KR102510354B1 - 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치 및 방법 - Google Patents

니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치 및 방법 Download PDF

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Abstract

본 개시는 피부 내에 삽입되는 니들 타입의 복수의 전극을 포함한 전극부; 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가하는 에너지 공급부; 복수의 전극이 피부 내의 목표 깊이에 도달되도록 전극부를 이동시키는 이송부; 및 복수의 전극이 목표 깊이에 도달된 경우, 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극에 제1 전류 및 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 에너지 공급부를 제어하는 제어부; 를 포함할 수 있다.

Description

니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR SUPPLYING CURRENT OF MONOPOLAR AND BIPOLAR BY SKIN DEPTH DURING NEEDLE INSERTION}
본 개시는 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치 및 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 개시는 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 주름 제거, 피부 탄력 회복 및 피지 제거 등을 위한 피부 관리 장치에는 초음파를 피부 조직에 전달하는 방식(HIFU type), 고주파를 피부 조직에 전달하는 방식(RF type), 레이저 광을 피부 조직에 조사하는 방식(Optical type) 등이 존재한다.
고주파를 피부 조직에 전달하는 방식의 장치는 수직 방향으로 왕복 이동하는 RF 니들 전극을 (일 예로, 안면)의 피부의 심부(일 예로, 진피층(Derma layer))에 반복적으로 침습시키고, 고주파에 의해 발생하는 열을 이용하여 타겟 지점의 피부의 심부에서 손상된 콜라겐, 탄력 섬유 등을 제거하고 새로운 형성을 촉진시킨다.
나아가 이러한 피부 관리 장치는 피부의 색소 침착과 여드름 자국 및 주름 등을 개선한다.
즉, 다양한 에너지를 피부 부위의 목표 부위에 가하여 고의적으로 상처를 유발시킨 후에, 진피층의 콜라겐을 자극하여 콜라겐의 재생 작용을 유도함으로써 피부 부위를 재생시킨다.
그런데, 종래 피부 관리 장치는, 피부의 특정 깊이에 풍부한 전기 에너지 또는 효율적인 전기 에너지를 전달할 수가 없었다.
따라서, 종래 피부 관리 장치는, 시술 진행 시, 풍부한 전기 에너지 또는 효율적인 전기 에너지를 정확하게 조사할 수 없어, 시술의 정확도가 떨어졌었다.
또한, 종래 피부 관리 장치는, 의사가 조심스럽게 시술을 해야하므로, 시술 시간을 단축시키는데 한계가 있었고, 시술 효과를 극대화하는데 한계가 있었다.
한국등록특허 KR 10-0985822(2010.10.08.공고)
본 개시에 개시된 실시예는 시술 진행 시, 풍부한 전기 에너지 또는 효율적인 전기 에너지를 정확하게 조사하여, 시술의 정확도를 높일 수 있는 것을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 개시에 개시된 실시예는 시술 시간을 단축시키고, 시술 효과를 극대화할 수 있는 것을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 개시에 개시된 실시예는 피부의 화상 발생을 미연에 방지하면서, 모노폴라 타입과 바이폴라 타입이 갖는 최적의 피부 개선 효과를 극대화할 수 있는 것을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 개시가 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 언급된 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 개시의 일 측면에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는, 피부 내에 삽입되는 니들 타입의 복수의 전극을 포함한 전극부; 상기 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가하는 에너지 공급부; 상기 복수의 전극이 상기 피부 내의 목표 깊이에 도달되도록 상기 전극부를 이동시키는 이송부; 및 상기 복수의 전극이 상기 목표 깊이에 도달된 경우, 상기 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 상기 에너지 공급부를 제어하는 제어부; 를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제어부는, 상기 목표 깊이가 기 설정된 제1 깊이이면, 상기 제1 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제1 전류, 상기 제2 전류 및 상기 제1 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 제어부는, 상기 제2 전류 및 상기 제1 전류의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간을 가지도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 제어부는, 상기 목표 부위가 기 설정된 제2 깊이이면, 상기 제2 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제2 전류, 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 제어부는, 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간을 가지도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 본 개시의 다른 측면에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치에 의해 수행되는 방법은, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치에 의해 수행되는 방법에 있어서, 상기 장치의 이송부를 통해, 복수의 전극이 피부 내의 목표 깊이에 도달되도록 상기 장치의 전극부를 이동시키는 단계; 상기 장치의 제어부를 통해, 상기 복수의 전극이 상기 목표 깊이에 도달된 것인지를 판단하는 단계; 및 상기 장치의 제어부를 통해, 상기 복수의 전극이 상기 목표 깊이에 도달된 경우, 상기 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 상기 장치의 에너지 공급부를 제어하는 단계; 를 포함할 수 있다.
또한, 상기 에너지 공급부를 제어하는 단계는, 상기 목표 깊이가 기 설정된 제1 깊이이면, 상기 제1 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제1 전류, 상기 제2 전류 및 상기 제1 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 에너지 공급부를 제어하는 단계는, 상기 제2 전류 및 상기 제1 전류의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간을 가지도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 에너지 공급부를 제어하는 단계는, 상기 목표 부위가 기 설정된 제2 깊이이면, 상기 제2 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제2 전류, 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 에너지 공급부를 제어하는 단계는, 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간을 가지도록 제어하는 것을 특징으로 할 수 있다.
본 개시의 전술한 과제 해결 수단에 의하면, 시술 진행시, 풍부한 전기 에너지 또는 효율적인 전기 에너지를 정확하게 조사하여, 시술의 정확도를 높일 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 본 개시의 전술한 과제 해결 수단에 의하면, 시술 시간을 단축시키고, 시술 효과를 극대화할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 본 개시의 전술한 과제 해결 수단에 의하면, 피부의 화상 발생을 미연에 방지하면서, 모노폴라 타입과 바이폴라 타입이 갖는 최적의 피부 상태를 개선시킬 수 있는 효과를 제공한다.
본 개시의 효과들은 이상에서 언급된 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치의 구성을 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1의 니들 타입의 복수의 전극이 피부의 내부에 침습하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1의 전극부에 배치된 니들 타입의 복수의 전극 구조를 나타낸 도면이다.
도 4는 도 3의 니들 타입의 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류를 인가하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 5는 도 3의 니들 타입의 복수의 전극에 바이폴라 타입의 제2 전류를 인가하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 6은 도 1의 메모리에 목표 깊이 데이터와 전류 세기 데이터를 저장하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 7은 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 방법을 나타낸 순서도이다.
도 8 및 도 9는 도 2의 복수의 전극이 진피층 내의 목표 깊이에 도달되기까지의 모노폴라 타입의 제1 전류 세기와 바이폴라 타입의 제2 전류 세기를 비교하여 나타낸 도면이다
도 10 내지 도 13은 도 7의 제어 단계에서 복수의 전극에 제1 전류, 제2 전류 및 제1 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 14 내지 도 17은 도 7의 제어 단계에서 복수의 전극에 제2 전류, 제1 전류 및 제2 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
본 개시 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다. 본 개시가 실시예들의 모든 요소들을 설명하는 것은 아니며, 본 개시가 속하는 기술분야에서 일반적인 내용 또는 실시예들 간에 중복되는 내용은 생략한다. 명세서에서 사용되는‘부, 모듈, 부재, 블록’이라는 용어는 소프트웨어 또는 하드웨어로 구현될 수 있으며, 실시예들에 따라 복수의 '부, 모듈, 부재, 블록'이 하나의 구성요소로 구현되거나, 하나의 '부, 모듈, 부재, 블록'이 복수의 구성요소들을 포함하는 것도 가능하다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 직접적으로 연결되어 있는 경우 뿐 아니라, 간접적으로 연결되어 있는 경우를 포함하고, 간접적인 연결은 무선 통신망을 통해 연결되는 것을 포함한다.
또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
제1, 제2 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 전술된 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 예외가 있지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.
각 단계들에 있어 식별부호는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 실시될 수 있다.
이하 첨부된 도면들을 참고하여 본 개시의 작용 원리 및 실시예들에 대해 설명한다.
본 개시의 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는 미세바늘을 통해 피부면 아래의 전자기적으로 통전되는 목표 부위의 온도를 조직 가열이 되는 수준까지 상승시키는데 사용된다.
본 명세서에서 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치의 제어부는 연산처리를 수행하여 사용자에게 결과를 제공할 수 있는 다양한 장치들이 모두 포함된다. 예를 들어, 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치의 제어부는, 컴퓨터, 서버 장치 및 휴대용 단말기를 모두 포함하거나, 또는 어느 하나의 형태가 될 수 있다.
여기에서, 컴퓨터는 예를 들어, 웹 브라우저(WEB Browser)가 탑재된 노트북, 데스크톱(desktop), 랩톱(laptop), 태블릿 PC, 슬레이트 PC 등을 포함할 수 있다.
서버 장치는 외부 장치와 통신을 수행하여 정보를 처리하는 서버로써, 애플리케이션 서버, 컴퓨팅 서버, 데이터베이스 서버, 파일 서버, 메일 서버, 프록시 서버 및 웹 서버 등을 포함할 수 있다.
휴대용 단말기는 예를 들어, 휴대성과 이동성이 보장되는 무선 통신 장치로서, PCS(Personal Communication System), GSM(Global System for Mobile communications), PDC(Personal Digital Cellular), PHS(Personal Handyphone System), PDA(Personal Digital Assistant), IMT(International Mobile Telecommunication)-2000, CDMA(Code Division Multiple Access)-2000, W-CDMA(W-Code Division Multiple Access), WiBro(Wireless Broadband Internet) 단말, 스마트 폰(Smart Phone) 등과 같은 모든 종류의 핸드헬드(Handheld) 기반의 무선 통신 장치와 시계, 반지, 팔찌, 발찌, 목걸이, 안경, 콘택트 렌즈, 또는 머리 착용형 장치(head-mounted-device(HMD) 등과 같은 웨어러블 장치를 포함할 수 있다.
본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는, 피부 내에 삽입되는 니들 타입의 복수의 전극이 목표 깊이에 도달된 경우, 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가하는 에너지 공급부를 제어할 수 있다. 이때, 제1 전류 및 제2 전류는, 목표 깊이가 깊어질수록 각각 세기가 커지되, 그 세기가 서로 다를 수 있다.
이러한, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는, 시술 진행시, 풍부한 전기 에너지 또는 효율적인 전기 에너지를 정확하게 조사하여, 시술의 정확도를 높일 수 있다. 또한, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는, 시술 시간을 단축시키고, 시술 효과를 극대화할 수 있다. 또한, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치는, 피부의 화상 발생을 미연에 방지하면서, 모노폴라 타입과 바이폴라 타입이 갖는 최적의 피부 상태를 개선시킬 수 있다.
이하에서는, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치를 자세하게 살펴보기로 한다.
도 1은 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치의 구성을 나타낸 도면이다. 도 2는 도 1의 이송부의 이동에 의해, 전극부의 니들 타입의 복수의 전극이 피부의 내부에 침습하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 3은 도 1의 전극부에 배치된 니들 타입의 복수의 전극 구조를 나타낸 도면이다. 도 4는 도 3의 니들 타입의 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류를 인가하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다. 도 5는 도 3의 니들 타입의 복수의 전극에 바이폴라 타입의 제2 전류를 인가하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 1 내지 도 5를 참조하면, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치(100)는 입력부(110), 전극부(120), 에너지 공급부(130), 이송부(140), 제어부(150)를 포함할 수 있다.
입력부(110)는 사용자로부터 피부 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보를 입력받기 위한 것으로서, 피부 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보가 입력되면, 제어부(150)는 입력된 피부 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보에 대응되도록 본 장치의 동작을 제어할 수 있다. 여기에서, 피부 내의 목표 깊이 정보는 진피층 내에서의 목표 깊이값일 수 있고, 시술 조건 정보는 주름을 제거하기 위한 시술 조건, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 시술 조건, 피지를 제거하기 위한 시술 조건 등일 수 있다.
이러한, 입력부(110)는 하드웨어식 물리 키(예를 들어, 본 장치의 전면, 후면 및 측면 중 적어도 하나에 위치하는 버튼, 돔 스위치 (dome switch), 조그 휠, 조그 스위치 등) 및 소프트웨어식 터치 키를 포함할 수 있다. 일 예로서, 터치 키는, 소프트웨어적인 처리를 통해 터치스크린 타입의 디스플레이부 상에 표시되는 가상 키(virtual key), 소프트 키(soft key) 또는 비주얼 키(visual key)로 이루어지거나, 터치스크린 이외의 부분에 배치되는 터치 키(touch key)로 이루어질 수 있다. 한편, 가상키 또는 비주얼 키는, 다양한 형태를 가지면서 터치스크린 상에 표시되는 것이 가능하며, 예를 들어, 그래픽(graphic), 텍스트(text), 아이콘(icon), 비디오(video) 또는 이들의 조합으로 이루어질 수 있다.
전극부(120)는 피부(S) 내에 삽입되는 니들 타입의 복수의 전극(121)을 포함할 수 있다. 니들 타입의 복수의 전극(121)은 피부(S)의 심부(일 예로, 진피층(Derma layer))에 침습하고, 고주파에 의해 발생하는 열을 이용하여 목표 지점의 심부에서 손상된 콜라겐, 탄력 섬유 등을 제거하고 새로운 형성을 촉진시킨다.
도 3에 도시된 바와 같이, 전극부(120)에 니들 타입의 복수의 전극(121) 중 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 복수의 전극(121b)이 복수개의 그룹 형태로 다수 배치될 수 있고, (-) 극성의 복수의 전극(121b)과 (+) 극성의 복수의 전극(121a)이 복수개의 그룹 형태로 다수 배치될 수 있다. 예를 들어, 전극부(120)의 홀수열에는 복수개의 그룹 형태인 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 복수의 전극(121b)이 반복적으로 배치될 수 있고, 전극부(120)의 짝수열에는 복수개의 그룹 형태인 (-) 극성의 복수의 전극(121b)과 (+) 극성의 복수의 전극(121a)이 반복적으로 배치될 수 있다.
에너지 공급부(130)는 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가할 수 있다. 여기에서, 에너지 공급부(130)는 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가하기 위한 스위칭 회로를 포함할 수 있다.
이때, 도 4에 도시된 바와 같이 에너지 공급부(130)는 복수의 전극(121) 중 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 리턴 패드(122)에 모노폴라 타입의 제1 전류를 인가할 수 있다. 피부(S)에 고주파 전류가 흐르기 위해서는 전류 회로가 형성되어야 한다. 에너지 공급부(130)가 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 리턴 패드(122)에 모노폴라 타입의 제1 전류를 인가하면, (+) 극성의 복수의 전극(121a)에 고주파 에너지가 집중되어 바이폴라 타입보다 깊은 열전달이 가능하여, 풍부한 심부열을 발생시킬 수 있다. 여기에서, 리턴 패드(122)는 접지를 위한 패드일 수 있다.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이 에너지 공급부(130)는 복수의 전극(121) 중 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 복수의 전극(121b)에 바이폴라 타입의 제2 전류를 인가할 수 있다. 에너지 공급부(130)가 (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 복수의 전극(121b)에 바이폴라 타입의 제2 전류를 인가하면, (+) 극성의 복수의 전극(121a)과 (-) 극성의 복수의 전극(121b)간에 전류 회로가 형성되므로, 과도한 열전달을 방지할 수 있어, 선택된 시술 부위를 집중시킬 수 있다.
이송부(140)는 복수의 전극(121)이 피부 내의 목표 깊이에 도달되도록 전극부(120)를 이동시킬 수 있다. 이송부(140)는 전극부를 수직 방향으로 이동시킬 수 있다.
제어부(150)는 본 장치 내의 구성요소들의 동작을 제어하기 위한 알고리즘 또는 알고리즘을 재현한 프로그램에 대한 데이터를 저장하는 메모리(151), 및 메모리(151)에 저장된 데이터를 이용하여 전술한 동작을 수행하는 적어도 하나의 프로세서(152)로 구현될 수 있다. 여기에서, 메모리(151)와 프로세서(152)는 각각 별개의 칩으로 구현될 수 있다. 또한, 메모리(151)와 프로세서(152)는 단일 칩으로 구현될 수도 있다.
메모리(151)는 본 장치의 다양한 기능을 지원하는 데이터와, 제어부의 동작을 위한 프로그램을 저장할 수 있고, 입/출력되는 데이터들을 저장할 있고, 본 장치에서 구동되는 다수의 응용 프로그램(application program 또는 애플리케이션(application)), 본 장치의 동작을 위한 데이터들, 명령어들을 저장할 수 있다. 이러한 응용 프로그램 중 적어도 일부는, 무선 통신을 통해 외부 서버로부터 다운로드 될 수 있다.
이러한, 메모리(151)는 플래시 메모리 타입(flash memory type), 하드디스크 타입(hard disk type), SSD 타입(Solid State Disk type), SDD 타입(Silicon Disk Drive type), 멀티미디어 카드 마이크로 타입(multimedia card micro type), 카드 타입의 메모리(예를 들어 SD 또는 XD 메모리 등), 램(random access memory; RAM), SRAM(static random access memory), 롬(read-only memory; ROM), EEPROM(electrically erasable programmable read-only memory), PROM(programmable read-only memory), 자기 메모리, 자기 디스크 및 광디스크 중 적어도 하나의 타입의 저장매체를 포함할 수 있다. 또한, 메모리(151)는 본 장치와는 분리되어 있으나, 유선 또는 무선으로 연결된 데이터베이스가 될 수도 있다.
메모리(151)는 피부층에 대한 깊이 정보, 피부층의 깊이 각각에 기 설정된 시술 조건을 각각 매핑(Mapping)한 매핑 정보를 저장할 수 있다.
도 6은 도 1의 메모리에 목표 깊이 데이터와 전류 세기 데이터를 저장하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 6을 참조하면, 제어부(150)와 전기적으로 연결된 서버(200)는 메타데이터인 피부층의 깊이 데이터(ID1), 시술 조건 데이터(ID2)의 입력값을 시술 추천 모델(M)을 기반으로 학습하여 추천된 니들 타입의 복수의 전극(121)의 목표 깊이 데이터(OD1)와 전류 세기 데이터(OD2)의 결과값을 출력할 수 있다.
시술 추천 모델(M)은 입력 데이터에 포함된 피부층의 깊이 데이터(ID1), 시술 조건 데이터(ID2)를 상관 관계를 통해 학습하도록 구축될 수 있다. 시술 추천 모델(M)은 피부층의 깊이, 시술 조건을 CNN 알고리즘 또는 RNN 알고리즘을 이용하여 학습데이터 셋으로 구축 및 강화 학습시킬 수 있다.
서버(200)는 입력부(110)를 통해 입력된 피부 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보를 기반으로 판단한 복수의 전극(121)의 목표 깊이 데이터(OD1)와 전류 세기 데이터(OD2)를 제어부(150)의 메모리(151)에 전송할 수 있다. 메모리(151)는 수신된 복수의 전극(121)의 목표 깊이 데이터(OD1)와 전류 세기 데이터(OD2)를 저장할 수 있다.
여기에서, 피부층의 깊이 데이터(ID1)는 진피층 내에서의 깊이값일 수 있고, 시술 조건 데이터(ID2)는 시술 조건에 대한 각각의 데이터로, 예를 들어, 주름을 제거하기 위한 데이터일 수 있고, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 데이터일 수 있으며, 피지를 제거하기 위한 데이터 등일 수 있다.
프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 피부층의 목표 깊이에 도달된 경우, 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 이때, 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류는, 목표 깊이가 깊어질수록 각각 세기가 커지되, 그 세기가 서로 다를 수 있다. 예를 들어, 목표 깊이가 깊어질수록, 모노폴라 타입의 제1 전류 세기가 바이폴라 타입의 제2 전류 세기보다 크거나 작을 수 있다.
프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 피부층의 목표 깊이에 도달된 경우, 매핑 정보를 기반으로 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 프로세서(152)는 메모리(151)에 저장된 복수의 전극(121)의 목표 깊이 데이터(OD1)와 전류 세기 데이터(OD2)를 기반으로, 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기를 조절할 수 있다. 복수의 전극(121)은 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 조절된 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기로 인가할 수 있다.
한편, 프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 피부층의 삽입 깊이별로 진행될 때 마다, 삽입 깊이별로 삽입되는 복수의 전극(121)을 모니터링하도록 표시 장치를 제어할 수 있다.
또한, 프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 피부층의 삽입 깊이별로 진행될 때 마다, 삽입 깊이별로 각각의 전류에 대한 임피던스를 측정하고, 측정된 임피던스를 기반으로 삽입 깊이별 에너지를 조절하여 보정할 수 있다.
도 7은 본 개시에 따른 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 방법을 나타낸 순서도이다.
도 7을 참조하면, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 방법은, 입력 단계(S710), 이동 단계(S720), 판단 단계(S730), 제어 단계(S740)를 포함할 수 있다.
입력 단계는, 입력부(110)를 통해 사용자로부터 피부 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보를 입력받을 수 있다(S710). 여기에서, 피부 내의 목표 깊이 정보는 진피층 내에서의 목표 깊이값일 수 있고, 시술 조건 정보는 주름을 제거하기 위한 시술 조건, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 시술 조건, 피지를 제거하기 위한 시술 조건 등일 수 있다.
이동 단계는, 이송부(140)를 통해, 복수의 전극(121)이 피부(S) 내의 목표 깊이에 도달되도록 전극부(120)를 이동시킬 수 있다(S720). 프로세서(152)는 입력부(110)를 통해 입력된 피부(S) 내의 목표 깊이 정보와 시술 조건 정보를 기반으로 복수의 전극(121)이 피부(S) 내의 목표 깊이에 도달되도록 전극부(120)를 이동시키는 이송부(140)를 제어할 수 있다. 복수의 전극(121)은 주름을 제거하기 위한 시술 조건, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 시술 조건, 피지를 제거하기 위한 시술 조건 중 해당 조건에 대응하는 진피층 내에서의 각각의 목표 깊이까지 침습할 수 있다.
판단 단계는, 프로세서(152)를 통해, 복수의 전극(121)이 목표 깊이에 도달된 것인지를 판단할 수 있다(S730). 예를 들어, 프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 주름을 제거하기 위한 시술 조건, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 시술 조건, 피지를 제거하기 위한 시술 조건 중 해당 조건에 대응하는 진피층 내에서의 각각의 목표 깊이에 도달된 것인지를 판단할 수 있다.
제어 단계는, 프로세서(152)를 통해, 복수의 전극(121)이 목표 깊이에 도달된 경우, 도달된 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다(S740). 에너지 공급부(130)는 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가할 수 있다.
여기에서, 프로세서(152)는 복수의 전극(121)이 목표 깊이에 도달된 경우, 매핑 정보를 기반으로 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 프로세서(152)는 메모리(151)에 저장된 복수의 전극(121)의 목표 깊이 데이터(OD1)와 전류 세기 데이터(OD2)를 기반으로, 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기를 조절할 수 있다. 복수의 전극(121)은 목표 깊이에 해당 시술 조건에 상응하는 조절된 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기로 인가할 수 있다. 이때, 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류는, 목표 깊이가 깊어질수록 각각 세기가 커지되, 그 세기가 서로 다를 수 있다. 예를 들어, 목표 깊이가 깊어질수록, 모노폴라 타입의 제1 전류 세기가 바이폴라 타입의 제2 전류 세기보다 클 수 있다. 다른 예를 들어, 목표 깊이가 깊어질수록, 바이폴라 타입의 제2 전류 세기가 모노폴라 타입의 제1 전류 세기보다 클 수 있다.
도 8 및 도 9는 도 2의 복수의 전극이 진피층 내의 목표 깊이에 도달되기까지의 모노폴라 타입의 제1 전류 세기와 바이폴라 타입의 제2 전류 세기를 비교하여 나타낸 도면이다.
도 8에 도시된 바와 같이, 복수의 전극(121)이 진피층(S1) 내의 목표 깊이(H1 내지 TH)에 도달하는 전체 시간(t) 중 제1 시간 내지 제5 시간(t1 내지 t5) 동안, 모노폴라 타입의 제1 전류 세기(C1-1 내지 C1-5)는 바이폴라 타입의 제2 전류 세기(C2-1 내지 C2-5)보다 클 수 있다. 또한, 도 9에 도시된 바와 같이, 복수의 전극(121)이 진피층(S1) 내의 목표 깊이(H1 내지 TH)에 도달하는 전체 시간(t) 중 제1 시간 내지 제5 시간(t1 내지 t5) 동안, 바이폴라 타입의 제2 전류 세기(C2-1 내지 C2-5)는 모노폴라 타입의 제1 전류 세기(C1-1 내지 C1-5)보다 클 수 있다.
도 10 내지 도 13은 도 7의 제어 단계에서 복수의 전극에 제1 전류, 제2 전류 및 제1 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 10 내지 도 12를 참조하면, 제어 단계는 프로세서(152)를 통해 목표 깊이가 기 설정된 제1 깊이(TH1)인지를 판단할 수 있다(S741). 제어 단계는 프로세서(152)를 통해 진피층(S1) 내의 목표 깊이가 기 설정된 제1 깊이(TH1)이면, 제1 깊이(TH1)에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류(C1), 바이폴라 타입의 제2 전류(C2) 및 모노폴라 타입의 제1 전류(C1)가 순차적으로 인가되도록 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 이때, S2는 각질층일 수 있고, S3는 표피층일 수 있으며, S4는 피하조직층일 수 있다.
여기에서, 도 12에 도시된 바와 같이, 복수의 전극(121)이 진피층(S1) 내에 침습하여 목표 깊이인 제1 깊이(TH1)에 도달될 때까지, 프로세서(152)는 제1 깊이(TH1)에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 모노폴라 타입의 제1 전류(C1), 바이폴라 타입의 제2 전류(C2) 및 모노폴라 타입의 제1 전류(C1)가 순차적으로 인가되도록 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 이때, 도 13에 도시된 바와 같이 프로세서(152)는 바이폴라 타입의 제2 전류(C2), 모노폴라 타입의 제1 전류(C1)의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간(RA1)을 가지도록 제어할 수 있다. 휴지 구간(RA1)은 기 설정된 시간 동안 바이폴라 타입의 제2 전류(C2)를 인가하지 않는 구간으로, 본 개시는 휴지 구간(RA1)을 갖음으로써 피부의 화상 발생을 미연에 방지하면서, 바이폴라 타입과 모노폴라 타입이 갖는 최적의 피부 개선 효과를 극대화할 수 있다.
도 14 내지 도 17은 도 7의 제어 단계에서 복수의 전극에 제2 전류, 제1 전류 및 제2 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하는 과정을 일 예로 나타낸 도면이다.
도 14 내지 도 16을 참조하면, 제어 단계는 프로세서(152)를 통해 목표 깊이가 기 설정된 제2 깊이(TH2)인지를 판단할 수 있다(S743). 제어 단계는 프로세서(152)를 통해 진피층(S1) 내의 목표 깊이가 기 설정된 제2 깊이(TH2)이면, 제2 깊이(TH2)에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 바이폴라 타입의 제2 전류(C2), 모노폴라 타입의 제1 전류(C1) 및 바이폴라 타입의 제2 전류(C2)가 순차적으로 인가되도록 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 이때, S2는 각질층일 수 있고, S3는 표피층일 수 있으며, S4는 피하조직층일 수 있다.
여기에서, 도 16에 도시된 바와 같이, 복수의 전극(121)이 진피층(S1) 내에 침습하여 목표 깊이인 제2 깊이(TH2)에 도달될 때까지, 프로세서(152)는 제2 깊이(TH2)에 대응하는 전류 세기로 복수의 전극(121)에 바이폴라 타입의 제2 전류(C2), 모노폴라 타입의 제1 전류(C1) 및 바이폴라 타입의 제2 전류(C2)가 순차적으로 인가되도록 에너지 공급부(130)를 제어할 수 있다. 이때, 도 17에 도시된 바와 같이 프로세서(152)는 모노폴라 타입의 제1 전류(C1), 바이폴라 타입의 제2 전류(C2)의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간(RA2)을 가지도록 제어할 수 있다. 휴지 구간(RA2)은 기 설정된 시간 동안 모노폴라 타입의 제1 전류(C1)를 인가하지 않는 구간으로, 본 개시는 휴지 구간(RA2)을 갖음으로써 피부의 화상 발생을 미연에 방지하면서, 모노폴라 타입과 바이폴라 타입이 갖는 최적의 피부 개선 효과를 극대화할 수 있다.
도 1 내지 도 6에 도시된 구성 요소들의 성능에 대응하여 적어도 하나의 구성요소가 추가되거나 삭제될 수 있다. 또한, 구성 요소들의 상호 위치는 시스템의 성능 또는 구조에 대응하여 변경될 수 있다는 것은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 용이하게 이해될 것이다.
도 7, 도 10, 도 14는 복수의 단계를 순차적으로 실행하는 것으로 기재하고 있으나, 이는 본 실시예의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 실시예가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 도 7, 도 10, 도 14에 기재된 순서를 변경하여 실행하거나 복수의 단계 중 하나 이상의 단계를 병렬적으로 실행하는 것으로 다양하게 수정 및 변형하여 적용 가능할 것이므로, 도 7, 도 10, 도 14는 시계열적인 순서로 한정되는 것은 아니다.
이상에서와 같이 첨부된 도면을 참조하여 개시된 실시예들을 설명하였다. 본 개시가 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 개시의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고도, 개시된 실시예들과 다른 형태로 본 개시가 실시될 수 있음을 이해할 것이다. 개시 된 실시예들은 예시적인 것이며, 한정적으로 해석되어서는 안 된다.
100: 장치 110: 입력부
120: 전극부 130: 에너지 공급부
140: 이송부 150: 제어부

Claims (10)

  1. 피부 내에 삽입되는 니들 타입의 복수의 전극을 포함한 전극부;
    상기 복수의 전극에 모노폴라 타입의 제1 전류 및 바이폴라 타입의 제2 전류를 선택적으로 인가하는 에너지 공급부;
    상기 복수의 전극이 상기 피부 중 진피층 내의 목표 깊이에 도달되도록 상기 전극부를 이동시키는 이송부; 및
    상기 복수의 전극이 상기 진피층 내의 목표 깊이에 도달된 경우, 상기 도달된 진피층 내의 목표 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 제1 전류 및 상기 제2 전류가 교번적으로 인가되도록, 상기 에너지 공급부를 제어하는 제어부; 를 포함하고,
    상기 제어부는,
    상기 진피층 내의 목표 깊이가 기 설정된 제1 깊이이면, 상기 제1 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 모노폴라 타입의 제1 전류, 상기 바이폴라 타입의 제2 전류 및 상기 모노폴라 타입의 제1 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하고,
    상기 진피층 내의 목표 부위가 기 설정된 제2 깊이이면, 상기 제2 깊이에 대응하는 전류 세기로 상기 복수의 전극에 상기 바이폴라 타입의 제2 전류, 상기 모노폴라 타입의 제1 전류 및 상기 바이폴라 타입의 제2 전류가 순차적으로 인가되도록 제어하고,
    상기 제어부는, 메모리와 프로세서를 포함하며,
    상기 프로세서는,
    상기 메모리에 저장된 복수의 전극의 목표 깊이 데이터와 전류 세기 데이터를 기반으로, 상기 진피층 내의 목표 깊이에 주름을 제거하기 위한 시술 조건, 피부의 탄력을 회복시키기 위한 시술 조건, 피지를 제거하기 위한 시술 조건 중 해당 시술 조건에 상응하는 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기를 조절하되,
    상기 복수의 전극은,
    상기 진피층 내의 목표 깊이에 상기 해당 시술 조건에 상응하는 조절된 모노폴라 타입의 제1 전류 세기 및 바이폴라 타입의 제2 전류 세기로 인가하고,
    상기 모노폴라 타입의 제1 전류 및 상기 바이폴라 타입의 제2전류는,
    상기 진피층 내의 목표 깊이가 깊어질수록, 상기 모노폴라 타입의 제1 전류 세기가 상기 바이폴라 타입의 제2 전류 세기보다 크거나, 상기 바이폴라 타입의 제2 전류 세기가 상기 모노폴라 타입의 제1 전류 세기보다 큰 것을 특징으로 하는, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 제1 전류 및 상기 제2 전류의 인가 시점의 사이에 기 설정된 휴지 구간을 가지도록 제어하는 것을 특징으로 하는, 니들 삽입 시 피부 깊이 별 모노폴라 및 바이폴라 전류 인가 장치.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
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