화합물이 예를 들어 정공주입층과 같은 정공층이나, 전하 생성층에 단독으로 또는 이들 유기물층에 사용되는 호스트 물질과 함께 도펀트로서 도핑되어 있는 발광다이오드를 제공한다. That is, the present invention relates to a conjugated benzene ring constituting a fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or an aromatic moiety directly or indirectly connected to the benzene ring. A light emitting diode is provided in which an organic compound substituted with a strong electron-attracting group is doped as a dopant in, for example, a hole layer such as a hole injection layer or a charge generation layer, either alone or together with a host material used in these organic layers.

또한, 본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹이 치환된 유기 화합물이 정공 주입 특성 및/또는 전하 생성 특성이 요구되는 유기물층에 함유되어 있는 발광다이오드를 포함하는 표시장치를 제공한다. In addition, according to another aspect of the present invention, the present invention relates to a conjugated benzene ring constituting a fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or to the benzene ring. Provided is a display device including a light emitting diode in which an organic compound substituted with an aromatic moiety directly or indirectly connected to a strong electron-withdrawing group is contained in an organic material layer requiring hole injection characteristics and/or charge generation characteristics.

본 발명은, 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group, electron acceptor)이 치환되는 구조를 가지고 있어 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는 유기 화합물을 제안한다. 즉, 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹이 치환되어 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(Deep Lowest Unoccupied Molecular Orbital, deep LUMO)를 가지고 있어서 정공 이동 특성과 전하 생성 특성이 향상된다.The present invention relates to a conjugated benzene ring constituting a fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or an aromatic moiety directly or indirectly connected to the benzene ring. We propose an organic compound with excellent hole injection and charge generation characteristics as it has a structure in which a strong electron withdrawing group (electron acceptor) is substituted. That is, electrons strong in the conjugated benzene ring constituting the fused ring derivative core and/or other aromatic rings conjugated to the benzene ring and/or aromatic moieties directly or indirectly connected to the benzene ring. The attractor group is substituted to have a deep lowest unoccupied molecular orbital (deep LUMO), which improves hole transfer characteristics and charge generation characteristics.

본 발명의 유기 화합물로 이루어지는 전자주입층을 포함하는 발광다이오드와 유기발광다이오드 표시장치는 낮은 전압에 의해 구동될 수 있기 때문에, 소비 전력이 감소한다.Since the light emitting diode and organic light emitting diode display device including the electron injection layer made of the organic compound of the present invention can be driven by low voltage, power consumption is reduced.

또한, 본 발명의 유기 화합물로 이루어지는 전하생성층을 포함하는 적층 구조의 발광다이오드와 유기발광다이오드 표시장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력이 감소하며 고 순도의 백색 구현이 가능한 장점을 갖는다.In addition, the light emitting diode and organic light emitting diode display device having a stacked structure including a charge generation layer made of an organic compound of the present invention have the advantage of reducing power consumption by driving at a low voltage and realizing high purity white color.

도 1은 본 발명의 예시적인 제 1 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 예시적인 제 2 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 예시적인 제 3 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 예시적인 제 4 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 예시적인 제 5 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 6은 본 발명의 예시적인 제 6 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 7은 본 발명의 예시적인 제 7 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 8은 본 발명의 예시적인 제 8 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.
도 9는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 개략적인 단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 각각 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 제조된 발광다이오드에 대한 전류 밀도를 측정한 결과를 도시한 그래프이다.
도 11a 및 도 11b는 각각 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 제조된 발광다이오드에 대한 발광 휘도를 측정한 결과를 도시한 그래프이다.
도 12a 및 도 12b는 각각 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 제조된 발광다이오드에 대한 발광 효율을 측정한 결과를 도시한 그래프이다.
도 13a 및 도 13b는 각각 본 발명의 예시적인 실시예에 따라 제조된 발광다이오드에 대한 외부양자효율을 측정한 결과를 도시한 그래프이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a first exemplary embodiment of the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a second exemplary embodiment of the present invention.
Figure 3 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a third exemplary embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a fourth exemplary embodiment of the present invention.
Figure 5 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a fifth exemplary embodiment of the present invention.
Figure 6 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a sixth exemplary embodiment of the present invention.
Figure 7 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a seventh exemplary embodiment of the present invention.
Figure 8 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to an eighth exemplary embodiment of the present invention.
9 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
10A and 10B are graphs showing the results of measuring the current density of a light emitting diode manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively.
11A and 11B are graphs showing the results of measuring light emission luminance of a light emitting diode manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively.
12A and 12B are graphs showing the results of measuring the luminous efficiency of a light emitting diode manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively.
13A and 13B are graphs showing the results of measuring the external quantum efficiency of a light emitting diode manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention, respectively.

본 발명의 일 측면에 따르면, 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 유기 화합물을 제공한다. According to one aspect of the present invention, the present invention provides an organic compound represented by the following formula (1).

화학식 1Formula 1

Figure 112015128866179-pat00001
Figure 112015128866179-pat00001

(화학식 1에서 R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C1-C20 알킬아민기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴 아민기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴 아민기, C1-C30 알킬기로 치환된 실릴기, C5-C30 아릴기로 치환된 실릴기 및 C5-C30 헤테로 아릴기로 치환된 실릴기로 구성되는 군에서 선택됨; X1 내지 X4는 각각 독립적으로 탄소, 질소, 산소, 황 및 인으로 구성되는 군에서 선택됨; Ar은 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴렌기 또는 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴렌기임; =Y와 =Z는 각각 독립적으로 하기 화학식 2의 (a) 내지 (d)로 구성되는 군에서 선택됨)(In Formula 1, R 1 to R 6 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 1 -C 20 alkylamine group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl amine group, substituted or unsubstituted In the group consisting of a C 5 -C 30 heteroaryl amine group, a silyl group substituted with a C 1 -C 30 alkyl group, a silyl group substituted with a C 5 -C 30 aryl group, and a silyl group substituted with a C 5 -C 30 heteroaryl group. selected ; X1 to Hetero arylene group; =Y and =Z are each independently selected from the group consisting of (a) to (d) of the following formula 2)

화학식 2Formula 2

Figure 112015128866179-pat00002
Figure 112015128866179-pat00002

(화학식 2에서 A1 및 A2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택되거나, A1과 A2는 함께 연결되어 지환족(alicyclic) 고리, 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 형성함; A3은 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택됨)(In Formula 2, A 1 and A 2 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, or A 1 and A 2 are linked together to form an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heteroaromatic ring. Forms a ring; A 3 is hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or Unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloc selected from the group consisting of actual groups, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl groups)

예시적인 실시형태에서, 상기 화학식 1의 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되고, R5와 R6는 각각 독립적으로 치환되지 않거나 CF3, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기이며, Ar은 치환되지 않거나 할로겐, -CN, -CF3로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기이며, 화학식 2의 A1과 A2는 각각 독립적으로 CN 또는 할로겐, -CF3 및 -CN으로 구성되는 군에서 적어도 1개 선택되는 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기일 수 있다. In an exemplary embodiment, R 1 to R 4 of Formula 1 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, -CN, and halogen, and R 5 and R 6 are each independently unsubstituted or CF 3 , -CN is an aryl group or heteroaryl group substituted with at least one functional group selected from the group consisting of halogen, and Ar is unsubstituted or is substituted with at least one functional group selected from the group consisting of halogen, -CN, and -CF 3 It is an arylene group or hetero arylene group substituted with a functional group, and A 1 and A 2 in Formula 2 are each independently substituted with at least one functional group selected from the group consisting of CN or halogen, -CF 3 and -CN. It may be an aryl group or heteroaryl group.

예를 들어, 상기 유기 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 어느 하나일 수 있다. For example, the organic compound may be any one represented by the following formula (3).

화학식 3Formula 3

본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명은 전술한 유기 화합물을 정공층 및/또는 전하 생성층에 포함하는 발광다이오드에 관한 것이다. According to another aspect of the present invention, the present invention relates to a light emitting diode including the above-described organic compound in the hole layer and/or charge generation layer.

예를 들어, 본 발명은 제 1 전극과; 상기 제 1 전극과 마주보는 제 2 전극과; 상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 위치하며, 발광물질층을 포함하는 발광 유닛과; 상기 제 1 전극과 상기 발광 유닛 사이에 위치하며 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 유기 화합물을 포함하는 정공층을 포함하는 발광다이오드를 제공한다.For example, the present invention includes a first electrode; a second electrode facing the first electrode; a light emitting unit located between the first and second electrodes and including a light emitting material layer; A light emitting diode is provided that is located between the first electrode and the light emitting unit and includes a hole layer containing an organic compound represented by Formulas 1 to 3.

하나의 예시적인 실시형태에서, 상기 정공층은, 정공수송층과 상기 정공수송층과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나, 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑된 정공주입층을 포함할 수 있다. In one exemplary embodiment, the hole layer is located between a hole transport layer and the hole transport layer and the first electrode and is composed of only the organic compound, or a hole injection layer in which the organic compound is doped into a hole injection host material. It can be included.

다른 대안적인 실시형태에서, 상기 정공층은, 정공수송층과; 상기 정공수송층과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑된 제 1 정공주입층과; 상기 제 1 전극과 상기 제 1 정공주입층 사이에 위치하여 정공 주입 호스트 물질로 이루어지는 제 2 정공주입층을 포함할 수 있다. In another alternative embodiment, the hole layer includes: a hole transport layer; a first hole injection layer located between the hole transport layer and the first electrode and made of only the organic compound or a hole injection host material doped with the organic compound; It may include a second hole injection layer located between the first electrode and the first hole injection layer and made of a hole injection host material.

또 다른 대안적인 실시형태에서, 상기 정공층은, 정공 수송 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 제 1 정공수송층을 포함할 수 있다. In another alternative embodiment, the hole transport layer may include a first hole transport layer formed by doping the organic compound into a hole transport host material.

또 다른 대안적인 실시형태에서, 상기 정공층은, 상기 제 1 정공수송층과 상기 발광 유닛 사이에 위치하며 정공 수송 호스트 물질로 이루어지는 제 2 정공수송층을 더욱 포함할 수 있다. In another alternative embodiment, the hole transport layer may further include a second hole transport layer located between the first hole transport layer and the light emitting unit and made of a hole transport host material.

본 발명의 또 다른 실시형태에서, 본 발명은 제 1 전극과; 상기 제 1 전극과 마주보는 제 2 전극과; 상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 위치하며 제 1 발광물질층을 포함하는 제 1 발광 유닛과; 상기 제 1 발광 유닛과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 제 2 발광물질층을 포함하는 제 2 발광 유닛과; 상기 제 1 및 제 2 발광 유닛 사이에 위치하며 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 유기 화합물을 포함하는 P타입 전하 생성층을 포함하는 발광다이오드를 제공한다.In yet another embodiment of the present invention, the present invention includes a first electrode; a second electrode facing the first electrode; a first light emitting unit located between the first and second electrodes and including a first light emitting material layer; a second light emitting unit located between the first light emitting unit and the first electrode and including a second light emitting material layer; A light emitting diode is provided that includes a P-type charge generation layer located between the first and second light emitting units and containing an organic compound represented by Formulas 1 to 3.

이때, 상기 P타입 전하 생성층은, 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. At this time, the P-type charge generation layer may be formed solely of the organic compound or may be formed by doping the organic compound into a hole injection host material.

필요한 경우, 상기 P타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광 유닛 사이에 위치하며 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속이 도핑된 유기층인 N타입 전하 생성층을 더욱 포함할 수 있다. If necessary, it may further include an N-type charge generation layer, which is an organic layer doped with an alkali metal or an alkaline earth metal and is located between the P-type charge generation layer and the second light-emitting unit.

하나의 예시적인 실시형태에서, 상기 제 1 발광 유닛은, 상기 제 1 발광물질층과 상기 P타입 전하생성층 사이에 위치하는 제 1 정공수송층과, 상기 제 1 발광물질층과 상기 제 2 전극 사이에 위치하는 전자주입층 및 제 1 전자수송층을 더욱 포함하고, 상기 제 2 발광 유닛은, 상기 N타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 2 전자수송층과, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 1 정공주입층 및 제 2 정공수송층을 더욱 포함할 수 있다. In one exemplary embodiment, the first light emitting unit includes a first hole transport layer located between the first light emitting material layer and the P-type charge generation layer, and a first hole transport layer located between the first light emitting material layer and the second electrode. It further includes an electron injection layer and a first electron transport layer, wherein the second light-emitting unit includes a second electron transport layer positioned between the N-type charge generation layer and the second light-emitting material layer, and the first electrode. It may further include a first hole injection layer and a second hole transport layer located between the second light emitting material layer.

이때, 상기 제 1 발광 유닛은, 상기 제 1 정공수송층과 상기 P타입 전하 생성층 사이에 위치하는 제 2 정공주입층을 더욱 포함할 수 있다. At this time, the first light emitting unit may further include a second hole injection layer located between the first hole transport layer and the P-type charge generation layer.

다른 대안적인 실시형태에서, 상기 P타입 전하 생성층과 상기 N타입 전하 생성층 사이에 위치하는 제 2 정공주입층을 더욱 포함할 수 있다. In another alternative embodiment, it may further include a second hole injection layer positioned between the P-type charge generation layer and the N-type charge generation layer.

또 다른 대안적인 실시형태에서, 상기 제 1 발광 유닛은 상기 제 1 발광물질층과 상기 제 2 전극 사이에 위치하는 전자주입층 및 제 1 전자수송층을 더욱 포함하고, 상기 제 2 발광 유닛은, 상기 N타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 2 전자수송층과, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 정공주입층 및 정공수송층을 더욱 포함하고, 상기 P타입 전하 생성층은 정공수송층 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. In another alternative embodiment, the first light-emitting unit further includes an electron injection layer and a first electron transport layer positioned between the first light-emitting material layer and the second electrode, and the second light-emitting unit includes: It further includes a second electron transport layer located between the N-type charge generation layer and the second light-emitting material layer, and a hole injection layer and a hole transport layer located between the first electrode and the second light-emitting material layer, and the P The charge generation layer may be formed by doping the organic compound into a hole transport layer host material.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명은 베이스 기판과; 상기 베이스 기판에 위치하는 구동 박막트랜지스터와; 상기 베이스 기판에 위치하며 상기 구동 박막트랜지스터에 연결되는 상기 발광다이오드와; 상기 발광다이오드를 덮고 상기 베이스 기판과 합착되는 인캡슐레이션 기판을 포함하는 유기발광다이오드 표시장치를 제공한다. According to another aspect of the present invention, the present invention includes a base substrate; a driving thin film transistor located on the base substrate; the light emitting diode located on the base substrate and connected to the driving thin film transistor; An organic light emitting diode display device is provided including an encapsulation substrate that covers the light emitting diode and is bonded to the base substrate.

이하, 필요한 경우에 첨부하는 도면을 참조하면서, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail, referring to the accompanying drawings where necessary.

[유기 화합물][Organic compounds]

본 발명의 유기 화합물은, 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group, electron acceptor)가 치환되는 구조를 가져, 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 가지며, 하기 화학식 1로 표시될 수 있다. The organic compound of the present invention is a conjugated benzene ring constituting a fused ring derivative core and/or another aromatic ring conjugated to the benzene ring and/or directly or indirectly connected to the benzene ring. It has a structure in which a strong electron withdrawing group (electron acceptor) is substituted on the aromatic moiety, and has excellent hole injection and charge generation characteristics, and can be represented by the following formula (1).

화학식 1Formula 1

Figure 112015128866179-pat00024
Figure 112015128866179-pat00024

(화학식 1에서 R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C1-C20 알킬아민기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴 아민기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴 아민기, C1-C30 알킬기로 치환된 실릴기, C5-C30 아릴기로 치환된 실릴기 및 C5-C30 헤테로 아릴기로 치환된 실릴기로 구성되는 군에서 선택됨; X1 내지 X4는 각각 독립적으로 탄소, 질소, 산소 및 황으로 구성되는 군에서 선택됨; Ar은 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴렌기 또는 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴렌기임; =Y와 =Z는 각각 독립적으로 하기 화학식 2의 (a) 내지 (d)로 구성되는 군에서 선택됨)(In Formula 1, R 1 to R 6 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 1 -C 20 alkylamine group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl amine group, substituted or unsubstituted In the group consisting of a C 5 -C 30 heteroaryl amine group, a silyl group substituted with a C 1 -C 30 alkyl group, a silyl group substituted with a C 5 -C 30 aryl group, and a silyl group substituted with a C 5 -C 30 heteroaryl group. selected ; X1 to Ren group; =Y and =Z are each independently selected from the group consisting of (a) to (d) of the following formula 2)

화학식 2Formula 2

Figure 112015128866179-pat00025
Figure 112015128866179-pat00025

(화학식 2에서 A1 및 A2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택되거나, A1과 A2는 함께 연결되어 지환족(alicyclic) 고리, 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 형성함; A3은 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택됨)(In Formula 2, A 1 and A 2 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, or A 1 and A 2 are linked together to form an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heteroaromatic ring. Forms a ring; A 3 is hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or Unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloc selected from the group consisting of actual groups, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl groups)

화학식 1에서 알 수 있는 것처럼, 접합 고리 코어를 구성하는 공액화 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리는 호모 방향족 고리(X1 내지 X4가 모두 탄소)이거나, 헤테로 방향족 고리(X1 내지 X4 중 적어도 하나가 질소, 산소, 황 및/또는 인)일 수 있다. 공액화 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리는 예를 들어 호모 방향족 고리인 페닐이거나, 헤테로 방향족 고리인 피리딘(pyridine), 피라진(pyrazine), 피리미딘(pyrimidine), 피리다진(pyridazine), 트리아진(triazine), 테트라진(tetrazine), 파이란(pyran), 옥사진(oxazine), 디옥신(dioxin), 티오파이란(thiopyran), 티아진(thiazine), 포스핀(phosphine)일 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. As can be seen in Formula 1, the other aromatic ring conjugated to the conjugated benzene ring constituting the conjugated ring core is a homoaromatic ring (X 1 to X 4 are all carbon) or a heteroaromatic ring (X 1 to at least one may be nitrogen, oxygen, sulfur and/or phosphorus). Other aromatic rings conjugated to the conjugated benzene ring are, for example, the homoaromatic ring phenyl, or the heteroaromatic rings pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, triazine ( It may be triazine, tetrazine, pyran, oxazine, dioxin, thiopyran, thiazine, or phosphine, but the present invention It is not limited to this.

예를 들어, 본 발명에 따른 유기 화합물의 코어를 구성하는 공액화 벤젠 고리를 포함하는 접합 고리는 나프탈렌, 퀴놀린(quinoline), 이소퀴놀린(isoquinoline), 신놀린(cinnoline), 퀴나졸린(quinazoline), 퀴녹살린(quinoxaline), 프탈라진(phthalazine), 크로멘(chromene), 이소크로멘(isochromene) 등을 포함하지만, 본 발명이 이에 한정되지 않는다. For example, the conjugated ring containing a conjugated benzene ring constituting the core of the organic compound according to the present invention is naphthalene, quinoline, isoquinoline, cinnoline, quinazoline, It includes quinoxaline, phthalazine, chromene, isochromene, etc., but the present invention is not limited thereto.

전술한 것과 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 가지고 있으며, 이 접합 고리를 구성하는 벤젠 고리(화학식 1에서 Y 및 Z가 이중 결합을 통해 연결된 고리)는 공액화(conjugated) 구조를 가지고 있으며, 공액화 벤젠 고리에 강한 전자끌개 그룹(electron withholding group)이 이중 결합을 통해 연결되어 있다. 또한, 공액화 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리(화학식 1에서 R1 내지 R4가 연결되는 방향족 고리) 및/또는 공액화 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티(예를 들어, 화학식 1에서 공액화 벤젠 고리에 직접 연결되는 Ar 또는 Ar을 경유하여 공액화 벤젠과 연결되는 R5 및 R6)에도 직접 또는 간접적으로 강한 전자끌개 그룹이 연결될 수 있다. 강한 전자끌개 그룹으로 직접 치환된 유기 화합물은 중공 수송 특성이 향상될 수 있다.As described above, the organic compound of the present invention has a fused ring derivative core, and the benzene ring (the ring in Formula 1 where Y and Z are connected through a double bond) constituting this fused ring is conjugated ( It has a conjugated structure, and a strong electron withholding group is connected to the conjugated benzene ring through a double bond. In addition, another aromatic ring conjugated to the conjugated benzene ring (the aromatic ring to which R 1 to R 4 in Formula 1 are connected) and/or an aromatic moiety directly or indirectly connected to the conjugated benzene ring (e.g., In 1, a strong electron-withdrawing group may be connected directly or indirectly to Ar, which is directly connected to the conjugated benzene ring, or to R 5 and R 6 ), which are connected to the conjugated benzene via Ar. Organic compounds directly substituted with strong electron-withdrawing groups can have improved hollow transport properties.

하나의 예시적인 실시형태에서, 화학식 1의 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되고, R5와 R6는 각각 독립적으로 치환되지 않거나 CF3, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기이며, Ar은 치환되지 않거나 할로겐, -CN, -CF3로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기이며, 화학식 2의 A1과 A2는 각각 독립적으로 CN 또는 할로겐, -CF3 및 -CN으로 구성되는 군에서 적어도 1개 선택되는 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기일 수 있다. 이때, 화학식 1에서 =Y 및 =Z로 표시되는 치환기는 화학식 1에서 R1 내지 R6로 표시되는 치환기에 비하여 강한 전자끌개 특성을 가질 수 있다. In one exemplary embodiment, R 1 to R 4 of Formula 1 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, -CN, and halogen, and R 5 and R 6 are each independently unsubstituted or CF 3 , -CN, and halogen. Ar is an aryl group or heteroaryl group substituted with at least one functional group selected from the group consisting of halogen, -CN, and -CF 3. Ar is unsubstituted or at least one selected from the group consisting of halogen, -CN, and -CF 3 It is an arylene group or hetero arylene group substituted with two functional groups, and A 1 and A 2 in Formula 2 are each independently substituted with at least one functional group selected from the group consisting of CN or halogen, -CF 3 and -CN. It may be an aryl group or a heteroaryl group. At this time, the substituents represented by =Y and =Z in Formula 1 may have stronger electron attracting properties than the substituents represented by R 1 to R 6 in Formula 1.

전술한 것과 같이, 화학식 1의 R1 내지 R6 및/또는 화학식 2의 A1 내지 A3을 구성하는 C5-C30 아릴기 C5-C30 헤테로 아릴기, C6-C30 아릴옥실기, C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C5-C30 아릴 아민기, C5-C30 헤테로 아릴 아민기; 화학식 1의 Ar을 구성하는 C5-C30 아릴렌기 C5-C30 헤테로 아릴렌기는 각각 독립적으로 치환되거나 치환되지 않을 수 있다. 하나의 예시적인 실시형태에서, 이들 아릴기, 헤테로 아릴기, 아릴옥실기, 헤테로아릴옥실기, 아릴렌기, 헤테로 아릴렌기는 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 강한 전자끌개 그룹으로 치환될 수 있다. 예를 들어, 화학식 1의 R1 내지 R6 및/또는 Ar을 구성하는 이들 작용기가 강한 전자끌개 그룹으로 호모 아릴기, 헤테로 아릴기, 호모 아릴옥실기 또는 헤테로 아릴옥실기와 같은 방향족 그룹인 경우, 궤도(orbital) 중첩이 감소하여 강한 전하 생성 특성이 향상될 수 있다. As described above, C 5 -C 30 aryl group, C 5 -C 30 heteroaryl group, C 6 -C 30 aryl group constituting R 1 to R 6 of Formula 1 and/or A 1 to A 3 of Formula 2 Real group, C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 5 -C 30 aryl amine group, C 5 -C 30 heteroaryl amine group; The C 5 -C 30 arylene group and C 5 -C 30 hetero arylene group constituting Ar of Formula 1 may each independently be substituted or unsubstituted. In one exemplary embodiment, these aryl groups, heteroaryl groups, aryloxyl groups, heteroaryloxyl groups, arylene groups, hetero arylene groups are hydrogen, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluorine. It may be substituted with at least one strong electron-withdrawing group selected from the group consisting of an alkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, and substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group. . For example, when these functional groups constituting R 1 to R 6 and/or Ar of Formula 1 are strong electron-withdrawing groups and are aromatic groups such as homo aryl group, hetero aryl group, homo aryloxyl group, or hetero aryloxyl group. , strong charge generation characteristics can be improved by reducing orbital overlap.

예를 들어, 호모 아릴기 또는 호모 아릴옥실기는 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 강한 전자끌개 그룹으로 치환된 페닐, 나프틸(naphthyl), 인데닐(indenyl), 안트라세닐(anthracenyl), 플루오레닐(fluorenyl), 페날리닐(phenalenyl), 페난트레닐(phenanthrenyl), 피레닐(pyrenyl), 테트라페닐(tetraphenyl), 바이페닐, 터페닐(terphenyl), 스파이로-플루오레닐(spiro-fluorenyl), 페녹실(phenoxyl), 나프탈레녹실(naphthalenoxyl)로 구성되는 군에서 선택될 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되지 않는다. For example, a homo aryl group or a homo aryloxyl group includes deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group. , phenyl, naphthyl, indenyl, anthracenyl, fluorine substituted with at least one strong electron withdrawing group selected from the group consisting of substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy groups. Fluorenyl, phenalenyl, phenanthrenyl, pyrenyl, tetraphenyl, biphenyl, terphenyl, spiro- It may be selected from the group consisting of fluorenyl, phenoxyl, and naphthalenoxyl, but the present invention is not limited thereto.

또한, 상기 헤테로 아릴기 또는 헤테로 아릴옥실기는 탄소 이외의 원소, 예를 들어 질소(N), 산소(O) 및/또는 황(S)와 같은 이종 원소가 포함된 방향족 화합물이다. 이때, 이종 원소는 각각 1~4개 함유될 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 헤테로 아릴기 또는 헤테로아릴옥실기는 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 강한 전자끌개 그룹으로 치환된 카바졸(carbazole), 피리다진(pyridazine), 피라진(pyrazine), 이미다졸(imidazole), 피라졸(pyrazole), 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 퓨란(furan), 피리미딘(pyrimidine), 옥사졸(oxazole), 피롤(pyrrole), 피리딘(pyridine), 트리아진(triazine), 티아졸(thiazole), 티오펜(thiophene), 테트라진(tetrazine), 파이란(pyran), 옥사진(oxazine), 디옥신(dioxin), 티오파이란(thiopyran), 티아진(thiazine), 포스핀(phosphine), 및 N-치환된 스파이로-플루오레닐로 구성되는 군에서 선택될 수 있지만, 본 발명이 이에 한정되지 않는다.In addition, the heteroaryl group or heteroaryloxyl group is an aromatic compound containing heterogeneous elements such as elements other than carbon, for example, nitrogen (N), oxygen (O), and/or sulfur (S). At this time, 1 to 4 heterogeneous elements may be contained. More specifically, the heteroaryl group or heteroaryloxyl group is unsubstituted, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, substituted or unsubstituted C Carbazole, pyridazine, pyrazine substituted with at least one strong electron-withdrawing group selected from the group consisting of 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group. , imidazole, pyrazole, oxadiazole, triazole, furan, pyrimidine, oxazole, pyrrole, pyridine ( pyridine, triazine, thiazole, thiophene, tetrazine, pyran, oxazine, dioxin, thiopyran, It may be selected from the group consisting of thiazine, phosphine, and N-substituted spiro-fluorenyl, but the present invention is not limited thereto.

또한, 화학식 1의 Ar을 구성하는 헤테로 아릴렌기는 탄소 이외의 원소, 예를 들어 질소(N), 산소(O) 및/또는 황(S)와 같은 이종 원소가 포함된 방향족 화합물이다. 이때, 이종 원소는 각각 1~4개 함유될 수 있다. 보다 구체적으로, 화학식 1의 Ar을 구성하는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기는 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알킬기, 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 강한 전자끌개 그룹으로 치환된 페닐렌(phenylene), 나프틸렌(naphthylene), 플루오레닐렌(flurenylene), 바이페닐렌(biphenylene), 터페닐렌(terphenylene), 치환되지 않거나 N-치환된 스파이로-플루오레닐렌(spiro-fluorenylene) 등으로 구성되는 군에서 선택될 수 있다. 예를 들어, 화학식 1의 Ar은 접합 고리 유도체 코어 중 공액화 벤젠 고리와, 아민을 구성하는 질소 원자(R5와 R6가 연결된 질소 원자)를 메타 위치 또는 파라 위치에서 연결하는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기일 수 있다. In addition, the hetero arylene group constituting Ar of Formula 1 is an aromatic compound containing elements other than carbon, for example, heterogeneous elements such as nitrogen (N), oxygen (O), and/or sulfur (S). At this time, 1 to 4 heterogeneous elements may be contained. More specifically, the arylene group or hetero arylene group constituting Ar of Formula 1 is unsubstituted, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, or substituted. Phenylene, naphthylene, substituted with at least one strong electron-withdrawing group selected from the group consisting of unsubstituted C 1 -C 20 alkyl group, substituted or unsubstituted C 1 -C 20 alkoxy group, It may be selected from the group consisting of fluorenylene, biphenylene, terphenylene, unsubstituted or N-substituted spiro-fluorenylene, etc. For example, Ar in Formula 1 is an arylene group or hetero group connecting the conjugated benzene ring in the core of the conjugated ring derivative and the nitrogen atom constituting the amine (the nitrogen atom to which R 5 and R 6 are connected) at the meta or para position. It may be an arylene group.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되는 구조를 갖는다. 하나의 예시적인 실시형태에서, 접합 고리 유도체 코어의 일부 링 구조인 공액화 벤젠 고리에 결합되어 있는 치환기(=Y, =Z)가 공액화 페닐 코어의 좌측 방향족 링 구조에 연결되는 치환기(R1 내지 R4) 및 공액화 페닐 코어의 우측에 연결되는 방향족(Ar)에 결합될 수 있는 치환기(R5, R6)보다 전자 끄는 특성이 강하다. As described above, the organic compound of the present invention is directly or It has a structure in which a strong electron withdrawing group is substituted on an indirectly connected aromatic moiety. In one exemplary embodiment, a substituent (=Y, =Z) that is bonded to the conjugated benzene ring, which is part of the ring structure of the conjugated ring derivative core, is a substituent (R 1 ) that is bonded to the left aromatic ring structure of the conjugated phenyl core. to R 4 ) and the substituents (R 5 , R 6 ) that can be bonded to the aromatic (Ar) connected to the right side of the conjugated phenyl core have stronger electron-withdrawing properties.

이와 같은 유기 화합물에서는, 접합된 다른 방향족 고리 및 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티를 가지는 접합 고리(fused) 유도체 코어의 공액화 벤젠 고리는 높은 평평도(planarity)를 가질 수 있어, 열적 안정성이 확보되고, 전자 끄는 특성의 치환기에 의해 정공 주입 특성과 전하 생성 특성이 향상된다.In such organic compounds, the conjugated benzene ring of the fused derivative core with another aromatic ring fused to it and an aromatic moiety directly or indirectly connected may have high planarity, resulting in thermal stability. hole injection characteristics and charge generation characteristics are improved by the substituent with electron-withdrawing characteristics.

따라서, 본 발명의 유기 화합물은 발광다이오드의 정공주입층, 도핑된 정공수송층 또는 적층 구조 발광다이오드에서의 전하 생성층으로 이용되어, 발광다이오드의 발광 효율을 증가시키고 구동 전압을 낮출 수 있다.Therefore, the organic compound of the present invention can be used as a hole injection layer, a doped hole transport layer, or a charge generation layer in a laminated structure light emitting diode to increase the luminous efficiency of the light emitting diode and lower the driving voltage.

뿐만 아니라, 본 발명의 유기 화합물은 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(deep LUMO)를 가지고 있어서, 정공 수송 능력이 우수한 유기물(Hole Transporting material, HTM)과 인접한 유기물층에 사용하는 경우, HTM의 최고 점유 분자 궤도함수(HOMO)에 있는 전자를 받아서 HTM 반대 방향(예를 들어 양극 방향)으로 이동시키고, 이로 인해 발생된 정공은 EML 방향(예를 들어 음극 방향)으로 이동시켜 전하 생성 특성을 갖는다. In addition, the organic compound of the present invention has a deep lowest unoccupied molecular orbital function (deep LUMO), so when used in an organic material layer adjacent to an organic material (Hole Transporting material, HTM) with excellent hole transport ability, the highest occupied molecule of the HTM It receives electrons in the orbital (HOMO) and moves them in the direction opposite to HTM (for example, toward the anode), and the holes generated by this move toward the EML direction (for example, toward the cathode), which has the property of generating charges.

이에 따라, 본 발명의 유기 화합물은 발광다이오드의 정공주입층, 도핑된 정공수송층 또는 적층 구조 발광다이오드에서의 전하 생성층으로 이용되어, 발광다이오드의 발광 효율을 증가시키고 구동 전압을 낮출 수 있다.Accordingly, the organic compound of the present invention can be used as a hole injection layer, a doped hole transport layer, or a charge generation layer in a stacked structure light emitting diode, to increase the luminous efficiency of the light emitting diode and lower the driving voltage.

예를 들어, 상기 화학식 1의 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되고, R5와 R6는 각각 독립적으로 치환되지 않거나 CF3, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기이며, Ar은 치환되지 않거나 할로겐, -CN, -CF3로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기이며, 화학식 2의 A1과 A2는 각각 독립적으로 CN 또는 할로겐, -CF3 및 -CN으로 구성되는 군에서 적어도 1개 선택되는 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기일 수 있다. For example, in Formula 1, R 1 to R 4 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, -CN, and halogen, and R 5 and R 6 are each independently unsubstituted or CF 3 , -CN and halogen. Ar is unsubstituted or is substituted with at least one functional group selected from the group consisting of halogen, -CN, and -CF 3 . It is a substituted arylene group or hetero arylene group, and A 1 and A 2 in Formula 2 are each independently an aryl group substituted with at least one functional group selected from the group consisting of CN or halogen, -CF 3 and -CN. Or it may be a heteroaryl group.

이처럼, 강한 전자끌개 그룹이 직접 또는 방향족 고리를 통하여 연결되는 경우, 정공 주입 특성을 크게 향상시킬 수 있으며, 방향족 고리를 통하여 이러한 전자끌개 그룹이 치환되어 있는 경우, 전하 생성 능력이 크게 향상되어, 발광다이오드의 구동 전압을 낮출 수 있다. In this way, when a strong electron-withdrawing group is connected directly or through an aromatic ring, the hole injection characteristics can be greatly improved, and when such an electron-withdrawing group is substituted through an aromatic ring, the charge generation ability is greatly improved, resulting in light emission. The driving voltage of the diode can be lowered.

예시적인 실시형태에서, 본 발명의 유기 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 어느 하나의 유기 화합물일 수 있다. In an exemplary embodiment, the organic compound of the present invention may be any one of the organic compounds represented by Formula 3 below.

화학식 3Formula 3

[발광다이오드 및 표시장치][Light-emitting diode and display device]

전술한 것과 같이, 본 발명의 유기 화합물은 정공 주입 특성 및/또는 전하 생성 특성이 우수하므로, 발광다이오드의 정공주입층이나 전하 생성층으로 적용될 수 있는데, 본 발명에 따른 발광다이오드의 구조에 대해서 설명한다. 도 1은 본 발명의 예시적인 제 1 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다.As described above, the organic compound of the present invention has excellent hole injection characteristics and/or charge generation characteristics, so it can be applied as a hole injection layer or charge generation layer of a light emitting diode. The structure of the light emitting diode according to the present invention will be described. do. 1 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a first exemplary embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 예시적인 제 1 실시형태에 따른 발광다이오드(100)는 서로 마주하는 제 1 전극(110) 및 제 2 전극(120)과, 제 1 및 제 2 전극(110, 120) 사이에 위치하는 발광 유닛(130)과, 제 1 전극(110)과 발광 유닛(130) 사이에 위치하는 정공주입층(140)과, 발광 유닛(130)과 정공주입층(140) 사이에 위치하는 정공수송층(150)을 포함한다.As shown in FIG. 1, the light emitting diode 100 according to the first exemplary embodiment of the present invention includes a first electrode 110 and a second electrode 120 facing each other, and first and second electrodes ( A light emitting unit 130 located between 110 and 120, a hole injection layer 140 located between the first electrode 110 and the light emitting unit 130, and the light emitting unit 130 and the hole injection layer 140. ) and a hole transport layer 150 located between them.

제 1 전극(110)은 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지며 양극(anode)이다. 예를 들어, 제 1 전극(110)은 indium-tin-oxide (ITO) 또는 indium-zinc-oxide (IZO)로 이루어질 수 있다. The first electrode 110 is made of a conductive material with a relatively high work function and is an anode. For example, the first electrode 110 may be made of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO).

제 2 전극(120)은 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어지며 음극(cathode)이다. 예를 들어, 제 2 전극(120)은 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 은(Ag), 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다.The second electrode 120 is made of a conductive material with a relatively low work function value and is a cathode. For example, the second electrode 120 may be made of aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium (Ca), silver (Ag), or an alloy thereof.

발광 유닛(130)은 발광물질층(132)과, 전자수송층(134)과, 전자주입층(136)을 포함한다. 전자수송층(134)은 제 2 전극(120)과 발광물질층(132) 사이에 위치하고, 전자주입층(136)은 제 2 전극(120)과 전자수송층(134) 사이에 위치한다.The light emitting unit 130 includes a light emitting material layer 132, an electron transport layer 134, and an electron injection layer 136. The electron transport layer 134 is located between the second electrode 120 and the light emitting material layer 132, and the electron injection layer 136 is located between the second electrode 120 and the electron transport layer 134.

발광물질층(132)은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있다. 예로서, 상기 발광물질층(132)이 청색(B) 광을 발광할 경우, 상기 발광물질층(132)은 안트라센(anthracene) 유도체, 파이렌(pyrene) 유도체 및 페릴렌(perylene) 유도체로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 형광 호스트 물질(예를 들어, DPVBi(4,4'-bis(2,2'-diphenylyinyl)-1,1'-biphenyl, AND(9,10-di-(2-naphtyl)anthracene), TBADN(2,5,8,11- tetra-t-butylperylene, 2-tert-butyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracene), MADN(2-methyl-9,10-di(2-naphtyl)anthracene), TBPi(2, 2',2"-(1,3,5-benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole) 등)에 형광 도펀트(예를 들어, BCzVBi(4,4'-bis(9-ethyl-3-carbazovinylene)- 1,1'-biphenyl), BD-1(diphenyl-[4-(2-[1,1;4,1]terphenyl-4-yl-vinyl)-phenyl]-amine)가 도핑되어 이루어질 수 있다. The light emitting material layer 132 may be formed by doping a host material with a dopant. For example, when the light-emitting material layer 132 emits blue (B) light, the light-emitting material layer 132 is made of anthracene derivative, pyrene derivative, and perylene derivative. At least one fluorescent host material selected from the group (e.g., DPVBi(4,4'-bis(2,2'-diphenylyinyl)-1,1'-biphenyl, AND(9,10-di-(2-naphtyl )anthracene), TBADN(2,5,8,11- tetra-t-butylperylene, 2-tert-butyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracene), MADN(2-methyl-9,10-di (2-naphtyl)anthracene), TBPi (2, 2',2"-(1,3,5-benzinetriyl)-tris(1-phenyl-1-H-benzimidazole), etc.) with a fluorescent dopant (e.g., BCzVBi(4,4'-bis(9-ethyl-3-carbazovinylene)- 1,1'-biphenyl), BD-1(diphenyl-[4-(2-[1,1;4,1]terphenyl-4 -yl-vinyl)-phenyl]-amine) may be doped.

또한, 상기 발광물질층(132)이 녹색(G) 광을 발광할 경우, 상기 발광물질층(132)은 카바졸계 화합물 또는 금속 착물로 이루어진 인광 호스트 물질(dp2Ir(acac), op2Ir(acac) 등)에 인광 도펀트가 도핑되어 이루어질 수 있다. 또한, 상기 발광물질층(132)이 적색(R) 광을 발광할 경우, 상기 발광물질층(132)은 카바졸계 화합물 또는 금속 착물로 이루어진 인광 호스트 물질(예를 들어, Btp2Ir(acac) 등) 에 인광 도펀트가 도핑되어 이루어질 수 있다. 도펀트 소재는 호스트 소재를 기준으로 대략 0.1 내지 50 중량%의 비율로 첨가될 수 있다. In addition, when the light-emitting material layer 132 emits green (G) light, the light-emitting material layer 132 is a phosphorescent host material (dp 2 Ir(acac), op 2 Ir) made of a carbazole-based compound or a metal complex. (acac), etc.) may be doped with a phosphorescent dopant. In addition, when the light-emitting material layer 132 emits red (R) light, the light-emitting material layer 132 is a phosphorescent host material made of a carbazole-based compound or a metal complex (for example, Btp 2 Ir(acac)). etc.) may be doped with a phosphorescent dopant. The dopant material may be added at a rate of approximately 0.1 to 50% by weight based on the host material.

상기 전자수송층(134)은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어질 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다. The electron transport layer 134 is made of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimidazole (e.g., 2- It may be made of an electron transport material such as [4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole). However, it is not limited to this.

또한, 상기 전자주입층(136)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.Additionally, the electron injection layer 136 may be made of an electron injection material such as LIF or lithium quinolate (LiQ). However, it is not limited to this.

정공수송층(150)은 발광 유닛(130)의 발광물질층(132)과 인접하여 위치하고 제 1 전극(110)과 발광 유닛(130) 사이에 위치한다. 예를 들어, 정공수송층(150)은 TPD(N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-bi-phenyl-4,4'-diamine) 또는 NPB(N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenylbenzidine)로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The hole transport layer 150 is located adjacent to the light emitting material layer 132 of the light emitting unit 130 and is located between the first electrode 110 and the light emitting unit 130. For example, the hole transport layer 150 is TPD (N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-bi-phenyl-4,4'-diamine) or NPB ( It may be composed of N,N'-di(naphthalen-1-yl)-N,N'-diphenylbenzidine), but is not limited thereto.

정공주입층(140)은 정공수송층(150)과 제 1 전극(110) 사이에 위치하고, 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 유기 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 유기 물질이 도핑되어 이루어질 수 있다. The hole injection layer 140 is located between the hole transport layer 150 and the first electrode 110, and is made of an organic material represented by Formulas 1 to 3, or an organic material represented by Formulas 1 to 3 in the hole injection host material. The material may be doped.

정공주입층(140)이 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 유기 화합물을 포함하는 경우, 정공 주입 호스트 물질은 MTDATA (4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine), CuPc(copper phthalocyanine), NPB (N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'-biphenyl-4,4-diamine), HATCN(1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylenehexacarbonitrile) 또는 PEDOT/PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiphene)polystyrene sulfonate)일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.When the hole injection layer 140 includes a host material and an organic compound represented by Formula 1 to Formula 3, the hole injection host material is MTDATA (4,4',4"-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine), CuPc (copper phthalocyanine), NPB (N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthyl)-1,1'-biphenyl-4,4-diamine), HATCN(1,4,5,8, It may be 9,11-hexaazatriphenylenehexacarbonitrile) or PEDOT/PSS (poly(3,4-ethylenedioxythiphene)polystyrene sulfonate) and may be doped with about 0.1 to 50% by weight of organic compounds of Formulas 1 to 3. However, it is limited to this. It doesn't work.

다시 말해, 본 발명의 예시적인 제 1 실시형태에 따른 상기 발광다이오드(100)는, 서로 마주하는 제 1 및 제 2 전극(110, 120)과, 제 1 및 제 2 전극(110, 120) 사이에 위치하는 발광 유닛(130)과, 제 1 전극(110)과 발광 유닛(130) 사이에 위치하고 정공주입층(140)과 정공수송층(150)으로 이루어지는 정공층을 포함하며, 정공주입층(140)은 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물 단독으로 형성되거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성될 수 있다. In other words, the light emitting diode 100 according to the first exemplary embodiment of the present invention has first and second electrodes 110 and 120 facing each other and between the first and second electrodes 110 and 120. It includes a light emitting unit 130 located in and a hole layer located between the first electrode 110 and the light emitting unit 130 and composed of a hole injection layer 140 and a hole transport layer 150, and the hole injection layer 140 ) may be formed solely from the organic compounds of Formulas 1 to 3 or may be formed by doping the organic compounds of Formulas 1 to 3 into a hole injection host material.

