KR102465700B1 - Method for producing optical film and optical film - Google Patents

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Abstract

본 발명의 과제는 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용한 경우에 있어서도, b*값이 낮고, 제막 시에 있어서의 롤로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 형태에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을, 다이로부터 필름상으로 토출한 후에 터치 롤 제막을 행하는 광학 필름의 제조 방법이며, 상기 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 식 「50≤Td-Tp」를 만족시킨다.
An object of the present invention is to provide a method for producing an optical film having a low b * value, no transfer of contaminants from a roll during film formation, and good optical properties even when an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature is used. will be.
A method for producing an optical film according to one embodiment of the present invention is a melt containing a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or less based on 100 parts by weight of a (meth)acrylic resin. , A method for producing an optical film in which touch roll film formation is performed after being discharged from a die into a film form, wherein the relationship between the thermal decomposition temperature Td (° C.) and the temperature Tp (° C.) of the melt at the exit of the die is expressed by the expression “ 50≤Td-Tp” is satisfied.

Description

광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름 {METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM AND OPTICAL FILM}Optical film manufacturing method and optical film {METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FILM AND OPTICAL FILM}

본 발명은 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing an optical film and an optical film.

종래, 자외선 흡수제(UVA)를 함유하는 수지를 용융 제막하여 이루어지는 광학 필름이 알려져 있다. 예를 들어, 특허문헌 1에는 자외선 흡수제인 하기 식으로 나타나는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕(이하, 「화합물 a」라고 칭함)을 함유하는 광학 필름이 기재되어 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION [0002] Conventionally, an optical film formed by melt forming a resin containing an ultraviolet absorber (UVA) into a film is known. For example, in Patent Document 1, 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl represented by the following formula as an ultraviolet absorber )phenol] (hereinafter referred to as "compound a") is described.

Figure 112018011401987-pat00001
Figure 112018011401987-pat00001

당해 광학 필름은, L*a*b* 표색계에 있어서의 b*값이 낮아 양호하고, 고온 고습의 환경 하에 있어서도 화합물 a의 블리드 아웃을 억제하는 것이 가능한 것이 알려져 있다.It is known that the optical film has a low and good b * value in the L * a * b * color system, and can suppress the bleed-out of the compound a even in a high-temperature, high-humidity environment.

그런데, 일반적으로, 광학 필름을 제조하는 경우에 있어서, 내열성이나 용융 점도가 높은 수지를 사용하기 위해, 혹은 수지의 압출량을 많게 하기 위해서는, 수지의 압출 온도를 높게 할 필요가 있다. 그러나, 상기 화합물 a는 열분해 온도가 낮고, 수지의 압출 온도를 높게 하면, 오픈 제막으로 광학 필름을 제조한 경우에, 화합물 a가 블리드 아웃되어 버려, 롤이 오염된다는 문제가 발생한다. 그 때문에, 내열성이 높은 벤조트리아진계의 자외선 흡수제를 화합물 a 대신에 사용하거나, 당해 자외선 흡수제와 화합물 a를 병용하거나 함으로써, 화합물 a의 블리드 아웃을 억제하는 것이 행해지고 있다. 예를 들어, 특허문헌 2에는 벤조트리아진과 벤조트리아졸을 함유하는 아크릴 수지를 오픈 제막하여 이루어지는 광학 필름이 기재되어 있다. 또한, 특허문헌 3에는 분자량 700 이상의 벤조트리아진을 환 아크릴 수지에 첨가하여 이루어지는, 유리 전이 온도(Tg)가 110℃ 이상인 수지 조성물을 오픈 제막하여 이루어지는 광학 필름이 기재되어 있다.By the way, in general, in the case of manufacturing an optical film, it is necessary to increase the extrusion temperature of the resin in order to use a resin having high heat resistance or melt viscosity or to increase the amount of extrusion of the resin. However, the compound a has a low thermal decomposition temperature, and when the extrusion temperature of the resin is increased, the compound a bleeds out when an optical film is produced by open film forming, causing a problem that the roll is contaminated. Therefore, bleed-out of compound a is suppressed by using a benzotriazine-based ultraviolet absorber having high heat resistance instead of compound a or by using the ultraviolet absorber and compound a in combination. For example, Patent Document 2 describes an optical film formed by open film formation of an acrylic resin containing benzotriazine and benzotriazole. Further, Patent Literature 3 describes an optical film obtained by adding a benzotriazine having a molecular weight of 700 or higher to a ring acrylic resin and forming a resin composition having a glass transition temperature (Tg) of 110°C or higher through open film formation.

또한, 광학 필름의 원료로서 근년 사용되고 있는 (메트)아크릴계 수지는 자외선을 포함하는 광에 노출되면 황변하여 투명도가 저하되는 경우가 있다. 이 현상을 방지하는 방법으로서, 자외선 흡수제(UVA)를 첨가하는 방법이 알려져 있다. 그러나, 일반적인 자외선 흡수제를 첨가한 경우, 광학 필름의 색상, 내열성 또는 투명성의 악화를 초래하거나, 성형 시에 자외선 흡수제가 증산되어 자외선 흡수능의 저하나 성형 장치의 오염이 발생하거나 하는 등의 문제가 있었다.Further, (meth)acrylic resins, which have been used in recent years as raw materials for optical films, may turn yellow when exposed to light including ultraviolet rays, resulting in reduced transparency. As a method of preventing this phenomenon, a method of adding an ultraviolet absorber (UVA) is known. However, when a general ultraviolet absorber is added, there are problems such as deterioration of the color, heat resistance or transparency of the optical film, or the evaporation of the ultraviolet absorber during molding, resulting in a decrease in ultraviolet absorbency or contamination of the molding apparatus. .

그래서, 첨가량이 소량이라도 높은 자외선 흡수 효과를 얻을 수 있고, 또한 내열성이 높은 트리아진계의 자외선 흡수제를 단독, 또는 다른 자외선 흡수제와 병용으로 사용함으로써, 상기 문제를 해결하는 방법이 제안되어 있다(예를 들어, 특허문헌 4, 5).Therefore, a method for solving the above problem has been proposed by using a triazine-based ultraviolet absorber that can obtain a high ultraviolet ray absorption effect even with a small amount of addition and has high heat resistance, alone or in combination with other ultraviolet absorbers (for example, For example, Patent Documents 4 and 5).

일본 특허 공개 제2007-108775호 공보(2007년 4월 26일 공개)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2007-108775 (published on April 26, 2007) 국제 공개 제2006/112223호 팸플릿(2006년 10월 26일 공개)International Publication No. 2006/112223 pamphlet (released on October 26, 2006) 일본 특허 공개 제2009-052021호 공보(2009년 3월 12일 공개)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-052021 (published on March 12, 2009) 일본 특허 공개 제2017-088728호 공보(2017년 5월 25일 공개)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-088728 (published on May 25, 2017) 일본 특허 공표 제2015-535544호 공보(2015년 12월 14일 공개)Japanese Patent Publication No. 2015-535544 (published on December 14, 2015)

그러나, 특허문헌 2, 3에 기재된 광학 필름은 광학 필름을 제조하는 경우에 있어서의 블리드 아웃을 억제할 수는 있지만, b*값에 관하여 개량의 여지를 갖고 있다.However, although the optical films described in Patent Literatures 2 and 3 can suppress bleed-out in the case of manufacturing optical films, they have room for improvement regarding the b * value.

또한, 특허문헌 4, 5에서 사용되고 있는 자외선 흡수제는 가시광인 파장 400㎚ 이상의 광까지 흡수해 버려, 광학 필름이 황색으로 착색되어 버리는 문제가 있다. 또한, 자외선 흡수제에 의한 착색에 의해 채도가 높아진다는 새로운 과제도 발생한다. 한편, 착색을 억제하기 위해 자외선 흡수제의 첨가량을 줄이면, 충분한 자외선 흡수능을 발휘할 수 없을 우려가 있다.In addition, the ultraviolet absorbers used in Patent Literatures 4 and 5 absorb visible light with a wavelength of 400 nm or more, and there is a problem that the optical film is colored yellow. In addition, a new problem that color saturation is increased by coloring with an ultraviolet absorber also arises. On the other hand, if the addition amount of the ultraviolet absorber is reduced in order to suppress coloration, there is a possibility that sufficient ultraviolet ray absorbing ability cannot be exhibited.

본 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것이고, b*값이 낮고, 제막 시에 있어서의 롤로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름을 제공하는 것을 주된 목적으로 한다.The main object of the present invention is to provide a method for producing an optical film having a low b * value, no transfer of contaminants from a roll during film formation, and excellent optical properties, and an optical film having been made in view of the above problems. to be

본 발명은 또한, 높은 투명성, 작은 색상 및 낮은 채도를 겸비한, 내열성이 우수한 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a manufacturing method and an optical film having excellent heat resistance and having high transparency, small color and low chroma.

본 발명은, 이하의 구성을 포함하고 있다.The present invention includes the following structures.

<1> (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을, 다이로부터 필름상으로 토출한 후에 터치 롤 제막을 행하는 광학 필름의 제조 방법이며; 상기 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 하기 식을 만족시키는, 광학 필름의 제조 방법.<1> After discharging a melt containing a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or lower with respect to 100 parts by weight of (meth)acrylic resin, from a die into a film form, touch roll It is a manufacturing method of the optical film which performs film forming; A method for producing an optical film, wherein a relationship between the thermal decomposition temperature Td (°C) and the temperature Tp (°C) of the melt at the exit of the die satisfies the following expression.

50≤Td-Tp50≤Td-Tp

<2> 상기 열가소성 수지 조성물의 270℃, 전단 속도 10/초에 있어서의 용융 점도가 500㎩ㆍS 이상인, <1>에 기재된 광학 필름의 제조 방법.<2> The manufacturing method of the optical film as described in <1> whose melt viscosity in 270 degreeC and a shear rate of 10/sec of the said thermoplastic resin composition is 500 Pa*S or more.

<3> 상기 (메트)아크릴계 수지가, 락톤환 구조, 무수 글루타르산 구조, 글루타르이미드 구조, N-치환 말레이미드 구조 및 무수 말레산 구조에서 선택되는 적어도 1종의 환 구조를 주쇄에 갖는 것을 특징으로 하는 <1> 또는 <2>에 기재된 광학 필름의 제조 방법.<3> The (meth)acrylic resin has at least one ring structure selected from a lactone ring structure, a glutaric acid anhydride structure, a glutarimide structure, an N-substituted maleimide structure, and a maleic anhydride structure in the main chain. The manufacturing method of the optical film as described in <1> or <2> characterized by the above-mentioned.

<4> (메트)아크릴계 수지와 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을 제막하는 광학 필름의 제조 방법이며; 상기 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고; 상기 용융물을 다이로부터 필름상으로 토출한 후에, 터치 롤 제막을 행하는 광학 필름의 제조 방법.<4> A method for producing an optical film in which a melt containing a thermoplastic resin composition containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or lower is formed into a film; The (meth)acrylic resin has a glass transition temperature of 108° C. or higher; The manufacturing method of the optical film which performs touch-roll film formation, after discharging the said molten material from die to a film form.

<5> (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 롤상의 광학 필름이며; 상기 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고; 상기 광학 필름을 그의 길이 방향(MD 방향)으로 120m의 길이에 걸쳐서 12m 간격으로 폭 방향(TD 방향)의 80%를 투영 검사했을 때에, 노이즈의 합계가 5점 이하인, 광학 필름. <5> A roll-shaped optical film comprising a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or less based on 100 parts by weight of a (meth)acrylic resin; a b * value when the optical film is made into a film having a thickness of 80 μm is less than 0.5; The optical film, wherein the total noise is 5 points or less when the optical film is subjected to projection inspection of 80% of the width direction (TD direction) at intervals of 12 m over a length of 120 m in its longitudinal direction (MD direction).

<6> (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 광학 필름이며; 상기 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고; 상기 광학 필름을 투영 검사했을 때에, 1㎡당의 노이즈가 5점 이하인, 광학 필름.<6> An optical film comprising a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or less based on 100 parts by weight of a (meth)acrylic resin; a b * value when the optical film is made into a film having a thickness of 80 μm is less than 0.5; The optical film whose noise per 1 m 2 is 5 points or less when the optical film is subjected to projection inspection.

<7> (메트)아크릴계 수지와 자외선 흡수제를 함유하고 있는 광학 필름이며; 상기 광학 필름의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고; 상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 c*값이 0.45 이하인, 광학 필름.<7> An optical film containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber; the glass transition temperature of the optical film is 108° C. or higher; An optical film having a c * value of 0.45 or less when the optical film is used as an unstretched film having a thickness of 100 µm and measured according to JIS Z 8729.

<8> 상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 a*값의 절댓값이 0.10 이하인, <7>에 기재된 광학 필름.<8> The optical film according to <7>, wherein the absolute value of a * value measured according to JIS Z 8729 when the optical film is an unstretched film having a thickness of 100 µm is 0.10 or less.

<9> 상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의; JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 380㎚에 있어서의 광선 투과율이 3.0% 이하이고; 또한, 파장 420㎚에 있어서의 광선 투과율이 95.0% 이상인, <7> 또는 <8>에 기재된 광학 필름.<9> when the said optical film is made into an unstretched film with a thickness of 100 micrometers; a light transmittance at a wavelength of 380 nm measured in accordance with JIS K7361:1997 is 3.0% or less; Moreover, the optical film as described in <7> or <8> whose light transmittance in wavelength 420nm is 95.0% or more.

<10> 상기 (메트)아크릴계 수지는 주쇄에 환 구조를 갖고 있는, <7> 또는 <8>에 기재된 광학 필름.<10> The optical film according to <7> or <8>, wherein the (meth)acrylic resin has a ring structure in the main chain.

<11> 상기 (메트)아크릴계 수지의 열분해 온도는 310℃ 이상인, <7> 또는 <8>에 기재된 광학 필름.<11> The optical film according to <7> or <8>, wherein the thermal decomposition temperature of the (meth)acrylic resin is 310°C or higher.

본 발명은 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용한 경우에 있어서도, b*값이 낮고, 제막 시에 있어서의 롤로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.The present invention provides a method for producing an optical film having a low b * value and no transfer of contaminants from a roll during film formation even when an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature is used, and an optical film having good optical properties. exert what it can do.

또한, 본 발명에 따르면, 높은 투명성, 작은 색상 및 낮은 채도를 겸비한, 내열성이 우수한 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름을 제공할 수 있고, 편광자 보호 필름 등의 광학 필름에 적합하게 사용할 수 있다.Further, according to the present invention, it is possible to provide a method for producing an optical film having excellent heat resistance and having high transparency, small color and low saturation, and an optical film, and can be suitably used for optical films such as polarizer protective films.

이하, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니고, 기술한 범위 내에서 다양한 변경이 가능하고, 다른 실시 형태에 각각 개시된 기술적 수단을 적절히 조합하여 얻어지는 실시 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. However, the present invention is not limited to this, and various changes are possible within the described range, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in other embodiments are also included in the technical scope of the present invention.

또한, 본 명세서에서는, 「(메트)아크릴산」은 「아크릴산 또는 메타크릴산」을 의미하고, 「주성분」이란 50질량% 이상 포함하는 것을 의미하고, 「ppm」은 특별히 언급이 없는 한 질량 환산으로 구해지는 값(예를 들어, 10,000ppm은 1질량%)을 의미한다. 또한, 「중량」은 「질량」과 동의어로서 취급하고, 「중량%」는 「질량%」와 동의어로서 취급하고, 본 명세서에 있어서 특기하지 않는 한, 수치 범위를 나타내는 「A 내지 B」는 「A 이상 B 이하」인 것을 의미한다.In addition, in this specification, "(meth)acrylic acid" means "acrylic acid or methacrylic acid", "main component" means containing 50 mass % or more, and "ppm" is mass conversion unless otherwise specified A calculated value (for example, 10,000 ppm is 1% by mass). In addition, "weight" is treated as a synonym for "mass", and "weight%" is treated as a synonym for "mass%", and unless otherwise specified in the present specification, "A to B" representing a numerical range is " A or more and B or less”.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을, 다이로부터 필름상으로 토출한 후에 터치 롤 제막을 행하는 광학 필름의 제조 방법이며, 상기 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 하기 식A method for manufacturing an optical film according to an embodiment of the present invention is a melt containing a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or less based on 100 parts by weight of a (meth)acrylic resin. A method for producing an optical film in which a film is formed by touch roll after discharging from a die into a film, wherein the relationship between the thermal decomposition temperature Td (° C.) and the temperature Tp (° C.) of the melt at the exit of the die is as follows ceremony

50≤Td-Tp50≤Td-Tp

를 만족시키는 방법이다.a way to satisfy

본 발명의 다른 실시 형태에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (메트)아크릴계 수지와 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을 제막하는, 광학 필름의 제조 방법이며, 상기 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고, 상기 용융물을 다이로부터 필름상으로 토출한 후에, 터치 롤 제막을 행하는 방법이다.A method for producing an optical film according to another embodiment of the present invention is a method for producing an optical film in which a melt containing a thermoplastic resin composition containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C. or less is formed into a film, The glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is 108° C. or higher, and the melt is discharged from the die into a film form, and then touch roll film formation is performed.

〔1. 본 발명의 특징〕〔One. Features of the present invention]

[내열성 (메트)아크릴계 수지의 사용][Use of heat-resistant (meth)acrylic resin]

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은, 내열성의 (메트)아크릴계 수지(일례로서, 유리 전이 온도가 108℃ 이상인 (메트)아크릴계 수지)를 원료에 포함하고 있다. 그리고, 상기 광학 필름은 내열성의 열가소성 수지 조성물을 제막함으로써 얻어져, 그 자신으로서 내열성을 갖고 있다.The optical film according to one embodiment of the present invention contains a heat-resistant (meth)acrylic resin (as an example, a (meth)acrylic resin having a glass transition temperature of 108°C or higher) as a raw material. And the said optical film is obtained by forming a heat-resistant thermoplastic resin composition into a film, and has heat resistance by itself.

내열성 (메트)아크릴계 수지를 원료로 하는 내열성 광학 필름에는, 예를 들어 내후성 및 표면 경도가 우수한, 발열부(광원 등)에 근접하여 배치하는 것이 용이해지는 등의 이점이 있다.A heat-resistant optical film made of a heat-resistant (meth)acrylic resin as a raw material has advantages such as excellent weather resistance and surface hardness and ease of placement close to a heating part (light source, etc.).

그런데, 내열성 (메트)아크릴계 수지를 원료로 하여 광학 필름을 제조할 때에는, 통상, 자외선 흡수제가 고온 환경 하에 놓이게 된다. 이때, 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용한 경우는, 블리드 아웃한 당해 자외선 흡수제가 원인이 되어 롤이 오염되고, 필름 표면에 전사되어 결점이 발생한다는 과제가 종래 알려져 있었다. 상기 과제를 해결하는 수단의 하나로서, 열분해 온도가 높은 자외선 흡수제(예를 들어, 벤조트리아진계 자외선 흡수제)를 사용하는 제조 방법이 제안되어 있다. 그러나, 벤조트리아진계 자외선 흡수제는 가시광 영역의 광선까지 흡수해 버리기 때문에, 제조되는 광학 필름에 색상 및 채도가 발생하는 난점이 있었다.By the way, when manufacturing an optical film using heat-resistant (meth)acrylic-type resin as a raw material, a ultraviolet absorber is normally put under a high-temperature environment. At this time, when a UV absorber having a low thermal decomposition temperature is used, the problem that the bleed-out UV absorber causes the roll to be contaminated and transferred to the film surface to generate defects has been conventionally known. As one of the means for solving the above problems, a production method using a UV absorber having a high thermal decomposition temperature (for example, a benzotriazine-based UV absorber) has been proposed. However, since benzotriazine-based ultraviolet absorbers absorb even light rays in the visible light region, there was a difficulty in that color and saturation occur in the optical film produced.

이들의 사항이 본 발명의 전제가 된다. 즉, 본 발명은 내열성 (메트)아크릴계 수지와, 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 원료에 사용하면서, 필름 결점이 발생한다는 과제를 해결하는 것이다. 그리고, 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용하는 결과, 얻어지는 광학 필름은 광학 특성이 우수한 것이 된다(예를 들어, 투명성이 높고, 색상이 작고, 채도가 낮음).These matters become the premise of this invention. That is, the present invention solves the problem that film defects occur while using a heat-resistant (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber with a low thermal decomposition temperature as raw materials. As a result of using an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature, the obtained optical film has excellent optical properties (for example, high transparency, low color, and low saturation).

[터치 롤의 채용][Adoption of touch roll]

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 터치 롤을 제막 방법에 채용했다. 터치 롤에 의해 제막함으로써, 필름 결점의 발생을 억제할 수 있는 이유는, 이하와 같다고 추정된다. 즉, 터치 롤 제막에 있어서는, 성형 중의 필름이 양면으로부터 롤과 밀착한다. 이로 인해, 자외선 흡수제가 필름 표면으로부터 휘산할 수 없고 필름 내부에 머물기 쉽다. 또한, 가령 일부의 자외선 흡수제가 휘산되었다고 해도, 휘산된 자외선 흡수제가, 결점이 될수록 다량으로 롤 표면에 퇴적하는 일이 없다. 결과적으로, 롤 표면에 자외선 흡수제가 다량으로 퇴적하는 일이 없고, 따라서 퇴적한 자외선 흡수제가 전사되어 필름에 결점이 발생하는 일도 없다.In order to solve the said subject, this invention employ|adopted the touch roll for the film forming method. The reason why generation|occurrence|production of a film defect can be suppressed by forming into a film with a touch roll is estimated as follows. That is, in touch roll film forming, the film during molding adheres to the roll from both sides. For this reason, the ultraviolet absorber cannot volatilize from the surface of the film and tends to stay inside the film. In addition, even if a part of the ultraviolet absorber is volatilized, the volatilized ultraviolet absorber does not accumulate on the roll surface in a large amount as it becomes a defect. As a result, a large amount of ultraviolet absorber is not deposited on the surface of the roll, and therefore, the deposited ultraviolet absorber is not transferred to cause defects in the film.

상술한 필름 결점의 발생을 억제하는 수단은, 그러나, 제막 기술에 터치 롤을 적용하는 것의 기술적인 곤란의 점에서, 종래는 간과하고 있었다. 예를 들어, 제막 기술에 있어서의 터치 롤에는, 이하의 기술상의 난점이 존재하고 있다.Means for suppressing the occurrence of the above-described film defects have conventionally been overlooked in view of the technical difficulty of applying a touch roll to film forming technology. For example, the following technical difficulties exist in the touch roll in film forming technology.

(1) 두께 분포의 발생(1) Occurrence of thickness distribution

터치 롤 제막은, 통상, 에어 실린더 등에 의해 롤의 양단부를 억압하도록 구성되어 있다. 이로 인해, 롤에 굽힘 모멘트가 작용하고, 당해 롤에 휨이 발생하는 경우가 있다. 이와 같은 롤로 제막하면, 필름의 두께 분포가, 중앙부에서 두껍고, 단부에서 얇아진다. 이와 같은 필름에는 파지 부분 부근에서 파괴되기 쉽다는 결점이 있다. 상기 결점에 대해서는, 터치 롤에 크라운 가공을 실시하고, 백업 롤을 설치하는 등의 대책이 있지만, 모두 가공 방법 및 제조 장치의 구조가 복잡해지는 경향이 있다.The touch roll film formation is normally configured so that both ends of the roll are suppressed by an air cylinder or the like. For this reason, a bending moment acts on the roll, and deflection may occur in the roll. When formed into a film with such a roll, the thickness distribution of the film becomes thick at the center part and thin at the end part. Such a film has a drawback that it is easy to break in the vicinity of the holding portion. Although there are countermeasures, such as giving a crown process to a touch roll and installing a back-up roll about the said defect, both tend to complicate the structure of a processing method and a manufacturing apparatus.

(2) 필름에 가해지는 힘의 치우침(2) bias in force applied to the film

필름에 가해지는 압력이 수지의 배향 상태에 영향을 미치고, 얻어지는 필름의 리타데이션이 변화되기 때문에, 리타데이션의 균일성이 높은 광학 필름을 얻기 위해서는, 충분히 균일한 압력으로 협압을 행하는 것이 중요해진다. 그러나, 폭이 넓은 광학 필름을 얻기 위해 유연 다이를 폭 넓게 하면, 터치 롤로서 탄성 터치 롤을 사용했다고 해도, 롤의 휨에 의해, 터치 롤이 필름면에 균일하게 닿지 않게 된다. 필름 원단의 막 두께를, 필름의 폭 방향의 양단부로부터 중앙을 향해 볼록 형상으로 하면, 상기 휨에 유래하는 압력의 치우침은 해소할 수 있다. 그러나, 이와 같은 필름 원단을 제조하기 위해서는, 특별 주문의 설비가 필요해진다. 또한, 캐스트 시에 용융물을 강하게 압박하면, 필름에 잔류 변형이 발생해 버린다. 그리고, 이와 같은 필름을 연신하면, 상기 잔류 변형이 원인으로 연신에 치우침이 발생하고, 막 두께에도 치우침이 발생해 버린다. 이와 같이, 압출된 필름상의 용융물을, 캐스트 롤과 터치 롤에 의해 균일한 압력으로 협압하는 것은 곤란하다.Since the pressure applied to the film affects the alignment state of the resin and the retardation of the obtained film changes, it is important to apply pressure with a sufficiently uniform pressure in order to obtain an optical film with high retardation uniformity. However, when the casting die is widened to obtain a wide optical film, even if an elastic touch roll is used as the touch roll, the touch roll does not uniformly touch the film surface due to roll bending. When the film thickness of the original fabric of the film is convex from both ends in the width direction of the film toward the center, the unevenness of the pressure resulting from the warpage can be eliminated. However, in order to manufacture such a film raw material, special equipment is required. In addition, if the molten material is strongly pressed during casting, residual strain will occur in the film. And, when such a film is stretched, bias occurs in the stretching due to the residual strain, and bias also occurs in the film thickness. Thus, it is difficult to pressurize the extruded film-like melt with a uniform pressure with a cast roll and a touch roll.

(3) 고속 제막에 수반하는 난점(3) Difficulties associated with high-speed film formation

고속으로 터치 롤을 제막할 때에는, 예를 들어 이하와 같은 문제가 발생할 수 있다. (i) 용융 수지를 협압할 때에, 당해 용융 수지에 횡단이 발생하는 문제. (ii) 용융 수지가 부분적으로 터치 롤에 접촉하지 않는 문제. (iii) 협압이 균일하지 않기 때문에, 폭 방향의 단이나 중앙에서 압력의 치우침이 발생하는 문제.When forming a touch roll into a film at high speed, the following problems may arise, for example. (i) The problem that traversal occurs in the molten resin when the molten resin is clamped. (ii) The problem that the molten resin does not partially contact the touch roll. (iii) A problem in which bias in pressure occurs at the end or in the center in the width direction because the clamping pressure is not uniform.

본 발명은 상기와 같은 곤란으로 인해 종래는 경원되는 경향이 있던 터치 롤 제막에 착안하여, 필름 결점의 억제와, 우수한 광학 특성을 양립한 광학 필름의 제조 방법 및 광학 필름을 제공하고자 하는 것이다.The present invention focuses on touch roll film formation, which conventionally tends to be abandoned due to the above difficulties, and aims to provide an optical film manufacturing method and optical film that achieve both suppression of film defects and excellent optical properties.

〔2. (메트)아크릴계 수지〕〔2. (meth)acrylic resin]

[(메트)아크릴계 수지의 구조][Structure of (meth)acrylic resin]

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 (메트)아크릴계 수지를 포함하는 열가소성 수지 조성물로 성형된다. 상기 열가소성 수지 조성물을 구성하는 (메트)아크릴계 수지는 아크릴산, 메타크릴산, 혹은 이들 화합물의 유도체, 또는 하기 식으로 표현되는 구조를 갖는 수산기 함유 단량체를 포함하는 단량체 조성물을, 중합 또는 공중합하여 얻어지는 수지 및 그의 유도체이다. 이들의 구조는 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 공지의 (메트)아크릴계 수지를 사용할 수 있다.An optical film according to an embodiment of the present invention is molded from a thermoplastic resin composition containing a (meth)acrylic resin. The (meth)acrylic resin constituting the thermoplastic resin composition is a resin obtained by polymerization or copolymerization of a monomer composition containing acrylic acid, methacrylic acid, a derivative of these compounds, or a hydroxyl group-containing monomer having a structure represented by the following formula. and derivatives thereof. These structures are not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired. Specifically, known (meth)acrylic resins can be used.

CH2=C(COOR1)-CHR2-OHCH 2 =C(COOR 1 )-CHR 2 -OH

(식 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄상, 분지쇄상, 혹은 환상의 알킬기를 나타냄). (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms).

(메트)아크릴산의 유도체로서는, 구체적으로는, 예를 들어 (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산n-프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산n-헥실, (메트)아크릴산2-클로로에틸, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산2,3,4,5-테트라히드록시펜틸 및 (메트)아크릴산2,3,4,5,6-펜타히드록시헥실 등을 들 수 있다. 이들 유도체는 복수 종류가 병용되어도 된다. 상기 구체예 중에서도, 얻어지는 (메트)아크릴계 수지의 열 안정성이 우수한 점에서, (메트)아크릴산메틸이 가장 바람직하다.Specifically as a derivative of (meth)acrylic acid, for example, methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate , (meth)acrylic acid n-hexyl, (meth)acrylic acid 2-chloroethyl, (meth)acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth)acrylic acid 3-hydroxypropyl, (meth)acrylic acid 2,3,4,5- tetrahydroxypentyl and (meth)acrylic acid 2,3,4,5,6-pentahydroxyhexyl; and the like. As for these derivatives, multiple types may be used together. Among the above specific examples, methyl (meth)acrylate is most preferable in terms of excellent thermal stability of the obtained (meth)acrylic resin.

또한, (메트)아크릴계 수지는 당해 (메트)아크릴계 수지의 내열성의 향상을 위해 분자쇄(중합체의 주골격 또는 주쇄라고도 칭함)에 환 구조가 도입되어 있어도 된다. 이와 같은 환 구조의 예로서는, 락톤환 구조, 무수 글루타르산 구조, 글루타르이미드 구조, N-치환 말레이미드 구조 및 무수 말레산 구조에서 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, (메트)아크릴계 수지는, 예를 들어 (메트)아크릴산 또는 그의 유도체와, 페닐말레이미드, 시클로헥실말레이미드 및 메틸말레이미드 등의 N-치환 말레이미드의 공중합체여도 된다.In addition, a ring structure may be introduced into the molecular chain (also referred to as the main skeleton or main chain of the polymer) of the (meth)acrylic resin to improve the heat resistance of the (meth)acrylic resin. Examples of such a ring structure include at least one selected from a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, an N-substituted maleimide structure, and a maleic anhydride structure. More specifically, the (meth)acrylic resin may be, for example, a copolymer of (meth)acrylic acid or a derivative thereof and an N-substituted maleimide such as phenyl maleimide, cyclohexyl maleimide, and methyl maleimide.

(메트)아크릴계 수지에 있어서의 상기 환 구조의 함유율은, 예를 들어 1 내지 60몰%의 범위 내인 것이 바람직하고, 1 내지 40몰%의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 2 내지 30몰%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 또한, (메트)아크릴계 수지에 있어서의 환 구조의 함유율은, 예를 들어 1 내지 80질량%의 범위 내인 것이 바람직하고, 1 내지 50질량%의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 2 내지 40질량%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 이에 의해, (메트)아크릴계 수지를 포함하는 광학 필름은 우수한 투명성 및 내열성을 나타냄과 함께, 우수한 기계적 강도를 나타낸다.The content of the ring structure in the (meth)acrylic resin is, for example, preferably within the range of 1 to 60 mol%, more preferably within the range of 1 to 40 mol%, and within the range of 2 to 30 mol%. It is more preferable to be mine. The content of the ring structure in the (meth)acrylic resin is, for example, preferably in the range of 1 to 80% by mass, more preferably in the range of 1 to 50% by mass, and 2 to 40% by mass. It is more preferable that it is within the range. As a result, the optical film containing the (meth)acrylic resin exhibits excellent transparency and heat resistance, as well as excellent mechanical strength.

(메트)아크릴계 수지는 광학 필름으로 했을 때에 착색(황변)되기 어렵도록, 질소 원자를 포함하지 않는 구조인 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that (meth)acrylic-type resin has a structure which does not contain a nitrogen atom so that it may be hard to be colored (yellowing) when it is set as an optical film.

또한, (메트)아크릴계 수지는 정의 복굴절률(정의 위상차)을 발현시키기 쉽도록, 주쇄에 락톤환 구조가 도입되어 있는 것이 보다 바람직하다. 주쇄에 도입되는 락톤환 구조는 4 내지 8원환인 것이 바람직하고, 5 내지 6원환인 것이 구조의 안정성에서 보다 바람직하고, 6원환인 것이 특히 바람직하다. 주쇄에 도입되는 6원환의 락톤환 구조로서는, 후술하는 일반식 (1)로 나타나는 락톤환 구조나, 일본 특허 공개 제2004-168882호 공보에 기재되어 있는 락톤환 구조 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 (i) 주쇄에 락톤환 구조를 도입하기 전의, 수산기 및 에스테르기를 갖는 중합체를 합성할 때의 중합 수율이 높은 것, (ii) 락톤환 구조의 함유 비율이 높은 (메트)아크릴계 수지를 합성할 때의 중합 수율이 높은 것 및 (iii) 메타크릴산메틸 등의 (메트)아크릴산에스테르와의 공중합성이 양호한 점에서, 일반식 (1)로 나타나는 락톤환 구조가 보다 바람직하다.Moreover, it is more preferable that the lactone ring structure is introduce|transduced into the main chain so that a (meth)acrylic-type resin may express positive birefringence (positive retardation) easily. The lactone ring structure introduced into the main chain is preferably a 4- to 8-membered ring, more preferably a 5- to 6-membered ring in terms of structural stability, and particularly preferably a 6-membered ring. Examples of the 6-membered ring lactone ring structure introduced into the main chain include a lactone ring structure represented by general formula (1) described later, a lactone ring structure described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-168882, and the like. Among these, (i) those having a high polymerization yield when synthesizing a polymer having a hydroxyl group and an ester group before introducing a lactone ring structure into the main chain, and (ii) synthesizing a (meth)acrylic resin having a high content of a lactone ring structure. The lactone ring structure represented by General formula (1) is more preferable from the point which the polymerization yield at the time of doing is high and copolymerizability with (meth)acrylic acid esters, such as (iii) methyl methacrylate, is good.

또한, (메트)아크릴계 수지는 내열성을 손상시키지 않는 범위에서, (메트)아크릴산 또는 그의 유도체와 공중합 가능한 그 밖의 단량체를 중합하여 이루어지는 구조 단위를 갖고 있어도 된다. 공중합 가능한 그 밖의 단량체의 구체예로서는, 스티렌, α-메틸스티렌 등의 방향족 비닐계 단량체, 아크릴로니트릴 등의 니트릴계 단량체, 아세트산비닐 등의 비닐에스테르류 등을 들 수 있다.Further, the (meth)acrylic resin may have a structural unit obtained by polymerizing other monomers copolymerizable with (meth)acrylic acid or a derivative thereof within a range not impairing heat resistance. Specific examples of other monomers that can be copolymerized include aromatic vinyl monomers such as styrene and α-methylstyrene, nitrile monomers such as acrylonitrile, and vinyl esters such as vinyl acetate.

본 발명의 실시 형태에 있어서의 (메트)아크릴계 수지의, GPC 측정법에 의한 스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 3,000 내지 1,000,000인 것이 바람직하다. 이 중량 평균 분자량이 3,000 이상이라면 고분자로서 필요한 강도를 발현할 수 있다. 또한 1,000,000 이하라면 성형 가공에 의해 성형체로 할 수 있다. 당해 (메트)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량은 보다 바람직하게는 4,000 내지 800,000이고, 더욱 바람직하게는 5,000 내지 500,000이고, 보다 한층 바람직하게는 100,000 내지 500,000이다. 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있는 (메트)아크릴계 수지는 압출 용융에 의한 성형성이 양호하기 때문에 바람직하다.It is preferable that the weight average molecular weight (Mw) of styrene conversion by the GPC measurement method of (meth)acrylic-type resin in embodiment of this invention is 3,000-1,000,000. If this weight average molecular weight is 3,000 or more, strength required as a polymer can be expressed. Moreover, if it is 1,000,000 or less, it can be set as a molded body by molding process. The weight average molecular weight of the (meth)acrylic resin is more preferably 4,000 to 800,000, still more preferably 5,000 to 500,000, still more preferably 100,000 to 500,000. A (meth)acrylic resin having a weight average molecular weight within the above range is preferable because of good moldability by extrusion and melting.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 (메트)아크릴계 수지의, GPC 측정법에 의한 분자량 분포(Mw/Mn)는 1 내지 10인 것이 바람직하다. 성형 가공에 적합한 수지 점도로 조정하는 관점에서, 분자량 분포(Mw/Mn)는 바람직하게는 1.1 내지 7.0, 보다 바람직하게는 1.2 내지 5.0, 더욱 바람직하게는 1.5 내지 4.0이다.It is preferable that the molecular weight distribution (Mw/Mn) of the (meth)acrylic-type resin in one embodiment of the present invention according to the GPC measurement method is 1 to 10. From the viewpoint of adjusting the resin viscosity suitable for molding processing, the molecular weight distribution (Mw/Mn) is preferably 1.1 to 7.0, more preferably 1.2 to 5.0, still more preferably 1.5 to 4.0.

[(메트)아크릴계 수지의 제조 방법][Method for producing (meth)acrylic resin]

상기 (메트)아크릴계 수지의 제조 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, (메트)아크릴산 또는 그의 유도체를 함유하는 단량체 조성물을 중합하는 방법을 들 수 있다. (메트)아크릴계 수지를 광학 재료 용도로서 사용하는 경우는, 미소한 이물의 혼입은 가능한 한 피하는 것이 바람직하다. 이 관점에서, 현탁제나 유화제를 사용하지 않는 괴상 중합, 캐스트 중합이나 용액 중합을 사용하는 것이 바람직하다. 중합 형식으로서는, 예를 들어 배치 중합법, 연속 중합법 모두 사용할 수 있다. 중합 조작이 간단하다는 관점에서는, 배치 중합법이 바람직하고, 보다 균일한 조성의 중합물을 얻는다는 관점에서는 연속 중합법이 바람직하다.The manufacturing method of the said (meth)acrylic-type resin is not specifically limited, A well-known method can be used. Specifically, a method of polymerizing a monomer composition containing (meth)acrylic acid or a derivative thereof is exemplified. When using a (meth)acrylic resin for an optical material application, it is preferable to avoid incorporation of minute foreign matter as much as possible. From this point of view, it is preferable to use bulk polymerization, cast polymerization or solution polymerization without using a suspending agent or emulsifying agent. As the polymerization format, for example, both batch polymerization and continuous polymerization can be used. A batch polymerization method is preferred from the viewpoint of simple polymerization operation, and a continuous polymerization method is preferred from the viewpoint of obtaining a polymer product having a more uniform composition.

중합 온도 및 중합 시간은 사용하는 단량체의 종류, 그 사용 비율(단량체 조성물의 조성) 등에 따라 다르다. 그러나 일반적으로, 중합 온도는 0℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 80℃ 이상 140℃ 이하의 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 또한 중합 시간은 0.5시간 이상 20시간 이하의 범위 내인 것이 바람직하고, 1시간 이상 10시간 이하의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.Polymerization temperature and polymerization time differ depending on the type of monomers used, the ratio of their use (composition of the monomer composition), and the like. Generally, however, the polymerization temperature is preferably within the range of 0°C or higher and 150°C or lower, and more preferably within the range of 80°C or higher and 140°C or lower. The polymerization time is preferably in the range of 0.5 hour or more and 20 hours or less, and more preferably in the range of 1 hour or more and 10 hours or less.

용제를 사용한 중합 형태의 경우에 있어서 사용되는 용제는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소계 용제; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용제; 테트라히드로푸란 등의 에테르계 용제; 등을 들 수 있다. 용제는 복수 종류를 병용해도 된다.In the case of a polymerization form using a solvent, the solvent used is not particularly limited. For example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, and ethylbenzene; ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; ether solvents such as tetrahydrofuran; etc. can be mentioned. A solvent may use multiple types together.

특히, 주쇄에 락톤환 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 제조하는 경우에는, 사용하는 용제의 비점이 지나치게 높으면, 최종적으로 얻어지는 (메트)아크릴계 수지의 잔존 휘발분이 많아진다. 그 때문에, 용제의 비점은 50℃ 이상 200℃ 이하의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.In particular, when producing a (meth)acrylic resin having a lactone ring structure introduced into the main chain, if the boiling point of the solvent to be used is too high, the residual volatile content of the finally obtained (meth)acrylic resin increases. Therefore, as for the boiling point of a solvent, it is more preferable that it exists in the range of 50 degreeC or more and 200 degrees C or less.

단량체 조성물의 중합 반응 시에는, 필요에 따라 중합 개시제를 첨가해도 된다. 중합 개시제는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 쿠멘히드로퍼옥사이드, 디이소프로필벤젠하이드로퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등의 아조 화합물; 등을 들 수 있다. 중합 개시제는 복수 종류를 병용해도 된다. 중합 개시제의 사용량은 사용하는 단량체의 종류, 그 사용 비율(단량체 조성물의 조성), 혹은 반응 조건 등에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되지 않는다.During the polymerization reaction of the monomer composition, a polymerization initiator may be added as needed. The polymerization initiator is not particularly limited. For example, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-amylperoxy organic peroxides such as -2-ethylhexanoate; azo compounds such as 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile), and 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile); etc. can be mentioned. A polymerization initiator may use multiple types together. The usage amount of the polymerization initiator may be appropriately set depending on the type of monomer used, its usage ratio (composition of the monomer composition), or reaction conditions, and is not particularly limited.

단량체 조성물의 중합 반응 시에는 반응액의 겔화를 억제하기 위해, 반응액 중의 중합체의 농도를 50질량% 이하로 제어하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 반응액 중의 중합체의 농도가 50질량%를 초과하는 경우에는, 당해 농도가 50질량% 이하가 되도록, 반응액에 용제를 적절히 추가하는 것이 바람직하다. 상기 농도는 45질량% 이하인 것이 보다 바람직하고, 40질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 중합체의 농도가 지나치게 낮으면 생산성이 저하되기 때문에, 당해 농도는 10질량% 이상인 것이 바람직하고, 20질량% 이상인 것이 보다 바람직하다.In the polymerization reaction of the monomer composition, in order to suppress gelation of the reaction solution, it is preferable to control the concentration of the polymer in the reaction solution to 50% by mass or less. Specifically, when the concentration of the polymer in the reaction solution exceeds 50% by mass, it is preferable to appropriately add a solvent to the reaction solution so that the concentration becomes 50% by mass or less. As for the said concentration, it is more preferable that it is 45 mass % or less, and it is still more preferable that it is 40 mass % or less. Moreover, since productivity will fall when the density|concentration of a polymer is too low, it is preferable that the said density|concentration is 10 mass % or more, and it is more preferable that it is 20 mass % or more.

중합 반응 시 중에 반응액에 용제를 추가하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 반응액에 연속적으로 용제를 추가해도 되고, 간헐적으로 용제를 추가해도 된다. 반응액 중의 중합체의 농도를 제어함으로써, 반응액의 겔화를 억제할 수 있다. 락톤환 구조의 함유 비율을 높여 (메트)아크릴계 수지의 내열성을 향상시키기 때문에, 주쇄에 락톤환 구조를 도입하기 전의 중합체가 갖는 수산기 및 에스테르기의 비율을 높인 경우라도, 이와 같이 중합체의 농도를 제어하면, 반응액의 겔화를 충분히 억제할 수 있다.The method of adding a solvent to the reaction solution during the polymerization reaction is not particularly limited. For example, the solvent may be continuously added to the reaction solution, or the solvent may be added intermittently. Gelation of the reaction liquid can be suppressed by controlling the concentration of the polymer in the reaction liquid. Since the heat resistance of (meth)acrylic resin is improved by increasing the content of the lactone ring structure, the concentration of the polymer is controlled in this way even when the ratio of hydroxyl groups and ester groups of the polymer before introduction of the lactone ring structure to the main chain is increased. If so, gelation of the reaction solution can be sufficiently suppressed.

반응액에 추가하는 용제는 중합 반응 개시 시에 사용하는 용제와 동일한 종류(조성)여도 되고, 다른 종류(조성)여도 되지만, 중합 반응 개시 시에 사용하는 용제와 동일한 종류(조성)인 것이 보다 바람직하다. 또한, 첨가하는 용제는 복수 종류를 병용해도 된다.The solvent added to the reaction solution may be the same kind (composition) as the solvent used at the start of the polymerization reaction or a different kind (composition), but it is more preferable that it is the same kind (composition) as the solvent used at the start of the polymerization reaction. do. In addition, the solvent to add may use multiple types together.

상기 중합 반응을 종료한 시점에서 얻어지는 반응액에는 통상, 중합에 의해 얻어진 중합체 이외에, 용제가 포함되어 있다. 상기 중합체를 후술하는 락톤환 구조 함유 중합체로 하는 경우에는, 반응액으로부터 용제를 제거하여 중합체를 고체 상태로 취출할 필요는 없고, 용제를 포함하는 반응액을, 중합 반응에 이어지는 락톤환화 축합 공정에 있어서의 반응액으로서 계속해서 사용할 수 있다. 혹은, 중합체를 고체 상태로 취출한 후에, 락톤환화 축합 공정에 적합한 용제를 첨가하여 반응액을 구성해도 된다.The reaction solution obtained at the time of completion of the polymerization reaction usually contains a solvent in addition to the polymer obtained by polymerization. When the polymer is used as a lactone ring structure-containing polymer described later, it is not necessary to remove the solvent from the reaction solution to take out the polymer in a solid state, and the reaction solution containing the solvent is used in the lactone ring condensation step following the polymerization reaction. It can be continuously used as a reaction solution in Alternatively, after taking out the polymer in a solid state, a solvent suitable for the lactone ring condensation step may be added to form a reaction solution.

[(메트)아크릴계 수지의 특성][Characteristics of (meth)acrylic resin]

중합 반응에 의해 얻어지는 (메트)아크릴계 수지의 색상은 특별히 한정되지 않는다. 투명하며 황변도가 작은 쪽이, (메트)아크릴계 수지의 본래의 특징이 손상되지 않고, 광학 필름으로 성형하는 데 바람직하다. 상기 (메트)아크릴계 수지는, 예를 들어 두께 3㎜의 성형체로 한 경우의 헤이즈값이 3 이하인 것이 바람직하고, 2 이하인 것이 보다 바람직하고, 1 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 상기 (메트)아크릴계 수지는, 예를 들어 두께 3㎜의 성형체로 한 경우의 YI(옐로우 인덱스)값이 10 이하인 것이 바람직하고, 5 이하인 것이 보다 바람직하다.The color of the (meth)acrylic resin obtained by polymerization is not particularly limited. Transparent and low yellowing are preferable for molding into an optical film without damaging the original characteristics of (meth)acrylic resin. The (meth)acrylic resin preferably has a haze value of 3 or less, more preferably 2 or less, and even more preferably 1 or less, when formed into a molded body having a thickness of, for example, 3 mm. Further, the (meth)acrylic resin preferably has a YI (yellow index) value of, for example, 10 or less, more preferably 5 or less, when formed into a molded body having a thickness of 3 mm.

본 실시 형태에 있어서, (메트)아크릴계 수지를 포함하는 열가소성 수지 조성물의, 270℃, 전단 속도 10/초에 있어서의 용융 점도는 500㎩ㆍS 이상인 것이 보다 바람직하고, 550㎩ㆍS 이상인 것이 더욱 바람직하고, 600㎩ㆍS 이상인 것이 특히 바람직하다. 용융 점도가 500㎩ㆍS 미만인 경우에는, 상기 열가소성 수지 조성물이 취화되고, 충분한 기계 물성을 갖는 재료가 되지 않을 우려가 있다. 또한, 상기 용융 점도의 상한값은 3000㎩ㆍS 정도가 적합하다.In this embodiment, the melt viscosity of the thermoplastic resin composition containing the (meth)acrylic resin at 270°C and a shear rate of 10/sec is more preferably 500 Pa·S or more, and still more preferably 550 Pa·S or more. It is preferable, and it is especially preferable that it is 600 Pa*S or more. If the melt viscosity is less than 500 Pa·S, the thermoplastic resin composition may become brittle and fail to produce a material having sufficient mechanical properties. In addition, as for the upper limit of the said melt viscosity, about 3000 Pa*S is suitable.

상기 용융 점도는, 예를 들어 트윈 보어 배럴 타입인 로잔드사제 캐필러리 레오미터RH10을 사용하여 측정할 수 있다. 측정 조건 등의 상세에 관해서는, 실시예의 항에서 설명한다.The said melt viscosity can be measured, for example using the capillary rheometer RH10 of a twin-bore barrel type by Rosende Corporation. Details of measurement conditions and the like are described in the section of Examples.

또한, 본 실시 형태에 있어서, 열가소성 수지 조성물을 구성하는 (메트)아크릴계 수지는 유리 전이 온도(Tg)가 108℃ 이상 160℃ 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 110℃ 이상 150℃ 이하의 범위 내이다. 더욱 바람직한 형태에서는, 상기 유리 전이 온도의 범위는 상한값이 140℃ 이하이고, 하한값은 111℃ 이상, 112℃ 이상, 113℃ 이상, 115℃ 이상, 117℃ 이상의 순으로 바람직해진다. 이 점에 있어서, 상기 열가소성 조성물은 일반적인 (메트)아크릴 수지(폴리메타크릴산메틸(PMMA))와는 다르다.In the present embodiment, the (meth)acrylic resin constituting the thermoplastic resin composition has a glass transition temperature (Tg) within the range of 108°C or higher and 160°C or lower, more preferably within the range of 110°C or higher and 150°C or lower. to be. In a more preferred aspect, the upper limit of the glass transition temperature range is 140°C or lower, and the lower limit is 111°C or higher, 112°C or higher, 113°C or higher, 115°C or higher, and 117°C or higher in this order. In this respect, the thermoplastic composition is different from common (meth)acrylic resins (polymethyl methacrylate (PMMA)).

유리 전이 온도가 108℃ 미만인 경우에는, 예를 들어 당해 (메트)아크릴계 수지를 포함하는 광학 필름을 광학 기기의 편광판으로서 조립시킨 경우에, 고온에서의 충분한 내구성을 발휘할 수 없을 우려가 있다. 유리 전이 온도가 160℃를 초과한 경우에는, (메트)아크릴계 수지의 성형 온도를 높게 할 필요가 있고, 그 때문에, 성형 시에 발포하거나, 자외선 흡수제의 블리드 아웃이 발생하거나 할 우려가 있다. 또한, 당해 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도가 이 범위라면, 필름 성형이나 연신 등의 성형 가공이 곤란해지는 일 없이, 필름에 형성되는 열가소성 수지 조성물의 유리 전이 온도를 높일 수 있고, 나아가서는 광학 필름의 유리 전이 온도도 높일 수 있다. 유리 전이 온도가 높은 광학 필름은 고온 환경 하에서의 위상차의 변화율을 작게 할 수 있다.When the glass transition temperature is less than 108°C, for example, when an optical film containing the (meth)acrylic resin is incorporated as a polarizing plate of an optical device, sufficient durability at high temperatures may not be exhibited. When the glass transition temperature exceeds 160°C, it is necessary to increase the molding temperature of the (meth)acrylic resin, which may cause foaming during molding or bleed-out of the ultraviolet absorber. In addition, if the glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is within this range, the glass transition temperature of the thermoplastic resin composition formed on the film can be increased without making molding processes such as film molding or stretching difficult. The glass transition temperature of the film can also be increased. An optical film having a high glass transition temperature can reduce the rate of change of phase difference in a high-temperature environment.

상기 유리 전이 온도는 JIS K7121의 규정에 준거하여 측정할 수 있다. 측정 조건 등의 상세에 관해서는, 실시예의 항에서 설명한다.The said glass transition temperature can be measured based on the rule of JIS K7121. Details of measurement conditions and the like are described in the section of Examples.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 (메트)아크릴계 수지의 열분해 온도(열분해 개시 온도; Td)는 310℃ 이상인 것이 바람직하고, 315℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 320℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 열분해 온도가 310℃ 이상인 (메트)아크릴계 수지는 충분한 내열성을 갖고 있다고 할 수 있다. 상기 열분해 온도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 380℃ 정도로 할 수 있다. 이와 같은 열분해 온도를 갖는 (메트)아크릴계 수지를 터치 롤 제막함으로써, 필름 결점의 저감, 필름 착색의 저감, 기포 혼입의 억제 등의 이점이 얻어진다.The thermal decomposition temperature (thermal decomposition start temperature; Td) of the (meth)acrylic resin in one embodiment of the present invention is preferably 310°C or higher, more preferably 315°C or higher, and still more preferably 320°C or higher. It can be said that a (meth)acrylic resin having a thermal decomposition temperature of 310°C or higher has sufficient heat resistance. The upper limit of the thermal decomposition temperature is not particularly limited, but may be about 380°C. By forming a (meth)acrylic-type resin having such a thermal decomposition temperature into a film with a touch roll, advantages such as reduction of film defects, reduction of film discoloration, and suppression of bubble mixing are obtained.

또한, 실시예에 나타내는 바와 같이, 본 명세서에 있어서 「열분해 온도」란, 승온에 수반하는 질량의 감소 속도가 높아지는 온도 중, 가장 낮은 온도를 가리킨다. 즉, 본 명세서에 있어서는, 「열분해 온도」란 「열분해 개시 온도」를 의미하고 있다. 이하, 「열분해 온도」 및 「열분해 개시 온도」의 어떤 표기든 사용하지만, 의미는 동일하다.In addition, as shown in Examples, in this specification, "thermal decomposition temperature" refers to the lowest temperature among the temperatures at which the rate of mass decrease accompanying temperature increase increases. That is, in this specification, "thermal decomposition temperature" means "thermal decomposition start temperature". Hereinafter, either notation of "thermal decomposition temperature" and "thermal decomposition start temperature" is used, but the meaning is the same.

또한, (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도 및 열분해 온도와, 열가소성 조성물의 유리 전이 온도 및 열분해 온도는 상위한 경우가 있다. 이것은, 열가소성 조성물을 제조할 때에, (메트)아크릴계 수지 이외의 성분이 추가되는 경우가 있기 때문이다. 한편, 열가소성 조성물을 성형한 것이 광학 필름인 경우, 열가소성 조성물의 유리 전이 온도 및 열분해 온도는 광학 필름의 유리 전이 온도 및 열분해 온도와 실질적으로 동일하다고 간주해도 된다. 이 점에 관하여, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 바람직한 유리 전이 온도 및 열분해 온도(즉, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름의 바람직한 유리 전이 온도 및 열분해 온도)는 〔5〕절에서 후술한다.In addition, the glass transition temperature and thermal decomposition temperature of (meth)acrylic-type resin may differ from the glass transition temperature and thermal decomposition temperature of a thermoplastic composition. This is because components other than the (meth)acrylic resin may be added when preparing the thermoplastic composition. On the other hand, when the thermoplastic composition is molded into an optical film, the glass transition temperature and thermal decomposition temperature of the thermoplastic composition may be regarded as substantially the same as those of the optical film. In this regard, the preferred glass transition temperature and thermal decomposition temperature of the thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention (that is, the preferred glass transition temperature and thermal decomposition temperature of the optical film according to one embodiment of the present invention) are [5 It is described later in section ].

또한, 본 실시 형태에 있어서, 열가소성 수지 조성물을 구성하는 (메트)아크릴계 수지는 수지의 응력 광학 계수(Cr)의 절댓값이 1.5×10-10-1 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 1.0×10-10-1 이하의 범위 내, 더욱 바람직하게는 5.0×10-11-1 이하의 범위 내이다. 따라서, 상기 (메트)아크릴계 수지는, 소위 제로 위상차 수지이다. 이와 같은 (메트)아크릴계 수지는 연신 가공 시의 굴절률의 이방성을 억제하고, 복굴절을 작게 할 수 있다.In the present embodiment, the (meth)acrylic resin constituting the thermoplastic resin composition has an absolute value of the stress optical coefficient (Cr) of the resin within a range of 1.5 × 10 -10 Pa -1 or less, more preferably 1.0 × Within the range of 10 -10 Pa -1 or less, more preferably within the range of 5.0 × 10 -11 Pa -1 or less. Therefore, the (meth)acrylic resin is a so-called zero retardation resin. Such a (meth)acrylic resin can suppress the anisotropy of the refractive index during the stretching process and reduce the birefringence.

상기 응력 광학 계수(Cr)는 열가소성 수지 조성물의 연신 시의 응력과, 필름의 굴절률을 평면 위에 플롯하고, 거기에서 얻어지는 근사 직선의 기울기로부터 도출한다. 도출 방법의 상세에 관해서는, 실시예의 항에서 설명한다.The stress optical coefficient (Cr) is derived from the slope of an approximate straight line obtained by plotting the stress during stretching of the thermoplastic resin composition and the refractive index of the film on a plane. Details of the derivation method will be described in the section of the embodiment.

[락톤환 구조 함유 중합체의 구조][Structure of lactone ring structure-containing polymer]

(메트)아크릴계 수지는 중합체의 주쇄에 분자 내 환화 반응에 의해 락톤환 구조를 도입한, 소위 락톤환 구조 함유 중합체인 것이 보다 바람직하고, 락톤환 구조를 주성분으로 한 락톤환 구조 함유 중합체인 것이 특히 바람직하다. 본 명세서에서는, 주쇄에 락톤환 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 락톤환 구조 함유 중합체라고 칭한다. 이와 같은 락톤환 구조 함유 중합체는 투명성, 내열성, 광학 등방성이 모두 높고, 각종 광학 용도에 따른 특성을 충분히 발휘할 수 있다.The (meth)acrylic resin is more preferably a so-called lactone ring structure-containing polymer in which a lactone ring structure is introduced into the main chain of the polymer by an intramolecular cyclization reaction, and is particularly a lactone ring structure-containing polymer containing a lactone ring structure as a main component. desirable. In this specification, a (meth)acrylic resin in which a lactone ring structure is introduced into the main chain is referred to as a lactone ring structure-containing polymer. Such a lactone ring structure-containing polymer has high transparency, heat resistance, and optical isotropy, and can sufficiently exhibit characteristics suitable for various optical applications.

상기 락톤환 구조 함유 중합체는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 일반식 (1)로 나타나는 락톤환 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다.Although the said lactone ring structure containing polymer is not specifically limited, What has a lactone ring structure represented by the following general formula (1) is more preferable.

Figure 112018011401987-pat00002
Figure 112018011401987-pat00002

(식 중, R11, R12, R13은 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄상, 분기 쇄상, 혹은 환상의 알킬기(당해 알킬기는 임의 구성으로 산소 원자를 갖고 있어도 됨)를 나타냄).(In the formula, R 11 , R 12 , R 13 are each independently a hydrogen atom or a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (the alkyl group may optionally have an oxygen atom) represents).

락톤환 구조 함유 중합체에 있어서의, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조의 함유 비율은 바람직하게는 5질량% 이상 90질량% 이하, 보다 바람직하게는 10질량% 이상 70질량% 이하, 더욱 바람직하게는 10질량% 이상 60질량% 이하, 특히 바람직하게는 10질량% 이상 50질량% 이하이다. 상기 함유 비율이 5질량% 보다도 적은 경우에는, 내열성, 내용제성 및 표면 경도가 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 상기 함유 비율이 90질량% 보다도 많은 경우에는, 성형 가공성이 부족해지는 경우가 있다.The content ratio of the lactone ring structure represented by the general formula (1) in the lactone ring structure-containing polymer is preferably 5% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 70% by mass or less. Preferably they are 10 mass % or more and 60 mass % or less, Especially preferably, they are 10 mass % or more and 50 mass % or less. When the said content rate is less than 5 mass %, heat resistance, solvent resistance, and surface hardness may become inadequate. Moreover, when the said content ratio is more than 90 mass %, molding processability may become insufficient.

락톤환 구조 함유 중합체는 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조를 갖고 있어도 된다. 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조는 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, (메트)아크릴산에스테르, 수산기 함유 단량체, 불포화 카르복실산, 하기 일반식 (2)로 표현되는 단량체에서 선택되는 적어도 1종의 단량체를 중합하여 구축되는 중합체 구조 단위(반복 구조 단위)가 바람직하다.The lactone ring structure containing polymer may have structures other than the lactone ring structure represented by General formula (1). Structures other than the lactone ring structure represented by General Formula (1) are not particularly limited. For example, a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing at least one monomer selected from (meth)acrylic acid esters, hydroxyl group-containing monomers, unsaturated carboxylic acids, and monomers represented by the following general formula (2) is preferable

CH2=C(X)-R14 …(2)CH 2 = C(X)-R 14 . . . (2)

(식 중, R14는 수소 원자 또는 메틸기를 나타냄. X는 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 아릴기, -OAc기, -CN기, -CO-R15기, 또는 C-O-R16기를 나타냄. Ac는 아세틸을 나타냄. R15 및 R16은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 20의 직쇄상, 분기 쇄상, 혹은 환상의 알킬기를 나타냄).(In the formula, R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group. X represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an -OAc group, a -CN group, a -CO-R 15 group, or a COR 16 group. Ac represents acetyl, R 15 and R 16 represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms).

락톤환 구조 함유 중합체가, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조로서, (메트)아크릴산에스테르를 중합하여 구축되는 중합체 구조 단위(반복 구조 단위)를 갖고 있는 경우에는, 그 함유 비율은 바람직하게는 10질량% 이상 95질량% 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 10질량% 이상 90질량% 이하의 범위 내, 더욱 바람직하게는 40질량% 이상 90질량% 이하의 범위 내, 특히 바람직하게는 50질량% 이상 90질량% 이하의 범위 내이다.When the lactone ring structure-containing polymer has a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing (meth)acrylic acid ester as a structure other than the lactone ring structure represented by the general formula (1), the content ratio thereof is preferably within the range of 10 mass% or more and 95 mass% or less, more preferably within the range of 10 mass% or more and 90 mass% or less, still more preferably within the range of 40 mass% or more and 90 mass% or less, particularly preferably It is within the range of 50 mass % or more and 90 mass % or less.

또한, 락톤환 구조 함유 중합체가, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조로서, 수산기 함유 단량체를 중합하여 구축되는 중합체 구조 단위(반복 구조 단위)를 갖고 있는 경우에는, 그 함유 비율은 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 30질량% 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 20질량% 이하의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 15질량% 이하의 범위 내, 특히 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 10질량% 이하의 범위 내이다.In addition, when the lactone ring structure-containing polymer has a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing a hydroxyl group-containing monomer as a structure other than the lactone ring structure represented by the general formula (1), the content ratio thereof is preferably greater than 0% by mass and within the range of 30% by mass or less, more preferably greater than 0% by mass and within the range of 20% by mass or less, still more preferably greater than 0% by mass, and 15 It is within the range of mass % or less, and particularly preferably exceeds 0 mass % and is within the range of 10 mass % or less.

또한, 락톤환 구조 함유 중합체가, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조로서, 불포화 카르복실산을 중합하여 구축되는 중합체 구조 단위(반복 구조 단위)를 갖고 있는 경우에는, 그 함유 비율은 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 30질량% 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 20질량% 이하의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 15질량% 이하의 범위 내, 특히 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 10질량% 이하의 범위 내이다.In addition, when the lactone ring structure-containing polymer has a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing an unsaturated carboxylic acid as a structure other than the lactone ring structure represented by the general formula (1), it is contained. The ratio is preferably greater than 0% by mass and within the range of 30% by mass or less, more preferably greater than 0% by mass and within the range of 20% by mass or less, still more preferably greater than 0% by mass, Within the range of 15 mass % or less, It exists in the range of more than 0 mass % and 10 mass % or less especially preferably.

또한, 락톤환 구조 함유 중합체가, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조로서, 일반식 (2)로 표현되는 단량체를 중합하여 구축되는 중합체 구조 단위(반복 구조 단위)를 갖고 있는 경우에는, 그 함유 비율은 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 30질량% 이하의 범위 내, 보다 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 20질량% 이하의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 15질량% 이하의 범위 내, 특히 바람직하게는 0질량%를 초과하고, 10질량% 이하의 범위 내이다.Further, the lactone ring structure-containing polymer has a polymer structural unit (repeating structural unit) constructed by polymerizing the monomer represented by the general formula (2) as a structure other than the lactone ring structure represented by the general formula (1). In this case, the content ratio is preferably greater than 0% by mass and within the range of 30% by mass or less, more preferably greater than 0% by mass and within the range of 20% by mass or less, still more preferably 0% by mass. It exceeds % and is within the range of 15 mass % or less, Especially preferably exceeds 0 mass % and exists in the range of 10 mass % or less.

또한, 락톤환 구조 함유 중합체에 있어서, 일반식 (1)로 표현되는 락톤환 구조 이외의 구조의 함유 비율은, 합계로, 바람직하게는 10질량% 이상 95질량% 이하, 보다 바람직하게는 30질량% 이상 90질량% 이하, 더욱 바람직하게는 40질량% 이상 90질량% 이하, 특히 바람직하게는 50질량% 이상 90질량% 이하이다.In addition, in the lactone ring structure-containing polymer, the content ratio of structures other than the lactone ring structure represented by the general formula (1) is preferably 10% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 30% by mass, in total. % or more and 90 mass% or less, more preferably 40 mass% or more and 90 mass% or less, and particularly preferably 50 mass% or more and 90 mass% or less.

[락톤환 구조 함유 중합체의 제조 방법][Method for Producing Polymers Containing Lactone Ring Structure]

락톤환 구조 함유 중합체의 제조 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는 분자쇄 중에 수산기와 에스테르기를 갖는 중합체를 얻은 후에, 당해 중합체를 가열 처리함으로써 락톤환 구조를 중합체에 도입하는 환화 축합 반응(락톤환 축합 반응)을 발생시켜, 락톤환 구조 함유 중합체를 얻을 수 있다. 즉, 단량체 조성물이, 중합 공정 및 락톤환화 축합 공정을 거침으로써, 락톤환 구조 함유 중합체가 된다.The method for producing the lactone ring structure-containing polymer is not particularly limited. Preferably, after obtaining a polymer having a hydroxyl group and an ester group in the molecular chain, the polymer is subjected to heat treatment to cause a cyclization condensation reaction (lactone ring condensation reaction) to introduce a lactone ring structure into the polymer, thereby obtaining a polymer containing a lactone ring structure. can That is, the monomer composition becomes a lactone ring structure-containing polymer by passing through a polymerization step and a lactone ring condensation step.

락톤환 구조가 중합체의 분자쇄 중(중합체의 주골격 중)에 형성됨으로써, 중합체에 높은 내열성이 부여된다. 락톤환 구조를 중합체에 도입하는 환화 축합 반응이 반응률이 낮은 경우에는, 중합체의 내열성이 충분히 향상되지 않을 우려가 있다. 또한, 성형 시의 가열 처리에 수반하는 열이 원인이 되고, 성형 도중에 중합체의 축합 반응이 일어나고, 발생한 알코올이 성형품 중에 기포나 실버 스트리크가 되어 나타날 우려가 있다.When the lactone ring structure is formed in the molecular chain of the polymer (in the main skeleton of the polymer), high heat resistance is imparted to the polymer. When the reaction rate of the cyclization condensation reaction in which the lactone ring structure is introduced into the polymer is low, the heat resistance of the polymer may not be sufficiently improved. In addition, heat accompanying heat treatment during molding is a cause, and a condensation reaction of the polymer occurs during molding, and the generated alcohol may appear as bubbles or silver streaks in the molded article.

환화 축합 반응을 행하기 위해 상기 중합체를 가열 처리하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지의 방법을 이용할 수 있다. 예를 들어, 중합 공정을 행함으로써 얻어진, 중합체 및 용제를 포함하는 중합 반응 혼합물을, 그대로 가열 처리해도 된다. 또한, 중합체를 용제의 존재 하에서, 필요에 따라 폐환 촉매를 사용하여 가열 처리해도 된다. 또한, 휘발 성분을 제거하기 위한 진공 장치 또는 탈휘 장치를 구비한 가열로나 반응 장치를 사용하여 가열 처리해도 된다. 또한, 탈휘 장치 및 압출기 등을 사용하여 중합체의 가열 처리를 행할 수도 있다.The method of heat-treating the polymer for carrying out the cyclization condensation reaction is not particularly limited, and a known method can be used. For example, you may heat-process the polymerization reaction mixture containing a polymer and a solvent obtained by performing a polymerization process as it is. Moreover, you may heat-process a polymer using a ring closure catalyst as needed in presence of a solvent. Furthermore, you may heat-process using the heating furnace or reaction apparatus provided with the vacuum apparatus or devolatilization apparatus for removing volatile components. Alternatively, heat treatment of the polymer may be performed using a devolatilizing device, an extruder, or the like.

환화 축합 반응을 행할 때에, 상기 중합체에 더하여, 다른 아크릴계 수지를 공존시켜도 된다. 또한, 환화 축합 반응을 행할 때에는, 필요에 따라, 환화 축합 반응의 촉매로서 일반적으로 사용되고 있는, (i) 유기 인 화합물, (ii) p-톨루엔술폰산 등의 에스테르화 촉매 또는 (iii) 에스테르 교환 촉매를 사용해도 된다. 혹은, 아세트산, 프로피온산, 벤조산, 아크릴산, 메타크릴산 등의 유기 카르복실산류를 촉매로서 사용해도 된다. 나아가, 일본 특허 공개 소61-254608호 공보나 일본 특허 공개 소61-261303호 공보에 기재되어 있는, 염기성 화합물, 유기 카르복실산염, 탄산염 등을 촉매로서 사용해도 된다.When performing a cyclization condensation reaction, in addition to the said polymer, you may make another acrylic resin coexist. In addition, when performing a cyclization condensation reaction, if necessary, generally used as a catalyst for a cyclization condensation reaction, (i) an organic phosphorus compound, (ii) an esterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid, or (iii) a transesterification catalyst You can also use Alternatively, organic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, benzoic acid, acrylic acid, and methacrylic acid may be used as a catalyst. Furthermore, you may use a basic compound, organic carboxylate, carbonate, etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 61-254608 or Unexamined-Japanese-Patent No. 61-261303 as a catalyst.

탈알코올 반응인 환화 축합 반응의 촉매로서는, 유기 인 화합물이 보다 바람직하다. 촉매로서 유기 인 화합물을 사용함으로써, 환화 축합 반응의 반응률을 향상시킬 수 있음과 함께, 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 착색을 대폭으로 저감시킬 수 있다. 또한, 유기 인 화합물을 촉매로서 사용함으로써, 락톤환화 축합 공정과 후술하는 탈휘 공정을 병용하는 경우에 있어서 일어날 수 있는, 중합체의 분자량의 저하를 억제할 수 있고, 또한 당해 중합체에 우수한 기계적 강도를 부여할 수 있다.As a catalyst for the cyclization condensation reaction, which is a dealcoholization reaction, an organic phosphorus compound is more preferable. While being able to improve the reaction rate of a cyclization condensation reaction by using an organic phosphorus compound as a catalyst, coloring of the lactone ring structure containing polymer obtained can be reduced significantly. In addition, by using an organophosphorus compound as a catalyst, it is possible to suppress a decrease in the molecular weight of the polymer, which may occur when the lactone cyclization condensation step and the devolatilization step described later are used together, and to impart excellent mechanical strength to the polymer. can do.

환화 축합 반응 시에 촉매로서 사용할 수 있는 유기 인 화합물로서는, 예를 들어 메틸아술폰산, 에틸아술폰산, 페닐아술폰산 등의 알킬(아릴)아술폰산(단, 이들은 호변이성체인 알킬(아릴)포스핀산이 되어 있어도 됨) 및 이들의 모노에스테르 또는 디에스테르; 디메틸포스핀산, 디에틸포스핀산, 디페닐포스핀산, 페닐메틸포스핀산, 페닐에틸포스핀산 등의 디알킬(아릴)포스핀산 및 이들의 에스테르; 메틸포스폰산, 에틸포스폰산, 트리플루오로메틸포스폰산, 페닐포스폰산 등의 알킬(아릴)포스폰산 및 이들의 모노에스테르 또는 디에스테르; 메틸아포스핀산, 에틸아포스핀산, 페닐아포스핀산 등의 알킬(아릴)아포스핀산 및 이들의 에스테르; 아인산메틸, 아인산에틸, 아인산페닐, 아인산디메틸, 아인산디에틸, 아인산디페닐, 아인산트리메틸, 아인산트리에틸, 아인산트리페닐 등의 아인산모노에스테르, 디에스테르 또는 트리에스테르; 인산메틸, 인산에틸, 인산2-에틸헥실, 인산옥틸, 인산이소데실, 인산라우릴, 인산스테아릴, 인산이소스테아릴, 인산페닐, 인산디메틸, 인산디에틸, 인산디-2-에틸헥실, 인산디이소데실, 인산디라우릴, 인산디스테아릴, 인산디이소스테아릴, 인산디페닐, 인산트리메틸, 인산트리에틸, 인산트리이소데실, 인산트리라우릴, 인산트리스테아릴, 인산트리이소스테아릴, 인산트리페닐 등의 인산모노에스테르, 디에스테르 또는 트리에스테르; 메틸포스핀, 에틸포스핀, 페닐포스핀, 디메틸포스핀, 디에틸포스핀, 디페닐포스핀, 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리페닐포스핀 등의 모노-, 디- 또는 트리-알킬(아릴)포스핀; 메틸디클로로포스핀, 에틸디클로로포스핀, 페닐디클로로포스핀, 디메틸클로로포스핀, 디에틸클로로포스핀, 디페닐클로로포스핀 등의 알킬(아릴)할로겐포스핀; 산화메틸포스핀, 산화에틸포스핀, 산화페닐포스핀, 산화디메틸포스핀, 산화디에틸포스핀, 산화디페닐포스핀, 산화트리메틸포스핀, 산화트리에틸포스핀, 산화트리페닐포스핀 등의 산화모노-, 디- 또는 트리-알킬(아릴)포스핀; 염화테트라메틸포스포늄, 염화테트라에틸포스포늄, 염화테트라페닐포스포늄 등의 할로겐화테트라알킬(아릴)포스포늄; 등을 들 수 있다.Examples of organic phosphorus compounds that can be used as catalysts in the cyclization condensation reaction include alkyl (aryl) asulfonic acids such as methyl asulfonic acid, ethyl asulfonic acid, and phenyl asulfonic acid (however, these are tautomers, such as alkyl (aryl) phosphines) acids) and their monoesters or diesters; dialkyl(aryl)phosphinic acids and their esters, such as dimethylphosphinic acid, diethylphosphinic acid, diphenylphosphinic acid, phenylmethylphosphinic acid and phenylethylphosphinic acid; alkyl(aryl)phosphonic acids such as methylphosphonic acid, ethylphosphonic acid, trifluoromethylphosphonic acid, and phenylphosphonic acid, and monoesters or diesters thereof; alkyl (aryl) aphosphinic acids such as methylaphosphinic acid, ethylaphosphinic acid, and phenylaphosphinic acid and their esters; phosphorous acid monoesters, diesters or triesters such as methyl phosphite, ethyl phosphite, phenyl phosphite, dimethyl phosphite, diethyl phosphite, diphenyl phosphite, trimethyl phosphite, triethyl phosphite, triphenyl phosphite; methyl phosphate, ethyl phosphate, 2-ethylhexyl phosphate, octyl phosphate, isodecyl phosphate, lauryl phosphate, stearyl phosphate, isostearyl phosphate, phenyl phosphate, dimethyl phosphate, diethyl phosphate, di-2-ethylhexyl phosphate, Diisodecyl phosphate, dilauryl phosphate, distearyl phosphate, diisostearyl phosphate, diphenyl phosphate, trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triisodecyl phosphate, trilauryl phosphate, tristearyl phosphate, triisoste phosphate phosphoric acid monoesters, diesters, or triesters such as aryl and triphenyl phosphate; Mono-, di- or tri-alkyl such as methylphosphine, ethylphosphine, phenylphosphine, dimethylphosphine, diethylphosphine, diphenylphosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, triphenylphosphine, etc. (aryl)phosphine; alkyl (aryl) halogen phosphines such as methyldichlorophosphine, ethyldichlorophosphine, phenyldichlorophosphine, dimethylchlorophosphine, diethylchlorophosphine and diphenylchlorophosphine; Methylphosphine oxide, ethylphosphine oxide, phenylphosphine oxide, dimethylphosphine oxide, diethylphosphine oxide, diphenylphosphine oxide, trimethylphosphine oxide, triethylphosphine oxide, triphenylphosphine oxide, etc. mono-, di- or tri-alkyl(aryl)phosphine oxides; halogenated tetraalkyl(aryl)phosphoniums such as tetramethylphosphonium chloride, tetraethylphosphonium chloride, and tetraphenylphosphonium chloride; etc. can be mentioned.

이들 유기 인 화합물 중에서도, 촉매 활성이 높고, 또한 착색성이 낮기 때문에, 알킬(아릴)아포스폰산, 아인산디에스테르 혹은 모노에스테르, 인산디에스테르 혹은 모노에스테르, 알킬(아릴)포스폰산이 바람직하고, 알킬(아릴)아포스폰산, 아인산디에스테르 혹은 모노에스테르, 인산디에스테르 혹은 모노에스테르가 보다 바람직하고, 알킬(아릴)아포스폰산, 인산디에스테르 혹은 모노에스테르가 특히 바람직하다. 이들 유기 인 화합물은 복수 종류가 병용되어도 된다.Among these organic phosphorus compounds, alkyl (aryl) phosphonic acid, phosphorous acid diester or monoester, phosphoric acid diester or monoester, and alkyl (aryl) phosphonic acid are preferred because of their high catalytic activity and low colorability. (Aryl) phosphonic acid, phosphorous acid diester or monoester, phosphoric acid diester or monoester is more preferable, and alkyl (aryl) phosphoric acid, phosphoric acid diester or monoester is particularly preferable. As for these organic phosphorus compounds, multiple types may be used together.

환화 축합 반응 시에 사용하는 촉매의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기 중합체에 대하여, 바람직하게는 0.001 내지 5질량%의 범위 내, 보다 바람직하게는 0.01 내지 2.5질량%의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 1질량%의 범위 내, 특히 바람직하게는 0.05 내지 0.5질량%의 범위 내이다. 촉매의 사용량이 0.001질량% 미만이면, 환화 축합 반응의 반응률의 향상이 불충분해질 우려가 있다. 한편, 촉매의 사용량이 5질량%를 초과하면, 락톤환 구조 함유 중합체의 착색의 원인이 되거나, 중합체의 가교에 의해 용융 부형하기 어려워지거나 할 우려가 있다.The amount of the catalyst used in the cyclization condensation reaction is not particularly limited, but is preferably within the range of 0.001 to 5% by mass, more preferably within the range of 0.01 to 2.5% by mass, and still more preferably, based on the polymer. is within the range of 0.01 to 1% by mass, particularly preferably within the range of 0.05 to 0.5% by mass. If the usage-amount of the catalyst is less than 0.001% by mass, there is a possibility that the improvement in the reaction rate of the cyclization condensation reaction may become insufficient. On the other hand, if the amount of the catalyst used exceeds 5% by mass, there is a possibility that the polymer having a lactone ring structure may be colored or that melt shaping may be difficult due to crosslinking of the polymer.

촉매의 첨가 시기는 특별히 한정되는 것은 아니고, 환화 축합 반응의 반응 초기에 첨가해도 되고, 반응 도중에 첨가해도 되고, 그것들의 양쪽에서 첨가해도 된다.The timing of adding the catalyst is not particularly limited, and may be added at the initial stage of the cyclization condensation reaction, during the reaction, or at both of them.

락톤환 구조 함유 중합체의 제조 방법으로서는, 락톤환화 축합 공정을 용제의 존재 하에서 행하고, 또한 락톤환화 축합 공정 시에, 탈휘 공정을 병용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 제조 방법의 형태로서는, (i) 락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 탈휘 공정을 병용하는 형태 및 (ii) 락톤환화 축합 공정의 일부에 있어서만 탈휘 공정을 병용하는 형태를 들 수 있다. 탈휘 공정을 병용하는 방법에서는, 환화 축합 반응에서 부생하는 알코올을 강제적으로 탈휘시켜 제거하므로, 반응의 평형이 생성측에 유리해진다.As a method for producing the lactone ring structure-containing polymer, it is preferable to perform the lactone ring condensation step in the presence of a solvent, and also to use a devolatilization step together during the lactone ring condensation step. Examples of such a manufacturing method include (i) a form in which a devolatilization step is used in combination throughout the entire lactone cyclization condensation step, and (ii) a form in which a devolatilization step is used in combination only in a part of the lactone cyclization condensation step. In the method using the devolatilization step together, since the alcohol by-produced in the cyclization condensation reaction is forcibly devolatilized and removed, the equilibrium of the reaction becomes advantageous to the production side.

락톤환화 축합 공정의 일부에 있어서만 탈휘 공정을 병용하는 형태란, 예를 들어 중합체의 제조 후, 당해 중합체를 제조한 장치를 더 가열하여 환화 축합 반응을 미리 어느 정도 진행시켜 두고, 그 후에 계속해서 탈휘 공정을 병용한 환화 축합 반응을 행하여, 당해 반응을 완결시키는 형태이다. 여기서, 중합체를 제조한 장치를 더 가열하여 환화 축합 반응을 미리 어느 정도 진행시키는 단계에 있어서도, 필요에 따라 탈휘 공정을 일부 병용해도 된다. 락톤환화 축합 공정과 탈휘 공정을 병용하는 형태이며, 탈기 공정이 락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 병용되어 있지 않은 형태는 모두, 본 형태로 분류된다.The form in which the devolatilization process is used together only in a part of the lactone cyclization condensation process is, for example, after production of a polymer, further heating the apparatus that produced the polymer to advance the cyclization condensation reaction to some extent in advance, and then continuing It is the form which completes the said reaction by performing the cyclization condensation reaction which used the devolatilization process together. Here, also in the step of further heating the apparatus which produced the polymer and advancing the cyclization condensation reaction to some extent in advance, you may use a devolatilization process partly together as needed. It is the form which uses the lactone cyclization condensation process and the devolatilization process together, and all the forms in which the degassing process is not used together through the whole lactone cyclization condensation process are classified into this form.

여기서, 상기 탈휘 공정이란, 용제, 잔존 단량체 등의 휘발분 및 락톤환 구조를 유도하는 환화 축합 반응에 의해 부생한 알코올을 제거 처리하는 공정을 말한다. 탈휘 공정은 필요에 따라 감압 가열 조건 하에서 행해도 된다. 이 제거 처리가 불충분하면, 생성한 락톤환 구조 함유 중합체 중의 잔존 휘발분이 많아지고, 성형 시의 변질 등에 의해 락톤환 구조 함유 중합체가 착색되거나, 기포나 실버 스트리크 등의 성형 불량이 일어나거나 하는 등의 문제가 발생한다.Here, the said devolatilization process refers to the process of removing volatile components, such as a solvent and a residual monomer, and alcohol by-produced by the cyclization condensation reaction which induces a lactone ring structure. You may perform a devolatilization process under reduced-pressure heating conditions as needed. If this removal treatment is insufficient, residual volatile matter in the resulting lactone ring structure-containing polymer increases, and the lactone ring structure-containing polymer is colored due to deterioration during molding, or molding defects such as bubbles and silver streaks occur. problem arises.

락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 탈휘 공정을 병용하는 형태에 있어서, 사용하는 장치는 특별히 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 제조 방법을 더 효과적으로 실시하기 위해, (i) 열교환기와 탈휘조를 포함하는 탈휘 장치, (ii) 벤트를 갖는 압출기, 또는 (iii) 탈휘 장치와 벤트를 갖는 압출기를 직렬로 배치한 장치를 사용하는 것이 바람직하고, (i) 열교환기와 탈휘조를 포합하는 탈휘 장치 또는 (ii) 벤트를 갖는 압출기를 사용하는 것이 보다 바람직하다.In the aspect of concurrently using the devolatilization step through the entire lactone ring condensation step, the device to be used is not particularly limited. In order to more effectively carry out the production method of the present invention, (i) a devolatilization device including a heat exchanger and a devolatilization tank, (ii) an extruder with a vent, or (iii) a device in which a devolatilizer and an extruder with a vent are arranged in series. It is preferable to use, and it is more preferable to use (i) a devolatilization device that combines a heat exchanger and a devolatilization tank or (ii) an extruder with a vent.

열교환기와 탈휘조를 포함하는 상기 탈휘 장치를 사용하는 경우, 환화 축합 반응 시의 온도는 150 내지 350℃의 범위 내가 바람직하고, 200 내지 300℃의 범위 내가 보다 바람직하다. 상기 온도가 150℃보다도 낮으면, 환화 축합 반응이 불충분해져 잔존 휘발분이 많아질 우려가 있다. 상기 온도가 350℃보다도 높으면, 락톤환 구조 함유 중합체의 착색이나 분해가 일어날 우려가 있다.When using the devolatilization apparatus including a heat exchanger and a devolatilization tank, the temperature during the cyclization condensation reaction is preferably in the range of 150 to 350°C, more preferably in the range of 200 to 300°C. When the said temperature is lower than 150 degreeC, there exists a possibility that a cyclization condensation reaction may become insufficient and the residual volatile matter may increase. If the temperature is higher than 350°C, there is a possibility that the lactone ring structure-containing polymer may be colored or decomposed.

열교환기와 탈휘조를 포함하는 상기 탈휘 장치를 사용하는 경우, 환화 축합 반응 시의 압력은 931 내지 1.33h㎩(700 내지 1㎜Hg)의 범위 내가 바람직하고, 798 내지 66.5h㎩(600 내지 50㎜Hg)의 범위 내가 보다 바람직하다. 상기 압력이 931h㎩보다도 높으면, 알코올을 포함한 휘발분이 락톤환 구조 함유 중합체에 잔존하기 쉬워질 우려가 있다. 상기 압력이 1.33h㎩보다도 낮으면, 공업적인 실시가 곤란해질 우려가 있다.When using the devolatilization apparatus including a heat exchanger and a devolatilization tank, the pressure during the cyclization condensation reaction is preferably in the range of 931 to 1.33 hPa (700 to 1 mmHg), and 798 to 66.5 hPa (600 to 50 mm Hg) within the range is more preferable. If the pressure is higher than 931 hPa, there is a risk that volatile components including alcohol tend to remain in the lactone ring structure-containing polymer. If the pressure is lower than 1.33hPa, there is a possibility that industrial implementation may become difficult.

상기 벤트를 갖는 압출기를 사용하는 경우에는, 벤트는 1개여도 되고 복수개여도 되지만, 복수개인 쪽이 보다 바람직하다.In the case of using the extruder having the above vent, one or more vents may be used, but a plurality of vents is more preferable.

상기 벤트를 갖는 압출기를 사용하는 경우, 환화 축합 반응 시의 온도는 150 내지 350℃의 범위 내가 바람직하고, 200 내지 300℃의 범위 내가 보다 바람직하다. 상기 온도가 150℃보다도 낮으면, 환화 축합 반응이 불충분해져 잔존 휘발분이 많아질 우려가 있다. 상기 온도가 350℃보다도 높으면, 락톤환 구조 함유 중합체의 착색이나 분해가 일어날 우려가 있다.When using the extruder with the said vent, the inside of the range of 150-350 degreeC is preferable, and, as for the temperature at the time of a cyclization condensation reaction, the inside of the range of 200-300 degreeC is more preferable. When the said temperature is lower than 150 degreeC, there exists a possibility that a cyclization condensation reaction may become insufficient and the residual volatile matter may increase. If the temperature is higher than 350°C, there is a possibility that the lactone ring structure-containing polymer may be colored or decomposed.

상기 벤트를 갖는 압출기를 사용하는 경우, 환화 축합 반응 시의 압력은 931 내지 1.33h㎩(700 내지 1㎜Hg)의 범위 내가 바람직하고, 798 내지 13.3h㎩(600 내지 10㎜Hg)의 범위 내가 보다 바람직하다. 상기 압력이 931h㎩보다도 높으면, 알코올을 포함한 휘발분이 락톤환 구조 함유 중합체에 잔존하기 쉬워질 우려가 있다. 상기 압력이 1.33h㎩보다도 낮으면, 공업적인 실시가 곤란해질 우려가 있다.When using the extruder with the above vent, the pressure during the cyclization condensation reaction is preferably within the range of 931 to 1.33 hPa (700 to 1 mmHg), and within the range of 798 to 13.3 hPa (600 to 10 mmHg). more preferable If the pressure is higher than 931 hPa, there is a risk that volatile components including alcohol tend to remain in the lactone ring structure-containing polymer. If the pressure is lower than 1.33hPa, there is a possibility that industrial implementation may become difficult.

또한, 락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 탈휘 공정을 병용하는 형태에서는, 후술하는 바와 같이, 엄격한 조건의 가열 처리에 있어서 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 물성이 저하될 우려가 있다. 그 때문에, 바람직하게는 전술한 환화 축합 반응의 촉매를 사용하고, 가능한 한 온화한 조건에서, 벤트를 갖는 압출기 등을 사용하여 탈휘 공정을 행한다. 여기서, 「엄격한 조건의 가열 처리」란, 예를 들어 300℃ 이상의 고온 조건에서 행하는 가열 처리를 가리킨다. 한편, 「온화한 조건의 가열 처리」란, 예를 들어 250 내지 300℃의 온도 조건에서 행하는 가열 처리를 가리킨다.Further, in the case of concurrently using the devolatilization step throughout the entire lactone ring condensation step, as will be described later, there is a risk that the physical properties of the lactone ring structure-containing polymer obtained in the heat treatment under severe conditions may deteriorate. Therefore, the devolatilization step is preferably performed using the catalyst for the cyclization condensation reaction described above and under as mild conditions as possible using an extruder with a vent or the like. Here, "heat treatment under severe conditions" refers to heat treatment performed under high-temperature conditions of, for example, 300°C or higher. On the other hand, "heat treatment under mild conditions" refers to heat treatment performed under temperature conditions of, for example, 250 to 300°C.

또한, 락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 탈휘 공정을 병용하는 형태에 있어서는, 바람직하게는 중합 공정에서 얻어진 중합체를, 용제와 함께 반응 장치에 도입한다. 이 경우에는, 필요에 따라, 상기 반응 장치로부터 취출한 중합체를, 탈휘 장치 또는 벤트를 갖는 압출기에 한번 더 통과시켜도 된다.Moreover, in the aspect which uses the devolatilization process together through the whole lactone cyclization condensation process, Preferably, the polymer obtained in the polymerization process is introduce|transduced into the reaction apparatus together with a solvent. In this case, if necessary, the polymer taken out from the reaction apparatus may be once again passed through a devolatilizing apparatus or an extruder having a vent.

락톤환화 축합 공정의 전체를 통해 탈휘 공정을 병용하는 형태(예를 들어, 2축 압출기를 사용하여, 250℃ 가깝거나 혹은 그 이상의 고온에서 중합체를 가열 처리하는 형태)에서는, 열 이력의 차이에 의해 환화 축합 반응이 일어나기 전에 중합체의 일부가 분해되는 등의 현상이 발생하는 경우가 있다. 이와 같은 현상이 발생하면, 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 물성이 나빠질 우려가 있다.In the form of concurrently using the devolatilization step throughout the lactone cyclization condensation step (for example, in the form of heat-treating the polymer at a high temperature close to 250 ° C. or higher using a twin screw extruder), due to differences in thermal history A phenomenon such as decomposition of a part of the polymer may occur before the cyclization condensation reaction occurs. When such a phenomenon occurs, there is a possibility that the physical properties of the lactone ring structure-containing polymer obtained may be deteriorated.

그 때문에, 락톤환 축합 공정은 락톤환화 축합 공정의 일부에 있어서만 탈휘 공정을 병용하는 형태로 하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행하기 전에, 환화 축합 반응을 미리 어느 정도 진행시켜 두면, 후반의 반응 조건을 완화할 수 있고, 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 물성의 저하를 억제할 수 있으므로 바람직하다.Therefore, it is preferable to make the lactone ring condensation step into a form in which a devolatilization step is used together only in a part of the lactone ring condensation step. For example, if the cyclization condensation reaction is carried out to some extent before performing the lactone cyclization condensation step in combination with the devolatilization step, the reaction conditions in the latter half can be relaxed and the physical properties of the resulting lactone ring structure-containing polymer can be reduced. It is preferable because it can be suppressed.

특히 바람직한 형태로서는, 탈휘 공정을 락톤환화 축합 공정의 개시로부터 시간을 두고 개시하는 형태를 들 수 있다. 구체적으로는, (i) 중합 공정에서 얻어진 중합체의 분자쇄 중에 존재하는 수산기와 에스테르기를, 미리 환화 축합 반응시켜 환화 축합 반응의 반응률을 어느 정도 높여 두고, 계속해서, (ii) 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행하는 형태이다. 보다 구체적으로는, 예를 들어 (i) 북집형 반응기를 사용하여 용제의 존재 하에서 환화 축합 반응을 어느 정도의 반응률까지 미리 진행시켜 두고, 그 후, (ii) 탈휘 장치를 구비한 반응기(예를 들어, 열교환기와 탈휘조를 포함하는 탈휘 장치나, 벤트를 갖는 압출기 등)에서, 환화 축합 반응을 완결시키는 형태이다. 이 형태에 있어서는, 반응계에 환화 축합 반응의 촉매가 존재하고 있는 것이 특히 바람직하다.As an especially preferable form, the form which starts a devolatilization process over time from the start of a lactone ring condensation process is mentioned. Specifically, (i) the hydroxyl group and the ester group present in the molecular chain of the polymer obtained in the polymerization step are subjected to a cyclization condensation reaction in advance to increase the reaction rate of the cyclization condensation reaction to some extent, and then (ii) a devolatilization step is used in combination. It is the form which performs a lactone ring condensation process. More specifically, for example, (i) the cyclization condensation reaction is advanced to a certain reaction rate in advance in the presence of a solvent using a bookcase reactor, and then (ii) a reactor equipped with a devolatilization device (eg For example, in a devolatilization apparatus including a heat exchanger and a devolatilization tank, an extruder having a vent, etc.), the cyclization condensation reaction is completed. In this aspect, it is particularly preferable that the catalyst for the cyclization condensation reaction is present in the reaction system.

전술한 바와 같이, (i) 중합 공정에서 얻어진 중합체의 분자쇄 중에 존재하는 수산기와 에스테르기를, 미리 환화 축합 반응시켜 환화 축합 반응의 반응률을 어느 정도 높여 두고, 계속해서, (ii) 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행하는 방법은 락톤환 구조 함유 중합체를 얻는 데 바람직한 형태이다. 이 형태에 의해, 환화 축합 반응의 반응률이 보다 높아진다. 또한, 유리 전이 온도가 보다 높고, 내열성이 우수한 락톤환 구조 함유 중합체가 얻어진다. 이 형태에 있어서, 환화 축합 반응의 반응률의 목표로서는, 실시예에 나타내는 다이나믹 TG 측정에 있어서의, 150 내지 300℃ 사이에서의 질량 감소율이 2% 이하인 것이 바람직하고, 1.5% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1% 이하인 것이 더욱 바람직하다.As described above, (i) the hydroxyl groups and ester groups present in the molecular chain of the polymer obtained in the polymerization step are subjected to a cyclization condensation reaction in advance to increase the reaction rate of the cyclization condensation reaction to some extent, and then (ii) devolatilization step is used in combination. A method of performing a lactone ring condensation step is a preferable mode for obtaining a lactone ring structure-containing polymer. With this form, the reaction rate of a cyclization condensation reaction becomes higher. In addition, a lactone ring structure-containing polymer having a higher glass transition temperature and excellent heat resistance is obtained. In this embodiment, as a target for the reaction rate of the cyclization condensation reaction, the mass loss rate between 150 and 300 ° C. in the dynamic TG measurement shown in the examples is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less, It is more preferable that it is 1 % or less.

탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행하기 전의, 미리 행하는 환화 축합 반응에 있어서 채용할 수 있는 반응기는 특별히 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 오토클레이브, 북집형 반응기, 열교환기와 탈휘조를 포함하는 탈휘 장치, 벤트를 갖는 압출기 등을 들 수 있다(이 중, 벤트를 갖는 압출기는 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정에도 적합하게 사용할 수 있음). 보다 바람직하게는 오토클레이브, 북집형 반응기이다. 그러나, 벤트를 갖는 압출기 등의 반응기를 사용할 때라도, (i) 벤트 조건을 온화하게 하고(예를 들어, 931h㎩(700㎜Hg) 이상으로 함), (ii) 벤트를 행하지 않고, (iii) 온도 조건이나 배럴 조건, 스크류 형상, 스크류 운전 조건 등을 조정하는 등의 대처에 의해, 오토클레이브나 북집형 반응기에서의 반응 상태와 동일한 상태로 환화 축합 반응을 행하는 것이 가능하다.In the cyclization condensation reaction previously performed before performing the lactone cyclization condensation step using the devolatilization step together, the reactor which can be employed is not particularly limited. Preferably, an autoclave, a bobbin reactor, a devolatilization device including a heat exchanger and a devolatilization tank, an extruder with a vent, and the like are exemplified (among them, an extruder with a vent is also suitable for a lactone ring condensation step using a devolatilization step together). can be used appropriately). More preferably, it is an autoclave and a bobbin type reactor. However, even when using a reactor such as an extruder having a vent, (i) the vent conditions are made mild (for example, 931 hPa (700 mmHg) or more), (ii) no vent is performed, (iii) It is possible to carry out the cyclization condensation reaction in the same reaction state as in an autoclave or a bobbin-type reactor by measures such as adjusting temperature conditions, barrel conditions, screw shape, screw operating conditions, and the like.

상기 미리 행하는 환화 축합 반응으로서는, 바람직하게는 중합 공정에서 얻어진 중합체와 용제를 포함하는 혼합물을, (i) 촉매를 첨가하여 가열 반응시키는 방법, (ii) 무촉매로 가열 반응시키는 방법 및 (iii) 상기 (i) 또는 (ii)를 가압 하에서 행하는 방법을 채용할 수 있다.As the cyclization condensation reaction to be carried out in advance, preferably, a mixture containing a polymer obtained in the polymerization step and a solvent is subjected to a heating reaction by adding (i) a catalyst, (ii) a method to perform a heating reaction without a catalyst, and (iii) A method of performing the above (i) or (ii) under pressure can be employed.

또한, 락톤환화 축합 공정에 있어서 환화 축합 반응에 도입하는 「중합체와 용제를 포함하는 혼합물」은 중합 공정에서 얻어진 중합 반응 혼합물을 그대로 사용해도 되고, 당해 중합 반응 혼합물로부터 용제를 일단 제거한 후에 환화 축합 반응에 적합한 별도의 용제를 첨가하여 이루어지는 혼합물을 사용해도 된다. 즉, 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정 전에 미리 행하는 환화 축합 반응에 있어서 사용하는 용제는 중합 공정에서 사용한 용제여도 되고, 별도의 용제여도 된다.In the lactone cyclization condensation step, the polymerization reaction mixture obtained in the polymerization step may be used as the "mixture containing the polymer and the solvent" introduced into the cyclization condensation reaction, or the solvent is once removed from the polymerization reaction mixture, and then the cyclization condensation reaction You may use a mixture formed by adding another suitable solvent. That is, the solvent used in the cyclization condensation reaction performed in advance before the lactone cyclization condensation step using the devolatilization step together may be the solvent used in the polymerization step, or may be another solvent.

미리 행하는 환화 축합 반응에 있어서 사용하는, 상기 별도의 용제로서는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠 등의 방향족 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 클로로포름, DMSO, 테트라히드로푸란; 등을 들 수 있다. 그러나, 중합 공정에서 사용한 용제와 동일한 종류의 용제를 사용하는 것이 보다 바람직하다.The other solvent used in the previously performed cyclization condensation reaction is not particularly limited, and examples thereof include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene; ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; chloroform, DMSO, tetrahydrofuran; etc. can be mentioned. However, it is more preferable to use the same kind of solvent as the solvent used in the polymerization step.

상기 방법 (i)에서 첨가하는 촉매로서는, 환화 축합 반응의 촉매로서 일반적으로 사용되고 있는 p-톨루엔술폰산 등의 에스테르화 촉매 또는 에스테르 교환 촉매, 염기성 화합물, 유기 카르복실산염, 탄산염 등을 사용해도 된다. 그러나, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서는, 전술한 유기 인 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.As the catalyst added in the method (i), an esterification catalyst such as p-toluenesulfonic acid or a transesterification catalyst, a basic compound, an organic carboxylate, a carbonate, or the like generally used as a catalyst for a cyclization condensation reaction may be used. However, in one embodiment of the present invention, it is preferable to use the organic phosphorus compound described above.

촉매의 첨가 시기는 특별히 한정되는 것은 아니고, 환화 축합 반응의 반응 초기에 첨가해도 되고, 반응 도중에 첨가해도 되고, 그것들의 양쪽에서 첨가해도 된다. 첨가하는 촉매의 양은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 중합체의 질량에 대하여, 바람직하게는 0.001 내지 5질량%의 범위 내, 보다 바람직하게는 0.01 내지 2.5질량%의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.1질량%의 범위 내, 특히 바람직하게는 0.05 내지 0.5질량%의 범위 내이다.The timing of adding the catalyst is not particularly limited, and may be added at the initial stage of the cyclization condensation reaction, during the reaction, or at both of them. The amount of the catalyst added is not particularly limited, but is preferably within the range of 0.001 to 5% by mass, more preferably within the range of 0.01 to 2.5% by mass, still more preferably 0.01 to 0.1% by mass, based on the mass of the polymer. Within the range of %, It is within the range of 0.05-0.5 mass % especially preferably.

방법 (i)의 가열 온도 및 가열 시간은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 가열 온도로서는, 바람직하게는 실온 이상, 보다 바람직하게는 50℃ 이상이고, 가열 시간으로서는, 바람직하게는 1 내지 20시간의 범위 내, 보다 바람직하게는 2 내지 10시간의 범위 내이다. 가열 온도가 낮으면, 혹은 가열 시간이 짧으면, 환화 축합 반응의 반응률이 저하될 우려가 있다. 또한, 가열 온도가 높으면, 혹은 가열 시간이 길면, 락톤환 구조 함유 중합체의 착색이나 분해가 일어날 우려가 있다.The heating temperature and heating time of method (i) are not particularly limited, but the heating temperature is preferably room temperature or higher, more preferably 50°C or higher, and the heating time is preferably within the range of 1 to 20 hours. , more preferably within the range of 2 to 10 hours. When the heating temperature is low or the heating time is short, the reaction rate of the cyclization condensation reaction may decrease. In addition, when the heating temperature is high or the heating time is long, there is a possibility that the lactone ring structure-containing polymer may be colored or decomposed.

상기 방법 (ii)로서는, 예를 들어 내압성의 북집형 반응기 등을 사용하여, 중합 공정에서 얻어진 중합 반응 혼합물을 그대로 가열하는 방법 등을 들 수 있다. 가열 온도로서는, 바람직하게는 100℃ 이상, 보다 바람직하게는 150℃ 이상이다. 가열 시간으로서는, 바람직하게는 1 내지 20시간의 범위 내, 보다 바람직하게는 2 내지 10시간의 범위 내이다. 가열 온도가 낮으면, 혹은 가열 시간이 짧으면, 환화 축합 반응의 반응률이 저하될 우려가 있다. 또한, 가열 온도가 높으면, 혹은 가열 시간이 길면, 락톤환 구조 함유 중합체의 착색이나 분해가 일어날 우려가 있다.As said method (ii), the method etc. which heat the polymerization reaction mixture obtained in the polymerization process as it is are mentioned, for example using a pressure-resistant bookcase type reactor etc. The heating temperature is preferably 100°C or higher, more preferably 150°C or higher. The heating time is preferably in the range of 1 to 20 hours, more preferably in the range of 2 to 10 hours. When the heating temperature is low or the heating time is short, the reaction rate of the cyclization condensation reaction may decrease. In addition, when the heating temperature is high or the heating time is long, there is a possibility that the lactone ring structure-containing polymer may be colored or decomposed.

상기 방법 (i), (ii) 모두에, 조건에 따라서는 가압 하에서 행해도 전혀 문제는 없다(상기 방법 (iii)). 또한, 상기 미리 행하는 환화 축합 반응에 있어서, 용제의 일부가 반응 중에 자연스럽게 휘발해도 전혀 문제는 없다.In both methods (i) and (ii), there is no problem at all even if it is performed under pressure depending on conditions (method (iii)). In addition, in the cyclization condensation reaction previously performed, there is no problem at all even if a part of the solvent volatilizes naturally during the reaction.

상기 미리 행하는 환화 축합 반응의 종료 시, 즉, 탈휘 공정의 개시 직전에 있어서, 다이나믹 TG 측정에 있어서의, 150 내지 300℃ 사이에서의 질량 감소율은 2% 이하인 것이 바람직하고, 1.5% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 질량 감소율이 2%보다도 높으면, 계속해서 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행해도, 환화 축합 반응의 반응률이 충분히 높은 레벨까지 올라가지 않고, 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 물성이 저하될 우려가 있다.At the end of the cyclization condensation reaction performed in advance, that is, immediately before the start of the devolatilization step, the mass reduction rate between 150 and 300 ° C. in dynamic TG measurement is preferably 2% or less, more preferably 1.5% or less and more preferably 1% or less. If the mass reduction rate is higher than 2%, even if the lactone cyclization condensation step using the devolatilization step is subsequently performed, the reaction rate of the cyclization condensation reaction does not rise to a sufficiently high level, and the physical properties of the obtained lactone ring structure-containing polymer may deteriorate. .

또한, 락톤환화 축합 공정(탈휘 공정을 병용하는 공정도, 탈휘 공정을 병용하지 않는 공정도, 모두 포함함)에 있어서는, 중합체와 용제를 포함하는 혼합물에 다른 열가소성 수지를 공존시켜도 된다. 상기 다른 열가소성 수지로서는, 락톤환 구조 함유 중합체와 열역학적으로 상용하는 열가소성 수지가 바람직하다. 다른 열가소성 수지로서는, 예를 들어 시안화 비닐계 단량체 단위와 방향족 비닐계 단량체 단위를 포함하는 공중합체를 들 수 있다. 구체적으로는, 아크릴로니트릴-스티렌계 공중합체나 폴리염화비닐 수지, 혹은 메타크릴산에스테르류를 50질량% 이상 함유하는 중합체를 들 수 있다.Further, in the lactone ring condensation step (including both the step of using the devolatilization step together and the step of not using the devolatilization step together), another thermoplastic resin may be made to coexist with the mixture containing the polymer and the solvent. As the other thermoplastic resin, a thermoplastic resin that is thermodynamically compatible with the lactone ring structure-containing polymer is preferable. Examples of other thermoplastic resins include copolymers containing a vinyl cyanide-based monomer unit and an aromatic vinyl-based monomer unit. Specifically, an acrylonitrile-styrene-based copolymer, a polyvinyl chloride resin, or a polymer containing 50% by mass or more of methacrylic acid esters is exemplified.

이들 다른 열가소성 수지 중에서도, 아크릴로니트릴-스티렌계 공중합체가 가장 상용성이 우수하고, 내열성을 손상시키지 않고 투명한 성형체를 얻을 수 있으므로 보다 바람직하다. 또한, 락톤환 구조 함유 중합체와 다른 열가소성 수지가 열역학적으로 상용할지 여부는, 양자를 혼합하여 얻어진 열가소성 수지 조성물의 유리 전이점을 측정함으로써 확인할 수 있다. 구체적으로는, 시차 주사 열량 측정기에 의해 측정되는 상기 열가소성 수지 조성물의 유리 전이점이 1점만 관측되는 경우에는, 양자가 열역학적으로 상용하고 있다고 할 수 있다.Among these other thermoplastic resins, acrylonitrile-styrene-based copolymers are more preferable because they have the most compatibility and can obtain transparent molded articles without impairing heat resistance. In addition, whether or not the lactone ring structure-containing polymer and other thermoplastic resins are thermodynamically compatible can be confirmed by measuring the glass transition point of a thermoplastic resin composition obtained by mixing both. Specifically, when only one glass transition point of the thermoplastic resin composition measured by a differential scanning calorimeter is observed, it can be said that both are thermodynamically compatible.

