KR102469170B1 - Display device - Google Patents

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KR102469170B1
KR102469170B1 KR1020180079418A KR20180079418A KR102469170B1 KR 102469170 B1 KR102469170 B1 KR 102469170B1 KR 1020180079418 A KR1020180079418 A KR 1020180079418A KR 20180079418 A KR20180079418 A KR 20180079418A KR 102469170 B1 KR102469170 B1 KR 102469170B1
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Abstract

일 실시예의 표시장치는 제1 색광을 제공하는 계조 표시층, 상기 계조 표시층 상에 배치되고, 상기 제1 색광을 투과시키는 투과필터 및 상기 제1 색광을 다른 색 광으로 변환시키는 컬러변환부재를 포함하는 컬러제어층 및 상기 컬러제어층 상에 배치되고, 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 내지 3.5 인 금속층 및 무기층을 포함하는 광학제어층을 포함하고, 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함하여 우수한 광 효율을 가질 수 있고, 외광 반사를 저감시킬 수 있다.A display device according to an embodiment includes a grayscale display layer for providing first color light, a transmission filter disposed on the grayscale display layer and transmitting the first color light, and a color conversion member for converting the first color light into other color light. A color control layer comprising a color control layer and an optical control layer disposed on the color control layer and including a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 to 3.5 in a wavelength range of 530 nm to 570 nm, and the inorganic layer in a wavelength range of 530 nm to 570 nm. A first sub-inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less and a second sub-inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm may have excellent light efficiency and reduce reflection of external light.

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시장치에 대한 발명으로, 보다 상세하게는 외부광에 의한 반사를 저감시키고 광 효율을 높이기 위해 컬러제어층 상에 배치되는 광학제어층을 포함하는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device including an optical control layer disposed on a color control layer to reduce reflection by external light and increase light efficiency.

영상 정보를 제공하기 위하여 다양한 형태의 표시장치가 사용되고 있으며, 최근에는 대형 표시장치에 적용될 수 있는 액정 표시장치 및 유기발광 다이오드 등에 대한 개발이 진행되고 있다. 한편, 표시장치의 광효율을 증가시키고 색재현성을 높이기 위하여 양자점 등의 발광체를 적용하는 경우가 증가되고 있다.Various types of display devices are used to provide image information, and recently, liquid crystal displays and organic light emitting diodes that can be applied to large display devices are being developed. On the other hand, in order to increase light efficiency and color reproducibility of display devices, cases in which light emitting bodies such as quantum dots are applied are increasing.

또한, 표시장치의 구조를 개선하여 광 효율을 보다 증가시키고 외부광에 의한 표시 패널에서의 반사율을 저감시킴으로써 표시장치의 품질을 향상시키는 연구가 지속되고 있다.In addition, research on improving the quality of the display device by improving the structure of the display device to further increase light efficiency and reducing the reflectance of the display panel due to external light is being continued.

본 발명은 광 효율이 개선된 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a display device with improved light efficiency.

또한, 본 발명은 외광에 의한 반사를 저감시킨 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a display device in which reflection by external light is reduced.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 제1 색광을 제공하는 계조 표시층, 계조 표시층 상에 배치되고, 제1 색광을 투과시키는 투과필터 및 제1 색광을 다른 색 광으로 변환시키는 컬러변환부재를 포함하는 컬러제어층 및 컬러제어층 상에 배치되고, 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하는 광학제어층을 포함한다. A display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a grayscale display layer that provides a first color light, a transmission filter disposed on the grayscale display layer and transmits the first color light, and a color conversion that converts the first color light into another color light. A color control layer including a member and an optical control layer disposed on the color control layer and including a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.

무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함한다. The inorganic layer includes a first sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.

무기층은 하기 식 1을 만족할 수 있다. The inorganic layer may satisfy Equation 1 below.

[식 1] [Equation 1]

Figure 112018067308300-pat00001
Figure 112018067308300-pat00001

식 1에서, λ는 530nm 내지 570nm 의 파장이고, m은 0 및 자연수이고, Ta1은 제1 서브 무기층의 두께이고, Ta2는 제2 서브 무기층의 두께이고, n1은 제1 서브 무기층의 λ 파장에서의 굴절률이며, n2는 제2 서브 무기층의 λ 파장에서의 굴절률이다.In Equation 1, λ is a wavelength of 530 nm to 570 nm, m is 0 and a natural number, Ta 1 is the thickness of the first sub-inorganic layer, Ta 2 is the thickness of the second sub-inorganic layer, and n 1 is the first sub-inorganic layer. It is the refractive index of the inorganic layer at the λ wavelength, and n 2 is the refractive index of the second sub-inorganic layer at the λ wavelength.

제1 서브 무기층의 굴절률과 제2 서브 무기층의 굴절률 차이가 0 이상 0.5 이하일 수 있다. A difference in refractive index between the first sub-inorganic layer and the second sub-inorganic layer may be 0 or more and 0.5 or less.

제1 서브 무기층의 굴절률은 2 이상 2.5 이하이며, 제2 서브 무기층의 굴절률은 2 이상 2.5 이하일 수 있다. The refractive index of the first sub-inorganic layer may be 2 or more and 2.5 or less, and the refractive index of the second sub-inorganic layer may be 2 or more and 2.5 or less.

제1 서브 무기층의 두께는 9.9 nm 이상 39.9 nm 이하이고, 제2 서브 무기층의 두께는 0.1 nm 이상 20.0 nm 이하일 수 있다. The first sub-inorganic layer may have a thickness of 9.9 nm or more and 39.9 nm or less, and the second sub-inorganic layer may have a thickness of 0.1 nm or more and 20.0 nm or less.

제1 서브 무기층의 두께 및 제2 서브 무기층의 두께의 합은 10.0 nm 이상 40.0 nm 이하일 수 있다.A sum of the thickness of the first sub-inorganic layer and the thickness of the second sub-inorganic layer may be greater than or equal to 10.0 nm and less than or equal to 40.0 nm.

제1 서브 무기층은 몰리탄탈옥사이드를 포함하고, 제2 서브 무기층은 인듐징크옥사이드를 포함할 수 있다. The first sub-inorganic layer may include molitantaloxide, and the second sub-inorganic layer may include indium zinc oxide.

제2 서브 무기층은 금속층과 제1 서브 무기층 사이에 배치될 수 있고, 또는 제2 서브 무기층은 금속층 및 제1 서브 무기층 상에 배치될 수 있다. The second sub-inorganic layer may be disposed between the metal layer and the first sub-inorganic layer, or the second sub-inorganic layer may be disposed on the metal layer and the first sub-inorganic layer.

금속층은 실버를 포함할 수 있다. The metal layer may include silver.

컬러변환부재는 적어도 퀀텀닷 또는 퀀텀로드를 포함할 수 있다. The color conversion member may include at least a quantum dot or a quantum rod.

계조 표시층은 투과필터에 대응하는 제1 화소, 컬러변환부재에 대응하는 제2 화소, 및 제3 화소를 포함하고, 컬러변환부재는 제2 화소에 대응하고 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 제3 화소에 대응하고 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하며, 광학제어층은 제1 화소, 제2 화소, 및 제3 화소에 중첩할 수 있다. The gradation display layer includes a first pixel corresponding to the transmission filter, a second pixel corresponding to the color conversion member, and a third pixel, the color conversion member corresponding to the second pixel and converting the first color light into the second color light. and a second color conversion member corresponding to the third pixel and converting the first color light into the third color light, wherein the optical control layer provides light to the first pixel, the second pixel, and the third pixel. can overlap.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 컬러제어층 상에 배치되고, 제2 화소 및 제3 화소에 중첩하며, 제1 색광을 차광하며 제2 색광 및 제3 색광을 투과시키는 밴드 필터를 더 포함할 수 있다. The display device according to an exemplary embodiment of the present invention further includes a band filter disposed on the color control layer, overlapping the second and third pixels, and blocking first color light and transmitting second and third color light. can include

제1 화소, 제2 화소, 및 제3 화소는 제1 유기발광 다이오드, 제2 유기발광 다이오드, 및 제3 유기발광 다이오드를 각각 포함하고, 제1 유기발광 다이오드, 제2 유기발광 다이오드, 제3 유기발광 다이오드의 발광층은 일체의 형상을 가질 수 있다. The first pixel, second pixel, and third pixel include a first organic light emitting diode, a second organic light emitting diode, and a third organic light emitting diode, respectively, and the first organic light emitting diode, the second organic light emitting diode, and the third organic light emitting diode. The light emitting layer of the organic light emitting diode may have an integral shape.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 광학제어층 상에 배치되고, 적어도 580nm 내지 600nm 범위의 파장의 광을 흡수하는 흡수층을 더 포함할 수 있다. The display device according to an exemplary embodiment of the present invention may further include an absorption layer disposed on the optical control layer and absorbing light having a wavelength ranging from at least 580 nm to 600 nm.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 광학제어층 상에 배치되고 굴절률 1.1 이상 1.5 이하인 저굴절층을 더 포함할 수 있다. The display device according to an exemplary embodiment of the present invention may further include a low refractive index layer disposed on the optical control layer and having a refractive index of 1.1 or more and 1.5 or less.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 베이스 기판, 베이스 기판 상에 배치되고, 각각이 제1 색광을 생성하는 유기발광다이오드를 포함하는 제1 내지 제3 화소, 제1 내지 제3 화소를 밀봉하는 봉지부재, 제1 화소에 대응하고 제1 색광을 투과시키는 투과필터, 제2 화소에 대응하고 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 제3 화소에 대응하고 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하고, 제1 내지 제3 화소 상에 배치된 컬러제어층; 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하고, 컬러제어층 상에 배치되고, 제1 내지 제3 화소에 중첩하는 광학제어층을 포함하고, 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함한다. A display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a base substrate, first to third pixels disposed on the base substrate, each including an organic light emitting diode generating a first color light, and sealing the first to third pixels. a sealing member corresponding to the first pixel and transmitting the first color light; a first color conversion member corresponding to the second pixel and converting the first color light into second color light; and corresponding to the third pixel and transmitting the first color light. a color control layer disposed on the first to third pixels, including a second color conversion member that converts color light into third color light; And a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm, and an optical control layer disposed on the color control layer and overlapping the first to third pixels, the inorganic layer having a wavelength range of 530 nm to 3.5 A first sub-inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 570 nm and a second sub-inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 제1 색광을 수신하는 제1 베이스 기판, 제1 베이스 기판과 이격되어 배치된 제2 베이스 기판, 액정층, 액정층에 전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극을 각각포함하고, 제1 베이스 기판과 제2 베이스 기판 사이에 배치된 제1 내지 제3 화소, 제1 화소를 투과한 제1 색광을 투과시키는 투과필터, 제2 화소를 투과한 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 제3 화소를 투과한 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하고, 제1 내지 제3 화소 상에 배치된 컬러제어층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하고, 컬러제어층 상에 배치되고, 제1 내지 제3 화소에 중첩하는 광학제어층을 포함하고, 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함한다. A display device according to an embodiment of the present invention includes a first base substrate for receiving first color light, a second base substrate spaced apart from the first base substrate, a liquid crystal layer, a pixel electrode for forming an electric field in the liquid crystal layer, and a common First to third pixels each including an electrode and disposed between the first base substrate and the second base substrate, a transmission filter for transmitting the first color light transmitted through the first pixel, and the first color light transmitted through the second pixel a first color conversion member for converting a first color light into second color light, and a second color conversion member for converting the first color light transmitted through a third pixel into third color light, and the colors are disposed on the first to third pixels. A control layer and a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm, and an optical control layer disposed on the color control layer and overlapping the first to third pixels, the inorganic layer A first sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.

컬러제어층은 제2 베이스 기판의 하면 상에 배치되고, 광학제어층은 제2 베이스 기판의 하면과 컬러제어층 사이에 배치될 수 있다. The color control layer may be disposed on the lower surface of the second base substrate, and the optical control layer may be disposed between the lower surface of the second base substrate and the color control layer.

컬러제어층 및 광학제어층은 제2 베이스 기판 상면 상에 배치될 수 있다. The color control layer and the optical control layer may be disposed on the upper surface of the second base substrate.

일 실시예는 컬러제어층 상에 배치되는 무기층을 포함하는 광학제어층을 포함함으로써, 투과율이 높으면서도 외광 반사율이 감소된 표시장치를 제공할 수 있다.An embodiment may provide a display device having high transmittance and reduced reflectance of external light by including an optical control layer including an inorganic layer disposed on the color control layer.

일 실시예는 광학제어층 상에 배치되는 흡수층을 포함함으로써, 외광 반사율이 보다 감소된 표시장치를 제공할 수 있다. An embodiment may provide a display device having a reduced external light reflectance by including an absorption layer disposed on the optical control layer.

일 실시예는 광학제어층 상에 배치되는 밴드 필터를 포함함으로써, 표시 품질이 향상된 표시장치를 제공할 수 있다.An embodiment may provide a display device having improved display quality by including a band filter disposed on the optical control layer.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 광들의 경로를 도시한 도면이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층으로부터 반사되는 광들의 경로를 도시한 도면이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기층 재료의 흡수계수 및 굴절률을 도시한 그래프이다.
도 4b 및 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층의 반사율 및 투과율을 도시한 그래프이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 등가회로도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 표시영역의 단면도이다.
도 8a 및 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 9a 내지 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 각 층의 투과율을 도시한 그래프이다.
도 11 내지 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
도 15a는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 등가회로도이다.
도 15b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널의 단면도이다.
도 16a 내지 16c은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.
1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
2 is a diagram illustrating a path of lights of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating a path of light reflected from an optical control layer according to an embodiment of the present invention.
Figure 4a is a graph showing the absorption coefficient and refractive index of the inorganic layer material according to an embodiment of the present invention.
4b and 4c are graphs showing reflectance and transmittance of the optical control layer according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
6 is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a display area of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
8A and 8B are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
9A to 9D are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
10 is a graph showing the transmittance of each layer according to an embodiment of the present invention.
11 and 12 are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
13 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment.
14 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
15A is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an embodiment of the present invention.
15B is a cross-sectional view of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
16A to 16C are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the present invention may have various changes and various forms, specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, it should be understood that this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, and includes all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.Like reference numerals have been used for like elements throughout the description of each figure. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown enlarged than actual for clarity of the present invention. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another. For example, a first element may be termed a second element, and similarly, a second element may be termed a first element, without departing from the scope of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise.

본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. In this application, the terms "include" or "have" are intended to designate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, but one or more other features It should be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

본 출원에서, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 또는 "상부에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "하에" 또는 "하부에" 있다고 할 경우, 이는 다른 부분 "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 또한, 본 출원에서 "상에" 배치된다고 하는 것은 상부뿐 아니라 하부에 배치되는 경우도 포함하는 것일 수 있다.In this application, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "on" or "above" another part, this is not only when it is "directly on" the other part, but also when there is another part in the middle. Also includes Conversely, when a part such as a layer, film, region, plate, etc. is said to be "under" or "below" another part, this includes not only the case where it is "directly under" the other part, but also the case where there is another part in between. . In addition, in the present application, being disposed "on" may include the case of being disposed not only on the top but also on the bottom.

한편, 본 출원에서 "직접 배치"된다는 것은 층, 막, 영역, 판 등의 부분과 다른 부분 사이에 추가되는 층, 막, 영역, 판 등이 없는 것을 의미하는 것일 수 있다. 예를 들어, "직접 배치"된다는 것은 두 개의 층 또는 두 개의 부재들 사이에 접착 부재 등의 추가 부재를 사용하지 않고 배치하는 것을 의미하는 것일 수 있다. Meanwhile, in the present application, "directly disposed" may mean that there is no layer, film, region, plate, etc. added between a part of the layer, film, region, plate, etc. and another part. For example, "directly disposed" may mean disposing without using an additional member such as an adhesive member between two layers or two members.

이하, 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치에 대하여 설명한다.Hereinafter, a display device according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 평면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 광들의 경로를 도시한 도면이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층으로부터 반사되는 광들의 경로를 도시한 도면이다. 도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 무기층 재료의 흡수계수 및 굴절률을 도시한 그래프이다. 도 4b 및 도 4c는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층의 반사율 및 투과율을 도시한 그래프이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.1 is a plan view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 2 is a diagram illustrating a path of lights of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 3 is a diagram illustrating a path of light reflected from an optical control layer according to an embodiment of the present invention. Figure 4a is a graph showing the absorption coefficient and refractive index of the inorganic layer material according to an embodiment of the present invention. 4b and 4c are graphs showing reflectance and transmittance of the optical control layer according to an embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 일 실시예의 표시장치(DD)는 영상을 표시하는 표시영역(DA) 및 영상을 표시하지 않는 비표시영역(NDA)을 포함할 수 있다. 비표시영역(NDA)은 표시영역(DA)의 외곽에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 1 , a display device DD according to an exemplary embodiment may include a display area DA displaying an image and a non-display area NDA not displaying an image. The non-display area NDA may be disposed outside the display area DA.

표시영역(DA)은 복수의 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)을 포함할 수 있다. 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)은 예를 들어, 복수의 게이트 라인들 및 복수의 데이터 라인들에 의해 정의될 수 있다. 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)은 매트릭스 형태로 배치될 수 있다. 다만, 화소 영역의 배열 구조는 이에 제한되지 않으며, 예를 들어, 펜타일 구조를 가질 수도 있다. 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B) 각각에는 후술하는 화소가 배치될 수 있다. The display area DA may include a plurality of pixel areas Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B. The pixel regions Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B may be defined by, for example, a plurality of gate lines and a plurality of data lines. The pixel regions Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B may be arranged in a matrix form. However, the arrangement structure of the pixel area is not limited thereto, and may have, for example, a pentile structure. A pixel described below may be disposed in each of the pixel regions Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B.

