KR102535112B1 - Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof - Google Patents

Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof Download PDF

Info

Publication number
KR102535112B1
KR102535112B1 KR1020220137250A KR20220137250A KR102535112B1 KR 102535112 B1 KR102535112 B1 KR 102535112B1 KR 1020220137250 A KR1020220137250 A KR 1020220137250A KR 20220137250 A KR20220137250 A KR 20220137250A KR 102535112 B1 KR102535112 B1 KR 102535112B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mask film
glass substrate
adhesive member
film
hybrid type
Prior art date
Application number
KR1020220137250A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
유명훈
김유종
정성학
Original Assignee
풍원정밀(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 풍원정밀(주) filed Critical 풍원정밀(주)
Priority to KR1020220137250A priority Critical patent/KR102535112B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102535112B1 publication Critical patent/KR102535112B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50—Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/60—Substrates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50

Abstract

마스크 필름을 인장시킨 상태에서 접착 부재를 이용하여 유리 기재에 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대하여 안정적이므로 장 기간 동안 반복 사용하더라도 뒤틀림 없이 변화량을 최소화할 수 있는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.By having a composite structure in which the mask film is stretched and attached to the glass substrate using an adhesive member, it is stable against temperature and humidity, so even if used repeatedly for a long period of time, temperature and humidity stability that can minimize the amount of change without distortion is achieved. An excellent hybrid type photomask and method for manufacturing the same are disclosed.

Description

온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법{HYBRID TYPE PHOTOMASK WITH EXCELLENT TEMPERATURE AND HUMIDITY STABILITY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF}Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and its manufacturing method

본 발명은 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 마스크 필름을 인장시킨 상태에서 접착 부재를 이용하여 유리 기재에 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대하여 안정적이므로 장 기간 동안 반복 사용하더라도 뒤틀림이 발생할 염려가 없어 변화량을 최소화할 수 있는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same, and more particularly, by having a composite structure in which a mask film is attached to a glass substrate using an adhesive member in a tensioned state, A hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same, capable of minimizing the amount of change without fear of distortion even when repeatedly used for a long period of time since it is stable against temperature and humidity.

일반적으로, 표시장치는 다양한 디바이스에 적용되어 사용되고 있다. 이러한 표시장치는 스마트폰, 태블릿 PC 등과 같은 소형 디바이스뿐만 아니라, TV, 모니터, 퍼블릭 디스플레이(PD, Public Display) 등과 같은 대형 디바이스에 적용되고 있다.In general, display devices are applied to and used in various devices. Such display devices are applied to large devices such as TVs, monitors, public displays (PDs), as well as small devices such as smart phones and tablet PCs.

최근, 500 PPI(Pixel Per Inch) 이상의 초고해상도 UHD(UHD, Ultra High Definition)에 대한 수요가 증가하고 있으며, 고해상도 표시장치가 소형 디바이스 및 대형 디바이스에 적용되고 있다. 이에 따라, 저전력 및 고해상도 구현을 위한 기술에 대한 관심이 높아지고 있다.Recently, demand for ultra-high definition (UHD) of 500 pixels per inch (PPI) or more is increasing, and high-resolution display devices are being applied to small and large devices. Accordingly, interest in technology for implementing low power and high resolution is increasing.

일반적으로 사용되는 표시장치는 구동 방법에 따라 크게 LCD(Liquid Crystal Display) 및 OLED(Organic Light Emitting Diode) 등으로 구분될 수 있다. LCD는 액정(Liquid Crystal)을 이용하여 구동되는 표시장치로 액정의 하부에는 CCFL(Cold Cathode Fluorescent Lamp) 또는 LED(Light Emitting Diode) 등을 포함하는 광원이 배치되는 구조이며, 광원 상에 배치되는 액정을 이용하여 광원으로부터 방출되는 빛의 양을 조절하여 구동되는 표시장치다.Generally used display devices can be largely classified into liquid crystal displays (LCDs) and organic light emitting diodes (OLEDs) according to driving methods. LCD is a display device driven by using liquid crystal, and has a structure in which a light source including a CCFL (Cold Cathode Fluorescent Lamp) or LED (Light Emitting Diode) is disposed under the liquid crystal, and the liquid crystal is disposed on the light source. It is a display device driven by controlling the amount of light emitted from a light source using

이러한 표시장치를 제조하기 위해서는 노광, 현상, 식각 등의 공정을 수행하게 된다. 이러한 노광 공정을 수행하기 위해 사용되는 포토마스크는 반도체나 디스플레이 패널을 포함하는 고도의 정밀성을 요구하는 전자장치의 제조에 사용되며, 포토레지스트나 드라이 필름이 입혀진 웨이퍼, 유리기판 위에 노광 공정을 통해서 금속패턴 등이 형성되게 하는 제품이다.In order to manufacture such a display device, processes such as exposure, development, and etching are performed. The photomask used to perform this exposure process is used in the manufacture of electronic devices that require high precision, including semiconductors and display panels, and is applied to metal through the exposure process on a wafer or glass substrate coated with photoresist or dry film. It is a product that allows the formation of patterns, etc.

특히, OLED 표시장치에서 발광층에 포함된 유기물은 파인 메탈 마스크(FMM, Fine Metal Mask)라 불리는 OLED용 메탈 마스크에 의해 기판 상에 증착될 수 있고, 증착된 유기물은 OLED용 메탈 마스크에 형성된 마스크 패턴 홀과 대응되는 패턴으로 형성되어 화소의 역할을 수행할 수 있다. In particular, the organic material included in the light emitting layer in the OLED display device may be deposited on a substrate by a metal mask for OLED called a fine metal mask (FMM), and the deposited organic material may be deposited on a mask pattern formed on the metal mask for OLED. It is formed in a pattern corresponding to the hole and may serve as a pixel.

이러한 OLED용 메탈 마스크 역시 노광, 현상, 식각 등의 공정을 수행하여 제조하고 있다. 즉, OLED용 메탈 마스크의 제조시 포토레지스트나 드라이 필름이 입혀진 금속판 위에 노광 공정을 통해서 마스크 패턴 홀을 형성하게 되는 것이다.These metal masks for OLEDs are also manufactured by performing processes such as exposure, development, and etching. That is, when manufacturing a metal mask for OLED, a mask pattern hole is formed on a metal plate coated with photoresist or dry film through an exposure process.

일반적으로, 포토마스크는 웨이퍼, 금속판, 유리기판 등의 상하 양측에 2장을 장착한 상태에서 노광 공정을 수행하게 된다.In general, an exposure process is performed in a state in which two photomasks are mounted on both upper and lower sides of a wafer, metal plate, glass substrate, or the like.

이러한 포토마스크는 PET 필름 기반의 필름 포토마스크(Film Photo Mask : FPM)와 글래스 기반의 글래스 포토마스크(Glass Photo Mask : GPM)가 사용되고 있으나, 6세대 하프(G6H) 사이즈 급의 오픈 메탈 마스크(Open Metal Mask : OMM)를 제조하기 위해서는 필름 포토마스크를 사용하는 것이 불가피하다.PET film-based film photo mask (FPM) and glass-based glass photo mask (GPM) are used for these photomasks, but the 6th generation half (G6H) size class open metal mask (Open In order to manufacture a metal mask (OMM), it is inevitable to use a film photomask.

이러한 필름 포토마스크는 글래스 포토마스크에 비하여 정밀도가 낮으며,　제조 이후에도 주변 환경(온도/습도)의 영향에 민감하여 수치가 변하는 단점이 있으나, 6세대 하프(G6H) 사이즈 급 대응이 가능하며 비용이 저렴한 장점이 있다.These film photomasks have lower precision than glass photomasks, and have the disadvantage of being sensitive to the influence of the surrounding environment (temperature/humidity) even after manufacturing, so the values change. It has the advantage of being cheap.

반면, 글래스 포토마스크의 경우에는 종류에 따라 우수한 정도의 차이가 있으나, 제조 시 위치(Plotting) 정밀도나 이후 환경에 의한 변화 측면에서 필름 포토마스크 보다 우수한 특성을 나타낸다.On the other hand, in the case of a glass photomask, although there is a difference in degree of excellence depending on the type, it shows superior characteristics than a film photomask in terms of plotting accuracy during manufacturing or change due to the environment thereafter.

이러한 글래스 포토마스크는 소다라임 크롬 글래스(sodalime chrome glass)와 석영 크롬 글래스(quartz chrome glass)로 구분되며,　석영 크롬 마스크는 비용이 비싸지만 가장 우수한 성능을 보인다.These glass photomasks are classified into sodalime chrome glass and quartz chrome glass, and the quartz chrome mask is expensive but shows the best performance.

따라서, 사이즈 한계와 비용 절약의 이유로 필름 포토마스크의 사용이 필수적인 상황이며, 갈수록 요구되는 높은 품질의 오픈 메탈 마스크를 제조하기 위해서는 필름 포토마스크를 개선시키는 것이 필요하다.Therefore, the use of a film photomask is essential due to size limitations and cost saving, and it is necessary to improve the film photomask in order to manufacture an open metal mask of high quality, which is increasingly demanded.

관련 선행 문헌으로는 대한민국 공개특허공보 제10-2019-0053427호(2019.05.20. 공개)가 있으며, 상기 문헌에는 필름 마스크 및 그 제조 방법이 기재되어 있다.As a related prior literature, there is Korean Patent Publication No. 10-2019-0053427 (published on May 20, 2019), which describes a film mask and a manufacturing method thereof.

본 발명의 목적은 마스크 필름을 인장시킨 상태에서 접착 부재를 이용하여 유리 기재에 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대하여 안정적이므로 장 기간 동안 반복 사용하더라도 뒤틀림이 발생할 염려가 없어 변화량을 최소화할 수 있는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to have a composite structure in which a mask film is attached to a glass substrate using an adhesive member in a tensioned state, so that it is stable against temperature and humidity, so that there is no fear of distortion even when used repeatedly for a long period of time, and the amount of change is reduced. An object of the present invention is to provide a hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability that can be minimized and a method for manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법은 (a) 차광 패턴이 형성된 마스크 필름을 출력하는 단계; (b) 상기 출력된 마스크 필름을 인장기에 로딩하고, 인장하여 상기 마스크 필름의 차광 패턴을 위치 정렬하는 단계; 및 (c) 상기 인장된 마스크 필름의 일면을 접착 부재를 매개로 유리 기재의 상면에 합착하는 단계;를 포함하며, 상기 (c) 단계에서, 상기 접착 부재는 마스크 필름의 일면과 유리 기재의 상면 사이에서, 상기 마스크 필름의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치되어, 상기 마스크 필름의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치된 것을 특징으로 한다.To achieve the above object, a method for manufacturing a hybrid-type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention includes the steps of (a) outputting a mask film having a light-shielding pattern; (b) loading the output mask film into a tensioner and stretching to align the light-shielding pattern of the mask film; and (c) attaching one surface of the stretched mask film to the upper surface of the glass substrate via an adhesive member, wherein in step (c), the adhesive member is applied to one surface of the mask film and the upper surface of the glass substrate. In between, it is disposed at a position corresponding to the four edges of the mask film, and is characterized in that it is arranged so as to overlap the ends of the four edges of the mask film.

상기 출력된 마스크 필름은 제1 평면적을 갖고, 상기 인장된 마스크 필름은 상기 제1 평면적보다 큰 제2 평면적을 갖는다.The output mask film has a first planar area, and the stretched mask film has a second planar area greater than the first planar area.

상기 (b) 단계에서, 상기 인장기의 인장 클램프는 상기 출력된 마스크 필름의 네측 변에 각각 장착되며, 상기 인장기의 인장 클램프가 출력된 마스크 필름의 상하좌우 네 방향으로 각각 인장하면서 실시간으로 차광 패턴의 위치를 정렬한다.In the step (b), the tension clamps of the tensioner are mounted on four sides of the output mask film, respectively, and the tension clamps of the tensioner stretch the output mask film in four directions, respectively, in the upper, lower, left, and right directions while blocking light in real time. Align the position of the pattern.

상기 유리 기재는 상기 마스크 필름과 마주보는 상면에 제1 그루브 패턴을 구비하고, 상기 마스크 필름은 상기 유리 기재의 상면과 마주보는 일면에 제2 그루브 패턴을 구비한다.The glass substrate has a first groove pattern on an upper surface facing the mask film, and the mask film has a second groove pattern on one surface facing the upper surface of the glass substrate.

상기 제1 및 제2 그루브 패턴은 상기 접착 부재와 대응되는 위치에 배치되되, 상기 제1 그루브 패턴은 역삼각형 형상을 갖고, 상기 제2 그루브 패턴은 삼각형 형상을 갖는 것에 의해, 상기 제1 및 제2 그루브 패턴 상호 간이 대칭 구조를 갖는다.The first and second groove patterns are disposed at positions corresponding to the adhesive member, the first groove pattern has a triangular shape, and the second groove pattern has a triangular shape, so that the first and second groove patterns have a triangular shape. The two groove patterns have a mutually symmetrical structure.

상기 (c) 단계 이후, (d) 상기 유리 기재의 상면과 마스크 필름의 측면 및 타면을 덮는 고정 부재를 이용하여, 상기 합착된 마스크 필름 및 유리 기재를 고정시키는 단계;를 더 포함한다.After the step (c), (d) fixing the bonded mask film and the glass substrate by using a fixing member covering the top surface of the glass substrate and the side surface and the other surface of the mask film.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 상면 및 하면을 갖는 유리 기재; 상기 유리 기재의 상면 상에 일면이 안착되되, 차광 패턴을 구비하고, 인장에 의해 상기 차광 패턴이 위치 정렬된 마스크 필름; 및 상기 인장된 마스크 필름과 유리 기재를 합착시키기 위한 접착 부재;를 포함하며, 상기 접착 부재는 마스크 필름의 일면과 유리 기재의 상면 사이에서, 상기 마스크 필름의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치되어, 상기 마스크 필름의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치된 것을 특징으로 한다.A hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention for achieving the above object includes a glass substrate having upper and lower surfaces; a mask film having one surface mounted on the upper surface of the glass substrate, having a light blocking pattern, and having the light blocking pattern aligned by tension; and an adhesive member for adhering the stretched mask film and the glass substrate, wherein the adhesive member is disposed between one surface of the mask film and an upper surface of the glass substrate, corresponding to four edges of the mask film, Characterized in that it is arranged so as to overlap the four edge ends of the mask film.

상기 유리 기재는 상기 마스크 필름과 마주보는 상면에 제1 그루브 패턴을 구비하고, 상기 마스크 필름은 상기 유리 기재의 상면과 마주보는 일면에 제2 그루브 패턴을 구비한다.The glass substrate has a first groove pattern on an upper surface facing the mask film, and the mask film has a second groove pattern on one surface facing the upper surface of the glass substrate.

상기 제1 및 제2 그루브 패턴은 상기 접착 부재와 대응되는 위치에 배치되되, 상기 제1 그루브 패턴은 역삼각형 형상을 갖고, 상기 제2 그루브 패턴은 삼각형 형상을 갖는 것에 의해, 상기 제1 및 제2 그루브 패턴 상호 간이 대칭 구조를 갖는다.The first and second groove patterns are disposed at positions corresponding to the adhesive member, the first groove pattern has a triangular shape, and the second groove pattern has a triangular shape, so that the first and second groove patterns have a triangular shape. The two groove patterns have a mutually symmetrical structure.

상기 포토마스크는 상기 합착된 마스크 필름 및 유리 기재를 고정시키기 위해, 상기 유리 기재의 상면과 마스크 필름의 측면 및 타면을 덮는 고정 부재;를 더 포함한다.The photomask further includes a fixing member covering an upper surface of the glass substrate and side and other surfaces of the mask film to fix the bonded mask film and the glass substrate.

본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 마스크 필름을 인장시킨 상태에서 접착 부재를 이용하여 유리 기재에 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대하여 안정적이므로 장 기간 동안 반복 사용하더라도 뒤틀림이 발생할 염려가 없어 변화량을 최소화할 수 있게 된다.A hybrid-type photomask with excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same according to the present invention have a composite structure in which a mask film is attached to a glass substrate using an adhesive member in a tensioned state, so that it is stable against temperature and humidity. Therefore, there is no fear of distortion even when used repeatedly for a long period of time, and the amount of change can be minimized.

아울러, 본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 출력된 마스크 필름을 인장기를 이용하여 인장할 시 실시간으로 차광 패턴의 위치를 측정한 후 유리 기재에 접착 부재를 매개로 부착 및 고정되는 것에 의해, 차광 패턴에 대한 위치 정밀도를 향상시킬 수 있어 노광 공정에 대한 신뢰성 확보가 가능해질 수 있다.In addition, a hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same according to the present invention measures the location of a light-shielding pattern in real time when the printed mask film is stretched using a tensioner, and then attaches an adhesive member to the glass substrate. By being attached and fixed as a medium, it is possible to improve positional accuracy with respect to the light-shielding pattern, so that reliability of the exposure process can be secured.

또한, 본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 노광 공정에 대한 신뢰성 확보가 가능하면서도 상대적으로 저가의 고분자 필름 및 글래스 등의 재질을 사용하므로, 고가의 글래스 포토마스크(소다라임 크롬 마스크 또는 석영 크롬 마스크)에 비하여 제조 원가를 획기적으로 절감할 수 있게 된다.In addition, the hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and its manufacturing method according to the present invention can secure reliability in the exposure process and use materials such as relatively inexpensive polymer film and glass, so expensive glass photomasks are used. Compared to a mask (soda lime chrome mask or quartz chrome mask), manufacturing costs can be drastically reduced.

또한, 본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 출력된 마스크 필름을 인장시켜 마스크 필름의 차광 패턴을 위치 정렬시킨 상태에서 마스크 필름과 유리 기재를 접착 부재로 합착시킨 복합 구조로 이루어지므로, 차광 패턴의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있게 된다.In addition, in the hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability and the manufacturing method thereof according to the present invention, the mask film and the glass substrate are bonded with an adhesive member in a state where the output mask film is stretched to align the light blocking pattern of the mask film. Since it is made of a complex structure with the above structure, it is possible to improve the positional accuracy of the light-shielding pattern.

아울러, 본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 장 기간의 사용으로 포토마스크를 폐기 처분해야 할 시, 접착 부재 또는 접착 부재 및 고정 부재를 제거하여 유리 기재로부터 마스크 필름을 떼어내고 세척하는 것에 의해 유리 기재를 재활용하는 것이 가능하므로 제조 원가를 보다 절감할 수 있게 된다.In addition, a hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same according to the present invention removes the adhesive member or the adhesive member and the fixing member from the glass substrate when the photomask needs to be disposed of after long-term use. Since it is possible to recycle the glass substrate by removing and washing the mask film, manufacturing costs can be further reduced.

또한, 본 발명에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법은 유리 기재 및 마스크 필름이 상호 대칭 구조의 제1 그루브 패턴 및 제2 그루브 패턴을 구비하는 것에 의해, 유리 기재의 제1 그루브 패턴과 마스크 필름의 제2 그루브 패턴 사이 공간에서 압착되는 접착 부재와의 접착 면적을 보다 확장시킬 수 있을 뿐만 아니라, 유리 기재 및 마스크 필름의 내부에 임베디드 형태로 삽입되므로 유리 기재와 마스크 필름 간의 접합력을 보다 향상시킬 수 있는 구조적인 이점을 갖는다.In addition, a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability and a method for manufacturing the same according to the present invention have a first groove pattern and a second groove pattern having a mutually symmetrical structure in the glass substrate and the mask film, so that the glass substrate Not only can the adhesive area with the adhesive member compressed in the space between the first groove pattern and the second groove pattern of the mask film be expanded, but also the glass substrate and the mask film are inserted into the glass substrate and the mask film in an embedded form. It has a structural advantage that can further improve the bonding strength between the liver.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 나타낸 평면도.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단하여 나타낸 단면도.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 보다 구체적으로 나타낸 단면도.
도 4는 본 발명의 변형예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 나타낸 단면도.
도 5는 도 4의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도.
도 6 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법을 나타낸 공정 평면도.
도 10 내지 도 13은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법을 나타낸 공정 단면도.1 is a plan view showing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention.
Figure 2 is a cross-sectional view taken along line II-II' of Figure 1;
3 is a cross-sectional view showing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention in more detail.
4 is a cross-sectional view showing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to a modified example of the present invention.
5 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 4;
6 to 9 are process plan views illustrating a method for manufacturing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention.
10 to 13 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention, and methods of achieving them, will become clear with reference to the detailed description of the following embodiments taken in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various different forms, and only these embodiments make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numbers designate like elements throughout the specification.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 및 그 제조 방법에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a hybrid type photomask excellent in temperature and humidity stability and a manufacturing method thereof according to preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 나타낸 평면도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ'선을 따라 절단하여 나타낸 단면도이다.FIG. 1 is a plan view illustrating a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II′ of FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크(100)는 OLED용 메탈 마스크의 제조시, 포토레지스트 또는 드라이 필름을 선택적으로 노광하기 위한 노광 공정을 수행하는 과정에서 사용하기 위한 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.1 and 2, a hybrid type photomask 100 having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention is used for selectively exposing a photoresist or dry film when manufacturing a metal mask for OLED. It may be for use in the process of performing an exposure process, but is not limited thereto.

이를 위해, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크(100)는 유리 기재(120), 마스크 필름(140) 및 접착 부재(160)를 포함한다.To this end, the hybrid type photomask 100 having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention includes a glass substrate 120, a mask film 140, and an adhesive member 160.

유리 기재(120)는 상면(120a) 및 상면(120a)에 반대되는 하면(120b)을 갖는다. 이러한 유리 기재(120)의 재질로는 실리케이트를 포함하는 유리가 이용될 수 있다. 예를 들어, 유리 기재(120)는 알루미노실리케이트, 보로실리케이트, 보로알루미노실리케이트 등에서 선택될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 아울러, 유리 기재(120)는 내구성, 표면 평활성 및 투명도를 향상시키기 위한 첨가 물질이 더 포함되어 있을 수 있다. 첨가 물질로는 알칼리 금속이나, 알칼리 토금속 및 이들의 산화물일 수 있다.The glass substrate 120 has an upper surface 120a and a lower surface 120b opposite to the upper surface 120a. Glass containing silicate may be used as a material of the glass substrate 120 . For example, the glass substrate 120 may be selected from aluminosilicate, borosilicate, boroaluminosilicate, and the like, but is not limited thereto. In addition, the glass substrate 120 may further include an additive material for improving durability, surface smoothness, and transparency. The additive material may be an alkali metal or an alkaline earth metal and their oxides.

유리 기재(120)는 온도 및 습도에 민감한 마스크 필름(140)에 비하여, 온도 및 습도에 매우 안정적일 뿐만 아니라 우수한 내구성을 갖는다. 이러한 유리 기재(120)는 마스크 필름(140)을 안정적으로 안착시키기 위해 마스크 필름(140)에 비하여 큰 면적을 갖는 것이 바람직하다.Compared to the mask film 140, which is sensitive to temperature and humidity, the glass substrate 120 is very stable to temperature and humidity and has excellent durability. The glass substrate 120 preferably has a larger area than the mask film 140 in order to stably seat the mask film 140 thereon.

마스크 필름(140)은 일면(140a) 및 일면(140a)에 반대되는 타면(140b)을 가지며, 유리 기재(120)의 상면(120a) 상에 일면(140a)이 안착된다. 이러한 마스크 필름(140)은 차광 패턴(145)을 구비하고, 인장에 의해 차광 패턴(145)이 위치 정렬된 상태로 유리 기재(120)의 상면(120a)에 안착된다.The mask film 140 has one surface 140a and the other surface 140b opposite to the one surface 140a, and the one surface 140a is seated on the upper surface 120a of the glass substrate 120. The mask film 140 has a light blocking pattern 145 and is seated on the upper surface 120a of the glass substrate 120 in a state in which the light blocking pattern 145 is aligned by tension.

이러한 마스크 필름(140)은 마스크 필름(140)의 일면(140a)이 유리 기재(120)의 상면(120a)과 마주보도록 안착된다.The mask film 140 is seated such that one surface 140a of the mask film 140 faces the upper surface 120a of the glass substrate 120 .

차광 패턴(145)은 마스크 필름(140)의 타면(140b) 상에 형성되어 있을 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 차광 패턴(145)은 마스크 필름(140)의 일면(140a) 상에 형성되어 있을 수도 있다. 아울러 차광 패턴(145)은 마스크 필름(140)의 일면(140a) 또는 타면(140b) 내에 매립되는 임베디드 형태로 형성될 수도 있다.The light blocking pattern 145 may be formed on the other surface 140b of the mask film 140, but is not limited thereto. That is, the light blocking pattern 145 may be formed on one surface 140a of the mask film 140 . In addition, the light blocking pattern 145 may be formed in an embedded form buried in one surface 140a or the other surface 140b of the mask film 140 .

마스크 필름(140)은 플렉서블한 재질의 고분자 필름 재질로 형성될 수 있다. 고분자 필름은 COP(cyclo olefin copolymer) 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate) 필름, PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 필름, PVA(polyvinyl alcohol) 필름, PES(poly ether sulfone) 필름, PPS(polyphenylsulfone) 필름, PEI(polyetherimide) 필름, PEN(polyethylenemaphthatlate) 필름, PET(polyethyleneterephtalate) 필름 및 PI(polyimide) 필름 중 선택된 어느 하나일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The mask film 140 may be formed of a flexible polymer film material. Polymer films include COP (cyclo olefin copolymer) film, PMMA (poly (methyl methacrylate) film, PC (polycarbonate) film; PE (polyethylene) film, PVA (polyvinyl alcohol) film, PES (poly ether sulfone) film, PPS (polyphenylsulfone) ) film, PEI (polyetherimide) film, PEN (polyethylenemaphthatlate) film, PET (polyethyleneterephtalate) film, and PI (polyimide) film, but may be selected from any one, but is not limited thereto.

아울러, 차광 패턴(145)은 광을 차단하는 차광부로만 이루어질 수 있다. 이와 달리, 차광 패턴(145)은 광을 차단하는 차광부와, 광의 일부는 차단하고 일부는 투과시키는 반투과부로 이루어질 수 있다. 이를 위해, 차광 패턴(145)의 반투과부는 슬릿 형태로 설계될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, the light-blocking pattern 145 may include only a light-blocking portion that blocks light. Alternatively, the light-blocking pattern 145 may include a light-blocking portion that blocks light and a transflective portion that partially blocks light and partially transmits light. To this end, the transflective portion of the light blocking pattern 145 may be designed in a slit shape, but is not limited thereto.

이러한 차광 패턴(145)은 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 니오브(Nb), 티타늄(Ti), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co) 및 구리(Cu) 중 선택된 1종 이상의 금속 물질로 이루어질 수 있다.The light-shielding pattern 145 includes aluminum (Al), nickel (Ni), vanadium (V), tungsten (W), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), niobium (Nb), titanium (Ti), and iron (Fe). ), chromium (Cr), cobalt (Co), and copper (Cu).

접착 부재(160)는 인장된 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)를 합착시키는 역할을 한다.The adhesive member 160 serves to bond the stretched mask film 140 and the glass substrate 120 together.

이러한 접착 부재(160)는 마스크 필름(140)의 일면(140a)과 유리 기재(120)의 상면(120a) 사이에서, 마스크 필름(140)의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치되어, 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치된다. 이와 같이, 접착 부재(160)가 마스크 필름(140)과 유리 기재(120) 사이에서 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단을 따라 중첩되도록 형성되는 것에 의해, 마스크 필름(140)의 가장자리 끝단 부분이 가압되면서 마스크 필름(140)을 유리 기재(120)에 견고하게 부착시켜 안정적인 합착이 이루어질 수 있게 된다.The adhesive member 160 is disposed between one surface 140a of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 at a position corresponding to the four edges of the mask film 140, and the mask film ( 140) are arranged so as to overlap the four edge ends. In this way, the adhesive member 160 is formed to overlap along the four edge edges of the mask film 140 between the mask film 140 and the glass substrate 120, so that the edge edge portion of the mask film 140 While being pressed, the mask film 140 is firmly attached to the glass substrate 120 so that stable adhesion can be achieved.

즉, 접착 부재(160)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)의 중첩된 사이 공간에 삽입 배치되어, 마스크 필름(140)의 일면(140a)과 유리 기재(120)의 상면(120a) 상호 간을 물리적으로 견고하게 부착시키게 된다.That is, the adhesive member 160 is inserted and disposed in the space between the overlapping portions of the mask film 140 and the glass substrate 120, so that one surface 140a of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 They are physically firmly attached to each other.

이를 위해, 접착 부재(160)는 대략 -10 ~ 40℃의 상온 접합력이 우수한 점접착제를 이용하는 것이 바람직한데, 이는 마스크 필름(140)이 고온에 노출될 시 인장된 마스크 필름(140)에 변형을 유발할 수 있기 때문이다.To this end, it is preferable to use an adhesive having excellent bonding strength at room temperature of about -10 to 40 ° C., which causes deformation of the mask film 140 that is stretched when the mask film 140 is exposed to a high temperature. because it can cause

이러한 접착 부재(160)는 감압성 점접착제(pressure sensitive adhesive: PSA) 또는 광학 투명 점접착제(optically clear adhesive: OCA)로 형성되는 것이 바람직하다.The adhesive member 160 is preferably formed of pressure sensitive adhesive (PSA) or optically clear adhesive (OCA).

즉, 접착 부재(160)는 (메타)아크릴계 공중합체, 우레탄계 공중합체, 실리콘계 공중합체, 에폭시계 공중합체 등의 점착성 공중합체를 포함하는 OCA 조성물일 수 있다. 이 중, 접착 부재(160)로는 (메타)아크릴계 공중합체 또는 실리콘계 공중합체를 이용하는 것이 보다 바람직하다.That is, the adhesive member 160 may be an OCA composition including an adhesive copolymer such as a (meth)acrylic copolymer, a urethane copolymer, a silicone copolymer, or an epoxy copolymer. Among these, it is more preferable to use a (meth)acrylic copolymer or a silicone-based copolymer as the adhesive member 160 .

이러한 접착 부재(160)는 양면 테이프 형태의 PSA 필름 또는 OCA 필름을 유리 기재(120) 또는 마스크 필름(140)의 표면에 부착하고, 상온에서 가압 롤러 또는 가압 프레스로 압착하는 것에 의해 형성될 수 있다. 또한, 접착 부재(160)는 점착제 조성물을 유리 기재(120) 또는 마스크 필름(140)의 표면 상에 디스펜서 노즐 코팅(dispenser nozzle coating), 나이프 코팅(knife coating), 스프레이 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating) 및 바 코팅(bar coating) 방법 중 어느 하나의 방식으로 도포하고, 상온에서 건조하는 것에 형성될 수 있다.The adhesive member 160 may be formed by attaching a PSA film or OCA film in the form of a double-sided tape to the surface of the glass substrate 120 or the mask film 140 and pressing it with a pressure roller or pressure press at room temperature. . In addition, the adhesive member 160 may apply the pressure-sensitive adhesive composition onto the surface of the glass substrate 120 or the mask film 140 through dispenser nozzle coating, knife coating, spray coating, or dip coating. Coating (dip coating) and bar coating (bar coating) can be formed by applying any one of the methods, and drying at room temperature.

보다 구체적으로 설명하면, 접착 부재(160)는 유리 기재(120) 상의 인장된 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단과 중첩되는 위치에 형성된다. 이후, 인장된 마스크 필름(140)을 접착 부재(160)를 매개로 유리 기재(120)에 부착하여 합착하게 되는 것이다.More specifically, the adhesive member 160 is formed at a position overlapping the four edge ends of the stretched mask film 140 on the glass substrate 120 . Thereafter, the stretched mask film 140 is attached to the glass substrate 120 via the adhesive member 160 and bonded thereto.

한편, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 보다 구체적으로 나타낸 단면도이다.Meanwhile, FIG. 3 is a cross-sectional view showing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention in more detail.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크(100)는 유리 기재(120), 마스크 필름(140) 및 접착 부재(160)와 더불어, 고정 부재(180)를 더 포함할 수 있다.As shown in FIG. 3, the hybrid type photomask 100 having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention includes a glass substrate 120, a mask film 140, and an adhesive member 160, A fixing member 180 may be further included.

고정 부재(180)는 합착된 마스크 필름(140) 및 유리 기재(120)를 고정시키기 위해, 유리 기재(120)의 상면(120a)과 마스크 필름(140)의 측면 및 타면(140b)을 덮도록 형성된다.In order to fix the bonded mask film 140 and the glass substrate 120, the fixing member 180 covers the upper surface 120a of the glass substrate 120 and the side and other surfaces 140b of the mask film 140. is formed

이러한 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)의 타면(140b) 네 가장자리 및 네 측면과 마스크 필름(140)의 네 가장자리에 인접한 유리 기재(120)의 상면(120a)을 따라 형성되어, 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)를 고정시키게 된다. 이에 따라, 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120) 상호 간을 물리적으로 견고하게 부착시키게 된다.The fixing member 180 is formed along four edges and four side surfaces of the other surface 140b of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 adjacent to the four edges of the mask film 140, 140 and the glass substrate 120 are fixed. Accordingly, the fixing member 180 physically and firmly attaches the mask film 140 and the glass substrate 120 to each other.

여기서, 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)의 중첩된 사이 공간에 삽입 배치된 접착 부재(160)와 상호 접합시키는 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 고정 부재(180)는 접착 부재(160)와 측면 접합 방식에 의해 상호 간이 접합된다.Here, it is more preferable that the fixing member 180 is mutually bonded to the adhesive member 160 inserted into the space between the mask film 140 and the glass substrate 120 overlapping each other. Accordingly, the fixing member 180 and the adhesive member 160 are bonded to each other by a side bonding method.

이와 같이, 본 발명의 실시예에서는, 마스크 필름(140)을 인장시킨 상태에서 유리 기재(120)에 견고하게 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대한 안정성 확보가 가능하여 반복 사용에 의한 변화량을 최소화할 수 있게 된다.As such, in the embodiment of the present invention, by having a composite structure in which the mask film 140 is firmly attached to the glass substrate 120 in a tensioned state, it is possible to secure stability against temperature and humidity for repeated use. change can be minimized.

아울러, 본 발명의 실시예에서는, 출력된 마스크 필름(140)을 인장기를 이용하여 인장할 시 실시간으로 차광 패턴(145)의 위치를 측정한 상태에서 접착 부재(160) 또는 접착 부재(160) 및 고정 부재(180)를 매개로 유리 기재(120)에 합착시키는 것에 의해, 마스크 필름(140)의 차광 패턴(145)에 대한 위치 정밀도를 향상시킬 수 있어 노광 공정에 대한 신뢰성을 확보할 수 있게 된다.In addition, in the embodiment of the present invention, when the output mask film 140 is stretched using a tensioner, the adhesive member 160 or the adhesive member 160 and By attaching the glass substrate 120 via the fixing member 180, the positional accuracy of the mask film 140 with respect to the light-shielding pattern 145 can be improved, so that the reliability of the exposure process can be secured. .

이러한 고정 부재(180)는, 접착 부재(160)와 마찬가지로, 대략 -10 ~ 40℃의 상온 접합력이 우수한 점접착제를 이용하는 것이 바람직한데, 이는 마스크 필름(140)이 고온에 노출될 시 인장된 마스크 필름에 변형을 유발할 수 있기 때문이다.As for the fixing member 180, like the adhesive member 160, it is preferable to use an adhesive having excellent bonding strength at room temperature of approximately -10 to 40 ° C. This is because the mask film 140 is stretched when exposed to high temperatures. This is because it may cause deformation of the film.

이를 위해, 고정 부재(180)는 감압성 점접착제(pressure sensitive adhesive: PSA) 또는 광학 투명 점접착제(optically clear adhesive: OCA)로 형성되는 것이 바람직하다.To this end, the fixing member 180 is preferably formed of pressure sensitive adhesive (PSA) or optically clear adhesive (OCA).

즉, 고정 부재(180)는 (메타)아크릴계 공중합체, 우레탄계 공중합체, 실리콘계 공중합체, 에폭시계 공중합체 등의 점착성 공중합체를 포함하는 OCA 조성물일 수 있다. 이 중, 고정 부재(180)로는 (메타)아크릴계 공중합체 또는 실리콘계 공중합체를 이용하는 것이 보다 바람직하다.That is, the fixing member 180 may be an OCA composition including an adhesive copolymer such as a (meth)acrylic copolymer, a urethane copolymer, a silicone copolymer, or an epoxy copolymer. Among these, it is more preferable to use a (meth)acrylic copolymer or a silicone copolymer as the fixing member 180 .

고정 부재(180)는 양면 테이프 형태의 PSA 필름 또는 OCA 필름을 유리 기재(120) 및 마스크 필름(140)의 표면에 각각 부착하고, 상온에서 가압 롤러 또는 가압 프레스로 압착하는 것에 의해 형성될 수 있다. 또한, 고정 부재(180)는 점착제 조성물을 유리 기재(120) 및 마스크 필름(140)의 표면 상에 디스펜서 노즐 코팅(dispenser nozzle coating), 나이프 코팅(knife coating), 스프레이 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating) 및 바 코팅(bar coating) 방법 중 어느 하나의 방식으로 도포하고, 상온에서 건조하는 것에 형성될 수 있다.The fixing member 180 may be formed by attaching a PSA film or OCA film in the form of a double-sided tape to the surfaces of the glass substrate 120 and the mask film 140, respectively, and pressing them with a pressure roller or pressure press at room temperature. . In addition, the fixing member 180 applies the adhesive composition onto the surface of the glass substrate 120 and the mask film 140 by dispenser nozzle coating, knife coating, spray coating, or dip coating. Coating (dip coating) and bar coating (bar coating) can be formed by applying any one of the methods, and drying at room temperature.

도 4는 본 발명의 변형예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크를 나타낸 단면도이고, 도 5는 도 4의 A 부분을 확대하여 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view showing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to a modified example of the present invention, and FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of part A of FIG. 4 .

도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 변형예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크(200)는 유리 기재(220), 마스크 필름(240) 및 접착 부재(260)를 포함한다. 이때, 본 발명의 변형예에 따른 유리 기재(220) 및 마스크 필름(240)은 제1 그루브 패턴(H1) 및 제2 그루브 패턴(H2)을 더 포함하는 것을 제외하고는 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 본 발명의 실시예와 실질적으로 동일하므로, 중복 설명은 생략하고 차이점 위주로 설명하도록 한다.4 and 5, a hybrid type photomask 200 having excellent temperature and humidity stability according to a modified embodiment of the present invention includes a glass substrate 220, a mask film 240, and an adhesive member 260. do. 1 and 2 except that the glass substrate 220 and the mask film 240 according to the modified example of the present invention further include a first groove pattern H1 and a second groove pattern H2. Since it is substantially the same as the embodiment of the present invention described with reference, redundant description will be omitted and the difference will be mainly described.

본 발명의 변형예에서, 유리 기재(220)는 마스크 필름(240)과 마주보는 상면(220a)에 제1 그루브 패턴(H1)을 구비하고, 마스크 필름(240)은 유리 기재(220)의 상면(220a)과 마주보는 일면(240a)에 제2 그루브 패턴(H2)을 구비한다.In a modified example of the present invention, the glass substrate 220 has a first groove pattern H1 on an upper surface 220a facing the mask film 240, and the mask film 240 is the upper surface of the glass substrate 220. A second groove pattern H2 is provided on one surface 240a facing 220a.

여기서, 제1 및 제2 그루브 패턴(H1, H2)은 접착 부재(260)와 대응되는 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 제1 및 제2 그루브 패턴(H1, H2)은 접착 부재(260)와 실질적으로 동일하거나, 좁은 폭으로 형성될 수 있다.Here, the first and second groove patterns H1 and H2 are preferably disposed at positions corresponding to the adhesive member 260 . The first and second groove patterns H1 and H2 may have substantially the same width as the adhesive member 260 or may be formed with a narrow width.

이때, 단면 상으로 볼 때, 제1 그루브 패턴(H1)은 역삼각형 형상을 갖고, 제2 그루브 패턴(H2)은 삼각형 형상을 갖는다. 이에 따라, 제1 및 제2 그루브 패턴(H1, H2) 상호 간은 대칭 구조를 갖는다.At this time, when viewed in cross section, the first groove pattern H1 has a shape of an inverted triangle, and the second groove pattern H2 has a shape of a triangle. Accordingly, the first and second groove patterns H1 and H2 have a symmetrical structure.

여기서, 제1 그루브 패턴(H1)은 유리 기재(220) 전체 두께의 10% 이하의 높이를 갖는 것이 바람직한데, 이는 제1 그루브 패턴(H1)의 높이가 유리 기재(220) 전체 두께의 10%를 초과하여 과도한 높이로 설계될 시에는 유리 기재(220)의 가공시 유리 기재(220)에 크랙 등의 불량을 유발할 수 있기 때문이다.Here, the first groove pattern H1 preferably has a height of 10% or less of the total thickness of the glass substrate 220, which means that the height of the first groove pattern H1 is 10% of the total thickness of the glass substrate 220. This is because defects such as cracks may be caused to the glass substrate 220 during processing of the glass substrate 220 when the height is designed to exceed .

아울러, 제2 그루브 패턴(H2)은 마스크 필름(240) 전체 두께의 50% 이하의 높이를 갖는 것이 바람직한데, 이는 제2 그루브 패턴(H2)의 높이가 마스크 필름(240) 전체 두께의 50%를 초과하여 과도한 높이로 설계될 시에는 마스크 필름(240)의 강도 및 강성을 약화시키는 요인으로 작용할 수 있기 때문이다.In addition, the second groove pattern H2 preferably has a height of 50% or less of the total thickness of the mask film 240, which means that the height of the second groove pattern H2 is 50% of the total thickness of the mask film 240. This is because it may act as a factor that weakens the strength and rigidity of the mask film 240 when it is designed to have an excessive height exceeding .

본 발명의 변형예와 같이, 유리 기재(220)의 상면(220a)에는 제1 그루브 패턴(H1)이 구비되고, 유리 기재(220)의 상면(220a)과 마주보는 마스크 필름(240)의 일면(240a)에는 제2 그루브 패턴(H2)이 구비된다.Like the modified example of the present invention, the upper surface 220a of the glass substrate 220 is provided with the first groove pattern H1, and one surface of the mask film 240 facing the upper surface 220a of the glass substrate 220 (240a) is provided with a second groove pattern (H2).

이와 같이, 유리 기재(220) 및 마스크 필름(240)이 상호 대칭 구조의 제1 그루브 패턴(H1) 및 제2 그루브 패턴(H2)을 구비하는 것에 의해, 유리 기재(220)의 제1 그루브 패턴(H1)과 마스크 필름(240)의 제2 그루브 패턴(H2) 사이 공간에서 압착되는 접착 부재(260)와의 접착 면적을 보다 확장시킬 수 있을 뿐만 아니라, 유리 기재(220) 및 마스크 필름(240)의 내부에 임베디드 형태로 접착 부재(260)가 삽입되므로 유리 기재(220)와 마스크 필름(240) 간의 접합력을 보다 향상시킬 수 있게 되는 것이다.In this way, the glass substrate 220 and the mask film 240 are provided with the first groove pattern H1 and the second groove pattern H2 having mutually symmetrical structures, thereby forming the first groove pattern of the glass substrate 220. It is possible to further expand the adhesive area between the adhesive member 260 compressed in the space between the (H1) and the second groove pattern H2 of the mask film 240, and also the glass substrate 220 and the mask film 240 Since the adhesive member 260 is inserted in an embedded form into the inside, the bonding strength between the glass substrate 220 and the mask film 240 can be further improved.

아울러, 본 발명의 변형예와 같이, 접합 부재(260)는 유리 기재(220)와 마스크 필름(240)의 사이 공간에서 제1 그루브 패턴(H1) 및 제2 그루브 패턴(H2)과 중첩된 위치에 부착된다.In addition, like the modified example of the present invention, the bonding member 260 overlaps the first groove pattern H1 and the second groove pattern H2 in the space between the glass substrate 220 and the mask film 240. attached to

여기서, 접합 부재(260)는 접합 부재(260)의 내부에 균일하게 분산되도록 첨가된 접착 강화 필러(265)를 구비할 수 있다. 이러한 접착 강화 필러(265)는 산화알루미늄(Al2O3), 실리카(Silica), 질화알루미늄(AlN), 질화붕소(BN), 실리콘카바이드(SiC) 및 탈크(Talc) 중 선택된 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다.Here, the bonding member 260 may include an adhesion enhancing filler 265 added to be uniformly distributed inside the bonding member 260 . The adhesion enhancing filler 265 includes at least one selected from among aluminum oxide (Al 2 O 3 ), silica, aluminum nitride (AlN), boron nitride (BN), silicon carbide (SiC), and talc. It is preferable to use

접착 강화 필러(265)는 접착 부재(260) 전체 100 중량%에 대하여, 0.5 ~ 10 중량%의 함량비로 첨가되는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 범위로는 1 ~ 2 중량%를 제시할 수 있다. 접착 강화 필러(265)의 첨가량이 0.5 중량% 미만일 경우에는 그 첨가량이 미미한 관계로 유리 기재(220)와 마스크 필름(240) 간의 접착 강화 효과를 제대로 발휘하는데 어려움이 따를 수 있다. 반대로, 접착 강화 필러(265)의 첨가량이 10 중량%를 초과할 경우에는 유리 기재(220)와 마스크 필름(240) 간의 접합력은 향상될 수 있으나, 내열성이 저하될 우려가 있다.The adhesion enhancing filler 265 is preferably added in a content ratio of 0.5 to 10% by weight based on 100% by weight of the entire adhesive member 260, and 1 to 2% by weight may be presented as a more preferable range. When the addition amount of the adhesion enhancing filler 265 is less than 0.5% by weight, it may be difficult to properly exhibit an adhesion enhancing effect between the glass substrate 220 and the mask film 240 due to the insignificant amount added. Conversely, when the added amount of the adhesion enhancing filler 265 exceeds 10% by weight, bonding strength between the glass substrate 220 and the mask film 240 may be improved, but heat resistance may be deteriorated.

이러한 접착 강화 필러(265)는 10 ~ 1,000nm의 평균 직경을 갖는 것을 이용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직한 범위로는 30 ~ 200nm를 제시할 수 있다. 접착 강화 필러(265)의 평균 직경이 10nm 미만일 경우에는 그 크기가 미세화됨에 따라 입자의 분산성의 문제로 인해 접착력이 저하될 수 있다. 반대로, 접착 강화 필러(265)의 평균 직경이 1,000nm를 초과할 경우에는 불가피하게 접착 부재(260)의 두께가 증가될 수 밖에 없어 내열성 등의 물성이 저하될 우려가 있다.The adhesion enhancing filler 265 preferably has an average diameter of 10 to 1,000 nm, and a more preferable range may be 30 to 200 nm. When the average diameter of the adhesion-enhancing filler 265 is less than 10 nm, as the size of the filler 265 is miniaturized, adhesion may decrease due to a problem in dispersibility of the particles. Conversely, when the average diameter of the adhesion enhancing filler 265 exceeds 1,000 nm, the thickness of the adhesive member 260 inevitably increases, and physical properties such as heat resistance may deteriorate.

지금까지 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 마스크 필름을 인장시킨 상태에서 접착 부재를 이용하여 유리 기재에 부착시킨 복합 구조를 갖는 것에 의해, 온도 및 습도에 대하여 안정적이므로 장 기간 동안 반복 사용하더라도 뒤틀림이 발생할 염려가 없어 변화량을 최소화할 수 있게 된다.As described above, the hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention has a composite structure in which the mask film is attached to the glass substrate using an adhesive member in a tensioned state, thereby And since it is stable against humidity, even if it is used repeatedly for a long period of time, it is possible to minimize the amount of change because there is no fear of distortion.

아울러, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 출력된 마스크 필름을 인장기를 이용하여 인장할 시 실시간으로 차광 패턴의 위치를 측정한 후 유리 기재에 접착 부재를 매개로 부착 및 고정되는 것에 의해, 차광 패턴에 대한 위치 정밀도를 향상시킬 수 있어 노광 공정에 대한 신뢰성 확보가 가능해질 수 있다.In addition, the hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention measures the position of the light-shielding pattern in real time when the printed mask film is stretched using a tensioner, and then attaches an adhesive member to the glass substrate. By attaching and fixing the furnace, it is possible to improve the positional accuracy of the light-shielding pattern, so that the reliability of the exposure process can be secured.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 노광 공정에 대한 신뢰성 확보가 가능하면서도 상대적으로 저가의 고분자 필름 및 글래스 등의 재질을 사용하므로, 고가의 글래스 포토마스크(소다라임 크롬 마스크 또는 석영 크롬 마스크)에 비하여 제조 원가를 획기적으로 절감할 수 있게 된다.In addition, since the hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention can secure reliability in the exposure process and uses materials such as relatively inexpensive polymer film and glass, it is not an expensive glass photomask. Compared to (soda lime chrome mask or quartz chrome mask), manufacturing cost can be drastically reduced.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 출력된 마스크 필름을 인장시켜 마스크 필름의 차광 패턴을 위치 정렬시킨 상태에서 마스크 필름과 유리 기재를 접착 부재로 합착시킨 복합 구조로 이루어지므로, 차광 패턴의 위치 정밀도를 향상시킬 수 있게 된다.In addition, the hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention is obtained by bonding the mask film and the glass substrate with an adhesive member in a state in which the output mask film is stretched and the light blocking pattern of the mask film is aligned. Since it is made of a complex structure, it is possible to improve the positioning accuracy of the light-shielding pattern.

아울러, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 장 기간의 사용으로 포토마스크를 폐기 처분해야 할 시, 접착 부재 또는 접착 부재 및 고정 부재를 제거하여 유리 기재로부터 마스크 필름을 떼어내고 세척하는 것에 의해 유리 기재를 재활용하는 것이 가능하므로 제조 원가를 보다 절감할 수 있게 된다.In addition, the hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention is a mask from a glass substrate by removing an adhesive member or an adhesive member and a fixing member when the photomask needs to be disposed of after long-term use. Since it is possible to recycle the glass substrate by removing the film and washing it, it is possible to further reduce the manufacturing cost.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크는 유리 기재 및 마스크 필름이 상호 대칭 구조의 제1 그루브 패턴 및 제2 그루브 패턴을 구비하는 것에 의해, 유리 기재의 제1 그루브 패턴과 마스크 필름의 제2 그루브 패턴 사이 공간에서 압착되는 접착 부재와의 접착 면적을 보다 확장시킬 수 있을 뿐만 아니라, 유리 기재 및 마스크 필름의 내부에 임베디드 형태로 삽입되므로 유리 기재와 마스크 필름 간의 접합력을 보다 향상시킬 수 있는 구조적인 이점을 갖는다.In addition, the hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention has a first groove pattern and a second groove pattern having a mutually symmetrical structure in the glass substrate and the mask film, so that the glass substrate has a first groove pattern. Not only can the adhesive area with the adhesive member compressed in the space between the first groove pattern and the second groove pattern of the mask film be expanded, but also the glass substrate and the mask film are inserted in an embedded form, thereby reducing the gap between the glass substrate and the mask film. It has a structural advantage that can further improve bonding strength.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법에 대하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a hybrid type photomask manufacturing method having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 6 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법을 나타낸 공정 평면도이고, 도 10 내지 도 13은 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법을 나타낸 공정 단면도이다.6 to 9 are process plan views illustrating a method for manufacturing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 10 to 13 are process plan views showing temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention. It is a process cross-sectional view showing an excellent hybrid type photomask manufacturing method.

도 6 및 도 10에 도시된 바와 같이, 차광 패턴(145)이 형성된 마스크 필름(140)을 출력한다.As shown in FIGS. 6 and 10 , the mask film 140 on which the light blocking pattern 145 is formed is output.

이러한 마스크 필름(140)은 일면(140a) 및 일면(140a)에 반대되는 타면(140b)을 갖는다. 마스크 필름(140)은 플렉서블한 재질의 고분자 필름 재질로 형성될 수 있다. 고분자 필름은 COP(cyclo olefin copolymer) 필름, PMMA(poly(methyl methacrylate) 필름, PC(polycarbonate) 필름; PE(polyethylene) 필름, PVA(polyvinyl alcohol) 필름, PES(poly ether sulfone) 필름, PPS(polyphenylsulfone) 필름, PEI(polyetherimide) 필름, PEN(polyethylenemaphthatlate) 필름, PET(polyethyleneterephtalate) 필름 및 PI(polyimide) 필름 중 선택된 어느 하나일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.This mask film 140 has one surface 140a and the other surface 140b opposite to the one surface 140a. The mask film 140 may be formed of a flexible polymer film material. Polymer films include COP (cyclo olefin copolymer) film, PMMA (poly (methyl methacrylate) film, PC (polycarbonate) film; PE (polyethylene) film, PVA (polyvinyl alcohol) film, PES (poly ether sulfone) film, PPS (polyphenylsulfone) ) film, PEI (polyetherimide) film, PEN (polyethylenemaphthatlate) film, PET (polyethyleneterephtalate) film, and PI (polyimide) film, but may be selected from any one, but is not limited thereto.

아울러, 차광 패턴(145)은 광을 차단하는 차광부로만 이루어질 수 있다. 이와 달리, 차광 패턴(145)은 광을 차단하는 차광부와, 광의 일부는 차단하고 일부는 투과시키는 반투과부로 이루어질 수 있다. 이를 위해, 차광 패턴(145)의 반투과부는 슬릿 형태로 설계될 수 있다.In addition, the light-blocking pattern 145 may include only a light-blocking portion that blocks light. Alternatively, the light-blocking pattern 145 may include a light-blocking portion that blocks light and a transflective portion that partially blocks light and partially transmits light. To this end, the transflective portion of the light blocking pattern 145 may be designed in a slit shape.

이러한 차광 패턴(145)은 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 바나듐(V), 텅스텐(W), 탄탈륨(Ta), 몰리브덴(Mo), 니오브(Nb), 티타늄(Ti), 철(Fe), 크롬(Cr), 코발트(Co) 및 구리(Cu) 중 선택된 1종 이상의 금속 물질로 이루어질 수 있다.The light-shielding pattern 145 includes aluminum (Al), nickel (Ni), vanadium (V), tungsten (W), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), niobium (Nb), titanium (Ti), and iron (Fe). ), chromium (Cr), cobalt (Co), and copper (Cu).

다음으로, 도 7 및 도 11에 도시된 바와 같이, 출력된 마스크 필름(140)을 인장기에 로딩하고, 인장하여 마스크 필름(140)의 차광 패턴(145)을 위치 정렬한다.Next, as shown in FIGS. 7 and 11 , the output mask film 140 is loaded into a tensioner and stretched to align the position of the light-shielding pattern 145 of the mask film 140 .

본 단계에서, 인장기의 인장 클램프(200)는 출력된 마스크 필름(140)의 네측 변에 각각 장착되는 것이 바람직하다. 이때, 인장기의 인장 클램프(200)는 출력된 마스크 필름(140)의 상하좌우 네 방향으로 각각 인장하게 되고, 인장기의 디스플레이부를 통하여 실시간으로 차광 패턴(145)의 위치 정렬을 모니터링하게 된다.In this step, it is preferable that the tension clamps 200 of the tensioner are mounted on each of the four sides of the output mask film 140 . At this time, the tensile clamps 200 of the tensioner tension the output mask film 140 in four directions, respectively, in the top, bottom, left, and right directions, and the alignment of the light-shielding pattern 145 is monitored in real time through the display unit of the tensioner.

이에 따라, 출력된 마스크 필름(140)은 제1 평면적을 갖고, 인장된 마스크 필름(140)은 제1 평면적보다 큰 제2 평면적을 갖는다.Accordingly, the output mask film 140 has a first planar area, and the stretched mask film 140 has a second planar area larger than the first planar area.

다음으로, 도 8 및 도 12에 도시된 바와 같이, 인장된 마스크 필름(140)의 일면(140a)을 접착 부재(160)를 매개로 유리 기재(120)의 상면(120a)에 합착한다.Next, as shown in FIGS. 8 and 12 , one surface 140a of the stretched mask film 140 is bonded to the upper surface 120a of the glass substrate 120 via the adhesive member 160 .

본 단계에서, 유리 기재(120)는 상면(120a) 및 상면(120a)에 반대되는 하면(120b)을 갖는다. 유리 기재(120)의 재질로는 실리케이트를 포함하는 유리가 이용될 수 있다. 예를 들어, 유리 기재(120)는 알루미노실리케이트, 보로실리케이트, 보로알루미노실리케이트 등에서 선택될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 아울러, 유리 기재(120)는 내구성, 표면 평활성 및 투명도를 향상시키기 위한 첨가 물질이 더 포함되어 있을 수 있다. 첨가 물질로는 알칼리 금속이나, 알칼리 토금속 및 이들의 산화물일 수 있다.In this step, the glass substrate 120 has an upper surface 120a and a lower surface 120b opposite to the upper surface 120a. Glass containing silicate may be used as a material of the glass substrate 120 . For example, the glass substrate 120 may be selected from aluminosilicate, borosilicate, boroaluminosilicate, and the like, but is not limited thereto. In addition, the glass substrate 120 may further include an additive material for improving durability, surface smoothness, and transparency. The additive material may be an alkali metal or an alkaline earth metal and their oxides.

유리 기재(120)는 온도 및 습도에 민감한 마스크 필름(140)에 비하여, 온도 및 습도에 매우 안정적일 뿐만 아니라 우수한 내구성을 갖는다. 이러한 유리 기재(120)는 마스크 필름(140)을 안정적으로 안착시키기 위해 마스크 필름(140)에 비하여 큰 면적을 갖는 것이 바람직하다.Compared to the mask film 140, which is sensitive to temperature and humidity, the glass substrate 120 is very stable to temperature and humidity and has excellent durability. The glass substrate 120 preferably has a larger area than the mask film 140 in order to stably seat the mask film 140 thereon.

본 단계에서, 접착 부재(160)는 마스크 필름(140)의 일면(140a)과 유리 기재(120)의 상면(120a) 사이에서, 마스크 필름(140)의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치시켜, 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치한다. 이와 같이, 접착 부재(160)를 마스크 필름(140)과 유리 기재(120) 사이에서 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단을 따라 중첩되도록 형성하는 것에 의해, 마스크 필름(140)의 가장자리 끝단 부분이 가압되면서 마스크 필름(140)을 유리 기재(120)에 견고하게 부착시켜 안정적인 합착이 이루어질 수 있게 된다.In this step, the adhesive member 160 is placed between one surface 140a of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 at a position corresponding to the four edges of the mask film 140, It is arranged so as to overlap the ends of the four edges of the mask film 140 . In this way, by forming the adhesive member 160 between the mask film 140 and the glass substrate 120 so as to overlap along the four edges of the mask film 140, the edge of the mask film 140 is formed. While being pressed, the mask film 140 is firmly attached to the glass substrate 120 so that stable adhesion can be achieved.

즉, 접착 부재(160)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)의 중첩된 사이 공간에 삽입 배치하여, 마스크 필름(140)의 일면(140a)과 유리 기재(120)의 상면(120a) 상호 간을 물리적으로 견고하게 부착시키게 된다.That is, the adhesive member 160 is inserted and disposed in the space between the overlapping layers of the mask film 140 and the glass substrate 120, so that one surface 140a of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 They are physically firmly attached to each other.

이를 위해, 접착 부재(160)는 대략 -10 ~ 40℃의 상온 접합력이 우수한 점접착제를 이용하는 것이 바람직한데, 이는 마스크 필름(140)이 고온에 노출될 시 인장된 마스크 필름(140)에 변형을 유발할 수 있기 때문이다.To this end, it is preferable to use an adhesive having excellent bonding strength at room temperature of about -10 to 40 ° C., which causes deformation of the mask film 140 that is stretched when the mask film 140 is exposed to a high temperature. because it can cause

이러한 접착 부재(160)는 감압성 점접착제(pressure sensitive adhesive: PSA) 또는 광학 투명 점접착제(optically clear adhesive: OCA)로 형성되는 것이 바람직하다.The adhesive member 160 is preferably formed of pressure sensitive adhesive (PSA) or optically clear adhesive (OCA).

즉, 접착 부재(160)는 (메타)아크릴계 공중합체, 우레탄계 공중합체, 실리콘계 공중합체, 에폭시계 공중합체 등의 점착성 공중합체를 포함하는 OCA 조성물일 수 있다. 이 중, 접착 부재(160)로는 (메타)아크릴계 공중합체 또는 실리콘계 공중합체를 이용하는 것이 보다 바람직하다.That is, the adhesive member 160 may be an OCA composition including an adhesive copolymer such as a (meth)acrylic copolymer, a urethane copolymer, a silicone copolymer, or an epoxy copolymer. Among these, it is more preferable to use a (meth)acrylic copolymer or a silicone-based copolymer as the adhesive member 160 .

이러한 접착 부재(160)는 양면 테이프 형태의 PSA 필름 또는 OCA 필름을 유리 기재(120) 또는 마스크 필름(140)의 표면에 부착하고, 상온에서 가압 롤러 또는 가압 프레스로 압착하는 것에 의해 형성될 수 있다. 또한, 접착 부재(160)는 점착제 조성물을 유리 기재(120) 또는 마스크 필름(140)의 표면 상에 디스펜서 노즐 코팅(dispenser nozzle coating), 나이프 코팅(knife coating), 스프레이 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating) 및 바 코팅(bar coating) 방법 중 어느 하나의 방식으로 도포하고, 상온에서 건조하는 것에 형성될 수 있다.The adhesive member 160 may be formed by attaching a PSA film or OCA film in the form of a double-sided tape to the surface of the glass substrate 120 or the mask film 140 and pressing it with a pressure roller or pressure press at room temperature. . In addition, the adhesive member 160 may apply the pressure-sensitive adhesive composition onto the surface of the glass substrate 120 or the mask film 140 through dispenser nozzle coating, knife coating, spray coating, or dip coating. Coating (dip coating) and bar coating (bar coating) can be formed by applying any one of the methods, and drying at room temperature.

보다 구체적으로 설명하면, 합착 단계는 유리 기재(120) 상의 인장된 마스크 필름(140)의 네 가장자리 끝단과 대응되는 위치에 접착 부재(160)를 형성하여 인장된 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)를 가접합시키는 가접합 과정과, 접착 부재(160)를 매개로 인장된 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)를 압착시켜 합착하는 압착 과정을 포함할 수 있다.More specifically, in the bonding step, the adhesive member 160 is formed at a position corresponding to the four edge ends of the stretched mask film 140 on the glass substrate 120, so that the stretched mask film 140 and the glass substrate ( 120), and a compression process of compressing and bonding the stretched mask film 140 and the glass substrate 120 through the adhesive member 160.

여기서, 가접합 과정은 인장된 마스크 필름(140)을 고정시킨 상태에서 유리 기재(120)를 상승시키는 방식으로 수행될 수 있다. 또한, 가접합 과정은 유리 기재(120)를 고정시킨 상태에서 인장된 마스크 필름(140)을 하강시키는 방식으로 수행될 수도 있다.Here, the temporary bonding process may be performed by raising the glass substrate 120 while the tensioned mask film 140 is fixed. In addition, the temporary bonding process may be performed by lowering the tensioned mask film 140 while the glass substrate 120 is fixed.

다음으로, 도 10 및 도 14에 도시된 바와 같이, 유리 기재(120)의 상면(120a)과 마스크 필름(140)의 측면 및 타면(140b)을 덮는 고정 부재(180)를 이용하여, 합착된 마스크 필름(140) 및 유리 기재(120)를 고정시킨다. 이러한 고정 부재(180)를 이용한 고정 단계는 반드시 수행되어야 하는 것은 아니며, 필요에 따라 생략하는 것도 무방하다.Next, as shown in FIGS. 10 and 14, using a fixing member 180 covering the top surface 120a of the glass substrate 120 and the side surface and the other surface 140b of the mask film 140, the bonded The mask film 140 and the glass substrate 120 are fixed. The fixing step using the fixing member 180 does not necessarily have to be performed, and may be omitted if necessary.

본 단계에서, 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)의 타면(140b) 네 가장자리 및 네 측면과 마스크 필름(140)의 네 가장자리에 인접한 유리 기재(120)의 상면(120a)을 따라 형성하여, 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)를 고정시키게 된다. 이에 따라, 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120) 상호 간을 물리적으로 견고하게 부착시키게 된다.In this step, the fixing member 180 is formed along the four edges and four side surfaces of the other surface 140b of the mask film 140 and the upper surface 120a of the glass substrate 120 adjacent to the four edges of the mask film 140, , The mask film 140 and the glass substrate 120 are fixed. Accordingly, the fixing member 180 physically and firmly attaches the mask film 140 and the glass substrate 120 to each other.

여기서, 고정 부재(180)는 마스크 필름(140)과 유리 기재(120)의 중첩된 사이 공간에 삽입 배치된 접착 부재(160)와 상호 접합시키는 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 고정 부재(180)는 접착 부재(160)와 측면 접합 방식에 의해 상호 간이 접합된다.Here, it is more preferable that the fixing member 180 is mutually bonded to the adhesive member 160 inserted and disposed in the space between the mask film 140 and the glass substrate 120 overlapping each other. Accordingly, the fixing member 180 and the adhesive member 160 are bonded to each other by a side bonding method.

이러한 고정 부재(180)는, 접착 부재(160)와 마찬가지로, 대략 -10 ~ 40℃의 상온 접합력이 우수한 점접착제를 이용하는 것이 바람직한데, 이는 마스크 필름(140)이 고온에 노출될 시 인장된 마스크 필름(140)에 변형을 유발할 수 있기 때문이다.As for the fixing member 180, like the adhesive member 160, it is preferable to use an adhesive having excellent bonding strength at room temperature of approximately -10 to 40 ° C. This is because the mask film 140 is stretched when exposed to high temperatures. This is because deformation may be caused to the film 140 .

이를 위해, 고정 부재(180)는 감압성 점접착제(pressure sensitive adhesive: PSA) 또는 광학 투명 점접착제(optically clear adhesive: OCA)로 형성되는 것이 바람직하다.To this end, the fixing member 180 is preferably formed of pressure sensitive adhesive (PSA) or optically clear adhesive (OCA).

즉, 고정 부재(180)는 (메타)아크릴계 공중합체, 우레탄계 공중합체, 실리콘계 공중합체, 에폭시계 공중합체 등의 점착성 공중합체를 포함하는 OCA 조성물일 수 있다. 이 중, 고정 부재(180)로는 (메타)아크릴계 공중합체 또는 실리콘계 공중합체를 이용하는 것이 보다 바람직하다.That is, the fixing member 180 may be an OCA composition including an adhesive copolymer such as a (meth)acrylic copolymer, a urethane copolymer, a silicone copolymer, or an epoxy copolymer. Among these, it is more preferable to use a (meth)acrylic copolymer or a silicone copolymer as the fixing member 180 .

고정 부재(180)는 양면 테이프 형태의 PSA 필름 또는 OCA 필름을 유리 기재(120) 및 마스크 필름(140)의 표면에 각각 부착하고, 상온에서 가압 롤러 또는 가압 프레스로 압착하는 것에 의해 형성될 수 있다. 또한, 고정 부재(180)는 점착제 조성물을 유리 기재(120) 및 마스크 필름(140)의 표면 상에 디스펜서 노즐 코팅(dispenser nozzle coating), 나이프 코팅(knife coating), 스프레이 코팅(spray coating), 딥 코팅(dip coating) 및 바 코팅(bar coating) 방법 중 어느 하나의 방식으로 도포하고, 상온에서 건조하는 것에 형성될 수 있다.The fixing member 180 may be formed by attaching a PSA film or OCA film in the form of a double-sided tape to the surfaces of the glass substrate 120 and the mask film 140, respectively, and pressing them with a pressure roller or pressure press at room temperature. . In addition, the fixing member 180 applies the adhesive composition onto the surface of the glass substrate 120 and the mask film 140 by dispenser nozzle coating, knife coating, spray coating, or dip coating. Coating (dip coating) and bar coating (bar coating) can be formed by applying any one of the methods, and drying at room temperature.

이상으로, 본 발명의 실시예에 따른 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법이 종료될 수 있다.Thus, the hybrid type photomask manufacturing method having excellent temperature and humidity stability according to an embodiment of the present invention can be completed.

이상에서는 본 발명의 실시예를 중심으로 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 기술자의 수준에서 다양한 변경이나 변형을 가할 수 있다. 이러한 변경과 변형은 본 발명이 제공하는 기술 사상의 범위를 벗어나지 않는 한 본 발명에 속한다고 할 수 있다. 따라서 본 발명의 권리범위는 이하에 기재되는 청구범위에 의해 판단되어야 할 것이다.Although the above has been described based on the embodiments of the present invention, various changes or modifications may be made at the level of a technician having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs. Such changes and modifications can be said to belong to the present invention as long as they do not deviate from the scope of the technical idea provided by the present invention. Therefore, the scope of the present invention will be determined by the claims described below.

100 : 하이브리드 타입의 포토 마스크
120 : 유리 기재
120a : 유리 기재의 일면
120b : 유리 기재의 타면
140 : 마스크 필름
140a : 마스크 필름의 일면
140b : 마스크 필름의 타면
145 : 차광 패턴
160 : 접착 부재
180 : 고정 부재100: hybrid type photomask
120: glass substrate
120a: one side of the glass substrate
120b: the other side of the glass substrate
140: mask film
140a: one side of mask film
140b: the other side of the mask film
145: light blocking pattern
160: adhesive member
180: fixed member

Claims (10)

OLED용 메탈 마스크 제조시 노광 공정을 수행하는데 사용되는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법으로서,
(a) 차광 패턴이 형성된 마스크 필름을 출력하는 단계;
(b) 상기 출력된 마스크 필름을 인장기에 로딩하고, 인장하여 상기 마스크 필름의 차광 패턴을 위치 정렬하는 단계; 및
(c) 상기 인장된 마스크 필름의 일면을 접착 부재를 매개로 유리 기재의 상면에 합착하는 단계;를 포함하며,
상기 (c) 단계에서, 상기 접착 부재는 마스크 필름의 일면과 유리 기재의 상면 사이에서, 상기 마스크 필름의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치되어, 상기 마스크 필름의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치되고,
상기 유리 기재는 상기 마스크 필름과 마주보는 상면에 제1 그루브 패턴을 구비하고, 상기 마스크 필름은 상기 유리 기재의 상면과 마주보는 일면에 제2 그루브 패턴을 구비하며,
상기 제1 및 제2 그루브 패턴은 상기 접착 부재와 대응되는 위치에 배치되며, 상기 접착 부재는 내부에 균일하게 분산되도록 첨가된 접착 강화 필러를 구비하고, 상기 접착 강화 필러는 10 ~ 1,000nm의 평균 직경을 갖고, 상기 접착 강화 필러는 접착 부재 전체 100 중량%에 대하여, 0.5 ~ 10 중량%의 함량비로 첨가된 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법.
A hybrid type photomask manufacturing method with excellent temperature and humidity stability used for performing an exposure process when manufacturing a metal mask for OLED,
(a) outputting a mask film having a light blocking pattern;
(b) loading the output mask film into a tensioner and stretching to align the light-shielding pattern of the mask film; and
(c) bonding one surface of the stretched mask film to an upper surface of a glass substrate via an adhesive member;
In the step (c), the adhesive member is disposed between one surface of the mask film and the upper surface of the glass substrate at a position corresponding to the four edges of the mask film and overlaps with the ends of the four edges of the mask film,
The glass substrate has a first groove pattern on an upper surface facing the mask film, and the mask film has a second groove pattern on one surface facing the upper surface of the glass substrate,
The first and second groove patterns are disposed at positions corresponding to the adhesive member, and the adhesive member includes an adhesion-enhancing filler added to be uniformly distributed therein, and the adhesion-enhancing filler has an average thickness of 10 to 1,000 nm. A hybrid type photomask manufacturing method with excellent temperature and humidity stability, characterized in that the adhesive member is added in a content ratio of 0.5 to 10% by weight with respect to 100% by weight of the total adhesive member.
 제1항에 있어서,
상기 출력된 마스크 필름은 제1 평면적을 갖고,
상기 인장된 마스크 필름은 상기 제1 평면적보다 큰 제2 평면적을 갖는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법.
According to claim 1,
The output mask film has a first planar area,
The method of manufacturing a hybrid type photomask having excellent temperature and humidity stability, characterized in that the stretched mask film has a second plane area larger than the first plane area.
 제1항에 있어서,
상기 (b) 단계에서,
상기 인장기의 인장 클램프는
상기 출력된 마스크 필름의 네측 변에 각각 장착되며, 상기 인장기의 인장 클램프가 출력된 마스크 필름의 상하좌우 네 방향으로 각각 인장하면서 실시간으로 차광 패턴의 위치를 정렬하는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법.
According to claim 1,
In step (b),
The tension clamp of the tensioner is
Temperature and humidity stability characterized in that it is mounted on each of the four sides of the output mask film, and the tension clamp of the tensioner aligns the position of the light-shielding pattern in real time while stretching the output mask film in four directions, respectively, in the top, bottom, left, and right directions. This excellent hybrid type photomask manufacturing method.
 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 제1 그루브 패턴은 역삼각형 형상을 갖고, 상기 제2 그루브 패턴은 삼각형 형상을 갖는 것에 의해, 상기 제1 및 제2 그루브 패턴 상호 간이 대칭 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법.
According to claim 1,
The first groove pattern has an inverted triangular shape, and the second groove pattern has a triangular shape, so that the first and second groove patterns have a mutually symmetrical structure. Type of photomask manufacturing method.
 제1항에 있어서,
상기 (c) 단계 이후,
(d) 상기 유리 기재의 상면과 마스크 필름의 측면 및 타면을 덮는 고정 부재를 이용하여, 상기 합착된 마스크 필름 및 유리 기재를 고정시키는 단계;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크 제조 방법.
According to claim 1,
After step (c),
(d) fixing the bonded mask film and glass substrate by using a fixing member covering the upper surface of the glass substrate and the side and other surfaces of the mask film;
A hybrid-type photomask manufacturing method with excellent temperature and humidity stability, characterized in that it further comprises.
 OLED용 메탈 마스크 제조시 노광 공정을 수행하는데 사용되는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크로서,
상면 및 하면을 갖는 유리 기재;
상기 유리 기재의 상면 상에 일면이 안착되되, 차광 패턴을 구비하고, 인장에 의해 상기 차광 패턴이 위치 정렬된 마스크 필름; 및
상기 인장된 마스크 필름과 유리 기재를 합착시키기 위한 접착 부재;를 포함하며,
상기 접착 부재는 마스크 필름의 일면과 유리 기재의 상면 사이에서, 상기 마스크 필름의 네 가장자리와 대응되는 위치에 배치되어, 상기 마스크 필름의 네 가장자리 끝단과 중첩되도록 배치되고,
상기 유리 기재는 상기 마스크 필름과 마주보는 상면에 제1 그루브 패턴을 구비하고, 상기 마스크 필름은 상기 유리 기재의 상면과 마주보는 일면에 제2 그루브 패턴을 구비하며,
상기 제1 및 제2 그루브 패턴은 상기 접착 부재와 대응되는 위치에 배치되며, 상기 접착 부재는 내부에 균일하게 분산되도록 첨가된 접착 강화 필러를 구비하고, 상기 접착 강화 필러는 10 ~ 1,000nm의 평균 직경을 갖고, 상기 접착 강화 필러는 접착 부재 전체 100 중량%에 대하여, 0.5 ~ 10 중량%의 함량비로 첨가된 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크.
As a hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability used in the exposure process when manufacturing a metal mask for OLED,
A glass substrate having upper and lower surfaces;
a mask film having one surface mounted on the upper surface of the glass substrate, having a light blocking pattern, and having the light blocking pattern aligned by tension; and
An adhesive member for bonding the stretched mask film and the glass substrate together,
The adhesive member is disposed between one surface of the mask film and the upper surface of the glass substrate at a position corresponding to the four edges of the mask film, and is disposed to overlap the ends of the four edges of the mask film,
The glass substrate has a first groove pattern on an upper surface facing the mask film, and the mask film has a second groove pattern on one surface facing the upper surface of the glass substrate,
The first and second groove patterns are disposed at positions corresponding to the adhesive member, and the adhesive member includes an adhesion-enhancing filler added to be uniformly distributed therein, and the adhesion-enhancing filler has an average thickness of 10 to 1,000 nm. A hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability, characterized in that the adhesive reinforcing filler is added in a content ratio of 0.5 to 10% by weight with respect to 100% by weight of the total adhesive member.
 삭제delete 제7항에 있어서,
상기 제1 그루브 패턴은 역삼각형 형상을 갖고, 상기 제2 그루브 패턴은 삼각형 형상을 갖는 것에 의해, 상기 제1 및 제2 그루브 패턴 상호 간이 대칭 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크.
According to claim 7,
The first groove pattern has an inverted triangular shape, and the second groove pattern has a triangular shape, so that the first and second groove patterns have a mutually symmetrical structure. type of photomask.
 제7항에 있어서,
상기 포토마스크는
상기 합착된 마스크 필름 및 유리 기재를 고정시키기 위해, 상기 유리 기재의 상면과 마스크 필름의 측면 및 타면을 덮는 고정 부재;
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 온도 및 습도 안정성이 우수한 하이브리드 타입의 포토마스크.According to claim 7,
The photomask is
a fixing member covering an upper surface of the glass substrate and side and other surfaces of the mask film to fix the bonded mask film and the glass substrate;
A hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability, characterized in that it further comprises.
KR1020220137250A 2022-10-24 2022-10-24 Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof KR102535112B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220137250A KR102535112B1 (en) 2022-10-24 2022-10-24 Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220137250A KR102535112B1 (en) 2022-10-24 2022-10-24 Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR102535112B1 true KR102535112B1 (en) 2023-05-26

Family

ID=86536581

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220137250A KR102535112B1 (en) 2022-10-24 2022-10-24 Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102535112B1 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04124256U (en) * 1991-04-22 1992-11-12 ホーヤ株式会社 Photomask with photomask protector
KR20060055939A (en) * 2004-11-19 2006-05-24 (주)알투스 Manufacturing method and device of stretching mask for heating
KR20090077697A (en) * 2008-01-11 2009-07-15 상에이 기켄 가부시키가이샤 Photomask for use in exposure
KR100927518B1 (en) * 2009-08-12 2009-11-17 이종오 A sticking unit of photo mask in glass pcb and a sticking method
KR20110003627A (en) * 2009-07-06 2011-01-13 (주)세현 X-ray detector and method of manufacturing the same
KR20170031488A (en) * 2015-09-11 2017-03-21 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device
KR20200112468A (en) * 2019-03-22 2020-10-05 주식회사 오럼머티리얼 Template for supporting mask and producing methoe thereof and producing method of mask integrated frame

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04124256U (en) * 1991-04-22 1992-11-12 ホーヤ株式会社 Photomask with photomask protector
KR20060055939A (en) * 2004-11-19 2006-05-24 (주)알투스 Manufacturing method and device of stretching mask for heating
KR20090077697A (en) * 2008-01-11 2009-07-15 상에이 기켄 가부시키가이샤 Photomask for use in exposure
KR20110003627A (en) * 2009-07-06 2011-01-13 (주)세현 X-ray detector and method of manufacturing the same
KR100927518B1 (en) * 2009-08-12 2009-11-17 이종오 A sticking unit of photo mask in glass pcb and a sticking method
KR20170031488A (en) * 2015-09-11 2017-03-21 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device
KR20200112468A (en) * 2019-03-22 2020-10-05 주식회사 오럼머티리얼 Template for supporting mask and producing methoe thereof and producing method of mask integrated frame

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5024087B2 (en) GLASS LAMINATE, PANEL FOR DISPLAY DEVICE WITH SUPPORT AND METHOD FOR PRODUCING THEM
AU2012305176B2 (en) Method for manufacturing curved-surface display
KR102336499B1 (en) Pattern structure and method of manufacturing the pattern structure, and liquid crystal display device having metal wire grid polarizer
JP5533671B2 (en) Laminated body with polarizer, display device panel with support, display device panel, display device, and methods for producing the same
KR100356772B1 (en) Bonding method and bonding device of substrates and manufacturing method of a liquid crystal display device
US20110192525A1 (en) Glass substrate laminated device and method for producing laminate glass substrate
KR20080023627A (en) Pellicle for lithography
KR101462074B1 (en) Photomask for use in exposure
US7968252B2 (en) Pellicle frame
TWI390286B (en) Flexible liquid crystal dislay panel and method for manufacturing the same
KR20160024410A (en) Pattern structure and method of manufacturing the same
KR102535112B1 (en) Hybrid type photomask with excellent temperature and humidity stability and method of manufacturing thereof
JP2011082070A (en) Optical device
US10509257B2 (en) Display panels, wire grid polarizers, and the manufacturing methods thereof
JP2007256415A (en) Display device
KR102460114B1 (en) Hybrid type photomask and method of manufacturing thereof
TWI333568B (en) Color filter substrate with spacer pads and fabricating method thereof and method for assembling a panel with the color filter substrate for lcd
WO2018072409A1 (en) Liquid-crystal display device and manufacturing method thereof
KR20050108317A (en) Display device producing method and display device producing device
JP2010014901A (en) Apparatus for manufacturing liquid crystal display device and method for manufacturing the same
JP2002265040A (en) Base board carrying tool and method of manufacturing liquid crystal display element by using the tool
US7847884B2 (en) Optical film and manufacturing method thereof and substrate structure and display panel using the optical film
KR20070067995A (en) Apparatus for fabricating flat panel display device and method for fabricating thereof
US11211572B2 (en) Mask plate and manufacturing method thereof, flexible substrate stripping apparatus and flexible substrate stripping method
JP2005062640A (en) Photomask with pellicle

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant