KR102469212B1 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층과, 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치된 편광층을 구비하는 액정 표시 장치에 있어서, 편광층과 액정층과의 사이에 수분의 투과를 억제하기 위한 배리어 코팅층을 마련한다.In a liquid crystal display device having a wavelength conversion layer that outputs wavelength-converted light and a polarization layer disposed between the wavelength conversion layer and the liquid crystal layer, suppressing the transmission of moisture between the polarization layer and the liquid crystal layer Prepare a barrier coating layer for

Description

액정 표시 장치 및 그 제조 방법Liquid crystal display device and manufacturing method thereof

본 발명은, 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

최근, 액정 표시 장치, 유기 일렉트로 루미네선스 표시 장치 등의 표시 장치가 보급되어 오고 있다. 일반적인 액정 표시 장치는, 비발광형 표시 장치로서, 백색 LED 등을 광원으로 하는 백라이트로부터의 광을 액정층에서 화소마다 광 변조하여, 빨강(R), 초록(G), 파랑(B)의 각 컬러 필터층을 투과시켜 컬러 표시를 행한다. 백색 LED는, 발광 효율이 좋고, 수명이 긴 등의 특장이 있다. 한편, 백색 LED는, 발열에 의한 형광체의 발광 효율의 저하(이른바 온도 소광)에 의한 광 손실이 크다. 또한, 컬러 필터층에 의해 백색 LED로부터의 광을 빨강, 초록 및 파랑으로 분리하는 구조 때문에, 백라이트의 1/3 정도의 광밖에 실제로는 사용되지 않아, 액정 표시 장치 전체에서의 광 이용 효율이 낮다.In recent years, display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence display devices have become widespread. A general liquid crystal display device is a non-emission type display device. Light from a backlight using a white LED or the like as a light source is light-modulated for each pixel in a liquid crystal layer, and each of red (R), green (G), and blue (B) Color display is performed by passing through the color filter layer. The white LED has features such as high luminous efficiency and long life. On the other hand, the white LED has a large light loss due to a decrease in luminous efficiency of the phosphor due to heat generation (so-called temperature quenching). Further, because of the structure in which the light from the white LED is separated into red, green, and blue by the color filter layer, only about 1/3 of the light of the backlight is actually used, and the light utilization efficiency of the entire liquid crystal display device is low.

또한, 백라이트로서 자외광원을 이용하고, 이 자외광원을 여기광으로 하여 빨강, 초록 및 파랑 각 색의 형광체층을 발광시키는 형식의 액정 표시 장치가 개시되어 있다. 또한, 백라이트로서 청색 LED를 이용하고, 청색 LED로부터 출력되는 청색광을 이용하여 적색 및 녹색의 형광체층을 발광시켜 적색 및 녹색의 광을 얻음과 함께, 청색 LED로부터의 청색광을 그대로 투과시켜 청색의 광을 표시시키는 형식의 액정 표시 장치가 개시되어 있다.Further, a liquid crystal display device of a type that uses an ultraviolet light source as a backlight and uses the ultraviolet light source as excitation light to emit light of red, green, and blue phosphor layers is disclosed. In addition, a blue LED is used as a backlight, and the red and green phosphor layers emit light using blue light output from the blue LED to obtain red and green lights, and the blue light from the blue LED is transmitted as it is to transmit blue light. Disclosed is a liquid crystal display device of a type that displays.

또한, 액정층이 협지된 한 쌍의 기판과, 한 쌍의 기판의 일방측의 배면에 배치된 피크 파장 380㎚~420㎚의 범위의 광을 발하는 발광 다이오드와, 한 쌍의 기판의 타방측에 형성된 편광판을 구비하고, 한 쌍의 기판의 타방측에 형성된 편광판의 액정층과 반대측에는, 단위 픽셀마다, 피크 파장이 380㎚~420㎚의 범위의 광을 흡수하여 소정의 색의 광을 발하는 형광체층을 구비하는 서브 픽셀을 구비하고, 형광체층의 액정층과는 반대측의 면에는 파장 420㎚ 이하의 파장의 광을 반사 또는 흡수하는 필터층이 형성된 액정 표시 장치가 개시되어 있다.In addition, a pair of substrates sandwiched by a liquid crystal layer, a light emitting diode disposed on the back surface of one side of the pair of substrates and emitting light in a range of peak wavelengths of 380 nm to 420 nm, and a light emitting diode disposed on the other side of the pair of substrates. A phosphor having a polarizing plate formed on the other side of the pair of substrates, on the side opposite to the liquid crystal layer of the polarizing plate formed on the other side of the pair of substrates, absorbs light having a peak wavelength in the range of 380 nm to 420 nm for each unit pixel to emit light of a predetermined color. Disclosed is a liquid crystal display device having a subpixel having a layer and having a filter layer formed on a surface opposite to a liquid crystal layer of a phosphor layer to reflect or absorb light having a wavelength of 420 nm or less.

그런데, 어느 표시 장치도 외광하에서의 시인성이 충분하지 않다고 하는 문제가 있다. 외광하에서의 시인성이 높은 표시 장치로서 반사형의 액정 표시 장치가 제안되고 있지만, 어두운 곳에서는 시인성이 낮다고 하는 문제가 있다.However, there is a problem that visibility under outdoor light is not sufficient in any display device. Although a reflective liquid crystal display device has been proposed as a display device with high visibility under outdoor light, there is a problem that visibility is low in a dark place.

따라서, 본 발명은, 어두운 곳에서의 시인성을 저하시키지 않고, 외광하에서의 시인성을 높인 새로운 액정 표시 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel liquid crystal display device having improved visibility under outdoor light without reducing visibility in a dark place.

본 발명의 하나의 양태는, 액정 표시 장치로서, 파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층과, 상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치된 편광층을 구비하고, 상기 편광층과 상기 액정층과의 사이에 수분의 투과를 억제하기 위한 배리어 코팅층이 마련되어 있는 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention is a liquid crystal display device, including a wavelength conversion layer that outputs wavelength-converted light, and a polarization layer disposed between the wavelength conversion layer and a liquid crystal layer, the polarization layer and the liquid crystal It is characterized in that a barrier coating layer for suppressing the permeation of moisture is provided between the layers.

본 발명의 하나의 양태는, 편광 소자로서, 파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층을 구비하는 액정 표시 장치에 이용되고, 상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치된 편광층과, 상기 편광층과 상기 액정층과의 사이에 배치되어, 수분의 투과를 억제하기 위한 배리어 코팅층을 구비하는 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention is used in a liquid crystal display device having, as a polarizing element, a wavelength conversion layer that outputs wavelength-converted light, and a polarization layer disposed between the wavelength conversion layer and the liquid crystal layer; It is characterized by having a barrier coating layer disposed between the polarization layer and the liquid crystal layer to suppress transmission of moisture.

본 발명의 하나의 양태는, 액정 표시 장치로서, 파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층과, 상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치된 편광층을 구비하고, 상기 편광층의 함수율이 3% 이하인 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention is a liquid crystal display device, comprising a wavelength conversion layer for outputting wavelength-converted light, and a polarizing layer disposed between the wavelength conversion layer and a liquid crystal layer, wherein the polarization layer has a moisture content of Characterized in that it is 3% or less.

본 발명의 하나의 양태는, 상기 액정 표시 장치의 제조 방법으로서, 어닐 처리 후에 기판에 붙임으로써 상기 편광층을 형성하는 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention is a method for manufacturing the liquid crystal display device, characterized in that the polarizing layer is formed by attaching it to a substrate after an annealing treatment.

본 발명의 하나의 양태는, 상기 액정 표시 장치의 제조 방법으로서, 기판에 붙인 후, 어닐 처리함으로써 상기 편광판을 형성하는 것을 특징으로 한다.One aspect of the present invention is a method for manufacturing the liquid crystal display device, characterized in that the polarizing plate is formed by attaching it to a substrate and then subjecting it to an annealing treatment.

본 발명의 하나의 양태는, 편광 소자로서, 파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층을 구비하는 액정 표시 장치에 이용되고, 상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치되며, 함수율이 3% 이하인 편광층을 구비하는 것이 특징이다.One aspect of the present invention is used as a polarizing element in a liquid crystal display device having a wavelength conversion layer for outputting wavelength-converted light, disposed between the wavelength conversion layer and the liquid crystal layer, and having a moisture content of 3% It is characterized by having the following polarization layer.

본 발명에 의하면, 어두운 곳에서의 시인성을 저하시키지 않고, 외광하에서의 시인성도 높인 새로운 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the new liquid crystal display device which improved visibility under outdoor light can be provided, without reducing visibility in a dark place.

도 1은 제 1 실시 형태에 있어서의 액정 표시 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는 제 2 실시 형태에 있어서의 액정 표시 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은 종래의 파장 변환층의 문제를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 5는 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 6은 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 8은 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9는 변형예에 있어서의 파장 변환층의 구성을 나타내는 도면이다.
도 10은 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터의 투과율의 예를 나타내는 도면이다.
도 11은 적색 및 녹색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터의 투과율의 예를 나타내는 도면이다.
1 is a diagram showing the configuration of a liquid crystal display device in a first embodiment.
Fig. 2 is a diagram showing the configuration of a liquid crystal display device in a second embodiment.
3 is a diagram for explaining a problem of a conventional wavelength conversion layer.
4 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
5 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
6 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
7 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
8 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
9 is a diagram showing the configuration of a wavelength conversion layer in a modified example.
10 is a diagram showing an example of transmittance of a color filter that absorbs light in a red wavelength region.
11 is a diagram showing an example of transmittance of a color filter that absorbs light in red and green wavelength regions.

<제 1 실시 형태><First Embodiment>

제 1 실시 형태에 있어서의 액정 표시 장치(100)는, 도 1의 단면 모식도에 나타내는 바와 같이, 편광판(10), 광학 보상층(12), TFT 기판(14), 층간 절연막(16), 표시 전극(18), 배향막(20), 액정층(22), 배향막(24), 공통 전극(26), 배리어 코팅층(28), 편광층(30), 파장 변환층(32), 대향 기판(34) 및 백라이트(36)를 포함하여 구성된다.As shown in the cross-sectional schematic diagram of FIG. 1, the liquid crystal display device 100 in the first embodiment includes a polarizing plate 10, an optical compensation layer 12, a TFT substrate 14, an interlayer insulating film 16, a display electrode 18, alignment film 20, liquid crystal layer 22, alignment film 24, common electrode 26, barrier coating layer 28, polarization layer 30, wavelength conversion layer 32, counter substrate 34 ) and a backlight 36.

액정 표시 장치(100)는, 화살표로 나타내는 바와 같이, 백라이트(36)로부터 광을 받아, 파장 변환층(32)에서 파장 변환된 광을 편광판(10)측으로부터 출력하여 화상을 표시하는 장치로서 기능한다. 또한, 액정 표시 장치(100)는, 편광판(10)측으로부터 입사되는 외광을 적극적으로 이용하여, 파장 변환층(32)에 있어서 외광을 파장 변환하여 출력할 수도 있다. 또한, 도 1은 모식도이며, 각 구성 요소의 크기 및 두께는 실제의 값을 반영하고 있지 않다.As indicated by arrows, the liquid crystal display device 100 functions as a device that receives light from the backlight 36 and outputs light converted in wavelength by the wavelength conversion layer 32 from the side of the polarizer 10 to display an image. do. In addition, the liquid crystal display device 100 may positively use external light incident from the polarizing plate 10 side, convert the wavelength of external light in the wavelength conversion layer 32 and output the same. In addition, FIG. 1 is a schematic diagram, and the size and thickness of each component do not reflect actual values.

본 실시 형태에서는, 액정 표시 장치(100)로서 액티브 매트릭스형 액정 표시 장치를 예로서 설명하지만, 본 발명의 적용 범위는 이에 한정되는 것은 아니고, 단순 매트릭스형 등의 다른 양태의 액정 표시 장치에도 적용 가능하다.In this embodiment, an active matrix type liquid crystal display device is described as an example as the liquid crystal display device 100, but the scope of application of the present invention is not limited to this, and it can also be applied to liquid crystal display devices of other modes such as simple matrix type do.

TFT 기판(14)은, 기판 상에 TFT를 화소마다 배치하여 구성된다. 기판은, 유리 등의 투명한 기판이다. 기판은, 액정 표시 장치(100)를 기계적으로 지지함과 함께, 광을 투과하여 화상을 표시하기 위해 이용된다. 기판은, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 등의 수지로 이루어지는 플렉시블 기판으로 해도 된다.The TFT substrate 14 is configured by arranging TFTs for each pixel on the substrate. The substrate is a transparent substrate such as glass. The substrate mechanically supports the liquid crystal display device 100 and is used to transmit light to display an image. The substrate may be a flexible substrate made of a resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, or a polycarbonate resin.

도 1에서는, TFT가 2개 나타나 있다. TFT의 대략 한가운데의 하부(기판 상)에는, 게이트 라인에 접속되는 게이트 전극(14a)이 배치된다. 게이트 전극(14a)을 덮어 게이트 절연막(14b)이 형성되고, 이 게이트 절연막(14b)을 덮어 반도체층(14c)이 형성된다. 게이트 절연막(14b)은, 예를 들면 SiO2 등의 절연체로 형성된다. 또한, 반도체층(14c)은, 아몰퍼스 실리콘이나, 폴리 실리콘으로 형성되고, 게이트 전극(14a)의 바로 위 부분이 불순물이 거의 없는 채널 영역이 되고, 양측이 불순물 도프에 의해 도전성이 부여된 소스 영역 및 드레인 영역이 된다. TFT의 드레인 영역의 위에는 콘택트 홀이 형성되고, 거기에 금속(예를 들면, 알루미늄)의 드레인 전극이 배치(전기적으로 접속)되며, 소스 영역의 위에는 콘택트 홀이 형성되고, 거기에 금속(예를 들면, 알루미늄)의 소스 전극이 배치(전기적으로 접속)된다. 드레인 전극은 데이터 전압이 공급되는 데이터 라인에 접속된다.In Fig. 1, two TFTs are shown. A gate electrode 14a connected to a gate line is disposed at a lower portion (on the substrate) of the TFT approximately in the middle. A gate insulating film 14b is formed to cover the gate electrode 14a, and a semiconductor layer 14c is formed to cover the gate insulating film 14b. The gate insulating film 14b is formed of an insulator such as SiO 2 , for example. In addition, the semiconductor layer 14c is formed of amorphous silicon or polysilicon, a portion immediately above the gate electrode 14a becomes a channel region containing almost no impurities, and a source region on both sides of which conductivity is imparted by impurity doping. and a drain region. A contact hole is formed on the drain region of the TFT, a drain electrode of metal (eg aluminum) is disposed (electrically connected) thereto, a contact hole is formed on the source region, and a metal (eg aluminum) drain electrode is disposed thereon. For example, a source electrode of aluminum) is disposed (electrically connected). The drain electrode is connected to a data line to which a data voltage is supplied.

TFT 기판(14)의 TFT가 형성되어 있지 않은 측의 표면에는, 편광판(10)이 형성된다. TFT 기판(14)의 기판의 표면을 덮도록 편광판(10)이 형성된다. 편광판(10)은, PVA(폴리비닐알코올)계 수지에 요오드계 재료 또는 이색성(二色性) 염료에 의해 염색이 이루어진 염색계의 편광 소자를 포함하는 것으로 하는 것이 바람직하다.A polarizing plate 10 is formed on the surface of the TFT substrate 14 on the side where TFTs are not formed. A polarizing plate 10 is formed so as to cover the surface of the substrate of the TFT substrate 14 . The polarizing plate 10 preferably includes a dyed-type polarizing element in which a PVA (polyvinyl alcohol)-based resin is dyed with an iodine-based material or a dichroic dye.

TFT 기판(14)의 TFT가 형성된 측의 면에는, 층간 절연막(16)을 개재하여 표시 전극(18)이 마련된다. 이 표시 전극(18)은 화소마다 분리된 개별 전극이며, 예를 들면 ITO(인듐·틴·옥사이드) 등에 의한 투명 전극이다. 표시 전극(18)은, TFT 기판(14)에 형성된 소스 전극에 접속된다.On the surface of the TFT substrate 14 on the side where the TFTs are formed, a display electrode 18 is provided with an interlayer insulating film 16 interposed therebetween. This display electrode 18 is an individual electrode separated for each pixel, and is, for example, a transparent electrode made of ITO (indium tin oxide) or the like. The display electrode 18 is connected to a source electrode formed on the TFT substrate 14 .

표시 전극(18)을 덮으며, 액정을 수직으로 배향시키는 배향막(20)이 형성된다. 배향막(20)은, 폴리이미드 등의 수지 재료에 의해 구성된다. 배향막(20)은, 예를 들면, 폴리이미드 수지가 되는 N-메틸-2-피롤리디논의 5wt% 용액을 표시 전극(18) 상에 인쇄하고, 180℃ 내지 280℃ 정도의 가열에 의해 경화시킨 후, 러빙포(Rubbing Clothes)에 의해 러빙을 행함으로써 배향 처리하여 형성할 수 있다.An alignment layer 20 covering the display electrode 18 and vertically aligning the liquid crystal is formed. The alignment film 20 is made of a resin material such as polyimide. The alignment film 20 is cured by, for example, printing a 5 wt% solution of N-methyl-2-pyrrolidinone, which is a polyimide resin, on the display electrode 18 and heating at about 180°C to 280°C. After that, it can be formed by orientation treatment by rubbing with rubbing clothes.

이어서, 대향 기판(34)측의 구성 및 제조 방법에 대하여 설명한다. 대향 기판(34)은, 유리 등의 투명한 기판이다. 대향 기판(34)은, 액정 표시 장치(100)를 기계적으로 지지함과 함께, 백라이트(36)로부터의 광을 투과하여 파장 변환층(32) 등에 입사시키기 위해 이용된다. 대향 기판(34)은, 에폭시 수지, 폴리이미드 수지, 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 등의 수지로 이루어지는 플렉시블 기판으로 해도 된다.Next, the configuration and manufacturing method on the counter substrate 34 side will be described. The counter substrate 34 is a transparent substrate such as glass. The counter substrate 34 is used to mechanically support the liquid crystal display device 100 and transmit light from the backlight 36 to enter the wavelength conversion layer 32 or the like. The counter substrate 34 may be a flexible substrate made of a resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, an acrylic resin, or a polycarbonate resin.

대향 기판(34) 상에는, 파장 변환층(32)이 형성된다. 파장 변환층(32)은, 화소마다 대향 기판(34)의 면내 방향으로 매트릭스 형상으로 배치된다. 파장 변환층(32)으로서, 후술하는 백라이트(36)로부터의 광을 받아 특정의 파장 영역의 광을 방출하는 형광체, 양자점, 양자 로드 중 어느 하나를 적용할 수 있다.On the counter substrate 34, a wavelength conversion layer 32 is formed. The wavelength conversion layer 32 is arranged in a matrix form in the in-plane direction of the counter substrate 34 for each pixel. As the wavelength conversion layer 32, any one of a phosphor, a quantum dot, and a quantum rod that receives light from the backlight 36 and emits light in a specific wavelength range may be used.

형광체는, 화소마다 빨강(R), 초록(G), 파랑(B) 중 어느 하나의 광을 발하는 재료로 하는 것이 바람직하다. 적색 형광체에는 Eu 활성화 황화물계 적색 형광체, 녹색 형광체에는 Eu 활성화 황화물계 녹색 형광체, 청색 형광체에는 Eu 활성화 인산염계 청색 형광체를 사용할 수 있다. 파장 변환층(32)은, 표시시키고 싶은 색에 따라 단일 또는 복수의 형광체를 포함하고 있는 것으로 할 수 있다.The phosphor is preferably a material that emits any one of red (R), green (G), and blue (B) light for each pixel. A Eu-activated sulfide-based red phosphor may be used as the red phosphor, an Eu-activated sulfide-based green phosphor may be used as the green phosphor, and a Eu-activated phosphate-based blue phosphor may be used as the blue phosphor. The wavelength conversion layer 32 can contain a single or a plurality of phosphors depending on the color to be displayed.

예를 들면, 380㎚ 이상 460㎚ 이하의 범위의 백라이트(36)로부터의 광이나 외광을 흡수하여, 청색광 및 황색광을 발하는 2종의 형광체를 포함하고 있는 경우에는, 유사적으로 백색광을 얻을 수 있다. 또한, 적색광, 녹색광 및 청색광이 발하는 3종의 형광체를 포함하고 있는 경우에도 마찬가지로 백색광을 얻을 수 있다. 또한, 피크 파장이 380㎚ 이상 460㎚ 이하의 범위의 백라이트(36)로부터의 광이나 외광을 흡수하여 임의의 색의 광을 발하는 단일 또는 복수의 형광체를 적절히 선택하여 이용함으로써, 임의의 색의 광을 발할 수 있는 액정 표시 장치가 얻어진다.For example, when two types of phosphors that absorb light from the backlight 36 or external light in the range of 380 nm or more and 460 nm or less to emit blue light and yellow light are included, white light can be similarly obtained. have. In addition, white light can be similarly obtained even when three kinds of phosphors that emit red light, green light, and blue light are included. In addition, by properly selecting and using a single or a plurality of phosphors that emit light of an arbitrary color by absorbing light or external light from the backlight 36 having a peak wavelength in the range of 380 nm to 460 nm, light of an arbitrary color can be obtained. A liquid crystal display device capable of emitting is obtained.

또한, 예를 들면, 380㎚ 이하의 자외광의 파장 범위의 백라이트(36)로부터의 광을 흡수하여, 원하는 파장 영역의 광을 발하는 청색광 및 황색광을 발하는 2종의 형광체를 포함하고 있는 경우에는, 유사적으로 백색광을 얻을 수 있다. 또한, 적색광, 녹색광 및 청색광이 발하는 3종의 형광체를 포함하고 있는 경우에도 마찬가지로 백색광을 얻을 수 있다. 또한, 피크 파장이 380㎚ 이하의 범위의 백라이트(36)로부터의 광을 흡수하여 임의의 색의 광을 발하는 단일 또는 복수의 형광체를 적절히 선택하여 이용함으로써, 임의의 색의 광을 발할 수 있는 액정 표시 장치가 얻어진다.In addition, for example, in the case of containing two types of phosphors that absorb light from the backlight 36 in the wavelength range of ultraviolet light of 380 nm or less and emit blue light and yellow light that emits light in a desired wavelength range , similarly white light can be obtained. In addition, white light can be similarly obtained even when three kinds of phosphors that emit red light, green light, and blue light are included. In addition, a liquid crystal capable of emitting light of any color by appropriately selecting and using a single or a plurality of phosphors absorbing light from the backlight 36 having a peak wavelength of 380 nm or less and emitting light of any color. A display device is obtained.

또한, 파장 변환층(32)은, 복수의 상이한 특성을 가지는 반도체 재료를 3차원적으로 주기적으로 배치한 양자점 구조나 2차원적으로 주기적으로 배치한 양자 로드에 의해서도 실현할 수 있다. 양자 도트나 양자 로드는, 상이한 배드 갭을 가지는 반도체 재료를 ㎚ 오더의 주기로 반복하여 배치함으로써, 원하는 밴드 갭을 가지는 재료로서 기능시키는 것이며, 백라이트(36)로부터의 광을 받아 밴드 갭에 따른 파장 영역의 광을 발하는 파장 변환층(32)으로서 이용할 수 있다. 구체적으로는, 백라이트(36)의 출력광의 파장 영역의 광을 흡수하여, 빨강(R), 초록(G), 파랑(B) 중 어느 하나의 광을 발하는 특성을 가지는 양자 도트 구조나 양자 로드 구조를 형성한다.In addition, the wavelength conversion layer 32 can also be realized by a quantum dot structure in which semiconductor materials having a plurality of different characteristics are periodically arranged three-dimensionally or a quantum rod in which two-dimensionally periodically arranged. A quantum dot or a quantum rod functions as a material having a desired band gap by repeatedly arranging semiconductor materials having different bad gaps at a cycle of nm order, and receives light from the backlight 36 to form a wavelength range according to the band gap. It can be used as a wavelength conversion layer 32 that emits light of. Specifically, a quantum dot structure or quantum rod structure having a characteristic of absorbing light in the wavelength range of the output light of the backlight 36 and emitting any one of red (R), green (G), and blue (B) light form

양자 도트는, 예를 들면, 중심핵(코어)을, 셀렌화 카드뮴(CdSe)으로 형성하고, 그 외측을 황화 아연(ZnS)의 피복층(셸)이 덮는 구조로 할 수 있다. 이 직경을 변경함으로써 발광색을 컨트롤할 수 있다. 예를 들면 빨강(R)을 발광시키는 경우에는 직경 8.3㎚, 초록(G)을 발광시키는 경우에는 직경 3㎚, 파랑(B)을 발광시키는 경우에는 직경을 더 작게 하면 된다. 또한, 중심핵 재료로서는, 인화 인듐(InP), 황화 인듐 구리(CuInS2), 카본, 그래핀 등을 이용해도 된다.A quantum dot can have, for example, a structure in which a central core (core) is formed of cadmium selenide (CdSe) and the outside is covered with a coating layer (shell) of zinc sulfide (ZnS). By changing this diameter, the emission color can be controlled. For example, when emitting red (R), the diameter is 8.3 nm, when emitting green (G), 3 nm in diameter, and when emitting blue (B), the diameter may be smaller. As the core material, indium phosphide (InP), indium copper sulfide (CuInS2), carbon, graphene, or the like may be used.

파장 변환층을, 빨강(R), 초록(G), 파랑(B)을 발광하는 형광체 또는 양자 도트 또는 양자 로드로 하고, 표시 전극에 대응한 개소에 패터닝 처리에 의해 형성 및 배치함으로써 풀 컬러 표시가 가능해진다. 패터닝 처리는, 빨강(R), 초록(G), 파랑(B)을 발광하는 형광체 재료 또는 양자 도트 재료 또는 양자 로드 재료를 감광성 고분자에 분산하고, 이 분산액을 코터에 의해 기판(34) 상에 도포 형성하며, 노광, 현상함으로써 실현된다. 각각의 색의 사이에는 표시 화소간의 혼색을 방지하기 위해 블랙 매트릭스를 형성해도 된다.Full-color display by forming and placing the wavelength conversion layer as a phosphor or quantum dot or quantum rod that emits red (R), green (G), or blue (B) light by patterning at a location corresponding to the display electrode becomes possible In the patterning process, a phosphor material or quantum dot material or quantum rod material that emits red (R), green (G), or blue (B) light is dispersed in a photosensitive polymer, and the dispersion is applied onto the substrate 34 by a coater. It is realized by coating, forming, exposing, and developing. A black matrix may be formed between the respective colors to prevent color mixing between display pixels.

파장 변환층(32) 상에는, 편광층(30)이 형성된다. 편광층(30)은, PVA(폴리비닐알코올)계 수지에 이색성 염료에 의해 염색이 이루어진 염색계의 편광 소자를 포함하는 것으로 하는 것이 바람직하다. 여기서, 염료계 재료는, 아조 화합물 및/또는 그 염을 함유하는 것이 바람직하다.On the wavelength conversion layer 32, a polarization layer 30 is formed. The polarization layer 30 preferably includes a dye-type polarizing element in which dyeing is performed with a dichroic dye on a PVA (polyvinyl alcohol)-based resin. Here, the dye material preferably contains an azo compound and/or a salt thereof.

즉, 이하의 화학식을 충족시키는 염료계 재료를 이용하는 것이 바람직하다.That is, it is preferable to use a dye-based material that satisfies the following chemical formula.

Figure 112019117639911-pct00001
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(1) 식 중 R1, R2는 각각 독립적으로 수소 원자, 저급 알킬기, 저급 알콕실기를 나타내고, n은 1 또는 2로 나타나는 아조 화합물 및 그 염.(1) In the formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom, a lower alkyl group, and a lower alkoxyl group, and n is 1 or 2 to represent an azo compound and a salt thereof.

(2) R1, R2가 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 메톡시기 중 어느 것인 (1) 기재의 아조 화합물 및 그 염.(2) The azo compound according to (1), wherein each of R1 and R2 is independently a hydrogen atom, a methyl group, or a methoxy group, and a salt thereof.

(3) R1, R2가 수소 원자인 (1) 기재의 아조 화합물 및 그 염.(3) The azo compound according to (1), wherein R1 and R2 are hydrogen atoms, and salts thereof.

예를 들면, 이하에 나타내는 공정에서 얻어지는 재료를 이용하는 것이 바람직하다. 4-아미노벤조산 13.7부를 물 500부에 가해, 수산화 나트륨으로 용해한다. 얻어진 물질을 냉각하여 10℃ 이하에서 35% 염산 32부를 가하고, 이어서 아초산 나트륨 6.9부를 가해, 5~10℃에서 1시간 교반한다. 거기에 아닐린-ω-메탄술폰산 소다 20.9부를 가해, 20~30℃에서 교반하면서, 탄산나트륨을 가해 pH 3.5로 한다. 또한, 교반하여 커플링 반응을 완결시키고, 여과하여, 모노 아조 화합물을 얻는다. 얻어진 모노 아조 화합물을 수산화 나트륨 존재하, 90℃에서 교반하여, 화학식 (2)의 모노 아조 화합물 17부를 얻는다.For example, it is preferable to use the material obtained by the process shown below. 13.7 parts of 4-aminobenzoic acid are added to 500 parts of water and dissolved with sodium hydroxide. The resulting material is cooled, 32 parts of 35% hydrochloric acid is added at 10°C or less, then 6.9 parts of sodium nitrite is added, and the mixture is stirred at 5 to 10°C for 1 hour. 20.9 parts of sodium aniline-omega-methanesulfonate is added thereto, and sodium carbonate is added to adjust the pH to 3.5 while stirring at 20 to 30°C. Further, the coupling reaction is completed by stirring, followed by filtration to obtain a monoazo compound. The obtained monoazo compound is stirred at 90 degreeC in sodium hydroxide presence, and 17 parts of monoazo compounds of Formula (2) are obtained.

Figure 112019117639911-pct00002
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화학식 (2)의 모노 아조 화합물 12부, 4,4'-디니트로스틸벤-2,2'-술폰산 21부를 물 300부에 용해시킨 후, 수산화 나트륨 12부를 가해, 90℃에서 축합 반응시킨다. 계속해서, 글루코오스 9부로 환원하여, 염화 나트륨으로 염석한 후, 여과하여 화학식 (3)으로 나타나는 아조 화합물 16부를 얻는다.After dissolving 12 parts of the monoazo compound of formula (2) and 21 parts of 4,4'-dinitrostilbene-2,2'-sulfonic acid in 300 parts of water, 12 parts of sodium hydroxide are added and a condensation reaction is effected at 90°C. Then, after reducing with 9 parts of glucose, salting out with sodium chloride, and filtering, 16 parts of an azo compound represented by Formula (3) are obtained.

Figure 112019117639911-pct00003
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또한, 화합물(3)의 염료를 0.01%, C·I·다이렉트·레드 81을 0.01%, 일본국특허 2622748호 공보의 실시예 1에 있어서 나타나 있는 하기 구조식 (4)로 나타나는 염료를 0.03%, 일본공개특허 특개소60-156759호 공보의 실시예 23에 있어서 공개되어 있는 하기 구조식 (5)로 나타나는 염료 0.03% 및 망초 0.1%의 농도로 한 45℃의 수용액에 기판으로서 두께 75㎛의 폴리비닐알코올(PVA)을 4분간 침지한다. 이 필름을 3% 붕산 수용액 중에서 50℃에서 5배로 연신하여, 긴장 상태를 보지(保持)한 채 수세, 건조한다. 이에 따라, 중성색(평행 위치에서는 그레이이며, 직교 위치에서는 흑색)이 되는 염료계 재료를 얻을 수 있다.In addition, 0.01% of the dye of compound (3), 0.01% of C I Direct Red 81, 0.03% of the dye represented by the following structural formula (4) shown in Example 1 of Japanese Patent No. 2622748, In Example 23 of Japanese Laid-Open Patent Publication No. 60-156759, a polyvinyl film having a thickness of 75 μm is used as a substrate in an aqueous solution at 45° C. at a concentration of 0.03% of a dye represented by the following structural formula (5) and 0.1% of a saltpeter. Soak in alcohol (PVA) for 4 minutes. This film is stretched 5 times at 50°C in a 3% aqueous solution of boric acid, washed with water and dried while maintaining a tensioned state. In this way, a dye-based material of neutral color (gray at the parallel position and black at the orthogonal position) can be obtained.

Figure 112019117639911-pct00004
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Figure 112019117639911-pct00005
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통상의 편광 소자는, 수지에 요오드 및 요오드 화합물에 의해 염색한 재료로 형성된 요오드계의 편광 소자이다. 그러나, 요오드 및 요오드 화합물은 열에 약하고, 100℃ 정도의 가열에 의해 변질되어버린다. 한편, 염료(이색성 염료)를 이용하는 편광 소자는, 비교적 열에 강하고, 130℃ 정도의 가열이면 변질을 방지할 수 있다. 따라서, 후술하는 배향막(24)이나 공통 전극(26)의 형성 시의 성막 온도의 영향을 받지 않아, 대향 기판(34)과 배향막(24)과의 사이에 편광층(30)을 형성하는 것이 가능해진다.A typical polarizing element is an iodine-based polarizing element formed of a material dyed with iodine and an iodine compound on a resin. However, iodine and iodine compounds are weak against heat and are changed in quality by heating at about 100°C. On the other hand, a polarizing element using a dye (dichroic dye) is relatively resistant to heat and can prevent deterioration if heated at about 130°C. Therefore, it is possible to form the polarization layer 30 between the counter substrate 34 and the alignment film 24 without being affected by the film formation temperature at the time of forming the alignment film 24 or the common electrode 26 described later. It happens.

또한, 편광층(30)의 함수율을 3% 이하, 바람직하게는 1% 이하, 더 바람직하게는 0.1% 이하로 하는 것이 바람직하다. 즉, 편광층(30)의 함수율을 저하시킴으로써, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26)이나 액정층(22)에 도달하기 어렵게 할 수 있다.In addition, it is desirable to set the moisture content of the polarization layer 30 to 3% or less, preferably 1% or less, and more preferably 0.1% or less. That is, by reducing the moisture content of the polarization layer 30 , it is possible to make it difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26 or the liquid crystal layer 22 .

이와 같이, 편광층(30)의 함수율을 낮게 억제함으로써, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26)이나 액정층(22)에 도달하기 어려워져, 수분에 의한 공통 전극(26)이나 액정층(22)의 열화를 억제할 수 있다.In this way, by suppressing the water content of the polarization layer 30 to a low level, it is difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26 or the liquid crystal layer 22, and the common electrode 26 due to moisture However, deterioration of the liquid crystal layer 22 can be suppressed.

또한, 함수율은, (편광층(30) 내의 수분 중량/편광층(30)의 전체 중량)×100(%)로서 나타난다. 함수율은, 칼 피셔법 또는 가열 중량 변화법에 의해 측정할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서의 함수율은, 칼 피셔법 또는 가열 중량 변화법을 적용하여 측정한 함수율을 의미하는 것으로 한다.In addition, the water content is expressed as (the total weight of the water weight/polarization layer 30 in the polarization layer 30) × 100 (%). Moisture content can be measured by the Karl Fischer method or the heating weight change method. The moisture content in this embodiment shall mean the moisture content measured by applying the Karl Fischer method or the heating weight change method.

칼 피셔법으로서는, 미쯔비시 케미컬 애널리테크사제의 수분 측정 장치(CA-200형(型) 또는 KF-200형)에, 수분 기화 장치(VA200형)를 장착하여 사용함으로써 함수율의 측정이 가능해진다.As the Karl Fischer method, the moisture content can be measured by using a moisture vaporizer (VA200 type) attached to a moisture measuring device (CA-200 type or KF-200 type) manufactured by Mitsubishi Chemical Analyst.

또한, 가열 중량 변화법은, 정밀 천칭 등으로 중량을 측정한 시료를, 가열하여 충분히 수분을 기화시킨 후, 다시 중량을 측정하여, 수학식 (1)에 의해 함수율을 계산하는 방법이다. 가열 시간은, 시료의 크기나 상태 등에 의해 변화되지만, 예를 들면, 120℃에서 2분이다.In addition, the heating weight change method is a method of heating a sample weighed with a precision balance or the like to sufficiently vaporize moisture, then measuring the weight again, and calculating the moisture content by Equation (1). The heating time varies depending on the size and condition of the sample, but is, for example, 2 minutes at 120°C.

Figure 112019117639911-pct00006
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예를 들면, 편광층(30)을 파장 변환층(32)에 붙이기 전, 또는 파장 변환층(32)에 붙인 후에 어닐 처리를 실시함으로써 편광층(30)의 함수율을 저하시킬 수 있다. 어닐 처리는, 100℃ 이상 150℃ 미만의 온도 범위에서 행하는 것이 바람직하다. 또한, 어닐 처리 시에 편광층(30)을 진공조에 도입한 상태로 행하는 것이 바람직하다.For example, the water content of the polarization layer 30 can be reduced by performing an annealing treatment before attaching the polarization layer 30 to the wavelength conversion layer 32 or after attaching the polarization layer 30 to the wavelength conversion layer 32 . It is preferable to perform annealing in the temperature range of 100 degreeC or more and less than 150 degreeC. In addition, it is preferable to carry out the annealing treatment in a state where the polarization layer 30 is introduced into a vacuum chamber.

구체적으로는, 예를 들면, 폴리에틸 테레프탈레이트(PET) 기재에 폴리비닐알코올(PVA)을 도포하고, 60℃의 온수에 담그어 팽윤시킨다. 그 후, 상기와 마찬가지로, 이색성 염료의 수용액에 의해 염착시켜 연신한다. 그 후, 자외선 경화 수지를 이용하여 파장 변환층(32)이 형성된 대향 기판(34) 상에 PVA측이 붙임면이 되도록 붙인다. 이 때, 붙이기 전 또는 붙인 후에 110℃에서 1시간의 어닐 처리를 행한다. 그 후, 염색, 연신된 PVA를 남기고 PET 기재는 박리된다.Specifically, for example, polyvinyl alcohol (PVA) is applied to a polyethyl terephthalate (PET) base material and immersed in hot water at 60° C. to swell. After that, in the same manner as above, it is dyed with an aqueous solution of a dichroic dye and stretched. After that, it is pasted on the counter substrate 34 on which the wavelength conversion layer 32 is formed using an ultraviolet curing resin so that the PVA side becomes the bonding surface. At this time, an annealing treatment is performed at 110° C. for 1 hour before or after pasting. After that, the PET substrate is peeled off leaving the dyed and stretched PVA.

여기서, 편광층(30)을 파장 변환층(32)에 붙이기 전에 어닐 처리함으로써, 가열에 의해 파장 변환층(32) 등의 특성의 저하를 억제할 수 있다. 한편, 편광층(30)을 파장 변환층(32)에 붙인 후에 어닐 처리를 실시함으로써, 어닐 처리 후에 즉시 배리어 코팅층(28)이나 공통 전극(26)을 편광층(30) 상에 형성할 수 있어, 어닐 후에 수분이 편광층(30) 내로 다시 들어가는 것을 억제할 수 있다.Here, by annealing the polarization layer 30 before attaching it to the wavelength conversion layer 32, deterioration in characteristics of the wavelength conversion layer 32 or the like due to heating can be suppressed. On the other hand, by attaching the polarization layer 30 to the wavelength conversion layer 32 and then performing the annealing treatment, the barrier coating layer 28 or the common electrode 26 can be formed on the polarization layer 30 immediately after the annealing treatment. , it is possible to suppress re-entry of moisture into the polarization layer 30 after annealing.

또한, 본 실시 형태에서는, 편광층(30)에 대하여 어닐 처리를 실시함으로써 함수율을 저하시켰지만, 이에 한정되는 것은 아니고, 함수율을 저하시킬 수 있는 처리이면 된다. 예를 들면, 편광층(30)을 도입한 진공조 내를 진공 상태로 함으로써 건조시켜, 편광층(30) 내의 수분을 저하시키는 진공 처리로 해도 된다.Further, in the present embodiment, the moisture content was reduced by annealing the polarizing layer 30, but it is not limited to this, and any treatment capable of reducing the moisture content may be used. For example, it is good also as vacuum treatment which reduces the water|moisture content in the polarization layer 30 by drying by setting the inside of the vacuum chamber into which the polarization layer 30 was introduced into a vacuum state.

편광층(30) 상에는, 배리어 코팅층(28)이 형성된다. 배리어 코팅층(28)은, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26)이나 액정층(22)에 도달하기 어렵게 하는 기능을 가지는 층이다. 배리어 코팅층(28)은, 편광층(30)과 액정층(22)과의 사이에 배치하는 것이 바람직하다. 또한, 편광층(30)과 액정층(22)과의 사이에 공통 전극(26)이 마련되어 있는 경우, 배리어 코팅층(28)은, 편광층(30)과 공통 전극(26)과의 사이에 배치하는 것이 보다 바람직하다. 배리어 코팅층(28)은, 유기층이나 무기층 또는 이들을 조합한 하이브리드층으로 할 수 있다.On the polarization layer 30, a barrier coating layer 28 is formed. The barrier coating layer 28 is a layer having a function of preventing moisture contained in the polarization layer 30 from reaching the common electrode 26 or the liquid crystal layer 22 . The barrier coating layer 28 is preferably disposed between the polarization layer 30 and the liquid crystal layer 22 . Further, when the common electrode 26 is provided between the polarization layer 30 and the liquid crystal layer 22, the barrier coating layer 28 is disposed between the polarization layer 30 and the common electrode 26. It is more preferable to The barrier coating layer 28 can be an organic layer, an inorganic layer, or a hybrid layer combining these.

이와 같이, 배리어 코팅층(28)을 마련함으로써, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26)이나 액정층(22)에 도달하기 어려워져, 수분에 의한 공통 전극(26)이나 액정층(22)의 열화를 억제할 수 있다.In this way, by providing the barrier coating layer 28, it is difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26 or the liquid crystal layer 22, and the common electrode 26 or the liquid crystal layer caused by the moisture Deterioration of (22) can be suppressed.

배리어 코팅층(28)으로서 이용하는 유기층은, 아크릴계 재료를 포함하는 것이 바람직하다. 유기층은, 무기층에 비해 편광층(30)과의 밀착성이 좋고, 가공하기 쉬운 점에서 유리하다.The organic layer used as the barrier coating layer 28 preferably contains an acrylic material. The organic layer is advantageous in that it has better adhesion to the polarization layer 30 than the inorganic layer and is easy to process.

아크릴계 수지층은, (메타)아크릴레이트 성분과, 광중합 개시제를 적어도 함유하는 중합성 수지 조성물을 경화시켜 구성할 수 있다. (메타)아크릴레이트 성분은, 수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트 (A)를 함유하고, 임의로 (메타)아크릴레이트기를 3개 이상 가지는 (메타)아크릴레이트 (B)를 더 함유한다. 본 실시 형태에서는, (메타)아크릴레이트는, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 나타내는 것으로 한다. 마찬가지로, (메타)아크릴로일기는, 아크릴로일기 및/또는 메타크릴로일기를 나타내는 것으로 한다.The acrylic resin layer can be constituted by curing a polymerizable resin composition containing at least a (meth)acrylate component and a photopolymerization initiator. The (meth)acrylate component contains (meth)acrylate (A) having a hydroxyl group, and optionally further contains (meth)acrylate (B) having three or more (meth)acrylate groups. In this embodiment, (meth)acrylate shall represent an acrylate and/or methacrylate. Similarly, the (meth)acryloyl group shall represent an acryloyl group and/or a methacryloyl group.

(메타)아크릴레이트 성분의 용제를 제외한 전체 수산기값은, 100~200mgKOH/g이다. 중합성 수지 조성물 중의 (메타)아크릴레이트 성분의 수산기값을 이 범위 내로 억제함으로써, 아크릴계 수지층의 편광층(30)으로의 밀착성 및 접착성을 높일 수 있다. 아크릴계 수지층은, 편광층(30)에 대한 밀착성이 양호하기 때문에, 편광층(30)에 우수한 내구성을 부여할 수 있다. (메타)아크릴레이트 성분 전체의 수산기값이 상기 범위에 들어 있는 한에 있어서, (메타)아크릴레이트 성분은, 수산기를 갖지 않는 (메타)아크릴레이트 화합물을 더 함유해도 된다.The total hydroxyl value of the (meth)acrylate component excluding the solvent is 100 to 200 mgKOH/g. By suppressing the hydroxyl value of the (meth)acrylate component in the polymerizable resin composition within this range, the adhesion and adhesiveness of the acrylic resin layer to the polarizing layer 30 can be improved. Since the acrylic resin layer has good adhesion to the polarization layer 30, it can impart excellent durability to the polarization layer 30. As long as the hydroxyl value of the entire (meth)acrylate component is within the above range, the (meth)acrylate component may further contain a (meth)acrylate compound having no hydroxyl group.

중합성 수지 조성물의 고형분 환산에서의 수산기값은, 이하의 식 (2)에 의해 구할 수 있다.The hydroxyl value in terms of solid content of the polymerizable resin composition can be obtained by the following formula (2).

Figure 112019117639911-pct00007
Figure 112019117639911-pct00007

수학식 (2)에 있어서, 수지의 평균 분자량은, (메타)아크릴레이트 성분에 포함되는 (메타)아크릴레이트 각각의 분자량과 배합비로부터 산출한 (메타)아크릴레이트 혼합물의 평균 분자량을 나타낸다. 예를 들면, (메타)아크릴레이트 성분이, 분자량 MA의 (메타)아크릴레이트 (A)를 XA 중량%, 분자량 MB의 (메타)아크릴레이트 성분 (B)를 XB 중량% 포함하는 경우, 수지의 평균 분자량 M은, M=MA×XA/100+MB×XB/100로 나타난다. (메타)아크릴레이트 성분이 그 밖의 (메타)아크릴레이트를 포함하는 경우도 마찬가지로 배합비에 의거하여 평균 분자량을 산출할 수 있다.In the formula (2), the average molecular weight of the resin represents the average molecular weight of the (meth)acrylate mixture calculated from the molecular weight of each (meth)acrylate contained in the (meth)acrylate component and the compounding ratio. For example, when the (meth)acrylate component contains (meth)acrylate (A) of molecular weight MA in XA weight% and (meth)acrylate component (B) of molecular weight MB in XB weight%, of resin Average molecular weight M is represented by M=MA×XA/100+MB×XB/100. Also when the (meth)acrylate component contains other (meth)acrylates, the average molecular weight can be similarly calculated based on the compounding ratio.

수산기를 함유하는 (메타)아크릴레이트 (A)로서는, 예를 들면, EHC 변성 부틸아크릴레이트(나가세산업제(製) 데나콜 DA-151), 글리세롤메타크릴레이트(니치유제 브렘머 GLM), 2-히드록시-3-메타크릴옥시프로필트리메틸암모늄클로라이드(니치유제 브렘머 QA), EO 변성 인산 아크릴레이트(교에이사화학제 라이트에스테르 P-A), EO 변성 프탈산 아크릴레이트(오사카유기제 비스코트 2308), EO, PO 변성 프탈산 메타크릴레이트(교에이사화학제 라이트에스테르 HO), 아크릴화 이소시아누레이트(토아고세이제 아로닉스 M-215), EO 변성 비스페놀 A 디아크릴레이트(교에이사화학제 에폭시에스테르 3000A), 디펜타에리스리톨모노히드록시펜타아크릴레이트(사토머사제 SR-399), 글리세롤디메타크릴레이트(나가세산업사제 데나콜 DM-811), 글리세롤아크릴레이트(니치유제 브렘머 GAM), 글리세롤디메타크릴레이트(니치유제 브렘머 GMR), ECH 변성 글리세롤트리아크릴레이트(나가세산업제 데나콜 DA-314), ECH 변성 1,6-헥산디올디아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 R-167), 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 PET-30), 스테아르산 변성 펜타엘스리톨디아크릴레이트(토아고세이제 아로닉스 M-233), ECH 변성 프탈산 디아크릴레이트(나가세산업제 데나콜 DA-721), 트리글리세롤디아크릴레이트(교에이사화학제 에폭시에스테르 80 MFA), 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 및 4-히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As (meth)acrylate (A) containing a hydroxyl group, for example, EHC-modified butyl acrylate (Denacol DA-151, manufactured by Nagase Sangyo), glycerol methacrylate (Bremmer GLM, manufactured by Nichiyu Co., Ltd.), 2 -Hydroxy-3-methacryloxypropyltrimethylammonium chloride (Nichiyu Bremmer QA), EO-modified phosphoric acid acrylate (Kyoei Chemical Co., Ltd. Light Ester P-A), EO-modified phthalic acid acrylate (Osaka Yuki Co., Ltd. Biscott 2308) , EO, PO modified phthalic acid methacrylate (Kyoei Chemical Co., Ltd. Light Ester HO), acrylated isocyanurate (Toagosei Co., Ltd. Aronix M-215), EO modified bisphenol A diacrylate (Kyoei Chemical Co., Ltd. epoxy Ester 3000A), dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate (SR-399 manufactured by Sartomer Co., Ltd.), glycerol dimethacrylate (Denacol DM-811 manufactured by Nagase Sangyo Co., Ltd.), glycerol acrylate (Bremmer GAM manufactured by Nichi Yuzu Co., Ltd.), glycerol Dimethacrylate (Bremmer GMR manufactured by Nichiyu), ECH modified glycerol triacrylate (Denacol DA-314 manufactured by Nagase Sangyo), ECH modified 1,6-hexanediol diacrylate (Kayarad R-167 manufactured by Nippon Kayaku) , pentaerythritol triacrylate (Kayarad PET-30 manufactured by Nippon Kayaku), stearic acid modified pentaelslitol diacrylate (Toagosei Aronix M-233), ECH modified phthalic acid diacrylate (Denacol DA manufactured by Nagase Sangyo) -721), triglycerol diacrylate (epoxy ester 80 MFA manufactured by Kyoeisha Chemical), 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl ( meta) acrylate; and the like.

수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트 (A)는, 이들의 화합물 중, 다관능 (메타)아크릴레이트인 것이 바람직하고, 수산기에 더해, (메타)아크릴로일기를 3개 이상을 가지는 (메타)아크릴레이트인 것이 보다 바람직하다. 수산기와 (메타)아크릴로일기를 3개 이상을 가지는 (메타)아크릴레이트로서는, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(수산기값=188mgKOH/g), 및 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트(107mgKOH/g)가 바람직하다.Among these compounds, the (meth)acrylate (A) having a hydroxyl group is preferably a polyfunctional (meth)acrylate, and a (meth)acryl having three or more (meth)acryloyl groups in addition to the hydroxyl group. It is more preferable that it is rate. As the (meth)acrylate having three or more hydroxyl groups and (meth)acryloyl groups, pentaerythritol triacrylate (hydroxyl value = 188 mgKOH/g) and dipentaerythritol pentaacrylate (107 mgKOH/g) are preferable. .

수산기를 함유하는 (메타)아크릴레이트 (A)의 중합성 수지 조성물 중의 함유량은, 중합성 수지 조성물의 고형분 중에, 바람직하게는 50~99중량%이며, 보다 바람직하게는 70~99중량%이다.The content of the (meth)acrylate (A) containing a hydroxyl group in the polymerizable resin composition is preferably 50 to 99% by weight, more preferably 70 to 99% by weight, in the solid content of the polymerizable resin composition.

중합성 수지 조성물은, (메타)아크릴로일기를 3개 이상 가지는 (메타)아크릴레이트 (B)를 더 함유해도 된다. (메타)아크릴로일기를 3개 이상 가지는 (메타)아크릴레이트 (B)로서는, 예를 들면 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 PET-30), 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 PET-40), 펜타에리스리톨테트라메타크릴레이트(사토머사제 SR-367), 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 DPHA), 디펜타에리스리톨모노히드록시펜타아크릴레이트(사토머제 SR-399), 알킬 변성 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 D-310), 알킬 변성 디펜타에리스리톨테트라아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 D-320), 알킬 변성 디펜타에리스리톨트리아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 D-330), 카프로락톤 변성 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 DPCA-20, 니혼카야쿠제 카야라드 DPCA-60, 니혼카야쿠제 카야라드 DPCA-120), 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 TMPTA), 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트(사토머제 SR-350), 디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트(사토머제 SR-355), 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸올프로판디아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 R-604), EO 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(사토머제 SR-450), PO 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(니혼카야쿠제 카야라드 TPA-시리즈) 또는 ECH 변성 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(나가세산업제 데코날 DA-321), 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트(토아고세이제 아로닉스 M315), 에피클로르히드린(ECH) 변성 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥사이드(EO) 변성 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥사이드(PO) 변성 글리세롤트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 인산 트리(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, EO 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, PO 변성 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 실리콘헥사(메타)아크릴레이트, 디올과 폴리이소시아네이트와 수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트와의 반응물인 우레탄아크릴레이트, 활성 수소(수산기, 아민 등)를 가지는 다관능 (메타)아크릴레이트와 폴리이소시아네이트 화합물의 반응물인 다관능 우레탄(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The polymerizable resin composition may further contain (meth)acrylate (B) having three or more (meth)acryloyl groups. As the (meth)acrylate (B) having three or more (meth)acryloyl groups, for example, pentaerythritol triacrylate (Kayarad PET-30 manufactured by Nippon Kayaku), pentaerythritol tetraacrylate (Kaya manufactured by Nippon Kayaku) Lard PET-40), pentaerythritol tetramethacrylate (SR-367 manufactured by Sartomer), dipentaerythritol hexaacrylate (Kayarad DPHA manufactured by Nippon Kayaku), dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate (SR-367 manufactured by Sartomer) 399), alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate (Kayarad D-310 manufactured by Nippon Kayaku), alkyl-modified dipentaerythritol tetraacrylate (Kayarad D-320 manufactured by Nippon Kayaku), alkyl-modified dipentaerythritol triacrylate ( Nihon Kayaku Kayarad D-330), caprolactone-modified dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Kayarad DPCA-20, Nihon Kayaku Kayarad DPCA-60, Nihon Kayaku Kayarad DPCA-120), trimethylol Propane triacrylate (Kayarad TMPTA manufactured by Nippon Kayaku), trimethylolpropane trimethacrylate (SR-350 manufactured by Sartomer), ditrimethylolpropane tetraacrylate (SR-355 manufactured by Sartomer), neopentyl glycol modified trimethylolpropane Diacrylate (Kayarad R-604 manufactured by Nippon Kayaku), EO modified trimethylolpropane triacrylate (SR-450 manufactured by Sartomer), PO modified trimethylolpropane triacrylate (Kayarad TPA-series manufactured by Nippon Kayaku) or ECH Modified trimethylolpropane triacrylate (Deconal DA-321 manufactured by Nagase Sangyo), tris(acryloxyethyl) isocyanurate (Aronix M315 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), epichlorhydrin (ECH) modified glycerol tri(meth) Acrylates, ethylene oxide (EO) modified glycerol tri(meth)acrylate, propylene oxide (PO) modified glycerol tri(meth)acrylate, EO modified phosphoric acid tri(meth)acrylate, caprolactone modified trimethylolpropane tri(meth) )Acrylate, EO modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, PO modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, silicon hexa(meth)acrylate, diol and poly Polyfunctional urethane (meth)acrylate, which is a reaction product of polyisocyanate compound and polyfunctional (meth)acrylate having active hydrogen (hydroxyl group, amine, etc.) A rate etc. are mentioned.

(메타)아크릴로일기를 3개 이상 가지는 (메타)아크릴레이트 (B)의 중합성 수지 조성물 중의 함유량은, 중합성 수지 조성물의 고형분 중에, 바람직하게는 50~99중량%이며, 보다 바람직하게는 70~99중량%이다.The content of the (meth)acrylate (B) having three or more (meth)acryloyl groups in the polymerizable resin composition is preferably 50 to 99% by weight in the solid content of the polymerizable resin composition, more preferably 70 to 99% by weight.

(메타)아크릴레이트 성분 전체에 있어서의 (메타)아크릴로일기의 수의 평균값은, 3~6인 것이 바람직하다. (메타)아크릴로일기의 수의 평균값이 상기 범위임으로써, 막의 경도가 높으며, 도공 공정 중에 상처가 발생하기 어렵고, 또한, 편광층(30)의 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.It is preferable that the average value of the number of (meth)acryloyl groups in the whole (meth)acrylate component is 3-6. When the average number of (meth)acryloyl groups is within the above range, the hardness of the film is high, scratches are unlikely to occur during the coating process, and durability of the polarization layer 30 can be improved.

(메타)아크릴레이트 성분은, (메타)아크릴 성분의 수산기값이 상기 범위에 들어가는 한, 수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트 (A), 및 (메타)아크릴로일기를 3개 이상 가지는 (메타)아크릴레이트 (B) 외에도, 그 밖의 (메타)아크릴레이트를 임의의 비율로 더 함유해도 된다.The (meth)acrylate component, as long as the hydroxyl value of the (meth)acryl component falls within the above range, (meth)acrylate (A) having a hydroxyl group and (meth)acryloyl group having three or more (meth)acryloyl groups. In addition to the acrylate (B), you may further contain other (meth)acrylates in an arbitrary ratio.

광중합 개시제로서는, 예를 들면, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 및 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인류; 아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-페닐프로판-1-온, 디에톡시아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 및 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온 등의 아세토페논류; 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 및 2-아밀안트라퀴논 등의 안트라퀴논류; 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 및 2-클로로티오크산톤 등의 티오크산톤류; 아세토페논디메틸케탈 및 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드, 및 4,4'-비스메틸아미노벤조페논 등의 벤조페논류; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등의 포스핀옥사이드류 등을 들 수 있다. 이들은, 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the photopolymerization initiator include benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin isobutyl ether; Acetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-phenylpropan-1-one, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclo acetophenones such as hexylphenyl ketone and 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one; anthraquinones such as 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, and 2-amylanthraquinone; thioxanthone such as 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, and 4,4'-bismethylaminobenzophenone; and phosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide. You may use these individually or in mixture of 2 or more types.

중합성 수지 조성물에 있어서, 광중합 개시제의 함유량은, 중합성 수지 조성물의 고형분 중에, 바람직하게는 0.5~10중량%이며, 보다 바람직하게는 1~7중량%이다.In the polymerizable resin composition, the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.5 to 10% by weight, more preferably 1 to 7% by weight, based on the solid content of the polymerizable resin composition.

광중합 개시제는, 경화 촉진제와 병용할 수도 있다. 병용할 수 있는 경화 촉진제로서는, 예를 들면 트리에탄올아민, 디에탄올아민, N-메틸디에탄올아민, 2-메틸아미노에틸벤조에이트, 디메틸아미노아세토페논, p-디메틸아미노벤조산 이소아미노에스테르, EPA 등의 아민류, 및 2-메르캅토벤조티아졸 등의 수소 공여체를 들 수 있다. 경화 촉진제의 사용량은, 중합성 수지 조성물의 고형분 중에, 바람직하게는 0~5중량%이다.A photoinitiator can also be used together with a hardening accelerator. As a hardening accelerator which can be used together, for example, triethanolamine, diethanolamine, N-methyldiethanolamine, 2-methylaminoethyl benzoate, dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzoic acid isoamino ester, EPA, etc. Hydrogen donors, such as amines and 2-mercaptobenzothiazole, are mentioned. The amount of the curing accelerator used is preferably 0 to 5% by weight in the solid content of the polymerizable resin composition.

상기 중합성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 아크릴계 수지층은, 수산기를 가지고 있기 때문에, 트리아세틸셀룰로오스와의 밀착성이 향상됨과 함께, 비누화 처리 후의 편광층(30)과의 접착성이 향상된다.Since the acrylic resin layer formed by curing the polymerizable resin composition has a hydroxyl group, adhesion to triacetyl cellulose is improved and adhesion to the polarizing layer 30 after saponification treatment is improved.

배리어 코팅층(28)으로서 이용하는 무기층은, 산화 실리콘(SiOx)이나 질화 실리콘(SiNx)을 포함하는 것이 바람직하다. 무기층은, 스퍼터링법이나 원자층 퇴적법(ALD) 등으로 성막할 수 있다. 무기층은, 유기층에 비해 얇게 해도 수분의 투과율을 작게 할 수 있는 점에서 유리하다.The inorganic layer used as the barrier coating layer 28 preferably contains silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx). The inorganic layer can be formed into a film by a sputtering method, an atomic layer deposition method (ALD), or the like. The inorganic layer is advantageous in that the water transmittance can be reduced even if it is made thinner than the organic layer.

하이브리드층은, 유기층과 무기층을 적층한 구조이다. 배리어 코팅층(28)을 하이브리드층으로 함으로써, 유기층의 효과와 무기층의 효과를 조합한 효과를 얻을 수 있다. 구체적으로는, 편광층(30) 상에 유기층을 형성한 후, 유기층에 무기층을 적층시킴으로써, 유기층과 편광층(30)과의 밀착성의 양호함과 무기층의 방수성의 높음을 조합하여, 보다 박층에 의해 배리어 코팅층(28)으로서의 기능을 발휘할 수 있다.The hybrid layer has a structure in which an organic layer and an inorganic layer are laminated. By making the barrier coating layer 28 a hybrid layer, the effect of combining the effect of the organic layer and the effect of the inorganic layer can be obtained. Specifically, by forming an organic layer on the polarization layer 30 and then laminating an inorganic layer on the organic layer, the good adhesion between the organic layer and the polarization layer 30 and the high water resistance of the inorganic layer are combined, A function as the barrier coating layer 28 can be exhibited by the thin layer.

배리어 코팅층(28)은, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26)이나 액정층(22)에 도달하기 어려워질 정도의 막두께로 하는 것이 바람직하다. 한편, 배리어 코팅층(28)을 지나치게 두껍게 하면 화소간의 혼색이 발생하기 쉬워지거나, 광의 흡수에 의한 효율의 저하가 발생하기 쉬워지거나 한다. 따라서, 배리어 코팅층(28)의 막두께는, 5㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 배리어 코팅층(28)을 유기층으로 한 경우, 그 막두께는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 예를 들면, 배리어 코팅층(28)을 무기질로 한 경우, 그 막두께는 50㎚ 이상 500㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다. 또한, 예를 들면, 배리어 코팅층(28)을 하이브리드층으로 한 경우, 유기층을 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하로 하고, 무기층을 50㎚ 이상 500㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness of the barrier coating layer 28 makes it difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26 or the liquid crystal layer 22 . On the other hand, if the barrier coating layer 28 is made too thick, color mixing between pixels tends to occur or efficiency decreases due to light absorption. Therefore, the film thickness of the barrier coating layer 28 is preferably 5 µm or less. More preferably, it is desirable to set it as 1 micrometer or less. For example, when the barrier coating layer 28 is made of an organic layer, the film thickness is preferably 0.5 μm or more and 5 μm or less. Further, for example, when the barrier coating layer 28 is made of an inorganic material, the film thickness is preferably 50 nm or more and 500 nm or less. Further, for example, when the barrier coating layer 28 is a hybrid layer, it is preferable to set the organic layer to 0.5 μm or more and 5 μm or less, and the inorganic layer to be 50 nm or more and 500 nm or less.

배리어 코팅층(28) 상에는 공통 전극(26)이 형성된다. 공통 전극(26)은, 예를 들면 ITO(인듐·틴·옥사이드) 등에 의한 투명 전극이다.A common electrode 26 is formed on the barrier coating layer 28 . The common electrode 26 is, for example, a transparent electrode made of ITO (indium tin oxide) or the like.

공통 전극(26) 상에는, 배향막(24)이 형성된다. 배향막(24)은, 폴리이미드 등의 수지 재료에 의해 구성된다. 배향막(24)은, 예를 들면, 폴리이미드 수지가 되는 N-메틸-2-피롤리디논의 5wt% 용액을 공통 전극(26) 상에 인쇄하고, 110℃ 내지 280℃ 정도의 가열에 의해 경화시킨 후, 러빙포에 의해 러빙을 행함으로써 배향 처리하여 형성할 수 있다. 배향막(24)의 배향 방향은, 배향막(20)의 배향 방향과 직교하는 방향으로 한다.On the common electrode 26, an alignment film 24 is formed. The alignment film 24 is made of a resin material such as polyimide. The alignment film 24 is cured by, for example, printing a 5 wt% solution of N-methyl-2-pyrrolidinone, which is a polyimide resin, on the common electrode 26 and heating at about 110°C to 280°C. After making it, it can form by orientation-processing by performing rubbing with a rubbing cloth. The alignment direction of the alignment film 24 is perpendicular to the alignment direction of the alignment film 20 .

이 때 광 배향막을 이용하는 것도 가능하며, 광 배향막을 이용하면 130℃ 이하의 저온 프로세스가 용이해진다. 또한 광 배향에서는, 시야각 특성을 향상시키기 위해, 광의 조사 방향을 변경함으로써 1화소 내의 영역에서 배향 방향을 변경하여 화소 분할시켜도 된다. 또한 러빙, 광 배향 등의 배향 처리는 행하지 않고, 화소 전극과 표시 전극 중 어느 것 또는 양방에 슬릿을 마련하는 것에 의한 경사 전계로 배향 방향을 결정시켜도 된다(일본공개특허 특개평05-222282호 공보). 또한 표시 전극과 공통 전극 중 어느 것 또는 양방의 위에 돌기(일본공개특허 특개평06-104044호 공보)를 형성하여 배향 제어해도 된다.In this case, it is also possible to use a photo-alignment layer, and a low-temperature process of 130° C. or less becomes easy when the photo-alignment layer is used. In the optical alignment, in order to improve viewing angle characteristics, the alignment direction may be changed in a region within one pixel by changing the irradiation direction of light to perform pixel division. Alignment processing such as rubbing and photo-alignment may not be performed, and the orientation direction may be determined by a gradient electric field by providing slits in either or both of the pixel electrode and the display electrode (Japanese Patent Laid-Open No. 05-222282). ). Alternatively, projections (Japanese Unexamined Patent Publication No. 06-104044) may be formed on either or both of the display electrode and the common electrode to control orientation.

또한, 배향막(20)과 배향막(24)을 마주 보도록 하여, 배향막(20)과 배향막(24)과의 사이에 액정층(22)이 밀봉된다. 배향막(20)과 배향막(24)과의 사이에 스페이서(도시하지 않음)를 삽입하고, 배향막(20)과 배향막(24)과의 사이에 액정을 주입하여 주위를 밀봉재(도시하지 않음)에 의해 밀봉함으로써 액정층(22)이 형성된다.In addition, the liquid crystal layer 22 is sealed between the alignment film 20 and the alignment film 24 so that the alignment film 20 and the alignment film 24 face each other. A spacer (not shown) is inserted between the alignment film 20 and the alignment film 24, liquid crystal is injected between the alignment film 20 and the alignment film 24, and the surroundings are sealed by a sealing material (not shown). The liquid crystal layer 22 is formed by sealing.

액정층(22)은, 배향막(20)과 배향막(24)에 의해 배향이 제어되고, 액정층(22)의 액정의 초기(전계 비인가 시)의 배향 상태는 배향막(20)과 배향막(24)에 의해 결정된다. 그리고, 표시 전극(18)과 공통 전극(26)과의 사이에 전압을 인가함으로써, 표시 전극(18)과 공통 전극(26)과의 사이에 전계가 발생하여 액정층(22)의 배향이 제어되어 광의 투과/불투과가 제어된다. 여기서, 액정층(22)은, 유전율 이방성이 부(負)의 액정으로 이루어진다.The alignment of the liquid crystal layer 22 is controlled by the alignment film 20 and the alignment film 24, and the initial alignment state of the liquid crystal in the liquid crystal layer 22 (when no electric field is applied) is the alignment film 20 and the alignment film 24. is determined by Then, by applying a voltage between the display electrode 18 and the common electrode 26, an electric field is generated between the display electrode 18 and the common electrode 26, thereby controlling the alignment of the liquid crystal layer 22. The transmission/non-transmission of light is controlled. Here, the liquid crystal layer 22 is made of a liquid crystal having negative dielectric anisotropy.

백라이트(36)는, 광을 출력하는 광원을 포함하여 구성된다. 광원은, 예를 들면, LED로 하는 것이 바람직하다. 백라이트(36)로부터 출력되는 광의 파장은, 파장 변환층(32)에 있어서 파장 변환에 유효하게 이용될 수 있는 파장 영역의 광으로 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 백라이트(36)는, 피크 파장이 380㎚ 이상 460㎚ 이하의 파장 영역의 광을 출력하는 광원 또는 380㎚ 이하의 파장 영역의 광을 출력하는 광원으로 하는 것이 바람직하다.The backlight 36 includes a light source that outputs light. It is preferable to use LED as a light source, for example. The wavelength of light output from the backlight 36 is preferably light in a wavelength range that can be effectively used for wavelength conversion in the wavelength conversion layer 32 . For example, the backlight 36 is preferably a light source that outputs light in a wavelength range of 380 nm or more and 460 nm or less in peak wavelength, or a light source that outputs light in a wavelength range of 380 nm or less.

액정 표시 장치(100)에 의하면, 백라이트(36)로부터의 광을 파장 변환층(32)에서 파장 변환하여 이용함으로써, 광의 이용 효율을 높일 수 있다. 이에 따라, 액정 표시 장치(100)에 있어서의 에너지 효율을 향상시킬 수 있어, 저소비 전력의 액정 표시 장치(100)를 실현할 수 있다. 또한, 파장 변환층(32)으로서, 양자 도트 구조의 반도체층을 적용함으로써, 형광체를 이용하는 경우에 비해 더 저소비 전력으로 할 수 있다.According to the liquid crystal display device 100, the use efficiency of light can be increased by converting the wavelength of light from the backlight 36 in the wavelength conversion layer 32 and using it. Accordingly, the energy efficiency of the liquid crystal display device 100 can be improved, and the liquid crystal display device 100 with low power consumption can be realized. Further, by applying a semiconductor layer having a quantum dot structure as the wavelength conversion layer 32, power consumption can be further reduced compared to the case of using a phosphor.

또한, 대향 기판(34)과 액정층(22)과의 사이에 편광층(30)을 형성한 인셀형의 구조로 함으로써, 파장 변환층(32)도 대향 기판(34)과 액정층(22)과의 사이에 마련하는 것이 가능해져, 발광체와 표시 전극(18) 및 TFT 기판(14)과의 거리를 종래보다 가깝게 할 수 있다. 예를 들면, 대향 기판(34)은 500㎛ 정도의 두께가 있으며, 대향 기판(34)과 백라이트(36)와의 사이에 편광층(30)을 형성한 경우에 비해, 대향 기판(34)의 두께만큼 파장 변환층(32)을 표시 전극(18)에 가깝게 할 수 있다. 이에 따라, 화소간의 혼색을 회피하기 위한 화소간의 거리의 여유를 작게 할 수 있다. 따라서, 고해상도의 액정 표시 장치(100)를 제공할 수 있다.In addition, by adopting an in-cell structure in which the polarization layer 30 is formed between the counter substrate 34 and the liquid crystal layer 22, the wavelength conversion layer 32 is also formed between the counter substrate 34 and the liquid crystal layer 22. It becomes possible to provide between the light emitting body and the distance between the display electrode 18 and the TFT substrate 14 can be made shorter than before. For example, the counter substrate 34 has a thickness of about 500 μm, compared to the case where the polarization layer 30 is formed between the counter substrate 34 and the backlight 36. The wavelength conversion layer 32 can be brought closer to the display electrode 18 as much as possible. In this way, it is possible to reduce the margin of distance between pixels for avoiding color mixing between pixels. Accordingly, a high-resolution liquid crystal display device 100 can be provided.

또한, 광입사측인 편광판(10)으로부터 파장 변환층(32)의 직전(도 1에서는, 편광층(30))까지의 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 편광판(10)으로부터 파장 변환층(32)의 직전(도 1에서는, 편광층(30))까지의 380㎚ 이하의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 1% 이상, 380㎚~400㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 3% 이상, 400㎚~430㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 5% 이상의 적어도 하나의 조건을 충족시키는 것이 바람직하다. 이와 같은 투과율로 하기 위해서는 이하와 같은 구성으로 하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to increase the transmittance of light in a wavelength region of 460 nm or less from the polarizing plate 10 on the light incident side to just before the wavelength conversion layer 32 (the polarizing layer 30 in FIG. 1). Specifically, the transmittance of at least one of the wavelength ranges of 380 nm or less from the polarizing plate 10 immediately before the wavelength conversion layer 32 (polarization layer 30 in FIG. 1) is 1% or more, 380 nm to 380 nm It is preferable that the transmittance of at least one of the 400 nm wavelength range is 3% or more and the transmittance of at least one of the 400 nm to 430 nm wavelength range is 5% or more. In order to achieve such a transmittance, it is preferable to set it as the following structure.

편광판(10)은, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 편광판(10)의 380㎚ 이하의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 1% 이상, 380㎚~400㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 3% 이상, 400㎚~430㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 5% 이상의 적어도 하나의 조건을 충족시키는 것이 바람직하다.It is preferable that the polarizing plate 10 has a high transmittance of light in a wavelength range of 460 nm or less. Specifically, the transmittance of at least any region of the wavelength range of 380 nm or less of the polarizing plate 10 is 1% or more, and the transmittance of at least any region of the wavelength range of 380 nm to 400 nm is 3% or more, 400 nm to 430 nm. It is preferable that the transmittance of at least one of the wavelength regions of 5% or more satisfies at least one condition.

또한, 편광층(30)은, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 편광층(30)의 380㎚ 이하의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 1% 이상, 380㎚~400㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 3% 이상, 400㎚~430㎚의 파장 영역 중 적어도 어느 영역의 투과율이 5% 이상의 적어도 하나의 조건을 충족시키는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the polarization layer 30 has a high transmittance of light in a wavelength region of 460 nm or less. Specifically, the transmittance of at least any region of the wavelength range of 380 nm or less of the polarization layer 30 is 1% or more, the transmittance of at least any region of the wavelength range of 380 nm to 400 nm is 3% or more, 400 nm to 430 nm. It is preferable that the transmittance of at least one of the nm wavelength region satisfies at least one condition of 5% or more.

편광판(10)의 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높이기 위해서는, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광에 대한 흡수제의 첨가량을 줄이면 된다. 통상, 편광판(10)의 기재가 되는 TAC에는 자외선 흡수제 등의 단파장 영역에 대한 흡수제가 포함되어 있으므로, 당해 흡수제를 줄임으로써 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높일 수 있다.In order to increase the transmittance of light in the wavelength range of 460 nm or less of the polarizing plate 10, the addition amount of the absorber for light in the wavelength range of 460 nm or less may be reduced. Usually, since TAC, which is a base material of the polarizing plate 10, contains an absorber for a short wavelength region such as an ultraviolet absorber, the transmittance of light in the wavelength region of 460 nm or less can be increased by reducing the absorber.

또한, 배향막(20) 및/또는 배향막(24)의 막두께를 얇게 함으로써 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하는 것이 바람직하다. 배향막(20) 및/또는 배향막(24)의 막두께는, 50㎚ 이하로 하는 것이 바람직하고, 5㎚ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 이에 따라, 배향막(20) 및/또는 배향막(24)에 있어서의 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 흡수를 억제할 수 있어, 당해 파장 영역에 있어서의 투과율을 높일 수 있다.In addition, it is preferable to increase the transmittance of light in a wavelength region of 460 nm or less by thinning the film thickness of the alignment film 20 and/or the alignment film 24 . It is preferable to set it as 50 nm or less, and, as for the film thickness of the alignment film 20 and/or the alignment film 24, it is more preferable to set it as 5 nm or less. Accordingly, absorption of light in the wavelength range of 460 nm or less in the alignment film 20 and/or the alignment film 24 can be suppressed, and the transmittance in the wavelength range can be increased.

또한, 액정층(22)을 얇게 함으로써 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하는 것이 바람직하다. 액정층(22)의 두께는, 4㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 3㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하며, 2㎛ 이하로 하는 것이 더 바람직하다. 이 때, 액정층(22)에 있어서의 리타데이션을 바람직한 값으로 하기 위해, 액정층(22)의 막두께에 맞춰 액정층(22)의 굴절률(Δn)을 조정하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 리타데이션을 0.4㎛로 하기 위해서는, 액정층(22)의 두께를 4㎛로 하였을 때에는 굴절률(Δn)을 0.1로 하고, 액정층(22)의 두께를 3㎛로 하였을 때에는 굴절률(Δn)을 0.15로 하며, 액정층(22)의 두께를 2㎛로 하였을 때에는 굴절률(Δn)을 0.2로 하도록 하면 된다.In addition, it is preferable to increase the transmittance of light in the wavelength region of 460 nm or less by thinning the liquid crystal layer 22 . The thickness of the liquid crystal layer 22 is preferably 4 μm or less, more preferably 3 μm or less, and even more preferably 2 μm or less. At this time, in order to set the retardation in the liquid crystal layer 22 to a desirable value, it is preferable to adjust the refractive index (Δn) of the liquid crystal layer 22 according to the film thickness of the liquid crystal layer 22 . For example, in order to set the retardation to 0.4 μm, when the thickness of the liquid crystal layer 22 is 4 μm, the refractive index (Δn) is 0.1, and when the thickness of the liquid crystal layer 22 is 3 μm, the refractive index ( When Δn) is set to 0.15 and the thickness of the liquid crystal layer 22 is set to 2 μm, the refractive index (Δn) may be set to 0.2.

또한, 층간 절연막(16)은, 통상 1~2㎛의 UV 경화형의 유기막이지만, 막두께를 1㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 또한 0.5㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 층간 절연막(16)을 마련하지 않는 구성으로 해도 된다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 단파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.The interlayer insulating film 16 is usually a UV curable organic film of 1 to 2 µm, but preferably has a film thickness of 1 µm or less, and more preferably 0.5 µm or less. In addition, it is good also as a structure which does not provide the interlayer insulating film 16. Accordingly, transmittance of light in a short wavelength region of 460 nm or less can be increased.

또한, 층간 절연막(16)은, 무기막으로 하고, 그 막두께를 0.5㎛ 이하로 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 층간 절연막(16)을 실리콘 산화막(SiO2막)으로 하고, 그 막두께를 100㎚로 하면 된다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 단파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.In addition, it is preferable that the interlayer insulating film 16 is made of an inorganic film and its film thickness is 0.5 μm or less. For example, the interlayer insulating film 16 may be made of a silicon oxide film (SiO 2 film) and the film thickness may be 100 nm. Accordingly, transmittance of light in a short wavelength region of 460 nm or less can be increased.

또한, TFT 기판(14)은, 그 두께를 500㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 또한 200㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, TFT 기판(14)으로서, 불순물이 적은 붕규산 유리, 석영 유리, 사파이어 유리 등을 사용하는 것도 바람직하다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.Further, the thickness of the TFT substrate 14 is preferably 500 μm or less, and more preferably 200 μm or less. Further, as the TFT substrate 14, it is also preferable to use borosilicate glass, quartz glass, sapphire glass, or the like with few impurities. Accordingly, transmittance of light in a wavelength range of 460 nm or less can be increased.

또한, 표시 전극(18)은, 그 막두께를 50㎚ 이하로 하는 것이 바람직하고, 나아가서는 20㎚ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 공통 전극(26)은, 그 막두께를 50㎚ 이하로 하는 것이 바람직하고, 나아가서는 20㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.In addition, the display electrode 18 preferably has a film thickness of 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. In addition, the common electrode 26 preferably has a film thickness of 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. Accordingly, transmittance of light in a wavelength range of 460 nm or less can be increased.

또한, 도 1에 나타낸 구조와는 상이하지만, 460㎚ 이하의 광의 투과율을 향상시키기 위해 층간 절연막(16)을 마련하지 않는 TFT 기판의 구조를 적용하는 것도 바람직하다. 이 경우, 화소 픽셀 내의 표시에 기여하는 유효 표시 에어리어(또는 개구율)가 작아지지만, 그 이상으로 외광 이용 효율이 높아지는 경우에는 이 방식을 채용해도 된다.Further, although different from the structure shown in Fig. 1, it is also preferable to apply a structure of a TFT substrate in which an interlayer insulating film 16 is not provided in order to improve the transmittance of light of 460 nm or less. In this case, although the effective display area (or aperture ratio) contributing to display within the pixel pixel is reduced, this method may be employed in the case where the efficiency of using external light is higher than that.

또한, 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 하기 위한 이들의 구성은 단독으로 채용해도 되고, 복수를 조합해도 된다.In addition, these structures for increasing the transmittance of light in the wavelength range of 460 nm or less may be employed singly or in combination.

이와 같이, 광입사측인 편광판(10)으로부터 파장 변환층(32)까지의 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 함으로써, 편광판(10)측으로부터 입사되는 외광의 단파장 성분을 파장 변환층(32)까지 도달시켜, 외광에 의한 발광을 효율적으로 이용할 수 있다. 이에 따라, 옥외 등의 외광하에 있어서도 콘트라스트가 높고, 시인성이 우수한 액정 표시 장치(100)로 할 수 있다.In this way, by increasing the transmittance of light in the wavelength region of 460 nm or less from the polarizing plate 10 on the light incident side to the wavelength conversion layer 32, the short wavelength component of external light incident from the polarizing plate 10 side is converted to the wavelength conversion layer ( 32), it is possible to efficiently utilize light emission by external light. As a result, the liquid crystal display device 100 has high contrast and excellent visibility even under external light such as outdoors.

<제 2 실시 형태><Second Embodiment>

제 1 실시 형태에 있어서의 액정 표시 장치(200)는, VA(수직 배향)형의 액정 표시 장치의 구성으로 했지만, 본 발명의 적용 범위는 이에 한정되는 것은 아니다. 제 2 실시 형태에서는, IPS(횡전계 스위칭)형 액정 표시 장치의 구성에 대하여 설명한다.Although the liquid crystal display device 200 in the first embodiment has a configuration of a VA (vertical alignment) type liquid crystal display device, the scope of application of the present invention is not limited thereto. In the second embodiment, the configuration of an IPS (transverse electric field switching) type liquid crystal display device will be described.

제 2 실시 형태에 있어서의 액정 표시 장치(200)는, 도 2의 단면 모식도에 나타내는 바와 같이, 편광판(10), 광학 보상층(12), TFT 기판(14), 층간 절연막(16), 표시 전극(18), 제 2 층간 절연막(16a), 공통 전극(26a), 배향막(20a), 액정층(22a), 배향막(24a), 배리어 코팅층(28), 편광층(30), 파장 변환층(32), 대향 기판(34) 및 백라이트(36)를 포함하여 구성된다.As shown in the cross-sectional schematic diagram of FIG. 2 , the liquid crystal display device 200 in the second embodiment includes a polarizing plate 10, an optical compensation layer 12, a TFT substrate 14, an interlayer insulating film 16, a display electrode 18, second interlayer insulating film 16a, common electrode 26a, alignment film 20a, liquid crystal layer 22a, alignment film 24a, barrier coating layer 28, polarization layer 30, wavelength conversion layer (32), a counter substrate (34) and a backlight (36).

배향막(20a, 24a)은, 대향 기판(34)에 대하여 평행에 가까운 방향으로 배향하는 배향막이며, 러빙 또는 광 배향으로 배향 처리를 행하고 있다. 배향 방향은, 배향막(20a, 24a)이 각각 평행하게 되도록 배향 처리된다. 광 배향에서는, 프리틸트각이 없어져, 시야각 특성이 개선되므로, 보다 바람직하다. 액정층(22a)은, 유전율 이방성이 정(正), 또는 부인 것으로 한다. 유전율이 정인 경우, 저온의 응답 특성이 좋고, 수분의 영향을 받기 어려운 등의 장점이 있다. 또한, 유전율 이방성이 부인 경우, 전압 인가 시에 액정층(22a)이 대향 기판(34)에 대하여 대략 완전히 평행하게 제어되므로 투과율의 향상이 예상된다.The alignment films 20a and 24a are alignment films oriented in a direction close to parallel to the counter substrate 34, and are subjected to alignment treatment by rubbing or photo-alignment. The alignment process is performed so that the orientation films 20a and 24a are parallel to each other in the orientation direction. In optical alignment, since the pretilt angle disappears and the viewing angle characteristic improves, it is more preferable. The liquid crystal layer 22a has a positive or negative dielectric anisotropy. When the permittivity is positive, there are advantages such as good response characteristics at low temperatures and resistance to the influence of moisture. Further, when the dielectric constant anisotropy is negative, since the liquid crystal layer 22a is controlled to be substantially completely parallel to the counter substrate 34 when voltage is applied, an improvement in transmittance is expected.

IPS형의 액정 표시 장치(200)에서는, 공통 전극(26a)에 대하여 전압을 인가함으로써 액정층(22a)의 면내 방향을 향하는 전계를 발생시켜, 수평으로 눕힌 액정 분자를 가로 방향으로 회전시킴으로써 광량을 제어한다. 이 때, 액정 분자의 수직 방향의 기울기가 발생하지 않으므로, 시야각에 의한 휘도 변화나 색 변화를 작게 할 수 있다.In the IPS type liquid crystal display device 200, an electric field directed in the in-plane direction of the liquid crystal layer 22a is generated by applying a voltage to the common electrode 26a, and liquid crystal molecules laid horizontally are rotated in the horizontal direction to adjust the amount of light. Control. At this time, since the inclination of the liquid crystal molecules in the vertical direction does not occur, luminance change or color change due to the viewing angle can be reduced.

본 실시 형태에 있어서도, 편광층(30)의 함수율을 낮게 억제함으로써, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26a)이나 액정층(22a)에 도달하기 어려워져, 수분에 의한 공통 전극(26a)이나 액정층(22a)의 열화를 억제할 수 있다. 또한, 배리어 코팅층(28)을 마련함으로써, 편광층(30)에 포함되는 수분이 공통 전극(26a)이나 액정층(22a)에 도달하기 어려워져, 수분에 의한 공통 전극(26a)이나 액정층(22a)의 열화를 억제할 수 있다.Also in this embodiment, by suppressing the moisture content of the polarization layer 30 to a low level, it is difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26a or the liquid crystal layer 22a, and the common electrode caused by moisture Deterioration of (26a) or the liquid crystal layer 22a can be suppressed. In addition, by providing the barrier coating layer 28, it is difficult for moisture contained in the polarization layer 30 to reach the common electrode 26a or the liquid crystal layer 22a, and the common electrode 26a or the liquid crystal layer ( Deterioration of 22a) can be suppressed.

또한, 광입사측인 편광판(10)으로부터 파장 변환층(32)까지의 460㎚ 이하의 파장 영역의 광의 투과율을 높게 함으로써, IPS형의 액정 표시 장치(200)로 한 경우에도, 제 1 실시 형태와 마찬가지로, 어두운 곳에서의 시인성을 저하시키지 않고, 외광하에서의 시인성도 높인 새로운 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.In addition, by increasing the transmittance of light in the wavelength range of 460 nm or less from the polarizing plate 10 on the light incident side to the wavelength conversion layer 32, even when the IPS type liquid crystal display device 200 is used, the first embodiment Similarly, it is possible to provide a new liquid crystal display device having improved visibility under outdoor light without lowering visibility in a dark place.

여기서, 제 2 층간 절연막(16a)은, 그 막두께가 500㎚ 이하의 무기막, 예를 들면 실리콘 산화막(SiO2막)을 사용하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 단파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.Here, it is preferable to use an inorganic film having a film thickness of 500 nm or less, for example, a silicon oxide film (SiO 2 film) for the second interlayer insulating film 16a. Accordingly, transmittance of light in a short wavelength region of 460 nm or less can be increased.

또한, 공통 전극(26a)은, 그 막두께를 50㎚ 이하로 하는 것이 바람직하고, 나아가서는 20㎚ 이하로 하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 460㎚ 이하의 단파장 영역의 광의 투과율을 높게 할 수 있다.In addition, the common electrode 26a preferably has a film thickness of 50 nm or less, more preferably 20 nm or less. Accordingly, transmittance of light in a short wavelength region of 460 nm or less can be increased.

또한, 상기 제 1 및 제 2 실시 형태에 있어서 나타낸 수분율을 저감시킨 편광층(30), 배리어 코팅층(28), 단파장 영역의 투과율을 높인 각 층은 모두 마련할 필요는 없고, 적절히 단독 또는 조합하여 적용해도 된다.In addition, it is not necessary to provide all of the polarization layer 30 with reduced water content, the barrier coating layer 28, and each layer with increased transmittance in the short wavelength region shown in the first and second embodiments. may apply.

<변형예><Example of modification>

백라이트(36)로서, 전술의 청색 광원을 이용하는 경우, 파장 변환층(32)으로서, 일반적으로, 파랑(B)의 파장 영역에 대해서는 청색보다 긴 파장의 광을 흡수하는 흡수형 컬러 필터를 이용하고, 초록(G)의 파장 영역에 대해서는 입사광을 녹색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료를 이용하며, 빨강(R)의 파장 영역에 대해서는 입사광을 적색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료를 이용한다.As the backlight 36, when the aforementioned blue light source is used, as the wavelength conversion layer 32, an absorption type color filter that absorbs light with a longer wavelength than blue is generally used for the blue (B) wavelength region, , For the green (G) wavelength region, a wavelength conversion material that converts incident light into light in the green wavelength region and outputs it, and for the red (R) wavelength region, converts incident light into light in the red wavelength region It uses a wavelength conversion material that outputs.

이 때, 초록(G)의 파장 변환 재료는, 녹색의 파장 영역보다 짧은 파장의 광을 녹색으로 변환할 수 있지만, 녹색의 파장 영역보다 긴 파장의 광을 녹색으로 변환할 수 없다. 따라서, 도 3에 나타내는 바와 같이, 외광의 입사 등에 의해 파장 변환층(32)을 투과한 적색의 파장 영역의 광이 도광판이나 도광판 이면의 반사판 등으로부터 반사되어, 초록(G)의 파장 변환 재료의 영역에 들어간 경우, 초록(G)의 표시 영역에 적색의 파장 영역의 광이 섞여버릴 우려가 있다.At this time, the green (G) wavelength conversion material can convert light with a wavelength shorter than the green wavelength range to green, but cannot convert light with a wavelength longer than the green wavelength range to green. Therefore, as shown in FIG. 3 , the light in the red wavelength region transmitted through the wavelength conversion layer 32 due to the incidence of external light or the like is reflected from the light guide plate or the reflector on the back side of the light guide plate, and the green (G) wavelength conversion material When entering the area, there is a risk that light in the red wavelength range is mixed with the green (G) display area.

따라서, 본 변형예에서는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 있어서 녹색의 파장 변환 재료(32a)와 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32b)를 겹친 구성으로 한다. 도 10에 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32b)의 일례를 나타낸다.Therefore, in this modified example, as shown in FIG. 4 , in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32, the green wavelength conversion material 32a and the color filter that absorbs light in the red wavelength region ( 32b) has an overlapping configuration. Fig. 10 shows an example of a color filter 32b that absorbs light in a red wavelength region.

이에 따라, 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 적색의 파장 영역의 광이 혼입되었다고 해도 컬러 필터(32b)에 의해 흡수되어, 시인측에 그 영향이 미치는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, even if light in the red wavelength region is mixed in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32, it is absorbed by the color filter 32b and its influence on the viewing side can be prevented.

또한, 컬러 필터(32b)를 마련하는 대신에, 도 5에 나타내는 바와 같이, 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 있어서의 녹색의 파장 변환 재료(32a)에 적색을 흡수하는 색소(40)를 혼재시키도록 해도 된다.In addition, instead of providing the color filter 32b, as shown in FIG. 5 , a dye that absorbs red in the green wavelength conversion material 32a in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32 (40) may be mixed.

또한, 백라이트로서, 전술의 UV 광원을 이용하는 경우, 파장 변환층(32)으로서, 파랑(B)의 파장 영역에 대해서도 입사광을 청색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료를 이용하고, 초록(G)의 파장 영역에 대해서는 입사광을 녹색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료를 이용하며, 빨강(R)의 파장 영역에 대해서는 입사광을 적색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료를 이용하는 구성도 채용된다.In the case of using the aforementioned UV light source as the backlight, as the wavelength conversion layer 32, a wavelength conversion material that converts incident light into light in the blue wavelength region and outputs it even in the blue (B) wavelength region is used, For the green (G) wavelength range, a wavelength conversion material is used that converts incident light into light in the green wavelength range and outputs it. For the red (R) wavelength range, incident light is converted into light in the red wavelength range and output. A configuration using a wavelength conversion material to be used is also employed.

이 때, 파랑(B) 및 초록(G)의 파장 변환 재료는, 각각 청색 및 녹색의 파장 영역보다 짧은 파장의 광을 파장 변환할 수 있지만, 청색 및 녹색의 파장 영역보다 긴 파장의 광을 파장 변환할 수 없다. 따라서, 외광의 입사 등에 의해 파장 변환층(32)의 파장 변환 재료의 영역을 투과한 녹색, 적색의 파장 영역의 광이 도광판이나 도광판 이면의 반사판 등으로부터 반사되어, 파랑(B) 또는 초록(G)의 파장 변환 재료의 영역에 들어간 경우에 파랑(B) 및 초록(G)의 영역에 각각 녹색과 적색 또는 적색의 파장 영역의 광이 섞여버릴 우려가 있다.At this time, the blue (B) and green (G) wavelength conversion materials can wavelength-convert light with a shorter wavelength than the blue and green wavelength ranges, respectively, but can convert light with a wavelength longer than the blue and green wavelength ranges. cannot be converted Therefore, the light in the green and red wavelength regions transmitted through the wavelength conversion material region of the wavelength conversion layer 32 is reflected from the light guide plate or the reflector on the back side of the light guide plate by the incident of external light, etc., resulting in blue (B) or green (G ), there is a possibility that light in the green and red or red wavelength regions may be mixed in the blue (B) and green (G) regions, respectively.

따라서, 본 변형예에서는, 도 6에 나타내는 바와 같이, 파장 변환층(32)의 파랑(B)의 영역에 있어서 청색의 파장 변환 재료(32c)와 녹색과 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(청색 컬러 필터)(32d)를 겹친 구성으로 한다. 또한, 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 있어서 녹색의 파장 변환 재료(32a)와 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32b)를 겹친 구성으로 한다. 도 11에 녹색과 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32d)의 일례를 나타낸다.Therefore, in this modified example, as shown in FIG. 6, in the blue (B) region of the wavelength conversion layer 32, the blue wavelength conversion material 32c and the color that absorbs light in the green and red wavelength regions The filter (blue color filter) 32d is overlapped. Further, in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32, a green wavelength conversion material 32a and a color filter 32b absorbing light in a red wavelength region are overlapped. Fig. 11 shows an example of a color filter 32d that absorbs light in the green and red wavelength ranges.

이에 따라, 파장 변환층(32)의 파랑(B) 및 초록(G)의 영역에 적색의 파장 영역의 광이 혼입되었다고 해도 컬러 필터(32d) 및 컬러 필터(32b)에 의해 흡수되어, 시인측에 그 영향이 미치는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, even if light in the red wavelength region is mixed in the blue (B) and green (G) regions of the wavelength conversion layer 32, it is absorbed by the color filters 32d and 32b, and its influence can be prevented.

또한, 컬러 필터(32b, 32d)를 마련하는 대신에, 도 7에 나타내는 바와 같이, 파장 변환층(32)의 파랑(B) 및 초록(G)의 영역에 있어서, 각각 청색의 파장 변환 재료(32c)에 녹색과 적색을 흡수하는 색소(청색 색소)(41) 및 녹색의 파장 변환 재료(32a)에 적색을 흡수하는 색소(40)를 혼재시키도록 해도 된다.In addition, instead of providing color filters 32b and 32d, as shown in FIG. 7 , in the blue (B) and green (G) regions of the wavelength conversion layer 32, each blue wavelength conversion material ( In 32c), a dye 41 that absorbs green and red colors (blue dye) and a dye 40 that absorbs red light may be mixed with the green wavelength conversion material 32a.

이 변형예는, 본 발명에 기재한 반사 편광자에 의한 복귀 광을 이용하여, 광 이용 효율을 높이는 방식에도 채용할 수 있고, 이로써 반사 편광자를 이용하는 경우의 혼색을 방지할 수 있다.This modified example can also be adopted for a method of increasing the light utilization efficiency by using the returned light by the reflective polarizer described in the present invention, thereby preventing color mixing in the case of using the reflective polarizer.

예를 들면, 도 8에 나타내는 바와 같이, 백라이트로서, 전술의 청색 광원을 이용하는 경우, 파장 변환층(32)으로서, 일반적으로, 파랑(B)의 파장 영역에 대해서는 청색보다 긴 파장의 광을 흡수하는 흡수형 컬러 필터를 이용하고, 초록(G)의 파장 영역에 대해서는 입사광을 녹색의 파장 영역의 광으로 변환하여 출력하는 파장 변환 재료(32a)와 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32b)를 겹친 구성으로 한다.For example, as shown in FIG. 8 , when the aforementioned blue light source is used as the backlight, the wavelength conversion layer 32 generally absorbs light with a longer wavelength than blue in the blue (B) wavelength region. A wavelength conversion material 32a that converts incident light into light in the green wavelength region and outputs light in the green (G) wavelength region and a color filter that absorbs light in the red wavelength region ( 32b) has an overlapping configuration.

이에 따라, 편광층(30)에 있어서 반사된 적색의 광이 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 혼입되었다고 해도 컬러 필터(32b)에 의해 흡수되어, 시인측에 그 영향이 미치는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, even if the red light reflected in the polarization layer 30 is mixed in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32, it is absorbed by the color filter 32b, and its influence on the viewing side can prevent

또한, 예를 들면, 도 9에 나타내는 바와 같이, 백라이트로서, 전술의 UV 광원을 이용하는 경우, 파장 변환층(32)으로서, 파장 변환층(32)의 파랑(B)의 영역에 있어서 청색의 파장 변환 재료(32c)와 녹색과 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(청색 컬러 필터)(32d)를 겹친 구성으로 한다. 또한, 파장 변환층(32)의 초록(G)의 영역에 있어서 녹색의 파장 변환 재료(32a)와 적색의 파장 영역의 광을 흡수하는 컬러 필터(32b)를 겹친 구성으로 한다.Further, for example, as shown in FIG. 9 , in the case of using the aforementioned UV light source as the backlight, as the wavelength conversion layer 32, the wavelength of blue in the blue (B) region of the wavelength conversion layer 32 A conversion material 32c and a color filter (blue color filter) 32d absorbing light in the green and red wavelength ranges are overlapped. Further, in the green (G) region of the wavelength conversion layer 32, a green wavelength conversion material 32a and a color filter 32b absorbing light in a red wavelength region are overlapped.

이에 따라, 편광층(30)에 있어서 반사된 적색의 파장 영역의 광이 파장 변환층(32)의 파랑(B) 및 초록(G)의 영역에 혼입되었다고 해도 컬러 필터(32d) 및 컬러 필터(32b)에 의해 흡수되어, 시인측에 그 영향이 미치는 것을 방지할 수 있다.Accordingly, even if the light in the red wavelength region reflected in the polarization layer 30 is mixed in the blue (B) and green (G) regions of the wavelength conversion layer 32, the color filter 32d and the color filter ( 32b), and can prevent its influence on the viewing side.

또한, 반사 편광자를 이용한 경우에도, 컬러 필터(32b, 32d)를 마련하는 대신에, 파장 변환층(32)의 파랑(B) 및 초록(G)의 영역에 있어서, 각각 청색의 파장 변환 재료(32c)에 녹색과 적색을 흡수하는 색소(청색 색소) 및 녹색의 파장 변환 재료(32a)에 적색을 흡수하는 색소를 혼재시키도록 해도 된다.In addition, even when a reflective polarizer is used, instead of providing color filters 32b and 32d, in the blue (B) and green (G) regions of the wavelength conversion layer 32, each blue wavelength conversion material ( 32c) may be mixed with a dye absorbing green and red (blue dye) and a dye absorbing red in the green wavelength conversion material 32a.

Claims (14)

액정 표시 장치로서,
파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층과,
상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치된 편광층을 구비하고,
상기 편광층(30)은, PVA(폴리비닐알코올)계 수지에 이색성 염료에 의해 염색이 이루어진 염색계의 편광 소자를 포함하며,
상기 편광층과 상기 액정층과의 사이에 수분의 투과를 억제하기 위한 배리어 코팅층이 마련되어 있고,
상기 배리어 코팅층은, 수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트 성분을 함유하는 중합성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 아크릴계 수지층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
As a liquid crystal display device,
A wavelength conversion layer for outputting wavelength-converted light;
A polarization layer disposed between the wavelength conversion layer and the liquid crystal layer,
The polarization layer 30 includes a dye-type polarizing element in which dyeing is performed with a dichroic dye on a PVA (polyvinyl alcohol)-based resin,
A barrier coating layer is provided between the polarization layer and the liquid crystal layer to suppress the transmission of moisture,
The barrier coating layer comprises an acrylic resin layer formed by curing a polymerizable resin composition containing a (meth)acrylate component having a hydroxyl group.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 배리어 코팅층의 막두께는, 5㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
According to claim 1,
The liquid crystal display device, characterized in that the film thickness of the barrier coating layer is 5 μm or less.
제 1 항에 있어서,
백라이트를 더 구비하고,
상기 파장 변환층은, 상기 백라이트로부터의 광을 받아 파장 변환하고, 상기 액정층은, 상기 파장 변환층보다 시인측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
According to claim 1,
more backlights,
The liquid crystal display device according to claim 1 , wherein the wavelength conversion layer receives light from the backlight and converts the wavelength, and the liquid crystal layer is arranged on a viewing side of the wavelength conversion layer.
편광 소자로서,
파장 변환된 광을 출력하는 파장 변환층을 구비하는 액정 표시 장치에 이용되고,
상기 파장 변환층과 액정층과의 사이에 배치되어, PVA(폴리비닐알코올)계 수지에 이색성 염료에 의해 염색이 이루어진 염색계의 편광 소자를 포함하는 편광층과, 상기 편광층과 상기 액정층과의 사이에 배치되어, 수분의 투과를 억제하기 위한 배리어 코팅층을 구비하며,
상기 배리어 코팅층은, 수산기를 가지는 (메타)아크릴레이트 성분을 함유하는 중합성 수지 조성물을 경화시켜 이루어지는 아크릴계 수지층을 포함하는 것을 특징으로 하는 편광 소자.
As a polarizing element,
It is used in a liquid crystal display device having a wavelength conversion layer that outputs wavelength-converted light,
A polarizing layer disposed between the wavelength conversion layer and the liquid crystal layer and including a dye-type polarizing element in which a PVA (polyvinyl alcohol)-based resin is dyed with a dichroic dye, and the polarizing layer and the liquid crystal layer It is disposed between and has a barrier coating layer for suppressing the permeation of moisture,
The barrier coating layer comprises an acrylic resin layer formed by curing a polymerizable resin composition containing a (meth)acrylate component having a hydroxyl group.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법으로서,
어닐 처리 후에 기판에 붙임으로써 상기 편광층을 형성하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
A method for manufacturing the liquid crystal display device according to claim 1,
A manufacturing method characterized by forming the polarization layer by attaching it to a substrate after annealing.
제 1 항에 기재된 액정 표시 장치의 제조 방법으로서,
기판에 붙인 후, 어닐 처리함으로써 상기 편광층을 형성하는 것을 특징으로 하는 제조 방법.
A method for manufacturing the liquid crystal display device according to claim 1,
A manufacturing method characterized in that the polarizing layer is formed by annealing after attaching to a substrate.
삭제delete
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