정공이 발광물질층(132)을 지나 제 2 전극(120)으로 이동하거나, 전자가 발광물질층(132)을 지나 제 1 전극(110)으로 가는 경우, 소자의 수명과 효율에 감소를 가져올 수 있다. 이를 방지하기 위하여, 발광다이오드(100)는 발광물질층(132)의 상부와 하부 중 적어도 한 곳에 엑시톤 차단층을 포함할 수 있다. If holes pass through the light-emitting material layer 132 and move to the second electrode 120, or electrons pass through the light-emitting material layer 132 and move to the first electrode 110, the lifespan and efficiency of the device may be reduced. there is. To prevent this, the light emitting diode 100 may include an exciton blocking layer on at least one of the top and bottom of the light emitting material layer 132.

예를 들어, 발광물질층(132)과 전자수송층(134) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위하여 HOMO level이 낮은 BCP(2,9-dimethyl-4,7-diphenyl- 1,10-phenanthroline) 및/또는 BAlq(bis(2-methyl-8-quinolinolato)(4- phenylphenolato)aluminum (Ⅲ)과 같은 물질로 적층되는 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(132)와 정공수송층(150) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위하여 TCTA(4,4',4''-Tris(carbazol-9-yl)-triphenylamine)와 같은 물질로 적층되는 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나가 더욱 적층될 수 있다. For example, in order to prevent the movement of holes between the light emitting material layer 132 and the electron transport layer 134, BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) with a low HOMO level and /or between a hole blocking layer (HBL) laminated with a material such as BAlq (bis(2-methyl-8-quinolinolato)(4-phenylphenolato)aluminum (III), and the light emitting material layer 132 and the hole transport layer 150 In order to prevent the movement of electrons, at least one of the electron blocking layers (EBL) laminated with a material such as TCTA (4,4',4''-Tris(carbazol-9-yl)-triphenylamine) can be further laminated. there is.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되는 구조를 가지며 우수한 정공 주입 특성을 갖는다. 또한, 본 발명의 유기 화합물은 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(deep LUMO)를 가지고 있다. 따라서, 예를 들어 정공주입층(140)이 화학식 1의 유기 화합물로 이루어지거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 경우, 발광 다이오드(100)의 발광 효율이 증가한다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or It has a structure in which a strong electron withdrawing group is substituted on an indirectly connected aromatic moiety and has excellent hole injection characteristics. Additionally, the organic compound of the present invention has a deep lowest unoccupied molecular orbital function (deep LUMO). Therefore, for example, when the hole injection layer 140 is made of an organic compound of Formula 1 or is formed by doping a host material with an organic compound of Formulas 1 to 3, the luminous efficiency of the light emitting diode 100 increases.

도 2는 본 발명의 예시적인 제 2 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 발광다이오드(200)는 서로 마주하는 제 1 전극(210) 및 제 2 전극(220)과, 제 1 및 제 2 전극(210, 220) 사이에 위치하는 발광유닛(230)과, 제 1 전극(210)과 발광 유닛(230) 사이에 위치하며 제 1 및 제 2 층(242, 244)을 포함하는 정공주입층(240)과, 발광 유닛(230)과 정공주입층(240) 사이에 위치하는 정공수송층(250)을 포함한다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a second exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the light emitting diode 200 according to the second embodiment of the present invention includes a first electrode 210 and a second electrode 220 facing each other, and a first and second electrode 210, 220), a light emitting unit 230 located between the first electrode 210 and the light emitting unit 230, and a hole injection layer 240 including first and second layers 242 and 244, and , includes a hole transport layer 250 located between the light emitting unit 230 and the hole injection layer 240.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(210)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(220)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 210 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 220 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

발광 유닛(230)은 발광물질층(232)과, 전자수송층(234)과, 전자주입층(236)을 포함한다. 전자수송층(234)은 제 2 전극(220)과 발광물질층(232) 사이에 위치하고, 전자주입층(236)은 제 2 전극(220)과 전자수송층(234) 사이에 위치한다.The light emitting unit 230 includes a light emitting material layer 232, an electron transport layer 234, and an electron injection layer 236. The electron transport layer 234 is located between the second electrode 220 and the light emitting material layer 232, and the electron injection layer 236 is located between the second electrode 220 and the electron transport layer 234.

상기 발광물질층(232)은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있다. 상기 전자수송층(234)은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(236)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다.The light emitting material layer 232 may be formed by doping a host material with a dopant. The electron transport layer 234 is made of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimidazole (e.g., 2- It is made of an electron transport material such as [4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer 236 is LIF or LiQ ( It may be made of an electron injection material such as lithium quinolate.

정공수송층(250)은 발광 유닛(230)의 발광물질층(232)과 인접하여 위치하고 제 1 전극(210)과 발광 유닛(230) 사이에 위치한다. 예를 들어, 정공수송층(250)은 TPD 또는 NPB로 이루어질 수 있다.The hole transport layer 250 is located adjacent to the light emitting material layer 232 of the light emitting unit 230 and is located between the first electrode 210 and the light emitting unit 230. For example, the hole transport layer 250 may be made of TPD or NPB.

정공주입층(240)은 제 1 전극(210) 상에 순차 적층되는 제 1 층(242)과 제 2 층(244)을 포함한다. 즉, 제 1 층(242)은 제 1 전극(210)과 제 2 층(244) 사이에 위치한다.The hole injection layer 240 includes a first layer 242 and a second layer 244 sequentially stacked on the first electrode 210. That is, the first layer 242 is located between the first electrode 210 and the second layer 244.

제 1 층(242)은 MTDATA, CuPc, NPB 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질로 이루어지고, 제 2 층(244)은 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 물질이 도핑되어 이루어질 수 있다.The first layer 242 is made of a hole injection material such as MTDATA, CuPc, NPB or PEDOT/PSS, and the second layer 244 is made of a material represented by Formulas 1 to 3 or a hole injection host material with the formula It may be made by doping with materials of formulas 1 to 3.

정공주입층(240)의 제 2 층(244)이 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 경우, 호스트 물질은 MTDATA, CuPc, NPB 또는 PEDOT/PSS일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.When the second layer 244 of the hole injection layer 240 includes a host material and an organic compound of Chemical Formulas 1 to 3, the host material may be MTDATA, CuPc, NPB, or PEDOT/PSS and has Chemical Formulas 1 to 3 The organic compound may be doped in an amount of about 0.1 to 50% by weight. However, it is not limited to this.

이와 달리, 제 1 층(242)이 화학식 1 내지 화학식 3으로 표시되는 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 물질이 도핑되어 이루어지고, 제 2 층(244)이 MTDATA, CuPc, NPB 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질만으로 이루어질 수 있다.In contrast, the first layer 242 is made of a material represented by Formula 1 to Formula 3 or is made by doping a hole injection host material with an organic material represented by Formula 1 to Formula 3, and the second layer 244 is made of MTDATA, It can be composed solely of hole injection materials such as CuPc, NPB or PEDOT/PSS.

즉, 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 발광 다이오드(200)에서는, 정공주입층(240)이 정공 주입 물질만으로 이루어지는 층과, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물만으로 이루어지거나 정공 주입 물질에 화학식 1 내지 화학식 3 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 층의 이중층 구조를 갖는다.That is, in the light emitting diode 200 according to the second embodiment of the present invention, the hole injection layer 240 is made of only a hole injection material and an organic compound of Formula 1 to Formula 3, or the hole injection material has Formula 1. It has a double-layer structure of layers doped with organic compounds of formulas 3 through 3.

다시 말해, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 발광다이오드(200)는, 서로 마주하는 제 1 및 제 2 전극(210, 220)과, 제 1 및 제 2 전극(210, 220) 사이에 위치하는 발광유닛(230)과, 제 1 전극(210)과 발광 유닛(230) 사이에 위치하고 제 1 및 제 2 층(242, 244)으로 이루어지는 정공층(정공주입층)을 포함하고, 정공층의 제 2 층(244)이 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물만으로 형성되거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성될 수 있다.In other words, the light emitting diode 200 according to the second embodiment of the present invention has first and second electrodes 210 and 220 facing each other and located between the first and second electrodes 210 and 220. It includes a light emitting unit 230 and a hole layer (hole injection layer) located between the first electrode 210 and the light emitting unit 230 and made of first and second layers 242 and 244, and the first layer of the hole layer The second layer 244 may be formed only of the organic compounds of Formulas 1 to 3, or may be formed by doping a hole injection host material with the organic compounds of Formulas 1 to 3.

아울러, 발광물질층(232)과 전자수송층(234) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(232)와 정공수송층(250) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다. In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light-emitting material layer 232 and the electron transport layer 234, and a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of electrons between the light-emitting material layer 232 and the hole transport layer 250. At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되는 구조를 가지며 우수한 정공 주입 특성을 갖는다. 또한, 본 발명의 유기 화합물은 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(deep LUMO)를 가지고 있다. 따라서, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물로 이루어지거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 층을 포함하여 이루어지는 정공주입층(240)을 포함하는 발광다이오드(200)의 발광 효율이 증가한다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or It has a structure in which a strong electron withdrawing group is substituted on an indirectly connected aromatic moiety and has excellent hole injection characteristics. Additionally, the organic compound of the present invention has a deep lowest unoccupied molecular orbital function (deep LUMO). Therefore, the light emission of the light emitting diode 200 including the hole injection layer 240 is made of an organic compound of Formula 1 to Formula 3 or includes a layer formed by doping a host material with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. Efficiency increases.

도 3은 본 발명의 예시적인 제 3 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3 실시형태에 따른 발광다이오드(300)는 서로 마주하는 제 1 전극(310) 및 제 2 전극(320)과, 제 1 및 제 2 전극(310, 320) 사이에 위치하는 발광 유닛(330)과, 제 1 전극(310)과 발광 유닛(330) 사이에 위치하는 도핑된 정공수송층(doped-HTL, 350)을 포함한다.Figure 3 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a third exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the light emitting diode 300 according to the third embodiment of the present invention includes a first electrode 310 and a second electrode 320 facing each other, and a first and second electrode 310, It includes a light emitting unit 330 located between the first electrode 310 and the light emitting unit 330 and a doped hole transport layer (doped-HTL, 350) located between the first electrode 310 and the light emitting unit 330.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(310)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(320)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 310 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 320 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

발광 유닛(330)은 발광물질층(332)과, 전자수송층(334)과, 전자주입층(336)을 포함한다. 전자수송층(334)은 제 2 전극(320)과 발광물질층(332) 사이에 위치하고, 전자주입층(336)은 제 2 전극(320)과 전자수송층(334) 사이에 위치한다.The light emitting unit 330 includes a light emitting material layer 332, an electron transport layer 334, and an electron injection layer 336. The electron transport layer 334 is located between the second electrode 320 and the light emitting material layer 332, and the electron injection layer 336 is located between the second electrode 320 and the electron transport layer 334.

상기 발광물질층(332)은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있다. 상기 전자수송층(334)은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(336)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다.The light emitting material layer 332 may be formed by doping a host material with a dopant. The electron transport layer 334 is made of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimidazole (e.g., 2- It is made of an electron transport material such as [4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer 336 is LIF or LiQ ( It may be made of an electron injection material such as lithium quinolate.

도핑된 정공수송층(350)은 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어진다. 예를 들어, 정공 수송 호스트 물질은 TPD 또는 NPB일 수 있으며, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.The doped hole transport layer 350 is formed by doping a hole transport host material with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. For example, the hole transport host material may be TPD or NPB, and may be doped with an organic compound of Formula 1 to Formula 3 in an amount of about 0.1 to 50% by weight. However, it is not limited to this.

다시 말해, 본 발명의 제 3 실시형태에 따른 발광다이오드(300)는, 서로 마주하는 제 1 및 제 2 전극(310, 320)과, 제 1 및 제 2 전극(310, 320) 사이에 위치하는 발광 유닛(330)과, 제 1 전극(310)과 발광 유닛(330) 사이에 위치하며 단일층의 정공층을 포함하고, 정공층이 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 도핑된 정공수송층(350)이다.In other words, the light emitting diode 300 according to the third embodiment of the present invention has first and second electrodes 310 and 320 facing each other and located between the first and second electrodes 310 and 320. It is located between the light emitting unit 330, the first electrode 310, and the light emitting unit 330 and includes a single layer of hole layer, and the hole layer is doped with an organic compound of Formula 1 to Formula 3 in a hole transport host material. It is a doped hole transport layer 350 formed by.

아울러, 발광물질층(332)과 전자수송층(334) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(332)와 도핑된 정공수송층(350) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다. In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layer 332 and the electron transport layer 334, and a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of electrons between the light emitting material layer 332 and the doped hole transport layer 350. At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 우수한 정공 주입 특성을 갖기 때문에, 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 도핑된 정공수송층(350)은 정공주입층과 정공수송층의 역할을 겸할 수 있다. 따라서, 발광 유닛(330)과 제 1 전극(310) 사이에는 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑된 정공수송층(350)만이 존재하여도 정공 주입과 정공 수송 특성을 충분히 얻을 수 있다. 즉, 본 발명의 제 3 실시형태에 따른 발광다이오드(300)에서, 도핑된 정공수송층(350)의 일면은 제 1 전극(310)과 접촉하고 타면은 발광 유닛(330)의 발광물질층(332)와 접촉하며 위치한다.As described above, since the organic compound of the present invention has excellent hole injection properties, the doped hole transport layer 350, which is formed by doping the organic compound of Formula 1 to Formula 3 into a hole transport host material, is formed by doping the hole injection layer and the hole injection layer. It can also serve as a transport layer. Therefore, even if only the hole transport layer 350 doped with the organic compound of Formula 1 to Formula 3 exists between the light emitting unit 330 and the first electrode 310, sufficient hole injection and hole transport characteristics can be obtained. That is, in the light emitting diode 300 according to the third embodiment of the present invention, one side of the doped hole transport layer 350 is in contact with the first electrode 310, and the other side is in contact with the light emitting material layer 332 of the light emitting unit 330. ) is located in contact with the

도 4는 본 발명의 예시적인 제 4 실시형태 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 4 실시형태에 따른 발광다이오드(400)는 서로 마주하는 제 1 전극(410) 및 제 2 전극(420)과, 제 1 및 제 2 전극(410, 420) 사이에 위치하는 발광 유닛(430)과, 제 1 전극(410)과 발광 유닛(430) 사이에 위치하며 제 1 층(doped-HTL, 452)과 제 2 층(454)을 포함하는 정공수송층(450)을 포함한다.Figure 4 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a fourth exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, the light emitting diode 400 according to the fourth embodiment of the present invention includes a first electrode 410 and a second electrode 420 facing each other, and a first and second electrode 410, 420, a light emitting unit 430 located between the first electrode 410 and the light emitting unit 430, and a hole including a first layer (doped-HTL, 452) and a second layer 454. Includes a transport layer 450.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(410)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(420)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 410 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 420 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

발광 유닛(430)은 발광물질층(432)과, 전자수송층(434)과, 전자주입층(436)을 포함한다. 전자수송층(434)은 제 2 전극(420)과 발광물질층(432) 사이에 위치하고, 전자주입층(436)은 제 2 전극(420)과 전자수송층(434) 사이에 위치한다.The light emitting unit 430 includes a light emitting material layer 432, an electron transport layer 434, and an electron injection layer 436. The electron transport layer 434 is located between the second electrode 420 and the light emitting material layer 432, and the electron injection layer 436 is located between the second electrode 420 and the electron transport layer 434.

상기 발광물질층(432)은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있다. 상기 전자수송층(434)은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(436)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다.The light emitting material layer 432 may be formed by doping a host material with a dopant. The electron transport layer 434 is made of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimidazole (e.g., 2- It is made of an electron transport material such as [4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer 436 is LIF or LiQ ( It may be made of an electron injection material such as lithium quinolate.

정공수송층(450)은 제 1 전극(410) 상에 순차 적층되는 제 1 층(452)과 제 2 층(454)을 포함한다. 즉, 제 1 층(452)은 제 1 전극(410)과 제 2 층(454) 사이에 위치한다.The hole transport layer 450 includes a first layer 452 and a second layer 454 sequentially stacked on the first electrode 410. That is, the first layer 452 is located between the first electrode 410 and the second layer 454.

제 1 층(452)은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어진다. 이때, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물은 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 한편, 제 2 층(454)은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 물질만으로 이루어진다.The first layer 452 is formed by doping a hole transport host material such as TPD or NPB with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. At this time, the organic compounds of Formulas 1 to 3 may be doped in an amount of about 0.1 to 50% by weight. Meanwhile, the second layer 454 is made only of a hole transport material such as TPD or NPB.

즉, 도 3에 도시된 발광 다이오드(300)와 비교해 보면, 본 발명의 제 4 실시형태에 따른 발광 다이오드(400)에서는, 도핑된 정공수송층인 제 1 층(452)과 발광 유닛(430)의 발광물질층(432) 사이에 정공 수송 물질만으로 이루어지는 제 2 층(454)이 추가로 구성된다.That is, compared with the light emitting diode 300 shown in FIG. 3, in the light emitting diode 400 according to the fourth embodiment of the present invention, the first layer 452, which is a doped hole transport layer, and the light emitting unit 430 A second layer 454 made only of a hole transport material is additionally formed between the light emitting material layer 432.

다시 말해, 본 발명의 제 4 실시형태에 따른 발광다이오드(400)는, 서로 마주하는 제 1 및 제 2 전극(410, 420)과, 제 1 및 제 2 전극(410, 420) 사이에 위치하는 발광 유닛(430)과, 제 1 전극(410)과 발광 유닛(430) 사이에 위치하는 정공층을 포함하고, 정공층은 본 발명의 유기 화합물이 도핑된 정공수송층인 제 1 층(452)과 발광 유닛(430)의 발광물질층(432) 사이에 정공 수송 물질만으로 이루어지는 제 2 층(454)으로 이루어진다.In other words, the light emitting diode 400 according to the fourth embodiment of the present invention has first and second electrodes 410 and 420 facing each other and located between the first and second electrodes 410 and 420. It includes a light emitting unit 430 and a hole layer located between the first electrode 410 and the light emitting unit 430, wherein the hole layer is a first layer 452, which is a hole transport layer doped with the organic compound of the present invention. A second layer 454 made of only a hole transport material is formed between the light emitting material layers 432 of the light emitting unit 430.

아울러, 발광물질층(432)과 전자수송층(434) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(432)과 도핑된 정공수송층(450) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다. In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layer 432 and the electron transport layer 434, and a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of electrons between the light emitting material layer 432 and the doped hole transport layer 450. At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 우수한 정공 주입 특성을 갖기 때문에, 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 도핑된 정공수송층(450)의 제 1 층(452)은 정공주입층과 정공수송층의 역할을 겸할 수 있다. 또한, 정공수송층(450)이 발광물질층(432)과 제 1 층(452) 사이에 정공 수송 물질만으로 이루어지는 제 2 층(454)을 더 포함하기 때문에, 발광물질층(432)으로의 정공 이동 특성이 더욱 향상된다.As described above, since the organic compound of the present invention has excellent hole injection properties, the first layer 452 of the doped hole transport layer 450 is formed by doping the organic compound of Formula 1 to Formula 3 into a hole transport host material. ) can serve as both a hole injection layer and a hole transport layer. In addition, since the hole transport layer 450 further includes a second layer 454 made only of a hole transport material between the light emitting material layer 432 and the first layer 452, hole movement into the light emitting material layer 432 The characteristics are further improved.

도 5는 본 발명의 예시적인 제 5 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 5 실시형태에 따른 발광다이오드(500)는 서로 마주하는 제 1 전극(510) 및 제 2 전극(520)과, 제 1 및 제 2 전극(510, 520) 사이에 위치하는 제 1 발광 유닛(상부 발광 유닛, 530)과, 제 1 전극(510)과 제 1 발광 유닛(530) 사이에 위치하는 제 2 발광 유닛(하부 발광 유닛, 540)과, 제 1 및 제 2 발광유닛(530, 540) 사이에 위치하는 전하 생성층(550)을 포함한다.Figure 5 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a fifth exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 5, the light emitting diode 500 according to the fifth embodiment of the present invention includes a first electrode 510 and a second electrode 520 facing each other, and a first and second electrode 510, 520), a first light-emitting unit (upper light-emitting unit, 530) located between the first electrode 510 and the first light-emitting unit 530, and a second light-emitting unit (lower light-emitting unit, 540), It includes a charge generation layer 550 located between the first and second light emitting units 530 and 540.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(510)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(520)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다. As described above, the first electrode 510 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 520 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

제 1 발광 유닛(530)은 제 1 정공수송층(상부 정공수송층, 532)과, 제 1 발광물질층(상부 발광물질층, 534)과, 제 1 전자수송층(상부 전자수송층, 536)과, 전자주입층(538)을 포함한다. 제 1 발광물질층(534)은 제 1 정공수송층(532)과 제 2 전극(520) 사이에 위치하고, 제 1 전자수송층(536)은 제 1 발광물질층(534)과 제 2 전극(520) 사이에 위치하며, 전자주입층(538)은 제 1 전자수송층(536)과 제 2 전극(520) 사이에 위치한다. The first light-emitting unit 530 includes a first hole transport layer (upper hole transport layer, 532), a first light-emitting material layer (upper light-emitting material layer, 534), a first electron transport layer (upper electron transport layer, 536), and electrons. Includes an injection layer 538. The first light emitting material layer 534 is located between the first hole transport layer 532 and the second electrode 520, and the first electron transport layer 536 is located between the first light emitting material layer 534 and the second electrode 520. The electron injection layer 538 is located between the first electron transport layer 536 and the second electrode 520.

또한, 제 2 발광 유닛(540)은, 정공주입층(542)과, 제 2 정공수송층(하부 정공수송층, 544)과, 제 2 발광물질층(하부 발광물질층, 546)과, 제 2 전자수송층(하부 전자수송층, 548)을 포함한다.In addition, the second light emitting unit 540 includes a hole injection layer 542, a second hole transport layer (lower hole transport layer, 544), a second light emitting material layer (lower light emitting material layer, 546), and a second electron Includes a transport layer (lower electron transport layer, 548).