다른 열가소성 수지로서 아크릴로니트릴-스티렌계 공중합체를 사용하는 경우에 있어서, 락톤환 구조 함유 중합체와 아크릴로니트릴-스티렌계 공중합체를 중합하는 방법으로서는, 유화 중합법이나 현탁 중합법, 용액 중합법, 벌크 중합법 등을 들 수 있다. 이들 중합법 중에서도, 얻어지는 광학용 필름의 투명성이나 광학 성능의 관점에서, 용액 중합법 및 벌크 중합법이 보다 바람직하다.In the case of using an acrylonitrile-styrene-based copolymer as another thermoplastic resin, as a method of polymerizing the lactone ring structure-containing polymer and the acrylonitrile-styrene-based copolymer, emulsion polymerization, suspension polymerization, or solution polymerization , bulk polymerization method, etc. are mentioned. Among these polymerization methods, the solution polymerization method and the bulk polymerization method are more preferable from the viewpoint of transparency and optical performance of the resulting optical film.

(i) 중합 공정에서 얻어진 중합체의 분자쇄 중에 존재하는 수산기와 에스테르기를 환화 축합 반응시켜, 환화 축합 반응의 반응률을 미리 어느 정도 높여 두고, 계속해서, (ii) 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 행하는 형태에서는, 미리 행하는 환화 축합 반응에서 얻어진 중합체(분자쇄 중에 존재하는 수산기 및 에스테르기의 일부가 환화 축합 반응한 중합체)와 용제를 분리하지 않고, 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 개시해도 된다. 또한, 필요에 따라, 그 밖의 처리(미리 행하는 환화 축합 반응에서 얻어진 중합체(분자쇄 중에 존재하는 수산기 및 에스테르기의 일부가 환화 축합 반응한 중합체)와 용제를 분리한 후에, 별도의 용제를 첨가하는 등)를 거치고 나서, 탈휘 공정을 병용한 락톤환화 축합 공정을 개시해도 상관없다.(i) Lactone cyclization condensation step in which hydroxyl groups and ester groups present in the molecular chain of the polymer obtained in the polymerization step are subjected to a cyclization condensation reaction to increase the reaction rate of the cyclization condensation reaction to some extent, and then (ii) a devolatilization step is used in combination. In the form of carrying out the lactone cyclization condensation step using the devolatilization step together without separating the polymer (a polymer in which a part of the hydroxyl groups and ester groups present in the molecular chain have undergone a cyclization condensation reaction) and the solvent obtained in the previously performed cyclization condensation reaction, the lactone cyclization condensation step is initiated. You can do it. In addition, if necessary, other treatment (a polymer obtained in a previously performed cyclization condensation reaction (a polymer in which a part of the hydroxyl groups and ester groups present in the molecular chain have undergone a cyclization condensation reaction) and the solvent are separated, and then another solvent is added. etc.), you may start the lactone ring condensation process which used the devolatilization process together.

탈휘 공정은 락톤환화 축합 공정과 동시에 종료할 필요는 없고, 락톤환화 축합 공정의 종료로부터 시간을 두고 종료해도 상관없다. 즉, 탈휘 공정은 락톤환화 축합 공정보다 먼저 종료해도 되고, 나중에 종료해도 된다.The devolatilization step does not need to be completed simultaneously with the lactone cyclization condensation step, and may be terminated over time from the end of the lactone cyclization condensation step. That is, the devolatilization step may be completed earlier or later than the lactone ring condensation step.

전술한 바와 같이, 락톤환화 축합 공정에 있어서는, 중합체의 분자쇄 중에 존재하는 수산기와 에스테르기가 환화 축합 반응하고, 에스테르 교환의 1종인 탈알코올 반응을 일으킴으로써, 중합체의 분자쇄 중(중합체의 주골격 중)에 락톤환 구조가 형성된다.As described above, in the lactone cyclization condensation step, the hydroxyl group and the ester group present in the molecular chain of the polymer undergo a cyclization condensation reaction to cause a dealcoholization reaction, which is a type of transesterification, in the molecular chain of the polymer (the main skeleton of the polymer). In), a lactone ring structure is formed.

동일하게 전술한 바와 같이, 환화 축합 반응 시에는 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 그러나, 당해 촉매가 락톤환 구조 함유 중합체 중에 잔존하고 있으면, 락톤환 구조 함유 중합체가 가열되었을 때에, 미반응의 환 형성성 유닛(즉, 아직 환을 형성하고 있지 않은 유닛)의 수산기, 혹은 계 중에 소량 존재하는 물 등의 활성 수소와, 알킬에스테르기의 에스테르 교환이 촉진되는 경우가 있다. 그 결과, 알코올이 발생하고, 발포 현상이 일어나는 경우가 있다. 그 때문에, 이 발포 현상을 방지하기 위해, 락톤환 구조 함유 중합체에 실활제를 배합하는 것이 바람직하다.As described above, it is preferable to use a catalyst in the case of the cyclization condensation reaction. However, if the catalyst remains in the lactone ring structure-containing polymer, when the lactone ring structure-containing polymer is heated, the hydroxyl groups of unreacted ring-forming units (ie, units that have not yet formed rings) or in the system In some cases, transesterification of an active hydrogen such as water present in a small amount with an alkyl ester group is promoted. As a result, alcohol is generated and foaming may occur. Therefore, in order to prevent this foaming phenomenon, it is preferable to mix|blend a deactivator with the lactone ring structure containing polymer.

일반적으로, 에스테르 교환 등의 환화 축합 반응에 사용한 촉매가 산성 물질인 경우는, 반응 후에 잔존하는 촉매를 실활시키기 위해서는, 염기성 물질을 사용하여 중화하면 된다. 그 때문에, 환화 축합 반응에 사용한 촉매가 산성 물질인 경우는, 실활제로서 염기성 물질이 바람직하게 사용된다. 염기성 물질로서는, 열 가공 시에 수지 조성물의 물성을 저해하는 물질 등이 발생하지 않는 한, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 금속 카르복실산염 등의 금속염, 금속 착체, 금속 산화물 등의 금속 화합물을 들 수 있다.In general, when the catalyst used for cyclization condensation reactions such as transesterification is an acidic substance, in order to deactivate the catalyst remaining after the reaction, it may be neutralized using a basic substance. Therefore, when the catalyst used for the cyclization condensation reaction is an acidic substance, a basic substance is preferably used as a deactivator. The basic substance is not particularly limited as long as no substance or the like that impairs the physical properties of the resin composition is generated during thermal processing, and examples include metal compounds such as metal salts such as metal carboxylates, metal complexes, and metal oxides. can be heard

상기 금속 화합물을 구성하는 금속은 수지 조성물의 물성 등을 저해하지 않고, 폐기 시에 환경 오염을 초래하는 일이 없는 한, 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 리튬, 나트륨 및 칼륨 등의 알칼리 금속; 마그네슘, 칼슘, 스트론튬 및 바륨 등의 알칼리 토금속; 아연, 알루미늄, 주석, 납 등의 양성 물질; 지르코늄; 등을 들 수 있다. 이들 금속 중, 수지 조성물의 착색이 적은 점에서, 전형 금속 원소가 바람직하고, 알칼리 토금속이나 양성 금속이 특히 바람직하고, 칼슘, 마그네슘 및 아연이 가장 바람직하다.The metal constituting the metal compound is not particularly limited as long as it does not impair the physical properties of the resin composition and does not cause environmental pollution at the time of disposal. alkali metals such as, for example, lithium, sodium and potassium; alkaline earth metals such as magnesium, calcium, strontium and barium; benign substances such as zinc, aluminum, tin, and lead; zirconium; etc. can be mentioned. Among these metals, typical metal elements are preferable, alkaline earth metals and amphoteric metals are particularly preferable, and calcium, magnesium, and zinc are most preferable in terms of less coloring of the resin composition.

금속염은 수지 조성물에 대한 분산성이나 용제에 대한 용해성으로부터, 유기산의 금속염인 것이 바람직하고, 유기 카르복실산, 유기 인 화합물 및 산성 유기 황 화합물의 금속염인 것이 보다 바람직하다.The metal salt is preferably a metal salt of an organic acid, and more preferably a metal salt of an organic carboxylic acid, an organic phosphorus compound, or an acidic organic sulfur compound, from the viewpoint of dispersibility in a resin composition and solubility in a solvent.

유기 카르복실산의 금속염을 구성하는 유기 카르복실산은 특별히 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 트리데칸산, 펜타데칸산, 헵타데칸산, 락트산, 말산, 시트르산, 옥살산, 말론산, 숙신산, 푸마르산, 말레산, 아디프산 등을 들 수 있다.The organic carboxylic acid constituting the metal salt of the organic carboxylic acid is not particularly limited. For example, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, hexanoic acid, heptanoic acid, octanoic acid, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, tridecane acids, pentadecanoic acid, heptadecanoic acid, lactic acid, malic acid, citric acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, adipic acid and the like.

유기 인 화합물의 금속염을 구성하는 유기 인 화합물로서는, 예를 들어 전술한 유기 인 화합물을 들 수 있다.As an organophosphorus compound which comprises the metal salt of an organophosphorus compound, the organophosphorus compound mentioned above is mentioned, for example.

산성 유기 황 화합물의 금속염을 구성하는 산성 유기 황 화합물로서는, 예를 들어 p-톨루엔술폰산, 메탄 술폰산, 벤젠술폰산, 크실렌 술폰산, 도데실벤젠술폰산 등을 들 수 있다.Examples of the acidic organic sulfur compound constituting the metal salt of the acidic organic sulfur compound include p-toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, and dodecylbenzenesulfonic acid.

금속 착체에 있어서의 유기 성분으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 아세틸아세톤 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as an organic component in a metal complex, Acetylacetone etc. are mentioned.

금속 산화물로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 산화아연, 산화칼슘, 산화마그네슘 등을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a metal oxide, For example, zinc oxide, calcium oxide, magnesium oxide etc. are mentioned.

한편, 일반적으로, 에스테르 교환 등의 환화 축합 반응에 사용한 촉매가 염기성 물질인 경우에는, 반응 후에 잔존하는 촉매를 실활시키기 위해서는, 산성 물질을 사용하여 중화하면 된다. 그 때문에, 환화 축합 반응에 사용한 촉매가 염기성 물질인 경우는, 실활제로서 산성 물질이 바람직하게 사용된다. 산성 물질로서는, 열 가공 시에 수지 조성물의 물성을 저해하는 물질 등을 발생하지 않는 한, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 유기 인 화합물을 들 수 있다.On the other hand, in general, when the catalyst used for cyclization condensation reactions such as transesterification is a basic substance, in order to deactivate the catalyst remaining after the reaction, what is necessary is just to neutralize it using an acidic substance. Therefore, when the catalyst used for the cyclization condensation reaction is a basic substance, an acidic substance is preferably used as a deactivator. The acidic substance is not particularly limited as long as no substance or the like that impairs the physical properties of the resin composition is generated during thermal processing, and examples thereof include organic phosphorus compounds.

촉매가 산성 물질 및 염기성 물질의 어느 것이어도 되고, 실활제는 복수 종류가 병용되어도 된다. 또한, 실활제는 고형상, 분말상, 입상, 분산체, 현탁액, 수용액 등의 어느 형태로 락톤환 구조 함유 중합체에 첨가해도 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다.Any of an acidic substance and a basic substance may be sufficient as a catalyst, and multiple types may be used together as a deactivator. In addition, the deactivator may be added to the lactone ring structure-containing polymer in any form such as solid form, powder form, granular form, dispersion, suspension, aqueous solution, etc., and is not particularly limited.

실활제의 배합량은 환화 축합 반응에 사용한 촉매의 사용량에 따라 적절히 조절하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 실활제의 배합량은, 예를 들어 락톤환 구조 함유 중합체의 질량을 기준으로 하고, 바람직하게는 10ppm 이상 10,000ppm 이하, 보다 바람직하게는 50ppm 이상 5000ppm 이하, 더욱 바람직하게는 100ppm 이상 3000ppm 이하이다. 상기 배합량이 10ppm 미만이면, 실활제의 작용이 불충분해져 가열 시에 기포가 발생할 우려가 있다. 상기 배합량이 10,000ppm을 초과하면, 실활제의 작용이 포화됨과 함께, 필요 이상으로 실활제를 사용하게 되고, 제조 비용이 상승한다.What is necessary is just to adjust the compounding quantity of a quencher suitably according to the usage-amount of the catalyst used for the cyclization condensation reaction, and is not specifically limited. The compounding amount of the deactivator is, for example, based on the mass of the lactone ring structure-containing polymer, and is preferably 10 ppm or more and 10,000 ppm or less, more preferably 50 ppm or more and 5000 ppm or less, still more preferably 100 ppm or more and 3000 ppm or less. When the blending amount is less than 10 ppm, the action of the deactivator becomes insufficient, and bubbles may be generated during heating. When the said compounding quantity exceeds 10,000 ppm, while the effect|action of a quencher is saturated, a quencher will be used more than necessary, and manufacturing cost will rise.

상기 실활제는 락톤환 구조가 형성된 후라면, 어느 단계에서 락톤환 구조 함유 중합체에 첨가해도 된다. 예를 들어, 락톤환 구조 함유 중합체를 제조한 후, 락톤환 구조 함유 중합체, 실활제, 그 밖의 성분 등을 동시에 가열 용융시켜 혼련하는 방법; 락톤환 구조 함유 중합체 및 그 밖의 성분 등을 가열 용융시켜 두고, 거기에 실활제를 첨가하여 혼련하는 방법; 등을 들 수 있다. 여기서 말하는 「그 밖의 성분」이란, 예를 들어 산화 방지제, 다른 열가소성 수지 등이다.The deactivator may be added to the lactone ring structure-containing polymer at any stage after the lactone ring structure is formed. For example, a method in which, after producing a lactone ring structure-containing polymer, the lactone ring structure-containing polymer, a deactivator, and other components are simultaneously heated and melted and kneaded; a method in which a lactone ring structure-containing polymer and other components are heated and melted, and a deactivator is added thereto and kneaded; etc. can be mentioned. "Other components" as used herein are, for example, antioxidants and other thermoplastic resins.

[락톤환 구조 함유 중합체의 특성][Characteristics of polymers containing lactone ring structure]

본 실시 형태에 있어서 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 1,000 이상 2,000,000 이하, 보다 바람직하게는 5,000 이상 1,000,000 이하, 더욱 바람직하게는 10,000 이상 500,000 이하, 특히 바람직하게는 50,000 이상 500,000 이하이다.The weight average molecular weight of the lactone ring structure-containing polymer obtained in the present embodiment is preferably 1,000 or more and 2,000,000 or less, more preferably 5,000 or more and 1,000,000 or less, still more preferably 10,000 or more and 500,000 or less, particularly preferably 50,000 or more and 500,000 or less. to be.

상기 락톤환 구조 함유 중합체는 다이나믹 TG 측정에 있어서의, 150 내지 300℃ 사이에서의 질량 감소율이 1% 이하인 것이 바람직하고, 0.5% 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.3% 이하인 것이 더욱 바람직하다.The lactone ring structure-containing polymer preferably has a mass loss rate between 150 and 300°C of 1% or less, more preferably 0.5% or less, and even more preferably 0.3% or less in dynamic TG measurement.

본 실시 형태에 있어서 얻어지는 락톤환 구조 함유 중합체는 환화 축합 반응의 반응률이 높으므로, 성형 후의 성형품 중에 기포나 실버 스트리크가 들어간다는 결점을 회피할 수 있다. 또한, 환화 축합 반응의 반응률이 높은 것에 의해, 락톤환 구조 함유 중합체에 락톤환 구조가 충분히 도입되어 있으므로, 얻어진 락톤환 구조 함유 중합체는 충분히 높은 내열성을 갖고 있다.Since the reaction rate of the cyclization condensation reaction is high in the lactone ring structure-containing polymer obtained in the present embodiment, it is possible to avoid the drawback that air bubbles and silver streaks enter the molded article after molding. Further, since the lactone ring structure is sufficiently introduced into the lactone ring structure-containing polymer due to the high reaction rate of the cyclization condensation reaction, the obtained lactone ring structure-containing polymer has sufficiently high heat resistance.

락톤환 구조 함유 중합체는 열중량 분석(TG)에 있어서의 5% 질량 감소 온도가 280℃ 이상인 것이 바람직하고, 290℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 300℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 열중량 분석(TG)에 있어서의 5% 질량 감소 온도는 열 안정성의 지표이고, 당해 온도가 280℃ 미만인 경우에는, 얻어진 락톤환 구조 함유 중합체가 충분한 열 안정성을 발휘할 수 없을 우려가 있다.The lactone ring structure-containing polymer has a 5% mass reduction temperature in thermogravimetric analysis (TG) of preferably 280°C or higher, more preferably 290°C or higher, and still more preferably 300°C or higher. The 5% mass reduction temperature in thermogravimetric analysis (TG) is an index of thermal stability, and when the temperature is lower than 280°C, there is a possibility that the resulting lactone ring structure-containing polymer may not exhibit sufficient thermal stability.

락톤환 구조 함유 중합체는 당해 락톤환 구조 함유 중합체에 포함되는 잔존 휘발분의 총량이 5,000ppm 이하인 것이 바람직하고, 2,000ppm 이하인 것이 보다 바람직하다. 잔존 휘발분의 총량이 5,000ppm보다도 많으면, 성형 시의 변질 등에 따라 락톤환 구조 함유 중합체가 착색되거나, 발포되거나, 실버 스트리크 등의 성형 불량이 발생하거나 하는 원인이 된다.In the lactone ring structure-containing polymer, the total amount of residual volatile matter contained in the lactone ring structure-containing polymer is preferably 5,000 ppm or less, and more preferably 2,000 ppm or less. If the total amount of the remaining volatile matter is more than 5,000 ppm, it causes the lactone ring structure-containing polymer to be colored or foamed due to deterioration during molding, or molding defects such as silver streaks to occur.

락톤환 구조 함유 중합체는 사출 성형에 의해 얻어지는 성형품의, ASTM-D-1003에 준한 방법으로 측정된 전체 광선 투과율이, 바람직하게는 85% 이상, 보다 바람직하게는 88% 이상, 더욱 바람직하게는 90% 이상이다. 전체 광선 투과율은 투명성의 목표이고, 당해 투과율이 85% 미만이면, 투명성이 저하되고, 목적으로 하는 본래의 용도로 사용할 수 없을 우려가 있다.The lactone ring structure-containing polymer has a total light transmittance of a molded product obtained by injection molding measured by a method according to ASTM-D-1003 of preferably 85% or more, more preferably 88% or more, still more preferably 90% or more. more than 1% The total light transmittance is the target for transparency, and if the transmittance is less than 85%, the transparency is lowered, and there is a risk that the product cannot be used for its intended purpose.

[무수 글루타르산 구조 함유 중합체 및 글루타르이미드 구조 함유 중합체의 구조][Structures of Glutaric Anhydride Structure-Containing Polymer and Glutarimide Structure-Containing Polymer]

(메트)아크릴계 수지는 중합체의 주쇄에, 무수 글루타르산 구조 또는 글루타르이미드 구조를 도입한, 소위 무수 글루타르산 구조 함유 중합체 또는 글루타르이미드 구조 함유 중합체여도 된다. 본 명세서에서는 주쇄에 무수 글루타르산 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 무수 글루타르산 구조 함유 중합체라고 칭하고, 주쇄에 글루타르이미드 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 글루타르이미드 구조 함유 중합체라고 칭한다.The (meth)acrylic resin may be a so-called glutaric anhydride structure-containing polymer or glutarimide structure-containing polymer in which a glutaric anhydride structure or glutarimide structure is introduced into the main chain of the polymer. In the present specification, a (meth)acrylic resin having a glutaric anhydride structure introduced into the main chain is referred to as a glutaric anhydride structure-containing polymer, and a (meth)acrylic resin having a glutarimide structure introduced into the main chain is referred to as a glutarimide structure. They are called containment polymers.

상기 무수 글루타르산 구조 함유 중합체 및 글루타르이미드 구조 함유 중합체는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 일반식 (3)으로 나타나는 무수 글루타르산 구조 또는 글루타르이미드 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다.Although the above glutaric anhydride structure-containing polymer and glutarimide structure-containing polymer are not particularly limited, those having a glutaric anhydride structure or glutarimide structure represented by the following general formula (3) are more preferable.

Figure 112018011401987-pat00003
Figure 112018011401987-pat00003

(식 중, R17, R18은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타냄. X1은 산소 원자 또는 질소 원자를 나타냄. 그리고, X1이 산소 원자일 때, R19는 존재하지 않고, X1이 질소 원자일 때, R3은 수소 원자, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 또는 페닐기를 나타냄).(In the formula, R 17 and R 18 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. X 1 represents an oxygen atom or a nitrogen atom. And, when X 1 is an oxygen atom, R 19 does not exist, and X 1 is a nitrogen atom, R 3 represents a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or a phenyl group).

즉, 일반식 (3)에 있어서의 X1이 산소 원자일 때, 일반식 (3)에 의해 나타나는 환 구조는 무수 글루타르산 구조가 된다. 무수 글루타르산 구조 함유 중합체는, 예를 들어 (메트)아크릴산에스테르와 (메트)아크릴산의 공중합체를, 분자 내에서 탈알코올 환화 축합 반응시킴으로써 형성할 수 있다.That is, when X 1 in General Formula (3) is an oxygen atom, the ring structure represented by General Formula (3) becomes a glutaric anhydride structure. The glutaric anhydride structure-containing polymer can be formed, for example, by subjecting a copolymer of (meth)acrylic acid ester and (meth)acrylic acid to an intramolecular dealcoholization cyclization condensation reaction.

분자 내에서의 탈알코올 환화 축합 반응의 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 상기 공중합체를 가열함으로써 행할 수 있다. 가열 온도는 탈알코올에 의해 분자 내 환화 반응이 발생하는 온도라면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 180 내지 350℃의 범위 내가 적합하다. 가열 시간은 (메트)아크릴계 수지의 조성 등에 따라 적절히 변경하면 되지만, 예를 들어 1 내지 2시간의 범위 내가 적합하다. 또한, 상기 탈알코올 환화 축합 반응에 있어서는, 촉매(예를 들어, 산 촉매, 염기성 촉매, 염계 촉매 등)를 필요에 따라 사용해도 된다.The method of the intramolecular dealcoholization cyclization condensation reaction is not particularly limited, but can be carried out, for example, by heating the copolymer. The heating temperature is not particularly limited as long as it is a temperature at which an intramolecular cyclization reaction occurs by dealcoholization, but is suitably within the range of 180 to 350°C, for example. Although the heating time may be appropriately changed according to the composition of the (meth)acrylic resin, for example, within the range of 1 to 2 hours is suitable. In addition, in the above dealcoholization cyclization condensation reaction, you may use a catalyst (for example, an acid catalyst, a basic catalyst, a salt catalyst, etc.) as needed.

일반식 (3)에 있어서의 X1이 질소 원자일 때, 일반식 (3)에 의해 나타나는 환 구조는 글루타르이미드 구조가 된다. 글루타르이미드 구조 함유 중합체는, 예를 들어 (메트)아크릴산에스테르의 중합체를 메틸아민 등의 이미드화제를 사용하여 이미드화함으로써 형성할 수 있다. 이미드화의 방법은 공지의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 암모니아나 치환 아민 등을 사용하여 (메트)아크릴산에스테르의 중합체를 이미드화할 수 있다.When X 1 in General Formula (3) is a nitrogen atom, the ring structure represented by General Formula (3) becomes a glutarimide structure. The glutarimide structure-containing polymer can be formed, for example, by imidizing a polymer of (meth)acrylic acid ester using an imidation agent such as methylamine. As the method of imidation, a known method can be used. Specifically, the polymer of (meth)acrylic acid ester can be imidized using, for example, ammonia or a substituted amine.

[N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체 및 무수 말레산 구조 함유 중합체][N-substituted maleimide structure-containing polymer and maleic anhydride structure-containing polymer]

(메트)아크릴계 수지는 중합체의 주쇄에, N-치환 말레이미드 구조 또는 무수 말레산 구조를 도입한, 소위 N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체 또는 무수 말레산 구조 함유 중합체여도 된다. 본 명세서에서는 주쇄에 N-치환 말레이미드 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체라고 칭하고, 주쇄에 무수 말레산 구조가 도입되어 있는 (메트)아크릴계 수지를 무수 말레산 구조 함유 중합체라고 칭한다.The (meth)acrylic resin may be a so-called N-substituted maleimide structure-containing polymer or maleic anhydride structure-containing polymer in which an N-substituted maleimide structure or maleic anhydride structure is introduced into the main chain of the polymer. In the present specification, a (meth)acrylic resin having an N-substituted maleimide structure introduced into the main chain is referred to as an N-substituted maleimide structure-containing polymer, and a (meth)acrylic resin having a maleic anhydride structure introduced into the main chain is referred to as maleic anhydride. They are called acid structure-containing polymers.

상기 N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체 및 무수 말레산 구조 함유 중합체는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 하기 일반식 (4)로 나타나는 N-치환 말레이미드 구조 또는 무수 말레산 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다.Although the above N-substituted maleimide structure-containing polymer and maleic anhydride structure-containing polymer are not particularly limited, those having an N-substituted maleimide structure or maleic anhydride structure represented by the following general formula (4) are more preferable.

Figure 112018011401987-pat00004
Figure 112018011401987-pat00004

(식 중, R20, R21은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 메틸기를 나타냄. X2는 산소 원자 또는 질소 원자를 나타냄. 그리고, X2가 산소 원자일 때, R22는 존재하지 않고, X2가 질소 원자일 때, R22는 수소 원자, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 알킬기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 벤질기 또는 페닐기를 나타냄).(In the formula, R 20 and R 21 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. X 2 represents an oxygen atom or a nitrogen atom. And, when X 2 is an oxygen atom, R 22 does not exist, and X 2 is a nitrogen atom, R 22 represents a hydrogen atom, a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group or a phenyl group).

즉, 일반식 (4)에 있어서의 X2가 산소 원자일 때, 일반식 (4)에 의해 나타나는 환 구조는 무수 말레산 구조가 된다. 무수 말레산 구조 함유 중합체는, 예를 들어 무수 말레산과 (메트)아크릴산에스테르를 공중합(예를 들어, 라디칼 중합에 의해, 바람직하게는 용액 중합에 의해)시킴으로써 형성할 수 있다. 일반식 (4)에 있어서의 X2가 질소 원자일 때, 일반식 (4)에 의해 나타나는 환 구조는 N-치환 말레이미드 구조가 된다. N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체는, 예를 들어 N-치환 말레이미드와 (메트)아크릴산에스테르를 공중합(예를 들어, 라디칼 중합에 의해, 바람직하게는 용액 중합에 의해)시킴으로써 형성할 수 있다.That is, when X 2 in General Formula (4) is an oxygen atom, the ring structure represented by General Formula (4) becomes a maleic anhydride structure. The maleic anhydride structure-containing polymer can be formed, for example, by copolymerizing maleic anhydride and (meth)acrylic acid ester (eg, by radical polymerization, preferably by solution polymerization). When X 2 in General Formula (4) is a nitrogen atom, the ring structure represented by General Formula (4) becomes an N-substituted maleimide structure. The N-substituted maleimide structure-containing polymer can be formed, for example, by copolymerizing (for example, by radical polymerization, preferably by solution polymerization) an N-substituted maleimide and a (meth)acrylic acid ester.

또한, 무수 글루타르산 구조 함유 중합체, 글루타르이미드 구조 함유 중합체, N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체 및 무수 말레산 구조 함유 중합체는 각각의 환 구조의 형성에 사용하는 중합체가 모두 (메트)아크릴산에스테르 단위를 구성 단위로서 갖는다. 그 때문에, 당해 방법에 의해 얻어지는 수지는 (메트)아크릴계 수지의 범주에 포함된다.In addition, the polymers used for forming the ring structure of the glutaric anhydride structure-containing polymer, the glutarimide structure-containing polymer, the N-substituted maleimide structure-containing polymer, and the maleic anhydride structure-containing polymer are all (meth)acrylic acid esters units as constituent units. Therefore, the resin obtained by the method is included in the category of (meth)acrylic resin.

락톤환 구조 함유 중합체, 무수 글루타르산 구조 함유 중합체, 글루타르이미드 구조 함유 중합체, N-치환 말레이미드 구조 함유 중합체 및 무수 말레산 구조 함유 중합체는 필요에 따라 복수 종류를 병용해도 된다. 즉, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 이들 중합체의 혼합물이어도 된다.A lactone ring structure containing polymer, a glutaric anhydride structure containing polymer, a glutarimide structure containing polymer, an N-substituted maleimide structure containing polymer, and a maleic anhydride structure containing polymer may use several types together as needed. That is, the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention may be a mixture of these polymers.

〔3. 자외선 흡수제〕[3. UV absorber]

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 (메트)아크릴계 수지와, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함한다.The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention contains a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360°C or lower.

본 발명의 다른 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 유리 전이 온도가 108℃ 이상인 (메트)아크릴계 수지와, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함한다.The thermoplastic resin composition in another embodiment of the present invention contains a (meth)acrylic resin having a glass transition temperature of 108°C or higher and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360°C or lower.

상기 자외선 흡수제의 열분해 온도의 하한값에는 특별히 제한은 없지만, 광학 필름의 제조 시에, 열가소성 수지 조성물에 포함되는 자외선 흡수제가 분해되지 않도록, 250℃ 이상인 것이 보다 바람직하다. 그 때문에, 상기 자외선 흡수제는 열분해 온도가 250℃ 이상 360℃ 이하인 것이 바람직하다.The lower limit of the thermal decomposition temperature of the ultraviolet absorber is not particularly limited, but is more preferably 250°C or higher so that the ultraviolet absorber contained in the thermoplastic resin composition does not decompose during production of the optical film. Therefore, it is preferable that the said ultraviolet absorber has a thermal decomposition temperature of 250 degreeC or more and 360 degreeC or less.

자외선 흡수제의 열분해 온도(Td)는, 예를 들어 차동형 시차 열천칭 장치를 이용하여 측정할 수 있다. 보다 구체적인 방법은 실시예에 기재했다. 그 밖에도, 제조자가 공표하는 값을 채용할 수도 있다.The thermal decomposition temperature (Td) of the ultraviolet absorber can be measured, for example, using a differential type differential thermobalance. More specific methods are described in Examples. In addition, a value announced by the manufacturer may be employed.

자외선 흡수제는 특별히 한정되는 것은 아니다. 구체적으로는, 예를 들어 벤조페논계 화합물, 살리시케이트계 화합물, 벤조에이트계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물 및 트리아진계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 이들 자외선 흡수제 중에서도 자외선 흡수능이 높은 점에서, 벤조트리아졸계 화합물 및 트리아진계 화합물이 보다 바람직하다.The ultraviolet absorber is not particularly limited. Specifically, for example, at least one selected from benzophenone-based compounds, salicylate-based compounds, benzoate-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, benzotriazole-based compounds and triazine-based compounds can be used. Among these ultraviolet absorbers, a benzotriazole-based compound and a triazine-based compound are more preferable in terms of high ultraviolet absorbing power.

벤조트리아졸계 화합물로서는, 하기 일반식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제가 바람직하다.As a benzotriazole type compound, the ultraviolet absorber represented by the following general formula (5) is preferable.

Figure 112018011401987-pat00005
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(식 중, R1, R2는 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기(당해 알킬기는 임의 구성으로 치환기를 갖고 있어도 됨)를 나타냄. R3, R4는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 할로겐 원자를 나타낸다. L은 탄소수 1 내지 4의 알킬렌기를 나타냄).(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms (the alkyl group may optionally have a substituent). R 3 and R 4 are each independently represents a hydrogen atom or a halogen atom, and L represents an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms).

일반식 (5)로 나타나는 자외선 흡수제 중에서도, 전술한 화합물 a인 하기 식으로 나타나는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕(상품명: LA-31, 가부시키가이샤 ADEKA제)이 특히 바람직하다.Among the ultraviolet absorbers represented by the general formula (5), 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3, 3-tetramethylbutyl)phenol] (trade name: LA-31, manufactured by ADEKA Co., Ltd.) is particularly preferred.

Figure 112018011401987-pat00006
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트리아진계 화합물로서는, 하기 일반식 (6)으로 나타나는 자외선 흡수제가 바람직하다.As a triazine type compound, the ultraviolet absorber represented by following general formula (6) is preferable.

Figure 112018011401987-pat00007
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(식 중, R23은 수소 원자, 또는 식 「-OR27」에 의해 나타나는 기를 나타냄. R27은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기 또는 알킬에스테르기를 나타냄. R24 내지 R26은 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 18의 알킬기 혹은 알킬에스테르기를 나타냄. 단, 상기 알킬에스테르기는 식 「-CH(-R28)C(=O)OR29」에 의해 나타나는 기인 것이 바람직하고, R28은 수소 원자 또는 메틸기이고, R29는 알킬기임. 알킬기인 R24 내지 R26 및 R27, 그리고 R29는 직쇄상, 혹은 분지쇄상의 알킬기임).(In the formula, R 23 represents a hydrogen atom or a group represented by the formula “-OR 27 ”. R 27 represents a hydrogen atom or an alkyl group or an alkyl ester group having 1 to 18 carbon atoms. R 24 to R 26 are each independently , represents a hydrogen atom, or an alkyl group or an alkyl ester group having 1 to 18 carbon atoms. However, the alkyl ester group is preferably a group represented by the formula "-CH(-R 28 )C(=O)OR 29 ", and R 28 is a hydrogen atom or a methyl group, R 29 is an alkyl group, R 24 to R 26 and R 27 , and R 29 are linear or branched alkyl groups).

상기 자외선 흡수제의 분자량은 400 이상인 것이 바람직하다. 분자량이 400 미만이면, 열가소성 수지 조성물 또는 광학 필름의 제조 시에, 벤트에 흡인되는 자외선 흡수제가 지나치게 많아져, 배관 등이 폐색될 우려가 있다.The molecular weight of the ultraviolet absorber is preferably 400 or more. If the molecular weight is less than 400, there is a possibility that the ultraviolet absorber absorbed by the vent will be excessively increased and the piping or the like may be clogged during production of the thermoplastic resin composition or the optical film.

〔4. 광학 필름의 제조 방법〕〔4. Manufacturing method of optical film]

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을, 다이로부터 필름상으로 토출한 후에 터치 롤 제막을 행하는 방법이며, 자외선 흡수제의 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 식 「50≤Td-Tp」를 만족시키는 방법이다.A method for manufacturing an optical film according to an embodiment of the present invention is a melt containing a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360° C. or less based on 100 parts by weight of a (meth)acrylic resin. is a method of performing touch roll film formation after discharging a film from a die, and the relationship between the thermal decomposition temperature Td (° C.) of the ultraviolet absorber and the temperature Tp (° C.) of the melt at the exit of the die is expressed by the expression “50 ≤Td-Tp”.

본 발명의 다른 실시 형태에 관한 광학 필름의 제조 방법은, (메트)아크릴계 수지와 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을 제막하는 광학 필름의 제조 방법이며, 상기 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고, 상기 용융물을 다이로부터 필름상으로 토출한 후에, 터치 롤 제막을 행하는 방법이다.A method for producing an optical film according to another embodiment of the present invention is a method for producing an optical film in which a melt containing a thermoplastic resin composition containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C. or less is formed into a film, The glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is 108° C. or higher, and the melt is discharged from the die into a film form, and then touch roll film formation is performed.

〔1〕절에서도 설명한 바와 같이, 광학 필름의 제조에 있어서는, 통상, 터치 롤 제막은 채용되지 않는 제막 방법이었던바, 본 발명자들은 터치 롤 제막을 행하는 것 자체에 블리드 아웃을 억제하는 효과가 있는 것을 알아냈다. 이 효과를 더 높이기 위해서는, 다이의 출구에 있어서의 용융물의 온도를 「50≤Td-Tp」를 만족시키도록 조정하는 것이 바람직하다.As described in section [1], in the production of an optical film, touch roll film formation is usually not employed, but the present inventors found that performing touch roll film formation itself has an effect of suppressing bleed-out. Found out. In order to further enhance this effect, it is preferable to adjust the temperature of the melt at the exit of the die so as to satisfy "50≤Td-Tp".

용융물의 온도란, T다이 등의 다이로부터 토출된 직후(다이립으로부터 30㎜ 이내)의 용융물에, 침상 또는 봉상의 열전대를 접촉시키고 복수 개소에서 측정한 온도 중, 최고 온도를 가리킨다.The temperature of the melt refers to the highest temperature among the temperatures measured at a plurality of locations by contacting a needle-shaped or bar-shaped thermocouple with the melt immediately after being discharged from a die such as a T die (within 30 mm from the die lip).

「Td-Tp」의 상한값에는 특별히 제한은 없지만, 90℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 그 때문에, 「Td-Tp」는 50℃ 이상 90℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 55℃ 이상 85℃ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 60℃ 이상 80℃ 이하인 것이 특히 바람직하다. 「Td-Tp」가 50℃ 미만인 경우에는, 열가소성 수지 조성물에 포함되는 자외선 흡수제가 열분해되어 버린다. 「Td-Tp」가 90℃를 초과한 경우에는 용융물의 점도가 높고, 다이 내에서의 흐름이 나빠진다. 그 때문에, 단부까지 충분히 용융물이 흐르지 않고, 막 두께 프로파일이 악화될 우려가 있다.The upper limit of "Td-Tp" is not particularly limited, but is more preferably 90°C or less. Therefore, "Td-Tp" is more preferably 50°C or more and 90°C or less, still more preferably 55°C or more and 85°C or less, and particularly preferably 60°C or more and 80°C or less. When "Td-Tp" is less than 50 degreeC, the ultraviolet absorber contained in a thermoplastic resin composition will thermally decompose. When "Td-Tp" exceeds 90°C, the viscosity of the melt is high and the flow in the die deteriorates. Therefore, there is a possibility that the melt does not sufficiently flow to the end and the film thickness profile deteriorates.

상기 터치 롤 제막이란, 예를 들어 다이로부터 필름상으로 연속적으로 토출된 열가소성 수지 조성물의 용융물을, 터치 롤과 캐스트 롤 사이에 끼워 넣어, 소정의 크기 및 두께의 필름으로 연속적으로 제막하는 방법이다. 보다 구체적으로는, 터치 롤 제막이란, 예를 들어 터치 롤과 캐스트 롤 사이에 다이로부터 상기 용융물을 토출하고, 터치 롤과 캐스트 롤 사이에 끼워 넣어 성형한 후, 냉각 고화시켜 필름으로 연속적으로 제막하는 방법이다. 터치 롤 제막은 블리드 아웃을 억제하는 데 효과적인 제막 방법이다.The touch roll film formation is, for example, a method of continuously forming a film of a predetermined size and thickness by sandwiching the melt of the thermoplastic resin composition continuously discharged from a die into a film between a touch roll and a cast roll. More specifically, with touch roll film formation, for example, the melt is discharged from a die between a touch roll and a cast roll, molded by being sandwiched between the touch roll and cast roll, and then cooled and solidified to continuously form a film into a film way. The touch roll film formation is an effective film formation method for suppressing bleed-out.

[열가소성 수지 조성물][Thermoplastic resin composition]

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 (메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부의 범위 내, 보다 바람직하게는 0.3 내지 4중량부의 범위 내, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 3.5중량부의 범위 내에서 포함한다. 자외선 흡수제의 양이 0.1중량부 미만이거나, 또는 5중량부를 초과하면, 광학 특성이 양호한 광학 필름을 제조할 수 없다.The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention contains a UV absorber having a thermal decomposition temperature of 360°C or less in an amount of 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.3 to 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of the (meth)acrylic resin. Within the range, more preferably within the range of 0.5 to 3.5 parts by weight. If the amount of the ultraviolet absorber is less than 0.1 parts by weight or exceeds 5 parts by weight, an optical film having good optical properties cannot be produced.

(메트)아크릴계 수지에 자외선 흡수제를 첨가하는 방법은 특별히 한정되는 것은 아니다. (메트)아크릴계 수지와 자외선 흡수제가 균일하게 혼합됨으로써, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물이 얻어진다.The method of adding the ultraviolet absorber to the (meth)acrylic resin is not particularly limited. The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention is obtained by uniformly mixing the (meth)acrylic resin and the ultraviolet absorber.

본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위라면, (메트)아크릴계 수지 이외의 그 밖의 중합체를 함유하고 있어도 된다.The thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention may contain other polymers other than the (meth)acrylic resin as long as the effect of the present invention is not impaired.

그 밖의 중합체로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 중합체, 폴리(4-메틸-1-펜텐) 등의 올레핀계 중합체; 염화비닐, 염소화비닐 수지 등의 할로겐 함유계 중합체; 폴리메타크릴산메틸 등의 아크릴계 중합체; 폴리스티렌, 스티렌-메타크릴산메틸 공중합체, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체, 아크릴로니트릴- 부타디엔-스티렌 블록 공중합체 등의 스티렌계 중합체; 중합체 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르; 나일론6, 나일론66, 나일론610 등의 폴리아미드; 폴리아세탈; 폴리카르보네이트; 폴리페닐렌옥시드; 폴리페닐렌술피드; 폴리에테르에테르케톤; 폴리술폰; 폴리에테르술폰; 폴리옥시벤질렌; 폴리아미드이미드; 폴리부타디엔계 고무, 아크릴계 고무를 배합한 ABS 수지나 ASA 수지 등의 고무질 중합체; 등을 들 수 있다.Examples of other polymers include olefin polymers such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene polymer, and poly(4-methyl-1-pentene); halogen-containing polymers such as vinyl chloride and vinyl chloride resin; acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; styrenic polymers such as polystyrene, styrene-methyl methacrylate copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, and acrylonitrile-butadiene-styrene block copolymer; polyesters such as polymer polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyamides such as nylon 6, nylon 66, and nylon 610; polyacetal; polycarbonate; polyphenylene oxide; polyphenylene sulfide; polyether ether ketone; polysulfone; polyethersulfone; polyoxybenzylene; polyamideimide; rubbery polymers such as ABS resins and ASA resins blended with polybutadiene rubber and acrylic rubber; etc. can be mentioned.

또한, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위라면, 용제, 미반응의 단량체 및 반응 공정 중에 발생한 부생성물 등의 휘발분 또는 희석용 용제 등을 함유하고 있어도 된다. 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물 100질량% 중의 당해 휘발분의 총 함유량은 5000질량ppm 이하가 바람직하고, 3000질량ppm 이하가 보다 바람직하다. 5000질량ppm 이상인 경우, 성형 시에 착색되거나, 실버 스트리크 등의 성형 불량이 발생하거나 할 우려가 있다.Further, as long as the effects of the present invention are not impaired, the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention may contain solvents, unreacted monomers and volatile components such as by-products generated during the reaction step, or diluting solvents. do. 5000 mass ppm or less is preferable, and, as for total content of the said volatile matter in 100 mass % of thermoplastic resin compositions in embodiment of this invention, 3000 mass ppm or less is more preferable. In the case of 5000 mass ppm or more, there is a possibility that coloration may occur during molding or molding defects such as silver streaks may occur.

여기서, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물 100질량%의 스티렌계 단량체에 유래하는 구성 단위의 함유량은 바람직하게는 0질량% 이상 10질량% 미만, 보다 바람직하게는 0질량% 이상 8질량% 미만, 더욱 바람직하게는 0질량% 이상 5질량% 미만이다. 당해 열가소성 수지 조성물의 스티렌계 단량체에 유래하는 구성 단위의 함유량이 10질량% 이상인 경우, 장기간 사용 시에서의 열에 의한 광학 특성의 악화가 발생할 우려가 있다.Here, the content of the structural unit derived from the styrenic monomer in 100 mass% of the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention is preferably 0 mass% or more and less than 10 mass%, more preferably 0 mass% or more and 8 mass% less than %, more preferably 0% by mass or more and less than 5% by mass. When the content of the structural unit derived from the styrenic monomer of the thermoplastic resin composition is 10% by mass or more, deterioration of optical properties due to heat during long-term use may occur.

본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위라면, 자외선 흡수제 이외의 그 밖의 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 첨가제로서는, 예를 들어 힌더드 페놀계, 인계, 황계 등의 산화 방지제; 내광 안정제, 내후 안정제, 열 안정제 등의 안정제; 유리 섬유, 탄소 섬유 등의 보강재; 근적외선 흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화안티몬 등의 난연제; 위상차 상승제, 위상차 저감제, 위상차 안정제 등의 위상차 조정제; 음이온계, 양이온계, 비이온계의 계면 활성제를 포함하는 대전 방지제; 무기 안료, 유기 안료, 염료 등의 착색제; 유기 필러나 무기 필러; 수지 개질제; 유기 충전제나 무기 충전제; 등을 들 수 있다. 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물 100질량%에 있어서의 그 밖의 첨가제의 함유 비율은 바람직하게는 0 내지 5질량%, 보다 바람직하게는 0 내지 2질량%, 더욱 바람직하게는 0 내지 1질량%의 범위 내이다.The thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention may contain other additives other than the ultraviolet absorber as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of other additives include hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based antioxidants; stabilizers such as light stabilizers, weathering stabilizers, and heat stabilizers; reinforcing materials such as glass fibers and carbon fibers; near-infrared absorbers; flame retardants such as tris(dibromopropyl) phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; Phase difference adjusting agents, such as a phase difference increasing agent, a phase difference reducing agent, and a phase difference stabilizer; antistatic agents including anionic, cationic, and nonionic surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments and dyes; organic or inorganic fillers; resin modifier; organic or inorganic fillers; etc. can be mentioned. The content ratio of the other additives in 100% by mass of the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0 to 2% by mass, still more preferably 0 to 1 It is within the range of mass %.

상기 착색제로서는, 안트라퀴논 골격을 갖는 화합물, 프탈로시아닌 골격을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 안트라퀴논 골격을 갖는 화합물이 내열성이 관점에서 바람직하다. 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물 100질량% 중의 당해 착색제의 함유량은 0.01 내지 5질량ppm이 바람직하고, 0.05 내지 3질량ppm이 보다 바람직하고, 0.1 내지 1질량ppm이 더욱 바람직하다. 착색제는 공지의 것을 적절히 사용할 수 있다. 예를 들어, 구체적으로는, 「마크로렉스(등록 상표) 바이올렛B」 「마크로렉스(등록 상표) 바이올렛3R」(랑세스 가부시키가이샤제), 「스미플라스트(등록 상표) 바이올렛B」 「스미플라스트(등록 상표) 그린G」(스미카 켐텍스 가부시키가이샤제) 등을 들 수 있다. 당해 착색제는 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 색상 및 채도를 저감시키는 것이 가능하다.As said coloring agent, the compound which has an anthraquinone skeleton, the compound which has a phthalocyanine skeleton, etc. are mentioned. Among these, compounds having an anthraquinone skeleton are preferable from the viewpoint of heat resistance. 0.01-5 mass ppm is preferable, as for content of the said coloring agent in 100 mass % of thermoplastic resin compositions in embodiment of this invention, 0.05-3 mass ppm is more preferable, and its 0.1-1 mass ppm is still more preferable. A well-known colorant can be used suitably. For example, specifically, "Macrolex (registered trademark) Violet B", "Macrolex (registered trademark) Violet 3R" (manufactured by LANXESS Corporation), "Smiplast (registered trademark) Violet B" and "Smifla ST (registered trademark) Green G” (manufactured by Sumika ChemteX Co., Ltd.); and the like. The coloring agent can reduce the hue and saturation of the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention.

또한, 그 밖의 중합체나 첨가제는 (메트)아크릴계 수지와 자외선 흡수제를 혼합할 때에 혼합해도 되고, (메트)아크릴계 수지 및/또는 자외선 흡수제와 미리 혼합해 두고 나서, 다른 쪽과 혼합해도 된다. 혼합 방법은 특별히 한정되지 않는다.In addition, other polymers and additives may be mixed when mixing the (meth)acrylic resin and the ultraviolet absorber, or may be mixed with the (meth)acrylic resin and/or the ultraviolet absorber in advance and then mixed with the other. The mixing method is not particularly limited.

여기서, 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물을 제조하는 데 있어서, 다양한 경로로 금속 원소가 혼입될 가능성이 있다. 예를 들어, (메트)아크릴계 수지의 제조 시에는 중합 개시제나 환화 촉매, 실활제 등의 첨가제 유래의 금속 원소, 열가소성 수지 조성물의 제조 시에는 UVA나 그 밖의 첨가제 유래의 금속 원소 혼입이 생각된다. 본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물 100질량%의 금속 원소의 함유량은 바람직하게는 0 내지 200질량ppm, 보다 바람직하게는 0 내지 100질량ppm, 더욱 바람직하게는 0 내지 60질량ppm, 특히 바람직하게는 0 내지 10질량ppm의 범위 내이다. 당해 열가소성 수지 조성물의 금속 원소의 함유량이 200질량ppm을 초과하는 경우에는, 당해 열가소성 수지 조성물의 색상 및 채도의 증가 및 이물의 발생에 의한 투명성의 악화가 발생할 우려가 있다. 이와 같은 바람직하지 않은 효과를 초래하는 금속 원소는 특별히 제한되지 않는다. 일례로서, 벤조트리아졸계 화합물인 자외선 흡수제와 착체를 형성하고, 색상 및 채도가 증가할 우려가 있는 점에서, 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 중금속을 들 수 있고, 예를 들어 아연, 구리, 철 등을 들 수 있다.Here, in manufacturing the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention, there is a possibility that the metal element is mixed in various routes. For example, in the production of (meth)acrylic resin, metal elements derived from additives such as polymerization initiators, cyclization catalysts and deactivators, and in the production of thermoplastic resin compositions, metal elements derived from UVA and other additives may be mixed. The content of the metal element in 100 mass% of the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention is preferably 0 to 200 mass ppm, more preferably 0 to 100 mass ppm, still more preferably 0 to 60 mass ppm, particularly Preferably it exists in the range of 0-10 mass ppm. When the content of the metal element in the thermoplastic resin composition exceeds 200 mass ppm, there is a risk that the hue and chroma of the thermoplastic resin composition increase and the transparency deteriorates due to generation of foreign matter. Metal elements that cause such undesirable effects are not particularly limited. As an example, alkali metals, alkaline earth metals, and heavy metals are exemplified in that they form complexes with ultraviolet absorbers, which are benzotriazole-based compounds, and increase color and saturation. Examples include zinc, copper, iron, and the like. can be heard

본 발명의 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 유리 전이 온도(Tg)는, 108℃ 이상이라면 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 110℃ 이상이고, 이후, 111℃ 이상, 113℃ 이상, 115℃ 이상, 117℃ 이상, 120℃ 이상의 순으로 바람직하다. 당해 열가소성 수지 조성물의 Tg가 110℃ 미만인 경우에는, 예를 들어 당해 열가소성 수지 조성물을 포함하는 광학 필름을 광학 기기의 편광판으로서 조립시킨 경우에, 고온에서의 충분한 내구성은 발휘할 수 없을 우려가 있다. 단, 당해 열가소성 수지 조성물의 Tg가 지나치게 높으면, 당해 열가소성 수지 조성물의 성형 온도를 높게 할 필요가 있고, 그 때문에, 성형 시에 발포하거나, 자외선 흡수제의 블리드 아웃이 발생하거나 할 우려가 있기 때문에, 당해 열가소성 수지 조성물의 Tg는 200℃ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 180℃ 이하, 더욱 바람직하게는 150℃ 이하, 특히 바람직하게는 140℃ 이하이다. 또한, 열가소성 수지 조성물의 유리 전이 온도는 광학 필름의 유리 전이 온도와 실질적으로 동일하다고 간주할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin composition in the embodiment of the present invention is not particularly limited as long as it is 108°C or higher, but is preferably 110°C or higher, and then 111°C or higher, 113°C or higher, or 115°C or higher. , preferably in the order of 117 ° C. or higher and 120 ° C. or higher. When the Tg of the thermoplastic resin composition is less than 110 ° C., when an optical film containing the thermoplastic resin composition is assembled as a polarizing plate of an optical device, for example, there is a risk that sufficient durability at high temperatures cannot be exhibited. However, if the Tg of the thermoplastic resin composition is too high, it is necessary to increase the molding temperature of the thermoplastic resin composition, so there is a possibility of foaming during molding or bleed-out of the ultraviolet absorber. The Tg of the thermoplastic resin composition is preferably 200°C or lower, more preferably 180°C or lower, still more preferably 150°C or lower, and particularly preferably 140°C or lower. In addition, the glass transition temperature of the thermoplastic resin composition can be regarded as substantially equal to the glass transition temperature of the optical film.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 열분해 온도(열분해 개시 온도; Td)는 310℃ 이상인 것이 바람직하고, 315℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 320℃ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 열분해 온도가 310℃ 이상인 열가소성 수지 조성물은 충분한 내열성을 갖고 있다고 할 수 있다. 상기 열분해 온도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 380℃ 정도로 할 수 있다. 또한, 열가소성 수지 조성물의 열분해 온도는 광학 필름의 열분해 온도와 실질적으로 동일하다고 간주할 수 있다. 이와 같은 열분해 온도를 갖는 열가소성 수지 조성물을 터치 롤 제막함으로써, 필름 결점의 저감, 필름 착색의 저감, 기포 혼입의 억제 등의 이점이 얻어진다.The thermal decomposition temperature (thermal decomposition start temperature; Td) of the thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention is preferably 310°C or higher, more preferably 315°C or higher, and even more preferably 320°C or higher. It can be said that a thermoplastic resin composition having a thermal decomposition temperature of 310°C or higher has sufficient heat resistance. The upper limit of the thermal decomposition temperature is not particularly limited, but may be about 380°C. In addition, the thermal decomposition temperature of the thermoplastic resin composition can be regarded as substantially equal to the thermal decomposition temperature of the optical film. By forming a thermoplastic resin composition having such a thermal decomposition temperature into a film with a touch roll, advantages such as reduction of film defects, reduction of film discoloration, and suppression of bubble mixing are obtained.

열가소성 수지 조성물의 열분해 온도(Td)는 열가소성 수지 조성물에 대한 다이내믹 TG를 사용하여 측정할 수 있다. 구체적인 측정 방법은 실시예에 기재된 바와 같다.The thermal decomposition temperature (Td) of the thermoplastic resin composition can be measured using dynamic TG for the thermoplastic resin composition. The specific measurement method is as described in the Examples.

(두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 광학적 성능)(Optical performance when using an unstretched film with a thickness of 100 μm)

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 c*값이 0.45 이하이다. 바람직하게는 0.35 이하이고, 보다 바람직하게는 0.30 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.25 이하이다. 또한, 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 a*값의 절댓값이 0.10 이하인 것이 바람직하고, 0.05 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 b*값의 절댓값이 0.45 이하가 바람직하고, 0.35 이하가 보다 바람직하고, 0.30 이하가 더욱 바람직하고, 0.25 이하가 특히 바람직하다. 또한, 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 L*값이 95.0% 이상인 것이 바람직하고, 98.0% 이상인 것이 보다 바람직하고, 99.0% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 99.5% 이상인 것이 특히 바람직하다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물이 상기 범위 내이면, 편광자 보호 필름 등에 사용하는 광학 필름에 적합하게 사용할 수 있다.The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention has a c * value of 0.45 or less when measured in accordance with JIS Z 8729 as an unstretched film having a thickness of 100 µm. Preferably it is 0.35 or less, More preferably, it is 0.30 or less, More preferably, it is 0.25 or less. In addition, the absolute value of the a * value measured in accordance with JIS Z 8729 when used as an unstretched film having a thickness of 100 µm is preferably 0.10 or less, and more preferably 0.05 or less. Further, the absolute value of the b * value measured in accordance with the provisions of JIS Z 8729 when an unstretched film having a thickness of 100 µm is preferably 0.45 or less, more preferably 0.35 or less, still more preferably 0.30 or less, and 0.25 The following are particularly preferred. In addition, the L * value measured in accordance with the provisions of JIS Z 8729 when an unstretched film having a thickness of 100 μm is preferably 95.0% or more, more preferably 98.0% or more, and still more preferably 99.0% or more, It is especially preferable that it is 99.5% or more. If the thermoplastic resin composition in one Embodiment of this invention is in the said range, it can use suitably for the optical film used for a polarizer protective film etc.

여기서, 상술한 a*값, b*값 및 L*값이란, JIS Z 8729에 규정되는 L*a*b* 표색계에 있어서의 지수이고, a*값 및 b*값은 색상을 나타내고, L*값은 명도를 나타낸다. 또한 c*값은 채도를 나타내고, 상기 a*값 및 b*값으로부터 다음의 식에 의해 산출된다.Here, the above-described a * value, b * value, and L * value are indices in the L * a * b * colorimetric system specified in JIS Z 8729, and the a * value and b * value represent hues, and L * The value represents lightness. In addition, the c * value represents saturation, and is calculated from the above a * value and b * value by the following equation.

c*=(a*2+b* 2)1 /2 c * = (a * 2 + b * 2 ) 1 /2

a*값, b*값 및 c*값은 0에 가까울수록 무채색에 가까운 것을 의미한다. L*값은 100%에 가까울수록 백색에 가까운, 즉 백색광을 모두 투과하는 것을 의미한다. 편광자 보호 필름 등에 사용하는 광학 필름은 백라이트로부터의 색 재현성을 높이기 위해 무채색에 가까운 것이 필요하고, 또한 높은 콘트라스트를 실현하기 위해 높은 명도인 것이 필요하다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 보다 무채색에 가깝고, 높은 명도를 나타내기 때문에, 광학 필름에 적합하게 사용할 수 있다.Values of a * , b * , and c * mean that the closer to 0, the closer to achromatic. The closer the value of L * is to 100%, the closer it is to white, that is, all white light is transmitted. An optical film used for a polarizer protective film or the like needs to be close to an achromatic color in order to improve color reproducibility from a backlight, and it is necessary to have high brightness in order to realize high contrast. Since the thermoplastic resin composition in one Embodiment of this invention is more achromatic and shows high brightness, it can be used suitably for an optical film.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 380㎚의 광선 투과율이 3.0% 이하인 것이 바람직하고, 2.0% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.5% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 미연신 필름의 파장 380㎚에 있어서의 광선 투과율이 이 범위 내이면, 광학 기기의 편광판으로서 조립시킨 경우에, 충분한 자외선 흡수능을 발휘할 수 있다. 또한, 상기 열가소성 조성물은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 420㎚의 광선 투과율이 95.0% 이상인 것이 바람직하고, 96.0% 이상인 것이 보다 바람직하고, 97.0% 이상인 것이 더욱 바람직하다. 상기 미연신 필름의 파장 420㎚에 있어서의 광선 투과율이 이 범위 내이면, 가시광 영역의 투과율이 높아지고, 당해 열가소성 수지 조성물을 광학 용도에 사용하는 경우에 특히 적합하다.The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention preferably has a light transmittance of 3.0% or less at a wavelength of 380 nm measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 when a film having a thickness of 100 μm is unstretched, and is 2.0 It is more preferable that it is % or less, and it is still more preferable that it is 1.5% or less. If the light transmittance in the wavelength of 380 nm of the said unstretched film is within this range, when assembled as a polarizing plate of an optical device, sufficient ultraviolet-ray absorbing ability can be exhibited. Further, the thermoplastic composition preferably has a light transmittance of 95.0% or more at a wavelength of 420 nm, more preferably 96.0% or more, as measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 when the thermoplastic composition is used as an unstretched film having a thickness of 100 μm. It is more preferable that it is 97.0% or more. When the light transmittance of the unstretched film at a wavelength of 420 nm is within this range, the transmittance in the visible region becomes high, and the thermoplastic resin composition is particularly suitable for optical applications.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 전체 광선 투과율이 바람직하게는 95.0% 이상, 보다 바람직하게는 97.0% 이상, 더욱 바람직하게는 99.0% 이상이다.The thermoplastic resin composition in one embodiment of the present invention has a total light transmittance of preferably 95.0% or more, more preferably 97.0% or more, still more preferably 99.0% or more when used as an unstretched film having a thickness of 100 μm. to be.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 열가소성 수지 조성물은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 헤이즈가 1.0% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.8% 이하, 더욱 바람직하게는 0.5% 이하이다. 헤이즈가 1.0%를 초과하면 투명성이 저하되고, 당해 열가소성 수지 조성물을 광학 용도에 사용하는 경우에는 적합하지 않다.It is preferable that the haze when the thermoplastic resin composition in one Embodiment of this invention is set as an unstretched film with a thickness of 100 micrometers is 1.0% or less. More preferably, it is 0.8% or less, and still more preferably 0.5% or less. When a haze exceeds 1.0%, transparency will fall and it is not suitable when using the said thermoplastic resin composition for an optical use.

[다이][die]

다이는 열가소성 수지 조성물을 용융시키는 용융 장치의 출구에 설치되어 있다. 그리고, 열가소성 수지 조성물의 용융물을 필름상으로 하고, 터치 롤 위, 또는 캐스트 롤 위에 연속적으로 토출하도록 구성되어 있다. 다이의 재질은 금속인 것이 바람직하고, 스테인리스인 것이 보다 바람직하다. 다이의 크기 및 개수는 토출하는 용융물의 양에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다.The die is installed at the outlet of a melting device that melts the thermoplastic resin composition. And it is comprised so that the molten material of a thermoplastic resin composition may be made into a film form, and discharged continuously on the top of a touch roll or on a cast roll. The material of the die is preferably metal, and more preferably stainless steel. The size and number of dies may be appropriately set according to the amount of the melt to be discharged, and are not particularly limited.

다이의 온도는 토출하는 용융물의 온도에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 그러나 상기 온도는 열가소성 수지 조성물에 포함되는 자외선 흡수제의 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 식 「50≤Td-Tp」를 만족시킬 수 있도록 설정된다. 또한, 상기 용융 장치는 상기 식을 만족시킬 수 있도록 열가소성 수지 조성물을 용융시켜, 온도 Tp(℃) 이상의 용융물을 제조할 수 있도록 구성되어 있다.The temperature of the die may be appropriately set according to the temperature of the melt to be discharged, and is not particularly limited. However, the temperature is such that the relationship between the thermal decomposition temperature Td (° C.) of the ultraviolet absorber contained in the thermoplastic resin composition and the temperature Tp (° C.) of the melt at the exit of the die satisfies the expression “50≤Td-Tp”. is set so that In addition, the melting device is configured to melt the thermoplastic resin composition so as to satisfy the above expression, and to produce a melt having a temperature Tp (° C.) or higher.

[터치 롤 및 캐스트 롤][Touch Roll and Cast Roll]

터치 롤 및 캐스트 롤은 서로 대향하여 평행하게 설치되어 있다. 터치 롤 및 캐스트 롤은 각각 복수개 존재하고 있어도 된다. 터치 롤 및 캐스트 롤은 그 표면이 경면 마무리되어 있는 것이 특히 바람직하다.The touch roll and the cast roll are opposite to each other and installed in parallel. Two or more touch rolls and cast rolls may exist, respectively. It is particularly preferable that the surfaces of the touch roll and the cast roll are mirror-finished.

터치 롤은 탄성을 갖는 재질로 형성되어 있는 것이 바람직하다. 터치 롤 및 캐스트 롤의 재질은 SCM계의 강철, SUS 등의 스테인리스 등이 바람직하다. 또한, 터치 롤 및 캐스트 롤로서, 상기 강철 또는 스테인리스에, 크롬, 니켈, 티타늄 등의 도금을 실시하여 이루어지는 재; PVD(Physical Vapor Deposition)법 등에 의해, TiN, TiAlN, TiCN, CrN, DLC(다이아몬드상 카본) 등의 표면 피막을 형성하여 이루어지는 재; 텅스텐카바이트 또는 그 밖의 세라믹을 용사하여 이루어지는 재; 및 상기 강철 또는 스테인리스의 표면을 질화 처리하여 이루어지는 재;를 사용하는 것도 적합하다.It is preferable that the touch roll is formed of a material having elasticity. As for the material of a touch roll and a cast roll, stainless steel, such as SCM steel and SUS, etc. are preferable. Moreover, as a touch roll and a cast roll, material formed by plating the said steel or stainless steel with chromium, nickel, titanium, etc.; material formed by forming a surface film of TiN, TiAlN, TiCN, CrN, DLC (diamond-like carbon) or the like by a PVD (Physical Vapor Deposition) method or the like; ash formed by thermal spraying of tungsten carbide or other ceramics; It is also suitable to use; and material obtained by nitriding the surface of the steel or stainless steel.

캐스트 롤에 대한 터치 롤의 압박력을, 필름과 터치 롤의 접촉 면적으로 나눈 값인 터치압은 0.1㎫ 내지 10㎫의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.3㎫ 내지 8㎫의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 0.5㎫ 내지 5㎫의 범위 내인 것이 특히 바람직하다.The touch pressure, which is a value obtained by dividing the pressing force of the touch roll against the cast roll by the contact area between the film and the touch roll, is preferably in the range of 0.1 MPa to 10 MPa, more preferably in the range of 0.3 MPa to 8 MPa, and 0.5 MPa. It is particularly preferably within the range of 5 MPa to 5 MPa.

터치 롤 및 캐스트 롤은 그 표면의 산술 평균 높이(Ra)가 100㎚ 이하인 것이 바람직하고, 50㎚ 이하인 것이 보다 바람직하고, 25㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 이에 의해, 표면에 적당한 요철을 갖는 필름을 제막할 수 있다. 터치 롤 및 캐스트 롤 표면의 재질이 금속이라면, 이들 롤의 Ra를 100㎚ 이하로 하는 것이 용이하다.It is preferable that the arithmetic mean height (Ra) of the surface of a touch roll and a cast roll is 100 nm or less, it is more preferable that it is 50 nm or less, and it is still more preferable that it is 25 nm or less. Thereby, a film having appropriate irregularities on the surface can be formed into a film. If the material of the surface of a touch roll and a cast roll is metal, it is easy to make Ra of these rolls 100 nm or less.

터치 롤 및 캐스트 롤의 굵기, 길이 및 온도 등은 원하는 광학 필름의 크기 및 두께에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 단, 용융물을 서냉(냉각)하는 데 있어서, 상기 캐스트 롤은 복수개(보다 구체적으로는 2 내지 6개) 존재하는 것이 보다 바람직하다.The thickness, length, temperature, and the like of the touch roll and cast roll may be appropriately set according to the desired size and thickness of the optical film, and are not particularly limited. However, in slowly cooling (cooling) the molten material, it is more preferable that a plurality of (more specifically, 2 to 6) existing cast rolls are present.

그리고, 예를 들어 2개 이상의 캐스트 롤을 사용하여 용융물을 서냉하여 필름을 제막하는 경우에는, 다이에 의해 가까운 측(상류측)의 캐스트 롤보다도 하류측에 인접하는 캐스트 롤의 온도는 상기 상류측의 캐스트 롤의 온도와 비교하여, 0℃를 초과하고, 20℃ 이하의 범위에서 낮은 것이 바람직하고, 1℃ 내지 18℃ 낮은 것이 보다 바람직하고, 2℃ 내지 15℃ 낮은 것이 더욱 바람직하다. 이에 의해, 얻어지는 광학 필름의 양면의 물성을 보다 균일하게 할 수 있고, 당해 광학 필름 내의 잔존 변형이 해소되기 쉬워진다. 그 때문에, 습도 및 열에 대한 광학 필름의 치수 안정성을 향상시킬 수 있다. 또한, 다이에 가장 가까운 측(최상류측)의 캐스트 롤의 온도는 용융물의 온도에 따라 적절히 설정하면 된다.And, for example, in the case of forming a film by slowly cooling the melt using two or more cast rolls, the temperature of the cast roll adjacent to the downstream side of the cast roll on the near side (upstream side) of the die is the above-mentioned upstream side Compared to the temperature of the cast roll of , it is preferably lower than 0 ° C and lower than 20 ° C, more preferably 1 ° C to 18 ° C lower, and still more preferably 2 ° C to 15 ° C lower. As a result, physical properties of both surfaces of the obtained optical film can be made more uniform, and residual strain in the optical film can be easily eliminated. Therefore, the dimensional stability of the optical film against humidity and heat can be improved. In addition, the temperature of the cast roll on the side closest to the die (upstream side) may be appropriately set according to the temperature of the melt.

터치 롤의 온도는 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도(Tg)를 기준으로 하여, Tg-80℃ 내지 Tg+10℃의 범위 내인 것이 바람직하고, Tg-70℃ 내지 Tg+5℃의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, Tg-60℃ 내지 Tg의 범위 내인 것이 특히 바람직하다.The temperature of the touch roll is preferably within the range of Tg-80 ° C to Tg + 10 ° C, based on the glass transition temperature (Tg) of the (meth) acrylic resin, and more preferably within the range of Tg-70 ° C to Tg + 5 ° C. , Tg - 60 ° C. to Tg is particularly preferred.

터치 롤 및 캐스트 롤의 온도 제어는, 예를 들어 이들 롤의 내부에 온도를 조절한 열매체(액체 또는 기체)를 유통시킴으로써 행할 수 있다.Temperature control of a touch roll and a cast roll can be performed, for example by passing the heat medium (liquid or gas) whose temperature was adjusted inside these rolls.

[제막 속도][Unveiling speed]

용융물의 제막 속도는 원하는 광학 필름의 크기 및 두께 등에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. 상기 제막 속도는 2m/분 내지 50m/분의 범위 내인 것이 바람직하고, 2m/분 내지 40m/분의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 3m/분 내지 35m/분의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 제막 속도를 상기 범위 내로 함으로써, 다이의 출구에 있어서 상기 용융물이 터치 롤 및 캐스트 롤에 의해 인장되고, 당해 용융물의 팽창이 억제됨과 함께, 용융물이 다이의 출구에 스치는 것이 억제된다. 그 때문에, 얻어지는 광학 필름의 표면의 요철을 바람직한 범위로 제어할 수 있다. 또한, 제막 속도를 상기 범위 내로 함으로써, 용융물의 다이에서의 체류 시간을 짧게 억제할 수 있으므로, 용융물에 포함되는 이물(겔이나 오염 물질)의 수를 저감시킬 수 있다. 제막 속도가 50m/분을 초과하면, 다이의 출구에 있어서의 용융물의 흐름에 혼란이 발생하여, 필름의 균일성이 저하될 우려가 있다.The film forming rate of the melt may be appropriately set according to the desired size and thickness of the optical film, and is not particularly limited. The film forming speed is preferably in the range of 2 m/min to 50 m/min, more preferably in the range of 2 m/min to 40 m/min, and still more preferably in the range of 3 m/min to 35 m/min. When the film forming speed is within the above range, the melt is pulled by the touch roll and the cast roll at the exit of the die, and expansion of the melt is suppressed, and rubbing against the exit of the die is suppressed. Therefore, irregularities on the surface of the obtained optical film can be controlled within a preferable range. In addition, by setting the film forming speed within the above range, the residence time in the die of the melt can be suppressed to be short, so the number of foreign substances (gels and contaminants) contained in the melt can be reduced. When the film forming speed exceeds 50 m/min, there is a possibility that the flow of the molten material at the exit of the die may be disturbed and the uniformity of the film may deteriorate.

이와 같이 내열성(유리 전이 온도가 108℃ 이상인)의 (메트)아크릴계 수지를 터치 롤 제막함으로써, 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용한 경우에 있어서도, b*값이 낮아 양호하고, 제막 시에 롤(터치 롤 및 캐스트 롤)로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름을 제조할 수 있다.Thus, by forming a heat-resistant (glass transition temperature of 108 ° C. or higher) (meth)acrylic resin into a touch roll film, even when an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature is used, the b * value is low and good, and the roll (touch It is possible to produce an optical film having good optical properties without transfer of contaminants from rolls and cast rolls).

그리고, 열가소성 수지 조성물에 포함되는 자외선 흡수제의 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 식 「50≤Td-Tp」를 만족시키도록 다이로부터 용융물을 토출하면, 상술한 효과를 보다 크게 할 수 있다.Then, the relationship between the thermal decomposition temperature Td (° C.) of the ultraviolet absorber contained in the thermoplastic resin composition and the temperature Tp (° C.) of the melt at the exit of the die satisfies the expression “50≤Td-Tp”. If the melt is discharged from the above, the effect described above can be further increased.

또한, 터치 롤 제막에 의해 얻어진 광학 필름은, 필요에 따라, 그 양단을 트리밍해도 된다. 트리밍에 의해 잘라 떨어뜨려진 광학 필름은, 파쇄하면 원료로서 재사용할 수 있다.In addition, the optical film obtained by touch roll film formation may have both ends trimmed as needed. The optical film cut off by trimming can be reused as a raw material if crushed.

[권취 및 연신][winding and stretching]

터치 롤 제막에 의해 연속적으로 제조된 광학 필름은 캐스트 롤로부터 박리되고, 닙롤 등을 통과한 후, 심재에 권취되어 롤상의 광학 필름이 된다. 광학 필름의 권취 속도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1m/분 내지 100m/분의 범위 내인 것이 바람직하고, 2m/분 내지 80m/분의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 3m/분 내지 70m/분의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 광학 필름의 권취 장력은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 1N/m폭 내지 500N/폭의 범위 내인 것이 바람직하고, 1N/m 폭 내지 300N/폭의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.The optical film continuously manufactured by touch roll film formation is peeled off from the cast roll and passed through a nip roll or the like, then wound around a core material to become a roll-shaped optical film. The winding speed of the optical film is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 m/min to 100 m/min, more preferably in the range of 2 m/min to 80 m/min, and in the range of 3 m/min to 70 m/min. It is more preferable to be mine. In addition, the winding tension of the optical film is not particularly limited, but is preferably within the range of 1 N/m width to 500 N/width, more preferably within the range of 1 N/m width to 300 N/width.

광학 필름을 권취하기 전에, 당해 광학 필름의 편면 또는 양면에, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에스테르 등을 포함하는 보호 필름을 접착해도 된다. 보호 필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5㎛ 내지 100㎛의 범위 내인 것이 바람직하고, 10㎛ 내지 50㎛의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.Before winding up the optical film, a protective film made of polyethylene, polypropylene, polyester, or the like may be adhered to one or both surfaces of the optical film. The thickness of the protective film is not particularly limited, but is preferably in the range of 5 µm to 100 µm, and more preferably in the range of 10 µm to 50 µm.

터치 롤 제막에 의해 연속적으로 제조된 광학 필름은 종연신 및/또는 횡연신을 행하는 것이 바람직하다(이하, 종연신을 「MD 연신」, 횡연신을 「TD 연신」이라고도 표기함). MD 연신 및/또는 TD 연신과, 수축 완화 처리를 조합하여 행해도 된다. 본 발명에 관한 광학 필름은 2축 연신(MD 연신 및 TD 연신)하는 것이 보다 바람직하다. 또한, MD란 Machine Direction의 약어이고, 「길이 방향」 및 「종방향」과 동의이다. TD란 Transverse Direction의 약어이고, 「폭 방향」 및 「횡방향」과 동의이다.It is preferable to perform longitudinal stretching and/or transverse stretching of the optical film continuously manufactured by touch roll film formation (hereafter, "MD stretching" for longitudinal stretching and "TD stretching" for lateral stretching are also described). MD stretching and/or TD stretching may be combined with shrinkage relaxation treatment. The optical film according to the present invention is more preferably biaxially stretched (MD stretching and TD stretching). In addition, MD is an abbreviation of Machine Direction, and is synonymous with "longitudinal direction" and "longitudinal direction". TD is an abbreviation of Transverse Direction, and is synonymous with "width direction" and "lateral direction".

MD 연신의 구체적인 방법으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들어 오븐 종연신, 롤 종연신 등의 방법을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as a specific method of MD extending|stretching, For example, methods, such as oven longitudinal stretching and roll longitudinal stretching, are mentioned.

오븐 종연신은 오븐의 입구측에 있는 반송 롤과, 출구측에 있는 반송 롤 사이에 주속차가 생기게 함으로써 원 필름을 그의 길이 방향으로 연신하는 방법이다. 상기 오븐은 원 필름을 연신 가능한 온도까지 가열할 수 있도록 구성되어 있다. 오븐 종연신에 의하면, 연신 조건에 따라서는, 연신 후의 필름에 열처리 효과를 부여할 수 있다.Oven longitudinal stretching is a method of stretching an original film in its longitudinal direction by creating a difference in circumferential speed between a conveyance roll at the entrance side of the oven and a conveyance roll at the exit side. The oven is configured to heat the original film to a temperature at which it can be stretched. According to oven longitudinal stretching, depending on stretching conditions, a heat treatment effect can be imparted to the film after stretching.

오븐 종연신에 있어서의 연신 온도는 원 필름의 유리 전이 온도(Tg)를 기준으로 하고, Tg-10℃ 내지 Tg+50℃의 범위 내인 것이 바람직하고, Tg-5℃ 내지 Tg+40℃의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, Tg℃ 내지 Tg+30℃의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. Tg-10℃보다도 낮은 온도에서 연신하면, 원 필름이 파단될 우려가 있다. Tg+50℃보다도 높은 온도에서 연신하면, 원 필름의 늘어짐이 커지기 때문에, 원 필름과 장치의 마찰이 발생할 우려나, 원 필름이 파단될 우려가 있다.The stretching temperature in oven longitudinal stretching is preferably within the range of Tg-10°C to Tg+50°C, more preferably within the range of Tg-5°C to Tg+40°C, based on the glass transition temperature (Tg) of the original film. And, more preferably within the range of Tg ℃ to Tg + 30 ℃. Stretching at a temperature lower than Tg - 10°C may cause the original film to break. Stretching at a temperature higher than Tg + 50°C increases the sagging of the original film, so there is a risk of friction between the original film and the device or breakage of the original film.

롤 종연신은 원 필름을 다수의 가열 롤에 연속 접촉하면서 연신 온도까지 가열하고, 연신 구간에 설치된 닙롤에 의해 연신하는 방법이다. 그 후, 연신된 필름은 냉각 롤에 의해 냉각된다. 상기 연신 구간 내에는 연신 온도를 안정화시키기 위해, 보조 가열 장치가 설치되어 있어도 된다. 롤 종연신은 롤 종연신기를 사용하여 실시할 수 있다.Longitudinal roll stretching is a method in which an original film is heated to a stretching temperature while being in continuous contact with a plurality of heating rolls, and then stretched by nip rolls installed in the stretching section. After that, the stretched film is cooled by a cooling roll. An auxiliary heating device may be installed in the stretching section to stabilize the stretching temperature. Longitudinal roll stretching can be performed using a longitudinal roll stretching machine.

롤 종연신기에 있어서의 가열 롤의 온도란, 가열 롤의 설정 온도를 가리킨다. 원 필름의 연신 온도 및 연신 배율은 종연신 후에 얻어지는 필름의 기계적 강도, 표면성 및 두께 정밀도를 지표로 하여, 적절히 조정할 수 있다. 연신일 때에는 원 필름을, 당해 필름의 유리 전이 온도(Tg)를 기준으로 하고, 가열 롤에 의해 Tg-10℃ 내지 Tg+20℃의 범위 내까지 가열하는 것이 바람직하다. 또한, 연신 구간 내에 설치한 보조 가열 장치에 의해, Tg℃ 내지 Tg+30℃의 범위 내까지 가열하는 것이 보다 바람직하다. 가열 롤에 의한 원 필름의 가열이 Tg-10℃보다도 낮은 경우에는, 원 필름이 찢어지거나, 균열이 생기는 등의 공정상의 문제를 일으키기 쉽다. 가열 롤에 의한 원 필름의 가열이 Tg+30℃보다도 높은 경우에는, 최종적으로 얻어지는 광학 필름의 연신율이나 인장 강도, 가요성 등의 역학적 성질이 개선되기 어려우므로, 2차 가공성이 나빠지는 경우가 있다.The temperature of the heating roll in the roll longitudinal stretching machine refers to the set temperature of the heating roll. The stretching temperature and stretching ratio of the original film can be appropriately adjusted using the mechanical strength, surface properties and thickness accuracy of the film obtained after longitudinal stretching as indicators. In the case of stretching, it is preferable to heat the original film within the range of Tg-10°C to Tg+20°C with a heating roll on the basis of the glass transition temperature (Tg) of the film. Moreover, it is more preferable to heat within the range of Tg°C to Tg+30°C with an auxiliary heating device provided in the stretching section. If the heating of the original film by the heating roll is lower than Tg - 10°C, it is easy to cause process problems such as tearing or cracking of the original film. When the heating of the original film with the heating roll is higher than Tg + 30 ° C., it is difficult to improve the mechanical properties such as elongation, tensile strength, and flexibility of the finally obtained optical film, so secondary processability may deteriorate.

또한, 가열 롤의 합계 개수는 5개 이상이 바람직하다. 가열 롤이 5개보다도 적은 경우에는, 가열 효과가 작아지기 때문에, 원 필름을 충분히 가열할 수 없다. 가열 롤의 합계 개수를 5개 미만으로 하는 대신에, 가열 효과를 높이기 위해 가열 롤의 롤 직경을 크게 하는 방법은 가열에 의해 열팽창한 원 필름을 충분히 잡아늘일 수 없고, 주름이 발생하기 쉬워짐과 함께 주름 유래의 파단도 발생하기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다.Moreover, the total number of heating rolls is preferably 5 or more. When the number of heating rolls is less than five, the original film cannot be sufficiently heated because the heating effect is reduced. The method of increasing the roll diameter of the heating rolls to enhance the heating effect instead of reducing the total number of heating rolls to less than 5 is that the original film thermally expanded by heating cannot be sufficiently stretched, and wrinkles are likely to occur. At the same time, since breakage caused by wrinkles also tends to occur, this is not preferable.

연신 구간 내에 설치하는 보조 가열 장치로서는, 공지의 장치를 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 IR 히터, 세라믹 히터, 열풍 히터 중에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하다.A well-known device is mentioned as an auxiliary heating device installed in an extending|stretching area. Specifically, at least one selected from IR heaters, ceramic heaters, and hot air heaters is preferable.

MD 연신을 행할 때의 연신 속도는 원하는 광학 필름의 특성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 10 내지 20000%/분의 범위 내가 바람직하고, 100 내지 10000%/분의 범위 내가 보다 바람직하다. 연신 속도가 10%/분보다도 느리면, 충분한 연신 배율을 얻기 위해 시간이 걸리고, 제조 비용이 높아진다. 연신 속도가 20000%/분보다도 빠르면, 필름의 파단 등이 일어날 우려가 있다.The stretching speed at the time of performing MD stretching may be appropriately set according to the characteristics of the desired optical film, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 20000%/min, and more preferably in the range of 100 to 10000%/min. do. When the stretching speed is slower than 10%/min, it takes time to obtain a sufficient stretching ratio and the manufacturing cost increases. When the stretching speed is faster than 20000%/min, there is a possibility that the film may be broken or the like.

MD 연신을 행할 때의 연신 배율은 원하는 광학 필름의 특성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 10 내지 300%의 범위 내인 것이 바람직하고, 15 내지 300%의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 20 내지 200%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 연신 배율은 「연신 배율(%)=100×{(연신 후의 길이)-(연신 전의 길이)}/(연신 전의 길이)」로 정의된다.The draw ratio when performing MD stretching may be appropriately set according to the characteristics of the desired optical film, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 300%, more preferably in the range of 15 to 300%, It is more preferably within the range of 20 to 200%. In addition, a draw ratio is defined as "stretch ratio (%) = 100 x {(length after stretching) - (length before stretching)}/(length before stretching)".

TD 연신을 행할 때의 연신 온도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 원 필름의 유리 전이 온도(Tg)를 기준으로 하여, Tg-5℃ 내지 Tg+30℃의 범위 내인 것이 바람직하고, Tg 내지 Tg+30℃의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, Tg 내지 Tg+20℃의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 연신 온도가 Tg-5℃ 미만이면, 연신하기 전에 필름이 파단될 우려가 있다. 연신 온도가 Tg+30℃를 초과하면, 분자쇄의 완화가 커져 분자가 배향되기 어려워질 우려가 있다.The stretching temperature during TD stretching is not particularly limited, but is preferably within the range of Tg -5 ° C. to Tg + 30 ° C., based on the glass transition temperature (Tg) of the original film, and within the range of Tg to Tg + 30 ° C. It is more preferable, and it is still more preferable that it is within the range of Tg to Tg+20°C. If the stretching temperature is lower than Tg-5°C, the film may break before stretching. When the stretching temperature exceeds Tg+30°C, there is a risk that the relaxation of the molecular chains becomes large, making it difficult for the molecules to orient.

TD 연신을 행할 때의 연신 속도는 원하는 광학 필름의 특성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 10 내지 20000%/분의 범위 내가 바람직하고, 100 내지 10000%/분의 범위 내가 보다 바람직하다. 연신 속도가 10%/분보다도 느리면, 충분한 연신 배율을 얻기 위해 시간이 걸리고, 제조 비용이 높아진다. 연신 속도가 20000%/분보다도 빠르면, 필름의 파단 등이 일어날 우려가 있다.The stretching speed at the time of TD stretching may be appropriately set according to the characteristics of the desired optical film, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 20000%/min, more preferably in the range of 100 to 10000%/min. do. When the stretching speed is slower than 10%/min, it takes time to obtain a sufficient stretching ratio and the manufacturing cost increases. When the stretching speed is faster than 20000%/min, there is a possibility that the film may be broken or the like.

TD 연신을 행할 때의 연신 배율은 원하는 광학 필름의 특성에 따라 적절히 설정하면 되고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 10 내지 300%의 범위 내인 것이 바람직하고, 15 내지 300%의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 20 내지 200%의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다.The draw ratio during TD stretching may be appropriately set according to the characteristics of the desired optical film, and is not particularly limited, but is preferably in the range of 10 to 300%, more preferably in the range of 15 to 300%, It is more preferably within the range of 20 to 200%.

광학 필름은 MD 연신 및/또는 TD 연신 전에 열처리를 행해도 되고, MD 연신 및/또는 TD 연신 후에 열처리를 행해도 된다.The optical film may be subjected to heat treatment before MD stretching and/or TD stretching, or may be subjected to heat treatment after MD stretching and/or TD stretching.

본 발명에 관한 광학 필름은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 종방향의 연신 배율과 횡방향의 연신 배율의 비(MD 연신의 연신 배율/TD 연신의 연신 배율)가, 0.40 내지 1.50의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.45 내지 1.40의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 0.50 내지 1.30의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다.The optical film according to the present invention is not particularly limited, but the ratio of the draw ratio in the machine direction to the draw ratio in the transverse direction (draw ratio in MD stretching/stretch ratio in TD stretching) is preferably within the range of 0.40 to 1.50. , It is more preferably within the range of 0.45 to 1.40, and more preferably within the range of 0.50 to 1.30.

〔5. 광학 필름〕[5. optical film]

상기 방법에 의해 제조된 광학 필름은 당해 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고, 광학 특성이 양호하다. 상기 b*값의 절댓값은 0.4 이하, 0.3 이하의 순으로 바람직해진다. 상기 b*값의 절댓값에 하한은 특별히 없고, 작을수록 바람직하다(즉, b*값은 제로에 가까울수록 바람직함). 여기서, 상기 광학 필름에는, 〔4〕절에서 설명되어 있는 방법에 의해 제조된 필름이 포함된다. 보다 구체적으로는, 터치 롤 제막에 의해 제조된 미연신 필름, 그 후 연신이 행해진 연신 필름 등이 포함된다.The optical film produced by the above method has a b * value of less than 0.5 when the optical film has a thickness of 80 µm and has good optical properties. The absolute value of the b * value is preferably 0.4 or less and 0.3 or less in this order. There is no particular lower limit to the absolute value of the b * value, and a smaller value is preferable (that is, the closer the b * value is to zero, the more preferable it is). Here, the optical film includes a film manufactured by the method described in Section [4]. More specifically, an unstretched film manufactured by touch roll film formation, a stretched film subjected to stretching after that, and the like are included.

[노이즈][noise]

상기 광학 필름이 롤상의 광학 필름인 경우에는, 당해 광학 필름을 그의 길이 방향으로 120m의 길이에 걸쳐서 12m 간격으로 폭 방향의 80%를 투영 검사했을 때의, 노이즈의 합계는 5점 이하이다. 또한, 광학 필름이 매엽의 광학 필름인 경우에는, 당해 광학 필름을 투영 검사했을 때의, 1㎡당의 노이즈는 5점 이하이다. 이와 같은 성질을 만족시키는 필름을, 본 명세서에서는 「롤로부터의 오염 물질의 전사가 없다」라고 표현한다.When the optical film is a roll-shaped optical film, the total amount of noise when projection inspection is performed on 80% of the optical film in the width direction at intervals of 12 m over a length of 120 m in its longitudinal direction is 5 points or less. In addition, when the optical film is a sheet optical film, the noise per 1 m 2 when the projection inspection of the optical film is performed is 5 points or less. A film satisfying such a property is expressed as "no transfer of contaminants from a roll" in the present specification.

본 명세서에 있어서 「노이즈」란, 오염 물질(예를 들어, 열가소성 수지 조성물 혹은 휘산한 자외선 흡수제가 변질된 물질)이, 광학 필름의 표면에 전사된 것에 의해 발생한 결점을 의미한다. 상기 노이즈의 범주에는, (i) 열가소성 수지 조성물의 용융물에 포함되는 겔 등의 이물에 의해 발생한 결점, (ii) 공기 중의 부유물(실 보무라지, 티끌, 먼지 등)이 광학 필름의 표면에 부착된 것에 의해 발생한 결점, 그리고 (iii) 터치 롤 및 캐스트 롤의 표면에 부착된 오염물질(티끌, 먼지 등)은 포함되지 않는다. 상기 노이즈에 의해, 원래 확인하고 싶은, 열가소성 수지 조성물의 용융물에 포함되는 이물(겔 등)의 검출이 곤란해진다. 또한, 당해 노이즈가 많은 필름은 광학 필름으로서의 기능에 지장을 초래한다.In this specification, “noise” means a defect caused by transfer of a contaminant (for example, a material in which a thermoplastic resin composition or a volatilized ultraviolet absorber has deteriorated) to the surface of an optical film. The category of the noise includes (i) defects caused by foreign substances such as gel contained in the melt of the thermoplastic resin composition, (ii) floating matter in the air (thread, dirt, dust, etc.) attached to the surface of the optical film. and (iii) contaminants (dust, dust, etc.) adhering to the surface of the touch roll and cast roll are not included. Due to the noise, it becomes difficult to detect a foreign material (gel or the like) contained in the melt of the thermoplastic resin composition, which is to be confirmed in the first place. In addition, the film with a lot of noise interferes with the function as an optical film.

롤상의 광학 필름을, 그의 길이 방향으로 120m의 길이에 걸쳐서 12m 간격으로 폭 방향의 80%를 투영 검사하는 방법은, 예를 들어 터치 롤 제막에 의해 제조된 광학 필름을 심재에 권취할 때에(즉, 인라인에서) 투영 검사하는 방법이 있다. 구체적으로는, 이하의 수순에 의한다.A method of projecting and inspecting 80% of the optical film in the width direction at intervals of 12 m over a length of 120 m in the longitudinal direction of the roll-shaped optical film is, for example, when winding an optical film manufactured by touch roll film formation around a core material (that is, , inline), there is a way to check the projection. Specifically, it is based on the following procedure.

(1) 연속적으로 반송되는 광학 필름을 측정 가능한 위치에 자동 결점 검사 장치를 배치한다.(1) An automatic defect inspection device is placed in a position where an optical film continuously transported can be measured.

(2) 12m 간격으로 측정할 수 있는 측정 간격을, 광학 필름의 반송 속도로부터 산출한다(예를 들어, 반송 속도가 12m/분인 경우에는 1분간 간격).(2) The measurement interval which can be measured every 12 m is computed from the conveyance speed of an optical film (for example, when conveyance speed is 12 m/min, it is 1 minute interval).

(3) 상기 측정 간격으로 합계 11회, 상기 자동 결점 검사 장치에 의한 투영 검사를 행한다. 이때, 각 측정 개소에 있어서의 광학 필름의 폭 방향의 80%를 투영 검사한다.(3) The projection inspection by the said automatic defect inspection apparatus is performed 11 times in total at the said measurement interval. At this time, 80% of the width direction of the optical film in each measurement location is projected and inspected.

광학 필름의 폭 방향의 80%는 어디에 설정해도 상관없다. 바람직하게는, 광학 필름의 폭 방향의 중심으로부터 양단을 향해 40%씩으로 설정한다. 즉, 폭 방향의 양단 10%씩을 생략하도록 설정한다.80% of the width direction of the optical film may be set anywhere. Preferably, it is set to 40% each toward both ends from the center of the width direction of an optical film. That is, it sets so as to omit 10% of each of both ends in the width direction.

또한, 매엽의 광학 필름의 투영 검사는 복수매의 광학 필름을 투영 검사하여 얻어진 노이즈의 수를 1㎡당의 노이즈의 수로 환산함으로써(즉, 오프라인에서) 실시하는 것이 바람직하다. 상기 복수매의 광학 필름은 면적의 합계가 1㎡ 이상이 되는 매수(예를 들어, A4크기에서는 17장 이상)인 것이 보다 바람직하다. 광학 필름의 투영 검사는 시판의 자동 결점 검사 장치를 사용하여 행할 수 있다. 구체적인 투영 검사 방법의 일례는 실시예에 기재된 바와 같다.In addition, it is preferable to carry out the projection inspection of the sheet optical film by converting the number of noises obtained by projection inspection of a plurality of optical films into the number of noises per 1 m2 (that is, off-line). It is more preferable that the plurality of optical films have a total area of 1 m 2 or more (for example, 17 or more sheets in A4 size). Projection inspection of the optical film can be performed using a commercially available automatic defect inspection device. An example of a specific projection inspection method is as described in the embodiment.

광학 필름에 노이즈가 발생하는 경우, 당해 노이즈의 크기는 15㎛ 이하인 것이 바람직하고, 10㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다. 크기가 15㎛ 이하인 노이즈는 투영 검사에서 검출되지 않고, 광학 필름으로서 실제로 사용할 때에도 문제가 되지 않는 경우가 있다. 또한, 노이즈는 적으면 적을수록 바람직하고, 작으면 작을수록 바람직하다.When noise is generated in the optical film, the size of the noise is preferably 15 μm or less, and more preferably 10 μm or less. Noise with a size of 15 μm or less is not detected in projection inspection, and there are cases in which it does not cause a problem even when actually used as an optical film. In addition, the smaller the noise is, the better it is, and the smaller it is, the better it is.

본 발명에 관한 광학 필름은 전술한 열분해 온도 Td(℃)와 온도 Tp(℃)의 관계가 식 「50≤Td-Tp」를 만족시키도록 하여 제조되어 있다. 그 때문에, 당해 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고, 광학 특성이 양호하다. 그뿐만 아니라, 열가소성 수지 조성물의 용융물에 포함되는 겔 등의 이물도 적고, 또한 롤(터치 롤 및 캐스트 롤)이 오염되는 경우도 없다. 그 때문에, 일반적인 광학 필름의 제조 환경이라도, 상기 투영 검사를 행한 경우의 노이즈를 5점 이하로 할 수 있다(즉, 롤로부터의 오염 물질의 전사가 없음).The optical film according to the present invention is manufactured such that the relationship between the thermal decomposition temperature Td (°C) and the temperature Tp (°C) described above satisfies the expression "50≤Td-Tp". Therefore, the b * value when the said optical film is made into a film with a thickness of 80 micrometers is less than 0.5, and optical characteristics are favorable. In addition, there are few foreign substances such as gel contained in the melt of the thermoplastic resin composition, and the rolls (touch rolls and cast rolls) are not contaminated. Therefore, even in a general optical film manufacturing environment, the noise in the projection inspection can be reduced to 5 points or less (that is, there is no transfer of contaminants from the roll).

[광학적 성능][Optical performance]

(두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 광학적 성능)(Optical performance when using a film with a thickness of 80 μm)

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 c*값이 0.5 미만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3 미만이다. 상기 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 a*값의 절댓값이 0.10 이하인 것이 바람직하고, 0.05 이하인 것이 더욱 바람직하다. 상기 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 b*값이 0.5 미만이고, 광학 특성이 양호하다. 상기 b*값의 절댓값은 0.4 이하, 0.3 이하의 순으로 바람직해진다. 상기 b*값의 절댓값에 하한은 특별히 없고, 작을수록 바람직하다(즉, b*값은 제로에 가까울수록 바람직함). 상기 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 L*값이 95.0% 이상인 것이 바람직하고, 98.0% 이상인 것이 보다 바람직하고, 99.0% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 99.5% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상기 광학 필름의 광학 특성이 상기 범위 내이면, 편광자 보호 필름 등에 적합하게 사용할 수 있다.The optical film according to one embodiment of the present invention preferably has a c * value of less than 0.5, more preferably less than 0.3, as measured in accordance with JIS Z 8729 when the optical film has a thickness of 80 µm. The optical film preferably has an absolute value of 0.10 or less, more preferably 0.05 or less, as measured in accordance with JIS Z 8729 when the optical film has a thickness of 80 µm. The optical film has a b * value of less than 0.5 measured in accordance with JIS Z 8729 when a film having a thickness of 80 µm is used, and has good optical properties. The absolute value of the b * value is preferably 0.4 or less and 0.3 or less in this order. There is no particular lower limit to the absolute value of the b * value, and a smaller value is preferable (that is, the closer the b * value is to zero, the more preferable it is). The optical film has an L * value of 95.0% or more, more preferably 98.0% or more, and more preferably 99.0% or more, as measured in accordance with JIS Z 8729 when the film has a thickness of 80 μm. It is especially preferable that it is 99.5% or more. If the optical properties of the optical film are within the above range, it can be suitably used for a polarizer protective film or the like.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 380㎚의 광선 투과율이 5.0% 이하인 것이 바람직하고, 4.0% 이하인 것이 보다 바람직하고, 3.0% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 광선 투과율이 이 범위 내이면, 상기 광학 필름을 광학 기기의 편광판으로서 조립시킨 경우에, 충분한 자외선 흡수능을 발휘할 수 있다. 또한, 상기 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 420㎚의 광선 투과율이 95.0% 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 96.0% 이상, 더욱 바람직하게는 97.0% 이상이다. 광선 투과율이 이 범위 내이면, 가시광 영역의 투과율이 높아지고, 당해 광학 필름을 광학 용도에 사용하는 경우에 특히 적합하다.The optical film according to one embodiment of the present invention has a light transmittance of 5.0% or less at a wavelength of 380 nm measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 when a film having a thickness of 80 μm is preferably 5.0% or less, and more preferably 4.0% or less. It is preferable, and it is more preferable that it is 3.0 % or less. If the light transmittance is within this range, when the optical film is incorporated as a polarizing plate of an optical device, sufficient ultraviolet absorbing power can be exhibited. Further, the optical film preferably has a light transmittance of 95.0% or more at a wavelength of 420 nm, more preferably 96.0% or more, and still more preferably 96.0% or more, as measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 when the optical film has a thickness of 80 μm. It is 97.0% or more. When the light transmittance is within this range, the transmittance in the visible light region is high, and it is particularly suitable when the optical film is used for optical applications.

본 발명의 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 전체 광선 투과율이 바람직하게는 95.0% 이상, 보다 바람직하게는 97.0% 이상, 더욱 바람직하게는 99.0% 이상이다.The optical film of the present invention has a total light transmittance of preferably 95.0% or more, more preferably 97.0% or more, still more preferably 99.0% or more when it is made into a film having a thickness of 80 μm.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 헤이즈가 1.0% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.8% 이하, 더욱 바람직하게는 0.5% 이하이다. 헤이즈가 1.0%를 초과하면 투명성이 저하되고, 당해 광학 필름을 광학 용도에 사용하는 경우에 적합하지 않다.The optical film according to one embodiment of the present invention preferably has a haze of 1.0% or less when it is made into a film having a thickness of 80 μm. More preferably, it is 0.8% or less, and still more preferably 0.5% or less. When a haze exceeds 1.0 %, transparency will fall and it is unsuitable when using the said optical film for an optical use.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 순수와의 접촉각이 76° 이하인 것이 바람직하다. 순수와의 접촉각이 76° 이하이면, 광학 필름으로 친수성 접착 용이제 조성물을 도포할 때에, 균일하게 도포할 수 있다.The optical film according to one embodiment of the present invention preferably has a contact angle with pure water of 76° or less. When the contact angle with pure water is 76° or less, when applying the hydrophilic adhesion-facilitating agent composition to the optical film, it can be applied uniformly.

[광학 필름의 용도][Use of optical film]

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 동종 광학 재료 및/또는 이종 광학 재료와 적층시켜 사용함으로써, 더욱 광학 특성을 제어할 수 있다. 이때에 적층되는 광학 재료로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 편광판, 폴리카르보네이트제 연신 배향 필름, 환상 폴리올레핀제 연신 배향 필름 등을 들 수 있다. 물론, 상기 광학 필름을 단독으로 사용해도 된다.The optical properties of the optical film according to one embodiment of the present invention can be further controlled by using a laminate of the same type of optical material and/or a different type of optical material. Although it does not specifically limit as an optical material laminated|stacked at this time, For example, a polarizing plate, a stretched oriented film made from polycarbonate, a stretched oriented film made from cyclic polyolefin, etc. are mentioned. Of course, you may use the said optical film independently.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름의 표면에는 필요에 따라, 각종 기능성 코팅층이 형성될 수 있다. 기능성 코팅층은, 예를 들어 대전 방지층, 점 접착제층, 접착층, 접착 용이층, 방현(논글레어)층, 광촉매층 등의 방오층, 반사 방지층, 하드 코트층, 자외선 차폐층, 열선 차폐층, 전자파 차폐층, 가스 배리어층이다.Various functional coating layers may be formed on the surface of the optical film according to an embodiment of the present invention, if necessary. The functional coating layer is, for example, an antistatic layer, an adhesive layer, an adhesive layer, an easy bonding layer, an antifouling layer such as an antiglare (non-glare) layer, a photocatalyst layer, an antireflection layer, a hard coat layer, an ultraviolet ray shielding layer, a heat ray shielding layer, and an electromagnetic wave. It is a shielding layer and a gas barrier layer.

본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름의 용도는 특별히 한정되지 않는다. 본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 높은 투명성, 작은 색상, 낮은 채도 및 높은 내열성을 가지므로, 이하의 용도에 적합하다. 당해 용도는, 예를 들어 광학용 보호 필름(구체적으로는, 각종 광 디스크(VD, CD, DVD, MD, LD 등)의 기판의 보호 필름), LCD 등의 화상 표시 장치가 구비하는 편광판에 사용하는 편광자 보호 필름이다. 그 밖에도, 시야각 보상 필름, 광 확산 필름, 반사 필름, 반사 방지 필름, 방현 필름, 휘도 향상 필름, 터치 패널용 도전 필름, 위상차 필름 등의 광학 필름으로서, 본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름을 사용할 수 있다. 본 발명의 일 실시 형태에 관한 광학 필름은 특히, 편광자 보호 필름으로서의 사용에 적합하다.The use of the optical film according to one embodiment of the present invention is not particularly limited. Since the optical film according to one embodiment of the present invention has high transparency, small color, low chroma and high heat resistance, it is suitable for the following applications. The application is, for example, a protective film for optics (specifically, a protective film for substrates of various optical disks (VD, CD, DVD, MD, LD, etc.)), used for polarizing plates equipped with image display devices such as LCDs It is a polarizer protective film that In addition, optical films such as a viewing angle compensation film, a light diffusing film, a reflective film, an antireflection film, an antiglare film, a luminance enhancing film, a conductive film for a touch panel, and a retardation film, the optical film according to one embodiment of the present invention can be used. can be used The optical film according to one embodiment of the present invention is particularly suitable for use as a polarizer protective film.

〔6. 본 발명의 그 밖의 구성〕[6. Other configurations of the present invention]

본 발명에는 이하의 구성도 포함되어 있다.The present invention also includes the following configurations.

본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)은 (메트)아크릴계 중합체((메트)아크릴계 수지)와 자외선 흡수제를 함유한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)이며, 유리 전이 온도가 110℃ 이상이고, 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 c*값이 0.45 이하인 것을 특징으로 하고 있다.The (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention is a (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) containing a (meth)acrylic polymer ((meth)acrylic resin) and a UV absorber, and has a glass transition temperature. It is characterized by a c * value of 0.45 or less as measured in accordance with the provisions of JIS Z 8729 when the film is 110°C or higher and has a thickness of 100 µm as an unstretched film.

상기 구성에 의하면, 투명성, 색상, 채도 및 내열성이 우수한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above structure, there is an effect that a (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) excellent in transparency, color, chroma and heat resistance can be provided.

본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 a*값의 절댓값이 0.10 이하인 것이 바람직하다.The (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention preferably has an absolute value of 0.10 or less of the a * value measured in accordance with JIS Z 8729 when it is used as an unstretched film having a thickness of 100 µm.

상기 구성에 의하면, 색상이 더 우수한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above configuration, there is an effect that a (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) having a more excellent color can be provided.

상기 자외선 흡수제는 벤조트리아졸계 화합물인 것이 바람직하다.The ultraviolet absorber is preferably a benzotriazole-based compound.

또한, 본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)은 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 380㎚에 있어서의 광선 투과율이 3.0% 이하, 또한 파장 420㎚에 있어서의 광선 투과율이 95.0% 이상인 것이 바람직하다.In addition, the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention has a light transmittance of 3.0% at a wavelength of 380 nm measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 when used as an unstretched film having a thickness of 100 μm. Hereinafter, it is preferable that the light transmittance in wavelength 420nm is 95.0% or more.

상기 구성에 의하면, 예를 들어 본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 편광자 보호 필름 등의 광학 필름에 사용했을 때에 충분한 자외선 흡수능을 갖고, 색상 및 채도가 더 우수한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above structure, for example, when the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention is used for an optical film such as a polarizer protective film, it has sufficient ultraviolet ray absorbing power and has a better color and chroma (meth)acrylic type. The effect that a resin composition (thermoplastic resin composition) can be provided is exhibited.

본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)은 당해 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물) 100질량% 중의 스티렌계 단량체에 유래하는 구성 단위의 함유량이 8질량% 미만인 것이 바람직하다.In the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention, the content of structural units derived from styrenic monomers in 100% by mass of the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) is preferably less than 8% by mass.

또한, 본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)은 당해 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물) 100질량% 중의 금속 원소의 함유량이 60질량ppm 이하인 것이 바람직하다.In the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention, the content of the metal element in 100% by mass of the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) is preferably 60 ppm by mass or less.

상기 구성에 의하면, 색상 및 채도가 더 우수한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above configuration, there is an effect that a (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) having more excellent color and chroma can be provided.

본 발명에 관한 (메트)아크릴계 중합체((메트)아크릴계 수지)는 주쇄에 환 구조를 갖는 것이 바람직하다.The (meth)acrylic polymer ((meth)acrylic resin) according to the present invention preferably has a ring structure in the main chain.

또한, 상기 환 구조는 무수 말레산 구조, 글루타르이미드 구조, 무수 글루타르산 구조 및 락톤환 구조에서 선택되는 적어도 1종인 것이 보다 바람직하고, 락톤환 구조인 것이 더욱 바람직하다.Moreover, as for the said ring structure, it is more preferable that it is at least 1 sort(s) chosen from a maleic anhydride structure, a glutarimide structure, a glutaric acid anhydride structure, and a lactone ring structure, and it is still more preferable that it is a lactone ring structure.

상기 구성에 의하면, 높은 내열성을 유지하면서, 투명성, 색상 및 채도가 더 우수한 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above configuration, it is possible to provide a (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) having higher transparency, color and saturation while maintaining high heat resistance.

본 발명의 성형품 및 필름은 상기 과제를 해결하기 위해, 상기 본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)에 의해 형성되는 것을 특징으로 하고 있다.In order to solve the above problems, the molded article and film of the present invention are characterized in that they are formed of the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention.

상기 구성에 의하면, 상기 본 발명의 (메트)아크릴계 수지 조성물(열가소성 수지 조성물)에 의해 형성되기 때문에, 투명성, 색상, 채도 및 내열성이 우수한 성형품 및 필름을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the above configuration, since it is formed by the (meth)acrylic resin composition (thermoplastic resin composition) of the present invention, it is possible to provide molded articles and films excellent in transparency, color, chroma, and heat resistance.

본 발명의 필름은 당해 필름을 투영 검사했을 때에, 1㎡당의 노이즈 수가 5점 이하인 것이 바람직하다.The film of the present invention preferably has a noise count of 5 points or less per 1 m 2 when the film is projected.

상기 구성에 의하면, 본 발명의 필름을 편광자 보호 필름 등의 광학 필름으로서 사용한 경우에, 광학 특성이 양호한 광학 필름을 제공할 수 있다는 효과를 발휘한다.According to the said structure, when the film of this invention is used as an optical film, such as a polarizer protective film, the effect that an optical film with favorable optical characteristics can be provided is exhibited.

[실시예][Example]

이하, 실시예 및 비교예를 사용하여, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 본 발명은 이들 실시예에 한정되어 해석되어서는 안된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples. However, the present invention should not be construed as being limited to these examples.

〔실시예 1〕[Example 1]

<물성 등의 측정 방법><Measurement method of physical properties, etc.>

[투영 검사 방법][Projection inspection method]

1. 롤상의 광학 필름의 투영 검사 방법1. Projection inspection method of optical film on a roll

검사에는, 자동 연속 결점 검사 장치(가부시키가이샤 맥크제: LSC-6000L, 광학계: 45도 정투과, 1/8에지, 로드 조명(편측 슬릿 부))를 사용했다. 구체적으로는 이하의 수순에 의했다.For the inspection, an automatic continuous defect inspection apparatus (manufactured by Mack Corporation: LSC-6000L, optical system: 45 degree forward transmission, 1/8 edge, rod illumination (single side slit part)) was used. Specifically, it was based on the following procedure.

(1) 상기 자동 연속 결점 검사 장치를 권취 장치의 전방에 배치했다. 광학 필름의 반송 속도는 12m/분이었다.(1) The automatic continuous defect inspection device was placed in front of the winding device. The transport speed of the optical film was 12 m/min.

(2) 1분 간격으로 검사함으로써, 길이 방향으로 11개소(즉, 길이 방향으로 120m)를 검사했다. 검사 대상은 폭 방향의 중심으로부터 양단을 향해 40%씩(즉, 폭 방향의 양단 10%씩을 생략한 부분)의 광학 필름으로 했다.(2) 11 locations in the longitudinal direction (namely, 120 m in the longitudinal direction) were inspected by inspecting at intervals of 1 minute. The inspection object was an optical film of 40% each from the center in the width direction toward both ends (that is, a portion omitting 10% of both ends in the width direction).

(3) 상기 검사 대상의 광학 필름에 대하여, 화상 처리에 의해 결점(노이즈)을 검출, 광학 필름을 평가했다.(3) About the optical film of the said inspection target, defect (noise) was detected by image processing, and the optical film was evaluated.

또한, 노이즈의 양이 많을수록(즉, 롤의 표면에 부착된 오염 물질의 광학 필름으로의 전사가 많을수록), 상기 자동 연속 결점 검사 장치에서 검출되는 결점수가 많아진다. 검출되는 결점수가 1000점을 초과한 필름은 카운트 불가가 된다.Also, the greater the amount of noise (ie, the greater the transfer of contaminants adhering to the surface of the roll onto the optical film), the greater the number of defects detected by the automatic continuous defect inspection device. A film in which the number of detected defects exceeds 1000 points becomes uncountable.

2. 매엽의 광학 필름의 투영 검사 방법2. Projection inspection method of sheet-fed optical film

검사에는 자동 결점 검사 장치(가부시키가이샤 맥크제: MLA-5000, 광학계: 45도 정투과, 1/8에지, 로드 조명(편측 슬릿 부))를 사용했다. 구체적으로는, 이하의 수순에 의했다.For the inspection, an automatic defect inspection apparatus (manufactured by Mack Corporation: MLA-5000, optical system: 45 degree direct transmission, 1/8 edge, rod illumination (single side slit part)) was used. Specifically, it was based on the following procedure.

(1) 매엽의 광학 필름의 표면을 에어 블로우하고, 광학 필름의 표면에 부착된 오염물질(티끌, 먼지 등)을 제외했다.(1) The surface of each sheet of optical film was air-blown, and contaminants (dust, dust, etc.) adhering to the surface of the optical film were removed.

(2) 200㎜×300㎜(A4) 크기의 광학 필름 17장을 검사 대상으로 하여, 화상 처리에 의해 결점(노이즈)을 검출했다.(2) 17 optical films with a size of 200 mm x 300 mm (A4) were set as objects of inspection, and defects (noise) were detected by image processing.

(3) (2)에서 얻어진 결점의 수를, 1㎡당의 결점의 수로 환산하고, 광학 필름을 평가했다.(3) The number of defects obtained in (2) was converted into the number of defects per 1 m 2 , and the optical film was evaluated.

또한, 노이즈의 양이 많을수록(즉, 롤의 표면에 부착된 오염 물질의 광학 필름으로의 전사가 많을수록), 상기 자동 결점 검사 장치에서 검출되는 결점수가 많아진다. 검출되는 결점수가 1000점을 초과한 필름은 카운트 불가가 된다.Further, the greater the amount of noise (i.e., the greater the transfer of contaminants adhering to the surface of the roll onto the optical film), the greater the number of defects detected by the automatic defect inspection device. A film in which the number of detected defects exceeds 1000 points becomes uncountable.

[b*값][b * value]

분광 색차계(닛폰 덴쇼쿠 고교 가부시키가이샤제: Colormeter ZE6000)를 사용하여, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 b*값을 구했다.Using a spectroscopic color difference meter (Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.: Colormeter ZE6000), the b * value was determined in accordance with JIS Z 8729.

[용융 점도][Melt Viscosity]

트윈 보어 배럴 타입인 로잔드사제 캐필러리 레오미터RH10을 사용하여 측정했다. 롱 다이로서 직경 1㎜, 길이 16㎜의 다이스를, 쇼트 다이로서 직경 1㎜, 길이 0.25㎜의 다이스를 사용하여, 측정 온도 270℃, 전단 속도 10/초로 측정을 행하였다. 이것에 의해 얻어진 값을, 바 그레이 보정함으로써 용융 점도를 산출했다.The measurement was performed using a capillary rheometer RH10 of a twin-bore barrel type manufactured by Lausand Co., Ltd. Using dice with a diameter of 1 mm and a length of 16 mm as a long die and dice with a diameter of 1 mm and a length of 0.25 mm as a short die, measurement was performed at a measurement temperature of 270°C and a shear rate of 10/sec. The melt viscosity was calculated by carrying out bar gray correction of the value thus obtained.

[중량 평균 분자량(Mw)][Weight Average Molecular Weight (Mw)]

(메트)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 겔 침투 크로마토그래피(GPC)를 사용하여, 폴리스티렌 환산에 의해 구했다. 측정에 사용한 장치 및 측정 조건은 이하와 같다.The weight average molecular weight (Mw) of the (meth)acrylic resin was determined by polystyrene conversion using gel permeation chromatography (GPC). The apparatus and measurement conditions used for the measurement are as follows.

시스템: 도소제 GPC 시스템 HLC-8220System: Tosoje GPC system HLC-8220

측정측 칼럼 구성Measurement-side column configuration

ㆍ 가드 칼럼: 도소제, TSKguardcolumn SuperHZ-Lㆍ Guard Column: Tosoje, TSKguardcolumn SuperHZ-L

ㆍ 분리 칼럼: 도소제, TSKgel SuperHZM-M 2개 직렬 접속ㆍ Separation column: Dosohje, 2 TSKgel SuperHZM-M connected in series

레퍼런스측 칼럼 구성Reference-side column configuration

ㆍ 레퍼런스 칼럼: 도소제, TSKgel SuperH-RCㆍ Reference column: Dosohje, TSKgel SuperH-RC

전개 용매: 클로로포름(와코 준야쿠 고교제, 특급)Developing solvent: chloroform (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Limited)

전개 용매의 유량: 0.6mL/분Flow rate of developing solvent: 0.6 mL/min

표준 시료: TSK 표준 폴리스티렌(도소제, PS-올리고머 키트)Standard sample: TSK standard polystyrene (Dosoh, PS-oligomer kit)

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

[유리 전이 온도(Tg)][Glass Transition Temperature (Tg)]

JIS K7121의 규정에 준거하여 구했다. 구체적으로는, 시차 주사 열량계(가부시키가이샤 리가크제: DSC-8230)를 사용하고, 질소 가스 분위기 하에서, 약 10㎎의 샘플을, 상온으로부터 200℃까지 승온 속도 20℃/분으로 승온하여 얻어진 DSC 곡선으로부터, 시점법에 의해 유리 전이 온도를 산출했다. 레퍼런스에는 α-알루미나를 사용했다.It was obtained in accordance with the provisions of JIS K7121. Specifically, DSC obtained by heating a sample of about 10 mg from room temperature to 200 ° C. at a heating rate of 20 ° C./min in a nitrogen gas atmosphere using a differential scanning calorimeter (Rigac Co., Ltd.: DSC-8230). From the curve, the glass transition temperature was calculated by the time point method. α-alumina was used as a reference.

[응력 광학 계수(Cr)][Stress Optical Coefficient (Cr)]

미연신 필름을 60㎜×20㎜의 직사각형으로 잘라내고, 1N/㎟ 이하의 응력이 되도록 추를 선택하고, 당해 미연신 필름의 하단에 설치했다. 이것을 Tg+3℃로 설정된 정온 건조기(애즈원 가부시키가이샤제: DOV-450A)에 척간 40㎜로 세트했다. 그대로 Tg+3℃에서 약 30분간 유지하여 연신을 행한 후, 가열을 멈추고, Tg-40℃가 될 때까지 약 1℃/분으로 냉각했다. 그 후, 얻어진 연신 필름을 취출하고, 연신 후의 필름 길이, 두께, 그리고 추의 중량을 측정했다. 또한, 연신 필름의 면 내 위상차 Re를 측정했다.The unstretched film was cut into a rectangle of 60 mm × 20 mm, and 1 N / mm 2 A weight was selected so as to have the following stress, and was installed at the lower end of the unstretched film. This was set at 40 mm between chucks in a constant temperature dryer (manufactured by As One Co., Ltd.: DOV-450A) set to Tg+3°C. After extending|stretching by holding|maintaining at Tg+3 degreeC for about 30 minutes, heating was stopped and it cooled at about 1 degreeC/min until Tg-40 degreeC. Then, the obtained stretched film was taken out, and the length and thickness of the film after stretching and the weight of the weight were measured. In addition, the in-plane retardation Re of the stretched film was measured.

이어서, 각각 1N/㎟ 이하의 응력이 되도록, 다시 4종류의 무게의 추를 선택하고, 미연신 필름의 하단에 설치하여 마찬가지로 측정을 행하고, 그 결과로부터 응력 광학 계수(Cr)를 산출했다. 응력 광학 계수(Cr)의 산출 방법은 [고분자 학회편 『 투명 플라스틱의 최전선』 NTS, 2006년, 37 내지 44페이지]에 기재되어 있다. 구체적으로는, Δn(=nx-ny)를 y축에, σ를 x축에 플롯하고, 최소 제곱법으로 얻어지는 직선의 기울기를 구하고, 그 값을 Cr으로 했다. 여기서, nx는 필름의 면 내에 있어서의 지상축 방향(필름 면 내에 있어서 최대의 굴절률을 나타내는 방향)의 굴절률, ny는 필름의 면 내에 있어서의 진상축 방향(필름 면 내에 있어서 지상축 방향과 수직인 방향)의 굴절률, σ는 연신에 대한 응력[N/㎡]이다.Next, weights of four different weights were selected again so as to achieve a stress of 1 N/mm or less, installed on the lower end of the unstretched film, and measurements were performed in the same manner, and the stress optical coefficient (Cr) was calculated from the results. The calculation method of the stress optical coefficient (Cr) is described in [Polymer Society Edition "The Front Line of Transparent Plastics" NTS, 2006, pp. 37 to 44]. Specifically, Δn (= nx-ny) was plotted on the y-axis and σ was plotted on the x-axis, the slope of a straight line obtained by the least squares method was obtained, and the value was taken as Cr. Here, nx is the refractive index in the slow axis direction within the film plane (direction showing the maximum refractive index within the film plane), and ny is the refractive index in the fast axis direction within the film plane (perpendicular to the slow axis direction within the film plane) direction) is the refractive index, σ is the stress for stretching [N/m 2 ].

[열분해 온도(열분해 개시 온도; Td)][Thermal decomposition temperature (pyrolysis initiation temperature; Td)]

차동형 시차 열천칭 장치(가부시키가이샤 리가크제: Thermo Plus2 TG-8120)를 사용하고, 질소 가스 분위기 하에서, 10㎎의 샘플을 상온으로부터 500℃까지 승온했다. 이때, 승온 중의 샘플의 질량 감소 속도가 0.005질량%/초 이하인 경우는, 승온 속도 10℃/분으로 승온했다. 반대로, 승온 중의 샘플의 질량 감소 속도가 0.005질량%/초를 초과하는 경우는, 당해 속도가 0.005질량%/초 이하를 유지하도록 계단상 등온 제어로 승온했다. 그리고, 상기 질량 감소 속도를 유지하기 위해 최초로 계단상 등온 제어로 한 온도(계단상 등온 제어로 승온된 구간 중, 가장 낮은 온도)를, 열가소성 수지 조성물 및 자외선 흡수제의 Td로 했다.A 10 mg sample was heated from normal temperature to 500°C in a nitrogen gas atmosphere using a differential type differential thermobalance (manufactured by Rigac Co., Ltd.: Thermo Plus2 TG-8120). At this time, when the mass reduction rate of the sample during temperature increase was 0.005 mass%/sec or less, the temperature was raised at a temperature increase rate of 10°C/min. Conversely, when the rate of mass reduction of the sample during temperature increase exceeded 0.005% by mass/sec, the temperature was raised by stepwise isothermal control so that the rate was maintained at 0.005% by mass/sec or less. Then, in order to maintain the mass reduction rate, the temperature at which the stepwise isothermal control was first performed (the lowest temperature among the sections heated by the stepwise isothermal control) was taken as the Td of the thermoplastic resin composition and the ultraviolet absorber.

<열가소성 수지 조성물의 제조예><Manufacture example of thermoplastic resin composition>

우선, (메트)아크릴계 수지로서 락톤환 구조 함유 중합체를, 하기 방법에 의해 제조했다.First, a lactone ring structure-containing polymer was prepared as a (meth)acrylic resin by the following method.

교반 장치, 온도 센서, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 메타크릴산메틸(MMA) 229.6부, 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸(MHMA) 33부, 톨루엔 248.6부 및 n-도데실머캅탄 0.19부를 투입하고, 이것에 질소 가스를 통과시키면서, 105℃까지 승온시켰다. 승온에 수반하는 환류가 시작된 곳에서, 중합 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(아르케마 요시토미 가부시키가이샤제: 루페록스(등록 상표)570) 0.25부를 첨가함과 함께, 또한 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트 0.51부와 스티렌 12.4부를 2시간에 걸쳐 적하하면서, 약 105 내지 110℃의 환류 하에서 용액 중합을 진행시켰다. 적하 종료 후, 동일 온도에서 4시간의 숙성을 더 행하였다.To a reaction vessel equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube and a nitrogen inlet tube, 229.6 parts of methyl methacrylate (MMA), 33 parts of 2-(hydroxymethyl)methyl acrylate (MHMA), 248.6 parts of toluene and n- 0.19 part of dodecylmercaptan was introduced, and the temperature was raised to 105°C while nitrogen gas was passed therethrough. At the place where the reflux accompanying the temperature rise began, 0.25 part of t-amylperoxyisononanoate (manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd.: Luperox (registered trademark) 570) was added as a polymerization initiator, and further t-amyl While 0.51 part of peroxyisononanoate and 12.4 parts of styrene were added dropwise over 2 hours, solution polymerization was carried out under reflux at about 105 to 110°C. After completion of dropping, aging was further performed at the same temperature for 4 hours.

이어서, 얻어진 중합 용액에, 환화 축합 반응의 촉매(환화 촉매)로서 인산 스테아릴(사카이 가가쿠 고교 가부시키가이샤제: Phoslex A-18) 0.21부를 가하고, 약 90 내지 110℃의 환류 하에 있어서 1.5시간, 락톤환 구조를 형성하기 위한 환화 축합 반응을 진행시켰다.Next, to the obtained polymerization solution, 0.21 part of stearyl phosphate (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst for the cyclization condensation reaction (cyclization catalyst), and the mixture was stirred for 1.5 hours under reflux at about 90 to 110°C. , the cyclization condensation reaction for forming a lactone ring structure was advanced.

이어서, 얻어진 중합 용액을 240℃로 가열한 다관식 열교환기에 통과시켜 환화 축합 반응을 완결시켰다. 그 후, 중합 용액을, 벤트 타입 스크류 2축 압출기(L/D=52)에, 35.1부/시(수지량 환산)의 처리 속도로 도입했다. 상기 벤트 타입 스크류 2축 압출기는 배럴 온도가 250℃이고, 1개의 리어 벤트, 4개의 포어 벤트(상류측으로부터 제1, 제2, 제3, 제4 벤트라고 칭함) 및 제3 벤트와 제4 벤트 사이에 사이드 피더를 구비하고, 선단부에 리프 디스크형의 중합체 필터(여과 정밀도 5㎛)가 배치되어 있다. 중합 용액의 도입 시에, 별도 준비해 둔 산화 방지제/환화 촉매 실활제의 혼합 용액을 0.15부/시의 투입 속도로 제2 벤트의 하류로부터, 이온 교환수를 0.54부/시의 투입 속도로 제1 및 제3 벤트의 하류로부터 각각 투입했다. 산화 방지제/환화 촉매 실활제의 혼합 용액에는 각각 4.3부의 산화 방지제(BASF사제: 이르가녹스1010, 가부시키가이샤 ADEKA제: 아데카스탭(등록 상표)LAO-412S)와, 실활제로서 14부의 옥틸산아연(니혼 가가쿠 산교 가부시키가이샤제: 닛카 옥틱스아연)을, 톨루엔 144부에 용해시킨 용액을 사용했다. 또한, 상기 사이드 피더로부터, 자외선 흡수제(가부시키가이샤 ADEKA제: 아데카스탭(등록 상표)LA-31, 열분해 온도 Td(℃)는 345℃)를 투입 속도 0.79부/시로 투입했다.Then, the obtained polymerization solution was passed through a shell and tube heat exchanger heated to 240°C to complete the cyclization condensation reaction. Thereafter, the polymerization solution was introduced into a vent type screw twin screw extruder (L/D = 52) at a processing rate of 35.1 parts/hour (resin amount conversion). The vent type screw twin screw extruder has a barrel temperature of 250 ° C, one rear vent, four fore vents (referred to as the first, second, third, and fourth vents from the upstream side) and a third vent and a fourth A side feeder is provided between the vents, and a leaf disc-shaped polymer filter (filtration accuracy: 5 μm) is disposed at the front end. At the time of introduction of the polymerization solution, a mixed solution of the antioxidant/cyclization catalyst deactivator prepared separately is introduced from the downstream of the second vent at an input rate of 0.15 part/hour, and ion-exchanged water is introduced into the first vent at an input rate of 0.54 part/hour. and from the downstream of the third vent, respectively. In the mixed solution of antioxidant / cyclization catalyst deactivator, 4.3 parts of each antioxidant (manufactured by BASF: Irganox 1010, manufactured by ADEKA Co., Ltd.: LAO-412S) and 14 parts of jade as a deactivator A solution in which zinc titrate (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.: Nikka Octix Zinc) was dissolved in 144 parts of toluene was used. Further, from the side feeder, an ultraviolet absorber (manufactured by ADEKA Co., Ltd.: Adekastab (registered trademark) LA-31, thermal decomposition temperature Td (° C.) of 345° C.) was charged at a feeding rate of 0.79 parts/hour.

이어서, 탈휘 완료 후, 압출기 내에 남겨진 열용융 상태에 있는 수지 조성물을 당해 압출기의 선단으로부터 중합체 필터로 여과하면서 배출했다. 그 후, 압출기의 선단에 구비되어 있는 다이스를 통과시켜, 냉각수를 채운 수조에서 냉각함으로써, 상기 수지 조성물의 스트랜드를 얻었다. 상기 냉각수는 구멍 직경 1㎛의 필터(오르가노 가부시키가이샤제, 제품명: 마이크로 포어 필터1EU)로 여과하고, 30±10℃의 범위 내의 온도로 유지되어 있던 것이다. 냉각 후의 스트랜드를 절단기(펠리타이저)에 도입함으로써, 락톤환 구조 함유 중합체와 자외선 흡수제를 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 펠릿을 얻었다.Subsequently, after completion of devolatilization, the resin composition remaining in the extruder in a heat-melted state was discharged while filtering with a polymer filter from the tip of the extruder. After that, strands of the resin composition were obtained by passing through dies provided at the front end of the extruder and cooling in a water tank filled with cooling water. The cooling water was filtered with a filter (manufactured by Organo Co., Ltd., product name: Micropore Filter 1EU) with a pore diameter of 1 μm, and maintained at a temperature within the range of 30±10°C. By introducing the strands after cooling into a cutting machine (pelletizer), pellets containing a thermoplastic resin composition containing a lactone ring structure-containing polymer and an ultraviolet absorber were obtained.

얻어진 락톤환 구조 함유 중합체의 제물성은 이하와 같다.Physical properties of the resulting lactone ring structure-containing polymer are as follows.

유리 전이 온도(Tg): 120℃Glass transition temperature (Tg): 120°C

중량 평균 분자량: 149000Weight average molecular weight: 149000

응력 광학 계수(Cr): 0.7×10-11-1 Stress optical coefficient (Cr): 0.7×10 -11 Pa -1

열분해 온도(Td): 339℃Thermal decomposition temperature (Td): 339°C

열중량 분석(TG)에 있어서의 5% 질량 감소 온도: 366℃5% mass loss temperature in thermogravimetric analysis (TG): 366°C

잔존 휘발분의 총량: 2050ppmTotal amount of remaining volatile matter: 2050 ppm

전체 광선 투과율: 92.5%Total light transmittance: 92.5%

얻어진 열가소성 수지 조성물의 270℃, 전단 속도 10/초에 있어서의 용융 점도는 694㎩ㆍS 이상이었다.The melt viscosity at 270°C and a shear rate of 10/sec of the obtained thermoplastic resin composition was 694 Pa·S or more.

<실시예 1-1><Example 1-1>

상기 제조예에서 얻은 열가소성 수지 조성물을 터치 롤 제막하여, 광학 필름을 제조했다. 다이의 출구에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 용융물의 온도 Tp(℃)는 272℃였다. 따라서, 「Td-Tp」는 73℃였다.The thermoplastic resin composition obtained in the said manufacture example was formed into a touch roll film, and the optical film was manufactured. The temperature Tp (°C) of the melt of the thermoplastic resin composition at the exit of the die was 272°C. Therefore, "Td-Tp" was 73 degreeC.

구체적으로는, 이하의 수순으로 제막했다.Specifically, it formed into a film in the following procedure.

(1) 벤트를 갖는 단축 압출기를 사용하여, 25㎏/시의 처리 속도로 용융 제막을 행하였다. 상기 압출기는 직경 65㎜, L/D=32의 배리어 플라이트형 스크루를 갖고 있었다. 또한, 상기 압출기의 선단부에는 중합체 필터(여과 정밀도 5㎛) 및 T다이가 구비되어 있었다.(1) Melt film forming was performed at a processing speed of 25 kg/hour using a single screw extruder equipped with a vent. The extruder had a barrier flight type screw having a diameter of 65 mm and L/D = 32. In addition, a polymer filter (filtration accuracy of 5 µm) and a T-die were provided at the front end of the extruder.

(2) 제막 후의 용융 수지 필름을 냉각 롤에 통과시켰다. 상기 냉각 롤은 제1 롤(탄성 터치 롤), 제2 롤(캐스트 롤) 및 제3 롤로 구성되어 있고, 각각의 롤은 크롬 도금이 실시되어 있었다. 각 냉각 롤의 온도는 R1/R2/R3=95/100/85℃로 했다(R1, R2 및 R3은 순서대로 제1 롤, 제2 롤 및 제3 롤을 의미함. 이하 마찬가지임). T다이 출구로부터 압출한 열가소성 수지 조성물의 용융 수지 필름과, R1 및 R2의 간극을 포함하는 연직면이 이루는 각도 θ는 5°로 설정했다.(2) The molten resin film after film formation was passed through a cooling roll. The cooling roll is composed of a first roll (elastic touch roll), a second roll (cast roll), and a third roll, and chrome plating is applied to each roll. The temperature of each cooling roll was set to R1/R2/R3=95/100/85°C (R1, R2 and R3 mean the first roll, the second roll and the third roll in order. The same applies below). The angle θ formed by the molten resin film of the thermoplastic resin composition extruded from the T-die exit and the vertical plane including the gap between R1 and R2 was set to 5°.

(3) 용융 수지 필름을 R1 위에 캐스팅하여, 두께 215㎛의 미연신 필름을 얻었다. 얻어진 미연신 필름을 그대로 연속적으로 오븐 종연신기로 공급하고, 오븐의 온도를 136℃로 하고, 종방향으로 연신 배율 1.6배의 연신을 행하였다.(3) A molten resin film was cast on R1 to obtain an unstretched film having a thickness of 215 µm. The obtained unstretched film was continuously supplied as it was to an oven longitudinal stretching machine, and the temperature of the oven was set to 136° C., and stretching was performed at a stretching ratio of 1.6 times in the machine direction.

(4) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하여, 평균 두께 160㎛의 종연신 필름 롤을 얻었다.(4) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a longitudinally stretched film roll having an average thickness of 160 µm.

(5) 얻어진 종연신 필름 롤을 조출기로 조출하고, 양단부로부터 20㎜의 위치를 2인치의 클립으로 파지하여 텐터 연신기로 공급했다. 그리고, 오븐의 온도를 138℃로 하고, 횡방향으로 연신 배율 2.0배의 횡연신을 행하였다.(5) The obtained longitudinally stretched film roll was drawn out with a feeder, held at a position of 20 mm from both ends with a 2-inch clip, and supplied to a tenter stretcher. Then, the temperature of the oven was set to 138°C, and transverse stretching was performed at a draw ratio of 2.0 times in the transverse direction.

(6) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하여, 평균 두께 80㎛의 롤상의 광학 필름을 얻었다.(6) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a roll-shaped optical film having an average thickness of 80 µm.

(7) 얻어진 광학 필름을 200㎜×300㎜(A4) 크기로 절단하여, 복수매의 매엽상 광학 필름을 제조했다.(7) The obtained optical film was cut into a size of 200 mm x 300 mm (A4) to prepare a plurality of sheet-shaped optical films.

제조한 광학 필름의 b*값은 0.18이었다. 그리고, 당해 매엽상 광학 필름의 투영 검사를 전술한 투영 검사 방법에 따라 실시한바, 노이즈(1㎡당의 노이즈의 수)는 0점이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.The b * value of the prepared optical film was 0.18. Then, when the projection inspection of the sheet-shaped optical film was carried out according to the projection inspection method described above, the noise (the number of noises per 1 m 2 ) was 0 points. The results are shown in Table 1.

또한, 장시간 운전한 후에도, 상기 터치 롤(R1), 캐스트 롤(R2) 모두에, 오염 물질의 부착은 관찰되지 않았다.In addition, no contaminants adhered to either the touch roll R1 or the cast roll R2 after driving for a long time.

<실시예 1-2><Example 1-2>

(i) 벤트를 갖는 단축 압출기의 처리 속도를 56㎏/시로 하고, (ii) 각 냉각 롤의 온도를 R1/R2/R3=80/80/80℃로 하고, (iii) 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)를 277℃로 한(「Td-Tp」를 68℃로 한) 것 이외는, 실시예 1-1과 마찬가지로 하여, 복수매의 매엽상 광학 필름을 제조했다. 제조한 광학 필름의 b*값은 0.20이었다. 그리고, 당해 매엽상 광학 필름의 투영 검사를 전술한 투영 검사 방법에 따라 실시한바, 노이즈(1㎡당의 노이즈의 수)는 0점이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.(i) the processing speed of the single screw extruder with a vent is 56 kg/hour, (ii) the temperature of each cooling roll is R1/R2/R3 = 80/80/80°C, (iii) at the exit of the die A plurality of sheet-shaped optical films were manufactured in the same manner as in Example 1-1, except that the temperature Tp (° C.) of the melt was set to 277° C. (“Td-Tp” was set to 68° C.). The b * value of the prepared optical film was 0.20. Then, when the projection inspection of the sheet-shaped optical film was performed according to the projection inspection method described above, the noise (number of noises per 1 m 2 ) was 0 points. The results are shown in Table 1.

또한, 장시간 운전한 후에도, 상기 터치 롤(R1), 캐스트 롤(R2) 모두에, 오염 물질의 부착은 관찰되지 않았다.In addition, no contaminants adhered to either the touch roll R1 or the cast roll R2 after driving for a long time.

<비교예 1-1><Comparative Example 1-1>

상기 제조예에서 얻은 열가소성 수지 조성물을, 오픈 제막을 행함으로써 광학 필름을 제조했다. 다이의 출구에 있어서의 열가소성 수지 조성물의 용융물의 온도 Tp(℃)는 272℃였다. 따라서, 「Td-Tp」는 73℃였다.The optical film was manufactured by performing open film forming of the thermoplastic resin composition obtained in the said manufacture example. The temperature Tp (°C) of the melt of the thermoplastic resin composition at the exit of the die was 272°C. Therefore, "Td-Tp" was 73 degreeC.

구체적으로는, 이하의 수순으로 제막했다.Specifically, it formed into a film in the following procedure.

(1) 벤트를 갖는 단축 압출기를 사용하여, 25㎏/시의 처리 속도로 용융 제막을 행하였다. 상기 압출기는 직경 65㎜, L/D=32의 배리어 플라이트형 스크루를 갖고 있었다. 또한, 상기 압출기의 선단부에는 중합체 필터(여과 정밀도 5㎛) 및 T다이가 구비되어 있었다.(1) Melt film forming was performed at a processing speed of 25 kg/hour using a single screw extruder equipped with a vent. The extruder had a barrier flight type screw having a diameter of 65 mm and L/D = 32. In addition, a polymer filter (filtration accuracy of 5 µm) and a T-die were provided at the front end of the extruder.

(2) 제막 후의 용융 수지 필름을 냉각 롤에 통과시켰다. 상기 냉각 롤은 제2 롤(캐스트 롤) 및 제3 롤로 구성되어 있고, 각각의 롤은 크롬 도금이 실시되어 있었다. 각 냉각 롤의 온도는 R2/R3=120/95℃로 했다.(2) The molten resin film after film formation was passed through a cooling roll. The said cooling roll was comprised from the 2nd roll (cast roll) and the 3rd roll, and chrome plating was given to each roll. The temperature of each cooling roll was set to R2/R3=120/95°C.

(3) T다이 출구로부터 압출한 열가소성 수지 조성물의 용융 수지 필름을 R2 위에 캐스팅하여, 두께 215㎛의 미연신 필름을 얻었다. 얻어진 미연신 필름을 그대로 연속적으로 오븐 종연신기로 공급하고, 오븐의 온도를 136℃로 하고, 종방향으로 연신 배율 1.6배의 연신을 행하였다.(3) The molten resin film of the thermoplastic resin composition extruded from the exit of the T-die was cast on R2 to obtain an unstretched film having a thickness of 215 µm. The obtained unstretched film was continuously supplied as it was to an oven longitudinal stretching machine, and the temperature of the oven was set to 136° C., and stretching was performed at a stretching ratio of 1.6 times in the machine direction.

(4) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하고, 평균 두께 160㎛의 종연신 필름 롤을 얻었다.(4) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a longitudinally stretched film roll having an average thickness of 160 µm.

(5) 얻어진 종연신 필름 롤을 조출기로 조출하고, 양단부로부터 20㎜의 위치를 2인치의 클립으로 파지하여 텐터 연신기로 공급했다. 그리고, 오븐의 온도를 138℃로 하고, 횡방향으로 연신 배율 2.0배의 횡연신을 행하였다.(5) The obtained longitudinally stretched film roll was drawn out with a feeder, held at a position of 20 mm from both ends with a 2-inch clip, and supplied to a tenter stretcher. Then, the temperature of the oven was set to 138°C, and transverse stretching was performed at a draw ratio of 2.0 times in the transverse direction.

(6) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하고, 평균 두께 80㎛의 롤상의 광학 필름을 얻었다.(6) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a roll-shaped optical film having an average thickness of 80 µm.

(7) 얻어진 광학 필름을 200㎜×300㎜(A4) 크기로 절단하여, 복수매의 매엽상 광학 필름을 제조했다.(7) The obtained optical film was cut into a size of 200 mm x 300 mm (A4) to prepare a plurality of sheet-shaped optical films.

제조한 광학 필름의 b*값은 0.20이었다. 그리고, 당해 광학 필름의 투영 검사를 전술한 투영 검사 방법에 따라 실시한바, 17장의 필름 중 7장은 노이즈가 0점이었다. 그러나, 나머지 10장은 캐스트 롤(R2)의 표면에 부착된 오염 물질의 전사에 의한 노이즈가 많고, 상기 자동 결점 검사 장치에서 검출되는 결점수가 1000점을 초과했기 때문에, 카운트 불가가 되었다. 결과를 표 1에 나타낸다.The b * value of the prepared optical film was 0.20. And, when the projection inspection of the said optical film was performed according to the projection inspection method mentioned above, the noise of 7 out of 17 films was 0. However, the remaining 10 sheets were unable to be counted because there was a lot of noise due to the transfer of contaminants adhering to the surface of the cast roll R2, and the number of defects detected by the automatic defect inspection device exceeded 1000 points. The results are shown in Table 1.

또한, 장시간 운전한 후에, 상기 캐스트 롤(R2)에, 오염 물질의 부착이 관찰되었다.In addition, adhesion of contaminants to the cast roll R2 was observed after long-time operation.

Figure 112018011401987-pat00008
Figure 112018011401987-pat00008

(결과) (result)

표 1로부터 명백한 바와 같이, 터치 롤 제막을 행함으로써, 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 사용한 경우에 있어서도, b*값이 낮아 양호하고, 제막 시에 롤(터치 롤 및 캐스트 롤)로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름을 제조할 수 있는 것을 알 수 있었다.As is clear from Table 1, by performing touch roll film formation, even when an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature is used, the b * value is low and good, and the contamination from the rolls (touch roll and cast roll) during film formation is reduced. It was found that an optical film having good optical properties without transfer can be produced.

〔실시예 2〕 [Example 2]

<물성 등의 측정 방법><Measurement method of physical properties, etc.>

[열분해 온도(Td), 유리 전이 온도(Tg) 및 중량 평균 분자량(Mw)][Thermal decomposition temperature (Td), glass transition temperature (Tg) and weight average molecular weight (Mw)]

열분해 온도(열분해 개시 온도), 유리 전이 온도 및 중량 평균 분자량은 실시예 1과 동일한 방법으로 측정했다. Thermal decomposition temperature (thermal decomposition start temperature), glass transition temperature, and weight average molecular weight were measured in the same manner as in Example 1.

[필름의 두께][Film Thickness]

필름의 두께는 디지매틱 마이크로미터(가부시키가이샤 미츠토요제)를 사용하여 측정했다. 이후에 평가 방법을 나타내는 물성을 포함하고, 필름의 물성을 측정, 평가하기 위한 샘플은 필름의 폭 방향의 중앙부로부터 취득했다.The thickness of the film was measured using a Digimatic Micrometer (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.). A sample for measuring and evaluating the physical properties of the film, including the physical properties indicating the evaluation method thereafter, was obtained from the central portion in the width direction of the film.

[a*값, b*값, c*값 및 L*값][a * value, b * value, c * value, and L * value]

a*값, b*값 및 L*값은 분광 색차계(닛폰 덴쇼쿠 고교 가부시키가이샤제: Colormeter ZE6000)를 사용하여, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정했다. 구체적으로는, 이하의 수순에 따랐다.The a * value, the b * value, and the L * value were measured in accordance with JIS Z 8729 using a spectroscopic color difference meter (Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.: Colormeter ZE6000). Specifically, the following procedure was followed.

(1) 열가소성 수지 조성물을 수동식 가열 프레스기(가부시키가이샤 이모토 세이사쿠쇼제, IMC-180C형)를 사용하여, 250℃에서 5분간 용융 프레스 성형하여, 미연신 필름을 제작했다.(1) The thermoplastic resin composition was subjected to melt press molding at 250° C. for 5 minutes using a manual hot press machine (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., Model IMC-180C) to prepare an unstretched film.

(2) 45㎜×35㎜로 잘라낸 미연신 필름을, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌(테트랄린)을 넣은 광로 길이 10㎜의 석영 셀에 침지하고, a*값, b*값 및 L*값을 측정했다.(2) An unstretched film cut out to 45 mm × 35 mm was immersed in a quartz cell with an optical path length of 10 mm containing 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene (tetralin), and a * value, b * value and L * value were measured.

(3) (2)의 측정을, 2장째, 3장째와 추가의 미연신 필름을 겹치면서 마찬가지로 반복했다.(3) The measurement of (2) was similarly repeated while overlapping the second and third sheets and additional unstretched films.

(4) 측정한 a*값, b*값 및 L*값을 각각 y축에, 미연신 필름의 두께를 x축에 플롯하고, 최소 제곱법에 의해 당해 플롯의 직선의 기울기를 도출했다. 이에 의해, 두께를 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 a*값, b*값 및 L*값을 산출했다.(4) The measured a * value, b * value, and L * value were plotted on the y-axis, respectively, and the thickness of the unstretched film was plotted on the x-axis, and the slope of the straight line of the plot was derived by the least squares method. As a result, the a * value, b * value, and L * value when the thickness was set to an unstretched film of 100 µm were calculated.

(5) c*값은 상기 방법으로 산출한 a*값 및 b*값으로부터 하기 식으로부터 산출했다.(5) The c * value was calculated from the following formula from the a * value and the b * value calculated by the above method.

c*=(a*2+b* 2)1 /2 c * = (a * 2 + b * 2 ) 1 /2

[380㎚ 및 420㎚에 있어서의 광선 투과율][Light transmittance at 380 nm and 420 nm]

380㎚ 및 420㎚에 있어서의 광선 투과율은 JIS K7361:1997의 규정에 준거하여, 가부시키가이샤 시마즈 세이사쿠쇼제 UV-1600PC를 사용하여 각각 측정했다. 구체적으로는, 이하의 수순에 따랐다.The light transmittance at 380 nm and 420 nm was measured in accordance with JIS K7361:1997 using UV-1600PC manufactured by Shimadzu Corporation. Specifically, the following procedure was followed.

(1) 열가소성 수지 조성물을 수동식 가열 프레스기(가부시키가이샤 이모토 세이사쿠쇼제, IMC-180C형)를 사용하여, 250℃에서 5분간 용융 프레스 성형하여 미연신 필름을 제작했다.(1) The thermoplastic resin composition was subjected to melt press molding at 250° C. for 5 minutes using a manual hot press machine (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., Model IMC-180C) to prepare an unstretched film.

(2) 40㎜×10㎜로 잘라낸 미연신 필름을, 이온 교환수를 넣은 광로 길이 10㎜의 석영 셀에 침지하고, 각 광선 투과율을 측정했다.(2) The unstretched film cut out to 40 mm x 10 mm was immersed in a quartz cell with an optical path length of 10 mm filled with ion-exchanged water, and each light transmittance was measured.

(3) 측정한 각 광선 투과율 T와 미연신 필름의 두께 L의 결과를 사용하여, 두께를 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 각 광선 투과율 T(100㎛)를 하기 식으로부터 산출했다.(3) Using the result of each measured light transmittance T and the thickness L of the unstretched film, each light transmittance T (100 μm) when the thickness was an unstretched film of 100 μm was calculated from the following formula.

T(100㎛)=102-(2-LOG(T))×100/L T(100 μm)=10 2-(2-LOG(T))×100/L

[전체 광선 투과율 및 헤이즈][Total Light Transmittance and Haze]

전체 광선 투과율 및 헤이즈는 닛폰 덴쇼쿠 고교 가부시키가이샤제 NDH-1001DP를 사용하여 측정했다. 구체적으로는, 이하의 수순에 따랐다.Total light transmittance and haze were measured using NDH-1001DP by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd. Specifically, the following procedure was followed.

(1) 열가소성 수지 조성물을 수동식 가열 프레스기(가부시키가이샤 이모토 세이사쿠쇼제, IMC-180C형)를 사용하여, 250℃에서 5분간 용융 프레스 성형하여 미연신 필름을 제작했다.(1) The thermoplastic resin composition was subjected to melt press molding at 250° C. for 5 minutes using a manual hot press machine (manufactured by Imoto Seisakusho Co., Ltd., Model IMC-180C) to prepare an unstretched film.

(2) 45㎜×35㎜로 잘라낸 미연신 필름을, 1,2,3,4-테트라히드로나프탈렌(테트랄린)을 넣은 광로 길이 10㎜의 석영 셀에 침지하고, 전체 광선 투과율 및 헤이즈를 측정했다.(2) An unstretched film cut out to 45 mm x 35 mm was immersed in a quartz cell with an optical path length of 10 mm containing 1,2,3,4-tetrahydronaphthalene (tetralin), and the total light transmittance and haze were measured. Measured.

(3) (2)의 측정을, 2장째, 3장째와 추가의 미연신 필름을 겹치면서 반복했다.(3) The measurement of (2) was repeated while overlapping the second and third sheets and additional unstretched films.

(4) 측정한 전체 광선 투과율 및 헤이즈를 각각 y축에, 미연신 필름의 두께를 x축에 플롯하고, 최소 제곱법에 의해 당해 플롯의 직선 기울기를 도출했다. 이에 의해, 두께를 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의 전체 광선 투과율 및 헤이즈를 산출했다.(4) The measured total light transmittance and haze were plotted on the y-axis, and the thickness of the unstretched film was plotted on the x-axis, respectively, and the linear inclination of the plot was derived by the least squares method. Thereby, the total light transmittance and haze when the thickness was made into an unstretched film of 100 micrometers were computed.

[필름의 1㎡당의 노이즈 수][Number of noises per 1 m2 of film]

필름의 1㎡당의 노이즈 수는 실시예 1과 동일한 방법으로 측정했다. 결과는 얻어진 1㎡당의 노이즈 수가 5점 이하인 경우를 「○」, 얻어진 1㎡당의 노이즈 수가 5점을 초과하는 경우를 「×」로 했다.The number of noises per 1 m 2 of the film was measured in the same manner as in Example 1. As for the result, the case where the obtained number of noises per 1 m2 was 5 points or less was rated as "○", and the case where the obtained number of noises per 1 m2 was more than 5 points was rated as "x".

[순수와의 접촉각][Contact angle with pure water]

접촉각 측정기(교와 가이멘 가가쿠사제 「FACE 접촉각계 CA-X」)를 사용하여, JIS R3257:1999에 준거하여 측정했다. 적하 후 30초 후의 순수와의 접촉각을 5회 측정하고, 최고값과 최저값을 제외한 3회의 평균값을 「순수와의 접촉각」으로 했다.It measured based on JISR3257:1999 using the contact angle measuring instrument ("FACE contact angle meter CA-X" by Kyowa Science and Technology Co., Ltd.). The contact angle with pure water 30 seconds after dropping was measured 5 times, and the average value of the three times excluding the highest value and the lowest value was taken as "contact angle with pure water".

<실시예 2-1><Example 2-1>

교반 장치, 온도 센서, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 메타크릴산메틸(MMA) 83.5부, 2-(히드록시메틸)아크릴산메틸(MHMA) 12부, 톨루엔 90.4부 및 n-도데실머캅탄 0.07부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서, 105℃까지 승온시켰다. 승온에 수반하는 환류가 시작된 곳에서, 중합 개시제로서 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트(아르케마 요시토미 가부시키가이샤제: 루페록스(등록 상표)570) 0.10부를 첨가했다. 계속해서, 상기 t-아밀퍼옥시이소노나노에이트 0.20부와 스티렌 4.5부를 2시간에 걸쳐 적하하면서 약 105 내지 110℃의 환류 하에서 용액 중합을 진행시켰다. 적하 종료 후, 동일 온도에서 4시간의 숙성을 더 행하였다.To a reaction vessel equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling pipe and a nitrogen inlet pipe, 83.5 parts of methyl methacrylate (MMA), 12 parts of 2-(hydroxymethyl)methyl acrylate (MHMA), 90.4 parts of toluene and n- 0.07 part of dodecylmercaptan was introduced, and the temperature was raised to 105°C while passing nitrogen through this. When the reflux accompanying the temperature rise started, 0.10 part of t-amylperoxyisononanoate (Luperox (registered trademark) 570, manufactured by Arkema Yoshitomi Co., Ltd.) was added as a polymerization initiator. Then, while 0.20 parts of t-amylperoxyisononanoate and 4.5 parts of styrene were added dropwise over 2 hours, solution polymerization was performed under reflux at about 105 to 110°C. After completion of dropping, aging was further performed at the same temperature for 4 hours.

이어서, 얻어진 중합 용액에, 환화 축합 반응의 촉매(환화 촉매)로서, 인산 스테아릴(사카이 가가쿠 고교 가부시키가이샤제: Phoslex A-18) 0.08부를 가하고, 약 90 내지 110℃의 환류 하에 있어서 2시간, 락톤환 구조를 형성하기 위한 환화 축합 반응을 진행시켰다. 또한, 얻어진 중합 용액을, 240℃로 가열한 다관식 열교환기에 통과시켜 환화 축합 반응을 완결시켰다.Next, to the obtained polymerization solution, 0.08 part of stearyl phosphate (Phoslex A-18, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) was added as a catalyst for a cyclization condensation reaction (cyclization catalyst), and 2 Over time, the cyclization condensation reaction for forming a lactone ring structure was advanced. Further, the obtained polymerization solution was passed through a shell and tube heat exchanger heated to 240°C to complete the cyclization condensation reaction.

그 후, 벤트 타입 스크류 2축 압출기(L/D=52)를 사용하여, 얻어진 중합물을 35.1부/시(수지량 환산)의 처리 속도로 도입했다. 상기 압출기는 배럴 온도가 250℃이고, 1개의 리어 벤트, 4개의 포어 벤트(이하, 상류측으로부터 제1, 제2, 제3, 제4 벤트라고 칭함) 및 제3 벤트와 제4 벤트 사이에 사이드 피더를 구비하고 있었다. 또한, 상기 압출기는 선단부에 리프 디스크형의 중합체 필터(여과 정밀도 5㎛)가 배치되어 있었다.Thereafter, the obtained polymer was introduced at a processing rate of 35.1 parts/hour (in terms of resin amount) using a vent type screw twin screw extruder (L/D = 52). The extruder has a barrel temperature of 250 ° C, one rear vent, four fore vents (hereinafter referred to as first, second, third, and fourth vents from the upstream side) and between the third and fourth vents. It was equipped with a side feeder. Further, in the extruder, a leaf disc-shaped polymer filter (filtration accuracy: 5 µm) was disposed at the front end.

중합물을 도입할 때에는, 이온 교환수를 0.54부/시의 투입 속도로 제2 및 제4 벤트의 상류로부터, 0.18부/시의 투입 속도로 제3 벤트의 상류로부터 각각 투입했다. 또한, 상기 사이드 피더로부터, 자외선 흡수제(가부시키가이샤 ADEKA제: 아데카스탭(등록 상표)LA-31, 중량 감소 개시 온도 Td(℃)는 345℃)를 0.79부/시의 투입 속도로 투입했다.When the polymer was introduced, ion-exchanged water was introduced from upstream of the second and fourth vents at a rate of 0.54 parts/hour and upstream of the third vent at a rate of 0.18 parts/hour. Further, from the side feeder, an ultraviolet absorber (manufactured by ADEKA Co., Ltd.: Adeka Staff (registered trademark) LA-31, weight loss start temperature Td (° C.) is 345° C.) was introduced at a feed rate of 0.79 parts/hour. .

탈휘 완료 후, 압출기 내에 남겨진 열용융 상태에 있는 수지 조성물을 당해 압출기의 선단으로부터 중합체 필터로 여과하면서 배출했다. 그 후, 압출기의 선단에 구비되어 있는 다이스를 통과시켜, 냉각수를 채운 수조에서 냉각함으로써, 상기 수지 조성물의 스트랜드를 얻었다. 상기 냉각수는 구멍 직경 1㎛의 필터(오르가노 가부시키가이샤제, 제품명: 마이크로 포어 필터1EU)로 여과하고, 30±10℃의 범위 내의 온도로 유지되어 있던 것이다. 냉각 후의 스트랜드를 절단기(펠리타이저)에 도입함으로써, 열가소성 수지 조성물 (A-1)을 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-1)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.After completion of devolatilization, the resin composition in a heat-melted state remaining in the extruder was discharged while filtering with a polymer filter from the tip of the extruder. After that, strands of the resin composition were obtained by passing through dies provided at the front end of the extruder and cooling in a water tank filled with cooling water. The cooling water was filtered with a filter (manufactured by Organo Co., Ltd., product name: Micropore Filter 1EU) with a pore diameter of 1 μm, and maintained at a temperature within the range of 30±10°C. The thermoplastic resin composition (A-1) was obtained by introducing the strand after cooling into a cutting machine (pelletizer). The physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-1) are collectively shown in Table 2.

열가소성 수지 조성물 (A-1)로부터, 터치 롤 제막을 행함으로써 필름을 제조했다. 다이의 출구에 있어서의 열가소성 수지 조성물 (A-1)의 용융물의 온도 Tp는 272℃였다. 따라서, 「Td-Tp」는 73℃였다.A film was manufactured from the thermoplastic resin composition (A-1) by forming a film with a touch roll. The temperature Tp of the melt of the thermoplastic resin composition (A-1) at the exit of the die was 272°C. Therefore, "Td-Tp" was 73 degreeC.

구체적으로는, 이하의 수순으로 제막했다.Specifically, it formed into a film in the following procedure.

(1) 벤트를 갖는 단축 압출기를 사용하여, 25㎏/시의 처리 속도로 용융 제막을 행하였다. 상기 압출기는 직경 65㎜, L/D=32의 배리어 플라이트형 스크루를 갖고 있었다. 또한, 상기 압출기의 선단부에는 중합체 필터(여과 정밀도 5㎛) 및 T다이가 구비되어 있었다.(1) Melt film forming was performed at a processing speed of 25 kg/hour using a single screw extruder equipped with a vent. The extruder had a barrier flight type screw having a diameter of 65 mm and L/D = 32. In addition, a polymer filter (filtration accuracy of 5 µm) and a T-die were provided at the front end of the extruder.

(2) 제막 후의 용융 수지 필름을 냉각 롤에 통과시켰다. 상기 냉각 롤은 제1 롤(탄성 터치 롤), 제2 롤(캐스트 롤) 및 제3 롤로 구성되어 있고, 각각의 롤은 크롬 도금이 실시되어 있었다. 각 냉각 롤의 온도는 R1/R2/R3=95/100/85℃로 했다. T다이 출구로부터 압출한 열가소성 수지 조성물의 용융 수지 필름과, R1 및 R2의 간극을 포함하는 연직면이 이루는 각도 θ는 5°로 설정했다.(2) The molten resin film after film formation was passed through a cooling roll. The cooling roll is composed of a first roll (elastic touch roll), a second roll (cast roll), and a third roll, and chrome plating is applied to each roll. The temperature of each cooling roll was set to R1/R2/R3=95/100/85°C. The angle θ formed by the molten resin film of the thermoplastic resin composition extruded from the T-die exit and the vertical plane including the gap between R1 and R2 was set to 5°.

(3) 용융 수지 필름을 R1 위에 캐스팅하여, 두께 215㎛의 미연신 필름을 얻었다. 얻어진 미연신 필름을 그대로 연속적으로 오븐 종연신기로 공급하고, 오븐의 온도를 136℃로 하고, 종방향으로 연신 배율 1.6배의 연신을 행하였다.(3) R1 the molten resin film It was cast on top to obtain an unstretched film having a thickness of 215 μm. The obtained unstretched film was continuously supplied as it was to an oven longitudinal stretching machine, and the temperature of the oven was set to 136° C., and stretching was performed at a stretching ratio of 1.6 times in the machine direction.

(4) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하여, 평균 두께 160㎛의 종연신 필름 롤을 얻었다.(4) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a longitudinally stretched film roll having an average thickness of 160 µm.

(5) 얻어진 종연신 필름 롤을 조출기로 조출하고, 양단부로부터 20㎜의 위치를 2인치의 클립으로 파지하여 텐터 연신기로 공급했다. 그리고, 오븐의 온도를 138℃로 하고, 횡방향으로 연신 배율 2.0배의 횡연신을 행하였다.(5) The obtained longitudinally stretched film roll was drawn out with a feeder, held at a position of 20 mm from both ends with a 2-inch clip, and supplied to a tenter stretcher. Then, the temperature of the oven was set to 138°C, and transverse stretching was performed at a draw ratio of 2.0 times in the transverse direction.

(6) 연신 후의 필름을 권취기로 권취하고, 평균 두께 80㎛의 롤상의 광학 필름을 얻었다.(6) The film after stretching was wound up with a winder to obtain a roll-shaped optical film having an average thickness of 80 µm.

(7) 얻어진 광학 필름을 200㎜×300㎜(A4) 크기로 절단하여, 복수매의 매엽상 광학 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다. 당해 필름의 순수와의 접촉각을 측정한바, 76°였다.(7) The obtained optical film was cut into a size of 200 mm x 300 mm (A4) to prepare a plurality of sheet-shaped optical films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less. The contact angle of the film with pure water was measured and found to be 76°.

<실시예 2-2><Example 2-2>

유리 용기에, 메타크릴산메틸(MMA) 18질량부, 아크릴산메틸(MA) 2질량부, 메틸이소부틸케톤(MIBK) 20질량부, 2,2'-아조비스(이소부티르산)디메틸(와코 준야쿠 고교 가부시키가이샤제: V-601) 0.06질량부를 투입하고, 이것에 질소 가스를 도입하여 밀봉하고, 60℃에서 4시간, 50℃에서 48시간 반응시켰다. 계속해서, 얻어진 중합 용액을 MIBK로 희석하고, 헥산을 사용하여 재침전, 여과 및 건조에 의해 (메트)아크릴계 수지를 얻었다. 얻어진 중합체 20질량부를 톨루엔 20질량부로 용해하고, 얻어진 중합 용액으로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 열가소성 수지 조성물 (A-2)를 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-2)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.In a glass container, 18 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 2 parts by mass of methyl acrylate (MA), 20 parts by mass of methyl isobutyl ketone (MIBK), and 2,2'-azobis(isobutyric acid)dimethyl (Junya Wako) Kukogyo Co., Ltd. make: V-601) 0.06 mass part was thrown in, nitrogen gas was introduce|transduced into this, it sealed, and it was made to react at 60 degreeC for 4 hours and 50 degreeC for 48 hours. Subsequently, the obtained polymerization solution was diluted with MIBK, and (meth)acrylic resin was obtained by reprecipitation using hexane, filtration and drying. 20 parts by mass of the obtained polymer was dissolved in 20 parts by mass of toluene, and a thermoplastic resin composition (A-2) was obtained in the same manner as in Example 2-1 from the obtained polymerization solution. The physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-2) are collectively shown in Table 2.

열가소성 수지 조성물 (A-2)로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-2), touch roll film formation and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-like films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

<실시예 2-3><Example 2-3>

교반 장치, 온도 센서, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 메타크릴산메틸(MMA) 81부, N-페닐말레이미드(PMI) 8부, N-시클로헥실말레이미드(CHMI) 11부 및 크실렌 67부를 투입하고, 이것에 질소를 통과시키면서, 130℃까지 승온시켰다. 승온에 수반하는 환류가 시작된 곳에서, 중합 개시제로서 t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(니혼 유시 가부시키가이샤제: 퍼부틸(등록 상표)O) 0.19부를 6시간에 걸쳐 적하하면서, 약 130 내지 145℃의 환류 하에서 용액 중합을 진행시켰다.To a reaction vessel equipped with a stirring device, a temperature sensor, a cooling tube and a nitrogen inlet tube, 81 parts of methyl methacrylate (MMA), 8 parts of N-phenylmaleimide (PMI), and 11 parts of N-cyclohexylmaleimide (CHMI) part and 67 parts of xylene were introduced, and the temperature was raised to 130°C while passing nitrogen through this. At the place where the reflux accompanying the temperature rise began, 0.19 part of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (manufactured by Nihon Yushi Co., Ltd.: Perbutyl (registered trademark) O) as a polymerization initiator was added dropwise over 6 hours, Solution polymerization was performed under reflux at about 130 to 145°C.

2축 압출기의 배럴 온도를 260℃로 설정한 것 이외는, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 얻어진 중합 용액으로부터 열가소성 수지 조성물 (A-3)을 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-3)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.A thermoplastic resin composition (A-3) was obtained from the obtained polymerization solution in the same manner as in Example 2-1 except that the barrel temperature of the twin screw extruder was set to 260°C. The physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-3) are collectively shown in Table 2.

열가소성 수지 조성물 (A-3)으로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-3), touch roll film formation and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-like films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

<실시예 2-4><Example 2-4>

착색제(스미카 켐텍스 가부시키가이샤제: 스미플라스트(등록 상표)VioletB) 0.01부를 톨루엔 44부에 용해시킨 용액을 0.15부/시의 투입 속도로 제3 벤트의 상류로부터 투입한 것 이외는, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 열가소성 수지 조성물 (A-4)를 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-4)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.A solution obtained by dissolving 0.01 part of colorant (manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.: Sumiplast (registered trademark) Violet B) in 44 parts of toluene was introduced from the upstream of the third vent at an input rate of 0.15 part/hour. A thermoplastic resin composition (A-4) was obtained in the same manner as in Example 2-1. Table 2 shows the physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-4).

열가소성 수지 조성물 (A-4)로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-4), touch roll film formation and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-shaped films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

<실시예 2-5><Example 2-5>

착색제(스미카 켐텍스 가부시키가이샤제: 스미플라스트(등록 상표)GreenG) 0.01부를 톨루엔 44부에 용해시킨 용액을 0.15부/시의 투입 속도로 제3 벤트의 상류로부터 투입한 것 이외는, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 열가소성 수지 조성물 (A-5)를 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-5)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.Carried out except that a solution in which 0.01 part of colorant (manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd.: Sumiplast (registered trademark) GreenG) was dissolved in 44 parts of toluene was introduced from the upstream of the third vent at an input rate of 0.15 part/hour. A thermoplastic resin composition (A-5) was obtained in the same manner as in Example 2-1. Table 2 shows the physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-5).

열가소성 수지 조성물 (A-5)로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-5), touch roll film formation and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-like films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

<비교예 2-1><Comparative Example 2-1>

자외선 흡수제(가부시키가이샤 ADEKA제: 아데카스탭(등록 상표)LA-F70, 중량 감소 개시 온도 Td(℃)는 379℃) 0.55부를 톨루엔 1.13부에 용해시킨 용액을 0.59부/시의 투입 속도로 제3 벤트의 상류로부터 투입한 것 이외는, 실시예 2-2와 마찬가지로 하여, 열가소성 수지 조성물 (A-6)을 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-6)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.A solution obtained by dissolving 0.55 part of an ultraviolet absorber (manufactured by ADEKA Co., Ltd.: Adeka Staff (registered trademark) LA-F70, weight loss start temperature Td (° C.) is 379 ° C.) in 1.13 parts of toluene at an injection rate of 0.59 part/hour A thermoplastic resin composition (A-6) was obtained in the same manner as in Example 2-2 except that it was introduced from the upstream of the third vent. The physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-6) are collectively shown in Table 2.

열가소성 수지 조성물 (A-6)으로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-6), touch roll film formation and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-like films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

<참고예 2-1> <Reference Example 2-1>

시판의 폴리메틸메타크릴레이트 수지(스미토모 가가쿠사제: 스미펙스(등록 상표)EX) 320부, 톨루엔 480부를 교반기를 갖는 오토클레이브에 도입하고, 100℃에서 30분간 가열하고 용해하여, 중합 용액을 얻었다.320 parts of a commercially available polymethyl methacrylate resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd.: Sumipex (registered trademark) EX) and 480 parts of toluene were introduced into an autoclave equipped with a stirrer, heated at 100° C. for 30 minutes to dissolve, and a polymerization solution was obtained. Got it.

얻어진 중합 용액으로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 열가소성 수지 조성물 (A-7)을 얻었다. 얻어진 열가소성 수지 조성물 (A-7)의 물성값은 표 2에 정리하여 나타낸다.From the resulting polymerization solution, a thermoplastic resin composition (A-7) was obtained in the same manner as in Example 2-1. The physical property values of the obtained thermoplastic resin composition (A-7) are shown collectively in Table 2.

열가소성 수지 조성물 (A-7)로부터, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여 터치 롤 제막 및 연신을 행하여, 복수매의 매엽상 필름을 제조했다. 당해 필름의 1㎡당의 노이즈 수는 5점 이하였다.From the thermoplastic resin composition (A-7), touch roll film forming and stretching were performed in the same manner as in Example 2-1 to prepare a plurality of sheet-shaped films. The number of noises per 1 m 2 of the film was 5 points or less.

Figure 112018011401987-pat00009
Figure 112018011401987-pat00009

(결과) (result)

실시예 2-1 내지 2-5, 비교예 2-1 내지 2-2는 모두 터치 롤에 의해 제막을 행하였다. 이로 인해, 노이즈 발생이 억제된 양호한 광학 필름을 제조할 수 있었다. 이 점은 실시예 1과 마찬가지이다.In all of Examples 2-1 to 2-5 and Comparative Examples 2-1 to 2-2, film formation was performed with a touch roll. For this reason, it was possible to manufacture a good optical film in which noise generation was suppressed. This point is the same as Example 1.

또한, 실시예 2-1 내지 2-3은 열가소성 수지 조성물의 조성을 변경함으로써, 유리 전이 온도가 각각 다르지만, 모두 고내열성의 열가소성 조성물을 얻었다. 실시예 2-4 내지 2-5도 착색제를 사용했지만, 역시 고내열성의 열가소성 조성물을 얻었다. 그 결과, 각종 광학 특성이 우수한 열가소성 조성물을 얻을 수 있었다.In Examples 2-1 to 2-3, the glass transition temperature was different by changing the composition of the thermoplastic resin composition, but all obtained highly heat-resistant thermoplastic compositions. Examples 2-4 to 2-5 also used a colorant, but thermoplastic compositions with high heat resistance were also obtained. As a result, a thermoplastic composition excellent in various optical properties could be obtained.

한편, 비교예 2-1은 열분해 온도가 높은 자외선 흡수제를 사용하여 열가소성 조성물을 얻었다. 그 결과, 상기 열가소성 조성물은 광학 특성에 결점이 존재했다. 구체적으로는 a*값, b*값, c*값 및 420㎚ 광선 통과율이 적합한 범위로부터 벗어나 있었다.On the other hand, in Comparative Example 2-1, a thermoplastic composition was obtained using a UV absorber having a high thermal decomposition temperature. As a result, the thermoplastic composition had defects in optical properties. Specifically, the a * value, the b * value, the c * value, and the 420 nm light passage were out of the suitable range.

또한, 참고예 2-1과 같이, 유리 전이 온도가 낮은(고내열성이 아닌) 열가소성 수지 조성물을 사용해도, 광학 특성이 우수한 열가소성 수지 조성물을 얻을 수 있다. 그러나, 〔1〕절에서 설명한 바와 같이, 이와 같은 열가소성 수지 조성물에서 얻어지는 광학 필름은 고내열성의 광학 필름이 구비하고 있는 이점을 구비하고 있지 않다.Further, even if a thermoplastic resin composition having a low glass transition temperature (not high heat resistance) is used as in Reference Example 2-1, a thermoplastic resin composition excellent in optical properties can be obtained. However, as described in section [1], an optical film obtained from such a thermoplastic resin composition does not have the advantages of a highly heat-resistant optical film.

실시예 2의 결과로부터, 고내열성의 열가소성 조성물(고내열성의 (메트)아크릴계 수지) 및 열분해 온도가 낮은 자외선 흡수제를 병용하면, 광학 특성이 우수한 광학 필름을 제조할 수 있는 것이 시사된다. 이때, 제막 방법으로서 터치 롤을 채용하면, 노이즈의 발생도 억제할 수 있다.The results of Example 2 suggest that an optical film having excellent optical properties can be produced by using a combination of a highly heat-resistant thermoplastic composition (high heat-resistant (meth)acrylic resin) and an ultraviolet absorber having a low thermal decomposition temperature. At this time, if a touch roll is employed as a film forming method, generation of noise can also be suppressed.

본 발명에 관한 광학 필름의 제조 방법에 의하면, b*값이 낮아 양호하고, 제막 시에 롤로부터의 오염 물질의 전사가 없는, 광학 특성이 양호한 광학 필름을 제조할 수 있다.According to the method for producing an optical film according to the present invention, an optical film having a low b * value, no transfer of contaminants from a roll during film formation, and good optical properties can be produced.

Claims (12)

(메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는, 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을, 다이로부터 필름상으로 토출한 후에 터치 롤 및 캐스트 롤에 끼워 넣어 제막하는 광학 필름의 제조 방법이며,
상기 열분해 온도 Td(℃)와, 상기 다이의 출구에 있어서의 상기 용융물의 온도 Tp(℃)의 관계가 하기 식
50≤Td-Tp
를 만족시키는, 광학 필름의 제조 방법.
A melt containing a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C. or less based on 100 parts by weight of (meth) acrylic resin is discharged from a die into a film form, and then a touch roll and a cast roll It is a method for producing an optical film formed by being inserted into a film,
The relationship between the thermal decomposition temperature Td (°C) and the temperature Tp (°C) of the melt at the exit of the die is expressed by the following formula
50≤Td-Tp
A method for manufacturing an optical film that satisfies.
제1항에 있어서, 상기 열가소성 수지 조성물의 270℃, 전단 속도 10/초에 있어서의 용융 점도가 500㎩ㆍS 이상인, 광학 필름의 제조 방법.The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the thermoplastic resin composition has a melt viscosity of 500 Pa·S or more at 270°C and a shear rate of 10/sec. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 수지가, 락톤환 구조, 무수 글루타르산 구조, 글루타르이미드 구조, N-치환 말레이미드 구조 및 무수 말레산 구조에서 선택되는 적어도 1종의 환 구조를 주쇄에 갖는 것을 특징으로 하는 광학 필름의 제조 방법.The (meth)acrylic resin according to claim 1 or 2, wherein the (meth)acrylic resin is at least one member selected from a lactone ring structure, a glutaric anhydride structure, a glutarimide structure, an N-substituted maleimide structure, and a maleic anhydride structure. A method for producing an optical film characterized in that it has a ring structure of in the main chain. (메트)아크릴계 수지와 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 용융물을 제막하는 광학 필름의 제조 방법이며,
상기 (메트)아크릴계 수지의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고,
상기 용융물을 다이로부터 필름상으로 토출한 후에, 터치 롤 및 캐스트 롤에 끼워 넣어 제막하는, 광학 필름의 제조 방법.
A method for producing an optical film in which a melt containing a thermoplastic resin composition containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C. or less is formed into a film,
The glass transition temperature of the (meth)acrylic resin is 108 ° C. or higher,
The manufacturing method of the optical film which comprises discharging the said molten material from a die in the form of a film, and then inserting it into a touch roll and a cast roll to form a film.
(메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 롤상의 광학 필름이며,
상기 자외선 흡수제는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕이고,
상기 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고,
상기 광학 필름을 그의 길이 방향으로 120m의 길이에 걸쳐서 12m 간격으로 폭 방향의 80%를 투영 검사했을 때에, 노이즈의 합계가 5점 이하인, 광학 필름.
A roll-shaped optical film comprising a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C. or less based on 100 parts by weight of (meth) acrylic resin,
The ultraviolet absorber is 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol],
The b * value when the optical film is made into a film having a thickness of 80 μm is less than 0.5,
The optical film, wherein the total noise is 5 points or less when the optical film is subjected to projection inspection of 80% of the width direction at intervals of 12 m over a length of 120 m in its longitudinal direction.
(메트)아크릴계 수지 100중량부에 대하여, 열분해 온도가 360℃ 이하인 자외선 흡수제를 0.1 내지 5중량부 포함하는 열가소성 수지 조성물을 포함하는 광학 필름이며,
상기 자외선 흡수제는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕이고,
상기 광학 필름을 두께 80㎛의 필름으로 했을 때의 b*값이 0.5 미만이고,
상기 광학 필름을 투영 검사했을 때에, 1㎡당의 노이즈가 5점 이하인, 광학 필름.
An optical film comprising a thermoplastic resin composition containing 0.1 to 5 parts by weight of an ultraviolet absorber having a thermal decomposition temperature of 360 ° C or less based on 100 parts by weight of (meth) acrylic resin,
The ultraviolet absorber is 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol],
The b * value when the optical film is made into a film having a thickness of 80 μm is less than 0.5,
The optical film whose noise per 1 m 2 is 5 points or less when the optical film is subjected to projection inspection.
(메트)아크릴계 수지와 자외선 흡수제를 함유하고 있는 광학 필름이며,
상기 자외선 흡수제는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕이고,
상기 광학 필름의 유리 전이 온도가 108℃ 이상이고,
상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 c*값이 0.45이하인, 광학 필름.
An optical film containing a (meth)acrylic resin and an ultraviolet absorber,
The ultraviolet absorber is 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol],
The glass transition temperature of the optical film is 108 ° C. or higher,
An optical film having a c * value of 0.45 or less when the optical film is used as an unstretched film having a thickness of 100 µm and measured in accordance with JIS Z 8729.
제7항에 있어서, 상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의, JIS Z 8729의 규정에 준거하여 측정한 a*값의 절댓값이 0.10 이하인, 광학 필름.The optical film according to claim 7, wherein an absolute value of a * value measured according to JIS Z 8729 when the optical film is an unstretched film having a thickness of 100 µm is 0.10 or less. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 광학 필름을 두께 100㎛의 미연신 필름으로 했을 때의,
JIS K7361:1997의 규정에 준거하여 측정한 파장 380㎚에 있어서의 광선 투과율이 3.0% 이하이고, 또한,
파장 420㎚에 있어서의 광선 투과율이 95.0% 이상인, 광학 필름.
The method according to claim 7 or 8, when the optical film is an unstretched film having a thickness of 100 μm,
The light transmittance at a wavelength of 380 nm measured in accordance with the provisions of JIS K7361: 1997 is 3.0% or less, and
An optical film having a light transmittance of 95.0% or more at a wavelength of 420 nm.
제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 수지는 주쇄에 환 구조를 갖고 있는, 광학 필름.The optical film according to claim 7 or 8, wherein the (meth)acrylic resin has a ring structure in its main chain. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 수지의 열분해 온도는 310℃ 이상인, 광학 필름.The optical film according to claim 7 or 8, wherein the thermal decomposition temperature of the (meth)acrylic resin is 310°C or higher. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 자외선 흡수제는 2,2'-메틸렌비스〔6-(2H-벤조트리아졸-2-일)4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀〕인, 광학 필름의 제조 방법.The method according to claim 1 or 4, wherein the ultraviolet absorber is 2,2'-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl) phenol], a method for producing an optical film.
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