KR102603290B1 - Generation system of light-modulated laser pulse - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 광변조 레이저 펄스를 발생시키는 광변조 레이저 펄스 생성기, 그리고 상기 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하는 외부 공진기를 포함한다.A system for generating a light-modulated laser pulse according to an embodiment of the present invention includes a light-modulated laser pulse generator that generates a light-modulated laser pulse, and an external resonator that suppresses a residual signal of the light-modulated laser pulse.
Description
본 발명은 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 레이저 가공에 사용되는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a system for generating light-modulated laser pulses, and more specifically, to a system for generating light-modulated laser pulses used in laser processing.
극초단 레이저 펄스는 짧은 펄스폭과 높은 첨두 출력으로 인해 보다 정밀도 높은 미세 가공이 가능하여 반도체, 디스플레이 등 정밀 부품 제작 및 가공에 활용되고 있다. 이러한 극초단 레이저 펄스는 일반적으로 모드 잠금 방법으로 생성하고 있다. 일반적인 모드 잠금 방법은 우연적으로 공진기 내부의 여러 모드들이 결맞음 상태를 유지하는 조건에서 극초단 레이저 펄스를 생성한다. 따라서, 공진기 내부의 요소 특성 또는 조건 변경에 따라 극초단 레이저 펄스의 특성 변경이 용이하며 공진기의 이득, 손실, 분산 등 공진기 내부의 특성을 변경함으로써 극초단 레이저 펄스의 성능을 최적화할 수 있다. 그러나, 모드 잠금 방법은 주변 환경 변화에 민감하고 생성 조건이 까다로워, 극초단 레이저 펄스를 안정적으로 생성하고 유지하기 어렵다. 반면, 광변조 방법은 안정적으로 펄스를 생성할 수 있으며 GHz 수준의 고반복률 극초단 레이저 펄스의 생성도 가능하다. 그러나, 극초단 레이저 펄스를 생성하기 위해 초단 레이저 펄스를 추가적으로 압축하는 과정에서 발생하는 비선형 현상, RF 신호원의 잡음 성능, 또는 신호 제어 등에 의해 극초단 레이저 펄스의 주변부에 불필요한 잔여 신호가 남아 있을 수 있어 최적화 작업이 필요할 수 있다. 이러한 광변조 방법은 공진기를 포함하지 않고 직접적으로 레이저 광원을 변조하여 극초단 레이저 펄스를 생성하므로 생성된 광변조 레이저 펄스의 최적화 작업이 필요하다.Ultrashort laser pulses enable more precise micro-processing due to their short pulse width and high peak output, and are used in the production and processing of precision parts such as semiconductors and displays. These ultrashort laser pulses are generally generated using a mode-locked method. A typical mode locking method accidentally generates ultrashort laser pulses under the condition that various modes inside the resonator remain coherent. Therefore, it is easy to change the characteristics of the ultrashort laser pulse according to changes in element characteristics or conditions inside the resonator, and the performance of the ultrashort laser pulse can be optimized by changing the characteristics inside the resonator, such as gain, loss, and dispersion. However, the mode locking method is sensitive to changes in the surrounding environment and has difficult generation conditions, making it difficult to stably generate and maintain ultrashort laser pulses. On the other hand, the optical modulation method can stably generate pulses and can also generate ultrashort laser pulses with high repetition rates at the GHz level. However, unnecessary residual signals may remain in the periphery of the ultrashort laser pulse due to nonlinear phenomena that occur in the process of additionally compressing the ultrashort laser pulse to generate the ultrashort laser pulse, noise performance of the RF signal source, or signal control. Therefore, optimization work may be necessary. This optical modulation method does not include a resonator and directly modulates the laser light source to generate ultrashort laser pulses, so optimization of the generated optical modulation laser pulses is required.
광변조 방법에 의해 생성된 극초단 레이저 펄스, 즉 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하기 위해 편광이나 위상차 등 비선형 현상으로 발생한 펄스의 메인부와 주변부 간 투과율 차이를 이용할 수 있다. 비선형 편광을 이용한 방법은 편광 변화가 환경에 매우 민감하여 산업용 레이저 활용에 적합하지 않다. 비선형 위상차를 이용하는 방법은 사냑 루프(Sagnac loop) 내 서로 다른 방향으로 진행하는 두 빛의 세기에 따른 위상차를 이용하므로 사냑 루프 내부에서 충분한 양의 비선형 위상차가 발생해야 한다. 그 과정에서 루프의 길이가 수 m 수준으로 길어질 수 있어 원치 않는 고차 비선형 현상으로 고출력 펄스의 주변부 잔여 신호의 억제가 복잡해지기 쉬우며, 파장에 따라 투과율의 차이가 있어 광대역폭의 극초단 펄스에서 최적 길이를 결정하기 어렵다. To suppress the residual signal of an ultrashort laser pulse generated by an optical modulation method, that is, an optically modulated laser pulse, the difference in transmittance between the main part and the peripheral part of the pulse generated by nonlinear phenomena such as polarization or phase difference can be used. Methods using nonlinear polarization are not suitable for industrial laser use because polarization changes are very sensitive to the environment. The method using nonlinear phase difference uses the phase difference according to the intensity of two lights traveling in different directions within the Sagnac loop, so a sufficient amount of nonlinear phase difference must be generated within the Sagnac loop. In the process, the length of the loop can become as long as several meters, making suppression of residual signals in the periphery of high-power pulses complicated due to unwanted high-order nonlinear phenomena. Transmittance varies depending on the wavelength, so it is optimal for ultra-short pulses with a wide bandwidth. It is difficult to determine the length.
본 발명은 전술한 배경 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하고 간단한 구조로 광변조 레이저 펄스를 안정화시킬 수 있는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템을 제공하고자 한다.The present invention is intended to solve the problems of the above-described background technology, and seeks to provide a system for generating a light-modulated laser pulse that can suppress residual signals of the light-modulated laser pulse and stabilize the light-modulated laser pulse with a simple structure.
본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 광변조 레이저 펄스를 발생시키는 광변조 레이저 펄스 생성기, 그리고 상기 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하는 외부 공진기를 포함한다.A system for generating a light-modulated laser pulse according to an embodiment of the present invention includes a light-modulated laser pulse generator that generates a light-modulated laser pulse, and an external resonator that suppresses a residual signal of the light-modulated laser pulse.
상기 외부 공진기는 상기 광변조 레이저 펄스가 입력 및 출력되는 입출력부, 상기 광변조 레이저 펄스를 반사시켜 공진시키는 미러부, 그리고 상기 잔여 신호를 억제하는 잔여 신호 억제부를 포함할 수 있다.The external resonator may include an input/output unit through which the optical modulation laser pulse is input and output, a mirror unit for reflecting and resonating the optical modulation laser pulse, and a residual signal suppression unit for suppressing the residual signal.
상기 미러부는 서로 마주보며 상기 입출력부를 통해 상기 외부 공진기로 입력된 상기 광변조 레이저 펄스를 공진시키는 제1 미러 및 제2 미러, 그리고 상기 제1 미러 및 제2 미러 중 어느 하나에 연결되며 상기 외부 공진기의 반복률을 조절하는 반복률 조절부를 포함하고, 상기 외부 공진기의 반복률은 상기 외부 공진기로 입력된 상기 광변조 레이저 펄스의 반복률과 일치하거나 유사한 공진 광변조 레이저 펄스의 반복률일 수 있다.The mirror unit is connected to a first mirror and a second mirror facing each other and resonating the light-modulated laser pulse input to the external resonator through the input/output unit, and to one of the first mirror and the second mirror, and the external resonator. and a repetition rate control unit that adjusts the repetition rate, and the repetition rate of the external resonator may be a repetition rate of the resonant light-modulated laser pulse that matches or is similar to the repetition rate of the light-modulated laser pulse input to the external resonator.
상기 잔여 신호 억제부는 포화 흡수체를 포함할 수 있다.The residual signal suppressor may include a saturable absorber.
상기 포화 흡수체는 그래핀(graphene), 탄소나노튜브(Carbon NanoTube, CNT), 또는 반도체 포화 흡수거울(Semiconductor Saturable Absorber Mirror, SESAM) 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다.The saturable absorber may include any one selected from graphene, carbon nanotube (CNT), or semiconductor saturable absorber mirror (SESAM).
상기 외부 공진기는 상기 외부 공진기 내부에서 상기 광변조 레이저 펄스를 증폭시키는 신호 증폭부를 더 포함할 수 있다.The external resonator may further include a signal amplifier that amplifies the optical modulation laser pulse within the external resonator.
상기 신호 증폭부는 상기 광변조 레이저 펄스를 증폭시키는 이득 매질, 그리고 펌프광을 상기 이득 매질에 입사시키는 펌프광 결합기를 포함할 수 있다.The signal amplifier may include a gain medium that amplifies the optical modulation laser pulse, and a pump light coupler that makes pump light incident on the gain medium.
상기 외부 공진기는 상기 외부 공진기 내부의 총 분산을 조절하여 상기 포화 흡수체의 선택적 흡수능을 최적화하는 분산 조절부를 더 포함할 수 있다.The external resonator may further include a dispersion control unit that adjusts the total dispersion inside the external resonator to optimize the selective absorption capacity of the saturated absorber.
상기 외부 공진기에 연결되며, 상기 광변조 레이저 펄스의 반복률과 상기 외부 공진기의 반복률을 동기화시키는 반복률 제어기를 더 포함할 수 있다.It may further include a repetition rate controller connected to the external resonator and synchronizing the repetition rate of the light modulated laser pulse with the repetition rate of the external resonator.
상기 반복률 제어기는 상기 입력부의 입력 광변조 레이저 펄스와 상기 출력부의 출력 광변조 레이저 펄스를 각각 검출하는 광 검출기, 상기 광 검출기에서 검출된 상기 입력 광변조 레이저 펄스와 상기 출력 광변조 레이저 펄스간의 주파수 차이를 출력하는 주파수 믹서, 그리고 상기 주파수 믹서에서 출력된 상기 주파수 차이를 이용하여 상기 반복률 조절부를 조절하는 서보 제어기를 포함할 수 있다.The repetition rate controller includes an optical detector that detects an input optically modulated laser pulse of the input unit and an output optically modulated laser pulse of the output unit, respectively, and a frequency difference between the input optically modulated laser pulse and the output optically modulated laser pulse detected by the optical detector. It may include a frequency mixer that outputs and a servo controller that adjusts the repetition rate adjuster using the frequency difference output from the frequency mixer.
상기 광변조 레이저 펄스 생성기는 연속파 레이저를 발생시키는 레이저 다이오드, 상기 연속파 레이저를 변조시켜 0.5GHz 이상의 반복률을 가지는 광 펄스로 변환하는 변조기, 그리고 상기 광 펄스를 압축하여 1 피코초(10-12s) 이하의 펄스폭을 가지는 광변조 레이저 펄스를 발생시키는 펄스 압축부를 포함할 수 있다.The optical modulation laser pulse generator includes a laser diode that generates a continuous wave laser, a modulator that modulates the continuous wave laser and converts it into an optical pulse with a repetition rate of 0.5 GHz or more, and compresses the optical pulse to generate a pulse of 1 picosecond (10 -12 s). It may include a pulse compression unit that generates an optically modulated laser pulse having the following pulse width.
본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 잔여 신호 억제부를 포함하는 외부 공진기를 설치함으로써, 고반복률의 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하여 광변조 레이저 펄스의 특성을 개선할 수 있다. The system for generating a light-modulated laser pulse according to an embodiment of the present invention improves the characteristics of the light-modulated laser pulse by suppressing the residual signal of the high-repetition-rate light-modulated laser pulse by installing an external resonator including a residual signal suppressor. You can.
또한, 외부 공진기가 신호 증폭부 및 분산 조절부를 포함함으로써, 잔여 신호 억제부의 선택적 흡수 현상을 극대화하여 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 효과적으로 억제할 수 있다. In addition, since the external resonator includes a signal amplifier and a dispersion control unit, the residual signal of the optical modulation laser pulse can be effectively suppressed by maximizing the selective absorption phenomenon of the residual signal suppressor.
또한, 주입 잠금 현상에 의해 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기의 반복률을 동기화시켜 복잡한 반복률 제어기 없이 광변조 레이저 펄스를 안정화시킬 수 있다. 따라서, 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 구조를 단순화시킬 수 있다. In addition, by synchronizing the repetition rate of the optical modulation laser pulse and the repetition rate of the external resonator by the injection locking phenomenon, the optical modulation laser pulse can be stabilized without a complex repetition rate controller. Therefore, the structure of the system for generating light modulated laser pulses can be simplified.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에서 주입 잠금 현상을 설명하는 그래프이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 도면이다.1 is a diagram of a system for generating optically modulated laser pulses according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a graph explaining the injection locking phenomenon in the system for generating optically modulated laser pulses according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram of a system for generating optically modulated laser pulses according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the attached drawings, various embodiments of the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily implement the present invention. The invention may be implemented in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly explain the present invention, parts that are not relevant to the description are omitted, and identical or similar components are assigned the same reference numerals throughout the specification.
그러면 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에 대하여 도 1 및 도 2를 참고로 상세하게 설명한다.Next, a system for generating optically modulated laser pulses according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 도면이다. 1 is a diagram of a system for generating optically modulated laser pulses according to an embodiment of the present invention.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 광변조 레이저 펄스 생성기(100), 그리고 외부 공진기(200)를 포함한다. As shown in FIG. 1, the system for generating an optically modulated laser pulse according to an embodiment of the present invention includes an optically modulated laser pulse generator 100 and an external resonator 200.
광변조 레이저 펄스 생성기(100)는 광 변조 방법을 이용하여 0.5GHz 이상의 반복률 및 1 피코초(10-12s) 이하의 펄스폭을 가지는 극초단 레이저 펄스, 즉 광변조 레이저 펄스를 발생시킬 수 있다.The optical modulation laser pulse generator 100 can generate ultrashort laser pulses, that is, optical modulation laser pulses, with a repetition rate of 0.5 GHz or more and a pulse width of 1 picosecond (10 -12 s) or less using an optical modulation method. .
광변조 레이저 펄스 생성기(100)는 레이저 다이오드(Laser diode)(110), 변조기(Modulator)(120), 그리고 펄스 압축부(130)를 포함할 수 있다.The optical modulation laser pulse generator 100 may include a laser diode 110, a modulator 120, and a pulse compression unit 130.
레이저 다이오드(110)는 순방향 반도체 접합 부재를 이용하여 연속파 레이저(1)를 발생시킬 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 다양한 방법으로 연속파 레이저를 발생시킬 수 있다.The laser diode 110 can generate a continuous wave laser 1 using a forward semiconductor bonding member. However, it is not necessarily limited to this and a continuous wave laser can be generated in various ways.
변조기(120)는 연속파 레이저(1)를 변조시켜 0.5GHz 이상의 고반복률을 가지는 광 펄스(2)로 변환시킬 수 있다. 변조기(120)는 연속파 레이저(1)의 세기를 변조시키는 세기 변조기(intensity modulator)(121), 그리고 연속파 레이저(1)의 위상을 변조시키는 위상 변조기(phase modulator)(122)를 포함할 수 있다. 이 때, RF 신호원(RF)을 이용하여 0.5GHz 이상의 주파수로 세기 변조기(121) 및 위상 변조기(122)를 구동시킴으로써, 0.5GHz 이상의 고반복률을 가지는 광 펄스(2)를 생성할 수 있다.The modulator 120 can modulate the continuous wave laser 1 and convert it into an optical pulse 2 having a high repetition rate of 0.5 GHz or more. The modulator 120 may include an intensity modulator 121 that modulates the intensity of the continuous wave laser 1, and a phase modulator 122 that modulates the phase of the continuous wave laser 1. . At this time, by driving the intensity modulator 121 and the phase modulator 122 at a frequency of 0.5 GHz or more using an RF signal source (RF), an optical pulse 2 having a high repetition rate of 0.5 GHz or more can be generated.
펄스 압축부(130)는 광 펄스(2)를 압축하여 1 피코초(10-12s) 이하의 펄스폭을 가지는 광변조 레이저 펄스(3)를 발생시킬 수 있다.The pulse compressor 130 may compress the optical pulse 2 to generate an optically modulated laser pulse 3 having a pulse width of 1 picosecond (10 -12 s) or less.
이러한 광변조 레이저 펄스 생성기(100)에 의해 생성된 광변조 레이저 펄스(3)는 메인부(M)의 양측인 주변부(N)에 불필요한 잔여 신호(3a)를 가질 수 있다.The optically modulated laser pulse 3 generated by the optically modulated laser pulse generator 100 may have an unnecessary residual signal 3a in the peripheral part N, which is on both sides of the main part M.
외부 공진기(200)는 광변조 레이저 펄스(3)의 주변부(N)의 잔여 신호(3a)를 억제하여 최소화할 수 있다.The external resonator 200 can suppress and minimize the residual signal 3a in the peripheral part N of the optical modulation laser pulse 3.
외부 공진기(200)는 입출력부(210), 미러부(220), 잔여 신호 억제부(230), 신호 증폭부(240), 그리고 분산 조절부(250)를 포함할 수 있다.The external resonator 200 may include an input/output unit 210, a mirror unit 220, a residual signal suppressor 230, a signal amplifier 240, and a dispersion adjuster 250.
입출력부(210)는 광변조 레이저 펄스(3)를 입력 및 출력시킬 수 있다. 입출력부(210)는 광변조 레이저 펄스(3)를 입력받는 입력부(211), 그리고 잔여 신호(3a)가 억제된 광변조 레이저 펄스(4)를 출력하는 출력부(212)를 포함할 수 있다. The input/output unit 210 can input and output the light modulated laser pulse 3. The input/output unit 210 may include an input unit 211 that receives an optically modulated laser pulse 3, and an output unit 212 that outputs an optically modulated laser pulse 4 in which the residual signal 3a is suppressed. .
미러부(220)는 광변조 레이저 펄스(3)를 반사시켜 공진시킬 수 있다. 미러부(220)는 제1 미러(221), 제2 미러(222), 그리고 반복률 조절부(223)를 포함할 수 있다.The mirror unit 220 can resonate the light-modulated laser pulse 3 by reflecting it. The mirror unit 220 may include a first mirror 221, a second mirror 222, and a repetition rate adjuster 223.
제1 미러(221) 및 제2 미러(222)는 서로 마주보며 입출력부(210)를 통해 외부 공진기(200)로 입력된 광변조 레이저 펄스(3)를 공진시킬 수 있다.The first mirror 221 and the second mirror 222 face each other and can resonate the light modulated laser pulse 3 input to the external resonator 200 through the input/output unit 210.
반복률 조절부(223)는 제1 미러(221)에 연결되며 외부 공진기(200)의 반복률을 조절할 수 있다. 본 실시예에서는 반복률 조절부(223)가 제1 미러(221)에 연결되어 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 반복률 조절부(223)가 제2 미러(222)에 연결되는 실시예도 가능하다. 반복률 조절부(223)는 제1 미러(221)의 위치를 조절하여 외부 공진기(200)의 반복률을 조절할 수 있다. 반복률 조절부(223)는 위치 조절 스테이지, 압전 소자(Piezoelectronic, PZT) 등을 포함할 수 있다. The repetition rate control unit 223 is connected to the first mirror 221 and can adjust the repetition rate of the external resonator 200. In this embodiment, the repetition rate adjusting unit 223 is connected to the first mirror 221, but the present invention is not necessarily limited to this, and an embodiment in which the repetition rate adjusting unit 223 is connected to the second mirror 222 is also possible. The repetition rate control unit 223 can adjust the repetition rate of the external resonator 200 by adjusting the position of the first mirror 221. The repetition rate control unit 223 may include a position control stage, a piezoelectric element (PZT), etc.
이러한 반복률 조절부(223)를 이용하여 외부 공진기(200)의 반복률을 조절하여 특정 조건을 만족하는 경우 주입 잠금 현상이 발생할 수 있다. When a repetition rate of the external resonator 200 is adjusted using the repetition rate control unit 223 and satisfies a specific condition, an injection locking phenomenon may occur.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에서 주입 잠금 현상을 설명하는 그래프이다. 도 2에는 외부 공진기(200)에 입력되는 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률(r1)을 나타내는 그래프(G1), 외부 공진기(200)의 반복률(r2)을 나타내는 그래프(G2), 그리고 주입 잠금 현상에 의해 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률(r1)과 외부 공진기(200)의 반복률(r2)이 일치된 상태를 나타내는 그래프(G3)가 도시되어 있다. Figure 2 is a graph explaining the injection locking phenomenon in the system for generating optically modulated laser pulses according to an embodiment of the present invention. Figure 2 shows a graph (G1) showing the repetition rate (r1) of the input optical modulation laser pulse (IP) input to the external resonator 200, a graph (G2) showing the repetition rate (r2) of the external resonator 200, and injection A graph G3 is shown showing a state in which the repetition rate (r1) of the input optical modulation laser pulse (IP) and the repetition rate (r2) of the external resonator 200 are matched due to the locking phenomenon.
설명의 편의를 위해 외부 공진기(200)에 입력되는 광변조 레이저 펄스는 입력 광변조 레이저 펄스(IP), 입력 광변조 레이저 펄스(IP)가 외부 공진기(200) 내부에서 진행하며 변환된 광변조 레이저 펄스는 공진 광변조 레이저 펄스(RP), 그리고 주입 잠금 현상에 의해 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률과 외부 공진기(200)의 반복률이 일치되어 외부 공진기(200)에서 출력되는 광변조 레이저 펄스는 출력 광변조 레이저 펄스(OP)로 정의한다. 여기서, 외부 공진기(200)의 반복률(r2)은 공진 광변조 레이저 펄스(RP)의 반복률일 수 있다.For convenience of explanation, the optical modulation laser pulse input to the external resonator 200 is the input optical modulation laser pulse (IP), and the input optical modulation laser pulse (IP) progresses inside the external resonator 200 and is converted into an optical modulation laser pulse. The pulse is a resonant light-modulated laser pulse (RP), and a light-modulated laser pulse output from the external resonator 200 by matching the repetition rate of the input light-modulated laser pulse (IP) with the repetition rate of the external resonator 200 due to the injection locking phenomenon. is defined as the output optically modulated laser pulse (OP). Here, the repetition rate (r2) of the external resonator 200 may be the repetition rate of the resonant light modulated laser pulse (RP).
도 2에 도시된 바와 같이, 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 파장 대역과 공진 광변조 레이저 펄스(RP)의 파장 대역이 유사하고, 공진 광변조 레이저 펄스(RP)의 주파수가 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 주파수의 소정 주파수 범위(t) 내에 위치하는 경우, 공진 광변조 레이저 펄스(RP)의 반복률(r2)이 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률(r1)에 일치되도록 하는 주입 잠금 현상이 발생할 수 있다. 예컨대, 입력 광변조 레이저 펄스(IP)가 1 GHz의 반복률을 가지는 경우 소정 주파수 범위(t)는 10 MHz의 대역폭을 가질 수 있다. 따라서, 주입 잠금 현상에 의해 공진 광변조 레이저 펄스(RP)의 반복률(r2)이 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률(r1)에 일치되어 출력 광변조 레이저 펄스(OP)로 외부 공진기(200)에서 출력될 수 있다. As shown in Figure 2, the wavelength band of the input light modulation laser pulse (IP) and the wavelength band of the resonant light modulation laser pulse (RP) are similar, and the frequency of the resonant light modulation laser pulse (RP) is similar to that of the input light modulation laser pulse (RP). When located within a predetermined frequency range (t) of the frequency of the pulse (IP), injection such that the repetition rate (r2) of the resonant light-modulated laser pulse (RP) matches the repetition rate (r1) of the input light-modulated laser pulse (IP) Locking phenomenon may occur. For example, when the input optically modulated laser pulse (IP) has a repetition rate of 1 GHz, the predetermined frequency range (t) may have a bandwidth of 10 MHz. Therefore, due to the injection locking phenomenon, the repetition rate (r2) of the resonant light-modulated laser pulse (RP) is matched to the repetition rate (r1) of the input light-modulated laser pulse (IP), and the output light-modulated laser pulse (OP) is transmitted to the external resonator (200). ) can be output from.
이와 같이, 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 세기, 주파수, 외부 공진기(200)의 미러부(220)의 반복률 조절부(223) 등을 조절하여 주입 잠금 현상을 발생시킴으로써, 입력 광변조 레이저 펄스(IP)의 반복률(r1)과 외부 공진기(200)의 반복률(r2)을 동기화시켜, 출력 광변조 레이저 펄스(OP)를 안정화시킬 수 있다. 따라서, 복잡한 제어 시스템 없이도 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기(200)의 반복률을 동기화시켜, 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 구조를 단순화시킬 수 있다. In this way, the injection locking phenomenon is generated by adjusting the intensity, frequency, and repetition rate control unit 223 of the mirror unit 220 of the external resonator 200, etc. of the input optical modulation laser pulse (IP). By synchronizing the repetition rate (r1) of (IP) and the repetition rate (r2) of the external resonator 200, the output optical modulation laser pulse (OP) can be stabilized. Therefore, the structure of the system for generating light-modulated laser pulses can be simplified by synchronizing the repetition rate of the light-modulated laser pulse and the repetition rate of the external resonator 200 without a complicated control system.
잔여 신호 억제부(230)는 광변조 레이저 펄스(3)의 잔여 신호(3a)를 억제할 수 있다.The residual signal suppressor 230 may suppress the residual signal 3a of the light modulated laser pulse 3.
잔여 신호 억제부(230)는 포화 흡수체를 포함할 수 있다. 포화 흡수체는 그래핀(graphene), 탄소나노튜브(Carbon NanoTube, CNT), 또는 반도체 포화 흡수거울(Semiconductor Saturable Absorber Mirror, SESAM) 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다. The residual signal suppressor 230 may include a saturable absorber. The saturable absorber may include any one selected from graphene, carbon nanotube (CNT), or semiconductor saturable absorber mirror (SESAM).
포화 흡수체는 세기에 따라 다른 흡수율을 가지고 있어 광변조 레이저 펄스(3)의 메인부(M)는 대부분 통과 및 반사시키고 낮은 세기의 주변부(N)는 일정 부분 흡수함으로써, 광변조 레이저 펄스(3)의 주변부(N)에 남아있는 잔여 신호(3a)를 억제할 수 있다. 따라서, 고반복률 레이저 펄스 또는 넓은 대역폭의 레이저 펄스에도 적용 가능하다.The saturable absorber has a different absorption rate depending on the intensity, so that most of the main part (M) of the light modulated laser pulse (3) passes and reflects and the low intensity peripheral part (N) absorbs a certain portion, thereby producing the light modulated laser pulse (3). The residual signal (3a) remaining in the periphery (N) of can be suppressed. Therefore, it is applicable to high repetition rate laser pulses or wide bandwidth laser pulses.
또한, 포화 흡수체의 회복 시간은 광변조 레이저 펄스(3)의 펄스폭보다 크고 반복률보다 작을 수 있다. 따라서, 포화 흡수체의 포화 시간 및 포화 플루언스(fluence)를 조절하여 광변조 레이저 펄스(3)의 잔여 신호(3a)의 억제 정도를 조절할 수 있다.Additionally, the recovery time of the saturable absorber may be greater than the pulse width of the light modulated laser pulse 3 and less than the repetition rate. Therefore, the degree of suppression of the residual signal 3a of the light modulated laser pulse 3 can be adjusted by adjusting the saturation time and saturation fluence of the saturable absorber.
신호 증폭부(240)는 외부 공진기(200) 내부에서 광변조 레이저 펄스(3)를 증폭시킬 수 있다. 잔여 신호 억제부(230)를 이루는 포화 흡수체는 광변조 레이저 펄스(3)의 메인부(M)도 일부 흡수하여 억제시키므로, 잔여 신호 억제부(230)를 이용하여 잔여 신호(3a)를 충분히 억제하기 어렵다. 따라서, 신호 증폭부(240)를 이용하여 광변조 레이저 펄스(3)를 증폭시킴으로써, 잔여 신호(3a)를 충분히 억제할 수 있다. The signal amplifier 240 may amplify the light modulated laser pulse 3 inside the external resonator 200. Since the saturable absorber forming the residual signal suppressor 230 also absorbs and suppresses part of the main portion (M) of the optical modulation laser pulse 3, the residual signal 3a is sufficiently suppressed using the residual signal suppressor 230. It's difficult to do. Therefore, by amplifying the optical modulation laser pulse 3 using the signal amplifier 240, the residual signal 3a can be sufficiently suppressed.
신호 증폭부(240)는 광변조 레이저 펄스(3)를 증폭시키는 이득 매질(241), 그리고 증폭을 위한 펌프광을 이득 매질(241)에 입사시키는 펌프광 결합기(242)를 포함할 수 있다. 이러한 신호 증폭부(240)는 이터븀으로 도핑된 광섬유로 이루어진 이득 매질을 포함하는 이터븀 도핑 광섬유 증폭기(Ytterbium-doped fiber amplifier, YDFA), 어븀으로 도핑된 광섬유로 이루어진 이득 매질을 포함하는 어븀 도핑 광섬유 증폭기(Erbium-doped fiber amplifier, EDFA) 등을 포함할 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 종류의 광섬유 증폭기 또는 크리스털 증폭기 등을 포함할 수 있다.The signal amplifier 240 may include a gain medium 241 that amplifies the optical modulation laser pulse 3, and a pump light coupler 242 that makes pump light for amplification incident on the gain medium 241. This signal amplifier 240 is a ytterbium-doped fiber amplifier (YDFA) including a gain medium made of an optical fiber doped with ytterbium, and an erbium-doped fiber amplifier (YDFA) including a gain medium made of an optical fiber doped with erbium. It may include an optical fiber amplifier (Erbium-doped fiber amplifier, EDFA), etc. However, it is not necessarily limited to this and may include various types of optical fiber amplifiers or crystal amplifiers.
분산 조절부(250)는 외부 공진기(200) 내부의 총 분산을 조절하여 잔여 신호 억제부(230)를 이루는 포화 흡수체의 선택적 흡수능을 최적화할 수 있다. 분산 조절부(250)는 처프 광섬유 브래그 격자(Chirped Fiber Bragg Grating, CFBG), 처프 미러, 또는 다른 분산을 가지는 광섬유 등에서 선택된 어느 하나로 이루어질 수 있다. 이 때, 처프 광섬유 브래그 격자는 제1 미러(221) 또는 제2 미러(222)의 기능과 분산 조절부(250)의 기능을 동시에 수행할 수 있다. The dispersion control unit 250 can adjust the total dispersion inside the external resonator 200 to optimize the selective absorption ability of the saturated absorber forming the residual signal suppression unit 230. The dispersion control unit 250 may be made of any one selected from a chirped fiber Bragg grating (CFBG), a chirped mirror, or an optical fiber having other dispersion. At this time, the chirp optical fiber Bragg grating can simultaneously perform the functions of the first mirror 221 or the second mirror 222 and the function of the dispersion adjuster 250.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 외부 공진기(200)가 신호 증폭부(240) 및 분산 조절부(250)를 포함함으로써, 잔여 신호 억제부(230)의 선택적 흡수 현상을 극대화하여 광변조 레이저 펄스(3)의 잔여 신호(3a)를 효과적으로 억제할 수 있다.As such, in the system for generating an optically modulated laser pulse according to an embodiment of the present invention, the external resonator 200 includes a signal amplifier 240 and a dispersion control unit 250, thereby reducing the residual signal suppression unit 230. By maximizing the selective absorption phenomenon, the residual signal 3a of the optical modulation laser pulse 3 can be effectively suppressed.
한편, 상기 일 실시예에서는 주입 잠금 현상으로 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기의 반복률을 동기화시켰으나, 반복률 제어기를 이용하여 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기의 반복률을 능동적으로 동기화시키는 다른 실시예도 가능하다. Meanwhile, in the above-mentioned embodiment, the repetition rate of the light-modulated laser pulse and the repetition rate of the external resonator are synchronized by the injection locking phenomenon, but another embodiment also actively synchronizes the repetition rate of the light-modulated laser pulse and the repetition rate of the external resonator using a repetition rate controller. possible.
이하에서, 도 3을 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템에 대해 상세히 설명한다.Below, with reference to FIG. 3, a system for generating light-modulated laser pulses according to another embodiment of the present invention will be described in detail.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템의 도면이다.Figure 3 is a diagram of a system for generating optically modulated laser pulses according to another embodiment of the present invention.
도 3에 도시된 다른 실시예는 도 1 및 도 2에 도시된 일 실시예와 비교하여 반복률 제어기의 구조만을 제외하고 실질적으로 동일한 바 반복되는 설명은 생략한다.The other embodiment shown in FIG. 3 is substantially the same as the one embodiment shown in FIGS. 1 and 2 except for the structure of the repetition rate controller, so repeated descriptions will be omitted.
도 3에 도시한 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템은 광변조 레이저 펄스 생성기(100), 외부 공진기(200), 그리고 반복률 제어기(300)를 포함한다. As shown in FIG. 3, a system for generating an optically modulated laser pulse according to another embodiment of the present invention includes an optically modulated laser pulse generator 100, an external resonator 200, and a repetition rate controller 300.
광변조 레이저 펄스 생성기(100)는 광 변조 방법을 이용하여 0.5GHz 이상의 반복률 및 1 피코초(10-12s) 이하의 펄스폭을 가지는 극초단 레이저 펄스, 즉 광변조 레이저 펄스를 발생시킬 수 있다.The optical modulation laser pulse generator 100 can generate ultrashort laser pulses, that is, optical modulation laser pulses, with a repetition rate of 0.5 GHz or more and a pulse width of 1 picosecond (10 -12 s) or less using an optical modulation method. .
외부 공진기(200)는 광변조 레이저 펄스(3)의 주변부(N)의 잔여 신호(3a)를 억제하여 최소화할 수 있다. 이러한 외부 공진기(200)는 입출력부(210), 미러부(220), 잔여 신호 억제부(230), 신호 증폭부(240), 그리고 분산 조절부(250)를 포함할 수 있다.The external resonator 200 can suppress and minimize the residual signal 3a in the peripheral part N of the optical modulation laser pulse 3. This external resonator 200 may include an input/output unit 210, a mirror unit 220, a residual signal suppressor 230, a signal amplifier 240, and a dispersion adjuster 250.
반복률 제어기(300)는 외부 공진기(200)에 연결되며, 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기(200)의 반복률을 동기화시킬 수 있다.The repetition rate controller 300 is connected to the external resonator 200 and can synchronize the repetition rate of the light modulated laser pulse with the repetition rate of the external resonator 200.
반복률 제어기(300)는 광 검출기(310), 주파수 믹서(320), 서보 제어기(330), 밴드패스 필터(bandpass filter)(340), 제1 증폭기(351), 그리고 제2 증폭기(352)를 포함할 수 있다.The repetition rate controller 300 includes an optical detector 310, a frequency mixer 320, a servo controller 330, a bandpass filter 340, a first amplifier 351, and a second amplifier 352. It can be included.
광 검출기(310)는 입력부(211)의 입력 광변조 레이저 펄스(IP)를 검출하는 제1 광 검출기(311), 그리고 출력부(212)의 출력 광변조 레이저 펄스(OP)를 검출하는 제2 광 검출기(312)를 포함할 수 있다. 제1 광 검출기(311) 및 제2 광 검출기(312)는 광 다이오드를 포함할 수 있다.The optical detector 310 includes a first optical detector 311 that detects the input optical modulation laser pulse (IP) of the input unit 211, and a second optical detector 311 that detects the output optical modulation laser pulse (OP) of the output unit 212. May include a light detector 312. The first photo detector 311 and the second photo detector 312 may include photodiodes.
주파수 믹서(320)는 광 검출기(310)에서 검출된 입력 광변조 레이저 펄스(IP)와 출력 광변조 레이저 펄스(OP)간의 주파수 차이를 출력할 수 있다.The frequency mixer 320 may output a frequency difference between the input optically modulated laser pulse (IP) and the output optically modulated laser pulse (OP) detected by the optical detector 310.
밴드패스 필터(bandpass filter)(340)는 주파수 믹서(320) 이전의 경로 상에 설치될 수 있다. 밴드패스 필터(340)는 광 검출기(310)에 의해 검출된 복수의 주파수 중 특정 주파수만 통과하게 하여 원하는 주파수 신호 간 차이를 출력할 수 있다. A bandpass filter 340 may be installed on a path before the frequency mixer 320. The bandpass filter 340 may output a difference between desired frequency signals by allowing only specific frequencies among the plurality of frequencies detected by the photodetector 310 to pass.
제1 증폭기(351)는 광 검출기(310) 이후 또는 주파수 믹서(320) 이전 또는 이후 경로 상에 위치할 수 있다. 제1 증폭기(351)는 신호를 증폭하여 주파수 믹서(320)에서 충분한 세기의 주파수 신호간 차이를 획득하게 할 수 있다.The first amplifier 351 may be located on a path after the photo detector 310 or before or after the frequency mixer 320. The first amplifier 351 can amplify the signal so that the frequency mixer 320 can obtain a difference between the frequency signals of sufficient intensity.
서보 제어기(330)는 주파수 믹서(320)에서 출력된 주파수 차이를 이용하여 반복률 조절부(223)를 능동적으로 조절할 수 있다. The servo controller 330 can actively adjust the repetition rate controller 223 using the frequency difference output from the frequency mixer 320.
제2 증폭기(352)는 서보 제어기(330)과 반복률 조절부(223) 사이의 경로 상에 위치할 수 있다. 제2 증폭기(352)는 반복률 조절부(223)에서 요구하는 신호 세기에 맞게 신호를 증폭시켜 반복률 조절부(223)를 원활하게 구동시킬 수 있다.The second amplifier 352 may be located on a path between the servo controller 330 and the repetition rate controller 223. The second amplifier 352 can smoothly drive the repetition rate controller 223 by amplifying the signal according to the signal strength required by the repetition rate controller 223.
이와 같이, 반복률 제어기(300)를 이용하여 능동적으로 광변조 레이저 펄스의 반복률과 외부 공진기(200)의 반복률을 동기화시켜 광변조 레이저 펄스를 더욱 안정화시킬 수 있다.In this way, the repetition rate controller 300 can be used to actively synchronize the repetition rate of the light modulation laser pulse with the repetition rate of the external resonator 200, thereby further stabilizing the light modulation laser pulse.
본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.Although the present invention has been described through preferred embodiments as described above, the present invention is not limited thereto and various modifications and variations are possible without departing from the concept and scope of the claims described below. Those working in the relevant technical field will easily understand.
100: 200: 외부 공진기
210: 입출력부 220: 미러부
230: 잔여 신호 억제부 240: 신호 증폭부
250: 분산 조절부 300: 반복률 제어기100: 200: external resonator
210: input/output unit 220: mirror unit
230: residual signal suppression unit 240: signal amplification unit
250: Dispersion control unit 300: Repetition rate controller
Claims (11)
상기 광변조 레이저 펄스 생성기와 분리되어 설치되며, 상기 광변조 레이저 펄스의 잔여 신호를 억제하는 외부 공진기
를 포함하고,
상기 외부 공진기는
상기 광변조 레이저 펄스가 각각 입력 및 출력되는 입력부 및 출력부를 포함하는 입출력부,
상기 광변조 레이저 펄스를 반사시켜 공진시키는 미러부, 그리고
상기 잔여 신호를 억제하며 포화 흡수체를 포함하는 잔여 신호 억제부
를 포함하며,
상기 포화 흡수체의 회복 시간은 상기 광변조 레이저 펄스의 펄스폭보다 크고 반복률보다 작은 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.A light-modulated laser pulse generator that generates light-modulated laser pulses with a repetition rate of 0.5 GHz or more and a pulse width of 1 picosecond (10 -12 s) or less, and
An external resonator installed separately from the optical modulation laser pulse generator and suppressing residual signals of the optical modulation laser pulse.
Including,
The external resonator is
An input and output unit including an input unit and an output unit through which the light modulated laser pulse is input and output, respectively;
A mirror unit that reflects and resonates the optically modulated laser pulse, and
A residual signal suppressor that suppresses the residual signal and includes a saturable absorber.
Includes,
A system for generating a light-modulated laser pulse in which the recovery time of the saturable absorber is greater than the pulse width of the light-modulated laser pulse and smaller than the repetition rate.
상기 미러부는
서로 마주보며 상기 입출력부를 통해 상기 외부 공진기로 입력된 상기 광변조 레이저 펄스를 공진시키는 제1 미러 및 제2 미러, 그리고
상기 제1 미러 및 제2 미러 중 어느 하나에 연결되며 상기 외부 공진기의 반복률을 조절하는 반복률 조절부
를 포함하고,
상기 외부 공진기의 반복률은 상기 외부 공진기로 입력된 상기 광변조 레이저 펄스의 반복률과 일치하거나 유사한 공진 광변조 레이저 펄스의 반복률인 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 1:
The mirror part
A first mirror and a second mirror facing each other and resonating the optical modulation laser pulse input to the external resonator through the input/output unit, and
A repetition rate control unit connected to one of the first mirror and the second mirror and adjusting the repetition rate of the external resonator.
Including,
A system for generating a light-modulated laser pulse, wherein the repetition rate of the external resonator is a repetition rate of the resonant light-modulated laser pulse that matches or is similar to the repetition rate of the light-modulated laser pulse input to the external resonator.
상기 포화 흡수체는 그래핀(graphene), 탄소나노튜브(Carbon NanoTube, CNT), 또는 반도체 포화 흡수거울(Semiconductor Saturable Absorber Mirror, SESAM) 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 3,
A system for generating a light-modulated laser pulse, wherein the saturable absorber includes any one selected from graphene, carbon nanotube (CNT), or semiconductor saturable absorber mirror (SESAM).
상기 외부 공진기는
상기 외부 공진기 내부에서 상기 광변조 레이저 펄스를 증폭시키는 신호 증폭부를 더 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 3,
The external resonator is
A system for generating an optically modulated laser pulse, further comprising a signal amplification unit that amplifies the optically modulated laser pulse within the external resonator.
상기 신호 증폭부는
상기 광변조 레이저 펄스를 증폭시키는 이득 매질, 그리고
펌프광을 상기 이득 매질에 입사시키는 펌프광 결합기
를 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 6:
The signal amplifier unit
A gain medium that amplifies the optically modulated laser pulse, and
Pump light coupler that makes pump light incident on the gain medium
A system for generating light-modulated laser pulses comprising:
상기 외부 공진기는 상기 외부 공진기 내부의 총 분산을 조절하여 상기 포화 흡수체의 선택적 흡수능을 향상시키는 분산 조절부를 더 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 3,
The external resonator further includes a dispersion control unit that adjusts the total dispersion inside the external resonator to improve the selective absorption ability of the saturable absorber.
상기 외부 공진기에 연결되며, 상기 광변조 레이저 펄스의 반복률과 상기 외부 공진기의 반복률을 동기화시키는 반복률 제어기를 더 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 3,
The system for generating a light-modulated laser pulse further includes a repetition rate controller connected to the external resonator and synchronizing the repetition rate of the light-modulated laser pulse with the repetition rate of the external resonator.
상기 반복률 제어기는
상기 입력부의 입력 광변조 레이저 펄스와 상기 출력부의 출력 광변조 레이저 펄스를 각각 검출하는 광 검출기,
상기 광 검출기에서 검출된 상기 입력 광변조 레이저 펄스와 상기 출력 광변조 레이저 펄스간의 주파수 차이를 출력하는 주파수 믹서, 그리고
상기 주파수 믹서에서 출력된 상기 주파수 차이를 이용하여 상기 반복률 조절부를 조절하는 서보 제어기
를 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 9:
The repetition rate controller is
An optical detector that detects an input optically modulated laser pulse of the input unit and an output optically modulated laser pulse of the output unit, respectively;
A frequency mixer that outputs a frequency difference between the input light-modulated laser pulse and the output light-modulated laser pulse detected by the optical detector, and
A servo controller that adjusts the repetition rate control unit using the frequency difference output from the frequency mixer.
A system for generating light-modulated laser pulses comprising:
상기 광변조 레이저 펄스 생성기는
연속파 레이저를 발생시키는 레이저 다이오드,
상기 연속파 레이저를 변조시켜 0.5GHz 이상의 반복률을 가지는 광 펄스로 변환하는 변조기, 그리고
상기 광 펄스를 압축하여 1 피코초(10-12s) 이하의 펄스폭을 가지는 광변조 레이저 펄스를 발생시키는 펄스 압축부
를 포함하는 광변조 레이저 펄스의 생성 시스템.In paragraph 1:
The light modulated laser pulse generator is
A laser diode that generates a continuous wave laser,
A modulator that modulates the continuous wave laser and converts it into an optical pulse with a repetition rate of 0.5 GHz or more, and
A pulse compression unit that compresses the optical pulse to generate an optically modulated laser pulse with a pulse width of 1 picosecond (10 -12 s) or less.
A system for generating light-modulated laser pulses comprising:
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR1020210191741A KR102603290B1 (en) | 2021-12-29 | 2021-12-29 | Generation system of light-modulated laser pulse |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020210191741A KR102603290B1 (en) | 2021-12-29 | 2021-12-29 | Generation system of light-modulated laser pulse |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230101551A KR20230101551A (en) | 2023-07-06 |
| KR102603290B1 true KR102603290B1 (en) | 2023-11-17 |
Family
ID=87185523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR1020210191741A KR102603290B1 (en) | 2021-12-29 | 2021-12-29 | Generation system of light-modulated laser pulse |
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|---|---|
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Citations (2)
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| JP2011222764A (en) * | 2010-04-09 | 2011-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | Pulse fiber laser device |
| JP2019522377A (en) * | 2016-07-20 | 2019-08-08 | イリシオメ | System for generating short or ultrashort light pulses |
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2021
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Patent Citations (2)
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