KR102481023B1 - 캐니스터 내의 온도 변화를 이용한 전구체 레벨 측정 방법 - Google Patents
캐니스터 내의 온도 변화를 이용한 전구체 레벨 측정 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102481023B1 KR102481023B1 KR1020210046996A KR20210046996A KR102481023B1 KR 102481023 B1 KR102481023 B1 KR 102481023B1 KR 1020210046996 A KR1020210046996 A KR 1020210046996A KR 20210046996 A KR20210046996 A KR 20210046996A KR 102481023 B1 KR102481023 B1 KR 102481023B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- temperature
- level
- solid precursor
- precursor
- point
- Prior art date
Links
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title claims abstract description 163
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 230000008859 change Effects 0.000 title description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 9
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 39
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 19
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims description 13
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims description 13
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 17
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 6
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 5
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K indium(iii) chloride Chemical compound Cl[In](Cl)Cl PSCMQHVBLHHWTO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNVXOECCMAAZLE-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti].C1=CC=CC=CC=C1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti].C1=CC=CC=CC=C1 ZNVXOECCMAAZLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N carbon monoxide;tungsten Chemical group [W].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-].[O+]#[C-] FQNHWXHRAUXLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J hafnium tetrachloride Chemical compound Cl[Hf](Cl)(Cl)Cl PDPJQWYGJJBYLF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J titanium tetraiodide Chemical compound I[Ti](I)(I)I NLLZTRMHNHVXJJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- GYURACLPSSTGPA-UHFFFAOYSA-N C1(C=CC=C1)[Ti]C1=CC=CC=CC1 Chemical compound C1(C=CC=C1)[Ti]C1=CC=CC=CC1 GYURACLPSSTGPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZJAPVDYYDAION-UHFFFAOYSA-N CC[Ti](CC)CC Chemical compound CC[Ti](CC)CC NZJAPVDYYDAION-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLLFFOSRGQEAMV-UHFFFAOYSA-N [Ti++].[N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1 Chemical compound [Ti++].[N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1 PLLFFOSRGQEAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N diazinon Chemical compound CCOP(=S)(OCC)OC1=CC(C)=NC(C(C)C)=N1 FHIVAFMUCKRCQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N ruthenium(2+) Chemical compound [Ru+2] YAYGSLOSTXKUBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHCFNGSGGGXEH-UHFFFAOYSA-N ruthenocene Chemical compound [Ru+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 FZHCFNGSGGGXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J tetrachlorotungsten Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)Cl YOUIDGQAIILFBW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F23/00—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
- G01F23/80—Arrangements for signal processing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D7/00—Indicating measured values
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F23/00—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
- G01F23/04—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by dip members, e.g. dip-sticks
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01K—MEASURING TEMPERATURE; MEASURING QUANTITY OF HEAT; THERMALLY-SENSITIVE ELEMENTS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01K7/00—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements
- G01K7/02—Measuring temperature based on the use of electric or magnetic elements directly sensitive to heat ; Power supply therefor, e.g. using thermoelectric elements using thermoelectric elements, e.g. thermocouples
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02T—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO TRANSPORTATION
- Y02T10/00—Road transport of goods or passengers
- Y02T10/10—Internal combustion engine [ICE] based vehicles
- Y02T10/40—Engine management systems
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Measurement Of Levels Of Liquids Or Fluent Solid Materials (AREA)
Abstract
Description
도2는 캐니스터 내부의 온도 변화의 실험결과를 설명하는 도면,
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 캐니스터를 설명하는 도면,
도4는 제1 실시예에서 전구체 레벨에 따른 캐니스터 내부 온도 변화를 설명하는 도면,
도5는 제1 실시예에서 전구체 감소에 따른 온도 변화를 설명하는 도면,
도6은 제1 실시예에 따른 전구체 레벨 측정 방법을 설명하는 도면,
도7은 제2 실시예에 따른 전구체 레벨 벨 측정 장치를 설명하는 도면,
도8은 제2 실시예에서 전구체 감소에 따른 캐니스터 내부 온도 변화를 설명하는 도면,
도9는 제2 실시예에 따른 전구체 레벨 측정 방법을 설명하는 도면이다.
100: 온도측정용 프로브
110: 온도센서 모듈
111,112: 온도센서
200: 제어부
Claims (13)
- 캐니스터에 저장된 고체 전구체의 레벨을 측정하는 방법으로서,
공정개시 시점에서 캐니스터 내부의 소정 지점의 제1 온도를 측정하는 단계;
제1 온도의 측정으로부터 임의의 시간 이후에, 상기 지점의 제2 온도를 측정하는 단계; 및
제1 온도와 제2 온도의 차이값을 계산하고, 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값보다 크면 고체 전구체의 승화에 의한 온도 강하로 판단하여 고체 전구체의 레벨이 상기 소정 지점 보다 높은 위치에 있다고 판단하고, 상기 온도 차이값이 상기 임계값보다 작으면 고체 전구체의 레벨이 상기 소정 지점보다 낮은 위치에 있다고 판단하여, 상기 캐니스터에 저장된 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제1 온도를 측정하는 단계가, 상기 고체 전구체를 외부로 공급하기 전 또는 상기 공급을 개시할 때에 실행되는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제2 온도를 측정하는 단계 및 상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계를 기설정된 소정 주기마다 반복하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 삭제
- 캐니스터에 저장된 고체 전구체의 레벨을 측정하는 방법으로서,
캐니스터 내부의 제1 지점의 제1 온도 및 제1 지점에서 하방으로 소정 거리 이격된 제2 지점의 제2 온도를 각각 측정하는 단계; 및
제1 온도와 제2 온도의 차이값을 계산하고 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값보다 크면 제2 지점에서만 고체 전구체의 승화에 의한 온도 강하가 있다고 판단하여 고체 전구체의 표면이 제1 지점과 제2 지점 사이에 있다고 판단하여, 상기 캐니스터에 저장된 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계;를 포함하고,
제1 지점과 제2 지점 사이의 상기 소정 거리는 수 mm 내지 수 cm 이내의 거리인 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 삭제
- 제 5 항에 있어서,
상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계가, 상기 온도 차이값이 상기 임계값보다 작으면, 상기 고체 전구체의 표면이 제1 지점보다 높거나 또는 제2 지점보다 낮다고 판단하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계에서, 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값 이하이고 상기 제1 온도와 제2 온도가 기설정한 기준값보다 작은 경우, 상기 고체 전구체의 표면이 제1 지점보다 높다고 판단하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계에서, 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값 이하이고 상기 제1 온도와 제2 온도가 기설정한 기준값보다 큰 경우, 상기 고체 전구체의 표면이 제2 지점보다 낮다고 판단하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 제1 온도와 제2 온도를 측정하는 단계를 공정개시 시점인 제1 시간과 그로부터 임의의 시간 이후의 제2 시간에 각각 실행하여, 제1 시간에서 제2 시간까지 제1 온도가 소정값 이상 하강한 경우, 상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계에서, 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값 이하이면, 상기 고체 전구체의 표면이 제1 지점보다 높다고 판단하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 제1 온도와 제2 온도를 측정하는 단계를 공정개시 시점인 제1 시간과 그로부터 임의의 시간 이후의 제2 시간에 각각 실행하여, 제1 시간에서 제2 시간까지 제1 온도가 소정값 이상 하강하지 않은 경우, 상기 고체 전구체의 레벨을 출력하는 단계에서, 상기 온도 차이값이 기설정한 임계값 이하이면, 상기 고체 전구체의 표면이 제2 지점보다 낮다고 판단하는 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
상기 제1 시간이, 상기 고체 전구체를 외부로 공급하기 전 또는 상기 공급을 개시할 때의 시간인 것을 특징으로 하는 고체 전구체 레벨 측정 방법. - 제 5 항에 있어서,
상기 캐니스터가 캐니스터의 내부 공간을 향해 뻗어있는 제1 및 제2 프로브를 포함하고,
제1 프로브에 상기 제1 온도를 측정하기 위한 제1 온도센서가 구비되고 제2 프로브에 상기 제2 온도를 측정하기 위한 제2 온도센서가 구비되며,
상기 제1 온도센서와 제2 온도센서가 열적으로 분리되어 설치된 것을 특징으로 하는, 고체 전구체 레벨 측정 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20210026418 | 2021-02-26 | ||
KR1020210026418 | 2021-02-26 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20220122918A KR20220122918A (ko) | 2022-09-05 |
KR102481023B1 true KR102481023B1 (ko) | 2022-12-27 |
Family
ID=83279784
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210045764A KR102481022B1 (ko) | 2021-02-26 | 2021-04-08 | 전구체의 레벨 측정 기능을 구비한 기화기 시스템 |
KR1020210046996A KR102481023B1 (ko) | 2021-02-26 | 2021-04-12 | 캐니스터 내의 온도 변화를 이용한 전구체 레벨 측정 방법 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020210045764A KR102481022B1 (ko) | 2021-02-26 | 2021-04-08 | 전구체의 레벨 측정 기능을 구비한 기화기 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (2) | KR102481022B1 (ko) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100866283B1 (ko) * | 2000-10-30 | 2008-10-31 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 액면 센서, 액체 용기 및 액체량 검지 방법 |
JP2018151302A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 熱電対式液位計測システム |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120101964A (ko) * | 2011-05-12 | 2012-09-17 | 박증언 | 수위 감지기 |
KR102133156B1 (ko) | 2018-11-13 | 2020-07-14 | (주)지오엘리먼트 | 캐니스터에 저장된 소스의 잔량을 측정할 수 있는 시스템 및 방법 |
-
2021
- 2021-04-08 KR KR1020210045764A patent/KR102481022B1/ko active IP Right Grant
- 2021-04-12 KR KR1020210046996A patent/KR102481023B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100866283B1 (ko) * | 2000-10-30 | 2008-10-31 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 액면 센서, 액체 용기 및 액체량 검지 방법 |
JP2018151302A (ja) * | 2017-03-14 | 2018-09-27 | 日立Geニュークリア・エナジー株式会社 | 熱電対式液位計測システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20220122916A (ko) | 2022-09-05 |
KR102481022B1 (ko) | 2022-12-27 |
KR20220122918A (ko) | 2022-09-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20220406625A1 (en) | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods | |
EP1539336B1 (en) | Vaporizer delivery ampoule | |
JP6698153B2 (ja) | 前駆体の供給システムおよび前駆体の供給方法 | |
EP2233603B1 (en) | Method and apparatus comprising an evaporation vessel | |
US20060133955A1 (en) | Apparatus and method for delivering vapor phase reagent to a deposition chamber | |
TWI481740B (zh) | Raw material gasification supply device | |
CN102162092B (zh) | 恒定浓度蒸发的方法以及使用该方法的设备 | |
KR102318374B1 (ko) | 캐니스터에 저장된 전구체의 레벨을 측정하는 방법 및 장치 | |
KR102133156B1 (ko) | 캐니스터에 저장된 소스의 잔량을 측정할 수 있는 시스템 및 방법 | |
US20240052484A1 (en) | Supply system for low volatility precursors | |
CN109898071B (zh) | 用于批量汽化前体的系统和方法 | |
KR102481023B1 (ko) | 캐니스터 내의 온도 변화를 이용한 전구체 레벨 측정 방법 | |
KR102438503B1 (ko) | 고순도 전구체를 위한 기화 시스템 | |
KR20220122479A (ko) | 기준 온도센서를 구비한 캐니스터 내의 온도 변화를 이용한 전구체 레벨 측정 방법 | |
KR102318377B1 (ko) | 캐니스터에 저장된 전구체의 레벨을 측정하는 방법 및 장치 | |
KR102347205B1 (ko) | 전구체의 레벨 측정 기능을 구비한 기화기 시스템 | |
KR102347209B1 (ko) | 넓은 가용 온도 범위를 가지는 고순도 전구체 기화 시스템 | |
JP2005217089A (ja) | 半導体製造装置および半導体製造方法 | |
KR20240092512A (ko) | 서브 캐니스터와 유량제어장치를 구비한 전구체 공급 시스템 | |
CN115323360B (zh) | 前驱体输出系统及前驱体输出方法 | |
KR102654250B1 (ko) | 캐니스터에 저장된 소스의 잔량을 측정할 수 있는 시스템 및 방법 | |
JP7299448B2 (ja) | 前駆体供給容器 | |
KR20220048493A (ko) | 기준압력도달시간에 기초하여 캐니스터에 저장된 소스의 잔량을 측정할 수 있는 시스템 및 방법 | |
JPH11200051A (ja) | 液体気化装置 | |
TW201335974A (zh) | 水浴槽及使用此水浴槽之薄膜沈積裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20210412 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20220520 Patent event code: PE09021S01D |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20221129 |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20221220 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20221221 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration |