KR102492005B1 - An additive comprising compound having Si-O bond and a composition for preparing silicon polymer comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 Si-O 결합을 갖는 화합물을 포함하는 첨가제 및 이를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물에 대한 것이다.The present invention relates to an additive including a compound having a Si-O bond and a composition for synthesizing a silicone polymer including the same.

Description

Si-O 결합을 갖는 화합물을 포함하는 첨가제 및 이를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물{An additive comprising compound having Si-O bond and a composition for preparing silicon polymer comprising the same}An additive comprising compound having Si-O bond and a composition for preparing silicon polymer comprising the same}

본 발명은 Si-O 결합을 갖는 화합물을 포함하는 첨가제 및 이를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물에 대한 것이다.The present invention relates to an additive including a compound having a Si-O bond and a composition for synthesizing a silicone polymer including the additive.

산 조건 하에서 실리콘 화합물에 Si-N 결합이 존재하는 경우,Si-N 결합의 안정성은 매우 낮다. 그 이유는 산이 촉매 작용을 하여 Si-N 결합을 깨기 때문이다. 당연히 pH가 낮아지면 낮아질수록 Si-N의 안정성은 더더욱 낮아지며 pH 가 0에 가까울수록 안정성이 0에 가까워진다.이에산 조건 하에서 실리콘 polymer나 monomer을 합성하는 경우,실리콘 화합물 내 Si-N 결합이 너무 쉽게 깨져 실리콘 화합물의 수율이 현저히 낮아지는 문제가 발생하였으며,또한 side-product의 생성으로 인해 타겟 화합물의 정제가 매우 까다로워지는 단점이발생하였다.When a Si-N bond exists in a silicon compound under acid conditions, the stability of the Si-N bond is very low. The reason is that the acid catalyzes breaking the Si-N bond. Naturally, the lower the pH, the lower the stability of Si-N, and the closer the pH is to 0, the closer the stability becomes to 0. Therefore, when synthesizing a silicone polymer or monomer under acidic conditions, the Si-N bond in the silicone compound is too It is easily broken, resulting in a significantly lower yield of the silicon compound, and also a disadvantage in that the purification of the target compound is very difficult due to the generation of side-products.

Si-O를 포함하는 구조는 실리콘 오일에 일반적으로 포함되는 구조에 해당하나,종래의 실리콘 오일은 대한민국 공개공보 제10-2014-0062696호 등과 같이 화장품의 제형 조절을 위한 첨가제 등으로 이용되어 왔을 뿐, 더 나아가 갓 태어난 아이나 어린이 용품, 현재 많은 투자를 하고 있는 로봇 스킨, 친환경 적인 biodegradable 약품, 등 다양한 분야에서 매우 중요한 역할을 하고 있다. 이런한 중요한 구실에도 불구하고 현재 실리콘 중합체 또는 폴리머 합성시에 특정 결합 구조를 안정시키기 위한 첨가제 및 특정 결합구조를 갖는 단량체의 보호를 위한 첨가제로의 용도는 아직 활발하게 진행하는 연구가 없으며 필요성은 크나 현실에서 해결해야 될 많은 연구 부분들이 남아있다. A structure containing Si-O corresponds to a structure generally included in silicone oil, but conventional silicone oil has been used as an additive for adjusting the formulation of cosmetics, such as Korean Publication No. 10-2014-0062696. , Furthermore, it plays a very important role in various fields such as newborn children and children's products, robot skins that are currently heavily invested, and eco-friendly biodegradable drugs. Despite such an important role, currently there is no active research on the use of silicone polymers or additives for stabilizing specific bonding structures during polymer synthesis and additives for protecting monomers having specific bonding structures, and there is a great need. There are still many research areas to be solved in reality.

이에 본 출원인은,상술한 문제를 해결하기 위해 본 발명을 고안하였다.Accordingly, the present applicant has devised the present invention to solve the above problems.

대한민국 공개공보 제10-2014-0062696호Republic of Korea Publication No. 10-2014-0062696

본 발명은 질소-규소 결합을 갖는 실리콘 폴리머의 합성 시,상기 질소-규소 결합의 안정성을 현저히 개선하기 위한 첨가제 및 이를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an additive for remarkably improving the stability of the nitrogen-silicon bond when synthesizing a silicone polymer having a nitrogen-silicon bond, and a composition for synthesizing a silicone polymer including the same.

본 발명은 하기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물 중 1종 이상을 포함하는 첨가제 및 이를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물을 제공한다.The present invention provides an additive containing at least one of the compounds represented by Formulas 1 and 2 below, and a composition for synthesizing a silicone polymer including the same.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020133851063-pat00001
Figure 112020133851063-pat00001

(상기 화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로,알킬기;시클로알킬기; 알콕시기; 알킬케톤기; 알킬아민기; 알킬하이드록사이드기; 알킬에터기; 알킬설페이트기; 알킬포스페이트기; 알킬아마이드기 또는알킬설파이드기이고,(In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group; a cycloalkyl group; an alkoxy group; an alkyl ketone group; an alkylamine group; an alkyl hydroxide group; an alkyl ether group; an alkyl sulfate group; an alkyl phosphate group ; An alkylamide group or an alkyl sulfide group,

X1 및 X2는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기;아민기;또는 알콕시기 이고,X 1 and X 2 are, each independently, a halogen atom; hydrogen atom; A hydroxyl group; an amine group; or an alkoxy group,

Y1내지Y4는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.)Y 1 to Y 4 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.)

[화학식 2] [Formula 2]

Figure 112020133851063-pat00002
Figure 112020133851063-pat00002

(상기 화학식 2에서,(In Formula 2 above,

R3및 R4는,각각 독립적으로,알킬렌기이고,R 3 and R 4 are, each independently, an alkylene group,

R5 및 R6는, 각각 독립적으로, 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알킬카복시기; 알킬케톤기; 알킬아민기; 알킬하이드록사이드기; 알킬에터기; 알킬설페이트기; 알킬포스페이트기; 알킬아마이드기 또는 알킬설파이드이고,R 5 and R 6 are each independently an alkyl group; cycloalkyl group; alkoxy group; Alkyl carboxy group; Alkyl ketone group; Alkylamine group; Alkyl hydroxide group; Alkyl ether group; Alkyl sulfate group; Alkyl phosphate group; an alkylamide group or an alkyl sulfide;

X3및 X4는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기X 3 and X 4 are, each independently, a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; alkoxy group or amine group

Y5내지Y8은, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.)Y 5 to Y 8 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.)

또한 본 발명은 상술한 첨가제; 및 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 실리콘 중합체 합성용 조성물.In addition, the present invention is the above-mentioned additive; and a monomer having a nitrogen-silicon bond in its molecular structure. A composition for synthesizing a silicone polymer having a nitrogen-silicon bond in its molecular structure.

본 발명은 산 조건에서의 결합유지가 어려운 질소-규소 결합(Si-N)을 효과적으로 보호 가능한 첨가제를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an additive capable of effectively protecting nitrogen-silicon bonds (Si-N), which are difficult to maintain in acid conditions.

또한,본 발명은 상기 첨가제를 제공함으로써 산 조건하에서 합성의 기초가 되는 질소-규소 결합을 갖는 단량체를 효과적으로 보호 가능하고, 합성 후 합성된 폴리머 및 단량체(monomer) 구조 또한 보호 가능한 효과를 제공 가능하다.In addition, the present invention can effectively protect the monomer having a nitrogen-silicon bond, which is the basis of synthesis, under acid conditions by providing the additive, and can also provide an effect that can protect the polymer and monomer structure synthesized after synthesis. .

또한, 본 발명의 첨가제를 포함하는 실리콘 중합체 합성용 조성물은 산 조건하에서 합성 대상이 되는 단량체 내 질소-규소결합을 보호하여, 합성하고자 하는 타겟 중합체를 현저히 개선된 수율로 합성가능한 효과를 제공 가능하다. In addition, the composition for synthesizing silicone polymers containing the additives of the present invention protects the nitrogen-silicon bonds in the monomers to be synthesized under acidic conditions, thereby providing an effect capable of synthesizing the target polymer to be synthesized with significantly improved yield. .

본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. In describing the embodiments disclosed in this specification, if it is determined that detailed descriptions of related known technologies may obscure the gist of the embodiments disclosed in this specification, the detailed descriptions thereof will be omitted. In addition, the accompanying drawings are only for easy understanding of the embodiments disclosed in this specification, the technical idea disclosed in this specification is not limited by the accompanying drawings, and all changes included in the spirit and technical scope of the present invention , it should be understood to include equivalents or substitutes.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 발명에서, "포함한다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.In the present invention, the term "comprises" or "has" is intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof is not precluded.

본 발명은 하기 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물 중 1종 이상을 포함하는,첨가제를 제공한다.The present invention provides an additive containing at least one of the compounds represented by Formula 1 and Formula 2 below.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020133851063-pat00003
Figure 112020133851063-pat00003

상기 화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알킬카복시기; 알킬케톤기; 알킬아민기; 알킬하이드록사이드기; 알킬에터기; 알킬설페이트기; 알킬포스페이트기; 알킬아마이드기 또는 알킬설파이드기이고,In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group; cycloalkyl group; alkoxy group; Alkyl carboxy group; Alkyl ketone group; Alkylamine group; Alkyl hydroxide group; Alkyl ether group; Alkyl sulfate group; Alkyl phosphate group; An alkylamide group or an alkyl sulfide group,

X1 및 X2는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기 이고,X 1 and X 2 are, each independently, a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; an alkoxy group or an amine group,

Y1내지Y4는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.Y 1 to Y 4 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.

보다 구체적으로,상기 화학식 1의 R1 및 R2는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬기;C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 알킬카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬하이드록사이드기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 알킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 ; 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기이고, 이고, More specifically, R 1 and R 2 in Formula 1 are each independently a C 1 to C 20 alkyl group; a C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 Alkyl carboxy group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 to C 20 Alkyl hydroxide group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; a C 1 to C 20 alkylamide group; Or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group, and

X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 플루오르; 염소; 브롬; 아이오딘; 수소 원자; 히드록시기 또는 C1내지 C20알콕시기 또는 아민기 이고,X 1 and X 2 are each independently fluorine; Goat; bromine; iodine; hydrogen atom; a hydroxy group or a C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group;

Y1내지Y4는, 각각 독립적으로, 플루오르; 염소; 브롬; 아이오딘; 수소 원자; 히드록시기; C1내지 C20 의 알콕시기 또는 아민기일 수 있으며,Y 1 to Y 4 are each independently fluorine; Goat; bromine; iodine; hydrogen atom; hydroxy group; It may be a C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group,

상기 아민기는-NH2- ; -NHR7 또는 -NR8R9 나타내는 화학식에서 선택되는 1종일 수 있다.The amine group is -NH 2 -; -NHR 7 or -NR 8 R 9 It may be one selected from the formula shown .

상기 아민기를 나타내는 화학식 중 -NHR7 에서 R7은C1내지 C20의 알킬기;C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬하이드록사이드기;C1내지 C20의 알킬에터기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 알킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 ;C1내지 C20의알킬아마이드기 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기일 수 있고,In -NHR 7 in the formula representing the amine group, R 7 is a C 1 to C 20 alkyl group; a C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 carboxy group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 To C 20 Alkyl hydroxide group; C 1 To C 20 Alkyl ether group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; A C 1 to C 20 alkylamide group; A C 1 to C 20 alkylamide group or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group;

상기 아민기를 나타내는 화학식 중 -NR8R9 에서 R8또는 R9는,각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬기;C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬하이드록사이드기;C1내지 C20의 알킬에터기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 알킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 ;C1내지 C20의알킬아마이드기 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기일 수 있다.In the formula representing the amine group - NR 8 R 9 , R 8 or R 9 are each independently a C 1 to C 20 alkyl group; a C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 carboxy group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 To C 20 Alkyl hydroxide group; C 1 To C 20 Alkyl ether group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; A C 1 to C 20 alkylamide group; A C 1 to C 20 alkylamide group or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group.

본 발명에서 상기 화학식 1은 하기 화학식 3 및/또는 화학식 4의 구조를 갖는 것이 보다 바람직 할 수 있다.In the present invention, it may be more preferable that Formula 1 has a structure of Formula 3 and/or Formula 4 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112020133851063-pat00004
Figure 112020133851063-pat00004

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112020133851063-pat00005
Figure 112020133851063-pat00005

[화학식 2] [Formula 2]

Figure 112020133851063-pat00006
Figure 112020133851063-pat00006

상기 화학식 2에서, R3및 R4는,각각 독립적으로,알킬렌기이고,In Formula 2, R 3 and R 4 are each independently an alkylene group,

R5 및 R6는, 각각 독립적으로, 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알킬카복시기; 알킬케톤기; 알킬아민기; 알킬하이드록사이드기; 알킬에터기; 알킬설페이트기; 알킬포스페이트기; 알킬아마이드기 또는 알킬설파이드이고,R 5 and R 6 are each independently an alkyl group; cycloalkyl group; alkoxy group; Alkyl carboxy group; Alkyl ketone group; Alkylamine group; Alkyl hydroxide group; Alkyl ether group; Alkyl sulfate group; Alkyl phosphate group; an alkylamide group or an alkyl sulfide;

X3및 X4는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이고, X 3 and X 4 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; an alkoxy group or an amine group;

Y5내지Y8은, 각각 독립적으로, 할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.Y 5 to Y 8 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.

보다 구체적으로,상기 화학식 2의 R3및 R4는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬렌기이고, R5 및 R6는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬기; C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 알킬 카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기이고, X3및 X4는, 각각 독립적으로,플루오르; 염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기또는 C1내지 C20알콕시기 이고,Y5내지Y8은, 각각 독립적으로,플루오르; 염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기또는 C1내지 C20알콕시기일 수 있다.More specifically, R 3 and R 4 in Formula 2 are each independently a C 1 to C 20 alkylene group, and R 5 and R 6 are each independently a C 1 to C 20 alkyl group; A C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 Alkyl carboxyl group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; A C 1 to C 20 alkylamide group or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group, and X 3 and X 4 are, each independently, Fluorine; Chlorine; Bromine; Iodine; Hydrogen atom; A hydroxy group or a C 1 to C 20 alkoxy group, Y 5 to Y 8 are, each independently, Fluorine; Chlorine; Bromine; Iodine; Hydrogen atom; It may be a hydroxy group or a C 1 to C 20 alkoxy group.

본 발명에서 상기 화학식 2는 하기 화학식5 내지 7로 표시되는 구조의 화합물 중 1종 이상을 포함하는 것이보다 바람직 할 수 있다.In the present invention, Formula 2 may more preferably include one or more of the compounds having structures represented by Formulas 5 to 7 below.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112020133851063-pat00007
Figure 112020133851063-pat00007

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112020133851063-pat00008
Figure 112020133851063-pat00008

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112020133851063-pat00009
Figure 112020133851063-pat00009

본 발명의 상기 첨가제는 산 조건 하 실리콘 화합물 및 /또는 폴리머나 모노머의 분자 내 질소-규소 결합의 안정성 증가용인것을 특징으로 한다.The additives of the present invention are characterized in that they are for increasing the stability of nitrogen-silicon bonds in molecules of silicone compounds and/or polymers or monomers under acidic conditions.

구체적으로, 산 조건 하에, 본 발명의 화학식 구조를 갖는 첨가제를 넣게 되면 첨가제가, Si-N 결합을 dipole-dipole 및 반데르 발스 힘에 의하여 Si-N bonding을 감싸게 된다. 첨가제가 Si-N 구조를 감싸게 되면 산으로 받는 공격이 줄어들게 되며 안정적으로 산에서 있을 수 있도록 유도한다. Specifically, when an additive having the chemical structure of the present invention is added under acid conditions, the additive wraps the Si-N bond by dipole-dipole and van der Waals forces. When the additive covers the Si-N structure, the acid attack is reduced and it is induced to be stably in the acid.

본 발명에서, 상기 산 조건이라 함은 pH 7 미만인 것을 의미할 수 있다. 상기 산 조건은 , pH를 7 미만으로 형성시키는 산이라면 제한 없이 포함될 수 있으나,보다 구체적으로, 아세트산, 트리플루오르아세트 산, 황산, 인산, 질산, 아질산, 포름산, 염산, 붕산, 카르복실기를 갖는 산 및 불산에서 선택되는 1종 이상의 산을 포함하는 것이 바람직할 수 있다.In the present invention, the acid condition may mean less than pH 7. The acid condition may be included without limitation as long as the acid forms a pH of less than 7, but more specifically, acetic acid, trifluoroacetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, nitrous acid, formic acid, hydrochloric acid, boric acid, acid having a carboxyl group, and It may be desirable to include one or more acids selected from hydrofluoric acid.

본 발명에서,상기 카르복실기를 갖는 산이란 초산(carboxylic acid); 옥살산(oxalic acid) 및 벤조산(benzoic acid)에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.In the present invention, the acid having the carboxyl group is acetic acid (carboxylic acid); It may be at least one selected from oxalic acid and benzoic acid.

본 발명의 상기 첨가제는 산 조건하에서 실리콘 화합물의 분자내 규소-질소 결합을 63% 이상 유지하는 것을 특징으로 한다.The additive of the present invention is characterized by maintaining 63% or more of the silicon-nitrogen bond in the molecule of the silicon compound under acid conditions.

본 발명에서, 상기 첨가제는 50 ppm 내지 500000 ppm까지 포함 가능하다. 상술한 범위 미만으로 포함될 경우 효능이 미미하여 효과가 없으며 상술한 범위 이상을 포함 될 경우 달성하고자 하는 효과를 낼 수 있는 범위 이상으로 포함되는 것으로 효율 측면에서 경제적이지 못하다. In the present invention, the additive may be included from 50 ppm to 500000 ppm. When included below the above range, the efficacy is insignificant and there is no effect, and when it is included above the above range, it is not economical in terms of efficiency as it is included beyond the range that can produce the effect to be achieved.

또한, 본 발명은 상술한 화학식 1 및 화학식 2로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 첨가제; 및 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 단량체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 실리콘 중합체 합성용 조성물을 제공한다.In addition, the present invention is one or more additives selected from the compounds represented by the above formula (1) and formula (2); and a monomer having a nitrogen-silicon bond in its molecular structure.

본 발명에서, 분자 구조 내 질소-질리콘 결합을 단량체는 구체적으로 화학식 8 내지 11로 표시되는 화합물에서 선택되는 1종 이상의 단량체일 수 있다. In the present invention, the monomer having a nitrogen-silicon bond in the molecular structure may be one or more monomers selected from compounds represented by Chemical Formulas 8 to 11.

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112020133851063-pat00010
Figure 112020133851063-pat00010

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112020133851063-pat00011
Figure 112020133851063-pat00011

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112020133851063-pat00012
Figure 112020133851063-pat00012

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112020133851063-pat00013
Figure 112020133851063-pat00013

본 발명의 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 실리콘 중합체 합성용 조성물은 산을 더 포함하는 것일 수 있다. The composition for synthesizing a silicone polymer having a nitrogen-silicon bond in the molecular structure of the present invention may further contain an acid.

본 발명의 상기 분자 구조 내 질소-실리콘 결합을 갖는 실리콘 중합체 합성용 조성물은 실리콘 화합물의 분자내 규소-질소 결합을 63% 이상 유지하는 것을 특징으로 한다. The composition for synthesizing a silicone polymer having a nitrogen-silicon bond in the molecular structure of the present invention is characterized by maintaining 63% or more of the silicon-nitrogen bond in the molecule of the silicone compound.

실시예 및 비교예의 제조Preparation of Examples and Comparative Examples

비교예 1의 제조: 산 조건 하 질소-규소에 대한 안정성을 부여하는 첨가제 없이,질산 10%의 용액(Nitric acid 10% by volume)에,하기 화학식 8 구조의 화합물 10g을 첨가하여 혼합 후 상온(Room temp.)에서12 시간 방치하여 시간 별로 화합물 내의 질소-규소 결합 분해 여부를 확인 하였다.그 결과는 표 2에 기재하였다. Preparation of Comparative Example 1 : 10 g of a compound having the following structure of Formula 8 was added to a 10% nitric acid solution (Nitric acid 10% by volume) without an additive providing stability to nitrogen-silicon under acid conditions, and mixed at room temperature ( Room temp.) and left for 12 hours to check the decomposition of nitrogen-silicon bonds in the compound by time. The results are shown in Table 2.

실시예 1 내지 5의 제조: 하기 표 1의조건 및 화합물을 사용하였다는 것을 제외하고는 비교예1과 동일한 방법으로 실험을 실시하여,시간 별로 화합물 내의 질소-규소 결합 분해 여부를 확인 하였으며,그 결과는 표 2에 기재하였다. Preparation of Examples 1 to 5 : The experiment was conducted in the same manner as in Comparative Example 1, except that the conditions and compounds in Table 1 were used, and it was confirmed whether nitrogen-silicon bonds were decomposed in the compound over time. The results are listed in Table 2.

산 조건mountain conditions 실리콘 화합물silicone compound 첨가제additive 실시예 1Example 1 Trifluoroacetic acid 10 % by volumeTrifluoroacetic acid 10% by volume [화학식 9]의 화합물 100000ppm100000 ppm of the compound of [Formula 9] [화학식 3]의 화합물 150000ppm150000 ppm of the compound of [Formula 3] 실시예 2Example 2 Nitric Acid 10 % by volumeNitric Acid 10% by volume [화학식 8]의 화합물 100000ppm100000 ppm of the compound of [Formula 8] [화학식 3]의 화합물 50000ppm50000 ppm of the compound of [Formula 3] 실시예 3Example 3 Sulfuric Acid 5 % by volumeSulfuric Acid 5% by volume [화학식 10]의 화합물 100000ppm
100000 ppm of the compound of [Formula 10]
[화학식 5]의 화합물 30000ppm30000 ppm of the compound of [Formula 5]
실시예 4Example 4 Acetic acid 20 % by volumeAcetic acid 20% by volume [화학식 11]의 화합물 200000ppm200000 ppm of the compound of [Formula 11] [화학식 6]의 화합물 100000ppm100000 ppm of the compound of [Formula 6] 실시예 5Example 5 Formic Acid 30% by volumeFormic Acid 30% by volume [화학식 8]의 화합물 100000ppm100000 ppm of the compound of [Formula 8] [화학식 7]의 화합물 50000ppm50000 ppm of the compound of [Formula 7] 실시예 6Example 6 Phosphoric Acid 85% by volumePhosphoric Acid 85% by volume [화학식 11]의 화합물 200000ppm200000 ppm of the compound of [Formula 11] [화학식 7]의 화합물 50000ppm50000 ppm of the compound of [Formula 7]

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112020133851063-pat00014
Figure 112020133851063-pat00014

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112020133851063-pat00015
Figure 112020133851063-pat00015

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112020133851063-pat00016
Figure 112020133851063-pat00016

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112020133851063-pat00017
Figure 112020133851063-pat00017

실험예 1:산 조건 하(pH < 7) 에서 실리콘 화합물의 분자내 질소-규소(Nitrogen-Silicon) 결합의 안정성 유지 가능성 판단Experimental Example 1: Determining the possibility of maintaining the stability of nitrogen-silicon bonds in molecules of silicon compounds under acidic conditions (pH < 7)

가스 크로마토그래피를 이용하여, 실시예 1 내지 6 및 비교예 1의 화합물 내 시간당 Si-N 결합의 분해여부를 측정한 후 그 결과값을 표 2에 기재하였다. Using gas chromatography, the decomposition of Si—N bonds per hour in the compounds of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 was measured, and the results are shown in Table 2.

0h0h 1h1h 4h4h 8h8h 12h12h 비교예1Comparative Example 1 100%100% 30%30% 10%10% 3%3% < 1%< 1% 실시예 1Example 1 100%100% 99%99% 97%97% 95%95% 94%94% 실시예2Example 2 100%100% 98%98% 90%90% 85%85% 81%81% 실시예3Example 3 100%100% 95%95% 85%85% 76%76% 68%68% 실시예4Example 4 100%100% 99%99% 98%98% 96%96% 94%94% 실시예5Example 5 100%100% 97%97% 85%85% 81%81% 75%75% 실시예6Example 6 100%100% 98%98% 95%95% 93%93% 91%91%

실험결과, 본 발명의 구조를 갖는 첨가제가 포함되지 않는 비교예 1의 경우, Si-N결합을 갖는 실리콘 화합물 내 Si-N결합이 1시간 이후에 70% 이상 분해되어 포함된 화합물 중 30%만이 Si-N결합이 유지되었으며, 12 시간이 지나자 화합물 내 Si-N 결합이 거의 분해됨을 확인할 수 있었다. 반면, 본 발명의 첨가제를 포함하는 실시예 1 내지 6의 경우, 실리콘 화합물 내 Si-N 결합이 1시간 이내에는 거의 분해되지 않음을 확인할 수 있었으며, 12시간이 경과하여도 포함된 화합물의 63% 이상이 Si-N 결합의 분해 없이 존재함을 확인 하였다. 특히, 실시예 1,4 및 6의 경우가 12시간 이상에서도 현저히 우수한 효과를 가짐을 확인할 수 있었다. As a result of the experiment, in the case of Comparative Example 1, which does not contain the additive having the structure of the present invention, the Si-N bond in the silicon compound having a Si-N bond is decomposed by more than 70% after 1 hour, and only 30% of the included compounds The Si-N bond was maintained, and it was confirmed that the Si-N bond in the compound was almost decomposed after 12 hours. On the other hand, in the case of Examples 1 to 6 including the additive of the present invention, it was confirmed that the Si-N bond in the silicon compound was hardly decomposed within 1 hour, and even after 12 hours, 63% of the included compound It was confirmed that the abnormality existed without disassembly of the Si-N bond. In particular, it was confirmed that the cases of Examples 1, 4 and 6 had remarkably excellent effects even after 12 hours or more.

Claims (9)

하기 화학식 1및 화학식 2로 표시되는 화합물 중 1종 이상을 포함하고,
상기 화학식 2는 하기 화학식 5 내지 화학식 7의 구조를 갖는 화합물 중 1종 이상을 포함하는, 첨가제.
[화학식 1]
Figure 112022096838350-pat00018

(상기 화학식 1에서, R1 및 R2는, 각각 독립적으로, 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알킬카복시기; 알킬케톤기; 알킬아민기; 알킬하이드록사이드기; 알킬에터기; 알킬설페이트기; 알킬포스페이트기; 알킬아마이드기 또는 알킬설파이드이고,
X1및 X2는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기 이고,
Y1내지Y4는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.)
[화학식 2]
Figure 112022096838350-pat00019

(상기 화학식 2에서,
R3및 R4는,각각 독립적으로,알킬렌기이고,
R5 및 R6는, 각각 독립적으로,알킬기;시클로알킬기; 알콕시기; 알킬케톤기;알킬아민기;알킬하이드록사이드기;알킬에터기;알킬설페이트기;알킬포스페이트기;알킬아마이드기 또는알킬설파이드기이고,
X3및 X4는, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기
Y5내지Y8은, 각각 독립적으로,할로겐 원자; 수소 원자; 히드록시기; 알콕시기 또는 아민기이다.)
[화학식 5]
Figure 112022096838350-pat00025

[화학식 6]
Figure 112022096838350-pat00026

[화학식 7]
Figure 112022096838350-pat00027

Including one or more of the compounds represented by the following formula (1) and formula (2),
Chemical Formula 2 includes at least one compound having a structure represented by Chemical Formulas 5 to 7 below.
[Formula 1]
Figure 112022096838350-pat00018

(In Formula 1, R 1 and R 2 are each independently an alkyl group; a cycloalkyl group; an alkoxy group; an alkyl carboxy group; an alkyl ketone group; an alkyl amine group; an alkyl hydroxide group; an alkyl ether group; an alkyl sulfate group An alkyl phosphate group; An alkyl amide group or an alkyl sulfide group;
X 1 and X 2 are, each independently, a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; an alkoxy group or an amine group,
Y 1 to Y 4 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.)
[Formula 2]
Figure 112022096838350-pat00019

(In Formula 2,
R 3 and R 4 are, each independently, an alkylene group,
R 5 and R 6 are, each independently, an alkyl group; a cycloalkyl group; alkoxy group; An alkyl ketone group; an alkyl amine group; an alkyl hydroxide group; an alkyl ether group; an alkyl sulfate group; an alkyl phosphate group; an alkyl amide group or an alkyl sulfide group;
X 3 and X 4 are, each independently, a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; alkoxy group or amine group
Y 5 to Y 8 are each independently a halogen atom; hydrogen atom; hydroxy group; It is an alkoxy group or an amine group.)
[Formula 5]
Figure 112022096838350-pat00025

[Formula 6]
Figure 112022096838350-pat00026

[Formula 7]
Figure 112022096838350-pat00027

청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1 및 2의 구조 자체에 질소-규소가 존재하고,
상기 첨가제는 산 조건 하 실리콘 화합물의 분자 내 질소-규소 결합의 안정성 증가용인 것인,첨가제.
The method of claim 1,
Nitrogen-silicon is present in the structures of Formulas 1 and 2 themselves,
The additive is for increasing the stability of the nitrogen-silicon bond in the molecule of the silicon compound under acid conditions, Additives.
청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1의 R1 및 R2는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬기;C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 알킬카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬하이드록사이드기;C1내지 C20의 알킬에터기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 알킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기이고,
X1 및 X2는, 각각 독립적으로,플루오르;염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기; C1내지 C20 알콕시기 또는 아민기 이고,
Y1내지Y4는, 각각 독립적으로,플루오르;염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기; C1내지 C20알콕시기 또는 아민기 이다.
The method of claim 1,
R 1 and R 2 in Formula 1 are each independently a C 1 to C 20 alkyl group; a C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 Alkyl carboxy group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 To C 20 Alkyl hydroxide group; C 1 To C 20 Alkyl ether group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; A C 1 to C 20 alkylamide group or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group,
X 1 and X 2 are each independently a fluorine; chlorine; bromine; iodine; hydrogen atom; hydroxy group; A C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group;
Y 1 to Y 4 are each independently a fluorine; chlorine; bromine; iodine; hydrogen atom; hydroxy group; It is a C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group.
청구항 1에 있어서,
상기 화학식 2의 R3및 R4는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬렌기이고,
R5 및 R6는, 각각 독립적으로, C1내지 C20의 알킬기;C3내지 C20의 시클로알킬기; C1내지 C20의 알콕시기; C1내지 C20의 알킬카복시기; C1내지 C20의 알킬케톤기; C1내지 C20의 알킬아민기; C1내지 C20의 알킬하이드록사이드기; C1내지 C20의 알킬설페이트기; C1내지 C20의 알킬포스페이트기; C1내지 C20의 알킬아마이드기 또는 C1내지 C20의 알킬설파이드기이고,
X3및 X4는, 각각 독립적으로,플루오르; 염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기; C1내지 C20알콕시기 또는 아민기 이고,
Y5내지Y8은, 각각 독립적으로,플루오르; 염소;브롬;아이오딘;수소 원자; 히드록시기; C1내지 C20알콕시기 또는 아민기이다.
The method of claim 1,
R 3 and R 4 in Formula 2 are each independently a C 1 to C 20 alkylene group,
R 5 and R 6 are each independently a C 1 to C 20 alkyl group; a C 3 to C 20 cycloalkyl group; A C 1 to C 20 alkoxy group; C 1 to C 20 Alkyl carboxy group; A C 1 to C 20 alkyl ketone group; A C 1 to C 20 alkylamine group; C 1 to C 20 Alkyl hydroxide group; C 1 to C 20 Alkyl sulfate group; A C 1 to C 20 alkyl phosphate group; A C 1 to C 20 alkylamide group or a C 1 to C 20 alkyl sulfide group,
X 3 and X 4 are, each independently, Fluorine; Chlorine; Bromine; Iodine; Hydrogen atom; hydroxy group; A C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group;
Y 5 to Y 8 are each independently fluorine; Chlorine; Bromine; Iodine; Hydrogen atom; hydroxy group; It is a C 1 to C 20 alkoxy group or an amine group.
청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1은 하기 화학식 3 및 화학식 4의 구조를 갖는 화합물 중 1종 이상을 포함하는 것인,첨가제.
[화학식 3]
Figure 112020133851063-pat00020

[화학식 4]
Figure 112020133851063-pat00021
The method of claim 1,
Formula 1 is to include one or more of the compounds having the structure of Formula 3 and Formula 4, Additives.
[Formula 3]
Figure 112020133851063-pat00020

[Formula 4]
Figure 112020133851063-pat00021
삭제delete 청구항 2에 있어서,
상기 산 조건은 pH 7 미만인 것인,첨가제.
The method of claim 2,
The acid condition is that the pH is less than 7, additives.
청구항 2에 있어서,
상기 산 조건은 아세트산,트리플루오르아세트 산,황산,인산,질산,아질산,포름산,염산, 붕산,카르복실기를 갖는 산 및 불산에서 선택되는 1종 이상의 산을 포함하는 것인,첨가제.
The method of claim 2,
The acid conditions include acetic acid, trifluoroacetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, nitrous acid, formic acid, hydrochloric acid, boric acid, one or more acids selected from acids having a carboxyl group and hydrofluoric acid, additives.
청구항 1에 있어서,
상기 첨가제는 산 조건하에서 실리콘 화합물의 분자내 규소-질소 결합을 63% 이상 유지하는 것을 특징으로 하는,첨가제.
The method of claim 1,
The additive is characterized in that it retains 63% or more of the silicon-nitrogen bond in the molecule of the silicone compound under acid conditions.
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