KR102650946B1 - Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate - Google Patents
Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate Download PDFInfo
- Publication number
- KR102650946B1 KR102650946B1 KR1020230059978A KR20230059978A KR102650946B1 KR 102650946 B1 KR102650946 B1 KR 102650946B1 KR 1020230059978 A KR1020230059978 A KR 1020230059978A KR 20230059978 A KR20230059978 A KR 20230059978A KR 102650946 B1 KR102650946 B1 KR 102650946B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- container
- organic solvent
- perforated plate
- delete delete
- inert gas
- Prior art date
Links
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 74
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 54
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 5
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 5
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004148 unit process Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/14—Production of inert gas mixtures; Use of inert gases in general
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0053—Details of the reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00893—Feeding means for the reactants
- B01J2208/0092—Perforated plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J2219/2401—Reactors comprising multiple separate flow channels
- B01J2219/245—Plate-type reactors
- B01J2219/2451—Geometry of the reactor
- B01J2219/2456—Geometry of the plates
- B01J2219/246—Perforated plates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치가 개시된다. 상기 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치는, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 장치로서, 유기용매를 수용하는 용기; 상기 용기 내에 유기용매를 공급하기 위한 유기용매 공급관; 상기 용기 내에 불활성가스를 공급하기 위한 불활성가스 공급관; 상기 용기 내에 수평배치되고, 상기 용기 내의 유기용매 및 불활성가스가 통과하기 위한 일정간격으로 복수 개의 통과홀이 형성되어 기포를 생성시키기 위한 타공판; 상기 타공판의 통과홀을 통과하여 생성된 기포에 의해 생성된 유기용매의 건조가스가 배출되는 건조가스 배출관; 및 상기 용기 하부에 설치되어 유기용매 및 불활성가스를 배출하기 위한 드레인관;을 포함하고, 상기 건조가스 배출관은, 상기 용기의 상부 중심에 설치될 수 있다.An IPA gas production device using physical properties is disclosed. The IPA gas production device using the above physical properties is an device for producing a dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process, and includes a container for accommodating the organic solvent; an organic solvent supply pipe for supplying the organic solvent into the container; an inert gas supply pipe for supplying inert gas into the container; A perforated plate disposed horizontally in the container and having a plurality of passage holes formed at regular intervals for the organic solvent and inert gas in the container to pass through to generate bubbles; a dry gas discharge pipe through which the dry gas of the organic solvent generated by bubbles passing through the through hole of the perforated plate is discharged; and a drain pipe installed at the bottom of the container to discharge organic solvent and inert gas, and the dry gas discharge pipe may be installed at the upper center of the container.
Description
본 발명은 기판건조용 건조가스 제조장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치에서, 질소 등의 불활성가스 공급관을 용기의 하부에 형성시켜 불활성가스가 용기의 하부에 공급되도록 하고, 건조가스 배출관을 용기의 상부 중앙에 형성시켜 용기 내 영역 전체에 균일하게 기포가 생성되도록 하여 기포의 불균형 및 뭉침현상을 방지하고, 유기용매의 건조가스가 건조가스 배출관으로 원활하게 유도되어 배출될 수 있는 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dry gas production device for drying substrates, and more specifically, in an IPA gas production device using physical properties, an inert gas supply pipe such as nitrogen is formed at the bottom of the container to supply the inert gas to the bottom of the container. By forming a dry gas discharge pipe in the upper center of the container, bubbles are generated uniformly throughout the entire area of the container to prevent imbalance and agglomeration of bubbles, and the dry gas of the organic solvent is smoothly guided to the dry gas discharge pipe. This relates to a device for producing IPA gas using physical properties that can be discharged.
일반적으로, 프로필기 알콜(Iso Propyl Alcohol; 이하“IPA”라 한다)를 이용한 웨이퍼 건조장치는 단위 공정을 마친후, 탈이온수(Deionized water)에 담겨 세정 작업을 마친 웨이퍼(Wafer)의 표면에 잔류하는탈이온수를 IPA를 이용하여 건조시켜 제거하는 장치이다.In general, a wafer drying device using propyl alcohol (Iso Propyl Alcohol (hereinafter referred to as “IPA”)) is placed in deionized water after completing a unit process, leaving residue on the surface of the cleaned wafer. This is a device that removes deionized water by drying it using IPA.
이와 같은 IPA 버블러는 상기 IPA를 증기화 하는 장치로서 IPA액 및 N₂를 저장하도록 원통형으로 형성된 저장부와, 상기 저장부에 IPA를 공급하도록 상기 저장부의 상부 일측에 형성된 IPA 공급관과, 상기 저장부에 질소(N₂)를 공급함과 동시에 상기 질소를 저장부에 공급된 IPA와 함께 미세하게 증기화시키도록 증기생성부가 하부에 형성된 질소공급관 등으로 구성될 수 있다.This IPA bubbler is a device for vaporizing the IPA, including a cylindrical storage portion to store IPA liquid and N₂, an IPA supply pipe formed on one upper side of the storage portion to supply IPA to the storage portion, and the storage portion. The vapor generating unit may be configured with a nitrogen supply pipe formed at the bottom to simultaneously supply nitrogen (N₂) to the vaporizer and at the same time finely vaporize the nitrogen together with the IPA supplied to the storage unit.
또한, 이와 같이 구성된 IPA 버블러는 저장부에 공급된 액상의 IPA액을 질소공급관으로 부터 유입된 질소와 융합함과 동시에 상기 질소공급관 하부에 형성된 증기생성부에 의해 미세한 융합증기를 생성하게 되고, 이러한 융합증기를 통해 건조기기 내의 위치한 웨이퍼에 부착된 탈이온수가 증기상태로 변하기 전에 융합증기의 IPA가 먼저 증기상태로 상기 웨이퍼 상의 탈이온수와 결합한 후 중력에 의해 다시 하부로 떨어지므로써 웨이퍼의 건조가 진행되도록 한다.In addition, the IPA bubbler configured in this way fuses the liquid IPA liquid supplied to the storage unit with the nitrogen flowing in from the nitrogen supply pipe, and at the same time generates fine fusion steam through the steam generator formed at the bottom of the nitrogen supply pipe, Before the deionized water attached to the wafer located in the dryer through this fusion steam changes into a vapor state, the IPA of the fusion vapor first combines with the deionized water on the wafer in a vapor state and then falls back to the bottom by gravity, thereby drying the wafer. Let it proceed.
본 발명의 목적은, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 것으로서, 질소를 하부 중앙에서 공급함으로써 용기 내 영역 전체에 균일하게 기포가 생성되도록 하여 기포의 불균형 및 뭉침현상을 방지하고, 건조가스 배출관이 상부 중앙에 위치시킴으로써 유기용매의 건조가스가 건조가스 배출관으로 원활하게 유도되어 배출될 수 있는 기판건조용 건조가스 제조장치를 제공하는 데 있다.The purpose of the present invention is to produce a dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process. By supplying nitrogen from the bottom center, bubbles are generated uniformly throughout the area within the container to prevent imbalance of bubbles and The purpose of the present invention is to provide a dry gas production device for drying substrates that prevents agglomeration and locates the dry gas discharge pipe in the upper center so that the dry gas of the organic solvent can be smoothly guided and discharged through the dry gas discharge pipe.
상기 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상의 일 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치는, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 장치로서, 유기용매를 수용하는 용기; 상기 용기 내에 유기용매를 공급하기 위한 유기용매 공급관; 상기 용기 내에 불활성가스를 공급하기 위한 불활성가스 공급관; 상기 용기 내에 수평배치되고, 상기 용기 내의 유기용매 및 불활성가스가 통과하기 위한 일정간격으로 복수 개의 통과홀이 형성되어 기포를 생성시키기 위한 타공판; 상기 타공판의 통과홀을 통과하여 생성된 기포에 의해 생성된 유기용매의 건조가스가 배출되는 건조가스 배출관; 및 상기 용기 하부에 설치되어 유기용매 및 불활성가스를 배출하기 위한 드레인관;을 포함하고, 상기 건조가스 배출관은, 상기 용기의 상부 중심에 설치될 수 있다.A dry gas production device for drying a substrate according to an embodiment of the technical idea of the present invention for achieving the above problem is a device for producing a dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process. a container that accommodates; an organic solvent supply pipe for supplying the organic solvent into the container; an inert gas supply pipe for supplying inert gas into the container; A perforated plate disposed horizontally in the container and having a plurality of passage holes formed at regular intervals for the organic solvent and inert gas in the container to pass through to generate bubbles; a dry gas discharge pipe through which the dry gas of the organic solvent generated by bubbles passing through the through hole of the perforated plate is discharged; and a drain pipe installed at the bottom of the container to discharge organic solvent and inert gas, and the dry gas discharge pipe may be installed at the upper center of the container.
또한, 상기 불활성가스 공급관 및 상기 드레인관은, 상기 용기 하부 중심에 설치되는 하나의 공동배관으로서, 불활성가스의 공급 및 불활성가스를 포함하는 유기용매의 배출이 하나의 배관을 통해 이루어질 수 있다.In addition, the inert gas supply pipe and the drain pipe are one common pipe installed at the bottom center of the container, and the supply of the inert gas and the discharge of the organic solvent containing the inert gas can be performed through one pipe.
또한, 상기 유기용매 공급관은, 상기 용기의 상부 일측에 설치될 수 있다.Additionally, the organic solvent supply pipe may be installed on one upper side of the container.
또한, 상기 유기용매 공급관은, 상기 용기 내부로 설정 길이만큼 연장되게 형성될 수 있다.Additionally, the organic solvent supply pipe may be formed to extend within the container by a set length.
또한, 상기 드레인관은, 상기 용기 하부 일측에 설치될 수 있다.Additionally, the drain pipe may be installed on one side of the lower part of the container.
또한, 상기 유기용매 공급관은, 상기 용기 상부 일측에 설치되고, 상기 불활성가스 공급관은, 상기 용기 하부 중심에 설치될 수 있다.Additionally, the organic solvent supply pipe may be installed on one side of the upper part of the container, and the inert gas supply pipe may be installed at the center of the lower part of the container.
또한, 상기 유기용매 공급관은, 상기 용기의 하부 일측에 설치될 수 있다.Additionally, the organic solvent supply pipe may be installed on one lower side of the container.
또한, 상기 타공판은, 적어도 하나가 설치될 수 있다.Additionally, at least one perforated plate may be installed.
또한, 상기 타공판은, 상기 용기 바닥으로부터 15mm 이격된 위치에 설치될 수 있다.Additionally, the perforated plate may be installed at a distance of 15 mm from the bottom of the container.
또한, 상기 타공판은, 상기 통과홀의 직경이 0.5mm로 이루어질 수 있다.Additionally, in the perforated plate, the diameter of the through hole may be 0.5 mm.
또한, 상기 타공판은, 상기 용기 바닥으로부터 15mm 이격된 위치에 설치되고, 2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 타공판들 사이의 간격이 15mm로 이격되게 설치될 수 있다.In addition, the perforated plates may be installed at a distance of 15 mm from the bottom of the container, and when composed of two or more perforated plates, the perforated plates may be installed at a distance of 15 mm from each other.
또한, 상기 타공판은, 2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판의 통과홀 직경이 상측에 배치되는 타공판의 통과홀 직경보다 크게 형성될 수 있다.In addition, when the perforated plate is composed of two or more pieces, the diameter of the through hole of the perforated plate disposed on the lower side may be formed to be larger than the diameter of the through hole of the perforated plate disposed on the upper side.
또한, 상기 타공판은, 상측에 배치되는 타공판의 통과홀의 직경이 0.5mm로 이루어질 수 있다.Additionally, the diameter of the through hole of the perforated plate disposed on the upper side of the perforated plate may be 0.5 mm.
또한, 상기 타공판은, 2개의 타공판으로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판의 통과홀과 상측에 배치되는 타공판의 통과홀이 연결되도록 하는 연결관을 더 포함할 수 있다.In addition, when the perforated plate is composed of two perforated plates, it may further include a connection pipe that connects the through hole of the perforated plate disposed on the lower side with the through hole of the perforated plate disposed on the upper side.
또한, 상기 연결관은, 하단이 하측에 배치되는 타공판 일면으로부터 경사지게 돌출되도록 형성될 수 있다.Additionally, the lower end of the connection pipe may be formed to protrude obliquely from one side of the perforated plate disposed below.
본 발명에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치는, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 것으로서, 용기 내 영역 전체에 균일하게 기포가 생성되도록 하여 기포의 불균형 및 뭉침현상을 방지하고, 유기용매의 건조가스가 건조가스 배출관으로 원활하게 유도되어 배출될 수 있는 효과가 있다.The dry gas production device for drying a substrate according to the present invention is for producing a dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process, and generates bubbles uniformly throughout the area within the container to prevent imbalance of bubbles and It has the effect of preventing agglomeration and allowing the dry gas of the organic solvent to be smoothly guided and discharged through the dry gas discharge pipe.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치 사시도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치 단면도.
도 3 내지 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치 단면도.
도 5는 타공판이 2개 설치된 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치 단면도.
도 6은 타공판의 평면도.
도 7은 타공판의 요부 확대 단면도.
도 8 내지 도 9는 연결관이 구비된 본 발명의 다른 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치 요부 확대 단면도.
1 is a perspective view of a dry gas production apparatus for drying a substrate according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view of a dry gas production apparatus for drying a substrate according to an embodiment of the present invention.
3 to 4 are cross-sectional views of a dry gas production apparatus for drying a substrate according to another embodiment of the present invention.
Figure 5 is a cross-sectional view of a dry gas production apparatus for drying a substrate according to another embodiment of the present invention in which two perforated plates are installed.
Figure 6 is a top view of the perforated plate.
Figure 7 is an enlarged cross-sectional view of the main part of the perforated plate.
Figures 8 and 9 are enlarged cross-sectional views of main parts of a dry gas production apparatus for drying a substrate according to another embodiment of the present invention provided with a connecting pipe.
본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 도면에 기재된 내용을 참조하여야 한다.In order to fully understand the present invention, its operational advantages, and the objectives achieved by practicing the present invention, reference should be made to the accompanying drawings and the contents described in the drawings illustrating preferred embodiments of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명을 상세히 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by explaining preferred embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals in each drawing indicate the same member.
본 발명의 기판건조용 건조가스 제조장치는, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 것으로서, 용기 내 영역 전체에 균일하게 기포가 생성되도록 하여 기포의 불균형 및 뭉침현상을 방지하고, 유기용매의 건조가스가 건조가스 배출관으로 원활하게 유도되어 배출될 수 있는 기판건조용 건조가스 제조장치에 관한 것이다.The dry gas production device for drying a substrate of the present invention is for producing a dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process, and generates bubbles uniformly throughout the area within the container to prevent imbalance and agglomeration of bubbles. It relates to a dry gas production device for drying substrates that prevents the phenomenon and allows the dry gas of the organic solvent to be smoothly guided and discharged through the dry gas discharge pipe.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치 단면도이다.Figure 1 is a perspective view of an IPA gas production device using physical properties according to an embodiment of the present invention, and Figure 2 is a cross-sectional view of an IPA gas production device using physical properties according to an embodiment of the present invention.
도 1 내지 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치는 크게 용기(10), 유기용매 공급관(20), 불활성가스 공급관(30), 타공판(40), 건조가스 배출관(50) 및 드레인관(60)을 포함할 수 있다.Referring to Figures 1 and 2, the IPA gas production device using physical properties according to an embodiment of the present invention largely includes a container 10, an organic solvent supply pipe 20, an inert gas supply pipe 30, and a perforated plate 40. , may include a dry gas discharge pipe 50 and a drain pipe 60.
본 발명의 일 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치는 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 장치이다.An IPA gas production device using physical properties according to an embodiment of the present invention is a device for producing dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process.
한편, 본 발명에서는 기판의 건조를 위해 사용되는 유기용매로서 이소프로필알코올(IPA)이 사용될 수 있고, 불활성가스로서 정제된 고순도 질소(PN2: Purified N2)가 사용될 수 있으며 이에 한정되는 것은 아니다.Meanwhile, in the present invention, isopropyl alcohol (IPA) can be used as an organic solvent for drying the substrate, and purified high-purity nitrogen (PN2: Purified N2) can be used as an inert gas, but is not limited thereto.
이러한 본 발명의 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치는 기판의 건조를 위한 건조장치로 건조가스를 생성 후 공급하기 위한 것으로, 액체상태의 유기용매를 미스트(mist)상태의 건조가스화 하여 건조장치로 공급될 수 있도록 한다. 즉, 불활성가스를 기포상태로 공급함으로써 유기용매가 미스트 상태의 건조가스로 제조될 수 있게 된다.The IPA gas production device using the physical properties of the present invention is a drying device for drying substrates, and is designed to generate and then supply dry gas. Liquid organic solvent is converted into dry gas in the form of mist and supplied to the drying device. make it possible That is, by supplying the inert gas in a bubble state, the organic solvent can be produced as a dry gas in a mist state.
먼저, 용기(10)는 유기용매를 수용하기 위한 부분으로, 내부에 공간이 마련되도록 원통형으로 이루어질 수 있다.First, the container 10 is a part for accommodating an organic solvent, and may be formed in a cylindrical shape to provide a space therein.
즉, 후술하는 유기용매 공급관(20), 불활성가스 공급관(30), 건조가스 배출관(50) 및 드레인관(60)의 연결부분을 제외하고는 폐쇄된 형태로 내부공간이 마련되도록 이루어질 수 있다.That is, the internal space may be provided in a closed form except for the connection portion of the organic solvent supply pipe 20, the inert gas supply pipe 30, the dry gas discharge pipe 50, and the drain pipe 60, which will be described later.
다음으로, 유기용매 공급관(20)은 상기 용기(10) 내에 유기용매를 공급하기 위한 일종의 파이프로서, 상기 용기(10)를 관통하여 연결되도록 설치될 수 있다.Next, the organic solvent supply pipe 20 is a type of pipe for supplying the organic solvent into the container 10, and may be installed to penetrate and connect to the container 10.
다음으로, 불활성가스 공급관(30)은 상기 용기 내에 불활성가스(PN2: Purified N2)를 공급하기 위한 일종의 파이프로서, 상기 용기(10)를 관통하여 연결되도록 설치될 수 있다. 즉, 상기 불활성가스 공급관(30)을 통해 불활성가스를 공급하면 상기 용기(10) 내에 수용된 유기용매에 기포를 발생시킬 수 있게 된다.Next, the inert gas supply pipe 30 is a type of pipe for supplying inert gas (PN2: Purified N2) into the container, and may be installed to penetrate and connect to the container 10. That is, when an inert gas is supplied through the inert gas supply pipe 30, bubbles can be generated in the organic solvent contained in the container 10.
다음으로, 타공판(40)은 기본적으로 원판 형상으로 이루어지고 상기 용기(10) 내에 수평배치되고, 상기 용기(10) 내의 유기용매 및 불활성가스가 통과하기 위한 일정간격으로 복수 개의 통과홀(41)이 형성되어 기포를 생성시키기 위한 부분이다.Next, the perforated plate 40 is basically made of a disk shape and is placed horizontally in the container 10, and has a plurality of passage holes 41 at regular intervals for the organic solvent and inert gas in the container 10 to pass through. This is the part for forming bubbles.
즉, 상기 용기(10) 내에 유기용매가 수용된 상태에서 상기 불활성가스가 공급됨에 따라 상기 타공판(40)의 통과홀(41)을 통과하면서 불활성가스를 포함한 유기용매가 기포형태로 생성될 수 있게 된다.That is, as the inert gas is supplied while the organic solvent is accommodated in the container 10, the organic solvent containing the inert gas can be generated in the form of bubbles while passing through the through hole 41 of the perforated plate 40. .
이러한 상기 타공판(40)은 적어도 하나가 설치될 수 있다.At least one such perforated plate 40 may be installed.
또한, 상기 타공판(40)은 상기 용기(10) 바닥으로부터 15mm 이격된 위치에 설치될 수 있다.Additionally, the perforated plate 40 may be installed at a distance of 15 mm from the bottom of the container 10.
또한, 상기 타공판(40)은 상기 통과홀(41)의 직경이 0.5mm로 이루어질 수 있다.Additionally, the perforated plate 40 may have a diameter of the through hole 41 of 0.5 mm.
다음으로, 건조가스 배출관(50)은 상기 타공판(40)의 통과홀(41)을 통과하여 생성된 기포에 의해 생성된 유기용매의 건조가스가 배출되는 일종의 파이프로서, 상기 용기(10)를 관통하여 연결되도록 설치될 수 있다.Next, the dry gas discharge pipe 50 is a type of pipe through which the dry gas of the organic solvent generated by the bubbles passing through the through hole 41 of the perforated plate 40 is discharged, and penetrates the container 10. It can be installed to be connected.
이때, 상기 건조가스 배출관(50)은 상기 용기(10)의 상부 중심에 설치될 수 있다.At this time, the dry gas discharge pipe 50 may be installed at the upper center of the container 10.
이는, 유기용매의 건조가스가 상기 용기(10) 내에서 원활하게 배출되어 건조장치측으로 공급될 수 있도록 하기 위해 상기 용기(10)의 상부 중심에 설치되는 것이다.This is installed at the upper center of the container 10 so that the drying gas of the organic solvent can be smoothly discharged from the container 10 and supplied to the drying device.
즉, 상기 건조가스 배출관(50)은 기체의 상승효과에 따라 상기 용기(10)의 상부에 설치됨이 마땅하며 용기(10)의 상부 중 정중앙의 위치에 설치되어 상부 중 일측 즉, 정중앙 위치가 아닌 어느 한 쪽 위치에 치우치게 설치되는 것에 비해 원활한 배출이 이루어질 수 있게 된다.In other words, the dry gas discharge pipe 50 should be installed at the top of the container 10 according to the synergistic effect of the gas, and should be installed at the exact center of the top of the container 10, not at one side of the top, that is, at the center. Compared to installation that is biased in one location, smooth discharge can be achieved.
마지막으로, 드레인관(60)은 상기 용기(10) 하부에 설치되어 상기 용기(10) 내에 수용된 유기용매 및 불활성가스를 필요 시 배출하기 위한 일종의 파이프이다.Lastly, the drain pipe 60 is a type of pipe installed at the bottom of the container 10 to discharge the organic solvent and inert gas contained in the container 10 when necessary.
이하, 도 1 내지 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판건조용 건조가스 제조장치를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a dry gas production apparatus for drying a substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
상기 불활성가스 공급관(30) 및 상기 드레인관(60)은 상기 용기(10) 하부 중심에 설치되는 하나의 공동배관으로서, 불활성가스의 공급 및 불활성가스를 포함하는 유기용매의 배출이 하나의 배관을 통해 이루어질 수 있다.The inert gas supply pipe 30 and the drain pipe 60 are one common pipe installed at the lower center of the container 10, and the supply of the inert gas and the discharge of the organic solvent containing the inert gas are performed through one pipe. It can be accomplished through
즉, 상기 불활성가스 공급관(30) 및 상기 드레인관(60)은 상기 용기(10)와 연결되는 부분은 하나의 배관으로만 설치될 수 있다. 또한 도면에 도시하지는 않았지만 불활성가스를 공급하는 공급원과 연결되는 배관이 연결되어 불활성가스가 공급되고, 상기 드레인관(60) 일측이 개방되도록 설치되어 불활성가스의 공급 및 불활성가스를 포함하는 유기용매의 배출이 이루어질 수 있다.That is, the inert gas supply pipe 30 and the drain pipe 60 can be installed with only one pipe connected to the container 10. In addition, although not shown in the drawing, a pipe connected to a source that supplies inert gas is connected to supply inert gas, and one side of the drain pipe 60 is installed to be open to supply the inert gas and the organic solvent containing the inert gas. Emissions can occur.
또한, 상기 유기용매 공급관(20)은 상기 용기(10)의 상부 일측에 설치될 수 있다.Additionally, the organic solvent supply pipe 20 may be installed on one upper side of the container 10.
즉, 상기 용기(10) 중심에는 상기 건조가스 배출관(50)이 설치되고, 상기 유기용매 공급관(20)은 상기 건조가스 배출관(50) 위치에서 이격된 일측 위치에 설치될 수 있다.That is, the dry gas discharge pipe 50 is installed in the center of the container 10, and the organic solvent supply pipe 20 may be installed on one side away from the location of the dry gas discharge pipe 50.
이로써, 상기 불활성가스 공급관(30)과 상기 건조가스 배출관(50)은 동일 수직선상에 위치되어 불활성가스가 공급되어 기포를 생성한 후 유기용매의 건조가스가 상기 건조가스 배출관(50)을 통해 원활하게 배출될 수 있게 된다.Accordingly, the inert gas supply pipe 30 and the dry gas discharge pipe 50 are located on the same vertical line, so that the inert gas is supplied to generate bubbles, and then the dry gas of the organic solvent flows smoothly through the dry gas discharge pipe 50. It can be discharged easily.
이때, 상기 유기용매 공급관(20)은 상기 용기(10)의 상부 일측에 설치되되, 상기 용기(10) 내부로 설정 길이만큼 연장되게 형성될 수 있다.At this time, the organic solvent supply pipe 20 is installed on one upper side of the container 10, and may be formed to extend within the container 10 by a set length.
도 3 내지 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치 단면도이다.Figures 3 and 4 are cross-sectional views of an IPA gas production device using physical properties according to another embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 상기 드레인관(60')은 상기 도 2에 도시된 실시예와 다른 형태로서, 상기 용기(10) 하부 일측에 설치될 수 있다.Referring to FIG. 3, the drain pipe 60' has a different form from the embodiment shown in FIG. 2, and may be installed on one side of the lower part of the container 10.
이때, 상기 유기용매 공급관(20)은 상기 용기(10) 상부 일측에 설치되고, 상기 불활성가스 공급관(30)은 상기 용기 하부 중심에 설치될 수 있다.At this time, the organic solvent supply pipe 20 may be installed on one upper side of the container 10, and the inert gas supply pipe 30 may be installed at the bottom center of the container.
즉, 상기 드레인관(60')과 상기 불활성가스 공급관(30)은 각각 독립적으로 분리된 형태로 이루어지되, 상기 불활성가스 공급관(30)과 상기 건조가스 배출관(50)은 동일 수직선상에 위치될 수 있다.That is, the drain pipe 60' and the inert gas supply pipe 30 are each independently and separately formed, but the inert gas supply pipe 30 and the dry gas discharge pipe 50 are located on the same vertical line. You can.
도 4를 참조하면, 상기 유기용매 공급관(20')은 도 2 및 도 3의 실시예와 다르게 상기 용기(10)의 하부 일측에 설치되어 상기 용기(10) 하부에서 유기용매가 공급될 수 있도록 이루어질 수 있다.Referring to FIG. 4, the organic solvent supply pipe 20', unlike the embodiment of FIGS. 2 and 3, is installed on one side of the lower part of the container 10 so that the organic solvent can be supplied from the lower part of the container 10. It can be done.
이때, 상기 불활성가스 공급관(30) 및 상기 드레인관(60)은 상기 용기(10) 하부 중심에 설치되는 하나의 공동배관으로서, 불활성가스의 공급 및 불활성가스를 포함하는 유기용매의 배출이 하나의 배관을 통해 이루어질 수 있다.At this time, the inert gas supply pipe 30 and the drain pipe 60 are one common pipe installed at the lower center of the container 10, and the supply of the inert gas and the discharge of the organic solvent containing the inert gas are performed in one system. This can be done through piping.
즉, 상기 불활성가스 공급관(30) 및 상기 드레인관(60)은 상기 용기(10)와 연결되는 부분은 하나의 배관으로만 설치될 수 있다. 또한 도면에 도시하지는 않았지만 불활성가스를 공급하는 공급원과 연결되는 배관이 연결되어 불활성가스가 공급되고, 상기 드레인관(60) 일측이 개방되도록 설치되어 불활성가스의 공급 및 불활성가스를 포함하는 유기용매의 배출이 이루어질 수 있다.That is, the inert gas supply pipe 30 and the drain pipe 60 can be installed with only one pipe connected to the container 10. In addition, although not shown in the drawing, a pipe connected to a source that supplies inert gas is connected to supply inert gas, and one side of the drain pipe 60 is installed to be open to supply the inert gas and the organic solvent containing the inert gas. Emissions can occur.
도 5는 타공판이 2개 설치된 본 발명의 다른 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치 단면도이고, 도 6은 타공판의 평면도이며, 도 7은 타공판의 요부 확대 단면도이다.Figure 5 is a cross-sectional view of an IPA gas production device using physical properties according to another embodiment of the present invention in which two perforated plates are installed, Figure 6 is a plan view of the perforated plate, and Figure 7 is an enlarged cross-sectional view of the main part of the perforated plate.
도 5 내지 도 7을 참조하면, 상기 타공판(40)은 적어도 하나가 설치되는 것으로, 일 예로 2개가 설치될 수 있다.Referring to FIGS. 5 to 7, at least one perforated plate 40 is installed, for example, two perforated plates 40 may be installed.
이때, 상기 2개의 타공판(40a, 40b)은 상기 용기(10) 바닥으로부터 15mm 이격된 위치에 설치되고, 타공판(40a, 40b)이 2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 타공판(40a, 40b)들 사이의 간격이 15mm로 이격되게 설치될 수 있다.At this time, the two perforated plates (40a, 40b) are installed at a position 15 mm apart from the bottom of the container 10, and when the perforated plates (40a, 40b) are composed of two or more, the perforated plates (40a, 40b) They can be installed with a gap of 15mm between them.
또한, 상기 타공판(40a, 40b)은 2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판(40a)의 통과홀(41) 직경이 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41) 직경보다 크게 형성될 수 있다.In addition, when the perforated plates 40a and 40b are composed of two or more pieces, the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40a disposed on the lower side is equal to the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side. It can be formed larger.
또한, 상기 타공판(40a, 40b)은 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)의 직경이 0.5mm로 이루어질 수 있다.In addition, the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side of the perforated plates 40a and 40b may be 0.5 mm.
이처럼, 상기 타공판(40a, 40b)은 복수 개로 구성될 경우 하측에 배치되는 타공판(40a)에 비해 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)의 직경을 작게 형성하여 불활성가스의 공급에 의해 최초 유기용매가 통과홀(41)을 원활하게 통과하되, 기설정 기포 크기로 기포가 생성될 수 있도록 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)은 직경이 0.5mm로 이루어지도록 이루어질 수 있다.In this way, when the perforated plates 40a and 40b are composed of a plurality of perforated plates 40a and 40b, the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side is made smaller than that of the perforated plate 40a disposed on the lower side to facilitate the supply of inert gas. Thus, the first organic solvent passes smoothly through the through hole 41, but the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side is made to have a diameter of 0.5 mm so that bubbles can be generated with a preset bubble size. You can.
도 8 내지 도 9는 연결관이 구비된 본 발명의 다른 실시예에 따른 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치 요부 확대 단면도이다.Figures 8 and 9 are enlarged cross-sectional views of main parts of an IPA gas production device using physical properties according to another embodiment of the present invention provided with a connecting pipe.
도 8을 참조하면, 다른 실시예로서, 상기 타공판(40)은 2개의 타공판(40a, 40b)으로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판(40a)의 통과홀(41)과 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)이 연결되도록 하는 연결관(42)을 더 포함할 수 있다.Referring to FIG. 8, in another embodiment, when the perforated plate 40 is composed of two perforated plates 40a and 40b, the through hole 41 of the perforated plate 40a disposed on the lower side and the perforated plate disposed on the upper side It may further include a connector 42 through which the through hole 41 of (40b) is connected.
즉, 유기용매가 하측에 배치되는 타공판(40a)의 통과홀(41)로 유입된 후 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)을 통해 통과하는 경우 통과홀(41)을 통과하여 이동하는 과정에서 간섭이 생기는 것을 방지하기 위해, 유기용매가 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)까지 원활하게 이동하면서 배출하여 기포가 생성될 수 있도록 하기 위함이다.That is, when the organic solvent flows into the through hole 41 of the perforated plate 40a disposed on the lower side and then passes through the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side, it passes through the through hole 41. In order to prevent interference during the movement, the organic solvent moves smoothly to the passage hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side and is discharged to generate bubbles.
이때, 상기 연결관(42)은 하측에 배치되는 타공판(40a)의 통과홀(41)의 직경이 상측에 배치되는 타공판(40b)의 통과홀(41)의 직경보다 크게 형성됨에 따라 상측으로 갈수록 직경이 점차적으로 작아지는 고깔 형태로 이루어질 수 있다.At this time, the connection pipe 42 moves upward as the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40a disposed on the lower side is larger than the diameter of the through hole 41 of the perforated plate 40b disposed on the upper side. It can be formed in a cone shape with a gradually decreasing diameter.
한편, 도 9를 참조하면, 상기 연결관(42)은 하단이 하측에 배치되는 타공판(40a) 일면으로부터 경사지게 돌출되도록 형성될 수 있다.Meanwhile, referring to FIG. 9, the lower end of the connection pipe 42 may be formed to protrude obliquely from one surface of the perforated plate 40a disposed below.
즉, 상기 연결관(42)은 하측의 끝단 즉, 하단이 타공판(40a)보다 더 돌출된 형태로 이루어져 유기용매의 원활한 유입을 유도할 수 있게 된다.That is, the lower end of the connection pipe 42, that is, the lower end, is made to protrude further than the perforated plate 40a, thereby allowing smooth inflow of the organic solvent.
이러한 상기 본 발명의 기술적 사상에 의한 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치는, 습식 기판세정 공정 후 건조를 위하여 사용되는 유기용매의 건조가스를 제조하기 위한 것으로서, 용기 내 영역 전체에 균일하게 기포가 생성되도록 하여 기포의 불균형 및 뭉침현상을 방지하고, 유기용매의 건조가스가 건조가스 배출관으로 원활하게 유도되어 배출될 수 있는 효과가 있는 것이다.The IPA gas production device using the physical properties according to the technical idea of the present invention is for producing dry gas of an organic solvent used for drying after a wet substrate cleaning process, and bubbles are generated uniformly throughout the area within the container. This has the effect of preventing imbalance and agglomeration of bubbles as much as possible, and allowing the dry gas of the organic solvent to be smoothly guided and discharged through the dry gas discharge pipe.
이상 설명한 바와 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미를 한정하거나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the optimal embodiment has been disclosed in the drawings and specification. Although specific terms are used here, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not used to limit the meaning or limit the scope of the present invention described in the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and other equivalent embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the attached patent claims.
10: 용기 20, 20': 유기용매 공급관
30: 불활성가스 공급관 40, 40a, 40b: 타공판
41: 통과홀 42: 연결관
50: 건조가스 배출관 60, 60': 드레인관
10: Container 20, 20': Organic solvent supply pipe
30: Inert gas supply pipe 40, 40a, 40b: Perforated plate
41: Passing hole 42: Connector
50: dry gas discharge pipe 60, 60': drain pipe
Claims (15)
유기용매를 수용하는 용기;
상기 용기 내에 유기용매를 공급하기 위한 유기용매 공급관;
상기 용기 내에 불활성가스를 공급하기 위한 불활성가스 공급관;
상기 용기 내에 수평배치되고, 상기 용기 내의 유기용매 및 불활성가스가 통과하기 위한 일정간격으로 복수 개의 통과홀이 형성되어 기포를 생성시키기 위한 타공판;
상기 타공판의 통과홀을 통과하여 생성된 기포에 의해 생성된 유기용매의 건조가스가 배출되는 건조가스 배출관; 및
상기 용기 하부에 설치되어 유기용매 및 불활성가스를 배출하기 위한 드레인관;을 포함하고,
상기 건조가스 배출관은,
상기 용기의 상부 중심에 설치되며,
상기 드레인관은,
상기 용기 하부 일측에 설치되며,
상기 유기용매 공급관은,
상기 용기 상부 일측에 설치되고,
상기 불활성가스 공급관은,
상기 용기 하부 중심에 설치되며,
상기 타공판은,
적어도 하나가 설치되며,
상기 타공판은,
상기 용기 바닥으로부터 15mm 이격된 위치에 설치되고, 2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 타공판들 사이의 간격이 15mm로 이격되게 설치되며,
상기 타공판은,
2개 이상의 복수 개로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판의 통과홀 직경이 상측에 배치되는 타공판의 통과홀 직경보다 크게 형성되며,
상기 타공판은,
상측에 배치되는 타공판의 통과홀의 직경이 0.5mm로 이루어지며,
상기 타공판은,
2개의 타공판으로 구성될 경우, 하측에 배치되는 타공판의 통과홀과 상측에 배치되는 타공판의 통과홀이 연결되도록 하는 연결관을 더 포함하며,
상기 연결관은,
하단이 하측에 배치되는 타공판 일면으로부터 경사지게 돌출되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 물리적 성질을 이용한 IPA 가스 제조 장치.
An IPA (Isopropyl alcohol) gas production device that uses the physical properties to produce dry gas of organic solvents used for drying after the wet substrate cleaning process,
A container containing an organic solvent;
an organic solvent supply pipe for supplying the organic solvent into the container;
an inert gas supply pipe for supplying inert gas into the container;
A perforated plate disposed horizontally in the container and having a plurality of passage holes formed at regular intervals for the organic solvent and inert gas in the container to pass through to generate bubbles;
a dry gas discharge pipe through which the dry gas of the organic solvent generated by bubbles passing through the through hole of the perforated plate is discharged; and
It includes a drain pipe installed at the bottom of the container to discharge organic solvent and inert gas,
The dry gas discharge pipe is,
It is installed at the upper center of the container,
The drain pipe is,
It is installed on one side of the lower part of the container,
The organic solvent supply pipe is,
Installed on one side of the upper part of the container,
The inert gas supply pipe is,
It is installed at the bottom center of the container,
The perforated plate is,
At least one is installed,
The perforated plate is,
It is installed at a distance of 15 mm from the bottom of the container, and when composed of two or more, the perforated plates are installed at a distance of 15 mm from each other,
The perforated plate is,
When composed of two or more pieces, the diameter of the through hole of the perforated plate disposed on the lower side is formed to be larger than the diameter of the through hole of the perforated plate disposed on the upper side,
The perforated plate is,
The diameter of the through hole of the perforated plate placed on the upper side is 0.5mm,
The perforated plate is,
When composed of two perforated plates, it further includes a connection pipe that connects the through hole of the perforated plate disposed on the lower side with the through hole of the perforated plate disposed on the upper side,
The connector is,
An IPA gas production device using physical properties, characterized in that the lower end is formed to protrude obliquely from one side of the perforated plate disposed on the lower side.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230059978A KR102650946B1 (en) | 2023-05-09 | 2023-05-09 | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020230059978A KR102650946B1 (en) | 2023-05-09 | 2023-05-09 | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR102650946B1 true KR102650946B1 (en) | 2024-03-25 |
Family
ID=90473638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020230059978A KR102650946B1 (en) | 2023-05-09 | 2023-05-09 | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR102650946B1 (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20090124391A (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | 동서울대학 산학협력단 | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate |
| KR20140047275A (en) | 2012-10-12 | 2014-04-22 | 주식회사 지케이옥시 | Small size bubble manufacturing method using physical characteristics |
| KR20170061365A (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-05 | 세메스 주식회사 | Chemical supplying unit and apparatus treating a substrate |
-
2023
- 2023-05-09 KR KR1020230059978A patent/KR102650946B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20090124391A (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | 동서울대학 산학협력단 | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate |
| KR20140047275A (en) | 2012-10-12 | 2014-04-22 | 주식회사 지케이옥시 | Small size bubble manufacturing method using physical characteristics |
| KR20170061365A (en) * | 2015-11-26 | 2017-06-05 | 세메스 주식회사 | Chemical supplying unit and apparatus treating a substrate |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN104299928B (en) | For handling the apparatus and method of microelectronic workpiece | |
| WO2005015625A1 (en) | Method of processing substrate and substrate processing apparatus | |
| JPH1083982A (en) | Wafer cleaning device | |
| CN206343436U (en) | Using carbon dioxide cleaning device and utilize this dry-and wet-type composite cleaning system | |
| KR102650946B1 (en) | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate | |
| KR20060030070A (en) | Substrate processing method and substrate processing device | |
| JP2011504803A (en) | Deaerator | |
| KR20160132535A (en) | Vaporizer and substrate disposition apparatus including the same | |
| CN109772783B (en) | Steam cleaning device | |
| US6161300A (en) | Alcohol vapor dryer system | |
| KR20180027779A (en) | Vaporizer | |
| CN113140488A (en) | Wafer cleaning device | |
| KR100648455B1 (en) | Substrate drying method and apparatus thereof | |
| KR102055370B1 (en) | Substrate processing apparatus | |
| JP2005064482A (en) | Method and device for treating substrate | |
| JP2005093899A (en) | Dryer | |
| JP2006294762A (en) | Substrate processing apparatus | |
| KR20070068089A (en) | Apparatus and method for drying semiconductor substrates | |
| KR20200029121A (en) | A device for removing isopropyl alcohol from a semiconductor process comprising a U-turn type and water contact filler | |
| KR100937147B1 (en) | Apparatus for manufacturing dry gas for drying substrate | |
| KR101779081B1 (en) | Apparatus for removing fume | |
| KR101205599B1 (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
| KR102322678B1 (en) | Apparatus for preventing to dry nozzle | |
| JPS6381931A (en) | Drying device | |
| KR19990036604U (en) | IP Bubbler for Wafer Drying Equipment of Semiconductor |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GRNT | Written decision to grant |