KR102577263B1 - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor device Download PDFInfo
- Publication number
- KR102577263B1 KR102577263B1 KR1020150161616A KR20150161616A KR102577263B1 KR 102577263 B1 KR102577263 B1 KR 102577263B1 KR 1020150161616 A KR1020150161616 A KR 1020150161616A KR 20150161616 A KR20150161616 A KR 20150161616A KR 102577263 B1 KR102577263 B1 KR 102577263B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pad
- area
- circuit
- pads
- semiconductor device
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 77
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 31
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 9
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 101150110971 CIN7 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100286980 Daucus carota INV2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101000934888 Homo sapiens Succinate dehydrogenase cytochrome b560 subunit, mitochondrial Proteins 0.000 description 1
- 101150110298 INV1 gene Proteins 0.000 description 1
- 102100025393 Succinate dehydrogenase cytochrome b560 subunit, mitochondrial Human genes 0.000 description 1
- 101100397044 Xenopus laevis invs-a gene Proteins 0.000 description 1
- 101100397045 Xenopus laevis invs-b gene Proteins 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/34—Circuits for electrically characterising or monitoring manufacturing processes, e. g. whole test die, wafers filled with test structures, on-board-devices incorporated on each die, process control monitors or pad structures thereof, devices in scribe line
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
- H01L22/30—Structural arrangements specially adapted for testing or measuring during manufacture or treatment, or specially adapted for reliability measurements
- H01L22/32—Additional lead-in metallisation on a device or substrate, e.g. additional pads or pad portions, lines in the scribe line, sacrificed conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0611—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration integrated circuits having a two-dimensional layout of components without a common active region
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
본 발명의 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자, 상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드 중 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나로부터 연장되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 분리되는 제2 영역을 갖는다.A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of semiconductor devices formed on the substrate, a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices, and a plurality of metal lines on the plurality of metal lines. It is disposed and includes a protective layer having an open area that exposes some of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein a first pad of the plurality of pads extends from at least one of the plurality of metal lines. It has a first area and a second area disposed around the first area and separated from the first area.
Description
본 발명은 반도체 장치에 관한 것이다.
The present invention relates to semiconductor devices.
전자 제품은 그 부피가 점점 작아지면서도 고용량의 데이터 처리를 요하고 있다. 이에 따라, 이러한 전자 제품에 사용되는 반도체 장치의 집적도를 증가시킬 필요가 있다. 반도체 장치는 외부로부터 전기 신호를 공급받기 위한 복수의 패드를 포함할 수 있으며, 복수의 패드 중 적어도 하나는, 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위한 센서 패드로서의 기능을 제공할 수 있다.
Electronic products are becoming smaller in size while requiring high-capacity data processing. Accordingly, there is a need to increase the integration degree of semiconductor devices used in such electronic products. The semiconductor device may include a plurality of pads for receiving electrical signals from the outside, and at least one of the plurality of pads may function as a sensor pad to check the alignment state of the probe connected to the plurality of pads. there is.
본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 기술적 과제 중 하나는, 프로프의 정렬 상태를 확인하기 위한 기능 및 일반 패드로서의 기능을 함께 제공할 수 있는 패드를 제공함으로써, 반도체 장치의 집적도를 높이고자 하는 데에 있다.
One of the technical problems to be achieved by the technical idea of the present invention is to increase the integration of semiconductor devices by providing a pad that can provide both a function for checking the alignment state of the probe and a function as a general pad. there is.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자, 상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드에 포함되는 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of semiconductor devices formed on the substrate, a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices, and a plurality of metal lines on the plurality of metal lines. It is disposed on and includes a protective layer having an open area exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein the first pad included in the plurality of pads is at least one of the plurality of metal lines. It has a first area connected to and a second area disposed around the first area and electrically separated from the first area.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 기판, 상기 기판의 상면에 수직하는 방향으로 연장되는 채널 영역과, 상기 채널 영역에 인접하도록 상기 기판 상에 적층되는 복수의 게이트 전극층을 갖는 복수의 메모리 셀 소자, 상기 복수의 메모리 셀 소자의 주변에 배치되는 복수의 회로 소자, 상기 복수의 메모리 셀 소자 및 상기 복수의 회로 소자 중 적어도 일부와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인, 및 상기 복수의 메탈 라인 상에 마련되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 보호층을 포함하며, 상기 복수의 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역 및 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는 제1 패드를 포함한다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a plurality of memories having a channel region extending in a direction perpendicular to the upper surface of the substrate, and a plurality of gate electrode layers stacked on the substrate adjacent to the channel region. A cell element, a plurality of circuit elements disposed around the plurality of memory cell elements, a plurality of metal lines electrically connected to at least some of the plurality of memory cell elements and the plurality of circuit elements, and the plurality of metal lines It is provided on the protective layer and includes a protective layer that exposes some of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads, wherein the plurality of pads includes a first region connected to at least one of the plurality of metal lines and the first region connected to the first region. It includes a first pad disposed around one area and having a second area electrically separated from the first area.
본 발명의 일 실시 형태에 따른 반도체 장치는, 복수의 메모리 셀 소자를 갖는 셀 영역, 상기 복수의 메모리 셀 소자를 구동하는 복수의 회로 소자를 갖는 주변 회로 영역, 및 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역에 전기 신호를 공급하며, 서로 다른 형상을 갖는 제1 및 제2 패드를 갖는 복수의 패드를 포함하며, 상기 제1 패드는 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하기 위한 노멀 패드로 제공되는 제1 영역과, 상기 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 검출하기 위한 센서 패드로 제공되는 제2 영역을 갖는다.
A semiconductor device according to an embodiment of the present invention includes a cell region having a plurality of memory cell elements, a peripheral circuit region having a plurality of circuit elements that drive the plurality of memory cell elements, and the cell region and the peripheral circuit region. supplies an electric signal to the pad, and includes a plurality of pads having first and second pads having different shapes, wherein the first pad is used to supply an electric signal to at least one of the cell region and the peripheral circuit region. It has a first area provided as a normal pad and a second area provided as a sensor pad for detecting the alignment state of the probes connected to the plurality of pads.
본 발명의 기술적 사상에 따른 메모리 장치에 따르면, 반도체 장치에 포함되는 복수의 패드 중 적어도 하나는, 프로브 정렬 상태를 확인할 수 있는 센싱 영역과, 일반적인 패드로서 동작할 수 있는 컨택 영역을 포함할 수 있다. 따라서, 복수의 패드 중 적어도 하나가 별도의 센서 패드로 제공되지 않을 수 있으므로, 반도체 장치의 집적도를 개선할 수 있다.According to a memory device according to the technical idea of the present invention, at least one of the plurality of pads included in the semiconductor device may include a sensing area that can check the probe alignment state and a contact area that can operate as a general pad. . Accordingly, since at least one of the plurality of pads may not be provided as a separate sensor pad, the degree of integration of the semiconductor device can be improved.
본 발명의 다양하면서도 유익한 장점과 효과는 상술한 내용에 한정되지 않으며, 본 발명의 구체적인 실시 형태를 설명하는 과정에서 보다 쉽게 이해될 수 있을 것이다.
The various and beneficial advantages and effects of the present invention are not limited to the above-described content, and may be more easily understood through description of specific embodiments of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 개략적인 레이아웃을 나타낸 도이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.
도 2b는 도 2a에 도시한 반도체 장치의 I-I` 방향의 단면을 나타낸 단면도이다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로를 나타낸 도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서 프로브 정렬 상태를 확인하기 위한 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다.
도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로의 동작을 나타낸 도이다.
도 11 및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 나타낸 블록도이다.1 is a diagram showing a schematic layout of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2A is a partial enlarged view showing a pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2B is a cross-sectional view showing a cross section in the II′ direction of the semiconductor device shown in FIG. 2A.
3 and 4 are partial enlarged views showing the pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are diagrams illustrating a circuit provided to check the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a flowchart provided to explain a method for checking the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
8 to 10 are diagrams illustrating the operation of a circuit provided to check the alignment state of a probe in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
11 and 12 are block diagrams showing an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 형태들을 다음과 같이 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings.
명세서 전체에 걸쳐서, 막, 영역 또는 웨이퍼(기판) 등과 같은 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 상술한 하나의 구성요소가 직접적으로 다른 구성요소 "상에", "연결되어", 또는 "커플링되어" 접촉하거나, 그 사이에 개재되는 또 다른 구성요소들이 존재할 수 있다고 해석될 수 있다. 반면에, 하나의 구성요소가 다른 구성요소 "직접적으로 상에", "직접 연결되어", 또는 "직접 커플링되어" 위치한다고 언급할 때는, 그 사이에 개재되는 다른 구성요소들이 존재하지 않는다고 해석된다. 동일한 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는"은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.Throughout the specification, when referring to one component, such as a film, region, or wafer (substrate), being positioned “on,” “connected to,” or “coupled to” another component, it refers to one of the components described above. It can be interpreted that an element may be directly “on,” “connected,” or “coupled” and in contact with another component, or that there may be other components interposed between them. On the other hand, when a component is referred to as being located "directly on," "directly connected to," or "directly coupled" to another component, it is interpreted that there are no intervening components. do. Identical symbols refer to identical elements. As used herein, the term “and/or” includes any one and all combinations of one or more of the listed items.
본 명세서에서 제1, 제2등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제1부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제2부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers and/or parts, these members, parts, regions, layers and/or parts are limited by these terms. It is obvious that does not work. These terms are used only to distinguish one member, component, region, layer or section from another region, layer or section. Accordingly, a first member, component, region, layer or portion described below may refer to a second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.
또한, "상의" 또는 "위의" 및 "하의" 또는 "아래의"와 같은 상대적인 용어들은 도면들에서 도해되는 것처럼 다른 요소들에 대한 어떤 요소들의 관계를 기술하기 위해 여기에서 사용될 수 있다. 상대적 용어들은 도면들에서 묘사되는 방향에 추가하여 소자의 다른 방향들을 포함하는 것을 의도한다고 이해될 수 있다. 예를 들어, 도면들에서 소자가 뒤집어 진다면(turned over), 다른 요소들의 상부의 면 상에 존재하는 것으로 묘사되는 요소들은 상술한 다른 요소들의 하부의 면 상에 방향을 가지게 된다. 그러므로, 예로써 든 "상의"라는 용어는, 도면의 특정한 방향에 의존하여 "하의" 및 "상의" 방향 모두를 포함할 수 있다. 구성 요소가 다른 방향으로 향한다면(다른 방향에 대하여 90도 회전), 본 명세서에 사용되는 상대적인 설명들은 이에 따라 해석될 수 있다.Additionally, relative terms such as “top” or “over” and “bottom” or “under” may be used herein to describe the relationship of some elements to other elements as illustrated in the drawings. Relative terms may be understood as intended to include other orientations of the device in addition to the orientation depicted in the drawings. For example, if an element is turned over in the figures, elements depicted as being on the upper side of other elements will have an orientation on the lower side of the other elements as described above. Therefore, the term "top" as an example may include both the "bottom" and "top" directions depending on the specific orientation of the drawing. If the component is oriented in another direction (rotated 90 degrees relative to the other direction), relative descriptions used herein may be interpreted accordingly.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terms used herein are used to describe specific embodiments and are not intended to limit the invention. As used herein, the singular forms include the plural forms unless the context clearly indicates otherwise. Additionally, when used herein, “comprise” and/or “comprising” means specifying the presence of stated features, numbers, steps, operations, members, elements and/or groups thereof. and does not exclude the presence or addition of one or more other shapes, numbers, operations, members, elements and/or groups.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차(tolerance)에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명 사상의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다. 이하 실시예들은 하나 또는 복수개를 조합하여 구성할 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will now be described with reference to drawings that schematically show ideal embodiments of the present invention. In the drawings, variations of the depicted shape may be expected, for example, depending on manufacturing technology and/or tolerances. Accordingly, embodiments of the present invention should not be construed as being limited to the specific shape of the area shown in this specification, but should include, for example, changes in shape resulting from manufacturing. The following embodiments may be configured by combining one or more embodiments.
