KR102610806B1 - Rotary dispersing device for gas and cleaning liquid - Google Patents

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KR102610806B1 KR1020230069919A KR20230069919A KR102610806B1 KR 102610806 B1 KR102610806 B1 KR 102610806B1 KR 1020230069919 A KR1020230069919 A KR 1020230069919A KR 20230069919 A KR20230069919 A KR 20230069919A KR 102610806 B1 KR102610806 B1 KR 102610806B1
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Abstract

본 발명은 가스가 관류되는 가스세정관의 내부에 설치되며 상부에서 낙하되는 세정액과 하부에서 상승하는 가스를 회전시키면서 통과된 세정액과 가스를 가스세정관 전체에 고르게 분산시킬 수 있는 가스와 세정액의 회전분산장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는, 상하로 연장된 중심부(110)와, 중심부(110)에서 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상부에서 하부방향으로 소정의 기울기를 갖는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에서 상하로 관통된 다수개의 표면관통홀(130)이 형성된 것을 특징으로 한다. The present invention is installed inside the gas cleaning pipe through which gas flows, and rotates the cleaning liquid falling from the top and the gas rising from the bottom to evenly distribute the passing cleaning liquid and gas throughout the gas washing pipe. It's about distributed devices.
The rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the present invention has a center 110 extending up and down, and extends outward from the center 110 to the inner surface of a hollow gas cleaning pipe 10. It is characterized in that a plurality of rotation guide plates 120 having a predetermined inclination from the top to the bottom, and a plurality of surface penetration holes 130 penetrating upward and downward from the surface of the rotation guide plate 120 are formed.

Description

가스와 세정액의 회전분산장치{Rotary dispersing device for gas and cleaning liquid}Rotary dispersing device for gas and cleaning liquid}

본 발명은 가스가 관류되는 가스세정관의 내부에 설치되며 상부에서 낙하되는 세정액과 하부에서 상승하는 가스를 회전시키면서 통과된 세정액과 가스를 가스세정관 전체에 고르게 분산시킬 수 있는 가스와 세정액의 회전분산장치에 관한 것이다.The present invention is installed inside the gas cleaning pipe through which gas flows, and rotates the cleaning liquid falling from the top and the gas rising from the bottom to evenly distribute the passing cleaning liquid and gas throughout the gas washing pipe. It's about distributed devices.

일반적으로 산업현장, 하수처리장, 분뇨처리장, 폐기물 처리시설 등에서 배출되는 폐가스에는 각종 오염물질이 포함되어 있다. 이에 따라 폐가스에 포함된 악취 유발 물질을 제거하기 위한 다양한 처리방법이 이용되고 있다.In general, waste gases emitted from industrial sites, sewage treatment plants, excrement treatment plants, and waste treatment facilities contain various pollutants. Accordingly, various treatment methods are being used to remove odor-causing substances contained in waste gas.

이러한 폐가스에 포함된 오염물질을 제거하기 위하여 폐가스를 세정액으로 세정하는 방법이 널리 사용되고 있다.In order to remove contaminants contained in such waste gas, a method of cleaning the waste gas with a cleaning liquid is widely used.

대한민국등록특허 제10-0237737호에서는 하부에서 폐가스가 유입되고, 상부에서 세정액이 분무되는 케이싱의 내부에 선회류를 형성하는 안내깃을 설치하여 하부로 안내되는 세정액과 폐가스를 혼합시켜 폐가스에 포함된 악취 유발물질을 제거하였다.In Republic of Korea Patent No. 10-0237737, a guide feather that forms a swirling flow is installed inside the casing where waste gas flows in from the bottom and cleaning liquid is sprayed from the top, so that the cleaning liquid guided to the bottom mixes with the waste gas and is contained in the waste gas. Odor causing substances were removed.

이러한 대한민국등록특허 제10-0237737호는 안내깃을 통과한 세정액이 안내깃의 하단으로만 낙하되기 때문에 안내깃의 하부에는 오히려 세정액이 존재하지 않으며, 안내깃의 상단을 통과한 폐가스도 선회류를 형성하지만 케이싱 전체에 고르게 분산되지 않아 세정효율이 낮아지는 문제가 있다.In this Republic of Korea Patent No. 10-0237737, the cleaning liquid that has passed through the guide blades falls only to the bottom of the guide blades, so there is no cleaning liquid in the lower part of the guide blades, and the waste gas that has passed through the top of the guide blades also forms a swirling flow. However, there is a problem that cleaning efficiency is lowered because it is not evenly distributed throughout the casing.

한국등록특허 제10-0237737호Korean Patent No. 10-0237737

본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 가스가 관류되는 가스세정관의 내부에 설치되며 상부에서 낙하되는 세정액과 하부에서 상승하는 가스를 회전시키면서 통과된 세정액과 가스를 가스세정관 전체에 고르게 분산시킬 수 있는 가스와 세정액의 회전분산장치를 제공하는데 있다.The problem to be solved by the present invention is to distribute the passed cleaning liquid and gas evenly throughout the gas cleaning pipe by rotating the cleaning liquid falling from the top and the gas rising from the bottom, which is installed inside the gas cleaning pipe through which gas flows. The purpose is to provide a rotating dispersion device for gas and cleaning liquid.

본 발명의 다른 해결과제는 가스세정관의 하부에서 상승하는 가스의 상승속도를 일부 감소시키면서 상부에서 분무되는 세정액에 대한 접촉시간을 증가시켜 오염물질의 세정효율을 증가시킬 수 있는 가스와 세정액의 회전분산장치를 제공하는데 있다.Another problem solved by the present invention is the rotation of gas and cleaning liquid that can increase the cleaning efficiency of pollutants by increasing the contact time with the cleaning liquid sprayed from the top while partially reducing the rising speed of the gas rising from the lower part of the gas cleaning pipe. The goal is to provide a dispersion device.

본 발명에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 상하로 연장된 중심부(110)와, 중심부(110)에서 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상부에서 하부방향으로 소정의 기울기를 갖는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에서 상하로 관통된 다수개의 표면관통홀(130)이 형성된 것을 특징으로 한다. The rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the present invention has a center 110 extending up and down, extends outward from the center 110 and extends to the inner surface of a hollow gas cleaning pipe 10, and has an upper upper portion. It is characterized in that a plurality of rotation guide plates 120 having a predetermined inclination downward, and a plurality of surface penetration holes 130 penetrating upward and downward from the surface of the rotation guide plate 120 are formed.

바람직하게, 가스세정관(10)은 내부가 중공되고 양단이 개구된 관체형상으로 수직하게 설치되어 가스가 하단으로 공급되면 상단으로 배출되고, 회전분산장치(100)의 상부에 세정액노즐(20)이 형성된 것을 특징으로 한다.Preferably, the gas cleaning pipe 10 is installed vertically in the shape of a tube with a hollow interior and openings at both ends, so that when gas is supplied to the bottom, it is discharged to the top, and a cleaning liquid nozzle 20 is provided at the top of the rotating dispersion device 100. It is characterized by its formation.

바람직하게, 제1 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 원통형상의 중심부(110)와, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)을 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the first embodiment has a cylindrical center 110, one side is fastened to the center 110, and the other side extends outward, and the inside is hollow. A plurality of rotation guide plates 120 extending to the inner surface of the cleaning pipe 10 and formed to have a predetermined slope from the top to the bottom, and a plurality of surface penetration holes 130 formed on the surface of the rotation guide plate 120. It is characterized by including.

바람직하게, 제2 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 중심부(110)의 외부방향으로 연장된 회전유도판(120)의 상단에서 수직하게 하부로 연장된 수직충돌부(140)과 수직충돌부(140)의 표면에 형성된 다수개의 수직관통홀(150)을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the second embodiment includes a vertical collision portion 140 extending vertically downward from the top of the rotation guide plate 120 extending outward from the center 110. ) and a plurality of vertical penetration holes 150 formed on the surface of the vertical collision portion 140.

바람직하게, 수직충돌부(140)의 길이는 회전유도판(120)의 중단 높이 이하인 것을 특징으로 한다.Preferably, the length of the vertical collision portion 140 is less than or equal to the height of the middle of the rotation guide plate 120.

바람직하게, 제3 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 회전유도판(120) 하부면에서 하방으로 돌출되어 회전유도판(120)의 하부면을 따라 이동하는 가스가 좌우의 한쪽방향으로 쏠리는 것을 방지하는 가스유도부(160)가 돌출 형성된 것을 특징으로 한다.Preferably, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the third embodiment protrudes downward from the lower surface of the rotation guide plate 120 so that the gas moving along the lower surface of the rotation guide plate 120 flows to the left and right. It is characterized by a protruding gas guide portion 160 that prevents leaning in one direction.

바람직하게, 제4 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 원통형상의 중심부(110)과, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 중앙 상부 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)과, 회전유도판(120)의 중앙 하부 표면에 내측면과 외측면 사이에 수직하게 일정간격으로 지그재그 형태로 돌출되며 돌출된 중앙 끝단에 관통공(171)이 형성되는 세정액/가스안내부(170)를 포함하는 것을 특징으로 한다.Preferably, the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the fourth embodiment has a cylindrical center 110, one side is fastened to the center 110, and the other side extends outward, and the inside is hollow. A plurality of rotation guide plates 120 extending to the inner surface of the cleaning tube 10 and formed to have a predetermined slope from the top to the bottom, and a plurality of surface penetration holes formed on the central upper surface of the rotation guide plate 120 ( 130), and a cleaning liquid/gas guide portion that protrudes in a zigzag shape at regular intervals perpendicularly between the inner and outer surfaces of the central lower surface of the rotation guide plate 120 and has a through hole 171 formed at the protruding central end. It is characterized by containing (170).

바람직하게, 제5 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 중심부(110)의 상단에서 하단으로 일측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제1 충돌판(181)과 중심부(110)의 타측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제2 충돌판(182)이 지그재그 형태로 형성되고, 제1 충돌판(181)과 제2 충돌판(182)의 표면에는 상하로 관통된 수평관통홀(183)이 형성된 것을 특징으로 한다.Preferably, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the fifth embodiment includes a first collision plate 181 protruding from the inner surface of one side to the center from the top to the bottom of the center 110 and the center 110. The second collision plate 182 protruding from the inner surface of the other side toward the central portion is formed in a zigzag shape, and the surfaces of the first collision plate 181 and the second collision plate 182 have horizontal through holes 183 penetrating upward and downward. It is characterized by its formation.

본 발명에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치는 상단에서 하단으로 기울어진 다수개의 회전유도판에 의해서 상부에서 낙하되는 세정액과 하부에서 상승하는 가스가 통과하면서 회전되고, 회전유도판의 표면에 형성되는 표면관통홀에 의해서 세정액과 가스가 통과되기 때문에 회전분산장치를 통과한 후에도 세정액과 가스를 가스세정관 전체에 고르게 분산시켜 세정액과 가스의 접촉효율을 증가시킬 수 있는 장점이 있다.The rotational distribution device for gas and cleaning liquid according to the present invention rotates as the cleaning liquid falling from the top and the gas rising from the bottom pass by a plurality of rotation guide plates inclined from the top to the bottom, and a dispersion formed on the surface of the rotation guide plates is used. Since the cleaning liquid and gas pass through the surface penetration hole, there is an advantage in that the contact efficiency of the cleaning liquid and gas can be increased by evenly dispersing the cleaning liquid and gas throughout the gas cleaning pipe even after passing through the rotating dispersion device.

또한, 회전유도판의 상단에서 수직하게 하부로 연장된 수직충돌부에 의해서 가스세정관의 하부에서 상승하는 가스의 상승속도를 일부 감소시키면서 상부에서 분무되는 세정액에 대한 접촉시간을 증가시켜 오염물질의 세정효율을 증가시킬 수 있는 장점이 있다.In addition, the vertical impact portion extending vertically downward from the top of the rotation guide plate partially reduces the rising speed of the gas rising from the bottom of the gas cleaning pipe and increases the contact time for the cleaning liquid sprayed from the top, thereby removing contaminants. It has the advantage of increasing cleaning efficiency.

또한, 회전유도판의 하부면을 따라 상승하는 가스가 서로 이웃하는 가스유도관 사이를 따라 이동하기 때문에 가스가 회전분산장치를 통과한 후에도 가스관의 중앙 또는 외면방향으로 쏠리는 현상을 방지할 수 있는 장점이 있다.In addition, since the gas rising along the lower surface of the rotation guide plate moves between neighboring gas guide pipes, it has the advantage of preventing the gas from being directed toward the center or outer surface of the gas pipe even after passing through the rotation dispersion device. There is.

도 1은 본 발명에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치가 가스세정관에 설치된 상태도.
도 2a, 2b는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치에 대한 사시도.
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치에 대한 사시도.
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치에 대한 사시도.
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치에 대한 사시도.
도 6은 본 발명의 제5 실시예에 따른 중심부의 설치상태도.1 is a diagram showing a state in which a rotational dispersion device for gas and cleaning liquid according to the present invention is installed in a gas cleaning pipe.
Figures 2a and 2b are perspective views of a rotational dispersion device for gas and cleaning liquid according to the first embodiment of the present invention.
Figure 3 is a perspective view of a rotational dispersion device for gas and cleaning liquid according to a second embodiment of the present invention.
Figure 4 is a perspective view of a rotational dispersion device for gas and cleaning liquid according to a third embodiment of the present invention.
Figure 5 is a perspective view of a rotational dispersion device for gas and cleaning liquid according to a fourth embodiment of the present invention.
Figure 6 is a diagram showing the installation state of the central part according to the fifth embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 자세히 살펴본다. Hereinafter, the present invention will be examined in detail with reference to the attached drawings.

도 1 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 상하로 연장된 중심부(110)와, 중심부(110)에서 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상부에서 하부방향으로 소정의 기울기를 갖는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에서 상하로 관통된 다수개의 표면관통홀(130)이 형성된다. As shown in FIGS. 1 to 5, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the present invention has a center 110 extending up and down, and a gas body extending outward from the center 110 and having a hollow interior. A plurality of rotation guide plates 120 extending to the inner surface of the cleaning pipe 10 and having a predetermined slope from the top to the bottom, and a plurality of surface penetration holes 130 penetrating upward and downward from the surface of the rotation guide plate 120. ) is formed.

이러한 가스와 세정액의 회전분산장치(100)에 의해서 가스세정관(10)의 상부에 위치하는 세정액노즐(20)에서 분사된 세정액은 회전유도판(120)의 기울어진 상부면을 따라 회전하면서 하부방향으로 낙하되고, 세정액이 표면을 따라 이동하면서 표면에 형성된 표면관통홀(130)에 도달하게 되면 표면관통홀(130)을 통과하여 수직하게 낙하된다. 또한, 하부에서 상승하는 가스는 회전유도판(120)의 기울어진 하부면을 따라 회전되면서 상부방향으로 상승되고, 하부면을 따라 이동하면서 표면에 표면관통홀(130)에 도달하게 되면 표면관통홀(130)을 통과하여 수직하게 상승하게 된다. 이때, 표면관통홀(130)을 통과하는 세정액은 가스를 직접 접촉하면서 세정하여 세정효율을 증가시키게 된다.The cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid nozzle 20 located on the upper part of the gas cleaning pipe 10 by the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid rotates along the inclined upper surface of the rotation guide plate 120 and moves to the lower part. It falls in this direction, and when the cleaning liquid moves along the surface and reaches the surface penetration hole 130 formed on the surface, it passes through the surface penetration hole 130 and falls vertically. In addition, the gas rising from the bottom rises upward while rotating along the inclined lower surface of the rotation guide plate 120, and moves along the lower surface when it reaches the surface penetration hole 130 on the surface. It passes through (130) and rises vertically. At this time, the cleaning liquid passing through the surface penetration hole 130 is cleaned while directly contacting the gas, thereby increasing cleaning efficiency.

가스세정관(10)은 내부가 중공되고 양단이 개구된 관체형상으로 수직하게 설치되어 가스가 하단으로 공급되면 상단으로 배출한다. The gas cleaning pipe 10 is installed vertically in the shape of a tube that is hollow on the inside and open at both ends, so that when gas is supplied to the bottom, it is discharged to the top.

세정액노즐(20)은 가스세정관(10)의 내부에 위치하며 외부로부터 공급되는 세정액을 가스세정관(10)의 내부공간에 분무한다. 이러한, 세정액노즐(20)은 분무되는 세정액이 하부에서 공급되는 가스와 용이하게 접촉하여 세정하도록 가스와 세정액의 회전분산장치(100)의 상부에 설치되는 것이 바람직하다. 여기서, 세정액은 세정대상인 가스에 포함된 오염물질의 종류에 따라 산성용액, 알칼리용액 등을 맞춤형으로 사용할 수 있다.The cleaning liquid nozzle 20 is located inside the gas cleaning pipe 10 and sprays the cleaning liquid supplied from the outside into the internal space of the gas cleaning pipe 10. This cleaning liquid nozzle 20 is preferably installed at the upper part of the gas and cleaning liquid rotation dispersion device 100 so that the sprayed cleaning liquid can easily contact and clean the gas supplied from the bottom. Here, the cleaning solution can be customized to use an acidic solution, an alkaline solution, etc. depending on the type of contaminants contained in the gas to be cleaned.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 중앙에 위치하는 중심부(110)와, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)을 포함한다. 중심부(110)는 도 1에 도시된 바와 같이 중심부(110)는 봉형상으로 형성하여 중심부를 최소화하면서 세정액노즐(20)에서 분사된 모든 세정액이 회전유도판(120)의 표면을 따라 낙하되도록 하거나 또는 도 2에 도시된 바와 같이, 중심부(110)를 상하로 관통된 원통형상으로 형성하여 세정액노즐(20)에서 분사된 세정액의 일부가 관통된 중심부(110)의 내부를 따라 낙하되도록 할 수 있다. 또한, 회전유도판(120)의 기울기는 외부로 연장되는 타측면의 기울기 각도가 중심부(110)에 체결되는 일측면의 기울기 각도보다 크게 형성되어 상부에서 낙하되는 세정액이 회전유도판(120)으로 낙하되도록 하는 것이 바람직하다.On the other hand, the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the first embodiment of the present invention has a center 110 located in the center, one side is fastened to the center 110, and the other side extends outward to the upper end. It includes a plurality of rotation guide plates 120 formed to have a predetermined inclination from the bottom to the bottom, and a plurality of surface penetration holes 130 formed on the surface of the rotation guide plates 120. As shown in FIG. 1, the center 110 is formed in a rod shape to minimize the center area and allow all the cleaning liquid sprayed from the cleaning liquid nozzle 20 to fall along the surface of the rotation guide plate 120. Alternatively, as shown in FIG. 2, the central portion 110 may be formed in a cylindrical shape penetrating upward and downward so that a portion of the cleaning fluid sprayed from the cleaning fluid nozzle 20 falls along the inside of the penetrating central portion 110. . In addition, the inclination of the rotation guide plate 120 is such that the tilt angle of the other side extending outward is greater than the tilt angle of one side fastened to the center 110, so that the cleaning liquid falling from the top is directed to the rotation guide plate 120. It is desirable to let it fall.

이러한 제1 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)에 의해서 상부의 노즐에서 분무되는 세정액은 회전유도판(120)으로 낙하되면 기울어진 상부면을 따라 하부방향으로 흐르게 되고 회전유도판(120)의 하단에서 회전하면서 낙하되며, 회전유도판(120)의 표면을 흐르는 일부 세정액은 표면관통홀(130)을 통과하면서 수직하게 낙하되면서 회전분산장치(100)를 통과한 세정액 전체가 가스세정관(10) 내부에 고르게 낙하할 수 있다. 또한, 하부에서 상승하는 가스는 회전유도판(120)에서 낙하하는 세정액으로 세정되면서 회전유도판(120)의 하부면에 도달하게 되면 기울어진 회전유도판(120)의 하부면을 따라 상부방향으로 상승하면서 회전기류를 형성하고 회전유도판(120)의 하부면을 따라 이동하는 일부 가스는 표면관통홀(130)을 통해 상승하여 회전유도판(120)을 통과한 가스 전체가 가스세정관(10) 내부에 고르게 상승할 수 있게 된다. 이때, 표면관통홀(130)을 통과하는 세정액은 가스를 직접 접촉하면서 세정하여 세정효율을 증가시키게 된다.When the cleaning liquid sprayed from the upper nozzle by the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the first embodiment falls on the rotation guide plate 120, it flows downward along the inclined upper surface and the rotation guide plate 120. It rotates and falls from the bottom of the rotation guide plate 120, and some of the cleaning liquid flowing on the surface of the rotation guide plate 120 falls vertically while passing through the surface penetration hole 130, and the entire cleaning liquid passing through the rotation dispersion device 100 is a gas. It can fall evenly inside the cleaning tube (10). In addition, the gas rising from the bottom is cleaned by the cleaning liquid falling from the rotation guide plate 120, and when it reaches the lower surface of the rotation guide plate 120, it flows upward along the lower surface of the tilted rotation guide plate 120. Some of the gas that rises to form a rotating airflow and moves along the lower surface of the rotation guide plate 120 rises through the surface penetration hole 130, and all of the gas that has passed through the rotation guide plate 120 is transferred to the gas cleaning pipe (10). ) It can rise evenly inside. At this time, the cleaning liquid passing through the surface penetration hole 130 is cleaned while directly contacting the gas, thereby increasing cleaning efficiency.

또한, 제2 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 중심부(110)의 외부방향으로 연장된 회전유도판(120)의 상단에서 수직하게 하부로 연장된 수직충돌부(140)과 수직충돌부(140)의 표면에 형성된 다수개의 수직관통홀(150)을 더 포함한다. 이때, 수직충돌부(140)의 길이는 회전유도판(120)의 중단 높이 이하인 것이 바람직하다. In addition, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the second embodiment includes a vertical collision portion 140 extending vertically downward from the top of the rotation guide plate 120 extending outward from the center 110. It further includes a plurality of vertical penetration holes 150 formed on the surface of the vertical collision portion 140. At this time, the length of the vertical collision portion 140 is preferably less than or equal to the height of the middle of the rotation guide plate 120.

이러한 제2 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)에 의해서 기울어진 회전유도판(120)의 하부면을 따라 상승하는 가스가 수직충돌부(140)에 충돌하면 일부 가스는 수직충돌부(140)에 형성된 수직관통홀(150)을 통과하면서 상승하고, 잔여 가스는 수직충돌부(140)의 하단을 넘으면서 상승하면서 가스의 상승 속도를 늦출 수 있게 된다.When the gas rising along the lower surface of the tilted rotation guide plate 120 by the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the second embodiment collides with the vertical collision portion 140, some of the gas collides vertically. It rises while passing through the vertical penetration hole 150 formed in the part 140, and the remaining gas rises while passing the bottom of the vertical collision part 140, thereby slowing down the rising speed of the gas.

또한, 제3 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 제1 실시예 및 제2 실시예의 회전유도판(120) 하부면에서 하방으로 돌출되어 회전유도판(120)의 하부면을 따라 이동하는 가스가 좌우의 한쪽방향으로 쏠리는 것을 방지하는 가스유도부(160)이 돌출 형성된다.In addition, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the third embodiment protrudes downward from the lower surface of the rotation guide plate 120 of the first and second embodiments and forms the lower surface of the rotation guide plate 120. A gas guide portion 160 is formed to protrude to prevent gas moving along the gas from flowing in one direction to the left and right.

이러한 제3 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)에 의해서 회전유도판(120)의 하부면을 따라 상승하는 가스가 회전유도판(120)의 하부면에 접하면서 회전유도판(120)의 기울어진 곡면을 따라 외측방향 또는 내측방향으로 이동하더라도 가스유도부(160)에 의해 차단되고 서로 이웃하는 가스유도관 사이를 따라 이동하기 때문에 가스가 회전분산장치(100)를 통과한 후에도 가스관의 중앙 또는 외면방향으로 쏠리는 현상을 방지할 수 있게 된다.By the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to this third embodiment, the gas rising along the lower surface of the rotation guide plate 120 contacts the lower surface of the rotation guide plate 120 and the rotation guide plate ( Even if it moves in the outward or inward direction along the inclined curved surface of 120), it is blocked by the gas guide part 160 and moves along between neighboring gas guide pipes, so even after the gas passes through the rotational dispersion device 100, the gas pipe It is possible to prevent the phenomenon of being tilted towards the center or the outer surface.

또한, 제4 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 상하로 관통된 원통형상의 중심부(110)과, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 중앙 상부 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)과, 회전유도판(120)의 중앙 하부 표면에 내측면과 외측면 사이에 수직하게 일정간격으로 지그재그 형태로 돌출되며 돌출된 중앙 끝단에 관통공(171)이 형성되는 세정액/가스안내부(170)를 포함한다.In addition, the rotational dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the fourth embodiment has a cylindrical center 110 penetrating up and down, one side is fastened to the center 110, and the other side extends outward from the top. A plurality of rotation guide plates 120 formed to have a predetermined inclination toward the bottom, a plurality of surface penetration holes 130 formed on the central upper surface of the rotation guide plate 120, and the center of the rotation guide plate 120. It includes a cleaning liquid/gas guide portion 170 that protrudes in a zigzag shape at regular intervals perpendicular to the lower surface between the inner and outer surfaces and has a through hole 171 formed at the protruding central end.

이러한 제4 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)에 의해서 회전유도판(120)의 하부에서 상승하는 가스가 회전유도판(120)의 후면에 접하면서 돌출된 세정액/가스안내부(170)를 따라 이동하게 되고, 중앙 끝단에 형성된 관통공(171)을 통과하여 회전유도판(120)의 상부면으로 배출되면서 회전유도판(120)의 상부면을 따라 상승하면서 세정액으로 세정되게 된다. 이에 따라 후방에서 상승하는 가스는 회전분산장치(100)를 통과한 후에도 회전되면서 상승가스관의 중앙 또는 외면방향으로 쏠리는 현상을 방지하면서 가스세정관의 내부에서 고르게 상승할 수 있게 된다. The gas rising from the lower part of the rotation guide plate 120 by the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the fourth embodiment contacts the rear of the rotation guide plate 120 and the protruding cleaning liquid/gas guide portion It moves along (170), passes through the through hole 171 formed at the central end, is discharged to the upper surface of the rotation guide plate 120, and rises along the upper surface of the rotation guide plate 120 to be cleaned with a cleaning liquid. do. Accordingly, the gas rising from the rear can rise evenly inside the gas cleaning pipe while rotating even after passing through the rotational dispersion device 100, preventing the phenomenon of being directed toward the center or the outer surface of the rising gas pipe.

또한, 제5 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 제1 실시예 내지 제4 실시예의 중공된 중심부(110)의 상단에서 하단으로 일단이 중심부(110)의 일측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제1 충돌판(181)과 중심부(110)의 타측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제2 충돌판(182)이 지그재그 형태로 형성되고, 제1 충돌판(181)과 제2 충돌판(182)의 표면에는 상하로 관통된 수평관통홀(183)이 형성된다.In addition, the rotational distribution device 100 for gas and cleaning liquid according to the fifth embodiment has one end from the top to the bottom of the hollow center 110 of the first to fourth embodiments, and one end from the inner surface of one side of the center 110 to the center. A partially protruding first collision plate 181 and a second collision plate 182 protruding from the other inner surface of the center 110 to the central portion are formed in a zigzag shape, and the first collision plate 181 and the second collision plate 182 are formed in a zigzag shape. Horizontal through-holes 183 penetrating upward and downward are formed on the surface of the plate 182.

이러한 제5 실시예에 따른 가스와 세정액의 회전분산장치(100)는 상부의 노즐에서 분무되어 중심부(110)으로 낙하되는 세정액은 최상단의 제1 충돌판(181) 및 제2 충돌판(182)으로 낙하된 후에 각각의 수평관통홀(183) 또는 전면의 끝단을 통해 하부로 낙하되면서 속도가 늦어지고 하부에서 상승하는 가스도 지그재그로 제1 충돌판(181) 및 제2 충돌판(182)을 통과하고 각각의 수평관통홀(183)을 통과하면서 세정액으로 세정되게 된다.In the rotating dispersion device 100 for gas and cleaning liquid according to the fifth embodiment, the cleaning liquid sprayed from the upper nozzle and falling to the center 110 is directed to the first and second collision plates 181 and 182 at the top. After falling to the bottom through each horizontal through hole 183 or the end of the front, the speed slows down, and the gas rising from the bottom zigzags through the first collision plate 181 and the second collision plate 182. As it passes through each horizontal through hole (183), it is cleaned with a cleaning liquid.

이상과 같이, 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.As described above, although the present invention has been described with limited examples and drawings, the present invention is not limited thereto, and the technical idea of the present invention and the following will be understood by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of equivalence of the claims to be described.

100 : 가스와 세정액의 회전분산장치 110 : 중심부
120 : 회전유도판 130 : 표면관통홀
140 : 수직충돌부 150 : 수직관통홀
160 : 가스유도부 170 : 세정액/가스안내부
171 : 관통공 181 : 제1 충돌판
182 : 제2 충돌판 183 : 수평관통홀100: Rotating distribution device for gas and cleaning liquid 110: Center
120: rotation guide plate 130: surface penetration hole
140: Vertical collision part 150: Vertical penetration hole
160: Gas guidance unit 170: Cleaning liquid/gas guidance unit
171: Through hole 181: First collision plate
182: second collision plate 183: horizontal penetration hole

Claims (8)

상하로 연장된 중심부(110)와, 중심부(110)에서 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상부에서 하부방향으로 소정의 기울기를 갖는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에서 상하로 관통된 다수개의 표면관통홀(130)을 포함하는 가스와 세정액의 회전분산장치에 있어서,
회전분산장치(100)는 중심부(110)의 외부방향으로 연장된 회전유도판(120)의 상단에서 수직하게 하부로 연장된 수직충돌부(140)과, 수직충돌부(140)의 표면에 형성된 다수개의 수직관통홀(150)을 더 포함하며,
수직충돌부(140)의 길이는 회전유도판(120)의 중단 높이 이하인 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.A center 110 extending up and down, and a plurality of rotation guide plates extending outward from the center 110 and extending to the inner surface of the hollow gas cleaning tube 10 and having a predetermined slope from the top to the bottom ( 120) and a plurality of surface penetration holes 130 penetrating upward and downward from the surface of the rotation guide plate 120. In the rotational dispersion device for gas and cleaning liquid,
The rotation distribution device 100 includes a vertical collision portion 140 extending vertically downward from the top of the rotation guide plate 120 extending outward from the center 110, and a vertical collision portion 140 formed on the surface of the vertical collision portion 140. It further includes a plurality of vertical through holes (150),
A rotational dispersion device for gas and cleaning liquid, characterized in that the length of the vertical collision portion (140) is less than or equal to the height of the middle of the rotation guide plate (120). 청구항 1에 있어서, 가스세정관(10)은 내부가 중공되고 양단이 개구된 관체형상으로 수직하게 설치되어 가스가 하단으로 공급되면 상단으로 배출되고, 회전분산장치(100)의 상부에 세정액노즐(20)이 형성된 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.In claim 1, the gas cleaning pipe 10 is installed vertically in the shape of a tube with a hollow interior and openings at both ends, so that when gas is supplied to the bottom, it is discharged to the top, and a cleaning liquid nozzle ( 20) A rotating dispersion device for gas and cleaning liquid, characterized in that it is formed. 상하로 관통된 원통형상의 중심부(110)와, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)을 포함하는 가스와 세정액의 회전분산장치에 있어서,
회전분산장치(100)는 중심부(110)의 외부방향으로 연장된 회전유도판(120)의 상단에서 수직하게 하부로 연장된 수직충돌부(140)과, 수직충돌부(140)의 표면에 형성된 다수개의 수직관통홀(150)을 더 포함하며,
수직충돌부(140)의 길이는 회전유도판(120)의 중단 높이 이하인 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.A cylindrical center 110 penetrated up and down, one side is fastened to the center 110, and the other side extends to the outside, extending to the inner surface of the hollow gas cleaning pipe 10, and forming a predetermined distance from the top to the bottom. In the rotation dispersion device for gas and cleaning liquid including a plurality of rotation guide plates 120 formed to have an inclination, and a plurality of surface penetration holes 130 formed on the surface of the rotation guide plates 120,
The rotation distribution device 100 includes a vertical collision portion 140 extending vertically downward from the top of the rotation guide plate 120 extending outward from the center 110, and a vertical collision portion 140 formed on the surface of the vertical collision portion 140. It further includes a plurality of vertical through holes (150),
A rotational dispersion device for gas and cleaning liquid, characterized in that the length of the vertical collision portion (140) is less than or equal to the height of the middle of the rotation guide plate (120). 삭제delete 삭제delete 청구항 1 또는 청구항 3에 있어서, 회전분산장치(100)는 회전유도판(120) 하부면에서 하방으로 돌출되어 회전유도판(120)의 하부면을 따라 이동하는 가스가 좌우의 한쪽방향으로 쏠리는 것을 방지하는 가스유도부(160)가 돌출 형성된 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.In claim 1 or claim 3, the rotation distribution device 100 protrudes downward from the lower surface of the rotation guide plate 120 to prevent gas moving along the lower surface of the rotation guide plate 120 from being concentrated in one direction of the left and right. A rotating dispersion device for gas and cleaning liquid, characterized in that the gas guide portion 160 is formed to protrude. 상하로 관통된 원통형상의 중심부(110)과, 일측면이 중심부(110)에 체결되고 타측면이 외부로 연장되면서 내부가 중공된 가스세정관(10)의 내면으로 연장되며 상단에서 하단으로 소정의 기울기를 갖도록 형성되는 다수개의 회전유도판(120)과, 회전유도판(120)의 중앙 상부 표면에 형성되는 다수개의 표면관통홀(130)을 포함하는 가스와 세정액의 회전분산장치에 있어서,
회전유도판(120)의 중앙 하부 표면에 내측면과 외측면 사이에 수직하게 일정간격으로 지그재그 형태로 돌출되며 돌출된 중앙 끝단에 관통공(171)이 형성되는 세정액/가스안내부(170)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.A cylindrical center 110 penetrated up and down, one side is fastened to the center 110, and the other side extends to the outside, extending to the inner surface of the hollow gas cleaning pipe 10, and forming a predetermined distance from the top to the bottom. In the rotation dispersion device for gas and cleaning liquid, including a plurality of rotation guide plates 120 formed to have an inclination, and a plurality of surface penetration holes 130 formed on the central upper surface of the rotation guide plates 120,
A cleaning liquid/gas guide portion 170 is provided on the central lower surface of the rotation guide plate 120 in a zigzag shape at regular intervals perpendicular to the inner surface and the outer surface, and has a through hole 171 formed at the protruding central end. A rotating dispersion device for gas and cleaning liquid, comprising: 청구항 3 또는 청구항 7에 있어서, 중심부(110)의 상단에서 하단으로 일측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제1 충돌판(181)과 중심부(110)의 타측 내면에서 중앙부분으로 돌출된 제2 충돌판(182)이 지그재그 형태로 형성되고,
제1 충돌판(181)과 제2 충돌판(182)의 표면에는 상하로 관통된 수평관통홀(183)이 형성된 것을 특징으로 하는 가스와 세정액의 회전분산장치.The method of claim 3 or claim 7, wherein a first collision plate 181 protrudes from the inner surface of one side from the top to the bottom of the center 110 to the central portion and a second collision plate protrudes from the inner surface of the other side of the center 110 to the central portion. (182) is formed in a zigzag shape,
A rotational dispersion device for gas and cleaning liquid, characterized in that horizontal penetration holes 183 are formed on the surfaces of the first collision plate 181 and the second collision plate 182.
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