KR102572053B1 - Collecting device capable of automatically discharging foreign substances - Google Patents

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KR102572053B1
KR102572053B1 KR1020230063215A KR20230063215A KR102572053B1 KR 102572053 B1 KR102572053 B1 KR 102572053B1 KR 1020230063215 A KR1020230063215 A KR 1020230063215A KR 20230063215 A KR20230063215 A KR 20230063215A KR 102572053 B1 KR102572053 B1 KR 102572053B1
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조민철
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조민철
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Abstract

본 발명은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비의 프라즈마 공정처리 과정에서 발생되는 찌꺼기를 포집하여 제거할 수 있도록 구현한 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치에 관한 것으로, CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 전달받아 하강 이동시켜 주는 스크러버 몸체; 상기 스크러버 몸체의 내측을 따라 교차하면서 다수 개가 설치되며, 상기 스크러버 몸체의 내부 공간을 하강하는 가스 중에 포함되어 있는 이물질을 포집하여 제거하는 포집부; 및 상기 포집부에 포집되어 있는 이물질을 씻어서 상기 스크러버 몸체 외부로 배출시켜 주기 위한 세척수를 상기 스크러버 몸체의 상측을 통해 상기 스크러버 몸체의 내부 공간으로 투입시켜 주는 세척수 공급부;를 포함한다.The present invention relates to a collection device capable of automatically discharging foreign substances implemented to collect and remove debris generated during the plasma process of CVD (Chemical Vapor Deposition) equipment, and foreign substances generated during the process of CVD equipment A scrubber body that receives and moves the gas containing the gas downwardly; A plurality of collecting units installed while crossing the inside of the scrubber body to collect and remove foreign substances contained in the gas descending in the internal space of the scrubber body; and a washing water supply unit for injecting washing water for washing foreign substances collected in the collecting unit and discharging them to the outside of the scrubber body into an internal space of the scrubber body through the upper side of the scrubber body.

Description

이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치{Collecting device capable of automatically discharging foreign substances}Collecting device capable of automatically discharging foreign substances}

본 발명은 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비의 프라즈마 공정처리 과정에서 발생되는 찌꺼기를 포집하여 제거할 수 있도록 구현한 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a collection device capable of automatically discharging foreign substances, and more particularly, to a collection device capable of automatically discharging foreign substances implemented to collect and remove debris generated during a plasma process of CVD (Chemical Vapor Deposition) equipment. It is about.

일반적으로, 집진기는 먼지가 많이 발생되는 작업장에 설치되어 실내에 공기중에 포함되어 부유하는 먼지를 포집하고 깨끗한 공기로 정화시켜 외부로 배출하여 먼지로 인한 대기오염을 방지하기 위한 공기 정화장치 중에 하나이다.In general, a dust collector is installed in a workplace where a lot of dust is generated, and is one of air purifiers for preventing air pollution caused by dust by collecting dust floating in the air indoors, purifying it into clean air, and discharging it to the outside.

이와 같은 집진기는 대체로 용량이 크고 수명이 오래가는 백필터를 사용하여 오염 공기를 여과시켜 먼지는 걸러내고 깨끗한 공기를 외부로 배출시키되, 상기 백필터를 거쳐 경유하는 공기의 여과방향과 반대방향인 하측방향으로 압축공기를 간헐적으로 또는 연속적으로 분사시켜 상기 백필터에 포집된 오염물을 탈진시킴으로서, 부직포 등으로 이루어진 백(Bag)의 막힘 현상을 방지함과 동시에 안전 운전이 되도록 한다.Such a dust collector generally filters polluted air using a bag filter having a large capacity and a long lifespan, filters out dust, and discharges clean air to the outside. By spraying compressed air intermittently or continuously in the direction to exhaust contaminants collected in the bag filter, clogging of a bag made of nonwoven fabric is prevented and safe operation is ensured.

한편, 전술한 배경 기술은 발명자가 본 발명의 도출을 위해 보유하고 있었거나, 본 발명의 도출 과정에서 습득한 기술 정보로서, 반드시 본 발명의 출원 전에 일반 공중에게 공개된 공지기술이라 할 수는 없다.On the other hand, the above-mentioned background art is technical information that the inventor possessed for derivation of the present invention or acquired in the process of derivation of the present invention, and cannot necessarily be said to be known art disclosed to the general public prior to filing the present invention. .

한국등록특허 제10-1128900호 (2012.06.27. 공고)Korean Patent Registration No. 10-1128900 (2012.06.27. Announcement)

본 발명의 일측면은 CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비의 프라즈마 공정처리 과정에서 발생되는 찌꺼기를 포집장치 투입하여 포집시키고, 이때 포집장치에 포집된 이물질에 유체를 흘려서 유체와 함께 외부로 방출시켜 별도의 제거 공정 없이 이물질을 포집 장치로부터 제거할 수 있도록 구현한 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치를 제공한다.One aspect of the present invention collects debris generated during the plasma process of CVD (Chemical Vapor Deposition) equipment by inserting it into a collecting device, and at this time, flowing a fluid into the foreign substances collected in the collecting device and releasing it to the outside together with the fluid to separate Provided is a collecting device capable of automatically discharging foreign substances implemented to remove foreign substances from the collecting device without a removal process.

본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem of the present invention is not limited to the technical problem mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치는, CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 전달받아 하강 이동시켜 주는 스크러버 몸체; 상기 스크러버 몸체의 내측을 따라 교차하면서 다수 개가 설치되며, 상기 스크러버 몸체의 내부 공간을 하강하는 가스 중에 포함되어 있는 이물질을 포집하여 제거하는 포집부; 및 상기 포집부에 포집되어 있는 이물질을 씻어서 상기 스크러버 몸체 외부로 배출시켜 주기 위한 세척수를 상기 스크러버 몸체의 상측을 통해 상기 스크러버 몸체의 내부 공간으로 투입시켜 주는 세척수 공급부;를 포함한다.A collection apparatus capable of automatically discharging foreign substances according to an embodiment of the present invention includes a scrubber body that receives and moves downwardly a gas containing foreign substances generated during a process of a CVD equipment; A plurality of collecting units installed while crossing the inside of the scrubber body to collect and remove foreign substances contained in the gas descending in the internal space of the scrubber body; and a washing water supply unit for injecting washing water for washing foreign substances collected in the collecting unit and discharging them to the outside of the scrubber body into an internal space of the scrubber body through the upper side of the scrubber body.

일 실시예에서, 상기 스크러버 몸체는, 밀폐된 내부 공간을 형성하는 원통 형상으로 형성되는 원통형 탱크; CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 투입시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 상측에 설치되는 가스 투입구; 이물질이 제거된 가스를 배출시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 하측에 설치되는 가스 배출구; 및 상기 포집부에 포집되어 있는 이물질을 씻은 세척수를 배출시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 하측에 설치되는 세척수 배출구;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the scrubber body includes a cylindrical tank formed in a cylindrical shape forming a sealed inner space; a gas inlet installed on the upper side of the cylindrical tank to inject gas containing foreign substances generated during the process of the CVD equipment; a gas outlet installed on the lower side of the cylindrical tank to discharge the gas from which foreign substances are removed; and a washing water outlet installed at a lower side of the cylindrical tank to discharge washing water washing the foreign matter collected in the collecting unit.

일 실시예에서, 본 발명의 다른 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치는, 원통형의 상기 세척수 배출구의 내측에 설치되어 상기 세척수 배출구를 통해 배출되는 세척수에 포함되어 있는 이물질을 필터링하는 적어도 하나 이상의 이물질 필터부;를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the collecting device capable of automatically discharging foreign substances according to another embodiment of the present invention includes at least one filtering foreign substances included in the washing water discharged through the washing water outlet, which is installed inside the cylindrical washing water outlet. The above foreign matter filter unit; may further include.

일 실시예에서, 상기 이물질 필터부는, 상기 세척수 배출구의 내주면을 따라 형성되는 링 안착턱; 상기 링 안착턱의 내경에 대응하는 외경을 형성하는 원형의 링 형태로 형성되어 상기 링 안착턱에 안착되는 회전링; 상기 회전링의 내측에 설치되어 상기 회전링의 내측을 통해 배출되는 세척수에 포함되어 있는 이물질을 제거하는 필터; 및 상기 회전링의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 링 안착턱의 하측에 안착되며, 상기 링 안착턱에서 상기 회전링을 지지하는 동시에 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 주는 링 구동부;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the foreign matter filter unit may include a ring seat formed along an inner circumferential surface of the washing water outlet; a rotating ring formed in a circular ring shape having an outer diameter corresponding to an inner diameter of the ring seating jaw and seated on the ring seating jaw; a filter installed inside the rotating ring to remove foreign substances contained in the washing water discharged through the inside of the rotating ring; And a plurality of pieces spaced apart at regular intervals along the lower side of the rotating ring are installed and seated on the lower side of the ring seating jaw, and at the same time supporting the rotating ring on the ring seating jaw, a ring driving unit for driving rotation in a forward or reverse direction; can include