화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)은 제1 색광을 방출하는 제1 화소 영역(Pxa-B), 제2 색광을 방출하는 제2 화소 영역(Pxa-G) 및 제3 색광을 방출하는 제3 화소 영역(Pxa-R)을 포함할 수 있다. 일 실시예에서 제1 색광은 청색광, 제2 색광은 녹색광 및 제3 색광은 적색광일 수 있다. The pixel areas Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B include a first pixel area Pxa-B emitting a first color light, a second pixel area Pxa-G emitting a second color light, and a second pixel area Pxa-G emitting a second color light. It may include a third pixel area Pxa-R that emits three color lights. In an embodiment, the first color light may be blue light, the second color light may be green light, and the third color light may be red light.

본 발명에서 후술하는 화소는 발광형 화소일 수 있고, 또는 투과형 화소일 수 있다. A pixel to be described later in the present invention may be an emission type pixel or a transmission type pixel.

본 발명의 일 실시예에서 평면형 표시면을 구비한 표시장치(DD)를 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 표시장치(DD)는 곡면형 표시면 또는 입체형 표시면을 포함할 수도 있다. 입체형 표시면은 서로 다른 방향을 지시하는 복수 개의 표시영역들을 포함하고, 예컨대, 다각 기둥형 표시면을 포함할 수도 있다. In one embodiment of the present invention, a display device DD having a flat display surface is illustrated, but is not limited thereto. The display device DD may include a curved display surface or a three-dimensional display surface. The three-dimensional display surface includes a plurality of display areas indicating different directions, and may include, for example, a polygonal columnar display surface.

본 실시예에 따른 표시장치(DD)는 리지드 표시장치일 수 있다. 그러나 이에 제한되지 않고, 본 발명에 따른 표시장치(DD)는 플렉서블 표시장치일 수 있다.The display device DD according to the present embodiment may be a rigid display device. However, it is not limited thereto, and the display device DD according to the present invention may be a flexible display device.

도 2에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 표시장치(DD)는 계조 표시층(DL), 계조 표시층(DL) 상에 배치되는 컬러제어층(CCL) 및 컬러제어층(CCL) 상에 배치되고, 금속층(ML) 및 무기층(IL)을 포함하는 광학제어층(LCL)을 포함한다. As shown in FIG. 2, the display device DD according to the present invention has a grayscale display layer DL, a color control layer CCL disposed on the grayscale display layer DL, and a color control layer CCL on the color control layer CCL. and an optical control layer LCL including a metal layer ML and an inorganic layer IL.

도 2를 참조하면, 계조 표시층(DL)은 표시장치(DD)에 제1 색광을 제공한다. 계조 표시층(DL)으로부터 제공된 제1 색광 중 일부는 컬러제어층(CCL)을 투과할 수 있다. 또한, 계조 표시층(DL)으로부터 제공된 제1 색광 중 일부는 컬러제어층(CCL)에 의해 다른 색 광으로 변환될 수 있다. 다른 색 광은 제2 색광 또는 제3 색광일 수 있다. 컬러제어층(CCL)을 투과한 제1 색광 중 일부는 광학제어층(LCL)을 통과할 수 있다. 컬러제어층(CCL)을 투과한 제1 색광 중 일부는 광학제어층(LCL)에서 반사될 수 있다. 광학제어층(LCL)에서 반사된 제1 색광 중 일부는 계조 표시층(DL)에 재반사 되어 컬러제어층(CCL)으로 재입사될 수 있다. 따라서, 이러한 내부반사를 활용한 광의 재순환을 통해 표시장치(DD)의 광 효율을 향상시킬 수 있다. 컬러제어층(CCL)에서 생성된 다른 색 광은 대부분 광학제어층(LCL)을 통과할 수 있다. Referring to FIG. 2 , the grayscale display layer DL provides a first color light to the display device DD. Some of the first color light provided from the grayscale display layer DL may pass through the color control layer CCL. Also, some of the first color light supplied from the grayscale display layer DL may be converted into other color light by the color control layer CCL. The other color light may be a second color light or a third color light. Some of the first color light transmitted through the color control layer CCL may pass through the optical control layer LCL. Some of the first color light transmitted through the color control layer CCL may be reflected by the optical control layer LCL. Some of the first color light reflected by the optical control layer LCL may be re-reflected by the grayscale display layer DL and re-incident to the color control layer CCL. Accordingly, light efficiency of the display device DD may be improved through recycling of light utilizing such internal reflection. Most of the other color light generated from the color control layer (CCL) may pass through the optical control layer (LCL).

광학제어층(LCL)은 금속층(ML) 및 무기층(IL)을 포함하여 외부광의 반사율을 낮출 수 있다. 일 실시예에서, 무기층(IL)은 단층일 수 있고, 또는 2층이상의 복수의 층일 수 있다. 무기층(IL)이 복수의 층인 경우, 제1 서브 무기층(Sub-IL1), 제2 서브 무기층(Sub-IL2), 제3 서브 무기층(미도시)등으로 명명될 수 있다. 서브 무기층들간의 적층 구조는 다양하게 배치될 수 있으며, 예를 들어, 제1 서브 무기층(Sub-IL1)상에 제2 서브 무기층(Sub-IL2), 제2 서브 무기층(Sub-IL2)상에 제3 서브 무기층이 순차적으로 배치될 수 있고, 또는 제3 서브 무기층상에 제2 서브 무기층(Sub-IL2), 제2 서브 무기층(Sub-IL2)상에 제1 서브 무기층(Sub-IL1)이 순차적으로 배치될 수도 있으나, 이에 제한되지 않는다. The optical control layer LCL includes the metal layer ML and the inorganic layer IL to reduce reflectance of external light. In one embodiment, the inorganic layer IL may be a single layer or a plurality of layers of two or more layers. When the inorganic layer IL has a plurality of layers, it may be named a first sub-inorganic layer Sub-IL1 , a second sub-inorganic layer Sub-IL2 , a third sub-inorganic layer (not shown), and the like. A stacked structure between the sub-inorganic layers may be arranged in various ways. For example, a second sub-inorganic layer Sub-IL2 and a second sub-inorganic layer Sub-IL1 are formed on the first sub-inorganic layer Sub-IL1. IL2), a third sub inorganic layer may be sequentially disposed on the third sub inorganic layer, or a second sub inorganic layer (Sub-IL2) on the third sub inorganic layer, and a first sub inorganic layer (Sub-IL2) on the second sub inorganic layer (Sub-IL2). The inorganic layer Sub-IL1 may be sequentially disposed, but is not limited thereto.

일 실시예에서, 무기층(IL)은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함할 수 있다. 상기 범위의 흡수계수를 갖는 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함하는 무기층(IL)은 외부에서 입사되는 광의 일부를 흡수할 수 있고, 이에 따라 외광 반사를 저감시킬 수 있다. In an embodiment, the inorganic layer IL includes a first sub-inorganic layer (Sub-IL1) having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in the wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub-inorganic layer (Sub-IL1) having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in the wavelength range of 530 nm to 570 nm. A layer (Sub-IL2) may be included. The inorganic layer IL including the first sub-inorganic layer Sub-IL1 and the second sub-inorganic layer Sub-IL2 having an absorption coefficient within the above range may absorb some of light incident from the outside, and thus Accordingly, external light reflection can be reduced.

도 3에 도시된 바와 같이, 광학제어층(LCL)은 금속층(ML) 및 무기층(IL)에서 반사된 반사광들은 서로 상쇄간섭될 수 있다. As shown in FIG. 3 , in the optical control layer LCL, reflected lights reflected from the metal layer ML and the inorganic layer IL may cancel each other out.

일 실시예에서, 무기층(IL)은 아래의 식 1 조건을 만족하는 것이 바람직하다. In one embodiment, the inorganic layer IL preferably satisfies the condition of Equation 1 below.

[식 1] [Equation 1]

Figure 112018067308300-pat00002
Figure 112018067308300-pat00002

상기 식1에서, λ는 530nm 내지 570nm의 파장이고, m은 0 및 자연수이고, Ta1은 상기 제1 서브 무기층의 두께이고, Ta2는 상기 제2 서브 무기층의 두께이고, n1은 상기 제1 서브 무기층의 상기 λ 파장에서의 굴절률이며, n2는 상기 제2 서브 무기층의 상기 λ 파장에서의 굴절률이다.In Equation 1, λ is a wavelength of 530 nm to 570 nm, m is 0 and a natural number, Ta 1 is the thickness of the first sub-inorganic layer, Ta 2 is the thickness of the second sub-inorganic layer, and n 1 is A refractive index of the first sub-inorganic layer at the λ wavelength, and n 2 is a refractive index of the second sub-inorganic layer at the λ wavelength.

무기층(IL)이 상기 식 1의 조건을 만족하는 경우, 무기층(IL)은 외광 흡수 역할 및 상쇄 간섭을 위한 위상조정 역할을 동시에 수행할 수 있고, 도 3에 도시된 것과 같이, 상쇄간섭을 활용하여 광학제어층(LCL)의 금속층(ML) 과 무기층(IL)에 반사된 제1 광(L1)과 제2 광(L2)이 사용자에게 반사되지 않고 소멸시켜 외광 반사를 효과적으로 저감시킬 수 있다. When the inorganic layer IL satisfies the condition of Equation 1 above, the inorganic layer IL may simultaneously perform a role of absorbing external light and a role of adjusting the phase for destructive interference, and as shown in FIG. 3, destructive interference The first light L1 and the second light L2 reflected by the metal layer ML and the inorganic layer IL of the optical control layer LCL are extinguished without being reflected to the user, thereby effectively reducing external light reflection. can

일 실시예에서, 무기층(IL)의 굴절률은 2 이상 2.5 이하일 수 있다. 상기 범위의 굴절률을 만족하는 경우, 식 1을 만족하여 상쇄 간섭에 의해 금속층(ML)로부터 반사되는 외부 광을 소멸시켜 효과적으로 외광 반사를 저감시킬 수 있다. In one embodiment, the refractive index of the inorganic layer IL may be 2 or more and 2.5 or less. When the refractive index in the above range is satisfied, Equation 1 is satisfied, and external light reflected from the metal layer ML by destructive interference is extinguished, thereby effectively reducing reflection of external light.

도 3과 같이, 무기층(IL)이 복수의 층을 포함하는 경우, 제1 서브 무기층(Sub-IL2)과 제2 서브 무기층(Sub-IL2)은 굴절률의 차이가 없을수록 효과적으로 외광반사를 저감시킬 수 있다. 예를 들어, 제1 서브 무기층(Sub-IL1)과 제2 서브 무기층(Sub-IL2)은 굴절률의 차이가 0 이상 0.5 이하, 또는 0 이상 0.25 이하일 수 있고, 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)의 굴절률은 2 이상 2.5 이하일 수 있다. As shown in FIG. 3 , when the inorganic layer IL includes a plurality of layers, the first sub-inorganic layer Sub-IL2 and the second sub-inorganic layer Sub-IL2 effectively reflect external light as there is no difference in refractive index. can reduce For example, the difference in refractive index between the first sub-inorganic layer Sub-IL1 and the second sub-inorganic layer Sub-IL2 may be 0 or more and 0.5 or less, or 0 or more and 0.25 or less. -IL1) and the second sub-inorganic layer (Sub-IL2) may have a refractive index of 2 or more and 2.5 or less.

무기층(IL)의 두께는 수학식 1을 만족시키지 않더라도 수학식 1에 의한 두께와 -5% 내지 +5% 범위인 것이 바람직하다. 일 실시예에서, 무기층(IL)의 두께는, 예를 들어, 10.0 nm 이상 40.0 nm이하일 수 있다. Even if the thickness of the inorganic layer IL does not satisfy Equation 1, it is preferable that the thickness according to Equation 1 ranges from -5% to +5%. In one embodiment, the thickness of the inorganic layer IL may be, for example, greater than or equal to 10.0 nm and less than or equal to 40.0 nm.

도 3과 같이, 무기층(IL)이 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)으로 이루어진 경우, 제1 서브 무기층(Sub-IL1)의 두께 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)의 두께의 합은 10.0 nm 내지 40.0 nm 일 수 있다. 제1 서브 무기층(Sub-IL1)의 두께는 9.9 nm 이상 39.9 nm 이하일 수 있고, 제2 서브 무기층(Sub-IL2)의 두께는 0.1 nm 이상 20.0 nm 이하일 수 있다. 3 , when the inorganic layer IL includes the first sub-inorganic layer Sub-IL1 and the second sub-inorganic layer Sub-IL2, the thickness and thickness of the first sub-inorganic layer Sub-IL1 and the second sub-inorganic layer Sub-IL1 are The sum of the thicknesses of the two sub-inorganic layers (Sub-IL2) may be 10.0 nm to 40.0 nm. The thickness of the first sub-inorganic layer Sub-IL1 may be greater than or equal to 9.9 nm and less than or equal to 39.9 nm, and the thickness of the second sub-inorganic layer Sub-IL2 may be greater than or equal to 0.1 nm and less than or equal to 20.0 nm.

제1 서브 무기층(Sub-IL1)은 상기 조건들을 만족하기 위해 금속산화물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 몰리탄탈옥사이드(MoTaOx, MTO)를 포함할 수 있다. 도 4a에 도시된 것과 같이, 몰리탄탈옥사이드(MTO)는 550nm 의 파장에서 흡수계수 약 0.61 이고, 굴절률이 약 2.2 임을 확인할 수 있다. The first sub-inorganic layer Sub-IL1 may include a metal oxide to satisfy the above conditions, for example, molitant oxide (MoTaOx, MTO). As shown in Figure 4a, it can be seen that molitant oxide (MTO) has an absorption coefficient of about 0.61 and a refractive index of about 2.2 at a wavelength of 550 nm.

제2 서브 무기층(Sub-IL2)은 상기 조건들을 만족하기 위해 금속산화물을 포함할 수 있고, 예를 들어, 인듐징크옥사이드(InZnOx, IZO)를 포함할 수 있다. 도 4a에 도시된 것과 같이, 인듐징크옥사이드(IZO)는 550nm 의 파장에서 흡수계수 약 0.01 이고, 굴절률이 약 2.2 임을 확인할 수 있다. The second sub-inorganic layer Sub-IL2 may include a metal oxide to satisfy the above conditions, for example, indium zinc oxide (InZnOx, IZO). As shown in FIG. 4A, it can be confirmed that indium zinc oxide (IZO) has an absorption coefficient of about 0.01 and a refractive index of about 2.2 at a wavelength of 550 nm.

금속층(ML)은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 내지 3.5 이다. 금속층(ML)이 상기 범위의 흡수계수를 갖는 경우, 도 2를 참조하여 설명한 것과 같이, 광학제어층(LCL)에 전달된 제1 색광 중 일부는 재순환(recycling) 될 수 있으며, 금속층(ML)에서 흡수되어 소멸되는 광량이 감소될 수 있으므로 표시장치(DD)의 광효율이 향상될 수 있다. The metal layer ML has an absorption coefficient of 3 to 3.5 in a wavelength range of 530 nm to 570 nm. When the metal layer ML has an absorption coefficient within the above range, as described with reference to FIG. 2 , some of the first color light transmitted to the optical control layer LCL may be recycled, and the metal layer ML The light efficiency of the display device DD can be improved because the amount of light absorbed and extinguished can be reduced.

광학제어층(LCL)의 금속층(ML)은 두께 약 5nm 이상 약 20nm 이하일 수 있다. 금속층(ML)의 두께가 약 5nm 미만인 경우, 두께가 너무 얇아 금속층(ML)을 고르게 형성하기 어려워 공정성이 낮아지게 된다. 또한, 금속층(ML)은 계조 표시층(DL)에서 제공된 광을 투과시키기 위하여 높은 투과율을 가져야 하며, 적어도 40% 이상의 투과율을 가져야 하는데, 금속층(ML)의 두께가 약 20nm를 초과하는 경우, 금속층(ML)의 투과율이 상기 범위보다 낮아질 수 있다. The metal layer ML of the optical control layer LCL may have a thickness of about 5 nm or more and about 20 nm or less. When the thickness of the metal layer ML is less than about 5 nm, it is difficult to uniformly form the metal layer ML because the thickness is too thin, resulting in low fairness. In addition, the metal layer ML must have high transmittance in order to transmit the light provided from the grayscale display layer DL, and must have a transmittance of at least 40%. When the thickness of the metal layer ML exceeds about 20 nm, the metal layer ML The transmittance of (ML) may be lower than the above range.

실버(Ag), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr) 또는 알루미늄(Al)을 포함하는 금속층을 각각 형성하여, 550nm의 파장에서 흡수계수(k)를 측정하고, 동일 파장에서 각 금속층의 두께에 따른 반사율 및 투과율을 측정하였다. 그 결과는 표 1과 같다. By forming a metal layer containing silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr) or aluminum (Al), respectively, measuring the absorption coefficient (k) at a wavelength of 550 nm, and measuring the thickness of each metal layer at the same wavelength Reflectance and transmittance were measured. The results are shown in Table 1.

두께thickness Ag (k: 3.3)Ag (k: 3.3) Mo (k:3.7)Mo (k:3.7) Cr (k: 4.4)Cr (k: 4.4) Al (k: 6.7)Al (k: 6.7) 반사율reflectivity 투과율transmittance 반사율reflectivity 투과율transmittance 반사율reflectivity 투과율transmittance 반사율reflectivity 투과율transmittance 1nm1 nm 0.7%0.7% 98.8%98.8% 1.9%1.9% 84.6%84.6% 2.3%2.3% 82.4%82.4% 3.5%3.5% 88.8%88.8% 5 nm5 nm 6.1%6.1% 91.3%91.3% 12.2%12.2% 48.6%48.6% 15.7%15.7% 43.4%43.4% 35.8%35.8% 44.2%44.2% 10 nm10 nm 19.7%19.7% 75.8%75.8% 25.2%25.2% 28.1%28.1% 31.2%31.2% 23.0%23.0% 63.9%63.9% 17.5%17.5% 20 nm20 nm 50.7%50.7% 43.1%43.1% 41.6%41.6% 11.7%11.7% 48.8%48.8% 8.2%8.2% 82.9%82.9% 3.4%3.4% 30 nm30 nm 72.0%72.0% 21.7%21.7% 47.8%47.8% 5.3%5.3% 54.5%54.5% 3.1%3.1% 87.3%87.3% 0.7%0.7%

상기 표 1을 참조하면, 금속층(ML)의 두께가 두꺼워질수록 투과율이 낮아지며, 흡수계수가 높을수록 동일 두께에서 투과율이 낮아짐을 확인할 수 있다.Referring to Table 1, it can be seen that the transmittance decreases as the thickness of the metal layer ML increases, and the transmittance decreases with the same thickness as the absorption coefficient increases.

금속층(ML)의 투과율을 고려하는 경우, 금속층(ML)은 투과율 40% 이상을 만족해야 하므로 실버(Ag)를 포함하는 금속층(ML)은 두께 범위 약 5nm 이상 약 20nm 이하의 범위에서 본 발명의 금속층(ML)으로 적용될 수 있고, 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr) 또는 알루미늄(Al)을 포함하는 경우 금속층(ML)은 두께가 약 5nm일 때 본 발명의 금속층(ML)으로 적용될 수 있다.When considering the transmittance of the metal layer ML, since the metal layer ML must satisfy the transmittance of 40% or more, the metal layer ML including silver (Ag) has a thickness range of about 5 nm or more and about 20 nm or less of the present invention. It may be applied as a metal layer (ML), and when the metal layer (ML) includes molybdenum (Mo), chromium (Cr), or aluminum (Al), when the thickness is about 5 nm, it may be applied as the metal layer (ML) of the present invention.

그러나, 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr) 또는 알루미늄(Al)을 포함하는 금속층(ML)은 흡수계수가 3.5를 초과하여 두께가 5nm 일 때, 반사율과 투과율의 합이 90% 미만이므로 금속층(ML) 자체의 광 흡수로 인해 광 손실이 발생할 우려가 있다. However, the metal layer ML containing molybdenum (Mo), chromium (Cr), or aluminum (Al) has an absorption coefficient exceeding 3.5 and the sum of reflectance and transmittance is less than 90% when the thickness is 5 nm, so the metal layer ML ) may cause optical loss due to its own optical absorption.

반면, 실버(Ag)를 포함하는 금속층(ML)은 흡수계수 3 이상 3.5 이하의 범위를 만족하고, 전 두께 범위에서 반사율과 투과율의 합이 90% 이상이므로 광 손실이 거의 발생하지 않으면서 내부 반사에 의한 광의 재순환으로 광 효율을 향상시킬 수 있다. On the other hand, the metal layer (ML) containing silver (Ag) satisfies the range of absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less, and the sum of reflectance and transmittance in the entire thickness range is 90% or more, so light loss is almost not generated and internal reflection Light efficiency can be improved by recirculation of light by.

도 4b 및 도 4c는 컬러제어층(CCL)상에 두께 300Å의 무기층(IL) 및 두께 80Å이고, 실버(Ag)를 포함하는 금속층(ML)을 포함하는 광학제어층(LCL)이 배치된 적층체의 투과율 및 반사율을 나타내는 그래프이다. 무기층(IL)은 몰리탄탈옥사이드(MTO)를 포함하는 단층이거나, 또는 복수의 층이다. 무기층(IL)이 복수의 층인 경우, 몰리탄탈옥사이드(MTO)을 포함하는 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 인듐징크옥사이드(IZO)를 포함하는 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함한다. 4B and 4C show an optical control layer (LCL) including an inorganic layer (IL) having a thickness of 300 Å and a metal layer (ML) including silver (Ag) having a thickness of 80 Å and disposed on the color control layer (CCL). It is a graph showing transmittance and reflectance of the laminate. The inorganic layer IL is a single layer containing molitant oxide (MTO) or a plurality of layers. When the inorganic layer IL has a plurality of layers, a first sub-inorganic layer Sub-IL1 containing molitanthaloxide (MTO) and a second sub-inorganic layer Sub-IL2 containing indium zinc oxide (IZO) includes

도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층(LCL)을 포함하는 경우, 550nm의 파장에서 투과율은 40% 이상이며, 광학제어층(LCL)에서 흡수하는 광을 감소시켜 광효율을 보다 향상시킬 수 있다. Referring to FIG. 4B, when the optical control layer (LCL) according to an embodiment of the present invention is included, the transmittance is 40% or more at a wavelength of 550 nm, and the light absorbed by the optical control layer (LCL) is reduced to reduce light efficiency. can be further improved.

무기층(IL)이 단층인 경우와 복수의 층인 경우를 비교하면, 복수의 층인 경우에 흡수계수가 상대적으로 낮은 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 추가적으로 포함함으로써, 흡수계수가 상대적으로 높은 제1 서브 무기층(Sub-IL1)의 두께를 줄일 수 있어 광학제어층(LCL)의 투과율을 보다 높일 수 있다. Comparing the case where the inorganic layer IL is a single layer and the case where it is a plurality of layers, when the inorganic layer IL is a single layer, the absorption coefficient is relatively high by additionally including the second sub-inorganic layer (Sub-IL2) having a relatively low absorption coefficient in the case of a plurality of layers. Since the thickness of the first sub-inorganic layer Sub-IL1 may be reduced, transmittance of the optical control layer LCL may be further increased.

도 4c를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층(LCL)은 550nm의 파장에서 반사율은 20% 이하일 수 있다. 표시장치의 반사율이 높으면 외광반사가 많이 일어나고, 표시장치의 시인성 및 가독성이 떨어지게 된다. 본 발명의 표시장치는 반사율이 낮게 제어된 광학제어층(LCL)을 포함하므로써, 광학제어층(LCL)에서 외광반사를 감소시켜 시인성이 향상될 수 있다.Referring to FIG. 4C , the optical control layer (LCL) according to an embodiment of the present invention may have a reflectance of 20% or less at a wavelength of 550 nm. When the reflectance of the display device is high, external light reflection occurs a lot, and the visibility and readability of the display device are deteriorated. The display device of the present invention includes the optical control layer (LCL) having a low reflectance, thereby reducing the reflection of external light in the optical control layer (LCL), thereby improving visibility.

무기층(IL)이 단층인 경우와 복수의 층인 경우를 비교하면, 복수의 층인 경우에 제1 서브 무기층(Sub-IL1)의 두께가 줄어들더라도, 제2 서브 무기층(Sub-IL2)이 제1 서브 무기층(Sub-IL1)과 유사한 굴절률을 가지므로 무기층(IL)이 단층인 경우와 유사한 수준으로 광학제어층(LCL)의 반사율을 유지할 수 있다. Comparing the case where the inorganic layer IL has a single layer and the case where it has a plurality of layers, even if the thickness of the first sub-inorganic layer Sub-IL1 decreases when the inorganic layer IL has a plurality of layers, the second sub-inorganic layer Sub-IL2 Since it has a refractive index similar to that of the first sub-inorganic layer Sub-IL1, the reflectivity of the optical control layer LCL may be maintained at a level similar to that of the case where the inorganic layer IL is a single layer.

도 5를 참조하면, 일 실시예에서, 계조 표시층(DL)은 제1 화소 영역(Pxa-B), 제2 화소 영역(Pxa-G), 및 제3 화소 영역(Pxa-R)에 대응하는 제1 화소(Px-B), 제2 화소(Px- G), 및 제3 화소(Px-R)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 5 , in an exemplary embodiment, the grayscale display layer DL corresponds to the first pixel area Pxa-B, the second pixel area Pxa-G, and the third pixel area Pxa-R. It may include a first pixel Px-B, a second pixel Px-G, and a third pixel Px-R.

본 실시예에서 제1 화소(Px-B), 제2 화소(Px-G), 및 제3 화소(Px-R)는 실질적으로 동일한 구성을 가질 수 있다. 제1 화소(Px-B), 제2 화소(Px-G), 및 제3 화소(Px-R)는 모두 동일한 제1 색광을 제공할 수 있고, 예를 들어, 제1 색광은 청색광일 수 있다. In this embodiment, the first pixel Px-B, the second pixel Px-G, and the third pixel Px-R may have substantially the same configuration. The first pixel Px-B, the second pixel Px-G, and the third pixel Px-R may all provide the same first color light. For example, the first color light may be blue light. have.

컬러제어층(CCL)은 제1 화소 영역(Pxa-B), 제2 화소 영역(Pxa-G), 및 제3 화소 영역(Pxa-R)에 대응하는 투과필터(TF) 및 컬러변환부재(CCF)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서 3개의 화소 영역들에 대응하게 1개의 투과필터(TF) 및 2개의 컬러변환부재(CCF)를 포함하는 컬러제어층(CCL)을 예시적으로 도시하였다. 투과필터(TF)는 제1 색광을 투과시킬 수 있고, 컬러변환부재(CCF)는 제1 색광을 다른 색광으로 변환시킬 수 있다. 다른 색광은, 예를 들어, 제2 색광 또는 제3 색광일 수 있다. The color control layer CCL includes a transmission filter TF and a color conversion member corresponding to the first pixel area Pxa-B, the second pixel area Pxa-G, and the third pixel area Pxa-R. CCF) may be included. In this embodiment, a color control layer (CCL) including one transmission filter (TF) and two color conversion members (CCF) corresponding to three pixel areas is illustrated as an example. The transmission filter TF can transmit the first color light, and the color conversion member CCF can convert the first color light into another color light. The other color light may be, for example, a second color light or a third color light.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 화소(Px)의 등가회로도이다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치(DD)의 표시영역(DA)의 단면도이다. 도 8a 및 도 8b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다.6 is an equivalent circuit diagram of a pixel Px according to an embodiment of the present invention. 7 is a cross-sectional view of the display area DA of the display device DD according to an exemplary embodiment of the present invention. 8A and 8B are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

본 실시예에 따르면, 표시장치(DD)는 유기발광 표시장치일 수 있다. 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한 계조 표시층(DL), 컬러제어층(CCL) 및 광학제어층(LCL)이 유기발광 표시장치에 적용된 구조를 도 6 내지 도 8을 참조하여 상세히 설명한다. According to this embodiment, the display device DD may be an organic light emitting display device. A structure in which the grayscale display layer DL, the color control layer CCL, and the optical control layer LCL described with reference to FIGS. 1 to 5 are applied to the organic light emitting display device will be described in detail with reference to FIGS. 6 to 8 .

도 6에서, 어느 하나의 게이트 라인(GL), 어느 하나의 데이터 라인(DAL), 전원 라인(PL), 및 이들에 연결된 화소(Px)를 도시하였다. 화소(Px)의 구성은 도 6에 제한되지 않고 변형되어 실시될 수 있다. In FIG. 6 , one gate line GL, one data line DAL, a power line PL, and a pixel Px connected thereto are illustrated. The configuration of the pixel Px is not limited to that of FIG. 6 and may be modified and implemented.

화소(Px)는 표시장치(DD)를 구동하기 위한 화소 구동회로로써 제1 트랜지스터(T1, 또는 스위칭 트랜지스터), 제2 트랜지스터(T2, 또는 구동 트랜지스터), 및 커패시터(Cst)를 포함한다. 제1 전원 전압(ELVDD)은 제2 트랜지스터(T2)에 제공되고, 제2 전원 전압(ELVSS)은 유기발광 다이오드(OLED)에 제공된다. 제2 전원 전압(ELVSS)은 제1 전원 전압(ELVDD) 보다 낮은 전압일 수 있다.The pixel Px is a pixel driving circuit for driving the display device DD and includes a first transistor T1 (or switching transistor), a second transistor T2 (or driving transistor), and a capacitor Cst. The first power voltage ELVDD is applied to the second transistor T2 and the second power voltage ELVSS is applied to the organic light emitting diode OLED. The second power voltage ELVSS may be lower than the first power voltage ELVDD.

제1 트랜지스터(T1)는 게이트 라인(GL)에 인가된 게이트 신호에 응답하여 데이터 라인(DAL)에 인가된 데이터 신호를 출력한다. 커패시터(Cst)는 제1 트랜지스터(T1)로부터 수신한 데이터 신호에 대응하는 전압을 충전한다. 제2 트랜지스터(T2)는 유기발광 다이오드(OLED)에 연결된다. 제2 트랜지스터(T2)는 커패시터(Cst)에 저장된 전하량에 대응하여 유기발광 다이오드(OLED)에 흐르는 구동전류를 제어한다. The first transistor T1 outputs a data signal applied to the data line DAL in response to a gate signal applied to the gate line GL. The capacitor Cst is charged with a voltage corresponding to the data signal received from the first transistor T1. The second transistor T2 is connected to the organic light emitting diode OLED. The second transistor T2 controls the driving current flowing through the organic light emitting diode OLED in response to the amount of charge stored in the capacitor Cst.

등가회로는 하나의 일 실시예에 불과하며, 이에 제한되지 않는다. 화소(Px)는 복수 개의 트랜지스터들을 더 포함할 수 있고, 더 많은 캐수의 커패시터들을 포함할 수 있다. 유기발광 다이오드(OLED)는 전원 라인(PL)과 제2 트랜지스터(T2) 사이에 접속될 수도 있다.An equivalent circuit is only one example, and is not limited thereto. The pixel Px may further include a plurality of transistors and may include a larger number of capacitors. The organic light emitting diode OLED may be connected between the power line PL and the second transistor T2.

도 7은 하나의 화소에 대응하는 단면을 도시하였다. 베이스 기판(BL) 상에 회로 소자층(DL-CL), 표시 소자층(DL-OLED), 봉지부재, 컬러제어층(CCL) 및 광학제어층(LCL)이 순차적으로 배치된다. 본 실시예에서 봉지부재로서 박막 봉지층(TFE)을 도시하였으나, 봉지기판(EAL) 등으로 대체될 수 있다.7 shows a cross section corresponding to one pixel. A circuit element layer (DL-CL), a display element layer (DL-OLED), an encapsulation member, a color control layer (CCL), and an optical control layer (LCL) are sequentially disposed on the base substrate (BL). Although the thin film encapsulation layer (TFE) is shown as an encapsulation member in this embodiment, it may be replaced with an encapsulation substrate (EAL) or the like.

본 실시예에서 베이스 기판(BL)은 계조 표시층(DL)이 배치되는 베이스 면을 제공해주는 부재일 수 있다. 베이스 기판(BL)은 유리기판, 금속기판, 플라스틱기판일 수 있다. 베이스 기판(BL)은 기판 상에 배치된 무기층 또는 유기층 또는 복합재료층일 수 있으며 특별히 제한되지 않는다.In this embodiment, the base substrate BL may be a member providing a base surface on which the grayscale display layer DL is disposed. The base substrate BL may be a glass substrate, a metal substrate, or a plastic substrate. The base substrate BL may be an inorganic layer, an organic layer, or a composite material layer disposed on the substrate and is not particularly limited.

본 실시예에서 회로 소자층(DL-CL)은 무기막인 버퍼막(BFL), 제1 절연층(IS1) 및 제2 절연층(IS2)을 포함하고, 제3 절연층(IS3)을 포함할 수 있다. 상기 제1 절연층(IS1) 및 제2 절연층(IS2)은 무기물을 포함할 수 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 제3 절연층(IS3)은 유기물을 포함할 수 있으며, 그 종류는 특별히 제한되지 않는다. 본 발명의 일 실시예에서 버퍼막(BFL)은 선택적으로 배치/생략될 수 있다.In this embodiment, the circuit element layer DL-CL includes an inorganic buffer layer BFL, a first insulating layer IS1 and a second insulating layer IS2, and a third insulating layer IS3. can do. The first insulating layer IS1 and the second insulating layer IS2 may include an inorganic material, and the type thereof is not particularly limited. The third insulating layer IS3 may include an organic material, and the type thereof is not particularly limited. In one embodiment of the present invention, the buffer film (BFL) may be selectively arranged/omitted.

버퍼막(BFL) 상에 제1 트랜지스터(T1)의 반도체 패턴(OSP1: 이하 제1 반도체 패턴), 제2 트랜지스터(T2)의 반도체 패턴(OSP2: 이하 제2 반도체 패턴)이 배치된다. 제1 반도체 패턴(OSP1) 및 제2 반도체 패턴(OSP2)은 아몰포스 실리콘, 폴리 실리콘, 금속 산화물 반도체에서 선택될 수 있다.A semiconductor pattern OSP1 (hereinafter referred to as first semiconductor pattern) of the first transistor T1 and a semiconductor pattern OSP2 (hereinafter referred to as second semiconductor pattern) of the second transistor T2 are disposed on the buffer layer BFL. The first semiconductor pattern OSP1 and the second semiconductor pattern OSP2 may be selected from amorphous silicon, polysilicon, or a metal oxide semiconductor.

제1 반도체 패턴(OSP1) 및 제2 반도체 패턴(OSP2) 상에 제1 절연층(IS1)이 배치된다. 제1 절연층(IS1) 상에는 제1 트랜지스터(T1)의 게이트 전극(GE1: 이하, 제1 게이트 전극) 및 제2 트랜지스터(T2)의 게이트 전극(GE2: 이하, 제2 게이트 전극)이 배치된다. 제1 게이트 전극(GE1) 및 제2 게이트 전극(GE2)은 게이트 라인들(GGL, 도 5a 참조)과 동일한 포토리소그래피 공정에 따라 제조될 수 있다. A first insulating layer IS1 is disposed on the first semiconductor pattern OSP1 and the second semiconductor pattern OSP2. A gate electrode GE1 (hereinafter referred to as a first gate electrode) of the first transistor T1 and a gate electrode GE2 (hereinafter referred to as a second gate electrode) of the second transistor T2 are disposed on the first insulating layer IS1. . The first gate electrode GE1 and the second gate electrode GE2 may be manufactured according to the same photolithography process as the gate lines GGL (see FIG. 5A ).

제1 절연층(IS1) 상에는 제1 게이트 전극(GE1) 및 제2 게이트 전극(GE2)을 커버하는 제2 절연층(IS2)이 배치된다. 제2 절연층(IS2) 상에 제1 트랜지스터(T1)의 드레인 전극(DE1: 이하, 제1 드레인 전극) 및 소스 전극(SE1: 제1 소스 전극), 제2 트랜지스터(T2)의 드레인 전극(DE2: 이하, 제2 드레인 전극) 및 소스 전극(SE2: 제2 소스 전극)이 배치된다. A second insulating layer IS2 covering the first gate electrode GE1 and the second gate electrode GE2 is disposed on the first insulating layer IS1. On the second insulating layer IS2, the drain electrode (DE1: hereinafter referred to as first drain electrode) and the source electrode (SE1: first source electrode) of the first transistor T1 and the drain electrode (DE1) of the second transistor T2 DE2: hereinafter, a second drain electrode) and a source electrode (SE2: second source electrode) are disposed.

제1 드레인 전극(DE1)과 제1 소스 전극(SE1)은 제1 절연층(IS1) 및 제2 절연층(IS2)을 관통하는 제1 관통홀(CH1)과 제2 관통홀(CH2)을 통해 제1 반도체 패턴(OSP1)에 각각 연결된다. 제2 드레인 전극(DE2)과 제2 소스 전극(SE2)은 제1 절연층(IS1) 및 제2 절연층(IS2)을 관통하는 제3 관통홀(CH3)과 제4 관통홀(CH4)을 통해 제2 반도체 패턴(OSP2)에 각각 연결된다. 한편, 본 발명의 다른 실시예에서 제1 트랜지스터(T1) 및 제2 트랜지스터(T2) 중 일부는 바텀 게이트 구조로 변형되어 실시될 수 있다.The first drain electrode DE1 and the first source electrode SE1 have a first through hole CH1 and a second through hole CH2 penetrating the first insulating layer IS1 and the second insulating layer IS2. are respectively connected to the first semiconductor pattern OSP1 through The second drain electrode DE2 and the second source electrode SE2 have a third through hole CH3 and a fourth through hole CH4 penetrating the first and second insulating layers IS1 and IS2. are respectively connected to the second semiconductor pattern OSP2 through Meanwhile, in another embodiment of the present invention, some of the first transistor T1 and the second transistor T2 may be modified into a bottom gate structure.

제2 절연층(IS2) 상에 제1 드레인 전극(DE1), 제2 드레인 전극(DE2), 제1 소스 전극(SE1), 및 제2 소스 전극(SE2)을 커버하는 제3 절연층(IS3)이 배치된다. 제3 절연층(IS3)은 평탄면을 제공할 수 있다.A third insulating layer IS3 covering the first drain electrode DE1, the second drain electrode DE2, the first source electrode SE1, and the second source electrode SE2 on the second insulating layer IS2. ) is placed. The third insulating layer IS3 may provide a flat surface.

제3 절연층(IS3) 상에는 표시 소자층(DL-OLED)이 배치된다. 표시 소자층(DL-OLED)은 화소 정의막(PDL) 및 유기발광 다이오드(OLED)를 포함할 수 있다. A display element layer DL-OLED is disposed on the third insulating layer IS3. The display element layer DL-OLED may include a pixel defining layer PDL and an organic light emitting diode OLED.

화소 정의막(PDL)은 유기물질을 포함할 수 있다. 화소 정의막(PDL)에는 개구부(OP)가 정의된다. 화소 정의막(PDL)의 개구부(OP)는 제1 전극(EL1)의 적어도 일부분을 노출시킨다. 본 발명의 일 실시예에서 화소 정의막(PDL)은 생략될 수도 있다.The pixel defining layer PDL may include an organic material. An opening OP is defined in the pixel defining layer PDL. The opening OP of the pixel defining layer PDL exposes at least a portion of the first electrode EL1. In an embodiment of the present invention, the pixel defining layer (PDL) may be omitted.

표시영역(DA)은 화소 영역(Pxa, 또는 발광영역)과 화소 영역(Pxa)에 인접한 주변영역(NPxa, 또는 비발광영역)을 포함할 수 있다. 주변영역(NPxa)은 화소 영역(Pxa)을 에워쌀 수 있다. 본 실시예에서 화소 영역(Pxa)은 개구부(OP)에 의해 노출된 제1 전극(EL1)의 일부 영역에 대응하게 정의되었다. The display area DA may include a pixel area Pxa (or emission area) and a peripheral area NPxa (or non-emission area) adjacent to the pixel area Pxa. The peripheral area NPxa may surround the pixel area Pxa. In this embodiment, the pixel area Pxa is defined to correspond to a partial area of the first electrode EL1 exposed by the opening OP.

본 발명의 일 실시예에서 화소 영역(Pxa)은 제1 및 제2 트랜지스터들(T1, T2) 중 적어도 하나에 중첩할 수 있다. 개구부(OP)가 더 넓어지고, 제1 전극(EL1)도 더 넓어질 수 있다.In an exemplary embodiment, the pixel area Pxa may overlap at least one of the first and second transistors T1 and T2. The opening OP may be wider, and the first electrode EL1 may also be wider.

일 실시예에서, 유기발광 다이오드(OLED)는 베이스 기판(BL) 상에 순차적으로 적층된 제1 전극(EL1), 정공 제어층(HCL), 발광층(EML), 전자 제어층(ECL) 및 제2 전극(EL2)을 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서 정공 제어층(HCL)과 전자 제어층(ECL)중 어느 하나 이상은 생략될 수 있다.In one embodiment, the organic light emitting diode (OLED) includes a first electrode (EL1), a hole control layer (HCL), a light emitting layer (EML), an electron control layer (ECL) and a first electrode (EL1) sequentially stacked on a base substrate (BL). It may include two electrodes EL2. In one embodiment of the present invention, at least one of the hole control layer (HCL) and the electron control layer (ECL) may be omitted.

제1 전극(EL1)은 제3 절연층(IS3) 상에 배치된다. 제1 전극(EL1)은 제3 절연층(IS3)을 관통하는 제5 관통홀(CH5)을 통해 제2 소스 전극(SE2)에 연결된다. 제1 전극(EL1)은 금속 합금 또는 도전성 화합물로 형성될 수 있다. 제1 전극(EL1)은 애노드(anode)일 수 있다. 제1 전극(EL1)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다.The first electrode EL1 is disposed on the third insulating layer IS3. The first electrode EL1 is connected to the second source electrode SE2 through the fifth through hole CH5 penetrating the third insulating layer IS3. The first electrode EL1 may be formed of a metal alloy or a conductive compound. The first electrode EL1 may be an anode. The first electrode EL1 may be a transmissive electrode, a transflective electrode, or a reflective electrode.

정공 제어층(HCL)은 제1 전극(EL1) 상에 배치된다. 정공 제어층(HCL)은 화소 영역(Pxa)과 주변영역(NPxa)에 공통으로 배치될 수 있다. 별도로 도시되지 않았으나, 정공 제어층(HCL)과 같은 공통층은 화소 영역(Pxa)과 주변영역(NPxa)에 공통으로 형성될 수 있다. 정공 제어층(HCL)은 단일 물질로 이루어진 단일층, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층 또는 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 복수의 층을 갖는 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 정공 제어층(HCL)은 정공 주입층 또는 정공 수송층의 단일층의 구조를 가질 수도 있고, 정공 주입 물질과 정공 수송 물질로 이루어진 단일층 구조를 가질 수도 있다. 또한, 정공 제어층(HCL)은, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층의 구조를 갖거나, 제1 전극(EL1)으로부터 차례로 적층된 정공 주입층/정공 수송층, 정공 주입층/정공 수송층/정공 버퍼층, 정공 주입층/정공 버퍼층, 정공 수송층/정공 버퍼층, 또는 정공 주입층/정공 수송층/전자 저지층의 구조를 가질 수 있으나, 실시예가 이에 한정되는 것은 아니다. 일 실시예의 정공 제어층(HCL)은 정공 주입층 및 정공 수송층 외에, 정공 버퍼층 및 전자 저지층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다.The hole control layer HCL is disposed on the first electrode EL1. The hole control layer HCL may be disposed in common in the pixel area Pxa and the peripheral area NPxa. Although not separately shown, a common layer such as the hole control layer HCL may be commonly formed in the pixel area Pxa and the peripheral area NPxa. The hole control layer (HCL) may have a single layer structure made of a single material, a single layer made of a plurality of different materials, or a multilayer structure having a plurality of layers made of a plurality of different materials. For example, the hole control layer (HCL) may have a single layer structure of a hole injection layer or a hole transport layer, or may have a single layer structure composed of a hole injection material and a hole transport material. In addition, the hole control layer HCL has a structure of a single layer made of a plurality of different materials, or a hole injection layer/hole transport layer sequentially stacked from the first electrode EL1, or a hole injection layer/hole transport layer/holes. It may have a structure of a buffer layer, a hole injection layer/hole buffer layer, a hole transport layer/hole buffer layer, or a hole injection layer/hole transport layer/electron blocking layer, but embodiments are not limited thereto. The hole control layer (HCL) of one embodiment may further include at least one of a hole buffer layer and an electron blocking layer in addition to the hole injection layer and the hole transport layer.

발광층(EML)은 정공 제어층(HCL) 상에 배치된다. 발광층(EML)은 화소 영역(Pxa)과 주변영역(NPxa)에 공통으로 배치될 수 있다. 발광층(EML)은 제 1색 광을 생성할 수 있으며, 예를 들어, 청색 광을 생성할 수 있다. The light emitting layer EML is disposed on the hole control layer HCL. The light emitting layer EML may be disposed in common in the pixel area Pxa and the peripheral area NPxa. The light emitting layer EML may generate first color light, eg, blue light.

일 실시예에서, 발광층은 단층의 청색 발광층일 수 있다. 또한, 발광층(EML)은 텐덤(tandem)이라 지칭되는 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 청색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/황색 발광층 또는 청색 발광층/녹색 발광층 등의 2층의 텐덤 구조일 수 있고, 청색 발광층/청색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/황색 발광층/청색 발광층, 청색 발광층/녹색 발광층/청색 발광층 등의 3층의 텐덤 구조일 수 있다. 또한, 상기 발광층 사이에는 각각 전하생성층을 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the light emitting layer may be a single-layer blue light emitting layer. In addition, the light emitting layer EML may have a multilayer structure called a tandem. For example, it may be a two-layer tandem structure such as blue light emitting layer / blue light emitting layer, blue light emitting layer / yellow light emitting layer or blue light emitting layer / green light emitting layer, blue light emitting layer / blue light emitting layer / blue light emitting layer, blue light emitting layer / yellow light emitting layer / blue light emitting layer, It may be a tandem structure of three layers, such as blue light emitting layer/green light emitting layer/blue light emitting layer. In addition, each charge generation layer may be further included between the light emitting layers.

전자 제어층(ECL)은 발광층(EML) 상에 배치된다. 전자 제어층(ECL)은, 정공 저지층, 전자 수송층 및 전자 주입층 중 적어도 하나를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 전자 제어층(ECL)은 단일 물질로 이루어진 단일층, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층 또는 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 복수의 층을 갖는 다층 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 전자 제어층(ECL)은 전자 주입층 또는 전자 수송층의 단일층의 구조를 가질 수도 있고, 전자 주입 물질과 전자 수송 물질로 이루어진 단일층 구조를 가질 수도 있다. 또한, 전자 제어층(ECL)은, 복수의 서로 다른 물질로 이루어진 단일층의 구조를 갖거나, 발광층(EML)으로부터 차례로 적층된 전자 수송층/전자 주입층, 정공 저지층/전자 수송층/전자 주입층 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The electronic control layer ECL is disposed on the light emitting layer EML. The electron control layer (ECL) may include at least one of a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, but is not limited thereto. The electronic control layer (ECL) may have a single layer structure made of a single material, a single layer made of a plurality of different materials, or a multilayer structure having a plurality of layers made of a plurality of different materials. For example, the electron control layer ECL may have a single layer structure of an electron injection layer or an electron transport layer, or may have a single layer structure composed of an electron injection material and an electron transport material. In addition, the electron control layer (ECL) has a structure of a single layer made of a plurality of different materials, or an electron transport layer/electron injection layer and a hole blocking layer/electron transport layer/electron injection layer sequentially stacked from the light emitting layer (EML). It may have a structure, but is not limited thereto.

제2 전극(EL2)은 전자 제어층(ECL) 상에 배치된다. 제2 전극(EL2)은 화소 영역들(Pxa)에 공통적으로 배치된다. 제2 전극(EL2)은 도전성을 갖는다. 제2 전극(EL2)은 금속 합금 또는 도전성 화합물로 형성될 수 있다. 제2 전극(EL2)은 캐소드(cathode)일 수 있다. 제2 전극(EL2)은 투과형 전극, 반투과형 전극 또는 반사형 전극일 수 있다.The second electrode EL2 is disposed on the electronic control layer ECL. The second electrode EL2 is commonly disposed in the pixel areas Pxa. The second electrode EL2 has conductivity. The second electrode EL2 may be formed of a metal alloy or a conductive compound. The second electrode EL2 may be a cathode. The second electrode EL2 may be a transmissive electrode, a transflective electrode, or a reflective electrode.

제2 전극(EL2) 상에 봉지부재가 배치될 수 있다. 봉지부재는 수분, 산소 또는 먼지 입자와 같은 이물로부터 표시 소자층(DL-OLED)를 보호한다. 도 7을 참조하면, 봉지부재로서 박막 봉지층(TFE)이 배치된다. 박막 봉지층(TFE)은 화소 영역들(Pxa) 및 주변영역(NPxa)에 공통적으로 배치된다. 박막 봉지층(TFE)은 제2 전극(EL2)을 직접 커버한다. 박막 봉지층(TFE)은 적어도 하나의 무기막을 포함할 수 있고, 박막 봉지층(TFE)은 유기막을 더 포함할 수 있고, 또는 무기막 및 유기층이 교대로 반복된 구조를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 상기 무기층은 알루미늄 옥사이드(aluminum oxide) 또는 실리콘 나이트라이드(silicon nitride)와 같은 무기물을 포함할 수 있고, 유기막은 아크릴레이트 계열의 유기물을 포함할 수 있다. 상기 무기막은 증착법 등에 의해 형성될 수 있고, 상기 유기막은 증착법, 코팅법 등에 의해 형성될 수 있다. A sealing member may be disposed on the second electrode EL2. The sealing member protects the display element layer DL-OLED from foreign substances such as moisture, oxygen, or dust particles. Referring to FIG. 7 , a thin film encapsulation layer (TFE) is disposed as an encapsulation member. The thin film encapsulation layer TFE is commonly disposed in the pixel areas Pxa and the peripheral area NPxa. The thin film encapsulation layer TFE directly covers the second electrode EL2. The thin film encapsulation layer TFE may include at least one inorganic layer, and the thin film encapsulation layer TFE may further include an organic layer, or may have a structure in which an inorganic layer and an organic layer are alternately repeated. In one embodiment, the inorganic layer may include an inorganic material such as aluminum oxide or silicon nitride, and the organic layer may include an acrylate-based organic material. The inorganic layer may be formed by a deposition method or the like, and the organic layer may be formed by a deposition method or a coating method.

본 발명의 일 실시예에서, 박막 봉지층(TFE)과 제2 전극(EL2) 사이에는, 제2 전극(EL2)을 커버하는 캡핑층이 더 배치될 수 있다. 이때 박막 봉지층(TFE)은 캡핑층을 직접 커버할 수 있다. In one embodiment of the present invention, a capping layer covering the second electrode EL2 may be further disposed between the thin film encapsulation layer TFE and the second electrode EL2. In this case, the thin film encapsulation layer (TFE) may directly cover the capping layer.

표시장치(DD)의 박막 봉지층(TFE), 전자 제어층(ECL) 및 정공 제어층(HCL)은 비표시영역(NDA)으로 연장될 수 있다.The thin film encapsulation layer TFE, the electron control layer ECL, and the hole control layer HCL of the display device DD may extend into the non-display area NDA.

본 발명의 일 실시예에서 유기발광 다이오드(OLED)는 발광층(EML)에서 생성된 광의 공진 거리를 제어하기 위한 공진 구조물을 더 포함할 수 있다. 공진 구조물은 제1 전극(EL1)과 제2 전극(EL2) 사이에 배치되며, 공진 구조물의 두께는 발광층(EML)에서 생성된 광의 파장에 따라 결정될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the organic light emitting diode (OLED) may further include a resonance structure for controlling a resonance distance of light generated in the light emitting layer (EML). The resonance structure is disposed between the first electrode EL1 and the second electrode EL2, and the thickness of the resonance structure may be determined according to the wavelength of light generated from the light emitting layer EML.

일 실시예에서 도 7의 회로 소자층(DL-CL) 및 표시 소자층(DL-OLED)는 도 2의 계조 표시층(DL)에 해당한다. In an exemplary embodiment, the circuit element layer DL-CL and the display element layer DL-OLED of FIG. 7 correspond to the gray scale display layer DL of FIG. 2 .

박막 봉지층(TFE) 상에 컬러제어층(CCL)이 배치될 수 있다. 컬러제어층(CCL)은 컬러변환부재(CCF) 및 차광부(BM)를 포함할 수 있다. 컬러변환부재(CCF)는 유기발광 다이오드(OLED)에 중첩할 수 있다. A color control layer (CCL) may be disposed on the thin film encapsulation layer (TFE). The color control layer (CCL) may include a color conversion member (CCF) and a light blocking portion (BM). The color conversion member (CCF) may overlap the organic light emitting diode (OLED).

차광부(BM)는 블랙 매트릭스일 수 있다. 차광부(BM)는 블랙 안료 또는 염료를 포함하는 유기 차광 물질 또는 무기 차광 물질을 포함하여 형성될 수 있다. 차광부(BM)는 주변영역(NPxa)에 중첩할 수 있다. 차광부(BM)는 빛샘 현상을 방지하고, 인접하는 투과필터(TF) 및 컬러변환부재들(CCF) 사이의 경계를 구분하는 것일 수 있다. 상기 차광부(BM)는 생략될 수 있고, 컬러변환부재(CCF)가 직접 배치될 수 있다. The light blocking portion BM may be a black matrix. The light blocking portion BM may include an organic light blocking material or an inorganic light blocking material including a black pigment or dye. The light blocking portion BM may overlap the peripheral area NPxa. The light blocking portion BM may prevent light leakage and distinguish boundaries between adjacent transmission filters TF and color conversion members CCF. The light blocking portion BM may be omitted, and the color conversion member CCF may be directly disposed.

도 8a 및 도 8b는 도 4에 대응하도록 3개의 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)를 도시하였다. 도 8a 및 도 8b에서는 도 7 대비 회로 소자층(DL-CL)은 간략히 도시되었다.8A and 8B show three pixel areas Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B corresponding to FIG. 4 . In FIGS. 8A and 8B , the circuit element layer DL-CL in comparison with FIG. 7 is briefly illustrated.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 발광층(EML)은 제1 내지 제3 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)에 공통으로 중첩되어 배치되며, 일체의 형성을 갖는다. 발광층(EML)은 동일한 제 1 색광을 제공할 수 있다. 일 실시예에서 제1 색광은 410nm 내지 480nm 파장의 청색광일 수 있다.Referring to FIGS. 8A and 8B , the light emitting layer EML is overlapped with the first to third pixel regions Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B in common, and is integrally formed. The light emitting layer EML may provide the same first color light. In an embodiment, the first color light may be blue light having a wavelength of 410 nm to 480 nm.

박막 봉지층(TFE)는 제2 전극 상에 배치될 수 있다. 박막 봉지층(TFE)은 제1 내지 제3 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B)에 상에 공통적으로 배치되어 제1 내지 제3 화소를 밀봉한다. 박막 봉지층(TFE)은 수분/산소로부터 유기발광 다이오드(OLED)를 보호하고, 먼지 입자와 같은 이물질로부터 유기발광 다이오드(OLED)를 보호한다.A thin film encapsulation layer (TFE) may be disposed on the second electrode. The thin film encapsulation layer TFE is commonly disposed on the first to third pixel areas Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B to encapsulate the first to third pixels. The thin film encapsulation layer (TFE) protects the organic light emitting diode (OLED) from moisture/oxygen and protects the organic light emitting diode (OLED) from foreign substances such as dust particles.

컬러제어층(CCL)은 박막 봉지층(TFE) 상에 배치될 수 있다. 컬러제어층(CCL)은 제1 내지 제3 화소 영역들(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B) 상에 공통적으로 배치될 수 있다. The color control layer (CCL) may be disposed on the thin film encapsulation layer (TFE). The color control layer CCL may be commonly disposed on the first to third pixel regions Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B.

서로 이격되어 배치된 투과필터(TF)와 제1 컬러변환부재(CCF1), 제1 컬러변환부재(CCF1)와 제2 컬러변환부재(CCF2) 사이에는 차광부(BM)가 배치될 수 있다. 한편, 도 8에 도시되지는 않았으나, 차광부(BM)의 적어도 일 부분은 이웃하는 투과필터(TF) 또는 컬러변환부재들(CCF1, CCF2)과 중첩하여 배치될 수 있다. A light blocking unit BM may be disposed between the transmission filter TF and the first color conversion member CCF1, and between the first color conversion member CCF1 and the second color conversion member CCF2, which are spaced apart from each other. Meanwhile, although not shown in FIG. 8 , at least a portion of the light blocking portion BM may be overlapped with the neighboring transmission filter TF or the color conversion members CCF1 and CCF2 .

투과필터(TF)는 제1 화소 영역(Pxa-B)에 대응하여 배치된다. 투과필터(TF)는 발광체를 포함하지 않으며, 제1 색광을 투과시킬 수 있다. 투과필터(TF)는 투명 고분자 수지를 포함할 수 있고, 또한, 색 순도의 향상을 위하여, 청색 안료 및 염료 중 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다. The transmission filter TF is disposed to correspond to the first pixel area Pxa-B. The transmission filter TF does not include a light emitting body and may transmit the first color light. The transmission filter TF may include a transparent polymer resin, and may further include at least one of a blue pigment and a dye in order to improve color purity.

제1 컬러변환부재(CCF1)는 제2 화소 영역(Pxa-G)에 대응하여 배치되고, 제1 색광을 흡수하여 제2 색광으로 변환시키는 제1 발광체를 포함할 수 있다. 제2 색광은, 예를 들어, 500nm 내지 570nm 파장의 녹색광일 수 있다.The first color conversion member CCF1 is disposed to correspond to the second pixel area Pxa-G and may include a first light emitting body that absorbs first color light and converts it into second color light. The second color light may be, for example, green light having a wavelength of 500 nm to 570 nm.

제2 컬러변환부재(CCF2)는 제3 화소 영역(Pxa-R)에 대응하여 배치되고, 제1 색광을 흡수하여 제3 색광으로 변환시키는 제2 발광체를 포함할 수 있다. 제3 색광은, 예를 들어, 625nm 내지 675nm 파장의 적색광일 수 있다.The second color conversion member CCF2 is disposed to correspond to the third pixel area Pxa-R and may include a second light emitting body that absorbs first color light and converts it into third color light. The third color light may be, for example, red light having a wavelength of 625 nm to 675 nm.

상기 제1 발광체 및 제2 발광체는 적어도 퀀텀닷(Quantum Dot) 또는 퀀텀로드(Quantum Rod)를 포함할 수 있다. The first light-emitting body and the second light-emitting body may include at least a quantum dot or a quantum rod.

퀀텀닷 및 퀀텀로드는 II-VI족 화합물, III-V족 화합물, IV-VI족 화합물, IV족 원소, IV족 화합물 및 이들의 조합에서 선택될 수 있다.The quantum dot and quantum rod may be selected from a group II-VI compound, a group III-V compound, a group IV-VI compound, a group IV element, a group IV compound, and a combination thereof.

II-VI족 화합물은 CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, MgSe, MgS 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물, CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe, MgZnSe, MgZnS 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물, 및 HgZnTeS, CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 것일 수 있다. Group II-VI compounds are CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, ZnO, HgS, HgSe, HgTe, MgSe, MgS, and a binary element compound selected from the group consisting of mixtures thereof, CdSeS, CdSeTe, CdSTe, ZnSeS, ZnSeTe ternary compounds selected from the group consisting of ZnSTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe, MgZnSe, MgZnS and mixtures thereof, and HgZnTeS, CdZnSeTe , CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe, and mixtures thereof.

III-V족 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. IV-VI족 화합물은 SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 삼원소 화합물; 및 SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 사원소 화합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. IV족 원소로는 Si, Ge 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택될 수 있다. IV족 화합물로는 SiC, SiGe 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 이원소 화합물일 수 있다. Group III-V compound is a binary element compound selected from the group consisting of GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb and mixtures thereof; A ternary compound selected from the group consisting of GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP, and mixtures thereof; and a quaternary compound selected from the group consisting of GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb, and mixtures thereof. Group IV-VI compounds are SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe, and a binary element compound selected from the group consisting of mixtures thereof; a ternary compound selected from the group consisting of SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe, and mixtures thereof; And it may be selected from the group consisting of quaternary compounds selected from the group consisting of SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe, and mixtures thereof. Group IV elements may be selected from the group consisting of Si, Ge, and mixtures thereof. The group IV compound may be a binary element compound selected from the group consisting of SiC, SiGe, and mixtures thereof.

이때, 이원소 화합물, 삼원소 화합물 또는 사원소 화합물은 균일한 농도로 입자 내에 존재하거나, 농도 분포가 부분적으로 다른 상태로 나누어져 동일 입자 내에 존재하는 것일 수 있다. In this case, the two-element compound, the three-element compound, or the quaternary element compound may be present in the particle at a uniform concentration or may be present in the same particle in a state in which the concentration distribution is partially different.

퀀텀닷은 코어(core)와 코어를 둘러싸는 쉘(shell)을 포함하는 코어쉘 구조일 수 있다. 또한 하나의 퀀텀닷이 다른 퀀텀닷을 둘러싸는 코어/쉘 구조를 가질 수도 있다. 코어와 쉘의 계면은 쉘에 존재하는 원소의 농도가 중심으로 갈수록 낮아지는 농도 구배(gradient)를 가질 수 있다.A quantum dot may have a core-shell structure including a core and a shell surrounding the core. Also, one quantum dot may have a core/shell structure surrounding another quantum dot. The interface between the core and the shell may have a concentration gradient in which the concentration of elements present in the shell decreases toward the center.

퀀텀닷은 나노미터 스케일의 크기를 갖는 입자일 수 있다. 퀀텀닷은 약 45nm 이하, 바람직하게는 약 40nm 이하, 더욱 바람직하게는 약 30nm 이하의 발광 파장 스펙트럼의 반치폭(full width of half maximum, FWHM)을 가질 수 있으며, 이 범위에서 색순도나 색재현성을 향상시킬 수 있다. 또한 이러한 퀀텀닷을 통해 발광되는 광은 전 방향으로 방출되는바, 광 시야각이 향상될 수 있다. A quantum dot may be a particle having a size of a nanometer scale. The quantum dot may have a full width of half maximum (FWHM) of the emission wavelength spectrum of about 45 nm or less, preferably about 40 nm or less, and more preferably about 30 nm or less, and color purity or color reproducibility is improved within this range. can make it In addition, since light emitted through these quantum dots is emitted in all directions, a wide viewing angle can be improved.

또한, 퀀텀닷의 형태는 당 분야에서 일반적으로 사용하는 형태의 것으로 특별히 한정하지 않지만, 보다 구체적으로 구형, 피라미드형, 다중 가지형(multi-arm), 또는 입방체(cubic)의 나노 입자, 나노 튜브, 나노 와이어, 나노 섬유, 나노 판상 입자 등의 형태의 것을 사용할 수 있다.In addition, the shape of quantum dots is not particularly limited to those commonly used in the field, but more specifically, spherical, pyramidal, multi-arm, or cubic nanoparticles and nanotubes. , those in the form of nanowires, nanofibers, nanoplate-like particles and the like can be used.

퀀텀로드는 구형 구조를 갖는 퀀텀닷과 달리 결정구조가 헥사고날(Hexagonal), 우루차이트(wurtzite) 및 징크블랜드(Zincbland) 중 어느 한 구조로 형성된다. 퀀텀로드는 일축 방향으로 결정이 성장하여 막대(rod) 형상을 갖고, 그 크기에 따라 다른 파장의 빛을 낸다.Unlike quantum dots, which have a spherical structure, the quantum rod has a crystal structure of any one of hexagonal, wurtzite, and zinc blend. The quantum rod has a rod shape by growing crystals in a uniaxial direction, and emits light of different wavelengths depending on its size.

퀀텀로드는 코어(core)와 코어를 둘러싸는 쉘(shell)을 포함하는 코어쉘 구조일 수 있다. 또한, 분산을 돕기 위한 유기결합체(ligand)로 구분된다. 퀀텀로드는 일반적 염료에 비해 흡광계수 (extinction coefficient)가 매우 크고 양자효율 (quantum yield)도 우수하므로 강한 형광을 발생하며, 퀀텀 로드의 직경을 조절하면 발하는 가시광선의 파장을 조절할 수 있다. 또한 퀀텀로드는 선편광을 내는 특성을 가지며 stark effect에 의해 외부 전기장이 인가되면 전자와 정공의 분리되어 발광을 조절할 수 있는 광학적 특성을 지니고 있다. 따라서, 이러한 특성을 이용하면 표시장치의 광효율을 향상시킬 수 있는 장점을 갖는다. The quantum rod may have a core-shell structure including a core and a shell surrounding the core. In addition, it is classified as an organic binder to help dispersion. Quantum rods have a very large extinction coefficient and excellent quantum yield compared to general dyes, so they generate strong fluorescence. By adjusting the diameter of quantum rods, the wavelength of emitted visible light can be controlled. In addition, the quantum rod has the characteristic of generating linearly polarized light and has the optical characteristic of controlling light emission by separating electrons and holes when an external electric field is applied by the stark effect. Therefore, using these characteristics has the advantage of improving the light efficiency of the display device.

퀀텀닷 및 퀀텀로드는 입자 크기에 따라 방출하는 광의 색상이 변화될 수 있다. 따라서, 제1 발광체 및 제2 발광체의 퀀텀닷 또는 퀀텀로드의 입자 크기는 서로 상이할 수 있다. 예를 들어, 제1 발광체의 퀀텀닷 또는 퀀텀로드의 입자 크기는 제2 발광체의 퀀텀닷 또는 퀀텀로드의 입자 크기 보다 작은 것일 수 있다. 이때, 제1 발광체의 퀀텀닷 또는 퀀텀로드는 제2 발광체의 퀀텀닷 또는 퀀텀로드보다 단파장의 광을 방출하는 것일 수 있다.Quantum dots and quantum rods can change the color of light they emit according to the particle size. Accordingly, particle sizes of quantum dots or quantum rods of the first light emitting body and the second light emitting body may be different from each other. For example, the particle size of the quantum dot or quantum rod of the first light emitting body may be smaller than the particle size of the quantum dot or quantum rod of the second light emitting body. In this case, the quantum dot or quantum rod of the first light emitting body may emit light of a shorter wavelength than the quantum dot or quantum rod of the second light emitting body.

또한, 투과필터(TF) 및 컬러변환부재들(CCF1, CCF2)은 고분자 수지, 산란 입자 등을 더 포함할 수 있다.In addition, the transmission filter TF and the color conversion members CCF1 and CCF2 may further include polymer resin and scattering particles.

도 8a 및 도 8b를 참조하면, 본 발명에 따른 광학제어층(LCL)은 투과율이 40% 이상이므로 화소 영역(Pxa-R, Pxa-G, Pxa-B) 및 주변영역(NPxa)에 중첩하여 배치될 수 있다. 또한, 광학제어층(LCL)은 표시영역(DA) 및 비표시영역(NDA)에 전체적으로 중첩하여 배치될 수 있다. 따라서, 제조과정에서 광학제어층(LCL)은 별도의 패터닝 공정을 거치지 않으며, 패터닝을 위한 별도의 마스크를 제작할 필요가 없으므로 공정성이 우수하며, 제조단가의 절감으로 생산성이 우수할 수 있다. 또한, 광학제어층(LCL)은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 특정범위의 흡수계수를 갖는 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함하는 무기층(IL) 및 금속층(ML)을 포함하므로, 다른 파장범위에 비해 530nm 내지 570nm 파장범위에서 상대적으로 높은 투과율을 가질 수 있다. 녹색광을 방출하는 퀀텀닷 또는 퀀텀로드를 포함하는 제1 컬러변환부재(CCF1)는 적색광을 방출하는 퀀텀닷 또는 퀀텀로드를 포함하는 제2 컬러변환부재(CCF2)에 비해 광효율이 낮기 때문에 530nm 내지 570nm 파장범위에서 상대적으로 높은 투과율을 가지는 본 발명의 광학제어층(LCL)을 포함하는 경우, 녹색광의 광효율의 감소를 최소화할 수 있다. 8A and 8B, since the optical control layer (LCL) according to the present invention has a transmittance of 40% or more, it overlaps the pixel areas Pxa-R, Pxa-G, and Pxa-B and the peripheral area NPxa. can be placed. In addition, the optical control layer LCL may be disposed to entirely overlap the display area DA and the non-display area NDA. Therefore, in the manufacturing process, the optical control layer (LCL) does not go through a separate patterning process, and since there is no need to manufacture a separate mask for patterning, processability is excellent, and productivity can be excellent by reducing manufacturing cost. In addition, the optical control layer LCL includes an inorganic layer IL including a first sub-inorganic layer Sub-IL1 and a second sub-inorganic layer Sub-IL2 having an absorption coefficient within a specific range in a wavelength range of 530 nm to 570 nm. ) and the metal layer ML, it may have a relatively high transmittance in the wavelength range of 530 nm to 570 nm compared to other wavelength ranges. Since the first color conversion member (CCF1) including a quantum dot or quantum rod emitting green light has lower light efficiency than the second color conversion member (CCF2) including a quantum dot or quantum rod emitting red light, 530 nm to 570 nm In the case of including the optical control layer (LCL) of the present invention having a relatively high transmittance in the wavelength range, it is possible to minimize the decrease in light efficiency of green light.

도 8a를 참조하면, 무기층(IL)은 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함하고, 제2 서브 무기층(Sub-IL2)은 금속층(ML)과 제1 서브 무기층 (Sub-IL1) 사이에 배치될 수 있다. Referring to FIG. 8A , the inorganic layer IL includes a first sub-inorganic layer Sub-IL1 and a second sub-inorganic layer Sub-IL2, and the second sub-inorganic layer Sub-IL2 is a metal layer ( ML) and the first sub inorganic layer (Sub-IL1).

도 8b를 참조하면, 무기층(IL)은 제1 서브 무기층(Sub-IL1) 및 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 포함하고, 제2 서브 무기층(Sub-IL2)은 금속층(ML) 및 제1 서브 무기층 (Sub-IL1) 상에 배치될 수 있다. 시인성 개선을 위한 외광 반사를 효과적으로 저감하기 위하여, 반사되는 광의 색좌표를 조절해야 하는 경우, 흡수 계수가 상대적으로 작은 제2 서브 무기층(Sub-IL2)을 금속층(ML) 및 제1 서브 무기층 (Sub-IL1) 상에 배치하여 반사되는 광의 색좌표를 조절할 수 있다. Referring to FIG. 8B , the inorganic layer IL includes a first sub-inorganic layer Sub-IL1 and a second sub-inorganic layer Sub-IL2, and the second sub-inorganic layer Sub-IL2 is a metal layer ( ML) and the first sub inorganic layer (Sub-IL1). In order to effectively reduce the reflection of external light for visibility improvement, when the color coordinates of the reflected light need to be adjusted, the second sub-inorganic layer Sub-IL2 having a relatively small absorption coefficient is used as the metal layer ML and the first sub-inorganic layer ( The color coordinates of the reflected light can be adjusted by placing it on the Sub-IL1).

도 9a 내지 9d는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 각 층의 투과율을 도시한 그래프이다. 이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여 설명한 구성과 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.9A to 9D are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 10 is a graph showing the transmittance of each layer according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the configuration described with reference to FIGS. 1 to 8 will be omitted.

도 9a 및 도 9b에 도시된 것과 같이, 일 실시예에서 본 발명에 따른 표시장치(DD)는 밴드 필터(BF)를 더 포함할 수 있다. 밴드 필터(BF)는 광학제어층(LCL) 상에 배치될 수 있다. 밴드 필터(BF)는 제2 화소 및 상기 제3 화소에 중첩하여 배치될 수 있다. 밴드 필터(BF)는 제1 색광을 차광하며, 제2 색광 및 상기 제3 색광을 투과시킬 수 있다. 밴드 필터(BF)는 하나의 층으로 구성되거나, 또는 복수의 층이 적층된 형태일 수 있다. 예를 들어, 밴드 필터(BF)는 청색광을 흡수하는 물질을 포함하는 단일층일 수 있고, 또는 저굴절률층과 고굴절률층이 적층된 다층 구조일 수 있다. As shown in FIGS. 9A and 9B , in one embodiment, the display device DD according to the present invention may further include a band filter BF. The band filter BF may be disposed on the optical control layer LCL. The band filter BF may be disposed to overlap the second pixel and the third pixel. The band filter BF may block the first color light and transmit the second color light and the third color light. The band filter BF may be composed of one layer or may have a stacked form of a plurality of layers. For example, the band filter BF may be a single layer including a material that absorbs blue light, or may have a multilayer structure in which a low refractive index layer and a high refractive index layer are stacked.

밴드 필터(BF)는 제1 색광을 차광하기 위하여 안료 또는 염료를 포함할 수 있다. 도 9a 를 참조하면, 일 실시예에서 밴드 필터(BF)는 제1 염료를 포함할 수 있다. 제1 염료는 450nm 파장의 광을 흡수할 수 있으며, 또는 400nm 내지 480nm 파장의 광을 흡수하면서 450nm 파장에서 광의 흡수율이 최대일 수 있다. The band filter BF may include a pigment or dye to block the first color light. Referring to FIG. 9A , in one embodiment, the band filter BF may include a first dye. The first dye may absorb light with a wavelength of 450 nm, or absorb light with a wavelength of 400 nm to 480 nm and have maximum light absorption at a wavelength of 450 nm.

도 9b를 참조하면, 밴드 필터(BF)는 추가로 특정 파장의 광을 차단하기 위하여 또 다른 염료를 더 포함할 수 있다. 일 실시예에서 밴드 필터(BF)는 제2 염료를 포함할 수 있다. 제2 염료는 590nm 파장의 광을 흡수할 수 있으며, 또는 550nm 내지 630nm 파장의 광을 흡수하면서 590nm 파장에서 광의 흡수율이 최대일 수 있다. Referring to FIG. 9B , the band filter BF may further include another dye to block light of a specific wavelength. In one embodiment, the band filter BF may include a second dye. The second dye may absorb light having a wavelength of 590 nm, or may have maximum light absorption at a wavelength of 590 nm while absorbing light having a wavelength of 550 nm to 630 nm.

일 실시예에서, 표시장치(DD)는 평탄화층(OC)을 더 포함한다. 다만, 평탄화층(OC)은 생략될 수도 있다. 평탄화층(OC)은 컬러제어층(CCL)과 밴드 필터(BF) 사이 또는 광학제어층(LCL)과 밴드 필터(BF)에 배치되어 평탄한 면을 제공할 수 있다. In an exemplary embodiment, the display device DD further includes a planarization layer OC. However, the planarization layer OC may be omitted. The planarization layer OC may be disposed between the color control layer CCL and the band filter BF or between the optical control layer LCL and the band filter BF to provide a flat surface.

도 9c 및 도 9d에 도시된 것과 같이, 일 실시예에서 표시장치(DD)는 저굴절층(LR)를 더 포함할 수 있다. 저굴절층(LR)은 굴절률 1.1 이상 1.5 이하일 수 있다. 저굴절층(LR)이 상기 범위의 굴절률을 만족하는 경우, 저굴절층(LR)은 컬러제어층(CCL)에서 빠져나가는 제1 색광 중 일부를 스넬의 법칙에 의해 전반사시켜 다시 컬러제어층(CCL)으로 재입사 시킬 수 있다. 본 발명에 따른 표시장치(DD)는 이러한 내부반사를 활용한 광의 재순환을 통해 광 효율이 향상될 수 있다.As shown in FIGS. 9C and 9D , in an exemplary embodiment, the display device DD may further include a low refractive index layer LR. The low refractive index layer LR may have a refractive index of 1.1 or more and 1.5 or less. When the low refractive index layer LR satisfies the refractive index within the above range, the low refractive index layer LR totally reflects some of the first color light escaping from the color control layer CCL according to Snell's law to return the color control layer ( CCL). In the display device DD according to the present invention, light efficiency may be improved through recycling of light utilizing such internal reflection.

저굴절층(LR)은 굴절률 1.1 이상 1.5 이하 또는 1.2 이상 1.3 이하인 물질을 포함할 수 있고, 예를 들어, 저굴절층(LR)은 중공실리카, 에어로젤(Aerosel), 또는 기공을 포함하는 다공성 입자를 포함할 수 있다. 구체적으로 다공성 입자는 무기 입자 또는 유기 입자일 수 있으며, 비정형의 다수의 기공을 포함하는 입자일 수 있다. The low refractive index layer LR may include a material having a refractive index of 1.1 or more and 1.5 or less or 1.2 or more and 1.3 or less. For example, the low refractive index layer LR may include hollow silica, airgel, or porous particles including pores. can include Specifically, the porous particle may be an inorganic particle or an organic particle, and may be a particle including a plurality of irregular pores.

저굴절층(LR)은 광학제어층(LCL) 상에 배치될 수 있다. 일 실시예에서, 도 9c에 도시된 것과 같이, 저굴절층(LR)은 광학제어층(LCL) 상에 직접 배치될 수 있고, 또는 도 9d에 도시된 것과 같이, 저굴절층(LR)은 점착층(PSA)에 의해 광학제어층(LCL) 상에 배치될 수 있다. The low refractive index layer LR may be disposed on the optical control layer LCL. In one embodiment, as shown in FIG. 9C, the low refractive index layer LR may be disposed directly on the optical control layer LCL, or as shown in FIG. 9D, the low refractive index layer LR is It may be disposed on the optical control layer (LCL) by the adhesive layer (PSA).

도 9d를 참조하면, 일 실시예에서, 상기 점착층(PSA)은 550nm 내지 630nm 파장 범위의 광을 차단하기 위하여 제2 염료를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 9D , in one embodiment, the adhesive layer PSA may include a second dye to block light in a wavelength range of 550 nm to 630 nm.

도 9a 및 도 9c에 도시된 것과 같이, 본 발명에 따른 표시장치(DD)는 흡수층(AL)를 더 포함할 수 있다. 흡수층(AL)은 광학제어층(LCL) 상에 배치될 수 있다. 흡수층(AL)은 550nm 내지 630nm 파장 범위의 광을 차단하기 위하여 제2 염료를 포함할 수 있다. As shown in FIGS. 9A and 9C , the display device DD according to the present invention may further include an absorption layer AL. The absorption layer AL may be disposed on the optical control layer LCL. The absorption layer AL may include a second dye to block light in a wavelength range of 550 nm to 630 nm.

도 10은, 380nm 내지 780nm의 파장범위에서 본 발명의 일 실시예에 따른 광학제어층(LCL), 제1 염료를 포함하는 밴드 필터(BF), 제2 염료를 포함하는 흡수층(AL)의 투과율을 각각 측정한 그래프이다. 실버(Ag)를 포함하는 금속층 및 몰리탄탈옥사이드(MoTaOx)를 포함하는 무기층으로 이루어진 광학제어층(LCL)은 상기 파장 영역에서 50% 이상의 광투과율을 가지므로 컬러제어층(CCL)에서 방출하는 광을 효과적으로 투과할 수 있음을 확인할 수 있다. 밴드 필터(BF)는 400nm 내지 480nm 파장의 광이 거의 투과되지 않으므로 청색광을 효과적으로 차단할 수 있음을 확인할 수 있다. 흡수층(AL)은 적어도 580nm 내지 600nm 범위의 파장의 광을 흡수할 수 있고, 또는 590nm에서 투과율이 최소일 수 있으므로 590nm의 광을 효과적으로 차단할 수 있음을 확인할 수 있다. 10 is a transmittance of an optical control layer (LCL) according to an embodiment of the present invention, a band filter (BF) including a first dye, and an absorption layer (AL) including a second dye in a wavelength range of 380 nm to 780 nm. is a graph of each measurement. Since the optical control layer (LCL) composed of a metal layer containing silver (Ag) and an inorganic layer containing molitant oxide (MoTaOx) has a light transmittance of 50% or more in the wavelength region, the color control layer (CCL) emits It can be confirmed that light can be transmitted effectively. It can be seen that the band filter BF can effectively block blue light because light of a wavelength of 400 nm to 480 nm is hardly transmitted. It can be confirmed that the absorption layer AL can absorb light having a wavelength ranging from at least 580 nm to 600 nm, or can have minimum transmittance at 590 nm, so that light of 590 nm can be effectively blocked.

상기 밴드 필터(BF), 흡수층(AL), 저굴절층(LR), 및 점착층(PSA)은 본 발명에 따른 표시장치(DD)에 추가로 포함되거나 생략될 수 있고, 도 9a 내지 9d에서 도시한 외에 다양한 순서로 광학제어층(LCL)상에 배치될 수 있다. The band filter (BF), absorption layer (AL), low refractive index layer (LR), and adhesive layer (PSA) may be additionally included or omitted in the display device (DD) according to the present invention, and in FIGS. 9A to 9D Other than shown, it may be arranged on the optical control layer (LCL) in various orders.

도 11 내지 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 이하, 도 1 내지 도 10을 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.11 to 13 are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to FIGS. 1 to 10 will be omitted.

본 실시예 따른 표시장치(DD)는 봉지부재로서 봉지기판(EAL)를 포함할 수 있다. 봉지기판(EAL)은 평면상에서 엣지를 따라 배치된 실 부재(SL)에 의해 베이스 기판(BL)에 결합될 수 있다. The display device DD according to this embodiment may include an encapsulation substrate EAL as an encapsulation member. The sealing substrate EAL may be coupled to the base substrate BL by a seal member SL disposed along an edge on a plane.

도 11 내지 12를 참고하면, 봉지기판(EAL)은 베이스 기판(BL) 상에 배치되고, 표시영역(DA)을 커버할 수 있다. 봉지기판(EAL)은 유리나 플라스틱으로 이루어진 기판일 수 있다. 실 부재(SL)는 실런트를 포함할 수 있고, 예를 들어, 실런트는 글래스 프릿(glass frit)을 포함하는 것일 수 있다. 실 부재(SL)는 봉지기판(EAL)과 함께 유기발광 다이오드(OLED)가 외부의 수분 및 공기 등에 노출되는 것을 차단할 수 있다.Referring to FIGS. 11 and 12 , the encapsulation substrate EAL is disposed on the base substrate BL and may cover the display area DA. The encapsulation substrate EAL may be a substrate made of glass or plastic. The seal member SL may include a sealant, and for example, the sealant may include a glass frit. The seal member SL may block the organic light emitting diode OLED from being exposed to external moisture, air, or the like along with the encapsulation substrate EAL.

실 부재(SL)는 베이스 기판(BL) 및 봉지기판(EAL)의 사이에서 소정의 두께를 갖는다. 따라서, 베이스 기판(BL), 봉지기판(EAL) 및 실 부재(SL)에 의해 내부공간(AR)을 형성한다. 내부공간(AR)은 진공으로 형성될 수 있다. 다만, 이에 제한되는 것은 아니고, 내부공간(AR)은 질소(N2)로 채워지거나, 절연 물질로 채워질 수 있다. 도시하지 않았으나, 유기발광 다이오드(DL-OLED) 및 회로 소자층(DL-CL)는 실 부재(SL)의 일 측면과 접할 수 있다. The seal member SL has a predetermined thickness between the base substrate BL and the sealing substrate EAL. Accordingly, the inner space AR is formed by the base substrate BL, the sealing substrate EAL, and the seal member SL. The inner space AR may be formed as a vacuum. However, it is not limited thereto, and the inner space AR may be filled with nitrogen (N 2 ) or an insulating material. Although not shown, the organic light emitting diode DL-OLED and the circuit element layer DL-CL may contact one side of the seal member SL.

도 11에 도시된 것과 같이, 봉지기판(EAL)의 상면 상에는 컬러제어층(CCL) 및 광학제어층(LCL)이 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 봉지기판(EAL)의 상면에는 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 설명한 구성들이 추가로 배치될 수 있다. 예를 들어, 광학제어층(LCL) 상에 밴드 필터(BF), 흡수층(AL) 또는 저굴절층(LR)이 더 배치될 수 있다.As shown in FIG. 11 , a color control layer (CCL) and an optical control layer (LCL) may be disposed on the upper surface of the encapsulation substrate (EAL). However, it is not limited thereto, and components described with reference to FIGS. 9A to 9D may be additionally disposed on the upper surface of the sealing substrate EAL. For example, a band filter BF, an absorption layer AL, or a low refractive index layer LR may be further disposed on the optical control layer LCL.

도 12에 도시된 것과 같이, 봉지기판(EAL)의 하면 상에 광학제어층(LCL) 및 컬러제어층(CCL)이 배치될 수 있다. 광학제어층(LCL)은 봉지기판(EAL)과 컬러제어층(CCL) 사이에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 봉지기판(EAL)의 하면에는 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 설명한 구성들이 추가로 배치될 수 있다. 예를 들어, 광학제어층(LCL)상에 밴드 필터(BF), 흡수층(AL) 또는 저굴절층(LR)이 더 배치될 수 있다. As shown in FIG. 12 , an optical control layer LCL and a color control layer CCL may be disposed on the lower surface of the encapsulation substrate EAL. The optical control layer (LCL) may be disposed between the encapsulation substrate (EAL) and the color control layer (CCL). However, it is not limited thereto, and components described with reference to FIGS. 9A to 9D may be additionally disposed on the lower surface of the sealing substrate EAL. For example, a band filter BF, an absorption layer AL, or a low refractive index layer LR may be further disposed on the optical control layer LCL.

도 9a와 같이, 표시장치(DD)가 밴드 필터(BF) 및 흡수층(AL)을 더 포함하는 경우, 밴드 필터(BF) 및 흡수층(AL)은 봉지기판(EAL)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치될 수 있다. 또는, 밴드 필터(BF)는 봉지기판(EAL)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치되고, 흡수층(AL)은 봉지기판(EAL)의 상면에 배치될 수 있다. 또는, 밴드 필터(BF) 및 흡수층(AL)은 봉지기판(EAL)의 상면에 배치될 수 있다. As shown in FIG. 9A , when the display device DD further includes a band filter BF and an absorption layer AL, the band filter BF and the absorption layer AL are formed by the sealing substrate EAL and the optical control layer LCL. can be placed in between. Alternatively, the band filter BF may be disposed between the encapsulation substrate EAL and the optical control layer LCL, and the absorption layer AL may be disposed on the upper surface of the encapsulation substrate EAL. Alternatively, the band filter BF and the absorption layer AL may be disposed on the upper surface of the encapsulation substrate EAL.

도 9c와 같이, 표시장치(DD)가 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)를 더 포함하는 경우, 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)은 봉지기판(EAL)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치될 수 있다. 또는, 흡수층(AL)은 봉지기판(EAL)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치되고, 저굴절층(LR)은 봉지기판(EAL)의 상면에 배치될 수 있다. 또는, 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)은 봉지기판(EAL)의 상면에 배치될 수 있다. As shown in FIG. 9C , when the display device DD further includes an absorption layer AL and a low refractive index layer LR, the absorption layer AL and the low refractive index layer LR include the encapsulation substrate EAL and the optical control layer ( LCL) can be placed between them. Alternatively, the absorption layer AL may be disposed between the encapsulation substrate EAL and the optical control layer LCL, and the low refractive index layer LR may be disposed on the upper surface of the encapsulation substrate EAL. Alternatively, the absorption layer AL and the low refractive index layer LR may be disposed on the upper surface of the encapsulation substrate EAL.

도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 도 13은 봉지기판(EAL)을 포함하는 표시장치(DD)를 하였다. 도 13을 참조하면, 봉지기판(EAL)의 상면 상에 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)이 배치된다. 봉지기판(EAL)의 하면 상에는 밴드 필터(BF), 광학제어층(LCL) 및 컬러제어층(CCL)이 순차적으로 배치된다. 밴드 필터(BF)는 차광부(BM)를 포함할 수 있다. 컬러제어층(CCL)은 투과필터(TF), 제1 컬러변환부재(CCF1) 및 제2 컬러변환부재(CCF2)가 차광부(BM)없이 각각 이격되어 배치될 수 있다. 13 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment. 13 shows a display device DD including an encapsulation substrate EAL. Referring to FIG. 13 , an absorption layer AL and a low refractive index layer LR are disposed on the upper surface of the encapsulation substrate EAL. A band filter (BF), an optical control layer (LCL), and a color control layer (CCL) are sequentially disposed on the lower surface of the encapsulation substrate (EAL). The band filter BF may include a light blocking portion BM. In the color control layer CCL, the transmission filter TF, the first color conversion member CCF1 and the second color conversion member CCF2 may be spaced apart from each other without a light blocking portion BM.

도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 도 15a는 본 발명의 일 실시예에 따른 화소의 등가회로도이다. 도 15b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시패널의 단면도이다. 도 16a 내지 16c은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 단면도이다. 이하, 도 1 내지 도 13을 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.14 is a cross-sectional view of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. 15A is an equivalent circuit diagram of a pixel according to an embodiment of the present invention. 15B is a cross-sectional view of a display panel according to an exemplary embodiment of the present invention. 16A to 16C are cross-sectional views of a display device according to an exemplary embodiment. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to FIGS. 1 to 13 will be omitted.

본 실시예에 따르면, 표시장치(DD)는 액정표시장치일 수 있다. 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한 계조 표시층(DL), 컬러제어층(CCL) 및 광학제어층(LCL)이 액정 표시장치에 적용된 구조를 도 14 내지 도 16c을 참조하여 상세히 설명한다.According to this embodiment, the display device DD may be a liquid crystal display device. A structure in which the gradation display layer (DL), color control layer (CCL), and optical control layer (LCL) described with reference to FIGS. 1 to 5 are applied to the liquid crystal display will be described in detail with reference to FIGS. 14 to 16C.

도 14에 도시된 것과 같이, 표시장치(DD)는 광원(BLU) 및 표시패널(DP)을 포함한다. 광원(BLU)은 표시패널(DP)에 제1 색 광을 제공한다. 도 14에는 간략히 도시되었으나, 광원(BLU)은 발광소자 및 도광판을 포함할 수 있다. 일 실시예에서 도광판은 생략될 수 있다. As shown in FIG. 14 , the display device DD includes a light source BLU and a display panel DP. The light source BLU provides a first color light to the display panel DP. Although briefly illustrated in FIG. 14 , the light source BLU may include a light emitting element and a light guide plate. In one embodiment, the light guide plate may be omitted.

표시패널(DP)은 서로 이격되어 배치된 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2), 제1 베이스 기판과 제2 베이스 기판 사이에 배치된 액정층(LC), 회로층(CL), 컬러제어층(CCL) 및 광학제어층(LCL)을 포함한다. The display panel DP includes a first base substrate BL1 and a second base substrate BL2 disposed apart from each other, a liquid crystal layer LC disposed between the first base substrate and the second base substrate, and a circuit layer CL. ), a color control layer (CCL) and an optical control layer (LCL).

제2 베이스 기판(BL2)은 액정층(LC)과 인접한 하면 및 그와 대향하는 상면을으로 포함하고, 제2 베이스 기판(BL2)의 하면 상에 광학제어층(LCL) 및 컬러제어층(CCL)이 배치될 수 있다. 컬러제어층(CCL)은 제2 베이스 기판(BL2)과 액정층(LC) 사이에 배치될 수 있고, 광학제어층(LCL)은 제2 베이스 기판(BL2)과 컬러제어층(CCL) 사이에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 설명한 구성들이 추가로 배치될 수 있다. 예를 들어, 광학제어층(LCL)상에 밴드 필터(BF), 흡수층(AL) 또는 저굴절층(LR)이 더 배치될 수 있다. The second base substrate BL2 includes a lower surface adjacent to the liquid crystal layer LC and an upper surface opposite thereto, and an optical control layer LCL and a color control layer CCL are formed on the lower surface of the second base substrate BL2. ) can be placed. The color control layer CCL may be disposed between the second base substrate BL2 and the liquid crystal layer LC, and the optical control layer LCL may be disposed between the second base substrate BL2 and the color control layer CCL. can be placed. However, it is not limited thereto, and components described with reference to FIGS. 9A to 9D may be additionally disposed. For example, a band filter BF, an absorption layer AL, or a low refractive index layer LR may be further disposed on the optical control layer LCL.

도 9a와 같이, 표시장치(DD)가 밴드 필터(BF) 및 흡수층(AL)을 더 포함하는 경우, 밴드 필터(BF)는 제2 베이스 기판(BL2)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치될 수 있고, 흡수층(AL)은 밴드 필터(BF)와 제2 베이스 기판(BL2) 사이에 배치될 수 있다. 또는, 밴드 필터(BF)는 제2 베이스 기판(BL2)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치되고, 흡수층(AL)은 제2 베이스 기판(BL2)의 상면에 배치될 수 있다. 또는, 밴드 필터(BF) 및 흡수층(AL)은 제2 베이스 기판(BL2)의 상면에 배치될 수 있다. 9A , when the display device DD further includes a band filter BF and an absorption layer AL, the band filter BF is disposed between the second base substrate BL2 and the optical control layer LCL. The absorption layer AL may be disposed between the band filter BF and the second base substrate BL2. Alternatively, the band filter BF may be disposed between the second base substrate BL2 and the optical control layer LCL, and the absorption layer AL may be disposed on the upper surface of the second base substrate BL2. Alternatively, the band filter BF and the absorption layer AL may be disposed on the upper surface of the second base substrate BL2.

도 9c와 같이, 표시장치(DD)가 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)를 더 포함하는 경우, 흡수층(AL) 은 제2 베이스 기판(BL2)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치될 수 있고, 저굴절층(LR)은 흡수층(AL)과 제2 베이스 기판(BL2) 사이에 배치될 수 있다. 또는, 흡수층(AL)은 제2 베이스 기판(BL2)과 광학제어층(LCL) 사이에 배치되고, 저굴절층(LR)은 제2 베이스 기판(BL2)의 상면에 배치될 수 있다. 또는, 흡수층(AL) 및 저굴절층(LR)은 제2 베이스 기판(BL2)의 상면에 배치될 수 있다. As shown in FIG. 9C , when the display device DD further includes an absorption layer AL and a low refractive index layer LR, the absorption layer AL is disposed between the second base substrate BL2 and the optical control layer LCL. The low refractive index layer LR may be disposed between the absorption layer AL and the second base substrate BL2. Alternatively, the absorption layer AL may be disposed between the second base substrate BL2 and the optical control layer LCL, and the low refractive index layer LR may be disposed on the upper surface of the second base substrate BL2. Alternatively, the absorption layer AL and the low refractive index layer LR may be disposed on the upper surface of the second base substrate BL2.

상기 표시장치(DD)에서 광원(BLU), 회로층(CL) 및 액정층(LC)은 도 2의 계조 표시층(DL)에 해당한다. In the display device DD, the light source BLU, the circuit layer CL, and the liquid crystal layer LC correspond to the grayscale display layer DL of FIG. 2 .

이하, 도 15a 및 도 15b를 참조하여 회로층(CL) 및 표시패널(DP)에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the circuit layer CL and the display panel DP will be described in detail with reference to FIGS. 15A and 15B.

도 15a에는 어느 하나의 게이트 라인(GL) 및 어느 하나의 데이터 라인(DAL) 이들에 연결된 화소(Px)를 도시하였다. 화소(Px)의 구성은 도 15a에 제한되지 않고 변형되어 실시될 수 있다. 15A illustrates a pixel Px connected to one gate line GL and one data line DAL. The configuration of the pixel Px is not limited to that of FIG. 15A and may be modified and implemented.

화소(Px)는 박막 트랜지스터(T, 이하 트랜지스터), 액정 커패시터(Clc), 및 스토리지 커패시터(Cst)를 포함할 수 있다. 액정 커패시터(Clc)는 표시소자에 대응하고, 트랜지스터(T) 및 스토리지 커패시터(Cst)는 화소 구동회로일 수 있다. 액정표시패널의 동작 모드에 따라 트랜지스터(T)와 스토리지 커패시터(Cst)의 개수는 변경될 수 있다.The pixel Px may include a thin film transistor (T, hereinafter referred to as a transistor), a liquid crystal capacitor Clc, and a storage capacitor Cst. The liquid crystal capacitor Clc may correspond to a display element, and the transistor T and the storage capacitor Cst may be a pixel driving circuit. The number of transistors T and storage capacitors Cst may be changed according to the operation mode of the liquid crystal display panel.

액정 커패시터(Clc)는 트랜지스터(T)로부터 출력된 화소 전압을 충전한다. 액정 커패시터(Clc)에 충전된 전하량에 따라 액정층(LC)에 포함된 액정 방향자의 배열이 변화된다. 다시 말해 액정 방향자는 액정 커패시터의 2개의 전극 사이에 형성되는 전계에 의해 제어된다. 액정 방향자의 배열에 따라 액정층으로 입사된 광은 투과되거나 차단된다.The liquid crystal capacitor Clc charges the pixel voltage output from the transistor T. The arrangement of liquid crystal directors included in the liquid crystal layer LC is changed according to the amount of charge charged in the liquid crystal capacitor Clc. In other words, the liquid crystal director is controlled by an electric field formed between two electrodes of the liquid crystal capacitor. Light incident to the liquid crystal layer is transmitted or blocked according to the arrangement of the liquid crystal director.

스토리지 커패시터(Cst)는 액정 커패시터(Clc)에 병렬로 연결된다. 스토리지 커패시터(Cst)는 액정 방향자의 배열을 일정한 구간 동안 유지시킨다.The storage capacitor Cst is connected in parallel to the liquid crystal capacitor Clc. The storage capacitor Cst maintains the alignment of the liquid crystal director for a certain period.

액정 커패시터(Clc)는 화소전극과 공통전극을 포함한다. 스토리지 커패시터(Cst)는 화소전극과 화소전극에 중첩하는 스토리지 라인(STL)의 일부분을 포함한다.The liquid crystal capacitor Clc includes a pixel electrode and a common electrode. The storage capacitor Cst includes a pixel electrode and a portion of the storage line STL overlapping the pixel electrode.

도 15b는 표시패널(DP)의 단면을 도시하였다. 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2)은 각각 독립적으로 폴리머 기판, 플라스틱 기판, 유리 기판, 또는 석영 기판 등일 수 있다. 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2)은 투명한 절연 기판일 수 있다. 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2)은 각각 리지드한 것일 수 있다. 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2)은 각각 플렉서블한 것일 수 있다.15B shows a cross section of the display panel DP. The first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 may each independently be a polymer substrate, a plastic substrate, a glass substrate, or a quartz substrate. The first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 may be transparent insulating substrates. Each of the first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 may be rigid. Each of the first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 may be flexible.

제1 베이스 기판(BL1)의 일면 상에 회로층(CL)이 배치된다. 회로층(CL)은 게이트 라인(GL), 스토리지 라인(STL) 및 액정층에 전계를 형성하는 전극 등을 포함할 수 있다. 게이트 전극(GE)은 게이트 라인들(GGL)으로부터 돌출되거나 게이트 라인들(GGL)의 일부 영역 상에 제공된다. A circuit layer CL is disposed on one surface of the first base substrate BL1. The circuit layer CL may include a gate line GL, a storage line STL, and an electrode forming an electric field in the liquid crystal layer. The gate electrode GE protrudes from the gate lines GGL or is provided on a portion of the gate lines GGL.

트랜지스터(T)는 게이트 라인(GL)에 연결된 게이트 전극(GE), 게이트 전극(GE)에 중첩하는 활성화부, 데이터 라인(DAL)에 연결된 소스 전극(SE), 및 소스 전극(SE)와 이격되어 배치된 드레인 전극(DE)을 포함한다. The transistor T is spaced apart from the gate electrode GE connected to the gate line GL, the activation part overlapping the gate electrode GE, the source electrode SE connected to the data line DAL, and the source electrode SE. and a drain electrode DE disposed thereon.

반도체 패턴(SM)은 게이트 절연막(GI) 상에 제공된다. 반도체 패턴(SM)은 게이트 절연막(GI)을 사이에 두고 게이트 전극(GE) 상에 제공된다. 반도체 패턴(SM)은 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩된다. 반도체 패턴(SM)은 게이트 절연막(GI) 상에 제공된 액티브 패턴(미도시)과 액티브 패턴 상에 형성된 오믹 콘택층(미도시)을 포함한다. 오믹 콘택층(미도시)은 액티브 패턴과 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE) 사이를 각각 오믹 콘택(ohmic contact)시킨다. The semiconductor pattern SM is provided on the gate insulating layer GI. The semiconductor pattern SM is provided on the gate electrode GE with the gate insulating layer GI interposed therebetween. A portion of the semiconductor pattern SM overlaps the gate electrode GE. The semiconductor pattern SM includes an active pattern (not shown) provided on the gate insulating layer GI and an ohmic contact layer (not shown) formed on the active pattern. An ohmic contact layer (not shown) makes ohmic contact between the active pattern and the source electrode SE and the drain electrode DE.

소스 전극(SE)은 데이터 라인들(DAL)에서 분지되어 제공된다. 소스 전극(SE)은 오믹 콘택층(미도시) 상에 형성되며 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩한다. 데이터 데이터 라인(DAL)은 게이트 절연막(GI) 중 반도체 패턴(SM)이 배치되지 않은 영역에 배치될 수 있다.The source electrode SE is provided branched from the data lines DAL. The source electrode SE is formed on an ohmic contact layer (not shown) and partially overlaps the gate electrode GE. The data data line DAL may be disposed in a region of the gate insulating layer GI where the semiconductor pattern SM is not disposed.

드레인 전극(DE)은 반도체 패턴(SM)을 사이에 두고 소스 전극(SE)으로부터 이격되어 제공된다. 드레인 전극(DE)은 오믹 콘택층(미도시) 상에 형성되며 일부 영역이 게이트 전극(GE)과 중첩하도록 제공된다.The drain electrode DE is spaced apart from the source electrode SE with the semiconductor pattern SM interposed therebetween. The drain electrode DE is formed on an ohmic contact layer (not shown) and partially overlaps the gate electrode GE.

이에 따라 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE) 사이의 액티브 패턴의 상면이 노출되며, 게이트 전극(GE)의 전압 인가 여부에 따라 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE) 사이에서 전도 채널(conductive channel)을 이루는 채널부가 된다. 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE)은 소스 전극(SE)과 드레인 전극(DE) 사이의 이격되어 형성된 채널부를 제외한 영역에서 반도체 패턴(SM)의 일부와 중첩한다.Accordingly, the upper surface of the active pattern between the source electrode SE and the drain electrode DE is exposed, and a conduction channel ( It becomes a channel part constituting a conductive channel. The source electrode SE and the drain electrode DE overlap a portion of the semiconductor pattern SM in an area excluding the channel portion formed to be spaced apart between the source electrode SE and the drain electrode DE.

화소전극(PE)은 보호막(PSV)을 사이에 두고 드레인 전극(DE)에 연결된다. 화소전극(PE)은 스토리지 라인(SLn), 제1 분기 전극 및 제2 분기 전극과 부분적으로 오버랩되어 스토리지 커패시터를 형성한다.The pixel electrode PE is connected to the drain electrode DE with the passivation layer PSV interposed therebetween. The pixel electrode PE partially overlaps the storage line SLn, the first branch electrode, and the second branch electrode to form a storage capacitor.

보호막(PSV)은 소스 전극(SE), 드레인 전극(DE), 채널부, 및 게이트 절연막(GI)을 커버하며, 드레인 전극(DE)의 일부를 노출하는 콘택홀(CH)을 갖는다. 보호막(PSV)은 예를 들어, 실리콘 질화물이나, 실리콘 산화물을 포함할 수 있다.The passivation layer PSV covers the source electrode SE, the drain electrode DE, the channel portion, and the gate insulating layer GI, and has a contact hole CH exposing a part of the drain electrode DE. The passivation layer PSV may include, for example, silicon nitride or silicon oxide.

화소전극(PE)은 보호막(PSV)에 형성된 콘택홀(CH)을 통해 드레인 전극(DE)에 연결된다. 화소전극(PE)은 투명한 도전성 물질로 형성된다. The pixel electrode PE is connected to the drain electrode DE through a contact hole CH formed in the passivation layer PSV. The pixel electrode PE is formed of a transparent conductive material.

제2 베이스 기판(BL2)의 하면 상에 광학제어층(LCL)이 배치된다. 광학제어층(LCL)의 하측에 컬러제어층(CCL)이 배치될 수 있다. An optical control layer LCL is disposed on the lower surface of the second base substrate BL2. A color control layer (CCL) may be disposed below the optical control layer (LCL).

컬러제어층(CCL) 하측에 공통전극(CE)이 배치될 수 있다. 공통전극(CE)이 컬러제어층(CCL) 하면에 직접 배치된 것으로 도시하였으나, 이에 제한되지 않는다. 공통전극(CE)과 컬러제어층(CCL) 사이에 절연층이 더 배치될 수 있다. 공통전극(CE)은 화소전극(PE)과 함께 전계를 형성함으로써 액정층(LC)을 제어한다. 본 발명의 일 실시예에서는 공통전극(CE)이 제2 베이스 기판(BL2) 상에 배치된 것을 개시하였으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 공통전극(CE)은 제1 베이스 기판(BL1) 상에 배치될 수도 있다. A common electrode CE may be disposed under the color control layer CCL. Although the common electrode CE is illustrated as being directly disposed on the lower surface of the color control layer CCL, it is not limited thereto. An insulating layer may be further disposed between the common electrode CE and the color control layer CCL. The common electrode CE controls the liquid crystal layer LC by forming an electric field together with the pixel electrode PE. In one embodiment of the present invention, it has been disclosed that the common electrode CE is disposed on the second base substrate BL2, but is not limited thereto, and the common electrode CE is disposed on the first base substrate BL1. It could be.

액정층(LC)은 제1 베이스 기판(BL1) 및 제2 베이스 기판(BL2) 사이에 배치되며, 복수 개의 액정 분자들을 포함한다. 액정층(LC)은 유전율 이방성을 갖는 액정 분자들이 배열되어 제공될 수 있다. 액정층(LC)에는 통상적으로 사용되는 액정 분자라면 특별히 한정되지 않고 사용될 수 있으며, 예를 들어 액정 분자는 알케닐계 액정 화합물, 알콕시계 액정 화합물이 사용될 수 있다. 실시예에 사용된 액정 분자는 음의 유전율 이방성을 갖는 것일 수 있으나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 양의 유전율 이방성을 갖는 액정 분자가 사용될 수도 있다.The liquid crystal layer LC is disposed between the first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 and includes a plurality of liquid crystal molecules. The liquid crystal layer LC may be provided by arranging liquid crystal molecules having dielectric anisotropy. For the liquid crystal layer LC, any commonly used liquid crystal molecule may be used without particular limitation, and for example, an alkenyl-based liquid crystal compound or an alkoxy-based liquid crystal compound may be used as the liquid crystal molecule. The liquid crystal molecules used in the examples may have negative dielectric constant anisotropy, but the examples are not limited thereto. For example, liquid crystal molecules having positive dielectric constant anisotropy may be used.

한편, 도시하지 않았으나, 제1 베이스 기판(BL1) 또는 제2 베이스 기판(BL2)의 일면 상에 하나 이상의 절연층(IS)이 배치될 수 있다. 또한, 제1 베이스 기판(BL1)과 액정층(LC) 사이 또는 제2 베이스 기판(BL2)과 액정층(LC) 사이에 배향막이 더 배치될 수 있다. 배향막은 액정층(LC)에 주입된 액정의 배향 각도를 제어할 수 있다. 또한, 표시장치의 제1 베이스 기판(BL1)과 제2 베이스 기판(BL2)은 뒤집어 질 수 있다. Meanwhile, although not shown, one or more insulating layers IS may be disposed on one surface of the first base substrate BL1 or the second base substrate BL2 . In addition, an alignment layer may be further disposed between the first base substrate BL1 and the liquid crystal layer LC or between the second base substrate BL2 and the liquid crystal layer LC. The alignment layer may control an alignment angle of liquid crystal injected into the liquid crystal layer LC. Also, the first base substrate BL1 and the second base substrate BL2 of the display device may be turned over.

본 실시예에서 VA(Vertical Alignment)모드의 액정 표시패널을 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 일 실시예에서 IPS(in-plane switching) 모드 또는 FFS(fringe-field switching) 모드, PLS(Plane to Line Switching) 모드, SVA(Super Vertical Alignment) 모드, SS-VA(Surface-Stabilized Vertical Alignment) 모드의 액정 표시패널이 적용될 수 있다.Although the liquid crystal display panel of VA (Vertical Alignment) mode has been described as an example in this embodiment, in one embodiment of the present invention, IPS (in-plane switching) mode, FFS (fringe-field switching) mode, PLS (Plane to A liquid crystal display panel of Line Switching (Line Switching) mode, Super Vertical Alignment (SVA) mode, and Surface-Stabilized Vertical Alignment (SS-VA) mode may be applied.

도 16a 내지 16c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 적층구조를 도시한 단면도이다. 도 16a 내지 16c는 도 15b 대비 회로층(CL)은 간략히 도시되었다. 이하, 도 1 내지 도 15b를 참조하여 설명한 표시장치와 동일한 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다.16A to 16C are cross-sectional views illustrating a stacked structure of a display device according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIGS. 16A to 16C , the circuit layer CL is briefly illustrated compared to FIG. 15B. Hereinafter, a detailed description of the same configuration as the display device described with reference to FIGS. 1 to 15B will be omitted.

도 16a에 도시된 것과 같이, 컬러제어층(CCL)과 광학제어층(LCL)은 제2 베이스 기판(BL2)의 상면 상에 배치될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 제2 베이스 기판(BL2)의 상면에는 도 9a 내지 도 9d를 참조하여 설명한 구성들이 추가로 배치될 수 있다. 예를 들어, 광학제어층(LCL) 상에 밴드 필터(BF), 흡수층(AL) 또는 저굴절층(LR)이 더 배치될 수 있다.As shown in FIG. 16A , the color control layer CCL and the optical control layer LCL may be disposed on the upper surface of the second base substrate BL2. However, the present invention is not limited thereto, and components described with reference to FIGS. 9A to 9D may be additionally disposed on the upper surface of the second base substrate BL2 . For example, a band filter BF, an absorption layer AL, or a low refractive index layer LR may be further disposed on the optical control layer LCL.

도 16b 및 도 16c와 같이 광원(BLU)은 발광소자를 포함하고, 도광판은 미포함할 수 있다. 제1 베이스 기판(BL1)이 도광판의 역할을 갖는다. 발광소자가 제1 베이스 기판(BL1)의 측면에 광을 제공한다.As shown in FIGS. 16B and 16C , the light source BLU may include a light emitting device and may not include a light guide plate. The first base substrate BL1 serves as a light guide plate. A light emitting device provides light to the side of the first base substrate BL1.

도 16b에 도시된 표시장치는 도 14에 도시된 표시장치와 광원(BLU)의 구성만 상이할 뿐이고, 다른 구성들은 동일하게 적용될 수 있다. 도 16c에 도시된 표시장치는 도 16a에 도시된 표시장치와 광원(BLU)의 구성만 상이할 뿐이고, 다른 구성들은 동일하게 적용될 수 있다.The display device illustrated in FIG. 16B is different from the display device illustrated in FIG. 14 only in the configuration of the light source BLU, and other configurations may be equally applied. The display device shown in FIG. 16C is different from the display device shown in FIG. 16A only in the configuration of the light source BLU, and other configurations may be equally applied.

한편, 도면에 도시되지는 않았으나 광원(BLU)은 액정층(LC)으로 광을 집광하여 공급하도록 하기 위한 적어도 하나의 광학 시트를 더 포함할 수 있다. 광학 시트는 발광 소자들에서 생성한 광을 액정층(LC)의 정면 방향으로 집광하여 공급하도록 하기 위한 집광 시트일 수 있다. 예를 들어, 광학 시트는 프리즘 패턴을 갖는 집광 시트일 수 있다.Meanwhile, although not shown in the drawings, the light source BLU may further include at least one optical sheet for condensing and supplying light to the liquid crystal layer LC. The optical sheet may be a light collecting sheet for concentrating and supplying light generated by the light emitting devices to a front direction of the liquid crystal layer LC. For example, the optical sheet may be a light collecting sheet having a prism pattern.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art or those having ordinary knowledge in the art do not deviate from the spirit and technical scope of the present invention described in the claims to be described later. It will be understood that the present invention can be variously modified and changed within the scope not specified.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Therefore, the technical scope of the present invention is not limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

DD : 표시장치 DL : 계조 표시층
CCL : 컬러제어층 TF : 투과필터
CCF : 컬러변환부재 LCL : 광학제어층
DD: display device DL: gradation display layer
CCL: color control layer TF: transmission filter
CCF: color conversion member LCL: optical control layer

Claims (20)

제1 색광을 제공하는 계조 표시층;
상기 계조 표시층 상에 배치되고, 상기 제1 색광을 투과시키는 투과필터 및 상기 제1 색광을 다른 색 광으로 변환시키는 컬러변환부재를 포함하는 컬러제어층; 및
상기 컬러제어층 상에 배치되고, 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하는 광학제어층;을 포함하고,
상기 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함하는 표시장치.
a gradation display layer providing first color light;
a color control layer disposed on the gradation display layer and including a transmission filter that transmits the first color light and a color conversion member that converts the first color light into another color light; and
An optical control layer disposed on the color control layer and including a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm;
The inorganic layer includes a first sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.
제 1항에 있어서,
상기 무기층은 하기 식 1을 만족하는 표시장치:
[식 1]
Figure 112018067308300-pat00003

상기 식 1에서, λ는 530nm 내지 570nm 의 파장이고, m은 0 및 자연수이고, Ta1은 상기 제1 서브 무기층의 두께이고, Ta2는 상기 제2 서브 무기층의 두께이고, n1은 상기 제1 서브 무기층의 상기 λ 파장에서의 굴절률이며, n2는 상기 제2 서브 무기층의 상기 λ 파장에서의 굴절률이다.
According to claim 1,
The inorganic layer is a display device satisfying Equation 1 below:
[Equation 1]
Figure 112018067308300-pat00003

In Equation 1, λ is a wavelength of 530 nm to 570 nm, m is 0 and a natural number, Ta 1 is the thickness of the first sub-inorganic layer, Ta 2 is the thickness of the second sub-inorganic layer, and n 1 is A refractive index of the first sub-inorganic layer at the λ wavelength, and n 2 is a refractive index of the second sub-inorganic layer at the λ wavelength.
제2 항에 있어서,
상기 제1 서브 무기층의 굴절률과 상기 제2 서브 무기층의 굴절률 차이가 0 이상 0.5 이하인 표시장치.
According to claim 2,
A display device wherein a difference in refractive index between the first sub-inorganic layer and the second sub-inorganic layer is 0 or more and 0.5 or less.
제2 항에 있어서,
상기 제1 서브 무기층의 굴절률은 2 이상 2.5 이하이며, 상기 제2 서브 무기층의 굴절률은 2 이상 2.5 이하인 표시장치.
According to claim 2,
The refractive index of the first sub-inorganic layer is 2 or more and 2.5 or less, and the refractive index of the second sub-inorganic layer is 2 or more and 2.5 or less.
제2 항에 있어서,
상기 제1 서브 무기층의 두께는 9.9 nm 이상 39.9 nm 이하이고, 제2 서브 무기층의 두께는 0.1nm 이상 20.0nm 이하인 표시장치.
According to claim 2,
The thickness of the first sub-inorganic layer is 9.9 nm or more and 39.9 nm or less, and the thickness of the second sub-inorganic layer is 0.1 nm or more and 20.0 nm or less.
제2 항에 있어서,
상기 제1 서브 무기층의 두께 및 상기 제2 서브 무기층의 두께의 합은 10.0 nm 이상 40.0 nm 이하인 표시장치.
According to claim 2,
The display device of claim 1, wherein the sum of the thicknesses of the first sub-inorganic layer and the thicknesses of the second sub-inorganic layer is greater than or equal to 10.0 nm and less than or equal to 40.0 nm.
제 1항에 있어서,
상기 제1 서브 무기층은 몰리탄탈옥사이드를 포함하고, 상기 제2 서브 무기층은 인듐징크옥사이드를 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The first sub-inorganic layer includes molitantaloxide, and the second sub-inorganic layer includes indium zinc oxide.
제 1항에 있어서,
상기 제2 서브 무기층은 상기 금속층과 상기 제1 서브 무기층 사이에 배치되는 표시장치.
According to claim 1,
The second sub-inorganic layer is disposed between the metal layer and the first sub-inorganic layer.
제 1항에 있어서,
상기 제2 서브 무기층은 상기 금속층 및 상기 제1 서브 무기층 상에 배치되는 표시장치.
According to claim 1,
The second sub-inorganic layer is disposed on the metal layer and the first sub-inorganic layer.
제 1항에 있어서,
상기 금속층은 실버를 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The display device of claim 1 , wherein the metal layer includes silver.
제 1항에 있어서,
상기 컬러변환부재는 적어도 퀀텀닷 또는 퀀텀로드를 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The color conversion member is a display device including at least a quantum dot or a quantum rod.
제 1항에 있어서,
상기 계조 표시층은 상기 투과필터에 대응하는 제1 화소, 상기 컬러변환부재에 대응하는 제2 화소, 및 제3 화소를 포함하고,
상기 컬러변환부재는 상기 제2 화소에 대응하고 상기 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 상기 제3 화소에 대응하고 상기 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하며,
상기 광학제어층은 상기 제1 화소, 상기 제2 화소, 및 상기 제3 화소에 중첩하는 표시장치.
According to claim 1,
The gray scale display layer includes a first pixel corresponding to the transmission filter, a second pixel corresponding to the color conversion member, and a third pixel;
The color conversion member includes a first color conversion member corresponding to the second pixel and converting the first color light into second color light, and a second color conversion member corresponding to the third pixel and converting the first color light into third color light. Including a color conversion member,
The optical control layer overlaps the first pixel, the second pixel, and the third pixel.
제 12항에 있어서,
상기 컬러제어층 상에 배치되고, 상기 제2 화소 및 상기 제3 화소에 중첩하며, 상기 제1 색광을 차광하며 상기 제2 색광 및 상기 제3 색광을 투과시키는 밴드 필터를 더 포함하는 표시장치.
According to claim 12,
and a band filter disposed on the color control layer, overlapping the second pixel and the third pixel, and blocking the first color light and transmitting the second color light and the third color light.
제 12항에 있어서,
상기 제1 화소, 상기 제2 화소, 및 상기 제3 화소는 제1 유기발광 다이오드, 제2 유기발광 다이오드, 및 제3 유기발광 다이오드를 각각 포함하고,
상기 제1 유기발광 다이오드, 상기 제2 유기발광 다이오드, 상기 제3 유기발광 다이오드의 발광층은 일체의 형상을 갖는 표시장치.
According to claim 12,
The first pixel, the second pixel, and the third pixel include a first organic light emitting diode, a second organic light emitting diode, and a third organic light emitting diode, respectively;
The light emitting layers of the first organic light emitting diode, the second organic light emitting diode, and the third organic light emitting diode have an integral shape.
제 1항에 있어서,
상기 광학제어층 상에 배치되고, 적어도 580nm 내지 600nm 범위의 파장의 광을 흡수하는 흡수층을 더 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
and an absorption layer disposed on the optical control layer and absorbing light having a wavelength in a range of at least 580 nm to 600 nm.
제1항에 있어서,
상기 광학제어층 상에 배치되고 굴절률 1.1 이상 1.5 이하인 저굴절층을 더 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
A display device further comprising a low refractive index layer disposed on the optical control layer and having a refractive index of 1.1 or more and 1.5 or less.
베이스 기판;
상기 베이스 기판 상에 배치되고, 각각이 제1 색광을 생성하는 유기발광다이오드를 포함하는 제1 내지 제3 화소;
상기 제1 내지 제3 화소를 밀봉하는 봉지부재;
상기 제1 화소에 대응하고 상기 제1 색광을 투과시키는 투과필터, 상기 제2 화소에 대응하고 상기 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 상기 제3 화소에 대응하고 상기 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 화소 상에 배치된 컬러제어층; 및
530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하고, 상기 컬러제어층 상에 배치되고, 상기 제1 내지 제3 화소에 중첩하는 광학제어층;을 포함하며,
상기 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함하는 표시장치.
base substrate;
first to third pixels disposed on the base substrate and including organic light emitting diodes each generating a first color light;
a sealing member sealing the first to third pixels;
A transmission filter corresponding to the first pixel and transmitting the first color light, a first color conversion member corresponding to the second pixel and converting the first color light into second color light, and corresponding to the third pixel and a color control layer including a second color conversion member that converts first color light into third color light and disposed on the first to third pixels; and
An optical control layer comprising a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in the wavelength range of 530 nm to 570 nm, disposed on the color control layer, and overlapping the first to third pixels; includes,
The inorganic layer includes a first sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.
제1 색광을 수신하는 제1 베이스 기판;
상기 제1 베이스 기판과 이격되어 배치된 제2 베이스 기판;
상기 제1 베이스 기판과 상기 제2 베이스 기판 사이에 배치되고, 액정층, 상기 액정층에 전계를 형성하는 화소전극 및 공통전극을 각각 포함하는 제1 내지 제3 화소;
상기 제1 화소를 투과한 상기 제1 색광을 투과시키는 투과필터, 상기 제2 화소를 투과한 상기 제1 색광을 제2 색광으로 변환시키는 제1 컬러변환부재, 및 상기 제3 화소를 투과한 제1 색광을 제3 색광으로 변환시키는 제2 컬러변환부재를 포함하고, 상기 제1 내지 제3 화소 상에 배치된 컬러제어층; 및
530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 3 이상 3.5 이하인 금속층 및 무기층을 포함하고, 상기 컬러제어층 상에 배치되고, 상기 제1 내지 제3 화소에 중첩하는 광학제어층;을 포함하며,
상기 무기층은 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.3 이상 1 이하인 제1 서브 무기층 및 530nm 내지 570nm 파장범위에서 흡수계수 0.001 이상 0.2 이하인 제2 서브 무기층을 포함하는 표시장치.
a first base substrate receiving first color light;
a second base substrate spaced apart from the first base substrate;
first to third pixels disposed between the first base substrate and the second base substrate and including a liquid crystal layer, a pixel electrode forming an electric field in the liquid crystal layer, and a common electrode;
A transmission filter for transmitting the first color light that has passed through the first pixel, a first color conversion member that converts the first color light that has passed through the second pixel into a second color light, and a light that has passed through the third pixel a color control layer disposed on the first to third pixels, including a second color conversion member that converts light of one color into light of a third color; and
An optical control layer comprising a metal layer and an inorganic layer having an absorption coefficient of 3 or more and 3.5 or less in the wavelength range of 530 nm to 570 nm, disposed on the color control layer, and overlapping the first to third pixels; includes,
The inorganic layer includes a first sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.3 or more and 1 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm and a second sub inorganic layer having an absorption coefficient of 0.001 or more and 0.2 or less in a wavelength range of 530 nm to 570 nm.
제 18항에 있어서,
상기 컬러제어층은 상기 제2 베이스 기판 하면 상에 배치되고, 상기 광학제어층은 상기 제2 베이스 기판의 하면과 상기 컬러제어층 사이에 배치되는 표시장치.
According to claim 18,
The color control layer is disposed on the lower surface of the second base substrate, and the optical control layer is disposed between the lower surface of the second base substrate and the color control layer.
제 18항에 있어서,
상기 컬러제어층 및 상기 광학제어층은 상기 제2 베이스 기판의 상면 상에 배치된 표시장치.
According to claim 18,
The color control layer and the optical control layer are disposed on the upper surface of the second base substrate.
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