KR102640502B1 - Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system - Google Patents
Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system Download PDFInfo
- Publication number
- KR102640502B1 KR102640502B1 KR1020190024040A KR20190024040A KR102640502B1 KR 102640502 B1 KR102640502 B1 KR 102640502B1 KR 1020190024040 A KR1020190024040 A KR 1020190024040A KR 20190024040 A KR20190024040 A KR 20190024040A KR 102640502 B1 KR102640502 B1 KR 102640502B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- latch
- node
- output driver
- feedback inverter
- gate line
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 63
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 20
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 102100036285 25-hydroxyvitamin D-1 alpha hydroxylase, mitochondrial Human genes 0.000 description 10
- 101000875403 Homo sapiens 25-hydroxyvitamin D-1 alpha hydroxylase, mitochondrial Proteins 0.000 description 10
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 101100215339 Arabidopsis thaliana ACT11 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100215341 Arabidopsis thaliana ACT12 gene Proteins 0.000 description 2
- 102100031102 C-C motif chemokine 4 Human genes 0.000 description 2
- 101100215368 Dictyostelium discoideum act21 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100161922 Dictyostelium discoideum act22 gene Proteins 0.000 description 2
- 102100026620 E3 ubiquitin ligase TRAF3IP2 Human genes 0.000 description 2
- 101710140859 E3 ubiquitin ligase TRAF3IP2 Proteins 0.000 description 2
- 101100217138 Mus musculus Actr10 gene Proteins 0.000 description 2
- 101000777470 Mus musculus C-C motif chemokine 4 Proteins 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/398—Design verification or optimisation, e.g. using design rule check [DRC], layout versus schematics [LVS] or finite element methods [FEM]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/392—Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Geometry (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Architecture (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Electronic Switches (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Abstract
반도체 회로 및 반도체 회로의 레이아웃 시스템이 제공된다. 반도체 회로는 래치(latch), 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 상기 래치에 피드백(feedback) 입력하는 피드백 인버터(inverter), 및 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 외부에 출력하는 출력 드라이버(output driver)를 포함하고, 출력 드라이버는 짝수 개의 인버터를 포함하고, 래치, 피드백 인버터 및 출력 드라이버는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃(layout)된다.A semiconductor circuit and a layout system for the semiconductor circuit are provided. The semiconductor circuit includes a latch, a feedback inverter that receives the output signal of the latch through a first node and feeds back the output signal to the latch, and inputs the output signal of the latch through the first node. It includes an output driver that receives the output signal and outputs the output signal to the outside. The output driver includes an even number of inverters, and the latch, feedback inverter, and output driver have a single active region formed integrally. It is laid out to share.
Description
본 발명은 반도체 회로 및 반도체 회로의 레이아웃 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to semiconductor circuits and semiconductor circuit layout systems.
모바일 장치에 흔히 사용되는 SoC(System-on-Chip)과 같은 IC(Integerated Circuit)의 면적을 감소시키는 것은 모바일 장치의 생산성 측면에서 중요하다. 한편 사용자 요구가 높아짐에 따라 IC의 성능 향상을 시키는 것 역시 다른 중요한 측면에 해당한다.Reducing the area of ICs (Integrated Circuits) such as System-on-Chip (SoC) commonly used in mobile devices is important in terms of productivity of mobile devices. Meanwhile, improving IC performance as user demands increase is another important aspect.
IC의 셀 성능 향상을 이루면서도 그 면적 역시 최소화하기 위해서는, 성능 향상에 필요한 반도체 소자들을 모두 구현하면서도 동시에 저면적을 유지하기 위한 반도체 회로(예컨대 스탠다드 셀(standard cell))의 레이아웃(layout)의 설계가 요구된다.In order to improve the cell performance of the IC while also minimizing the area, design the layout of the semiconductor circuit (e.g., standard cell) to maintain a low area while implementing all the semiconductor elements necessary for performance improvement. is required.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 래치(latch) 또는 플립 플롭(flip-flop)의 출력 드라이버의 성능을 향상시키면서도, 래치 또는 플립 플롭의 레이아웃 면적의 증가가 없거나 최소화할 수 있도록 하는 반도체 회로 및 반도체 회로의 레이아웃 시스템을 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is a semiconductor circuit that improves the performance of the output driver of a latch or flip-flop while eliminating or minimizing an increase in the layout area of the latch or flip-flop, and It provides a layout system for semiconductor circuits.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제는 아래의 기재로부터 해당 기술 분야의 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem of the present invention is not limited to the technical problem mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로는, 래치, 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 래치에 피드백(feedback) 입력하는 피드백 인버터(inverter), 및 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 외부에 출력하는 출력 드라이버(output driver)를 포함하고, 출력 드라이버는 짝수 개의 인버터를 포함하고, 래치, 피드백 인버터 및 출력 드라이버는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃된다.A semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention for achieving the above technical problem includes a latch, a feedback inverter that receives the output signal of the latch through a first node and feeds the output signal to the latch, and an output driver that receives the output signal of the latch through the first node and outputs the output signal to the outside. The output driver includes an even number of inverters, and the latch, the feedback inverter, and the output driver are sequentially connected. They are laid out to share a single active region that is formed integrally.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 회로는, 제1 노드의 신호가 인가되는 제1 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제2 노드에 제공하는 제1 PMOS 트랜지스터와, 제1 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제2 노드에 제공하는 제1 NMOS 트랜지스터(MN1)를 포함하는 피드백 인버터(feedback inverter), 및 제1 노드의 신호가 인가되되 제1 게이트 라인에 인접하여 형성된 제2 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 PMOS 트랜지스터, 제2 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 NMOS 트랜지스터, 제1 노드의 신호가 인가되되 제2 게이트 라인에 인접하여 형성된 제3 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제3 PMOS 트랜지스터 및 제3 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제3 노드에 제공하는 제3 NMOS 트랜지스터(MN3)를 포함하는 출력 드라이버(output driver) 를 포함하고, 출력 드라이버는, 제1 노드의 신호를 제2 노드를 통해 피드백 입력으로 수신하는 래치와 출력 드라이버 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 래치와 공유하고, 피드백 인버터와 출력 드라이버 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 피드백 인버터와 공유한다.A semiconductor circuit according to another embodiment of the present invention for achieving the above technical problem includes a first PMOS transistor formed on a first gate line to which a signal from a first node is applied and providing a power supply voltage to a second node; A feedback inverter including a first NMOS transistor (MN1) formed on the first gate line to provide a ground voltage to the second node, and a signal to the first node is applied adjacent to the first gate line. A second PMOS transistor formed on the second gate line to provide a power voltage to the third node, a second NMOS transistor formed on the second gate line to provide a ground voltage to the third node, and a signal of the first node is applied, a third PMOS transistor formed on a third gate line formed adjacent to the second gate line to provide a power voltage to the third node, and a third PMOS transistor formed on the third gate line to provide a ground voltage to the third node. An output driver including a third NMOS transistor (MN3), wherein the output driver is a first node disposed between the output driver and a latch that receives the signal of the first node as a feedback input through the second node. The power supply voltage and ground voltage applied through the VDD power contact and the first VSS power contact, respectively, are shared with the latch, and are applied through the second VDD power contact and the second VSS power contact respectively disposed between the feedback inverter and the output driver. The power supply voltage and ground voltage are shared with the feedback inverter.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 회로는, 제1 노드의 신호를 제2 노드를 통해 피드백 입력으로 수신하는 래치, 제1 노드의 신호가 인가되되 래치의 일측에 인접하여 형성된 제1 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제2 노드에 제공하는 제1 PMOS 트랜지스터와, 제1 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제2 노드에 제공하는 제1 NMOS 트랜지스터를 포함하는 피드백 인버터(feedback inverter), 및 제1 노드의 신호가 인가되되 래치의 타측에 인접하여 형성된 제2 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 PMOS 트랜지스터, 제2 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 NMOS 트랜지스터, 제1 노드의 신호가 인가되되 제2 게이트 라인에 인접하여 형성된 제3 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제3 PMOS 트랜지스터 및 제3 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제3 노드에 제공하는 제3 NMOS 트랜지스터를 포함하는 출력 드라이버(output driver)를 포함하고, 피드백 인버터는, 래치와 피드백 인버터 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 래치와 공유하고, 출력 드라이버는, 래치와 출력 드라이버 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 래치와 공유한다.A semiconductor circuit according to another embodiment of the present invention for achieving the above technical problem includes a latch that receives a signal from a first node as a feedback input through a second node, and a latch to which the signal from the first node is applied adjacent to one side of the latch. Feedback including a first PMOS transistor formed on the first gate line to provide a power voltage to the second node, and a first NMOS transistor formed on the first gate line to provide a ground voltage to the second node. An inverter (feedback inverter), and a second PMOS transistor formed on a second gate line formed adjacent to the other side of the latch to which the signal of the first node is applied and providing a power voltage to the third node, on the second gate line a second NMOS transistor formed on a third gate line formed adjacent to the second gate line to which a signal from the first node is applied and provided to provide a power voltage to the third node; An output driver including 3 PMOS transistors and a third NMOS transistor formed on a third gate line to provide a ground voltage to the third node, wherein the feedback inverter is disposed between the latch and the feedback inverter. The power supply voltage and ground voltage applied through the first VDD power contact and the first VSS power contact, respectively, are shared with the latch, and the output driver has a second VDD power contact and a second VSS power contact disposed between the latch and the output driver. The power supply voltage and ground voltage applied respectively are shared with the latch.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로의 레이아웃 시스템은, 하나 이상의 프로세서, 하나 이상의 스탠다드 셀(standard cell) 디자인이 저장된 스토리지, 및 하나 이상의 프로세서를 이용하여, 정의된 요구 조건(requirement)에 따라 하나 이상의 스탠다드 셀 디자인을 레이아웃(layout)하는 레이아웃 모듈을 포함하되, 레이아웃 모듈은, 래치(latch)와, 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 래치에 피드백(feedback) 입력하는 피드백 인버터(inverter)와, 제1 노드를 통해 래치의 출력 신호를 입력받아 출력 신호를 외부에 출력하되, 짝수 개의 인버터를 포함하는 출력 드라이버(output driver)를 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃한다.A semiconductor circuit layout system according to an embodiment of the present invention for achieving the above technical problem uses one or more processors, storage storing one or more standard cell designs, and one or more processors to meet defined requirements. It includes a layout module that layouts one or more standard cell designs according to requirements, where the layout module receives the output signal of the latch through a latch and a first node and sends the output signal to the latch. A feedback inverter that inputs feedback, and an output driver that receives the output signal of the latch through the first node and outputs the output signal to the outside, and includes an even number of inverters, are continuously formed ( formed integrally Lay out to share a single active region.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로의 레이아웃 시스템을 설명하기 위한 블록도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 회로도이다.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 레이아웃도들이다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 회로도이다.