정공주입층(542)은 제 1 전극(510)과 제 2 정공수송층(544) 사이에 위치하며, 제 2 정공수송층(544)은 정공주입층(542)과 제 2 발광물질층(546) 사이에 위치하고, 제 2 발광물질층(546)은 제 2 정공수송층(544)과 제 2 전자수송층(548) 사이에 위치한다.The hole injection layer 542 is located between the first electrode 510 and the second hole transport layer 544, and the second hole transport layer 544 is located between the hole injection layer 542 and the second light emitting material layer 546. and the second light emitting material layer 546 is located between the second hole transport layer 544 and the second electron transport layer 548.

제 1 및 제 2 발광물질층(534, 546) 각각은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있으며 서로 다른 색을 발광한다.Each of the first and second light emitting material layers 534 and 546 may be formed by doping a host material with a dopant and emit different colors.

예를 들어, 제 2 발광물질층(546)은 청색을 발광하고 제 1 발광물질층(534)은 청색보다 장파장인 녹색, 황록색(yellow-green, YG) 또는 오렌지색을 발광할 수 있다. 예를 들어, 황록색 발광물질층을 구성하는 경우, 제 1 발광물질층(534)의 호스트 물질로서 CBP(4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl)가 사용될 수 있고, Ir(2-phq)3와 같은 도펀트를 사용할 수 있다. For example, the second light-emitting material layer 546 may emit blue light, and the first light-emitting material layer 534 may emit green, yellow-green (YG), or orange light, which has a longer wavelength than blue. For example, when constructing a yellow-green light-emitting material layer, CBP (4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl) may be used as a host material for the first light-emitting material layer 534. Dopants such as , Ir(2-phq) 3 can be used.

제 1 및 제 2 정공수송층(532, 544) 각각은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 호스트로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 정공수송층(532, 544)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 정공주입층(542)은 MTDATA, CuPc, NPB, HATCN 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질로 이루어지거나, 이들 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. Each of the first and second hole transport layers 532 and 544 may be made of a hole transport host such as TPD or NPB. The first and second hole transport layers 532 and 544 may be made of the same material or may be made of different materials. In addition, the hole injection layer 542 is made of a hole injection material such as MTDATA, CuPc, NPB, HATCN, or PEDOT/PSS, or these hole injection host materials contain about 0.1 to 50% by weight of organic compounds of Formulas 1 to 3. It can be doped with .

상기 제 1 및 제 2 전자수송층(536, 548) 각각은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(538)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 전자수송층(536, 548)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.Each of the first and second electron transport layers 536 and 548 is composed of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimide. It is made of an electron transport material such as azole (e.g., 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer (538) may be made of an electron injection material such as LIF or lithium quinolate (LiQ). The first and second electron transport layers 536 and 548 may be made of the same material or may be made of different materials.

전하 생성층(550)은 제 1 발광 유닛(530)과 제 2 발광 유닛(540) 사이에 위치하며, 제 2 발광 유닛(540)에 인접하는 N타입 전하 생성층(N-CGL, 552)과 제 1 발광 유닛(530)에 인접하는 P타입 전하 생성층(P-CGL, 554)을 포함한다.The charge generation layer 550 is located between the first light-emitting unit 530 and the second light-emitting unit 540, and includes an N-type charge generation layer (N-CGL, 552) adjacent to the second light-emitting unit 540. It includes a P-type charge generation layer (P-CGL, 554) adjacent to the first light emitting unit 530.

N타입 전하 생성층(552)은 제 2 발광유닛(540)으로 전자(electron)를 주입해주고, P타입 전하 생성층(554)은 제 1 발광유닛(530)으로 정공(hole)을 주입해준다.The N-type charge generation layer 552 injects electrons into the second light-emitting unit 540, and the P-type charge generation layer 554 injects holes into the first light-emitting unit 530.

N타입 전하 생성층(552)은 Li, Na, K, Cs와 같은 알칼리 금속 또는 Mg, Sr, Ba, Ra와 같은 알칼리토 금속으로 도핑된 유기층일 수 있다. N타입 전하 생성층(552)에 사용되는 호스트 유기물은 Bphen(4,7-dipheny-1,10-phenanthroline), MTDATA와 같은 물질일 수 있으며, 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속은 약 0.01 내지 30 중량%로 도핑될 수 있다. The N-type charge generation layer 552 may be an organic layer doped with an alkali metal such as Li, Na, K, or Cs or an alkaline earth metal such as Mg, Sr, Ba, or Ra. The host organic material used in the N-type charge generation layer 552 may be a material such as Bphen (4,7-dipheny-1,10-phenanthroline) or MTDATA, and the alkali metal or alkaline earth metal is about 0.01 to 30% by weight. It can be doped with .

P타입 전하 생성층(554)은, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. P타입 전하 생성층(554)이 정공 주입 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 경우, 정공 주입 호스트 물질은 MTDATA, CuPc, NPB, HATCN 또는 PEDOT/PSS일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.The P-type charge generation layer 554 may be made of an organic material of Formulas 1 to 3, or may be formed by doping a hole injection host material with an organic compound of Formulas 1 to 3. When the P-type charge generation layer 554 includes a hole injection host material and an organic compound of Formula 1 to Formula 3, the hole injection host material may be MTDATA, CuPc, NPB, HATCN, or PEDOT/PSS, and may be represented by Formula 1 to Formula 3. The organic compound of 3 may be doped in an amount of about 0.1 to 50% by weight. However, it is not limited to this.

아울러, 발광물질층(534, 546)과 전자수송층(536, 548) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(534, 546)와 정공수송층(532, 544) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다.In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layers (534, 546) and the electron transport layers (536, 548), and a hole blocking layer (HBL) between the light emitting material layers (534, 546) and the electron transport layers (532, 544) ) At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent the movement of electrons.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되어 있으며, deep LUMO 값을 가지고 있어, 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or The indirectly connected aromatic moiety is substituted with a strong electron withdrawing group and has a deep LUMO value, resulting in excellent hole injection and charge generation characteristics.

따라서, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물로 이루어지거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 P타입 전하 생성층(544)을 포함하여 구성되는 전하 생성층(540)을 포함하는 적층 구조 발광 다이오드(500)는 백색 발광에 이용되며 발광 효율이 증가한다.Therefore, it includes a charge generation layer 540 composed of a P-type charge generation layer 544 made of an organic compound of Formula 1 to Formula 3 or formed by doping a host material with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. The stacked structure light emitting diode 500 is used for white light emission and increases light emission efficiency.

도 6은 본 발명의 예시적인 제 6 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 6 실시형태에 따른 발광다이오드(600)는 서로 마주하는 제 1 전극(610) 및 제 2 전극(620)과, 제 1 및 제 2 전극(610, 620) 사이에 위치하는 제 1 발광 유닛(상부 발광 유닛, 630)과, 제 1 전극(610)과 제 1 발광유닛(630) 사이에 위치하는 제 2 발광 유닛(하부 발광 유닛, 640)과, 제 1 및 제 2 발광유닛(630, 640) 사이에 위치하는 전하 생성층(650)을 포함한다.Figure 6 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a sixth exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the light emitting diode 600 according to the sixth embodiment of the present invention includes a first electrode 610 and a second electrode 620 facing each other, and a first and second electrode 610, 620), a first light-emitting unit (upper light-emitting unit, 630) located between the first electrode 610 and the first light-emitting unit 630, and a second light-emitting unit (lower light-emitting unit, 640), It includes a charge generation layer 650 located between the first and second light emitting units 630 and 640.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(610)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(620)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 610 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 620 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

제 1 발광 유닛(630)은 제 1 정공주입층(상부 정공주입층, 631)과, 제 1 정공수송층(상부 정공수송층, 633)과, 제 1 발광물질층(상부 발광물질층, 635)과, 제 1 전자수송층(상부 전자수송층, 637)과, 전자주입층(538)을 포함한다. The first light-emitting unit 630 includes a first hole injection layer (upper hole injection layer, 631), a first hole transport layer (upper hole transport layer, 633), and a first light-emitting material layer (upper light-emitting material layer, 635). , a first electron transport layer (upper electron transport layer, 637), and an electron injection layer (538).

제 1 정공수송층(633)은 제 1 정공주입층(631)과 제 2 전극(620) 사이에 위치하고, 제 1 발광물질층(635)은 제 1 정공수송층(633)과 제 2 전극(620) 사이에 위치한다. 제 1 전자수송층(637)은 제 1 발광물질층(635)과 제 2 전극(620) 사이에 위치하며, 전자주입층(639)은 제 1 전자수송층(637)과 제 2 전극(620) 사이에 위치한다. The first hole transport layer 633 is located between the first hole injection layer 631 and the second electrode 620, and the first light emitting material layer 635 is located between the first hole transport layer 633 and the second electrode 620. It is located in between. The first electron transport layer 637 is located between the first light emitting material layer 635 and the second electrode 620, and the electron injection layer 639 is located between the first electron transport layer 637 and the second electrode 620. It is located in

또한, 제 2 발광 유닛(640)은, 제 2 정공주입층(하부 정공주입층, 642)와, 제 2 정공수송층(하부 정공수송층, 644)과, 제 2 발광물질층(하부 발광물질층, 646)과 제 2 전자수송층(하부 전자수송층, 648)을 포함한다.Additionally, the second light emitting unit 640 includes a second hole injection layer (lower hole injection layer, 642), a second hole transport layer (lower hole transport layer, 644), and a second light emitting material layer (lower light emitting material layer, 646) and a second electron transport layer (lower electron transport layer, 648).

제 2 정공주입층(642)은 제 1 전극(610)과 제 2 정공수송층(644) 사이에 위치하며, 제 2 정공수송층(644)은 제 2 정공주입층(642)과 제 2 발광물질층(646) 사이에 위치하고, 제 2 발광물질층(646)은 제 2 정공수송층(644)과 제 2 전자수송층(648) 사이에 위치한다.The second hole injection layer 642 is located between the first electrode 610 and the second hole transport layer 644, and the second hole transport layer 644 is located between the second hole injection layer 642 and the second light emitting material layer. (646), and the second light emitting material layer (646) is located between the second hole transport layer (644) and the second electron transport layer (648).

제 1 및 제 2 발광물질층(635, 646) 각각은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있으며 서로 다른 색을 발광한다.Each of the first and second light emitting material layers 635 and 646 may be formed by doping a host material with a dopant and emit different colors.

예를 들어, 제 2 발광물질층(646)은 청색을 발광하고 제 1 발광물질층(635)은 청색보다 장파장인 녹색, 황록색(yellow-green, YG) 또는 오렌지색을 발광할 수 있다.For example, the second light-emitting material layer 646 may emit blue light, and the first light-emitting material layer 635 may emit green, yellow-green (YG), or orange light, which has a longer wavelength than blue.

제 1 및 제 2 정공수송층(633, 644) 각각은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 호스트로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 정공수송층(633, 644)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 정공주입층(631, 642)은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질로 이루어지거나, 이들 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량% 도핑될 수 있다. 제 1 및 제 2 정공주입층(631, 642)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.Each of the first and second hole transport layers 633 and 644 may be made of a hole transport host such as TPD or NPB. The first and second hole transport layers 633 and 644 may be made of the same material or may be made of different materials. In addition, the first and second hole injection layers 631 and 642 are made of a hole injection material such as MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS, or the organic compounds of Formulas 1 to 3 are added to these hole injection host materials. It may be doped from 0.1 to 50% by weight. The first and second hole injection layers 631 and 642 may be made of the same material or may be made of different materials.

상기 제 1 및 제 2 전자수송층(637, 648) 각각은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(639)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 전자수송층(637, 648)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.Each of the first and second electron transport layers 637 and 648 is oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimi It is made of an electron transport material such as azole (e.g., 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer (639) may be made of an electron injection material such as LIF or LiQ (lithium quinolate). The first and second electron transport layers 637 and 648 may be made of the same material or may be made of different materials.

전하 생성층(650)은 제 1 발광유닛(630)과 제 2 발광유닛(640) 사이에 위치하며, 제 2 발광 유닛(640)에 인접하는 N타입 전하 생성층(N-CGL, 652)과 제 1 발광 유닛(630)에 인접하는 P타입 전하 생성층(P-CGL, 654)을 포함한다.The charge generation layer 650 is located between the first light-emitting unit 630 and the second light-emitting unit 640, and includes an N-type charge generation layer (N-CGL, 652) adjacent to the second light-emitting unit 640. It includes a P-type charge generation layer (P-CGL, 654) adjacent to the first light emitting unit 630.

N타입 전하 생성층(652)은 제 2 발광유닛(640)으로 전자(electron)를 주입해주고, P타입 전하 생성층(654)은 제 1 발광유닛(630)으로 정공(hole)을 주입해준다.The N-type charge generation layer 652 injects electrons into the second light-emitting unit 640, and the P-type charge generation layer 654 injects holes into the first light-emitting unit 630.

N타입 전하 생성층(652)은 Li, Na, K, Cs와 같은 알칼리 금속 또는 Mg, Sr, Ba, Ra와 같은 알칼리토 금속으로 도핑된 유기층일 수 있다. N타입 전하 생성층(552)에 사용되는 호스트 유기물은 Bphen, MTDATA와 같은 물질일 수 있으며, 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속은 약 0.01 내지 30 중량%로 도핑될 수 있다.The N-type charge generation layer 652 may be an organic layer doped with an alkali metal such as Li, Na, K, or Cs or an alkaline earth metal such as Mg, Sr, Ba, or Ra. The host organic material used in the N-type charge generation layer 552 may be a material such as Bphen or MTDATA, and may be doped with an alkali metal or alkaline earth metal in an amount of about 0.01 to 30% by weight.

P타입 전하 생성층(654)은, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. P타입 전하 생성층(654)이 정공 주입 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 경우, 정공 주입 호스트 물질은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.The P-type charge generation layer 654 may be made of an organic material of Formulas 1 to 3, or may be formed by doping a hole injection host material with an organic compound of Formulas 1 to 3. When the P-type charge generation layer 654 includes a hole injection host material and an organic compound of Formula 1 to Formula 3, the hole injection host material may be MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS and has a hole injection host material of Formula 1 to Formula 3. The organic compound may be doped at about 0.1 to 50% by weight. However, it is not limited to this.

아울러, 발광물질층(635, 646)과 전자수송층(637, 648) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(635, 646)와 정공수송층(633, 644) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다.In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layers (635, 646) and the electron transport layers (637, 648), and the light emitting material layers (635, 646) and the hole transport layers (633, 644) ) At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent the movement of electrons.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되어 있으며, deep LUMO 값을 가지고 있어, 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or The indirectly connected aromatic moiety is substituted with a strong electron withdrawing group and has a deep LUMO value, resulting in excellent hole injection and charge generation characteristics.

따라서, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물로 이루어지거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 P타입 전하 생성층(654)을 포함하여 구성되는 전하 생성층(650)을 포함하는 적층 구조 발광 다이오드(600)의 발광 효율이 증가한다.Therefore, it includes a charge generation layer 650 composed of a P-type charge generation layer 654 made of an organic compound of Formula 1 to Formula 3 or formed by doping a host material with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. The luminous efficiency of the stacked structure light emitting diode 600 increases.

도 7은 본 발명의 예시적인 제 7 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 7 실시형태에 따른 발광다이오드(700)는 서로 마주하는 제 1 전극(710) 및 제 2 전극(720)과, 제 1 및 제 2 전극(710, 720) 사이에 위치하는 제 1 발광 유닛(상부 발광 유닛, 730)과, 제 1 전극(710)과 제 1 발광유닛(730) 사이에 위치하는 제 2 발광 유닛(하부 발광 유닛, 740)과, 제 1 및 제 2 발광유닛(730, 740) 사이에 위치하는 전하 생성층(750)을 포함한다.Figure 7 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to a seventh exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, the light emitting diode 700 according to the seventh embodiment of the present invention includes a first electrode 710 and a second electrode 720 facing each other, and a first and second electrode 710, 720), a first light-emitting unit (upper light-emitting unit, 730) located between the first electrode 710 and the first light-emitting unit 730, and a second light-emitting unit (lower light-emitting unit, 740), It includes a charge generation layer 750 located between the first and second light emitting units 730 and 740.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(710)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(720)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 710 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 720 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

제 1 발광 유닛(730)은 제 1 정공수송층(상부 정공수송층, 732)과, 제 1 발광물질층(상부 발광물질층, 734)과, 제 1 전자수송층(상부 전자수송층, 736)과, 전자주입층(738)을 포함한다. 제 1 발광물질층(734)은 제 1 정공수송층(732)과 제 2 전극(720) 사이에 위치하고, 제 1 전자수송층(736)은 제 1 발광물질층(734)과 제 2 전극(720) 사이에 위치하며, 전자주입층(738)은 제 1 전자수송층(736)과 제 2 전극(720) 사이에 위치한다. The first light-emitting unit 730 includes a first hole transport layer (upper hole transport layer, 732), a first light-emitting material layer (upper light-emitting material layer, 734), a first electron transport layer (upper electron transport layer, 736), and electrons. Includes an injection layer 738. The first light emitting material layer 734 is located between the first hole transport layer 732 and the second electrode 720, and the first electron transport layer 736 is located between the first light emitting material layer 734 and the second electrode 720. The electron injection layer 738 is located between the first electron transport layer 736 and the second electrode 720.

또한, 제 2 발광 유닛(740)은, 제 1 정공주입층(하부 정공주입층, 742)과, 제 2 정공수송층(하부 정공수송층, 744)과, 제 2 발광물질층(하부 발광물질층, 746)과, 제 2 전자수송층(하부 전자수송층, 748)을 포함한다.Additionally, the second light emitting unit 740 includes a first hole injection layer (lower hole injection layer, 742), a second hole transport layer (lower hole transport layer, 744), and a second light emitting material layer (lower hole injection layer, 746) and a second electron transport layer (lower electron transport layer, 748).

제 1 정공주입층(742)은 제 1 전극(710)과 제 2 정공수송층(744) 사이에 위치하며, 제 2 정공수송층(744)은 제 1 정공주입층(742)과 제 2 발광물질층(746) 사이에 위치하고, 제 2 발광물질층(746)은 제 2 정공수송층(744)과 제 2 전자수송층(748) 사이에 위치한다.The first hole injection layer 742 is located between the first electrode 710 and the second hole transport layer 744, and the second hole transport layer 744 is located between the first hole injection layer 742 and the second light emitting material layer. (746), and the second light emitting material layer (746) is located between the second hole transport layer (744) and the second electron transport layer (748).

제 1 및 제 2 발광물질층(734, 746) 각각은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있으며 서로 다른 색을 발광한다.Each of the first and second light emitting material layers 734 and 746 may be formed by doping a host material with a dopant and emit different colors.

예를 들어, 제 2 발광물질층(746)은 청색을 발광하고 제 1 발광물질층(734)은 청색보다 장파장인 녹색, 황록색(yellow-green, YG) 또는 오렌지색을 발광할 수 있다.For example, the second light-emitting material layer 746 may emit blue light, and the first light-emitting material layer 734 may emit green, yellow-green (YG), or orange light, which has a longer wavelength than blue.

제 1 및 제 2 정공수송층(732, 744) 각각은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 호스트로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 정공수송층(732, 744)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 제 1 정공주입층(742)은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질로 이루어지거나, 이들 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 화합물이 약 0.1 내지 50 중량% 도핑될 수 있다. Each of the first and second hole transport layers 732 and 744 may be made of a hole transport host such as TPD or NPB. The first and second hole transport layers 732 and 744 may be made of the same material or may be made of different materials. In addition, the first hole injection layer 742 is made of a hole injection material such as MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS, or these hole injection host materials are doped with about 0.1 to 50% by weight of the compounds of Formulas 1 to 3. It can be.

상기 제 1 및 제 2 전자수송층(736, 748) 각각은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(738)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 전자수송층(736, 744)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.Each of the first and second electron transport layers 736 and 748 is composed of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimide. It is made of an electron transport material such as azole (e.g., 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer (738) may be made of an electron injection material such as LIF or lithium quinolate (LiQ). The first and second electron transport layers 736 and 744 may be made of the same material or may be made of different materials.

전하 생성층(750)은 제 1 발광 유닛(730)과 제 2 발광 유닛(740) 사이에 위치하며, 제 2 발광 유닛(740)에 인접하는 N타입 전하 생성층(N-CGL, 752)과, 제 1 발광 유닛(730)에 인접하는 P타입 전하 생성층(P-CGL, 754)과, N타입 전하 생성층(752)와 P타입 전하 생성층(754) 사이에 위치하는 제 2 정공주입층(하부 정공주입층, 756)을 포함한다.The charge generation layer 750 is located between the first light-emitting unit 730 and the second light-emitting unit 740, and includes an N-type charge generation layer (N-CGL, 752) adjacent to the second light-emitting unit 740. , a P-type charge generation layer (P-CGL, 754) adjacent to the first light-emitting unit 730, and a second hole injection located between the N-type charge generation layer 752 and the P-type charge generation layer 754. layer (lower hole injection layer, 756).

N타입 전하 생성층(752)은 제 2 발광 유닛(740)으로 전자(electron)를 주입해주고, P타입 전하 생성층(754)은 제 1 발광 유닛(730)으로 정공(hole)을 주입해준다.The N-type charge generation layer 752 injects electrons into the second light-emitting unit 740, and the P-type charge generation layer 754 injects holes into the first light-emitting unit 730.

N타입 전하 생성층(752)은 Li, Na, K, Cs와 같은 알칼리 금속 또는 Mg, Sr, Ba, Ra와 같은 알칼리토 금속으로 도핑된 유기층일 수 있다. N타입 전하 생성층(552)에 사용되는 호스트 유기물은 Bphen, MTDATA와 같은 물질일 수 있으며, 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속은 약 0.01 내지 30 중량%로 도핑될 수 있다.The N-type charge generation layer 752 may be an organic layer doped with an alkali metal such as Li, Na, K, or Cs or an alkaline earth metal such as Mg, Sr, Ba, or Ra. The host organic material used in the N-type charge generation layer 552 may be a material such as Bphen or MTDATA, and may be doped with an alkali metal or alkaline earth metal in an amount of about 0.01 to 30% by weight.

P타입 전하 생성층(754)은, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 물질로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. P타입 전하 생성층(754)이 정공 주입 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 경우, 정공 주입 호스트 물질은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.The P-type charge generation layer 754 may be made of an organic material of Formulas 1 to 3, or may be formed by doping a hole injection host material with an organic compound of Formulas 1 to 3. When the P-type charge generation layer 754 includes a hole injection host material and an organic compound of Formula 1 to Formula 3, the hole injection host material may be MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS and has a hole injection host material of Formula 1 to Formula 3. The organic compound may be doped at about 0.1 to 50% by weight. However, it is not limited to this.

또한, 제 2 정공주입층(756)은 정공 주입 물질로 이루어진다. 예를 들어, 제 2 정공주입층(756)은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS로 이루어질 수 있다.Additionally, the second hole injection layer 756 is made of a hole injection material. For example, the second hole injection layer 756 may be made of MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS.

아울러, 발광물질층(734, 746)과 전자수송층(736, 748) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(734, 746)와 정공수송층(732, 744) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다.In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layers (734, 746) and the electron transport layers (736, 748), and the light emitting material layers (734, 746) and the hole transport layers (732, 744) ) At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent the movement of electrons.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되어 있으며, deep LUMO 값을 가지고 있어, 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or The indirectly connected aromatic moiety is substituted with a strong electron withdrawing group and has a deep LUMO value, resulting in excellent hole injection and charge generation characteristics.

따라서, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물로 이루어지거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 P타입 전하 생성층(754)을 포함하여 구성되는 전하 생성층(750)을 포함하는 적층 구조 발광 다이오드(700)의 발광 효율이 증가한다.Therefore, it includes a charge generation layer 750 composed of an organic compound of Formula 1 to Formula 3 or a P-type charge generation layer 754 formed by doping a host material with an organic compound of Formula 1 to Formula 3. The luminous efficiency of the stacked structure light emitting diode 700 increases.

도 8은 본 발명의 예시적인 제 8 실시형태에 따른 발광다이오드의 개략적인 단면도이다. 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 8 실시형태에 따른 발광다이오드(800)는 서로 마주하는 제 1 전극(810) 및 제 2 전극(820)과, 제 1 및 제 2 전극(810, 820) 사이에 위치하는 제 1 발광 유닛(상부 발광 유닛, 830)과, 제 1 전극(810)과 제 1 발광유닛(830) 사이에 위치하는 제 2 발광 유닛(하부 발광 유닛, 840)과, 제 1 및 제 2 발광 유닛(830, 840) 사이에 위치하는 전하 생성층(850)을 포함한다.Figure 8 is a schematic cross-sectional view of a light emitting diode according to an eighth exemplary embodiment of the present invention. As shown in FIG. 8, the light emitting diode 800 according to the eighth embodiment of the present invention includes a first electrode 810 and a second electrode 820 facing each other, and a first and second electrode 810, 820), a first light-emitting unit (upper light-emitting unit, 830) located between the first electrode 810 and the first light-emitting unit 830, and a second light-emitting unit (lower light-emitting unit, 840), It includes a charge generation layer 850 located between the first and second light emitting units 830 and 840.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(810)은 양극이며 일함수 값이 비교적 큰 도전성 물질로 이루어지고, 제 2 전극(820)은 음극이며 일함수 값이 비교적 작은 도전성 물질로 이루어진다.As described above, the first electrode 810 is an anode and is made of a conductive material with a relatively high work function, and the second electrode 820 is a cathode and is made of a conductive material with a relatively small work function.

제 1 발광 유닛(830)은 제 1 발광물질층(상부 발광물질층, 832)과, 제 1 전자수송층(상부 전자수송층, 834)과, 전자주입층(836)을 포함한다. 제 1 전자수송층(834)은 제 1 발광물질층(832)과 제 2 전극(820) 사이에 위치하며, 전자주입층(836)은 제 1 전자수송층(834)과 제 2 전극(820) 사이에 위치한다. The first light emitting unit 830 includes a first light emitting material layer (upper light emitting material layer, 832), a first electron transport layer (upper electron transport layer, 834), and an electron injection layer (836). The first electron transport layer 834 is located between the first light emitting material layer 832 and the second electrode 820, and the electron injection layer 836 is located between the first electron transport layer 834 and the second electrode 820. It is located in

또한, 제 2 발광 유닛(840)은, 정공주입층(842)과, 정공수송층(844)과, 제 2 발광물질층(하부 발광물질층, 846)과 제 2 전자수송층(하부 전자수송층, 848)을 포함한다.In addition, the second light emitting unit 840 includes a hole injection layer 842, a hole transport layer 844, a second light emitting material layer (lower light emitting material layer, 846), and a second electron transport layer (lower electron transport layer, 848). ) includes.

정공주입층(842)은 제 1 전극(810)과 정공수송층(844) 사이에 위치하며, 정공수송층(844)은 정공주입층(842)과 제 2 발광물질층(846) 사이에 위치하고, 제 2 발광물질층(846)은 정공수송층(844)과 제 2 전자수송층(848) 사이에 위치한다.The hole injection layer 842 is located between the first electrode 810 and the hole transport layer 844, and the hole transport layer 844 is located between the hole injection layer 842 and the second light emitting material layer 846. 2 The light emitting material layer 846 is located between the hole transport layer 844 and the second electron transport layer 848.

제 1 및 제 2 발광물질층(832, 846) 각각은 호스트(host) 물질에 도펀트(dopant)가 도핑되어 이루어질 수 있으며 서로 다른 색을 발광한다.Each of the first and second light emitting material layers 832 and 846 may be formed by doping a host material with a dopant and emit different colors.

예를 들어, 제 2 발광물질층(846)은 청색을 발광하고 제 1 발광물질층(832)은 청색보다 장파장인 녹색, 황록색(yellow-green, YG) 또는 오렌지색을 발광할 수 있다.For example, the second light-emitting material layer 846 may emit blue light, and the first light-emitting material layer 832 may emit green, yellow-green (YG), or orange light, which has a longer wavelength than blue.

정공수송층(844)은 TPD 또는 NPB와 같은 정공 수송 호스트로 이루어질 수 있다. 또한, 정공주입층(842)은 MTDATA, CuPc, HATCN 또는 PEDOT/PSS와 같은 정공 주입 물질로 이루어지거나, 이들 정공 주입 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량% 도핑될 수 있다. The hole transport layer 844 may be made of a hole transport host such as TPD or NPB. In addition, the hole injection layer 842 is made of a hole injection material such as MTDATA, CuPc, HATCN, or PEDOT/PSS, or these hole injection host materials are doped with about 0.1 to 50% by weight of the organic compounds of Formulas 1 to 3. You can.

상기 제 1 및 제 2 전자수송층(834, 848) 각각은 옥사디아졸(oxadiazole), 트리아졸(triazole), 페난트롤린(phenanthroline), 벤족사졸(benzoxazole), 벤즈티아졸(benzthiazole) 또는 벤지이미다졸(예를 들어, 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole)과 같은 전자 수송 물질로 이루어지고, 상기 전자주입층(836)은 LIF 또는 LiQ(lithium quinolate)와 같은 전자 주입 물질로 이루어질 수 있다. 제 1 및 제 2 전자수송층(834, 848)은 동일한 물질로 이루어지거나 서로 다른 물질로 이루어질 수 있다.Each of the first and second electron transport layers 834 and 848 is composed of oxadiazole, triazole, phenanthroline, benzoxazole, benzthiazole, or benzimide. It is made of an electron transport material such as azole (e.g., 2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole), and the electron injection layer (836) may be made of an electron injection material such as LIF or lithium quinolate (LiQ). The first and second electron transport layers 834 and 848 may be made of the same material or may be made of different materials.

전하 생성층(850)은 제 1 발광 유닛(830)과 제 2 발광 유닛(840) 사이에 위치하며, 제 2 발광 유닛(840)에 인접하는 N타입 전하 생성층(N-CGL, 852)과 제 1 발광 유닛(830)에 인접하는 P타입 전하 생성층(P-CGL, 854)을 포함한다.The charge generation layer 850 is located between the first light-emitting unit 830 and the second light-emitting unit 840, and includes an N-type charge generation layer (N-CGL, 852) adjacent to the second light-emitting unit 840. It includes a P-type charge generation layer (P-CGL, 854) adjacent to the first light emitting unit 830.

N타입 전하 생성층(852)은 제 2 발광 유닛(840)으로 전자(electron)를 주입해주고, P타입 전하 생성층(854)은 제 1 발광 유닛(830)으로 정공(hole)을 주입해준다.The N-type charge generation layer 852 injects electrons into the second light-emitting unit 840, and the P-type charge generation layer 854 injects holes into the first light-emitting unit 830.

N타입 전하 생성층(852)은 Li, Na, K, Cs와 같은 알칼리 금속 또는 Mg, Sr, Ba, Ra와 같은 알칼리토 금속으로 도핑된 유기층일 수 있다. N타입 전하 생성층(552)에 사용되는 호스트 유기물은 Bphen, MTDATA와 같은 물질일 수 있으며, 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속은 약 0.01 내지 30 중량%로 도핑될 수 있다.The N-type charge generation layer 852 may be an organic layer doped with an alkali metal such as Li, Na, K, or Cs or an alkaline earth metal such as Mg, Sr, Ba, or Ra. The host organic material used in the N-type charge generation layer 552 may be a material such as Bphen or MTDATA, and may be doped with an alkali metal or alkaline earth metal in an amount of about 0.01 to 30% by weight.

P타입 전하 생성층(854)은, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 물질로 이루어지거나 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 이루어질 수 있다. P타입 전하 생성층(854)이 정공 수송 호스트 물질과 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 경우, 정공 수송 호스트 물질은 TPD 또는 NPB일 수 있으며 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 약 0.1 내지 50 중량%로 도핑될 수 있다. 그러나, 이에 한정되는 것은 아니다.The P-type charge generation layer 854 may be made of an organic material of Formulas 1 to 3, or may be formed by doping a hole transport host material with an organic compound of Formulas 1 to 3. When the P-type charge generation layer 854 includes a hole transport host material and an organic compound of Formula 1 to Formula 3, the hole transport host material may be TPD or NPB, and the organic compound of Formula 1 to Formula 3 is about 0.1 to 0.1 It can be doped at 50% by weight. However, it is not limited to this.

아울러, 발광물질층(832, 846)과 전자수송층(834, 848) 사이에 정공의 이동을 방지하기 위한 정공차단층(HBL)과, 발광물질층(832, 846)와 정공수송층(844) 사이에 전자의 이동을 방지하기 위한 전자차단층(EBL) 중 적어도 하나의 엑시톤 차단층이 더욱 형성될 수 있다.In addition, a hole blocking layer (HBL) to prevent the movement of holes between the light emitting material layers (832, 846) and the electron transport layer (834, 848), and a hole blocking layer (HBL) between the light emitting material layers (832, 846) and the electron transport layer (844) At least one exciton blocking layer among the electron blocking layers (EBL) may be further formed to prevent the movement of electrons.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 치환되어 있으며, deep LUMO 값을 가지고 있어, 우수한 정공 주입 특성과 전하 생성 특성을 갖는다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or The indirectly connected aromatic moiety is substituted with a strong electron withdrawing group and has a deep LUMO value, resulting in excellent hole injection and charge generation characteristics.

따라서, 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물로 이루어지거나 정공 수송 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 P타입 전하 생성층(854)을 포함하여 구성되는 전하 생성층(850)을 포함하는 적층 구조 발광 다이오드(800)의 발광 효율이 증가한다.Therefore, the charge generation layer 850 is comprised of a P-type charge generation layer 854 made of an organic compound of Formulas 1 to 3 or formed by doping a hole transport host material with an organic compound of Formulas 1 to 3. The luminous efficiency of the stacked structure light emitting diode 800 including increases.

도 5 내지 도 8에서 P타입 전하 생성층이 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함하는 것으로 설명하였으나, 도 1 내지 도 4에서와 같이 정공주입층 및/또는 정공수송층이 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물을 포함할 수 있다.In FIGS. 5 to 8, the P-type charge generation layer is explained as including the organic compounds of Formulas 1 to 3. However, as in FIGS. 1 to 4, the hole injection layer and/or the hole transport layer include the organic compounds of Formulas 1 to 3. May contain organic compounds.

또한, 도 5 내지 도 8에서 제 1 및 제 2 발광 유닛이 적층되고 그 사이에 전하 생성층이 위치하는 것으로 설명하였으나, 추가적인 발광 유닛과 발광 유닛들 사이에 위치하는 전하 생성층을 더 포함할 수 있다.In addition, although it is explained in FIGS. 5 to 8 that the first and second light-emitting units are stacked and a charge generation layer is located between them, it may further include an additional light-emitting unit and a charge generation layer located between the light-emitting units. there is.

계속해서, 본 발명의 발광다이오드를 적용한 표시장치에 대해서 설명한다. 도 9는 본 발명의 예시적인 실시형태에 따른 유기발광다이오드 표시장치의 개략적인 단면도이다.Next, a display device to which the light emitting diode of the present invention is applied will be described. 9 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 발광다이오드 표시장치(900)는 구동 박막트랜지스터(Td)와, 구동 박막트랜지스터(Td)를 덮는 평탄화층(960)과, 평탄화층(960) 상에 위치하며 구동 박막트랜지스터(Td)에 연결되는 발광다이오드(E)를 포함한다.As shown in FIG. 9, the light emitting diode display device 900 includes a driving thin film transistor (Td), a planarization layer 960 covering the driving thin film transistor (Td), and a driving thin film located on the planarization layer 960. It includes a light emitting diode (E) connected to a transistor (Td).

구동 박막트랜지스터(Td)는, 반도체층(940)과, 게이트 전극(944)과, 소스 전극(956)과, 드레인 전극(958)을 포함한다.The driving thin film transistor Td includes a semiconductor layer 940, a gate electrode 944, a source electrode 956, and a drain electrode 958.

구체적으로, 유리 또는 플라스틱으로 이루어지는 기판(901) 상부에 반도체층(940)이 형성된다. 예를 들어, 반도체층(940)은 산화물 반도체 물질로 이루어질 수 있다. 이 경우 반도체층(140) 하부에는 차광패턴(도시하지 않음)과 버퍼층(도시하지 않음)이 형성될 수 있으며, 차광패턴은 반도체층(940)으로 빛이 입사되는 것을 방지하여 반도체층(940)이 빛에 의해 열화되는 것을 방지한다. 이와 달리, 반도체층(940)은 다결정 실리콘으로 이루어질 수도 있으며, 이 경우 반도체층(940)의 양 가장자리에 불순물이 도핑되어 있을 수 있다. Specifically, a semiconductor layer 940 is formed on a substrate 901 made of glass or plastic. For example, the semiconductor layer 940 may be made of an oxide semiconductor material. In this case, a light-shielding pattern (not shown) and a buffer layer (not shown) may be formed under the semiconductor layer 140, and the light-shielding pattern prevents light from entering the semiconductor layer 940, thereby forming the semiconductor layer 940. This prevents deterioration from light. Alternatively, the semiconductor layer 940 may be made of polycrystalline silicon, and in this case, both edges of the semiconductor layer 940 may be doped with impurities.

반도체층(940) 상부에는 절연물질로 이루어진 게이트 절연막(942)이 기판(901) 전면에 형성된다. 게이트 절연막(942)은 산화 실리콘 또는 질화 실리콘과 같은 무기절연물질로 이루어질 수 있다.A gate insulating film 942 made of an insulating material is formed on the entire surface of the substrate 901 on the semiconductor layer 940. The gate insulating film 942 may be made of an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride.

게이트 절연막(942) 상부에는 금속과 같은 도전성 물질로 이루어진 게이트 전극(944)이 반도체층(940)의 중앙에 대응하여 형성된다. 또한, 게이트 절연막(942) 상부에는 게이트 배선(도시하지 않음)과 제1 캐패시터 전극(도시하지 않음)이 형성될 수 있다. 게이트 배선은 제1방향을 따라 연장되고, 제1 캐패시터 전극은 게이트 전극(944)에 연결될 수 있다.A gate electrode 944 made of a conductive material such as metal is formed on the gate insulating film 942 corresponding to the center of the semiconductor layer 940. Additionally, a gate wiring (not shown) and a first capacitor electrode (not shown) may be formed on the gate insulating film 942. The gate wire extends along the first direction, and the first capacitor electrode may be connected to the gate electrode 944.

한편, 게이트 절연막(942)이 기판(901) 전면에 형성되어 있으나, 게이트 절연막(942)은 게이트전극(944)과 동일한 모양으로 패터닝 될 수도 있다. Meanwhile, the gate insulating film 942 is formed on the entire surface of the substrate 901, but the gate insulating film 942 may be patterned to have the same shape as the gate electrode 944.

게이트전극(944) 상부에는 절연물질로 이루어진 층간 절연막(950)이 기판(901) 전면에 형성된다. 층간 절연막(950)은 산화 실리콘이나 질화 실리콘과 같은 무기 절연물질로 형성되거나, 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene)이나 포토 아크릴(photo-acryl)과 같은 유기 절연물질로 형성될 수 있다. An interlayer insulating film 950 made of an insulating material is formed on the entire surface of the substrate 901 above the gate electrode 944. The interlayer insulating film 950 may be formed of an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride, or may be formed of an organic insulating material such as benzocyclobutene or photo-acryl.

층간 절연막(950)은 반도체층(940)의 양측 상면을 노출하는 제 1 및 제 2 컨택홀(952, 954)을 갖는다. 제 1 및 제 2 컨택홀(952, 954)은 게이트 전극(944)의 양측에 게이트 전극(944)과 이격되어 위치한다. 여기서, 제 1 및 제 2 컨택홀(952, 954)은 게이트 절연막(942) 내에도 형성된다. 이와 달리, 게이트 절연막(942)이 게이트 전극(944)과 동일한 모양으로 패터닝 될 경우, 제 1 및 제 2 컨택홀(952, 954)은 층간 절연막(950) 내에만 형성된다. The interlayer insulating film 950 has first and second contact holes 952 and 954 exposing upper surfaces of both sides of the semiconductor layer 940 . The first and second contact holes 952 and 954 are located on both sides of the gate electrode 944 and are spaced apart from the gate electrode 944 . Here, the first and second contact holes 952 and 954 are also formed within the gate insulating film 942. In contrast, when the gate insulating film 942 is patterned to have the same shape as the gate electrode 944, the first and second contact holes 952 and 954 are formed only within the interlayer insulating film 950.

층간 절연막(950) 상부에는 금속과 같은 도전성 물질로 소스 전극(956)과 드레인 전극(958)이 형성된다. 또한, 층간 절연막(950) 상부에는 제 2 방향을 따라 연장되는 데이터 배선(도시하지 않음)과 전원 배선(도시하지 않음) 및 제 2 캐패시터 전극(도시하지 않음)이 형성될 수 있다. A source electrode 956 and a drain electrode 958 are formed on the interlayer insulating film 950 using a conductive material such as metal. Additionally, a data wire (not shown), a power wire (not shown), and a second capacitor electrode (not shown) extending along the second direction may be formed on the interlayer insulating film 950.

소스 전극(956)과 드레인 전극(958)은 게이트 전극(944)을 중심으로 이격되어 위치하며, 각각 제 1 및 제 2 컨택홀(952, 954)을 통해 반도체층(940)의 양측과 접촉한다. 도시하지 않았지만, 데이터 배선은 제 2 방향을 따라 연장되고 게이트 배선과 교차하여 화소영역을 정의하며, 고전위 전압을 공급하는 전원 배선은 데이터 배선과 이격되어 위치한다. 제 2 캐패시터 전극은 드레인 전극(958)과 연결되고 제 1 캐패시터 전극과 중첩함으로써, 제 1 및 제 2 캐패시터 전극 사이의 층간 절연막(950)을 유전체층으로 하여 스토리지 캐패시터를 이룬다. The source electrode 956 and the drain electrode 958 are positioned spaced apart from each other around the gate electrode 944 and contact both sides of the semiconductor layer 940 through the first and second contact holes 952 and 954, respectively. . Although not shown, the data wire extends along the second direction and intersects the gate wire to define the pixel area, and the power wire supplying a high potential voltage is located spaced apart from the data wire. The second capacitor electrode is connected to the drain electrode 958 and overlaps the first capacitor electrode, thereby forming a storage capacitor using the interlayer insulating film 950 between the first and second capacitor electrodes as a dielectric layer.

한편, 반도체층(940)과, 게이트전극(944), 소스 전극(956), 드레인전극(958)은 구동 박막트랜지스터(Td)를 이루는데, 구동 박막트랜지스터(Td)는 반도체층(940)의 상부에 게이트 전극(944), 소스 전극(956) 및 드레인 전극(958)이 위치하는 코플라나(coplanar) 구조를 가진다.Meanwhile, the semiconductor layer 940, the gate electrode 944, the source electrode 956, and the drain electrode 958 form a driving thin film transistor (Td). The driving thin film transistor (Td) is the semiconductor layer 940. It has a coplanar structure in which a gate electrode 944, a source electrode 956, and a drain electrode 958 are located on the top.

이와 달리, 구동 박막트랜지스터(Td)는 반도체층의 하부에 게이트 전극이 위치하고 반도체층의 상부에 소스 전극과 드레인 전극이 위치하는 역 스태거드(inverted staggered) 구조를 가질 수 있다. 이 경우, 반도체층은 비정질 실리콘으로 이루어질 수 있다. In contrast, the driving thin film transistor (Td) may have an inverted staggered structure in which the gate electrode is located at the bottom of the semiconductor layer and the source electrode and drain electrode are located at the top of the semiconductor layer. In this case, the semiconductor layer may be made of amorphous silicon.

또한, 구동 박막트랜지스터(Td)와 실질적으로 동일한 구조의 스위칭 박막트랜지스터(미도시)가 기판(901) 상에 더 형성된다. 구동 박막트랜지스터(Td)의 게이트 전극(944)은 스위칭 박막트랜지스터(Ts)의 드레인 전극(도시하지 않음)에 연결되고 구동 박막트랜지스터(Td)의 소스 전극(956)은 전원 배선(도시하지 않음)에 연결된다. 또한, 스위칭 박막트랜지스터(Ts)의 게이트 전극(도시하지 않음)과 소스 전극(도시하지 않음)은 게이트 배선 및 데이터 배선과 각각 연결된다.In addition, a switching thin film transistor (not shown) having substantially the same structure as the driving thin film transistor (Td) is further formed on the substrate 901. The gate electrode 944 of the driving thin film transistor (Td) is connected to the drain electrode (not shown) of the switching thin film transistor (Ts), and the source electrode 956 of the driving thin film transistor (Td) is connected to the power wiring (not shown). connected to Additionally, the gate electrode (not shown) and the source electrode (not shown) of the switching thin film transistor (Ts) are connected to the gate wire and data wire, respectively.