일 실시예에서, 상기 링 구동부는, 상기 회전링의 하측으로 개구부를 형성하면서 함몰 형성되는 블록 안착홈; 상기 블록 안착홈의 하측에 안착되는 완충 블록; 상기 블록 안착홈의 내측에 설치되어 상기 블록 안착홈에 안착되는 상기 완충 블록의 상측을 지지하는 동시에 상기 완충 블록으로부터 전달되는 진동 또는 충격을 완충시켜 주는 완충 스프링; 상기 완충 블록의 하측으로 개구부를 형성하면서 상기 완충 블록의 하부에 함몰 형성되는 구체 안착홈; 상기 구체 안착홈의 상단으로부터 상방으로 상기 완충 블록의 내측을 따라 연장 형성되는 구동부 설치홈; 하측이 상기 완충 블록의 하측으로 노출되어 상기 링 안착턱의 하측에 안착될 수 있도록 상기 구체 안착홈에 회전 가능하도록 연결 설치되는 구동 구체; 상기 구체 안착홈의 내주면의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 구동 구체의 하측을 지지하는 제1 지지볼; 상기 구체 안착홈의 내주면의 상측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 구동 구체의 상측을 지지하는 제2 지지볼; 및 상기 구동부 설치홈에 설치되어 상기 구동 구체의 상측을 지지하는 동시에 상기 구동 구체를 회전 구동시켜 주는 구체 구동부;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the ring drive unit, while forming an opening to the lower side of the rotating ring block seating groove formed recessed; A buffer block seated on the lower side of the block seating groove; a buffer spring installed inside the block seating groove to support the upper side of the buffer block seated in the block seating groove and at the same time to buffer vibration or shock transmitted from the buffer block; a spherical receiving groove recessed in the lower portion of the buffer block while forming an opening to the lower side of the buffer block; a drive unit installation groove extending along the inner side of the buffer block upwardly from the upper end of the sphere seating groove; a driving sphere rotatably connected to the sphere seating groove so that the lower side is exposed to the lower side of the buffer block and seated on the lower side of the ring seating jaw; First support balls spaced apart at regular intervals along the lower side of the inner circumferential surface of the sphere receiving groove and installed in plurality to support the lower side of the driving sphere; second support balls spaced apart at regular intervals along the upper side of the inner circumferential surface of the sphere seating groove and installed in plurality to support the upper side of the driving sphere; and a sphere driving unit installed in the driving unit installation groove to support the upper side of the driving sphere and at the same time rotationally drive the driving sphere.

일 실시예에서, 상기 구체 구동부는, 상기 구동부 설치홈의 상측에 설치되는 회전 구동 모터; 상기 회전 구동 모터의 구동축에 설치되는 지지 프레임; 상기 지지 프레임의 일측에 설치되는 지1 지지 롤러; 상기 지1 지지 롤러와 대향하면서 상기 지지 프레임의 타측에 설치되는 제2 지지 롤러; 및 일측 및 타측이 상기 지1 지지 롤러와 상기 제2 지지 롤러에 맞물려 연결 설치되며, 상기 지1 지지 롤러와 상기 제2 지지 롤러에 의해 정방향 또는 역방향으로 회전 구동되어 하측 외향면에 밀착 배치되는 상기 구동 구체를 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 주는 구동 밸트;를 포함할 수 있다.In one embodiment, the spherical driving unit may include a rotation drive motor installed on the upper side of the driving unit installation groove; a support frame installed on the driving shaft of the rotary driving motor; Ji 1 support roller installed on one side of the support frame; a second support roller installed on the other side of the support frame while facing the first support roller; And one side and the other side are engaged and connected to the first support roller and the second support roller, and are rotationally driven in a forward or reverse direction by the first support roller and the second support roller, and are disposed in close contact with the lower outward surface. It may include; a driving belt that rotates the driving sphere in a forward or reverse direction.

상술한 본 발명의 일측면에 따르면, CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비의 프라즈마 공정처리 과정에서 발생되는 찌꺼기를 포집장치 투입하여 포집시키고, 이때 포집장치에 포집된 이물질에 유체를 흘려서 유체와 함께 외부로 방출시켜 별도의 제거 공정 없이 이물질을 포집 장치로부터 제거할 수 있다.According to one aspect of the present invention described above, the debris generated in the process of plasma process of CVD (Chemical Vapor Deposition) equipment is put into the collecting device and collected, and at this time, the fluid is flowed to the foreign substances collected in the collecting device to the outside together with the fluid It is possible to remove foreign substances from the collection device without a separate removal process by releasing them.

본 발명의 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 이하에서 설명할 내용으로부터 통상의 기술자에게 자명한 범위 내에서 다양한 효과들이 포함될 수 있다.Effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and various effects may be included within a range apparent to those skilled in the art from the contents to be described below.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.
도 2는 도 1의 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치에 의한 이물질 배출을 설명하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.
도 4는 도 3의 이물질 필터부를 보여주는 도면이다.
도 5는 도 4의 링 구동부를 보여주는 도면이다.
도 6은 도 5의 구체 구동부를 보여주는 도면이다.
1 is a diagram showing a schematic configuration of a collecting device capable of automatically discharging foreign substances according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view illustrating the discharge of foreign substances by the collecting device capable of automatically discharging foreign substances in FIG. 1 .
3 is a diagram showing a schematic configuration of a collecting device capable of automatically discharging foreign substances according to another embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a view showing the foreign matter filter unit of FIG. 3 .
FIG. 5 is a view showing the ring driving unit of FIG. 4 .
FIG. 6 is a view showing the spherical driving unit of FIG. 5 .

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예와 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable one skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in another embodiment without departing from the spirit and scope of the invention in connection with one embodiment. Additionally, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all equivalents as claimed by those claims. Like reference numbers in the drawings indicate the same or similar function throughout the various aspects.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.1 is a diagram showing a schematic configuration of a collecting device capable of automatically discharging foreign substances according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치(10)는, 스크러버 몸체(100), 포집부(200) 및 세척수 공급부(300)를 포함한다.Referring to FIG. 1 , a collecting device 10 capable of automatically discharging foreign substances according to an embodiment of the present invention includes a scrubber body 100, a collecting unit 200, and a washing water supply unit 300.

스크러버 몸체(100)는, CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 전달받아 하강 이동시켜 주며, 포집부(200) 및 세척수 공급부(300) 등의 구성들이 설치된다.The scrubber body 100 receives the gas containing foreign substances generated during the process of the CVD equipment and moves it downward, and components such as a collection unit 200 and a washing water supply unit 300 are installed.

일 실시예에서, 스크러버 몸체(100)는, 원통형 탱크(110), 가스 투입구(120), 가스 배출구(130) 및 세척수 배출구(140)를 포함할 수 있다.In one embodiment, the scrubber body 100 may include a cylindrical tank 110, a gas inlet 120, a gas outlet 130, and a washing water outlet 140.

원통형 탱크(110)는, 밀폐된 내부 공간을 형성하는 원통 형상으로 형성된다.The cylindrical tank 110 is formed in a cylindrical shape forming a sealed inner space.

가스 투입구(120)는, CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 투입시킬 수 있도록 원통형 탱크(110)의 상측에 설치된다.The gas inlet 120 is installed on the upper side of the cylindrical tank 110 to inject gas containing foreign substances generated during the process of the CVD equipment.

가스 배출구(130)는, 이물질이 제거된 가스를 음압 펌프를 이용하여 원통형 탱크(110)로부터 배출시킬 수 있도록 원통형 탱크(110)의 하측에 설치된다.The gas outlet 130 is installed on the lower side of the cylindrical tank 110 so that the gas from which foreign substances are removed can be discharged from the cylindrical tank 110 using a negative pressure pump.

세척수 배출구(140)는, 포집 공정이 마무리되면, 포집부(200)에 포집되어 있는 이물질을 씻은 세척수(W)를 배출시킬 수 있도록 원통형 탱크(110)의 하측에 설치된다.The washing water outlet 140 is installed on the lower side of the cylindrical tank 110 to discharge the washing water W washing the foreign substances collected in the collecting unit 200 when the collecting process is finished.

포집부(200)는, 스크러버 몸체(100)의 내측을 따라 교차하면서 다수 개가 설치되며, 스크러버 몸체(100)의 내부 공간을 하강하는 가스 중에 포함되어 있는 이물질을 포집하여 제거한다.A plurality of collecting units 200 are installed while intersecting along the inside of the scrubber body 100, and collect and remove foreign substances contained in gas descending in the internal space of the scrubber body 100.

세척수 공급부(300)는, 포집 공정이 마무리되면, 포집부(200)에 포집되어 있는 이물질을 씻어서 스크러버 몸체(100) 외부로 배출시켜 주기 위한 세척수(W)를 스크러버 몸체(100)의 상측을 통해 스크러버 몸체(100)의 내부 공간으로 투입시켜 준다.When the collection process is completed, the washing water supply unit 300, through the upper side of the scrubber body 100, the washing water (W) for washing foreign substances collected in the collection unit 200 and discharging them to the outside of the scrubber body 100. It is injected into the inner space of the scrubber body 100.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 일 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치(10)는, CVD(Chemical Vapor Deposition) 장비의 프라즈마 공정처리 과정에서 발생되는 찌꺼기를 포집장치 투입하여 포집시키고, 이때 포집장치에 포집된 이물질에 유체를 흘려서 유체와 함께 외부로 방출시켜 별도의 제거 공정 없이 이물질을 포집 장치로부터 제거할 수 있다.The collecting device 10 capable of automatically discharging foreign substances according to an embodiment of the present invention having the configuration as described above, collects the debris generated during the plasma process of CVD (Chemical Vapor Deposition) equipment by introducing the collecting device, , At this time, the foreign matter collected in the collecting device is discharged to the outside together with the fluid by flowing the fluid, so that the foreign matter can be removed from the collecting device without a separate removal process.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치의 개략적인 구성이 도시된 도면이다.3 is a diagram showing a schematic configuration of a collecting device capable of automatically discharging foreign substances according to another embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치(20)는, 스크러버 몸체(100), 포집부(200), 세척수 공급부(300) 및 적어도 하나 이상의 이물질 필터부(400)를 포함한다.Referring to FIG. 3, the collecting device 20 capable of automatically discharging foreign substances according to another embodiment of the present invention includes a scrubber body 100, a collecting unit 200, a washing water supply unit 300, and at least one foreign material filter unit. (400).

여기서, 스크러버 몸체(100), 포집부(200) 및 세척수 공급부(300)는, 도 1의 구성요소와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다.Here, since the scrubber body 100, the collecting unit 200, and the washing water supply unit 300 are the same as the components of FIG. 1, their descriptions will be omitted.

적어도 하나 이상의 이물질 필터부(400)는, 원통형의 세척수 배출구(140)의 내측에 설치되어 세척수 배출구(140)를 통해 배출되는 세척수(W)에 포함되어 있는 이물질을 필터링한다.At least one foreign substance filter unit 400 is installed inside the cylindrical washing water outlet 140 to filter foreign substances included in the washing water W discharged through the washing water outlet 140 .

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명의 다른 실시예에 따른 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치(20)는, 세척수(W)에 포함되어 있는 이물질을 세척수 배출구(140)를 통해 외부로 배출시켜 주기 전에 1차 필터링 후 배출시켜 줌으로써, 세척수(W)의 필터링 등의 후처리 공정의 간소화 및 비용 절감의 효과를 구현할 수 있다.The collecting device 20 capable of automatically discharging foreign substances according to another embodiment of the present invention having the configuration described above, prior to discharging the foreign substances contained in the washing water W to the outside through the washing water outlet 140. By discharging after the first filtering, it is possible to realize the effect of simplifying the post-treatment process such as filtering the washing water (W) and reducing costs.

도 4는 도 3의 이물질 필터부를 보여주는 도면이다.FIG. 4 is a view showing the foreign matter filter unit of FIG. 3 .

도 4를 참조하면, 이물질 필터부(400)는, 링 안착턱(410), 회전링(420), 필터(430) 및 링 구동부(500)를 포함한다.Referring to FIG. 4 , the foreign matter filter unit 400 includes a ring seating jaw 410, a rotating ring 420, a filter 430, and a ring driving unit 500.

링 안착턱(410)은, 회전링(420)이 안착되어 회전될 수 있도록 세척수 배출구(140)의 내주면을 따라 형성된다.The ring seat 410 is formed along the inner circumferential surface of the washing water outlet 140 so that the rotary ring 420 can be seated and rotated.

회전링(420)은, 링 안착턱(410)의 내경에 대응하는 외경을 형성하는 원형의 링 형태로 형성되어 링 안착턱(410)에 안착되며, 필터(430) 및 링 구동부(500)가 설치된다.The rotating ring 420 is formed in a circular ring shape forming an outer diameter corresponding to the inner diameter of the ring seating jaw 410 and is seated on the ring seating jaw 410, and the filter 430 and the ring drive unit 500 are installed

필터(430)는, 회전링(420)의 내측에 설치되어 회전링(420)의 내측을 통해 배출되는 세척수(W)에 포함되어 있는 이물질을 제거한다.The filter 430 is installed inside the rotary ring 420 to remove foreign substances included in the washing water W discharged through the inside of the rotary ring 420 .

링 구동부(500)는, 회전링(420)의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 링 안착턱(410)의 하측에 안착되며, 링 안착턱(410)에서 회전링(420)을 지지하는 동시에 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 준다.The ring driving unit 500 is spaced apart at regular intervals along the lower side of the rotary ring 420, and a plurality of them are installed and seated on the lower side of the ring seating jaw 410, and the rotation ring 420 is installed on the ring seating jaw 410. It supports and rotates in the forward or reverse direction at the same time.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 이물질 필터부(400)는, 세척수(W)의 이동 통로인 세척수 배출구(140)에 설치되어 세척수 배출구(140)를 따라 배출되는 세척수(W)에 포함되어 있는 이물질을 회전 구동하면서 필터링함으로써, 필터(430)에 의한 보다 효과적인 이물질 제거가 이루어지도록 할 수 있다.The foreign matter filter unit 400 having the configuration described above is installed in the washing water outlet 140, which is a passage of the washing water W, and removes foreign substances contained in the washing water W discharged along the washing water outlet 140. By filtering while rotating, it is possible to achieve more effective foreign matter removal by the filter 430 .

도 5는 도 4의 링 구동부를 보여주는 도면이다.FIG. 5 is a view showing the ring driving unit of FIG. 4 .

도 5를 참조하면, 링 구동부(500)는, 완충 블록(510), 완충 스프링(520), 구체 안착홈(530), 구동부 설치홈(540), 구동 구체(550), 제1 지지볼(560), 제2 지지볼(570), 구체 구동부(580) 및 블록 안착홈(590)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the ring drive unit 500 includes a buffer block 510, a buffer spring 520, a sphere seating groove 530, a driving unit installation groove 540, a driving sphere 550, a first support ball ( 560), a second support ball 570, a spherical driving unit 580, and a block seating groove 590.

블록 안착홈(590)은, 완충 블록(510)이 완충 스프링(520)에 의해 지지되어 안착될 수 있도록 회전링(420)의 하측으로 개구부를 형성하면서 함몰 형성된다.The block seating groove 590 is recessed while forming an opening at the lower side of the rotary ring 420 so that the buffer block 510 can be supported and seated by the buffer spring 520 .

완충 블록(510)은, 완충 스프링(520)에 의해 상단이 지지되어 블록 안착홈(590)의 하측에 안착된다.The upper end of the buffer block 510 is supported by the buffer spring 520 and is seated on the lower side of the block seating groove 590 .

완충 스프링(520)은, 블록 안착홈(590)의 내측에 설치되어 블록 안착홈(590)에 안착되는 완충 블록(510)의 상측을 지지하는 동시에 완충 블록(510)으로부터 전달되는 진동 또는 충격을 완충시켜 준다.The buffer spring 520 is installed inside the block seating groove 590 to support the upper side of the buffer block 510 seated in the block seating groove 590 and at the same time to absorb vibration or shock transmitted from the buffer block 510. it fills up

구체 안착홈(530)은, 완충 블록(510)의 하측으로 개구부를 형성하면서 완충 블록(510)의 하부에 함몰 형성된다.The spherical seating groove 530 is recessed at the bottom of the buffer block 510 while forming an opening to the lower side of the buffer block 510 .

구동부 설치홈(540)은, 구체 안착홈(530)의 상단으로부터 상방으로 완충 블록(510)의 내측을 따라 연장 형성된다.The drive unit installation groove 540 extends along the inner side of the buffer block 510 upward from the upper end of the spherical seating groove 530 .

구동 구체(550)는, 하측이 완충 블록(510)의 하측으로 노출되어 링 안착턱(410)의 하측에 안착될 수 있도록 제1 지지볼(560)과 제2 지지볼(570)에 의해 지지되어 구체 안착홈(530)에 회전 가능하도록 연결 설치된다.The driving sphere 550 is supported by the first support ball 560 and the second support ball 570 so that the lower side is exposed to the lower side of the buffer block 510 and seated on the lower side of the ring seating jaw 410. It is connected and installed to be rotatably connected to the sphere seating groove 530.

제1 지지볼(560)은, 구체 안착홈(530)의 내주면의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 구동 구체(550)의 하측을 지지한다.A plurality of first support balls 560 are spaced apart at regular intervals along the lower side of the inner circumferential surface of the sphere seating groove 530 and are installed to support the lower side of the driving sphere 550 .

제2 지지볼(570)은, 구체 안착홈(530)의 내주면의 상측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 구동 구체(550)의 상측을 지지한다.A plurality of second support balls 570 are spaced apart at regular intervals along the upper side of the inner circumferential surface of the sphere receiving groove 530 and are installed to support the upper side of the driving sphere 550 .

구체 구동부(580)는, 구동부 설치홈(540)에 설치되어 구동 구체(550)의 상측을 지지하는 동시에 구동 구체(550)를 회전 구동시켜 준다.The sphere driving unit 580 is installed in the driving unit installation groove 540 to support the upper side of the driving sphere 550 and rotate the driving sphere 550 at the same time.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 링 구동부(500)는, 회전링(420)을 링 안착턱(410)에서 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 줌은 물론, 회전 과정에서 발생되는 진동 또는 충격 등을 효과적으로 완충시켜 줄 수 있다.The ring driving unit 500 having the configuration described above not only rotates and drives the rotary ring 420 in the forward or reverse direction on the ring seating jaw 410, but also effectively absorbs vibration or shock generated during the rotation process. can do it

도 6은 도 5의 구체 구동부를 보여주는 도면이다.FIG. 6 is a view showing the spherical driving unit of FIG. 5 .

도 6을 참조하면, 구체 구동부(580)는, 회전 구동 모터(581), 지지 프레임(582), 지1 지지 롤러(583), 제2 지지 롤러(584) 및 구동 밸트(585)를 포함한다.Referring to FIG. 6 , the spherical drive unit 580 includes a rotation drive motor 581, a support frame 582, a first support roller 583, a second support roller 584, and a driving belt 585. .

회전 구동 모터(581)는, 구동부 설치홈(540)의 상측에 설치되어 지지 프레임(582)을 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 준다.The rotation drive motor 581 is installed on the upper side of the drive unit installation groove 540 to rotate and drive the support frame 582 in a forward or reverse direction.

지지 프레임(582)은, 회전 구동 모터(581)의 구동축에 설치되며, ), 지1 지지 롤러(583) 및 제2 지지 롤러(584)가 설치된다.The support frame 582 is installed on the drive shaft of the rotational drive motor 581, and a 1 support roller 583 and a second support roller 584 are installed.

지1 지지 롤러(583)는, 지지 프레임(582)의 일측에 설치되어 구동 밸트(585)의 일측 내향면을 지지한다.The first support roller 583 is installed on one side of the support frame 582 and supports one side inward side of the drive belt 585 .

제2 지지 롤러(584)는, 지1 지지 롤러(583)와 대향하면서 지지 프레임(582)의 타측에 설치되어 구동 밸트(585)의 타측 내향면을 지지한다.The second support roller 584 is installed on the other side of the support frame 582 while facing the first support roller 583 to support the inward surface of the other side of the driving belt 585 .

구동 밸트(585)는, 일측 및 타측이 지1 지지 롤러(583)와 제2 지지 롤러(584)에 맞물려 연결 설치되며, 지1 지지 롤러(583)와 제2 지지 롤러(584)에 의해 정방향 또는 역방향으로 회전 구동되어 하측 외향면에 밀착 배치되는 구동 구체(550)를 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 준다.One side and the other side of the drive belt 585 are engaged with and connected to the first support roller 583 and the second support roller 584, and are installed in the forward direction by the first support roller 583 and the second support roller 584. Alternatively, it is rotationally driven in the reverse direction to rotate and drive the driving sphere 550 closely disposed on the lower outward surface in the forward or reverse direction.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 구체 구동부(580)는, 구동 구체(550)를 다양한 방향으로 회전 구동시켜 회전링(420)을 의 회전 방향을 용이하게 변경시켜 줄 수 있다.The spherical driving unit 580 having the configuration described above can rotate and drive the driving sphere 550 in various directions to easily change the direction of rotation of the rotating ring 420 .

상술된 실시예들은 예시를 위한 것이며, 상술된 실시예들이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술된 실시예들이 갖는 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 상술된 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above-described embodiments are for illustrative purposes, and those skilled in the art to which the above-described embodiments belong can easily transform into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the above-described embodiments. You will understand. Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 명세서를 통해 보호받고자 하는 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태를 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The scope to be protected through this specification is indicated by the following claims rather than the detailed description above, and should be construed to include all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts thereof. .

10, 20: 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치
100: 스크러버 몸체
200: 포집부
300: 세척수 공급부
400: 이물질 필터부
10, 20: Collecting device capable of automatically discharging foreign substances
100: scrubber body
200: collection unit
300: washing water supply unit
400: foreign matter filter unit

Claims (3)

CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 전달받아 하강 이동시켜 주는 스크러버 몸체;
상기 스크러버 몸체의 내측을 따라 교차하면서 다수 개가 설치되며, 상기 스크러버 몸체의 내부 공간을 하강하는 가스 중에 포함되어 있는 이물질을 포집하여 제거하는 포집부; 및
상기 포집부에 포집되어 있는 이물질을 씻어서 상기 스크러버 몸체 외부로 배출시켜 주기 위한 세척수를 상기 스크러버 몸체의 상측을 통해 상기 스크러버 몸체의 내부 공간으로 투입시켜 주는 세척수 공급부;를 포함하며,
상기 스크러버 몸체는,
밀폐된 내부 공간을 형성하는 원통 형상으로 형성되는 원통형 탱크;
CVD 장비의 공정 처리 과정에서 발생되는 이물질을 포함하는 가스를 투입시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 상측에 설치되는 가스 투입구;
이물질이 제거된 가스를 배출시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 하측에 설치되는 가스 배출구; 및
상기 포집부에 포집되어 있는 이물질을 씻은 세척수를 배출시킬 수 있도록 상기 원통형 탱크의 하측에 설치되는 세척수 배출구;를 포함하며,
원통형의 상기 세척수 배출구의 내측에 설치되어 상기 세척수 배출구를 통해 배출되는 세척수에 포함되어 있는 이물질을 필터링하는 적어도 하나 이상의 이물질 필터부;를 더 포함하며,
상기 이물질 필터부는,
상기 세척수 배출구의 내주면을 따라 형성되는 링 안착턱;
상기 링 안착턱의 내경에 대응하는 외경을 형성하는 원형의 링 형태로 형성되어 상기 링 안착턱에 안착되는 회전링;
상기 회전링의 내측에 설치되어 상기 회전링의 내측을 통해 배출되는 세척수에 포함되어 있는 이물질을 제거하는 필터; 및
상기 회전링의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 링 안착턱의 하측에 안착되며, 상기 링 안착턱에서 상기 회전링을 지지하는 동시에 정방향 또는 역방향으로 회전 구동시켜 주는 링 구동부;를 포함하며,
상기 링 구동부는,
상기 회전링의 하측으로 개구부를 형성하면서 함몰 형성되는 블록 안착홈;
상기 블록 안착홈의 하측에 안착되는 완충 블록;
상기 블록 안착홈의 내측에 설치되어 상기 블록 안착홈에 안착되는 상기 완충 블록의 상측을 지지하는 동시에 상기 완충 블록으로부터 전달되는 진동 또는 충격을 완충시켜 주는 완충 스프링;
상기 완충 블록의 하측으로 개구부를 형성하면서 상기 완충 블록의 하부에 함몰 형성되는 구체 안착홈;
상기 구체 안착홈의 상단으로부터 상방으로 상기 완충 블록의 내측을 따라 연장 형성되는 구동부 설치홈;
하측이 상기 완충 블록의 하측으로 노출되어 상기 링 안착턱의 하측에 안착될 수 있도록 상기 구체 안착홈에 회전 가능하도록 연결 설치되는 구동 구체;
상기 구체 안착홈의 내주면의 하측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 구동 구체의 하측을 지지하는 제1 지지볼;
상기 구체 안착홈의 내주면의 상측을 따라 일정한 간격으로 이격되어 다수 개가 설치되어 상기 구동 구체의 상측을 지지하는 제2 지지볼; 및
상기 구동부 설치홈에 설치되어 상기 구동 구체의 상측을 지지하는 동시에 상기 구동 구체를 회전 구동시켜 주는 구체 구동부;를 포함하는, 이물질 자동 배출이 가능한 포집 장치.
A scrubber body that receives and moves a gas containing foreign substances generated during a process of a CVD equipment and moves it downward;
A plurality of collecting units installed while crossing the inside of the scrubber body to collect and remove foreign substances contained in the gas descending in the internal space of the scrubber body; and
A washing water supply unit for injecting washing water for washing foreign substances collected in the collecting unit and discharging them to the outside of the scrubber body into the inner space of the scrubber body through the upper side of the scrubber body; includes,
The scrubber body,
A cylindrical tank formed in a cylindrical shape forming a sealed inner space;
a gas inlet installed on the upper side of the cylindrical tank to inject gas containing foreign substances generated during the process of the CVD equipment;
a gas outlet installed on the lower side of the cylindrical tank to discharge the gas from which foreign substances are removed; and
A washing water outlet installed at the lower side of the cylindrical tank to discharge the washing water washing the foreign substances collected in the collecting unit; includes,
It further includes; at least one foreign matter filter unit installed inside the cylindrical washing water outlet to filter foreign substances contained in the washing water discharged through the washing water outlet,
The foreign matter filter unit,
a ring seat formed along an inner circumferential surface of the washing water outlet;
a rotating ring formed in a circular ring shape having an outer diameter corresponding to an inner diameter of the ring seating jaw and seated on the ring seating jaw;
a filter installed inside the rotating ring to remove foreign substances contained in the washing water discharged through the inside of the rotating ring; and
A ring driving unit that is spaced apart at regular intervals along the lower side of the rotating ring and is seated on the lower side of the ring seating jaw, and at the same time supports the rotating ring at the ring seating jaw and rotates it in a forward or reverse direction. contains,
The ring driving part,
A block seating groove formed recessed while forming an opening to the lower side of the rotating ring;
A buffer block seated on the lower side of the block seating groove;
a buffer spring installed inside the block seating groove to support the upper side of the buffer block seated in the block seating groove and at the same time to buffer vibration or shock transmitted from the buffer block;
a spherical receiving groove recessed in the lower portion of the buffer block while forming an opening to the lower side of the buffer block;
a drive unit installation groove extending along the inner side of the buffer block upwardly from the upper end of the sphere seating groove;
a driving sphere rotatably connected to the sphere seating groove so that the lower side is exposed to the lower side of the buffer block and seated on the lower side of the ring seating jaw;
First support balls spaced apart at regular intervals along the lower side of the inner circumferential surface of the sphere receiving groove and installed in plurality to support the lower side of the driving sphere;
second support balls spaced apart at regular intervals along the upper side of the inner circumferential surface of the sphere seating groove and installed in plurality to support the upper side of the driving sphere; and
A collecting device capable of automatically discharging foreign substances including; a sphere driving unit installed in the driving unit installation groove to support the upper side of the driving sphere and rotationally drive the driving sphere.
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