KR102590777B1 - Method for producing terephthaloyl chloride through temperature control - Google Patents

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Abstract

본 발명은 테레프탈로일클로라이드 제조방법에 관한 것으로써, 구체적으로 헥사클로로파라자일렌을 전환율에 따라 복수의 온도 구간에서 반응시켜 제조하고, 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌과 프탈산과 반응시켜 테레프탈로일클로라이드를 제조하는, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing terephthaloyl chloride, and specifically, to produce terephthaloyl chloride by reacting hexachloroparaxylene at a plurality of temperature ranges depending on the conversion rate, and reacting the prepared hexachloroparaxylene with phthalic acid to produce terephthaloyl chloride. It relates to a method for producing terephthaloyl chloride, which produces monochloride.

Description

온도제어를 통한 테레프탈로일클로라이드의 제조방법 {Method for producing terephthaloyl chloride through temperature control}Method for producing terephthaloyl chloride through temperature control {Method for producing terephthaloyl chloride through temperature control}

본 발명은 온도제어를 통한 테레프탈로일클로라이드의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing terephthaloyl chloride through temperature control.

테레프탈로일클로라이드(Terephthaloyl chloride, TPC)는 백색 고체 또는 무색 바늘모양의 결정체로 주로 폴리파라페닐렌테레프탈 아마이드(poly(paraphenylene terephthamide))와 폴리설폰아마이드(polysulfonamide)의 고분자 단량체로 사용된다.Terephthaloyl chloride (TPC) is a white solid or colorless needle-shaped crystal and is mainly used as a polymer monomer of poly(paraphenylene terephthamide) and polysulfonamide.

또한 상기 테레프탈로일클로라이드는 고분자 폴리머의 혼화제로서 농약, 의약 산업의 중가체 등 방면에 응용되고 있는 등의 개발 응용 전망이 넓다.In addition, the terephthaloyl chloride has broad development and application prospects, such as being used as an admixture for high molecular weight polymers and as a heavy agent in the pesticide and pharmaceutical industries.

상기와 같이 다양한 용도를 가지는 테레프탈로일클로라이드 제조방법은 통상적으로 파라자일렌과 염소가스를 자외선에 의한 광반응단계 및 상기 광반응에 의해 생성되는 헥사클로로파라자일렌을 촉매 존재하에서 테레프탈산과 반응시켜 테레프탈로일클로라이드(테레프탈로일디클로리드라고도 함)를 제조하는 방법이 알려져 있다.The method for producing terephthaloyl chloride, which has various uses as described above, typically involves a photoreaction step of paraxylene and chlorine gas using ultraviolet rays, and then reacting hexachloroparaxylene produced by the photoreaction with terephthalic acid in the presence of a catalyst. Methods for producing terephthaloyl chloride (also known as terephthaloyldichloride) are known.

다만, 상기 광반응에서 생성되는 헥사클로로파라자일렌의 농도가 증가할수록 점도가 높아 반응율이 저하되는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 점도를 낮추기 위하여 높은 온도에서 반응할 시에는 액상의 파라자일렌 내부의 염소가스 용해도가 매우 낮아지고 이에 따라 반응에 참여하는 시간이 매우 짧아져서 파라자일렌과 반응하기도 전에 외부로 배출되는 문제점이 발생할 수 있다.However, as the concentration of hexachloroparaxylene generated in the photoreaction increases, the viscosity increases and the reaction rate may decrease. Accordingly, when reacting at a high temperature to lower the viscosity, the solubility of chlorine gas inside liquid para-xylene becomes very low, and thus the time to participate in the reaction is very short, so that it is discharged to the outside before reacting with para-xylene. Problems may arise.

또한, 파라자일렌과 염소가스를 광 반응하는 경우, 미반응 염소가스를 부반응물인 염산과 함께 배출되어 환경오염을 야기하기도 하는 등의 문제가 상존하고 있다. 즉 상기와 같이 부반응물인 염산의 경우는 물에 용해하여 제거하는 등 쉽게 되지만 미반응 염소가스의 경우, 외부배출시 이를 회수하거나 보관하는 등의 시실에 과도한 시설이 요구되므로, 상기 반응에서 완전히 순환하여 반응에서 소모되도록 하는 새로운 방법이 요구되고 있다.In addition, when photoreacting paraxylene and chlorine gas, there is a problem that unreacted chlorine gas is discharged together with hydrochloric acid, a side reactant, causing environmental pollution. In other words, as mentioned above, in the case of hydrochloric acid, which is a side reactant, it can be easily removed by dissolving in water, but in the case of unreacted chlorine gas, excessive facilities are required to recover or store it when discharged to the outside, so it cannot be completely circulated in the reaction. There is a need for a new method to ensure that it is consumed in the reaction.

대한민국 공개특허공보 제10-2019-0042664 호 (2019.04.24.)Republic of Korea Patent Publication No. 10-2019-0042664 (2019.04.24.)

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 헥사클로로파라자일렌를 제조함에 있어서 반응기 내부의 광반응 온도를 제어함으로써, 적절한 점도 내에서 상대적으로 높은 염소가스 용해도를 유지시킬 수 있는 헥사클로로파라자일렌의 제조방법을 제공하고자 한다.The present invention was developed to solve the above-mentioned problems. By controlling the photoreaction temperature inside the reactor in producing hexachloroparaxylene, hexachloroparaxylene can maintain relatively high chlorine gas solubility within an appropriate viscosity. The purpose is to provide a method for producing xylene.

또한, 본 발명은 미반응 염소가스를 외부 배출하지 않고 반응에 전부 소모시킴으로써 염소가스가 외부로 배출되지 않는 헥사클로로파라자일렌 제조방법을 제공하고자 한다.In addition, the present invention seeks to provide a method for producing hexachloroparaxylene in which chlorine gas is not discharged to the outside by completely consuming unreacted chlorine gas in the reaction without discharging it to the outside.

또한, 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 반응시켜 테레프탈로일클로라이드를 제공하고자 한다.In addition, it is intended to provide terephthaloyl chloride by reacting the prepared hexachloroparaxylene with terephthalic acid.

본 발명은 파라자이렌과 염소가스를 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 방법에 있어서, 상기 광 반응은 헥사클로로파라자일렌의 전환율에 따라 생성되는 중간 생성물의 융점의 증가에 따라 4단계 이상의 복수의 온도 구간에서 반응되는 것인, 헥사클로로파라자일렌의 제조방법을 제공한다.The present invention relates to a method for producing hexachloroparaxylene by photoreacting paraxylene and chlorine gas, in which the photoreaction proceeds in four steps according to the increase in melting point of the intermediate product produced according to the conversion rate of hexachloroparaxylene. A method for producing hexachloroparaxylene, which is reacted in the above plurality of temperature ranges, is provided.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 헥사클로로파라자일렌 제조방법은 복수의 반응기가 병렬로 연결되어 있는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the hexachloroparaxylene production method may involve a plurality of reactors connected in parallel.

본 발명의 일 양태에 따라, 상기 복수의 반응기는 제1반응기와 제2반응기가 병렬로 연결된 반응기이며, 파라자일렌으로 채워진 제1반응기에 염소가스를 연속투입하여 반응시키고 헥사클로로파라자일렌의 전환에 따른 부반응물인 염산가스를 외부로 배출하면서 반응을 시작하고, 상기 반응이 개시된 제1반응기에서 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 제1반응기에 연속투입되어 반응에 참여하지 않는 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 제2반응기로 이송하여 제2반응기에 채워진 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하며, 제1반응기의 반응을 종료하고 제1반응기에 연속투입되는 염소가스를 제2반응기와 연결하여 제2 반응기로 연속투입을 시작하며, 생성물을 배출한 제1반응기에 파라자일렌을 채운 상태에서, 제2반응기에 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 상기 미반응 염소가스를 제1반응기로 이송하여 제1반응기의 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하는 과정을 반복함으로써 비반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 헥사클로로파라자일렌을 생산하는 방법을 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, the plurality of reactors are reactors in which a first reactor and a second reactor are connected in parallel, and chlorine gas is continuously introduced into the first reactor filled with para-xylene to react and produce hexachloro-para-xylene. At the conversion rate of hexachloroparaxylene, where hydrochloric acid gas, which is a side-reactant due to conversion, is discharged to the outside, and chlorine gas continuously introduced from the first reactor where the reaction was started begins to be discharged as an unreacted product, the first Unreacted chlorine gas that is continuously introduced into the reactor and does not participate in the reaction is transferred to the second reactor without being discharged to the outside to initiate an initial reaction with para-xylene filled in the second reactor, and the reaction in the first reactor is terminated. The chlorine gas continuously injected into the first reactor is connected to the second reactor to start continuous input into the second reactor, and while the first reactor that discharged the product is filled with paraxylene, the chlorine gas continuously injected into the second reactor At the conversion rate of hexachloroparaxylene at which gas begins to be discharged as an unreacted product, the process of transferring the unreacted chlorine gas to the first reactor to initiate the initial reaction with paraxylene in the first reactor is repeated to produce non-reacting It may include a method of producing hexachloroparaxylene without discharging chlorine gas to the outside.

본 발명의 일 양태에 따른, 헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 반응시켜 테레프탈로일 클로라이드를 제조하는 방법에 있어서, 파라자이렌과 염소가스를 중간생성물의 융점에 따라 4단계 이상의 온도 영역에서 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 단계; 및 상기 헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 루이스 산 촉매 하에 반응시켜 테레프탈로일클로이드를 제조하는 단계;를 포함하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, in the method of producing terephthaloyl chloride by reacting hexachloroparaxylene and terephthalic acid, paraxylene and chlorine gas are photoreacted in four or more temperature ranges depending on the melting point of the intermediate product. Preparing hexachloroparaxylene; And reacting the hexachloroparaxylene and terephthalic acid under a Lewis acid catalyst to produce terephthaloylchloride.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 헥사클로로파라자일렌 제조방법은 복수의 반응기가 병렬로 연결되어 있는 것을 포함하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the method for producing hexachloroparaxylene may include a plurality of reactors connected in parallel.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 복수의 반응기는 제1반응기와 제2반응기가 병렬로 연결된 반응기이며, 파라자일렌으로 채워진 제1반응기에 염소가스를 연속투입하여 반응시키고 헥사클로로파라자일렌의 전환에 따른 부반응물인 염산가스를 외부로 배출하면서 반응을 시작하고, 상기 반응이 개시된 제1반응기에서 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 제1반응기에 연속투입되어 반응에 참여하지 않는 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 제2반응기로 이송하여 제2반응기에 채워진 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하며, 제1반응기의 반응을 종료하고 제1반응기에 연속투입되는 염소가스를 제2반응기와 연결하여 제2 반응기로 연속투입을 시작하며, 생성물을 배출한 제1반응기에 파라자일렌을 채운 상태에서, 제2반응기에 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 상기 미반응 염소가스를 제1반응기로 이송하여 제1반응기의 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하는 과정을 반복함으로써 비반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 헥사클로로파라자일렌을 생산하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the plurality of reactors are reactors in which a first reactor and a second reactor are connected in parallel, and chlorine gas is continuously introduced into the first reactor filled with para-xylene to react and produce hexachloro-para-xylene. At the conversion rate of hexachloroparaxylene, where hydrochloric acid gas, which is a side-reactant due to conversion, is discharged to the outside, and chlorine gas continuously introduced from the first reactor where the reaction was started begins to be discharged as an unreacted product, the first Unreacted chlorine gas that is continuously introduced into the reactor and does not participate in the reaction is transferred to the second reactor without being discharged to the outside to initiate an initial reaction with para-xylene filled in the second reactor, and the reaction in the first reactor is terminated. The chlorine gas continuously injected into the first reactor is connected to the second reactor to start continuous input into the second reactor, and while the first reactor that discharged the product is filled with paraxylene, the chlorine gas continuously injected into the second reactor At the conversion rate of hexachloroparaxylene at which gas begins to be discharged as an unreacted product, the process of transferring the unreacted chlorine gas to the first reactor to initiate the initial reaction with paraxylene in the first reactor is repeated to produce non-reacting It may be producing hexachloroparaxylene without discharging chlorine gas to the outside.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌은 정제단계를 더 포함하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the prepared hexachloroparaxylene may further include a purification step.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 정제단계는 증류탑으로 정제하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the purification step may be purification using a distillation column.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 증류탑은 증류 온도의 바텀온도가 100 내지 300 ℃, 탑 온도는 100 내지 250℃이며, 압력은 1 내지 20 torr으로 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 것을 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, the distillation column may include purifying hexachloroparaxylene at a bottom temperature of 100 to 300°C, a top temperature of 100 to 250°C, and a pressure of 1 to 20 torr. there is.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 루이스 산 촉매는 삼염화알루미늄, 염화아연 및 삼염화제2철 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것을 포함할 수 있다.According to one aspect of the present invention, the Lewis acid catalyst may include any one or two or more selected from aluminum trichloride, zinc chloride, and ferric trichloride.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 제조된 테레프탈로일 클로라이드는 정제단계를 더 포함하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the prepared terephthaloyl chloride may further include a purification step.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 정제단계는 증류탑으로 정제하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the purification step may be purification using a distillation column.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 증류탑은 75 내지 250℃의 제어된 증류 온도 및 1 torr 내지 20 torr 의 압력에서 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 것일 수 있다.According to one aspect of the present invention, the distillation column may purify hexachloroparaxylene at a controlled distillation temperature of 75 to 250°C and a pressure of 1 torr to 20 torr.

본 발명은 라디칼 개시제 대신에 광 조사를 하여 헥사클로로파라자일렌을 제공함으로써, 불순물 함량이 낮은 헥사클로로파라자일렌을 제공할 수 있다.The present invention can provide hexachloroparaxylene with a low impurity content by providing hexachloroparaxylene through light irradiation instead of a radical initiator.

또한, 본 발명은 상기 광반응 시 반응온도를 복수의 구간으로 나누어 제어하고 상기 각 구간마다 반응온도를 점진적으로 상승시킴으로써, 적절한 점도 내에서 상대적으로 높은 염소가스 용해도를 유지하여 고수율의 헥사클로로파라자일렌을 제공할 수 있다.In addition, the present invention controls the reaction temperature during the photoreaction by dividing it into a plurality of sections and gradually increases the reaction temperature in each section, thereby maintaining relatively high chlorine gas solubility within an appropriate viscosity to produce high yield of hexachloroparahydrate. Xylene may be provided.

본 발명은 중간 원료인 헥사클로로파라자일렌 제조 시, 상기 제1 반응기 및 제2 반응기로 미반응 염소가스를 순환시키는 염소가스 순환시스템을 도입함으로써, 유독한 염소가스를 외부로 배출 없이 헥사클로로파라자일렌을 제조할 수 있는 장점이 있다.The present invention introduces a chlorine gas circulation system that circulates unreacted chlorine gas to the first and second reactors when producing hexachloroparaxylene, an intermediate raw material, to produce hexachloroparaxylene without emitting toxic chlorine gas to the outside. There is an advantage in producing xylene.

도 1은 테레프탈로일 클로라이드 제조하는 제조단계에 대한 모식도를 나타낸 것이다.
도 2는 헥사클로로파라자일렌을 제조단계에 대한 모식도를 나타낸 것이다.
Figure 1 shows a schematic diagram of the manufacturing steps for producing terephthaloyl chloride.
Figure 2 shows a schematic diagram of the manufacturing steps of hexachloroparaxylene.

이하 첨부된 도면들을 포함한 구체예 또는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail through specific examples or examples including the attached drawings. However, the following specific examples or examples are only a reference for explaining the present invention in detail, and the present invention is not limited thereto, and may be implemented in various forms.

또한 달리 정의되지 않는 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.Additionally, unless otherwise defined, all technical and scientific terms have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. The terminology used herein is merely to effectively describe particular embodiments and is not intended to limit the invention.

또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다.Additionally, as used in the specification and the appended claims, the singular forms “a,” “an,” and “the” are intended to also include the plural forms, unless the context clearly dictates otherwise.

또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Additionally, when a part "includes" a certain component, this means that it may further include other components rather than excluding other components, unless specifically stated to the contrary.

또한, 본 발명에서 후술하는 염소화 중간생성물은 모노클로로파라자일렌, 다이클로로파라자일렌, 트리클로로파라자일렌, 테트라클로로파라자일렌 또는 펜타클로로파라자일렌 일 수 있다.Additionally, the chlorinated intermediate product described later in the present invention may be monochloroparaxylene, dichloroparaxylene, trichloroparaxylene, tetrachloroparaxylene, or pentachloroparaxylene.

본 발명의 염소화 반응에 의해 생성되는 최종생성물인 헥사클로로파라자일렌은 염소가스에 자외선을 조사하여 발생된 염소라디칼이 파라자일렌 메틸기의 수소와 치환 반응함으로써 제조된다.Hexachloroparaxylene, the final product produced by the chlorination reaction of the present invention, is produced by irradiating chlorine gas with ultraviolet rays and producing a substitution reaction of chlorine radicals with the hydrogen of the methyl group of paraxylene.

다만, 상기 광반응을 통해 헥사클로로파라자일렌의 농도가 높아지면서 점도또한 높아져 반응율이 저하되는 문제점이 있다.However, as the concentration of hexachloroparaxylene increases through the photoreaction, the viscosity also increases, causing a problem in that the reaction rate decreases.

반면에 높은 반응온도에서 반응 시에는 점도는 낮지만 액상의 파라자일렌 내의 염소가스 용해도가 매우 낮아진다. 이에 따라 반응에 참여하는 시간이 매우 짧아져서 파라자일렌과 반응하기도 전에 외부로 배출되는 문제점이 발생할 수 있다.On the other hand, when reacting at a high reaction temperature, the viscosity is low, but the solubility of chlorine gas in liquid para-xylene becomes very low. As a result, the time to participate in the reaction is very short, which may cause problems in that it is discharged to the outside before reacting with paraxylene.

이에 본 발명은 상기와 같이 반응온도를 높여 반응하는 경우에 발생하는 상기 문제점을 해결하기 위하여, 파라자일렌의 염소화도가 증가할수록 따라 생성되는 중간생성물에 의해 생성물의 융점이 증가되고, 그 융점이 증가되는 중간 생성물이 생성될 때, 생성되는 중간생성물을 포함하는 혼합물이 융점시작온도와 융점종료온도 사이로 반응온도를 승온하여 반응을 수행하는 단계를 4단계 이상, 좋게는 10단계 이상으로 나누어 단계반응을 수행함으로써 달성하였다.Accordingly, in order to solve the problem that occurs when the reaction temperature is raised as described above, the present invention increases the melting point of the product by the intermediate product produced as the degree of chlorination of para-xylene increases, and the melting point of the product increases. When an increasing amount of intermediate products are produced, the reaction temperature of the mixture containing the intermediate products is raised between the melting point start temperature and the melting point end temperature, and the reaction is carried out by dividing the reaction into 4 or more steps, preferably 10 or more steps. This was achieved by performing .

상기 중간생성물의 전환율이 증가될수록, 생성물을 회수하여 융점을 측정하였을 때, 용융을 시작하는 융점 시작점과 완전히 용융되는 융점 종료 점 사이의 단계를 가능한 많이 나누어서, 다단 반응할수록 염소가스의 용해도를 증가시켜 최대한 염소가스가 반응 참여를 유도하여 실질적으로 염소가스 전체를 외부로 누출되는 것 없이 또는 최소화시켜 친환경적으로 반응하는 수단을 채택한 새로운 반응방법을 제공하는 것이다.As the conversion rate of the intermediate product increases, when the product is recovered and the melting point is measured, the solubility of chlorine gas is increased by dividing the stages between the melting point start point at which melting begins and the melting point end point at complete melting as possible. The goal is to provide a new reaction method that adopts an environmentally friendly means of reacting by inducing chlorine gas to participate in the reaction as much as possible and substantially eliminating or minimizing the entire chlorine gas leaking to the outside.

구체적으로 설명하면, 상기 반응 시, 파라자일렌의 메틸기에 염소화가 진행되면서 염소화 생성물들이 발생된다. 상기 염소화 생성물들은 파라자일렌보다 융점이 높으며, 파라자일렌에 염소화가 더욱 진행될수록 염소화 생성물들의 융점 또한 더욱 높아진다. 일 예로, 모노클로로파라자일렌 보다 트리클로로파라자일렌의 융점이 높으며, 트리클로로파라자일렌 보다 펜타클로로파라자일렌의 융점이 높다.Specifically, during the above reaction, chlorination products are generated as chlorination progresses to the methyl group of para-xylene. The chlorinated products have a higher melting point than para-xylene, and as chlorination progresses further in para-xylene, the melting point of the chlorinated products also increases. For example, the melting point of trichloroparaxylene is higher than monochloroparaxylene, and the melting point of pentachloroparaxylene is higher than trichloroparaxylene.

따라서 본 발명은 파라자일렌의 염소화에 의한 파라자일렌의 전환율에 따라 생성되는 다양한 형태의 염소화 중간생성물 또는 최종생성물들의 혼합물에 의한 융점이 상승함을 인식하고, 그 융점의 상승에 따라 반응온도도 지속적으로 승온하면서 온반응을 진행함으로서, 염소를 외부 배출없이 반응에 사용할 수 있는 새로운 환경 친화적인 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 방법을 제공한다.Therefore, the present invention recognizes that the melting point of various types of chlorinated intermediate products or mixtures of final products produced according to the conversion rate of para-xylene by chlorination of para-xylene increases, and that the reaction temperature increases as the melting point increases. By conducting a thermal reaction while continuously raising the temperature, a new, environmentally friendly method of producing hexachloroparaxylene that can be used in the reaction without external discharge of chlorine is provided.

본 발명은 상기 온도구간을 낮은 온도부터 높은 온도로 최소한 3단계 구간, 4단계 구간, 5단계 구간, 6단계 구간, 7단계 구간, 8단계의 구간, 9단계의 구간 또는 10단계 이상의 구간으로 나누어 승온하면서 반응함으로써, 점도를 일정수준으로 유지하면서 염소가스 용해도를 제어하여 반응속도가 빠르며, 염소를 외부누출없이 최대한 반응에 참여시킬 수 있으며, 이를 통해 95% 이상의 높은 수율을 달성할 수 있다.The present invention divides the temperature section from low temperature to high temperature into at least 3-step section, 4-step section, 5-step section, 6-step section, 7-step section, 8-step section, 9-step section, or 10-step or more section. By reacting while raising the temperature , the reaction speed is fast by controlling the solubility of chlorine gas while maintaining the viscosity at a certain level, and chlorine can participate as much as possible in the reaction without external leakage, thereby achieving a high yield of over 95%.

본 발명에 따른 일 구체예를 보면, 반응개시는 반응 온도를 13℃에서 20℃로 승온하는 조건에서 4시간 반응하고, 전환율이 진행되면서 47℃ 내지 60℃에서 4시간, 63℃ 내지 67℃에서 4시간, 67℃ 내지 83℃에서 14시간, 87℃ 내지 99℃에서 2시간 및 106℃에서 113℃에서 2시간 반응하여 95%이상의 생성물로 전환, 좋게는 98%이상의 생성물로 전환이 되고 또한 염소가스의 외부 누출없이 반응할 수 있다.In one embodiment according to the present invention, the reaction is initiated for 4 hours under conditions of increasing the reaction temperature from 13°C to 20°C, and as the conversion rate progresses, the reaction temperature is 4 hours at 47°C to 60°C, and 4 hours at 63°C to 67°C. React for 4 hours, 67℃ to 83℃ for 14 hours, 87℃ to 99℃ for 2 hours, and 106℃ to 113℃ for 2 hours to convert more than 95% of the product, preferably more than 98% of the product, and also chlorine. It can react without external leakage of gas.

또한 본 발명은 상기 생성물이 융점에 따른 다단 반응온도와 더불어 미반응 염소가스를 제1반응기에서 제2반응기로, 또는 제2반응기에서 제1반응기를 순환하도록 하는 단계를 결합하여 염소가스의 외부누출을 방지하거나 최소화하는 수단을 채택하였다.In addition, the present invention combines the step of circulating unreacted chlorine gas from the first reactor to the second reactor, or from the second reactor to the first reactor, in addition to the multi-stage reaction temperature according to the melting point of the product to prevent external leakage of chlorine gas. Measures to prevent or minimize were adopted.

상기 본 발명이 수단에 의해 본 발명자들은, 종래와 같이 모든 염소화 중간 생성물 또는 최종 생성물이 융해될 수 있는 온도로 승온하여 바로 광 반응을 진행하게 될 경우의 문제점을 해결하였다.By means of the present invention, the present inventors have solved the problem of proceeding directly with the photoreaction by raising the temperature to a temperature at which all chlorinated intermediate products or final products can be melted, as in the prior art.

즉, 본 발명에 따라 높은 온도로 인하여 반응을 컨트롤하기에 원활하지 않으며, 특히 반응에 사용되는 염소가스의 용해도가 낮아져 반응의 효율이 저하되는 문제점이 발생되며, 또한 미반응 염소를 외부로 배출할 수 밖에 없는 문제를 없애거나 최소화할 수 있음을 알게 되었다.In other words, according to the present invention, it is not smooth to control the reaction due to the high temperature, and in particular, the solubility of the chlorine gas used in the reaction is lowered, which causes a problem in that the efficiency of the reaction is reduced, and it is also difficult to discharge unreacted chlorine to the outside. I learned that inevitable problems can be eliminated or minimized.

본 발명은 상기 파라자일렌 용융점부터 상기 염소화 생성물의 융점에 따라 점진적으로 온도를 증가시켜 반응하는 다단 반응온도 수단 및/또는 병열 연결된 제1 및 제2 반응기에서 하나의 반응기에서 도입되는 염소가스와 반응하고 미반응하고 남은 염소가스를 다른 반응기로 순환시켜 반응에 참여하게 함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있게 되었다.The present invention is a multi-stage reaction temperature means for reacting by gradually increasing the temperature from the para-xylene melting point according to the melting point of the chlorinated product and/or reacting with chlorine gas introduced from one reactor in the first and second reactors connected in parallel. The above purpose could be achieved by circulating the unreacted and remaining chlorine gas to another reactor to participate in the reaction.

본 반응에서 상기 온도범위와 반응 염소가스의 순환 반응 수단을 채택함으로써, 상기 염소 및 반응부산물로 생성되는 염산 혼합가스를 사용하더라도 파라자일렌이 염소화 반응의 반응성을 높은 수준으로 유지할 수 있는 장점이 있다.In this reaction, by adopting the above-mentioned temperature range and the circulation reaction means of reaction chlorine gas, there is an advantage that para-xylene can maintain the reactivity of the chlorination reaction at a high level even when mixed gas of chlorine and hydrochloric acid produced as a reaction by-product is used. .

상기 염소가스의 순환에 대하여 구체적으로 설명한다.The circulation of the chlorine gas will be described in detail.

파라자일렌을 이용하여 헥사클로로파라자일렌을 제조하기 위한 상기 광 반응은 반응이 진행됨에 따라 염소가스의 반응율이 염소로 치환되는 메틸기의 입체 장해(steric effects)가 점차 증가하여 추가의 염소치환 반응 속도가 점차 낮아져 미반응 염소가스의 함량이 증가되는 문제점이 발생한다.In the photoreaction for producing hexachloroparaxylene using paraxylene, as the reaction progresses, the reaction rate of chlorine gas gradually increases, resulting in additional chlorine substitution reaction. As the speed gradually decreases, a problem occurs in which the content of unreacted chlorine gas increases.

이에, 본 발명은 복수의 반응기가 병렬로 연결되고 상기 복수의 반응기에서 순차적으로 배출되는 미반응 염소가스를 다른 반응기로 이송시켜 순환하여 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 다른 반응기로 이송하여 반응에 참여토록 하는 수단을 채택한 것이다.Accordingly, in the present invention, a plurality of reactors are connected in parallel, and unreacted chlorine gas discharged sequentially from the plurality of reactors is transferred to another reactor and circulated, and unreacted chlorine gas is transferred to another reactor without being discharged to the outside for reaction. A means of encouraging participation was adopted.

상기 복수의 반응기는 2 개 또는 3개 이상일 수 있으나, 이는 제한되지 않는다.The plurality of reactors may be two or three or more, but this is not limited.

이하에서는 2개의 반응기가 병열 연결된 반응기를 이용하여 더 구체적으로 설명한다.Hereinafter, a more detailed description will be given using a reactor in which two reactors are connected in parallel.

본 발명은 먼저, 파라자일렌으로 채워진 제1반응기에 염소가스를 연속투입하여 반응시키고 헥사클로로파라자일렌의 전환에 따른 부반응물인 염산가스를 외부로 배출하면서 반응을 시작한다. 이 때, 투입되는 염소가스는 정량적으로 파라자일렌과 반응하여 소모된다. 이어서, 제1반응기에서 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 제1반응기에 연속투입되어 반응에 참여하지 않는 미반응 염소가스가 제1반응기에서 배출되는 시점에서 상기 배출되는 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 제2반응기로 이송하여 제2반응기에 채워진 파라자일렌과 최초 반응을 개시한다. 상기 순환 염소가스는 제1반응기의 반응이 종료되는 순간, 제1반응기로 염소가스의 도입을 중지하고, 제1반응기로 도입되는 염소가스를 제2반응기로 연결하여 제2반응기로 연속 도입하여 반응에 참여하도록 한다.The present invention first starts the reaction by continuously introducing chlorine gas into a first reactor filled with para-xylene and discharging hydrochloric acid gas, a side-reactant resulting from the conversion of hexachloro-para-xylene, to the outside. At this time, the injected chlorine gas reacts quantitatively with paraxylene and is consumed. Subsequently, at the conversion rate of hexachloroparaxylene at which chlorine gas continuously introduced into the first reactor begins to be discharged as unreacted material, unreacted chlorine gas continuously introduced into the first reactor and does not participate in the reaction is discharged from the first reactor. At this point, the unreacted chlorine gas discharged is transferred to the second reactor without being discharged to the outside, and the initial reaction with paraxylene filled in the second reactor is initiated. The circulating chlorine gas is reacted by stopping the introduction of chlorine gas into the first reactor as soon as the reaction in the first reactor is completed, connecting the chlorine gas introduced into the first reactor to the second reactor, and continuously introducing it into the second reactor. to participate in

이어서 생성물을 배출한 제1반응기에 다시 출발물질인 파라자일렌을 채운 상태에서, 제2반응기에 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 상기 미반응 염소가스를 제1반응기로 순환시켜 제1반응기의 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하는 과정을 반복함으로써 비반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 헥사클로로파라자일렌을 생산한다.Then, in the first reactor that discharged the product, the starting material para-xylene is filled again, and at the conversion rate of hexachloro-para-xylene at which chlorine gas continuously introduced into the second reactor begins to be discharged as unreacted material, the unreacted By repeating the process of circulating chlorine gas to the first reactor to initiate the initial reaction with para-xylene in the first reactor, hexachloro-para-xylene is produced without discharging unreacted chlorine gas to the outside.

상기 헥사클로로파라자일렌의 제조방법을 단계별로 나누어 하기 도 2를 참조하여 더욱 자세히 설명한다.The method for producing hexachloroparaxylene will be described in more detail step by step with reference to FIG. 2 below.

본 발명의 일 양태에 따라, 상기 헥사클로로파라자일렌 제조단계는According to one aspect of the present invention, the hexachloroparaxylene production step is

S1) 제1 반응기(100)와 제2 반응기(200)에 파라-자일렌을 투입하여 채우는 단계;S1) filling the first reactor 100 and the second reactor 200 with para-xylene;

S2) 제1 반응기(100)에 염소가스를 연속적으로 투입하고, 상기 투입된 염소가스는 파라-자일렌과 100% 반응하며, 상기 반응으로 배출되는 부산물인 염산가스는 제1 이송관(110)을 통해 소각로(incinerator)(600)로 이송하여 염산은 회수하는 단계;S2) Chlorine gas is continuously introduced into the first reactor (100), the introduced chlorine gas reacts 100% with para-xylene, and hydrochloric acid gas, a by-product discharged from the reaction, flows through the first transfer pipe (110). recovering hydrochloric acid by transferring it to an incinerator (600);

S3) 상기 제1 반응기(100)에서 염소가스의 반응이 100% 이하로 감소하여 미반응 염소가스가 발생할 때, 상기 제1 배출이송관(110)을 차단하는 단계;S3) when the reaction of chlorine gas in the first reactor 100 decreases to 100% or less and unreacted chlorine gas is generated, blocking the first discharge pipe 110;

S4) 상기 제1 배출이송관(110)을 차단한 후, 제1 반응기(100) 내의 미반응 염소가스 및 잔류 염산가스를 제1 교차이송관(120)을 통해 제2 반응기(200)로 이송하여 제2 반응기(200)에서 최초로 반응되어, 제1 반응기(100) 및 제2 반응기(200)에서 동시에 헥사클로로파라자일렌 생성되는 단계;S4) After blocking the first discharge transfer pipe 110, the unreacted chlorine gas and residual hydrochloric acid gas in the first reactor 100 are transferred to the second reactor 200 through the first cross transfer pipe 120. A step of initially reacting in the second reactor 200 and producing hexachloroparaxylene simultaneously in the first reactor 100 and the second reactor 200;

S5) 상기 제2 반응기(200)에서 부산물로 발생되는 염산가스는 제2 반응기(200) 상부의 제2 배출이송관(210)을 통해 소각로(600)로 이송하는 단계;S5) transferring hydrochloric acid gas generated as a by-product in the second reactor 200 to the incinerator 600 through the second discharge pipe 210 at the top of the second reactor 200;

S6) 제1 반응기(100)의 반응이 종료되면, 상기 제1 교차이송관(120)을 차단하고, 제1 반응기(100)에 투입되던 염소가스를 제2 반응기(200)로 변경 투입하는 단계; S6) When the reaction in the first reactor 100 is completed, blocking the first cross transfer pipe 120 and changing the chlorine gas introduced into the first reactor 100 into the second reactor 200;

S7) 상기 제1 반응기(100)의 내에 생성물인 헥사클로로파라자일렌을 배출하고, 새로운 파라자일렌을 투입하는 단계;S7) discharging hexachloroparaxylene as a product into the first reactor 100 and introducing new paraxylene;

S8) 제2 반응기(200) 내의 염소가스 반응이 100% 이하로 감소하여 미반응 염소가스가 발생할 때, 제2 배출이송관(210)을 차단하고 제2 반응기(200) 내의 미반응 염소가스 및 잔류 염산을 제2 교차이송관(220)을 통해 제1 반응기(100)내에 투입하여 제2 반응기(200)와 제1 반응기(100)에서 헥사클로로파라자일렌 생성반응을 동시에 진행하는 단계;S8) When the chlorine gas reaction in the second reactor 200 decreases to 100% or less and unreacted chlorine gas is generated, the second discharge pipe 210 is blocked and the unreacted chlorine gas and Injecting residual hydrochloric acid into the first reactor 100 through the second cross transfer pipe 220 to simultaneously proceed with the hexachloroparaxylene production reaction in the second reactor 200 and the first reactor 100;

S9) 제2 반응기(200)의 반응이 종료한 후, 제2 반응기(200)에 투입되는 염소가스를 제1 반응기(100)로 투입하여 반응시키고, 제1 배출이송관(110)을 오픈하여 부산물인 염산을 소각로(600)로 이송하여 염산은 회수하는 단계; 및S9) After the reaction in the second reactor 200 is completed, the chlorine gas introduced into the second reactor 200 is introduced into the first reactor 100 to react, and the first discharge pipe 110 is opened. transporting hydrochloric acid, a by-product, to an incinerator (600) to recover hydrochloric acid; and

S10) 상기 제2반응기(200)의 내에 헥사클로로파라자일렌을 배출하고, 새로운 파라자일렌을 투입하는 단계;를 포함하며, 상기 S2 내지 S10 단계를 반복하여 헥사클로로파라자일렌을 연속적으로 제조하는 단계를 포함할 수 있다.S10) discharging hexachloroparaxylene into the second reactor 200 and adding new paraxylene; repeating steps S2 to S10 to continuously produce hexachloroparaxylene It may include steps.

상기 헥사클로로파라자일렌 제조단계에서 염소가스와 파라자일렌은 광 반응을 통해 헥사클로로파라자일렌으로 제조된다. 상기 염소가스가 상기 광 반응으로 인해 염소라디칼로 분해되고 상기 염소라디칼이 파라자일렌의 메틸기의 수소와 치환되어 헥사클로로파라자일렌으로 제조되고, 그의 부산물로 염산이 배출된다.In the hexachloroparaxylene production step, chlorine gas and paraxylene are produced into hexachloroparaxylene through photoreaction. The chlorine gas is decomposed into chlorine radicals due to the photo reaction, and the chlorine radicals are replaced with the hydrogen of the methyl group of para-xylene to produce hexachloro-para-xylene, and hydrochloric acid is discharged as a by-product.

상기 헥사클로로파라자일렌의 제조방법을 통해 염소가스를 반응에 전부 소진시킬 수 있어, 인체 또는 환경에 치명적인 염소가스를 외부로 방출되는 것을 방지할 수 있다.Through the method for producing hexachloroparaxylene, all chlorine gas can be consumed in the reaction, thereby preventing chlorine gas, which is fatal to the human body or the environment, from being released to the outside.

또한, 상기 헥사클로로파라자일렌 제조방법에서 상기 복수의 온도구간의 범위에서 반응할시 상기 염소 및 염산 혼합가스를 사용하더라도 반응성을 높은 수준으로 유지할 수 있는 장점이 있다.In addition, in the method for producing hexachloroparaxylene, there is an advantage that reactivity can be maintained at a high level even when the mixed gas of chlorine and hydrochloric acid is used when reacting within the plurality of temperature ranges.

또한 본 발명의 일 양태에 따른, 상기 광반응은 2000 LUX 미만, 구체적으로, 100 내지 1,800 LUX, 구체적으로 100 내지 1,500 LUX의 자외선 광량범위를 포함할 수 있다. Additionally, according to one aspect of the present invention, the photoreaction may include an ultraviolet light amount range of less than 2000 LUX, specifically 100 to 1,800 LUX, and specifically 100 to 1,500 LUX.

종래에 광반응에 투입되는 광량은 2,000 LUX 내지 50,000 LUX 자외선 범위의 고에너지 광량이였으나, 상기 광량범위에서는 부반응이 발생할 수 있고, 헥사클로로파라자일렌의 수율이 낮은 단점이 있었다. Conventionally, the amount of light input to the photoreaction was a high-energy light amount in the range of 2,000 LUX to 50,000 LUX ultraviolet rays, but there were disadvantages in that side reactions may occur in this light amount range and the yield of hexachloroparaxylene was low.

이에 본 발명자들은 상기 조사되는 광량범위를 100 내지 1,500 LUX의 자외선으로 제어하여도 헥사클로로파라자일렌이 제조될 수 있고, 오히려 상기 범위광량에서 제조할 경우 부반응이 낮고 수율이 높은 사실을 발견하였다.Accordingly, the present inventors found that hexachloroparaxylene can be produced even by controlling the irradiated light amount range to 100 to 1,500 LUX of ultraviolet rays, and that side reactions are low and yield is high when produced in the above light amount range.

또한 상기 광량범위에 반응 시, 반응에 따라 발생되는 반응열이 낮아 온도 컨트롤하기에 매우 좋으면서 동시에 반응속도 또한 제어할 수 있는 장점이 있다. In addition, when reacting in the above light amount range, the reaction heat generated according to the reaction is low, which is very good for temperature control and has the advantage of controlling the reaction rate at the same time.

또한, 광 반응의 조사 면적은 상기 반응이 원활하게 진행되는 정도라면 제한되지는 않으나, 구체적으로, 파라자일렌 Kg 당 5 내지 30 cm2, 구체적으로, 10 내지 20cm2, 구체적으로, 10 내지 15 cm2일 수 있다. In addition, the irradiation area for the light reaction is not limited as long as the reaction proceeds smoothly, but is specifically 5 to 30 cm 2 per Kg of paraxylene, specifically 10 to 20 cm 2 , specifically 10 to 15 cm 2 per kg of paraxylene. It can be cm2 .

광 반응에 사용되는 광원으로 이전에는 수은램프를 사용하였으나, 상기 수은램프는 저압 수은 램프의 단파장 광은 다른 광화학 부반응을 일으켜 생성물의 순도를 낮출 수 있으며, 고압 수은 램프의 장파장 광은 염소 라디칼 반응을 일으키기에 충분하지 않아 더 많은 에너지가 소모될 수 있다. 또한 상기 수은 램프를 사용할 경우 더 많은 열이 생성되고, 이를 낮추기 위하여 냉각장치를 추가적으로 도입해야 하는 등의 문제점이 발생할 수 있다.Previously, a mercury lamp was used as a light source for the photo reaction. However, the short-wavelength light of the low-pressure mercury lamp can cause other photochemical side reactions and lower the purity of the product, while the long-wavelength light of the high-pressure mercury lamp causes a chlorine radical reaction. It may not be enough to wake you up, so more energy may be consumed. In addition, when using the mercury lamp, more heat is generated, and problems such as the need to introduce an additional cooling device to reduce the heat may occur.

이에 본 발명은 LED 램프를 사용함으로써 상기 수은 램프의 단점을 극복하였다. 상기 LED 램프를 사용함으로써, 반응에 적절한 파장대를 컨트롤할 수 있어 광화학 부반응을 낮출 수 있으며, 장기간 사용에도 수은 램프에 비해 열이 발생하지 않아 추가적인 냉각장치가 필요하지 않는 장점이 있다. 또한, 상기 LED 램프는 낮은 전력 소모량을 가지고 있어, 에너지 효율이 높은 장점이 있다.Accordingly, the present invention overcomes the disadvantages of the mercury lamp by using an LED lamp. By using the LED lamp, the wavelength range appropriate for the reaction can be controlled, thereby reducing photochemical side reactions, and it has the advantage of not requiring an additional cooling device because it does not generate heat compared to a mercury lamp even when used for a long period of time. In addition, the LED lamp has low power consumption and has the advantage of high energy efficiency.

특히, 상기 제1 교차이송관 또는 제2 교차이송관을 통해 반응기로 투입되는 염소가스 및 염산가스가 혼합된 혼합가스의 경우 높은 광량에서는 단일 염소가스보다 부반응 발생확률이 높으며 이에 따라 반응성이 저하되는 문제점이 발생될 수 있다. In particular, in the case of a mixed gas of chlorine gas and hydrochloric acid gas introduced into the reactor through the first cross transfer pipe or the second cross transfer pipe, the probability of side reactions occurring is higher than that of single chlorine gas at high light levels, and this causes the problem of reduced reactivity. It can happen.

이에 본 발명은 상기 광량을 2,000 LUX 미만으로 조사함으로써, 상기 부반응을 낮출 수 있으면서 높은 수율의 헥사클로로파라자일렌을 수득할 수 있다.Accordingly, in the present invention, by irradiating the amount of light below 2,000 LUX, the side reaction can be reduced and high yield of hexachloroparaxylene can be obtained.

또한, 상기 광량범위와 상기 복수의 온도구간의 온도범위를 동시에 만족함으로써, 부반응이 매우 낮으면서 동시에 부산물인 염산가스의 배출이 원활하여 매우 높은 수율의 헥사클로로파라자일렌을 수득할 수 있다.In addition, by satisfying the light amount range and the temperature range of the plurality of temperature sections at the same time, side reactions are very low and at the same time, the discharge of hydrochloric acid gas, a by-product, is smooth, so that a very high yield of hexachloroparaxylene can be obtained.

상기 배출되는 염산가스는 소각로로 이동하고, 상기 소각로에서 미반응 염소가스를 전부 배출하고, 염산가스는 염산 제조 설비내로 들어가 35% 염산 용액이 제조된다. The discharged hydrochloric acid gas moves to the incinerator, all unreacted chlorine gas is discharged from the incinerator, and the hydrochloric acid gas enters the hydrochloric acid production facility to produce a 35% hydrochloric acid solution.

구체적으로 상기 소각로에서 발생한 염산가스는 염산 제조 설비 내의 스크러빙 시스템(scrubbing system)을 통해 물에 용해되어 염산으로 제조된다.Specifically, the hydrochloric acid gas generated from the incinerator is dissolved in water through a scrubbing system within the hydrochloric acid production facility and produced as hydrochloric acid.

상기 제조된 35% 염산 용액은 염산탱크로 이송되어 보관된다.The prepared 35% hydrochloric acid solution is transferred to a hydrochloric acid tank and stored.

본 발명의 일 양태에 따른, 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 반응시켜 테레프탈로일클로라이드를 제조할 수 있다. According to one aspect of the present invention, terephthaloyl chloride can be produced by reacting the prepared hexachloroparaxylene with terephthalic acid.

일 구현예로서, 상기 테레프탈로일클로라이드 제조단계는 파라자일렌으로부터 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 단계; 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 단계; 상기 정제된 파라자일렌과 테레프탈산을 산촉매하에 반응시켜 테레프탈 일클로이드를 제조하는 단계;를 포함할 수 있다. As one embodiment, the step of producing terephthaloyl chloride includes producing hexachloroparaxylene from paraxylene; Purifying the prepared hexachloroparaxylene; It may include the step of reacting the purified para-xylene and terephthalic acid under an acid catalyst to produce terephthalic monochloride.

또한 일 구현예로서 상기 테레프탈로일클로라이드 제조단계는 파라자일렌으로부터 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 단계; 상기 제조된 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 단계; 상기 정제된 파라자일렌과 테레프탈산을 루이스 산촉매하에 반응시켜 테레프탈 일클로이드를 제조하는 단계; 및 상기 제조된 테레프탈로일클로라이드를 정제하는 단계;를 포함한다.In addition, as one embodiment, the step of producing terephthaloyl chloride includes producing hexachloroparaxylene from paraxylene; Purifying the prepared hexachloroparaxylene; Preparing terephthalic monochloride by reacting the purified para-xylene and terephthalic acid under a Lewis acid catalyst; and purifying the prepared terephthaloyl chloride.

먼저, 상기 헥사클로로파라자일렌 정제단계는 재결정화 방법, 정류 방법( rectification), 증류방법 등을 포함할 수 있으며, 상기 증류방법으로는 진공 증류 방법 또는 분자 증류 방법 등을 포함할 수 있다.First, the hexachloroparaxylene purification step may include a recrystallization method, a rectification method, a distillation method, etc., and the distillation method may include a vacuum distillation method or a molecular distillation method.

상기 정제단계에서 증류방법은 증류탑을 사용하여 증류할 수 있으며, 상기 증류탑은 일반적으로 화합물을 증류하는 장치라면 이에 제한되는 것은 아니다.In the purification step, the distillation method can be distilled using a distillation tower, and the distillation tower is not limited to this if it is a device that generally distills compounds.

상기 증류탑은 증류 온도의 바텀온도가 100 내지 300 ℃, 탑 온도는 100 내지 250℃이며, 압력은 1 내지 20 torr의 조건으로 헥사클로로자일렌을 정제할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The distillation column can purify hexachloroxylene under conditions where the bottom temperature of the distillation temperature is 100 to 300°C, the top temperature is 100 to 250°C, and the pressure is 1 to 20 torr, but is not limited thereto.

또한, 상기 정제된 헥사클로로자일렌은 산촉매 존재 하에 테레프탈산과 반응하여 테레프탈로일클로라이드를 제조하는 단계에 사용되는 상기 촉매는 루이스산 촉매일 수 있다.Additionally, the catalyst used in the step of producing terephthaloyl chloride by reacting the purified hexachloroxylene with terephthalic acid in the presence of an acid catalyst may be a Lewis acid catalyst.

상기 루이스 산 촉매는 삼염화알루미늄, 염화아연 및 삼염화제2철 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상을 포함하는 것일 수 있으나, 통상적으로 상기 합성에 사용되는 촉매라면 이에 제한되는 것은 아니다.The Lewis acid catalyst may include any one or two or more selected from aluminum trichloride, zinc chloride, and ferric trichloride, but is not limited thereto as long as it is a catalyst commonly used in the above synthesis.

상기 테레프탈로일클로라이드 합성은 상기 헥사클로로파라자일렌 100 중량부에 대해서, 테레프탈산 30 내지 300 중량부, 바람직하게는 40 내지 200 중량부, 더욱 바람직하게는 45 내지 130 중량부를 투입할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The terephthaloyl chloride synthesis may be performed by adding 30 to 300 parts by weight of terephthalic acid, preferably 40 to 200 parts by weight, and more preferably 45 to 130 parts by weight, based on 100 parts by weight of hexachloroparaxylene. It is not limited.

또한, 상기 헥세클로로파라자일렌 100 중량부에 대해서, 상기 산촉매는 0.001 내지 10 중량부, 바람직하게는 0.003 내지 1 중량부, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 0.01중량부를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, based on 100 parts by weight of hexechloroparaxylene, the acid catalyst may include 0.001 to 10 parts by weight, preferably 0.003 to 1 part by weight, and more preferably 0.005 to 0.01 parts by weight, but is not limited thereto. no.

또한, 본 발명의 일 양태에 따라, 상기 제조된 테레프탈로일클로라이드는 정제단계를 더 포함하는 것일 수 있으며, 상기 테레프탈로일클로라이드 정제단계는 재결정화 방법, 정류 방법, 증류방법 등이 포함할 수 있으며, 상기 증류방법으로는 진공 증류 방법 또는 분자 증류 방법 등을 포함할 수 있다.In addition, according to one aspect of the present invention, the prepared terephthaloyl chloride may further include a purification step, and the terephthaloyl chloride purification step may include a recrystallization method, a rectification method, a distillation method, etc. The distillation method may include a vacuum distillation method or a molecular distillation method.

상기 테레프탈로일클로라이드 정제단계에서 증류방법은 증류탑을 사용하여 증류할 수 있으며, 상기 증류탑은 일반적으로 화합물을 증류하는 장치라면 이에 제한되는 것은 아니다.In the terephthaloyl chloride purification step, the distillation method can be distilled using a distillation tower, and the distillation tower is not limited to this if it is a device that generally distills compounds.

상기 증류탑은 75 내지 250℃의 제어된 증류 온도 및 1 torr 내지 20 torr 의 압력에서 테레프탈로일클로라이드를 정제할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The distillation column can purify terephthaloyl chloride at a controlled distillation temperature of 75 to 250°C and a pressure of 1 torr to 20 torr, but is not limited thereto.

이하 실시예 및 비교예를 바탕으로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하기 위한 하나의 예시일 뿐, 본 발명이 하기 실시예 및 비교예에 의해 제한되는 것은 아니다. The present invention will be described in more detail below based on examples and comparative examples. However, the following Examples and Comparative Examples are only one example to explain the present invention in more detail, and the present invention is not limited by the following Examples and Comparative Examples.

[실시예 1][Example 1]

1) 헥사클로로파라자일렌(hexachloro-p-xylene) 제조 단계1) Hexachloro-p-xylene manufacturing steps

파라자일렌 공급부(300)에서 제1 반응기(100)와 제2 반응기(200)로 파라자일렌(para-xylene) 각각 100 중량부를 투입한 후, 질소가스 공급부(500)에서 질소를 제1 반응기(100) 내부로 주입하여 내부의 Air를 제거한 뒤, 염소가스 공급부(400)에서 염소가스를 제1반응기(100)에 주입하고 광반응하여 헥사클로로파라자일렌을 제조하였다.After injecting 100 parts by weight of para-xylene from the para-xylene supply unit 300 into the first reactor 100 and the second reactor 200, nitrogen is supplied from the nitrogen gas supply unit 500 to the first reactor. (100) After removing the air inside by injecting it inside, chlorine gas was injected from the chlorine gas supply unit (400) into the first reactor (100) and photoreacted to produce hexachloroparaxylene.

상기 주입되는 염소가스는 상기 파라자일렌 100 중량부에 대해 시간당 30 중량부씩 주입되었다.The injected chlorine gas was injected at a rate of 30 parts by weight per hour for 100 parts by weight of paraxylene.

상기 광반응에서 반응온도는 제1 반응기(100)에서 반응이 진행될수록 하기 표 1의 전환율에 따라 중간 생성물이 생성되고, 중간생성물의 생성으로 중간생성 혼합물의 용점이 상승하면서, 표 2와 같은 온도 및 시간으로 다단 승온 조건에서 반응을 진행하였다. 상기 반응 중에 교반은 300 rpm으로 교반하였으며, 상기 광반응은 원료 1kg당 15cm2의 광면적에 1,000LUX의 자외선으로 조사되었다.In the photoreaction, the reaction temperature is as the reaction progresses in the first reactor 100, intermediate products are generated according to the conversion rate in Table 1 below, and the melting point of the intermediate product mixture increases due to the production of the intermediate product, and the temperature as shown in Table 2 The reaction was carried out under multi-step temperature increasing conditions with time and temperature. During the reaction, stirring was performed at 300 rpm, and the light reaction was irradiated with ultraviolet rays of 1,000 LUX on a light area of 15 cm 2 per 1 kg of raw material.

또한 제1반응기로 투입되는 외부 염소가스는 반응초기에 정량적으로 반응에 참가 하여 소모되었으며, 이 때 부산물인 염산은 제1 배출이송관(110)을 통해 소각로(600)으로 배출되었다. 상기 헥사클로로파라자일렌의 수율이 0.1%에 이르렀을 때, 미반응 염소가스가 외부로 배출되기 시작하였으므로, 이 때 미반응 염소가스를 제2반응기로 순환시켜 제2반응기에서 제1반응기와 같은 조건에서 염소화 반응을 개시하였다.In addition, the external chlorine gas introduced into the first reactor participated in the reaction quantitatively at the beginning of the reaction and was consumed, and at this time, hydrochloric acid, a by-product, was discharged to the incinerator 600 through the first discharge pipe 110. When the yield of hexachloroparaxylene reached 0.1%, unreacted chlorine gas began to be discharged to the outside, so at this time, unreacted chlorine gas was circulated to the second reactor to produce the same amount of heat as in the first reactor. The chlorination reaction was initiated under these conditions.

제1 반응기에서 표 1 및 표 2의 조건에서 반응을 수행하여 32시간 후 반응을 종료하고, 제1반응기의 염소가스 도입관을 제2반응기 염소가스 도입관으로 연결하여 제2반응기로 염소가스를 투입하였다. 제2반응기의 전환율과 반응온도 및 시간을 표 3 및 표 4의 조건으로 반응을 수행하였다.In the first reactor, the reaction was performed under the conditions of Table 1 and Table 2, and the reaction was terminated after 32 hours. The chlorine gas introduction pipe of the first reactor was connected to the chlorine gas introduction pipe of the second reactor, and chlorine gas was supplied to the second reactor. It was put in. The reaction was performed under the conditions of the conversion rate, reaction temperature, and time in the second reactor as shown in Tables 3 and 4.

상기 제2 반응기에서 헥사파라자일렌 수율 0.1%에서 미반응 염소가스가 발생하는 시점에서 염소가스를 제1반응기로 이송하여 제1반응기에서 염소화 반응을 개시하였다.At the point where unreacted chlorine gas was generated in the second reactor at a hexaparaxylene yield of 0.1%, the chlorine gas was transferred to the first reactor and the chlorination reaction was initiated in the first reactor.

[표 1][Table 1]

[표 2][Table 2]

2) 헥사클로로파라자일렌 정제 단계2) Hexachloroparaxylene purification step

상기 제1 반응기(100) 및 제2 반응기(200)에서 제조된 헥사클로로파라자일렌은 제1 증류탑의 바텀으로 이송되었다. 상기 헥사클로로파라자일렌을 정제하기 위해, 상기 제1 증류탑은 증류탑 전체 압력이 5 torr, 바텀온도는 160 ℃, 탑 온도는 150 ℃ 및 교반 속도가 300 rpm에서 정제하여 고순도로 정제된 헥사클로로파라자일렌과 상기 헥사클로로파라자일렌 잔사를 분별한 후, 상기 정제된 상기 헥사클로로파라자일렌은 제1 저장 탱크로 이송되어 보관 되었다. Hexachloroparaxylene produced in the first reactor 100 and the second reactor 200 was transferred to the bottom of the first distillation tower. In order to purify the hexachloroparaxylene, the first distillation column is purified at a total distillation column pressure of 5 torr, a bottom temperature of 160°C, a tower temperature of 150°C, and a stirring speed of 300 rpm to purify hexachloroparaxylene to high purity. After fractionation of xylene and the hexachloroparaxylene residue, the purified hexachloroparaxylene was transferred to a first storage tank and stored.

3) 테레프탈로일클로라이드 반응 단계3) Terephthaloyl chloride reaction step

상기 헥사클로로파라자일렌 정제 단계에서 제1 저장 탱크에 저장된 고순도 헥사클로로파라자일렌은 제3 반응기로 이송되고, 상기 제3 반응기로 테레프탈산(terephthalic acid)과 염화철(FeCl3) 촉매가 투입하고. 5 시간 동안 반응하여 테레프탈로일클로라이드를 제조하였다.In the hexachloroparaxylene purification step, high-purity hexachloroparaxylene stored in the first storage tank is transferred to a third reactor, and terephthalic acid and iron chloride (FeCl 3 ) catalyst are added to the third reactor. Terephthaloyl chloride was prepared by reacting for 5 hours.

상기 반응은 고순도 헥사클로로-p-자일렌 100 중량부에 대하여, 테레프탈산 100 중량부 및 FeCl3 0.005 중량부가 혼합되어 반응되었으며, 상기 반응 조건은 온도 120℃에서 압력은 상압을 유지하였다.The reaction was performed by mixing 100 parts by weight of high-purity hexachloro-p-xylene, 100 parts by weight of terephthalic acid, and 0.005 parts by weight of FeCl 3 , and the reaction conditions were maintained at a temperature of 120°C and an atmospheric pressure.

4) 테레프탈로일클로라이드 정제 단계4) Terephthaloyl chloride purification step

상기 3)테레프탈로일클로라이드 반응 단계에서 제조된 테레프탈로일클로라이드는 제2 증류탑으로 이송되어 1차 정제되었다. 상기 제2 증류탑의 정제 조건은 증류탑 전체 압력이 5 torr, 바텀온도는 160 ℃, 탑 온도는 130℃ 및 교반 속도가 300 rpm 조건으로 실시하였다. 상기 고순도로 정제된 테레프탈로일클로라이드는 제2 저장 탱크로 이송되어 저장되었다.The terephthaloyl chloride produced in the 3) terephthaloyl chloride reaction step was transferred to the second distillation column and subjected to primary purification. The purification conditions of the second distillation tower were carried out under the conditions of a total distillation tower pressure of 5 torr, a bottom temperature of 160°C, a tower temperature of 130°C , and a stirring speed of 300 rpm. The highly purified terephthaloyl chloride was transferred to a second storage tank and stored.

이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. As described above, the present invention has been described with specific details, limited embodiments, and drawings, but these are provided only to facilitate a more general understanding of the present invention, and the present invention is not limited to the above embodiments, and the present invention Anyone skilled in the art can make various modifications and variations from this description.

따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Accordingly, the spirit of the present invention should not be limited to the described embodiments, and the scope of the patent claims described below as well as all modifications that are equivalent or equivalent to the scope of this patent claim shall fall within the scope of the spirit of the present invention. .

100: 제1반응기
110: 제1 배출이송관
120: 제1 교차이송관
200: 제2반응기
210: 제2 배출이송관
220: 제2 교차이송관
300: 파라자일렌 공급부
400: 염소가스 공급부
500: 비활성기체 공급부
600: 소각로
700: 염산 제조 설비
100: first reactor
110: First discharge transfer pipe
120: First cross transfer pipe
200: Second reactor
210: Second discharge transfer pipe
220: Second cross transfer pipe
300: Paraxylene supply department
400: Chlorine gas supply unit
500: Inert gas supply unit
600: Incinerator
700: Hydrochloric acid manufacturing equipment

Claims (13)

파라자이렌과 염소가스를 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 방법으로서, 상기 반응은 병렬로 연결된 복수의 반응기에서 수행되며, 각 반응기에서의 광 반응은 헥사클로로파라자일렌의 전환율에 따라 생성되는 중간 생성물의 융점의 증가에 따라 4단계 이상의 복수의 온도 구간에서 반응되는 것이며,
상기 복수의 반응기 중 하나의 반응기에서 방출되는 미반응 염소가스를 다른 반응기로 순환시켜 반응에 참여하게 하는 것인, 파라자일렌 제조방법.
A method of producing hexachloroparaxylene by photoreacting paraxylene and chlorine gas. The reaction is performed in a plurality of reactors connected in parallel, and the photoreaction in each reactor is performed according to the conversion rate of hexachloroparaxylene. The reaction is carried out in a plurality of temperature ranges of 4 or more stages according to the increase in the melting point of the intermediate product produced.
A method for producing paraxylene, wherein unreacted chlorine gas released from one of the plurality of reactors is circulated to another reactor to participate in the reaction.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 복수의 반응기는 제1반응기와 제2반응기가 병렬로 연결된 반응기이며, 파라자일렌으로 채워진 제1반응기에 염소가스를 연속투입하여 반응시키고 헥사클로로파라자일렌의 전환에 따른 부반응물인 염산가스를 외부로 배출하면서 반응을 시작하고, 상기 반응이 개시된 제1반응기에서 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 제1반응기에 연속투입되어 반응에 참여하지 않는 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 제2반응기로 이송하여 제2반응기에 채워진 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하며, 제1반응기의 반응을 종료하고 제1반응기에 연속투입되는 염소가스를 제2반응기와 연결하여 제2 반응기로 연속투입을 시작하며, 생성물을 배출한 제1반응기에 파라자일렌을 채운 상태에서, 제2반응기에 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 상기 미반응 염소가스를 제1반응기로 이송하여 제1반응기의 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하는 과정을 반복함으로써 비반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 헥사클로로파라자일렌을 생산하는 헥사클로로파라자일렌의 제조방법.
According to paragraph 1,
The plurality of reactors are reactors in which a first reactor and a second reactor are connected in parallel, and chlorine gas is continuously injected into the first reactor filled with para-xylene to react, and hydrochloric acid gas, which is a side reactant due to the conversion of hexachloro-para-xylene, is reacted. The reaction begins by discharging to the outside, and at the conversion rate of hexachloroparaxylene at which chlorine gas, which is continuously introduced from the first reactor where the reaction is initiated, begins to be discharged as unreacted material, it is continuously introduced into the first reactor and participates in the reaction. Unreacted chlorine gas is not discharged to the outside but is transferred to the second reactor to initiate an initial reaction with the para-xylene filled in the second reactor. After the reaction in the first reactor is completed, chlorine is continuously introduced into the first reactor. Gas is connected to the second reactor and continuous injection into the second reactor begins. In the state where para-xylene is filled into the first reactor that discharged the product, chlorine gas continuously introduced into the second reactor begins to be discharged as unreacted material. At the conversion rate of hexachloroparaxylene, the process of transferring the unreacted chlorine gas to the first reactor to initiate the initial reaction with paraxylene in the first reactor is repeated, without discharging the unreacted chlorine gas to the outside. Method for producing hexachloroparaxylene.
헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 반응시켜 테레프탈로일 클로라이드를 제조하는 방법으로서,
상기 반응은 병렬로 연결된 복수의 반응기에서 수행되며,
파라자이렌과 염소가스를 중간생성물의 융점에 따라 4단계 이상의 온도 영역에서 광 반응시켜 헥사클로로파라자일렌을 제조하는 단계; 및
상기 헥사클로로파라자일렌과 테레프탈산을 루이스 산 촉매 하에 반응시켜 테레프탈로일클로이드를 제조하는 단계;를 포함하는 것이며,
상기 복수의 반응기 중 하나의 반응기에서 방출되는 미반응 염소가스를 다른 반응기로 순환시켜 반응에 참여하게 하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
A method of producing terephthaloyl chloride by reacting hexachloroparaxylene and terephthalic acid,
The reaction is carried out in a plurality of reactors connected in parallel,
Producing hexachloroparaxylene by photoreacting paraxylene and chlorine gas in 4 or more temperature ranges depending on the melting point of the intermediate product; and
It includes the step of reacting the hexachloroparaxylene and terephthalic acid under a Lewis acid catalyst to produce terephthaloylchloride,
A method for producing terephthaloyl chloride, wherein unreacted chlorine gas released from one of the plurality of reactors is circulated to another reactor to participate in the reaction.
삭제delete 제4항에 있어서,
상기 복수의 반응기는 제1반응기와 제2반응기가 병렬로 연결된 반응기이며, 파라자일렌으로 채워진 제1반응기에 염소가스를 연속투입하여 반응시키고 헥사클로로파라자일렌의 전환에 따른 부반응물인 염산가스를 외부로 배출하면서 반응을 시작하고, 상기 반응이 개시된 제1반응기에서 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 제1반응기에 연속투입되어 반응에 참여하지 않는 미반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 제2반응기로 이송하여 제2반응기에 채워진 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하며, 제1반응기의 반응을 종료하고 제1반응기에 연속투입되는 염소가스를 제2반응기와 연결하여 제2 반응기로 연속투입을 시작하며, 생성물을 배출한 제1반응기에 파라자일렌을 채운 상태에서, 제2반응기에 연속투입되는 염소가스가 미반응물로 배출되기 시작하는 헥사클로로파라자일렌의 전환율에서, 상기 미반응 염소가스를 제1반응기로 이송하여 제1반응기의 파라자일렌과 최초 반응을 개시하도록 하는 과정을 반복함으로써 비반응 염소가스를 외부로 배출하지 않고 헥사클로로파라자일렌을 생산하는 것인 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to paragraph 4,
The plurality of reactors are reactors in which a first reactor and a second reactor are connected in parallel, and chlorine gas is continuously injected into the first reactor filled with para-xylene to react, and hydrochloric acid gas, which is a side reactant due to the conversion of hexachloro-para-xylene, is reacted. The reaction begins by discharging to the outside, and at the conversion rate of hexachloroparaxylene at which chlorine gas, which is continuously introduced from the first reactor where the reaction is initiated, begins to be discharged as unreacted material, it is continuously introduced into the first reactor and participates in the reaction. Unreacted chlorine gas is not discharged to the outside but is transferred to the second reactor to initiate an initial reaction with the para-xylene filled in the second reactor. After the reaction in the first reactor is completed, chlorine is continuously introduced into the first reactor. Gas is connected to the second reactor and continuous injection into the second reactor begins. In the state where para-xylene is filled into the first reactor that discharged the product, chlorine gas continuously introduced into the second reactor begins to be discharged as unreacted material. At the conversion rate of hexachloroparaxylene, the process of transferring the unreacted chlorine gas to the first reactor to initiate the initial reaction with paraxylene in the first reactor is repeated, without discharging the unreacted chlorine gas to the outside. A method for producing terephthaloyl chloride to produce hexachloroparaxylene.
제 4항에 있어서,
상기 제조된 헥사클로로파라자일렌은 정제단계를 더 포함하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 4,
A method for producing terephthaloyl chloride, wherein the prepared hexachloroparaxylene further includes a purification step.
제 7항에 있어서,
상기 정제단계는 증류탑으로 정제하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 7,
The purification step is a method of producing terephthaloyl chloride, wherein the purification step is purification using a distillation column.
제 8항에 있어서,
상기 증류탑은 증류 온도의 바텀온도가 100 내지 300 ℃, 탑 온도는 100 내지 250℃이며, 압력은 1 내지 20 torr으로 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 8,
The distillation tower has a bottom temperature of 100 to 300 ℃, a tower temperature of 100 to 250 ℃, and a pressure of 1 to 20 torr to purify hexachloroparaxylene. A method of producing terephthaloyl chloride.
제 4항에 있어서,
상기 루이스 산 촉매는 삼염화알루미늄, 염화아연 및 삼염화제2철 중에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상인 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 4,
A method for producing terephthaloyl chloride, wherein the Lewis acid catalyst is any one or two or more selected from aluminum trichloride, zinc chloride, and ferric trichloride.
제 4항에 있어서,
상기 제조된 테레프탈로일 클로라이드는 정제단계를 더 포함하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 4,
A method for producing terephthaloyl chloride, wherein the prepared terephthaloyl chloride further includes a purification step.
제11항에 있어서,
상기 정제단계는 증류탑으로 정제하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.
According to clause 11,
The purification step is a method of producing terephthaloyl chloride, wherein the purification step is purification using a distillation column.
제12항에 있어서,
상기 증류탑은 75 내지 250℃의 제어된 증류 온도 및 1 torr 내지 20 torr 의 압력에서 헥사클로로파라자일렌을 정제하는 것인, 테레프탈로일클로라이드의 제조방법.


According to clause 12,
The method of producing terephthaloyl chloride, wherein the distillation tower purifies hexachloroparaxylene at a controlled distillation temperature of 75 to 250°C and a pressure of 1 torr to 20 torr.


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