소스 전극(956)과 드레인 전극(958) 상부에는 평탄화층(960)이 기판(901) 전면에 형성된다. 평탄화층(960)은 상면이 평탄하며, 구동 박막트랜지스터(Td)의 드레인 전극(958)을 노출하는 드레인 컨택홀(962)을 갖는다. 여기서, 드레인 컨택홀(962)은 제 2 컨택홀(954) 바로 위에 형성된 것으로 도시되어 있으나, 제 2 컨택홀(954)과 이격되어 형성될 수도 있다. A planarization layer 960 is formed on the entire surface of the substrate 901 above the source electrode 956 and the drain electrode 958. The planarization layer 960 has a flat top surface and has a drain contact hole 962 exposing the drain electrode 958 of the driving thin film transistor (Td). Here, the drain contact hole 962 is shown as being formed directly above the second contact hole 954, but may also be formed spaced apart from the second contact hole 954.

발광다이오드(E)는 평탄화층(960) 상에 위치하며 구동 박막트랜지스터(Td)의 드레인 전극(958)에 연결되는 제 1 전극(910)과, 제 1 전극(910) 상에 순차 적층되는 유기발광층(120) 및 제 2 전극(930)을 포함한다. The light emitting diode (E) is located on the planarization layer 960 and includes a first electrode 910 connected to the drain electrode 958 of the driving thin film transistor (Td), and an organic electrode sequentially stacked on the first electrode 910. It includes a light emitting layer 120 and a second electrode 930.

전술한 바와 같이, 제 1 전극(910)은 일함수 값이 비교적 큰 물질로 이루어져 양극 역할을 하고, 제 2 전극(930)은 일함수 값이 비교적 작은 물질로 이루어져 음극 역할을 할 수 있다.As described above, the first electrode 910 is made of a material with a relatively high work function value and serves as an anode, and the second electrode 930 is made of a material with a relatively low work function value and can serve as a cathode.

또한, 상기 발광다이오드(E)를 덮으며 인캡슐레이션(encapsulation) 기판(미도시)이 상기 기판(101)과 합착될 수 있다. 이때, 상기 인캡슐레이션 기판과 상기 발광다이오드(E) 사이에는 이들 기판을 합착시키며 상기 발광다이오드(E)로 수분이나 산소가 침투하는 것을 방지하는 배리어층이 형성될 수 있다.Additionally, an encapsulation substrate (not shown) may be bonded to the substrate 101 to cover the light emitting diode (E). At this time, a barrier layer may be formed between the encapsulation substrate and the light emitting diode (E) to bond these substrates and prevent moisture or oxygen from penetrating into the light emitting diode (E).

유기발광층(920)은, 도 1 내지 도 8의 실시형태를 통해 설명한 바와 같이, 정공주입층, 정공수송층 또는 전하 생성층이 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물만으로 이루어지는 층을 포함하거나 호스트 물질에 화학식 1 내지 화학식 3의 유기 화합물이 도핑되어 형성되는 층을 포함하여 구성된다.As explained through the embodiments of FIGS. 1 to 8, the organic light-emitting layer 920 includes a hole injection layer, a hole transport layer, or a charge generation layer consisting only of organic compounds of Formulas 1 to 3, or a host material containing a chemical compound of Formula 3. It is composed of a layer formed by doping organic compounds of formulas 1 to 3.

도시하지 않았으나, 발광다이오드(E)가 도 5 내지 도 8에서와 같이 적층 구조를 가져 백색 발광에 이용되는 경우 컬러필터가 형성될 수 있다.Although not shown, when the light emitting diode E has a stacked structure as shown in FIGS. 5 to 8 and is used to emit white light, a color filter may be formed.

전술한 바와 같이, 본 발명의 유기 화합물은 접합 고리(fused ring) 유도체 코어를 구성하는 공액화(conjugated) 벤젠 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 접합된 다른 방향족 고리 및/또는 이 벤젠 고리에 직접 또는 간접적으로 연결되는 방향족 모이어티에 강한 전자끌개 그룹(electron withdrawing group)이 직접 또는 아릴기를 통하여 치환된 구조를 가지며, 우수한 정공 주입 특성을 갖는다. 또한, 본 발명의 유기 화합물은 깊은 최저 비점유 분자궤도 함수(deep LUMO)를 가지고 있어서, 정공 수송 능력이 우수한 유기물(Hole Transporting material, HTM)과 인접한 유기물층에 사용하는 경우, HTM의 최고 점유 분자 궤도함수(HOMO)에 있는 전자를 받아서 HTM 반대 방향(예를 들어 양극 방향)으로 이동시키고, 이로 인해 발생된 정공은 EML 방향(예를 들어 음극 방향)으로 이동시켜 전하 생성 특성을 갖는다. 따라서, 본 발명의 유기 화합물을 포함하는 유기발광다이오드 표시장치는 구동 전압이 감소하고 발광 효율이 향상되는 장점을 갖는다.As described above, the organic compound of the present invention is directly or It has a structure in which a strong electron withdrawing group on the indirectly connected aromatic moiety is substituted directly or through an aryl group, and has excellent hole injection characteristics. In addition, the organic compound of the present invention has a deep lowest unoccupied molecular orbital function (deep LUMO), so when used in an organic material layer adjacent to an organic material (Hole Transporting material, HTM) with excellent hole transport ability, the highest occupied molecular orbital of the HTM It receives electrons in the HOMO and moves them in the direction opposite to HTM (for example, the anode direction), and the resulting holes move in the EML direction (for example, the cathode direction) and have charge generation characteristics. Therefore, an organic light emitting diode display device containing the organic compound of the present invention has the advantage of reduced driving voltage and improved luminous efficiency.

이하, 예시적인 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 하지만, 본 발명이 하기 실시예에 기재된 기술사상으로 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through exemplary embodiments. However, the present invention is not limited to the technical ideas described in the examples below.

합성예 1: A5 화합물의 합성Synthesis Example 1: Synthesis of A5 compound

1) 화합물 A3 합성1) Synthesis of Compound A3

반응식 1-1Scheme 1-1

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (2.00g, 8.44 mmol), A2 (2.68g, 9.28 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.49g, 0.42 mmol), potassium carbonate (5.13g, 37.12 mmol)을 tetrahydrofuran (60 ml)와 water (20 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 A3 (1.50g, 3.74 mmol)을 얻었다.A1 (2.00g, 8.44 mmol), A2 (2.68g, 9.28 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.49g, 0.42 mmol), and potassium carbonate (5.13g, 37.12 mmol) were added to a 250 ml round bottom flask. It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (60 ml) and water (20 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound A3 (1.50 g, 3.74 mmol).

2) 화합물 A5 합성2) Synthesis of Compound A5

반응식 1-2Scheme 1-2

500ml 둥근바닥 플라스크에 A3 (1.50g, 3.74 mmol), A4 (2.47g, 37.36 mmol)를 methylene chloride (200ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (4.10 ml, 37.36 mol)과 pyridine (6.02 ml, 74.73 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 A5 (0.65g, 1.31mmol)을 얻었다.Add A3 (1.50g, 3.74 mmol) and A4 (2.47g, 37.36 mmol) to methylene chloride (200ml) in a 500ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (4.10 ml, 37.36 mol) and pyridine (6.02 ml, 74.73 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound A5 (0.65g, 1.31mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.17 (d, 1H), 8.09 (d, 1H), 7.79~7.74 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.31~7.22 (m, 6H), 7.07~7.00 (m, 7H), 6.93 (d, 1H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.17 (d, 1H), 8.09 (d, 1H), 7.79~7.74 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.31~7.22 (m, 6H), 7.07~7.00 (m, 7H), 6.93 (d, 1H)

합성예Synthesis example 2: 화합물 B8의 합성 2: Synthesis of Compound B8

1) 화합물 B3 합성1) Synthesis of compound B3

반응식 2-1Scheme 2-1

500 ml 둥근바닥 플라스크에 B1(7.00g, 30.55 mmol), B2 (8.65g, 29.51 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (0.42g, 0.46 mmol), (ㅁ)-2,2'-Bis(diphenylphosphino)-1,1'-binaphthalene(BINAP) (0.57g, 0.57 mmol)과 Sodium tert-butoxide(4.11g, 42.77 mmol)를, Toluene(300 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거 한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하고, silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 B3 (10.50g, 23.80 mmol)을 얻었다.In a 500 ml round bottom flask, B1 (7.00g, 30.55 mmol), B2 (8.65g, 29.51 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (0.42g, 0.46 mmol), (ㅁ)-2,2'-Bis (diphenylphosphino)-1,1'-binaphthalene (BINAP) (0.57g, 0.57 mmol) and Sodium tert-butoxide (4.11g, 42.77 mmol) were dissolved in toluene (300 ml) and incubated in a 100°C bath for 24 hours. After stirring, when the reaction was completed, toluene was removed, extraction was performed using dichloromethane and water, distillation was performed under reduced pressure, and the solvent was distilled under reduced pressure after a silica gel column to obtain compound B3 (10.50 g, 23.80 mmol).

2) 화합물 B5 합성2) Synthesis of compound B5

반응식 2-2Scheme 2-2

500 ml 둥근 바닥 플라스크에 B3 (10.50g, 23.80 mmol), B4 (19.41g, 71.39 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(0.33g, 0.36 mmol), BINAP(0.44g, 0.71 mmol)과 Sodium tert-butoxide(3.20g, 33.32 mmol)를, Toluene(250 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거 한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하여 silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 B5 (6.68g, 10.57 mmol)을 얻었다.B3 (10.50g, 23.80 mmol), B4 (19.41g, 71.39 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(0.33g, 0.36 mmol), BINAP (0.44g, 0.71 mmol) and Sodium in a 500 ml round bottom flask. Dissolve tert-butoxide (3.20 g, 33.32 mmol) in toluene (250 ml) and stir in a 100°C bath for 24 hours. When the reaction is complete, toluene is removed and extracted using dichloromethane and water. After distillation under reduced pressure and silica gel column, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain compound B5 (6.68g, 10.57 mmol).

3) 화합물 B6 합성3) Compound B6 synthesis

반응식 2-3Scheme 2-3

500 ml 둥근바닥 플라스크에 B5 (6.68g, 10.57 mmol), diethylether (200 ml)을 넣고, -78℃로 냉각하였다. 이후, 2.5M n-butyl lithium (4.86 ml, 12.15 mml)을 넣고, 1시간 유지 후, 상온으로 만들었다. 다시 -78℃로 냉각한 후, triethylborate (1.77g, 12.15 mmol)을 넣고, 30분 유지 후, 상온으로 만들었다. 24시간 교반 후, 10M HCl을 넣어 반응을 종료시키고, 추출하고 감압 증류한 후, petroleum ether를 사용하여 filter를 실시하여, 화합물 B6 (3.67g, 6.15 mmol)을 얻었다.B5 (6.68g, 10.57 mmol) and diethylether (200 ml) were added to a 500 ml round bottom flask, and cooled to -78°C. Afterwards, 2.5M n-butyl lithium (4.86 ml, 12.15 mml) was added, maintained for 1 hour, and brought to room temperature. After cooling to -78°C again, triethylborate (1.77g, 12.15 mmol) was added, maintained for 30 minutes, and brought to room temperature. After stirring for 24 hours, the reaction was terminated by adding 10M HCl, extracted, distilled under reduced pressure, and filtered using petroleum ether to obtain compound B6 (3.67g, 6.15 mmol).

4) 화합물 B7 합성4) Synthesis of compound B7

반응식 2-4Scheme 2-4

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (1.30g, 5.48 mmol), B6 (3.60g, 6.03 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.32g, 0.27 mmol), potassium carbonate (3.33g, 24.13 mmol)을 tetrahydrofuran (45 ml)와 water (15 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 B7 (1.45g, 2.04 mmol)을 얻었다.In a 250 ml round bottom flask, add A1 (1.30g, 5.48 mmol), B6 (3.60g, 6.03 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.32g, 0.27 mmol), and potassium carbonate (3.33g, 24.13 mmol). It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (45 ml) and water (15 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound B7 (1.45 g, 2.04 mmol).

5) 화합물 B8 합성5) Synthesis of compound B8

반응식 2-5Scheme 2-5

500 ml 둥근바닥 플라스크에 B7 (1.45g, 2.04 mmol), A4 (1.35g, 20.44 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0oC로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (2.24 ml, 20.44 mol)과 pyridine (3.29 ml, 40.88 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 B8 (0.53g, 0.66 mmol)을 얻었다. Add B7 (1.45g, 2.04 mmol) and A4 (1.35g, 20.44 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0 o C. Afterwards, titanium chloride (2.24 ml, 20.44 mol) and pyridine (3.29 ml, 40.88 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound B8 (0.53g, 0.66 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.14 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), 7.77~7.66 (m, 5H), 7.49 (s, 1H), 7.32~7.29 (m, 2H), 7.09~7.06 (m, 3H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.14 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), 7.77~7.66 (m, 5H), 7.49 (s, 1H), 7.32~7.29 (m, 2H), 7.09~7.06 (m, 3H)

밀도 범함수 이론(Density Functional Theory)에 따라 계산된 B8 유기 화합물의 HOMO 값은 -6.34 eV, LUMO 값은 -4.32 eV이다(B3LYP/6-31G*).The HOMO value of B8 organic compound calculated according to Density Functional Theory is -6.34 eV, and the LUMO value is -4.32 eV (B3LYP/6-31G * ).

합성예 3: 화합물 C6 합성Synthesis Example 3: Synthesis of Compound C6

1) 화합물 C3 합성1) Synthesis of compound C3

반응식 3-1Scheme 3-1

1000 ml 둥근 바닥 플라스크에 C1 (15.00g, 88.64 mmol), C2 (60.62g, 132.96 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(1.22g, 1.33 mmol), BINAP (1.66g, 2.66 mmol)과 Sodium tert-butoxide(11.93g, 124.10 mmol)를, Toluene(800 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거 한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하여 silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 C3 (13.40g, 24.62 mmol)을 얻었다C1 (15.00g, 88.64 mmol), C2 (60.62g, 132.96 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(1.22g, 1.33 mmol), BINAP (1.66g, 2.66 mmol) and Sodium in a 1000 ml round bottom flask. After dissolving tert-butoxide (11.93g, 124.10 mmol) in toluene (800 ml), stir in a 100°C bath for 24 hours. When the reaction is complete, toluene is removed and extracted using dichloromethane and water. After distillation under reduced pressure and silica gel column, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain compound C3 (13.40 g, 24.62 mmol).

2) 화합물 C4 합성2) Synthesis of compound C4

반응식 3-2Scheme 3-2

500 ml 둥근바닥 플라스크에 C3 (13.40g, 24.62 mmol), diethylether (300 ml)을 넣고, -78℃로 냉각하였다. 이후, 2.5M n-butyl lithium (11.33 ml, 28.32 mmol)을 넣고, 1시간 유지 후, 상온으로 만들었다. 다시 -78℃로 냉각한 후, triethylborate (4.13g, 28.32 mmol)을 넣고, 30분 유지 후, 상온으로 만들었다. 24시간 교반 후, 10M HCl을 넣어 반응을 종료시키고, 추출하고 감압 증류한 후, petroleum ether를 사용하여 filter를 실시하여, 화합물 C4 (4.80g, 9.43 mmol)을 얻었다.C3 (13.40 g, 24.62 mmol) and diethylether (300 ml) were added to a 500 ml round bottom flask, and cooled to -78°C. Afterwards, 2.5M n-butyl lithium (11.33 ml, 28.32 mmol) was added, maintained for 1 hour, and brought to room temperature. After cooling to -78°C again, triethylborate (4.13g, 28.32 mmol) was added, maintained for 30 minutes, and brought to room temperature. After stirring for 24 hours, the reaction was terminated by adding 10M HCl, extracted, distilled under reduced pressure, and filtered using petroleum ether to obtain compound C4 (4.80g, 9.43 mmol).

3) 화합물 C5 합성3) Synthesis of compound C5

반응식 3-3Scheme 3-3

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (2.03g, 8.56 mmol), C4 (4.80g, 9.42 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.49g, 0.43 mmol), potassium carbonate (5.21g, 37.68 mmol)을 tetrahydrofuran (75 ml)와 water (25 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 C5 (1.75g, 2.82 mmol)을 얻었다.A1 (2.03g, 8.56 mmol), C4 (4.80g, 9.42 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.49g, 0.43 mmol), and potassium carbonate (5.21g, 37.68 mmol) were added to a 250 ml round bottom flask. It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (75 ml) and water (25 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound C5 (1.75 g, 2.82 mmol).

4) 화합물 C6 합성4) Synthesis of compound C6

반응식 3-4Scheme 3-4

500ml 둥근바닥 플라스크에 C5 (1.75g, 2.82 mmol), A4 (1.86g, 28.16 mmol)를 methylene chloride (200ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (3.09 ml, 28.16 mol)과 pyridine (4.54 ml, 56.32 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 C6 (0.63g, 0.88 mmol)을 얻었다.Add C5 (1.75g, 2.82 mmol) and A4 (1.86g, 28.16 mmol) to methylene chloride (200ml) in a 500ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (3.09 ml, 28.16 mol) and pyridine (4.54 ml, 56.32 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound C6 (0.63g, 0.88 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.15 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), 7.78~7.67 (m, 6H), 7.49 (s, 1H), 7.32~7.29 (m, 2H), 7.10~7.07 (m, 4H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.15 (d, 1H), 8.06 (d, 1H), 7.78~7.67 (m, 6H), 7.49 (s, 1H), 7.32~7.29 (m, 2H), 7.10~7.07 (m, 4H)

밀도 범함수 이론(Density Functional Theory)에 따라 계산된 C6 유기 화합물의 HOMO 값은 -5.59 eV, LUMO 값은 -4.24 eV이다(B3LYP/6-31G*).The HOMO value of the C6 organic compound calculated according to Density Functional Theory is -5.59 eV, and the LUMO value is -4.24 eV (B3LYP/6-31G * ).

합성예Synthesis example 4: 화합물 4: Compound D5D5 의 합성synthesis of

1) 화합물 D2 합성1) Synthesis of Compound D2

반응식 4-1Scheme 4-1

2000 ml 둥근 바닥 플라스크에 C1 (18.00g, 106.37 mmol), D1 (43.38g, 159.56 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(1.45g, 1.60 mmol), BINAP (1.99g, 3.19 mmol)과 Sodium tert-butoxide(14.31g, 148.92 mmol)를, Toluene(1000 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하여 silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 D2 (12.70g, 35.26 mmol)을 얻었다.C1 (18.00g, 106.37 mmol), D1 (43.38g, 159.56 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0)(1.45g, 1.60 mmol), BINAP (1.99g, 3.19 mmol) and Sodium in a 2000 ml round bottom flask. Dissolve tert-butoxide (14.31g, 148.92 mmol) in toluene (1000 ml), stir in a 100°C bath for 24 hours, and when the reaction is complete, toluene is removed, extracted using dichloromethane and water, and then reduced pressure. After distillation and silica gel column, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain compound D2 (12.70 g, 35.26 mmol).

2) 화합물 D3 합성2) Synthesis of compound D3

반응식 4-2Scheme 4-2

500 ml 둥근바닥 플라스크에 D2 (12.70g, 35.26 mmol), diethylether (300 ml)을 넣고, -78℃로 냉각하였다. 이후, 2.5M n-butyl lithium (16.22 ml, 40.55 mmol)을 넣고, 1시간 유지 후, 상온으로 만들었다. 다시 -78℃로 냉각한 후, triethylborate (5.92g, 40.55 mmol)을 넣고, 30분 유지 후, 상온으로 만들었다. 24시간 교반 후, 10M HCl을 넣어 반응을 종료시키고, 추출하고 감압 증류한 후, petroleum ether를 사용하여 filter를 실시하여, 화합물 D3 (6.03g, 18.55 mmol)을 얻었다.D2 (12.70g, 35.26 mmol) and diethylether (300 ml) were added to a 500 ml round bottom flask, and cooled to -78°C. Afterwards, 2.5M n-butyl lithium (16.22 ml, 40.55 mmol) was added, maintained for 1 hour, and brought to room temperature. After cooling to -78°C again, triethylborate (5.92g, 40.55 mmol) was added, maintained for 30 minutes, and brought to room temperature. After stirring for 24 hours, the reaction was terminated by adding 10M HCl, extracted, distilled under reduced pressure, and filtered using petroleum ether to obtain compound D3 (6.03g, 18.55 mmol).

3) 화합물 D4 합성3) Synthesis of compound D4

반응식 4-3Scheme 4-3

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (4.00g, 16.87 mmol), D3 (6.03g, 18.56 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.97g, 0.84 mmol), potassium carbonate (10.26g, 74.25 mmol)을 tetrahydrofuran (150 ml)와 water (50 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 D4 (2.50g, 5.72 mmol)을 얻었다.A1 (4.00g, 16.87 mmol), D3 (6.03g, 18.56 mmol), tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0) (0.97g, 0.84 mmol), and potassium carbonate (10.26g, 74.25 mmol) were added to a 250 ml round bottom flask. It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (150 ml) and water (50 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound D4 (2.50 g, 5.72 mmol).

4) 화합물 D5 합성4) Synthesis of compound D5

반응식 4-4Scheme 4-4

500 ml 둥근바닥 플라스크에 D4 (2.50g, 5.72 mmol), A4 (3.78g, 57.15 mmol)를 methylene chloride (20 0ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (6.27 ml, 57.15 mmol)과 pyridine (9.21 ml, 114.30 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 D5 (0.98g, 1.84 mmol)을 얻었다.Add D4 (2.50g, 5.72 mmol) and A4 (3.78g, 57.15 mmol) to methylene chloride (20 0ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (6.27 ml, 57.15 mmol) and pyridine (9.21 ml, 114.30 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound D5 (0.98g, 1.84 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.18 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.79~7.75 (m, 2H), 7.52 (s, 1H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.07~7.00 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.18 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.79~7.75 (m, 2H), 7.52 (s, 1H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.07~7.00 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H)

밀도 범함수 이론(Density Functional Theory)에 따라 계산된 D5 유기 화합물의 HOMO 값은 -5.58 eV, LUMO 값은 -4.02 eV이다(B3LYP/6-31G*).The HOMO value of D5 organic compound calculated according to Density Functional Theory is -5.58 eV, and the LUMO value is -4.02 eV (B3LYP/6-31G * ).

합성예Synthesis example 5: 화합물 5: Compound E5E5 의 합성synthesis of

1) 화합물 E3 합성1) Synthesis of compound E3

반응식 5-1Scheme 5-1

250 ml 둥근바닥 플라스크에 E1 (15.00g, 77.69 mmol), E2 (8.79g, 77.69 mmol), Potassium carbonate (12.89g, 93.23 mmol)을 DMF 150 ml에 넣고, 상온에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 acetic acid을 넣고, 30분 동안 교반한 후, chloroform으로 추출을 실시한 후, 농축하여 E3 (21.67g, 75.72 mmol)을 얻었다.E1 (15.00g, 77.69 mmol), E2 (8.79g, 77.69 mmol), and potassium carbonate (12.89g, 93.23 mmol) were added to 150 ml of DMF in a 250 ml round bottom flask, and stirred at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, water and acetic acid were added, stirred for 30 minutes, extracted with chloroform, and concentrated to obtain E3 (21.67g, 75.72 mmol).

2) 화합물 E4 합성2) Synthesis of compound E4

반응식 5-2Scheme 5-2

100 ml 둥근바닥 플라스크에 E3 (21.67g, 75.72 mmol)을 넣고, 50% acetic acid (30 ml), sulfuric acid (1.50 ml) 을 넣고, 100℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, 상온으로 낮추고, water와 chloroform을 이용하여 추출 및 magnesium sulfate를 이용하여 수분을 제거하였다. 이후, 진공오븐에 말려서 E4 (13.74g, 64.20 mmol)을 얻었다.E3 (21.67g, 75.72 mmol) was added to a 100 ml round bottom flask, 50% acetic acid (30 ml) and sulfuric acid (1.50 ml) were added, and stirred at 100°C for 24 hours. After completion of the reaction, the temperature was lowered to room temperature, extracted using water and chloroform, and moisture was removed using magnesium sulfate. Afterwards, it was dried in a vacuum oven to obtain E4 (13.74g, 64.20 mmol).

3) 화합물 E5 합성3) Synthesis of compound E5

반응식 5-3Scheme 5-3

500 ml 둥근바닥 플라스크에 D4 (2.50g, 5.72 mmol), E4 (12.24g, 57.15 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (6.27 ml, 57.15 mmol)과 pyridine (9.21 ml, 114.30 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 E5 (0.73g, 0.88 mmol)을 얻었다.Add D4 (2.50g, 5.72 mmol) and E4 (12.24g, 57.15 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (6.27 ml, 57.15 mmol) and pyridine (9.21 ml, 114.30 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound E5 (0.73g, 0.88 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.15 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.79~7.76 (m, 2H), 7.50 (s, 1H), 7.27~7.24 (m, 5H), 7.06~7.00 (m, 6H), 6.91~6.88(t, 1H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.15 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.79~7.76 (m, 2H), 7.50 (s, 1H), 7.27~7.24 (m, 5H), 7.06~7.00 (m, 6H), 6.91~6.88(t, 1H)

합성예 6: 화합물 F6의 합성Synthesis Example 6: Synthesis of Compound F6

1) 화합물 F3 합성1) Synthesis of compound F3

반응식 6-1Scheme 6-1

2000 ml 둥근바닥 플라스크에 F1 (18.00g, 69.76 mmol), F2 (42.70g, 209.29 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (1.92g, 2.09 mmol), BINAP (2.61g, 4.19 mmol)과 Sodium tert-butoxide(18.77g, 195.3 4mmol)를, Toluene(1000 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거 한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하여 silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 F3 (8.75g, 21.33 mmol)을 얻었다.In a 2000 ml round bottom flask, F1 (18.00g, 69.76 mmol), F2 (42.70g, 209.29 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (1.92g, 2.09 mmol), BINAP (2.61g, 4.19 mmol) and Sodium. After dissolving tert-butoxide (18.77g, 195.3 4mmol) in toluene (1000 ml), stir in a 100°C bath for 24 hours. When the reaction is complete, toluene is removed and extracted using dichloromethane and water. After distillation under reduced pressure and silica gel column, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain compound F3 (8.75 g, 21.33 mmol).

2) 화합물 F4 합성2) Synthesis of compound F4

반응식 6-2Scheme 6-2

500 ml 둥근바닥 플라스크에 F3 (8.75g, 21.33 mmol), diethylether (300 ml)을 넣고, -78℃로 냉각하였다. 이후, 2.5M n-Butyl lithium (9.81 ml, 24.53 mml)을 넣고, 1시간 유지 후, 상온으로 만들었다. 다시 -78℃로 냉각한 후, triethylborate (3.84g, 24.53 mmol)을 넣고, 30분 유지 후, 상온으로 만들었다. 24시간 교반 후, 10M HCl을 넣어 반응을 종료시키고, 추출하고 감압 증류한 후, petroleum ether를 사용하여 filter를 실시하여, 화합물 F4 (4.32g, 11.52 mmol)을 얻었다.F3 (8.75g, 21.33 mmol) and diethylether (300 ml) were added to a 500 ml round bottom flask, and cooled to -78°C. Afterwards, 2.5M n-Butyl lithium (9.81 ml, 24.53 mml) was added, maintained for 1 hour, and brought to room temperature. After cooling to -78°C again, triethylborate (3.84g, 24.53 mmol) was added, maintained for 30 minutes, and brought to room temperature. After stirring for 24 hours, the reaction was terminated by adding 10M HCl, extracted, distilled under reduced pressure, and filtered using petroleum ether to obtain compound F4 (4.32g, 11.52 mmol).

3) 화합물 F5 합성3) Synthesis of compound F5

반응식 6-3Scheme 6-3

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (2.48g, 10.46 mmol), F4 (4.32g, 11.51 mmol), tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0) (0.60g, 0.52 mmol), potassium carbonate (6.36g, 46.03 mmol)을 tetrahydrofuran (90 ml)와 water (30 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 F5 (2.05g, 4.21 mmol)을 얻었다.A1 (2.48g, 10.46 mmol), F4 (4.32g, 11.51 mmol), tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0) (0.60g, 0.52 mmol), and potassium carbonate (6.36g, 46.03 mmol) were added to a 250 ml round bottom flask. It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (90 ml) and water (30 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound F5 (2.05g, 4.21 mmol).

4) 화합물 F6 합성4) Synthesis of compound F6

반응식 6-4Scheme 6-4

500 ml 둥근바닥 플라스크에 F5 (2.05g, 4.21 mmol), A4 (2.78g, 42.06 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (4.61 ml, 42.06 mmol)과 pyridine (6.78 ml, 84.11 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 F6 (0.85g, 1.46 mmol)을 얻었다.Add F5 (2.05g, 4.21 mmol) and A4 (2.78g, 42.06 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (4.61 ml, 42.06 mmol) and pyridine (6.78 ml, 84.11 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound F6 (0.85g, 1.46 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.17 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.79~7.74 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.47~7.41 (m, 2H), 7.28~7.25 (m, 4H), 7.08~6.99 (m, 6H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.17 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.79~7.74 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.47~7.41 (m, 2H), 7.28~7.25 (m, 4H), 7.08~6.99 (m, 6H)

밀도 범함수 이론(Density Functional Theory)에 따라 계산된 F6 유기 화합물의 HOMO 값은 -5.56 eV, LUMO 값은 -4.16 eV이다(B3LYP/6-31G*).The HOMO value of F6 organic compound calculated according to Density Functional Theory is -5.56 eV, and the LUMO value is -4.16 eV (B3LYP/6-31G * ).

합성예 7: 화합물 G4의 합성Synthesis Example 7: Synthesis of Compound G4

1) 화합물 G2 합성1) Synthesis of compound G2

반응식 7-1Scheme 7-1

250 ml 둥근바닥 플라스크에 G1 (11.00g, 70.02 mmol), E2 (7.92g, 70.02 mmol), Potassium carbonate (11.61g, 84.03 mmol)을 DMF 150 ml에 넣고, 상온에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 acetic acid을 넣고, 30분 동안 교반한 후, chloroform으로 추출을 실시한 후, 농축하여 G2 (15.03g, 85.79 mmol)을 얻었다.G1 (11.00g, 70.02 mmol), E2 (7.92g, 70.02 mmol), and Potassium carbonate (11.61g, 84.03 mmol) were added to 150 ml of DMF in a 250 ml round bottom flask, and stirred at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, water and acetic acid were added, stirred for 30 minutes, extracted with chloroform, and concentrated to obtain G2 (15.03g, 85.79 mmol).

2) 화합물 G3 합성2) Synthesis of compound G3

반응식 7-2Scheme 7-2

100 ml 둥근바닥 플라스크에 G2 (15.03g, 85.79 mmol)을 넣고, 50% acetic acid (30 ml), sulfuric acid (1.50 ml) 을 넣고, 100℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, 상온으로 낮추고, water와 chloroform을 이용하여 추출 및 magnesium sulfate를 이용하여 수분을 제거하였다. 이후, 진공오븐에 말려서 G3 (9.12g, 51.20 mmol)을 얻었다.G2 (15.03g, 85.79 mmol) was added to a 100 ml round bottom flask, 50% acetic acid (30 ml) and sulfuric acid (1.50 ml) were added, and stirred at 100°C for 24 hours. After completion of the reaction, the temperature was lowered to room temperature, extracted using water and chloroform, and moisture was removed using magnesium sulfate. Afterwards, it was dried in a vacuum oven to obtain G3 (9.12g, 51.20 mmol).

3) 화합물 G4 합성3) Synthesis of compound G4

반응식 7-3Scheme 7-3

500 ml 둥근바닥 플라스크에 D4 (2.24g, 5.12 mmol), G3 (9.12g, 51.21 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (5.61 ml, 51.21 mol)과 pyridine (8.25 ml, 102.41 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 G4 (0.83g, 1.10 mmol)을 얻었다.Add D4 (2.24g, 5.12 mmol) and G3 (9.12g, 51.21 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (5.61 ml, 51.21 mol) and pyridine (8.25 ml, 102.41 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound G4 (0.83g, 1.10 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.15 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.80~7.75 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.42~7.39 (m, 4H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.06~6.88 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.15 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.80~7.75 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.42~7.39 (m, 4H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.06~6.88 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H)

합성예 8: 화합물 H4의 합성Synthesis Example 8: Synthesis of Compound H4

1) 화합물 H2 합성1) Synthesis of compound H2

반응식 8-1Scheme 8-1

250 ml 둥근바닥 플라스크에 H1 (20.00g, 73.51 mmol), E2 (8.31g, 73.51 mmol), Potassium carbonate (12.19g, 88.21 mmol)을 DMF 180 ml에 넣고, 상온에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 acetic acid을 넣고, 30분 동안 교반한 후, chloroform으로 추출을 실시한 후, 농축하여 H2 (25.54g, 69.93 mmol)을 얻었다.H1 (20.00g, 73.51 mmol), E2 (8.31g, 73.51 mmol), and Potassium carbonate (12.19g, 88.21 mmol) were added to 180 ml of DMF in a 250 ml round bottom flask, and stirred at room temperature for 4 hours. After completion of the reaction, water and acetic acid were added, stirred for 30 minutes, extracted with chloroform, and concentrated to obtain H2 (25.54g, 69.93 mmol).

2) 화합물 H3 합성2) Synthesis of compound H3

반응식 8-2Scheme 8-2

100 ml 둥근바닥 플라스크에 H2 (25.54g, 69.93 mmol)을 넣고, 50% acetic acid (30 ml), sulfuric acid (1.50 ml) 을 넣고, 100℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, 상온으로 낮추고, water와 chloroform을 이용하여 추출 및 magnesium sulfate를 이용하여 수분을 제거하였다. 이후, 진공오븐에 말려서 H3 (13.87g, 47.32 mmol)을 얻었다.H2 (25.54g, 69.93 mmol) was added to a 100 ml round bottom flask, 50% acetic acid (30 ml) and sulfuric acid (1.50 ml) were added, and the mixture was stirred at 100°C for 24 hours. After completion of the reaction, the temperature was lowered to room temperature, extracted using water and chloroform, and moisture was removed using magnesium sulfate. Afterwards, it was dried in a vacuum oven to obtain H3 (13.87g, 47.32 mmol).

3) 화합물 H4 합성3) Synthesis of compound H4

반응식 8-3Scheme 8-3

500 ml 둥근바닥 플라스크에 D4 (2.00g, 4.57 mmol), H3 (13.40g, 45.72 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (5.01 ml, 45.72 mol)과 pyridine (7.37 ml, 91.44 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 H4 (0.67g, 0.68 mmol)을 얻었다.Add D4 (2.00g, 4.57 mmol) and H3 (13.40g, 45.72 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (5.01 ml, 45.72 mol) and pyridine (7.37 ml, 91.44 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound H4 (0.67g, 0.68 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.16 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.80~7.75 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.06~6.88 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H) 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.16 (d, 1H), 8.08 (d, 1H), 7.80~7.75 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.28~7.24 (m, 5H), 7.06~6.88 (m, 6H), 6.91~6.88 (m, 1H)

합성예 9: 화합물 I5의 합성Synthesis Example 9: Synthesis of Compound I5

1) 화합물 I2 합성1) Compound I2 synthesis

반응식 9-1Scheme 9-1

1000 ml 둥근바닥 플라스크에 I1(10.00g, 48.08 mmol), F2 (29.42g, 144.23 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (1.32g, 1.44 mmol), BINAP (1.80g, 2.88 mmol)과 Sodium tert-butoxide(12.94g, 134.62 mmol)를, Toluene(500 ml)에 녹인 후, 100℃의 bath에서 24시간 교반을 시킨 후 반응이 종료가 되면 Toluene을 제거 한 후 Dichloromethane과 물을 사용하여 추출한 후 감압 증류하여 silica gel column 후 용매를 감압 증류하여, 화합물 I2 (5.47g, 15.19 mmol)을 얻었다.I1 (10.00g, 48.08 mmol), F2 (29.42g, 144.23 mmol), Tris(dibenzylideneacetone) dipalladium(0) (1.32g, 1.44 mmol), BINAP (1.80g, 2.88 mmol) and Sodium in a 1000 ml round bottom flask. After dissolving tert-butoxide (12.94g, 134.62 mmol) in toluene (500 ml), stir in a 100°C bath for 24 hours. When the reaction is complete, toluene is removed and extracted using dichloromethane and water. After distillation under reduced pressure and silica gel column, the solvent was distilled under reduced pressure to obtain compound I2 (5.47 g, 15.19 mmol).

2) 화합물 I3 합성2) Compound I3 synthesis

반응식 9-2Scheme 9-2

500 ml 둥근바닥 플라스크에 I2 (5.47g, 15.19 mmol), diethylether (300 ml)을 넣고, -78℃로 냉각하였다. 이후, 2.5M n-Butyl lithium (6.99 ml, 17.46 mml)을 넣고, 1시간 유지 후, 상온으로 만들었다. 다시 -78℃로 냉각한 후, triethylborate (2.55g, 17.46 mmol)을 넣고, 30분 유지 후, 상온으로 만들었다. 24시간 교반 후, 10M HCl을 넣어 반응을 종료시키고, 추출하고 감압 증류한 후, petroleum ether를 사용하여 filter를 실시하여, 화합물 I3 (3.83g, 11.78mmol)을 얻었다.I2 (5.47g, 15.19 mmol) and diethylether (300 ml) were added to a 500 ml round bottom flask and cooled to -78°C. Afterwards, 2.5M n-Butyl lithium (6.99 ml, 17.46 mml) was added, maintained for 1 hour, and brought to room temperature. After cooling to -78°C again, triethylborate (2.55g, 17.46 mmol) was added, maintained for 30 minutes, and brought to room temperature. After stirring for 24 hours, the reaction was terminated by adding 10M HCl, extracted, distilled under reduced pressure, and filtered using petroleum ether to obtain compound I3 (3.83g, 11.78mmol).

3) 화합물 I4 합성3) Compound I4 synthesis

반응식 9-3Scheme 9-3

250 ml 둥근바닥 플라스크에 A1 (2.50g, 10.55 mmol), I3 (3.77g, 11.60 mmol), tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0) (0.61g, 0.53 mmol), potassium carbonate (6.41g, 46.40 mmol)을 tetrahydrofuran (90 ml)와 water (30 ml) 혼합용액에 넣고, 80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 Ethyl acetate를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride와 n-hexane을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 I4 (1.95g, 4.46 mmol)을 얻었다.A1 (2.50g, 10.55 mmol), I3 (3.77g, 11.60 mmol), tetrakis(triphenylphosphine) palladium(0) (0.61g, 0.53 mmol), and potassium carbonate (6.41g, 46.40 mmol) were added to a 250 ml round bottom flask. It was added to a mixed solution of tetrahydrofuran (90 ml) and water (30 ml) and stirred at 80°C for 4 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and ethyl acetate, concentrated, and column separated using methylene chloride and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound I4 (1.95 g, 4.46 mmol).

4) 화합물 I5 합성4) Synthesis of compound I5

반응식 9-4Scheme 9-4

500 ml 둥근바닥 플라스크에 I4 (1.95g, 4.46 mmol), A4 (2.94g, 44.58 mmol)를 methylene chloride (200 ml)에 넣고, 0℃로 냉각시킨다. 이후, Titanium chloride (4.89 ml, 44.58 mmol)과 pyridine (7.18 ml, 89.16 mmol)을 순서대로 천천히 넣은 후, 60℃에서 24시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, water와 methylene chloride를 이용하여, 추출한 후, 농축하고, methylene chloride, ethyl acetate, n-hexane 을 이용하여 column 분리하였다. 이후, methylene chloride와 petroleum ether를 이용하여 침전액을 만든 후, 여과하여 화합물 I5 (0.89g, 1.67 mmol)을 얻었다.Add I4 (1.95g, 4.46 mmol) and A4 (2.94g, 44.58 mmol) to methylene chloride (200 ml) in a 500 ml round bottom flask and cool to 0°C. Afterwards, titanium chloride (4.89 ml, 44.58 mmol) and pyridine (7.18 ml, 89.16 mmol) were slowly added in that order and stirred at 60°C for 24 hours. After completion of the reaction, the extract was extracted using water and methylene chloride, concentrated, and column separated using methylene chloride, ethyl acetate, and n-hexane. Afterwards, a precipitate was prepared using methylene chloride and petroleum ether, and then filtered to obtain compound I5 (0.89g, 1.67 mmol).

1HNMR (500MHz, CDCl3) 8.16 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.79-7.73 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.32~7.23 (m, 3H), 7.14~7.10 (m, 7H), 6.53 (d, 2H). 1 HNMR (500MHz, CDCl 3 ) 8.16 (d, 1H), 8.07 (d, 1H), 7.79-7.73 (m, 2H), 7.51 (s, 1H), 7.32~7.23 (m, 3H), 7.14~7.10 (m, 7H), 6.53 (d, 2H).

실시예 1: 발광다이오드 소자의 제작Example 1: Fabrication of a light emitting diode device

합성예 2에서 합성된 B8 화합물을 포함하는 발광다이오드 소자를 제작하였다. ITO glass의 발광 면적이 3 mm X 3 mm 크기가 되도록 patterning한 후 세정하였다. 기판을 진공 챔버에 장착한 후 base pressure가 1X10-6 torr가 되도록 한 후 유기물을 ITO 위에 정공주입층 HATCN(50Å), 하부 정공수송층 α-NPB(1000Å), 하부 엑시톤 차단층 TCTA(150Å), 하부 청색 발광물질층(호스트 MADN, 청색 도펀트 BD-1(4 중량%), (250Å), 하부 전자수송층 LGC ETL(2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl)phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole, 150Å), n형 전하 생성층(Li이 2% 도핑된 Bphen, 100Å), p형 전하 생성층(B8 화합물이 15% 도핑된 α-NPB, 100Å), 상부 정공수송층(α-NPB, 100Å), 상부 엑시톤 차단층(TCTA, 100Å), 상부 발광물질층인 YG 발광물질층(Ir(2-phq)3가 15% 도핑된 CBP, 300Å), 상부 전자수송층(LGC ETL, 350Å), 전자주입층(LiF, 7Å), 음극 Al(800Å)의 순서로 성막하였다.A light emitting diode device containing the B8 compound synthesized in Synthesis Example 2 was manufactured. The ITO glass was patterned so that the light emitting area was 3 mm x 3 mm in size and then cleaned. After mounting the substrate in a vacuum chamber, the base pressure was set to 1 Lower blue emitting material layer (host MADN, blue dopant BD-1 (4% by weight), (250Å), lower electron transport layer LGC ETL (2-[4-(9,10-Di-2-naphthalenyl-2-anthracenyl) phenyl]-1-phenyl-1H-benzimidazole, 150Å), n-type charge generation layer (Bphen doped with 2% Li, 100Å), p-type charge generation layer (α-NPB doped with 15% B8 compound, 100Å) , upper hole transport layer (α-NPB, 100Å), upper exciton blocking layer (TCTA, 100Å), upper emitting material layer YG emitting material layer (CBP doped with 15% Ir(2-phq) 3 , 300Å), upper The electron transport layer (LGC ETL, 350Å), electron injection layer (LiF, 7Å), and cathode Al (800Å) were formed in that order.

실시예 2: 발광다이오드 소자의 제작Example 2: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 3에서 합성된 C6 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다. A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the C6 compound synthesized in Synthesis Example 3 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 3: 발광다이오드 소자의 제작Example 3: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 4에서 합성된 D5 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the D5 compound synthesized in Synthesis Example 4 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 4: 발광다이오드 소자의 제작Example 4: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 5에서 합성된 E5 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the E5 compound synthesized in Synthesis Example 5 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 5: 발광다이오드 소자의 제작Example 5: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 6에서 합성된 F6 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the F6 compound synthesized in Synthesis Example 6 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 6: 발광다이오드 소자의 제작Example 6: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 7에서 합성된 G4 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the G4 compound synthesized in Synthesis Example 7 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 7: 발광다이오드 소자의 제작Example 7: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 8에서 합성된 H4 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the H4 compound synthesized in Synthesis Example 8 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예 8: 발광다이오드 소자의 제작Example 8: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 B8을 대신하여 합성예 9에서 합성된 I5 화합물을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that the I5 compound synthesized in Synthesis Example 9 was used instead of B8 as the dopant of the P-type charge generation layer.

비교예 1: 발광다이오드 소자의 제작Comparative Example 1: Fabrication of light emitting diode device

P타입 전하 생성층의 도펀트로 G-1 대신에 HATCN을 사용한 것을 제외하고 실시예 1의 절차를 반복하여, 발광다이오드 소자를 제작하였다.A light emitting diode device was manufactured by repeating the procedure of Example 1, except that HATCN was used instead of G-1 as the dopant of the P-type charge generation layer.

실시예Example 9: 발광 다이오드 소자의 전기적, 광학적 특성 측정 9: Measurement of electrical and optical properties of light emitting diode devices

실시예 1-8과 비교예에서 각각 제조된 발광다이오드 소자를 대상으로, 전류 밀도, 발광 휘도, 발광 효율 및 외부양자효율을 측정하였다. 도 10a 및 도 10b는 전류 밀도 측정 결과를 도시하고 있고, 도 11a 및 도 11b는 발광 휘도 측정 결과를 도시하고 있고, 도 12a 및 도 12b는 발광 효율 측정 결과를 도시하고 있으며, 도 13a 및 도 13b는 외부양자효율 측정 결과를 도시하고 있다. 또한, 하기 표 1은 본 실시예에 따른 측정 결과를 전체적으로 표시한다. Current density, luminance, luminous efficiency, and external quantum efficiency were measured for the light emitting diode devices manufactured in Examples 1-8 and Comparative Examples. Figures 10a and 10b show the results of the current density measurement, Figures 11a and 11b show the results of the luminance measurement, Figures 12a and 12b show the results of the luminous efficiency measurement, and Figures 13a and 13b shows the external quantum efficiency measurement results. Additionally, Table 1 below displays the measurement results according to this example as a whole.

표 1과, 도 10a 내지 도 13b에 도시한 것과 같이, HATCN이 도핑된 P타입 전하 생성층을 구성한 발광다이오드(비교예, Ref)와 비교해서, 본 발명의 유기 화합물이 도핑된 P타입 전하 생성층을 구성한 발광다이오드에서 구동 전압이 크게 감소하였으며, 발광 휘도, 전류 밀도, 외부양자효율, 발광 효율이 크게 향상된 것을 확인하였다.As shown in Table 1 and Figures 10a to 13b, compared to a light emitting diode (comparative example, Ref) consisting of a P-type charge generation layer doped with HATCN, P-type charge generation doped with the organic compound of the present invention It was confirmed that the driving voltage was greatly reduced in the layered light emitting diode, and the luminance, current density, external quantum efficiency, and luminous efficiency were greatly improved.

표 1: 발광다이오드 소자의 발광 특성Table 1: Light-emitting characteristics of light-emitting diode devices

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 통상의 기술자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the present invention has been described above with reference to preferred embodiments, those skilled in the art can make various modifications and changes to the present invention without departing from the technical spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. You will understand that you can do it.

110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810, 910: 제 1 전극
120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820, 920: 제 2 전극
130, 230, 330, 430, 530, 540, 630, 640, 730, 740, 830, 840: 발광유닛
132, 232, 332, 432, 534, 546, 635, 646, 734, 746, 832, 846: 발광물질층
134, 234, 334, 434, 536, 548, 637, 648, 736, 748, 834, 848: 전자수송층
136, 236, 336, 436, 538, 639, 738, 836: 전자주입층
140, 240, 542, 631, 642, 742, 756, 842: 정공주입층
150, 250, 350, 450, 532, 544, 633, 644, 732, 744, 844: 정공수송층
550, 650, 750, 850: 전하 생성층
552, 652, 752, 852: N타입 전하 생성층
554, 654, 754, 854: P타입 전하 생성층
110, 210, 310, 410, 510, 610, 710, 810, 910: first electrode
120, 220, 320, 420, 520, 620, 720, 820, 920: second electrode
130, 230, 330, 430, 530, 540, 630, 640, 730, 740, 830, 840: Light emitting unit
132, 232, 332, 432, 534, 546, 635, 646, 734, 746, 832, 846: Emitting material layer
134, 234, 334, 434, 536, 548, 637, 648, 736, 748, 834, 848: Electron transport layer
136, 236, 336, 436, 538, 639, 738, 836: Electron injection layer
140, 240, 542, 631, 642, 742, 756, 842: Hole injection layer
150, 250, 350, 450, 532, 544, 633, 644, 732, 744, 844: hole transport layer
550, 650, 750, 850: Charge generation layer
552, 652, 752, 852: N-type charge generation layer
554, 654, 754, 854: P-type charge generation layer

Claims (18)

하기 화학식 1로 표시되는 유기 화합물.
화학식 1
Figure 112023075009358-pat00080

(화학식 1에서 R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C1-C20 알킬아민기, C5-C30 아릴 아민기, C5-C30 헤테로 아릴 아민기, C1-C30 알킬기로 치환된 실릴기, C5-C30 아릴기로 치환된 실릴기 및 C5-C30 헤테로 아릴기로 치환된 실릴기로 구성되는 군에서 선택됨;
X1 내지 X4는 각각 독립적으로 탄소, 질소, 산소, 황 및 인으로 구성되는 군에서 선택됨; Ar은 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴렌기 또는 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴렌기임; =Y와 =Z는 각각 독립적으로 하기 화학식 2의 (a), (b) 및 (d)로 구성되는 군에서 선택됨; 상기 R1 내지 R6 및 상기 Ar을 구성하는 상기 C5-C30 아릴기, 상기 C5-C30 헤테로 아릴기, 상기 C6-C30 아릴옥실기, 상기 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, 상기 C5-C30 아릴렌기 및 상기 C5-C30 헤테로 아릴렌기는 각각 독립적으로 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환됨)
화학식 2

(화학식 2에서 A1 및 A2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택되거나, A1과 A2는 함께 연결되어 지환족(alicyclic) 고리, 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 형성함; A3은 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택됨; 상기 A1 내지 A3을 구성하는 상기 C5-C30 아릴기, 상기 C5-C30 헤테로 아릴기, 상기 C6-C30 아릴옥실기 및 상기 C6-C30 헤테로 아릴옥실기는 각각 독립적으로 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환됨)
An organic compound represented by the following formula (1).
Formula 1
Figure 112023075009358-pat00080

(In Formula 1, R 1 to R 6 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or substituted Unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 1 -C 20 alkylamine group, C 5 -C 30 aryl amine group, C 5 -C 30 heteroaryl amine group, C 1 -C 30 silyl substituted with alkyl group selected from the group consisting of a silyl group substituted with a C 5 -C 30 aryl group and a silyl group substituted with a C 5 -C 30 heteroaryl group;
X1 to X4 are each independently selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, sulfur and phosphorus; Ar is a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 arylene group or a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 hetero arylene group; =Y and =Z are each independently selected from the group consisting of (a), (b), and (d) of Formula 2 below; The C 5 -C 30 aryl group, the C 5 -C 30 heteroaryl group, the C 6 -C 30 aryloxyl group, and the C 6 -C 30 heteroaryloxy group constituting R 1 to R 6 and Ar. The actual group, the C 5 -C 30 arylene group, and the C 5 -C 30 hetero arylene group are each independently unsubstituted, or deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a carboxyl group, a carbonyl group, a C 1 -C 20 alkyl group, and a C 1 -C 20 alkoxy group)
Formula 2

(In Formula 2, A 1 and A 2 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or substituted is selected from the group consisting of a C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, or A 1 and A 2 are linked together to form an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heteroaromatic ring; A 3 is hydrogen, Deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, a group consisting of a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group selected from; the C 5 -C 30 aryl group, the C 5 -C 30 heteroaryl group, the C 6 -C 30 aryloxyl group and the C 6 -C 30 heteroaryloxy group constituting A 1 to A 3 The actual groups are each independently unsubstituted or composed of deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, and C 1 -C 20 alkoxy group. is substituted with at least one substituent selected from the group
제 1항에 있어서,
상기 화학식 1의 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되고, R5와 R6는 각각 독립적으로 치환되지 않거나 CF3, -CN 및 할로겐으로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기이며, Ar은 치환되지 않거나 할로겐, -CN, -CF3로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환되어 있는 아릴렌기 또는 헤테로 아릴렌기이며,
화학식 2의 A1과 A2는 각각 독립적으로 CN 또는 할로겐, -CF3 및 -CN으로 구성되는 군에서 적어도 1개 선택되는 작용기로 치환되어 있는 아릴기 또는 헤테로 아릴기인 유기 화합물.
According to clause 1,
In Formula 1, R 1 to R 4 are each independently selected from the group consisting of hydrogen, deuterium, -CN, and halogen, and R 5 and R 6 are each independently unsubstituted or composed of CF 3 , -CN, and halogen. Ar is an aryl group or heteroaryl group substituted with at least one functional group selected from the group consisting of, and Ar is unsubstituted or substituted with at least one functional group selected from the group consisting of halogen, -CN, and -CF 3 It is a ren group or hetero arylene group,
A 1 and A 2 of Formula 2 are each independently an aryl or heteroaryl group substituted with at least one functional group selected from the group consisting of CN, halogen, -CF 3 and -CN. An organic compound.
제 1항에 있어서,
상기 유기 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 어느 하나인 유기 화합물.
화학식 3





















According to clause 1,
The organic compound is any one represented by the following formula (3).
Formula 3





















제 1 전극과;
상기 제 1 전극과 마주보는 제 2 전극과;
상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 위치하며, 발광물질층을 포함하는 발광 유닛과;
상기 제 1 전극과 상기 발광 유닛 사이에 위치하며 제 1항에 기재된 유기 화합물을 포함하는 정공층
을 포함하는 발광다이오드.
a first electrode;
a second electrode facing the first electrode;
a light emitting unit located between the first and second electrodes and including a light emitting material layer;
A hole layer located between the first electrode and the light emitting unit and comprising the organic compound according to claim 1.
A light emitting diode containing a.
제 4항에 있어서,
상기 정공층은, 정공수송층과 상기 정공수송층과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나, 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑된 정공주입층을 포함하는 발광다이오드.
According to clause 4,
The hole layer is located between a hole transport layer and the first electrode and includes a hole injection layer made of only the organic compound or a hole injection host material doped with the organic compound.
제 4항에 있어서,
상기 정공층은,
정공수송층과;
상기 정공수송층과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑된 제 1 정공주입층과;
상기 제 1 전극과 상기 제 1 정공주입층 사이에 위치하여 정공 주입 호스트 물질로 이루어지는 제 2 정공주입층을 포함하는 발광다이오드.
According to clause 4,
The hole layer is,
A hole transport layer;
a first hole injection layer located between the hole transport layer and the first electrode and made of only the organic compound or a hole injection host material doped with the organic compound;
A light emitting diode comprising a second hole injection layer located between the first electrode and the first hole injection layer and made of a hole injection host material.
제 4항에 있어서,
상기 정공층은, 정공 수송 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 제 1 정공수송층을 포함하는 발광다이오드.
According to clause 4,
The hole layer is a light emitting diode including a first hole transport layer formed by doping the organic compound into a hole transport host material.
제 7항에 있어서,
상기 정공층은,
상기 제 1 정공수송층과 상기 발광 유닛 사이에 위치하며 정공 수송 호스트 물질로 이루어지는 제 2 정공수송층을 더욱 포함하는 발광다이오드.
According to clause 7,
The hole layer is,
The light emitting diode further includes a second hole transport layer located between the first hole transport layer and the light emitting unit and made of a hole transport host material.
제 1 전극과;
상기 제 1 전극과 마주보는 제 2 전극과;
상기 제 1 및 제 2 전극 사이에 위치하며 제 1 발광물질층을 포함하는 제 1 발광 유닛과;
상기 제 1 발광 유닛과 상기 제 1 전극 사이에 위치하며 제 2 발광물질층을 포함하는 제 2 발광 유닛과;
상기 제 1 및 제 2 발광 유닛 사이에 위치하며 제 1항에 기재된 유기 화합물을 포함하는 P타입 전하 생성층
을 포함하는 발광다이오드.
a first electrode;
a second electrode facing the first electrode;
a first light emitting unit located between the first and second electrodes and including a first light emitting material layer;
a second light emitting unit located between the first light emitting unit and the first electrode and including a second light emitting material layer;
A P-type charge generation layer located between the first and second light-emitting units and comprising the organic compound according to claim 1.
A light emitting diode containing a.
제 9항에 있어서,
상기 P타입 전하 생성층은, 상기 유기 화합물만으로 이루어지거나 정공 주입 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 발광다이오드.
According to clause 9,
The P-type charge generation layer is a light emitting diode made of only the organic compound or by doping the organic compound into a hole injection host material.
제 9항에 있어서,
상기 P타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광 유닛 사이에 위치하며 알칼리 금속 또는 알칼리토 금속이 도핑된 유기층인 N타입 전하 생성층을 더욱 포함하는 발광다이오드.
According to clause 9,
The light emitting diode is located between the P-type charge generation layer and the second light emitting unit and further includes an N-type charge generation layer that is an organic layer doped with an alkali metal or alkaline earth metal.
제 11항에 있어서,
상기 제 1 발광 유닛은, 상기 제 1 발광물질층과 상기 P타입 전하생성층 사이에 위치하는 제 1 정공수송층과, 상기 제 1 발광물질층과 상기 제 2 전극 사이에 위치하는 전자주입층 및 제 1 전자수송층을 더욱 포함하고,
상기 제 2 발광 유닛은, 상기 N타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 2 전자수송층과, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 1 정공주입층 및 제 2 정공수송층을 더욱 포함하는 발광다이오드.
According to clause 11,
The first light emitting unit includes a first hole transport layer located between the first light emitting material layer and the P-type charge generation layer, an electron injection layer located between the first light emitting material layer and the second electrode, and a first hole transport layer located between the first light emitting material layer and the second electrode. 1 further comprising an electron transport layer,
The second light emitting unit includes a second electron transport layer located between the N-type charge generation layer and the second light emitting material layer, and a first hole injection layer located between the first electrode and the second light emitting material layer. and a light emitting diode further comprising a second hole transport layer.
제 12항에 있어서,
상기 제 1 발광 유닛은, 상기 제 1 정공수송층과 상기 P타입 전하 생성층 사이에 위치하는 제 2 정공주입층을 더욱 포함하는 발광다이오드.
According to clause 12,
The first light emitting unit further includes a second hole injection layer located between the first hole transport layer and the P-type charge generation layer.
제 11 항에 있어서,
상기 P타입 전하 생성층과 상기 N타입 전하 생성층 사이에 위치하는 제 2 정공주입층을 더욱 포함하는 발광다이오드.
According to claim 11,
A light emitting diode further comprising a second hole injection layer located between the P-type charge generation layer and the N-type charge generation layer.
제 11 항에 있어서,
상기 제 1 발광 유닛은 상기 제 1 발광물질층과 상기 제 2 전극 사이에 위치하는 전자주입층 및 제 1 전자수송층을 더욱 포함하고,
상기 제 2 발광 유닛은, 상기 N타입 전하 생성층과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 제 2 전자수송층과, 상기 제 1 전극과 상기 제 2 발광물질층 사이에 위치하는 정공주입층 및 정공수송층을 더욱 포함하고,
상기 P타입 전하 생성층은 정공수송층 호스트 물질에 상기 유기 화합물이 도핑되어 이루어지는 발광다이오드.
According to claim 11,
The first light emitting unit further includes an electron injection layer and a first electron transport layer located between the first light emitting material layer and the second electrode,
The second light emitting unit includes a second electron transport layer located between the N-type charge generation layer and the second light emitting material layer, a hole injection layer and a hole located between the first electrode and the second light emitting material layer. Further comprising a transport layer,
The P-type charge generation layer is a light emitting diode formed by doping the organic compound into a hole transport layer host material.
베이스 기판과;
상기 베이스 기판에 위치하는 구동 박막트랜지스터와;
상기 베이스 기판에 위치하며 상기 구동 박막트랜지스터에 연결되는 제 4 항 내지 제 15항 중 어느 하나의 항에 기재된 발광다이오드와;
상기 발광다이오드를 덮고 상기 베이스 기판과 합착되는 인캡슐레이션 기판
을 포함하는 유기발광다이오드 표시장치.
a base substrate;
a driving thin film transistor located on the base substrate;
a light emitting diode according to any one of claims 4 to 15 located on the base substrate and connected to the driving thin film transistor;
An encapsulation substrate that covers the light emitting diode and is bonded to the base substrate.
An organic light emitting diode display device comprising a.
하기 화학식 1로 표시되는 유기 화합물.
화학식 1

(화학식 1에서 R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C1-C20 알킬아민기, C5-C30 아릴 아민기, C5-C30 헤테로 아릴 아민기, C1-C30 알킬기로 치환된 실릴기, C5-C30 아릴기로 치환된 실릴기 및 C5-C30 헤테로 아릴기로 치환된 실릴기로 구성되는 군에서 선택됨;
R5 및 R6는 각각 독립적으로 C1-C20 알콕시기, 할로겐, -CN 및 -CF3로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 작용기로 치환된 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, C1-C20 알킬아민기, C5-C30 아릴 아민기, C5-C30 헤테로 아릴 아민기, C1-C30 알킬기로 치환된 실릴기, C5-C30 아릴기로 치환된 실릴기 및 C5-C30 헤테로 아릴기로 치환된 실릴기로 구성되는 군에서 선택됨;
X1 내지 X4는 각각 독립적으로 탄소, 질소, 산소, 황 및 인으로 구성되는 군에서 선택됨; Ar은 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴렌기 또는 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴렌기임;
=Y와 =Z는 각각 독립적으로 하기 화학식 2의 (a), (b) 및 (d)로 구성되는 군에서 선택됨;
상기 R1 내지 R4를 구성하는 상기 C5-C30 아릴기와, 상기 R1 내지 R6 및 상기 Ar을 구성하는 상기 C5-C30 헤테로 아릴기, 상기 C6-C30 아릴옥실기, 상기 C6-C30 헤테로 아릴옥실기, 상기 C5-C30 아릴렌기 및 상기 C5-C30 헤테로 아릴렌기는 각각 독립적으로 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환됨.)
화학식 2

(화학식 2에서 A1 및 A2는 각각 독립적으로 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택되거나, A1과 A2는 함께 연결되어 지환족(alicyclic) 고리, 방향족 고리 또는 헤테로방향족 고리를 형성함; A3은 수소, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C5-C30 헤테로 아릴기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 아릴옥실기, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C30 헤테로 아릴옥실기로 구성되는 군에서 선택됨; 상기 A1 내지 A3을 구성하는 상기 C5-C30 아릴기, 상기 C5-C30 헤테로 아릴기, 상기 C6-C30 아릴옥실기 및 상기 C6-C30 헤테로 아릴옥실기는 각각 독립적으로 치환되지 않거나, 중수소, -OH, -CN, -NO2, -CF3, 플루오로알킬기, 할로겐, 카르복시기, 카르보닐기, C1-C20 알킬기, C1-C20 알콕시기로 구성되는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환됨)
An organic compound represented by the following formula (1).
Formula 1

(In Formula 1, R 1 to R 4 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or substituted Unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 1 -C 20 alkylamine group, C 5 -C 30 aryl amine group, C 5 -C 30 heteroaryl amine group, C 1 -C 30 silyl substituted with alkyl group selected from the group consisting of a silyl group substituted with a C 5 -C 30 aryl group and a silyl group substituted with a C 5 -C 30 heteroaryl group;
R 5 and R 6 are each independently a C 5 -C 30 aryl group, substituted or substituted with at least one functional group selected from the group consisting of C 1 -C 20 alkoxy group, halogen, -CN and -CF 3 Unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, C 1 -C 20 alkylamine group, C 5 -C 30 aryl amine group, C 5 -C 30 heteroaryl amine group, silyl group substituted with C 1 -C 30 alkyl group, silyl group substituted with C 5 -C 30 aryl group and C 5 -C 30 heteroaryl group. selected from the group consisting of substituted silyl groups;
X 1 to X 4 are each independently selected from the group consisting of carbon, nitrogen, oxygen, sulfur and phosphorus; Ar is a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 arylene group or a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 hetero arylene group;
=Y and =Z are each independently selected from the group consisting of (a), (b), and (d) of Formula 2 below;
The C 5 -C 30 aryl group constituting R 1 to R 4 , the C 5 -C 30 heteroaryl group constituting R 1 to R 6 and Ar, the C 6 -C 30 aryloxyl group, The C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, the C 5 -C 30 arylene group, and the C 5 -C 30 hetero arylene group are each independently unsubstituted or substituted with deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , - CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 substituted with at least one substituent selected from the group consisting of alkoxy group.)
Formula 2

(In Formula 2, A 1 and A 2 are each independently hydrogen, deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, substituted or substituted is selected from the group consisting of a C 6 -C 30 heteroaryloxyl group, or A 1 and A 2 are linked together to form an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heteroaromatic ring; A 3 is hydrogen, Deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, C 1 -C 20 alkoxy group, substituted or unsubstituted C 5 -C 30 aryl group, a substituted or unsubstituted C 5 -C 30 heteroaryl group, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryloxyl group, a group consisting of a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 heteroaryloxyl group selected from; the C 5 -C 30 aryl group, the C 5 -C 30 heteroaryl group, the C 6 -C 30 aryloxyl group and the C 6 -C 30 heteroaryloxy group constituting A 1 to A 3 The actual groups are each independently unsubstituted or composed of deuterium, -OH, -CN, -NO 2 , -CF 3 , fluoroalkyl group, halogen, carboxyl group, carbonyl group, C 1 -C 20 alkyl group, and C 1 -C 20 alkoxy group. is substituted with at least one substituent selected from the group
제 17항에 있어서,
상기 유기 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나인 유기 화합물.














According to clause 17,
The organic compound is any one of the following compounds.














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