KR102552038B1 - Method for manufacturing the decoration element - Google Patents

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    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates

Abstract

본 명세서는 장식부재의 제조방법에 관한 것이다.The present specification relates to a method for manufacturing a decorative member.

Description

장식 부재의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING THE DECORATION ELEMENT}Method for manufacturing decorative members {METHOD FOR MANUFACTURING THE DECORATION ELEMENT}

본 출원은 장식 부재의 제조방법에 관한 것이다.This application relates to a method for manufacturing a decorative member.

화장품 용기, 다양한 모바일기기, 가전제품들은 제품의 기능 외 제품의 디자인, 예컨대 색상, 형태, 패턴 등이 고객에게 제품의 가치 부여에 큰 역할을 한다. 디자인에 따라 제품의 선호도 및 가격 또한 좌우되고 있다.For cosmetic containers, various mobile devices, and home appliances, the design of the product, such as color, shape, and pattern, in addition to the product's function, plays a large role in imparting product value to customers. Product preference and price are also influenced by design.

일 예로서, 화장품 컴팩트 용기의 경우, 다양한 색상과 색감을 다양한 방법으로 구현하여 제품에 적용하고 있다. 케이스 소재 자체에 색을 부여하는 방식과 색과 모양을 구현한 데코 필름을 케이스 소재에 부착하여 디자인을 부여하는 방식이 있다.As an example, in the case of a cosmetic compact container, various colors and colors are implemented in various ways and applied to the product. There is a method of giving color to the case material itself and a method of giving a design by attaching a decorative film embodying color and shape to the case material.

그러나, 기존의 칼라 데코필름은 시트 투 시트(sheet to sheet) 방식으로 제조되어, 공정성이 떨어지는 문제가 있었다.However, the conventional color decorative film is manufactured in a sheet-to-sheet method, and there is a problem of poor fairness.

특허문헌 1: 대한민국 공개특허공보 제10-2010-0135837호Patent Document 1: Republic of Korea Patent Publication No. 10-2010-0135837

본 명세서는 장식 부재의 제조방법에 관한 것이다.The present specification relates to a method for manufacturing a decorative member.

본 명세서는 기재를 준비하는 단계;The present specification includes preparing a substrate;

상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계;Forming a pattern layer on one surface of the substrate;

상기 패턴층 상에 무기물층을 형성하는 단계; 및forming an inorganic material layer on the pattern layer; and

상기 무기물층 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하고, Forming a protective layer on the inorganic material layer,

상기 패턴층을 형성하는 단계, 상기 무기물층을 형성하는 단계 및 상기 보호층을 형성하는 단계는 롤투롤 공정으로 수행되는 것인 장식 부재의 제조방법을 제공한다.The forming of the pattern layer, the forming of the inorganic layer, and the forming of the protective layer provide a method of manufacturing a decorative member that is performed in a roll-to-roll process.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법에 따르면, 공정 과정이 단순화되어 공정 비용이 절감된다.According to the method for manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification, a process process is simplified and process costs are reduced.

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법에 따르면, 롤투롤 공정에 의하여 장식 부재를 제조함으로써, 종래의 시트 투 시트(sheet to sheet) 공정에 의하여 적은 비용으로 단시간에 장식 부재를 제조할 수 있다.In addition, according to the method for manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification, the decorative member is manufactured through a roll-to-roll process, thereby manufacturing the decorative member at a low cost and in a short time by a conventional sheet-to-sheet process. can be manufactured

또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법에 따르면, 무기물층 위치에 따른 색상 편차 최소화가 가능하다.In addition, according to the manufacturing method of the decorative member according to one embodiment of the present specification, it is possible to minimize color deviation according to the position of the inorganic material layer.

도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법을 나타낸 것이다.
도 2는 종래의 장식 부재의 제조방법을 나타낸 것이다.
도 3 내지 5는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 적층 구조를 예시한 것이다.
도 6은 광흡수층과 광반사층에 대해 설명한 것이다.
도 7은 광흡수층과 광반사층에 의해 색이 발현되는 원리에 대해 설명한 것이다.
도 8 내지 도 31은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재를 나타낸 것이다.
1 illustrates a manufacturing method of a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification.
2 shows a manufacturing method of a conventional decorative member.
3 to 5 illustrate a laminated structure of a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification.
6 is a description of the light absorption layer and the light reflection layer.
7 explains the principle of color expression by the light absorption layer and the light reflection layer.
8 to 31 show a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification.

이하, 본 명세서에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, this specification will be described in detail.

본 명세서에 있어서, "또는" 이란 다른 정의가 없는 한, 나열된 것들을 선택적으로 또는 모두 포함하는 경우, 즉 "및/또는"의 의미를 나타낸다.In this specification, "or" indicates the meaning of "and/or", that is, including selectively or all of the listed items, unless otherwise defined.

본 명세서에 있어서, "층"이란 해당 층이 존재하는 면적을 70% 이상 덮고 있는 것을 의미한다. 바람직하게는 75% 이상, 더 바람직하게는 80% 이상 덮고 있는 것을 의미한다.In the present specification, "layer" means covering 70% or more of the area where the layer exists. It means covering preferably 75% or more, more preferably 80% or more.

본 명세서에 있어서, 어떤 층의 "두께"란 해당 층의 하면으로부터 상면까지의 최단거리를 의미한다.In this specification, the "thickness" of a layer means the shortest distance from the lower surface to the upper surface of the layer.

본 명세서에 있어서, "보호층" 이란 다른 정의가 없는 한, 장식 부재의 다른 층들을 보호할 수 있는 층을 의미한다. 예를 들어, 내습 또는 내열 환경에서 무기물층이 열화되는 것을 방지할 수 있다. 또는, 외부 요인에 의하여 무기물층 또는 패턴층에 스크래치가 나는 것을 효과적으로 억제하여, 장식 부재의 이색성이 효과적으로 발현될 수 있도록 한다.In this specification, "protective layer" means a layer capable of protecting other layers of a decorative member unless otherwise defined. For example, it is possible to prevent deterioration of the inorganic layer in a moisture or heat resistant environment. Alternatively, scratches on the inorganic material layer or the pattern layer due to external factors can be effectively suppressed so that the dichroism of the decorative member can be effectively expressed.

본 명세서에 있어서, 공간적으로 상대적인 용어인 "일면", "타면"은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "일면"으로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "타면"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "일면"은 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다.In this specification, the spatially relative terms "one side" and "the other side" may be used to easily describe a correlation between one component and other components as shown in the drawings. Spatially relative terms should be understood as including different orientations of elements in use or operation in addition to the orientations shown in the drawings. For example, when a component shown in the drawings is turned over, a component described as “one side” of another component may be placed on the “other side” of the other component. Thus, the exemplary term "one side" may include both directions above and below. Elements may also be oriented in other orientations, and thus spatially relative terms may be interpreted according to orientation.

본 명세서는 기재를 준비하는 단계;The present specification includes preparing a substrate;

상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계;Forming a pattern layer on one surface of the substrate;

상기 패턴층 상에 무기물층을 형성하는 단계; 및forming an inorganic material layer on the pattern layer; and

상기 무기물층 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하고, Forming a protective layer on the inorganic material layer,

상기 패턴층을 형성하는 단계, 상기 무기물층을 형성하는 단계 및 상기 보호층을 형성하는 단계는 롤투롤 공정으로 수행되는 것인 장식 부재의 제조방법을 제공한다.The forming of the pattern layer, the forming of the inorganic layer, and the forming of the protective layer provide a method of manufacturing a decorative member that is performed in a roll-to-roll process.

도 1은 본 명세서의 장식 부재의 제조방법을 나타낸 것이다. 이에 의하면, (a) 기재를 준비하는 단계; (b) 상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계; (c) 상기 패턴층 상에 무기물층을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 무기물층 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 (a) 내지 (d) 단계는 롤투롤 공정으로 수행된다.1 shows a manufacturing method of a decorative member of the present specification. According to this, (a) preparing a substrate; (b) forming a pattern layer on one surface of the substrate; (c) forming an inorganic material layer on the pattern layer; and (d) forming a protective layer on the inorganic material layer. At this time, the steps (a) to (d) are performed in a roll-to-roll process.

기존의 장식부재는 열전사공정 통해 제조된 Tint 필름을 사용하였다. 해당 제품의 경우 Tint 필름 자체가 고가이고 공정이 매우 복잡한 단점을 가지고 있다. 이렇게 제조된 색상 필름에 sheet 단위의 몰딩 제조 공정을 거치고 이베퍼레이션 시스템을 통한 5층이상 다층박막을 제조하여 간섭 색상으로 증착 색상을 구현한다. 해당 Sheet 공정을 거쳐 제조된 복잡한 다층 박막은 큰 셀간 색상 편차를 가지는 원인으로 작용하게 된다. 기존 제품 Tint Color 구현 공정은 롤투롤(Roll To Roll) 공정으로 진행되는 리본, 열전사, OCA 합지공정을 거쳐 Roll 공정에서 Sheet 단위 공정 진행을 위해 제단 및 1차 합지를 거치게 된다. 이어 UV Molding 진행 후 Tint 차폐를 위하여 2차 경화를 진행해야 하는 복잡한 공정을 거치게 된다.Existing decorative members used a tint film manufactured through a thermal transfer process. In the case of this product, the tint film itself is expensive and the process is very complicated. The color film manufactured in this way goes through a molding manufacturing process in a sheet unit, and a multilayer thin film with 5 or more layers is manufactured through an evaporation system to realize the deposition color with interference color. Complex multi-layer thin films manufactured through the sheet process act as a cause of large cell-to-cell color deviations. The existing product Tint Color implementation process goes through the ribbon, thermal transfer, and OCA lamination processes in the roll-to-roll process, followed by cutting and primary lamination to proceed with the sheet unit process in the roll process. Then, after UV molding, it goes through a complicated process that requires secondary hardening for tint shielding.

본 명세서에 있어서, 상기 각 단계들은 롤투롤 공정으로 수행된다. 기존의 시트-투-시트(sheet-to-sheet) 공정의 경우, 시트로 재단된 장식 부재를 패턴형성, 증착 및 인쇄 공정을 진행하게 되고, 각 공정 전후로 이물 삽입을 방지하기 위하여 보호필름 합지 공정을 거쳐야 하는 문제가 있다. 반면에, 본 발명과 같이 각 공정을 롤투롤 공정으로 수행하는 경우, 종래의 보호필름 합지 공정을 생략할 수 있어, 생산성이 향상되는 장점이 있다. 도 2는 종래의 시트 투 시트(sheet-to-sheet) 공정을 나타낸 것이다. 종래에는 도 2에 나타난 바와 같이 장식 부재가 시트 투 시트(Sheet to Sheet) 방식에 의해 제조되었는데, 이 경우 수율이 현저히 떨어지며 제조비용이 증가하는 문제가 있었다. 그러나, 롤투롤 공정에 의한 경우, 제조 과정이 롤 생산에 의하기 때문에 높은 생산성을 보일 수 있고, 제조 수율이 현저히 증가할 수 있으며, 제조 단가가 낮아진다는 장점이 있다.In the present specification, each of the above steps is performed in a roll-to-roll process. In the case of the existing sheet-to-sheet process, decorative members cut into sheets are patterned, deposited, and printed, and protective film lamination processes are performed to prevent the insertion of foreign substances before and after each process. There is a problem to go through. On the other hand, when each process is performed as a roll-to-roll process as in the present invention, the conventional protective film laminating process can be omitted, thereby improving productivity. 2 shows a conventional sheet-to-sheet process. Conventionally, as shown in FIG. 2, the decorative member has been manufactured by a sheet to sheet method, but in this case, there is a problem in that the yield is significantly lowered and the manufacturing cost increases. However, in the case of the roll-to-roll process, since the manufacturing process is based on roll production, there are advantages in that high productivity can be shown, manufacturing yield can be remarkably increased, and manufacturing cost can be lowered.

도 3 내지 도 5는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 제조방법에 의해 제조된 장식 부재의 적층 구조를 예시한 것이다. 도 3에는 기재(1), 상기 기재의 일면에 형성된 패턴층(2), 상기 패턴층(2) 상에 형성된 무기물층(3) 및 상기 무기물층 상에 형성된 보호층(4)을 포함한다. 도 4 및 도 5에 따르면, 상기 무기물층(3)은 상기 패턴층(2)으로부터 순차적으로 구비된 광반사층(31) 및 광흡수층(32)을 포함하거나, 상기 패턴층(2)으로부터 순차적으로 구비된 광흡수층(32) 및 광반사층(31)을 포함한다.3 to 5 illustrate a laminated structure of a decorative member manufactured by a manufacturing method according to an exemplary embodiment of the present specification. 3 includes a substrate 1, a pattern layer 2 formed on one surface of the substrate, an inorganic material layer 3 formed on the pattern layer 2, and a protective layer 4 formed on the inorganic material layer. 4 and 5, the inorganic material layer 3 includes a light reflection layer 31 and a light absorption layer 32 sequentially provided from the pattern layer 2 or sequentially from the pattern layer 2 It includes a light absorption layer 32 and a light reflection layer 31 provided.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법은 기재를 준비하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification includes preparing a substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재는 투명성이 있는 기재라면 특별히 제한되지 않는다.In one embodiment of the present specification, the substrate is not particularly limited as long as it is a transparent substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재로는 플라스틱 기재를 사용할 수 있다. 상기 플라스틱 기재로는, TAC(triacetyl cellulose); 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer); PMMA(poly(methyl methacrylate); PC(polycarbonate); PE(polyethylene); PP(polypropylene); PVA(polyvinyl alcohol); DAC(diacetyl cellulose); Pac(Polyacrylate); PES(poly ether sulfone); PEEK(polyetheretherketon); PPS(polyphenylsulfone), PEI(polyetherimide); PEN(polyethylenemaphthatlate); PET(polyethyleneterephtalate); PI(polyimide); PSF(polysulfone); PAR(polyarylate) 또는 비정질 불소 수지 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, a plastic substrate may be used as the substrate. As the plastic substrate, TAC (triacetyl cellulose); COP (cyclo olefin copolymer), such as a norbornene derivative; PMMA (poly(methyl methacrylate); PC (polycarbonate); PE (polyethylene); PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol); DAC (diacetyl cellulose); Pac (polyacrylate); PES (poly ether sulfone); PEEK (polyetheretherketon ); PPS (polyphenylsulfone), PEI (polyetherimide); PEN (polyethylenemaphthatlate); PET (polyethyleneterephtalate); PI (polyimide); PSF (polysulfone); PAR (polyarylate) or amorphous fluororesin, etc. may be used, but are not limited thereto. no.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법은 상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification includes forming a pattern layer on one surface of the substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법은 상기 패턴층 상에 무기물층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 무기물층은 패턴층의 표면 상에 형성될 수 있고, 패턴층의 다양한 형태에 의하여 무기물층의 형상이 결정될 수 있다.A method of manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification includes forming an inorganic material layer on the pattern layer. The inorganic material layer may be formed on the surface of the pattern layer, and the shape of the inorganic material layer may be determined by various shapes of the pattern layer.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법은 상기 무기물층 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 보호층은 장식 부재의 각 층의 사이 또는 장식 부재의 최 외곽에 구비됨으로써, 장식 부재를 보호하는 기능을 한다.A method of manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification includes forming a protective layer on the inorganic material layer. The protective layer serves to protect the decorative member by being provided between each layer of the decorative member or at the outermost portion of the decorative member.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층을 형성하는 단계는 외주면에 패턴이 형성된 몰드가 구비된 원통형 롤스탬프를 준비하는 단계; 상기 기재와 상기 원통형 롤스탬프 사이에 경화형 수지 조성물을 도포 및 압착하는 단계; 및 상기 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the forming of the pattern layer may include preparing a cylindrical roll stamp having a mold in which a pattern is formed on an outer circumferential surface thereof; applying and compressing a curable resin composition between the substrate and the cylindrical roll stamp; and curing the curable resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 외주면에 패턴이 형성된 몰드가 구비된 원통형 롤스탬프는, 롤스탬프의 외주면에 볼록부 또는 오목부 형상의 패턴을 포함하는 것일 수 있고, 원하는 패턴을 형성하기 위해 원호 부분이 평평한 원통형 하드 몰드에 요(凹)부와 철(凸)부를 포함하도록 공지된 식각 방법을 통하여 식각함으로써 가공할 수 있다. 예를 들어, 프리즘 패턴의 패턴층을 형성하고자 하는 경우, 프리즘 형상의 요(凹)를 갖는 원통형 하드 몰드를 사용할 수 있다. 한편, 원통형 롤 스탬프의 시판품으로는 D36000(JPE사 제조)가 있다.In one embodiment of the present specification, the cylindrical roll stamp having a mold having a pattern formed on the outer circumferential surface may include a convex or concave pattern on the outer circumferential surface of the roll stamp, and to form a desired pattern. It can be processed by etching through a known etching method so that the circular arc part includes concave parts and convex parts in a flat cylindrical hard mold. For example, when forming a pattern layer of a prismatic pattern, a cylindrical hard mold having prism-shaped recesses may be used. On the other hand, there is D36000 (manufactured by JPE) as a commercial product of a cylindrical roll stamp.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 원통형 롤스탬프를 준비하는 단계는 원통형 롤스탬프의 외주면에 패턴이 형성된 몰드를 구비하는 단계를 포함한다.In one embodiment of the present specification, preparing the cylindrical roll stamp includes providing a mold in which a pattern is formed on an outer circumferential surface of the cylindrical roll stamp.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 원통형 롤스탬프의 외주면에 패턴이 형성된 몰드를 구비하는 단계는 하드 몰딩 방식(hard-molding) 또는 소프트 몰딩(soft-molding) 방식에 의할 수 있다. 상기 하드 몰딩 방식이란, 원통형 드럼의 외주면에 음각 패턴을 형성하는 것을 의미한다. 또한, 상기 소프트 몰딩 방식이란, 몰드 기재의 일면에 몰드 패턴층을 포함하는 소프트 몰드를 원통형 드럼의 외주면에 부착하는 방식을 의미한다.In one embodiment of the present specification, the step of providing a mold in which a pattern is formed on the outer circumferential surface of the cylindrical roll stamp may be performed by a hard-molding method or a soft-molding method. The hard molding method means forming an intaglio pattern on the outer circumferential surface of the cylindrical drum. In addition, the soft molding method refers to a method of attaching a soft mold including a mold pattern layer on one surface of a mold substrate to an outer circumferential surface of a cylindrical drum.

상기 원통형 롤스탬프의 외주면에 형성된 볼록한 철부의 끝부분에 경화형 수지 조성물이 접촉되면서, 오목한 요부로 상기 경화형 수지 조성물이 밀려나가, 상기 철부의 끝부분이 상기 기재의 일면에 밀착되면서 롤스탬프의 패턴이 기재에 전사된다.As the curable resin composition is brought into contact with the tip of the convex portion formed on the outer circumferential surface of the cylindrical roll stamp, the curable resin composition is pushed into the concave portion, and the tip of the convex portion adheres to one surface of the substrate, forming a pattern of the roll stamp. transferred to the substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 원통형 롤스탬프는 상기 기재의 일면에 패턴층을 형성할 수 있도록 회전 가능하다.In one embodiment of the present specification, the cylindrical roll stamp is rotatable to form a pattern layer on one surface of the substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재와 상기 원통형 하드 몰드 사이에 자외선 경화형 수지 조성물을 도포하는 단계의 도포 방법은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 스핀 코팅, 바 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 또는 블레이드 코팅일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the coating method of applying the UV curable resin composition between the substrate and the cylindrical hard mold is not particularly limited, but for example, spin coating, bar coating, roll coating, gravure coating, or blade coating.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재와 상기 원통형 롤스탬프 사이에 경화형 수지 조성물을 도포하는 단계는 갭 롤(gap roll)을 이용하여 원통형 롤스탬프에 상기 경화형 수지 조성물을 도포하는 것일 수 있다. 갭 롤을 이용하면, 도포되는 경화형 수지 조성물의 양을 용이하게 조절할 수 있어서, 공정성이 개선되는 효과가 있다.In one embodiment of the present specification, the step of applying the curable resin composition between the substrate and the cylindrical roll stamp may be applying the curable resin composition to the cylindrical roll stamp using a gap roll. When the gap roll is used, the amount of the curable resin composition to be applied can be easily adjusted, so that processability is improved.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재와 상기 원통형 롤스탬프 사이에 경화형 수지 조성물을 도포할 때, 조성물이 도포되는 면은 상기 기재 및 상기 원통형 롤스탬프의 기재에 대향하는 면 중 어느 하나 이상일 수 있다. 바람직하게는 상기 원통형 롤스탬프의 기재에 대향하는 면일 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the curable resin composition is applied between the substrate and the cylindrical roll stamp, the surface on which the composition is applied may be at least one of the substrate and the surface of the cylindrical roll stamp facing the substrate. there is. Preferably, it may be a surface facing the substrate of the cylindrical roll stamp.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 경화형 수지 조성물은 광 경화성 수지 또는 열 경화성 수지를 사용할 수 있다. In one embodiment of the present specification, the curable resin composition may use a photo-curable resin or a thermo-curable resin.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광 경화성 수지는 자외선 경화성 수지일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the photocurable resin may be an ultraviolet curable resin.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선 경화성 수지는 대표적으로 아크릴 중합체, 예를 들어, 폴리에스테르 아크릴레이트 중합체, 폴리스티렌 아크릴레이트 중합체, 에폭시 아크릴레이트 중합체, 폴리우레탄 아크릴레이트 중합체 또는 폴리부타디엔 아크릴레이트 중합체, 실리콘 아크릴레이트 중합체 또는 알킬 아크릴레이트 중합체일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the ultraviolet curable resin is typically an acrylic polymer, for example, a polyester acrylate polymer, a polystyrene acrylate polymer, an epoxy acrylate polymer, a polyurethane acrylate polymer or a polybutadiene acrylate polymer. , silicone acrylate polymers or alkyl acrylate polymers.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 경화성 수지는 실리콘 수지, 규소 수지, 프란 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 폴리에스테르 수지 또는 멜라민 수지일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thermosetting resin may be a silicone resin, a silicon resin, a fran resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, an amino resin, a phenol resin, a urea resin, a polyester resin, or a melamine resin.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계는 상기 경화형 수지 조성물에 자외선을 조사하거나, 열을 가하여 수행될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the curing of the curable resin composition may be performed by irradiating ultraviolet rays or applying heat to the curable resin composition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 경화형 수지 조성물은 자외선 경화성 수지 조성물이고, 이를 경화시키는 단계는 상기 자외선 경화성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the curable resin composition is an ultraviolet curable resin composition, and curing the same may include irradiating the ultraviolet curable resin composition with ultraviolet rays.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계는 4 mpm 내지 12 mpm의 이송 속도로 500 mJ/cm2 내지 1,000 mJ/cm2의 자외선 세기, 5 mpm 내지 11 mpm의 이송 속도로 600 mJ/cm2 내지 900 mJ/cm2의 자외선 세기, 또는 6mpm 내지 10mpm의 이송 속도로 700 mJ/cm2 내지 800 mJ/cm2의 자외선 세기로 조사되는 것일 수 있다. 상기 조사 조건을 만족하는 경우, 경화형 수지 조성물의 경화 정도가 우수할 수 있으며, 기재 등 장식 부재의 다른 구성의 손상을 방지할 수 있다. 이때, 자외선을 조사할 때 사용되는 장비는 Fusion 무전극 D-blub를 사용하여, 320nm 내지 390nm의 파장을 갖는 자외선을 조사할 수 있다. 상기 mpm은 meter per minute을 의미한다.In one embodiment of the present specification, the step of irradiating the ultraviolet rays is 500 mJ/cm 2 to 1,000 mJ/cm 2 at a transport rate of 4 mpm to 12 mpm, 600 UV intensity at a transport rate of 5 mpm to 11 mpm It may be irradiated with an ultraviolet intensity of mJ/cm 2 to 900 mJ/cm 2 , or an ultraviolet intensity of 700 mJ/cm 2 to 800 mJ/cm 2 at a transport rate of 6 mpm to 10 mpm. When the above irradiation conditions are satisfied, the degree of curing of the curable resin composition may be excellent, and damage to other components of the decorative member such as the base material may be prevented. At this time, the equipment used when irradiating ultraviolet rays can irradiate ultraviolet rays having a wavelength of 320 nm to 390 nm using Fusion electrodeless D-blub. The mpm means meter per minute.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계는 상기 기재의 상기 경화형 수지 조성물이 도포된 면 또는 상기 기재의 상기 경화형 수지 조성물이 도포된 면의 반대면에 자외선을 조사하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the step of irradiating ultraviolet rays may be irradiating ultraviolet rays to the surface of the substrate to which the curable resin composition is applied or to the surface opposite to the surface of the substrate to which the curable resin composition is applied. .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계는 상기 기재가 상기 원통형 롤스탬프의 외주면 전체 면적의 1/10 이상, 바람직하게는 1/5 이상, 더욱 바람직하게는 1/3 이상 감긴 상태에서 수행되는 것일 수 있다. 경화가 상기 조건에서 수행되는 경우, 조성물의 경화가 용이하게 일어날 수 있고, 미세한 패턴의 형성이 가능하다는 장점이 있다.In one embodiment of the present specification, in the step of curing the ultraviolet curable resin composition, the base material is 1/10 or more, preferably 1/5 or more, more preferably 1/10 of the total area of the outer circumferential surface of the cylindrical roll stamp. It may be performed in a state of winding 3 or more. When curing is performed under the above conditions, there are advantages in that the composition can be easily cured and a fine pattern can be formed.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 장식 부재의 제조방법은 상기 패턴층이 형성된 기재를 원통형 롤스탬프로부터 이형하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the manufacturing method of the decorative member may include releasing the substrate on which the pattern layer is formed from a cylindrical roll stamp.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 자외선 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계는 상기 기재가 상기 원통형 롤스탬프에 감긴 상태에서 수행되는 1차 경화단계; 및 상기 패턴층이 형성된 기재를 원통형 롤스탬프로부터 이형하는 단계 이후에 수행되는 2차 경화단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the curing of the ultraviolet curable resin composition may include a first curing step performed while the substrate is wound around the cylindrical roll stamp; and a secondary curing step performed after releasing the substrate on which the pattern layer is formed from the cylindrical roll stamp.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 1차 경화단계에서 자외선은 기재의 패턴층이 형성된 면의 타면에 조사되는 것이고, 상기 2차 경화단계에서 자외선은 패턴층이 형성된 면에 조사되는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, in the first curing step, ultraviolet rays are irradiated to the other side of the substrate on which the pattern layer is formed, and in the second curing step, ultraviolet rays may be irradiated to the side on which the pattern layer is formed. .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층을 형성하는 단계는 질소 및 아르곤 중 어느 하나 이상의 비활성 기체를 포함하는 분위기에서 수행될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the forming of the pattern layer may be performed in an atmosphere containing at least one inert gas of nitrogen and argon.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 증착에 의한 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the forming of the inorganic material layer may be performed by deposition.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 상기 볼록부 또는 오목부 형상의 표면 상에 광흡수층 및 광반사층을 순차적으로 형성하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the forming of the inorganic material layer may include sequentially forming a light absorption layer and a light reflection layer on the convex or concave surface.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층층을 증착하는 단계는 10 ℃ 내지 100 ℃, 바람직하게는 10℃ 이상 80℃ 이하, 더욱 바람직하게는 10℃ 이상 60℃ 이하 일 수 있다. 상기 범위보다 낮은 온도에서 증착할 경우에는 타겟에서 떨어져 나와 피착물에 도달한 물질들의 피착물에 대한 부착력이 낮아져서 후속 공정시 증착된 무기물층이 피착물에서 분리되는 문제점이 있고, 상기 범위보다 높은 온도에서는 피착물에 증착된 재료가 다시 증발되거나 또는 재휘발(re-evaporation)되어 무기물층의 성장 속도가 저하되는 문제점이 있을 수 있다.In one embodiment of the present specification, the step of depositing the inorganic material layer may be 10 °C to 100 °C, preferably 10 °C or more and 80 °C or less, more preferably 10 °C or more and 60 °C or less. When depositing at a temperature lower than the above range, there is a problem in that the deposited inorganic material layer is separated from the adherend during a subsequent process because the adhesion of the materials detached from the target and reaching the adherend to the adherend is lowered, and the temperature higher than the above range In , the material deposited on the adherend may be evaporated again or re-evaporated, resulting in a decrease in the growth rate of the inorganic layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 이베퍼레이션(Evaporation) 방법 또는 스퍼터링(sputtering) 방법에 의해 수행되는 것일 수 있다. 상기 이베퍼레이션 방법이란, 고진공(5x10-5~1x10-7 Torr)의 챔버 내에서 전자빔이나 전기 필라멘트를 이용하여 타겟 재료를 증발 또는 승화시켜 피착물에 증착하는 것이다. 또한, 상기 스퍼터링 방법이란, 아르곤 등의 기체를 진공의 챔버 내에 흘려 보내고, 전압을 인가하여 발생한 플라즈마에 의해 타겟 물질이 피착물에 증착되는 방법이다.In one embodiment of the present specification, the forming of the inorganic material layer may be performed by an evaporation method or a sputtering method. The evaporation method is to evaporate or sublimate a target material using an electron beam or electric filament in a high vacuum chamber (5x10 -5 to 1x10 -7 Torr) and deposit it on an adherend. The sputtering method is a method in which a target material is deposited on an adherend by plasma generated by flowing a gas such as argon into a vacuum chamber and applying a voltage.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 이베퍼레이션 방법은 고진공 상태(5x10-5~1x10-7 Torr)에서 텅스텐(W) 또는 몰리브덴(Mo)을 포함하는 증착 보트(evaporation boat) 및 crucible에 위치한 In을 증발 또는 기화가 일어날 때까지 전압을 가하거나 전자빔의 전력을 증가시킨 후, 0.1nm/sec 내지 10nm/sec의 증착 속도 조건 하에서 수행될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the evaporation method is located in an evaporation boat and crucible containing tungsten (W) or molybdenum (Mo) in a high vacuum state (5x10 -5 ~ 1x10 -7 Torr) After applying a voltage or increasing the power of an electron beam until evaporation or vaporization of In occurs, it may be performed under a deposition rate condition of 0.1 nm/sec to 10 nm/sec.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스퍼터링 방법의 공정 조건은 상술한 무기물층의 두께, 조성 등을 달성하기 위하여 특정 조건을 만족할 수 있다. 특히, 피착물과 스퍼터 타겟과의 거리에 따라서 인가되는 전력 등의 다른 조건을 다르게 조절할 수 있다.In one embodiment of the present specification, process conditions of the sputtering method may satisfy specific conditions in order to achieve the above-described thickness, composition, and the like of the inorganic material layer. In particular, other conditions such as applied power may be adjusted differently according to the distance between the adherend and the sputter target.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스퍼터링 방법은 상기 무기물층과 스퍼터 타겟 과의 최단 거리(d1)가 200mm 이하이고, 0.1 W/cm2 내지 10 W/cm2의 타겟의 단위 면적당 인가되는 전력 조건에서 10 초 내지 1000 초 동안 전력을 인가하거나; 바람직하게는 상기 광흡수층과 스퍼터 타겟과의 최단 거리(d1)가 200mm 이하이고, 0.1 W/cm2 내지 5 W/cm2 의 타겟의 단위 면적당 인가되는 전력 조건에서 10 초 내지 900 초 동안 전력을 인가하는 것일 수 있다. 상기 전력 조건의 분모 단위 cm2는 스퍼터 타겟의 단위 면적이 1cm2임을 의미한다.In one embodiment of the present specification, the sputtering method is such that the shortest distance d1 between the inorganic material layer and the sputter target is 200 mm or less, and 0.1 W/cm 2 to 10 W/cm 2 Power applied per unit area of the target applying power for 10 seconds to 1000 seconds under the condition; Preferably, the shortest distance (d1) between the light absorption layer and the sputter target is 200 mm or less, and 0.1 W/cm 2 to 5 W/cm 2 of power applied per unit area of the target is applied for 10 seconds to 900 seconds. may be authorizing. The denominator unit cm 2 of the power condition means that the unit area of the sputter target is 1 cm 2 .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층과 스퍼터 타겟 과의 최단 거리(d1)가 10mm 이상 150mm 이하, 바람직하게는 50mm 이상 120mm 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the shortest distance d1 between the inorganic material layer and the sputter target may be 10 mm or more and 150 mm or less, preferably 50 mm or more and 120 mm or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층과 스퍼터 타겟 과의 최단 거리(d2)가 200mm 초과이고, 1 W/cm2 내지 10 W/cm2의 타겟의 단위 면적당 인가되는 전력 조건에서 10초 내지 1200초 동안 전력을 인가하거나; 1 W/cm2 내지 5 W/cm2의 타겟의 단위 면적당 인가되는 전력 조건에서 10초 내지 900초 동안 전력을 인가하거나; 상기 무기물층과 스퍼터 타겟 과의 최단 거리(d2)가 200mm 초과이고, 0.1 W/cm2 내지 5 W/cm2의 타겟의 단위 면적당 인가되는 전력 조건에서 10초 내지 900초 동안 인가하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the shortest distance (d2) between the inorganic material layer and the sputter target is greater than 200 mm, and 1 W/cm 2 to 10 W/cm 2 Under power conditions applied per unit area of the target, 10 seconds power is applied for between 1200 seconds and 1200 seconds; applying power for 10 seconds to 900 seconds under conditions of power applied per unit area of the target of 1 W/cm 2 to 5 W/cm 2 ; The shortest distance (d2) between the inorganic layer and the sputter target is greater than 200 mm, and 0.1 W/cm 2 to 5 W/cm 2 It may be applied for 10 seconds to 900 seconds under the condition that power is applied per unit area of the target. .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층과 스퍼터 타겟 과의 최단 거리(d2)가 250mm 이상 1000mm 이하, 바람직하게는 300mm 이상 900mm 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the shortest distance (d2) between the inorganic material layer and the sputter target may be 250 mm or more and 1000 mm or less, preferably 300 mm or more and 900 mm or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스퍼터링 방법은 1 mTorr 내지 100 mTorr, 바람직하게는 1 mTorr 내지 75 mTorr, 더욱 바람직하게는 1 mTorr 내지 50 mTorr일 수 있다. 스퍼터링 시 공정압력이 상기 범위보다 높아지면 챔버 내부에 존재하는 스퍼터 가스 입자가 많아지고 타겟으로부터 방출된 입자들이 스퍼터 가스 입자들과 부딪혀 에너지를 잃게 되므로 무기물층의 성장 속도가 저하될 수 있다. 반면에 너무 낮은 공정압력이 유지될 경우 스퍼터 가스 입자에 의한 섬 성분 입자의 에너지 손실은 적어지지만, 고에너지를 갖는 입자에 의해 무기물층 또는 기재가 손상될 수 있다는 단점이 있기 때문에 스퍼터링 공정 조건은 증착 장비의 크기 및 샘플 위치와 타겟의 거리, 타겟의 종류와 가스의 종류 및 유량, 공정시 압력 등 다양한 변수를 조절하여 최적의 공정 조건을 찾아야 한다.In one embodiment of the present specification, the sputtering method may be 1 mTorr to 100 mTorr, preferably 1 mTorr to 75 mTorr, and more preferably 1 mTorr to 50 mTorr. When the process pressure is higher than the above range during sputtering, the number of sputter gas particles present in the chamber increases and particles emitted from the target collide with the sputter gas particles to lose energy, so the growth rate of the inorganic material layer may decrease. On the other hand, if the process pressure is too low, the energy loss of the island component particles due to the sputter gas particles is reduced, but there is a disadvantage that the inorganic layer or substrate may be damaged by the particles having high energy. Optimal process conditions must be found by adjusting various variables such as the size of the equipment, the distance between the sample position and the target, the type of target, the type and flow rate of gas, and the pressure during the process.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 스퍼터 가스를 포함하는 챔버 내에서 반응성 스퍼터링 방법에 의해 수행되는 것일 수 있다. In one embodiment of the present specification, the forming of the inorganic material layer may be performed by a reactive sputtering method in a chamber containing a sputtering gas.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스퍼터링 방법은 스퍼터 가스로 아르곤(Ar) 또는 헬륨(He)을 이용하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the sputtering method may be to use argon (Ar) or helium (He) as a sputter gas.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 스퍼터 가스 및 반응성 가스를 포함하는 챔버 내에서 반응성 스퍼터링 방법에 의해 수행되는 것일 수 있다. 이와 같이 반응성 가스를 더 포함하는 경우, 스퍼터링 방법은 반응성 스퍼터링 방법으로 명명될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the forming of the inorganic material layer may be performed by a reactive sputtering method in a chamber containing a sputter gas and a reactive gas. When a reactive gas is further included in this way, the sputtering method may be referred to as a reactive sputtering method.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 반응성 가스로 산소, 질소 또는 이들의 혼합 기체를 이용할 수 있다.In one embodiment of the present specification, oxygen, nitrogen, or a mixed gas thereof may be used as the reactive gas.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계에서, 상기 스퍼터 가스의 유량은 10 sccm 이상 300 sccm 이하, 바람직하게는 20 sccm 이상 200 sccm 이하 일 수 있다. 상기 sccm는 Standard Cubic Centimeer Per minute을 의미한다.In one embodiment of the present specification, in the step of forming the inorganic material layer, the flow rate of the sputter gas may be 10 sccm or more and 300 sccm or less, preferably 20 sccm or more and 200 sccm or less. The sccm means Standard Cubic Centimeer Per minute.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 스퍼터 가스에 대한 반응성 가스의 분율이 30% 이상 70% 이하, 바람직하게는 40% 이상 70% 이하, 더욱 바람직하게는 50% 이상 70% 이하일 수 있다. 상기 반응성 가스의 분율은 (Q반응성가스/(Q스퍼터가스+Q반응성가스)*100%)로 계산될 수 있다. 상기 Q반응성가스 는 챔버 내 반응성 가스의 유량을 의미하고, Q스퍼터가스는 챔버 내 스퍼터가스의 유량일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the fraction of the reactive gas to the sputter gas may be 30% or more and 70% or less, preferably 40% or more and 70% or less, and more preferably 50% or more and 70% or less. The fraction of the reactive gas may be calculated as (Q reactive gas / (Q sputter gas + Q reactive gas ) * 100%). The Q reactive gas may mean the flow rate of the reactive gas in the chamber, and the Q sputter gas may be the flow rate of the sputter gas in the chamber.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법의 구동 전력은 100W 이상 500W 이하, 바람직하게는 150W 이상 300W 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the driving power of the reactive sputtering method may be 100W or more and 500W or less, preferably 150W or more and 300W or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응성 스퍼터링 방법에서 인가되는 전압의 범위는 350V 이상 500V일 수 있다. 상기 전압의 범위는 타겟의 상태, 공정압력, 구동전력(공정 파워) 또는 반응성 가스의 분율에 따라 조절될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the range of voltage applied in the reactive sputtering method may be 350V or more and 500V. The range of the voltage may be adjusted according to the state of the target, process pressure, driving power (process power), or fraction of reactive gas.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 보호층을 형성하는 단계는 증착 또는 스크린 인쇄 공정에 의한 것일 수 있고, 증착에 대해서는 무기물층 형성과 관련하여 상술한 바와 같다.In one embodiment of the present specification, the forming of the protective layer may be performed by a deposition or screen printing process, and the deposition is the same as the formation of the inorganic layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 롤투롤 공정은 3 mpm 내지 10 mpm, 바람직하게는 4 mpm 내지 9 mpm, 더욱 바람직하게는 6 mpm 내지 8 mpm의 이송 속도로 수행될 수 있다. 상기 이송 속도 범위를 만족하는 경우, 패턴층, 무기물층 및 보호층이 원활히 형성될 수 있고, 각 층이 들뜨는 현상을 방지할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the roll-to-roll process may be performed at a conveying speed of 3 mpm to 10 mpm, preferably 4 mpm to 9 mpm, and more preferably 6 mpm to 8 mpm. When the transfer speed range is satisfied, the pattern layer, the inorganic layer, and the protective layer can be smoothly formed, and lifting of each layer can be prevented.

본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 제조방법은 장식 부재를 2 이상의 영역으로 타발하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 타발하는 단계는 제조된 장식 부재를 휴대폰 등의 제품에 라미하기 위해서 제품 크기에 맞게 절단하는 것을 의미한다. 이때, 톰슨 타발기(Thomson Press Machin, DonJin사 제조) 또는 시트 타발기(TK-6565S-1, 태경 하이테크)를 사용할 수 있다.A method of manufacturing a decorative member according to an exemplary embodiment of the present specification may include punching the decorative member into two or more regions. The punching step means cutting the manufactured decorative member to fit the product size in order to laminate it to a product such as a mobile phone. At this time, a Thomson Press Machin (manufactured by DonJin) or a sheet press (TK-6565S-1, Taekyung High Tech) may be used.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 타발하는 단계는 롤투롤 공정에 의해 수행될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the punching may be performed by a roll-to-roll process.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계 이전에 상기 기재의 일면 또는 타면에 칼라 필름층을 형성하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the step of forming a color film layer on one side or the other side of the substrate may be included before the step of forming the pattern layer on one side of the substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 칼라 필름층을 형성하는 단계는 칼라필름 형성용 조성물을 코팅하거나, 별도의 기재에 칼라필름 형성용 조성물을 코팅, 캐스팅, 압출 등의 공지의 성형방법을 이용하여 칼라필름을 제조한 후 칼라필름이 구비될 수 있는 위치에 칼라필름을 배치 또는 부착하는 방법을 이용할 수 있다. 코팅 방법은 습식 코팅 또는 건식 코팅이 사용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the step of forming the color film layer uses a known molding method such as coating a composition for forming a color film or coating a composition for forming a color film on a separate substrate, casting, extruding, or the like. A method of disposing or attaching the color film to a position where the color film can be provided after manufacturing the color film may be used. As the coating method, wet coating or dry coating may be used.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 칼라필름에 포함될 수 있는 안료 및 염료로는 최종 장식부재료부터 원하는 색상을 달성할 수 있는 것으로서 당기술분야에 알려져 있는 것들 중에서 선택될 수 있으며, 적색 계열, 황색 계열, 보라색 계열, 청색 계열, 핑크색 계열 등의 안료 및 염료 중 1종 또는 2종 이상이 사용될 수 있다. 구체적으로, 페리논(perinone)계 적색 염료, 안트라퀴논계 적색 염료, 메틴계 황색 염료, 안트라퀴논계 황색 염료, 안트라퀴논계 보라색 염료, 프탈로시아닌계 청색 염료, 티오인디고(thioindigo)계 핑크색 염료, 이소크인디고(isoxindigo)계 핑크색 염료 등의 염료가 단독 또는 조합으로 사용될 수 있다. 카본 블랙, 구리 프탈로시아닌(C.I. Pigment Blue 15:3), C.I. Pigment Red 112, Pigment blue, Isoindoline yellow 등의 안료가 단독 또는 조합으로 사용될 수도 있다. 상기와 같은 염료 또는 안료는 시판되는 것을 이용할 수 있으며, 예컨대 Ciba ORACET사, 조광페인트㈜ 등의 재료를 사용할 수 있다. 상기 염료 또는 안료들의 종류 및 이들의 색상은 예시들일 뿐이며, 공지된 염료 또는 안료들이 다양하게 사용될 수 있고, 이에 의하여 더욱 다양한 색상을 구현할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the pigments and dyes that may be included in the color film may be selected from those known in the art as being able to achieve a desired color from the final decorative material, and red-based, yellow One or two or more of pigments and dyes such as purple, blue, blue, and pink may be used. Specifically, perinone-based red dye, anthraquinone-based red dye, methine-based yellow dye, anthraquinone-based yellow dye, anthraquinone-based purple dye, phthalocyanine-based blue dye, thioindigo-based pink dye, iso Dyes such as isoxindigo-based pink dyes may be used alone or in combination. Carbon black, copper phthalocyanine (C.I. Pigment Blue 15:3), C.I. Pigments such as Pigment Red 112, Pigment blue, and Isoindoline yellow may be used alone or in combination. Commercially available dyes or pigments as described above may be used, and for example, materials such as Ciba ORACET and Chokwang Paint Co., Ltd. may be used. The types and colors of the dyes or pigments are just examples, and various known dyes or pigments may be used, thereby realizing more diverse colors.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 칼라필름에 포함되는 매트릭스 수지는 투명 필름, 프라이머층, 접착층, 코팅층 등의 재료로 공지된 재료들이 사용될 수 있으며, 특별히 그 재료에 한정되지 않는다. 예컨대, 아크릴계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 우레탄계 수지, 선형 올레핀계 수지, 시클로올레핀계 수지, 에폭시계 수지, 트리아세틸셀룰로오즈계 수지 등 다양한 재료가 선택될 수 있으며, 상기 예시된 재료의 공중합체 또는 혼합물도 사용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the matrix resin included in the color film may be materials known as materials such as a transparent film, a primer layer, an adhesive layer, and a coating layer, and are not particularly limited thereto. For example, various materials such as acrylic resins, polyethylene terephthalate resins, urethane resins, linear olefin resins, cycloolefin resins, epoxy resins, and triacetyl cellulose resins may be selected, and copolymers or Mixtures may also be used.

상기 무기물층은 전술한 패턴층의 표면과 동일한 볼록부 또는 오목부를 가질 수 있다. 상기 무기물층은 전술한 패턴층의 표면과 동일한 경사도를 가질 수 있다. The inorganic material layer may have the same convex portion or concave portion as the surface of the pattern layer described above. The inorganic material layer may have the same gradient as the surface of the pattern layer described above.

상기 무기물층은 금속을 포함할 수 있다. 상기 무기물층으로는 예를 들어, 인듐(In), 티탄(Ti), 주석(Sn), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 네오디뮴(Nb), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co), 금(Au) 및 은(Ag) 중에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 재료, 이의 산화물, 질화물 또는 산질화물, 탄소 및 탄소 복합체 중 1 종 또는2 종 이상의 재료를 포함할 수 있다. 상기 무기물층은 상기 재료를 포함하는 단일층이거나 또는 다층일 수 있다. The inorganic material layer may include metal. Examples of the inorganic layer include indium (In), titanium (Ti), tin (Sn), silicon (Si), germanium (Ge), aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), and vanadium. Choice of (V), Tungsten (W), Tantalum (Ta), Molybdenum (Mo), Neodymium (Nb), Iron (Fe), Chromium (Cr), Cobalt (Co), Gold (Au), and Silver (Ag) It may include one or two or more materials, oxides thereof, nitrides or oxynitrides thereof, and one or two or more materials of carbon and carbon composites. The inorganic material layer may be a single layer or multiple layers including the above material.

상기 무기물층은 400nm 파장의 광에 대한 굴절률이 0 내지 8일 수 있다. 상기 무기물층의 굴절률이 상기 범위를 벗어 나는 경우 반사되는 빛이 줄어 어두워지므로 적절하지 않을 수 있다. 상기 무기물층의 굴절률은 구체적으로 0 이상, 1 이상, 2 이상, 3 이상, 4 이상 또는 4.5 이상일 수 있고, 8 이하, 7 이하, 6 이하 또는 6.5 이하일 수 있다.The inorganic material layer may have a refractive index of 0 to 8 for light having a wavelength of 400 nm. If the refractive index of the inorganic layer is out of the above range, it may not be suitable because reflected light is reduced and becomes dark. The refractive index of the inorganic layer may be specifically 0 or more, 1 or more, 2 or more, 3 or more, 4 or more, or 4.5 or more, and may be 8 or less, 7 or less, 6 or less, or 6.5 or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층의 두께는 예를 들어, 10nm 내지 1㎛일 수 있다. 무기물층의 두께가 상기 범위 내인 경우 바라보는 방향에 따라 다른 색을 나타내는 이색성을 가지며 상기 이색성의 시인성이 개선된 장식 부재를 제공하는 데 유리할 수 있다. 상기 무기물층의 두께는 예를 들어, 10nm 이상, 50nm 이상 또는 100nm 이상일 수 있고, 1㎛ 이하, 800nm이하, 600nm 이하, 400nm이하 또는 300nm 이하일 수 있다. 상기 장식 부재는 바라보는 방향에 따라 다른 색을 나타내는 이색성을 나타낼 수 있다. 상기 장식 부재는 패턴층의 표면 형상을 변형함으로써 상기 이색성의 시인성을 개선할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the thickness of the inorganic material layer may be, for example, 10 nm to 1 μm. When the thickness of the inorganic material layer is within the above range, it may be advantageous to provide a decorative member having dichroic property showing different colors depending on the viewing direction and having improved visibility of the dichroic property. The thickness of the inorganic layer may be, for example, 10 nm or more, 50 nm or more, or 100 nm or more, and 1 μm or less, 800 nm or less, 600 nm or less, 400 nm or less, or 300 nm or less. The decorative member may exhibit dichroism showing different colors depending on a viewing direction. The decoration member may improve visibility of the dichroism by modifying the surface shape of the pattern layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층은 장식 부재를 바라볼 때 색의 금속 질감과 깊이감을 부여할 수 있다. 상기 무기물층은 상기 장식 부재의 이미지가 보는 각도에 따라 다양한 색상으로 보일 수 있도록 한다. 이는 상기 패턴층을 통과하여 무기물층의 표면에서 반사되는 빛의 파장이 입사하는 빛의 파장에 따라 변화하기 때문이다.In one embodiment of the present specification, the inorganic material layer may impart a metallic texture and a sense of depth when viewing the decorative member. The inorganic material layer allows the image of the decorative member to be seen in various colors depending on viewing angles. This is because the wavelength of light passing through the pattern layer and reflected from the surface of the inorganic material layer changes according to the wavelength of incident light.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 무기물층은 상기 패턴층 상에 순차적으로 구비된 광흡수층 및 광반사층을 포함하거나, 상기 패턴층 상에 순차적으로 구비된 광반사층 또는 광흡수층을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the inorganic material layer includes a light absorbing layer and a light reflective layer sequentially provided on the pattern layer, or includes a light reflective layer or light absorbing layer sequentially provided on the pattern layer.

본 명세서에 있어서, 광흡수층과 광반사층은 그 기능에 따라 명명된 것이다. 특정한 파장을 갖는 빛에 대하여, 광을 상대적으로 많이 반사하는 층을 광반사층으로 표현할 수 있고, 광을 상대적으로 적게 반사하는 층을 광흡수층으로 표현할 수 있다.In the present specification, the light absorption layer and the light reflection layer are named according to their functions. With respect to light having a specific wavelength, a layer that reflects a relatively large amount of light may be referred to as a light reflection layer, and a layer that reflects relatively little light may be referred to as a light absorption layer.

본 출원에 있어서, 광흡수층과 광반사층은 그 기능에 따라 명명된 것이다. 특정한 파장을 갖는 빛에 대하여, 광을 상대적으로 많이 반사하는 층을 광반사층으로 표현할 수 있고, 광을 상대적으로 적게 반사하는 층을 광흡수층으로 표현할 수 있다.In this application, the light absorption layer and the light reflection layer are named according to their functions. With respect to light having a specific wavelength, a layer that reflects a relatively large amount of light may be referred to as a light reflection layer, and a layer that reflects relatively little light may be referred to as a light absorption layer.

도6을 통해, 광흡수층과 광반사층에 대해 설명한다. 도 6의 장식 부재에는 각 층(layer)이 빛이 들어오는 방향을 기준으로 Li-1층, Li층 및 Li+1층 순서로 적층되어 있고, Li-1층과 Li층 사이에 계면(interface) Ii이 위치하고, Li층과 Li+1층 사이에 계면 Ii+1이 위치한다.Through FIG. 6, the light absorption layer and the light reflection layer will be described. In the decorative member of FIG. 6, each layer is stacked in the order of the L i-1 layer, the L i layer, and the L i+1 layer based on the direction in which the light enters, and between the L i-1 layer and the L i layer. An interface I i is located at , and an interface I i+1 is located between the L i layer and the L i+1 layer.

박막 간섭이 일어나지 않도록 각 층에 수직한 방향으로 특정한 파장을 갖는 빛을 조사하였을 때, 계면 Ii에서의 반사율을 하기 수학식 1으로 표현할 수 있다.When light having a specific wavelength is irradiated in a direction perpendicular to each layer so as not to cause thin film interference, the reflectance at the interface Ii can be expressed by Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

Figure 112018089225582-pat00001
Figure 112018089225582-pat00001

상기 수학식 1에 있어서, ni(λ)는 i번째 층의 파장(λ)에 따른 굴절율을 의미하고, ki(λ)는 i번째 층의 파장(λ)에 따른 소멸 계수(extinction coefficient)를 의미한다. 소멸 계수는 특정 파장에서 대상 물질이 빛을 얼마나 강하게 흡수하는 지를 정의할 수 있는 척도로서, 정의는 상술한 바와 같다.In Equation 1, n i (λ) means the refractive index according to the wavelength (λ) of the i-th layer, and k i (λ) is the extinction coefficient according to the wavelength (λ) of the i-th layer means The extinction coefficient is a scale that can define how strongly a target material absorbs light at a specific wavelength, and the definition is as described above.

상기 수학식 1을 적용하여, 각 파장에서 계산된 계면 Ii에서의 파장별 반사율의 합을 Ri라고 할 때, Ri는 아래 수학식 2와 같다.When the sum of reflectances for each wavelength at the interface I i calculated at each wavelength by applying Equation 1 is R i , R i is equal to Equation 2 below.

[수학식 2][Equation 2]

Figure 112018089225582-pat00002
Figure 112018089225582-pat00002

이때, 적층체의 계면 중 Ii의 Ri가 가장 크다고 할 때, 계면 Ii와 접하고, 계면 Ii와 빛이 들어오는 방향에 대향하여 위치한 층을 광반사층, 나머지 층을 광흡수층이라고 정의할 수 있다. 예를 들어, 도 6에 도시한 적층체에서, 계면 Ii+1의 파장별 반사율의 합이 가장 큰 경우, Ii+1과 접하고, 계면 Ii+1과 빛이 들어오는 방향에 대향하여 위치한 층 Li+1층을 광반사층, 나머지 층 Li-1층 및 Li층을 광흡수층이라고 정의할 수 있다.At this time, when it is assumed that R i of Ii among the interfaces of the laminate is the largest, the layer in contact with the interface Ii and located opposite to the interface Ii and the direction in which the light enters can be defined as the light reflection layer, and the remaining layers as the light absorption layer. For example, in the laminate shown in FIG. 6, when the sum of the reflectances for each wavelength of the interface I i+1 is the largest, it is in contact with I i+1 and is located opposite to the interface I i+1 and the direction in which light enters. The layer L i+1 may be defined as a light reflection layer, and the remaining layers L i−1 and L i layers may be defined as light absorption layers.

상기 광흡수층에서는 광의 입사경로 및 반사경로에서 광흡수가 이루어지고, 또한 광은 광흡수층의 표면과 광흡수층과 광반사층의 계면에서 각각 반사하여 2개의 반사광이 보강 또는 상쇄 간섭을 하게 된다. 본 명세서에 있어서, 광흡수층의 표면에서 반사되는 광은 표면 반사광, 광흡수층과 광반사층의 계면에서 반사되는 광은 계면 반사광으로 표현될 수 있다. 도 7에 이와 같은 작용원리의 모식도를 나타내었다. 도 7에는 기재(101), 광반사층(201) 및 광흡수층(301)이 순서대로 적층된 구조를 도시한 것으로서, 광반사층의 하부에 기재가 위치하고 있으나, 필수적인 것은 아니다. In the light absorption layer, light is absorbed in a light incident path and a reflection path, and light is reflected at the surface of the light absorption layer and the interface between the light absorption layer and the light reflection layer, respectively, so that the two reflected lights cause constructive or destructive interference. In the present specification, light reflected from the surface of the light absorption layer may be expressed as surface reflected light, and light reflected from the interface between the light absorption layer and the light reflection layer may be expressed as interface reflected light. 7 shows a schematic diagram of such an action principle. 7 shows a structure in which a substrate 101, a light reflection layer 201, and a light absorption layer 301 are sequentially stacked, and the substrate is located under the light reflection layer, but this is not essential.

상기 광흡수층의 표면에서 반사되는 광은 표면 반사광, 광흡수층과 광반사층의 계면에서 반사되는 광은 계면 반사광으로 표현될 수 있다.Light reflected from the surface of the light absorption layer may be expressed as surface reflected light, and light reflected from the interface between the light absorption layer and the light reflection layer may be expressed as interface reflected light.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 400 nm의 파장에서 굴절율(n)이 0 내지 8인 것이 바람직하며, 0 내지 7일 수 있고, 0.01 내지 3일 수 있고, 2 내지 2.5일 수 있다. 굴절율(n)은 sin θa/sin θb (θa은 광흡수층의 표면에서 입사되는 빛의 각이고, θb는 광흡수층의 내부에서 빛의 굴절각이다)으로 계산될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorbing layer preferably has a refractive index (n) of 0 to 8 at a wavelength of 400 nm, may be 0 to 7, may be 0.01 to 3, and may be 2 to 2.5. there is. The refractive index (n) may be calculated as sin θa/sin θb (where θa is an angle of light incident on the surface of the light absorption layer and θb is an angle of refraction of light inside the light absorption layer).

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 400 nm의 파장에서 소멸계수(k)가 0 초과 4 이하이고, 0.01 내지 4인 것이 바람직하며, 0.01 내지 3.5일 수 있고, 0.01 내지 3일 수 있으며, 0.1 내지 1일 수 있다. 소멸계수(k)는 -λ/4πI(dI/dx) (여기서, 광흡수층 내에서 경로 단위길이(dx), 예컨대 1m 당 빛의 강도의 감소분율 dI/I에 λ/4π를 곱한 값이고, 여기서 λ는 빛의 파장이다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer has an extinction coefficient (k) greater than 0 and less than or equal to 4 at a wavelength of 400 nm, preferably 0.01 to 4, 0.01 to 3.5, and 0.01 to 3. and may be 0.1 to 1. The extinction coefficient (k) is -λ / 4πI (dI / dx) (here, the unit length of the path in the light absorption layer (dx), for example, the reduction fraction dI / I of light intensity per 1 m is multiplied by λ / 4π, where λ is the wavelength of light.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 380 내지 780 nm의 파장에서 소멸계수(k)가 0 초과 4 이하이고, 0.01 내지 4인 것이 바람직하며, 0.01 내지 3.5일 수 있고, 0.01 내지 3일 수 있으며, 0.1 내지 1일 수 있다. 400 nm, 바람직하게는 380 내지 780 nm의 가시광선 전체 파장 영역에서 소멸계수(k)가 상기 범위이므로, 가시광선 범위 내에서 광흡수층의 역할을 할 수 있다. In one embodiment of the present specification, the light absorption layer has an extinction coefficient (k) greater than 0 and less than or equal to 4 at a wavelength of 380 to 780 nm, preferably 0.01 to 4, may be 0.01 to 3.5, and 0.01 to 3 It may be 0.1 to 1. Since the extinction coefficient (k) is in the above range in the entire visible light wavelength region of 400 nm, preferably 380 to 780 nm, it can serve as a light absorbing layer within the visible light range.

동일한 굴절율(n) 값을 가진다고 하더라도, 380 내지 780 nm에서 소멸계수(k) 값이 0인 경우와 소멸계수(k) 값이 0.01인 경우는

Figure 112018089225582-pat00003
>1 인 차이를 나타낼 수 있다. 예컨대, 유리/알루미늄/알루미늄산화물/공기층의 적층구조에, 광원으로서 D65(태양광 스펙트럼)을 조사한 경우를 시뮬레이션하였을 때, 상기 알루미늄산화물의 k값이 0일 때와 0.01일 때의 △E*ab은 하기 표 1과 같이 얻어졌다. 이 때, 알루미늄층의 두께(h1)은 120 nm이었고, 알루미늄산화물층의 두께(h)는 하기 표 1에 기재하였다. k값은 시뮬레이션을 위하여 임의로 0과 0.01로 설정하였으며, n값은 알루미늄의 값을 이용하였다. Even if they have the same refractive index (n) value, when the extinction coefficient (k) value is 0 at 380 to 780 nm and when the extinction coefficient (k) value is 0.01
Figure 112018089225582-pat00003
>1 can indicate a difference. For example, when simulating a case where D65 (sunlight spectrum) is irradiated as a light source to a laminated structure of glass/aluminum/aluminum oxide/air layer, ΔE * ab when the k value of the aluminum oxide is 0 and 0.01 was obtained as shown in Table 1 below. At this time, the thickness h1 of the aluminum layer was 120 nm, and the thickness h of the aluminum oxide layer was shown in Table 1 below. The k value was arbitrarily set to 0 and 0.01 for simulation, and the value of aluminum was used as the n value.

h [nm]h [nm] k = 0k = 0 k = 0.01k = 0.01 △E*abΔE*ab L*L* a*a* b*b* L*L* a*a* b*b* 4040 6.636.63 1.751.75 -1.25-1.25 85.1885.18 2.092.09 0.030.03 1.961.96 6060 9.839.83 -4.02-4.02 -8.30-8.30 87.8687.86 -4.06-4.06 -9.01-9.01 2.102.10 8080 5.605.60 -1.87-1.87 -2.58-2.58 94.4494.44 -2.05-2.05 -2.86-2.86 1.201.20

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 단일층일 수도 있고, 2층 이상의 다층일 수도 있다. 상기 광흡수층은 380 내지 780 nm에서 소멸계수(k)를 갖는 재료, 즉 소멸계수가 0 초과 4 이하, 바람직하게는 0.01 내지 4인 재료로 이루어질 수 있다. 예컨대, 상기 광흡수층은 금속, 준금속, 및 금속이나 준금속의 산화물, 질화물, 산질화물 및 탄화물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함할 수 있다. 상기 금속 또는 준금속의 산화물, 질화물, 산질화물 또는 탄화물은 당업자가 설정한 증착 조건 등에 의하여 형성할 수 있다. 광흡수층은 광반사층과 동일한 금속, 준금속, 2종이상의 합금 또는 산질화물을 포함할 수도 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers. The light absorption layer may be made of a material having an extinction coefficient (k) at 380 to 780 nm, that is, a material having an extinction coefficient of greater than 0 and less than or equal to 4, preferably 0.01 to 4. For example, the light absorption layer may include one or two or more selected from the group consisting of metals, metalloids, and oxides, nitrides, oxynitrides, and carbides of metals or metalloids. The oxide, nitride, oxynitride or carbide of the metal or metalloid may be formed according to deposition conditions set by a person skilled in the art. The light absorption layer may include the same metal as the light reflection layer, a metalloid, an alloy of two or more types, or an oxynitride.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 인듐(In), 티탄(Ti), 주석(Sn), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 네오디뮴(Nb), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co), 금(Au) 및 은(Ag) 중에서 선택되는 1 종 또는 2 종 이상의 재료, 이의 산화물; 이의 질화물; 이의 산질화물; 탄소 및 탄소 복합체 중 1 종 또는 2 종 이상의 재료를 포함하는 단일층 또는 다층이다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer is indium (In), titanium (Ti), tin (Sn), silicon (Si), germanium (Ge), aluminum (Al), copper (Cu), nickel ( Ni), vanadium (V), tungsten (W), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), neodymium (Nb), iron (Fe), chromium (Cr), cobalt (Co), gold (Au) and silver ( one or two or more materials selected from Ag) and oxides thereof; nitrides thereof; oxynitrides thereof; It is a single layer or multi-layer containing one or two or more materials of carbon and carbon composites.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 실리콘(Si) 또는 게르마늄(Ge)을 포함한다. 실리콘(Si) 또는 게르마늄(Ge)으로 이루어진 광흡수층은 400 nm에서 굴절율(n)이 0 내지 8이며, 0 내지 7일 수 있고, 소멸계수(k)가 0 초과 4 이하, 바람직하게는 0.01 내지 4이며, 0.01 내지 3 또는 0.01 내지 1일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer includes silicon (Si) or germanium (Ge). The light absorption layer made of silicon (Si) or germanium (Ge) has a refractive index (n) of 0 to 8 at 400 nm, which may be 0 to 7, and an extinction coefficient (k) of greater than 0 and 4 or less, preferably 0.01 to 7. 4, and may be 0.01 to 3 or 0.01 to 1.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 400 nm, 바람직하게는 380 내지 780nm에서 소멸계수(k)를 갖는 재료로 이루어질 수 있으며, 예컨대 광흡수층/광반사층은 CuO/Cu, CuON/Cu, CuON/Al, AlON/Al, AlN/Al/ AlON/Cu, AlN/Cu 등 재료로 형성될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer may be made of a material having an extinction coefficient (k) at 400 nm, preferably 380 to 780 nm, for example, the light absorption layer / light reflection layer is CuO / Cu, CuON / Cu , CuON/Al, AlON/Al, AlN/Al/AlON/Cu, AlN/Cu, etc.

상기 광반사층은 광을 반사할 수 있는 재료라면 특별히 한정되지 않지만, 광반사율은 재료에 따라 결정될 수 있으며, 예컨대 50% 이상에서 색상구현이 용이하다. 광반사율은 ellipsometer를 사용하여 측정할 수 있다.The light reflection layer is not particularly limited as long as it is a material capable of reflecting light, but the light reflectance may be determined according to the material, and color implementation is easy at, for example, 50% or more. Light reflectance can be measured using an ellipsometer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광반사층은 금속층, 금속산질화물층 또는 무기물층일 수 있다. 상기 광반사층은 단일층으로 구성될 수 있고, 2층 이상의 다층으로 구성될 수도 있다.In one embodiment of the present specification, the light reflection layer may be a metal layer, a metal oxynitride layer, or an inorganic material layer. The light reflection layer may be composed of a single layer or may be composed of two or more multi-layers.

일 예로서, 상기 광반사층은 인듐(In), 티탄(Ti), 주석(Sn), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 네오디뮴(Nb), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co), 금(Au) 및 은(Ag) 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 재료, 이의 산화물, 질화물 또는 산질화물, 탄소 및 탄소 복합체 중 1종 또는 2종 이상의 재료를 포함하는 단일층 또는 다층일 수 있다. As an example, the light reflection layer may include indium (In), titanium (Ti), tin (Sn), silicon (Si), germanium (Ge), aluminum (Al), copper (Cu), nickel (Ni), vanadium ( V), tungsten (W), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), neodymium (Nb), iron (Fe), chromium (Cr), cobalt (Co), gold (Au) and silver (Ag) It may be a single layer or multiple layers including one or two or more materials, oxides thereof, nitrides or oxynitrides thereof, and one or two or more materials of carbon and carbon composites.

예를 들어, 상기 광반사층은 상기 재료 중에서 선택되는 둘 이상의 합금, 이의 산화물, 질화물 또는 산질화물을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 광반사층은 상기 금속 중에서 선택되는 둘 이상의 합금을 포함할 수 있다. 더 구체적으로는 상기 광반사층은 몰리브덴, 알루미늄 또는 구리를 포함할 수 있다. 또 하나의 예에 따르면, 상기 광반사층은 탄소 또는 탄소 복합체를 포함하는 잉크를 이용하여 제조됨으로써 고저항의 반사층을 구현할 수 있다. 탄소 또는 탄소 복합체로는 카본블랙, CNT 등이 있다. 상기 탄소 또는 탄소 복합체를 포함하는 잉크는 전술한 재료 또는 이의 산화물, 질화물 또는 산질화물을 포함할 수 있으며, 예컨대 인듐(In), 티탄(Ti), 주석(Sn), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge). 알루미늄(Al), 구리(Cu), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 네오디뮴(Nb), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co), 금(Au) 및 은(Ag) 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 산화물이 포함될 수 있다. 상기 탄소 또는 탄소 복합체를 포함하는 잉크를 인쇄한 후 경화 공정이 추가로 수행될 수 있다.For example, the light reflection layer may include two or more alloys selected from the above materials, and oxides, nitrides, or oxynitrides thereof. For example, the light reflection layer may include two or more alloys selected from among the metals. More specifically, the light reflection layer may include molybdenum, aluminum or copper. According to another example, the light reflective layer may be manufactured using an ink containing carbon or a carbon composite, thereby realizing a high-resistance reflective layer. Carbon or carbon composites include carbon black, CNT, and the like. The ink containing the carbon or carbon composite may include the above-described material or an oxide, nitride, or oxynitride thereof, for example, indium (In), titanium (Ti), tin (Sn), silicon (Si), germanium ( Ge). Aluminum (Al), Copper (Cu), Nickel (Ni), Vanadium (V), Tungsten (W), Tantalum (Ta), Molybdenum (Mo), Neodymium (Nb), Iron (Fe), Chromium (Cr), One or two or more oxides selected from cobalt (Co), gold (Au), and silver (Ag) may be included. After printing the ink including the carbon or carbon composite, a curing process may be additionally performed.

일 실시상태에 따르면, 상기 광흡수층의 두께는 5 내지 500㎚, 예컨대 30 내지 500 nm 일 수 있다.According to one embodiment, the thickness of the light absorption layer may be 5 to 500 nm, for example, 30 to 500 nm.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광반사층의 두께는 최종 구조에서 원하는 색상에 따라 결정될 수 있으며, 예컨대 1 nm 이상, 바람직하게는 25 ㎚ 이상, 예컨대 50 ㎚ 이상, 바람직하게는 70 ㎚ 이상이다.In one embodiment of the present specification, the thickness of the light reflection layer may be determined according to a desired color in the final structure, for example, 1 nm or more, preferably 25 nm or more, such as 50 nm or more, preferably 70 nm or more. .

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 광흡수층 형성시 증착 조건 등을 조절하여 다양한 형상을 나타낼 수 있다. 예를 들어, 증착 시 경사 증착 방법 등을 통하여 광흡수층의 영역별 두께가 상이하도록 할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorbing layer may have various shapes by adjusting deposition conditions and the like when forming the light absorbing layer. For example, during deposition, the thickness of the light absorption layer may be different for each region through an inclined deposition method or the like.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 두께가 상이한 2 이상의 지점을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer includes two or more points having different thicknesses.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 두께가 상이한 2 이상의 영역을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer includes two or more regions having different thicknesses.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 경사면을 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer may include an inclined surface.

상기 실시상태에 따른 구조의 예시를 도 8 및 도 9에 나타내었다. 도 8 및 도 9은 광반사층(201) 및 광흡수층(301)이 적층된 구조를 예시한 것이다(기재 생략). 도 8 및 도 9에 따르면, 상기 광흡수층(301)은 서로 상이한 두께를 갖는 2 이상의 지점을 갖는다. 도 8에 따르면, A 지점과 B 지점에서의 광흡수층(301)의 두께가 상이하다. 도 9에 따르면, C 영역과 D 영역에서의 광흡수층(301)의 두께가 상이하다.Examples of the structure according to the embodiment are shown in FIGS. 8 and 9 . 8 and 9 illustrate a structure in which a light reflection layer 201 and a light absorption layer 301 are stacked (description omitted). 8 and 9, the light absorption layer 301 has two or more points having different thicknesses. According to FIG. 8, the thicknesses of the light absorption layer 301 at points A and B are different. According to FIG. 9 , the thickness of the light absorption layer 301 in region C and region D is different.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 상면이 경사각도가 0도 초과 90도 이하인 경사면을 갖는 영역을 하나 이상 포함하고, 상기 광흡수층은 어느 하나의 경사면을 갖는 영역에서의 두께와 상이한 두께를 갖는 영역을 하나 이상 포함한다. 상기 경사면이란, 광흡수층의 상면에 포함되는 어느 하나의 직선과 광반사층과 평행한 직선이 이루는 각도를 상기 경사면이라고 정의할 수 있다. 예를 들어, 도 8의 광흡수층의 상면의 경사각도는 약 20도일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorbing layer includes at least one region having an inclined surface with an inclination angle of more than 0 degrees and less than or equal to 90 degrees, and the light absorbing layer has a thickness different from that of the region having any one inclined surface. It includes one or more regions having a thickness. The inclined plane may be defined as an angle formed by any one straight line included in the upper surface of the light absorbing layer and a straight line parallel to the light reflecting layer. For example, the inclination angle of the upper surface of the light absorption layer of FIG. 8 may be about 20 degrees.

상기 광반사층의 상면의 경사도와 같은 표면 특성은 상기 광흡수층의 상면과 같을 수 있다. 예컨대, 광흡수층의 형성시 증착 방법을 이용함으로써, 광흡수층의 상면은 광반사층의 상면과 같은 경사도를 가질 수 있다. 그러나, 도 8의 광흡수층의 상면의 경사도는 광반사층의 상면의 경사도와는 차이가 있다.Surface characteristics such as a gradient of the upper surface of the light reflection layer may be the same as those of the upper surface of the light absorption layer. For example, by using a deposition method when forming the light absorption layer, the top surface of the light absorption layer may have the same inclination as the top surface of the light reflection layer. However, the gradient of the upper surface of the light absorption layer in FIG. 8 is different from the gradient of the upper surface of the light reflection layer.

도 10 및 도 11에 상면이 경사면을 갖는 광흡수층을 갖는 장식 부재의 구조를 예시하였다. 기재(101), 광반사층(201) 및 광흡수층(301)이 적층된 구조로서, 광흡수층(301)의 E 영역에서의 두께 t1과 F 영역에서의 두께 t2는 상이하다.10 and 11 illustrate the structure of a decorative member having a light absorption layer having an inclined upper surface. A structure in which a substrate 101, a light reflection layer 201, and a light absorption layer 301 are stacked, and the thickness t1 of the light absorption layer 301 in region E is different from the thickness t2 in region F.

도 10 및 도 11은 서로 마주보는 경사면, 즉 단면이 삼각형인 구조를 갖는 광흡수층에 관한 것이다. 도 11과 같이 서로 마주보는 경사면을 갖는 패턴의 구조에서는 동일한 조건에서 증착을 진행하더라도 삼각형 구조의 2개의 면에서 광흡수층의 두께가 달라질 수 있다. 이에 따라, 한번의 공정만으로서 두께가 상이한 2 이상의 영역을 갖는 광흡수층을 형성할 수 있다. 이에 의하여 광흡수층의 두께에 따라 발현 색상이 상이하게 된다. 이 때 광반사층의 두께는 일정 이상이면 색상 변화에 영향을 미치지 않는다.10 and 11 relate to a light absorption layer having a structure in which an inclined surface facing each other, that is, a triangular cross section is formed. As shown in FIG. 11 , in the structure of the pattern having inclined surfaces facing each other, the thickness of the light absorption layer may vary on two surfaces of the triangular structure even when deposition is performed under the same conditions. Accordingly, a light absorbing layer having two or more regions having different thicknesses can be formed in only one process. As a result, the expression color is different according to the thickness of the light absorption layer. At this time, if the thickness of the light reflection layer is greater than a certain level, the color change is not affected.

도 10 및 도 11은 기재(101)가 광반사층(201)측에 구비된 구조가 예시되었으나, 이와 같은 구조에 한정되지 않고, 기재(101)의 위치는 전술한 설명과 같이 이들은 다른 위치에 배치될 수도 있다. 10 and 11 illustrate a structure in which the base material 101 is provided on the side of the light reflection layer 201, but is not limited to this structure, and the position of the base material 101 is disposed at a different position as described above. It could be.

또한, 도 10의 기재(101)는 광반사층(201)과 접하는 면이 평탄면이나, 기재(101)의 광반사층(201)과 접하는 면은 광반사층(201)의 상면과 같은 기울기를 갖는 패턴을 가질 수 있다. 이를 도 11에 나타내었다. 이 경우, 기재의 패턴의 기울기 차이 때문에 광흡수층의 두께도 차이가 발생될 수 있다. 하지만 이에 한정되지 않고, 다른 증착방법을 이용하여 기재와 광흡수층이 다른 기울기를 가지게 만든다 하더라도, 패턴 양쪽으로 광흡수층의 두께가 다르게 하여 후술할 이색성을 나타낼 수 있다.In addition, in the substrate 101 of FIG. 10 , the surface in contact with the light reflection layer 201 is a flat surface, and the surface in contact with the light reflection layer 201 of the substrate 101 has a pattern having the same slope as the top surface of the light reflection layer 201 . can have This is shown in Figure 11. In this case, a difference in thickness of the light absorption layer may occur due to a difference in inclination of the pattern of the substrate. However, it is not limited thereto, and even if the substrate and the light absorbing layer are made to have different slopes by using another deposition method, the thickness of the light absorbing layer may be different on both sides of the pattern to exhibit dichroism, which will be described later.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 두께가 점진적으로 변하는 영역을 하나 이상 포함한다. 도 12에 광흡수층(301)의 두께가 점진적으로 변하는 구조를 예시하였다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer includes one or more regions in which the thickness gradually changes. 12 illustrates a structure in which the thickness of the light absorption layer 301 gradually changes.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 상면이 경사각도가 0도 초과 90도 이하인 경사면을 갖는 영역을 하나 이상 포함하고, 상기 경사면을 갖는 영역의 적어도 하나 이상은 광흡수층의 두께가 점진적으로 변하는 구조를 갖는다. 도 12에 상면이 경사면을 갖는 영역을 포함하는 광흡수층의 구조를 예시하였다. 도12의 G 영역과 H 영역 모두 광흡수층의 상면이 경사면을 갖고, 광흡수층의 두께가 점진적으로 변하는 구조를 갖는다.In one embodiment of the present specification, the light absorbing layer includes one or more regions of an upper surface having an inclined surface having an inclination angle of more than 0 degrees and less than or equal to 90 degrees, and at least one of the regions having the inclined surface has a gradual thickness of the light absorbing layer. has a structure that changes to 12 illustrates the structure of the light absorption layer including a region having an inclined surface on an upper surface thereof. Regions G and H of FIG. 12 both have a structure in which the upper surface of the light absorption layer has an inclined surface and the thickness of the light absorption layer gradually changes.

본 명세서에 있어서, 상기 광흡수층의 두께가 변하는 구조란, 상기 광흡수층의 두께 방향으로의 단면이, 광흡수층의 두께가 가장 작은 지점 및 광흡수층의 두께가 가장 큰 지점을 포함하고, 상기 광흡수층의 두께가 가장 작은 지점의 상기 광흡수층의 두께가 가장 큰 지점에 대한 방향에 따라 광흡수층의 두께가 증가하는 것을 의미한다. 이때, 상기 광흡수층의 두께가 가장 작은 지점 및 광흡수층의 두께가 가장 큰 지점은 광흡수층의 광반사층과의 계면 상의 어느 지점을 의미할 수 있다.In the present specification, the structure in which the thickness of the light absorbing layer is changed includes a cross section in the thickness direction of the light absorbing layer including a point where the thickness of the light absorbing layer is the smallest and a point where the thickness of the light absorbing layer is the largest, and the light absorbing layer It means that the thickness of the light absorption layer increases in the direction of the point where the thickness of the light absorption layer is the largest at the point where the thickness of is the smallest. In this case, the point where the thickness of the light absorption layer is the smallest and the point where the thickness of the light absorption layer is the largest may refer to any point on the interface between the light absorption layer and the light reflection layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 광흡수층은 경사각도가 1도 내지 90도 범위 내인 제1 경사면을 갖는 제1 영역을 포함하고, 상면이 상기 제1 경사면과 경사방향이 상이하거나, 경사 각도가 상이한 경사면을 갖거나, 상면이 수평인 2개 이상의 영역을 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 제1 영역 및 상기 2개 이상의 영역들에서의 광흡수층의 두께는 모두 서로 상이할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the light absorption layer includes a first region having a first inclined surface having an inclination angle in the range of 1 degree to 90 degrees, and the upper surface has a different inclination direction from the first inclined surface, or an inclination angle may further include two or more regions having different inclined surfaces or having horizontal upper surfaces. In this case, thicknesses of the light absorption layer in the first region and the two or more regions may all be different from each other.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 비대칭 구조의 단면을 갖는 볼록부 또는 오목부 형상을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a convex or concave shape having an asymmetric cross section.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 비대칭 구조의 단면을 갖는 볼록부 형상을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a convex shape having an asymmetric cross section.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 비대칭 구조의 단면을 갖는 오목부 형상을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a concave shape having an asymmetric cross section.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 비대칭 구조의 단면을 갖는 볼록부 형상 및 비대칭 구조의 단면을 갖는 오목부 형상을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a convex shape having an asymmetric cross section and a concave shape having an asymmetric cross section.

본 명세서에 있어서, "단면"이란 상기 볼록부 또는 오목부를 어느 한 방향으로 절단했을 때의 면을 의미한다. 예컨대, 단면이란 상기 장식 부재를 지면 상에 놓았을 때, 상기 지면과 평행한 방향 또는 지면에 대하여 수직인 방향으로, 상기 볼록부 또는 오목부를 절단했을 때의 면을 의미할 수 있다. 상기 실시상태에 따른 장식 부재의 패턴층의 볼록부 또는 오목부 형상의 표면은, 지면에 대하여 수직인 방향의 단면 중 적어도 하나가 비대칭 구조를 갖는 것을 특징으로 한다.In this specification, "cross section" means a surface when the said convex part or concave part is cut in one direction. For example, the cross-section may refer to a surface obtained by cutting the convex portion or concave portion in a direction parallel to or perpendicular to the ground when the decorative member is placed on the ground. The convex or concave surface of the pattern layer of the decorative member according to the embodiment is characterized in that at least one of cross sections in a direction perpendicular to the ground has an asymmetrical structure.

본 명세서에 있어서 "비대칭 구조의 단면"이란, 단면의 테두리로 구성된 도형이 선대칭성 또는 점대칭성을 갖지 않는 구조임을 의미한다. 선대칭성이란 어떤 도형을 한 직선을 중심으로 대칭시켰을 때 겹쳐지는 성질을 갖는 것을 말한다. 점대칭성은 어떤 도형을 한 점을 기준으로 180도 회전했을 때, 본래의 도형에 완전히 겹치는 대칭 성질을 갖는 것을 의미한다. 여기서, 상기 비대칭 구조의 단면의 테두리는 직선, 곡선 또는 이들의 조합일 수 있다.In this specification, "a cross section of an asymmetric structure" means a structure in which a figure composed of edges of a cross section does not have line symmetry or point symmetry. Axisymmetry is the property of overlapping when a figure is symmetrical about a straight line. Point symmetry means that when a figure is rotated 180 degrees around a point, it has a symmetrical property that completely overlaps the original figure. Here, the edge of the cross-section of the asymmetric structure may be a straight line, a curve, or a combination thereof.

상기와 같이, 패턴층의 표면에 포함되는 비대칭 구조의 단면을 갖는 볼록부 또는 오목부에 의하여, 상기 장식 부재는 이색성을 발현할 수 있다. 이색성이란, 보는 각도에 따라 다른 색상이 관측되는 것을 의미한다. 색의 표현은 CIE L*a*b* 로 표현이 가능하며, 색차는 L*a*b* 공간에서의 거리(△E*ab)를 이용하여 정의될 수 있다. 구체적으로, 색차는

Figure 112018089225582-pat00004
이며, 0<△E*ab<1의 범위 내에서는 관찰자가 색 차이를 인식할 수 없다[참고문헌: Machine Graphics and Vision 20(4): 383-411]. 따라서, 본 명세서에서는 이색성을 △E*ab>1로 정의할 수 있다.As described above, the decorative member may express dichroism by the convex portion or the concave portion having an asymmetric cross section included in the surface of the pattern layer. Dichroism means that different colors are observed depending on the viewing angle. The expression of color can be expressed by CIE L*a*b*, and the color difference can be defined using a distance (ΔE * ab) in L*a*b* space. Specifically, the color difference is
Figure 112018089225582-pat00004
, and within the range of 0<ΔE * ab<1, an observer cannot perceive a color difference [Reference: Machine Graphics and Vision 20(4): 383-411]. Therefore, in the present specification, dichroism can be defined as ΔE * ab>1.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 장식부재는 △E*ab>1의 이색성을 갖는다. 구체적으로, 상기 장식부재 전체에서 색좌표 CIE L*a*b* 상에서의 L*a*b*의 공간에서의 거리인 색차 △E*ab가 1을 초과할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the decorative member has dichroism of ΔE*ab>1. Specifically, the color difference ΔE * ab , which is a distance in the space of L*a*b* on the color coordinate CIE L*a*b*, in the entire decorative member may exceed 1.

도 13 및 도 14는 각각 볼록부(P1) 형상의 표면을 포함하는 패턴층을 포함하는 장식 부재(기재 미도시)를 예시적으로 나타낸다.13 and 14 each exemplarily shows a decorative member (not shown) including a pattern layer including a surface having a convex portion P1 shape.

도 13은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다(기재 및 보호층 미도시). 상기 패턴층의 표면은 상기 볼록부(P1)의 사이에 상기 볼록부에 비해 높이가 작은 제2 볼록부(P2)가 배치된 형상을 가질 수 있다. 이하, 제2 볼록부 이전에 성명된 볼록부를 제1 볼록부로 호칭할 수 있다.13 exemplarily shows a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification (substrate and protective layer not shown). The surface of the pattern layer may have a shape in which second convex portions P2 having a smaller height than the convex portions P1 are disposed between the convex portions P1. Hereinafter, the convex part named before the second convex part may be referred to as a first convex part.

본 명세서에서, 볼록부(P1)의 경사각(a2, a3)은 볼록부(P1)의 경사면(S1, S2)과 패턴층의 수평면이 이루는 각도를 의미할 수 있다. 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한 도면 상에서 제1 경사면은 볼록부의 왼쪽 경사면으로 정의할 수 있고, 제2 경사면은 볼록부의 오른쪽 경사면을 의미할 수 있다.In the present specification, the inclination angles a2 and a3 of the convex portion P1 may mean angles formed between the inclined surfaces S1 and S2 of the convex portion P1 and the horizontal plane of the pattern layer. Unless otherwise specified in the present specification, the first inclined surface may be defined as the left inclined surface of the convex part in the drawing, and the second inclined surface may mean the right inclined surface of the convex part.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층의 볼록부(P1)는 단면이 다각형이고 일 방향으로 연장하는 기둥 형상을 가질 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 볼록부(P1)의 단면은 삼각형이거나 또는 삼각형의 첨단부(뾰족한 부분 또는 꼭지점 부분)에 작은 오목부를 더 포함하는 형상을 가질 수 있다.In one embodiment of the present specification, the convex portion P1 of the pattern layer may have a polygonal cross section and a columnar shape extending in one direction. In one example, the cross section of the convex portion P1 may be triangular or may have a shape further including a small concave portion at the tip (pointed portion or vertex portion) of the triangle.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 비대칭 구조의 단면은 경사각이 서로 상이한 제1 경사면 및 제2 경사면을 포함한다.In one embodiment of the present specification, the cross section of the asymmetric structure includes a first inclined surface and a second inclined surface having different inclination angles.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 경사면(S1)과 제2 경사면(S2)이 이루는 각도(a1)는 80도 내지 100도 범위 내일 수 있다. 상기 각도(a1)는 구체적으로 80도 이상, 83도 이상, 86도 이상 또는 89도 이상일 수 있고, 100도 이하, 97도 이하, 94도 이하 또는 91도 이하일 수 있다. 상기 각도는 제1 경사면과 제2 경사면으로 이루어지는 꼭지점의 각도를 의미할 수 있다. 상기 제1 경사면과 제2 경사면이 서로 꼭지점을 이루지 않는 경우 상기 제1 경사면과 제2 경사면을 가상으로 연장하여 꼭지점을 이루도록 한 상태의 꼭지점의 각도를 의미할 수 있다.In one embodiment of the present specification, an angle a1 formed between the first inclined surface S1 and the second inclined surface S2 may be within a range of 80 degrees to 100 degrees. Specifically, the angle a1 may be 80 degrees or more, 83 degrees or more, 86 degrees or more, or 89 degrees or more, and may be 100 degrees or less, 97 degrees or less, 94 degrees or less, or 91 degrees or less. The angle may mean an angle of a vertex formed of the first inclined surface and the second inclined surface. When the first inclined surface and the second inclined surface do not form a vertex, it may mean an angle of a vertex in a state in which the first inclined surface and the second inclined surface are virtually extended to form a vertex.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부(P1)의 제1 경사면의 경사각(a2)과 제2 경사면의 경사각(a3)의 차이는 30도 내지 70도 범위 내일 수 있다. 상기 제1 경사면의 경사각(a2)과 제2 경사면의 경사각(a3)의 차이는 예를 들어, 30도 이상, 35 도 이상, 40 도 이상 또는 45 도 이상일 수 있고, 70 도 이하, 65 도 이하, 60 도 이하 또는 55도 이하일 수 있다. 제1 경사면과 제2 경사면의 경사각의 차이가 상기 범위 내인 경우 방향에 따른 색 표현의 구현의 측면에서 유리할 수 있다. 즉, 이색성이 더욱 크게 나타날 수 있다.In one embodiment of the present specification, the difference between the inclination angle a2 of the first inclined surface and the inclined angle a3 of the second inclined surface of the convex portion P1 may be within a range of 30 degrees to 70 degrees. The difference between the angle of inclination (a2) of the first inclined surface and the angle of inclination (a3) of the second inclined surface may be, for example, 30 degrees or more, 35 degrees or more, 40 degrees or more, or 45 degrees or more, 70 degrees or less, 65 degrees or less. , 60 degrees or less or 55 degrees or less. When the difference between the inclination angles of the first inclined surface and the second inclined surface is within the above range, it may be advantageous in terms of implementing color expression according to the direction. That is, dichroism may appear larger.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부(P1)의 높이(H1)는 5㎛ 내지 30㎛ 일 수 있다. 볼록부의 높이가 상기 범위 내인 경우 생산 공정적 측면에서 유리할 수 있다. 본 명세서에서 볼록부의 높이는 상기 패턴층의 수평면을 기준으로 볼록부의 가장 높은 부분과 가장 낮은 부분의 최단 거리를 의미할 수 있다. 이 볼록부의 높이와 관련된 설명은 전술한 오목부의 깊이에도 동일한 수치 범위가 적용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the height H1 of the convex portion P1 may be 5 μm to 30 μm. When the height of the convex portion is within the above range, it may be advantageous in terms of production process. In this specification, the height of the convex part may mean the shortest distance between the highest and lowest part of the convex part with respect to the horizontal plane of the pattern layer. In the description regarding the height of the convex portion, the same numerical range may be applied to the depth of the concave portion described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부(P1)의 폭(W1)은 10㎛ 내지 90㎛ 일 수 있다. 볼록부의 폭이 상기 범위 내인 경우 패턴을 가공 및 형성하는데 공정적 측면에서 유리할 수 있다. 상기 볼록부(P1)의 폭(W1)은 예를 들어 10㎛ 이상, 15㎛ 이상, 20㎛ 이상 또는 25㎛ 이상일 수 있고, 90㎛ 이하, 80㎛이하, 70㎛이하, 60㎛이하, 50㎛이하, 40㎛이하 또는 35㎛이하일 수 있다. 이 폭과 관련된 설명은 볼록부 뿐만 아니라, 전술한 오목부에도 적용될 수 있다. In one embodiment of the present specification, the width W1 of the convex portion P1 may be 10 μm to 90 μm. When the width of the convex portion is within the above range, it may be advantageous in terms of process in processing and forming the pattern. The width W1 of the convex portion P1 may be, for example, 10 μm or more, 15 μm or more, 20 μm or more, or 25 μm or more, and 90 μm or less, 80 μm or less, 70 μm or less, 60 μm or less, or 50 μm or less. It may be ㎛ or less, 40 ㎛ or less, or 35 ㎛ or less. The description regarding this width can be applied not only to the convex portion, but also to the aforementioned concave portion.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부(P1) 사이의 간격은 0㎛ 내지 20㎛ 일 수 있다. 본 명세서에서 볼록부 사이의 간격은 인접하는 2개의 볼록부에서, 하나의 볼록부가 끝나는 지점과 다른 하나의 볼록부가 시작하는 지점의 최단 거리를 의미할 수 있다. 상기 볼록부 사이의 간격이 적절히 유지되는 경우, 장식 부재를 볼록부의 경사각이 더 큰 경사면 쪽에서 바라볼 때 상대적으로 밝은 색을 나타내야 하는데 반사 영역이 쉐이딩으로 어두워 보이는 현상을 개선할 수 있다. 상기 볼록부 사이에는 후술하는 바와 같이 상기 볼록부에 비해 높이가 더 작은 제2 볼록부가 존재할 수 있다. 이 간격과 관련된 설명은 볼록부 뿐만 아니라, 전술한 오목부에도 적용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the interval between the convex portions P1 may be 0 μm to 20 μm. In the present specification, the distance between convex parts may mean the shortest distance between two adjacent convex parts, where one convex part ends and the other convex part starts. If the distance between the convex portions is appropriately maintained, a phenomenon in which the reflective area appears dark due to shading when the decorative member should exhibit a relatively bright color when viewed from an inclined surface having a greater inclination angle of the convex portion can be improved. As will be described later, a second convex portion having a smaller height than the convex portion may exist between the convex portions. The description regarding this spacing can be applied not only to the convex portion but also to the aforementioned concave portion.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 볼록부(P2)의 높이(H2)는 상기 제1 볼록부(P1)의 높이(H1)의 1/5 내지 1/4의 범위를 가질 수 있다. 예를 들어 상기 제1 볼록부와 제2 볼록부의 높이의 차이(H1-H2)는 10㎛ 내지 30㎛ 일 수 있다. 제2 볼록부의 폭(W2)은 1㎛ 내지 10㎛ 일 수 있다. 상기 제2 볼록부의 폭(W2)는 구체적으로 1 ㎛ 이상, 2㎛ 이상, 3㎛ 이상, 4㎛ 이상 또는 4.5㎛ 이상일 수 있고, 10㎛ 이하, 9㎛ 이하, 8㎛ 이하, 7㎛ 이하, 6㎛ 이하 또는 5.5㎛ 이하일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the height H2 of the second convex portion P2 may have a range of 1/5 to 1/4 of the height H1 of the first convex portion P1. . For example, the difference (H1-H2) between the heights of the first convex portion and the second convex portion may be 10 μm to 30 μm. A width W2 of the second convex portion may be 1 μm to 10 μm. The width W2 of the second convex portion may be specifically 1 μm or more, 2 μm or more, 3 μm or more, 4 μm or more, or 4.5 μm or more, 10 μm or less, 9 μm or less, 8 μm or less, 7 μm or less, It may be 6 μm or less or 5.5 μm or less.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제2 볼록부는 경사각이 서로 상이한 2개의 경사면(S3, S4)을 가질 수 있다. 상기 제2 볼록부의 상기 2개의 경사면이 이루는 각도(a4)는 20도 내지 100도일 수 있다. 상기 각도(a4)는 구체적으로 20도 이상, 30도 이상, 40도 이상, 50도 이상, 60도 이상, 70도 이상, 80도 이상 또는 85도 이상일 수 있고, 100도 이하 또는 95도 이하일 수 있다. 상기 제2 볼록부의 양 경사면의 경사각의 차이(a6-a5)는 0도 내지 60 일 수 있다. 상기 경사각의 차이(a6-a5)는 0도 이상, 10도 이상, 20도 이상, 30도 이상, 40도 이상 또는 45도 이상일 수 있고, 60도 이하 또는 55도 이하일 수 있다. 상기 제2 볼록부의 치수가 상기 범위 내인 경우 경사면 각도가 큰 측면에서 빛의 유입을 증가시켜 밝은 색상을 형성할 수 있다는 측면에서 유리할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the second convex portion may have two inclined surfaces S3 and S4 having different inclination angles. An angle a4 formed by the two sloped surfaces of the second convex portion may range from 20 degrees to 100 degrees. The angle a4 may be 20 degrees or more, 30 degrees or more, 40 degrees or more, 50 degrees or more, 60 degrees or more, 70 degrees or more, 80 degrees or more, or 85 degrees or more, and may be 100 degrees or less or 95 degrees or less. there is. A difference (a6-a5) between inclination angles of both inclined surfaces of the second convex portion may be 0 degrees to 60 degrees. The difference in inclination angle (a6-a5) may be 0 degrees or more, 10 degrees or more, 20 degrees or more, 30 degrees or more, 40 degrees or more, or 45 degrees or more, or 60 degrees or less, or 55 degrees or less. When the size of the second convex portion is within the above range, it may be advantageous in that bright colors can be formed by increasing the inflow of light on the side having a large slope angle.

도 14는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다(기재 미도시). 상기 패턴층의 표면은 상기 볼록부(P1)의 첨단부(뾰족한 부분)에 상기 볼록부에 비해 높이가 작은 오목부(P3)를 더 포함하는 형상을 가질 수 있다. 이러한 장식 부재는 이미지 색이 보는 각도에 따라 은은하게 달라지는 효과를 나타낼 수 있다.14 illustrates a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification (not shown). The surface of the pattern layer may have a shape further including a concave portion P3 having a smaller height than the convex portion at the tip (pointed portion) of the convex portion P1. Such a decoration member may exhibit an effect in which the color of an image is subtly changed according to a viewing angle.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 오목부(P3)의 높이(H3)는 3㎛ 내지 15㎛일 수 있다. 상기 오목부(P3)의 높이(H3)는 구체적으로 3㎛ 이상일 수 있고, 15㎛ 이하, 10㎛ 이하, 5㎛ 이하일 수 있다. 상기 오목부는 경사각이 서로 상이한 2개의 경사면(S5, S6)을 가질 수 있다. 상기 오목부의 상기 2개의 경사면이 이루는 각도(a7)는 20도 내지 100도일 수 있다. 상기 각도(a7)는 구체적으로 20도 이상, 30도 이상, 40도 이상, 50도 이상, 60도 이상, 70도 이상, 80도 이상 또는 85도 이상일 수 있고, 100도 이하 또는 95도 이하일 수 있다. 상기 오목부의 양 경사면의 경사각의 차이(a9-a8)는 0도 내지 60 일 수 있다. 상기 경사각의 차이(a9-a8)는 0도 이상, 10도 이상, 20도 이상, 30도 이상, 40도 이상 또는 45도 이상일 수 있고, 60도 이하 또는 55도 이하일 수 있다. 상기 오목부의 치수가 상기 범위 내인 경우 경면에서 색감 추가가 가능하다는 측면에서 유리할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the height H3 of the concave portion P3 may be 3 μm to 15 μm. The height H3 of the concave portion P3 may be specifically 3 μm or more, 15 μm or less, 10 μm or less, or 5 μm or less. The concave portion may have two inclined surfaces S5 and S6 having different inclination angles. An angle a7 formed by the two inclined surfaces of the concave portion may range from 20 degrees to 100 degrees. The angle a7 may be 20 degrees or more, 30 degrees or more, 40 degrees or more, 50 degrees or more, 60 degrees or more, 70 degrees or more, 80 degrees or more, or 85 degrees or more, and may be 100 degrees or less or 95 degrees or less. there is. A difference (a9-a8) between inclination angles of both inclined surfaces of the concave portion may be 0 degrees to 60 degrees. The difference between the inclination angles (a9-a8) may be 0 degrees or more, 10 degrees or more, 20 degrees or more, 30 degrees or more, 40 degrees or more, or 45 degrees or more, and may be 60 degrees or less or 55 degrees or less. When the size of the concave portion is within the above range, it may be advantageous in that color can be added to the mirror surface.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 볼록부 또는 오목부의 형상을 포함하고, 각 형상은 역상의 구조로 배열된 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer may include a shape of a convex portion or a concave portion, and each shape may be arranged in a reversed structure.

도 15는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다. 도 15의 (a)에 나타낸 바와 같이, 상기 패턴층의 표면은 복수의 볼록부가 180도의 역상의 구조로 배열된 형상을 가질 수 있다. 구체적으로 상기 패턴층의 표면은 제1 경사면에 비해 제2 경사면의 경사각이 큰 제1 영역(C1) 및 제1 경사면에 비해 제2 경사면의 경사각이 큰 제2 영역(C2)을 포함할 수 있다. 하나의 예시에서, 상기 제1 영역에 포함되는 볼록부는 제1볼록부(P1)로 호칭할 수 있고, 상기 제2 영역에 포함되는 볼록부는 제4 볼록부(P4)로 호칭할 수 있다. 상기 제1 볼록부(P1) 및 제4 볼록부(P4)의 높이, 폭, 경사각 및 제1 및 제2 경사면이 이루는 각도는 상기 볼록부(P1)의 항목에서 기술한 내용이 동일하게 적용될 수 있다. 도 15의 (b)에 나타낸 바와 같이, 상기 제1 영역 및 제2 영역 중 어느 하나의 영역은 이미지 또는 로고에 대응하고, 다른 하나의 영역은 바탕 부분에 대응하도록 구성할 수 있다. 이러한 장식 부재는 이미지 또는 로고 색이 보는 각도에 따라 은은하게 달라지는 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 이미지 또는 로고 부분과 바탕 부분이 바라보는 방향에 따라 색이 서로 바뀌어 보이는 장식 효과를 나타낼 수 있다. 15 illustratively illustrates a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification. As shown in (a) of FIG. 15 , the surface of the pattern layer may have a shape in which a plurality of convex portions are arranged in a 180 degree reversed structure. Specifically, the surface of the pattern layer may include a first region C1 in which the inclination angle of the second inclined surface is greater than that of the first inclined surface, and a second region C2 in which the inclination angle of the second inclined surface is greater than that of the first inclined surface. . In one example, the convex part included in the first area may be referred to as a first convex part P1, and the convex part included in the second area may be referred to as a fourth convex part P4. The height, width, angle of inclination of the first convex part P1 and the fourth convex part P4, and the angle formed by the first and second inclined surfaces may be equally applied to the contents described in the item of the convex part P1. there is. As shown in (b) of FIG. 15, one of the first area and the second area may correspond to an image or logo, and the other area may correspond to a background portion. Such a decorative member may exhibit an effect in which the color of an image or logo subtly changes depending on a viewing angle. In addition, a decorative effect in which the color of the image or logo part and the background part are changed depending on the direction in which they are viewed may be displayed.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 영역 및 제2 영역은 각각 복수의 볼록부를 포함할 수 있다. 상기 제1 영역 및 제2 영역의 폭 및 볼록부의 개수는 목적하는 이미지 또는 로고의 크기를 고려하여 적절히 조절될 수 있다. In one embodiment of the present specification, each of the first region and the second region may include a plurality of convex portions. The width of the first area and the second area and the number of convex portions may be appropriately adjusted in consideration of the size of a target image or logo.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 볼록부 형상을 포함하고, 상기 볼록부 형상의 단면은 제1 경사변 및 제2 경사변을 포함하며, 상기 제1 경사변 및 제2 경사변의 형태는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 직선 형태 또는 곡선 형태이다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a convex shape, and a cross section of the convex shape includes a first inclined edge and a second inclined edge, and the first inclined edge and the second inclined edge have The shapes are the same as or different from each other, and each is a straight shape or a curved shape.

도 16은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다. 패턴층의 단면은 볼록부 형상을 가지고, 볼록부 형상의 단면은 제1 경사변을 포함하는 제1 영역(D1) 및 제2 경사변을 포함하는 제2 영역(D2)를 포함한다. 상기 제1 경사변 및 제2 경사변은 직선 형태이다. 제1 경사변과 제2 경사변이 이루는 각도(c3)는 75도 내지 105도, 또는 80도 내지 100도일 수 있다. 제1 경사변과 지면이 이루는 각도(c1)와 제2 경사변과 지면이 이루는 각도(c2)는 상이하다. 예를 들면, c1 및 c2의 조합은 20도/80도, 10도/70도 또는 30도/70도일 수 있다. 상기 각도는 제1 경사변과 제2 경사변으로 이루어지는 꼭지점의 각도를 의미할 수 있다. 상기 제1 경사변과 제2 경사변이 서로 꼭지점을 이루지 않는 경우 상기 제1 경사변과 제2 경사변을 가상으로 연장하여 꼭지점을 이루도록 한 상태의 꼭지점의 각도를 의미할 수 있다.16 illustratively illustrates a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification. The cross section of the pattern layer has a shape of a convex portion, and the cross section of the shape of the convex portion includes a first area D1 including the first inclined edge and a second area D2 including the second inclined edge. The first inclined edge and the second inclined edge have a straight line shape. An angle c3 formed by the first inclined edge and the second inclined edge may be 75 degrees to 105 degrees or 80 degrees to 100 degrees. An angle c1 formed between the first inclined edge and the ground is different from an angle c2 formed between the second inclined edge and the ground. For example, the combination of c1 and c2 may be 20 degrees/80 degrees, 10 degrees/70 degrees, or 30 degrees/70 degrees. The angle may mean an angle of a vertex formed of the first inclined side and the second inclined side. When the first inclined edge and the second inclined edge do not form a vertex, it may mean an angle of a vertex in a state in which the first inclined edge and the second inclined edge are virtually extended to form a vertex.

도 17은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다. 패턴층의 단면은 볼록부 형상을 가지고, 볼록부 형상의 단면은 제1 경사변을 포함하는 제1 영역(E1) 및 제2 경사변을 포함하는 제2 영역(E2)를 포함한다. 상기 제1 경사변은 및 제2 경사변 중 어느 하나 이상은 곡선 형태일 수 있다. 예를 들어, 제1 경사변과 제2 경사변 모두 곡선 형태일 수 있고, 제1 경사변은 직선 형태이고, 제2 경사변은 곡선 형태일 수 있다. 제1 경사변은 직선 형태이고, 제2 경사변은 곡선 형태인 경우, 각도 c1은 각도 c2보다 클 수 있다. 도 17은 제1 경사변이 직선 형태이고, 제2 경사변이 곡선 형태인 것을 도시한 것이다. 곡선 형태를 갖는 경사변이 지면과 이루는 각도는 경사변과 지면이 맞닿는 지점으로부터 제1 경사변과 제2 경사변이 접하는 지점까지 임의의 직선을 그었을 때, 그 직선과 지면이 이루는 각도로부터 계산될 수 있다. 곡선 형태의 제2 경사변은 패턴층의 높이에 따라 굴곡도가 상이할 수 있고, 곡선은 곡률반경을 가질 수 있다. 상기 곡률반경은 볼록부 형상의 폭(E1+E2)의 10배 이하일 수 있다. 도 17의 (a)는 곡선의 곡률 반경이 볼록부 형상의 폭의 2배인 것을 나타낸 것이고, 도 17의 (b)는 곡선의 곡률 반경이 볼록부 형상의 폭의 1배인 것을 나타낸 것이다. 볼록부의 폭(E1+E2)에 대한 곡률이 있는 부분(E2)의 비율은 90% 이하일 수 있다. 도 17의 (a) 및 (b)는 상기 볼록부의 폭(E1+E2)에 대한 곡률이 있는 부분(E2)의 비율이 60%인 것을 도시한 것이다.17 illustratively illustrates a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification. The cross section of the pattern layer has a shape of a convex portion, and the cross section of the shape of the convex portion includes a first area E1 including the first inclined edge and a second area E2 including the second inclined edge. At least one of the first inclined edge and the second inclined edge may have a curved shape. For example, both the first inclined edge and the second inclined edge may have a curved shape, the first inclined edge may have a straight line shape, and the second inclined edge may have a curved shape. When the first inclined edge has a straight line shape and the second inclined edge has a curved shape, the angle c1 may be greater than the angle c2. 17 illustrates that the first inclined edge has a straight line shape and the second inclined edge has a curved shape. The angle formed by the curved slope with the ground can be calculated from the angle formed by the straight line and the ground when an arbitrary straight line is drawn from the point where the slope and the ground meet to the point where the first and second slopes meet. . The curvature of the curved second inclined side may be different depending on the height of the pattern layer, and the curved line may have a radius of curvature. The radius of curvature may be 10 times or less than the width (E1+E2) of the shape of the convex portion. Fig. 17 (a) shows that the radius of curvature of the curve is twice the width of the convex shape, and Fig. 17 (b) shows that the radius of curvature of the curve is one time the width of the convex shape. A ratio of the curved portion E2 to the width E1+E2 of the convex portion may be 90% or less. 17 (a) and (b) show that the ratio of the curved portion E2 to the width (E1+E2) of the convex portion is 60%.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부 형상의 단면은 삼각형 또는 사각형의 다각형 형태일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the cross section of the shape of the convex portion may be a triangular or quadrangular polygonal shape.

도 18는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다. 패턴층의 단면은 볼록부 형상을 가지고, 볼록부 형상의 단면은 사각형 형태일 수 있다. 상기 사각형 형태는 일반적인 사각형 형태일 수 있으며, 각 경사변의 경사각이 서로 상이하다면 특별히 제한되지 않는다. 상기 사각형 형태는 삼각형을 일부 자르고 남은 형태일 수 있다. 예를 들면, 한 쌍의 대변이 평행한 사각형인 사다리꼴, 또는 서로 평행한 대변의 쌍이 존재하지 않는 사각형 형태일 수 있다. 볼록부 형상의 단면은 제1 경사변을 포함하는 제1 영역(F1), 제2 경사변을 포함하는 제2 영역(F2) 및 제3 경사변을 포함하는 제3 영역(F3)를 포함한다. 제3 경사변은 지면에 평행할 수도 있고, 평행하지 않을 수도 있다. 예를 들어, 사각형 형태가 사다리꼴인 경우 제3 경사변은 지면에 평행하다. 제1 경사변 내지 제3 경사변 중 어느 하나 이상은 곡선 형태일 수 있으며, 곡선 형태에 대한 내용은 상술한 바와 같다. F1+F2+F3를 모두 합한 길이는 볼록부 패턴의 폭으로 정의될 수 있으며, 폭에 대한 내용은 상술한 바와 같다.18 illustratively shows a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification. A cross section of the pattern layer may have a shape of a convex portion, and a cross section of the shape of the convex portion may have a rectangular shape. The quadrangular shape may be a general quadrangular shape, and is not particularly limited as long as the inclination angles of the respective inclined sides are different from each other. The quadrangular shape may be a shape remaining by partially cutting a triangle. For example, it may be a trapezoid in which one pair of opposite sides are parallel, or a quadrilateral in which no pair of opposite sides are parallel. The cross section of the convex portion includes a first area F1 including a first inclined edge, a second area F2 including a second inclined edge, and a third area F3 including a third inclined edge. . The third inclined edge may or may not be parallel to the ground. For example, when the rectangular shape is a trapezoid, the third inclined side is parallel to the ground. Any one or more of the first to third inclined edges may have a curved shape, and the curved shape is as described above. The total length of F1+F2+F3 may be defined as the width of the convex pattern, and the width is as described above.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 2 이상의 볼록부 형상을 포함하고, 각 볼록부 형상 사이의 일부 또는 전부에 평탄부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer may include two or more convex portion shapes, and may further include flat portions in some or all of the convex portion shapes.

도 19는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 패턴층을 포함하는 장식 부재를 예시적으로 나타낸다. 패턴층의 각 볼록부 사이에 평탄부를 포함할 수 있다. 상기 평탄부는 볼록부가 존재하지 않는 영역을 의미한다. 패턴층이 평탄부를 더 포함하는 것을 제외하고는 나머지 구성요소(D1, D2, c1, c2, c3, 제1 경사변 및 제2 경사변)에 대한 설명은 상술한 바와 같다. 한편, D1+D2+G1을 모두 합한 길이는 패턴의 피치로 정의되는데, 상술한 패턴의 폭과는 차이가 있다.19 illustratively illustrates a decorative member including a pattern layer according to an exemplary embodiment of the present specification. A flat portion may be included between each convex portion of the pattern layer. The flat portion means a region in which no convex portion exists. Except for the fact that the pattern layer further includes a flat portion, descriptions of the remaining components (D1, D2, c1, c2, c3, the first inclined edge and the second inclined edge) are the same as described above. Meanwhile, the total length of D1 + D2 + G1 is defined as the pitch of the pattern, which is different from the width of the pattern described above.

도 20은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 장식 부재의 패턴층과 그 제조방법을 예시적으로 나타낸 것이다. 패턴층의 단면은 볼록부 형상을 가지고, 볼록부 형상의 단면은 ABO1삼각형 형상의 특정 영역을 제거한 형태일 수 있다. 상기 제거되는 특정 영역을 정하는 방법은 아래와 같다. 경사각 c1 및 c2에 대한 내용은 상술한 것과 동일하다.20 illustratively illustrates a pattern layer of a decorative member and a manufacturing method thereof according to an exemplary embodiment of the present specification. The cross section of the pattern layer may have a shape of a convex part, and the cross section of the shape of the convex part may have a shape in which a specific area of the ABO1 triangular shape is removed. A method of determining the specific area to be removed is as follows. The contents of the inclination angles c1 and c2 are the same as those described above.

1) AO1 선분을 L1:L2 비율로 나누는 AO1 선분 상의 임의의 점 P1을 설정한다.1) Set an arbitrary point P1 on the AO1 line segment that divides the AO1 line segment at the L1:L2 ratio.

2) BO1 선분을 m1:m2 비율로 나누는 BO1 선분 상의 임의의 점 P2를 설정한다. 2) Set an arbitrary point P2 on the BO1 line segment that divides the BO1 line segment in the m1:m2 ratio.

3) AB 선분을 n1: n2 비율로 나누는 AB 선분 상의 임의의 점 O2를 설정한다.3) Set an arbitrary point O2 on the AB line segment that divides the AB line segment at the ratio of n1:n2.

4) O2O1 선분을 o1:o2 비율로 나누는 O1O2 선분 상의 임의의 점 P3를 설정한다.4) Set an arbitrary point P3 on the O1O2 line segment that divides the O2O1 line segment at the o1:o2 ratio.

이때, L1:L2, m1:m2, n1:n2 및 o1:o2 비율은 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 1:1000 내지 1000:1일 수 있다.In this case, the ratios of L1:L2, m1:m2, n1:n2, and o1:o2 may be the same as or different from each other, and each independently may be 1:1000 to 1000:1.

5) P1O1P2P3 다각형이 이루는 영역을 제거한다.5) Remove the area formed by the P1O1P2P3 polygon.

6) ABP2P3P1 다각형이 이루는 형상을 볼록부의 단면으로 한다.6) The shape of the ABP2P3P1 polygon is taken as the cross section of the convex portion.

상기 패턴층은 L1:L2, m1:m2, n1:n2 및 o1:o2 비율을 조절함으로써 다양한 형태로 변형될 수 있다. 예를 들어, 상기 L1 및 m1이 커지는 경우 패턴의 높이가 높아질 수 있고, 상기 o1이 커지는 경우 볼록부 상에 형성되는 오목부의 높이가 작아질 수 있으며, n1의 비율을 조절함으로써 볼록부에 형성되는 오목부의 가장 낮은 지점의 위치를 볼록부의 경사변 중 어느 한쪽에 가깝게 조절할 수 있다.The pattern layer may be transformed into various shapes by adjusting ratios of L1:L2, m1:m2, n1:n2, and o1:o2. For example, when the L1 and m1 increase, the height of the pattern may increase, and when the o1 increases, the height of the concave portion formed on the convex portion may decrease, and by adjusting the ratio of n1, the height of the concave portion formed on the convex portion The location of the lowest point of the concave portion can be adjusted close to either side of the slope of the convex portion.

도 21은 도 20에 따른 장식 부재의 패턴층의 제조방법에 의해 제조된 패턴층을 예시적으로 나타낸 것이다. 상기 L1:L2, m1:m2, 및 o1:o2 비율이 모두 동일한 경우, 단면의 형상이 사다리꼴인 형태일 수 있다. 사다리꼴의 높이(ha, hb)는 상기 L1:L2의 비율을 조절함으로써 달라질 수 있다. 예를 들어, 도 21(a)는 상기 L1:L2의 비율이 1:1이고, 도 21(b)는 상기 L1:L2의 비율이 2:1인 경우에 제조되는 패턴층을 나타낸 것이다.FIG. 21 illustratively illustrates a pattern layer manufactured by the method of manufacturing a pattern layer of a decorative member according to FIG. 20 . When the L1:L2, m1:m2, and o1:o2 ratios are all the same, the shape of the cross section may be trapezoidal. The heights of the trapezoid (ha, hb) can be varied by adjusting the ratio of L1:L2. For example, FIG. 21(a) shows a pattern layer manufactured when the ratio of L1:L2 is 1:1, and FIG. 21(b) shows a pattern layer manufactured when the ratio of L1:L2 is 2:1.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 볼록부 또는 오목부 형상의 표면은 상기 볼록부 또는 오목부 형상을 2 이상 포함한다. 이와 같이 2 이상의 볼록부 또는 오목부 형상의 표면을 가짐으로써 이색성을 더 크게 할 수 있다. 이 때 2 이상의 볼록부 또는 오목부 형상은 동일한 형상이 반복된 형태일 수도 있으나, 서로 상이한 형상들이 포함될 수 있다.In one embodiment of the present specification, the surface of the convex or concave shape includes two or more convex or concave shapes. In this way, dichroism can be further increased by having two or more convex or concave surfaces. In this case, the two or more convex or concave shapes may be the same shape repeated, but different shapes may be included.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 비대칭 구조의 단면을 갖는 볼록부 또는 오목부 형상은 적어도 하나의 단면이 경사각이 상이하거나, 굴곡도가 상이하거나, 변의 형태가 상이한 2 이상의 변을 포함한다. 예컨대, 적어도 하나의 단면을 구성하는 변들 중 2개의 변이 서로 경사각이 상이하거나, 굴곡도가 상이하거나, 변의 형태가 상이한 경우에는 상기 볼록부 또는 오목부는 비대칭 구조를 가지게 된다. In one embodiment of the present specification, the convex or concave shape having the cross section of the asymmetric structure includes two or more sides of at least one cross section having different inclination angles, different degrees of curvature, or different side shapes. For example, when two sides of the sides constituting at least one cross section have different inclination angles, different degrees of curvature, or different shapes, the convex portion or concave portion has an asymmetrical structure.

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, "변"은 직선일 수도 있으나, 이에 한정되지 않고, 전부 또는 일부가 곡선일 수 있다. 예컨대, 변은 원이나 타원의 호의 일부, 물결 구조, 지그재그 등의 구조를 포함할 수 있다.In this specification, unless otherwise stated, "side" may be a straight line, but is not limited thereto, and may be all or part of a curved line. For example, the side may include a part of an arc of a circle or an ellipse, a wavy structure, or a zigzag structure.

본 명세서에 있어서, 상기 변이 원이나 타원의 호의 일부를 포함하는 경우, 그 원이나 타원은 곡률반지름을 가질 수 있다. 상기 곡률반지름은 곡선의 극히 짧은 구간을 원호로 환산할 때, 원호의 반지름으로 정의될 수 있다.In this specification, when the variation includes a part of an arc of a circle or ellipse, the circle or ellipse may have a radius of curvature. The radius of curvature may be defined as the radius of an arc when an extremely short section of a curve is converted into an arc.

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, "경사변"은 상기 장식 부재를 지면에 두었을 때, 지면에 대하여 변이 이루는 각도가 0도 초과 90도 이하인 변을 의미한다. 이 때, 변이 직선인 경우에는 직선과 지면이 이루는 각도를 측정할 수 있다. 변에 곡선이 포함된 경우, 상기 장식 부재를 지면에 두었을 때, 상기 변 중 지면과 가장 가까운 지점과 상기 면 중 지면과 가장 먼 지점을 최단 거리로 연결한 직선이 지면과 이루는 각도를 측정할 수 있다.In this specification, unless otherwise specified, “inclined side” means a side whose angle with respect to the ground is greater than 0 degrees and less than 90 degrees when the decorative member is placed on the ground. At this time, when the side is a straight line, an angle formed between the straight line and the ground may be measured. If the side includes a curve, when the decorative member is placed on the ground, the angle formed by the straight line connecting the point closest to the ground among the sides and the farthest point from the ground among the sides with the shortest distance is measured can

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, 경사각이란, 상기 장식 부재를 지면에 두었을 때, 상기 패턴층을 구성하는 면 또는 변이 지면과 이루는 각도로서, 0도 초과 90도 이하이다. 또는, 패턴층을 구성하는 면 또는 변이 지면에 접하는 지점(a')과 패턴층을 구성하는 면 또는 변이 지면과 가장 멀리 떨어진 지점(b')을 서로 연결하였을 때 생기는 선분(a'-b')과 지면이 이루는 각도를 의미할 수 있다.In the present specification, unless otherwise specified, the inclination angle is an angle formed between a surface or a side constituting the pattern layer and the ground when the decorative member is placed on the ground, and is greater than 0 degrees and less than 90 degrees. Alternatively, a line segment (a'-b') generated when the point (a') where the surface or side constituting the pattern layer is in contact with the ground and the point (b') where the surface or side constituting the pattern layer is farthest from the ground are connected to each other. ) and the angle formed by the ground.

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, 굴곡도란 변 또는 면의 연속된 지점들에서의 접선의 기울기의 변화 정도를 의미한다. 변 또는 면의 연속된 지점들에서의 접선의 기울기의 변화가 클수록, 굴곡도는 크다.In this specification, unless otherwise specified, the degree of tortuosity means the degree of change in the slope of the tangent line at successive points on a side or plane. The greater the change in the slope of the tangent at successive points on the side or plane, the greater the degree of curvature.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층의 표면의 볼록부 또는 오목부 형상은 상기 패턴층의 표면 외측으로 돌출된 콘(cone) 형태의 볼록부 또는 상기 패턴층의 표면 내측으로 함몰된 콘(cone) 형태의 오목부일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the convex or concave shape of the surface of the pattern layer is a cone-shaped convex portion protruding outside the surface of the pattern layer or a cone depressed inside the surface of the pattern layer. It may be a concave portion in the form of a cone.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 콘 형태는 원뿔, 타원뿔, 또는 다각뿔의 형태를 포함한다. 여기서 다각뿔의 바닥면의 형태는 삼각형, 사각형, 돌출점이 5개 이상인 별모양 등이 있다. 일 예에 따르면, 장식 부재를 지면에 놓았을 때, 상기 패턴층의 표면이 콘 형태의 볼록부 형상을 갖는 경우, 상기 볼록부 형상의 상기 지면에 대한 수직 단면 중 적어도 하나는 삼각형 형상일 수 있다. 또 하나의 예에 따르면, 장식 부재를 지면에 놓았을 때, 상기 패턴층의 표면이 콘 형태의 오목부 형상을 갖는 경우, 상기 오목부 형상의 상기 지면에 대한 수직 단면 중 적어도 하나는 역삼각형 형상일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the cone shape includes a cone, an elliptical cone, or a polygonal pyramid. Here, the shape of the bottom surface of the polygonal pyramid includes a triangle, a square, and a star shape with 5 or more protruding points. According to one example, when the decorative member is placed on the ground, when the surface of the pattern layer has a cone-shaped convex shape, at least one of vertical cross sections of the convex shape with respect to the ground may have a triangular shape. . According to another example, when the decorative member is placed on the ground, when the surface of the pattern layer has a cone-shaped concave shape, at least one of vertical cross sections of the concave shape with respect to the ground has an inverted triangle shape can be

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 콘 형태의 볼록부 또는 콘 형태의 오목부 형상이 비대칭 구조의 단면을 적어도 하나 가질 수 있다. 예컨대, 상기 콘 형태의 볼록부 또는 오목부를, 상기 볼록부 또는 오목부 형상의 표면 측에서 관찰하였을 때, 콘의 꼭지점을 기준으로 360도 회전시 동일한 형태가 2개 이하 존재하는 경우, 이색성이 발현되는 대 유리하다. 도 22는 콘 형태의 볼록부 형상을, 상기 볼록부 형상의 표면 측에서 관찰한 것을 나타낸 것으로, (a)는 모두 대칭 구조의 콘 형태를 도시한 것이고, (b)는 비대칭 구조의 콘 형태를 예시한 것이다. In one embodiment of the present specification, the cone-shaped convex portion or cone-shaped concave portion may have at least one cross section of an asymmetrical structure. For example, when the cone-shaped convex or concave portion is observed from the surface side of the convex or concave portion, dichroism occurs when two or less identical shapes exist when rotated 360 degrees based on the vertex of the cone. It is advantageous when expressed. 22 shows the convex shape of the convex part observed from the surface side of the convex part shape. it is foreshadowed

상기 장식 부재를 지면에 놓았을 때, 대칭 구조의 콘 형태는 지면에 수평인 방향으로의 단면(이하, 수평 단면이라 함)이 원이거나 각변의 길이가 같은 정다각형이고, 콘의 꼭지점이, 지면에 대한 수평 단면의 무게중심점의 상기 단면에 대하여 수직인 선상에 존재하는 구조이다. 그러나, 비대칭 구조의 단면을 갖는 콘 형태는, 콘 형태의 볼록부 또는 오목부의 형상의 표면 측에서 관찰하였을 때, 콘의 꼭지점의 위치가 콘의 수평 단면의 무게중심점이 아닌 점의 수직선상에 존재하는 구조이거나, 콘의 수평 단면이 비대칭 구조의 다각형 또는 타원인 구조이다. 콘의 수평 단면이 비대칭 구조의 다각형인 경우는, 다각형의 변들 또는 각들 중 적어도 하나를 나머지와 다르게 설계할 수 있다.When the decorative member is placed on the ground, the cone shape of the symmetrical structure has a cross section in a direction horizontal to the ground (hereinafter referred to as a horizontal cross section) is a circle or a regular polygon with each side having the same length, and the vertex of the cone is on the ground It is a structure that exists on a line perpendicular to the cross section of the center of gravity of the horizontal cross section for the cross section. However, in a cone shape having an asymmetric cross section, when observed from the surface side of the convex or concave shape of the cone, the position of the cone's vertex is on the vertical line of the point, not the center of gravity of the horizontal cross section of the cone. or a structure in which the horizontal cross section of the cone is an asymmetrical polygon or ellipse. When the horizontal cross section of the cone is an asymmetrical polygon, at least one of the sides or angles of the polygon may be designed differently from the rest.

예컨대, 도 23과 같이, 콘의 꼭지점의 위치를 변경할 수 있다. 구체적으로, 도 23의 첫번째 그림과 같이, 콘 형태의 볼록부 형상의 표면 측에서 관찰시 콘의 꼭지점을 콘의 지면에 대한 수평 단면의 무게중심점(01)의 수직선상에 위치하도록 설계하는 경우, 콘의 꼭지점을 기준으로 360도 회전시 4개의 동일한 구조를 얻을 수 있다(4 fold symmetry). 그러나, 콘의 꼭지점을, 지면에 대한 수평 단면의 무게중심점(01)이 아닌 위치(02)에 설계함으로써 대칭 구조가 깨진다. 지면에 대한 수평 단면의 한변의 길이를 x, 콘의 꼭지점의 이동 거리를 a 및 b, 콘의 꼭지점(01 또는 02)로부터 지면에 대한 수평 단면까지 수직으로 연결한 선의 길이인 콘 형태의 높이를 h, 수평 단면과 콘의 측면이 이루는 각도를 θn 이라고 하면, 도 23의 면 1, 면2, 면3 및 면 4에 대하여 하기와 같이 코싸인 값이 얻어질 수 있다. For example, as shown in FIG. 23 , the position of the vertex of the cone may be changed. Specifically, as shown in the first figure of FIG. 23, when observing from the surface side of the convex shape of the cone, the vertex of the cone is designed to be located on the vertical line of the center of gravity (01) of the horizontal cross section with respect to the ground of the cone, When rotating 360 degrees based on the vertex of the cone, 4 identical structures can be obtained (4 fold symmetry). However, the symmetrical structure is broken by designing the vertex of the cone at a position (02) rather than at the center of gravity (01) of the horizontal section with respect to the ground. The length of one side of the horizontal cross section to the ground is x, the travel distance of the vertex of the cone is a and b, and the height of the cone shape, which is the length of a line vertically connected from the vertex of the cone (01 or 02) to the horizontal cross section to the ground, is If h, the angle formed by the horizontal cross section and the side surface of the cone is θn, cosine values can be obtained for plane 1, plane 2, plane 3, and plane 4 in FIG. 23 as follows.

Figure 112018089225582-pat00005
Figure 112018089225582-pat00005

이 때, θ1과 θ2는 같으므로 이색성이 없다. 그러나, θ3과 θ4는 상이하고, │θ3 - θ4│는 두 색간의 색차(△E*ab)를 의미하므로, 이색성을 나타낼 수 있다. 여기서, │θ3 - θ4│ > 0이다. 이와 같이, 콘의 지면에 대한 수평 단면과 측면이 이루는 각도를 이용하여, 대칭 구조가 얼마나 깨졌는지, 즉 비대칭의 정도를 정량적으로 나타낼 수 있고, 이와 같은 비대칭의 정도를 나타내는 수치는 이색성의 색차와 비례한다.At this time, since θ1 and θ2 are the same, there is no dichroism. However, since θ3 and θ4 are different, and │θ3 - θ4│ means the color difference (ΔE*ab) between the two colors, dichroism can be exhibited. Here, │θ3 - θ4│ > 0. In this way, by using the angle formed by the horizontal cross section and the side surface of the cone, it is possible to quantitatively indicate how much the symmetry structure is broken, that is, the degree of asymmetry, and the numerical value representing the degree of such asymmetry is dichroic color difference and proportional

도 24는 최고점이 선 형태인 볼록부의 형상을 갖는 표면을 도시한 것으로, a)는 이색성을 발현하지 않는 볼록부를 갖는 패턴을 예시한 것이고, b)는 이색성을 발현하는 볼록부를 갖는 패턴을 예시한 것이다. 도 24 a)의 X-X' 단면은 이등변삼각형 또는 정삼각형이고, 도 24 b)의 Y-Y' 단면은 측변의 길이가 서로 상이한 삼각형이다.24 shows a surface having a shape of a convex part having a linear peak, a) illustrates a pattern having convex parts that do not exhibit dichroism, and b) illustrates a pattern having convex parts that exhibit dichroism. it is foreshadowed The cross section X-X' of FIG. 24 a) is an isosceles triangle or an equilateral triangle, and the cross section Y-Y' of FIG. 24 b) is a triangle with side lengths different from each other.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 최고점이 선 형태의 볼록부 형상 또는 최저점이 선 형태의 오목부 형상의 표면을 갖는다. 상기 선형태는 직선 형태일 수도 있고, 곡선 형태일 수도 있으며, 곡선과 직선을 모두 포함하거나, 지그재그 형태일 수도 있다. 이를 도 25 내지 도 28에 나타내었다. 최고점이 선 형태인 볼록부 또는 최저점이 선 형태인 오목부의 형상의 표면을, 상기 볼록부 또는 오목부 형상의 표면 측에서 관찰하였을 때, 상기 볼록부 또는 오목부의 지면에 대한 수평 단면의 무게중심점을 기준으로 360도 회전시 동일한 형태가 1개 밖에 존재하지 않는 경우 이색성를 발현하는 대 유리하다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer has a surface having a linear convex shape at its highest point or a linear concave shape at its lowest point. The line shape may be a straight line shape, a curved shape, including both curves and straight lines, or may be a zigzag shape. This is shown in Figures 25 to 28. When the surface of the convex part with the highest point in the form of a line or the concave part with the lowest point in the form of a line is observed from the surface side of the convex part or concave part, the center of gravity of the horizontal section of the convex part or concave part with respect to the ground As a criterion, when there is only one identical shape when rotated 360 degrees, it is advantageous to express dichroism.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 콘 형태의 첨단부가 잘려진 구조의 볼록부 또는 오목부 형상의 표면을 갖는다. 도 28에, 장식 부재를 지면에 놓았을 때, 지면에 수직인 단면이 비대칭인 역사다리꼴 오목부를 구현한 사진을 도시하였다. 이와 같은 비대칭 단면은 사다리꼴 또는 역사다리꼴 형태일 수 있다. 이 경우에도, 비대칭 구조의 단면에 의하여 이색성을 발현할 수 있다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer has a convex or concave surface of a structure in which a cone-shaped tip is cut. 28 shows a photograph in which an inverted trapezoidal concave portion having an asymmetric cross-section perpendicular to the ground is realized when the decorative member is placed on the ground. Such an asymmetrical cross section may have a trapezoidal or inverted trapezoidal shape. Even in this case, dichroism can be expressed by the cross section of the asymmetric structure.

상기에서 예시한 구조 외에도 도 29와 같은 다양한 볼록부 또는 오목부 형상의 표면을 구현할 수 있다. In addition to the structure exemplified above, various convex or concave surfaces as shown in FIG. 29 may be implemented.

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, "면"은 평면일 수도 있으나, 이에 한정되지 않고, 전부 또는 일부가 곡면일 수 있다. 예컨대, 면에 대하여 수직인 방향으로의 단면의 형태가 원이나 타원의 호의 일부, 물결 구조, 지그재그 등의 구조를 포함할 수 있다.In this specification, unless otherwise stated, "surface" may be a flat surface, but is not limited thereto, and may be all or part of a curved surface. For example, the shape of the cross section in a direction perpendicular to the plane may include a structure such as a part of a circle or an ellipse arc, a wavy structure, and a zigzag structure.

본 명세서에 있어서, 다른 언급이 없는 한, "경사면"은 상기 장식 부재를 지면에 두었을 때, 지면에 대하여 면이 이루는 각도가 0도 초과 90도 이하인 면을 의미한다. 이 때, 면이 평면인 경우에는 평면과 지면이 이루는 각도를 측정할 수 있다. 면에 곡면이 포함된 경우, 상기 장식 부재를 지면에 두었을 때, 상기 면 중 지면과 가장 가까운 지점과 상기 면 중 지면과 가장 먼 지점을 최단 거리로 연결한 직선이 지면과 이루는 각도를 측정할 수 있다.In this specification, unless otherwise specified, "inclined surface" means a surface whose angle with respect to the ground is greater than 0 degrees and less than 90 degrees when the decorative member is placed on the ground. At this time, when the plane is a plane, the angle formed by the plane and the ground may be measured. If the surface includes a curved surface, when the decorative member is placed on the ground, the angle formed by the straight line connecting the closest point to the ground among the surfaces and the farthest point from the ground among the surfaces with the shortest distance is measured can

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 대칭 구조의 패턴을 포함한다. 대칭 구조로는 프리즘 구조, 렌티클라 렌즈 구조 등이 있다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer includes a pattern of a symmetrical structure. A symmetrical structure includes a prism structure, a lenticular lens structure, and the like.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 볼록부 또는 오목부 형상이 형성된 표면의 반대측 표면에 평탄부를 가지며, 상기 평탄부는 기재 상에 형성되어 있을 수 있다. 상기 기재로는 플라스틱 기판을 사용할 수 있다. 플라스틱 기판으로는, TAC(triacetyl cellulose); 노르보르넨 유도체 등의 COP(cyclo olefin copolymer); PMMA(poly(methyl methacrylate); PC(polycarbonate); PE(polyethylene); PP(polypropylene); PVA(polyvinyl alcohol); DAC(diacetyl cellulose); Pac(Polyacrylate); PES(poly ether sulfone); PEEK(polyetheretherketon); PPS(polyphenylsulfone), PEI(polyetherimide); PEN(polyethylenemaphthatlate); PET(polyethyleneterephtalate); PI(polyimide); PSF(polysulfone); PAR(polyarylate) 또는 비정질 불소 수지 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer has a flat portion on a surface opposite to the surface on which the convex portion or the concave portion is formed, and the flat portion may be formed on a substrate. A plastic substrate may be used as the substrate. As a plastic substrate, TAC (triacetyl cellulose); COP (cyclo olefin copolymer), such as a norbornene derivative; PMMA (poly(methyl methacrylate); PC (polycarbonate); PE (polyethylene); PP (polypropylene); PVA (polyvinyl alcohol); DAC (diacetyl cellulose); Pac (polyacrylate); PES (poly ether sulfone); PEEK (polyetheretherketon ); PPS (polyphenylsulfone), PEI (polyetherimide); PEN (polyethylenemaphthatlate); PET (polyethyleneterephtalate); PI (polyimide); PSF (polysulfone); PAR (polyarylate) or amorphous fluororesin, etc. may be used, but are not limited thereto. no.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층은 열경화성 수지 또는 자외선 경화성 수지를 포함할 수 있다. 상기 경화성 수지로는 광 경화성 수지 또는 열 경화성 수지를 사용할 수 있다. 상기 광 경화성 수지로는 자외선 경화성 수지를 사용할 수 있다. 열 경화성 수지로는, 예를 들어 실리콘 수지, 규소 수지, 프란 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지, 요소 수지, 폴리에스테르 수지 또는 멜라민 수지 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 자외선 경화성 수지로는 대표적으로 아크릴 중합체, 예를 들어, 폴리에스테르 아크릴레이트 중합체, 폴리스티렌 아크릴레이트 중합체, 에폭시 아크릴레이트 중합체, 폴리우레탄 아크릴레이트 중합체 또는 폴리부타디엔 아크릴레이트 중합체, 실리콘 아크릴레이트 중합체 또는 알킬 아크릴레이트 중합체 등을 사용할 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present specification, the pattern layer may include a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin. As the curable resin, a photo-curable resin or a thermo-curable resin may be used. An ultraviolet curable resin may be used as the photocurable resin. Examples of the thermosetting resin include, but are not limited to, silicone resins, silicon resins, fran resins, polyurethane resins, epoxy resins, amino resins, phenol resins, urea resins, polyester resins, or melamine resins. . UV curable resins are typically acrylic polymers such as polyester acrylate polymers, polystyrene acrylate polymers, epoxy acrylate polymers, polyurethane acrylate polymers or polybutadiene acrylate polymers, silicone acrylate polymers or alkyl acrylates. Polymers and the like can be used, but are not limited thereto.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층의 내부 또는 적어도 일면에 유색 염료(color dye)를 더 포함할 수 있다. 상기 패턴층의 적어도 일면에 유색 염료를 포함한다는 것은, 예컨대 상기 패턴층의 평탄부 측에 구비된 전술한 기재층에 유색 염료가 포함된 경우를 의미할 수 있다. In one embodiment of the present specification, a color dye may be further included in or on at least one surface of the pattern layer. Including the colored dye on at least one surface of the pattern layer may mean, for example, a case in which the colored dye is included in the above-described base layer provided on the flat portion side of the pattern layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 유색 염료로는 안트라퀴논(anthraquinone)계 염료, 프탈로시아닌(phthalocyanine)계 염료, 티오인디고(thioindigo)계 염료, 페리논(perinone)계 염료, 이속신디고(isoxindigo)계 염료, 메탄(methane)계 염료, 모노아조(monoazo)계 염료 및 1:2 금속착물(1:2 metal complex)계 염료 등을 사용할 수 있다. In one embodiment of the present specification, the colored dyes include anthraquinone-based dyes, phthalocyanine-based dyes, thioindigo-based dyes, perinone-based dyes, isoxindigo )-based dyes, methane-based dyes, monoazo-based dyes, and 1:2 metal complex-based dyes may be used.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 패턴층이 내부에 유색 염료를 포함하는 경우 상기 경화성 수지에 염료를 첨가하여 적용될 수 있다. 상기 패턴층의 하부에 유색 염료를 더 포함하는 경우, 염료가 포함된 층을 기재층의 상부 또는 하부에 코팅하는 방식으로 적용될 수 있다.In one embodiment of the present specification, when the pattern layer includes a colored dye therein, it may be applied by adding a dye to the curable resin. When a colored dye is further included under the pattern layer, a layer containing the dye may be coated on top or bottom of the base layer.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 유색 염료의 함량은 예를 들어 0 내지 50 wt% 일 수 있다. 상기 유색 염료의 함량은 패턴층 내지 장식 부재의 투과도 및 헤이즈 범위를 정할 수 있으며, 투과도는 예를 들어 20% 내지 90% 일 수 있고, 헤이즈는 예를 들어 1% 내지 40%일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the content of the colored dye may be, for example, 0 to 50 wt%. The content of the colored dye may determine transmittance and haze range of the pattern layer or decorative member, transmittance may be, for example, 20% to 90%, and haze may be, for example, 1% to 40%.

본 출원의 또 하나의 실시상태에 따른 장식 부재는, 상기 패턴층과 상기 무기물층 사이; 상기 패턴층의 상기 무기물층에 대향하는 면의 반대면; 또는 상기 무기물층의 상기 패턴층에 대항하는 면의 반대면에 구비된 칼라필름을 더 포함할 수 있다. A decoration member according to another exemplary embodiment of the present application may include between the pattern layer and the inorganic material layer; an opposite surface of the surface of the pattern layer facing the inorganic material layer; Alternatively, a color film provided on a surface opposite to the surface of the inorganic material layer facing the pattern layer may be further included.

본 출원의 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 무기물층이 광흡수층 및 광반사층을 포함하고, 상기 패턴층과 상기 무기물층 사이; 상기 광흡수층과 상기 광반사층 사이; 상기 패턴층의 상기 무기물층에 대향하는 면의 반대면; 상기 무기물층의 상기 패턴층에 대항하는 면의 반대면에 구비된 칼라필름을 더 포함한다. According to another exemplary embodiment of the present application, the inorganic material layer includes a light absorption layer and a light reflection layer, and between the pattern layer and the inorganic material layer; between the light absorption layer and the light reflection layer; an opposite surface of the surface of the pattern layer facing the inorganic material layer; A color film provided on a surface opposite to the surface of the inorganic material layer facing the pattern layer may be further included.

상기 칼라필름은 상기 칼라필름이 구비되지 않은 경우에 비하여 상기 칼라필름이 존재하는 경우 상기 색발현층의 색좌표 CIE L*a*b* 상에서의 L*a*b*의 공간에서의 거리인 색차 △E*ab가 1을 초과하도록 하는 것이라면 특별히 한정되지 않는다.Compared to the case where the color film is not provided, the color difference △, which is the distance in the space of L*a*b* on the color coordinate CIE L*a*b* of the color expression layer, when the color film is present. It is not particularly limited as long as E * ab exceeds 1.

색의 표현은 CIE L*a*b* 로 표현이 가능하며, 색차는 L*a*b* 공간에서의 거리(△E*ab)를 이용하여 정의될 수 있다. 구체적으로,

Figure 112018089225582-pat00006
Figure 112018089225582-pat00007
이며, 0<△E*ab<1의 범위 내에서는 관찰자가 색 차이를 인지할 수 없다[참고문헌: Machine Graphics and Vision 20(4):383-411]. 따라서, 본 명세서에서는 칼라필름의 추가에 따른 색차를 △E*ab>1로 정의할 수 있다. The expression of color can be expressed by CIE L*a*b*, and the color difference can be defined using a distance (ΔE * ab) in L*a*b* space. Specifically,
Figure 112018089225582-pat00006
Figure 112018089225582-pat00007
, and within the range of 0<ΔE * ab<1, an observer cannot perceive a color difference [Reference: Machine Graphics and Vision 20(4):383-411]. Therefore, in the present specification, the color difference according to the addition of the color film can be defined as ΔE * ab>1.

이와 같은 칼라필름을 추가로 구비함으로써, 상기 광반사층과 광흡수층과 같은 무기물층의 재료 및 두께가 결정되어 있는 경우에도, 구현할 수 있는 색상의 폭을 더욱 크게 증가시킬 수 있다. 칼라필름의 추가에 따른 색상변화 폭은 칼라필름의 적용 전후의 L*a*b* 의 차이인 색차 (△E*ab) 로 정의할 수 있다. By additionally providing such a color film, even when the material and thickness of the inorganic layer such as the light reflection layer and the light absorption layer are determined, the range of colors that can be implemented can be further greatly increased. The range of color change according to the addition of the color film can be defined as the color difference (ΔE * ab), which is the difference between L*a*b* before and after the application of the color film.

도 30에 칼라필름의 배치 위치를 예시하였다. (단, 패턴층(101)의 표면상의 볼록부 또는 오목부 형상, 보호층 및 기재 미도시)30 illustrates the arrangement position of the color film. (However, the convex or concave shape on the surface of the pattern layer 101, the protective layer and the substrate are not shown)

도 30의 (a)에는 칼라필름(401)이 광흡수층(301)의 광반사층(201)측의 반대면에 구비된 구조, 도 30의 (b)에는 칼라필름(401)이 광흡수층(301)과 광반사층(201) 사이에 구비된 구조, 도 21의 (c)에는 칼라필름(401)이 광반사층(201)과 패턴층(101) 사이에 구비된 구조, 도 30의 (d)에는 칼라필름(401)이 패턴층(101)의 광반사층(201) 측의 반대면에 구비된 구조를 도시한 것이다. 도 30의 (e)에는 칼라필름(401a, 401b, 401c, 401d)이 각각 광흡수층(301)의 광반사층(201)측의 반대면, 광흡수층(301)과 광반사층(201) 사이, 광반사층(201)과 패턴층(101) 사이, 및 패턴층(101)의 광반사층(201) 측의 반대면에 구비된 구조를 예시한 것이며, 이에만 한정되는 것은 아니고 칼라필름(401a, 401b, 401c, 401d)들 중 1 내지 3개는 생략될 수도 있다. In (a) of FIG. 30, the color film 401 is provided on the opposite side of the light reflective layer 201 of the light absorption layer 301, and in (b) of FIG. 30, the color film 401 is provided on the light absorption layer 301 ) and the structure provided between the light reflection layer 201, in (c) of FIG. 21, the structure provided with the color film 401 between the light reflection layer 201 and the pattern layer 101, in (d) of FIG. It shows a structure in which the color film 401 is provided on the opposite surface of the pattern layer 101 to the light reflection layer 201 side. In (e) of FIG. 30 , the color films 401a, 401b, 401c, and 401d are disposed on the opposite side of the light absorption layer 301 to the light reflection layer 201, between the light absorption layer 301 and the light reflection layer 201, and It illustrates the structure provided between the reflective layer 201 and the pattern layer 101 and on the opposite surface of the pattern layer 101 to the light reflection layer 201 side, but is not limited thereto, and the color films 401a, 401b, One to three of 401c and 401d) may be omitted.

본 명세서의 또 하나의 실시상태에 따르면, 패턴층(101) 상에 광반사층(301) 및 광흡수층(201)이 순차적으로 구비된 구조에서 칼라필름의 배치 위치를 도 31에 예시하였다(패턴층(101)의 표면상의 볼록부 또는 오목부 형상 생략).According to another embodiment of the present specification, the arrangement position of the color film in the structure in which the light reflection layer 301 and the light absorption layer 201 are sequentially provided on the pattern layer 101 is illustrated in FIG. 31 (pattern layer (101) on the surface of the convex or concave shape omitted).

도 31의 (a)에는 칼라필름(401)이 패턴층(101)의 광흡수층(301) 측의 반대면에 구비된 구조, 도 31의 (b)에는 칼라필름(401)이 패턴층(101)과 광흡수층(301) 사이에 구비된 구조, 도 31의 (c)에는 칼라필름(401)이 광흡수층(301)과 광반사층(201) 사이에 구비된 구조, 도 31의 (d)에는 칼라필름(401)이 광반사층(201)의 광흡수층(301)측의 반대면에 구비된 구조를 도시한 것이다. 도 31의 (e)에는 칼라필름(401a, 401b, 401c, 401d)이 각각 패턴층(101)의 광흡수층(301) 측의 반대면, 패턴층(101)와 광흡수층(301)과 사이, 광흡수층(301)과 광반사층(201) 사이, 및 광반사층(201)의 광흡수층(301)측의 반대면에 구비된 구조를 예시한 것이며, 이에만 한정되는 것은 아니고 칼라필름(401a, 401b, 401c, 401d)들 중 1 내지 3개는 생략될 수도 있다. In (a) of FIG. 31, the color film 401 is provided on the opposite side of the light absorption layer 301 of the pattern layer 101. In (b) of FIG. 31, the color film 401 is provided on the pattern layer 101. ) and the structure provided between the light absorption layer 301, in FIG. 31 (c), the structure in which the color film 401 is provided between the light absorption layer 301 and the light reflection layer 201, in FIG. 31 (d) It shows a structure in which the color film 401 is provided on the opposite side of the light reflection layer 201 to the light absorption layer 301 side. In (e) of FIG. 31, the color films 401a, 401b, 401c, and 401d are disposed on the opposite surface of the pattern layer 101 to the light absorption layer 301, between the pattern layer 101 and the light absorption layer 301, A structure provided between the light absorption layer 301 and the light reflection layer 201 and on the opposite side of the light absorption layer 301 side of the light reflection layer 201 is exemplified, but is not limited thereto, and the color films 401a and 401b , 401c, 401d) may be omitted.

도 30 (b)와 도 31 (c)와 같은 구조는 칼라필름의 가시광 투과율이 0% 초과라면 광반사층에서 칼라필름을 통과하여 입사한 광을 반사할 수 있으므로, 광흡수층과 광반사층의 적층에 따른 색상 구현이 가능하다. 30 (b) and 31 (c), when the visible light transmittance of the color film is greater than 0%, the light reflection layer can reflect incident light passing through the color film. Color implementation is possible.

도 30 (c), 도 30 (d) 및 도 31 (d)와 같은 구조에서는, 칼라필름의 추가에 따른 색차 변화를 인식할 수 있도록, 광반사층(201)의 칼라필름으로부터 발현되는 색상의 광투과율이 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더 바람직하게는 5% 이상인 것이 바람직하다. 이와 같은 가시광선투과율 범위에서 투과된 빛이 칼라필름에 의한 색상과 혼합될 수 있기 때문이다.In the structures shown in FIGS. 30 (c), 30 (d), and 31 (d), the light of the color expressed from the color film of the light reflection layer 201 can recognize the color difference change according to the addition of the color film. It is preferable that the transmittance is 1% or more, preferably 3% or more, and more preferably 5% or more. This is because the light transmitted in such a visible light transmittance range can be mixed with the color of the color film.

상기 칼라필름은 1장 또는 동종 또는 이종이 2장 이상이 적층된 상태로 구비될 수 있다.The color film may be provided in a state in which one sheet or two or more sheets of the same type or different types are stacked.

상기 칼라필름은 전술한 광반사층 및 광흡수층의 적층 구조로부터 발현되는 색상과 함께 조합되어 원하는 색상을 발현할 수 있는 것을 사용할 수 있다. 예컨대, 안료 및 염료 중 1종 또는 2종 이상이 매트릭스 수지 내에 분산되어 색상을 나타내는 칼라필름이 사용될 수 있다. 상기와 같은 칼라필름은 칼라필름이 구비될 수 있는 위치에 직접 칼라필름 형성용 조성물을 코팅하여 형성할 수도 있고, 별도의 기재에 칼라필름 형성용 조성물을 코팅하거나, 캐스팅, 압출 등의 공지의 성형방법을 이용하여 칼라필름을 제조한 후, 칼라필름이 구비될 수 있는 위치에 칼라필름을 배치 또는 부착하는 방법이 이용될 수 있다. 코팅 방법은 습식 코팅 또는 건식 코팅이 사용될 수 있다.The color film can be used that can express a desired color in combination with the color expressed from the above-described laminated structure of the light reflection layer and the light absorption layer. For example, a color film showing color by dispersing one or more of pigments and dyes in a matrix resin may be used. The color film as described above may be formed by directly coating a composition for forming a color film on a position where a color film may be provided, or by coating a composition for forming a color film on a separate substrate, or through known molding such as casting or extrusion. After manufacturing the color film using the method, a method of arranging or attaching the color film to a position where the color film can be provided may be used. As the coating method, wet coating or dry coating may be used.

상기 칼라필름이 상기 광반사층 또는 상기 광흡수층 보다 장식 부재를 관찰하는 위치에 더 가깝게 배치된 경우, 예컨대 도 30의 (a), (b), 도 31의 (a), (b), (c)와 같은 구조에서는 상기 칼라필름이 광반사층, 광흡수층 또는 광반사층과 광흡수층의 적층구조로부터 발현되는 색상의 광투과율이 1% 이상, 바람직하게는 3% 이상, 더 바람직하게는 5% 이상인 것이 바람직하다. 이에 의하여, 칼라필름으로부터 발현되는 색상과 광반사층, 광흡수층 또는 이들의 적층구조로부터 발현되는 색상이 함께 조합되어 원하는 색상을 달성할 수 있다. When the color film is disposed closer to the viewing position of the decorative member than the light reflection layer or the light absorption layer, for example, FIG. 30 (a), (b), FIG. 31 (a), (b), (c) ), the color film has a light transmittance of 1% or more, preferably 3% or more, more preferably 5% or more. desirable. Accordingly, a desired color can be achieved by combining the color expressed from the color film and the color expressed from the light reflection layer, the light absorbing layer, or a laminated structure thereof.

상기 칼라필름의 두께는 특별히 한정되지 않으며, 원하는 색상을 나타낼 수 있다면 당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 두께를 선택하여 설정할 수 있다. 예컨대, 칼라필름의 두께는 500 nm 내지 1 mm 일 수 있다.The thickness of the color film is not particularly limited, and a person skilled in the art can select and set the thickness as long as it can exhibit a desired color. For example, the color film may have a thickness of 500 nm to 1 mm.

예시적인 장식 부재 및 장식 부재의 제조방법은 장식 부재의 적용이 필요한 공지의 대상에 적용될 수 있다. 예를 들어, 휴대용 전자기기, 전자제품, 화장품 용기, 가구, 건축재 등에 제한 없이 적용될 수 있다.Exemplary decorative members and methods for manufacturing decorative members can be applied to known objects requiring application of decorative members. For example, it can be applied without limitation to portable electronic devices, electronic products, cosmetic containers, furniture, and building materials.

상기 장식 부재를 휴대용 전자기기, 전자제품, 화장품 용기, 가구, 건축재 등에 적용하는 방식은 특별히 제한되지 않고, 당업계에서 데코 필름을 적용하는 방식으로 알려진 공지의 방식이 적용될 수 있다. 상기 장식 부재는 필요에 따라 점착층이 더 포함할 수 있다. 또 하나의 예시에서, 상기 장식 부재는 휴대용 전자기기 또는 전자제품에 직접 코팅에 의해 적용될 수 있다. 이 경우 상기 장식 부재를 휴대용 전자기기 또는 전자제품에 부착하기 위한 별도의 점착층이 필요하지 않을 수 있다. 다른 하나의 예시에서, 상기 장식 부재는 점착층을 매개로 휴대용 전자기기 또는 전자제품에 부착될 수 있다. 상기 점착층은 광학용 투명 접착 테이프(OCA tape; optically clear adhesive tape) 또는 접착 수지를 사용할 수 있다. 상기 OCA tape 또는 접착 수지로는 당업계에 공지된 OCA tape 또는 접착 수지를 제한 없이 적용할 수 있다. 필요에 따라, 상기 점착층의 보호를 위한 박리 층(release liner)가 추가로 구비될 수 있다.A method of applying the decorative member to portable electronic devices, electronic products, cosmetic containers, furniture, building materials, etc. is not particularly limited, and a known method known in the art as a method of applying a decorative film may be applied. The decorative member may further include an adhesive layer as needed. In another example, the decorative member may be directly applied to a portable electronic device or electronic product by coating. In this case, a separate adhesive layer for attaching the decorative member to the portable electronic device or electronic product may not be required. In another example, the decorative member may be attached to a portable electronic device or electronic product via an adhesive layer. The adhesive layer may use an optically clear adhesive tape (OCA tape) or an adhesive resin. As the OCA tape or adhesive resin, an OCA tape or adhesive resin known in the art may be used without limitation. If necessary, a release liner for protecting the adhesive layer may be additionally provided.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 기재는 화장품 용기용 플라스틱 사출물 또는 글래스 기재를 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the substrate may include a plastic injection molding product for a cosmetic container or a glass substrate.

본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 플라스틱 사출물은 폴리프로필렌(PP), 폴리스티렌(PS), 폴리비닐아세테이트(PVAc), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 에틸렌-비닐 아세테이트 코폴리머(EVA), 폴리카보네이트(PC), 폴리아마이드(polyamide) 및 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(Styrene-Acrylonitrile copolymer) 중 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.In one embodiment of the present specification, the plastic injection molding is polypropylene (PP), polystyrene (PS), polyvinyl acetate (PVAc), polyacrylate, polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl chloride (PVC) ), polymethyl methacrylate (PMMA), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polycarbonate (PC), polyamide, and styrene-acrylonitrile copolymer (Styrene-Acrylonitrile copolymer). It may contain.

이하 실시예를 통하여 본 출원을 구체적으로 설명하지만, 본 명세서의 범위가 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Although the present application is specifically described through the following examples, the scope of the present specification is not limited by the following examples.

실시예 1Example 1

1) 롤스탬프의 준비1) Preparation of roll stamp

가공 폭 1150mm의 롤 스탬프(JPE사 제작 3600)의 롤 주면을 바이트를 이용하여 직접 가공하는 하드 몰딩 방식으로 롤 스탬프를 준비하였다.A roll stamp was prepared by a hard molding method in which the roll main surface of a roll stamp (3600 manufactured by JPE) having a processing width of 1150 mm was directly processed using a bite.

2) 패턴층 형성2) Formation of pattern layer

상기 롤스탬프의 외주 면과 기재의 일면 사이에 Gap roll을 이용하여 자외선 경화형 수지 조성물을 도포 및 압착하였다. 이후, Fusion사 무전극 램프(D-bulb type)을 이용하여, 5mpm의 이송 속도에서 560 mJ/cm2의 세기로 상기 기재의 수지 조성물이 도포된 면에 자외선을 조사하여 1차 경화하고, 7mpm의 이송 속도에서 상기 기재의 수지 조성물이 도포된 면의 타면에 자외선을 조사하여 자외선 경화형 수지 조성물을 2차 경화하여 양 경사면의 경사각이 20도/70도인 프리즘 형태의 패턴층을 형성하였다.An ultraviolet curable resin composition was applied and pressed between the outer peripheral surface of the roll stamp and one surface of the substrate using a gap roll. Thereafter, using a Fusion company's electrodeless lamp (D-bulb type), ultraviolet rays were irradiated on the surface coated with the resin composition of the above substrate at an intensity of 560 mJ/cm 2 at a feed rate of 5 mpm to perform primary curing, and At a feed rate of , the other side of the surface coated with the resin composition of the above substrate was irradiated with ultraviolet rays to secondarily cure the UV-curable resin composition to form a prism-shaped pattern layer having an inclination angle of 20 degrees/70 degrees between both inclined surfaces.

3) 무기물층 형성3) Formation of inorganic material layer

상기 패턴층 상에 반응성 스퍼터링법(reactive sputtering)을 이용하여, AlON 조성의 광흡수층을 형성하였다.An AlON light absorbing layer was formed on the pattern layer using a reactive sputtering method.

4) 보호층 형성4) Formation of protective layer

이후, 상기 광반사층 상에 광차폐 잉크(GF16047 black ink, HS 케미칼사 제조)를 스크린 인쇄 및 건조하는 단계를 4회 반복하여 보호층을 형성하였다. 이때, 각 단계에서의 건조 조건은 50℃의 대기 온도에서 30분간 수행되었다. 또한, 1회 도포시의 목수는 400, 2회 내지 4회 도포시의 목수는 350이었다. 광반사층 상에 DM 방수 잉크를 도포하여 보호층(방수층)을 형성하여 최종 장식 부재를 제조하였다.Thereafter, screen printing and drying of light shielding ink (GF16047 black ink, manufactured by HS Chemical Co.) on the light reflection layer was repeated 4 times to form a protective layer. At this time, drying conditions in each step were performed at an ambient temperature of 50 ° C. for 30 minutes. In addition, the number of carpenters at the time of one application was 400, and the number of carpenters at the time of two to four times of application was 350. DM waterproof ink was applied on the light reflection layer to form a protective layer (waterproof layer) to prepare a final decorative member.

상기 1) 내지 4) 단계는 롤-투-롤 방법으로 수행되었으며, 이때의 이송 속도는 평균 5mpm이었다.Steps 1) to 4) were performed in a roll-to-roll method, and the conveying speed at this time was an average of 5 mpm.

실시예 2Example 2

전사용 패턴을 가공 폭 1150mm의 롤 스탬프(JPE사 제작 3600)의 롤 주면에 감아서 롤 스탬프를 제작하는 소프트 몰딩 방식으로 롤 스탬프를 준비한 것 외에는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 장식 부재를 제조하였다.A decorative member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a roll stamp was prepared by a soft molding method in which a roll stamp was prepared by winding a transfer pattern on the main surface of a roll stamp (3600 manufactured by JPE) with a processing width of 1150 mm. .

Claims (12)

기재를 준비하는 단계;
상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계;
상기 패턴층 상에 무기물층을 형성하는 단계; 및
상기 무기물층 상에 보호층을 형성하는 단계를 포함하고,
상기 패턴층을 형성하는 단계, 상기 무기물층을 형성하는 단계 및 상기 보호층을 형성하는 단계는 롤투롤 공정으로 수행되며,
상기 패턴층을 형성하는 단계는 외주면에 패턴이 형성된 몰드가 구비된 원통형 롤스탬프를 준비하는 단계; 상기 기재와 상기 원통형 롤스탬프 사이에 경화형 수지 조성물을 도포 및 압착하는 단계; 및 상기 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계를 포함하고,
상기 경화형 수지 조성물은 자외선 경화성 수지 조성물이고, 이를 경화시키는 단계는 상기 자외선 경화성 수지 조성물에 자외선을 조사하는 단계를 더 포함하고, 상기 자외선을 조사하는 단계는 500 mJ/cm2 내지 1,000 mJ/cm2의 자외선 세기로 조사되며,
상기 롤투롤 공정은 4mpm 내지 9mpm의 이송속도로 수행되는 것인 장식 부재의 제조방법.
Preparing the substrate;
Forming a pattern layer on one surface of the substrate;
forming an inorganic material layer on the pattern layer; and
Forming a protective layer on the inorganic material layer,
The forming of the pattern layer, the forming of the inorganic layer, and the forming of the protective layer are performed in a roll-to-roll process,
Forming the pattern layer may include preparing a cylindrical roll stamp having a mold having a pattern formed on an outer circumferential surface thereof; applying and compressing a curable resin composition between the substrate and the cylindrical roll stamp; And curing the curable resin composition,
The curable resin composition is an ultraviolet curable resin composition, and the curing of the composition further includes irradiating the ultraviolet curable resin composition with ultraviolet rays, and irradiating the ultraviolet rays with a concentration of 500 mJ/cm 2 to 1,000 mJ/cm 2 is irradiated with an ultraviolet intensity of
The roll-to-roll process is a method of manufacturing a decorative member that is carried out at a feed rate of 4 mpm to 9 mpm.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서, 상기 자외선을 조사하는 단계는 상기 기재의 상기 경화형 수지 조성물이 도포된 면 또는 상기 기재의 상기 경화형 수지 조성물이 도포된 면의 반대면에 자외선을 조사하는 것인 장식 부재의 제조방법.The method of manufacturing a decorative member according to claim 1, wherein the irradiating of the ultraviolet rays irradiates the surface of the substrate to which the curable resin composition is applied or the surface opposite to the surface of the substrate to which the curable resin composition is applied. . 청구항 1에 있어서, 상기 경화형 수지 조성물을 경화시키는 단계는 상기 기재가 상기 원통형 롤스탬프의 외주면 전체 면적의 1/10 이상 감긴 상태에서 수행되는 것인 장식 부재의 제조방법.The method of manufacturing a decorative member according to claim 1, wherein the curing of the curable resin composition is performed in a state in which the substrate is wound at 1/10 or more of the total area of the outer circumferential surface of the cylindrical roll stamp. 청구항 1에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 증착에 의한 것인 장식 부재의 제조방법.The method of claim 1 , wherein the forming of the inorganic material layer is performed by deposition. 청구항 1에 있어서, 상기 무기물층을 형성하는 단계는 이베퍼레이션(Evaporation) 방법 또는 스퍼터링(sputtering) 방법에 의해 수행되는 것인 장식 부재의 제조방법.The method of claim 1, wherein the forming of the inorganic material layer is performed by an evaporation method or a sputtering method. 청구항 1에 있어서, 상기 보호층을 형성하는 단계는 증착 또는 스크린 인쇄 공정에 의한 것인 장식 부재의 제조방법.The method of claim 1, wherein the forming of the protective layer is performed by a deposition or screen printing process. 삭제delete 청구항 1에 있어서, 장식 부재를 2 이상의 영역으로 타발하는 단계를 포함하는 장식 부재의 제조방법.The method of manufacturing a decorative member according to claim 1, comprising the step of punching the decorative member into two or more regions. 청구항 1에 있어서, 상기 기재의 일면에 패턴층을 형성하는 단계 전에 상기 기재의 일면 또는 타면에 칼라필름층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 장식 부재의 제조방법.The method of claim 1 , further comprising forming a color film layer on one surface or the other surface of the substrate before forming the pattern layer on one surface of the substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP2270554A4 (en) 2008-04-24 2013-01-09 Asahi Glass Co Ltd Low reflection glass and protective plate for display
KR101261571B1 (en) * 2011-05-27 2013-05-07 주식회사 진흥씨아이티 Transcription insert molding film, method of manufacturing the transcription insert molding film and injection molding method using the transcription insert molding film
KR20140074642A (en) * 2012-12-10 2014-06-18 (주)엘지하우시스 Films expressing metallic appearance using ultraviolet curable resin and method of manufacturing thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012531335A (en) * 2009-07-01 2012-12-10 レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー Multilayer

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