KR102604757B1 - Appartus for eliminating water or powder in wet type waste gas cleaning unit - Google Patents
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Abstract
개시된 내용은 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있도록 한 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 관한 것이다.
개시된 내용은 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대와, 상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대와, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시와, 상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터와, 상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈을 포함하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 일 실시예로 제시한다.The disclosed content is that moisture or dust contained in waste gas is effectively collected and removed by centrifugal force resulting from the rotation of the rotating brush within a wet cleaning unit such as a wet scrubber and a wet cleaning unit of a mixed scrubber, thereby preventing blockage of the exhaust duct in advance. This relates to a device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit that can prevent this.
The disclosed content includes a lower shaft support installed on the inner lower side of a wet cleaning unit for wet cleaning waste gas, an upper shaft support installed on the inner upper side of the wet cleaning unit, and a central axis spanning the lower shaft support and the upper shaft support. The rotating brush is rotatably installed vertically and has a plurality of brush bristles on the outer peripheral surface, a driving actuator provided on one side of the wet cleaning unit, and the central axis of the driving actuator and the rotating brush are electrically connected to the rotating brush. A device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit including an electric module that rotates the central axis is presented as an example.
Description
개시된 내용은 반도체 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 적정 기준치 이하로 정화처리하여 배출시키는 습식세정유닛 내에 설치되어 수분 또는 분진을 제거하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 관한 것이다.The disclosed content relates to a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit that is installed in a wet cleaning unit to purify and discharge waste gas used in a semiconductor or display manufacturing process to a level below an appropriate standard and remove moisture or dust.
본 명세서에서 달리 표시하지 않는 한, 이 섹션에 설명되는 내용들은 이 출원의 청구항들에 대한 종래 기술이 아니며, 이 섹션에 포함된다고 하여 종래 기술이라고 인정되는 것은 아니다.Unless otherwise indicated herein, the material described in this section is not prior art to the claims of this application, and is not admitted to be prior art by inclusion in this section.
통상 반도체의 제조는 D램, SD램, 플래시메모리, 실리콘반도체 등 반도체의 종류에 따라 상당한 차이가 있기는 하지만, 통상 웨이퍼 제조공정과, 회로설계 및 마스크 제작공정과, 산화, 감광, 노광, 현상, 에칭, 에싱, 화학적기상증착(CVD) 등을 포함하는 웨이퍼 가공공정과, 패키지 공정을 거쳐 이루어진다. 예를 들어 평판디스플레이(FPD)와 같은 디스플레이의 제조도 전술한 반도체 제조공정이 적용된다.Although there are significant differences depending on the type of semiconductor such as DRAM, SD RAM, flash memory, and silicon semiconductor, the manufacturing of semiconductors usually involves wafer manufacturing process, circuit design and mask manufacturing process, oxidation, photosensitization, exposure, and development. , a wafer processing process including etching, ashing, and chemical vapor deposition (CVD), and a package process. For example, the semiconductor manufacturing process described above is applied to the manufacture of displays such as flat panel displays (FPD).
반도체 제조공정의 경우에는 고순도의 H2, SiH4(모노실란) 또는 SiHCl3(삼염화실) 등과 같은 공정가스가 사용되고, 화학적기상증착에는 고순도의 SiH4, SiH2Cl2, SiHCl3, SiCl4, GeH4, B2H6, BBr3, BCl3, AsH3, PH3, TeH2, SnCl4, GeCl4, WF6, NH3, CH4, Cl2, MoF6 등의 특수 공정가스가 사용되며 운반기체(carrier gas)로서 고순도 수소(H2)와 질소(N2)가 사용된다. 또한 플라즈마 에칭에는 SiF4, CF4, C3F8, C2F6, CHF3, CClF3, O2 등의 공정가스가 사용되고, 이온빔 에칭에는 C3F8, CHF3, CClF3, CF4 등의 특수 공정가스가 사용된다. In the case of semiconductor manufacturing processes, process gases such as high purity H 2 , SiH 4 (monosilane) or SiHCl 3 (trichlorosilane) are used, and for chemical vapor deposition, high purity SiH 4 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 and SiCl 4 are used. , GeH 4 , B 2 H 6 , BBr 3 , BCl 3 , AsH 3 , PH 3 , TeH 2, SnCl 4 , GeCl 4 , WF 6 , NH 3, CH 4 , Cl 2 , MoF 6, etc. High purity hydrogen (H 2 ) and nitrogen (N 2 ) are used as carrier gas. In addition, process gases such as SiF 4 , CF 4 , C 3 F 8 , C 2 F 6 , CHF 3 , CClF 3 , and O 2 are used for plasma etching, and C 3 F 8 , CHF 3 , CClF 3 , and CF are used for ion beam etching. Special process gases such as 4 are used.
한편, 반도체 제조에 사용되는 공정가스는 유독성, 가연성 및 부식성 등의 특성이 강하며 휘발성유기화합물(VOCS; Volatile Organic Compounds)과 같은 유해성분을 포함한다. 여기서 휘발성유기화합물은 증기압이 높아 대기 중으로 쉽게 증발되는 액체 또는 기체상 유기화합물의 총칭으로, 대기 중에서 광화학반응을 일으켜 오존 등 광화학 산화성물질을 생성시켜 광화학스모그를 유발하고. 대기오염 뿐만 아니라 지구온난화의 원인물질일 뿐만 아니라 발암성 물질로도 알려져 있다. Meanwhile, process gases used in semiconductor manufacturing are highly toxic, flammable, and corrosive and contain harmful ingredients such as volatile organic compounds (VOC S ). Here, volatile organic compounds are a general term for liquid or gaseous organic compounds that easily evaporate into the atmosphere due to their high vapor pressure. They cause photochemical reactions in the atmosphere to generate photochemical oxidizing substances such as ozone, causing photochemical smog. It is not only a cause of air pollution but also global warming, and is also known to be a carcinogen.
이러한 공정가스는 제조설비 내에서 일부만 반응에 참여하고, 나머지 90% 정도의 공정가스는 미반응 상태로 제조설비로부터 배출된다. 이렇게 배출되는 공정가스(이하 '폐가스'라 한다)가 별도의 정화과정 없이 대기중에 그대로 방출될 경우 주변 제조설비의 손상과 심각한 환경오염 및 작업자의 안전사고를 초래하게 되므로 각 제조설비에는 배기덕트로 연결된 가스 배출라인 상에 폐가스를 기준치 이하로 분해 또는 정화처리시키는 스크러버가 설치된다.Only a portion of these process gases participate in reactions within the manufacturing facility, and the remaining 90% of the process gas is discharged from the manufacturing facility in an unreacted state. If the process gas discharged in this way (hereinafter referred to as 'waste gas') is released into the atmosphere without a separate purification process, it will cause damage to surrounding manufacturing facilities, serious environmental pollution, and safety accidents for workers. Therefore, each manufacturing facility must have an exhaust duct. A scrubber is installed on the connected gas discharge line to decompose or purify the waste gas to a level below the standard level.
이러한 스크러버는 폐가스의 특성 다시 말해서, 공기와의 접촉시 폭발적으로 반응하는 성질, 연소되는 성질, 가스 처리제와 반응하는 성질 및 물에 용해되는 성질 등을 이용하여 폐가스를 분해 또는 정화처리하는 것으로. 크게 건식 스크러버와 습식 스크러비 및 건식과 습식을 병행하는 혼합식 스크러버로 구분된다.These scrubbers decompose or purify waste gas using the characteristics of the waste gas, namely, the property of reacting explosively upon contact with air, the property of combustion, the property of reacting with gas treatment agents, and the property of dissolving in water. It is largely divided into dry scrubbers, wet scrubbers, and mixed scrubbers that combine dry and wet scrubbers.
건식 스크러버는 버너의 화염 또는 플라즈마 내로 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소 또는 산화시키거나, 예를 들어 히터와 같은 열원에 의해 형성된 고온의 챔버 내로 폐가스가 통과되도록 하여 열분해시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식 스크러버는 발화성(가연성) 폐가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 폐가스의 처리에는 부적절하다.Dry scrubbers allow waste gas to pass through the flame or plasma of a burner to directly combust or oxidize it, or have a structure to thermally decompose it by passing it into a high-temperature chamber formed by a heat source such as a heater. These dry scrubbers are excellent at treating ignitable (combustible) waste gases, but are unsuitable for treating waste gases that do not easily burn, such as water-soluble gases.
습식 스크러버는 물 분사를 이용하여 폐가스를 포집한 후 세정 및 냉각하는 비교적 간단한 구성을 가지며, 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있는 장점이 있다. 그러나 불수용성의 폐가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.Wet scrubbers have a relatively simple structure that collects waste gases using water spray, then cleans and cools them, and has the advantage of being easy to manufacture and capable of increasing capacity. However, it is impossible to treat insoluble waste gas, and it is especially unsuitable for treatment of waste gas containing highly flammable hydrogen groups.
혼합식 스크러버는 폐가스를 반응기 내에서 1차 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후 2차적으로 물 분사를 통해 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 가지며, 이러한 혼합식 스크러버의 예는 대한민국 실용신안등록 제20-0405303호(2006.01.10. 공고), 대한민국 공개특허 제10-2010-0021135호(2010.02.24. 공개), 대한민국 특허등록 제10-1431452호(2014.08.12. 공고), 대한민국 특허등록 제10-1568804호(2015.11.12. 공고) 등에 개시된다.The mixed scrubber has a structure that first combusts the waste gas in the reactor to remove ignitable and explosive gases, and then secondarily dissolves the aqueous toxic waste gas in water through water injection. An example of such a mixed scrubber is used in Korea. Model Registration No. 20-0405303 (announced on January 10, 2006), Republic of Korea Patent Publication No. 10-2010-0021135 (published on February 24, 2010), Republic of Korea Patent Registration No. 10-1431452 (announced on August 12, 2014), Korea It is disclosed in Patent Registration No. 10-1568804 (announced on November 12, 2015).
전술한 혼합식 스크러버에 의해 폐가스가 처리되는 과정을 살펴보면, 반도체 제조설비의 공정챔버에서 발생되는 폐가스가 건식 반응부(Reactor) 내로 유입된 후 버너의 화염 또는 고온 플라즈마에 의해 1차적으로 연소/산화되거나 히터에 의해 1차적으로 열분해되고, 1차 정화처리를 거친 폐가스가 물 분사 구조를 가지는 습식세정부(Wet Zone)로 이동되어 폐가스에 포함된 수용성 유독 성분이 용해됨과 동시에 분진(Powder)이 포집되어 하부수조로 낙하 및 집수되는 2차 세정을 거치게 되고, 세정된 처리가스는 최종적으로 필터(수분제거 등)와 배기덕트를 통해 대기 중으로 배출된다.Looking at the process of treating waste gas by the above-mentioned mixed scrubber, waste gas generated in the process chamber of a semiconductor manufacturing facility flows into the dry reactor and is then primarily burned/oxidized by the flame of the burner or high-temperature plasma. The waste gas that has gone through primary purification treatment or is primarily thermally decomposed by a heater is moved to a wet zone with a water spray structure, where water-soluble toxic components contained in the waste gas are dissolved and at the same time dust (powder) is collected. It falls into the lower water tank and undergoes secondary cleaning where it is collected, and the cleaned processed gas is finally discharged into the atmosphere through a filter (moisture removal, etc.) and exhaust duct.
그러나 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛에서 수분과 분진이 제대로 포집제거되지 않을 경우에는 배기덕트가 수분의 응결과 분진의 고착에 의해 폐색되는 문제점이 있다.However, if moisture and dust are not properly collected and removed in a wet cleaning unit such as a wet scrubber and a wet cleaning unit of a mixed scrubber, there is a problem in that the exhaust duct is blocked by moisture condensation and dust adhesion.
이러한 문제점을 해소하기 위한 방안의 일 예로, 대한민국 실용신안등록 제20-0405303호(2006.01.10. 공고) 등과 같이 습식세정유닛 내에 폴링이 설치되거나 대한민국 특허등록 제10-1312414호(2013.10.14. 공고) 등과 같이 습식세정유닛 내에 코로나 방전을 이용한 전기집진기가 설치되기도 한다.As an example of a solution to this problem, polling is installed in the wet cleaning unit, such as in Korea Utility Model Registration No. 20-0405303 (announced on January 10, 2006), or in Korea Patent Registration No. 10-1312414 (announced on October 14, 2013). As shown in the notice), an electrostatic precipitator using corona discharge is sometimes installed within a wet cleaning unit.
그러나 전자의 경우에는 수용성 유독성분의 처리는 용이하지만 수분과 분진이 배기덕트로 유입되는 현상이 방지되지 못하며, 후자의 경우에는 분진의 포집처리효율은 증대되는 반면 수분이 여전히 배기덕트로 유입되는 문제점이 있다.However, in the former case, treatment of water-soluble toxic ingredients is easy, but the phenomenon of moisture and dust flowing into the exhaust duct cannot be prevented. In the latter case, the dust collection and treatment efficiency is increased, but moisture still flows into the exhaust duct. There is.
습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있도록 한 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 제공하고자 한다.In a wet cleaning unit such as the wet cleaning part of a wet scrubber and a mixed scrubber, the moisture or dust contained in the waste gas is effectively collected and removed by the centrifugal force caused by the rotational drive of the rotating brush, thereby preventing blockage of the exhaust duct in advance. The object is to provide a device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit.
또한 상술한 바와 같은 기술적 과제들로 한정되지 않으며, 이하의 설명으로부터 또 다른 기술적 과제가 도출될 수도 있음은 자명하다.Additionally, it is not limited to the technical challenges described above, and it is obvious that other technical challenges may be derived from the description below.
개시된 내용은 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대와, 상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대와, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시와, 상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터와, 상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈을 포함하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치를 일 실시예로 제시한다.The disclosed content includes a lower shaft support installed on the inner lower side of a wet cleaning unit for wet cleaning waste gas, an upper shaft support installed on the inner upper side of the wet cleaning unit, and a central axis spanning the lower shaft support and the upper shaft support. The rotating brush is rotatably installed vertically and has a plurality of brush bristles on the outer peripheral surface, a driving actuator provided on one side of the wet cleaning unit, and the central axis of the driving actuator and the rotating brush are electrically connected to the rotating brush. A device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit including an electric module that rotates the central axis is presented as an example.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 일단이 고정되고 상기 회전브러시의 중심축으로부터 이격되어 수직으로 연장되며 상기 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진을 털어내는 브러싱바아를 더 포함한다.According to a preferred feature of the disclosed content, one end is fixed to the lower shaft support and the upper shaft support, extends vertically away from the central axis of the rotating brush, and is collected in the brush bristles of the rotating brush when the rotating brush rotates. It further includes a brushing bar that shakes off moisture or dust.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 브러시모는 상기 회전브러시의 중심축의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부와 상부브러시모부로 구획되게 형성된다.According to a preferred feature of the disclosed content, the brush bristles are formed to be divided into lower brush bristles and upper brush bristles based on the longitudinal center of the central axis of the rotating brush.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 구동액추에이터는 구동모터이고, 상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 출력축에 설치되는 구동스프로킷과, 상기 회전브러시의 중심축에 설치되는 전동스프로킷과, 상기 구동스프로킷과 상기 전동스프로킷을 전동연결하는 전동체인을 포함하며, 상기 습식세정유닛의 일측에는 측면돌출프레임이 연통되게 설치되고 상기 구동액추에이터는 상기 출력축이 상기 측면돌출프레임 내로 돌출되게 설치된다.According to a preferred feature of the disclosed content, the driving actuator is a driving motor, and the electric module includes a driving sprocket installed on the output shaft of the driving actuator, an electric sprocket installed on the central axis of the rotating brush, the driving sprocket and the It includes an electric chain that electrically connects the electric sprocket, and a side protruding frame is installed on one side of the wet cleaning unit in communication, and the drive actuator is installed so that the output shaft protrudes into the side protruding frame.
개시된 내용의 바람직한 특징에 따르면, 상기 구동액추에이터는 실린더기구이고, 상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 피스톤로드에 형성되는 랙기어와, 상기 회전브러시의 중심축에 구비되고 상기 랙기어에 치합되는 피니언기어를 포함하며, 상기 구동액추에이터는 상기 습식세정유닛 내로 피스톤로드가 관통되게 상기 습식세정유닛에 설치된다.According to a preferred feature of the disclosed content, the driving actuator is a cylinder mechanism, and the electric module includes a rack gear formed on the piston rod of the driving actuator, and a pinion gear provided on the central axis of the rotating brush and engaged with the rack gear. It includes, and the driving actuator is installed in the wet cleaning unit so that the piston rod penetrates into the wet cleaning unit.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛 내에서 회전브러시의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 효과적으로 포집제거됨에 따라 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있는 장점이 있다.According to the moisture or dust removal device of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment, moisture contained in the waste gas is removed by centrifugal force resulting from the rotational drive of the rotating brush within the wet cleaning unit, such as the wet cleaning unit of the wet scrubber and the mixed scrubber. Alternatively, there is an advantage that blockage of the exhaust duct can be prevented in advance as dust is effectively collected and removed.
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 하부축지지대와 상부축지지대에 브러싱바아가 고정설치됨에 따라 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모가 브러싱바아에 충돌되면서 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있으며 상기 회전브러시의 브러시모가 자동청소될 수 있는 장점이 있다.According to the moisture or dust removal device of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment, the brushing bar is fixedly installed on the lower shaft support and the upper shaft support, so that when the rotating brush rotates, the brush bristles of the rotating brush collide with the brushing bar. There is an advantage that moisture or dust collected on the brush bristles of the rotating brush can be shaken off and removed, and the brush bristles of the rotating brush can be automatically cleaned.
본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.
도 1은 개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 개략설치구조도.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 부분절개사시도.
도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 단면도.
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터와 전동모듈의 일 실시예의 구조도.
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터와 전동모듈의 다른 실시예의 구조도.1 is a schematic installation structure diagram of a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
Figure 2 is a partially cut-away perspective view of a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
Figure 3 is a cross-sectional view of a device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
Figure 4 is a structural diagram of an embodiment of a driving actuator and an electric module in a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
Figure 5 is a structural diagram of another embodiment of a driving actuator and an electric module in a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예의 구성 및 작용효과에 대하여 살펴본다. 참고로, 이하 도면에서, 각 구성요소는 편의 및 명확성을 위하여 생략되거나 개략적으로 도시되었으며, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 반영하는 것은 아니다. 또한 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭하며 개별 도면에서 동일 구성에 대한 도면 부호는 생략하기로 한다.Hereinafter, the configuration and effects of the preferred embodiment will be examined with reference to the attached drawings. For reference, in the drawings below, each component is omitted or schematically shown for convenience and clarity, and the size of each component does not reflect the actual size. In addition, the same reference numerals refer to the same components throughout the specification, and reference numerals for the same components in individual drawings will be omitted.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 도 1에 도시되는 바와 같이 예를 들어 반도체 제조공정 또는 디스플레이 제조공정에 사용된 폐가스를 습식세정하는 습식 스크러버 또는 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3) 내에 설치되어 폐가스에 포함된 수분 또는 분진의 포집제거 효과를 향상시키는 역할을 한다.As shown in FIG. 1, the moisture or dust removal device 1 of the wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content is a wet scrubber or mixed type that wet cleans waste gas used in, for example, a semiconductor manufacturing process or a display manufacturing process. It is installed in the wet cleaning unit (3), such as the wet cleaning part of the scrubber, and serves to improve the effect of collecting and removing moisture or dust contained in the waste gas.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)의 설치로 인해 습식 스크러버 또는 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3)에 연결되는 배기덕트(5)에 수분 또는 분진이 도달되는 것이 방지되고 배기덕트(5)가 수분 또는 분진의 흡착으로 인해 폐색되는 현상이 미연에 방지될 수 있게 된다.Due to the installation of the moisture or dust removal device (1) of the wet cleaning unit according to the embodiment of the disclosed content, the exhaust duct (5) connected to the wet cleaning unit (3), such as the wet cleaning unit of a wet scrubber or a mixed scrubber. Moisture or dust is prevented from reaching the exhaust duct 5, and blockage due to adsorption of moisture or dust can be prevented in advance.
도 2는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 상세구조도이고, 도 3은 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치의 단면도이다.FIG. 2 is a detailed structural diagram of a device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosure, and FIG. 3 is a cross-sectional view of a device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosure.
개시된 내용의 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 도 2 및 도 3에 도시되는 바와 같이, 폐가스를 습식세정하는 습식세정유닛(3)의 내부 하측에 설치되는 하부축지지대(10)와, 습식세정유닛(3)의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대(20)와, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 걸쳐 중심축(31)이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모(33)가 구비되는 회전브러시(30)와, 습식세정유닛(3)의 일측에 구비되는 구동액추에이터(40)와, 구동액추에이터(40)와 회전브러시(30)의 중심축(31)을 전동연결하여 회전브러시(30)의 중심축(31)을 회전구동시키는 전동모듈(50)을 포함한다.As shown in FIGS. 2 and 3, the moisture or dust removal device 1 of the wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content includes a lower shaft installed on the inner lower side of the
여기서, 하부축지지대(10)는 차후에 설명될 회전브러시(30)의 중심축(31)의 하단을 회전 가능하게 지지하는 것으로, 습식세정유닛(3)의 내부 하측에 고정설치된다.Here, the
하부축지지대(10)는 습식세정유닛(3)의 내부 하측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지고 그 상부면 중앙에는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 하단이 예를 들어 축베어링을 통해 회전가능하게 설치된다. 하부축지지대(10)의 양측과 습식세정유닛(3)의 내부 하측 가장자리 사이의 공간을 통해 폐가스가 관류 가능하다.The
상부축지지대(20)는 차후에 설명될 회전브러시(30)의 중심축(31)의 상단을 회전 가능하게 지지하는 것으로, 습식세정유닛(3)의 내부 상측에 고정설치된다. The
상부축지지대(20)는 습식세정유닛(3)의 내부 상측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지고 그 하부면 중앙에는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 상단이 예를 들어 축베어링을 통해 회전가능하게 설치된다. 상부축지지대(20)의 양측과 습식세정유닛(3)의 내부 상측 가장자리 사이의 공간을 통해 폐가스가 관류 가능하다.The
전술한 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)는 습식세정유닛(3)의 플랜지연결부에 일체로 설치 가능하다.The aforementioned
습식세정유닛(3)의 내부에는 전술한 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 걸쳐 회전브러시(30)가 회전가능하게 설치된다. 회전브러시(30)는 습식세정유닛(3) 내에서 회전구동되면서 습식세정유닛(3)의 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수분 또는 분진을 포집함과 동시에 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 습식세정효과를 배가시키는 역할을 한다.Inside the
회전브러시(30)는 중심축(31)이 수직으로 회전가능하게 설치되고 중심축(31)의 외주면에는 다수의 브러시모(33)가 구비되는 구조를 가지되, 브러시모(33)는 회전브러시(30)의 중심축(31)의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부(35)와 상부브러시모부(37)로 구획되게 형성되는 것이 바람직하다. The rotating
브러시모(33)는 중심축(31)을 기준으로 방사상으로 수평으로 연장될 수도 있지만 중심축(31)을 기준으로 방사상으로 하향 경사지게 연장될 수도 있다.The brush bristles 33 may extend radially and horizontally with respect to the
이 경우에 습식세정유닛(3)은 하부축지지대(10)의 하측에 구비되어 회전브러시(30)에 의한 세정 이전에 하부로 물을 분사하여 1차 습식세정처리하는 제 1 습식세정노즐(7)과, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20) 사이에 구비되고 하부브러시모부(35) 상으로 물을 분사하여 2차 습식세정처리하는 제 2 습식세정노즐(9)을 포함하는 것이 바람직하다.In this case, the wet cleaning unit (3) is provided on the lower side of the lower shaft support (10) and sprays water to the lower part before cleaning by the rotating brush (30) to perform the first wet cleaning nozzle (7). ) and a second wet cleaning nozzle (9) provided between the lower shaft support (10) and the upper shaft support (20) and spraying water onto the lower brush bristles (35) to perform secondary wet cleaning. desirable.
회전브러시(30)의 브러시모(33) 중 하부브러시모부(35)는 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수용성가스를 제 2 습식세정노즐(9)로부터 분사되는 물을 통해 2차 습식세정하고, 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수분 또는 분진을 포집함과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 하향 이동되도록 함으로써 2차 습식세정효과를 배가시킨다.The lower brush bristles 35 of the brush bristles 33 of the rotating
또한 회전브러시(30)의 브러시모(33) 중 상부브러시모부(37)는 폐가스 중 제 1 습식세정노즐(7)에 의한 1차 습식세정과 제 2 습식세정노즐(9)에 의한 2차 습식세정에도 불구하고 처리되지 못한 수분 또는 분진을 포집함과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 따라 발생되는 원심력을 통해 수분 또는 분진을 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌시켜 하향이동되도록 함으로써 배기덕트(5)로의 배기 직전에 제거시키는 역할을 한다.In addition, the upper brush bristles (37) of the brush bristles (33) of the rotating brush (30) are subjected to primary wet cleaning by the first wet cleaning nozzle (7) and secondary wet cleaning by the second wet cleaning nozzle (9) in the waste gas. It collects moisture or dust that has not been treated despite cleaning, and at the same time, centrifugal force generated by the rotation of the rotating brush (30) causes the moisture or dust to collide with the inner wall of the wet cleaning unit (3) and move downward, thereby moving the moisture or dust downward through the exhaust duct. It serves to remove it just before exhausting to (5).
전술한 회전브러시(30)는 전체가 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 합성수지재로 제조되는 것이 바람직하지만, 실시예에 따라서는 중심축(31)의 상하단부측만 고강도의 금속재질로 제조되어 중심축(31)에 일체로 결합될 수도 있다.It is preferable that the above-described
전술한 습식세정유닛(3)의 일측에는 구동액추에이터(40)가 구비된다. 구동액추에이터(40)는 회전브러시(30)의 중심축(31)을 회전구동시키는 구동력을 발생시키는 역할을 하는 것으로, 예를 들어 구동모터 등과 같이 회전운동을 발생시키는 회전액추에이터 또는 예를 들어 실린더기구 등과 같이 직선왕복운동을 발생시키는 선형액추에이터가 적용 가능하다.A driving
전술한 구동액추에이터(40)와 회전브러시(30)의 중심축(31)은 전동모듈(50)에 의해 전동연결된다. 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 구동력을 회전브러시(30)의 중심축(31)으로 전당하여 회전브러시(30)를 회전구동시키는 역할을 하는 것으로, 예를 들어 전동체인기구, 전동벨트기구, 전동기어세트 등으로 형성 가능하다.The above-described
도 4는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터와 전동모듈의 일 실시예의 구조도이다.Figure 4 is a structural diagram of an embodiment of a driving actuator and an electric module in a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
도 4에 도시되는 바와 같이, 구동액추에이터(40)는 구동모터일 수 있고, 전동모듈(50)은 전동체인기구로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 4, the
이 경우에는 구동모터로 형성되는 구동액추에이터(40)의 설치를 위해 습식세정유닛(3)의 일측에는 측면돌출프레임(3a)이 연통되게 설치되고 구동액추에이터(40)는 출력축이 수직방향으로 측면돌출프레임(3a) 내로 돌출되게 설치될 수 있다. 구동모터로 형성되는 구동액추에이터(40)는 감속기어유닛이 일체로 구비되는 것이 바람직하다.In this case, in order to install the
전동체인기구로 형성되는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 출력축에 설치되는 구동스프로킷(51)과, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 설치되는 전동스프로킷(53)과, 구동스프로킷(51)과 전동스프로킷(53)을 전동연결하는 전동체인(55)을 포함할 수 있다.The
도시되지는 않았지만 전동모듈(50)은 전동벨트기구로도 형성될 수 있는데, 이 경우에는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 출력축에 설치되는 구동풀리와, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 설치되는 전동풀리와, 구동풀리와 전동풀리를 전동연결하는 전동벨트를 포함할 수 있다. Although not shown, the
도 5는 개시된 내용의 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 있어서, 구동액추에이터와 전동모듈의 다른 실시예의 구조도이다.Figure 5 is a structural diagram of another embodiment of a driving actuator and an electric module in a moisture or dust removal device for a wet cleaning unit according to an embodiment of the disclosed content.
도 5에 도시되는 바와 같이, 구동액추에이터(40)는 실린더기구일 수 있고, 전동모듈(50)은 랙기어(57)와 피니언기어(59)를 포함하는 전동기어세트일 수 있다.As shown in FIG. 5, the
공압 또는 유압 실린더기구로 구동액추에이터(40)는 수직으로 배열되는 습식세정유닛(3) 내로 피스톤로드가 수평으로 관통되도록 습식세정유닛(3)의 측면에 설치되는 것이 바람직하다.The driving
전동기어세트로 형성되는 전동모듈(50)은 구동액추에이터(40)의 피스톤로드에 형성되는 랙기어(57)와, 회전브러시(30)의 중심축(31)에 구비되고 랙기어(57)에 치합되는 피니언기어(59)를 포함할 수 있다. The
또한 전술한 회전브러시(30)의 브러시모(33)는 폐가스에 포함된 수분 또는 분진의 흡착에 의해 오염될 수 있다. 이러한 브러시모(33)의 오염을 방지하기 위해 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에는 브러시모(33) 상에 흡착된 수분 또는 분진을 털어낼 수 있도록 하는 브러싱바아(60)가 고정설치될 수 있다. Additionally, the brush bristles 33 of the aforementioned rotating
브러싱바아(60)는 회전브러시(30)의 회전시에 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 충돌되면서 회전브러시(30)의 브러시모(33)에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있도록 하는 것으로, 하부축지지대(10) 또는 상부축지지대(20)에 일단이 고정되고 회전브러시(30)의 중심축(31)으로부터 이격되어 수직으로 연장된다. The brushing
브러싱바아(60)는 수분 또는 분진의 흡착으로 오염될 수 있는 회전브러시(30)의 브러시모(33)의 자동청소를 위한 것으로, 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 금속재 봉 또는 파이프로 형성되거나 또는 일정 수준 이상의 강성과 내화학성을 가지는 합성수지재 봉 또는 파이프로 형성 가능하다.The brushing
상술한 바와 같이, 개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치(1)는 습식 스크러버와 혼합식 스크러버의 습식세정부와 같은 습식세정유닛(3) 내에서 회전브러시(30)가 회전구동되는 구조로 형성됨에 따라, 회전브러시(30)의 회전구동에 따른 원심력에 의해 폐가스에 포함된 수분 또는 분진이 회전브러시(30)에 의해 포집됨과 동시에 회전브러시(30)의 회전에 의해 발생되는 원심력으로 인해 습식세정유닛(3)의 내벽으로 충돌되어 하향 이동되어 제거되면서 배기덕트의 폐색이 미연에 방지될 수 있게 된다.As described above, the moisture or dust removal device 1 of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment has a rotating
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치에 의하면, 하부축지지대(10)와 상부축지지대(20)에 브러싱바아(60)가 고정설치됨에 따라 회전브러시(30)의 회전시에 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 브러싱바아(60)에 충돌되면서 회전브러시(30)의 브러시모(33)에 포집된 수분 또는 분진이 털어내어져 제거될 수 있고 회전브러시(30)의 브러시모(33)가 자동청소된다.According to the moisture or dust removal device of the wet cleaning unit according to the disclosed embodiment, the brushing
개시된 일 실시예에 따른 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치가 설치되는 습식세정유닛(3)은 수직방향으로 배열되는 것으로 도시되어 있으나, 실시예에 따라서는 수평방향으로 배열될 수도 있다. 이 경우에 하부, 상부와 같은 위치관계를 나타내는 용어는 일측과 타측으로 대체 가능하다.The
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Although preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, the embodiments described in this specification and the configuration shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent the entire technical idea of the present invention. Since this is not the case, it should be understood that there may be various equivalents and modifications that can replace them at the time of filing this application. Therefore, the embodiments described above should be understood in all respects as illustrative and not restrictive, and the scope of the present invention is indicated by the claims described later rather than the detailed description, and the meaning and scope of the claims and their All changes or modified forms derived from the equivalent concept should be construed as falling within the scope of the present invention.
1 : 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치
3 : 습식세정유닛
3a : 측면돌출프레임
5 : 배기덕트
7 : 제 1 습식세정노즐
9 : 제 2 습식세정노즐
10 : 하부축지지대
20 : 상부축지지대
30 : 회전브러시
31 : 중심축
33 : 브러시모
35 : 하부브러시모부
37 : 상부브러시모부
40 : 구동액추에이터
50 : 전동모듈
51 : 구동스프로킷
53 : 전동스프로킷
55 : 전동체인
57 : 랙기어
59 : 피니언기어
60 : 브러싱바아1: Moisture or dust removal device of wet cleaning unit
3: Wet cleaning unit
3a: Side protruding frame
5: exhaust duct
7: First wet cleaning nozzle
9: Second wet cleaning nozzle
10: Lower shaft support
20: Upper shaft support
30: Rotating brush
31: central axis
33: Brush bristles
35: Lower brush bristles
37: Upper brush bristles
40: Driving actuator
50: Electric module
51: Drive sprocket
53: Electric sprocket
55: electric chain
57: Rack gear
59: pinion gear
60: Brushing bar
Claims (5)
상기 습식세정유닛의 내부 상측에 설치되는 상부축지지대;
상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 걸쳐 중심축이 수직으로 회전가능하게 설치되고 외주면에는 다수의 브러시모가 구비되는 회전브러시;
상기 습식세정유닛의 일측에 구비되는 구동액추에이터; 및
상기 구동액추에이터와 상기 회전브러시의 중심축을 전동연결하여 상기 회전브러시의 중심축을 회전구동시키는 전동모듈;
상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대에 일단이 고정되고 상기 회전브러시의 중심축으로부터 이격되어 수직으로 연장되며 상기 회전브러시의 회전시에 상기 회전브러시의 브러시모에 포집된 수분 또는 분진을 털어내는 브러싱바아를 포함하며,
상기 브러시모는 상기 회전브러시의 중심축의 길이방향 중앙부를 기준으로 하부브러시모부와 상부브러시모부로 구획되게 형성되고,
상기 습식세정유닛은 상기 하부축지지대의 하측에 구비되어 상기 회전브러시에 의한 세정 이전에 하부로 물을 분사하여 1차 습식세정처리하는 제 1 습식세정노즐과, 상기 하부축지지대와 상기 상부축지지대 사이에 구비되고 상기 하부브러시모부 상으로 물을 분사하여 2차 습식세정처리하는 제 2 습식세정노즐을 포함하며,
상기 하부축지지대는 상기 습식세정유닛의 내부 하측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지고, 상기 상부축지지대는 상기 습식세정유닛의 내부 상측 중앙을 가로질러 연장되는 수평바아 형상을 가지는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.A lower shaft support installed on the inner lower side of a wet cleaning unit for wet cleaning waste gas;
an upper shaft support installed on the inner upper side of the wet cleaning unit;
a rotating brush whose central axis is installed to be rotatable vertically across the lower shaft support and the upper shaft support and is provided with a plurality of brush bristles on an outer peripheral surface;
A driving actuator provided on one side of the wet cleaning unit; and
an electric module that electrically connects the driving actuator and the central axis of the rotating brush to rotate the central axis of the rotating brush;
A brushing bar that has one end fixed to the lower shaft support and the upper shaft support, extends vertically away from the central axis of the rotating brush, and shakes off moisture or dust collected in the bristles of the rotating brush when the rotating brush rotates. Includes,
The brush bristles are formed to be divided into lower brush bristles and upper brush bristles based on the longitudinal center of the central axis of the rotating brush,
The wet cleaning unit is provided on the lower side of the lower shaft support and includes a first wet cleaning nozzle that sprays water downward before cleaning with the rotating brush to perform primary wet cleaning, the lower shaft support, and the upper shaft support. It includes a second wet cleaning nozzle provided between the lower brush bristles and spraying water onto the lower brush bristles to perform secondary wet cleaning.
The lower shaft support has a horizontal bar shape extending across the inner lower center of the wet cleaning unit, and the upper shaft support has a horizontal bar shape extending across the inner upper center of the wet cleaning unit. Moisture or dust removal device.
상기 구동액추에이터는 구동모터이고,
상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 출력축에 설치되는 구동스프로킷과, 상기 회전브러시의 중심축에 설치되는 전동스프로킷과, 상기 구동스프로킷과 상기 전동스프로킷을 전동연결하는 전동체인을 포함하며,
상기 습식세정유닛의 일측에는 측면돌출프레임이 연통되게 설치되고 상기 구동액추에이터는 상기 출력축이 상기 측면돌출프레임 내로 돌출되게 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.In claim 1,
The driving actuator is a driving motor,
The electric module includes a driving sprocket installed on the output shaft of the driving actuator, an electric sprocket installed on the central axis of the rotating brush, and an electric chain electrically connecting the driving sprocket and the electric sprocket,
A moisture or dust removal device for a wet cleaning unit, characterized in that a side protruding frame is installed in communication with one side of the wet cleaning unit, and the drive actuator is installed so that the output shaft protrudes into the side protruding frame.
상기 구동액추에이터는 실린더기구이고,
상기 전동모듈은 상기 구동액추에이터의 피스톤로드에 형성되는 랙기어와, 상기 회전브러시의 중심축에 구비되고 상기 랙기어에 치합되는 피니언기어를 포함하며,
상기 구동액추에이터는 상기 습식세정유닛 내로 피스톤로드가 관통되게 상기 습식세정유닛에 설치되는 것을 특징으로 하는 습식세정유닛의 수분 또는 분진 제거장치.In claim 1,
The driving actuator is a cylinder mechanism,
The electric module includes a rack gear formed on the piston rod of the drive actuator, and a pinion gear provided on the central axis of the rotating brush and engaged with the rack gear,
A device for removing moisture or dust from a wet cleaning unit, wherein the driving actuator is installed in the wet cleaning unit so that a piston rod penetrates into the wet cleaning unit.
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