KR102577263B1 - Semiconductor device - Google Patents

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KR102577263B1
KR102577263B1 KR1020150161616A KR20150161616A KR102577263B1 KR 102577263 B1 KR102577263 B1 KR 102577263B1 KR 1020150161616 A KR1020150161616 A KR 1020150161616A KR 20150161616 A KR20150161616 A KR 20150161616A KR 102577263 B1 KR102577263 B1 KR 102577263B1
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조후성
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Abstract

본 발명의 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자, 상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드 중 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나로부터 연장되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 분리되는 제2 영역을 갖는다.A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of semiconductor devices formed on the substrate, a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices, and a plurality of metal lines on the plurality of metal lines. It is disposed and includes a protective layer having an open area that exposes some of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein a first pad of the plurality of pads extends from at least one of the plurality of metal lines. It has a first area and a second area disposed around the first area and separated from the first area.

Figure R1020150161616
Figure R1020150161616

Description

반도체 장치{SEMICONDUCTOR DEVICE}Semiconductor device {SEMICONDUCTOR DEVICE}

본 발명은 반도체 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to semiconductor devices.

전자 제품은 그 부피가 점점 작아지면서도 고용량의 데이터 처리를 요하고 있다. 이에 따라, 이러한 전자 제품에 사용되는 반도체 장치의 집적도를 증가시킬 필요가 있다. 반도체 장치는 외부로부터 전기 신호를 공급받기 위한 복수의 패드를 포함할 수 있으며, 복수의 패드 중 적어도 하나는, 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위한 센서 패드로서의 기능을 제공할 수 있다.
Electronic products are becoming smaller in size while requiring high-capacity data processing. Accordingly, there is a need to increase the integration degree of semiconductor devices used in such electronic products. The semiconductor device may include a plurality of pads for receiving electrical signals from the outside, and at least one of the plurality of pads may function as a sensor pad to check the alignment state of the probe connected to the plurality of pads. there is.

본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 프로프의 정렬 상태를 확인하기 위한 기능 및 일반 패드로서의 기능을 함께 제공할 수 있는 패드를 제공함으로써, 반도체 장치의 집적도를 높이고자 하는 데에 있다.
One of the technical problems to be achieved by the technical idea of the present invention is to increase the integration of semiconductor devices by providing a pad that can provide both a function for checking the alignment state of the probe and a function as a general pad. there is.

본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자, 상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드에 포함되는 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of semiconductor devices formed on the substrate, a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices, and a plurality of metal lines on the plurality of metal lines. It is disposed on and includes a protective layer having an open area exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein the first pad included in the plurality of pads is at least one of the plurality of metal lines. It has a first area connected to and a second area disposed around the first area and electrically separated from the first area.

본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판의 상면에 수직하는 방향으로 연장되는 채널 영역과, 상기 채널 영역에 인접하도록 상기 기판 상에 적층되는 복수의 게이트 전극층을 갖는 복수의 메모리 셀 소자, 상기 복수의 메모리 셀 소자의 주변에 배치되는 복수의 회로 소자, 상기 복수의 메모리 셀 소자 및 상기 복수의 회로 소자 중 적어도 일부와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 마련되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역 및 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는 제1 패드를 포함한다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of memories having a channel region extending in a direction perpendicular to the upper surface of the substrate, and a plurality of gate electrode layers stacked on the substrate adjacent to the channel region. A cell element, a plurality of circuit elements disposed around the plurality of memory cell elements, a plurality of metal lines electrically connected to at least some of the plurality of memory cell elements and the plurality of circuit elements, and the plurality of metal lines It is provided on the protective layer and includes a protective layer that exposes some of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein the plurality of pads includes a first region connected to at least one of the plurality of metal lines and the first region connected to the first region. It includes a first pad disposed around one area and having a second area electrically separated from the first area.

본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 복수의 메모리 셀 소자를 갖는 셀 영역, 상기 복수의 메모리 셀 소자를 구동하는 복수의 회로 소자를 갖는 주변 회로 영역, 및 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역에 전기 신호를 공급하며, 서로 다른 형상을 갖는 제1 및 제2 패드를 갖는 복수의 패드를 포함하며, 상기 제1 패드는 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하기 위한 노멀 패드로 제공되는 제1 영역과, 상기 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 검출하기 위한 센서 패드로 제공되는 제2 영역을 갖는다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a cell region having a plurality of memory cell elements, a peripheral circuit region having a plurality of circuit elements that drive the plurality of memory cell elements, and the cell region and the peripheral circuit region. supplies an electric signal to the pad, and includes a plurality of pads having first and second pads having different shapes, wherein the first pad is used to supply an electric signal to at least one of the cell region and the peripheral circuit region. It has a first area provided as a normal pad and a second area provided as a sensor pad for detecting the alignment state of the probes connected to the plurality of pads.

본 발명의 기술적 사상에 따른 메모리 장치에 따르면, 반도체 장치에 포함되는 복수의 패드 중 적어도 하나는, 프로브 정렬 상태를 확인할 수 있는 센싱 영역과, 일반적인 패드로서 동작할 수 있는 컨택 영역을 포함할 수 있다. 따라서, 복수의 패드 중 적어도 하나가 별도의 센서 패드로 제공되지 않을 수 있으므로, 반도체 장치의 집적도를 개선할 수 있다.According to a memory device according to the technical idea of the present invention, at least one of the plurality of pads included in the semiconductor device may include a sensing area that can check the probe alignment state and a contact area that can operate as a general pad. . Accordingly, since at least one of the plurality of pads may not be provided as a separate sensor pad, the degree of integration of the semiconductor device can be improved.

본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
The various and beneficial advantages and effects of the present invention are not limited to the above-described content, and may be more easily understood through description of specific embodiments of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 개략적인 레이아웃을 나타낸 도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.
도 2b는 도 2a에 도시한 반도체 장치의 I-I` 방향의 단면을 나타낸 단면도이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로를 나타낸 도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서 프로브 정렬 상태를 확인하기 위한 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로의 동작을 나타낸 도이다.
도 11 및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 나타낸 블록도이다.
1 is a diagram showing a schematic layout of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2A is a partial enlarged view showing a pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2B is a cross-sectional view showing a cross section in the II′ direction of the semiconductor device shown in FIG. 2A.
3 and 4 are partial enlarged views showing the pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are diagrams illustrating a circuit provided to check the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a flowchart provided to explain a method for checking the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
8 to 10 are diagrams illustrating the operation of a circuit provided to check the alignment state of a probe in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
11 and 12 are block diagrams showing an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 다음과 같이 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings.

명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 웨이퍼(기판) 등과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상술한 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.Throughout the specification, when referring to one component, such as a film, region, or wafer (substrate), being positioned “on,” “connected to,” or “coupled to” another component, it refers to one of the components described above. It can be interpreted that an element may be directly “on,” “connected,” or “coupled” and in contact with another component, or that there may be other components interposed between them. On the other hand, when a component is referred to as being located "directly on," "directly connected to," or "directly coupled" to another component, it is interpreted that there are no intervening components. do. Identical symbols refer to identical elements. As used herein, the term “and/or” includes any one and all combinations of one or more of the listed items.

본 명세서에서 제1, 제2등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제1부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제2부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers and/or parts, these members, parts, regions, layers and/or parts are limited by these terms. It is obvious that does not work. These terms are used only to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Accordingly, a first member, component, region, layer or portion described below may refer to a second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.

또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상술한 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 구성 요소가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Additionally, relative terms such as “top” or “over” and “bottom” or “under” may be used herein to describe the relationship of some elements to other elements as illustrated in the drawings. Relative terms may be understood as intended to include other orientations of the device in addition to the orientation depicted in the drawings. For example, if an element is turned over in the figures, elements depicted as being on the upper side of other elements will have an orientation on the lower side of the other elements as described above. Therefore, the term "top" as an example may include both the "bottom" and "top" directions depending on the specific orientation of the drawing. If the component is oriented in another direction (rotated 90 degrees relative to the other direction), relative descriptions used herein may be interpreted accordingly.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terms used herein are used to describe specific embodiments and are not intended to limit the invention. As used herein, the singular forms include the plural forms unless the context clearly indicates otherwise. Additionally, when used herein, “comprise” and/or “comprising” means specifying the presence of stated features, numbers, steps, operations, members, elements and/or groups thereof. and does not exclude the presence or addition of one or more other shapes, numbers, operations, members, elements and/or groups.

이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다. 이하 실시예들은 하나 또는 복수개를 조합하여 구성할 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will now be described with reference to drawings that schematically show ideal embodiments of the present invention. In the drawings, variations of the depicted shape may be expected, for example, depending on manufacturing technology and/or tolerances. Accordingly, embodiments of the present invention should not be construed as being limited to the specific shape of the area shown in this specification, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing. The following embodiments may be configured by combining one or more embodiments.

이하에서 설명하는 본 발명의 내용은 다양한 구성을 가질 수 있고 여기서는 필요한 구성만을 예시적으로 제시하며, 본 발명 내용이 이에 한정되는 것은 아님을 밝혀둔다
The content of the present invention described below may have various configurations, and only the necessary configurations are presented here as examples, and the content of the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 개략적인 레이아웃을 나타낸 도이다.1 is a diagram showing a schematic layout of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는 데이터를 저장할 수 있는 메모리 셀 소자를 갖는 셀 영역(11, 12)을 갖는 메모리 장치일 수 있다. 셀 영역(11, 12)은 하나 또는 복수의 영역으로 구분될 수 있으며, 셀 영역(11, 12)에 인접하여 로우 디코더(13) 및 칼럼 디코더(14)가 배치될 수 있다. 칼럼 디코더(14)는 페이지 버퍼(15)와 함께 읽기/쓰기 회로를 제공할 수 있다. 제어 회로(16)는 반도체 장치(10)의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 셀 영역(11, 12)을 제외한 로우 디코더(13), 칼럼 디코더(14), 페이지 버퍼(15), 및 제어 회로(16)는 주변 회로 영역으로 제공될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a semiconductor device 10 according to an embodiment of the present invention may be a memory device having cell regions 11 and 12 having memory cell elements capable of storing data. The cell areas 11 and 12 may be divided into one or multiple areas, and the row decoder 13 and the column decoder 14 may be placed adjacent to the cell areas 11 and 12. The column decoder 14 may provide read/write circuitry together with the page buffer 15. The control circuit 16 may control the overall operation of the semiconductor device 10 . The row decoder 13, column decoder 14, page buffer 15, and control circuit 16 excluding the cell areas 11 and 12 may be provided as peripheral circuit areas.

셀 영역(11, 12)은 복수의 메모리 셀 소자를 포함할 수 있다. 일 실시예로, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는 수평 또는 수직 구조의 메모리 장치일 수 있으며, 이때 셀 영역(11, 12)에는 채널 영역, 게이트 전극층, 게이트 절연막 등을 갖는 메모리 셀 소자가 복수 개 포함될 수 있다. 셀 영역(11, 12)에 포함되는 복수의 메모리 셀 소자들은 워드 라인(Word Line, WL), 공통 소스 라인(Common Source Line, CSL), 스트링 선택 라인(String Select Line, SSL), 접지 선택 라인(Ground Select Line, GSL) 등을 통해 로우 디코더(13)와 연결될 수 있으며, 비트 라인(Bit Line, BL)을 통해 칼럼 디코더(14)와 연결될 수 있다.The cell regions 11 and 12 may include a plurality of memory cell elements. In one embodiment, the semiconductor device 10 according to an embodiment of the present invention may be a memory device with a horizontal or vertical structure, where the cell regions 11 and 12 have a channel region, a gate electrode layer, a gate insulating film, etc. A plurality of cell elements may be included. A plurality of memory cell elements included in the cell areas 11 and 12 include a word line (WL), a common source line (CSL), a string select line (SSL), and a ground selection line. It can be connected to the row decoder 13 through a ground select line (GSL), etc., and can be connected to the column decoder 14 through a bit line (Bit Line, BL).

로우 디코더(13)는 외부로부터 어드레스 정보를 수신하고, 수신한 어드레스 정보(ADDR)를 디코딩하여 셀 영역(11, 12)에 연결된 워드 라인(WL), 공통 소스 라인(CSL), 스트링 선택 라인(SSL) 및 접지 선택 라인(GSL) 중 적어도 일부를 선택할 수 있다. The row decoder 13 receives address information from the outside, decodes the received address information (ADDR), and outputs the word line (WL), common source line (CSL), and string selection line (WL) connected to the cell areas (11, 12). At least some of the SSL) and ground selection lines (GSL) can be selected.

칼럼 디코더(14)는, 제어 회로(16)로부터 수신하는 명령에 따라 셀 영역(11, 12)에 연결되는 비트 라인(BL) 중 적어도 일부를 선택할 수 있다. 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)는, 선택한 적어도 일부의 비트 라인(BL)과 연결된 메모리 셀 소자에 저장된 데이터를 읽어오거나, 선택한 적어도 일부의 비트 라인(BL)과 연결된 메모리 셀 소자에 데이터를 기록할 수 있다. The column decoder 14 may select at least some of the bit lines BL connected to the cell areas 11 and 12 according to a command received from the control circuit 16. The column decoder 14 and the page buffer 15 read data stored in memory cell elements connected to at least some of the selected bit lines BL, or read data into the memory cell elements connected to at least some of the selected bit lines BL. can be recorded.

제어 회로(16)는 외부로부터 전달되는 제어 신호에 응답하여 로우 디코더(13), 칼럼 디코더(14) 및 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다. 셀 영역(11, 12)에 저장된 데이터를 읽어오는 경우, 제어 회로(16)는 읽어오고자 하는 데이터가 저장된 워드 라인(WL)에 읽기 동작을 위한 전압을 공급하도록 로우 디코더(13)의 동작을 제어할 수 있다. 읽기 동작을 위한 전압이 특정 워드 라인(WL)에 공급되면, 제어 회로(16)는 읽기 동작을 위한 전압이 공급된 워드 라인(WL)과 연결된 메모리 셀 소자에 저장된 데이터를 읽어오도록 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다.The control circuit 16 may control the operations of the row decoder 13, column decoder 14, and page buffer 15 in response to control signals transmitted from the outside. When reading data stored in the cell areas 11 and 12, the control circuit 16 operates the row decoder 13 to supply a voltage for a read operation to the word line WL where the data to be read is stored. You can control it. When a voltage for a read operation is supplied to a specific word line (WL), the control circuit 16 operates a column decoder (14) to read data stored in a memory cell element connected to the word line (WL) to which a voltage for a read operation is supplied. ) and the operation of the page buffer 15 can be controlled.

한편, 셀 영역(11, 12)에 데이터를 기록하는 경우, 제어 회로(16)는 데이터를 쓰고자 하는 워드 라인(WL)에 쓰기 동작을 위한 전압을 공급하도록 로우 디코더(13)의 동작을 제어할 수 있다. 쓰기 동작을 위한 전압이 특정 워드 라인(WL)에 공급되면, 제어 회로(13)는 쓰기 동작을 위한 전압이 공급된 워드 라인(WL)에 연결된 메모리 셀 소자에 데이터를 기록하도록 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다.Meanwhile, when writing data to the cell areas 11 and 12, the control circuit 16 controls the operation of the row decoder 13 to supply a voltage for a write operation to the word line (WL) on which data is to be written. can do. When the voltage for a write operation is supplied to a specific word line (WL), the control circuit 13 uses the column decoder 14 to write data to the memory cell element connected to the word line (WL) to which the voltage for the write operation is supplied. and the operation of the page buffer 15 can be controlled.

한편, 반도체 장치(10)의 가장자리에는 복수의 패드(17)가 마련될 수 있다. 복수의 패드(17)는 반도체 장치(10)에 마련되는 복수의 메탈 라인 중 적어도 일부가 노출되어 제공되는 영역일 수 있다. 복수의 패드(17)를 통해 셀 영역(11, 12)에 포함되는 메모리 셀 소자 및 주변 회로 영역에 포함되는 회로 소자에 동작에 필요한 전기 신호가 공급될 수 있다.Meanwhile, a plurality of pads 17 may be provided at the edge of the semiconductor device 10. The plurality of pads 17 may be an area where at least a portion of the plurality of metal lines provided in the semiconductor device 10 is exposed. Electrical signals required for operation may be supplied to memory cell elements included in the cell areas 11 and 12 and circuit elements included in the peripheral circuit area through the plurality of pads 17 .

반도체 장치(10)를 제조한 후에 실행되는 테스트 공정에서는, 복수의 패드(17)에 접촉되는 복수의 프로브를 통하여 반도체 장치(10)의 테스트에 필요한 전기 신호가 인가될 수 있다. 반도체 장치(10)의 정확한 테스트를 위해서는, 복수의 프로브가 복수의 패드(17) 각각에 정확히 정렬되어야 하며, 반도체 장치(10)는 프로브의 정렬 상태를 검사할 수 있는 회로를 제공할 수 있다. 특히, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는, 프로브의 정렬 상태를 검사할 수 있는 기능과, 일반적인 패드로서의 기능을 하나의 패드에서 제공할 수 있다.
In a test process performed after manufacturing the semiconductor device 10, electrical signals necessary for testing the semiconductor device 10 may be applied through a plurality of probes in contact with the plurality of pads 17. In order to accurately test the semiconductor device 10, a plurality of probes must be accurately aligned with each of the plurality of pads 17, and the semiconductor device 10 may provide a circuit that can check the alignment of the probes. In particular, the semiconductor device 10 according to an embodiment of the present invention can provide a function for checking the alignment state of a probe and a function as a general pad in one pad.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다. 한편, 도 2b는 도 2a에 도시한 반도체 장치의 I-I` 방향의 단면을 나타낸 단면도이다.FIG. 2A is a partial enlarged view showing a pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. Meanwhile, FIG. 2B is a cross-sectional view showing a cross section in the II′ direction of the semiconductor device shown in FIG. 2A.

도 2a는 도 1에 도시한 반도체 장치(10)의 A 영역을 확대 도시한 도일 수 있다. 우선 도 2a를 참조하면, 반도체 장치(10)의 A 영역에는 복수의 패드(100, 200, 300)가 포함될 수 있다. 복수의 패드(100, 200, 300)는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 기능을 제공하는 제1 패드(100)와, 제1 패드(100)가 아닌 제2 패드(200, 300)를 포함할 수 있다. 제2 패드(200, 300)는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 기능을 제공할 수는 없으며, 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하는 일반적인 패드로 제공될 수 있다.FIG. 2A may be an enlarged view of area A of the semiconductor device 10 shown in FIG. 1. First, referring to FIG. 2A, region A of the semiconductor device 10 may include a plurality of pads 100, 200, and 300. The plurality of pads 100, 200, and 300 may include a first pad 100 that provides a function to check the alignment state of the probe, and second pads 200 and 300 other than the first pad 100. You can. The second pads 200 and 300 cannot provide a function for checking the alignment state of the probe, and may be provided as general pads that supply an electrical signal to at least one of a plurality of semiconductor devices.

복수의 패드(100, 200, 300) 각각은 반도체 장치(10)에 포함되는 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출되어 제공될 수 있다. 도 2b를 참조하면, 메탈 라인(410)은 반도체 소자를 포함하는 반도체 기판 영역(101) 상부에 배치될 수 있으며, 상대적으로 하부에 위치하는 제1 메탈 라인(411) 및 제1 메탈 라인(411)의 상부에 위치하는 제2 메탈 라인(412)을 포함할 수 있다. 메탈 라인(410) 상에는 절연성을 갖는 보호층(420)이 마련될 수 있으며, 보호층(420)의 일부가 제거되어 형성되는 오픈 영역(421, 422, 423)을 통해 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출됨으로써 복수의 패드(100, 200, 300)가 형성될 수 있다. 도 2b에 도시한 바와 같이, 오픈 영역(421)에서 보호층(420)의 일부가 제거되어 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출될 수 있다. Each of the plurality of pads 100, 200, and 300 may be provided with a portion of the metal line 410 included in the semiconductor device 10 exposed to the outside. Referring to FIG. 2B, the metal line 410 may be disposed on the upper part of the semiconductor substrate region 101 including the semiconductor device, and the first metal line 411 and the first metal line 411 located relatively lower. ) may include a second metal line 412 located above. A protective layer 420 having insulating properties may be provided on the metal line 410, and a portion of the metal line 410 may be formed through the open areas 421, 422, and 423 formed by removing a portion of the protective layer 420. A plurality of pads 100, 200, and 300 may be formed by being exposed to the outside. As shown in FIG. 2B, a portion of the protective layer 420 may be removed from the open area 421 and a portion of the metal line 410 may be exposed to the outside.

제1 패드(100)는, 메탈 라인(410)과 전기적으로 연결되는 컨택 영역(110) 및 컨택 영역(110)과 전기적으로 분리되며 컨택 영역(110) 주변에 배치되는 센싱 영역(120)을 포함할 수 있다. 센싱 영역(120)은 오픈 영역(421)의 가장자리에 인접하여 배치될 수 있으며, 도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이 센싱 영역(120)의 적어도 일부는 오픈 영역(421)에 의해 노출되지 않고 보호층(420)에 의해 차폐될 수 있다.The first pad 100 includes a contact area 110 electrically connected to the metal line 410 and a sensing area 120 that is electrically separated from the contact area 110 and disposed around the contact area 110. can do. The sensing area 120 may be placed adjacent to the edge of the open area 421, and as shown in FIGS. 2A and 2B, at least a portion of the sensing area 120 is not exposed by the open area 421. It may be shielded by the protective layer 420.

컨택 영역(110)은 제1 영역(111) 및 제2 영역(112)을 포함할 수 있다. 제1 영역(111)은 제2 영역(112)에 비해 상대적으로 큰 면적을 갖는 영역일 수 있으며, 제1 영역(111)의 가장자리에 인접하여 센싱 영역(120)이 배치될 수 있다. 제2 영역(112)은 제1 영역(111)의 모서리로부터 연장되는 영역으로서, 제2 영역(112)에 의해 컨택 영역(110)이 메탈 라인(410)과 전기적으로 연결될 수 있다. 도 2a에 도시한 실시예에서 제1 영역(111)은 사각형 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 반드시 이와 같은 형태로 한정되는 것은 아니다. 제2 영역(112)은 제1 영역(111)의 서로 마주보는 모서리로부터 서로 다른 방향으로 연장되는 복수의 제2 영역(112)을 가질 수 있다.The contact area 110 may include a first area 111 and a second area 112 . The first area 111 may have a relatively large area compared to the second area 112, and the sensing area 120 may be disposed adjacent to the edge of the first area 111. The second area 112 is an area extending from a corner of the first area 111, and the contact area 110 can be electrically connected to the metal line 410 by the second area 112. In the embodiment shown in FIG. 2A, the first area 111 is shown as having a rectangular shape, but it is not necessarily limited to this shape. The second area 112 may have a plurality of second areas 112 extending in different directions from opposite corners of the first area 111 .

한편, 제2 영역(112)은 복수의 비아(150)를 통해 상대적으로 하부에 배치되는 제1 메탈 라인(411)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 영역(112)은 제1 메탈 라인(411)을 통해 적어도 하나의 스위치 소자를 갖는 스위칭 회로와 연결될 수 있으며, 상기 스위칭 회로는 제1 및 제2 회로와 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 회로는 프로브의 정렬 상태를 검출할 수 있는 회로일 수 있으며, 제2 회로는 반도체 장치(10)에 포함되는 반도체 소자에 전기 신호를 공급하기 위한 회로일 수 있다. 한편, 상기 스위칭 회로는 메탈 라인(410)을 통해 제1 영역(111)과도 전기적으로 연결될 수 있다. Meanwhile, the second region 112 may be electrically connected to the first metal line 411 disposed relatively lower through a plurality of vias 150. The second area 112 may be connected to a switching circuit having at least one switch element through the first metal line 411, and the switching circuit may be connected to the first and second circuits. In one embodiment, the first circuit may be a circuit that detects the alignment state of the probe, and the second circuit may be a circuit that supplies an electrical signal to a semiconductor element included in the semiconductor device 10. Meanwhile, the switching circuit may also be electrically connected to the first region 111 through the metal line 410.

따라서, 상기 스위칭 회로의 동작에 의해, 제1 패드(100)는 상기 제1 회로와 연결되어 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위한 센서 패드로 기능하거나, 또는 상기 제2 회로와 연결되어 반도체 장치(10)의 반도체 소자들에 전기 신호를 공급하기 위한 일반적인 패드로 동작할 수 있다. 스위칭 회로 및 프로브의 정렬 상태를 검출할 수 있는 제1 회로의 구성과 동작에 대해서는 후술하기로 한다.Accordingly, by the operation of the switching circuit, the first pad 100 is connected to the first circuit and functions as a sensor pad for checking the alignment state of the probe, or is connected to the second circuit to operate the semiconductor device 10 ) can operate as a general pad to supply electrical signals to semiconductor devices. The configuration and operation of the switching circuit and the first circuit capable of detecting the alignment state of the probe will be described later.

제2 및 제3 패드(200, 300)는 반도체 소자들에 전기 신호를 공급하는 일반적인 패드로 제공되며, 보호층(420)이 제거된 오픈 영역(422, 423)을 채우는 형상을 가질 수 있다. 제2 및 제3 패드(200, 300)와 같은 일반적인 패드는, 비아(250)를 통해 하부 메탈 라인과 연결되거나, 또는 오픈 영역(423)의 가장자리에서 제2 메탈 라인(412)과 직접 연결될 수 있다. 제2 및 제3 패드(200, 300)의 형태와 개수 등은, 반도체 장치(10)에 따라 다양하게 변형될 수 있다.
The second and third pads 200 and 300 are provided as general pads that supply electrical signals to semiconductor devices, and may have a shape that fills the open areas 422 and 423 from which the protective layer 420 has been removed. Common pads, such as the second and third pads 200 and 300, may be connected to the lower metal line through the via 250, or may be directly connected to the second metal line 412 at the edge of the open area 423. there is. The shape and number of the second and third pads 200 and 300 may vary depending on the semiconductor device 10 .

도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.3 and 4 are partial enlarged views showing the pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 제1 패드(100A)는 도 2a 및 도 2b에 도시한 실시예와 다른 형상으로 구현될 수 있다. 제1 패드(100A)에서 컨택 영역(110A)은, 제1 영역(111A)과 제2 영역(112A)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(111A)의 적어도 일부 영역은 오픈 영역(421)에 의해 노출되지 않고 보호층(420)에 의해 차폐될 수 있다. 제2 영역(112A)은 하나의 영역으로 제공될 수 있으며, 제1 영역(111A)의 모서리 일부 영역에 인접하여 센싱 영역(120A)이 마련될 수 있다. Referring to FIG. 3, the first pad 100A may be implemented in a shape different from the embodiment shown in FIGS. 2A and 2B. In the first pad 100A, the contact area 110A may include a first area 111A and a second area 112A, and at least a portion of the first area 111A is in the open area 421. It may be shielded by the protective layer 420 without being exposed. The second area 112A may be provided as one area, and a sensing area 120A may be provided adjacent to a portion of a corner of the first area 111A.

앞서 도 2a 및 도 2b를 참조하여 설명한 실시예와 마찬가지로, 컨택 영역(110A)은 제2 영역(112A)을 통해 제2 메탈 라인(412)과 전기적으로 연결되며, 센싱 영역(120A)은 비아(150)를 통해 제1 메탈 라인(411)과 전기적으로 연결될 수 있다. 컨택 영역(110A)과 센싱 영역(120A)은 적어도 하나의 스위치 소자를 갖는 스위칭 회로를 통해 서로 전기적으로 연결 또는 분리될 수 있다. 컨택 영역(110A)과 센싱 영역(120A)의 연결/분리 여부는, 테스트 공정에서 프로브가 패드(100, 200, 300)에 정확히 정렬되었는지 여부에 따라 결정될 수 있다.
Similar to the embodiment previously described with reference to FIGS. 2A and 2B, the contact area 110A is electrically connected to the second metal line 412 through the second area 112A, and the sensing area 120A is connected to the via ( It may be electrically connected to the first metal line 411 through 150). The contact area 110A and the sensing area 120A may be electrically connected to or separated from each other through a switching circuit having at least one switch element. Whether the contact area 110A and the sensing area 120A are connected/disconnected may be determined depending on whether the probe is accurately aligned with the pads 100, 200, and 300 in the test process.

도 4에 도시한 실시예에서, 제1 패드(100B)는 도 2a, 도 2b 및 도 3에 도시한 실시예와 다른 형상을 가질 수 있다. 제1 패드(100B)에서 컨택 영역(110B)은, 제1 영역(111B)과 제2 영역(112B)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(111B) 전체는 오픈 영역(421)에 의해 노출될 수 있다. 제2 영역(112B)은 제1 영역(111B)의 일 모서리로부터 연장되는 하나의 영역으로 제공될 수 있으며, 센싱 영역(120B)은 제2 영역(112B)와 접촉하지 않으면서 제1 영역(111B)의 모서리를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 즉, 센싱 영역(120B)이 서로 분리되는 복수의 영역으로 제공되는 도 2a, 도 2b 및 도 3의 실시예와 달리, 도 4에 도시한 실시예에서는 센싱 영역(120B)이 하나의 영역으로 제공될 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 4, the first pad 100B may have a different shape from the embodiment shown in FIGS. 2A, 2B, and 3. The contact area 110B in the first pad 100B may include a first area 111B and a second area 112B, and the entire first area 111B may be exposed by the open area 421. You can. The second area 112B may be provided as one area extending from one corner of the first area 111B, and the sensing area 120B may be provided as an area extending from the first area 111B without contacting the second area 112B. ) can be arranged to surround the edges of the. That is, unlike the embodiments of FIGS. 2A, 2B, and 3 in which the sensing area 120B is provided as a plurality of separate areas, in the embodiment shown in FIG. 4, the sensing area 120B is provided as one area. It can be.

도 2a, 도 2b 및 도 3에 도시한 실시예와 유사하게, 센싱 영역(120B)은 비아(150)를 통해 하부의 제1 메탈 라인(411)과 연결되며, 컨택 영역(110B)은 제2 영역(112B)을 통해 상부의 제2 메탈 라인(412)과 연결될 수 있다. 센싱 영역(120B)과 컨택 영역(110B) 사이에는 스위칭 회로가 연결되며, 스위칭 회로의 동작에 따라 제1 패드(100B)가 프로브의 정렬 상태를 검사하기 위한 센서 패드, 및 일반적인 패드 중 어느 하나로 동작할 수 있다.
Similar to the embodiment shown in FIGS. 2A, 2B, and 3, the sensing area 120B is connected to the lower first metal line 411 through the via 150, and the contact area 110B is connected to the second metal line 411. It may be connected to the upper second metal line 412 through the area 112B. A switching circuit is connected between the sensing area 120B and the contact area 110B, and according to the operation of the switching circuit, the first pad 100B operates as one of a sensor pad for checking the alignment of the probe and a general pad. can do.

도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로를 나타낸 도이다. 5 and 6 are diagrams illustrating a circuit provided to check the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

우선 도 5를 참조하면, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120) 사이에는 복수의 스위치 소자(SW1-SW4)를 갖는 스위칭 회로(500)가 연결될 수 있다. 스위칭 회로(500)의 구성은 도 5에 도시한 바와 같이 한정되지 않으며, 프로브의 정렬 상태에 따라 제1 패드(100)와 제1 및 제2 회로(510, 520)의 연결을 설정할 수 있는 다양한 방식의 회로로 구현될 수 있다.First, referring to FIG. 5, a switching circuit 500 having a plurality of switch elements (SW1-SW4) may be connected between the contact area 110 and the sensing area 120. The configuration of the switching circuit 500 is not limited to that shown in FIG. 5, and various configurations can be used to establish the connection between the first pad 100 and the first and second circuits 510 and 520 depending on the alignment state of the probe. It can be implemented as a circuit of this type.

스위칭 회로(500)의 일단은 제1 및 제2 회로(510, 520)와 연결될 수 있다. 제1 회로(510)는 프로브가 정확히 정렬되지 않았을 때 소정의 확인 전압을 출력하기 위한 회로일 수 있다. 제2 회로(520)는 프로브가 정확히 정렬되었을 때 제1 패드(100)에 연결되어 제1 패드(100)에 공급되는 전기 신호를 반도체 소자에 전달할 수 있다. One end of the switching circuit 500 may be connected to the first and second circuits 510 and 520. The first circuit 510 may be a circuit for outputting a predetermined confirmation voltage when the probe is not accurately aligned. When the probe is accurately aligned, the second circuit 520 is connected to the first pad 100 and can transmit the electrical signal supplied to the first pad 100 to the semiconductor device.

일 실시예에서, 프로브가 제1 패드(100)에 정확히 정렬되지 않으면, 즉 프로브가 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)에 접촉하는 경우에는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)가 턴-온되고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)는 턴-오프될 수 있다. 따라서, 스위칭 회로(500)를 통해 제1 회로(510)와 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)이 전기적으로 연결될 수 있다.In one embodiment, if the probe is not accurately aligned with the first pad 100, that is, when the probe contacts the sensing area 120 of the first pad 100, the first and second switches SW1 and SW2 may be turned on and the third and fourth switches SW3 and SW4 may be turned off. Accordingly, the first circuit 510 and the sensing area 120 of the first pad 100 may be electrically connected through the switching circuit 500.

프로브가 제1 패드(100)에 정확히 정렬되면, 제2 스위치(SW2)는 턴-오프되고 나머지 제1, 제3, 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온될 수 있다. 따라서, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)이 제2 회로(520)와 연결될 수 있으며, 제1 패드(100)로 공급되는 전기 신호가 제2 회로(520) 및 반도체 소자에 전달될 수 있다.
When the probe is accurately aligned with the first pad 100, the second switch SW2 may be turned off and the remaining first, third, and fourth switches SW1, SW3, and SW4 may be turned on. Accordingly, the contact area 110 and the sensing area 120 can be connected to the second circuit 520, and the electrical signal supplied to the first pad 100 can be transmitted to the second circuit 520 and the semiconductor device. there is.

다음으로 도 6을 참조하면, 제1 회로(510)는 입력 회로(511), 인버터 회로(513) 및 출력 회로(515)를 포함할 수 있다. 입력 회로(511)는 저항 R1, R2 및 스위치 소자 TR1, TR2를 포함할 수 있으며, 인버터 회로(513)는 복수의 인버터 INV1, INV2를 포함할 수 있다. 출력 회로(515)는 출력단이 제2 패드(200)와 전기적으로 연결되는 스위치 TR3을 포함할 수 있다. Next, referring to FIG. 6 , the first circuit 510 may include an input circuit 511, an inverter circuit 513, and an output circuit 515. The input circuit 511 may include resistors R1 and R2 and switch elements TR1 and TR2, and the inverter circuit 513 may include a plurality of inverters INV1 and INV2. The output circuit 515 may include a switch TR3 whose output terminal is electrically connected to the second pad 200.

프로브의 정렬 상태를 검사하기 위해, 프로브가 제1 패드(100)에 접촉한 후 프로브를 통해 접지 전압(VSS)를 공급할 수 있다. 한편, 스위치 회로(500)는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시켜 접지 전압(VSS)을 제1 회로(510)로 전달할 수 있다. To check the alignment of the probe, after the probe contacts the first pad 100, a ground voltage (VSS) may be supplied through the probe. Meanwhile, the switch circuit 500 turns on the first and second switches (SW1 and SW2) and turns off the third and fourth switches (SW3 and SW4) to set the ground voltage (VSS) to the first circuit ( 510).

접지 전압이 제1 회로(510)에 전달되면, 인버터 회로(513)는 로우(Low) 신호를 출력할 수 있다. 인버터 회로(513)의 출력에 의해 출력 회로(515)에 포함된 스위치 소자 TR3이 턴-온되어 제2 패드(200)를 통해 전원 전압(VDD)을 검출할 수 있다. 즉, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)를 공급하였을 때, 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 프로브가 제대로 정렬되지 않은 것으로 판단할 수 있다.When the ground voltage is transmitted to the first circuit 510, the inverter circuit 513 may output a low signal. Due to the output of the inverter circuit 513, the switch element TR3 included in the output circuit 515 is turned on and the power supply voltage VDD can be detected through the second pad 200. That is, when the ground voltage (VSS) is supplied to the first pad 100 and the power supply voltage (VDD) is detected at the second pad 200, it may be determined that the probe is not properly aligned.

반대로, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)를 공급하고 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하였을 때, 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)가 검출되지 않으면, 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단할 수 있다. 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단하면, 스위치 회로(500)는 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3, 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)를 턴-온시켜 제1 패드(100)의 컨택 영역(110) 및 센싱 영역(120)을 서로 전기적으로 연결할 수 있다. 이후, 제1 패드(100)에 접촉한 프로브로부터 공급되는 전기 신호는 제2 회로(520)로 전달될 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)를 프로브 정렬 상태를 검사하기 위한 목적으로 이용한 이후에, 일반적인 다른 제2 패드(200)처럼 전기 신호를 공급하기 위한 목적으로 이용할 수 있다.
Conversely, when the ground voltage (VSS) is supplied to the first pad 100 and the first and second switches (SW1 and SW2) are turned on, the power supply voltage (VDD) is not detected at the second pad 200. Otherwise, it can be determined that the probe is properly aligned. If it is determined that the probe is properly aligned, the switch circuit 500 turns on the first, third, and fourth switches (SW1, SW3, and SW4) excluding the second switch (SW2) to open the first pad (100). ) of the contact area 110 and the sensing area 120 may be electrically connected to each other. Thereafter, the electrical signal supplied from the probe in contact with the first pad 100 may be transmitted to the second circuit 520. Accordingly, after using the first pad 100 for the purpose of checking the probe alignment, it can be used for the purpose of supplying an electrical signal like any other general second pad 200.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서 프로브 정렬 상태를 확인하기 위한 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다.FIG. 7 is a flowchart provided to explain a method for checking the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

우선, 프로브의 정렬 상태를 검사하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)의 패드(100, 200, 300)에 테스트 장치의 프로브가 접촉할 수 있다(S10). 프로브가 접촉되면, 테스트 장치는 센싱 영역(120)을 갖는 제1 패드(100)에 접촉한 프로브를 통해 접지 전압(VSS)이 공급될 수 있다(S11). 즉, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)이 공급될 수 있다. 이때, 제1 패드(100)와 전기적으로 연결된 스위칭 회로(500)는, 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시켜 제1 패드(100)를 프로브 정렬 상태를 검사하기 위한 센싱 모드로 동작시킬 수 있다.First, in order to check the alignment of the probe, the probe of the test device may contact the pads 100, 200, and 300 of the semiconductor device 10 according to an embodiment of the present invention (S10). When the probe is contacted, the test device may supply a ground voltage (VSS) through the probe in contact with the first pad 100 having the sensing area 120 (S11). That is, the ground voltage (VSS) may be supplied to the first pad 100. At this time, the switching circuit 500 electrically connected to the first pad 100 turns on the first and second switches (SW1 and SW2) and turns off the third and fourth switches (SW3 and SW4). The first pad 100 can be operated in a sensing mode to check the probe alignment state.

제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)이 공급되면, 테스트 장치는 센싱 영역(120)에 연결된 센싱 회로 - 도 5 및 도 6의 제1 회로(510) - 와 연결된 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되는지 여부를 판단한다(S12). 앞서 설명한 바와 같이, 센싱 영역(120)에 프로브가 접촉한 경우, 즉, 프로브가 제대로 정렬되지 않은 경우에는 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출될 수 있다.When the ground voltage (VSS) is supplied to the first pad 100, the test device connects the second pad 200 to the sensing circuit connected to the sensing area 120 - the first circuit 510 in FIGS. 5 and 6. It is determined whether the power supply voltage (VDD) is detected (S12). As described above, when the probe contacts the sensing area 120, that is, when the probe is not properly aligned, the power supply voltage VDD may be detected at the second pad 200.

S12 단계의 판단 결과 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 테스트 장치는 프로브의 위치를 다시 정렬한 후 프로브를 반도체 장치(10)의 패드에 재접촉할 수 있다. 이후, S11 단계 및 S12 단계를 포함하는 프로브 정렬 상태 검사 과정을 다시 거쳐서 프로브가 제대로 정렬되었는지 판단할 수 있다.If the power supply voltage VDD is detected at the second pad 200 as a result of the determination in step S12, the test device may realign the position of the probe and then re-contact the probe with the pad of the semiconductor device 10. Afterwards, it is possible to determine whether the probe is properly aligned by going through the probe alignment status inspection process including steps S11 and S12 again.

S12 단계의 판단 결과 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되지 않으면, 테스트 장치는 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단하고 반도체 장치(10)의 테스트를 진행할 수 있다(S14). 반도체 장치(10)의 테스트를 진행하는 동안, 제1 패드(100)에 연결된 스위칭 회로(500)에서 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온되어 센싱 영역(120)과 컨택 영역(110)이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)의 전체 영역이 제2 및 제3 패드(200, 300) 등과 마찬가지로 노멀 패드로서의 기능을 제공할 수 있다.
If the power supply voltage VDD is not detected at the second pad 200 as a result of the determination in step S12, the test device determines that the probe is properly aligned and can proceed with the test of the semiconductor device 10 (S14). While testing the semiconductor device 10, the first, third, and fourth switches (SW1, SW3, SW4) excluding the second switch (SW2) in the switching circuit 500 connected to the first pad 100 is turned on so that the sensing area 120 and the contact area 110 can be electrically connected to each other. Accordingly, the entire area of the first pad 100 can function as a normal pad like the second and third pads 200 and 300.

도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로의 동작을 나타낸 도이다.8 to 10 are diagrams illustrating the operation of a circuit provided to check the alignment state of a probe in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

우선 도 8을 참조하면, 제1 패드(100)에는 제1 프로브(P1)가, 제2 패드(200)에는 제2 프로브(P2)가 접촉할 수 있다. 제1 패드(100)의 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)은 스위칭 회로(500)에 연결될 수 있으며, 스위칭 회로(500)는 제1 회로(510) 및 제2 회로(520)에 연결될 수 있다. 한편 제2 패드(200)는 제2 회로(520) 및 제3 회로(530)에 연결될 수 있다. 제1 회로(510)는 프로브 정렬 상태를 검사할 때 동작하는 센싱 회로일 수 있으며, 제2 및 제3 회로(520, 530)는 제1 및 제2 패드(100, 200) 각각을 통해 전달되는 전기 신호를 반도체 장치(10)의 내부 회로 및 소자에 전달하기 위한 회로일 수 있다.First, referring to FIG. 8 , the first probe (P1) may contact the first pad 100 and the second probe (P2) may contact the second pad 200. The contact area 110 and the sensing area 120 of the first pad 100 may be connected to the switching circuit 500, and the switching circuit 500 may be connected to the first circuit 510 and the second circuit 520. You can. Meanwhile, the second pad 200 may be connected to the second circuit 520 and the third circuit 530. The first circuit 510 may be a sensing circuit that operates when checking the probe alignment state, and the second and third circuits 520 and 530 may be a sensing circuit that operates through the first and second pads 100 and 200, respectively. It may be a circuit for transmitting electrical signals to internal circuits and elements of the semiconductor device 10.

제1 및 제2 패드(100, 200) 각각에 제1 및 제2 프로브(P1, P2)가 접촉하면, 스위칭 회로(500)는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시킬 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)에 접촉한 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호는 제2 회로(520)가 아닌 제1 회로(510)로만 전달될 수 있다. 이때, 센싱 영역(120)에 제1 프로브(P1)가 접촉한 경우에만 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호가 제1 회로(510)로 전달될 수 있다. 즉, 컨택 영역(110)에 제1 프로브(P1)가 접촉한 경우, 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호는 어디로도 전달되지 않는다.When the first and second probes (P1, P2) contact the first and second pads (100, 200), respectively, the switching circuit 500 turns on the first and second switches (SW1, SW2) The third and fourth switches (SW3 and SW4) can be turned off. Accordingly, the electrical signal supplied from the first probe P1 in contact with the first pad 100 may be transmitted only to the first circuit 510 and not to the second circuit 520. At this time, the electrical signal supplied from the first probe P1 can be transmitted to the first circuit 510 only when the first probe P1 contacts the sensing area 120. That is, when the first probe P1 touches the contact area 110, the electrical signal supplied from the first probe P1 is not transmitted anywhere.

반도체 장치(10)에 프로브(P1, P2)를 접촉한 테스트 장치는, 제1 패드(100)에 접촉한 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)를 공급할 수 있다. 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)에 제1 프로브(P1)가 접촉하면, 접지 전압(VSS)은 제1 회로(510)로 전달되며 출력 회로(515)에 의해 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 출력될 수 있다. 즉, 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)을 공급하고 이때 제2 프로브(P2)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 테스트 장치는 제1 프로브(P1) 센싱 영역(120)에 접촉한 것으로, 즉 프로브(P1, P2)들이 제대로 정렬되지 않은 것으로 판단할 수 있다.
The test device with the probes P1 and P2 in contact with the semiconductor device 10 may supply the ground voltage VSS through the first probe P1 in contact with the first pad 100 . When the first probe (P1) touches the sensing area 120 of the first pad 100, the ground voltage (VSS) is transmitted to the first circuit 510 and is transmitted to the second pad 200 by the output circuit 515. ), the power supply voltage (VDD) can be output. That is, when the ground voltage (VSS) is supplied through the first probe (P1) and the power voltage (VDD) is detected by the second probe (P2), the test device is applied to the sensing area 120 of the first probe (P1). It can be judged that they are in contact, that is, the probes (P1, P2) are not properly aligned.

도 8에 도시한 실시예와 달리, 제1 프로브(P1)가 제1 패드(100)의 컨택 영역(110)에 접촉하면, 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)을 공급하여도 제2 프로브(P2)로부터 전원 전압(VDD)이 검출되지 않을 수 있다. 도 9를 참조하면, 컨택 영역(110)에 접촉한 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)이 공급되는 경우, 컨택 영역(110)은 제1 회로(510)와 연결되지 않으므로 접지 전압(VSS)이 제1 회로(510)에 전달될 수 없다. 따라서, 제2 패드(200)에 접촉한 제2 프로브(P2)로부터 전원 전압(VDD)이 검출되지 않으며, 테스트 장치는 프로브(P1, P2)가 제대로 정렬된 것으로 판단할 수 있다.
Unlike the embodiment shown in FIG. 8, when the first probe (P1) contacts the contact area 110 of the first pad 100, even if the ground voltage (VSS) is supplied through the first probe (P1) The power supply voltage VDD may not be detected from the second probe P2. Referring to FIG. 9, when the ground voltage (VSS) is supplied through the first probe (P1) in contact with the contact area 110, the contact area 110 is not connected to the first circuit 510, so the ground voltage (VSS) cannot be delivered to the first circuit 510. Accordingly, the power supply voltage VDD is not detected from the second probe P2 in contact with the second pad 200, and the test device can determine that the probes P1 and P2 are properly aligned.

프로브(P1, P2)가 제대로 정렬된 것으로 판단되면, 스위칭 회로(500)는 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)를 턴-온시킬 수 있ㄷ다. 도 10을 참조하면, 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온되어 컨택 영역(110) 및 센싱 영역(120)이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)이 모두 제2 회로(520)에 연결될 수 있으며, 제1 회로(510)와는 전기적으로 분리될 수 있다. If it is determined that the probes (P1, P2) are properly aligned, the switching circuit 500 can turn on the first, third, and fourth switches (SW1, SW3, and SW4) except the second switch (SW2). There is. Referring to FIG. 10, the first, third, and fourth switches SW1, SW3, and SW4 are turned on so that the contact area 110 and the sensing area 120 are electrically connected to each other. Additionally, both the contact area 110 and the sensing area 120 may be connected to the second circuit 520 and may be electrically separated from the first circuit 510.

따라서 제1 프로브(P1)를 통해 공급되는 전기 신호는, 제1 프로브(P1)가 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120) 중 어디에 접촉한 경우라 해도 제2 회로(520)로만 전달될 수 있다. 제2 회로(520)는 제1 패드(100)로 전달되는 전기 신호를 반도체 장치(10) 내부의 소자 등으로 전달하기 위한 회로일 수 있다. 제1 프로브(P1)를 통해 공급되는 전기 신호가 제1 패드(100) 및 제2 회로(520)를 통해 반도체 장치(10) 내부의 소자로 전달되므로, 제1 패드(100)는 다른 패드들과 마찬가지로 노멀 패드로 제공될 수 있다. 즉, 제1 패드(100) 하나에서 프로브 정렬 상태 검사를 위한 센서 패드 및 일반적인 신호 공급을 위한 노멀 패드의 기능을 함께 구현할 수 있다.
Therefore, the electrical signal supplied through the first probe (P1) can only be transmitted to the second circuit 520 even if the first probe (P1) touches either the contact area 110 or the sensing area 120. there is. The second circuit 520 may be a circuit for transmitting an electrical signal transmitted to the first pad 100 to elements within the semiconductor device 10 . Since the electrical signal supplied through the first probe P1 is transmitted to the element inside the semiconductor device 10 through the first pad 100 and the second circuit 520, the first pad 100 is connected to the other pads. Likewise, it can be provided as a normal pad. That is, the functions of a sensor pad for checking the probe alignment state and a normal pad for supplying a general signal can be implemented together in one first pad 100.

도 11 및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 나타낸 블록도이다.11 and 12 are block diagrams showing an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.

도 11를 참조하면, 일 실시 형태에 따른 저장 장치(1000)는 호스트(HOST)와 통신하는 컨트롤러(1010) 및 데이터를 저장하는 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)를 포함할 수 있다. 각 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)는, 앞서 설명한 다양한 실시예에 따른 메모리 장치를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 11, the storage device 1000 according to an embodiment may include a controller 1010 that communicates with a host (HOST) and memories 1020-1, 1020-2, and 1020-3 that store data. You can. Each memory 1020-1, 1020-2, and 1020-3 may include memory devices according to various embodiments described above.

컨트롤러(1010)와 통신하는 호스트(HOST)는 저장 장치(1000)가 장착되는 다양한 전자 기기일 수 있으며, 예를 들어 스마트폰, 디지털 카메라, 데스크 톱, 랩톱, 미디어 플레이어 등일 수 있다. 컨트롤러(1010)는 호스트(HOST)에서 전달되는 데이터 쓰기 또는 읽기 요청을 수신하여 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)에 데이터를 저장하거나, 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)로부터 데이터를 인출하기 위한 명령(CMD)을 생성할 수 있다.The host (HOST) that communicates with the controller 1010 may be various electronic devices equipped with the storage device 1000, for example, a smartphone, digital camera, desktop, laptop, media player, etc. The controller 1010 receives a data write or read request sent from the host (HOST) and stores the data in the memory (1020-1, 1020-2, 1020-3), or stores the data in the memory (1020-1, 1020-2, A command (CMD) to retrieve data from 1020-3) can be created.

도 11에 도시한 바와 같이, 저장 장치(1000) 내에 하나 이상의 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)가 컨트롤러(1010)에 병렬로 연결될 수 있다. 복수의 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)를 컨트롤러(1010)에 병렬로 연결함으로써, SSD(Solid State Drive)와 같이 큰 용량을 갖는 저장 장치(1000)를 구현할 수 있다.
As shown in FIG. 11, one or more memories 1020-1, 1020-2, and 1020-3 within the storage device 1000 may be connected in parallel to the controller 1010. By connecting a plurality of memories 1020-1, 1020-2, and 1020-3 in parallel to the controller 1010, a storage device 1000 with a large capacity, such as a solid state drive (SSD), can be implemented.

다음으로 도 12를 참조하면, 일 실시 형태에 따른 전자 기기(2000)는 통신부(2010), 입력부(2020), 출력부(2030), 메모리(2040) 및 프로세서(2050)를 포함할 수 있다. Next, referring to FIG. 12, the electronic device 2000 according to an embodiment may include a communication unit 2010, an input unit 2020, an output unit 2030, a memory 2040, and a processor 2050.

통신부(2010)는 유/무선 통신 모듈을 포함할 수 있으며, 무선 인터넷 모듈, 근거리 통신 모듈, GPS 모듈, 이동통신 모듈 등을 포함할 수 있다. 통신부(2010)에 포함되는 유/무선 통신 모듈은 다양한 통신 표준 규격에 의해 외부 통신망과 연결되어 데이터를 송수신할 수 있다. The communication unit 2010 may include a wired/wireless communication module, a wireless Internet module, a short-range communication module, a GPS module, a mobile communication module, etc. The wired/wireless communication module included in the communication unit 2010 can be connected to an external communication network according to various communication standards to transmit and receive data.

입력부(2020)는 사용자가 전자 기기(2000)의 동작을 제어하기 위해 제공되는 모듈로서, 기계식 스위치, 터치스크린, 음성 인식 모듈 등을 포함할 수 있다. 또한, 입력부(2020)는 트랙 볼 또는 레이저 포인터 방식 등으로 동작하는 마우스, 또는 핑거 마우스 장치를 포함할 수도 있으며, 그 외에 사용자가 데이터를 입력할 수 있는 다양한 센서 모듈을 더 포함할 수도 있다.The input unit 2020 is a module provided for the user to control the operation of the electronic device 2000, and may include a mechanical switch, a touch screen, a voice recognition module, etc. Additionally, the input unit 2020 may include a mouse or finger mouse device that operates in a trackball or laser pointer manner, and may further include various sensor modules through which the user can input data.

출력부(2030)는 전자 기기(2000)에서 처리되는 정보를 음성 또는 영상의 형태로 출력하며, 메모리(2040)는 프로세서(2050)의 처리 및 제어를 위한 프로그램이나, 또는 데이터 등을 저장할 수 있다. 메모리(2040)는 다양한 실시예에 따른 메모리 장치를 하나 이상 포함할 수 있으며, 프로세서(2050)는 필요한 동작에 따라 메모리(2040)에 명령어를 전달하여 데이터를 저장 또는 인출할 수 있다.The output unit 2030 outputs information processed by the electronic device 2000 in the form of audio or video, and the memory 2040 can store programs or data for processing and control of the processor 2050. . The memory 2040 may include one or more memory devices according to various embodiments, and the processor 2050 may store or retrieve data by transmitting instructions to the memory 2040 according to necessary operations.

메모리(2040)는 전자 기기(2000)에 내장되거나 또는 별도의 인터페이스를 통해 프로세서(2050)와 통신할 수 있다. 별도의 인터페이스를 통해 프로세서(2050)와 통신하는 경우, 프로세서(2050)는 SD, SDHC, SDXC, MICRO SD, USB 등과 같은 다양한 인터페이스 규격을 통해 메모리(2040)에 데이터를 저장하거나 또는 인출할 수 있다.The memory 2040 may be built into the electronic device 2000 or may communicate with the processor 2050 through a separate interface. When communicating with the processor 2050 through a separate interface, the processor 2050 can store or retrieve data from the memory 2040 through various interface standards such as SD, SDHC, SDXC, MICRO SD, USB, etc. .

프로세서(2050)는 전자 기기(2000)에 포함되는 각부의 동작을 제어할 수 있다. 프로세서(2050)는 음성 통화, 화상 통화, 데이터 통신 등과 관련된 제어 및 처리를 수행하거나, 멀티미디어 재생 및 관리를 위한 제어 및 처리를 수행할 수도 있다. 또한, 프로세서(2050)는 입력부(2020)를 통해 사용자로부터 전달되는 입력을 처리하고 그 결과를 출력부(2030)를 통해 출력할 수 있다. 또한, 프로세서(2050)는 앞서 설명한 바와 같이 전자 기기(2000)의 동작을 제어하는데 있어서 필요한 데이터를 메모리(2040)에 저장하거나 메모리(2040)로부터 인출할 수 있다.
The processor 2050 can control the operation of each part included in the electronic device 2000. The processor 2050 may perform control and processing related to voice calls, video calls, data communications, etc., or may perform control and processing for multimedia playback and management. Additionally, the processor 2050 can process input received from the user through the input unit 2020 and output the result through the output unit 2030. Additionally, as described above, the processor 2050 may store in or retrieve data necessary for controlling the operation of the electronic device 2000 in the memory 2040.

본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
The present invention is not limited by the above-described embodiments and the attached drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Accordingly, various forms of substitution, modification, and change may be made by those skilled in the art without departing from the technical spirit of the present invention as set forth in the claims, and this also falls within the scope of the present invention. something to do.

10: 메모리 장치
100, 200, 300: 패드
110: 컨택 영역
120: 센싱 영역
10: memory device
100, 200, 300: Pad
110: contact area
120: Sensing area

Claims (20)

기판;
상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자;
상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인; 및
상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층;
상기 복수의 패드 중 제1 패드와 연결되는 스위칭 회로; 및
상기 스위칭 회로에 연결되는 제1 및 제2 회로를 포함하며,
상기 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나로부터 연장되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 분리되는 제2 영역을 가지며,
상기 제1 회로의 출력단은 상기 복수의 패드 중, 상기 제1 패드와 다른 제2 패드에 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
Board;
a plurality of semiconductor devices formed on the substrate;
a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices; and
a protective layer disposed on the plurality of metal lines and having an open area exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads;
a switching circuit connected to a first pad among the plurality of pads; and
It includes first and second circuits connected to the switching circuit,
The first pad has a first area extending from at least one of the plurality of metal lines, and a second area disposed around the first area and separated from the first area,
The semiconductor device is characterized in that the output terminal of the first circuit is connected to a second pad among the plurality of pads, which is different from the first pad.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 회로는, 상기 제1 및 제2 패드 각각에 접촉하는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 확인 전압을 상기 제2 패드로 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to paragraph 1,
The semiconductor device is characterized in that the first circuit outputs a confirmation voltage that can check the alignment state of the probe contacting each of the first and second pads to the second pad.
제1항에 있어서,
상기 스위칭 회로는, 상기 제1 패드에 프로브가 접촉하면, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제1 회로에 전달하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to paragraph 1,
The switching circuit is a semiconductor device characterized in that when a probe touches the first pad, the voltage supplied to the first pad is transmitted to the first circuit.
제14항에 있어서,
상기 스위칭 회로는, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제1 회로에 전달하였을 때 상기 제2 패드로부터 소정의 기준 전압이 검출되지 않으면, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제2 회로에 전달하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 14,
The switching circuit is configured to transfer the voltage supplied to the first pad to the second circuit if a predetermined reference voltage is not detected from the second pad when the voltage supplied to the first pad is transmitted to the first circuit. A semiconductor device characterized in that it transmits
기판;
상기 기판의 상면에 수직하는 방향으로 연장되는 채널 영역과, 상기 채널 영역에 인접하도록 상기 기판 상에 적층되는 복수의 게이트 전극층을 갖는 복수의 메모리 셀 소자;
상기 복수의 메모리 셀 소자의 주변에 배치되는 복수의 회로 소자;
상기 복수의 메모리 셀 소자 및 상기 복수의 회로 소자 중 적어도 일부와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인; 및
상기 복수의 메탈 라인 상에 마련되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 보호층; 을 포함하며,
상기 복수의 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역 및 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는 제1 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
Board;
a plurality of memory cell elements having a channel region extending in a direction perpendicular to the upper surface of the substrate and a plurality of gate electrode layers stacked on the substrate adjacent to the channel region;
a plurality of circuit elements disposed around the plurality of memory cell elements;
a plurality of metal lines electrically connected to at least some of the plurality of memory cell elements and the plurality of circuit elements; and
a protective layer provided on the plurality of metal lines and exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads; Includes,
The plurality of pads include a first pad having a first area connected to at least one of the plurality of metal lines and a second area disposed around the first area and electrically separated from the first area. A semiconductor device characterized in that.
제16항에 있어서,
상기 복수의 패드는 상기 제1 패드와 다른 제2 패드를 포함하며, 상기 제2 패드는 상기 제1 패드와 다른 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 16,
The plurality of pads include a second pad different from the first pad, and the second pad has a shape different from the first pad.
제16항에 있어서,
상기 복수의 메탈 라인은 제1 메탈 라인 및 상기 제1 메탈 라인의 상부에 배치되는 제2 메탈 라인을 포함하며,
상기 복수의 패드는 상기 제2 메탈 라인 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 16,
The plurality of metal lines include a first metal line and a second metal line disposed above the first metal line,
A semiconductor device, wherein the plurality of pads are disposed between the second metal lines.
제18항에 있어서,
상기 제1 영역은 상기 제2 메탈 라인과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 18,
The first region is electrically connected to the second metal line.
복수의 메모리 셀 소자를 갖는 셀 영역;
상기 복수의 메모리 셀 소자를 구동하는 복수의 회로 소자를 갖는 주변 회로 영역; 및
상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역에 전기 신호를 공급하며, 서로 다른 형상을 갖는 제1 및 제2 패드를 갖는 복수의 패드; 를 포함하며,
상기 제1 패드는 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하기 위한 노멀 패드로 제공되는 제1 영역과, 상기 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 검출하기 위한 센서 패드로 제공되는 제2 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.

a cell region having a plurality of memory cell elements;
a peripheral circuit area having a plurality of circuit elements that drive the plurality of memory cell elements; and
a plurality of pads that supply electrical signals to the cell region and the peripheral circuit region and have first and second pads having different shapes; Includes,
The first pad includes a first area provided as a normal pad for supplying an electrical signal to at least one of the cell area and the peripheral circuit area, and a sensor pad for detecting the alignment state of the probes connected to the plurality of pads. A semiconductor device characterized by having a second region provided as.

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