이하에서 설명하는 본 발명의 내용은 다양한 구성을 가질 수 있고 여기서는 필요한 구성만을 예시적으로 제시하며, 본 발명 내용이 이에 한정되는 것은 아님을 밝혀둔다
The content of the present invention described below may have various configurations, and only the necessary configurations are presented here as examples, and the content of the present invention is not limited thereto.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 개략적인 레이아웃을 나타낸 도이다.1 is a diagram showing a schematic layout of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는 데이터를 저장할 수 있는 메모리 셀 소자를 갖는 셀 영역(11, 12)을 갖는 메모리 장치일 수 있다. 셀 영역(11, 12)은 하나 또는 복수의 영역으로 구분될 수 있으며, 셀 영역(11, 12)에 인접하여 로우 디코더(13) 및 칼럼 디코더(14)가 배치될 수 있다. 칼럼 디코더(14)는 페이지 버퍼(15)와 함께 읽기/쓰기 회로를 제공할 수 있다. 제어 회로(16)는 반도체 장치(10)의 전반적인 동작을 제어할 수 있다. 셀 영역(11, 12)을 제외한 로우 디코더(13), 칼럼 디코더(14), 페이지 버퍼(15), 및 제어 회로(16)는 주변 회로 영역으로 제공될 수 있다.Referring to FIG. 1 , a
셀 영역(11, 12)은 복수의 메모리 셀 소자를 포함할 수 있다. 일 실시예로, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는 수평 또는 수직 구조의 메모리 장치일 수 있으며, 이때 셀 영역(11, 12)에는 채널 영역, 게이트 전극층, 게이트 절연막 등을 갖는 메모리 셀 소자가 복수 개 포함될 수 있다. 셀 영역(11, 12)에 포함되는 복수의 메모리 셀 소자들은 워드 라인(Word Line, WL), 공통 소스 라인(Common Source Line, CSL), 스트링 선택 라인(String Select Line, SSL), 접지 선택 라인(Ground Select Line, GSL) 등을 통해 로우 디코더(13)와 연결될 수 있으며, 비트 라인(Bit Line, BL)을 통해 칼럼 디코더(14)와 연결될 수 있다.The
로우 디코더(13)는 외부로부터 어드레스 정보를 수신하고, 수신한 어드레스 정보(ADDR)를 디코딩하여 셀 영역(11, 12)에 연결된 워드 라인(WL), 공통 소스 라인(CSL), 스트링 선택 라인(SSL) 및 접지 선택 라인(GSL) 중 적어도 일부를 선택할 수 있다. The
칼럼 디코더(14)는, 제어 회로(16)로부터 수신하는 명령에 따라 셀 영역(11, 12)에 연결되는 비트 라인(BL) 중 적어도 일부를 선택할 수 있다. 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)는, 선택한 적어도 일부의 비트 라인(BL)과 연결된 메모리 셀 소자에 저장된 데이터를 읽어오거나, 선택한 적어도 일부의 비트 라인(BL)과 연결된 메모리 셀 소자에 데이터를 기록할 수 있다. The
제어 회로(16)는 외부로부터 전달되는 제어 신호에 응답하여 로우 디코더(13), 칼럼 디코더(14) 및 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다. 셀 영역(11, 12)에 저장된 데이터를 읽어오는 경우, 제어 회로(16)는 읽어오고자 하는 데이터가 저장된 워드 라인(WL)에 읽기 동작을 위한 전압을 공급하도록 로우 디코더(13)의 동작을 제어할 수 있다. 읽기 동작을 위한 전압이 특정 워드 라인(WL)에 공급되면, 제어 회로(16)는 읽기 동작을 위한 전압이 공급된 워드 라인(WL)과 연결된 메모리 셀 소자에 저장된 데이터를 읽어오도록 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다.The
한편, 셀 영역(11, 12)에 데이터를 기록하는 경우, 제어 회로(16)는 데이터를 쓰고자 하는 워드 라인(WL)에 쓰기 동작을 위한 전압을 공급하도록 로우 디코더(13)의 동작을 제어할 수 있다. 쓰기 동작을 위한 전압이 특정 워드 라인(WL)에 공급되면, 제어 회로(13)는 쓰기 동작을 위한 전압이 공급된 워드 라인(WL)에 연결된 메모리 셀 소자에 데이터를 기록하도록 칼럼 디코더(14)와 페이지 버퍼(15)의 동작을 제어할 수 있다.Meanwhile, when writing data to the
한편, 반도체 장치(10)의 가장자리에는 복수의 패드(17)가 마련될 수 있다. 복수의 패드(17)는 반도체 장치(10)에 마련되는 복수의 메탈 라인 중 적어도 일부가 노출되어 제공되는 영역일 수 있다. 복수의 패드(17)를 통해 셀 영역(11, 12)에 포함되는 메모리 셀 소자 및 주변 회로 영역에 포함되는 회로 소자에 동작에 필요한 전기 신호가 공급될 수 있다.Meanwhile, a plurality of pads 17 may be provided at the edge of the
반도체 장치(10)를 제조한 후에 실행되는 테스트 공정에서는, 복수의 패드(17)에 접촉되는 복수의 프로브를 통하여 반도체 장치(10)의 테스트에 필요한 전기 신호가 인가될 수 있다. 반도체 장치(10)의 정확한 테스트를 위해서는, 복수의 프로브가 복수의 패드(17) 각각에 정확히 정렬되어야 하며, 반도체 장치(10)는 프로브의 정렬 상태를 검사할 수 있는 회로를 제공할 수 있다. 특히, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)는, 프로브의 정렬 상태를 검사할 수 있는 기능과, 일반적인 패드로서의 기능을 하나의 패드에서 제공할 수 있다.
In a test process performed after manufacturing the
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다. 한편, 도 2b는 도 2a에 도시한 반도체 장치의 I-I` 방향의 단면을 나타낸 단면도이다.FIG. 2A is a partial enlarged view showing a pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. Meanwhile, FIG. 2B is a cross-sectional view showing a cross section in the II′ direction of the semiconductor device shown in FIG. 2A.
