KR102523143B1 - Equipment front end module - Google Patents

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KR102523143B1
KR102523143B1 KR1020210077572A KR20210077572A KR102523143B1 KR 102523143 B1 KR102523143 B1 KR 102523143B1 KR 1020210077572 A KR1020210077572 A KR 1020210077572A KR 20210077572 A KR20210077572 A KR 20210077572A KR 102523143 B1 KR102523143 B1 KR 102523143B1
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주식회사 테크엑스
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Abstract

이에프이엠에 대한 발명이 개시된다. 개시된 이에프이엠은: 본체의 내부를 가스압축순환존과 가스워킹존으로 구획한 채, 건조가스를 함유한 공기를 본체 내부에서 가스압축순환존에서 가스워킹존으로 순환 유동 안내하는 내부순환안내부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The invention for EFM is disclosed. The disclosed EFM includes an inner circulation guide unit for circulating and guiding air containing dry gas from the gas compression circulation zone to the gas working zone inside the main body while dividing the inside of the main body into a gas compression circulation zone and a gas working zone. It is characterized by doing.

Description

이에프이엠{EQUIPMENT FRONT END MODULE}EFM{EQUIPMENT FRONT END MODULE}

본 발명은 이에프이엠에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 이에프이엠(EFEM)의 본체 내부의 가스압축순환존에서의 질소가스를 필터유닛에 통과시키며 오염물질을 필터링한 후 가스워킹존에 대기 중인 웨이퍼를 건조 유도하고 나서, 필터유닛과 이웃하게 배치되는 팬모듈의 작동으로 질소가스를 가스압축순환존으로 직접 순환 유도함에 따라 질소가스의 관로손실을 최소화하고, 본체 내부에서 질소가스가 정체되는 영역에서 질소가스를 강제 순환 및 배기 유도함으로써 본체 내부에서 질소 농도와 공기의 산소 농도를 일정하게 유지하고자 하는 이에프이엠에 관한 것이다.The present invention relates to an EFEM, and more particularly, nitrogen gas in a gas compression circulation zone inside the main body of the EFEM is passed through a filter unit to filter contaminants, and then wafers waiting in the gas working zone are removed. After inducing drying, nitrogen gas is directly circulated into the gas compression circulation zone by the operation of the fan module placed adjacent to the filter unit, thereby minimizing the pipe loss of nitrogen gas and nitrogen in the area where nitrogen gas is stagnant inside the main body. It relates to an EFM that maintains a constant nitrogen concentration and air oxygen concentration inside a main body by forcibly circulating and inducing gas exhaust.

반도체 웨이퍼는 웨이퍼에 전기적인 특성을 형성하는 증착 공정, 웨이퍼에 미세한 회로 패턴을 형성하는 노광공정, 형성된 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 식각 공정 및 제거된 부분을 씻어 내는 세정 공정 등을 거치며 가공된다.Semiconductor wafers are processed through a deposition process to form electrical characteristics on the wafer, an exposure process to form fine circuit patterns on the wafer, an etching process to remove the remaining parts except for the formed circuit patterns, and a cleaning process to wash the removed parts. do.

각 단계의 공정라인은 복수 개의 웨이퍼가 담긴 풉(FOUP:Front Opening Unified Pod)을 이송하는 이송용 로봇, 풉을 고정한 후 풉의 커버를 여는 엘피엠(LPM:Load Port Module), 풉에서 복수 개의 웨이퍼를 순차적으로 빼내어 로드락 챔버로 이송시키는 이에프이엠(EFEM:Equipment Front End Module) 및 로드락 챔버로부터 웨이퍼를 이송하여 공정챔버로 이송하는 트랜스퍼 모듈(Transfer Module)이 연결된 구조이다. The process line at each stage includes a transfer robot that transports a FOUP (Front Opening Unified Pod) containing multiple wafers, a Load Port Module (LPM) that opens the cover of the FOUP after fixing the FOUP, and a plurality of FOUPs from the FOUP. It is a structure in which an Equipment Front End Module (EFEM), which sequentially takes out wafers and transfers them to the load-lock chamber, and a Transfer Module, which transfers wafers from the load-lock chamber and transfers them to the process chamber, are connected.

풉 내부에서, 가공되는 웨이퍼 전에 가공된 웨이퍼는 대기하며 이에프이엠의 대기 분위기에 노출되면서, 이에프이엠의 공기 중에 있는 습기나 오존과 같은 각종 공기의 분자상 오염물질(AMC: Airborne Molecular Contamination)에 장시간 노출된다.Inside the foop, the wafer processed before the wafer being processed waits and is exposed to the atmospheric atmosphere of EFM, and is exposed to various airborne molecular contaminants (AMC: Airborne Molecular Contamination) such as moisture and ozone in the air of EFM for a long time. Exposed.

특히, 분자상 오염물질 가운데 습기는 웨이퍼 표면을 산화시켜 웨이퍼에 표면에 잔류하고 있는 식각 가스를 응축(Condensation)시키며 패턴화된 회로를 붙게 하는 문제를 야기 시킨다.In particular, moisture among molecular contaminants oxidizes the surface of the wafer, condensates the etching gas remaining on the surface of the wafer, and causes a problem of sticking patterned circuits.

현재, 이러한 문제를 해결하고자 이에프이엠의 챔버의 습기를 제거할 수 있는 방법 및 장치가 다양하게 개발되고 있다. Currently, in order to solve this problem, various methods and devices capable of removing moisture from the EFM chamber are being developed.

관련기술로는 대한민국 공개특허공보 제10-2003-0001542호에 제안된 바 있다.A related technology has been proposed in Korean Patent Publication No. 10-2003-0001542.

상기한 기술구성은 본 발명의 이해를 돕기 위한 배경기술로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 널리 알려진 종래기술을 의미하는 것은 아니다.The above technical configuration is a background art for helping understanding of the present invention, and does not mean the prior art widely known in the technical field to which the present invention belongs.

기존 이에프이엠(EFEM)은 분자상 오염물질을 필터링하는 필터를 통과한 질소가스를 함유한 공기를 하부에서 포집하여 순환을 위해 파이프로 유동 안내함에 따라 질소가스의 관로손실이 발생함으로써 추가로 공급되어야 하는 질소가스의 양이 많아지게 되는 문제점이 있다.Existing EFEM collects air containing nitrogen gas that has passed through a filter that filters molecular contaminants from the bottom and guides it to a pipe for circulation, resulting in pipe loss of nitrogen gas, which must be additionally supplied. There is a problem that the amount of nitrogen gas to be increased.

아울러, 기존 이에프이엠은 가스워킹존(gas working zone)의 내부에서 질소가스를 함유한 공기가 정체되어 유동되지 않는 영역이 발생됨에 따라, 가스워킹존 내부에서 공기의 질소가스 농도가 저하되는 문제점이 있다.In addition, the existing EFM has a problem in that the nitrogen gas concentration of the air is lowered inside the gas working zone as the air containing nitrogen gas is stagnant and a non-flowing area is generated inside the gas working zone. there is.

따라서, 이를 개선할 필요성이 요청된다.Therefore, there is a need to improve this.

본 발명은 상기와 같은 문제점들을 개선하기 위하여 안출된 것으로서, 이에프이엠(EFEM)의 본체 내부의 가스압축순환존에서의 질소가스를 필터유닛에 통과시키며 오염물질을 필터링한 후 가스워킹존에 대기 중인 웨이퍼를 건조 유도하고 나서, 필터유닛과 이웃하게 배치되는 팬모듈의 작동으로 질소가스를 가스압축순환존으로 직접 순환 유도함에 따라 질소가스의 관로손실을 최소화하고자 하는 이에프이엠을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to improve the above problems, and nitrogen gas in the gas compression circulation zone inside the main body of the EFEM is passed through a filter unit to filter contaminants, and then waiting in the gas working zone. After inducing drying of the wafer, the operation of the fan module disposed adjacent to the filter unit induces direct circulation of nitrogen gas into the gas compression circulation zone, thereby minimizing pipe loss of nitrogen gas. The purpose is to provide an EFM. .

본 발명은 본체 내부에서 질소가스가 정체되는 영역에서 질소가스를 강제 순환 및 배기 유도함으로써 본체 내부에서 질소 농도와 공기의 산소 농도를 일정하게 유지하고자 하는 이에프이엠을 제공하는데 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide an EFM that maintains constant nitrogen concentration and air oxygen concentration inside the main body by forcibly circulating and exhausting nitrogen gas in a region where nitrogen gas is stagnant inside the main body.

본 발명에 따른 이에프이엠은: 본체; 상기 본체의 내부를 가스압축순환존과 가스워킹존으로 구획한 채, 건조가스를 함유한 공기를 상기 본체 내부에서 상기 가스압축순환존에서 상기 가스워킹존으로 순환 유동 안내하는 내부순환안내부; 및 상기 가스워킹존 또는 상기 가스압축순환존에 대응되는 상기 본체 내부로 상기 건조가스를 공급하는 가스공급부를 포함한다.An EFM according to the present invention includes: a main body; An inner circulation guide unit for circulating and guiding air containing dry gas from the gas compression circulation zone to the gas working zone inside the main body while dividing the inside of the main body into a gas compression circulation zone and a gas working zone; and a gas supply unit supplying the dry gas into the main body corresponding to the gas working zone or the gas compression circulation zone.

상기 본체는 공기가 정체되는 상기 가스워킹존의 해당 영역에 대응되도록 강제배기부를 연결하여 상기 공기를 단속적으로 배기 조절 안내하는 것을 특징으로 한다.The main body is characterized in that the exhaust control guides the air intermittently by connecting the forced exhaust unit so as to correspond to the corresponding area of the gas working zone where the air is stagnant.

상기 내부순환안내부는, 상기 가스워킹존과 상기 가스압축순환존을 구획하는 설정 위치의 상기 본체 내부 전체에 걸쳐 구비되는 틀 형상인 프레임; 상기 프레임의 일부를 막고, 상기 가스압축순환존의 공기를 상기 가스워킹존으로 통과 허용하는 필터; 및 상기 프레임의 나머지를 막고, 상기 가스워킹존 내부의 공기 압력이 설정치 이상이거나 또는 강제 구동되며 상기 가스워킹존의 공기를 상기 가스압축순환존으로 순환 이동 안내하는 팬모듈을 포함한다.The inner circulation guide portion, a frame having a frame shape provided over the entire inside of the main body at a set position to partition the gas working zone and the gas compression circulation zone; a filter that blocks a portion of the frame and allows air in the gas compression circulation zone to pass through the gas working zone; And a fan module that blocks the rest of the frame, and the air pressure in the gas working zone is higher than a set value or is forcibly driven and circulates and guides the air in the gas working zone to the gas compression circulation zone.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 이에프이엠은 종래 기술과 달리 이에프이엠(EFEM)의 본체 내부의 가스압축순환존에서의 질소가스를 필터유닛에 통과시키며 오염물질을 필터링한 후 가스워킹존에 대기 중인 웨이퍼를 건조 유도하고 나서, 필터유닛과 이웃하게 배치되는 팬모듈의 작동으로 질소가스를 가스압축순환존으로 직접 순환 유도함에 따라 질소가스의 관로손실을 최소화할 수 있다.As described above, unlike the prior art, the EFEM according to the present invention passes nitrogen gas in the gas compression circulation zone inside the main body of the EFEM through the filter unit, filters pollutants, and then returns to the gas working zone. After inducing drying of the wafers in standby, nitrogen gas can be directly circulated into the gas compression circulation zone through the operation of the fan module disposed adjacent to the filter unit, thereby minimizing nitrogen gas duct loss.

본 발명은 본체 내부에서 질소가스가 정체되는 영역에서 질소가스를 강제 순환 및 배기 유도함으로써, 본체 내부에서 질소 농도와 공기의 산소 농도를 일정하게 유지할 수 있다. The present invention can keep the nitrogen concentration and the oxygen concentration of the air constant inside the main body by forcibly circulating and exhausting the nitrogen gas in the area where the nitrogen gas is stagnant inside the main body.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 개략적 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 개략적 종단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 내부순환안내부의 사시도이다.1 is a schematic perspective view of an EFM according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic longitudinal cross-sectional view of an EFM according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of an internal circulation guide of the EFM according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 이에프이엠의 실시예를 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시되어 있을 수 있다. 또한, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.Hereinafter, an embodiment of the EFM according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In this process, the thickness of lines or the size of components shown in the drawings may be exaggerated for clarity and convenience of description. In addition, terms to be described later are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or custom of a user or operator. Therefore, definitions of these terms will have to be made based on the content throughout this specification.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 개략적 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 개략적 종단면도이며, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠의 내부순환안내부의 사시도이다.1 is a schematic perspective view of an EFM according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view of an EFM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an EFM according to an embodiment of the present invention. It is a perspective view of the inner circulation guide of

도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 이에프이엠(100)은 본체(110), 내부순환안내부(120) 및 가스공급부(140)를 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 3 , the EFM 100 according to an embodiment of the present invention includes a main body 110, an internal circulation guide part 120, and a gas supply part 140.

특히, 본 발명에 따른 이에프이엠(EFEM:Equipment Front End Module,100)은 반도체용 웨이퍼의 처리 장치 중 풉(FOUP;Front Opening Unified Pod,20)을 갖는 엘피엠(LPM;Load Port Module,10)을 일측에 구비한다. 그리고, 이에프이엠(100)은 풉(20) 내부에 공급하기 위해 대기 중인 웨이퍼의 표면에 묻은 물기를 제거하기 위한 건조가스를 필터링한 후 순환 안내하여 지속적으로 오염물질을 걸러낸다.In particular, the EFEM (Equipment Front End Module, 100) according to the present invention is an LPM (Load Port Module, 10) having a FOUP (Front Opening Unified Pod, 20) among wafer processing devices for semiconductors. is provided on one side. In addition, the EFM 100 filters the dry gas for removing moisture from the surface of the waiting wafer to be supplied to the inside of the foop 20, and then circulates the dry gas to continuously filter out contaminants.

본체(110)는 이에프이엠(100)의 외형을 형성한다. 이때, 본체(110)는 다양한 형상 및 다양한 재질로 적용 가능하다.The main body 110 forms the outer shape of the EFM 100 . At this time, the main body 110 can be applied in various shapes and various materials.

그리고, 내부순환안내부(120)는 본체(110)의 내부를 가스압축순환존(113)과 가스워킹존(114)으로 구획한 채, 건조가스를 함유한 공기를 본체(110) 내부에서 가스압축순환존(113)에서 가스워킹존(114)으로 순환 유동 안내하는 역할을 한다.In addition, the inner circulation guide 120 divides the inside of the main body 110 into a gas compression circulation zone 113 and a gas working zone 114, and supplies air containing dry gas from the inside of the main body 110. It serves to guide the circulation flow from the compression circulation zone 113 to the gas working zone 114.

특히, 내부순환안내부(120)는 본체(110)의 내부를 일측과 타측으로 구획한다. 편의상, 내부순환안내부(120)는 본체(110)의 상측의 가스압축순환존(113)과 하측의 가스워킹존(114)으로 구획하도록 구비된다.In particular, the internal circulation guide unit 120 divides the inside of the main body 110 into one side and the other side. For convenience, the internal circulation guide unit 120 is provided to divide the gas compression circulation zone 113 on the upper side of the main body 110 and the gas working zone 114 on the lower side.

내부순환안내부(120)는 본체(110) 내부에 충진된 건조가스를 함유한 공기를 자연 흐름에 의해 순환 안내할 수도 있고, 해당 공기를 강제 순환 안내할 수도 있다. 이때, 건조가스는 물기를 증발하거나 제거할 수 있는 질소가스 등 다양한 기체로 적용 가능하다. The inner circulation guide unit 120 may circulate and guide the air containing the dry gas filled in the main body 110 by a natural flow or forcedly circulate the air. At this time, the drying gas can be applied to various gases such as nitrogen gas capable of evaporating or removing water.

특히, 본 발명에서 내부순환안내부(120)는 프레임(122), 필터(124) 및 팬모듈(126)을 포함한다.In particular, in the present invention, the inner circulation guide unit 120 includes a frame 122, a filter 124 and a fan module 126.

프레임(122)은 가스워킹존(114)과 가스압축순환존(113)을 구획하는 설정 위치의 본체(110) 내부 전체에 걸쳐 구비되고, 틀 형상으로 이루어진다. 즉, 프레임(122)은 본체(110)의 내부에서 평면상 동일 위치의 내측면을 따라 고정 설치된다. The frame 122 is provided throughout the inside of the main body 110 at a set position to partition the gas working zone 114 and the gas compression circulation zone 113, and is formed in a frame shape. That is, the frame 122 is fixedly installed along the inner surface of the same position on a plane inside the main body 110 .

필터(124)는 프레임(122)의 개방된 일부를 막고, 팬모듈(126)은 프레임(122)의 개방된 나머지 부위에 설치된다. 그래서, 필터(124)와 팬모듈(126)은 프레임(122)의 개방측 전체에 걸쳐 구비되고, 프레임(122)의 개방측에 이웃하게 배치된다.The filter 124 blocks the open portion of the frame 122, and the fan module 126 is installed in the remaining open portion of the frame 122. Thus, the filter 124 and the fan module 126 are provided over the entire open side of the frame 122 and are disposed adjacent to the open side of the frame 122 .

이때, 필터(124)는 가스압축순환존(113)의 공기를 가스워킹존(114)으로 통과 허용하며, 공기에 함유된 오염물질을 필터링한다.At this time, the filter 124 allows the air of the gas compression circulation zone 113 to pass through the gas working zone 114, and filters pollutants contained in the air.

아울러, 팬모듈(126)은 가스워킹존(114) 내부의 공기 압력이 설정치 이상이거나 또는 외력에 의해 강제 구동되며, 가스워킹존(114)의 공기를 가스압축순환존(113)으로 순환 이동 안내한다.In addition, the fan module 126 is forcibly driven when the air pressure inside the gas working zone 114 is higher than a set value or by an external force, and guides the air in the gas working zone 114 to the gas compression circulation zone 113. do.

이에 따라, 가스압축순환존(113)에서 건조가스를 포함한 공기는 필터(124)를 통과하며 오염물질이 필터링된 후 가스워킹존(114)으로 유동된다.Accordingly, the air containing the dry gas in the gas compression circulation zone 113 passes through the filter 124 and flows into the gas working zone 114 after the contaminants are filtered.

이때, 본체(110)는 가스워킹존(114) 내부에 웨이퍼이송모듈(115)을 구비한다. 그리고, 웨이퍼이송모듈(115)은 웨이퍼를 대기한 후 풉(20) 내부로 이송시키는 역할을 한다. 특히, 웨이퍼이송모듈(115)에 대기 중인 웨이퍼는 건조가스에 의해 건조 처리된다.At this time, the main body 110 includes a wafer transfer module 115 inside the gas working zone 114 . In addition, the wafer transfer module 115 waits for the wafer and serves to transfer it into the foo 20 . In particular, wafers waiting in the wafer transfer module 115 are dried by dry gas.

웨이퍼의 표면을 건조한 건조가스와 공기는 오염될 수 있다. 그래서, 해당 건조가스를 함유한 공기는 팬모듈(126)을 통과하며 가스압축순환존(113)으로 이동 후 필터(124)를 통해 가스워킹존(114)으로 순환 유동된다.Drying gases and air that dry the surface of the wafer can be contaminated. So, the air containing the dry gas passes through the fan module 126 and is circulated to the gas working zone 114 through the filter 124 after moving to the gas compression circulation zone 113.

이에 따라, 필터(124)는 가스워킹존(114)의 웨이퍼이송모듈(115)의 상부에 위치하도록 프레임(122)에 구비되는 것으로 한다.Accordingly, the filter 124 is assumed to be provided on the frame 122 so as to be positioned above the wafer transfer module 115 of the gas working zone 114.

한편, 본체(110)는 완전히 밀폐된 상태가 아니기 때문에, 건조가스는 본체(110) 내부에 주기적 또는 간헐적으로 공급되어야 한다.On the other hand, since the main body 110 is not completely sealed, the dry gas must be supplied periodically or intermittently to the inside of the main body 110.

그래서, 가스공급부(140)가 구비된다.So, the gas supply unit 140 is provided.

가스공급부(140)는 가스워킹존(114) 또는 가스압축순환존(113)에 대응되는 본체(110) 내부로 건조가스를 공급하는 역할을 한다.The gas supply unit 140 serves to supply dry gas into the main body 110 corresponding to the gas working zone 114 or the gas compression circulation zone 113.

이때, 가스공급부(140)는 가스압축순환존(113)으로 직접적으로 건조가스를 공급하도록 본체(1110)에 연결되는 것으로 한다. At this time, the gas supply unit 140 is connected to the main body 1110 so as to directly supply dry gas to the gas compression circulation zone 113 .

이는, 가스공급부(140)에 의해 공급되는 외부의 건조가스가 필터(124)를 통과하면서 오염물질을 필터링 후 순수 가스 상태로 가스워킹존(114)으로 공급되도록 하기 위함이다.This is to allow the external dry gas supplied by the gas supply unit 140 to be supplied to the gas working zone 114 in a pure gas state after filtering contaminants while passing through the filter 124 .

아울러, 외부의 건조가스가 가스공급부(140)에 의해 가스압축순환존(113)으로 공급됨으로써, 가스압축순환존(113) 내부의 압력이 증가함에 따라, 가스압축순환존(113)의 건조가스를 함유한 공기가 필터(124)를 통과하며 원활하게 가스워킹존(114)으로 이동된다.In addition, as the external dry gas is supplied to the gas compression circulation zone 113 by the gas supply unit 140, as the pressure inside the gas compression circulation zone 113 increases, the dry gas of the gas compression circulation zone 113 The air containing the passes through the filter 124 and is smoothly moved to the gas working zone 114.

특히, 외부의 건조가스가 가스공급부(140)에 의해 가스워킹존(114)으로 공급시, 가스워킹존(114)의 내부 압력이 높아, 가스압축순환존(113) 내부의 공기가 원활하게 필터(124)를 통과하지 못할 수 있다.In particular, when the external dry gas is supplied to the gas working zone 114 by the gas supply unit 140, the internal pressure of the gas working zone 114 is high, and the air inside the gas compression circulation zone 113 is smoothly filtered. (124) may not pass.

이때, 가스공급부(140)는, 도시하지 않았지만, 가스탱크 및 공급펌프 등을 포함할 수 있다.At this time, although not shown, the gas supply unit 140 may include a gas tank and a supply pump.

한편, 본체(110)는 웨이퍼이송모듈(115)에 대응되는 일측에 엘피엠(10)을 구비하고, 엘피엠(10) 측으로 개방되는 개방구(111)를 형성한다. 아울러, 개방구(111)는 개폐판(112)을 개폐 가능하게 구비한다.Meanwhile, the main body 110 has the LPM 10 on one side corresponding to the wafer transfer module 115 and forms an opening 111 open to the LPM 10 side. In addition, the opening 111 includes an opening/closing plate 112 capable of being opened and closed.

아울러, 본체(110)는 개폐판(112)을 개폐하기 위해 일측 내부에 개폐작동부(도시하지 않음)을 구비하게 된다. 이에 따라, 본체(110)는 가스워킹존(114)에서 웨이퍼이송모듈(115)과 개폐판(112) 사이에 비교적 협소한 공간이 형성된다. 그래서, 공기가 가스워킹존(114)의 해당 공간에서 정체되어 체류하게 된다. In addition, the main body 110 is provided with an opening and closing operation unit (not shown) inside one side to open and close the opening and closing plate 112 . Accordingly, in the main body 110, a relatively narrow space is formed between the wafer transfer module 115 and the opening/closing plate 112 in the gas working zone 114. So, the air is stagnant and stays in the corresponding space of the gas working zone 114.

이 경우, 가스워킹존(114) 내부 일부에서 공기의 체류로 인해, 가스워킹존(114)의 건조가스 농도가 옅어지게 된다.In this case, due to the retention of air in a part of the inside of the gas working zone 114, the concentration of the dry gas in the gas working zone 114 is reduced.

이를 방지하기 위해, 강제배기부(150)가 구비된다.To prevent this, a forced exhaust unit 150 is provided.

강제배기부(150)는 공기가 정체되는 가스워킹존(114)의 사공간(dead zone)에서 정체되는 공기를 강제 배기하는 역할을 한다. The forced exhaust unit 150 serves to forcibly exhaust stagnant air in the dead zone of the gas working zone 114 where air is stagnant.

특히, 배기되는 공기의 일부는 외부로 배기 유도하고, 나머지는 공기의 흐름의 원활한 가스워킹존(114)의 해당 영역으로 공급될 수도 있다.In particular, some of the exhausted air may be induced to the outside, and the rest may be supplied to the corresponding area of the gas working zone 114 for smooth air flow.

즉, 가스공급부(140)가 가스순환덕트(130)로 건조가스를 공급하고, 강제배기부(150)가 건조가스의 농도가 옅어진 공기를 외부로 배기함에 따라, 본체(110) 내부의 공기는 산소의 농도가 저감되거나 설정치로 유지되고, 본체(110) 내부의 건조가스의 농도는 상승되거나 설정치로 유지된다.That is, as the gas supply unit 140 supplies dry gas to the gas circulation duct 130 and the forced exhaust unit 150 exhausts the air in which the dry gas concentration has decreased to the outside, the air inside the main body 110 The concentration of oxygen is reduced or maintained at a set value, and the concentration of the dry gas inside the main body 110 is increased or maintained at a set value.

일례로, 강제배기부(150)는 배기라인(154) 및 단속밸브(155)을 포함한다.For example, the forced exhaust unit 150 includes an exhaust line 154 and a shut-off valve 155.

그리고, 배기라인(154)은 본체(110)에서 공기(건조가스)가 체류하는 가스워킹존(114)의 해당 영역에서 외부로 연결되어, 공기를 외부로 배기 유도한다.In addition, the exhaust line 154 is connected to the outside in the corresponding area of the gas working zone 114 in which air (dry gas) stays in the main body 110, and induces exhaust air to the outside.

아울러, 단속밸브(155)는 배기라인(154)에 구비된다.In addition, the shut-off valve 155 is provided in the exhaust line 154.

그래서, 가스워킹존(114)의 사공간의 공기는 외부로의 배기 여부가 단속되고, 배기되는 양이 제어된다.Therefore, whether or not the air in the dead space of the gas working zone 114 is exhausted to the outside is controlled, and the exhausted amount is controlled.

한편, 가스공급부(140)에 의해 공급되는 건조가스와, 강제배기부(150)에 의해 배기되는 공기는 가스압축순환존(113) 내부에서 임시로 잔류하면서 최대한 혼합되도록 유도한다.On the other hand, the dry gas supplied by the gas supply unit 140 and the air exhausted by the forced exhaust unit 150 are induced to be mixed as much as possible while temporarily remaining in the gas compression circulation zone 113 .

그래서, 내부순환안내부(120)의 팬모듈(126)은 가스압축순환존(113) 내부의 공기의 압력이 일정치 이상일 경우에 작동하는 것으로 한다.Thus, the fan module 126 of the internal circulation guide unit 120 operates when the air pressure inside the gas compression circulation zone 113 is higher than a predetermined value.

또한, 제어부(160)가 가스압축순환존(113) 내부의 압력을 통한 필터(124)로 공기의 통과를 위한 팬모듈(126)의 작동, 가스공급부(140)의 공급 단속과 공급량 제어를 위한 작동 및 강제배기부(150)의 단속밸브(155)의 개폐와 배기 량 조절을 위한 작동을 상호 연동되도록 제어한다.In addition, the control unit 160 controls the operation of the fan module 126 for the passage of air to the filter 124 through the pressure inside the gas compression circulation zone 113, regulation of the supply of the gas supply unit 140, and control of the supply amount. The opening and closing of the shut-off valve 155 of the operation and forced exhaust unit 150 and the operation for adjusting the exhaust amount are controlled to interlock with each other.

한편, 팬모듈(126)이 작동되며, 가스워킹존(114)의 공기가 가스압축순환존(113)으로 유동되며 가스압축순환존(113)에서 필터(124)로 집중 이동되려는 공기의 유동에 간섭을 준다. 이로써, 가스압축순환존(113)의 공기가 원활하게 필터(124)를 통과하지 못할 수 있다.On the other hand, the fan module 126 is operated, the air in the gas working zone 114 flows to the gas compression circulation zone 113, and the flow of air to be concentrated from the gas compression circulation zone 113 to the filter 124 interfere As a result, air in the gas compression circulation zone 113 may not smoothly pass through the filter 124 .

이를 방지하기 위해, 프레임(122)은 필터(124)와 팬모듈(126)의 경계 위치를 따라 격벽(170)을 구비할 수 있다.To prevent this, the frame 122 may include a partition wall 170 along a boundary between the filter 124 and the fan module 126 .

그래서, 팬모듈(126)이 작동시, 가스워킹존(114)의 공기가 가스압축순환존(113)으로 유동된다. 해당 공기는 격벽(170)을 월류하여 필터(124) 측 가스압축순환존(113)으로 유동 후, 필터(124)를 통과하게 된다. So, when the fan module 126 operates, the air in the gas working zone 114 flows into the gas compression circulation zone 113. The air overflows the partition wall 170 and flows into the gas compression circulation zone 113 on the filter 124 side, and then passes through the filter 124 .

이때, 팬모듈(126)의 작동으로 가스압축순환존(113)으로 유입되는 공기의 유동은 격벽(170)에 의해 필터(124) 측 가스압축순환존(113)에 잔류하는 공기의 유동에 간섭을 최소화한다.At this time, the flow of air introduced into the gas compression circulation zone 113 by the operation of the fan module 126 interferes with the flow of air remaining in the gas compression circulation zone 113 on the filter 124 side by the partition wall 170. to minimize

이때, 격벽(170)은 높이 및 너비의 크기에 한정되지 않는다.At this time, the partition wall 170 is not limited to the size of the height and width.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but this is only exemplary, and those skilled in the art can make various modifications and equivalent other embodiments. will understand Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the claims below.

10; : 엘피엠(LPM) 20: 풉(FOUP)
100: 이에프이엠(EFEM) 110: 본체
113: 가스압축순환존 114: 가스워킹존
115: 웨이퍼이송모듈 120: 내부순환안내부
122: 프레임 124: 필터
126: 팬모듈 140: 가스공급부
150: 강제배기부 154: 배기라인
155: 단속밸브 160: 제어부
170: 격벽10; : LPM 20: FOUP
100: EFEM 110: main body
113: gas compression circulation zone 114: gas working zone
115: wafer transfer module 120: inner circulation guide
122: frame 124: filter
126: fan module 140: gas supply unit
150: forced exhaust unit 154: exhaust line
155: shutoff valve 160: control unit
170: bulkhead

Claims (4)

본체; 및 상기 본체의 내부를 가스압축순환존과 가스워킹존으로 구획한 채, 건조가스를 함유한 공기를 상기 본체 내부에서 상기 가스압축순환존에서 상기 가스워킹존으로 순환 유동 안내하는 내부순환안내부를 포함하고,
상기 내부순환안내부는, 상기 가스워킹존과 상기 가스압축순환존을 구획하는 설정 위치에 해당되는 상기 본체 내부 전체에 걸쳐 구비되는 틀 형상인 프레임;
상기 프레임의 일부분에 구비되고, 상기 가스압축순환존의 공기를 상기 가스워킹존으로 통과 허용하는 필터; 및
상기 프레임의 나머지 부분에 구비되고, 상기 가스워킹존 내부의 공기 압력이 설정치 이상이거나 또는 강제 구동되며 상기 가스워킹존의 공기를 상기 가스압축순환존으로 순환 이동 안내하는 팬모듈을 포함하며,
상기 프레임은 상기 필터를 구비한 영역과 상기 팬모듈을 구비한 영역의 경계 위치를 따라 격벽을 구비하여,
상기 팬모듈의 작동으로, 상기 가스워킹존의 건조가스를 포함한 공기가 상기 가스압축순환존으로 유동되는 영역과 상기 가스압축순환존의 건조가스를 포함한 공기가 상기 필터로 유동되는 영역 간의 유동 간섭이 저감되는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
main body; And an internal circulation guide unit for circulating and guiding air containing dry gas from the gas compression circulation zone to the gas working zone inside the main body while dividing the inside of the main body into a gas compression circulation zone and a gas working zone. do,
The internal circulation guide portion, a frame having a frame shape provided over the entire inside of the main body corresponding to a set position that partitions the gas working zone and the gas compression circulation zone;
a filter provided on a portion of the frame and allowing air in the gas compression circulation zone to pass through the gas working zone; and
It is provided in the remaining part of the frame, and the air pressure inside the gas working zone is higher than a set value or is forcibly driven and includes a fan module for circulating and guiding the air in the gas working zone to the gas compression circulation zone,
The frame is provided with a partition wall along a boundary between the region including the filter and the region including the fan module.
By the operation of the fan module, there is flow interference between the area where air containing dry gas of the gas working zone flows to the gas compression circulation zone and the area where air containing dry gas flows to the filter in the gas compression circulation zone. EFM, characterized in that reduced.
 제 1항에 있어서,
상기 가스워킹존 또는 상기 가스압축순환존에 대응되는 상기 본체 내부로 상기 건조가스를 공급하는 가스공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
According to claim 1,
and a gas supply unit supplying the dry gas into the main body corresponding to the gas working zone or the gas compression circulation zone.
 제 2항에 있어서,
상기 본체는 공기가 정체되는 상기 가스워킹존의 해당 영역에 대응되도록 강제배기부를 연결하여 상기 공기를 단속적으로 배기 조절 안내하는 것을 특징으로 하는 이에프이엠.
According to claim 2,
The EFM, characterized in that the main body connects a forced exhaust unit to correspond to the corresponding area of the gas working zone where air is stagnant and intermittently guides the exhaust control of the air.
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