KR102536445B1 - Automatic piezoelectric stroke adjustment - Google Patents

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알란 알. 루이스
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노드슨 코포레이션
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Abstract

분사 프로파일을 교정하는 단계는, 미충돌 및 충돌 위치들 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 전압을 인가하는 단계, 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계, 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계, 및 인가된 전압을 조절하도록 기준점을 사용하는 단계를 포함한다. 또 다른 방법은 분사 시스템을 교정하도록 기계적 스토퍼를 사용한다. 이러한 방법은 미충돌 및 충돌 교정 위치들 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계, 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계, 전압 및 위치 교정 데이터들을 발생시키는 단계, 이러한 데이터를 사용하여 마스터 기준점을 설정하는 단계, 및 압전 액튜에이터 및 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하도록 마스터 기준점을 사용하는 단계를 포함한다. 분사 시스템을 작동시키는 다른 방법은 사용자가 제어 구성 요소에 정보를 입력하는 단계를 포함한다. 다른 방법은 분사 밸브의 하나 이상의 구성 요소의 예방적 유지 보수를 위하여 압전 액튜에이터에 관련된 전압 데이터 및 위치 데이터를 사용하는 단계를 포함한다.Correcting the firing profile includes applying a voltage to the piezoelectric actuator 34 to move the valve closing structure 18 between non-impact and impact positions, sensing the position of the valve closing structure, voltage and position Setting a reference point using the data, and using the reference point to adjust the applied voltage. Another method uses a mechanical stopper to calibrate the injection system. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move the valve closing structure between non-impact and collision correcting positions, sensing the position of the valve closing structure, generating voltage and position correction data, and generating such data. establishing a master reference point using the master reference point, and using the master reference point to determine wear of at least one of the piezoelectric actuator and the valve closing structure. Another method of activating the injection system involves a user entering information into a control component. Another method includes using the voltage data and position data related to the piezoelectric actuator for preventative maintenance of one or more components of the injection valve.

Description

자동 압전 스트로크 조절Automatic piezoelectric stroke adjustment

관련 출원의 상호 참조CROSS REFERENCES OF RELATED APPLICATIONS

본원은 그 전체 내용이 참조에 의해 본원에 통합되는 2015년 8월 31일자 출원된 미국 가출원 제62/211,961호에 대해 우선권을 주장한다. This application claims priority to US Provisional Application Serial No. 62/211,961, filed August 31, 2015, the entire contents of which are incorporated herein by reference.

본 발명은 일반적으로 점성 유체의 작은 액적을 기판 상에 피착하기 위한 비접촉, 분사 분배기에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하나 이상의 압전 소자에 의해 작동되는 이러한 형태의 분배기에 관한 것이다.The present invention relates generally to a non-contact, jetting dispenser for depositing small droplets of viscous fluid onto a substrate, and more particularly to a dispenser of this type actuated by one or more piezoelectric elements.

비접촉 점성 물질 분배기들은 종종 미량의 점성 물질, 즉 50 센티푸아즈를 초과하는 점도를 가지는 점성 물질들을 기판 상에 도포하도록 종종 사용된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같은, "비접촉"은 분사 분사기가 분배 공정 동안 기판과 접촉하지 않는 경우를 의미한다. 예를 들어, 비접촉 분사 분배기들은 인쇄 회로 기판과 같은 전자 기판 상으로 다양한 점성 물질을 도포하도록 사용된다. 전자 기판에 도포되는 점성 물질들은 예로서 범용 접착제, 납땜 페이스트, 납땜 플럭스, 납땜 마스크, 서멀 그리스(thermal grease), 뚜껑 밀폐제(lid sealant), 오일, 캡슐화제, 포팅 화합물(potting compounds), 에폭시, 다이 부착 유체, 실리콘, RTV 및 시아노아크릴레이트를 포함하지만 이에 한정되지 않는다.Non-contact viscous material dispensers are often used to apply trace amounts of viscous material, i.e., viscous materials having a viscosity in excess of 50 centipoise, onto a substrate. As used herein, "non-contact" means when the spraying injector does not contact the substrate during the dispensing process. For example, non-contact spray dispensers are used to apply various viscous materials onto electronic substrates such as printed circuit boards. Viscous materials applied to electronic boards include, for example, general purpose adhesives, solder pastes, solder fluxes, solder masks, thermal grease, lid sealants, oils, encapsulants, potting compounds, epoxies, including but not limited to die attach fluids, silicones, RTVs and cyanoacrylates.

점성 물질을 비접촉식 분배기로부터 기판 상으로 분배하기 위한 특정 용도는 아주 많다. 그 중에서도, 반도체 패키지 조립체에서, 언더필, 볼 그리드 어레이(ball grid array)들에서의 납땜 볼 보강, 댐 앤 필(dam and fill) 작업, 칩 캡슐화, 언더필링 칩 스케일 패키지(underfilling chip scale package)들, 캐비티 필 분배(cavity fill dispensing), 다이 부착 분배, 뚜겅 밀봉 분배, 비유동 언더필링, 플럭스 분사, 열 화합물 분배를 위한 적용이 존재한다. 표면 실장 기술(SMT) 인쇄 회로 기판(PCB) 생산의 경우 표면 실장 접착제, 납땜 페이스트, 전도성 접착제 및 납땜 마스크 물질이 선택적 플럭스 분사뿐만 아니라 비접촉식 분배기에서 분배될 수 있다.The specific applications for dispensing viscous materials from contactless dispensers onto substrates are numerous. Among others, in semiconductor package assembly, underfill, solder ball reinforcement in ball grid arrays, dam and fill work, chip encapsulation, underfilling chip scale packages Applications exist for cavity fill dispensing, die attach dispensing, lid seal dispensing, non-flow underfilling, flux dispensing, and thermal compound dispensing. For surface mount technology (SMT) printed circuit board (PCB) production, surface mount adhesives, solder pastes, conductive adhesives and solder mask materials can be dispensed from non-contact dispensers as well as selective flux dispensing.

분사 분배기는 일반적으로 분배기의 출구 오리피스로부터 점성 물질의 액적을 분사하는 동안 샤프트 또는 태핏(tappet)을 시트를 향해 반복적으로 움직이기 위한 공압 또는 전기 액튜에이터를 포함한다. 전기 작동 분사 분배기들은 특히 압전 액튜에이터를 사용할 수 있다. 밸브 시트와 접촉하는 밸브 폐쇄 구조물(valve closure structure)을 사용하여 유체를 정밀하게 분사하는 것은, 노즐의 출구로부터 유체 물질의 소량(dot)을 효율적으로 배출하도록 규정된 스트로크(변위) 및 속도를 사용하여 샤프트가 밸브 시트와 접촉하는 것을 요구한다. 변위 및 속도 곡선은 총체적으로 운동 프로파일(motion profile)을 형성한다. 스트로크, 속도 및 밀봉력은 밸브 폐쇄 구조물과 밸브 시트 사이의 충격의 지점이 정확하게 알려지고 측정될 때 가장 잘 제어된다. 유체 물질의 누출을 방지하도록 밀봉부를 발생시키기 위해 밸브 시트와 샤프트의 충돌 후에 충분한 힘이 있어야 한다. 그러나, 너무 큰 힘을 가하면 구성 요소들에 대한 과잉 마모, 또는 심지어 손상을 유발할 것이다.Jet dispensers generally include pneumatic or electric actuators for repeatedly moving a shaft or tappet toward a sheet while jetting droplets of viscous material from an outlet orifice of the dispenser. Electrically actuated spray distributors may in particular use piezoelectric actuators. Precise dispensing of fluid using a valve closure structure in contact with a valve seat uses a prescribed stroke (displacement) and velocity to efficiently discharge a dot of fluid material from the outlet of the nozzle. This requires the shaft to come into contact with the valve seat. The displacement and velocity curves collectively form a motion profile. Stroke, speed and sealing force are best controlled when the point of impact between the valve closing structure and the valve seat is accurately known and measured. There must be sufficient force after impact of the valve seat and the shaft to create a seal to prevent leakage of fluid material. However, applying too much force will cause excessive wear or even damage to the components.

단지 수 마이크로미터의 변화도 유체 분배기의 성능에 영향을 미친다. 전형적으로, 이러한 조절은 나사를 조절하는 것과 같은 기계적 수단을 통해 사용자에 의해 수동으로 수행된다. 이러한 수동 공정은 여러 번의 반복을 필요로 하지만, 여전히 필요한 성능을 위해 운동 프로파일을 정밀하게 조절하지 못한다. 그러므로, 유체 분배기의 성능 및 세팅을 최적화하도록 밸브 시트에 대한 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 결정하고, 부응하여 유체 분배기의 운동 프로파일을 조절할 필요가 계속 존재한다.Changes of just a few micrometers affect the performance of the fluid distributor. Typically, this adjustment is performed manually by the user through mechanical means such as adjusting a screw. This manual process requires multiple iterations, but still does not fine-tune the motion profile for the required performance. Therefore, there is a continuing need to determine the position of the valve closing structure relative to the valve seat and adjust the motion profile of the fluid dispenser accordingly to optimize the performance and settings of the fluid dispenser.

적어도 이러한 이유들 때문에, 이들 및 다른 문제들을 다루는 분사 시스템 및 방법을 제공하는 것이 필요할 것이다.For at least these reasons, it would be necessary to provide an injection system and method that addresses these and other problems.

한 실시예에서, 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 압전 액튜에이터를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와, 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 전압 데이터를 발생시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 위치 데이터를 발생시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 압전 액튜에이터에 인가된 전압을 조절하도록 기준점을 사용하는 단계를 또한 포함한다.In one embodiment, a method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a valve seat, a valve closing structure, and a piezoelectric actuator. The method includes applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-impact position where the valve closing structure does not impact the valve seat and an impacted position where at least a portion of the valve closing structure impacts the valve seat. do. The method also includes generating voltage data according to movement of the valve closing structure. The method also includes sensing a position of the valve closing structure using a sensing device as the valve closing structure moves. The method also includes generating positional data in accordance with movement of the valve closing structure. The method also includes establishing a reference point using the voltage and position data. The method also includes using a reference point to adjust the voltage applied to the piezoelectric actuator.

다른 실시예에서, 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 압전 액튜에이터, 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 전압 교정 데이터를 발생시키는 단계를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 위치 교정 데이터를 발생시키는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 전압 및 위치 교정 데이터를 사용하여 마스터 기준점을 설정하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 압전 액튜에이터, 밸브 폐쇄 구조물 및 밸브 시트 중 적어도 하나의 마모를 결정하도록 마스터 기준점을 사용하는 단계를 또한 포함한다.In another embodiment, a method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a piezoelectric actuator, a valve seat, a valve closing structure, and a mechanical stopper positioned a predetermined distance from the valve closing structure in a non-impact corrective position. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move a valve closing structure between a non-impact corrective position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a impact corrected position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper. include The method also includes generating voltage correction data as the valve closing structure moves. The method also includes sensing a position of the valve closing structure using a sensing device as the valve closing structure moves. The method also includes generating position correction data as the valve closing structure moves. The method also includes establishing a master reference point using the voltage and position calibration data. The method also includes using a master reference point to determine wear of at least one of the piezoelectric actuator, the valve closing structure and the valve seat.

또 다른 실시예에서, 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 압전 액튜에이터, 및 미충돌 교정 위치에서 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 전압 데이터를 발생시키는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 위치 데이터를 발생시키는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 전압 교정 데이터를 발생시키는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 위치 교정 데이터를 발생시키는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 전압 및 위치 교정 데이터를 사용하여 마스터 기준점을 설정하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 시트의 마모를 결정하도록 기준점을 마스터 기준점과 비교하는 단계를 포함한다.In yet another embodiment, a method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a valve seat, a valve closing structure, a piezoelectric actuator, and a mechanical stopper positioned a predetermined distance from the valve closing structure in a non-impact corrective position. The method includes applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-impact position in which the valve closing structure does not impact the valve seat and an impact position in which at least a portion of the valve closing structure impacts the valve seat. . The method also includes generating voltage data according to movement of the valve closing structure. The method also includes sensing a position of the valve closing structure using a sensing device as the valve closing structure moves. The method also includes generating positional data in accordance with movement of the valve closing structure. The method also includes establishing a reference point using the voltage and position data. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move a valve closing structure between a non-impact corrective position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a impact corrected position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper. Also includes The method also includes generating voltage correction data as the valve closing structure moves. The method also includes sensing a position of the valve closing structure using a sensing device as the valve closing structure moves. The method also includes generating position correction data as the valve closing structure moves. The method also includes establishing a master reference point using the voltage and position calibration data. The method includes comparing the reference point to a master reference point to determine wear of the valve seat.

또 다른 실시예에서, 사용자에 의해 분사 시스템을 작동시키는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 압전 액튜에이터, 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함한다. 상기 방법은 사용자에 의해 제어 구성 요소 내로 유체 형태(fluid type)를 입력하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 사용자에 의해 제어 구성 요소 내로 분사 주파수(jetting frequency)를 입력하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 사용자에 의해 제어 구성 요소 내로 액적 크기를 입력하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 것에 의해 마스터 교정(master calibration) 프로파일을 결정하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 제어 구성 요소를 사용하여 분사 시스템에 마스터 조절 프로파일을 적용하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 밸브 시트에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 것에 의해 교정된 분사 프로파일을 결정하는 단계를 또한 포함한다. 상기 방법은 교정된 분사 프로파일을 분사 시스템에 적용하는 단계를 또한 포함한다.In another embodiment, a method of activating an injection system by a user is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a piezoelectric actuator, a valve seat, a valve closing structure, and a mechanical stopper positioned a predetermined distance from the valve closing structure in a non-impact corrective position. The method includes inputting a fluid type into a control component by a user. The method also includes inputting a jetting frequency into a control component by a user. The method also includes inputting a droplet size into the control component by a user. The method comprises applying a voltage to a piezoelectric actuator to move a valve closing structure between a non-collision correction position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper. Also includes determining a master calibration profile. The method also includes applying a master regulation profile to the injection system using the control component. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move a valve closing structure between a non-collision correction position in which the valve closing structure does not collide with the valve seat and a collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the valve seat. Also includes determining a calibrated spray profile. The method also includes applying the calibrated injection profile to the injection system.

또 다른 실시예에서, 분사 시스템에서 유지 보수를 수행하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 압전 액튜에이터 및 밸브 폐쇄 구조물을 포함한다. 상기 방법은 제1 위치와 제2 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 전압 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 밸브 폐쇄 구조물의 위치는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 감지된다. 위치 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 전압 데이터와 위치 데이터는 예방적인 유지 보수를 위해 사용된다.In another embodiment, a method of performing maintenance on an injection system is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a piezoelectric actuator and a valve closing structure. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a first position and a second position. Voltage data is generated as the valve closing structure moves. The position of the valve closing structure is sensed using a sensing device as the valve closing structure moves. Positional data is generated as the valve closing structure moves. Voltage data and position data are used for preventative maintenance.

또 다른 실시예에서, 분사 시스템을 위한 분사 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘을 포함한다. 상기 방법은 사용자로부터 밸브 폐쇄 구조물의 바람직한 스트로크 길이의 입력을 수신하는 단계를 포함한다. 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압이 인가된다. 전압 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 밸브 폐쇄 구조물의 위치는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 감지된다. 위치 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 적어도 부분적으로 전압 데이터 및 위치 데이터에 기초하여, 기준점이 결정된다. 상기 방법은 적어도 부분적으로 전압 데이터 및 위치 데이터에 기초하여, 밸브 폐쇄 구조물의 필요한 스트로크 길이를 유발하는 밸브 폐쇄 구조물의 위치에 대응하는 최고 전압(top voltage)을 결정하는 단계를 추가로 포함한다. 기준점과 최고 전압은 압전 액튜에이터에 인가되는 전압을 조절하도록 사용된다.In yet another embodiment, a method of calibrating the ejection profile of a ejection fluid material for an ejection system is disclosed. The injection system includes a spray distributor and a control component operably coupled to the spray distributor. The injection distributor includes a valve seat, a valve closing structure, and a piezoelectric actuation mechanism having a piezoelectric actuator. The method includes receiving input from a user of a desired stroke length of the valve closing structure. A voltage is applied to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-impact position in which the valve closing structure does not impinge on the valve seat and an impact position in which at least a portion of the valve closing structure impinges on the valve seat. Voltage data is generated as the valve closing structure moves. The position of the valve closing structure is sensed using a sensing device as the valve closing structure moves. Positional data is generated as the valve closing structure moves. Based at least in part on the voltage data and the position data, a reference point is determined. The method further includes determining, based at least in part on the voltage data and the position data, a top voltage corresponding to a position of the valve closing structure that results in a required stroke length of the valve closing structure. The reference point and peak voltage are used to adjust the voltage applied to the piezoelectric actuator.

분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법이 개시된다. 분사 시스템은 분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함한다. 분사 분배기는 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물이 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계를 포함한다. 전압 교정 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 밸브 폐쇄 구조물의 위치는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 감지 디바이스를 사용하여 감지된다. 위치 교정 데이터는 밸브 폐쇄 구조물이 움직임에 따라서 발생된다. 상기 방법은 적어도 부분적으로 전압 교정 데이터 및 위치 교정 데이터에 기초하여, 압전 액튜에이터에 인가되는 전압에 대한 밸브 폐쇄 구조물의 변위의 비를 나타내는 기준 이득(reference gain)을 결정하는 단계를 추가로 포함한다. 적어도 부분적으로 기준 이득에 기초하여, 마모 특성은 압전 작동 메커니즘 및 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나에 대해 결정된다.A method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system is disclosed. The injection system includes an injection distributor and a control component operably coupled to the injection distributor. The injection distributor includes a piezoelectric actuation mechanism having a piezoelectric actuator, a valve closing structure, and a mechanical stopper positioned a predetermined distance away from the valve closing structure in a non-impact corrective position. The method includes applying a voltage to a piezoelectric actuator to move a valve closing structure between a non-impact corrective position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a impact corrected position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper. include Voltage calibration data is generated as the valve closing structure moves. The position of the valve closing structure is sensed using a sensing device as the valve closing structure moves. Position correction data is generated as the valve closing structure moves. The method further includes determining, based at least in part on the voltage calibration data and the position calibration data, a reference gain representative of a ratio of displacement of the valve closing structure to a voltage applied to the piezoelectric actuator. Based at least in part on the reference gain, a wear characteristic is determined for at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.

본 발명의 다양한 추가적인 특징 및 이점은 첨부된 도면과 관련하여 취해진 예시적인 실시예에 대한 다음의 상세한 설명을 검토시에 당업자에게 더욱 명백해질 것이다.Various additional features and advantages of the present invention will become more apparent to those skilled in the art upon review of the following detailed description of exemplary embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 개방 위치에 있는 분사 시스템의 단면도.
도 2는 폐쇄 위치에 있는, 도 1과 유사한 확대 단면도.
도 3은 본래의 분사 프로파일과 교정된 분사 프로파일을 비교한 차트.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 분사 프로파일을 교정하는 방법의 흐름도.
도 5는 밸브 폐쇄 구조물이 개방되거나 또는 위쪽을 향해 움직이는 것을 증가된 측정 위치가 나타내는 본 발명의 실시예에 따른 분사 프로파일을 교정하는 방법의 차트.
도 6은 밸브 폐쇄 구조물이 폐쇄되거나 또는 아래쪽을 향해 움직이는 것을 증가된 측정 위치가 나타내는, 도 1의 분사 시스템을 사용하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사 프로파일을 교정하는 방법의 차트.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 기준 카트리지의 사시도이다.
도 8은 선 8-8을 따라서 취한 도 7의 기준 카트리지의 사시 단면도.
도 9는 본 발명의 실시예에 따른 도 7 및 도 8의 기준 카트리지를 통합하는 분사 시스템의 단면도.
도 10은 본 발명의 실시예에 따른 도 7 내지 도 9의 기준 카트리지를 사용하여 분사 시스템을 교정하는 방법의 흐름도.
도 11은 본 발명의 한 실시예에 따른 분사 프로파일을 교정하는 방법의 흐름도.
도 12는 본 발명의 실시예에 따른 분사 프로파일을 나타내는 차트.
도 13은 밸브 폐쇄 구조물이 폐쇄되거나 또는 아래쪽을 향해 움직이는 것을 증가된 측정 위치가 나타내는, 도 1의 분사 시스템을 사용하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 분사 프로파일을 교정하는 방법의 차트.
도 14는 본 발명의 실시예에 따른 도 7 내지 도 9의 기준 카트리지를 사용하여 분사 시스템을 교정하는 방법의 흐름도.
1 is a cross-sectional view of an injection system in an open position according to one embodiment of the present invention;
Fig. 2 is an enlarged sectional view similar to Fig. 1, in a closed position;
3 is a chart comparing the original and corrected firing profiles.
4 is a flow diagram of a method for calibrating a spray profile according to one embodiment of the present invention.
5 is a chart of a method of calibrating a spray profile according to an embodiment of the present invention where increased measurement positions indicate that the valve closing structure is opening or moving upwards.
6 is a chart of a method of correcting a spray profile according to another embodiment of the present invention using the spray system of FIG. 1 where increased measurement positions indicate that the valve closing structure is closing or moving downwards.
7 is a perspective view of a reference cartridge according to an embodiment of the present invention.
Figure 8 is a perspective cross-sectional view of the reference cartridge of Figure 7 taken along line 8-8;
Fig. 9 is a cross-sectional view of an injection system incorporating the reference cartridge of Figs. 7 and 8 according to an embodiment of the present invention;
10 is a flow diagram of a method for calibrating an injection system using the reference cartridge of FIGS. 7-9 according to an embodiment of the present invention.
11 is a flow diagram of a method for calibrating a spray profile according to one embodiment of the present invention.
12 is a chart illustrating a spray profile according to an embodiment of the present invention.
FIG. 13 is a chart of a method of correcting a spray profile according to another embodiment of the present invention using the spray system of FIG. 1 where increased measurement positions indicate that the valve closing structure is closing or moving downward.
14 is a flow diagram of a method for calibrating an injection system using the reference cartridge of FIGS. 7-9 in accordance with an embodiment of the present invention.

도 1, 도 1a 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 분사 시스템(10)은 일반적으로 제어 구성 요소(14)와 통신 가능하게 결합된 분사 분배기(12)를 포함한다. 분사 분배기(12)는 압전 작동 메커니즘(16), 밸브 폐쇄 구조물(18), 및 밸브 시트(22)를 구비하는 노즐 허브(20)를 포함한다. 특히, 밸브 폐쇄 구조물(18)은 구동 핀(24) 및 포핏(26)을 포함한다. 분사 분배기(12)는 압력 하에서 적절한 유체 공급원(30)으로부터 유체 공급 도관(32)을 통해 유체 물질을 받는다. 구동 핀(24)은 포핏(26)의 팁(70)을 밸브 시트(22)를 향해 움직이고 일정량의 유체 물질(38)을 분배시키도록 압전 작동 메커니즘(16)의 작용에 의해 구동된다.Referring to FIGS. 1 , 1A and 2 , an injection system 10 according to one embodiment of the present invention generally includes an injection distributor 12 communicatively coupled to a control component 14 . The injection distributor 12 includes a nozzle hub 20 having a piezoelectric actuation mechanism 16 , a valve closing structure 18 , and a valve seat 22 . In particular, valve closing structure 18 includes actuation pin 24 and poppet 26 . The spray distributor 12 receives fluid material under pressure from a suitable fluid source 30 through a fluid supply conduit 32 . Actuation pin 24 is actuated by action of piezoelectric actuation mechanism 16 to move tip 70 of poppet 26 toward valve seat 22 and dispense a quantity of fluid material 38 .

압전 작동 메커니즘(16)은 압전 스택(91a, 91b)(이하 압전 스택(91)으로서 총체적으로 지칭됨), 플런저(99), 및 비대칭 굴곡부(94)를 포함한다. 굴곡부(94)는 그 내부에 압전 액튜에이터 메커니즘(16)이 일반적으로 배치되는 액튜에이터 본체(98)의 일체형 부분이며, 플런저(99)에 굴곡부(94)를 연결하는 커플링 요소(97)를 포함한다. 압전 액튜에이터(34) 내에 있는 스프링(102)은 플런저(99) 및 압전 스택(91)을 압축으로 유지하도록 이러한 것들에 스프링력을 인가한다. The piezoelectric actuation mechanism 16 includes piezoelectric stacks 91a and 91b (hereinafter collectively referred to as piezoelectric stacks 91 ), a plunger 99 , and an asymmetric bend 94 . The flexure 94 is an integral part of the actuator body 98 within which the piezoelectric actuator mechanism 16 is generally disposed, and includes a coupling element 97 connecting the flexure 94 to the plunger 99. . Spring 102 in piezoelectric actuator 34 applies a spring force to plunger 99 and piezoelectric stack 91 to keep them in compression.

압전 액튜에이터(34)에 인가되는 전압이 압전 액튜에이터(34)에 의해 발생되는 힘에 비례하기 때문에, 압전 스택(91)을 포함하는 압전 액튜에이터(34)를 사용하는 것은 분사 분배기(12)가 밸브 폐쇄 구조물(18)의 매우 특정한 위치 제어를 가지는 것을 가능하게 한다. 구체적으로, 압전 스택(91)에 전압이 인가될 때, 압전 액튜에이터(34)는 팽창되거나 길어지고, 길이에서의 변화는 인가된 전압의 양에 비례한다. 이러한 비례성으로 인하여, 분사 시스템(10)은 출구(40)를 통해 분배된 유체 물질(38)의 운동 프로파일을 미세하게 제어할 수 있다. 공압 액튜에이터들은 이러한 비례성을 나타내지 않는다.Since the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 is proportional to the force generated by the piezoelectric actuator 34, the use of the piezoelectric actuator 34 including the piezoelectric stack 91 prevents the injection distributor 12 from closing the valve. It makes it possible to have very specific position control of the structure 18 . Specifically, when a voltage is applied to the piezoelectric stack 91, the piezoelectric actuator 34 expands or lengthens, and the change in length is proportional to the amount of applied voltage. This proportionality allows the injection system 10 to finely control the motion profile of the fluid material 38 dispensed through the outlet 40 . Pneumatic actuators do not exhibit this proportionality.

플런저(99)는 압전기 스택(91)과 비대칭 굴곡부(94)를 연결하는 기계적 인터페이스로서 기능한다. 스프링(102)이 조립시에 압축되어, 스프링(102)에 의해 발생된 스프링력은 압전 스택(91)에 일정한 부하를 인가하여, 압전 스택(91)을 프리로딩한다(preload). 금속 물질로 구성될 수 있은 비대칭 굴곡부(94)는 구동 핀(24)의 하향 팁 반대편의 구동 핀(24)의 단부가 물리적으로 고정되는 아암(100)을 가진다. 비대칭 굴곡부(94)는 압전 스택(91)의 상대적으로 작은 변위를, 압전 스택(91)의 변위보다 상당히 큰 구동 핀(24)에 유용한 변위로 변환하는 기계적 증폭기로서 기능한다.The plunger 99 serves as a mechanical interface connecting the piezoelectric stack 91 and the asymmetric bend 94 . When the spring 102 is compressed during assembly, the spring force generated by the spring 102 applies a constant load to the piezoelectric stack 91, preloading the piezoelectric stack 91. An asymmetric bend 94, which may be constructed of a metallic material, has an arm 100 to which the end of the drive pin 24 opposite the downward tip of the drive pin 24 is physically secured. The asymmetric bend 94 functions as a mechanical amplifier that converts the relatively small displacement of the piezoelectric stack 91 into a displacement useful to the drive pin 24 that is significantly greater than the displacement of the piezoelectric stack 91 .

압전 액튜에이터(34)의 압전 스택(91)은 당업계에서 통상적인 도체의 층들과 교대하는 압전 세라믹의 층들로 구성된 합판(laminate)이다. 스프링(102)으로부터의 스프링력은 압축의 정상 상태에서 압전 스택(91)의 적층된 층들을 유지한다. 압전 스택(91)의 도체들은 펄스 폭 변조, 주파수 변조, 또는 그 조합으로, 당업계에 널리 공지된 방식으로 전류 제한 출력 신호(current-limited output signal)를 공급하는 제어 구성 요소(14)와 관련된 구동 회로와 전기적으로 결합된다. 전력이 구동 회로로부터 주기적으로 공급될 때, 압전 스택(91)에 있는 압전 세라믹 층들의 치수를 변화시키는 전기장이 설정된다.The piezoelectric stack 91 of the piezoelectric actuator 34 is a laminate composed of layers of piezoelectric ceramic alternating with layers of conductors common in the art. The spring force from spring 102 holds the stacked layers of piezoelectric stack 91 in a steady state of compression. The conductors of the piezoelectric stack 91 are associated with the control component 14 to supply a current-limited output signal in a manner well known in the art, such as pulse width modulation, frequency modulation, or a combination thereof. It is electrically coupled with the driving circuit. When power is supplied periodically from the driving circuit, an electric field that changes the dimensions of the piezoelectric ceramic layers in the piezoelectric stack 91 is established.

비대칭 굴곡부(94)에 의해 기계적으로 증폭된 압전 스택(91)이 겪는 치수 변화는 그 길이 방향 축에 평행한 방향으로 구동 핀(24)을 선형으로 움직인다. 압전 스택(91)의 압전 세라믹 층들이 팽창할 때, 스프링(102)은 팽창력에 의해 압축되고, 비대칭 굴곡부(94)는 고정된 선회축(fixed pivot axis)을 중심으로 선회하여, 포핏(26)으로부터 위쪽으로 멀어지는 구동 핀(24)의 움직임을 유발한다. 이러한 것은 편향 요소(39)가 밸브 시트(22)로부터 멀어지게 포핏(26)을 움직이는 것을 가능하게 한다. 구동 핀(24)은 구동 핀 가이드(50)를 사용하여 안내된다. 작동력이 제거되고 압전 스택(91)의 압전 세라믹 층들이 수축하도록 허용될 때, 스프링(102)은 팽창하고 비대칭 굴곡부(94)는 선회하여 구동 핀(24)을 아래쪽으로 움직여 포핏(26)과 접촉시켜, 포핏(26)이 밸브 시트(22)와 접촉하여 물질의 액적을 분사한다. 그러므로, 전원이 차단된 상태에서, 압전 액튜에이터(34)는 밸브를 상시 폐쇄 위치에서 유지한다. 작동시에, 비대칭 굴곡부(94)는, 급격한 속도로 액적들을 분사시키기 위해 포핏(26)과 접촉 및 비접촉으로 구동 핀(24)을 움직이도록 압전 스택(91)에 동력이 공급 및 차단됨에 따라서, 고정된 선회축을 중심으로 반대 방향으로 간헐적으로 요동한다. The dimensional change experienced by the piezoelectric stack 91 mechanically amplified by the asymmetric bend 94 linearly moves the drive pin 24 in a direction parallel to its longitudinal axis. When the piezoelectric ceramic layers of the piezoelectric stack 91 expand, the spring 102 is compressed by the expansion force, and the asymmetric bend 94 pivots around a fixed pivot axis, causing the poppet 26 to causes the movement of the drive pin 24 upward and away from This allows the biasing element 39 to move the poppet 26 away from the valve seat 22 . The drive pin 24 is guided using a drive pin guide 50 . When the actuation force is removed and the piezoelectric ceramic layers of the piezoelectric stack 91 are allowed to contract, the spring 102 expands and the asymmetrical bend 94 pivots to move the drive pin 24 downward and into contact with the poppet 26. As a result, the poppet 26 comes into contact with the valve seat 22 to eject droplets of material. Therefore, in a de-energized state, the piezoelectric actuator 34 holds the valve in the normally closed position. In operation, the asymmetric bend 94 energizes and de-energizes the piezoelectric stack 91 to move the drive pin 24 in contact and non-contact with the poppet 26 to eject the droplets at a rapid rate; It oscillates intermittently in opposite directions around a fixed pivot.

일부 실시예에서, 압전 스택(91)이 팽창할 때, 구동 핀(24)이 아래쪽으로 움직여 포핏과 접촉하여 일정량의 물질이 출구(40)로부터 분배되도록, 대체로 압전 액튜에이터 메커니즘(16) 및 분배기(12)가 대안적으로 구성될 수 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 역으로, 압전 스택(91)이 수축하는 것을 허용하도록 인가된 전압이 압전 스택(91)으로부터 제거될 때, 구동 핀(24)은 포핏(26)으로부터 위쪽으로 멀어지게 움직인다. 그러므로, 이러한 실시예에서, 압전 액튜에이터(34)의 압전 스택(91)에 인가된 전압은 포핏(26)을 향한 구동 핀(24)의 하향 움직임과 부합한다.In some embodiments, when the piezoelectric stack 91 expands, the actuating pin 24 moves downward and contacts the poppet to dispense a quantity of material from the outlet 40, generally by the piezoelectric actuator mechanism 16 and the dispenser ( 12) can be configured alternatively. Conversely, when the applied voltage is removed from the piezoelectric stack 91 to allow the piezoelectric stack 91 to contract, the drive pin 24 moves upward and away from the poppet 26 . Therefore, in this embodiment, the voltage applied to the piezoelectric stack 91 of the piezoelectric actuator 34 coincides with the downward movement of the drive pin 24 towards the poppet 26 .

감지 디바이스(48)는 밸브 폐쇄 구조물(구동 핀(24) 및/또는 포핏(26)과 같은 그 구성 요소를 포함하는)이 압전 작동 메커니즘(16)에 의해 움직임에 따라서 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치를 감지한다. 일부 양태에서, 감지 디바이스(48)는 밸브 폐쇄 구조물(18)에 직접 또는 간접적으로 부착될 수 있다. 타겟(도시되지 않음)은 감지 디바이스(48)가 감지 디바이스(48)에 대한 타겟의 위치를 판독하도록 밸브 폐쇄 구조물(18)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 도 1은 구동 핀(24) 상에 배치된 라인들(도시되지 않음)을 사용하여 위치 및 운동을 판독하는 선형 엔코더인 감지 디바이스(48)를 도시한다. 그러므로, 감지 디바이스(48)는 밸브 폐쇄 구조물(18)이 움직임에 따라서 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치 및 속도가 결정되는 것을 가능하게 한다. 다른 실시예에서, 감지 디바이스(48)는 추가적으로 또는 대안적으로 포핏(26)의 위치 및 속도를 감지할 수 있다. 또한, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치 및 속도는 와전류 센서(eddy current sensor) 또는 광학 근접 센서와 같은 다양한 다른 형태의 위치 피드백 디바이스를 사용하여 측정될 수 있다. Sensing device 48 is responsible for the movement of valve closing structure 18 as the valve closing structure (including its components, such as actuating pin 24 and/or poppet 26) is moved by piezoelectric actuation mechanism 16. detect the location In some aspects, sensing device 48 may be attached directly or indirectly to valve closing structure 18 . A target (not shown) may be placed on valve closure structure 18 such that sensing device 48 reads the position of the target relative to sensing device 48 . For example, FIG. 1 shows sensing device 48 , which is a linear encoder that reads position and motion using lines (not shown) disposed on drive pin 24 . Therefore, the sensing device 48 enables the position and speed of the valve closing structure 18 to be determined as the valve closing structure 18 moves. In other embodiments, sensing device 48 may additionally or alternatively sense the position and speed of poppet 26 . Additionally, the position and velocity of the valve closing structure 18 may be measured using various other types of position feedback devices, such as eddy current sensors or optical proximity sensors.

도 2는 폐쇄 위치에 있는 분사 분배기(12)의 상세도를 도시한다. 도시된 바와 같이, 유체 카트리지(56)는 분사 분배기(12)에 부착되고, 카트리지 몸체(57), 및 특히 포핏(26)으로 도시된 밸브 폐쇄 구조물(18)의 일부를 포함한다. 도 1 및 도 2가 유체 카트리지(56)를 가지는 분사 분배기(12)를 도시하지만, 유체 카트리지(56)는 요구되지 않으며 다른 적절한 구조로 교체될 수 있다. 추가의 상세는 참조에 의해 본원에 통합되는, "유체 분사용 분사 카트리지 및 관련 방법"이라는 명칭으로 2015년 6월 4일자 출원된 출원인의 동시 계류중인 미국 특허 출원 제14/730,522호에서 알 수 있다. 2 shows a detailed view of the injection distributor 12 in the closed position. As shown, the fluid cartridge 56 is attached to the dispenser 12 and includes a cartridge body 57 and a portion of the valve closing structure 18, shown particularly as the poppet 26. 1 and 2 show the dispenser 12 having a fluid cartridge 56, the fluid cartridge 56 is not required and may be replaced with any other suitable structure. Additional details may be found in Applicant's co-pending US patent application Ser. No. 14/730,522, filed Jun. 4, 2015, entitled "Ejection Cartridges for Fluid Dispensing and Related Methods," which is incorporated herein by reference. .

도 3은 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압(즉, 전압 데이터(76))의 차트를 도시하고, 분배기의 하나의 분배 사이클을 만드는 시간 기간에 걸쳐서 도시된다. 도 3에 도시된 차트가 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압(및 그 결과적인 팽창)이 구동 핀(24)으로 하여금 아래쪽으로 움직여 포핏(26)과 접촉하게 하는, 상기된 대안적인 분배기(12) 구성으로서 간주된다는 것을 유의하여야 할 것이다. 역으로, 이러한 대안적인 구성에서의 압전 액튜에이터(34)로의 전압의 제거 또는 감소(및 그에 수반되는 수축)는 구동 핀(24)으로 하여금 위쪽으로 포핏(26)으로부터 멀어지게 움직여, 포핏(26)이 밸브 시트(22)와 결합하는 것을 가능하게 한다.FIG. 3 shows a chart of the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 (i.e., voltage data 76), plotted over a time period resulting in one divider cycle of the divider. The chart shown in FIG. 3 shows that the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 (and consequent expansion) causes the actuating pin 24 to move downward and into contact with the poppet 26. ) is considered as a composition. Conversely, the removal or reduction of the voltage to the piezoelectric actuator 34 in this alternative configuration (and the accompanying contraction) causes the actuating pin 24 to move upward and away from the poppet 26, causing the poppet 26 to It makes it possible to engage with this valve seat (22).

교정된 분사 프로파일(60)을 얻기 위해 본래의 분사 프로파일(58)을 조절하는 예시적인 방법을 설명하기 전에, 본래의 분사 프로파일(58) 및 교정된 분사 프로파일(60)의 양태를 먼저 기술하는 것이 유익하다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, "프로파일"은 일정 시간 기간(예를 들어, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 단일의 완전 업-다운 왕복 운동에 대응하는 시간 기간)에 걸쳐서 압전 액튜에이터(34)에 인가되는 전압의 범위를 지칭하며, 이는 완전한 분배 작업을 수행하도록 여러 번 반복될 수 있다. 본래의 분사 프로파일(58)은 일반적으로, 본 명세서에 설명된 하나 이상의 방법이 분사 시스템(10)을 교정하도록 및/또는 분사 시스템(10)의 마모 정도를 확인하도록 사용되기 전에 초기 작동 프로파일을 지칭한다. 교정된 분사 프로파일(60)은 일반적으로, 상기된 방법들 중 하나 이상이 수행된 후에 결정되고, 바람직하게 포핏(26)과 밸브 시트(22)의 최적의 밀봉 결합과 관련하여 분사 시스템(10)의 개선된 작동을 나타내는 작동 프로파일을 지칭한다. Before describing an exemplary method of adjusting the original firing profile 58 to obtain the corrected firing profile 60, it is helpful to first describe aspects of the original firing profile 58 and the corrected firing profile 60. helpful. As used herein, a “profile” is applied to the piezoelectric actuator 34 over a period of time (e.g., a period of time corresponding to a single full up-down reciprocating motion of the valve closing structure 18). range of voltages that can be repeated several times to complete the distribution. Original spray profile 58 generally refers to an initial operating profile before one or more methods described herein are used to calibrate the spray system 10 and/or determine the degree of wear of the spray system 10. do. The calibrated injection profile 60 is generally determined after one or more of the methods described above have been performed, and is preferably applied to the injection system 10 with respect to an optimal sealing fit of the poppet 26 and valve seat 22. refers to an actuation profile that exhibits an improved actuation of

본래의 분사 프로파일(58)은 개방 프로파일(62), 온 타임(on time)(64), 및 폐쇄 프로파일(66)로 이루어지며, 다양한 다른 방식으로 생성될 수 있다. 예를 들어, 제어 구성 요소(14)와 관련된 그래픽 사용자 인터페이스(도시되지 않음)를 사용하여, 사용자는 시작 전압(36), 종료 전압(68), 시작 전압(36)으로부터 종료 전압(68)으로 진행하는 시간의 양, 및 천이 시간(transition time)을 선택하는 것에 의해 개방 프로파일(62)을 정의한다. 천이 시간은 개방 프로파일(62)의 시작 및 종료시에 사용되는 시간의 양이다. 폐쇄 프로파일(66)은 거의 동일한 방식으로 정의될 수 있다. 폐쇄 프로파일(66)의 종료 전압(68)은 전형적으로 개방 프로파일(62)의 시작 전압(36)과 동일하다. 사용자는 다음에 보다 상세히 설명될 밀봉 옵셋 전압(sealing offset voltage, Vso)을 또한 제공할 수 있다. 개방 프로파일(62) 및 폐쇄 프로파일(66)이 생성되었으면, 개방 프로파일(62) 및 폐쇄 프로파일(66)은 본래의 분사 프로파일(58)들의 라이브러리에 저장된다. 개방 프로파일(62) 및 폐쇄 프로파일(66)은 단일 파일로 함께 저장될 수 있다. 사용자는 본 명세서에서 사용되는 바와 같이 개방 프로파일(62)의 시작으로부터 폐쇄 프로파일(66)의 시작까지의 시간을 지칭하는 프로파일을 선택한 후에 온 타임(64)을 선택할 수 있다. 또한, 온 타임(64)은 개방 프로파일(62)과 관련된 시간(62)보다 크다.The original spray profile 58 consists of an open profile 62, an on time 64, and a closed profile 66, and can be created in a variety of different ways. Using, for example, a graphical user interface (not shown) associated with control component 14, a user may use a start voltage 36, end voltage 68, and from start voltage 36 to end voltage 68. Define the open profile 62 by selecting the amount of time to advance, and the transition time. Transition time is the amount of time used at the start and end of the open profile 62. Closed profile 66 can be defined in much the same way. The end voltage 68 of the closed profile 66 is typically equal to the start voltage 36 of the open profile 62 . The user can also provide a sealing offset voltage (Vso) which will be described in more detail below. Once the open profile 62 and closed profile 66 have been created, the open profile 62 and closed profile 66 are stored in the library of original firing profiles 58 . The open profile 62 and closed profile 66 may be saved together in a single file. A user may select an on time 64 after selecting a profile, which as used herein refers to the time from the start of the open profile 62 to the start of the closed profile 66 . Also, the on time 64 is greater than the time 62 associated with the open profile 62 .

상기된 본래의 분사 프로파일(58)을 이용하여, 예시적인 예를 제공하는 것이 유익하다. 계속해서 도 3을 참조하면, 휴지 시에, 최대 분사 프로파일 전압은 밸브 폐쇄 구조물(18)을 폐쇄 위치에 홀딩하도록 압전 액튜에이터(34)에 인가된다. 도시된 바와 같이, 개방 프로파일(62)은 폐쇄 위치에 있을 때 45 볼트에서 시작한다. 개방 프로파일(62)은 그런 다음 각각의 단부에서 75 마이크로초의 천이 시간과 함께 포핏(26)을 밸브 시트(22)로부터 멀어지게 움직이도록 200 마이크로초에서 5 볼트로 강하한다. 폐쇄 프로파일(66)과 관련하여, 예를 들어, 밸브 폐쇄 구조물(18)은 5 볼트로 개방 위치에서 밸브 시트(22)로부터 분리되고, 그런 다음 각각의 단부에서 25 마이크로초의 천이 시간과 함께 밸브 시트(22)를 향해 포핏(26)을 움직이도록 100 마이크로초에서 45 볼트로 증가한다. Using the original spray profile 58 described above, it is beneficial to provide an illustrative example. With continued reference to FIG. 3 , at rest, a maximum firing profile voltage is applied to the piezoelectric actuator 34 to hold the valve closing structure 18 in the closed position. As shown, the open profile 62 starts at 45 volts when in the closed position. The open profile 62 then drops to 5 volts at 200 microseconds to move the poppet 26 away from the valve seat 22 with a transition time of 75 microseconds at each end. With respect to the closing profile 66, for example, the valve closing structure 18 is disconnected from the valve seat 22 in the open position with 5 volts, then with a transition time of 25 microseconds at each end of the valve seat. Increase to 45 volts in 100 microseconds to move poppet (26) towards (22).

상기된 본래의 분사 프로파일(58)에서, 관련 전압 측정이 지금 도 3을 계속 참조하여 설명된다. 다양한 예시적인 방법들은 본래의 분사 프로파일(58)에 기초하여 교정된 분사 프로파일(60)에서의 폐쇄 전압(Vc)을 결정하도록 사용될 수 있다. 폐쇄 전압(Vc)은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 팁(70)이 먼저 바람직하게 필요한 힘 및 속도로 밸브 시트(22)에 충돌하는 전압이다. 밀봉 옵셋 전압(Vso)은 누설없이 폐쇄하도록 밸브 폐쇄 구조물(18)의 팁(70)에 충준한 힘이 가해지는 밀봉 전압(Vs)을 달성하도록 폐쇄 전압(Vc)에 인가되는 추가 전압이다. 밀봉 옵셋 전압(Vso)은 적어도 분배되는 유체 물질(38)의 형태 및 유체 물질(38)의 압력에 좌우되며, 대체로 약 5 볼트 내지 30 볼트의 범위에 있다. 상기된 바와 같이, 밀봉 옵셋 전압(Vso)은 전형적으로 본 명세서에 기술된 방법에 걸쳐서 공지된 상수이고, 사용자에 의해 제어 구성 요소(14) 내로 초기에 입력될 수 있다. 폐쇄 전압(Vc), 밀봉 옵셋 전압(Vso), 및 밀봉 전압(Vs)은 공식 Vs = Vc + Vso를 사용하여 관계된다. 구동 핀(24) 및 포핏(26)의 하향 움직임이 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압에서의 감소에 대응하는 도 1 및 도 1a에 도시된 분배기(12)의 구성과 같은 일부 실시예에서, 밀봉 옵셋 전압(Vso)이 음의 값일 수 있다는 것을 유의하여야 한다. In the original firing profile 58 described above, the relevant voltage measurements are now described with continued reference to FIG. 3 . Various example methods may be used to determine the closing voltage Vc in the calibrated firing profile 60 based on the original firing profile 58 . Closing voltage Vc is the voltage at which the tip 70 of the valve closing structure 18 first impinges on the valve seat 22, preferably with the required force and speed. The sealing offset voltage Vso is an additional voltage applied to the closing voltage Vc to achieve a sealing voltage Vs at which a sufficient force is applied to the tip 70 of the valve closing structure 18 to close without leakage. The seal offset voltage Vso depends at least on the type of fluid material 38 being dispensed and the pressure of the fluid material 38, and is typically in the range of about 5 volts to about 30 volts. As noted above, the seal offset voltage Vso is typically a known constant throughout the methods described herein, and may be initially input into control component 14 by the user. The closing voltage (Vc), sealing offset voltage (Vso), and sealing voltage (Vs) are related using the formula Vs = Vc + Vso. In some embodiments, such as the configuration of divider 12 shown in FIGS. 1 and 1A, where downward movement of drive pin 24 and poppet 26 corresponds to a decrease in voltage applied to piezoelectric actuator 34, It should be noted that the sealing offset voltage Vso may be a negative value.

폐쇄 전압(Vc)을 결정하는 예시적인 방법이 지금 고려된다. 하나의 예시적인 실시예에서, 감지 디바이스(48)가 밸브 폐쇄 구조물(18)(예를 들어, 구동 핀(24) 또는 포핏(26))의 하나 이상의 연속적인 비변화 위치를 나타낼 때, 이러한 위치들 중 제1 위치에 대응하는 전압 측정은 폐쇄 전압(Vc)을 고려한다. 또 다른 예시적인 실시예에서, 도 5에 도시되고 추후에 상세하게 설명되는 바와 같이, 폐쇄 전압(Vc)은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 대응하는 측정 위치에 대해 표시된 인가 전압의 그래프에서 제1 추세선(first trendline)(72)과 제2 추세선(74)의 교차점을 확인하는 것에 의해 결정된다. 폐쇄 전압(Vc)을 결정하는 어느 하나의 예시적인 방법을 사용하여, 기준점(RP)이 부응하여 결정될 수 있다. 기준점(RP)은 폐쇄 전압(Vc), 및 폐쇄 전압(Vc)에 대응하는 밸브 폐쇄 구조물(18)(예를 들어, 포핏(26))의 위치를 반영한다. 후술되는 예시적인 방법(400)(도 4)에서, 본래의 분사 프로파일(58)은 적어도 부분적으로 폐쇄 전압(Vc) 및/또는 기준점(RP)에 기초하여 교정된 분사 프로파일(60)을 얻도록 교정된다.An exemplary method of determining the closing voltage (Vc) is now considered. In one exemplary embodiment, when sensing device 48 indicates one or more continuously non-changing positions of valve closing structure 18 (eg, actuation pin 24 or poppet 26 ), such position. The voltage measurement corresponding to the first position among them considers the closing voltage Vc. In another exemplary embodiment, as shown in FIG. 5 and described in detail later, the closing voltage Vc is determined by a first trend line in a graph of applied voltage plotted against a corresponding measurement location of the valve closing structure 18. It is determined by checking the intersection of (first trendline) 72 and second trendline 74. Using either exemplary method of determining the closing voltage Vc, the reference point RP can be correspondingly determined. The reference point RP reflects the closing voltage Vc and the position of the valve closing structure 18 (eg poppet 26) corresponding to the closing voltage Vc. In the exemplary method 400 (FIG. 4) described below, the original firing profile 58 is based at least in part on the closing voltage Vc and/or the reference point RP to obtain a calibrated firing profile 60. corrected

도 4는 분사 시스템(10)의 본래의 분사 프로파일(58)을 조절 또는 교정하는 예시적인 방법(400)을 도시한다. 단계(402)에서, 전압은 미충돌 위치(52)와 충돌 위치(54) 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)(예를 들어, 포핏(26))을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 인가된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 충돌 위치(54)는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 적어도 일부가 밸브 시트(22)에 물리적으로 충돌하는 위치를 지칭하는 한편, 미충돌 위치(52)는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 부분이 밸브 시트(22)에 충돌하지 않는 위치를 지칭한다. 밸브 폐쇄 구조물(18)이 미충돌 위치(52)에서 시작하여 충돌 위치(54)로 이동하는지, 또는 충돌 위치(54)에서 시작하여 미충돌 위치(52)로 움직이는지는 중요하지 않다. 두 배열 모두 적절하다. FIG. 4 shows an exemplary method 400 for adjusting or correcting the original spray profile 58 of the spray system 10 . At step 402, a voltage is applied to the piezoelectric actuator 34 to move the valve closing structure 18 (eg, poppet 26) between the non-impact position 52 and the impact position 54. As used herein, an impact position 54 refers to a position where at least a portion of the valve closing structure 18 physically impacts the valve seat 22, while a non-impact position 52 refers to a position where the valve closing structure 18 physically impacts. The part of (18) refers to a position where it does not collide with the valve seat (22). It does not matter whether the valve closing structure 18 starts at the non-impact position 52 and moves to the impact position 54 or starts at the impact position 54 and moves to the non-impact position 52 . Both arrangements are suitable.

단계(404)에서, 감지 디바이스(48)는 밸브 폐쇄 구조물(18)이 감지 디바이스(48)에 대해 움직임에 따라서 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치를 감지한다. 단계(406)에서, 제어 구성 요소(14)는, 예를 들어 감지 디바이스(48)로부터 얻은 신호를 사용하고 압전 액튜에이터(34)에 인가된 알려진 전압에 기초하여 위치 데이터(78)(도 5 또는 도 6) 및 전압 데이터(76)(도 5 또는 도 6)를 각각 발생시킨다. 추가적으로, 속도 데이터(도시되지 않음)는 밸브 폐쇄 구조물(18)이 감지 디바이스(48)에 대해 움직임에 따라서 발생될 수 있으며, 이러한 것은 전압 데이터(76), 위치 데이터(78), 및 속도 데이터를 사용하여 기준점(RP) 및/또는 폐쇄 전압(Vc)가 설정되는 것을 가능하게 한다.At step 404 , the sensing device 48 senses the position of the valve closing structure 18 as the valve closing structure 18 moves relative to the sensing device 48 . At step 406, control component 14 determines position data 78 (FIG. 5 or 6) and voltage data 76 (FIG. 5 or 6), respectively. Additionally, velocity data (not shown) may be generated as valve closing structure 18 moves relative to sensing device 48, which may include voltage data 76, position data 78, and velocity data. It enables the reference point (RP) and/or the closing voltage (Vc) to be set.

단계(408)에서, 기준점(RP)은 전압 데이터(76) 및 위치 데이터(78)의 분석에 기초하여, 제어 구성 요소(14)에 의한 것과 같이 결정된다. 기준점(RP)은 전압 데이터(76) 대 위치 데이터(78)를 표시하는 것과 같은 다양한 방법을 사용하여 결정될 수 있다. 위치 데이터(78)는 미충돌 및 충돌 위치 데이터들을 포함한다.In step 408 , a reference point RP is determined, such as by control component 14 , based on analysis of voltage data 76 and position data 78 . Reference point RP may be determined using a variety of methods, such as representing voltage data 76 versus position data 78. Position data 78 includes non-collision and impact position data.

단계(410)에서, 제어 구성 요소(14)는 예를 들어, 단계(408)에서 적어도 부분적으로 결정된 기준점(RP)에 기초하여 폐쇄 전압(Vc)을 결정한다. 예를 들어, 기준점(RP)이 위치 성분과 전압 성분을 모두 포함하기 때문에, 폐쇄 전압(Vc)은 전압 성분으로부터 확인될 수 있다.At step 410 , control component 14 determines a lockout voltage Vc based, for example, at least in part on reference point RP determined at step 408 . For example, since the reference point RP includes both a position component and a voltage component, the closing voltage Vc can be identified from the voltage component.

단계(411)에서, 밀봉 전압(Vs)은 적어도 부분적으로 폐쇄 전압(Vc)에 기초하여 결정된다. 예를 들어, 밀봉 전압(Vs)은 식 Vs = Vc + Vso에 따라서 폐쇄 전압(Vc) 및 밀봉 옵셋 전압(Vso)을 사용하여 결정될 수 있다. 일부 양태들에서, 밀봉 옵셋 전압(Vso)은 분배 작동을 수행하는데 사용될 수 없는 것이 이해될 것이다. 이러한 앵태에서, 밀봉 옵셋 전압(Vso)이 실질적으로 0이기 때문에 밀봉 전압(Vs)은 폐쇄 전압(Vc)과 동일하다.In step 411, the sealing voltage Vs is determined based at least in part on the closing voltage Vc. For example, the sealing voltage (Vs) can be determined using the closing voltage (Vc) and the sealing offset voltage (Vso) according to the equation Vs = Vc + Vso. It will be appreciated that in some aspects, the seal offset voltage (Vso) cannot be used to perform the dispensing operation. In this configuration, the sealing voltage Vs equals the closing voltage Vc since the sealing offset voltage Vso is substantially zero.

단계(412)에서, 밀봉 전압(Vc)은 교정된 분사 프로파일(60)을 결정하도록 사용된다. 특히, 본래의 분사 프로파일(58)은 적어도 부분적으로 밀봉 전압(Vs)에 기초하여 교정된 분사 프로파일(60)로 시프팅된다. 예를 들어, 본래의 분사 프로파일(58)은 교정된 분사 프로파일(60)이 밀봉 전압(Vs)과 동일한 시작 전압(36) 및/또는 종료 전압(68)을 포함하도록 교정된 분사 프로파일(60)로 시프팅된다. At step 412 , sealing voltage Vc is used to determine a calibrated firing profile 60 . In particular, the original firing profile 58 is shifted into a corrected firing profile 60 based at least in part on the sealing voltage Vs. For example, original firing profile 58 can be modified firing profile 60 such that corrected firing profile 60 includes a starting voltage 36 and/or ending voltage 68 equal to sealing voltage Vs. is shifted to

도 5는 본래의 분사 프로파일(58)을 교정하도록 제1 추세선(72)과 제2 추세선(74)의 교차점을 사용하는 예시적인 예를 제공한다. 압전 액튜에이터(34)로의 전압의 인가가 밸브 시트(22)로부터 멀어지게 밸브 폐쇄 구조물(18)의 상향 움직임을 유발하고, 인가된 전압에서의 제거 또는 감소가 도 1 및 도 1a에 도시된 분배기(12)의 경우에서와 같이 밸브 시트(22)를 향한 밸브 폐쇄 구조물(18)의 하향 움직임을 유발하는 것으로, 도 5에 도시된 차트가 분배기를 고려한다는 것을 유의하여야 할 것이다. 차트는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치 대 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압을 도시한다. 밀봉 전압(Vs)이 최대 분사 프로파일 전압인 도 3과 달리, 도 5에서, 밀봉 전압(Vs)은 최소 분사 프로파일 전압이다. 여기에서, 시작 전압(36)은 0 볼트이다. 밸브 폐쇄 구조물(18)은 충돌 전압(impact voltage)에 대한 전압을 사용하여 사전 결정된 위치에서 밸브 시트(22)로부터 분리된다. 도시된 바와 같이, 충돌 위치(54)에서, 밸브 폐쇄 구조물(18)은 0 내지 60 볼트의 전압 범위에서 단지 수미크론만 움직인다. 밀봉은 이러한 전압 범위에서 일어나며, 낮은 전압은 높은 밀봉력에 대응한다. 미충돌 위치(52)에서, 밸브 폐쇄 구조물(18)은 전압이 70 내지 110 볼트 범위에서 증가함에 따라서 밸브 시트(22)로부터 멀어지게 움직인다. 60 내지 70 볼트 범위에서, 밀봉으로부터 운동으로 천이한다. 밀봉 전압(Vs)이 최소 전압인 이러한 배열을 이용하여, 폐쇄 전압(Vc)은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 팁(70)이 밸브 시트(22)에 최후에 충돌하는 전압이다. 제어 구성 요소(14)는 예를 들어 충돌 위치 데이터의 실질적으로 선형 부분으로부터 제1 추세선(72), 바람직하게 선형 추세선을 발생시킨다. 제어 구성 요소(14)는 예를 들어 미충돌 위치 데이터의 실질적으로 선형인 부분으로부터 제2 추세선(74), 바람직하게 선형 추세선을 또한 발생시킨다. 구체적으로, 도 5는 y = 0.1x + 997 미크론의 제1 선형 추세선, 및 y = 3.24x + 799.4 미크론의 제2 선형 추세선을 가진다. 선형 방정식을 사용하는 추세선이 표시되고 설명되지만, 추세선은 대안적으로 고차 또는 구분 방정식(piecewise equation)을 사용할 수 있다.5 provides an illustrative example of using the intersection of the first trend line 72 and the second trend line 74 to correct the original injection profile 58 . Application of a voltage to the piezoelectric actuator 34 causes upward movement of the valve closing structure 18 away from the valve seat 22, and removal or reduction in the applied voltage results in the distributor shown in FIGS. 1 and 1A ( It should be noted that the chart shown in FIG. 5 considers the distributor as causing a downward movement of the valve closing structure 18 towards the valve seat 22 as in the case of 12). The chart shows the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 versus the position of the valve closing structure 18 . Unlike FIG. 3 where the sealing voltage Vs is the maximum firing profile voltage, in FIG. 5 the sealing voltage Vs is the minimum firing profile voltage. Here, the starting voltage 36 is zero volts. The valve closing structure 18 separates from the valve seat 22 at a predetermined location using a voltage relative to the impact voltage. As shown, at impact position 54, valve closing structure 18 moves only a few microns in the voltage range of 0 to 60 volts. Sealing occurs in this voltage range, with lower voltages corresponding to higher sealing forces. In the non-impact position 52, the valve closing structure 18 moves away from the valve seat 22 as the voltage increases in the range of 70 to 110 volts. In the 60 to 70 volt range, it transitions from sealing to motion. Using this arrangement where the sealing voltage Vs is the minimum voltage, the closing voltage Vc is the voltage at which the tip 70 of the valve closing structure 18 last strikes the valve seat 22 . The control component 14 generates a first trend line 72, preferably a linear trend line, for example from a substantially linear portion of the impact position data. The control component 14 also generates a second trend line 74, preferably a linear trend line, for example from a substantially linear portion of the non-impact position data. Specifically, FIG. 5 has a first linear trend line at y = 0.1x + 997 microns, and a second linear trend line at y = 3.24 x + 799.4 microns. Although trend lines using linear equations are shown and explained, trend lines may alternatively use higher order or piecewise equations.

계속해서 도 5를 참조하면, 제어 구성 요소(14)는 예를 들어 제1 추세선(72)과 제2 추세선(74)의 교차점을 결정한다. 이러한 교차점은 폐쇄 전압(Vc)을 가지는 기준점(RP)으로 간주된다. 기준점(RP)(및/또는 여기에서 구현된 폐쇄 전압(Vc))은 교정된 분사 프로파일(60)을 결정하도록 사용된다. 특히 도 5의 기준점(RP)은 1003.3 미크론 및 62.9 볼트에서 일어난다. 그 결과, 본래의 분사 프로파일(58)은 밀봉 옵셋 전압(Vso)(즉, 밀봉 전압(Vs))을 더한 폐쇄 전압(Vc)에 대응하는 최대 전압(또는 특정 분배기(12) 구성에 따라 최소 전압)을 포함하도록 교정된 분사 프로파일(60)로 시프팅된다. 상기된 바와 같이, 도 5에 대하여 고려된 분사 시스템에 대하여, 밀봉 전압(Vs)이 폐쇄 전압(Vc)보다 작기 때문에, 밀봉 옵셋 전압(Vso)은 음의 값이다.With continuing reference to FIG. 5 , control component 14 determines, for example, the intersection of first trend line 72 and second trend line 74 . This intersection point is regarded as a reference point RP having a closing voltage Vc. The reference point RP (and/or the closure voltage Vc implemented here) is used to determine the calibrated firing profile 60 . In particular, reference point RP in Figure 5 occurs at 1003.3 microns and 62.9 volts. As a result, the original ejection profile 58 has a maximum voltage (or minimum voltage depending on the particular divider 12 configuration) corresponding to the closing voltage Vc plus the sealing offset voltage Vso (i.e., the sealing voltage Vs). ) is shifted to the corrected injection profile 60 to include. As mentioned above, for the injection system considered with respect to FIG. 5 , since the sealing voltage Vs is smaller than the closing voltage Vc, the sealing offset voltage Vso is negative.

도 6은 방법(400)의 적어도 일부의 실시의 또 다른 예시적인 실시예를 도시한다. 특히 도 6은 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압(즉, 전압 데이터(76))에 대한 밸브 폐쇄 구조물(18)의 측정 위치(즉, 위치 데이터(78))를 표시한 차트를 도시한다. 도 6에 도시된 차트가, 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압(및 그에 따른 팽창)이 구동 핀(24)을 아래쪽으로 움직여 포핏(26)과 접촉시키는 상기된 대안적인 분배기(12) 구성으로서 간주된다는 것을 유의하여야 할 것이다. 6 depicts another illustrative embodiment of an implementation of at least a portion of method 400 . In particular, FIG. 6 shows a chart plotting the measured position (ie, position data 78) of valve closing structure 18 versus the voltage applied to piezoelectric actuator 34 (ie, voltage data 76). The chart shown in FIG. 6 is the alternative distributor 12 configuration described above where the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 (and thus its expansion) moves the actuating pin 24 downward and into contact with the poppet 26. It should be noted that it is considered

도 6에서, 전압은 100개의 증분 단계로 20 볼트에서 110 볼트로 증가한다. 이러한 것은 각각의 단계에서 0.9 볼트(100개의 단계/(110 볼트 - 20 볼트))만큼 전압을 증가시킨다. 밸브 폐쇄 구조물(18)의 팁(70)은 폐쇄 전압(Vc)에서 밸브 시트(22)에 충돌한다. 특히, 위치 데이터(78)가 분석됨에 따라서, 하나 이상의 연속적인 비변화 위치는 이러한 위치들 중 제1 위치에서 발생된 기준점(RP)(그러므로 폐쇄 전압(Vc))을 나타낸다. 연속적인 비변화 위치의 수는 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)를 사용하여 사용자에 의해 선택될 수 있다. 이러한 제1 위치는 대략 55 볼트의 폐쇄 전압(Vc)을 가지는 기준점(RP)이다. 4개의 비변화 위치가 적절한 것으로 알려졌지만, 다소의 비변화 위치가 필요할 수 있다. 상기된 바와 같이, 본래의 분사 프로파일(58)은 적어도 부분적으로 결정된 폐쇄 전압(Vc)에 기초하여 교정된 분사 프로파일(60)로 시프팅된다.In Figure 6, the voltage increases from 20 volts to 110 volts in 100 incremental steps. This increases the voltage by 0.9 volts at each step (100 steps/(110 volts - 20 volts)). Tip 70 of valve closing structure 18 impinges on valve seat 22 at closing voltage Vc. In particular, as the positional data 78 is analyzed, one or more successive non-varying positions represent the reference point RP (and hence the closing voltage Vc) generated at the first of these positions. The number of consecutive non-changing positions can be selected by the user using a graphical user interface (GUI). This first position is a reference point RP with a closing voltage Vc of approximately 55 volts. Four non-changing positions have been found to be adequate, but more or less non-changing positions may be needed. As noted above, the original firing profile 58 is shifted to a corrected firing profile 60 based at least in part on the determined lock-down voltage Vc.

분사 프로파일을 교정하는이 방법(400)은 많은 이점을 제공한다. 우선, 이 방법은 분사 시스템(10)들 전체에 걸쳐서 보다 일관된 분사 결과를 제공하며, 다양한 분사 시스템(10)들에 폭넓게 적용될 수 있다. 주어진 하드웨어 구성 요소 세트에서, 충돌 위치는 약 40 마이크로미터까지 변화하며, 이는 도 1의 분사 시스템(10)에 대해 약 20 볼트에 대응한다. 이러한 것은 단일 분사 프로파일을 사용하여 다수의 분사 시스템(10)에 대한 분사 프로파일을 한정하려고 시도할 때 특히 문제가 된다. 대신에, 이 방법은 각각의 개별 분사 시스템(10) 및 분사 시스템(10) 내의 하드웨어 구성 요소의 각각의 특정 구성을 위해 피크 전압 및 충돌 전압이 조절되도록 허용한다. 마찬가지로, 개별 구성 요소들을 함께 교정하는 것에 의해, 구성 요소의 허용 오차 요건이 줄어들 수 있고, 이는 차례로 하드웨어 구성 요소와 관련된 제조 비용을 감소시킨다.This method 400 of calibrating the ejection profile provides many advantages. First of all, this method provides a more consistent injection result across injection systems 10 and is widely applicable to a variety of injection systems 10 . For a given set of hardware components, the impact location varies by about 40 micrometers, which corresponds to about 20 volts for the injection system 10 of FIG. This is particularly problematic when attempting to define a spray profile for multiple injection systems 10 using a single spray profile. Instead, this method allows the peak voltage and crash voltage to be adjusted for each individual injection system 10 and for each specific configuration of hardware components within the injection system 10 . Similarly, by calibrating individual components together, the component's tolerance requirements can be reduced, which in turn reduces manufacturing costs associated with hardware components.

이러한 방법은 밸브 시트(22), 밸브 폐쇄 구조물(18), 및 압전 작동 메커니즘(16)과 같은 하드웨어 구성 요소의 마모 및 관련 교체 비용을 감소시킬 수 있다. 또한, 예방적인 유지 보수 루틴의 부분으로서 주기적으로 이러한 방법을 사용하는 것에 의해, 방법(400)은 하드웨어 구성 요소들의 마모가 상대 위치 설정 및 폐쇄 전압(Vc)을 변화시키기 때문에 분사 시스템(10)의 수명에 걸쳐서 보다 일관된 분사를 제공한다. 이러한 것은 밸브 폐쇄 구조물(18)이 개방 동안 밸브 시트(22)로부터 이동하는 거리, 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트로부터 분리되어 있는 시간의 양, 및 밸브 폐쇄 구조물(18)이 폐쇄 시에 밸브 시트와 강하게 접촉하는 속도가 분사 공정의 체적과 일관성에 영향을 미치기 때문에 중요하다. 폐쇄 전압(Vc)에 대한 분사 프로파일을 교정하는 것에 의해, 이러한 것은 분사 시스템(10)의 수명 내에서 성능의 일관성을 향상시킨다. 또한, 밸브 시트(22)가 전형적으로 밸브 폐쇄 구조물(18)과 반복적인 접촉으로 인하여 더욱 빨리 마모되기 때문에, 밸브 시트(22)는 예를 들어 압전 작동 메커니즘(16) 또는 밸브 폐쇄 구조물(18)과 같은 다른 구성 요소보다 먼저 교체될 필요가 있다.This method may reduce wear and associated replacement costs of hardware components such as valve seat 22 , valve closing structure 18 , and piezoelectric actuation mechanism 16 . Additionally, by using this method periodically as part of a preventative maintenance routine, method 400 can be used to reduce the risk of damage to the injection system 10 as wear of hardware components changes the relative positioning and shutdown voltages Vc. Provides more consistent dispensing over life. These include the distance the valve closing structure 18 travels from the valve seat 22 during opening, the amount of time the valve closing structure 18 is separated from the valve seat, and the valve closing structure 18 being strongly associated with the valve seat when closed. The speed of contact is important because it affects the volume and consistency of the spraying process. By calibrating the injection profile for the closing voltage Vc, this improves the consistency of performance within the lifetime of the injection system 10. Additionally, since the valve seat 22 typically wears out more quickly due to repeated contact with the valve closing structure 18, the valve seat 22 may be used, for example, by the piezoelectric actuation mechanism 16 or the valve closing structure 18. It needs to be replaced before other components such as

이러한 방법(400)은 본래의 분사 프로파일(58)이 분배되는 유체 물질(38)의 특정 재료 특성을 고려하여 교정되는 것을 가능하게 한다. 예를 들어, 저점도 유체 물질로 충돌 속도를 감소시키고 밀봉력을 증가시키는 것이 바람직하다. 이러한 것은 출구(40)로부터 유체 물질(38)을 충분히 배출시키는데 필요한 속도가 감소되기 때문이다. 또한, 저점도 유체 물질에 대하여, 출구(40)를 통한 유체 물질(38)의 의도하지 않은 누출을 방지하기 위해 밀봉력을 증가시키는 것이 바람직하다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 저점도 유체 물질은 일반적으로 약 100 센티푸아즈의 점도를 가진다. 반대로, 고점도의 유체 물질에 대하여, 충돌 속도를 증가시키는 한편 밀봉력을 감소시키는 것이 바람직하다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 고점도 유체 물질은 일반적으로 약 1000 센티푸아즈보다 큰 점도를 가진다.This method 400 allows the original spray profile 58 to be calibrated to account for the specific material properties of the fluid substance 38 being dispensed. For example, it is desirable to reduce the impact velocity and increase the sealing force with a low viscosity fluid material. This is because the velocity required to fully expel fluid material 38 from outlet 40 is reduced. Also, for low viscosity fluid materials, it is desirable to increase the sealing force to prevent unintentional leakage of fluid material 38 through outlet 40. As used herein, a low viscosity fluid material generally has a viscosity of about 100 centipoise. Conversely, for high viscosity fluid materials, it is desirable to increase the impact velocity while reducing the sealing force. As used herein, a high viscosity fluid material generally has a viscosity greater than about 1000 centipoise.

또한, 도 7 내지 도 9는 분사 시스템(10)이 기준 카트리지(80)를 통합하는 다른 예시적인 실시예를 도시한다. 특히, 도 7 및 도 8은 실린더(82), 기계적 스토퍼(84), 및 홀더(86)를 포함하는 기준 카트리지(80)를 도시한다. 기준 카트리지(80)는 바람직하게 특정의(brand) 새로운 유체 카트리지(56)와 동일한 위치에 위치된다. 도시된 바와 같이, 기계적 스토퍼(84)는 바람직하게 고도의 정밀도로 제조되는 공지된 치수의 블록이다.7-9 also show another exemplary embodiment in which the injection system 10 incorporates a reference cartridge 80 . In particular, FIGS. 7 and 8 show a reference cartridge 80 comprising a cylinder 82 , a mechanical stopper 84 , and a holder 86 . The reference cartridge 80 is preferably positioned in the same location as the brand new fluid cartridge 56. As shown, the mechanical stopper 84 is preferably a block of known dimensions manufactured with a high degree of precision.

기준 카트리지(80)를 분사 시스템(10)에 통합하는 것은 유체 카트리지(56)와 분사 분사기(12)의 나머지 사이의 상대적인 마모를 결정하는 "마스터 교정"을 제공한다. 기준 카트리지(80)는 밸브 폐쇄 구조물(18) 및/또는 압전 작동 메커니즘(16)과 같은 시스템(10)의 다른 구성 요소들의 마모를 결정하도록 또한 사용될 수 있다. 도 9가 구동 핀(24)으로서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 도시하지만, 밸브 폐쇄 구조물(18)은 예를 들어 포핏들, 니들들, 플런저들 및/또는 볼과 같은 당업자에게 공지된 요소들의 임의의 적절한 조합을 포함할 수 있다.Incorporating the reference cartridge 80 into the injection system 10 provides a “master calibration” that determines the relative wear between the fluid cartridge 56 and the remainder of the injection dispenser 12 . Reference cartridge 80 may also be used to determine wear of other components of system 10, such as valve closing structure 18 and/or piezoelectric actuation mechanism 16. 9 shows valve closing structure 18 as actuation pin 24, valve closing structure 18 may be any of elements known to those skilled in the art such as, for example, poppets, needles, plungers and/or balls. may include an appropriate combination of

도 10은 미충돌 교정 위치에 있는 밸브 폐쇄 구조물(18)로부터 사전 결정된 거리에 위치된 기계적 스토퍼(84)를 가지는 기준 카트리지(80)를 사용하여 분사 시스템(10)을 교정하기 위한 예시적인 방법(1000)을 도시한다. 단계(1002)에서, 특히 포핏(26)으로서 도 1에 도시된 밸브 폐쇄 구조물(18)의 일부를 포함하는 유체 카트리지(56)는 분사 시스템(10)으로부터 제거되는 한편, 기준 카트리지(80)는 도 9에 도시된 바와 같이 분사 시스템(10) 내로 삽입된다. 이러한 구성 요소들을 제거하고 기준 카트리지(80)로 교체하는 것은 유체 카트리지(56)(예를 들어, 밸브 시트(22))에 의해 부과되는 가변성을 감소시키고, 보다 적은 구성 요소들로 인해 보다 정밀한 교정을 허용한다. 단계(1004)에서, 전압은 미충돌 교정 위치와 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 인가된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 충돌 교정 위치는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 적어도 일부가 기계적 스토퍼(84)에 충돌하는 위치인 반면에, 미충돌 교정 위치는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 어떠한 부분도 기계적 스토퍼(84)에 충돌하지 않는 위치이다. 밸브 폐쇄 구조물(18)이 미충돌 교정 위치에서 시작하여 충돌 교정 위치로 움직이거나 또는 충돌 교정 위치에서 시작하여 미충돌 교정 위치로 움직이는지는 중요하지 않다. 특히, 도 9는 도 1에 도시된 바와 같이 밸브 시트(22)와 접촉하는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 포핏(26) 대신에 기계적 스토퍼(84)와 접촉하는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 구동 핀(24)을 도시한다.10 shows an exemplary method for calibrating an injection system 10 using a reference cartridge 80 having a mechanical stopper 84 positioned at a predetermined distance from the valve closing structure 18 in a non-impact calibration position ( 1000) is shown. In step 1002, fluid cartridge 56, which includes a portion of valve closing structure 18, shown in FIG. 1 as poppet 26 in particular, is removed from injection system 10, while reference cartridge 80 It is inserted into the injection system 10 as shown in FIG. 9 . Removing these components and replacing them with reference cartridge 80 reduces the variability imposed by fluid cartridge 56 (e.g., valve seat 22), and more precise calibration due to fewer components. allow In step 1004, a voltage is applied to the piezoelectric actuator 34 to move the valve closing structure 18 between the non-impact corrected position and the impact corrected position. As used herein, a crash-corrected position is a position where at least a portion of the valve closing structure 18 impacts the mechanical stopper 84, whereas a non-impact-corrected position does not affect any part of the valve closing structure 18. It is a position that does not collide with the mechanical stopper 84. It does not matter whether the valve closing structure 18 is moved from the non-impact corrected position to the impact corrected position or from the impact corrected position to the non-impact corrected position. In particular, FIG. 9 shows the actuating pin of the valve closing structure 18 in contact with the mechanical stopper 84 instead of the poppet 26 of the valve closing structure 18 in contact with the valve seat 22 as shown in FIG. (24) is shown.

단계(1006)에서, 감지 디바이스(48)는 밸브 폐쇄 구조물(18)이 단계(1004)의인가된 전압에 의해 작동되는 동안 직접 또는 간접적으로 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치를 감지한다. 예를 들어, 감지 디바이스(48)는 구동 핀(24)과 같은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치를 감지할 수 있다. 단계(1008)에서, 전압 교정 데이터는 단계(1004)에서 압전 액튜에이터(34)에 인가된 공지의 전압에 기초하여 발생되고, 위치 교정 데이터는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 감지된 위치에 기초하여 발생된다. 전압 교정 데이터 및 위치 교정 데이터의 이러한 발생은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 움직임을 측정하는 것과 동시에 또는 그 후에 일어날 수 있다.In step 1006, the sensing device 48 directly or indirectly senses the position of the valve closing structure 18 while the valve closing structure 18 is actuated by the applied voltage of step 1004. For example, sensing device 48 may sense the position of valve closing structure 18 , such as actuation pin 24 . In step 1008, voltage correction data is generated based on the known voltage applied to the piezoelectric actuator 34 in step 1004, and position correction data is generated based on the sensed position of the valve closing structure 18. do. This generation of voltage calibration data and position calibration data may occur concurrently with or after measuring the movement of the valve closing structure 18 .

단계(1010)에서, 제어 구성 요소(14)는 예를 들어, 전압 교정 데이터 및 위치 교정 데이터를 사용하여 마스터 기준점(MRP)을 설정한다. 마스터 기준점(MRP)을 결정하는 방법은 방법(400)과 관련하여 상기된 기준점(RP)을 결정하는 방법과 유사한 방식으로 수행될 수 있다. 둘 모두 폐쇄 전압(Vc)을 결정하도록 추구하지만, 이 예시적인 방법에서, 폐쇄 전압(Vc)은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 적어도 일부가 기계적 스토퍼(84)에 처음 또는 마지막(구성 요소의 배열에 따라)으로 충돌할 때 결정된다.At step 1010, control component 14 establishes a master reference point (MRP) using, for example, voltage calibration data and position calibration data. The method of determining the master reference point (MRP) may be performed in a manner similar to the method of determining the reference point (RP) described above with respect to method 400 . Both seek to determine the closing voltage (Vc), but in this exemplary method, the closing voltage (Vc) is the first or last (depending on the arrangement of components) at least a portion of the valve closing structure 18 to the mechanical stopper 84. It is determined when it collides with).

단계(1012)에서, 제어 구성 요소(14)는 마스터 기준점을 다음에 설명되는 바와 같은 이력 데이터(historic data)와 비교하는 것에 의해 분사 시스템(10)의 하나 이상의 마모 특성을 결정하도록 마스터 기준점(MRP)을 사용한다. 또한, 방법(1000)은 구성 요소의 마모 특성이 수용 가능한 허용 오차를 벗어날 때 또는 구성 요소가 예방적 유지 보수를 필요로 할 때 사용자에게 경보를 발하는 단계를 포함할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 제어 구성 요소(14)와 관련된 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 경보될 수 있다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물(18)이 기계적 스토퍼(84)에 충돌하는 사이클의 횟수를 추적하는 단계, 구성 요소의 유효 수명을 결정하는 단계, 및 전압 및 위치 교정 데이터 및 사이클의 수를 사용하여 예방적 유지 보수 스케줄 및 루틴을 결정하는 단계를 또한 포함할 수 있다.At step 1012, control component 14 determines one or more wear characteristics of injection system 10 by comparing the master reference point to historical data as described below (MRP). ) is used. Method 1000 can also include alerting a user when a wear characteristic of a component is outside acceptable tolerances or when a component requires preventative maintenance. For example, a user may be alerted via a graphical user interface associated with control component 14 . The method includes tracking the number of cycles in which the valve closing structure 18 impacts the mechanical stopper 84, determining the useful life of the component, and using the voltage and position calibration data and the number of cycles to prevent Determining an optimal maintenance schedule and routine may also be included.

분사 카트리지(10)를 교정하기 위해 기준 카트리지(80)를 사용하는 것은 하드웨어 구성 요소들이 그 사용 가능한 수명의 종료 또는 그 부근에 있는지의 여부를 결정하는 것을 돕는다. 이러한 마스터 교정은 분사 분배기(12)의 전체적인 마모를 결정하지만, 압전 액튜에이터 메커니즘(16)과 밸브 폐쇄 구조물(18) 사이의 상대적인 마모를 결정하지는 못한다. 그러나, 기준 카트리지(80)가 새로운 것이었을 때로부터 및 다양한 다른 시간에 기준 카트리지(80)와 관련된 폐쇄 전압(Vc)을 저장하는 것은 마모 및 개선된 예방적 유지 보수의 추적을 가능하게 한다. 예를 들어, 마스터 기준점(MRP)은 일정 시간 기간 동안 다수회 결정되어 저장될 수 있다. 현재의 마스터 기준점(MRP)은 현재 결정되어, 하나 이상의 저장된 마스터 기준점(MRP)과 비교될 수 있다. 현재의 마스터 기준점(MRP) 및 하나 이상의 저장된 기준점(MRP)의 차이가 관측되면, 이러한 것은 분배기(12)의 하나 이상의 구성 요소의 마모를 나타낼 수 있다.Using the reference cartridge 80 to calibrate the ejection cartridge 10 helps determine whether hardware components are at or near the end of their useful life. This master calibration determines the overall wear of the injection distributor 12, but does not determine the relative wear between the piezoelectric actuator mechanism 16 and the valve closing structure 18. However, storing the closing voltage Vc associated with the reference cartridge 80 from when the reference cartridge 80 was new and at various other times allows tracking of wear and improved preventative maintenance. For example, the master reference point (MRP) may be determined and stored multiple times over a period of time. A current master reference point (MRP) may be currently determined and compared to one or more stored master reference points (MRPs). If a difference between the current master reference point (MRP) and one or more stored reference points (MRP) is observed, this may indicate wear of one or more components of the dispenser 12 .

또한, 유체 카트리지(56) 및/또는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 교체된 구성 요소들에 대응하는 폐쇄 전압(Vc)을 기준 카트리지(80)에 대응하는 폐쇄 전압(Vc)과 비교하는 것은 밸브 시트(22)의 마모를 포함하는 유체 카트리지(56) 및/또는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 교체된 구성 요소들의 마모를 추적한다. 예를 들어, 기계적 스토퍼(84)의 상대적인 위치 설정(구동 핀에 대한)이 비마모 상태로 있는 포핏(26)의 상대적 위치와 일치하도록 기준 카트리지(80)가 구성되면, 기준 카트리지(80)에 대응하는 폐쇄 전압(Vc)과 현재의 포핏(26)에 대응하는 이전에 기록된 폐쇄 전압(Vc) 사이의 차이는 교체된 포핏(26) 및/또는 교체된 밸브 시트(22)에서의 마모를 밝힐 수 있다. 유사하게, 이러한 차이는, 예를 들어 보다 많은 전압이 동일한 거리에 걸쳐서 비마모 압전 액튜에이터(34)를 팽창시키도록 요구될 수 있기 때문에, 압전 작동 메커니즘(16)(또는 그 구성 요소)에서의 마모를 밝힐 수 있다.Additionally, comparing the closing voltage Vc corresponding to the replaced components of the fluid cartridge 56 and/or valve closing structure 18 to the closing voltage Vc corresponding to the reference cartridge 80 may result in a valve seat Track wear of replaced components of fluid cartridge 56 and/or valve closing structure 18, including wear of (22). For example, if the reference cartridge 80 is configured such that the relative positioning of the mechanical stopper 84 (relative to the drive pin) matches the relative position of the poppet 26 in a non-wear state, then the reference cartridge 80 The difference between the corresponding closing voltage (Vc) and the previously recorded closing voltage (Vc) corresponding to the current poppet (26) indicates wear in the replaced poppet (26) and/or the replaced valve seat (22). can reveal Similarly, this difference may cause wear in the piezoelectric actuation mechanism 16 (or components thereof), for example, since more voltage may be required to inflate the non-wearing piezoelectric actuator 34 over the same distance. can reveal

다른 예시적인 실시예에서, 미충돌 교정 위치에 있는 밸브 폐쇄 구조물(18)로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치되는 기계적 스토퍼(84)를 포함하는 분사 시스템(10)을 작동시키는 사용자의 방법이 또한 개시된다. 이러한 실시예에서, 사용자는 제어 구성 요소(14)에 전자적으로 연결된 그래픽 사용자 인터페이스(도시되지 않음)를 사용하여 제어 구성 요소(14) 내로 다양한 파라미터를 입력한다. 제한이 아닌 예로서, 사용자는 유체 형태, 분사 주파수, 및/또는 액적 크기를 입력할 수 있다. 적어도 부분적으로 사용자에 의해 제공된 파라미터(들)에 기초하여, 제어 구성 요소(14)는 그런 다음 미충돌 교정 위치와 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직이도록 압전 작동 메커니즘(16)의 압전 액튜에이터(34)에 전압을 인가하는 것에 의해 교정된 분사 프로파일(60)을 결정한다. 이 실시예에서, 충돌 교정 위치는 분사 시스템(10)의 특정 구성에 따라서, 밸브 폐쇄 구조물(18)이 기계적 스토퍼(84)에 충돌하거나 접촉하는 경우에 일어난다. 방법은 제어 구성 요소(14)를 사용하여 분사 시스템(10)에 교정 프로파일을 적용하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 밸브 폐쇄 구조물(18)이 밸브 시트(22)에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 밸브 폐쇄 구조물(18)이 밸브 시트(22)에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 전압을 인가하는 것에 의해 분사 프로파일을 결정하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 교정된 분사 프로파일(60)을 분사 시스템(10)에 적용하는 단계를 포함한다. 그래픽 사용자 인터페이스 또는 청각적 소리로의 경보는 마모가 권장 수준을 초과하거나 또는 예방적 유지 보수가 요청될 때 사용자에게 경보를 발하도록 제어 구성 요소(14)에 의해 만들어질 수 있다. In another exemplary embodiment, a user's method of operating an injection system 10 that includes a mechanical stopper 84 positioned a predetermined distance away from a valve closing structure 18 in a non-impact corrected position is also disclosed. . In this embodiment, a user enters various parameters into control component 14 using a graphical user interface (not shown) electronically connected to control component 14 . By way of example, and not limitation, the user may enter fluid type, ejection frequency, and/or droplet size. Based at least in part on the parameter(s) provided by the user, the control component 14 then operates the piezoelectric actuation mechanism 16 to move the valve closing structure 18 between the non-impact corrected position and the impact corrected position. Applying a voltage to the piezoelectric actuator 34 determines the calibrated firing profile 60 . In this embodiment, a crash correction position occurs when the valve closing structure 18 collides or contacts the mechanical stopper 84, depending on the particular configuration of the injection system 10. The method includes applying a correction profile to an injection system (10) using a control component (14). The method moves the valve closing structure 18 between a non-collision correction position in which the valve closing structure 18 does not collide with the valve seat 22 and a collision position in which the valve closing structure 18 collides with the valve seat 22. and determining the spray profile by applying a voltage to the piezoelectric actuator 34 to cause it to move. The method includes applying the calibrated spray profile 60 to the spray system 10 . A graphical user interface or audible alert can be made by the control component 14 to alert the user when wear exceeds recommended levels or when preventive maintenance is required.

도 11은 사용자에 의해 특정된 밸브 폐쇄 구조물(18)의 스트로크 길이를 사용하여 분사 시스템(10)을 교정하고 및/또는 분사 시스템(10)의 마모를 결정하는 예시적인 방법(1100)을 나타낸다. 상기 방법(1100)은 예를 들어 압전 작동 메커니즘(16), 밸브 폐쇄 구조물(18), 및/또는 분사 시스템(10)의 다른 구성 요소에서의 변화를 설명하도록 사용될 수 있다. 예를 들어, 반복된 사용 또는 제조에서의 단순한 약간의 변화로 인하여, 시스템의 "이득"이 변할 수 있다. 즉, 인가된 전압의 단위당 압전 작동 메커니즘(16)에 의해 유발되는 변위는 특정 시스템마다 변할 수 있다.11 shows an exemplary method 1100 for calibrating the injection system 10 and/or determining wear of the injection system 10 using the stroke length of the valve closing structure 18 specified by the user. The method 1100 may be used to account for changes in, for example, the piezoelectric actuation mechanism 16 , the valve closing structure 18 , and/or other components of the injection system 10 . For example, due to repeated use or simple slight changes in manufacturing, the "benefit" of the system may change. That is, the displacement caused by the piezoelectric actuation mechanism 16 per unit of applied voltage may vary from particular system to particular system.

단계(1102)에서, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 바람직한 스트로크 길이는 사용자로부터 수신된다. 필요한 스트로크 길이는 예를 들어 밸브 시트(22)와의 최상부 미충돌 위치로부터 그 충돌 위치까지의 포핏(26)의 필요한 스트로크 길이를 특정할 수 있다. 일부 양태에서, 사용자는 밀봉 옵셋 전압(Vso) 또는 분사 시스템(10)의 작동에 관련된 다른 파라미터를 또한 입력할 수 있다. 방법(1100)의 단계(1102)뿐만 아니라 다른 단계들은 제어 구성 요소(14)를 통해 수행될 수 있다.At step 1102, a desired stroke length of valve closing structure 18 is received from a user. The required stroke length may specify, for example, the required stroke length of the poppet 26 from its uppermost non-impact position with the valve seat 22 to its impact position. In some aspects, the user may also input seal offset voltage (Vso) or other parameters related to the operation of injection system 10 . Step 1102 of method 1100 as well as other steps may be performed via control component 14 .

단계(1104)에서, 전압은 미충돌 및 충돌 위치들 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)(예를 들어, 포핏(26))을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 인가된다(또는 그 반대로). 단계(1106)에서, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치(들)는 밸브 폐쇄 구조물(18)이 미충돌 및 충돌 위치들 사이에서 움직임에 따라서(또는 그 반대로) 감지 디바이스(48)에 의해 감지된다. 단계(1108)에서, 단계(1104)에서 압전 액튜에이터(34)에 인가된 공지의 전압 및 단계(1106)에서 감지된 위치(들)에 기초하여, 전압 및 위치 데이터들이 발생된다.At step 1104, a voltage is applied to the piezoelectric actuator 34 to move the valve closing structure 18 (eg, poppet 26) between the non-impact and impact positions (or vice versa). At step 1106, the position(s) of the valve closing structure 18 are sensed by the sensing device 48 as the valve closing structure 18 moves between the non-impact and impact positions (or vice versa). . In step 1108, based on the known voltage applied to the piezoelectric actuator 34 in step 1104 and the sensed position(s) in step 1106, voltage and position data are generated.

단계(1110)에서, 기준점(RP)은 전압 및 위치 데이터들의 분석에 기초하여 결정된다. 기준점(RP)은 도 4에 도시된 방법(400) 및 도 5 및 도 6의 예시적인 예와 관련하여 상기된 것과 유사한 방식으로 결정될 수 있다. 기준점(RP)에 기초하여, 폐쇄 전압(Vc)이 추가적으로 결정될 수 있다. 예를 들어, 기준점(RP)의 전압 성분은 폐쇄 전압(Vc)을 나타낼 수 있다.At step 1110, a reference point RP is determined based on analysis of the voltage and position data. Reference point RP may be determined in a manner similar to that described above with respect to method 400 shown in FIG. 4 and the illustrative example of FIGS. 5 and 6 . Based on the reference point RP, the closing voltage Vc may be additionally determined. For example, the voltage component of the reference point RP may represent the closed voltage Vc.

단계(1112)에서, 전압 및 위치 데이터들은 최고 전압(Vt)을 결정하도록 분석된다. 최고 전압(Vt)은 압전 액튜에이터(34)에 인가될 때, 단계(1102)에서 사용자로부터 수신된 필요한 스트로크 길이를 제공하는 전압이다. 특히, 최고 전압(Vt)은 밸브 시트(22)에 대한 밸브 폐쇄 구조물(예를 들어, 포핏(26))의 최대 상향 이동을 제공하는 전압이며, 그러므로 용어 "최고" 전압을 의미한다. 이와 같이, 최고 전압(Vt)은 분배기(12)를 위한 분사 프로파일에 인가된 최대 전압일 수 있으며, 여기에서, 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압은 도 1 및 도 1a에 도시된 분배기(12)와 같이 밸브 시트(22)로부터 멀어지게 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직인다. 반대로, 최고 전압(Vt)은 분배기(12)를 위한 분사 프로파일에 인가된 최소 전압일 수 있으며, 여기에서, 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압은 밸브 시트(22)를 향해 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직인다. At step 1112, the voltage and position data are analyzed to determine the highest voltage (Vt). The highest voltage Vt is the voltage that, when applied to the piezoelectric actuator 34, provides the required stroke length received from the user in step 1102. In particular, the highest voltage (Vt) is the voltage that provides the maximum upward movement of the valve closing structure (eg, poppet 26) relative to the valve seat 22, hence the term "highest" voltage. As such, the highest voltage Vt may be the maximum voltage applied to the spray profile for the distributor 12, where the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 is the voltage applied to the distributor 12 shown in FIGS. 1 and 1A. ) to move the valve closing structure 18 away from the valve seat 22. Conversely, the highest voltage Vt may be the minimum voltage applied to the injection profile for the distributor 12, where the voltage applied to the piezoelectric actuator 34 moves the valve closing structure 18 towards the valve seat 22. ) to move.

단계(1114)에서, 폐쇄 전압(Vc) 및/또는 기준점(RP)은 본래의 분사 프로파일(58)을 제1 보정 분사 프로파일(60a)로 시프팅하도록 사용된다. 제1 교정된 분사 프로파일(60a)의 결정은 방법(400)의 단계(412) 및 도 3, 도 5 및 도 6에 제공된 예시적인 예에서 설명된 교정된 분사 프로파일(60)의 결정과 유사한 방식으로 수행될 수 있다. 예를 들어, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)은, 밀봉 옵셋 전압(Vso)이 제공되었거나 또는 그렇지 않으면 접근 가능한 경우에, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)이 폐쇄 전압(Vc)과 동등한 또는 밀봉 전압(Vs)과 동등한 시작 전압 및/또는 종료 전압을 가지도록 결정될 수 있다. In step 1114, the closing voltage Vc and/or the reference point RP are used to shift the original firing profile 58 into a first corrected firing profile 60a. The determination of the first corrected firing profile 60a is in a manner similar to the determination of the corrected firing profile 60 described in step 412 of method 400 and in the illustrative examples provided in FIGS. 3 , 5 and 6 . can be performed with For example, the first corrected firing profile 60a is equal to or equal to the closing voltage Vc if the sealing offset voltage Vso is provided or otherwise accessible. It may be determined to have a start voltage and/or an end voltage equal to the sealing voltage Vs.

단계(1116)에서, 최고 전압(Vt)은 제2 교정된 분사 프로파일(60b)을 결정하도록 사용된다. 특히, 제2 교정된 분사 프로파일(60b)을 형성하도록 제1 교정된 분사 프로파일(60a)이 폐쇄 전압(Vc)(또는 경우에 따라 밀봉 전압(Vs))에 비해 신장되거나 압축되어서, 제2 교정된 분사 프로파일(60b)의 최소 전압(인가된 전압이 밸브 시트(22)를 향한 밸브 폐쇄 구조물(18)의 하향 움직임을 유발하는 분배기(12)에서) 또는 최대 전압(인가된 전압이 밸브 시트(22)로부터 멀어지는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 상향 움직임을 유발하는 분배기(12)에서)은 최고 전압(Vt)과 동등하다. 단계(1114) 및 단계(1116)가 도 11에 도시된 것과 역순으로 수행될 수 있다는 것을 유의해야 할 것이다. 예를 들어, 본래의 분사 프로파일(58)은 먼저 최고 전압(Vt)에 기초하여 신장 또는 수축될 수 있으며, 결과적인 프로파일은 폐쇄 전압(Vc) 및/또는 밀봉 전압(Vs)에 따라서 시프팅될 수 있다. 유사하게, 단계(1114) 및 단계(1116)는 동시에 수행될 수 있다.In step 1116, the highest voltage Vt is used to determine the second calibrated firing profile 60b. In particular, the first corrected spray profile 60a is stretched or compressed relative to the closing voltage Vc (or sealing voltage Vs as the case may be) to form the second corrected spray profile 60b, so that the second corrected spray profile 60b is formed. The minimum voltage (at the distributor 12 at which the applied voltage causes a downward movement of the valve closing structure 18 towards the valve seat 22) or the maximum voltage (the applied voltage at the valve seat 22) of the injected profile 60b. At distributor 12 causing an upward movement of valve closing structure 18 away from 22) is equal to the highest voltage Vt. It should be noted that steps 1114 and 1116 can be performed in the reverse order shown in FIG. 11 . For example, the original spray profile 58 can first be stretched or retracted based on the highest voltage Vt, and the resulting profile shifted according to the closing voltage Vc and/or the sealing voltage Vs. can Similarly, steps 1114 and 1116 may be performed concurrently.

도 12 및 도 13을 참조하면, 방법(1100)의 예시적인 예가 지금 제공될 것이다. 도 12는 도 3과 많은 점에서 유사하며, 본래의 분사 프로파일(58)뿐만 아니라 제1 교정된 분사 프로파일(60a) 및 제2 교정된 분사 프로파일(60b)을 도시한다. 도 13은 도 6과 많은 점에서 유사하며, 전압 데이터(76)에 표시된 측정된 위치 데이터(78)의 차트를 포함한다. 도 13의 차트는 미충돌 위치(52) 동안(즉, 밸브 폐쇄 구조물(18)이 밸브 시트(22)를 향해 움직이는) 및 충돌 위치(54) 동안의 데이터를 포함한다. 미충돌 위치 동안의 차트 라인의 구배는 이러한 특정 분배기(12)의 변위 대 전압 "이득"이 고려될 수 있다. Referring to FIGS. 12 and 13 , an illustrative example of method 1100 will now be provided. FIG. 12 is similar in many respects to FIG. 3 and shows the original firing profile 58 as well as a first corrected firing profile 60a and a second corrected firing profile 60b. FIG. 13 is similar in many respects to FIG. 6 and includes a chart of measured position data 78 displayed in voltage data 76 . The chart of FIG. 13 includes data during the non-impact position 52 (ie, the valve closing structure 18 moves towards the valve seat 22) and during the impact position 54. The gradient of the chart line during the non-impact position can be considered a voltage “gain” versus the displacement of this particular divider 12 .

초기에, 사용자는 제어 구성 요소(14)를 통하는 것과 같이, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 필요한 스트로크 길이(1302)에 대해 50 마이크로미터의 입력뿐만 아니라 대략 5 볼트의 밀봉 전압 옵셋(Vso)을 제공한다. 전압은 압전 액튜에이터(34)에 인가되고, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치(들)는 감지 디바이스(48)에 의해 감지되고, 위치 데이터(78) 및 전압 데이터(76)가 부응하여 발생된다. 상기에서 보다 상세하게 설명된 방법론을 사용하여, 전압 데이터(76) 및 위치 데이터(78)는 여기에서 대략 55 볼트 및 대략 1145 마이크로미터에 대응하는 도 13에 도시된 기준점(RP)을 결정하도록 분석된다. Initially, the user provides an input of 50 micrometers for the required stroke length 1302 of the valve closing structure 18, as well as a sealing voltage offset (Vso) of approximately 5 volts, such as via the control component 14. do. A voltage is applied to the piezoelectric actuator 34, the position(s) of the valve closing structure 18 is sensed by the sensing device 48, and position data 78 and voltage data 76 are responsively generated. Using the methodology described in more detail above, voltage data 76 and position data 78 are analyzed to determine a reference point RP, shown in FIG. 13 , which here corresponds to approximately 55 volts and approximately 1145 micrometers. do.

기준점(RP)의 폐쇄 전압(Vc)(55V)에 기초하여, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)이 결정된다. 제1 교정된 분사 프로파일(60a)은, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)의 최대 전압이 밀봉 옵셋 전압(Vso)을 폐쇄 전압(Vc)에 더한 밀봉 전압(Vc)과 동등하도록 본래의 분사 프로파일(58)을 시프팅하는 것에 의해 결정된다. 본 예에서, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)의 최대 전압은 60 볼트(55 볼트 + 5 볼트)이다.Based on the closing voltage Vc (55V) of the reference point RP, a first corrected firing profile 60a is determined. The first corrected firing profile 60a is such that the maximum voltage of the first corrected firing profile 60a is equal to the sealing voltage Vc plus the sealing offset voltage Vso to the closing voltage Vc. (58). In this example, the maximum voltage of the first calibrated firing profile 60a is 60 volts (55 volts + 5 volts).

제2 교정된 분사 프로파일(60b)은 적어도 부분적으로 최고 전압(Vt)에 기초하여 결정된다. 특히, 제2 교정된 분사 프로파일(60b)은, 제2 교정된 분사 프로파일(60b)의 최소 전압이 최고 전압(Vt)과 동등하도록 제1 교정된 분사 프로파일(60a)을 신장 또는 압축하는 것에 의해 결정된다. 최고 전압(Vt)은 도 13에서의 차트 데이터의 분석에 의해 결정될 수 있다. 예를 들어, 기준점(RP)이 이미 결정되는 것으로, 필요한 스트로크 길이(1302)(즉, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치에서의 변화)는 기준점(RP)의 위치로부터 감산될 수 있다. 여기에서, 이러한 것은 1095 마이크로미터(1145 ㎛ - 50 ㎛ = 1095 ㎛)의 위치를 유발할 것이다. 1095 마이크로미터의 위치는 1095 마이크로미터의 위치가 약 37 볼트의 최고 전압(Vt)에 대응한다는 것을 결정하도록 차트의 데이터 라인에서 교차 참조될 수 있다.The second corrected firing profile 60b is determined based at least in part on the highest voltage Vt. In particular, the second corrected firing profile 60b is obtained by stretching or compressing the first corrected firing profile 60a such that the minimum voltage of the second corrected firing profile 60b is equal to the highest voltage Vt. It is decided. The highest voltage (Vt) can be determined by analysis of the chart data in FIG. 13 . For example, given that the reference point RP has already been determined, the required stroke length 1302 (ie, the change in the position of the valve closing structure 18) can be subtracted from the position of the reference point RP. Here, this would result in a position of 1095 microns (1145 μm - 50 μm = 1095 μm). The position of 1095 micrometers can be cross-referenced on the data line of the chart to determine that the position of 1095 micrometers corresponds to the highest voltage (Vt) of about 37 volts.

최고 전압(Vt)을 결정하기 위한 다른 기술로서, 미충돌 위치(52) 동안의 도 13의 차트 데이터는 추세선에 외삽될 수 있다. 추세선은 y = mx + c 방정식의 형태로 설명될 수 있으며, 여기에서 y는 측정된 위치이고, x는 전압이며, m은 선의 기울기이며, c는 일정한 상수이다. 최고 전압(Vt)은 상기 방정식에서 y를 1095 마이크로미터(즉, 기준점(RP)의 위치와 특정의 필요한 스트로크 길이(1302) 사이의 차이)로 설정하고, 최고 전압(Vt)을 산출하는 x를 푸는 것에 의해 결정될 수 있다. 최고 전압(Vt)을 결정하기 위한 이러한 기술 및 다른 기술은 제어 구성 요소(14)에 의해 실행될 수 있는 소프트웨어를 통해 실시될 수 있다는 것을 알 것이다.As another technique for determining the peak voltage (Vt), the chart data of FIG. 13 during the non-impact position 52 can be extrapolated to a trend line. A trend line can be described in the form of the equation y = mx + c, where y is the measured position, x is the voltage, m is the slope of the line, and c is a constant constant. The highest voltage (Vt) is determined by setting y in the above equation to be 1095 micrometers (i.e., the difference between the position of the reference point (RP) and the specific required stroke length 1302), and x yielding the highest voltage (Vt). can be determined by solving It will be appreciated that these and other techniques for determining the highest voltage (Vt) may be implemented through software executable by control component 14 .

37 볼트로 결정된 최고 전압(Vt)을 이용하여, 제1 교정된 분사 프로파일(60a)은 제2 교정된 분사 프로파일(60b)의 최소 전압이 도 12에서 알 수 있는 바와 같이 37 볼트이도록 제2 교정 분사 프로파일(60b) 내로 압축될 수 있다. Using the highest voltage Vt determined to be 37 volts, the first calibrated firing profile 60a is second calibrated such that the minimum voltage of the second calibrated firing profile 60b is 37 volts as can be seen in FIG. 12 . It can be compressed into the spray profile 60b.

도 14는 도 7 내지 도 9에 도시된 바와 같이, 미충돌 교정 위치에 있는 밸브 폐쇄 구조물(18)로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼(84)를 가지는 기준 카트리지(80)를 사용하여, 분사 시스템(10)을 교정하는 및/또는 분사 시스템(10)의 마모 특성(전기적 저하를 포함하는)을 결정하는 예시적인 방법(1400)을 도시한다. 14 shows, as shown in FIGS. 7 to 9, using a reference cartridge 80 having a mechanical stopper 84 positioned a predetermined distance away from the valve closing structure 18 in the non-impact corrected position, An exemplary method 1400 for calibrating the injection system 10 and/or determining wear characteristics (including electrical degradation) of the injection system 10 is shown.

단계(1402)에서, 유체 카트리지(56)는 분사 시스템(10)으로부터 제거되고 기준 카트리지(80)로 교체된다. 단계(1404)에서, 전압은 미충돌 교정 위치와 충돌 교정 위치 사이에서 밸브 폐쇄 구조물(18)을 움직이도록 압전 액튜에이터(34)에 인가된다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 충돌 교정 위치는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 적어도 일부가 기계적 스토퍼(84)에 충돌하는 위치인 반면에, 미충돌 교정 위치는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 어떠한 부분도 기계적 스토퍼(84)에 충돌하지 않는 위치이다. 예를 들어, 구동 핀(24)은 도 1에 도시된 구성에서 밸브 시트(22)를 접촉하는 포핏(26) 대신에 충돌 위치에서 기계적 스토퍼(84)를 접촉할 수 있다.At step 1402, the fluid cartridge 56 is removed from the injection system 10 and replaced with a reference cartridge 80. At step 1404, a voltage is applied to the piezoelectric actuator 34 to move the valve closing structure 18 between the non-impact corrected position and the impact corrected position. As used herein, a crash-corrected position is a position where at least a portion of the valve closing structure 18 impacts the mechanical stopper 84, whereas a non-impact-corrected position does not affect any part of the valve closing structure 18. It is a position that does not collide with the mechanical stopper 84. For example, drive pin 24 may contact mechanical stopper 84 at the impact position instead of poppet 26 contacting valve seat 22 in the configuration shown in FIG. 1 .

단계(1406)에서, 감지 디바이스(48)는, 밸브 폐쇄 구조물(18)이 단계 1404의인가된 전압에 의해 작동되는 동안, 밸브 폐쇄 구조물(18)의 위치를 직접 또는 간접적으로 감지한다. 단계(1408)에서, 전압 교정 데이터는 단계(1404)에서 압전 액튜에이터(34)에 인가된 알려진 전압에 기초하여 발생되고, 위치 교정 데이터는 밸브 폐쇄 구조물(18)의 감지된 위치에 기초하여 발생된다. 이러한 전압 교정 데이터 및 위치 교정 데이터의 발생은 밸브 폐쇄 구조물(18)의 움직임의 측정과 동시에 또는 측정한 후에 일어날 수 있다.At step 1406, the sensing device 48 directly or indirectly senses the position of the valve closing structure 18 while the valve closing structure 18 is actuated by the applied voltage of step 1404. In step 1408, voltage correction data is generated based on the known voltage applied to the piezoelectric actuator 34 in step 1404, and position correction data is generated based on the sensed position of the valve closing structure 18. . The generation of such voltage calibration data and position calibration data may occur concurrently with or after measurement of the movement of the valve closing structure 18 .

단계(1410)에서, 기준 "이득"이 결정되며, 기준 이득은 압전 액튜에이터(34)에 인가된 전압에 대한 밸브 폐쇄 구조물(18)의 변위의 비율을 반영한다. 예를 들어, 교정 위치 및 전압 데이터가 도 6 또는 도 13에 도시된 위치 데이터(78) 및 전압 데이터(76)와 동일한 방식으로 서로에 대해 표시될 수 있기 때문에, 미충돌 교정 위치에 해당하는 차트에서의 데이터 라인은 추세선을 결정하도록 분석될 수 있다. 추세선의 구배는 부응하여 기준 이득을 나타낼 수 있다. 기준 이득은 하나 이상의 저장된 기준 이득과 현재의 기준 이득의 비교에서와 같이, 추후에 사용하기 위해 저장될 수 있다.In step 1410, a reference “gain” is determined, which reflects the ratio of the displacement of the valve closing structure 18 to the voltage applied to the piezoelectric actuator 34. For example, charts corresponding to non-conflict calibration positions, since the calibration position and voltage data can be plotted relative to each other in the same way as position data 78 and voltage data 76 shown in FIG. 6 or 13 . The data line at can be analyzed to determine a trend line. The gradient of the trend line may correspond to the reference gain. The reference gain may be stored for later use, such as in a comparison of one or more stored reference gains to a current reference gain.

단계(1412)에서, 기준 이득은 밸브 시트(22), 밸브 폐쇄 구조물(18), 또는 압전 작동 메커니즘(16)를 포함하는 분배기(12) 또는 그 구성 요소의 마모 특성(전기적 저하를 포함하는)을 결정하도록 사용된다. 예를 들어, 기준 이득은 "정상" 이득을 반영하는 이득의 사전 결정된 범위에 대해 비교될 수 있다. 기준 이득이 이득의 사전 결정된 범위를 벗어나면, 이러한 것은 분배기(12) 또는 그 구성 요소가 유해한 마모를 겪었으며 유지 보수 또는 교체를 요구할 수 있다는 것을 나타낼 수 있다. 다른 예로서, 현재의 기준 이득은 동일한 분배기(12)에 대한 과거의 기준 이득과 비교될 수 있다. 현재의 기준 이득과 과거의 기준 이득 사이의 차이가 사전 결정된 임계값보다 크면, 이러한 것 또한 마모를 나타낼 수 있다. 마모 특성의 결정시에, 사용자는 제어 구성 요소(14)와 관련된 그래픽 사용자 인터페이스 또는 청각 신호를 통하는 것과 같이 통지받을 수 있다.In step 1412, the reference gain is determined to determine the wear characteristics (including electrical degradation) of the dispenser 12 or components thereof comprising the valve seat 22, the valve closing structure 18, or the piezoelectric actuation mechanism 16. is used to determine For example, a reference gain can be compared against a predetermined range of gains that reflect a “normal” gain. If the reference gain falls outside the predetermined range of gain, this may indicate that the dispenser 12 or its components have suffered detrimental wear and may require maintenance or replacement. As another example, the current reference gain can be compared to a past reference gain for the same divider 12 . If the difference between the current reference gain and the past reference gain is greater than a predetermined threshold, this may also indicate wear. Upon determining the wear characteristics, the user may be notified, such as through an audible signal or a graphical user interface associated with the control component 14 .

본 명세서에서 언급되는 바와 같이, 상기 제어 구성 요소(14)는 하나 이상의 프로세서를 가지는 임의의 형태의 처리(또는 컴퓨팅) 디바이스일 수 있다. 예를 들어, 제어 구성 요소(14)는 개별 프로세서, 워크 스테이션, 모바일 디바이스, 컴퓨터, 컴퓨터들의 클러스터, 셋톱 박스, 게임 콘솔, 또는 적어도 하나의 프로세서를 가지는 다른 디바이스일 수 있다. 실시예에서, 하나보다 많은 제어 구성 요소(14)는 동일한 처리 디바이스에서 실시될 수 있다. 이러한 처리 디바이스는 소프트웨어, 펌웨어, 하드웨어, 또는 그 조합을 포함할 수 있다. 소프트웨어는 하나 이상의 응용 프로그램과 운영 체제를 포함할 수 있다. 하드웨어는 프로세서, 메모리 및/또는 그래픽 사용자 디스플레이를 포함할 수 있지만 이에 한정되지 않는다. 제어 구성 요소(14)는 분배기(12)의 일부로서 및/또는 분배기(12)와 별개인 구성 요소로서 배치될 수 있다.As referred to herein, the control component 14 may be any type of processing (or computing) device having one or more processors. For example, control component 14 may be an individual processor, workstation, mobile device, computer, cluster of computers, set top box, game console, or other device having at least one processor. In an embodiment, more than one control component 14 may be implemented in the same processing device. Such a processing device may include software, firmware, hardware, or a combination thereof. Software may include one or more application programs and operating systems. The hardware may include, but is not limited to, a processor, memory and/or graphical user display. Control component 14 may be disposed as part of dispenser 12 and/or as a separate component from dispenser 12 .

본 발명이 그 특정 실시예들에 대한 설명에 의해 예시되고 실시예들이 상당히 상세하게 설명되었지만, 첨부된 청구항들의 범위를 이러한 상세한 설명으로 제한하거나 임의의 방식으로 한정하도록 의도되지 않는다. 본 명세서에서 설명된 다양한 특징들은 단독으로 또는 임의의 조합으로 사용될 수 있다. 추가적인 이점들 및 변경들은 당업자에게 용이하게 나타날 것이다. 그러므로, 본 발명은 보다 넓은 측면에서의 도시되고 설명된 특정 세부 사항, 대표적인 장치 및 방법 및 예시적인 실시예에 한정되지 않는다. 따라서, 본 발명의 개념의 범위 또는 사상을 벗어나지 않고 이러한 세부 사항으로부터 만들어질 수 있다.Although the present invention has been illustrated by the description of specific embodiments thereof and embodiments have been described in considerable detail, it is not intended that the scope of the appended claims be limited to such detailed description or in any way limit the scope of the appended claims. The various features described herein may be used alone or in any combination. Additional advantages and modifications will readily appear to those skilled in the art. Therefore, the invention in its broader aspects is not limited to the specific details, representative apparatus and methods and exemplary embodiments shown and described. Accordingly, it may be made from these details without departing from the scope or spirit of the inventive concept.

Claims (33)

분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘을 포함하는 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법으로서,
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와, 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 데이터를 발생시키는 단계;
상기 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계; 및
상기 압전 액튜에이터에 인가된 전압을 조절하도록 상기 기준점을 사용하는 단계를 포함하는 방법.
A dispensed fluid material for an injection system comprising a dispense distributor and a control component operably coupled to the dispense dispenser, wherein the dispense dispenser comprises a piezoelectric actuation mechanism having a valve seat, a valve closing structure, and a piezoelectric actuator. As a method of calibrating the injection profile of
Applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-collision position in which the valve closing structure does not collide with the valve seat and an impact position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the valve seat. step;
generating voltage data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating positional data when the valve closing structure moves;
setting a reference point using the voltage and position data; and
and using the reference point to adjust the voltage applied to the piezoelectric actuator.
제1항에 있어서, 상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 속도 데이터를 발생시키는 단계; 및
상기 전압, 위치, 및 속도 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 1 , further comprising: generating velocity data as the valve closing structure moves; and
and establishing a reference point using the voltage, position, and speed data.
제2항에 있어서, 상기 기준점을 사용하는 단계는,
저점도 유체 물질들에 대하여 충돌 속도를 감소시키고 밀봉력을 증가시키도록 상기 기준점을 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 2, wherein the step of using the reference point,
and using said fiducial to reduce impact velocity and increase sealing force for low viscosity fluid materials.
제2항에 있어서, 상기 기준점을 사용하는 단계는,
고점도 유체 물질들에 대한 충돌 속도를 증가시키고 밀봉력을 감소시키도록 상기 기준점을 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 2, wherein the step of using the reference point,
and using said fiducial to increase impingement velocity and reduce sealing force for high viscosity fluid materials.
제1항에 있어서, 상기 기준점을 사용하는 단계는,
상기 압전 작동 메커니즘, 상기 밸브 폐쇄 구조물, 및 상기 밸브 시트 중 적어도 하나의 마모 특성을 결정하도록 상기 기준점을 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 1, wherein the step of using the reference point,
and using the reference point to determine a wear characteristic of at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the valve closing structure, and the valve seat.
제1항에 있어서, 상기 감지 디바이스는 선형 엔코더를 추가로 포함하는 방법.2. The method of claim 1, wherein the sensing device further comprises a linear encoder. 제1항에 있어서, 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계는,
상기 밸브 폐쇄 구조물에 직접 부착된 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 1, wherein the step of sensing the position of the valve closing structure,
The method further comprising sensing the position of the valve closing structure using a sensing device directly attached to the valve closing structure.
제1항에 있어서, 상기 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계는 상기 전압 및 위치 데이터들을 표시하는 단계를 추가로 포함하는 방법.2. The method of claim 1, wherein establishing a reference point using the voltage and position data further comprises displaying the voltage and position data. 제1항에 있어서, 상기 위치 데이터는 미충돌 및 충돌 위치 데이터들을 추가로 포함하며, 상기 기준점을 설정하는 단계는,
상기 미충돌 위치 데이터의 적어도 일부로부터 제1 추세선을 발생시키는 단계;
상기 충돌 위치 데이터의 적어도 일부로부터 제2 추세선을 발생시키는 단계; 및
상기 기준점을 설정하도록 상기 제1 및 제2 추세선들의 교차점을 결정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
The method of claim 1, wherein the location data further includes non-collision and collision location data, and the setting of the reference point comprises:
generating a first trend line from at least a portion of the non-collision position data;
generating a second trend line from at least a portion of the impact location data; and
determining an intersection of the first and second trend lines to establish the reference point.
제9항에 있어서, 상기 상기 제1 및 제2 추세선들을 발생시키고 상기 교차점을 결정하는 단계는,
상기 미충돌 위치 데이터의 선형 부분으로부터 제1 선형 추세선을 발생시키는 단계;
상기 충돌 위치 데이터의 선형 부분으로부터 제2 선형 추세선을 발생시키는 단계; 및
상기 기준점을 설정하도록 상기 제1 및 제2 선형 추세선들의 교차점을 결정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
10. The method of claim 9, wherein generating the first and second trend lines and determining the intersection comprises:
generating a first linear trend line from a linear portion of the non-collision position data;
generating a second linear trend line from the linear portion of the impact position data; and
determining an intersection of the first and second linear trend lines to establish the reference point.
분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 상기 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함하는 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법으로서,
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 상기 미충돌 교정 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 교정 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 교정 데이터를 발생시키는 단계;
상기 전압 및 위치 교정 데이터들을 사용하여 마스터 기준점을 설정하는 단계; 및
상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하도록 상기 마스터 기준점을 사용하는 단계를 포함하는 방법.
a piezoelectric actuation mechanism comprising a spray distributor and a control component operatively coupled to the spray distributor, wherein the spray distributor has a piezoelectric actuator; a valve closing structure; and a predetermined distance from the valve closing structure in a non-impact corrected position. A method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system comprising mechanical stoppers spaced apart by
apply a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between the non-collision correction position where the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and the collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper; applying;
generating voltage correction data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating position correction data when the valve closing structure moves;
setting a master reference point using the voltage and position calibration data; and
and using the master fiducial to determine wear of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.
제11항에 있어서, 상기 마스터 기준점을 사용하는 단계는,
일정 시간 기간에 걸쳐서 상기 마스터 기준점을 저장하는 단계;
현재의 마스터 기준점과 상기 저장된 마스터 기준점을 비교하는 단계; 및
상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하거나 또는 예방적 유지 보수를 예측하도록 상기 비교를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
12. The method of claim 11, wherein the step of using the master reference point,
storing the master reference point over a period of time;
comparing a current master reference point with the stored master reference point; and
and using the comparison to determine wear or predict preventative maintenance of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.
제11항에 있어서, 상기 마스터 기준점을 사용하는 단계는,
일정 시간 기간에 걸쳐서 상기 위치 및 전압 교정 데이터들을 저장하는 단계;
현재 위치 및 전압 교정 데이터들과 상기 저장된 위치 및 전압 교정 데이터들을 비교하는 단계; 및
상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하거나 또는 예방적 유지 보수를 예측하도록 상기 비교를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
12. The method of claim 11, wherein the step of using the master reference point,
storing the position and voltage calibration data over a period of time;
comparing the current position and voltage calibration data with the stored position and voltage calibration data; and
and using the comparison to determine wear or predict preventative maintenance of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.
제11항에 있어서, 상기 압전 작동 메커니즘은,
복수의 압전 요소들을 포함하는 압전 스택; 및
상기 압전 스택과 상기 밸브 폐쇄 구조물 사이에 위치된 증폭기를 추가로 포함하는 방법.
12. The method of claim 11, wherein the piezoelectric actuation mechanism comprises:
a piezoelectric stack including a plurality of piezoelectric elements; and
and an amplifier positioned between the piezoelectric stack and the valve closing structure.
제14항에 있어서, 상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모가 허용 오차를 벗어날 때 사용자에게 경보를 발하는 단계를 추가로 포함하는 방법.15. The method of claim 14, further comprising alerting a user when wear of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure is out of tolerance. 제14항에 있어서, 상기 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하는 사이클의 수를 추적하는 단계; 및
상기 전압 및 위치 교정 데이터들 및 상기 사이클의 수를 사용하여 상기 압전 작동 메커니즘, 상기 밸브 폐쇄 구조물, 및 상기 밸브 시트 중 적어도 하나의 유효 수명을 결정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
15. The method of claim 14 further comprising: tracking the number of cycles in which the valve closing structure impacts the valve seat; and
determining a useful life of at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the valve closing structure, and the valve seat using the voltage and position calibration data and the number of cycles.
제16항에 있어서, 상기 압전 작동 메커니즘, 상기 밸브 폐쇄 구조물, 및 상기 밸브 시트 중 적어도 하나의 유효 수명에 대해 사용자에게 경보를 발하는 단계를 추가로 포함하는 방법.17. The method of claim 16, further comprising alerting a user to a useful life of at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the valve closing structure, and the valve seat. 제14항에 있어서, 상기 밸브 폐쇄 구조물이 밸브 시트에 충돌하는 사이클의 수를 추적하는 단계;
상기 전압 및 위치 교정 데이터들 및 상기 사이클의 수를 사용하여 상기 압전 작동 메커니즘, 상기 밸브 폐쇄 구조물, 및 상기 밸브 시트 중 적어도 하나의 예방적 유지 보수에 대한 필요성을 결정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
15. The method of claim 14 further comprising: tracking the number of cycles in which the valve closing structure impacts the valve seat;
determining a need for preventative maintenance of at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the valve closing structure, and the valve seat using the voltage and position calibration data and the number of cycles. .
제18항에 있어서, 상기 압전 작동 메커니즘, 상기 밸브 폐쇄 구조물, 및 상기 밸브 시트 중 적어도 하나에 대한 예방적 유지 보수의 필요성에 대해 사용자에게 경보를 발하는 단계를 추가로 포함하는 방법.19. The method of claim 18, further comprising alerting a user to a need for preventive maintenance on at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the valve closing structure, and the valve seat. 분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘, 및 미충돌 교정 위치에서 상기 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함하는 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법으로서,
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 데이터를 발생시키는 단계;
상기 전압 및 위치 데이터들을 사용하여 기준점을 설정하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 상기 미충돌 교정 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 교정 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 상기 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 교정 데이터를 발생시키는 단계;
상기 전압 교정 데이터 및 상기 위치 교정 데이터를 사용하여 마스터 기준점을 설정하는 단계; 및
상기 밸브 시트의 마모를 결정하도록 상기 마스터 기준점에 상기 기준점을 비교하는 단계를 포함하는 방법.
an inject distributor and a control component operably coupled to the inject distributor, wherein the inject distributor is configured to obtain a valve seat, a valve closure structure, a piezoelectric actuation mechanism having a piezoelectric actuator, and a valve closure structure in a non-impact corrected position. A method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system comprising mechanical stoppers positioned a predetermined distance apart, comprising:
applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-impact position in which the valve closing structure does not collide with the valve seat and an impact position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the valve seat; ;
generating voltage data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating positional data when the valve closing structure moves;
setting a reference point using the voltage and position data;
apply a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between the non-collision correction position where the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and the collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper; applying;
generating voltage correction data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using the sensing device when the valve closing structure moves;
generating position correction data when the valve closing structure moves;
setting a master reference point using the voltage calibration data and the position calibration data; and
comparing the reference point to the master reference point to determine wear of the valve seat.
분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘, 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 상기 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함하는 분사 시스템을 사용자가 작동시키는 방법으로서,
사용자로부터 상기 제어 구성 요소를 통해, 유체 타입, 분사 주파수, 및 액적 크기 중 적어도 하나를 나타내는 작동 파라미터의 입력을 수신하는 단계;
적어도 부분적으로 상기 작동 파라미터에 기초하여, 상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 것에 의해 마스터 교정 프로파일을 결정하는 단계;
상기 제어 구성 요소를 사용하여 상기 분사 시스템에 상기 마스터 교정 프로파일을 적용하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 밸브 시트에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 것에 의해 교정된 분사 프로파일을 결정하는 단계; 및
상기 분사 시스템에 상기 교정된 분사 프로파일을 적용하는 단계를 포함하는 방법.
a piezoelectric actuation mechanism having a piezoelectric actuator, a valve seat, a valve closure structure, and a control component operatively coupled to the injection distributor; A method for a user to actuate an injection system comprising mechanical stoppers positioned a predetermined distance apart, comprising:
receiving input from a user via the control component of an operating parameter representative of at least one of a fluid type, an ejection frequency, and a droplet size;
the valve closing structure, based at least in part on the operating parameters, between a non-collision corrected position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a collision corrected position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper; determining a master calibration profile by applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the;
applying the master calibration profile to the injection system using the control component;
applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-collision correction position in which the valve closing structure does not collide with the valve seat and a collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the valve seat; determining a calibrated spray profile by and
and applying the calibrated injection profile to the injection system.
분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 밸브 폐쇄 구조물, 밸브 시트, 및 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘을 포함하는 분사 시스템에서 유지 보수를 수행하는 방법으로서,
제1 위치와 제2 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 데이터를 발생시키는 단계; 및
상기 분사 시스템의 하나 이상의 구성 요소의 예방적 유지 보수를 위하여 상기 전압 데이터 및 상기 위치 데이터를 사용하는 단계를 포함하는 방법.
performing maintenance on an injection system comprising a dispense distributor and a control component operably coupled to the dispense dispenser, wherein the dispense dispenser includes a piezoelectric actuation mechanism having a valve closing structure, a valve seat, and a piezoelectric actuator. As a method,
applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a first position and a second position;
generating voltage data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating positional data when the valve closing structure moves; and
and using the voltage data and the position data for preventative maintenance of one or more components of the injection system.
제22항에 있어서, 상기 하나 이상의 구성 요소는 상기 압전 작동 메커니즘, 상기 압전 액튜에이터, 상기 밸브 시트, 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나인 방법.23. The method of claim 22, wherein the one or more components are at least one of the piezoelectric actuation mechanism, the piezoelectric actuator, the valve seat, and the valve closing structure. 제22항에 있어서, 상기 예방적 유지 보수에 대한 필요성을 나타내는 경보를 발생시키도록 상기 전압 데이터 및 상기 위치 데이터를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.23. The method of claim 22, further comprising using the voltage data and the location data to generate an alert indicating a need for the preventive maintenance. 제22항에 있어서, 상기 전압 데이터 및 상기 위치 데이터를 사용하는 단계는,
상기 하나 이상의 구성 요소의 마모 특성을 결정하도록 상기 전압 데이터 및 상기 위치 데이터를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
23. The method of claim 22, wherein using the voltage data and the position data comprises:
The method further comprising using the voltage data and the position data to determine wear characteristics of the one or more components.
제25항에 있어서, 상기 마모 특성을 나타내는 경보를 발생시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.26. The method of claim 25, further comprising generating an alert indicative of said wear characteristics. 분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 밸브 시트, 밸브 폐쇄 구조물, 및 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘을 포함하는 분사 시스템을 위한 분사 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법으로서,
사용자로부터 상기 밸브 폐쇄 구조물의 필요한 스트로크 길이의 입력을 수신하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 밸브 시트에 충돌하지 않는 미충돌 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 밸브 시트에 충돌하는 충돌 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 데이터를 발생시키는 단계;
적어도 부분적으로 상기 전압 데이터와 상기 위치 데이터에 기초하여, 기준점을 결정하는 단계;
적어도 부분적으로 상기 전압 데이터와 상기 위치 데이터에 기초하여, 상기 밸브 폐쇄 구조물의 필요한 스트로크 길이를 유발하는 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치에 대응하는 최고 전압을 결정하는 단계; 및
상기 압전 액튜에이터에 인가된 전압을 조절하도록 상기 기준점과 상기 최고 전압을 사용하는 단계를 포함하는 방법.
of a dispensing fluid material for an injecting system comprising a dispensing distributor and a control component operably coupled to the dispensing distributor, wherein the injecting distributor comprises a piezoelectric actuation mechanism having a valve seat, a valve closing structure, and a piezoelectric actuator. As a method of calibrating the injection profile,
receiving an input of a required stroke length of the valve closing structure from a user;
applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-impact position in which the valve closing structure does not collide with the valve seat and an impact position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the valve seat; ;
generating voltage data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating positional data when the valve closing structure moves;
based at least in part on the voltage data and the position data, determining a reference point;
determining, based at least in part on the voltage data and the position data, a highest voltage corresponding to a position of the valve closing structure that results in a required stroke length of the valve closing structure; and
and using the reference point and the highest voltage to adjust the voltage applied to the piezoelectric actuator.
제27항에 있어서, 상기 압전 액튜에이터에 인가된 전압을 조절하도록 상기 기준점과 상기 최고 전압을 사용하는 단계는,
상기 밸브 시트와 접촉하는 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치에 대응하여, 상기 기준점에 의해 구현된 전압으로 상기 전압을 조절하는 단계; 및
상기 밸브 시트로부터 최대 거리에 있는 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치에 대응하여, 상기 최고 전압으로 상기 전압을 조절하는 단계를 포함하는 방법.
28. The method of claim 27, wherein using the reference point and the highest voltage to adjust the voltage applied to the piezoelectric actuator comprises:
adjusting the voltage to a voltage implemented by the reference point, corresponding to a position of the valve closing structure in contact with the valve seat; and
adjusting the voltage to the highest voltage, corresponding to a position of the valve closing structure at a maximum distance from the valve seat.
제27항에 있어서, 상기 위치 데이터는 미충돌 및 충돌 위치 데이터를 추가로 포함하며, 상기 기준점을 결정하는 단계는,
상기 미충돌 위치 데이터의 적어도 일부로부터 제1 추세선을 발생시키는 단계;
상기 충돌 위치 데이터의 적어도 일부로부터 제2 추세선을 발생시키는 단계; 및
상기 기준점을 결정하도록 상기 제1 및 제2 추세선들의 교차점을 결정하는 단계를 포함하는 방법.
28. The method of claim 27, wherein the location data further includes non-collision and collision location data, and the step of determining the reference point comprises:
generating a first trend line from at least a portion of the non-collision position data;
generating a second trend line from at least a portion of the impact location data; and
determining an intersection of the first and second trend lines to determine the reference point.
제29항에 있어서, 상기 최고 전압을 결정하는 단계는,
싱기 기준점에서 구현된 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 필요한 스트로크 길이 사이의 차이를 결정하는 것에 의해 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 결정하는 단계; 및
상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치 및 상기 제1 추세선을 사용하여 상기 최고 전압을 결정하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
30. The method of claim 29, wherein determining the highest voltage comprises:
determining a position of the valve closing structure by determining a difference between a position realized at the singi reference point and a required stroke length of the valve closing structure; and
determining the highest voltage using the location of the valve closing structure and the first trend line.
분사 분배기, 및 상기 분사 분배기에 작동 가능하게 결합된 제어 구성 요소를 포함하며, 상기 분사 분배기가 압전 액튜에이터를 가지는 압전 작동 메커니즘, 밸브 폐쇄 구조물, 및 미충돌 교정 위치에서 상기 밸브 폐쇄 구조물로부터 사전 결정된 거리만큼 떨어져 위치된 기계적 스토퍼를 포함하는 분사 시스템을 위한 분사된 유체 물질의 분사 프로파일을 교정하는 방법으로서,
상기 밸브 폐쇄 구조물이 상기 기계적 스토퍼에 충돌하지 않는 미충돌 교정 위치와 상기 밸브 폐쇄 구조물의 적어도 일부가 상기 기계적 스토퍼에 충돌하는 충돌 교정 위치 사이에서 상기 밸브 폐쇄 구조물을 움직이도록 상기 압전 액튜에이터에 전압을 인가하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 전압 교정 데이터를 발생시키는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 감지 디바이스를 사용하여 상기 밸브 폐쇄 구조물의 위치를 감지하는 단계;
상기 밸브 폐쇄 구조물이 움직일 때 위치 교정 데이터를 발생시키는 단계;
적어도 부분적으로 상기 전압 교정 데이터 및 상기 위치 교정 데이터에 기초하여, 상기 압전 액튜에이터에 인가된 전압에 대한 상기 밸브 폐쇄 구조물의 변위의 비를 나타내는 기준 이득을 결정하는 단계; 및
적어도 부분적으로 상기 기준 이득에 기초하여, 상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모 특성을 결정하는 단계를 포함하는 방법.
a piezoelectric actuation mechanism comprising a spray distributor and a control component operatively coupled to the spray distributor, wherein the spray distributor has a piezoelectric actuator; a valve closing structure; and a predetermined distance from the valve closing structure in a non-impact corrected position. A method of calibrating the ejection profile of an ejected fluid material for an ejection system comprising mechanical stoppers spaced apart by
Applying a voltage to the piezoelectric actuator to move the valve closing structure between a non-collision correction position in which the valve closing structure does not collide with the mechanical stopper and a collision correction position in which at least a portion of the valve closing structure collides with the mechanical stopper. doing;
generating voltage correction data when the valve closing structure moves;
sensing a position of the valve closing structure using a sensing device when the valve closing structure moves;
generating position correction data when the valve closing structure moves;
determining, based at least in part on the voltage calibration data and the position calibration data, a reference gain representative of a ratio of displacement of the valve closing structure to a voltage applied to the piezoelectric actuator; and
determining a wear characteristic of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure based, at least in part, on the reference gain.
제31항에 있어서, 상기 마모 특성을 결정하는 단계는,
일정 시간 기간에 걸쳐서 상기 기준 이득을 저장하는 단계;
현재 기준 이득에 상기 저장된 기준 이득을 비교하는 단계; 및
상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하거나 또는 예방적 유지 보수를 예측하도록 상기 비교를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
32. The method of claim 31, wherein determining the wear characteristics comprises:
storing the reference gain over a period of time;
comparing the stored reference gain to a current reference gain; and
and using the comparison to determine wear or predict preventative maintenance of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.
제31항에 있어서, 상기 마모 특성을 결정하는 단계는,
이득의 사전 결정된 범위에 상기 기준 이득을 비교하는 단계; 및
상기 압전 작동 메커니즘 및 상기 밸브 폐쇄 구조물 중 적어도 하나의 마모를 결정하거나 또는 예방적 유지 보수를 예측하도록 상기 비교를 사용하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
32. The method of claim 31, wherein determining the wear characteristics comprises:
comparing the reference gain to a predetermined range of gains; and
and using the comparison to determine wear or predict preventative maintenance of at least one of the piezoelectric actuation mechanism and the valve closing structure.
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