도 2a는 도 1에 도시한 반도체 장치(10)의 A 영역을 확대 도시한 도일 수 있다. 우선 도 2a를 참조하면, 반도체 장치(10)의 A 영역에는 복수의 패드(100, 200, 300)가 포함될 수 있다. 복수의 패드(100, 200, 300)는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 기능을 제공하는 제1 패드(100)와, 제1 패드(100)가 아닌 제2 패드(200, 300)를 포함할 수 있다. 제2 패드(200, 300)는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 기능을 제공할 수는 없으며, 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하는 일반적인 패드로 제공될 수 있다.FIG. 2A may be an enlarged view of area A of the
복수의 패드(100, 200, 300) 각각은 반도체 장치(10)에 포함되는 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출되어 제공될 수 있다. 도 2b를 참조하면, 메탈 라인(410)은 반도체 소자를 포함하는 반도체 기판 영역(101) 상부에 배치될 수 있으며, 상대적으로 하부에 위치하는 제1 메탈 라인(411) 및 제1 메탈 라인(411)의 상부에 위치하는 제2 메탈 라인(412)을 포함할 수 있다. 메탈 라인(410) 상에는 절연성을 갖는 보호층(420)이 마련될 수 있으며, 보호층(420)의 일부가 제거되어 형성되는 오픈 영역(421, 422, 423)을 통해 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출됨으로써 복수의 패드(100, 200, 300)가 형성될 수 있다. 도 2b에 도시한 바와 같이, 오픈 영역(421)에서 보호층(420)의 일부가 제거되어 메탈 라인(410)의 일부가 외부로 노출될 수 있다. Each of the plurality of
제1 패드(100)는, 메탈 라인(410)과 전기적으로 연결되는 컨택 영역(110) 및 컨택 영역(110)과 전기적으로 분리되며 컨택 영역(110) 주변에 배치되는 센싱 영역(120)을 포함할 수 있다. 센싱 영역(120)은 오픈 영역(421)의 가장자리에 인접하여 배치될 수 있으며, 도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이 센싱 영역(120)의 적어도 일부는 오픈 영역(421)에 의해 노출되지 않고 보호층(420)에 의해 차폐될 수 있다.The
컨택 영역(110)은 제1 영역(111) 및 제2 영역(112)을 포함할 수 있다. 제1 영역(111)은 제2 영역(112)에 비해 상대적으로 큰 면적을 갖는 영역일 수 있으며, 제1 영역(111)의 가장자리에 인접하여 센싱 영역(120)이 배치될 수 있다. 제2 영역(112)은 제1 영역(111)의 모서리로부터 연장되는 영역으로서, 제2 영역(112)에 의해 컨택 영역(110)이 메탈 라인(410)과 전기적으로 연결될 수 있다. 도 2a에 도시한 실시예에서 제1 영역(111)은 사각형 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 반드시 이와 같은 형태로 한정되는 것은 아니다. 제2 영역(112)은 제1 영역(111)의 서로 마주보는 모서리로부터 서로 다른 방향으로 연장되는 복수의 제2 영역(112)을 가질 수 있다.The
한편, 제2 영역(112)은 복수의 비아(150)를 통해 상대적으로 하부에 배치되는 제1 메탈 라인(411)과 전기적으로 연결될 수 있다. 제2 영역(112)은 제1 메탈 라인(411)을 통해 적어도 하나의 스위치 소자를 갖는 스위칭 회로와 연결될 수 있으며, 상기 스위칭 회로는 제1 및 제2 회로와 연결될 수 있다. 일 실시예에서, 제1 회로는 프로브의 정렬 상태를 검출할 수 있는 회로일 수 있으며, 제2 회로는 반도체 장치(10)에 포함되는 반도체 소자에 전기 신호를 공급하기 위한 회로일 수 있다. 한편, 상기 스위칭 회로는 메탈 라인(410)을 통해 제1 영역(111)과도 전기적으로 연결될 수 있다. Meanwhile, the
따라서, 상기 스위칭 회로의 동작에 의해, 제1 패드(100)는 상기 제1 회로와 연결되어 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위한 센서 패드로 기능하거나, 또는 상기 제2 회로와 연결되어 반도체 장치(10)의 반도체 소자들에 전기 신호를 공급하기 위한 일반적인 패드로 동작할 수 있다. 스위칭 회로 및 프로브의 정렬 상태를 검출할 수 있는 제1 회로의 구성과 동작에 대해서는 후술하기로 한다.Accordingly, by the operation of the switching circuit, the
제2 및 제3 패드(200, 300)는 반도체 소자들에 전기 신호를 공급하는 일반적인 패드로 제공되며, 보호층(420)이 제거된 오픈 영역(422, 423)을 채우는 형상을 가질 수 있다. 제2 및 제3 패드(200, 300)와 같은 일반적인 패드는, 비아(250)를 통해 하부 메탈 라인과 연결되거나, 또는 오픈 영역(423)의 가장자리에서 제2 메탈 라인(412)과 직접 연결될 수 있다. 제2 및 제3 패드(200, 300)의 형태와 개수 등은, 반도체 장치(10)에 따라 다양하게 변형될 수 있다.
The second and
도 3 및 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치의 패드 영역을 나타낸 부분 확대도이다.3 and 4 are partial enlarged views showing the pad area of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 제1 패드(100A)는 도 2a 및 도 2b에 도시한 실시예와 다른 형상으로 구현될 수 있다. 제1 패드(100A)에서 컨택 영역(110A)은, 제1 영역(111A)과 제2 영역(112A)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(111A)의 적어도 일부 영역은 오픈 영역(421)에 의해 노출되지 않고 보호층(420)에 의해 차폐될 수 있다. 제2 영역(112A)은 하나의 영역으로 제공될 수 있으며, 제1 영역(111A)의 모서리 일부 영역에 인접하여 센싱 영역(120A)이 마련될 수 있다. Referring to FIG. 3, the
앞서 도 2a 및 도 2b를 참조하여 설명한 실시예와 마찬가지로, 컨택 영역(110A)은 제2 영역(112A)을 통해 제2 메탈 라인(412)과 전기적으로 연결되며, 센싱 영역(120A)은 비아(150)를 통해 제1 메탈 라인(411)과 전기적으로 연결될 수 있다. 컨택 영역(110A)과 센싱 영역(120A)은 적어도 하나의 스위치 소자를 갖는 스위칭 회로를 통해 서로 전기적으로 연결 또는 분리될 수 있다. 컨택 영역(110A)과 센싱 영역(120A)의 연결/분리 여부는, 테스트 공정에서 프로브가 패드(100, 200, 300)에 정확히 정렬되었는지 여부에 따라 결정될 수 있다.
Similar to the embodiment previously described with reference to FIGS. 2A and 2B, the
도 4에 도시한 실시예에서, 제1 패드(100B)는 도 2a, 도 2b 및 도 3에 도시한 실시예와 다른 형상을 가질 수 있다. 제1 패드(100B)에서 컨택 영역(110B)은, 제1 영역(111B)과 제2 영역(112B)을 포함할 수 있으며, 제1 영역(111B) 전체는 오픈 영역(421)에 의해 노출될 수 있다. 제2 영역(112B)은 제1 영역(111B)의 일 모서리로부터 연장되는 하나의 영역으로 제공될 수 있으며, 센싱 영역(120B)은 제2 영역(112B)와 접촉하지 않으면서 제1 영역(111B)의 모서리를 둘러싸도록 배치될 수 있다. 즉, 센싱 영역(120B)이 서로 분리되는 복수의 영역으로 제공되는 도 2a, 도 2b 및 도 3의 실시예와 달리, 도 4에 도시한 실시예에서는 센싱 영역(120B)이 하나의 영역으로 제공될 수 있다.In the embodiment shown in FIG. 4, the
도 2a, 도 2b 및 도 3에 도시한 실시예와 유사하게, 센싱 영역(120B)은 비아(150)를 통해 하부의 제1 메탈 라인(411)과 연결되며, 컨택 영역(110B)은 제2 영역(112B)을 통해 상부의 제2 메탈 라인(412)과 연결될 수 있다. 센싱 영역(120B)과 컨택 영역(110B) 사이에는 스위칭 회로가 연결되며, 스위칭 회로의 동작에 따라 제1 패드(100B)가 프로브의 정렬 상태를 검사하기 위한 센서 패드, 및 일반적인 패드 중 어느 하나로 동작할 수 있다.
Similar to the embodiment shown in FIGS. 2A, 2B, and 3, the
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로를 나타낸 도이다. 5 and 6 are diagrams illustrating a circuit provided to check the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
우선 도 5를 참조하면, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120) 사이에는 복수의 스위치 소자(SW1-SW4)를 갖는 스위칭 회로(500)가 연결될 수 있다. 스위칭 회로(500)의 구성은 도 5에 도시한 바와 같이 한정되지 않으며, 프로브의 정렬 상태에 따라 제1 패드(100)와 제1 및 제2 회로(510, 520)의 연결을 설정할 수 있는 다양한 방식의 회로로 구현될 수 있다.First, referring to FIG. 5, a switching circuit 500 having a plurality of switch elements (SW1-SW4) may be connected between the
스위칭 회로(500)의 일단은 제1 및 제2 회로(510, 520)와 연결될 수 있다. 제1 회로(510)는 프로브가 정확히 정렬되지 않았을 때 소정의 확인 전압을 출력하기 위한 회로일 수 있다. 제2 회로(520)는 프로브가 정확히 정렬되었을 때 제1 패드(100)에 연결되어 제1 패드(100)에 공급되는 전기 신호를 반도체 소자에 전달할 수 있다. One end of the switching circuit 500 may be connected to the first and
일 실시예에서, 프로브가 제1 패드(100)에 정확히 정렬되지 않으면, 즉 프로브가 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)에 접촉하는 경우에는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)가 턴-온되고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)는 턴-오프될 수 있다. 따라서, 스위칭 회로(500)를 통해 제1 회로(510)와 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)이 전기적으로 연결될 수 있다.In one embodiment, if the probe is not accurately aligned with the
프로브가 제1 패드(100)에 정확히 정렬되면, 제2 스위치(SW2)는 턴-오프되고 나머지 제1, 제3, 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온될 수 있다. 따라서, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)이 제2 회로(520)와 연결될 수 있으며, 제1 패드(100)로 공급되는 전기 신호가 제2 회로(520) 및 반도체 소자에 전달될 수 있다.
When the probe is accurately aligned with the
다음으로 도 6을 참조하면, 제1 회로(510)는 입력 회로(511), 인버터 회로(513) 및 출력 회로(515)를 포함할 수 있다. 입력 회로(511)는 저항 R1, R2 및 스위치 소자 TR1, TR2를 포함할 수 있으며, 인버터 회로(513)는 복수의 인버터 INV1, INV2를 포함할 수 있다. 출력 회로(515)는 출력단이 제2 패드(200)와 전기적으로 연결되는 스위치 TR3을 포함할 수 있다. Next, referring to FIG. 6 , the
프로브의 정렬 상태를 검사하기 위해, 프로브가 제1 패드(100)에 접촉한 후 프로브를 통해 접지 전압(VSS)를 공급할 수 있다. 한편, 스위치 회로(500)는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시켜 접지 전압(VSS)을 제1 회로(510)로 전달할 수 있다. To check the alignment of the probe, after the probe contacts the
접지 전압이 제1 회로(510)에 전달되면, 인버터 회로(513)는 로우(Low) 신호를 출력할 수 있다. 인버터 회로(513)의 출력에 의해 출력 회로(515)에 포함된 스위치 소자 TR3이 턴-온되어 제2 패드(200)를 통해 전원 전압(VDD)을 검출할 수 있다. 즉, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)를 공급하였을 때, 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 프로브가 제대로 정렬되지 않은 것으로 판단할 수 있다.When the ground voltage is transmitted to the
반대로, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)를 공급하고 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하였을 때, 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)가 검출되지 않으면, 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단할 수 있다. 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단하면, 스위치 회로(500)는 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3, 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)를 턴-온시켜 제1 패드(100)의 컨택 영역(110) 및 센싱 영역(120)을 서로 전기적으로 연결할 수 있다. 이후, 제1 패드(100)에 접촉한 프로브로부터 공급되는 전기 신호는 제2 회로(520)로 전달될 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)를 프로브 정렬 상태를 검사하기 위한 목적으로 이용한 이후에, 일반적인 다른 제2 패드(200)처럼 전기 신호를 공급하기 위한 목적으로 이용할 수 있다.
Conversely, when the ground voltage (VSS) is supplied to the
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서 프로브 정렬 상태를 확인하기 위한 방법을 설명하기 위해 제공되는 흐름도이다.FIG. 7 is a flowchart provided to explain a method for checking the probe alignment state in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
우선, 프로브의 정렬 상태를 검사하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 반도체 장치(10)의 패드(100, 200, 300)에 테스트 장치의 프로브가 접촉할 수 있다(S10). 프로브가 접촉되면, 테스트 장치는 센싱 영역(120)을 갖는 제1 패드(100)에 접촉한 프로브를 통해 접지 전압(VSS)이 공급될 수 있다(S11). 즉, 제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)이 공급될 수 있다. 이때, 제1 패드(100)와 전기적으로 연결된 스위칭 회로(500)는, 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시켜 제1 패드(100)를 프로브 정렬 상태를 검사하기 위한 센싱 모드로 동작시킬 수 있다.First, in order to check the alignment of the probe, the probe of the test device may contact the
제1 패드(100)에 접지 전압(VSS)이 공급되면, 테스트 장치는 센싱 영역(120)에 연결된 센싱 회로 - 도 5 및 도 6의 제1 회로(510) - 와 연결된 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되는지 여부를 판단한다(S12). 앞서 설명한 바와 같이, 센싱 영역(120)에 프로브가 접촉한 경우, 즉, 프로브가 제대로 정렬되지 않은 경우에는 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출될 수 있다.When the ground voltage (VSS) is supplied to the
S12 단계의 판단 결과 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 테스트 장치는 프로브의 위치를 다시 정렬한 후 프로브를 반도체 장치(10)의 패드에 재접촉할 수 있다. 이후, S11 단계 및 S12 단계를 포함하는 프로브 정렬 상태 검사 과정을 다시 거쳐서 프로브가 제대로 정렬되었는지 판단할 수 있다.If the power supply voltage VDD is detected at the
S12 단계의 판단 결과 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 검출되지 않으면, 테스트 장치는 프로브가 제대로 정렬된 것으로 판단하고 반도체 장치(10)의 테스트를 진행할 수 있다(S14). 반도체 장치(10)의 테스트를 진행하는 동안, 제1 패드(100)에 연결된 스위칭 회로(500)에서 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온되어 센싱 영역(120)과 컨택 영역(110)이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)의 전체 영역이 제2 및 제3 패드(200, 300) 등과 마찬가지로 노멀 패드로서의 기능을 제공할 수 있다.
If the power supply voltage VDD is not detected at the
도 8 내지 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 장치에서, 프로브의 정렬 상태를 확인하기 위해 제공되는 회로의 동작을 나타낸 도이다.8 to 10 are diagrams illustrating the operation of a circuit provided to check the alignment state of a probe in a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
우선 도 8을 참조하면, 제1 패드(100)에는 제1 프로브(P1)가, 제2 패드(200)에는 제2 프로브(P2)가 접촉할 수 있다. 제1 패드(100)의 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)은 스위칭 회로(500)에 연결될 수 있으며, 스위칭 회로(500)는 제1 회로(510) 및 제2 회로(520)에 연결될 수 있다. 한편 제2 패드(200)는 제2 회로(520) 및 제3 회로(530)에 연결될 수 있다. 제1 회로(510)는 프로브 정렬 상태를 검사할 때 동작하는 센싱 회로일 수 있으며, 제2 및 제3 회로(520, 530)는 제1 및 제2 패드(100, 200) 각각을 통해 전달되는 전기 신호를 반도체 장치(10)의 내부 회로 및 소자에 전달하기 위한 회로일 수 있다.First, referring to FIG. 8 , the first probe (P1) may contact the
제1 및 제2 패드(100, 200) 각각에 제1 및 제2 프로브(P1, P2)가 접촉하면, 스위칭 회로(500)는 제1 및 제2 스위치(SW1, SW2)를 턴-온하고 제3 및 제4 스위치(SW3, SW4)를 턴-오프시킬 수 있다. 따라서, 제1 패드(100)에 접촉한 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호는 제2 회로(520)가 아닌 제1 회로(510)로만 전달될 수 있다. 이때, 센싱 영역(120)에 제1 프로브(P1)가 접촉한 경우에만 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호가 제1 회로(510)로 전달될 수 있다. 즉, 컨택 영역(110)에 제1 프로브(P1)가 접촉한 경우, 제1 프로브(P1)로부터 공급되는 전기 신호는 어디로도 전달되지 않는다.When the first and second probes (P1, P2) contact the first and second pads (100, 200), respectively, the switching circuit 500 turns on the first and second switches (SW1, SW2) The third and fourth switches (SW3 and SW4) can be turned off. Accordingly, the electrical signal supplied from the first probe P1 in contact with the
반도체 장치(10)에 프로브(P1, P2)를 접촉한 테스트 장치는, 제1 패드(100)에 접촉한 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)를 공급할 수 있다. 제1 패드(100)의 센싱 영역(120)에 제1 프로브(P1)가 접촉하면, 접지 전압(VSS)은 제1 회로(510)로 전달되며 출력 회로(515)에 의해 제2 패드(200)에서 전원 전압(VDD)이 출력될 수 있다. 즉, 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)을 공급하고 이때 제2 프로브(P2)에서 전원 전압(VDD)이 검출되면, 테스트 장치는 제1 프로브(P1) 센싱 영역(120)에 접촉한 것으로, 즉 프로브(P1, P2)들이 제대로 정렬되지 않은 것으로 판단할 수 있다.
The test device with the probes P1 and P2 in contact with the
도 8에 도시한 실시예와 달리, 제1 프로브(P1)가 제1 패드(100)의 컨택 영역(110)에 접촉하면, 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)을 공급하여도 제2 프로브(P2)로부터 전원 전압(VDD)이 검출되지 않을 수 있다. 도 9를 참조하면, 컨택 영역(110)에 접촉한 제1 프로브(P1)를 통해 접지 전압(VSS)이 공급되는 경우, 컨택 영역(110)은 제1 회로(510)와 연결되지 않으므로 접지 전압(VSS)이 제1 회로(510)에 전달될 수 없다. 따라서, 제2 패드(200)에 접촉한 제2 프로브(P2)로부터 전원 전압(VDD)이 검출되지 않으며, 테스트 장치는 프로브(P1, P2)가 제대로 정렬된 것으로 판단할 수 있다.
Unlike the embodiment shown in FIG. 8, when the first probe (P1) contacts the
프로브(P1, P2)가 제대로 정렬된 것으로 판단되면, 스위칭 회로(500)는 제2 스위치(SW2)를 제외한 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)를 턴-온시킬 수 있ㄷ다. 도 10을 참조하면, 제1, 제3 및 제4 스위치(SW1, SW3, SW4)가 턴-온되어 컨택 영역(110) 및 센싱 영역(120)이 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120)이 모두 제2 회로(520)에 연결될 수 있으며, 제1 회로(510)와는 전기적으로 분리될 수 있다. If it is determined that the probes (P1, P2) are properly aligned, the switching circuit 500 can turn on the first, third, and fourth switches (SW1, SW3, and SW4) except the second switch (SW2). There is. Referring to FIG. 10, the first, third, and fourth switches SW1, SW3, and SW4 are turned on so that the
따라서 제1 프로브(P1)를 통해 공급되는 전기 신호는, 제1 프로브(P1)가 컨택 영역(110)과 센싱 영역(120) 중 어디에 접촉한 경우라 해도 제2 회로(520)로만 전달될 수 있다. 제2 회로(520)는 제1 패드(100)로 전달되는 전기 신호를 반도체 장치(10) 내부의 소자 등으로 전달하기 위한 회로일 수 있다. 제1 프로브(P1)를 통해 공급되는 전기 신호가 제1 패드(100) 및 제2 회로(520)를 통해 반도체 장치(10) 내부의 소자로 전달되므로, 제1 패드(100)는 다른 패드들과 마찬가지로 노멀 패드로 제공될 수 있다. 즉, 제1 패드(100) 하나에서 프로브 정렬 상태 검사를 위한 센서 패드 및 일반적인 신호 공급을 위한 노멀 패드의 기능을 함께 구현할 수 있다.
Therefore, the electrical signal supplied through the first probe (P1) can only be transmitted to the
도 11 및 도 12는 본 발명의 실시예에 따른 메모리 장치를 포함하는 전자 기기를 나타낸 블록도이다.11 and 12 are block diagrams showing an electronic device including a memory device according to an embodiment of the present invention.
도 11를 참조하면, 일 실시 형태에 따른 저장 장치(1000)는 호스트(HOST)와 통신하는 컨트롤러(1010) 및 데이터를 저장하는 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)를 포함할 수 있다. 각 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)는, 앞서 설명한 다양한 실시예에 따른 메모리 장치를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 11, the
컨트롤러(1010)와 통신하는 호스트(HOST)는 저장 장치(1000)가 장착되는 다양한 전자 기기일 수 있으며, 예를 들어 스마트폰, 디지털 카메라, 데스크 톱, 랩톱, 미디어 플레이어 등일 수 있다. 컨트롤러(1010)는 호스트(HOST)에서 전달되는 데이터 쓰기 또는 읽기 요청을 수신하여 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)에 데이터를 저장하거나, 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)로부터 데이터를 인출하기 위한 명령(CMD)을 생성할 수 있다.The host (HOST) that communicates with the
도 11에 도시한 바와 같이, 저장 장치(1000) 내에 하나 이상의 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)가 컨트롤러(1010)에 병렬로 연결될 수 있다. 복수의 메모리(1020-1, 1020-2, 1020-3)를 컨트롤러(1010)에 병렬로 연결함으로써, SSD(Solid State Drive)와 같이 큰 용량을 갖는 저장 장치(1000)를 구현할 수 있다.
As shown in FIG. 11, one or more memories 1020-1, 1020-2, and 1020-3 within the
다음으로 도 12를 참조하면, 일 실시 형태에 따른 전자 기기(2000)는 통신부(2010), 입력부(2020), 출력부(2030), 메모리(2040) 및 프로세서(2050)를 포함할 수 있다. Next, referring to FIG. 12, the
통신부(2010)는 유/무선 통신 모듈을 포함할 수 있으며, 무선 인터넷 모듈, 근거리 통신 모듈, GPS 모듈, 이동통신 모듈 등을 포함할 수 있다. 통신부(2010)에 포함되는 유/무선 통신 모듈은 다양한 통신 표준 규격에 의해 외부 통신망과 연결되어 데이터를 송수신할 수 있다. The
입력부(2020)는 사용자가 전자 기기(2000)의 동작을 제어하기 위해 제공되는 모듈로서, 기계식 스위치, 터치스크린, 음성 인식 모듈 등을 포함할 수 있다. 또한, 입력부(2020)는 트랙 볼 또는 레이저 포인터 방식 등으로 동작하는 마우스, 또는 핑거 마우스 장치를 포함할 수도 있으며, 그 외에 사용자가 데이터를 입력할 수 있는 다양한 센서 모듈을 더 포함할 수도 있다.The
출력부(2030)는 전자 기기(2000)에서 처리되는 정보를 음성 또는 영상의 형태로 출력하며, 메모리(2040)는 프로세서(2050)의 처리 및 제어를 위한 프로그램이나, 또는 데이터 등을 저장할 수 있다. 메모리(2040)는 다양한 실시예에 따른 메모리 장치를 하나 이상 포함할 수 있으며, 프로세서(2050)는 필요한 동작에 따라 메모리(2040)에 명령어를 전달하여 데이터를 저장 또는 인출할 수 있다.The
메모리(2040)는 전자 기기(2000)에 내장되거나 또는 별도의 인터페이스를 통해 프로세서(2050)와 통신할 수 있다. 별도의 인터페이스를 통해 프로세서(2050)와 통신하는 경우, 프로세서(2050)는 SD, SDHC, SDXC, MICRO SD, USB 등과 같은 다양한 인터페이스 규격을 통해 메모리(2040)에 데이터를 저장하거나 또는 인출할 수 있다.The
프로세서(2050)는 전자 기기(2000)에 포함되는 각부의 동작을 제어할 수 있다. 프로세서(2050)는 음성 통화, 화상 통화, 데이터 통신 등과 관련된 제어 및 처리를 수행하거나, 멀티미디어 재생 및 관리를 위한 제어 및 처리를 수행할 수도 있다. 또한, 프로세서(2050)는 입력부(2020)를 통해 사용자로부터 전달되는 입력을 처리하고 그 결과를 출력부(2030)를 통해 출력할 수 있다. 또한, 프로세서(2050)는 앞서 설명한 바와 같이 전자 기기(2000)의 동작을 제어하는데 있어서 필요한 데이터를 메모리(2040)에 저장하거나 메모리(2040)로부터 인출할 수 있다.
The
본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.
The present invention is not limited by the above-described embodiments and the attached drawings, but is intended to be limited by the appended claims. Accordingly, various forms of substitution, modification, and change may be made by those skilled in the art without departing from the technical spirit of the present invention as set forth in the claims, and this also falls within the scope of the present invention. something to do.
10: 메모리 장치
100, 200, 300: 패드
110: 컨택 영역
120: 센싱 영역10: memory device
100, 200, 300: Pad
110: contact area
120: Sensing area
Claims (20)
상기 기판 상에 형성되는 복수의 반도체 소자;
상기 복수의 반도체 소자 중 적어도 하나와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인; 및
상기 복수의 메탈 라인 상에 배치되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 오픈 영역을 갖는 보호층;
상기 복수의 패드 중 제1 패드와 연결되는 스위칭 회로; 및
상기 스위칭 회로에 연결되는 제1 및 제2 회로를 포함하며,
상기 제1 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나로부터 연장되는 제1 영역과, 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 분리되는 제2 영역을 가지며,
상기 제1 회로의 출력단은 상기 복수의 패드 중, 상기 제1 패드와 다른 제2 패드에 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
Board;
a plurality of semiconductor devices formed on the substrate;
a plurality of metal lines electrically connected to at least one of the plurality of semiconductor devices; and
a protective layer disposed on the plurality of metal lines and having an open area exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads;
a switching circuit connected to a first pad among the plurality of pads; and
It includes first and second circuits connected to the switching circuit,
The first pad has a first area extending from at least one of the plurality of metal lines, and a second area disposed around the first area and separated from the first area,
The semiconductor device is characterized in that the output terminal of the first circuit is connected to a second pad among the plurality of pads, which is different from the first pad.
상기 제1 회로는, 상기 제1 및 제2 패드 각각에 접촉하는 프로브의 정렬 상태를 확인할 수 있는 확인 전압을 상기 제2 패드로 출력하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to paragraph 1,
The semiconductor device is characterized in that the first circuit outputs a confirmation voltage that can check the alignment state of the probe contacting each of the first and second pads to the second pad.
상기 스위칭 회로는, 상기 제1 패드에 프로브가 접촉하면, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제1 회로에 전달하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to paragraph 1,
The switching circuit is a semiconductor device characterized in that when a probe touches the first pad, the voltage supplied to the first pad is transmitted to the first circuit.
상기 스위칭 회로는, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제1 회로에 전달하였을 때 상기 제2 패드로부터 소정의 기준 전압이 검출되지 않으면, 상기 제1 패드에 공급되는 전압을 상기 제2 회로에 전달하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 14,
The switching circuit is configured to transfer the voltage supplied to the first pad to the second circuit if a predetermined reference voltage is not detected from the second pad when the voltage supplied to the first pad is transmitted to the first circuit. A semiconductor device characterized in that it transmits
상기 기판의 상면에 수직하는 방향으로 연장되는 채널 영역과, 상기 채널 영역에 인접하도록 상기 기판 상에 적층되는 복수의 게이트 전극층을 갖는 복수의 메모리 셀 소자;
상기 복수의 메모리 셀 소자의 주변에 배치되는 복수의 회로 소자;
상기 복수의 메모리 셀 소자 및 상기 복수의 회로 소자 중 적어도 일부와 전기적으로 연결되는 복수의 메탈 라인; 및
상기 복수의 메탈 라인 상에 마련되며, 상기 복수의 메탈 라인 중 일부를 노출시켜 복수의 패드를 제공하는 보호층; 을 포함하며,
상기 복수의 패드는, 상기 복수의 메탈 라인 중 적어도 하나와 연결되는 제1 영역 및 상기 제1 영역의 주변에 배치되며 상기 제1 영역과 전기적으로 분리되는 제2 영역을 갖는 제1 패드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
Board;
a plurality of memory cell elements having a channel region extending in a direction perpendicular to the upper surface of the substrate and a plurality of gate electrode layers stacked on the substrate adjacent to the channel region;
a plurality of circuit elements disposed around the plurality of memory cell elements;
a plurality of metal lines electrically connected to at least some of the plurality of memory cell elements and the plurality of circuit elements; and
a protective layer provided on the plurality of metal lines and exposing a portion of the plurality of metal lines to provide a plurality of pads; Includes,
The plurality of pads include a first pad having a first area connected to at least one of the plurality of metal lines and a second area disposed around the first area and electrically separated from the first area. A semiconductor device characterized in that.
상기 복수의 패드는 상기 제1 패드와 다른 제2 패드를 포함하며, 상기 제2 패드는 상기 제1 패드와 다른 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 16,
The plurality of pads include a second pad different from the first pad, and the second pad has a shape different from the first pad.
상기 복수의 메탈 라인은 제1 메탈 라인 및 상기 제1 메탈 라인의 상부에 배치되는 제2 메탈 라인을 포함하며,
상기 복수의 패드는 상기 제2 메탈 라인 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 16,
The plurality of metal lines include a first metal line and a second metal line disposed above the first metal line,
A semiconductor device, wherein the plurality of pads are disposed between the second metal lines.
상기 제1 영역은 상기 제2 메탈 라인과 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
According to clause 18,
The first region is electrically connected to the second metal line.
상기 복수의 메모리 셀 소자를 구동하는 복수의 회로 소자를 갖는 주변 회로 영역; 및
상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역에 전기 신호를 공급하며, 서로 다른 형상을 갖는 제1 및 제2 패드를 갖는 복수의 패드; 를 포함하며,
상기 제1 패드는 상기 셀 영역 및 상기 주변 회로 영역 중 적어도 하나에 전기 신호를 공급하기 위한 노멀 패드로 제공되는 제1 영역과, 상기 복수의 패드에 연결되는 프로브의 정렬 상태를 검출하기 위한 센서 패드로 제공되는 제2 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
a cell region having a plurality of memory cell elements;
a peripheral circuit area having a plurality of circuit elements that drive the plurality of memory cell elements; and
a plurality of pads that supply electrical signals to the cell region and the peripheral circuit region and have first and second pads having different shapes; Includes,
The first pad includes a first area provided as a normal pad for supplying an electrical signal to at least one of the cell area and the peripheral circuit area, and a sensor pad for detecting the alignment state of the probes connected to the plurality of pads. A semiconductor device characterized by having a second region provided as.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/974,275 US9570446B1 (en) | 2015-10-08 | 2015-12-18 | Semiconductor device |
CN201610282522.4A CN106571353B (en) | 2015-10-08 | 2016-04-29 | Semiconductor device and pad arrangement |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201562238873P | 2015-10-08 | 2015-10-08 | |
US62/238,873 | 2015-10-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20170042450A KR20170042450A (en) | 2017-04-19 |
KR102577263B1 true KR102577263B1 (en) | 2023-09-12 |
Family
ID=58705994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150161616A KR102577263B1 (en) | 2015-10-08 | 2015-11-18 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102577263B1 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20230052513A (en) | 2021-10-13 | 2023-04-20 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Memory device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030184333A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Detlef Nagel | Electrical component with a contact and method for forming a contact on a semiconductor material |
US20120068725A1 (en) * | 2010-06-10 | 2012-03-22 | Stmicroelectronics S.R.L. | Sensing structure of alignment of a probe for testing integrated circuits |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160076219A (en) * | 2014-12-22 | 2016-06-30 | 에스케이하이닉스 주식회사 | Apparatus for checking alignment and Semiconductor Integrated circuit Device including the same |
-
2015
- 2015-11-18 KR KR1020150161616A patent/KR102577263B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030184333A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Detlef Nagel | Electrical component with a contact and method for forming a contact on a semiconductor material |
US20120068725A1 (en) * | 2010-06-10 | 2012-03-22 | Stmicroelectronics S.R.L. | Sensing structure of alignment of a probe for testing integrated circuits |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170042450A (en) | 2017-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9570446B1 (en) | Semiconductor device | |
JP5816347B2 (en) | Stacked device remapping and repair | |
US9934825B2 (en) | Semiconductor device and electronic device | |
US10204661B2 (en) | Semiconductor device | |
CN108206033B (en) | Memory device and method for setting conductive line thereof | |
US10726924B2 (en) | Semiconductor memory device | |
TW201732800A (en) | Redundant array of independent NAND for a three-dimensional memory array | |
TW201503289A (en) | Interconnections for 3D memory | |
US10296405B2 (en) | Nonvolatile memory system and error determination method thereof | |
US20140328104A1 (en) | Semiconductor device | |
US11080186B2 (en) | Storage device and storage system | |
US20190295602A1 (en) | Semiconductor memory device | |
US20170317160A1 (en) | Semiconductor integrated circuit device having with a reservoir capacitor | |
KR102577263B1 (en) | Semiconductor device | |
CN113257832A (en) | Semiconductor memory device | |
US11145363B2 (en) | Memory device including discharge circuit | |
US11832382B2 (en) | Printed circuit board and a storage system including the same | |
US11956890B2 (en) | Circuit board and semiconductor module | |
US8885383B1 (en) | Flash memory and layout method thereof | |
US10032854B2 (en) | Semiconductor integrated circuit device with a capacitor having high capacitance | |
EP3965103A1 (en) | Non-volatile memory package and storage device comprising the same | |
US12020765B2 (en) | Non-volatile memory package and storage device comprising the same | |
US11683931B2 (en) | Semiconductor memory device and method of manufacturing the same | |
EP3979250A1 (en) | 3d nonvolatile memory device device including channel short circuit detection | |
US11527575B2 (en) | Memory device including multiple decks |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |