KR102584646B1 - System and method of performing plasma process diagnosis by using svid data - Google Patents

System and method of performing plasma process diagnosis by using svid data Download PDF

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Abstract

장비 데이터를 이용하는 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법이 개시된다. 플라즈마 공정 진단 시스템에 사용되는 공정 진단부는 플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 데이터부 및 상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 진단부를 포함한다. 여기서, 상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타낸다. A plasma process diagnosis system and method using equipment data are disclosed. The process diagnosis unit used in the plasma process diagnosis system includes a data unit that acquires OES data and equipment data from the chamber in which the plasma process is performed or sensors installed in the chamber, and a data unit that transmits the obtained OES data and the acquired equipment data to the artificial immune system. It includes a diagnostic unit that diagnoses whether there is an abnormality in the plasma process. Here, the OES data refers to the results of light detection due to a plasma reaction occurring within the chamber, and the equipment data refers to the results of detecting the operation of components of the chamber.

Description

장비 데이터를 이용하는 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD OF PERFORMING PLASMA PROCESS DIAGNOSIS BY USING SVID DATA}Plasma process diagnosis system and method using equipment data {SYSTEM AND METHOD OF PERFORMING PLASMA PROCESS DIAGNOSIS BY USING SVID DATA}

본 발명은 장비 데이터를 이용하는 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma process diagnosis system and method using equipment data.

기존 챔버는 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하기 위하여 플라즈마 반응에 의해 발생하는 광을 OES 센서로 감지하여 분석하였다. 그러나, 이러한 방법은 상기 챔버의 부품의 상태 변화로 인한 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수가 없었다. The existing chamber detected and analyzed the light generated by the plasma reaction with an OES sensor to diagnose whether there was an abnormality in the plasma process. However, this method could not determine whether there was an abnormality in the plasma process due to a change in the state of the components of the chamber.

부품의 상태 변화는 플라즈마의 미세한 변화를 유발할 수 있으며, 이러한 변화는 플라즈마 공정에 영향을 미칠 수 있다. 그러나, 이러한 부품의 상태 변화로 인한 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있는 시스템이 존재하지 않았다. Changes in the state of a component can cause subtle changes in the plasma, and these changes can affect the plasma process. However, there was no system that could determine whether there was an abnormality in the plasma process due to a change in the state of these components.

KRKR 10-2015-0015600 10-2015-0015600 AA

본 발명은 장비 데이터를 이용하는 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법을 제공하는 것이다.The present invention provides a plasma process diagnosis system and method using equipment data.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 진단 시스템에 사용되는 공정 진단부는 플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 데이터부; 및 상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 진단부를 포함한다. 여기서, 상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타낸다. In order to achieve the above-mentioned purpose, the process diagnostic unit used in the plasma process diagnostic system according to an embodiment of the present invention acquires OES data and equipment data from the chamber in which the plasma process is performed or sensors installed in the chamber. wealth; and a diagnostic unit that diagnoses the presence or absence of a plasma process abnormality by applying the obtained OES data and the acquired equipment data to an artificial immune system. Here, the OES data refers to the results of light detection due to a plasma reaction occurring within the chamber, and the equipment data refers to the results of detecting the operation of components of the chamber.

본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 진단 방법은 플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 단계; 및 상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 단계를 포함한다. 여기서, 상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타낸다. A plasma process diagnosis method according to an embodiment of the present invention includes obtaining OES data and equipment data from a chamber in which a plasma process is performed or sensors installed in the chamber; And applying the obtained OES data and the acquired equipment data to an artificial immune system to diagnose whether there is an abnormality in the plasma process. Here, the OES data refers to the results of light detection due to a plasma reaction occurring within the chamber, and the equipment data refers to the results of detecting the operation of components of the chamber.

본 발명에 따른 저잡음 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법은 OES 데이터뿐만 아니라 장비 데이터도 이용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있다. 따라서, 챔버의 부품의 상태 변화로 인한 플라즈마 공정 이상을 진단할 수 있다. The low-noise plasma process diagnosis system and method according to the present invention can determine whether there is an abnormality in the plasma process using not only OES data but also equipment data. Therefore, it is possible to diagnose plasma process abnormalities due to changes in the state of components in the chamber.

특히, 인공 면역 시스템을 이용하므로, 플라즈마 공정 진단이 빠르고 정확도가 높을 수 있다. In particular, because an artificial immune system is used, plasma process diagnosis can be fast and highly accurate.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 진단 시스템을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 진단 과정을 도시한 도면이다.
도 3은 공정 이상을 탐지하여 레이블링한 결과를 도시한 도면이다.
도 4는 장비 이상에 따른 플라즈마 변화를 OES로 관찰한 데이터를 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 진단부의 구성을 도시한 도면이다. 1 is a diagram illustrating a plasma process diagnosis system according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a diagram illustrating a process diagnosis process according to an embodiment of the present invention.
Figure 3 is a diagram showing the results of detecting and labeling process abnormalities.
Figure 4 is a diagram showing data observed by OES on plasma changes due to equipment abnormalities.
Figure 5 is a diagram showing the configuration of a process diagnosis unit according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "구성된다" 또는 "포함한다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 여러 구성 요소들, 또는 여러 단계들을 반드시 모두 포함하는 것으로 해석되지 않아야 하며, 그 중 일부 구성 요소들 또는 일부 단계들은 포함되지 않을 수도 있고, 또는 추가적인 구성 요소 또는 단계들을 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 명세서에 기재된 "...부", "모듈" 등의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미하며, 이는 하드웨어 또는 소프트웨어로 구현되거나 하드웨어와 소프트웨어의 결합으로 구현될 수 있다.As used herein, singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “consists of” or “comprises” should not be construed as necessarily including all of the various components or steps described in the specification, and some of the components or steps may be included in the specification. It may not be included, or it should be interpreted as including additional components or steps. In addition, terms such as "...unit" and "module" used in the specification refer to a unit that processes at least one function or operation, which may be implemented as hardware or software, or as a combination of hardware and software. .

본 발명은 플라즈마 공정 진단 시스템 및 방법에 관한 것으로서, 부품 노후화 등과 같은 장비 상태 변화로 인하여 발생할 수 있는 플라즈마 공정 이상을 진단할 수 있다. The present invention relates to a plasma process diagnosis system and method, which can diagnose plasma process abnormalities that may occur due to changes in equipment status such as aging of parts.

일 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 공정 진단 시스템은 플라즈마 반응으로부터 발생되는 광(OES 데이터)과 챔버의 부품의 동작을 감지한 장비 데이터(State Variable Identification data, SVID 데이터)를 함께 이용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단할 수 있다. According to one embodiment, the plasma process diagnosis system uses light generated from the plasma reaction (OES data) and equipment data (State Variable Identification data, SVID data) that detects the operation of parts of the chamber to determine whether there is an abnormality in the plasma process. can be diagnosed.

이하, 본 발명의 다양한 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상술하겠다. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the attached drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 공정 진단 시스템을 도시한 도면이며, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 진단 과정을 도시한 도면이다. 도 3은 공정 이상을 탐지하여 레이블링한 결과를 도시한 도면이며, 도 4는 장비 이상에 따른 플라즈마 변화를 OES로 관찰한 데이터를 도시한 도면이다. FIG. 1 is a diagram illustrating a plasma process diagnosis system according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating a process diagnosis process according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a diagram showing the results of detecting and labeling process abnormalities, and Figure 4 is a diagram showing data observed by OES for plasma changes due to equipment abnormalities.

도 1을 참조하면, 본 실시예의 플라즈마 공정 진단 시스템은 챔버(100) 및 공정 진단부(102)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the plasma process diagnosis system of this embodiment may include a chamber 100 and a process diagnosis unit 102.

챔버(100)는 반도체 공정 또는 디스플레이 공정 등에 사용되는 장치로서, 식각 공정, 증착 공정 등 플라즈마가 사용되는 공정을 수행할 수 있다. The chamber 100 is a device used in a semiconductor process or a display process, and can perform processes using plasma, such as an etching process or a deposition process.

챔버(100) 내에서 플라즈마 반응이 실행되면, 광이 예를 들어 뷰포트에 연결되며 플라즈마 내에 존재하는 화학종을 분석할 수 있는 광 센서(OES 센서)에 의해 감지된다. 이러한 감지 결과에 대한 정보가 OES 데이터이다. When a plasma reaction is carried out within the chamber 100, light is detected by, for example, an optical sensor (OES sensor) connected to a viewport and capable of analyzing chemical species present in the plasma. Information about these detection results is OES data.

일반적으로, 이러한 OES 데이터 분석을 통하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하나, 부품 노후화 등의 챔버(100)의 부품 이상으로 인한 플라즈마 공정 이상 유무는 진단할 수 없다. 부품 노후화 등으로 인한 장비의 상태 변화는 플라즈마 상태 변화를 유발할 수 있고, 이러한 변화는 플라즈마 공정 결과에 영향을 미칠 수 있다. In general, the presence of abnormalities in the plasma process is diagnosed through the analysis of such OES data, but the presence or absence of abnormalities in the plasma process due to abnormalities in parts of the chamber 100, such as aging of parts, cannot be diagnosed. Changes in the state of equipment due to component aging, etc. can cause changes in the plasma state, and these changes can affect the results of the plasma process.

따라서, 본 발명의 플라즈마 공정 진단 시스템은 챔버(100)의 부품 상태 변화로 인한 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하기 위하여 OES 데이터뿐만 아니라 부품의 동작을 감지한 장비 데이터(SVID 데이터)를 활용할 수 있다. Therefore, the plasma process diagnosis system of the present invention can utilize not only OES data but also equipment data (SVID data) that detects the operation of the part to diagnose the presence or absence of a plasma process abnormality due to a change in the state of the part of the chamber 100.

공정 진단부(102)는 챔버(100)에 직접적으로 또는 간접적으로 연결되며, OES 데이터 및 SVID 데이터를 분석하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있다. The process diagnostic unit 102 is directly or indirectly connected to the chamber 100 and can determine whether there is an abnormality in the plasma process by analyzing OES data and SVID data.

일 실시예에 따르면, 공정 진단부(102)는 기계 학습 중 인공 면역 시스템(알고리즘, Artificial Immune System, AIS)을 이용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있다. 이러한 인공 면역 시스템을 사용하면 다른 기계 학습보다 더 빠른 속도로 플라즈마 공정 이상 유무 판단이 가능하고, 데이터의 개수가 작은 경우에도 적용 가능하다. 또한, 상기 인공 면역 시스템은 다른 기계 학습과 달리 전처리 과정 없이 데이터의 레이블링이 가능하므로, 실시간 진단 시스템에 적합하다. According to one embodiment, the process diagnosis unit 102 may determine whether there is an abnormality in the plasma process using an artificial immune system (Algorithm, Artificial Immune System, AIS) during machine learning. Using this artificial immune system, it is possible to determine whether there is an abnormality in the plasma process at a faster rate than other machine learning, and it can be applied even when the number of data is small. Additionally, unlike other machine learning methods, the artificial immune system can label data without preprocessing, making it suitable for a real-time diagnosis system.

진단 과정을 구체적으로 살펴보면, 공정 진단부(102)는 플라즈마 공정이 수행되면(S200) OES 데이터 및 SVID 데이터를 획득하며(S202), 획득된 OES 데이터 및 SVID 데이터를 인공 면역 시스템에 입력한다(S204).Looking at the diagnosis process in detail, the process diagnosis unit 102 acquires OES data and SVID data (S202) when the plasma process is performed (S200), and inputs the obtained OES data and SVID data into the artificial immune system (S204) ).

상기 인공 면역 시스템은 분류기를 생성하고, 상기 생성된 분류기에 초기 데이터 값을 적용하여 항원 학습을 시켜 모델을 생성할 수 있다. 이러한 모델은 입력되는 OES 데이터 및 SVID 데이터에 따라 업데이트될 수 있다. The artificial immune system may generate a classifier, apply initial data values to the generated classifier, and perform antigen learning to create a model. These models can be updated according to incoming OES data and SVID data.

상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터를 상기 모델에 적용하여 이상 유무를 판단할 수 있다. 예를 들어, 상기 인공 면역 시스템은 도 3에 도시된 바와 같은 모델(레이블링 결과)을 생성할 수 있다. 도 3에서 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터가 청색에 해당하면 플라즈마 공정이 정상적으로 수행되었음을 의미하고, 적색에 해당하면 플라즈마 공정에 이상이 발생하였음을 의미할 수 있다. The artificial immune system can determine whether there is an abnormality by applying the OES data and the SVID data to the model. For example, the artificial immune system can generate a model (labeling result) as shown in Figure 3. In FIG. 3, if the OES data and the SVID data are blue, it may mean that the plasma process was performed normally, and if they are red, it may mean that an abnormality has occurred in the plasma process.

즉, 상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터를 상기 모델에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있다(S206). That is, the artificial immune system can determine whether there is an abnormality in the plasma process by applying the OES data and the SVID data to the model (S206).

일 실시예에 따르면, 이러한 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터를 이용한 플라즈마 공정 이상 유무 판단은 특정 상황에서만 수행될 수도 있다. According to one embodiment, the determination of whether a plasma process is abnormal using the OES data and the SVID data may be performed only in specific situations.

도 4를 참조하면, 적색 그래프는 장비 데이터를 나타내고, 나머지 그래프들은 OES 데이터를 표시한다. 적색 그래프를 살펴보면, 검은색 점선 안에서 값이 변화됨을 알 수 있다. 즉, 부품에 상태 변화가 있음을 확인할 수 있다. 예를 들어, 부품(예를 들어, Mass Flow Controller, MFC)이 노후화되어 에칭 공정에서 챔버(100)로 입력되는 가스의 양이 원하는 양보다 적거나 많을 수 있다. Referring to Figure 4, the red graph represents equipment data, and the remaining graphs represent OES data. If you look at the red graph, you can see that the value changes within the black dotted line. In other words, it can be confirmed that there is a change in the state of the part. For example, as components (eg, Mass Flow Controller, MFC) age, the amount of gas input into the chamber 100 during the etching process may be less or more than a desired amount.

다만, 이러한 SVID 데이터만으로는 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하기가 어렵다. 즉, 부품 이상이 플라즈마 공정에 영향을 미쳐서 플라즈마 공정에 이상이 발생하였는 지를 SVID 데이터만으로는 확인할 수가 없다. However, it is difficult to determine whether there is an abnormality in the plasma process using only these SVID data. In other words, it is not possible to confirm with SVID data alone whether a component abnormality affected the plasma process and an abnormality occurred in the plasma process.

따라서, 본 발명의 플라즈마 공정 진단 시스템은 OES 데이터와 함께 SVID 데이터를 인공 면역 시스템에 입력하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단할 수 있다. 다만, 상기 플라즈마 공정 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 SVID 데이터의 이상 변화가 확인되는 구간에서만 상기 인공 면역 시스템을 이용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하고, 다른 구간에서는 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하지 않을 수 있다. 물론, 기설정된 주기로 플라즈마 공정 이상 유무가 진단될 수도 있다. Therefore, the plasma process diagnosis system of the present invention can input SVID data along with OES data into the artificial immune system to determine whether there is an abnormality in the plasma process. However, the plasma processing system uses the artificial immune system to determine whether there is an abnormality in the plasma process only in the section where abnormal changes in the OES data and the SVID data are confirmed, and may not determine whether there is an abnormality in the plasma process in other sections. . Of course, the presence or absence of a plasma process abnormality may be diagnosed at a preset cycle.

정리하면, 본 실시예의 플라즈마 공정 진단 시스템은 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단할 수 있다. In summary, the plasma process diagnosis system of this embodiment can diagnose the presence or absence of a plasma process abnormality by applying the OES data and the SVID data to the artificial immune system.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 진단부의 구성을 도시한 도면이다. Figure 5 is a diagram showing the configuration of a process diagnosis unit according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 실시예의 공정 진단부(102)는 제어부(500), 데이터부(502), 모델링부(504), 진단부(506) 및 저장부(508)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5, the process diagnosis unit 102 of this embodiment may include a control unit 500, a data unit 502, a modeling unit 504, a diagnosis unit 506, and a storage unit 508.

데이터부(502)는 챔버(100)로부터 OES 데이터 및 SVID 데이터를 획득할 수 있다. The data unit 502 may obtain OES data and SVID data from the chamber 100.

모델링부(504)는 인공 면역 시스템을 구현할 수 있다. The modeling unit 504 can implement an artificial immune system.

진단부(506)는 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단할 수 있다. The diagnostic unit 506 may apply the OES data and the SVID data to the artificial immune system to diagnose whether there is an abnormality in the plasma process.

저장부(508)는 상기 OES 데이터 및 상기 SVID 데이터 등을 저장할 수 있다. The storage unit 508 may store the OES data and the SVID data.

제어부(500)는 공정 진단부(102)의 구성요소들의 동작을 전반적으로 제어할 수 있다. The control unit 500 may generally control the operations of the components of the process diagnosis unit 102.

한편, 전술된 실시예의 구성 요소는 프로세스적인 관점에서 용이하게 파악될 수 있다. 즉, 각각의 구성 요소는 각각의 프로세스로 파악될 수 있다. 또한 전술된 실시예의 프로세스는 장치의 구성 요소 관점에서 용이하게 파악될 수 있다.Meanwhile, the components of the above-described embodiment can be easily understood from a process perspective. In other words, each component can be understood as a separate process. Additionally, the processes of the above-described embodiments can be easily understood from the perspective of the components of the device.

또한 앞서 설명한 기술적 내용들은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예들을 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 하드웨어 장치는 실시예들의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.Additionally, the technical contents described above may be implemented in the form of program instructions that can be executed through various computer means and recorded on a computer-readable medium. The computer-readable medium may include program instructions, data files, data structures, etc., singly or in combination. Program instructions recorded on the medium may be specially designed and configured for the embodiments or may be known and available to those skilled in the art of computer software. Examples of computer-readable recording media include magnetic media such as hard disks, floppy disks, and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, and magnetic media such as floptical disks. -Includes optical media (magneto-optical media) and hardware devices specifically configured to store and execute program instructions, such as ROM, RAM, flash memory, etc. Examples of program instructions include machine language code, such as that produced by a compiler, as well as high-level language code that can be executed by a computer using an interpreter, etc. A hardware device may be configured to operate as one or more software modules to perform the operations of the embodiments, and vice versa.

상기한 본 발명의 실시예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 통상의 지식을 가지는 당업자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 하기의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다. The above-described embodiments of the present invention have been disclosed for illustrative purposes, and those skilled in the art will be able to make various modifications, changes, and additions within the spirit and scope of the present invention, and such modifications, changes, and additions will be possible. should be regarded as falling within the scope of the patent claims below.

100 : 챔버 102 : 공정 진단부100: Chamber 102: Process diagnosis unit

Claims (5)

플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 데이터부; 및
상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 진단부를 포함하되,
상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타내고,
상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 구축된 모델의 레이블링 결과에 적용하여 상기 챔버의 부품 이상이 플라즈마 공정에 영향을 미쳤는 지의 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 시스템에 사용되는 공정 진단부.a data unit that acquires OES data and equipment data from the chamber where the plasma process is performed or sensors installed in the chamber; and
A diagnostic unit for diagnosing the presence or absence of a plasma process abnormality by applying the obtained OES data and the acquired equipment data to an artificial immune system,
The OES data refers to the results of light detection by a plasma reaction occurring within the chamber, and the equipment data represents the results of detecting the operation of components of the chamber,
The artificial immune system is used in a plasma process diagnosis system, wherein the OES data and the equipment data are applied to the labeling result of the constructed model to determine whether an abnormality in the part of the chamber affected the plasma process. Process Diagnosis Department. 제1항에 있어서, 반도체 공정 또는 디스플레이 공정에서 플라즈마 공정이 진단되는 것을 특징으로 하는 공정 진단부. The process diagnosis unit according to claim 1, wherein a plasma process is diagnosed in a semiconductor process or a display process. 제1항에 있어서, 상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터에서 값이 변화하는 구간에서만 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하는 것을 특징으로 하는 공정 진단부. The method of claim 1, wherein the artificial immune system determines whether there is an abnormality in the plasma process by applying the OES data and the equipment data to the artificial immune system only in a section where values change in the OES data and the equipment data. Process diagnosis department. 플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 단계; 및
상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 단계를 포함하되,
상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타내고,
상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 구축된 모델의 레이블링 결과에 적용하여 상기 챔버의 부품 이상이 플라즈마 공정에 영향을 미쳤는 지의 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 방법. Obtaining OES data and equipment data from a chamber in which a plasma process is performed or sensors installed in the chamber; and
Applying the obtained OES data and the acquired equipment data to an artificial immune system to diagnose whether there is an abnormality in the plasma process,
The OES data refers to the results of light detection by a plasma reaction occurring within the chamber, and the equipment data represents the results of detecting the operation of components of the chamber,
The artificial immune system applies the OES data and the equipment data to the labeling result of the constructed model to determine whether an abnormality in a component of the chamber affected the plasma process. 제4항에 있어서, 상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터에서 값이 변화하는 구간에서만 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 방법.




The method of claim 4, wherein the artificial immune system determines whether there is an abnormality in the plasma process by applying the OES data and the equipment data to the artificial immune system only in the section where values change in the OES data and the equipment data. Plasma process diagnosis method.
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