도 7 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 레이아웃도들이다.1 is a block diagram for explaining a semiconductor circuit layout system according to an embodiment of the present invention.
2A to 2C are circuit diagrams for explaining a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
3 to 5 are layout diagrams for explaining semiconductor circuits according to various embodiments of the present invention.
6A to 6E are circuit diagrams for explaining a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
7 to 11 are layout diagrams for explaining semiconductor circuits according to various embodiments of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 설명하도록 한다.Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로의 레이아웃 시스템을 설명하기 위한 블록도이다.1 is a block diagram for explaining a semiconductor circuit layout system according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로의 레이아웃 시스템(100)은 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행할 수 있다.Referring to FIG. 1, a semiconductor
레이아웃 시스템(100)은 프로세서(110), 메모리(120), 스토리지(130), 레이아웃 모듈(140), 입력 장치(150) 및 출력 장치(160)를 포함한다. 그리고 프로세서(110), 메모리(120), 스토리지(130), 레이아웃 모듈(140), 입력 장치(150) 및 출력 장치(160)는 버스(170)를 통해 전기적으로 연결되어 데이터를 상호 교환할 수 있다. 그러나 본 발명의 범위가 이에 제한되는 것은 아니고, 구체적인 구현 목적에 따라, 레이아웃 시스템(100)은, 프로세서(110), 메모리(120), 스토리지(130), 레이아웃 모듈(140), 입력 장치(150) 및 출력 장치(160) 중 일부를 생략하도록 구현되거나, 도 1에 도시되지 않은 장치(예컨대 디스플레이 장치)를 더 포함하도록 구현될 수도 있다.The
먼저 레이아웃 모듈(140)은 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행할 수 있다. 레이아웃 모듈(140)은 소프트웨어로 구현되거나, 하드웨어로 구현되거나, 또는 소프트웨어 및 하드웨어의 조합으로 구현될 수 있다. 소프트웨어로 구현되는 경우, 레이아웃 모듈(140)은 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행하기 위한 하나 이상의 인스트럭션(instruction)을 포함할 수 있다. 한편, 하드웨어로 구현되는 경우, 레이아웃 모듈(140)은 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행하기 위한, 예컨대 프로그램 가능한, 하나 이상의 전자 회로를 포함할 수 있다. 한편, 레이아웃 모듈(140)은, 그 일부가 소프트웨어로 구현되는 동시에 다른 일부가 하드웨어로 구현될 수도 있다.First, the
레이아웃 모듈(140)은 프로세서(110)를 이용하여, 정의된 요구 조건(requirement), 예컨대 디자인 룰(design rule)에 따라 하나 이상의 스탠다드 셀 디자인(standard cell design)을 레이아웃할 수 있다. 이러한 스탠다드 셀 디자인은 스토리지(130)에 저장될 수 있다. 레이아웃 모듈(140)이 수행하는 반도체 회로에 대한 레이아웃에 관하여는 도 3 내지 도 5 및 도 7 내지 도 11과 관련하여 후술하도록 한다.The
프로세서(110)는 레이아웃 시스템(100)의 전반적인 동작을 제어한다. 특히 프로세서(110)는 레이아웃 모듈(140)을 제어 또는 실행하여, 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행할 수 있다. 본 발명의 몇몇의 실시예에서, 프로세서(110)는 CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphic Processing Unit) 등으로 구현될 수 있으나 본 발명의 범위가 이에 제한되는 것은 아니다.The
메모리(120)는 레이아웃 모듈(140)이 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행하기 위해 필요한 인스트럭션, 프로그램 코드, 데이터 등을 저장할 수 있는 공간을 제공한다. 본 발명의 몇몇의 실시예에서, 메모리(120)는 DRAM(Dynamic Random Access Memory), SRAM(Static Random Access Memory) 등의 휘발성 메모리로 구현될 수 있으나, 본 발명의 범위는 이에 제한되지 않고, 플래시 메모리와 같은 비휘발성 메모리로 구현될 수도 있다. The
스토리지(130)는 레이아웃 모듈(140)의 전부 또는 일부가 소프트웨어로 구현된 경우, 해당 인스트럭션 또는 프로그램 코드를 저장하거나, 레이아웃 모듈(140)이 본 명세서에서 설명되는 반도체 회로에 대한 레이아웃을 수행하기 위해 필요한 데이터를 저장하거나, 예컨대, 디자인 룰(design rule)과 같은 제약 조건, 반도체 회로의 레이아웃에 사용되는 다양한 소자에 대한 데이터, 스탠다드 셀 데이터 등의 레이아웃 관련 데이터를 저장할 수 있다. 본 발명의 몇몇의 실시예에서, 스토리지(130)는 SSD(Solid State Drive), HDD(Hard Disk Drive) 등으로 구현될 수 있으나, 본 발명의 범위는 이에 제한되지 않고, 임의의 컴퓨터로 판독 가능한 비 일시적 매체(non-transitory computer readable medium)로 구현될 수 있다.If all or part of the
레이아웃 시스템(100)은 입력 장치(150)를 이용하여 사용자 또는 레이아웃 시스템(100) 내부/외부에 구현된 다른 장치로부터 레이아웃 관련 데이터를 수신할 수 있고, 출력 장치(60)를 이용하여 사용자 또는 레이아웃 시스템(100) 내부/외부에 구현된 다른 장치에 레이아웃 관련 데이터, 저장 데이터, 결과 데이터 등을 전달할 수 있다.The
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 회로도이다.2A to 2C are circuit diagrams for explaining a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
도 2a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로(1)는 입력 선택 회로(input selecting circuit)(5, 10), 래치(20, 40), 피드백 인버터(30, 50), 출력 드라이버(60) 및 클럭 인버터(clock inverter)(70)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2A, the
유의할 점은, 도 2a가 입력 선택 회로(5, 10), 래치(20, 40), 피드백 인버터(30, 50), 출력 드라이버(60) 및 클럭 인버터(70)를 모두 포함하는 스캔 플립 플롭(scan flip-flop)을 도시하고는 있지만, 본 발명의 범위는 이에 제한되지 않는다는 것이다. 특히, 본 발명의 반도체 회로는, 도 2a에서 입력 선택 회로(5, 10)가 생략된 단순 플립 플롭 또는 도 2a에서 입력 선택 회로(5, 10), 래치(20) 및 피드백 인버터(30)가 생략된 단순 래치를 포함할 수 있다.Note that FIG. 2A shows a scan flip-flop ( Although a scan flip-flop) is shown, the scope of the present invention is not limited thereto. In particular, the semiconductor circuit of the present invention is a simple flip-flop in which the
입력 선택 회로(5, 10)는 데이터(D) 또는 반도체 회로에 대한 스캔 동작(scan operation)을 위한 스캔 입력 신호(scan input signal)(SI)를 입력받고, 그 중 어느 하나를 노드(N)에 제공한다. 구체적으로, 입력 선택 회로(5, 10)는 스캔 인에이블 인버터(scan enable inverter)(5) 및 멀티플렉서(multiplexer)(10)를 포함한다.The
스캔 인에이블 인버터(5)는 스캔 인에이블 신호(scan enable signal)(SE)를 입력 받고, 스캔 인에이블 신호(SE)를 반전시킨 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)를 출력한 후, 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)를 멀티플렉서(10)에 제공한다.The scan enable
멀티플렉서(10)는 스캔 인에이블 인버터(5)로부터 제공받은 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)의 값에 따라, 데이터(D) 및 스캔 입력 신호(SI) 중 어느 하나를 선택하여 노드(N)에 제공한다. 이를 위해, 멀티플렉서(10)는 트라이 스테이트 인버터(tri-state inverter)(11, 13)을 포함할 수 있다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(11)는 스캔 인에이블 신호(SE)가 로직 하이(logic high)이고 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)가 로직 로우(logic low)인 경우, 스캔 입력 신호(SI)를 반전시켜 이를 노드(N)에 출력한다. 한편, 트라이 스테이트 인버터(13)는 스캔 인에이블 신호(SE)가 로직 로우이고 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)가 로직 하이인 경우, 데이터(D)를 반전시켜 이를 노드(N)에 출력한다.The
한편, 클럭 인버터(70)는 클럭 신호(CK)를 입력받고, 클럭 신호(CK)를 반전시킨 반전 클럭 신호(CKN)를 출력한다. 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)는 래치(20, 40)에 제공된다.Meanwhile, the
래치(20)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(N)의 신호를 래치하여 노드(SA)에 전달한다. 이를 위해, 래치(20)는 트라이 스테이트 인버터(21, 23)를 포함할 수 있다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(21)는 클럭 신호(CK)가 로직 로우이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 하이인 경우, 노드(N)의 신호를 반전시켜 노드(SA)에 출력한다. 이와 달리, 트라이 스테이트 인버터(21)는 클럭 신호(CK)가 로직 하이이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 로우인 경우, 노드(SA)를 노드(N)로부터 차단시킬 수 있다.The
한편, 피드백 인버터(30)는 노드(SA)를 통해 래치(20)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(20)에 피드백 입력한다. 구체적으로 피드백 인버터(30)는, 노드(SA)에 인가된 트라이 스테이트 인버터(21)의 출력 신호를 다시 반전시킴으로써 노드(SD)에 출력되는 신호를 래치(20)에 피드백한다. 그리고 트라이 스테이트 인버터(23)는 클럭 신호(CK)가 로직 하이이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 로우인 경우, 즉, 노드(SA)가 노드(N)으로부터 차단된 경우, 피드백 인버터(30)로부터 제공받은 신호를 반전시켜 노드(SA)에 출력한다. 이에 따라, 트라이 스테이트 인버터(21)가 노드(N)로부터 래치한 신호는 클럭 신호(CK)가 로직 하이인 구간에서 동일한 값으로 유지된다. Meanwhile, the
다음으로, 래치(40)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(SA)의 신호를 래치하여 노드(SC)에 전달한다. 이를 위해, 래치(40)는 트라이 스테이트 인버터(41, 43)를 포함할 수 있다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(41)는 클럭 신호(CK)가 로직 하이이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 로우인 경우, 노드(SA)의 신호를 반전시켜 노드(SC)에 출력한다. 이와 달리, 트라이 스테이트 인버터(41)는 클럭 신호(CK)가 로직 로우이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 하이인 경우, 노드(SC)를 노드(SA)로부터 차단시킬 수 있다.Next, the
한편, 피드백 인버터(50)는 노드(SC)를 통해 래치(40)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(40)에 피드백 입력한다. 구체적으로 피드백 인버터(50)는, 노드(SC)에 제공된 트라이 스테이트 인버터(41)의 출력 신호를 다시 반전시킴으로써 노드(SB)에 출력되는 신호를 래치(40)에 피드백한다. 그리고 트라이 스테이트 인버터(43)는 클럭 신호(CK)가 로직 로우이고 반전 클럭 신호(CKN)가 로직 하이인 경우, 즉, 노드(SC)가 노드(SA)으로부터 차단된 경우, 피드백 인버터(50)로부터 제공받은 신호를 반전시켜 노드(SC)에 출력한다. 이에 따라, 트라이 스테이트 인버터(41)가 노드(SA)로부터 래치한 신호는 클럭 신호(CK)가 로직 로우인 구간에서 동일한 값으로 유지된다.Meanwhile, the
즉, 래치(20)는 클럭 신호(CK)의 상승 에지(rising edge)에서 노드(N)의 신호를 래치하여 노드(SA)에 전달하는 마스터 래치의 역할을 하고, 래치(40)는 노드(SA)에 전달된 신호를 래치하여 노드(SC)에 전달하는 슬레이브 래치의 역할을 할 수 있다.In other words, the
출력 드라이버(60)는 노드(SC)를 통해 래치(40)의 출력 신호를 입력받고 그 출력 신호를 데이터(Q)로서 외부에 출력한다. 본 실시예에서 특히 주목할 점은, 출력 드라이버(60)는 짝수 개의 인버터를 포함한다는 점이다. 즉, 출력 드라이버(60)는 예를 들어 2 개의 인버터(61, 63)를 포함할 수 있다. 이와 같이, 출력 드라이버(60)가 2 개 또는 그 이상의 짝수 개의 인버터를 포함하도록 구현함으로써, 출력 드라이버(60)의 성능을 향상시킬 수 있다.The
도 2b는 피드백 인버터(50)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 피드백 인버터(50)는 노드(SC)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(SB)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP1)와, 노드(SC)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN1)를 연결하여 구현할 수 있다.Figure 2b is a circuit diagram showing an implementation example of the
이어서 도 2c는 2 개의 인버터를 포함하는 출력 드라이버(60)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 출력 드라이버(60)는 노드(SC)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(Q)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3)와, 노드(SC)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)를 연결하여 구현할 수 있다.Next, FIG. 2C is a circuit diagram showing an example of an implementation of the
이하에서는 도 2b 및 도 2c의 구현례에 기초하여, 출력 드라이버(60)의 성능 향상을 꾀하면서도 반도체 회로(1)의 플립 플롭 또는 래치의 면적의 증가를 최소화하는 레이아웃 방법에 대해, 도 3 내지 도 5를 참조하여 설명하도록 한다.Below, based on the implementation examples of FIGS. 2B and 2C, a layout method that minimizes the increase in the area of the flip-flop or latch of the
도 3 내지 도 5는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 레이아웃도들이다.3 to 5 are layout diagrams for explaining semiconductor circuits according to various embodiments of the present invention.
도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이아웃(LO1)은 반도체 회로(1)의 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60)는 단순 래치를 형성할 수도 있고, 래치(40)의 입력에 데이터(D)를 전달하는 마스터 래치(20)와 함께 단순 플립 플롭을 형성할 수도 있다.Referring to FIG. 3, the layout LO1 according to an embodiment of the present invention may include a
본 실시예에 따른 레이아웃(LO1)에서, 래치(40)는 출력 드라이버(60)의 일측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)는 출력 드라이버(60)의 타측에 인접하도록 배치될 수 있다. 도 3에서는 래치(40)가 출력 드라이버(60)의 좌측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)가 출력 드라이버(60)의 우측에 인접하도록 배치되는 것으로 도시하였으나, 이와 달리 래치(40)가 출력 드라이버(60)의 우측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)가 출력 드라이버(60)의 좌측에 인접하도록 배치되는 것도 가능하다.In the layout LO1 according to this embodiment, the
구체적으로, 래치(40)는 노드(SA)의 신호를 래치하여 노드(SC)에 전달하는 임의의 형태로 레이아웃될 수 있다. 따라서 본 도면에서는 래치(40)의 구체적인 레이아웃 구성을 생략하고, 그 출력 단자가 노드(SC)에 제공된다는 것만 도시하였다.Specifically, the
피드백 인버터(50)는 PMOS 트랜지스터(MP1)와 NMOS 트랜지스터(MN1)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP1)는 노드(SC)의 신호가 인가되는 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 전원 전압(VDD)을 노드(SB)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN1)는 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB)에 제공한다.The
여기서 메탈(510)은 노드(SC)와 게이트 라인(GL3)을 연결하고, 메탈(512)은 PMOS 트랜지스터(MP1)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN1)의 출력을 연결한다.Here, the
출력 드라이버(60)는 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3) 및 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP2)는 노드(SC)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL3)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 전원 전압(VDD)을 노드(Q)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN2)는 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 제3 노드(Q)에 제공한다. 한편 PMOS 트랜지스터(MP3)는 노드(SC)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL2)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 전원 전압(VDD)을 노드(Q)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN3)는 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q)에 제공한다.The
여기서 메탈(610)은 노드(SC)와 게이트 라인(GL2) 및 게이트 라인(GL1)을 연결하고, 메탈(612)은 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)의 출력을 연결한다.Here, the
본 실시예에서 주목할 점은, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60)는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)(ACT1, ACT2)을 공유하도록 레이아웃된다는 점이다. 즉, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60) 사이에 더미 게이트 라인(dummy gate line) 또는 디퓨전 브레이크(diffusion break)와 같은 격리 영역(isolation)이 존재하지 않아, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60)의 액티브 영역(ACT1, ACT2)이 전기적 단절 없이 연결된다. Of note in this embodiment is that the
또 하나 주목할 점은, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60)가 파워 컨택을 공유한다는 점이다.Another thing to note is that the
구체적으로, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO1)은, 래치(40)와 출력 드라이버(60) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 포함한다. 그리고 래치(40)와 출력 드라이버(60)는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다.Specifically, the layout LO1 according to this embodiment includes a VDD power contact (P1) and a VSS power contact (P2) disposed between the
또한, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO1)은, 출력 드라이버(60)와 피드백 인버터(50) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 포함한다. 그리고 출력 드라이버(60)와 피드백 인버터(50)는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다.Additionally, the layout LO1 according to this embodiment includes a VDD power contact (P3) and a VSS power contact (P4) disposed between the
일반적으로 출력 드라이버(60)의 인버터의 개수를 1 개에서 2 개로 늘리면 면적이 1 피치(pitch)만큼 증가하게 되나, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO1)의 경우 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4)에 걸쳐 생성되는 DDB(double diffusion break)를 이용하는 공정의 경우 2 피치가 감소하는 효과가 발행한다. 즉, 출력 드라이버(60)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60) 전체의 면적은 1 피치 감소하는 효과를 얻을 수 있다.Generally, when the number of inverters of the
도 4를 참조하면, 본 실시예는 도 3의 실시예와 달리. 게이트 라인(GL4)에 SDB(single diffusion break)를 생성하는 공정에서 사용되는 레이아웃(LO2)을 나타낸다는 점이다.Referring to Figure 4, this embodiment is different from the embodiment of Figure 3. It indicates the layout (LO2) used in the process of creating a single diffusion break (SDB) in the gate line (GL4).
이에 따라, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO2)의 경우 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4)에 걸쳐 생성되는 SDB(single diffusion break)를 이용하는 공정의 경우 1 피치가 감소하는 효과가 발생한다. 즉, 출력 드라이버(60)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40), 피드백 인버터(50) 및 출력 드라이버(60) 전체의 면적은 증감없이 그대로 유지되는 효과를 얻을 수 있다.Accordingly, in the case of the layout LO2 according to this embodiment, an isolation area is not created between the
도 5를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이아웃(LO3)은 1 비트 플립 플롭을 나타낸다.Referring to FIG. 5, the layout LO3 according to an embodiment of the present invention represents a 1-bit flip-flop.
본 실시예에 따른 레이아웃(LO3)에서, 스캔 인에이블 인버터(5), 멀티플렉서(10), 래치(20), 피드백 인버터(30) 및 클럭 인버터(70)가 순차적으로 배치될 수 있다. 이어서 래치(40), 출력 드라이버(60) 및 피드백 인버터(50)가 순차적으로 배치될 수 있다.In the layout LO3 according to this embodiment, the scan enable
즉, 래치(40)는 출력 드라이버(60)의 일측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)는 출력 드라이버(60)의 타측에 인접하도록 배치될 수 있다. 도 5에서는 래치(40)가 출력 드라이버(60)의 좌측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)가 출력 드라이버(60)의 우측에 인접하도록 배치되는 것으로 도시하였으나, 이와 달리 래치(40)가 출력 드라이버(60)의 우측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50)가 출력 드라이버(60)의 좌측에 인접하도록 배치되는 것도 가능하다.That is, the
이와 같은 배치에 따라, 앞서 설명한 것과 같이, 출력 드라이버(60)의 성능을 향상시키면서도, 플립 플롭의 레이아웃 면적의 증가가 없거나 최소화되도록 하는 것이 가능하다. According to this arrangement, as described above, it is possible to improve the performance of the
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 회로도이다.6A to 6E are circuit diagrams for explaining a semiconductor circuit according to an embodiment of the present invention.
도 6a를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 회로(2)는 입력 선택 회로(5, 10a, 10b), 래치(20a, 20b, 40a, 40b), 피드백 인버터(30a, 30b, 50a, 50b), 출력 드라이버(60a, 60b) 및 클럭 인버터(70)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 6A, the semiconductor circuit 2 according to an embodiment of the present invention includes an input selection circuit (5, 10a, 10b), a latch (20a, 20b, 40a, 40b), and a feedback inverter (30a, 30b, 50a). , 50b),
유의할 점은, 도 6a가 입력 선택 회로(5, 10a, 10b), 래치(20a, 20b, 40a, 40b), 피드백 인버터(30a, 30b, 50a, 50b), 출력 드라이버(60a, 60b) 및 클럭 인버터(70)를 모두 포함하는 멀티비트(multibit) 스캔 플립 플롭을 도시하고는 있지만, 본 발명의 범위는 이에 제한되지 않는다는 것이다. 특히, 본 발명의 반도체 회로는, 도 6a에서 입력 선택 회로(5, 10a, 10b)가 생략된 단순 멀티비트 플립 플롭 또는 도 6a에서 입력 선택 회로(5, 10a, 10b), 래치(20a, 20b) 및 피드백 인버터(30a, 30b)가 생략된 단순 멀티비트 래치를 포함할 수 있다.Note that Figure 6a shows input select circuits (5, 10a, 10b), latches (20a, 20b, 40a, 40b), feedback inverters (30a, 30b, 50a, 50b), output drivers (60a, 60b), and clock Although a multibit scan flip-flop including all the
입력 선택 회로(5, 10a, 10b)는 데이터(D0, D1) 또는 반도체 회로에 대한 스캔 동작을 위한 스캔 입력 신호(SI0, SI1)를 입력받고, 그 중 어느 하나를 노드(N0, N1)에 제공한다. 구체적으로, 입력 선택 회로(5, 10a, 10b)는 스캔 인에이블 인버터(5) 및 멀티플렉서(10a, 10b)를 포함한다.The
스캔 인에이블 인버터(5)는 스캔 인에이블 신호(SE)를 입력 받고, 스캔 인에이블 신호(SE)를 반전시킨 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)를 출력한 후, 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)를 멀티플렉서(10a, 10b)에 제공한다.The scan enable inverter (5) receives the scan enable signal (SE), outputs an inverted scan enable signal (SEN) by inverting the scan enable signal (SE), and then outputs an inverted scan enable signal (SEN). is provided to the
멀티플렉서(10a)는 스캔 인에이블 인버터(5)로부터 제공받은 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)의 값에 따라, 제1 비트 데이터(D0) 및 제1 스캔 입력 신호(SI0) 중 어느 하나를 선택하여 노드(N0)에 제공한다. 그리고 멀티플렉서(10b)는 스캔 인에이블 인버터(5)로부터 제공받은 반전 스캔 인에이블 신호(SEN)의 값에 따라, 제2 비트 데이터(D1) 및 제2 스캔 입력 신호(SI1) 중 어느 하나를 선택하여 노드(N1)에 제공한다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(11a, 11b, 13a, 13b)는 도 2a에서 설명한 트라이 스테이트 인버터(11, 13)와 유사한 방식으로 동작하므로, 중복되는 설명은 생략하도록 한다.The
한편, 클럭 인버터(70)는 클럭 신호(CK)를 입력받고, 클럭 신호(CK)를 반전시킨 반전 클럭 신호(CKN)를 출력한다. 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)는 래치(20a, 20b, 40a, 40b)에 제공된다.Meanwhile, the
래치(20a)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(N0)의 신호를 래치하여 노드(SA0)에 전달한다. 한편, 피드백 인버터(30a)는 노드(SA0)를 통해 래치(20a)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(20a)에 피드백 입력한다. 그리고 래치(20b)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(N1)의 신호를 래치하여 노드(SA1)에 전달한다. 한편, 피드백 인버터(30b)는 노드(SA1)를 통해 래치(20b)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(20b)에 피드백 입력한다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(21a, 21b, 23a, 23b)는 도 2a에서 설명한 트라이 스테이트 인버터(21, 23)와 유사한 방식으로 동작하므로, 중복되는 설명은 생략하도록 한다.The
다음으로, 래치(40a)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(SA0)의 신호를 래치하여 노드(SC0)에 전달한다. 한편, 피드백 인버터(50a)는 노드(SC0)를 통해 래치(40a)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(40a)에 피드백 입력한다. 그리고 래치(40b)는 클럭 신호(CK) 및 반전 클럭 신호(CKN)에 기초하여 노드(SA1)의 신호를 래치하여 노드(SC1)에 전달한다. 한편, 피드백 인버터(50b)는 노드(SC1)를 통해 래치(40b)의 출력 신호를 입력받고, 그 출력 신호를 래치(40b)에 피드백 입력한다. 여기서, 트라이 스테이트 인버터(41a, 41b, 43a, 43b)는 도 2a에서 설명한 트라이 스테이트 인버터(41, 43)와 유사한 방식으로 동작하므로, 중복되는 설명은 생략하도록 한다.Next, the
즉, 래치(20a, 20b)는 클럭 신호(CK)의 상승 에지에서 노드(N0, N1)의 신호를 각각 래치하여 노드(SA0, SA1)에 각각 전달하는 마스터 래치의 역할을 하고, 래치(40a, 40b)는 노드(SA0, SA1)에 전달된 신호를 각각 래치하여 노드(SC0, SC1)에 각각 전달하는 슬레이브 래치의 역할을 할 수 있다.That is, the
출력 드라이버(60a)는 노드(SC0)를 통해 래치(40a)의 출력 신호를 입력받고 그 출력 신호를 데이터(Q0)로서 외부에 출력한다. 본 실시예에서 특히 주목할 점은, 출력 드라이버(60a)는 짝수 개의 인버터를 포함한다는 점이다. 즉, 출력 드라이버(60a)는 예를 들어 2 개의 인버터(61a, 63a)를 포함할 수 있다. 이와 같이, 출력 드라이버(60a)가 2 개 또는 그 이상의 짝수 개의 인버터를 포함하도록 구현함으로써, 출력 드라이버(60a)의 성능을 향상시킬 수 있다.The
그리고 출력 드라이버(60b)는 노드(SC1)를 통해 래치(40b)의 출력 신호를 입력받고 그 출력 신호를 데이터(Q1)로서 외부에 출력한다. 본 실시예에서 특히 주목할 점은, 출력 드라이버(60b)는 짝수 개의 인버터를 포함한다는 점이다. 즉, 출력 드라이버(60b)는 예를 들어 2 개의 인버터(61b, 63b)를 포함할 수 있다. 이와 같이, 출력 드라이버(60b)가 2 개 또는 그 이상의 짝수 개의 인버터를 포함하도록 구현함으로써, 출력 드라이버(60b)의 성능을 향상시킬 수 있다.And the
도 6b는 피드백 인버터(50a)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 피드백 인버터(50a)는 노드(SC0)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(SB0)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP1)와, 노드(SC0)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB0)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN1)를 연결하여 구현할 수 있다.Figure 6b is a circuit diagram showing an example of implementation of the
이어서 도 6c는 2 개의 인버터를 포함하는 출력 드라이버(60a)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 출력 드라이버(60a)는 노드(SC0)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(Q0)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3)와, 노드(SC0)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q0)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)를 연결하여 구현할 수 있다.Next, FIG. 6C is a circuit diagram showing an example of an implementation of the
이어서 도 6d는 피드백 인버터(50b)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 피드백 인버터(50b)는 노드(SC1)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(SB1)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP4)와, 노드(SC1)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB1)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN4)를 연결하여 구현할 수 있다.Next, FIG. 6D is a circuit diagram showing an example of implementation of the
이어서 도 6c는 2 개의 인버터를 포함하는 출력 드라이버(60b)의 일 구현례를 나타낸 회로도이다. 본 도면에서, 출력 드라이버(60b)는 노드(SC1)의 전압 레벨에 게이팅되어 전원 전압(VDD)을 노드(Q1)에 제공하는 PMOS 트랜지스터(MP5, MP6)와, 노드(SC1)의 전압 레벨에 게이팅되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q1)에 제공하는 NMOS 트랜지스터(MN5, MN6)를 연결하여 구현할 수 있다.Next, FIG. 6C is a circuit diagram showing an example of an implementation of the
이하에서는 도 6b 내지 도 6e의 구현례에 기초하여, 출력 드라이버(60a, 60b)의 성능 향상을 꾀하면서도 반도체 회로(2)의 플립 플롭 또는 래치의 면적의 증가를 최소화하는 레이아웃 방법에 대해, 도 7 내지 도 11을 참조하여 설명하도록 한다.Hereinafter, based on the implementation examples of FIGS. 6B to 6E, a layout method that minimizes the increase in the area of the flip-flop or latch of the semiconductor circuit 2 while seeking to improve the performance of the
도 7 내지 도 11은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 반도체 회로를 설명하기 위한 레이아웃도들이다.7 to 11 are layout diagrams for explaining semiconductor circuits according to various embodiments of the present invention.
도 7을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이아웃(LO4)은 반도체 회로(2)의 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서, 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b)는 단순 멀티비트 래치를 형성할 수도 있고, 래치(40a, 40b)의 입력에 데이터(D0, D1)를 전달하는 마스터 래치(20a, 20b)와 함께 단순 멀티비트 플립 플롭을 형성할 수도 있다.Referring to FIG. 7, the layout LO4 according to an embodiment of the present invention may include
본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)에서, 래치(40a, 40b)는 출력 드라이버(60a, 60b)의 일측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)는 출력 드라이버(60a, 60b)의 타측에 인접하도록 배치될 수 있다. 도 7에서는 래치(40a, 40b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 좌측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 우측에 인접하도록 배치되는 것으로 도시하였으나, 이와 달리 래치(40a, 40b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 우측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 좌측에 인접하도록 배치되는 것도 가능하다.In the layout LO4 according to this embodiment, the
구체적으로, 래치(40a, 40b)는 노드(SA0, SA1)의 신호를 래치하여 노드(SC0, SC1)에 전달하는 임의의 형태로 레이아웃될 수 있다. 따라서 본 도면에서는 래치(40a, 40b)의 구체적인 레이아웃 구성을 생략하고, 그 출력 단자가 노드(SC0, SC1)에 제공된다는 것만 도시하였다.Specifically, the
피드백 인버터(50a)는 PMOS 트랜지스터(MP1)와 NMOS 트랜지스터(MN1)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP1)는 노드(SC0)의 신호가 인가되는 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(SB0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN1)는 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB0)에 제공한다.The
여기서 메탈(510)은 노드(SC0)와 게이트 라인(GL3)을 연결하고, 메탈(512)은 PMOS 트랜지스터(MP1)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN1)의 출력을 연결한다.Here, the
그리고 피드백 인버터(50b)는 NMOS 트랜지스터(MN4)와 PMOS 트랜지스터(MP4)를 포함한다. NMOS 트랜지스터(MN4)는 노드(SC1)의 신호가 인가되는 게이트 라인(GL7) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP4)는 게이트 라인(GL7) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(SB1)에 제공한다.And the
여기서 메탈(514)은 노드(SC1)와 게이트 라인(GL7)을 연결하고, 메탈(516)은 NMOS 트랜지스터(MN1)의 출력과 PMOS 트랜지스터(MP1)의 출력을 연결한다.Here, the
출력 드라이버(60a)는 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3) 및 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP2)는 노드(SC0)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL3)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(Q0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN2)는 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q)에 제공한다. 한편 PMOS 트랜지스터(MP3)는 노드(SC0)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL2)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(Q0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN3)는 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q0)에 제공한다.The
여기서 메탈(610)은 노드(SC0)와 게이트 라인(GL2) 및 게이트 라인(GL1)을 연결하고, 메탈(612)은 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)의 출력을 연결한다.Here, the
그리고 출력 드라이버(60b)는 NMOS 트랜지스터(MN5, MN6) 및 PMOS 트랜지스터(MP5, MP6)를 포함한다. NMOS 트랜지스터(MN5)는 노드(SC1)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL7)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL6) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP5)는 게이트 라인(GL6) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(Q1)에 제공한다. 한편 NMOS 트랜지스터(MN6)는 노드(SC1)의 신호가 인가되되 상기 게이트 라인(GL6)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL5) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP6)는 게이트 라인(GL5) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(Q1)에 제공한다.And the
여기서 메탈(614)은 노드(SC1)와 게이트 라인(GL6) 및 게이트 라인(GL5)을 연결하고, 메탈(616)은 NMOS 트랜지스터(MN5, MN6)의 출력과 PMOS 트랜지스터(MP5, MP6)의 출력을 연결한다.Here, the
본 실시예에서 주목할 점은, 래치(40a), 피드백 인버터(50a) 및 출력 드라이버(60a)는 연속적으로 형성된 단일 액티브 영역(ACT11, ACT12)을 공유하고, 래치(40b), 피드백 인버터(50b) 및 출력 드라이버(60b)는 연속적으로 형성된 단일 액티브 영역(ACT21, ACT22)을 공유도록 레이아웃된다는 점이다.What is noteworthy in this embodiment is that the
또 하나 주목할 점은, 래치(40a), 피드백 인버터(50a) 및 출력 드라이버(60a)가 파워 컨택을 공유한다는 점이다. 즉, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)은, 래치(40a)와 출력 드라이버(60a) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 포함한다. 그리고 래치(40a)와 출력 드라이버(60a)는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD1) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다. 또한, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)은, 출력 드라이버(60a)와 피드백 인버터(50a) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 포함한다. 그리고 출력 드라이버(60a)와 피드백 인버터(50a)는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD1) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다.Another thing to note is that the
그리고 래치(40b), 피드백 인버터(50b) 및 출력 드라이버(60b) 역시 파워 컨택을 공유한다. 즉, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)은, 래치(40b)와 출력 드라이버(60b) 사이에 배치되는 VSS 파워 컨택(P2) 및 VDD 파워 컨택(P5)을 포함한다. 그리고 래치(40b)와 출력 드라이버(60b)는 VSS 파워 컨택(P2) 및 VDD 파워 컨택(P5)을 통해 각각 인가되는 접지 전압(VSS) 및 전원 전압(VDD2)을 공유한다. 또한, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)은, 출력 드라이버(60b)와 피드백 인버터(50b) 사이에 배치되는 VSS 파워 컨택(P4) 및 VDD 파워 컨택(P6)을 포함한다. 그리고 출력 드라이버(60b)와 피드백 인버터(50b)는 VSS 파워 컨택(P4) 및 VDD 파워 컨택(P6)을 통해 각각 인가되는 접지 전압(VSS) 및 전원 전압(VDD2)을 공유한다.And the
본 실시예에 따른 레이아웃(LO4)의 경우 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4, GL8)에 걸쳐 생성되는 DDB를 이용하는 공정의 경우 2 피치가 감소하는 효과가 발행한다. 즉, 출력 드라이버(60a, 60b)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 전체의 면적은 1 피치 감소하는 효과를 얻을 수 있다.In the case of the layout (LO4) according to this embodiment, an isolation area is not created between the latches (40a, 40b), the feedback inverters (50a, 50b), and the output drivers (60a, 60b), so that the gate lines (GL4, GL8) In the case of a process using DDB generated over 2, the effect of reducing the pitch occurs. In other words, even though the area of the output drivers (60a, 60b) increases by 1 pitch, the area of the latches (40a, 40b), feedback inverters (50a, 50b), and output drivers (60a, 60b) as a whole decreases by 1 pitch. You can.
도 8을 참조하면, 본 실시예는 도 7의 실시예와 달리. 게이트 라인(GL4, GL8)에 각각 SDB1, SDB2를 생성하는 공정에서 사용되는 레이아웃(LO5)을 나타낸다는 점이다.Referring to FIG. 8, this embodiment is different from the embodiment of FIG. 7. It indicates the layout (LO5) used in the process of generating SDB1 and SDB2 on the gate lines (GL4 and GL8), respectively.
이에 따라, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO5)의 경우 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4, GL8)에 걸쳐 생성되는 SDB1, SDB2를 이용하는 공정의 경우 1 피치가 감소하는 효과가 발행한다. 즉, 출력 드라이버(60a, 60b)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 전체의 면적은 증감없이 그대로 유지되는 효과를 얻을 수 있다.Accordingly, in the case of the layout LO5 according to this embodiment, an isolation area is not created between the
도 9를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이아웃(LO6)이, 도 7의 레이아웃(LO4)과 다른 점은, 피드백 인버터(50a, 50b)가 래치(40a, 40b)의 일측에 인접하도록 배치되고, 출력 드라이버(60a, 60b)가 래치(40a, 40b)의 타측에 인접하도록 배치될 수 있다는 점이다. 도 9에서는 피드백 인버터(50a, 50b)가 래치(40a, 40b)의 좌측에 인접하도록 배치되고, 출력 드라이버(60a, 60b)가 래치(40a, 40b)의 우측에 인접하도록 배치되는 것으로 도시하였으나, 이와 달리 피드백 인버터(50a, 50b)가 래치(40a, 40b)의 우측에 인접하도록 배치되고, 출력 드라이버(60a, 60b)가 래치(40a, 40b)의 좌측에 인접하도록 배치되는 것도 가능하다.Referring to FIG. 9, the layout LO6 according to an embodiment of the present invention is different from the layout LO4 of FIG. 7 in that the
피드백 인버터(50a)는 PMOS 트랜지스터(MP1)와 NMOS 트랜지스터(MN1)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP1)는 노드(SC0)의 신호가 인가되되 래치(40)의 일측에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(SB0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN1)는 게이트 라인(GL1) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB0)에 제공한다.The
여기서 메탈(510)은 노드(SC0)와 게이트 라인(GL1)을 연결하고, 메탈(512)은 PMOS 트랜지스터(MP1)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN1)의 출력을 연결한다.Here, the
그리고 피드백 인버터(50b)는 NMOS 트랜지스터(MN4)와 PMOS 트랜지스터(MP4)를 포함한다. NMOS 트랜지스터(MN4)는 노드(SC1)의 신호가 인가되되 래치(40b)의 일측에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL5) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(SB1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP4)는 게이트 라인(GL5) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(SB1)에 제공한다.And the
여기서 메탈(514)은 노드(SC1)와 게이트 라인(GL5)을 연결하고, 메탈(516)은 NMOS 트랜지스터(MN4)의 출력과 PMOS 트랜지스터(MP4)의 출력을 연결한다.Here, the
출력 드라이버(60a)는 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3) 및 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)를 포함한다. PMOS 트랜지스터(MP2)는 노드(SC0)의 신호가 인가되되 래치(40)의 타측에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(Q0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN2)는 게이트 라인(GL2) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 상기 노드(Q0)에 제공한다. 한편 PMOS 트랜지스터(MP3)는 노드(SC0)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL2)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 전원 전압(VDD1)을 노드(Q0)에 제공한다. 그리고 NMOS 트랜지스터(MN3)는 게이트 라인(GL3) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q0)에 제공한다.The
여기서 메탈(610)은 노드(SC0)와 게이트 라인(GL2) 및 게이트 라인(GL3)을 연결하고, 메탈(612)은 PMOS 트랜지스터(MP2, MP3)의 출력과 NMOS 트랜지스터(MN2, MN3)의 출력을 연결한다.Here, the
그리고 출력 드라이버(60b)는 NMOS 트랜지스터(MN5, MN6) 및 PMOS 트랜지스터(MP5, MP6)를 포함한다. NMOS 트랜지스터(MN5)는 노드(SC1)의 신호가 인가되되 래치(40b)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL6) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP5)는 게이트 라인(GL6) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(Q1)에 제공한다. 한편 NMOS 트랜지스터(MN6)는 노드(SC1)의 신호가 인가되되 게이트 라인(GL6)에 인접하여 형성된 게이트 라인(GL7) 상에 형성되어 접지 전압(VSS)을 노드(Q1)에 제공한다. 그리고 PMOS 트랜지스터(MP6)는 게이트 라인(GL7) 상에 형성되어 전원 전압(VDD2)을 노드(Q1)에 제공한다.And the
여기서 메탈(614)은 노드(SC1)와 게이트 라인(GL6) 및 게이트 라인(GL7)을 연결하고, 메탈(616)은 NMOS 트랜지스터(MN5, MN6)의 출력과 PMOS 트랜지스터(MP5, MP6)의 출력을 연결한다.Here, the
본 실시예에서 주목할 점은, 래치(40a), 피드백 인버터(50a) 및 출력 드라이버(60a)는 연속적으로 형성된 단일 액티브 영역(ACT11, ACT12)을 공유하고, 래치(40b), 피드백 인버터(50b) 및 출력 드라이버(60b)는 연속적으로 형성된 단일 액티브 영역(ACT21, ACT22)을 공유도록 레이아웃된다는 점이다.What is noteworthy in this embodiment is that the
또 하나 주목할 점은, 래치(40a), 피드백 인버터(50a) 및 출력 드라이버(60a)가 파워 컨택을 공유한다는 점이다. 즉, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO6)은, 피드백 인버터(50a)와 래치(40a) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 포함한다. 그리고 피드백 인버터(50a)와 래치(40a)는 는 VDD 파워 컨택(P1) 및 VSS 파워 컨택(P2)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD1) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다. 또한, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO6)은, 래치(40a)와 출력 드라이버(60a) 사이에 배치되는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 포함한다. 그리고 래치(40a)와 출력 드라이버(60a)는 VDD 파워 컨택(P3) 및 VSS 파워 컨택(P4)을 통해 각각 인가되는 전원 전압(VDD1) 및 접지 전압(VSS)을 공유한다.Another thing to note is that the
그리고 래치(40b), 피드백 인버터(50b) 및 출력 드라이버(60b) 역시 파워 컨택을 공유한다. 즉, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO6)은, 피드백 인버터(50b)와 래치(40b) 사이에 배치되는 VSS 파워 컨택(P2) 및 VDD 파워 컨택(P5)을 포함한다. 그리고 피드백 인버터(50b)와 래치(40b)는 VSS 파워 컨택(P2) 및 VDD 파워 컨택(P5)을 통해 각각 인가되는 접지 전압(VSS) 및 전원 전압(VDD2)을 공유한다. 또한, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO6)은, 래치(40b)와 출력 드라이버(60b) 사이에 배치되는 VSS 파워 컨택(P4) 및 VDD 파워 컨택(P6)을 포함한다. 그리고 래치(40b)와 출력 드라이버(60b)는 VSS 파워 컨택(P4) 및 VDD 파워 컨택(P6)을 통해 각각 인가되는 접지 전압(VSS) 및 전원 전압(VDD2)을 공유한다.And the
본 실시예에 따른 레이아웃(LO6)의 경우 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4, GL8)에 걸쳐 생성되는 DDB를 이용하는 공정의 경우 2 피치가 감소하는 효과가 발행한다. 즉, 출력 드라이버(60a, 60b)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 전체의 면적은 1 피치 감소하는 효과를 얻을 수 있다.In the case of the layout (LO6) according to this embodiment, an isolation area is not created between the latches (40a, 40b), the feedback inverters (50a, 50b), and the output drivers (60a, 60b), so that the gate lines (GL4, GL8) In the case of a process using DDB generated over 2, the effect of reducing the pitch occurs. In other words, even though the area of the output drivers (60a, 60b) increases by 1 pitch, the area of the latches (40a, 40b), feedback inverters (50a, 50b), and output drivers (60a, 60b) as a whole decreases by 1 pitch. You can.
도 10을 참조하면, 본 실시예는 도 8의 실시예와 달리. 게이트 라인(GL4, GL8)에 각각 SDB1, SDB2를 생성하는 공정에서 사용되는 레이아웃(LO7)을 나타낸다는 점이다.Referring to FIG. 10, this embodiment is different from the embodiment of FIG. 8. It indicates the layout (LO7) used in the process of generating SDB1 and SDB2 on the gate lines (GL4 and GL8), respectively.
이에 따라, 본 실시예에 따른 레이아웃(LO7)의 경우 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 사이에 격리 영역이 생성되지 않도록 하여, 게이트 라인(GL4, GL8)에 걸쳐 생성되는 SDB1, SDB2를 이용하는 공정의 경우 1 피치가 감소하는 효과가 발행한다. 즉, 출력 드라이버(60a, 60b)의 면적이 1 피치 증가하였음에도, 래치(40a, 40b), 피드백 인버터(50a, 50b) 및 출력 드라이버(60a, 60b) 전체의 면적은 증감없이 그대로 유지되는 효과를 얻을 수 있다.Accordingly, in the case of the layout LO7 according to this embodiment, an isolation area is not created between the
도 11를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이아웃(LO8)은 2 비트 플립 플롭을 나타낸다.Referring to FIG. 11, the layout LO8 according to an embodiment of the present invention represents a 2-bit flip-flop.
본 실시예에 따른 레이아웃(LO8)에서, 제1행에는 스캔 인에이블 인버터(5), 멀티플렉서(10a), 래치(20a), 피드백 인버터(30a), 래치(40a), 출력 드라이버(60a) 및 피드백 인버터(50a)가 순차적으로 배치될 수 있다. 이어서 제2행에는 클럭 인버터(70), 멀티플렉서(10b), 래치(20b), 피드백 인버터(30b), 래치(40b), 출력 드라이버(60b) 및 피드백 인버터(50b)가 순차적으로 배치될 수 있다.In the layout LO8 according to this embodiment, the first row includes a scan enable
즉, 래치(40a, 40b)는 출력 드라이버(60a, 60b)의 일측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)는 출력 드라이버(60a, 60b)의 타측에 인접하도록 배치될 수 있다. 도 11에서는 래치(40a, 40b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 좌측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 우측에 인접하도록 배치되는 것으로 도시하였으나, 이와 달리 래치(40a, 40b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 우측에 인접하도록 배치되고, 피드백 인버터(50a, 50b)가 출력 드라이버(60a, 60b)의 좌측에 인접하도록 배치되는 것도 가능하다.That is, the
나아가, 피드백 인버터(50a, 50b)는 래치(40a, 40b)의 일측에 인접하도록 배치되고, 출력 드라이버(60a, 60b)는 래치(40a, 40b)의 타측에 인접하도록 배치될 수도 있다.Furthermore, the
이와 같은 배치에 따라, 앞서 설명한 것과 같이, 출력 드라이버(60)의 성능을 향상시키면서도, 플립 플롭의 레이아웃 면적의 증가가 없거나 최소화되도록 하는 것이 가능하다.According to this arrangement, as described above, it is possible to improve the performance of the
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the attached drawings, the present invention is not limited to the above embodiments and can be manufactured in various different forms, and can be manufactured in various different forms by those skilled in the art. It will be understood by those who understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing its technical spirit or essential features. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive.
1, 2: 반도체 회로 5: 스캔 인에이블 인버터
10, 10a, 10b: 멀티플렉서 20, 20a, 20b, 40, 40a, 40b: 래치
30, 30a, 30b, 50, 50a, 50b: 피드백 인버터
60, 60a, 60b: 출력 드라이버 70: 클럭 인버터
100: 레이아웃 시스템 110: 프로세서
120: 메모리 130: 스토리지
140: 레이아웃 모듈 150: 입력 장치
160: 출력 장치1, 2: Semiconductor circuit 5: Scan enable inverter
10, 10a, 10b:
30, 30a, 30b, 50, 50a, 50b: Feedback inverter
60, 60a, 60b: Output driver 70: Clock inverter
100: layout system 110: processor
120: memory 130: storage
140: Layout module 150: Input device
160: output device
Claims (20)
제1 노드를 통해 상기 래치의 출력 신호를 입력받아 상기 출력 신호를 상기 래치에 피드백(feedback) 입력하는 피드백 인버터(inverter); 및
상기 제1 노드를 통해 상기 래치의 출력 신호를 입력받아 상기 출력 신호를 외부에 출력하는 출력 드라이버(output driver)를 포함하고,
상기 출력 드라이버는 짝수 개의 인버터를 포함하고,
상기 래치, 상기 피드백 인버터 및 상기 출력 드라이버는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃(layout)되는 반도체 회로.latch;
a feedback inverter that receives the output signal of the latch through a first node and inputs the output signal as feedback to the latch; and
An output driver that receives the output signal of the latch through the first node and outputs the output signal to the outside,
The output driver includes an even number of inverters,
A semiconductor circuit wherein the latch, the feedback inverter, and the output driver are laid out so that they share a single integrally formed active region.
상기 반도체 회로의 레이아웃에서, 상기 래치는 상기 출력 드라이버의 일측에 인접하도록 배치되고, 상기 피드백 인버터는 상기 출력 드라이버의 타측에 인접하도록 배치되는 반도체 회로.According to paragraph 1,
In the layout of the semiconductor circuit, the latch is disposed adjacent to one side of the output driver, and the feedback inverter is disposed adjacent to the other side of the output driver.
상기 반도체 회로의 레이아웃은, 상기 래치와 상기 출력 드라이버 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 더 포함하고,
상기 래치와 상기 출력 드라이버는 상기 제1 VDD 파워 컨택 및 상기 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 공유하는 반도체 회로.According to paragraph 2,
The layout of the semiconductor circuit further includes a first VDD power contact and a first VSS power contact disposed between the latch and the output driver,
The latch and the output driver share a power voltage and a ground voltage respectively applied through the first VDD power contact and the first VSS power contact.
상기 반도체 회로의 레이아웃은, 상기 출력 드라이버와 상기 피드백 인버터 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 더 포함하고,
상기 출력 드라이버와 상기 피드백 인버터는 상기 제2 VDD 파워 컨택 및 상기 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 공유하는 반도체 회로.According to paragraph 2,
The layout of the semiconductor circuit further includes a second VDD power contact and a second VSS power contact disposed between the output driver and the feedback inverter,
The output driver and the feedback inverter share a power voltage and a ground voltage respectively applied through the second VDD power contact and the second VSS power contact.
상기 반도체 회로의 레이아웃에서, 상기 피드백 인버터는 상기 래치의 일측에 인접하도록 배치되고, 상기 출력 드라이버는 상기 래치의 타측에 인접하도록 배치되는 반도체 회로.According to paragraph 1,
In the layout of the semiconductor circuit, the feedback inverter is disposed adjacent to one side of the latch, and the output driver is disposed adjacent to the other side of the latch.
상기 반도체 회로의 레이아웃은, 상기 피드백 인버터와 상기 래치 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 더 포함하고,
상기 피드백 인버터와 상기 래치는 상기 제1 VDD 파워 컨택 및 상기 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 공유하는 반도체 회로.According to clause 5,
The layout of the semiconductor circuit further includes a first VDD power contact and a first VSS power contact disposed between the feedback inverter and the latch,
The feedback inverter and the latch share a power voltage and a ground voltage respectively applied through the first VDD power contact and the first VSS power contact.
상기 반도체 회로의 레이아웃은, 상기 래치와 상기 출력 드라이버 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 더 포함하고,
상기 래치와 상기 출력 드라이버는 상기 제2 VDD 파워 컨택 및 상기 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 공유하는 반도체 회로.According to clause 5,
The layout of the semiconductor circuit further includes a second VDD power contact and a second VSS power contact disposed between the latch and the output driver,
The latch and the output driver share a power voltage and a ground voltage respectively applied through the second VDD power contact and the second VSS power contact.
상기 래치는 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 래치 및 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 래치를 포함하고,
상기 피드백 인버터는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 피드백 인버터 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 피드백 인버터를 포함하고,
상기 출력 드라이버는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 출력 드라이버 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 출력 드라이버를 포함하고,
상기 단일 액티브 영역은, 상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터 및 상기 제1 출력 드라이버가 공유하는 제1 단일 액티브 영역 및 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버가 공유하는 제2 단일 액티브 영역을 포함하고,
상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 래치(multibit latch)를 형성하는 반도체 회로.According to paragraph 1,
The latch includes a first latch operating on first bit data and a second latch operating on second bit data,
The feedback inverter includes a first feedback inverter operating on the first bit data and a second feedback inverter operating on the second bit data,
The output driver includes a first output driver operating on the first bit data and a second output driver operating on the second bit data,
The single active area includes a first single active area shared by the first latch, the first feedback inverter, and the first output driver, and a first single active area shared by the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver. comprising a second single active region,
The first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver form a multibit latch.
상기 제1 래치의 입력에 상기 제1 비트 데이터를 전달하는 제1 마스터 래치 및 상기 제2 래치의 입력에 상기 제2 비트 데이터를 전달하는 제2 마스터 래치를 더 포함하고,
상기 제1 마스터 래치, 상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 마스터 래치, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 플립 플롭(multibit flip-flop)을 형성하는 반도체 회로.According to clause 8,
Further comprising a first master latch transmitting the first bit data to the input of the first latch and a second master latch transmitting the second bit data to the input of the second latch,
The first master latch, the first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second master latch, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver are multi-bit flip-flops. A semiconductor circuit that forms a (multibit flip-flop).
상기 제1 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제2 노드에 제공하는 제1 NMOS 트랜지스터(MN1)를 포함하는 피드백 인버터(feedback inverter); 및
상기 제1 노드의 신호가 인가되되 상기 제1 게이트 라인에 인접하여 형성된 제2 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 PMOS 트랜지스터,
상기 제2 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제2 NMOS 트랜지스터,
상기 제1 노드의 신호가 인가되되 상기 제2 게이트 라인에 인접하여 형성된 제3 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제3 PMOS 트랜지스터 및
상기 제3 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제3 NMOS 트랜지스터(MN3)를 포함하는 출력 드라이버(output driver) 를 포함하고,
상기 출력 드라이버는,
상기 제1 노드의 신호를 상기 제2 노드를 통해 피드백 입력으로 수신하는 래치와 상기 출력 드라이버 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 상기 래치와 공유하고,
상기 피드백 인버터와 상기 출력 드라이버 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 상기 피드백 인버터와 공유하는 반도체 회로.a first PMOS transistor formed on a first gate line to which a signal from the first node is applied and providing a power supply voltage to the second node;
a feedback inverter including a first NMOS transistor (MN1) formed on the first gate line and providing a ground voltage to the second node; and
A second PMOS transistor to which a signal from the first node is applied and formed on a second gate line formed adjacent to the first gate line to provide a power voltage to a third node,
A second NMOS transistor formed on the second gate line to provide a ground voltage to the third node,
A third PMOS transistor to which the signal from the first node is applied and formed on a third gate line formed adjacent to the second gate line to provide a power supply voltage to the third node; and
An output driver including a third NMOS transistor (MN3) formed on the third gate line to provide a ground voltage to the third node,
The output driver is,
The power voltage and the ground voltage respectively applied through the first VDD power contact and the first VSS power contact disposed between the latch that receives the signal of the first node as a feedback input through the second node and the output driver. Share with Latch,
A semiconductor circuit that shares with the feedback inverter a power voltage and a ground voltage respectively applied through a second VDD power contact and a second VSS power contact disposed between the feedback inverter and the output driver.
상기 래치, 상기 피드백 인버터 및 상기 출력 드라이버는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃(layout)되는 반도체 회로.According to clause 10,
A semiconductor circuit wherein the latch, the feedback inverter, and the output driver are laid out so that they share a single integrally formed active region.
상기 래치의 입력에 데이터를 전달하는 마스터 래치를 더 포함하고,
상기 마스터 래치, 상기 래치, 상기 피드백 인버터 및 상기 출력 드라이버는 플립 플롭(flip-flop)을 형성하는 반도체 회로.According to clause 11,
Further comprising a master latch that transmits data to the input of the latch,
A semiconductor circuit in which the master latch, the latch, the feedback inverter, and the output driver form a flip-flop.
상기 래치는 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 래치 및 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 래치를 포함하고,
상기 피드백 인버터는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 피드백 인버터 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 피드백 인버터를 포함하고,
상기 출력 드라이버는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 출력 드라이버 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 출력 드라이버를 포함하고,
상기 제2 래치는 제4 노드의 신호를 제5 노드를 통해 피드백 입력으로 수신하고,
상기 제1 피드백 인버터는 상기 제1 PMOS 트랜지스터 및 상기 제1 NMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제2 피드백 인버터는,
상기 제4 노드의 신호가 인가되는 제4 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제5 노드에 제공하는 제4 NMOS 트랜지스터와,
상기 제4 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제5 노드에 제공하는 제4 PMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 출력 드라이버는 상기 제2 PMOS 트랜지스터, 상기 제2 NMOS 트랜지스터, 상기 제3 PMOS 트랜지스터 및 제3 NMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제2 출력 드라이버는,
상기 제4 노드의 신호가 인가되되 상기 제4 게이트 라인에 인접하여 형성된 제5 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제6 노드에 제공하는 제5 NMOS 트랜지스터,
상기 제5 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제5 PMOS 트랜지스터,
상기 제4 노드의 신호가 인가되되 상기 제5 게이트 라인에 인접하여 형성된 제6 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제6 NMOS 트랜지스터 및
상기 제6 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제6 PMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 래치(multibit latch)를 형성하는 반도체 회로.According to clause 11,
The latch includes a first latch operating on first bit data and a second latch operating on second bit data,
The feedback inverter includes a first feedback inverter operating on the first bit data and a second feedback inverter operating on the second bit data,
The output driver includes a first output driver operating on the first bit data and a second output driver operating on the second bit data,
The second latch receives the signal of the fourth node as a feedback input through the fifth node,
The first feedback inverter includes the first PMOS transistor and the first NMOS transistor,
The second feedback inverter,
a fourth NMOS transistor formed on a fourth gate line to which the signal of the fourth node is applied and providing a ground voltage to the fifth node;
A fourth PMOS transistor formed on the fourth gate line to provide a power supply voltage to the fifth node,
The first output driver includes the second PMOS transistor, the second NMOS transistor, the third PMOS transistor, and the third NMOS transistor,
The second output driver is,
A fifth NMOS transistor to which a signal from the fourth node is applied and formed on a fifth gate line formed adjacent to the fourth gate line to provide a ground voltage to the sixth node,
A fifth PMOS transistor formed on the fifth gate line to provide a power supply voltage to the sixth node,
A sixth NMOS transistor to which a signal from the fourth node is applied and formed on a sixth gate line formed adjacent to the fifth gate line to provide a ground voltage to the sixth node; and
It includes a sixth PMOS transistor formed on the sixth gate line to provide a power supply voltage to the sixth node,
The first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver form a multibit latch.
상기 제1 래치의 입력에 상기 제1 비트 데이터를 전달하는 제1 마스터 래치 및 상기 제2 래치의 입력에 상기 제2 비트 데이터를 전달하는 제2 마스터 래치를 더 포함하고,
상기 제1 마스터 래치, 상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 마스터 래치, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 플립 플롭(multibit flip-flop)을 형성하는 반도체 회로.According to clause 13,
Further comprising a first master latch transmitting the first bit data to the input of the first latch and a second master latch transmitting the second bit data to the input of the second latch,
The first master latch, the first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second master latch, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver are multi-bit flip-flops. A semiconductor circuit that forms a (multibit flip-flop).
상기 제1 노드의 신호가 인가되되 상기 래치의 일측에 인접하여 형성된 제1 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제2 노드에 제공하는 제1 PMOS 트랜지스터와,
상기 제1 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제2 노드에 제공하는 제1 NMOS 트랜지스터를 포함하는 피드백 인버터(feedback inverter); 및
상기 제1 노드의 신호가 인가되되 상기 래치의 타측에 인접하여 형성된 제2 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 제3 노드에 제공하는 제2 PMOS 트랜지스터,
상기 제2 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제2 NMOS 트랜지스터,
상기 제1 노드의 신호가 인가되되 상기 제2 게이트 라인에 인접하여 형성된 제3 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제3 PMOS 트랜지스터 및
상기 제3 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제3 노드에 제공하는 제3 NMOS 트랜지스터를 포함하는 출력 드라이버(output driver)를 포함하고,
상기 피드백 인버터는, 상기 래치와 상기 피드백 인버터 사이에 배치되는 제1 VDD 파워 컨택 및 제1 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 상기 래치와 공유하고,
상기 출력 드라이버는, 상기 래치와 상기 출력 드라이버 사이에 배치되는 제2 VDD 파워 컨택 및 제2 VSS 파워 컨택을 통해 각각 인가되는 전원 전압 및 접지 전압을 상기 래치와 공유하는 반도체 회로.a latch that receives a signal from a first node as a feedback input through a second node;
A first PMOS transistor to which a signal from the first node is applied and formed on a first gate line formed adjacent to one side of the latch to provide a power supply voltage to the second node;
a feedback inverter including a first NMOS transistor formed on the first gate line and providing a ground voltage to the second node; and
A second PMOS transistor to which the signal from the first node is applied and formed on a second gate line formed adjacent to the other side of the latch to provide a power supply voltage to a third node,
A second NMOS transistor formed on the second gate line to provide a ground voltage to the third node,
A third PMOS transistor to which the signal from the first node is applied and formed on a third gate line formed adjacent to the second gate line to provide a power supply voltage to the third node; and
An output driver including a third NMOS transistor formed on the third gate line to provide a ground voltage to the third node,
The feedback inverter shares with the latch a power voltage and a ground voltage respectively applied through a first VDD power contact and a first VSS power contact disposed between the latch and the feedback inverter,
The output driver is a semiconductor circuit that shares with the latch a power voltage and a ground voltage respectively applied through a second VDD power contact and a second VSS power contact disposed between the latch and the output driver.
상기 래치, 상기 피드백 인버터 및 상기 출력 드라이버는 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃(layout)되는 반도체 회로.According to clause 15,
A semiconductor circuit wherein the latch, the feedback inverter, and the output driver are laid out so that they share a single integrally formed active region.
상기 래치의 입력에 데이터를 전달하는 마스터 래치를 더 포함하고,
상기 마스터 래치, 상기 래치, 상기 피드백 인버터 및 상기 출력 드라이버는 플립 플롭(flip-flop)을 형성하는 반도체 회로.According to clause 16,
Further comprising a master latch that transmits data to the input of the latch,
A semiconductor circuit in which the master latch, the latch, the feedback inverter, and the output driver form a flip-flop.
상기 래치는 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 래치 및 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 래치를 포함하고,
상기 피드백 인버터는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 피드백 인버터 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 피드백 인버터를 포함하고,
상기 출력 드라이버는 상기 제1 비트 데이터에 대해 동작하는 제1 출력 드라이버 및 상기 제2 비트 데이터에 대해 동작하는 제2 출력 드라이버를 포함하고,
상기 제1 피드백 인버터는 상기 제1 PMOS 트랜지스터 및 상기 제1 NMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제2 피드백 인버터는,
제4 노드의 신호가 인가되되 상기 제2 래치의 일측에 인접하여 형성된 제4 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제5 노드에 제공하는 제4 NMOS 트랜지스터와,
상기 제4 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제5 노드에 제공하는 제4 PMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 출력 드라이버는 상기 제2 PMOS 트랜지스터, 상기 제2 NMOS 트랜지스터, 상기 제3 PMOS 트랜지스터 및 제3 NMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제2 출력 드라이버는,
상기 제4 노드의 신호가 인가되되 상기 제2 래치에 인접하여 형성된 제5 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 제6 노드에 제공하는 제5 NMOS 트랜지스터,
상기 제5 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제5 PMOS 트랜지스터,
상기 제4 노드의 신호가 인가되되 상기 제5 게이트 라인에 인접하여 형성된 제6 게이트 라인 상에 형성되어 접지 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제6 NMOS 트랜지스터 및
상기 제6 게이트 라인 상에 형성되어 전원 전압을 상기 제6 노드에 제공하는 제6 PMOS 트랜지스터를 포함하고,
상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 래치(multibit latch)를 형성하는 반도체 회로.According to clause 16,
The latch includes a first latch operating on first bit data and a second latch operating on second bit data,
The feedback inverter includes a first feedback inverter operating on the first bit data and a second feedback inverter operating on the second bit data,
The output driver includes a first output driver operating on the first bit data and a second output driver operating on the second bit data,
The first feedback inverter includes the first PMOS transistor and the first NMOS transistor,
The second feedback inverter,
A fourth NMOS transistor to which a signal from a fourth node is applied and formed on a fourth gate line formed adjacent to one side of the second latch to provide a ground voltage to the fifth node;
A fourth PMOS transistor formed on the fourth gate line to provide a power supply voltage to the fifth node,
The first output driver includes the second PMOS transistor, the second NMOS transistor, the third PMOS transistor, and the third NMOS transistor,
The second output driver is,
A fifth NMOS transistor to which a signal from the fourth node is applied and formed on a fifth gate line formed adjacent to the second latch to provide a ground voltage to the sixth node,
A fifth PMOS transistor formed on the fifth gate line to provide a power supply voltage to the sixth node,
A sixth NMOS transistor to which a signal from the fourth node is applied and formed on a sixth gate line formed adjacent to the fifth gate line to provide a ground voltage to the sixth node; and
It includes a sixth PMOS transistor formed on the sixth gate line to provide a power supply voltage to the sixth node,
The first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver form a multibit latch.
상기 제1 래치의 입력에 상기 제1 비트 데이터를 전달하는 제1 마스터 래치 및 상기 제2 래치의 입력에 상기 제2 비트 데이터를 전달하는 제2 마스터 래치를 더 포함하고,
상기 제1 마스터 래치, 상기 제1 래치, 상기 제1 피드백 인버터, 상기 제1 출력 드라이버, 상기 제2 마스터 래치, 상기 제2 래치, 상기 제2 피드백 인버터 및 상기 제2 출력 드라이버는 멀티비트 플립 플롭(multibit flip-flop)을 형성하는 반도체 회로.According to clause 18,
Further comprising a first master latch transmitting the first bit data to the input of the first latch and a second master latch transmitting the second bit data to the input of the second latch,
The first master latch, the first latch, the first feedback inverter, the first output driver, the second master latch, the second latch, the second feedback inverter, and the second output driver are multi-bit flip-flops. A semiconductor circuit that forms a (multibit flip-flop).
하나 이상의 스탠다드 셀(standard cell) 디자인이 저장된 스토리지; 및
상기 하나 이상의 프로세서를 이용하여, 정의된 요구 조건(requirement)에 따라 상기 하나 이상의 스탠다드 셀 디자인을 레이아웃(layout)하는 레이아웃 모듈을 포함하되,
상기 레이아웃 모듈은,
래치(latch)와,
제1 노드를 통해 상기 래치의 출력 신호를 입력받아 상기 출력 신호를 상기 래치에 피드백(feedback) 입력하는 피드백 인버터(inverter)와,
상기 제1 노드를 통해 상기 래치의 출력 신호를 입력받아 상기 출력 신호를 외부에 출력하되, 짝수 개의 인버터를 포함하는 출력 드라이버(output driver)를 연속적으로 형성된(formed integrally) 단일 액티브 영역(active region)을 공유하도록 레이아웃하는 반도체 회로의 레이아웃 시스템.One or more processors;
Storage storing one or more standard cell designs; and
A layout module that uses the one or more processors to layout the one or more standard cell designs according to defined requirements,
The layout module is,
latch,
a feedback inverter that receives the output signal of the latch through a first node and inputs the output signal as feedback to the latch;
The output signal of the latch is input through the first node and the output signal is output to the outside, and an output driver including an even number of inverters is formed integrally into a single active region. A layout system for semiconductor circuits that layouts to share.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/549,989 US11386254B2 (en) | 2018-12-13 | 2019-08-23 | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system |
TW108145472A TWI811500B (en) | 2018-12-13 | 2019-12-12 | Semiconductor circuit |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180161145 | 2018-12-13 | ||
KR20180161145 | 2018-12-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20200073098A KR20200073098A (en) | 2020-06-23 |
KR102640502B1 true KR102640502B1 (en) | 2024-02-26 |
Family
ID=71138226
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020190024040A KR102640502B1 (en) | 2018-12-13 | 2019-02-28 | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102640502B1 (en) |
TW (1) | TWI811500B (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11797745B2 (en) * | 2021-06-28 | 2023-10-24 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device with reduced power and method of manufacturing the same |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020030513A1 (en) | 2000-09-11 | 2002-03-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Logic circuit cell constituting an integrated circuit and cell library having a collection of logic circuit cells |
US20110095799A1 (en) | 2009-10-28 | 2011-04-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Flip-flop having shared feedback and method of operation |
US20120032264A1 (en) | 2010-08-09 | 2012-02-09 | Fabio Alessio Marino | High density semiconductor latch |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4782573B2 (en) * | 2006-01-31 | 2011-09-28 | パナソニック株式会社 | Data holding circuit, scan chain circuit, semiconductor integrated circuit, and process variation determination method thereof |
US8030982B2 (en) * | 2008-10-30 | 2011-10-04 | Qualcomm Incorporated | Systems and methods using improved clock gating cells |
KR20150107555A (en) * | 2014-03-13 | 2015-09-23 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Latch circuit and semiconductor device including the same |
US9337099B1 (en) * | 2015-01-30 | 2016-05-10 | Globalfoundries Inc. | Special constructs for continuous non-uniform active region FinFET standard cells |
US9584121B2 (en) * | 2015-06-10 | 2017-02-28 | Qualcomm Incorporated | Compact design of scan latch |
US9768756B2 (en) * | 2016-01-08 | 2017-09-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Low power integrated clock gating cell with internal control signal |
-
2019
- 2019-02-28 KR KR1020190024040A patent/KR102640502B1/en active IP Right Grant
- 2019-12-12 TW TW108145472A patent/TWI811500B/en active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020030513A1 (en) | 2000-09-11 | 2002-03-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Logic circuit cell constituting an integrated circuit and cell library having a collection of logic circuit cells |
US20110095799A1 (en) | 2009-10-28 | 2011-04-28 | Freescale Semiconductor, Inc. | Flip-flop having shared feedback and method of operation |
US20120032264A1 (en) | 2010-08-09 | 2012-02-09 | Fabio Alessio Marino | High density semiconductor latch |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202036360A (en) | 2020-10-01 |
TWI811500B (en) | 2023-08-11 |
KR20200073098A (en) | 2020-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8058691B2 (en) | Semiconductor device including cross-coupled transistors formed from linear-shaped gate level features | |
KR102362016B1 (en) | Master-slave flip flop | |
US10951201B2 (en) | Flip flop standard cell | |
US11386254B2 (en) | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system | |
KR100921758B1 (en) | Memory cell arrangement method and semiconductor memory device | |
US10868524B2 (en) | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system | |
KR102640502B1 (en) | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system | |
KR20190041052A (en) | Electronic circuit including flip flop using common clock | |
KR20200031452A (en) | Fuse latch of semiconductor device | |
US11394374B2 (en) | Semiconductor device | |
KR102627943B1 (en) | Semiconductor circuit and semiconductor circuit layout system | |
CN115395925A (en) | Integrated circuit including flip-flop and computing system for designing integrated circuit | |
KR20210057875A (en) | Integrated clock gating circuit | |
US20240170054A1 (en) | Semiconductor chip | |
KR20210085652A (en) | Fuse latch of semiconductor device | |
KR20220157097A (en) | Semiconductor device | |
KR20220159259A (en) | Integrated circuit including flip flop and computing system for designing the integrated circuit including the flip flop | |
JP2017130556A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |