KR102465542B1 - Apparatus for scheduling process - Google Patents

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Abstract

반도체 설비의 처리 공정을 스케줄링하는 공정 스케줄링 장치를 제공한다. 상기 공정 스케줄링 장치는, 반도체 공정 설비별로 스케줄링을 하는 공정 스케줄링 장치에 있어서, 프로세서; 복수의 인스트럭션, 및 복수의 인스트럭션을 이용하여 스케줄링을 하는 스케줄링 어플리케이션을 포함하는 스토리지; 스토리지에 저장된 정보를 임시 저장하는 메모리; 각각의 반도체 공정 설비와 통신하는 네트워크 인터페이스; 각각의 반도체 공정 설비에 명령을 입력하는 입력 수단; 공정 스케줄링 장치의 동작 상태를 표시하는 출력 수단; 및 프로세서, 스토리지, 메모리, 네트워크 인터페이스, 입력 수단 및 출력 수단 간 데이터 송수신 통로인 시스템 버스를 포함하며, 스케줄링 어플리케이션은 메모리에 로딩되어 동작하고, 복수의 반도체 공정 설비에 대하여 공통적으로 적용되는 설비 공통 정보 및 복수의 반도체 공정 설비 중 선택된 반도체 공정 설비에 대하여 특화되어 적용되는 설비 특화 정보를 기초로 스케줄링을 한다.A process scheduling device for scheduling processing processes of a semiconductor facility is provided. The process scheduling apparatus may include: a processor; a storage including a plurality of instructions and a scheduling application that performs scheduling using the plurality of instructions; a memory for temporarily storing information stored in the storage; a network interface communicating with each semiconductor processing facility; input means for inputting a command to each semiconductor processing facility; an output means for displaying an operating state of the process scheduling device; and a system bus, which is a data transmission/reception path between processor, storage, memory, network interface, input means and output means, and the scheduling application is loaded into the memory and operates, and equipment common information commonly applied to a plurality of semiconductor process equipment. and Scheduling is performed based on facility-specific information that is specialized and applied to a semiconductor process facility selected from among a plurality of semiconductor process facilities.

Description

공정 스케줄링 장치 {Apparatus for scheduling process}Process scheduling device {Apparatus for scheduling process}

본 발명은 반도체 설비의 처리 공정을 스케줄링하는 공정 스케줄링 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a process scheduling device for scheduling processing processes of semiconductor equipment.

반도체 장치 또는 디스플레이 장치를 제조할 때에는, 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 박막증착, 세정 등 다양한 공정이 실시된다. 여기서, 사진공정은 도포, 노광, 그리고 현상 공정을 포함한다. 기판 상에 감광액을 도포하고(즉, 도포 공정), 감광막이 형성된 기판 상에 회로 패턴을 노광하며(즉, 노광 공정), 기판의 노광처리된 영역을 선택적으로 현상한다(즉, 현상 공정).When manufacturing a semiconductor device or a display device, various processes such as photography, etching, ashing, ion implantation, thin film deposition, and cleaning are performed. Here, the photo process includes coating, exposure, and developing processes. A photoresist is applied on a substrate (ie, application process), a circuit pattern is exposed on the substrate on which the photoresist film is formed (ie, exposure process), and the exposed area of the substrate is selectively developed (ie, development process).

각각의 공정은 고유한 설비에서 수행될 수 있으며, 각 설비는 공정을 처리하기 위한 다양한 장비를 구비할 수 있다. 복수의 장비의 상호간의 연동 작업을 통하여 고유한 공정을 수행할 수 있다.Each process may be performed in a unique facility, and each facility may have a variety of equipment for handling the process. A unique process can be performed through mutual interlocking of a plurality of equipment.

본 발명에서 해결하고자 하는 기술적 과제는 반도체 설비의 처리 공정을 스케줄링하는 공정 스케줄링 장치를 제공하는 것이다.A technical problem to be solved by the present invention is to provide a process scheduling device that schedules a processing process of a semiconductor facility.

본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problems of the present invention are not limited to the above-mentioned problems, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 공정 스케줄링 장치의 일 면(aspect)은, 반도체 공정 설비별로 스케줄링을 하는 공정 스케줄링 장치에 있어서, 프로세서; 복수의 인스트럭션, 및 상기 복수의 인스트럭션을 이용하여 상기 스케줄링을 하는 스케줄링 어플리케이션을 포함하는 스토리지; 상기 스토리지에 저장된 정보를 임시 저장하는 메모리; 각각의 반도체 공정 설비와 통신하는 네트워크 인터페이스; 각각의 반도체 공정 설비에 명령을 입력하는 입력 수단; 상기 공정 스케줄링 장치의 동작 상태를 표시하는 출력 수단; 및 상기 프로세서, 상기 스토리지, 상기 메모리, 상기 네트워크 인터페이스, 상기 입력 수단 및 상기 출력 수단 간 데이터 송수신 통로인 시스템 버스를 포함하며, 상기 스케줄링 어플리케이션은 상기 메모리에 로딩되어 동작하고, 복수의 반도체 공정 설비에 대하여 공통적으로 적용되는 설비 공통 정보 및 상기 복수의 반도체 공정 설비 중 선택된 반도체 공정 설비에 대하여 특화되어 적용되는 설비 특화 정보를 기초로 상기 스케줄링을 한다.One aspect (aspect) of the process scheduling apparatus of the present invention for achieving the above technical problem, in the process scheduling apparatus for scheduling for each semiconductor process equipment, a processor; a storage including a plurality of instructions and a scheduling application that performs the scheduling using the plurality of instructions; a memory for temporarily storing the information stored in the storage; a network interface communicating with each semiconductor processing facility; input means for inputting a command to each semiconductor processing facility; an output means for displaying an operating state of the process scheduling device; and a system bus, which is a data transmission/reception path between the processor, the storage, the memory, the network interface, the input unit, and the output unit, wherein the scheduling application is loaded into the memory and operated, and operates in a plurality of semiconductor processing equipment. The scheduling is performed based on equipment common information commonly applied to the semiconductor process equipment and equipment specific information specially applied to the selected semiconductor process equipment among the plurality of semiconductor process equipment.

상기 스토리지는 상기 설비 공통 정보를 포함하며, 상기 설비 공통 정보는 고정된 위치에서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛에 대한 정보, 및 이동하면서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛에 대한 정보를 포함할 수 있다.The storage includes facility common information, and the facility common information includes information on a fixed unit performing a semiconductor process-related task at a fixed location and information on a mobile unit performing a semiconductor process-related task while moving. information may be included.

상기 스토리지는 상기 설비 특화 정보를 포함하며, 상기 설비 특화 정보는, 반도체 공정 설비 중 세정 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제1 정보; 반도체 공정 설비 중 포토 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제2 정보; 반도체 공정 설비 중 증착 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제3 정보; 및 반도체 공정 설비 중 식각 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제4 정보를 포함하거나, 또는 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 경로를 포함하는 제5 정보; 및 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 속도를 포함하는 제6 정보를 포함할 수 있다.The storage includes the facility-specific information, and the facility-specific information includes: first information including information of each unit included in a cleaning facility among semiconductor processing facilities; Second information including information of each unit included in a photo facility among semiconductor processing facilities; Third information including information on each unit included in a deposition facility among semiconductor processing facilities; and fourth information including information of each unit included in an etching facility among semiconductor processing facilities, or fifth information including movement paths of units included in a semiconductor processing facility. and sixth information including moving speeds of units included in the semiconductor processing equipment.

상기 스토리지는 스케줄러 생성을 위해 조건별로 우선순위가 부여된 스케줄러 알고리즘을 포함하며, 상기 조건은 품질, 생산량 및 다중 작업 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The storage includes scheduler algorithms prioritized for each condition to create a scheduler, and the condition may include at least one of quality, yield, and multiple tasks.

상기 복수의 인스트럭션 중 어느 하나의 인스트럭션은 상기 스케줄링을 위한 스케줄러를 생성할 수 있다.Any one of the plurality of instructions may generate a scheduler for the scheduling.

상기 어느 하나의 인스트럭션은 이동하면서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛의 이동 속도, 고정된 위치에서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛의 작업 시간, 및 동시에 투입되는 상기 고정 유닛의 수 중에서 적어도 하나를 조절하여 상기 스케줄러를 생성할 수 있다.Any one of the above instructions may include the moving speed of a mobile unit that performs work related to the semiconductor process while moving, the working time of the fixed unit that performs work related to the semiconductor process at a fixed location, and the number of the fixed units that are simultaneously inputted. The scheduler may be created by adjusting at least one of the above.

상기 어느 하나의 인스트럭션은 우선순위가 부여된 조건과 관련된 정보를 상기 설비 공통 정보에서 추출하고, 추출된 정보를 기초로 상기 스케줄러를 생성할 수 있다.Any one of the above instructions may extract information related to a condition to which priorities are assigned from the equipment common information, and generate the scheduler based on the extracted information.

상기 어느 하나의 인스트럭션은 상기 설비 공통 정보에 상기 설비 특화 정보를 적용하여 상기 스케줄러를 생성할 수 있다.Any one of the above instructions may generate the scheduler by applying the facility-specific information to the facility-common information.

상기 어느 하나의 인스트럭션은 상기 설비 공통 정보가 고정된 위치에서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛에 대한 정보를 포함하는 경우, 반도체 공정 설비 중 세정 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제1 정보, 반도체 공정 설비 중 포토 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제2 정보, 반도체 공정 설비 중 증착 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제3 정보, 및 반도체 공정 설비 중 식각 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제4 정보 중 적어도 하나의 정보를 상기 설비 특화 정보로 적용할 수 있다.The one instruction includes information on each unit included in a cleaning facility among semiconductor processing facilities when the facility common information includes information on a fixed unit performing a semiconductor process-related operation at a fixed location. 1 information, 2nd information including information on each unit included in photo equipment among semiconductor process equipment, 3rd information including information on each unit included in deposition equipment among semiconductor process equipment, and etching equipment among semiconductor process equipment At least one of the fourth information including information of each unit included in may be applied as the facility-specific information.

상기 어느 하나의 인스트럭션은 상기 설비 공통 정보가 이동하면서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛에 대한 정보를 포함하는 경우, 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 경로를 포함하는 제5 정보, 및 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 속도를 포함하는 제6 정보 중 적어도 하나의 정보를 상기 설비 특화 정보로 적용할 수 있다.Fifth information including a moving path of a unit included in a semiconductor processing facility when the facility common information includes information about a moving unit that performs work related to the semiconductor process while moving; and At least one of the sixth pieces of information including a movement speed of a unit included in a semiconductor processing facility may be applied as the facility-specific information.

상기 복수의 인스트럭션은, 상기 설비 공통 정보 및 상기 설비 특화 정보를 기초로 스케줄러를 생성하는 스케줄러 생성 인스트럭션; 상기 선택된 반도체 공정 설비에 포함된 복수의 유닛 중 작업을 수행할 유닛을 결정하는 유닛 결정 인스트럭션; 및 상기 결정된 유닛에 작업을 지시하는 작업 지시 인스트럭션을 포함할 수 있다.The plurality of instructions may include a scheduler generation instruction for generating a scheduler based on the equipment common information and the equipment specific information; a unit determination instruction for determining a unit to perform an operation among a plurality of units included in the selected semiconductor processing equipment; and a work instruction instruction instructing the determined unit to work.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 스케줄링 시스템을 나타낸 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 공정 스케줄링 장치의 블록도이다.
도 3은 도 2에 도시된 스케줄러 알고리즘의 세부구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 도 2에 도시된 설비 특화 정보의 세부구성을 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 도 2에 도시된 스케줄러의 생성 방식을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a diagram showing a process scheduling system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a block diagram of the process scheduling device shown in FIG. 1 .
FIG. 3 is a diagram for explaining the detailed configuration of the scheduler algorithm shown in FIG. 2 .
FIG. 4 is a diagram for explaining a detailed configuration of facility-specific information shown in FIG. 2 .
FIG. 5 is a diagram for explaining a method of generating the scheduler shown in FIG. 2 .

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them, will become clear with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below and may be implemented in various different forms, only the present embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the common knowledge in the art to which the present invention belongs It is provided to fully inform the holder of the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims. Like reference numbers designate like elements throughout the specification.

비록 제1, 제2 등이 다양한 소자, 구성요소 및/또는 섹션들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 소자, 구성요소 및/또는 섹션들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 소자, 구성요소 또는 섹션들을 다른 소자, 구성요소 또는 섹션들과 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 소자, 제1 구성요소 또는 제1 섹션은 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 소자, 제2 구성요소 또는 제2 섹션일 수도 있음은 물론이다.Although first, second, etc. are used to describe various elements, components and/or sections, it is needless to say that these elements, components and/or sections are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one element, component or section from another element, component or section. Accordingly, it goes without saying that the first element, first element, or first section referred to below may also be a second element, second element, or second section within the spirit of the present invention.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.Terminology used herein is for describing the embodiments and is not intended to limit the present invention. In this specification, singular forms also include plural forms unless specifically stated otherwise in a phrase. As used herein, "comprises" and/or "comprising" means that a stated component, step, operation, and/or element is present in the presence of one or more other components, steps, operations, and/or elements. or do not rule out additions.

다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms (including technical and scientific terms) used in this specification may be used in a meaning commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. In addition, terms defined in commonly used dictionaries are not interpreted ideally or excessively unless explicitly specifically defined.

본 명세서에서, "~하도록 구성된(또는 설정된)(configured to)"은 상황에 따라, 예를 들면, 하드웨어적 또는 소프트웨어적으로 "~에 적합한," "~하는 능력을 가지는," "~하도록 변경된," "~하도록 만들어진," "~를 할 수 있는," 또는 "~하도록 설계된"과 상호 호환적으로(interchangeably) 사용될 수 있다. 어떤 상황에서는, "~하도록 구성된 장치"라는 표현은, 그 장치가 다른 장치 또는 부품들과 함께 "~할 수 있는" 것을 의미할 수 있다. 예를 들면, 문구 "A, B, 및 C를 수행하도록 구성된(또는 설정된) 프로세서"는 해당 동작을 수행하기 위한 전용 프로세서(예: 임베디드 프로세서), 또는 메모리 장치에 저장된 하나 이상의 소프트웨어 프로그램들을 실행함으로써, 해당 동작들을 수행할 수 있는 범용 프로세서(예: CPU 또는 application processor)를 의미할 수 있다.In this specification, "configured to (or configured to)" means "suitable for," "having the ability to," "changed to" depending on the situation, for example, hardware or software ," can be used interchangeably with "made to," "capable of," or "designed to." In some contexts, the expression "device configured to" can mean that the device is "capable of" in conjunction with other devices or components. For example, the phrase "a processor configured (or configured) to perform A, B, and C" may include a dedicated processor (eg, an embedded processor) to perform the operation, or by executing one or more software programs stored in a memory device. , may mean a general-purpose processor (eg, CPU or application processor) capable of performing corresponding operations.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 스케줄링 시스템을 나타낸 도면이다.1 is a diagram showing a process scheduling system according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 공정 스케줄링 시스템(10)은 반도체 공정 설비(100) 및 공정 스케줄링 장치(200)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1 , a process scheduling system 10 includes a semiconductor process facility 100 and a process scheduling device 200 .

반도체 공정 설비(100)는 반도체 부품 또는 디스플레이 부품에 대한 공정을 수행할 수 있다. 예를 들어, 반도체 공정 설비(100)는 사진, 식각, 애싱, 이온주입, 박막증착 또는 세정 등의 공정을 수행할 수 있다.The semiconductor processing facility 100 may perform processes on semiconductor components or display components. For example, the semiconductor processing facility 100 may perform processes such as photography, etching, ashing, ion implantation, thin film deposition, or cleaning.

각각의 반도체 공정 설비(100)는 작업을 수행하는 복수의 유닛을 구비하여 고유한 공정을 수행할 수 있다. 복수의 유닛은 해당 반도체 공정 설비(100)의 고유한 공정을 위하여 적절히 배치되어 작업을 수행할 수 있다.Each semiconductor processing facility 100 may perform a unique process by having a plurality of units performing operations. A plurality of units may be properly arranged and perform work for a unique process of the corresponding semiconductor process equipment 100 .

공정 스케줄링 장치(200)는 반도체 공정 설비(100)의 동작에 대한 스케줄링을 수행할 수 있다. 반도체 공정 설비(100)는 공정 스케줄링 장치(200)의 스케줄링에 의해 작업 순서가 결정되어 작업을 수행할 수 있는 것이다.The process scheduling device 200 may perform scheduling of operations of the semiconductor process equipment 100 . In the semiconductor process equipment 100, the work order is determined by the scheduling of the process scheduling device 200, and the work can be performed.

공정 스케줄링 장치(200)는 각 반도체 공정 설비(100)별로 스케줄링을 수행할 수 있다. 각 반도체 공정 설비(100)는 공정 스케줄링 장치(200)에 의하여 생성된 스케줄링에 의해 작업을 수행할 수 있다. 또는, 본 발명이 몇몇 실시예에 따르면 공정 스케줄링 장치(200)는 적어도 일부의 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄링을 수행할 수도 있다. 복수의 반도체 공정 설비(100)는 공정 스케줄링 장치(200)의 스케줄링에 의해 연동하여 작업을 수행할 수 있다.The process scheduling device 200 may perform scheduling for each semiconductor process facility 100 . Each semiconductor process facility 100 may perform work according to scheduling generated by the process scheduling device 200 . Alternatively, according to some embodiments of the present invention, the process scheduling device 200 may perform scheduling for at least some semiconductor process equipment 100 . The plurality of semiconductor process facilities 100 may work in conjunction with each other according to scheduling of the process scheduling device 200 .

도 1은 하나의 공정 스케줄링 장치(200)가 복수의 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄링을 수행하는 것으로 도시하고 있으나, 이는 예시적인 것으로서 복수의 공정 스케줄링 장치(200)가 복수의 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄링을 수행할 수도 있다. 예를 들어, 각 반도체 공정 설비(100)별로 공정 스케줄링 장치(200)가 구비될 수도 있다. 이하, 하나의 공정 스케줄링 장치(200)가 복수의 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄링을 수행하는 것을 위주로 설명하기로 한다.1 shows that one process scheduling device 200 performs scheduling for a plurality of semiconductor process facilities 100, but this is exemplary and the plurality of process scheduling devices 200 perform scheduling for a plurality of semiconductor process facilities ( 100) may be scheduled. For example, the process scheduling device 200 may be provided for each semiconductor process facility 100 . Hereinafter, it will be mainly described that one process scheduling device 200 performs scheduling for a plurality of semiconductor process facilities 100 .

도 2는 도 1에 도시된 공정 스케줄링 장치의 블록도이고, 도 3은 도 2에 도시된 스케줄러 알고리즘의 세부구성을 설명하기 위한 도면이고, 도 4는 도 2에 도시된 설비 특화 정보의 세부구성을 설명하기 위한 도면이며, 도 5는 도 2에 도시된 스케줄러의 생성 방식을 설명하기 위한 도면이다.2 is a block diagram of the process scheduling device shown in FIG. 1, FIG. 3 is a diagram for explaining the detailed configuration of the scheduler algorithm shown in FIG. 2, and FIG. 4 is a detailed configuration of facility-specific information shown in FIG. , and FIG. 5 is a diagram for explaining the method of generating the scheduler shown in FIG. 2 .

도 2를 참조하면, 공정 스케줄링 장치(200)는 시스템 버스(210), 프로세서(220), 메모리(230), 스토리지(240), 네트워크 인터페이스(250), 입력 수단(260) 및 출력 수단(270)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2 , the process scheduling device 200 includes a system bus 210, a processor 220, a memory 230, a storage 240, a network interface 250, an input unit 260, and an output unit 270. ) is composed of.

시스템 버스(210)는 프로세서(220), 메모리(230), 스토리지(240), 네트워크 인터페이스(250), 입력 수단(260) 및 출력 수단(270) 간의 데이터 송수신 통로 역할을 수행할 수 있다.The system bus 210 may serve as a data transmission/reception path between the processor 220, the memory 230, the storage 240, the network interface 250, the input unit 260, and the output unit 270.

메모리(230)는 예를 들어 램(RAM; Random Access Memory)과 같은 휘발성 데이터 저장 장치일 수 있다. 스토리지(240)는 플래시 메모리(Flash Memory) 또는 하드 디스크와 같은 비휘발성 데이터 저장 장치일 수 있다.The memory 230 may be, for example, a volatile data storage device such as Random Access Memory (RAM). The storage 240 may be a non-volatile data storage device such as a flash memory or a hard disk.

본 발명에서 인스트럭션(instruction)은 기능을 기준으로 묶인 일련의 명령어들로서 프로세서(220)에 의해 실행되는 것을 나타낸다.In the present invention, an instruction represents a series of instructions grouped on the basis of function and executed by the processor 220 .

스토리지(240)는 스케줄링 정보(310), 스케줄러 알고리즘(320), 설비 특화 정보(330) 및 스케줄링 어플리케이션(340)의 실행 코드를 저장할 수 있다.The storage 240 may store the scheduling information 310 , the scheduler algorithm 320 , facility-specific information 330 , and execution codes of the scheduling application 340 .

스케줄링 정보(310)는 스케줄러의 생성에 필요한 기본 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 스케줄링 정보(310)는 유닛 정보, 작업 정보, 웨이퍼 정보 및 레시피 정보 등을 포함할 수 있다.Scheduling information 310 may include basic information necessary for generating a scheduler. For example, the scheduling information 310 may include unit information, job information, wafer information, and recipe information.

본 발명에서 스케줄링 정보(310)는 서로 다른 복수의 반도체 공정 설비(이하, 설비라 한다)(100)에 공통적으로 적용 가능한 설비 공통 정보를 포함할 수 있다. 예를 들어, 스케줄링 정보(310)에 포함된 설비 공통 정보 중 유닛 정보는 고정 유닛에 대한 정보 및 이동 유닛에 대한 정보를 포함할 수 있다. 여기서, 고정 유닛은 반도체 공정 설비(100)에 포함된 유닛 중 고정된 위치에서 작업을 수행하는 유닛을 나타내고, 이동 유닛은 반도체 공정 설비(100)에 포함된 유닛 중 이동하면서 작업을 수행하는 유닛을 나타낸다. 예를 들어, 웨이퍼를 운반하는 로봇은 이동 유닛에 포함되고, 웨이퍼에 대한 처리를 수행하는 공정 챔버는 고정 유닛에 포함될 수 있다.In the present invention, the scheduling information 310 may include facility common information commonly applicable to a plurality of different semiconductor process facilities (hereinafter referred to as facilities) 100 . For example, among equipment common information included in the scheduling information 310, unit information may include information on a fixed unit and information on a mobile unit. Here, the fixed unit represents a unit that performs work at a fixed location among units included in the semiconductor process facility 100, and the mobile unit refers to a unit that performs work while moving among the units included in the semiconductor process facility 100. indicate For example, a robot carrying a wafer may be included in a moving unit, and a process chamber performing processing on a wafer may be included in a fixed unit.

유닛 정보에는 해당 유닛이 구체적으로 수행하는 세부적인 동작이 포함되어 있지 않을 수 있다. 즉, 유닛 정보에는 해당 유닛이 고정 유닛인지 이동 유닛인지만을 포함할 수 있다. 이와 마찬가지로, 스케줄링 정보(310)에 포함되는 작업 정보는 이동, 도어 개방, 도어 폐쇄, 작업 개시 또는 작업 중지 등의 정보가 포함될 수 있고, 웨이퍼 정보 및 레시피 정보도 기본적인 웨이퍼 및 레시피에 대한 정보만을 포함할 수 있다.Unit information may not include detailed operations specifically performed by the corresponding unit. That is, the unit information may include only whether the corresponding unit is a fixed unit or a mobile unit. Similarly, job information included in the scheduling information 310 may include information such as movement, door opening, door closing, job start or job stop, and wafer information and recipe information include only basic wafer and recipe information. can do.

스케줄러 알고리즘(320)은 스케줄러를 생성하는데 필요한 알고리즘을 포함할 수 있다. 본 발명에서 스케줄러 알고리즘(320)은 특정 조건에 대하여 우선순위가 부여된 복수의 알고리즘을 포함할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 스케줄러 알고리즘(320)은 품질 우선 알고리즘(321), 생산량 우선 알고리즘(322) 및 다중 작업 우선 알고리즘(323) 등을 포함할 수 있다.The scheduler algorithm 320 may include algorithms necessary to create a scheduler. In the present invention, the scheduler algorithm 320 may include a plurality of algorithms prioritized for specific conditions. Referring to FIG. 3 , the scheduler algorithm 320 may include a quality priority algorithm 321, a yield priority algorithm 322, a multi-task priority algorithm 323, and the like.

품질 우선 알고리즘(321)은 품질에 우선순위가 부여된 스케줄링 알고리즘을 나타내고, 생산량 우선 알고리즘(322)은 생산량에 우선순위가 부여된 스케줄링 알고리즘을 나타내며, 다중 작업 우선 알고리즘(323)은 다중 작업에 우선순위가 부여된 스케줄링 알고리즘을 나타낸다.The quality priority algorithm 321 represents a scheduling algorithm in which priority is given to quality, the yield priority algorithm 322 represents a scheduling algorithm in which priority is given to yield, and the multi-task priority algorithm 323 prioritizes multiple tasks. Indicates a ranked scheduling algorithm.

구체적으로, 품질 우선 알고리즘(321)은 이동 유닛의 이동 속도를 감소시키거나 고정 유닛의 작업 시간을 확장하여 생산 부품의 품질을 향상시키도록 하는 알고리즘을 나타낸다. 생산량 우선 알고리즘(322)은 이동 유닛의 이동 속도를 증가시키거나 고정 유닛의 작업 시간을 감소시켜 생산 부품의 생산량을 증가시키도록 하는 알고리즘을 나타낸다. 다중 작업 우선 알고리즘(323)은 가급적 많은 수의 고정 유닛에 의한 작업이 동시에 수행되도록 하는 알고리즘을 나타낸다.Specifically, the quality priority algorithm 321 represents an algorithm for improving the quality of a produced part by reducing the moving speed of the mobile unit or extending the working time of the fixed unit. The yield priority algorithm 322 represents an algorithm that increases the yield of production parts by increasing the moving speed of the mobile unit or reducing the working time of the stationary unit. The multi-task priority algorithm 323 represents an algorithm that allows tasks performed by as many fixed units as possible simultaneously.

한편, 품질 우선 알고리즘(321), 생산량 우선 알고리즘(322) 및 다중 작업 우선 알고리즘(323)은 예시적인 것으로서 스케줄러 알고리즘(320)은 보다 다양한 알고리즘을 포함할 수 있다.Meanwhile, the quality priority algorithm 321, the yield priority algorithm 322, and the multi-task priority algorithm 323 are examples, and the scheduler algorithm 320 may include more various algorithms.

다시 도 2를 설명하면, 설비 특화 정보(330)는 복수의 반도체 공정 설비(100) 각각에 대한 정보를 포함한다. 특히, 본 발명에서 설비 특화 정보(330)는 복수의 반도체 공정 설비(100) 각각에 대한 특화된 설비 특화 정보를 포함할 수 있다. 도 4를 참조하여 설명하면, 설비 특화 정보(330)는 세정 설비 정보(331), 포토 설비 정보(332), 증착 설비 정보(333) 및 식각 설비 정보(334) 등을 포함할 수 있다.Referring back to FIG. 2 , the facility-specific information 330 includes information on each of the plurality of semiconductor processing facilities 100 . In particular, in the present invention, the facility-specific information 330 may include facility-specific information specific to each of the plurality of semiconductor processing facilities 100 . Referring to FIG. 4 , facility-specific information 330 may include cleaning facility information 331 , photo facility information 332 , deposition facility information 333 , and etching facility information 334 .

세정 설비 정보(331)는 세정 설비에 포함된 각 유닛의 세부 정보가 포함될 수 있고, 포토 설비 정보(332)는 포토 설비에 포함된 각 유닛의 세부 정보가 포함될 수 있고, 증착 설비 정보(333)는 증착 설비에 포함된 각 유닛의 세부 정보가 포함될 수 있으며, 식각 설비 정보(334)는 식각 설비에 포함된 각 유닛의 세부 정보가 포함될 수 있다. 다시 말해, 설비 특화 정보(330)는 복수의 설비 각각의 설비 특화 정보를 포함하고 있는 것으로 이해될 수 있다.The cleaning facility information 331 may include detailed information of each unit included in the cleaning facility, the photo facility information 332 may include detailed information of each unit included in the photo facility, and the deposition facility information 333 may include detailed information of each unit included in the deposition facility, and the etching facility information 334 may include detailed information of each unit included in the etching facility. In other words, the facility-specific information 330 may be understood as including facility-specific information for each of a plurality of facilities.

다시 도 2를 설명하면, 스케줄링 어플리케이션(340)은 적어도 하나의 실행 코드를 구비하여 반도체 공정 설비(100)의 공정에 대한 스케줄링을 수행할 수 있다. 실행 코드는 인스트럭션의 형태로 제공될 수 있으며, 스케줄링 어플리케이션(340)은 복수의 인스트럭션을 구비하여 반도체 공정 설비(100)의 공정에 대한 스케줄링을 수행할 수 있다.Referring back to FIG. 2 , the scheduling application 340 may include at least one execution code to perform scheduling of the semiconductor process equipment 100 . Execution codes may be provided in the form of instructions, and the scheduling application 340 may include a plurality of instructions to schedule processes of the semiconductor process equipment 100 .

메모리(230)는 스토리지(240)에 저장된 정보 중 적어도 일부를 임시로 저장할 수 있다. 예를 들어, 메모리(230)에는 스케줄링 정보(310), 스케줄러 알고리즘(320), 설비 특화 정보(330) 및 스케줄링 어플리케이션(340)이 로딩될 수 있다. 스케줄링 어플리케이션(340)은 메모리(230)에 로딩되어 동작할 수 있으며, 이 때 메모리(230)에 로딩된 스케줄링 정보(310), 스케줄러 알고리즘(320) 및 설비 특화 정보(330)를 이용할 수 있다.The memory 230 may temporarily store at least some of the information stored in the storage 240 . For example, scheduling information 310 , scheduler algorithm 320 , equipment specific information 330 , and scheduling application 340 may be loaded into memory 230 . The scheduling application 340 may be loaded into the memory 230 and operated, and at this time, the scheduling information 310, the scheduler algorithm 320, and facility-specific information 330 loaded into the memory 230 may be used.

스케줄링 어플리케이션(340)에는 스케줄러 생성 인스트럭션(410), 유닛 결정 인스트럭션(420) 및 작업 지시 인스트럭션(430)이 포함될 수 있다.The scheduling application 340 may include a create scheduler instruction 410 , a unit determination instruction 420 and a work order instruction 430 .

스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 스케줄러를 생성할 수 있다. 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 서로 다른 복수의 반도체 공정 설비(100)에 대하여 공통적으로 적용되는 설비 공통 정보를 이용하여 스케줄러를 생성할 수 있다. 설비 공통 정보는 메모리(230)에 로딩된 스케줄링 정보(310)에서 추출될 수 있다. 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 특정 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄러를 생성할 수 있다. 즉, 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 스케줄링 정보(310)에서 선택된 반도체 공정 설비(100)에 적용 가능한 정보를 추출하여 스케줄러를 생성할 수 있다.Create scheduler instruction 410 may create a scheduler. The scheduler creation instruction 410 may generate a scheduler by using equipment common information commonly applied to a plurality of different semiconductor processing facilities 100 . Facility common information may be extracted from the scheduling information 310 loaded into the memory 230 . The create scheduler instruction 410 can create a scheduler for a particular semiconductor processing facility 100 . That is, the scheduler generation instruction 410 may generate a scheduler by extracting information applicable to the selected semiconductor process facility 100 from the scheduling information 310 .

또한, 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 복수의 스케줄링 알고리즘 중 특정 조건에 대하여 우선순위가 부여된 스케줄링 알고리즘을 이용하여 스케줄러를 생성할 수 있다. 전술한 바와 같이, 스케줄러 알고리즘(320)은 품질 우선 알고리즘(321), 생산량 우선 알고리즘(322) 및 다중 작업 우선 알고리즘(323) 등을 포함할 수 있다. 스케줄러는 특정 조건에 대하여 우선순위가 부여되도록 반도체 공정 설비(100)의 유닛에 대한 동작을 스케줄링할 수 있다.Also, the scheduler generation instruction 410 may create a scheduler by using a scheduling algorithm to which a priority is given to a specific condition among a plurality of scheduling algorithms. As described above, the scheduler algorithm 320 may include a quality priority algorithm 321, a yield priority algorithm 322, a multi-task priority algorithm 323, and the like. The scheduler may schedule operations of units of the semiconductor process facility 100 so that priority is given to specific conditions.

스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 스케줄링 정보(310)에 포함된 설비 공통 정보 중 전술한 특정 우선순위 조건에 대응하는 정보를 추출하고, 추출된 정보를 참조하여 스케줄러를 생성할 수 있다. 예를 들어, 생산량에 우선수위가 부여된 경우 웨이퍼에 대한 고려 없이 공정이 수행되도록 할 수 있다. 이러한 경우 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 스케줄링 정보(310)에 포함된 설비 공통 정보 중 유닛 정보, 작업 정보 및 레시피 정보를 추출하여 스케줄러를 생성하지만, 웨이퍼 정보는 추출하지 않고 이를 참조하지 않을 수 있다.The scheduler generation instruction 410 may extract information corresponding to the above-described specific priority condition from equipment common information included in the scheduling information 310 and create a scheduler by referring to the extracted information. For example, if priority is given to production volume, the process can be performed without considering wafers. In this case, the scheduler generation instruction 410 generates a scheduler by extracting unit information, job information, and recipe information from equipment common information included in the scheduling information 310, but wafer information may not be extracted and may not be referred to.

스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 설비 특화 정보(330)를 이용하여 스케줄러를 생성할 수 있다. 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 설비 공통 정보에 설비 특화 정보(330)를 적용하여 스케줄러를 생성할 수 있다. 예를 들어, 설비 공통 정보에 포함된 이동 유닛에 대하여 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 이동 로봇의 이동 경로, 이동 속도 등이 포함된 설비 특화 정보(330)를 적용할 수 있다. 또는, 설비 공통 정보에 포함된 고정 유닛에 대하여 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 식각 공정 챔버에 대한 세부 정보를 적용할 수 있다.The create scheduler instruction 410 may create a scheduler using the facility-specific information 330 . The scheduler generation instruction 410 may generate a scheduler by applying facility-specific information 330 to facility common information. For example, the scheduler generation instruction 410 may apply facility-specific information 330 including a moving path and a moving speed of the mobile robot to the mobile unit included in facility common information. Alternatively, the scheduler generation instruction 410 may apply detailed information on an etching process chamber to the fixed unit included in the equipment common information.

도 5를 참조하면, 스케줄러(600)는 설비 공통 정보(311), 설비 특화 정보(330) 및 스케줄러 알고리즘(320)이 이용되어 생성될 수 있다.Referring to FIG. 5 , the scheduler 600 may be created using equipment common information 311 , equipment specific information 330 and scheduler algorithm 320 .

입력 수단(260)을 통하여 입력된 우선순위 조건(500)이 참조되어 스케줄링 정보(310)에서 설비 공통 정보(311)가 추출되고, 스케줄러 알고리즘(320) 중 하나가 선택될 수 있다. 설비 공통 정보(311)에 설비 특화 정보(330)가 적용되고, 설비 특화 정보(330)가 적용된 설비 공통 정보(311) 및 스케줄러 알고리즘(320)에 의해 스케줄러(600)가 생성될 수 있다.The priority condition 500 input through the input means 260 is referred to, equipment common information 311 is extracted from the scheduling information 310, and one of the scheduler algorithms 320 can be selected. The facility-specific information 330 is applied to the facility-specific information 311, and the scheduler 600 may be generated by the facility-specific information 311 to which the facility-specific information 330 is applied and the scheduler algorithm 320.

정형적으로 마련된 설비 공통 정보(311)에 설비 특화 정보(330)가 적용됨에 따라 간편한 스케줄러(600)의 생성이 가능하게 된다.As the equipment-specific information 330 is applied to the standard equipment-common information 311, a simple scheduler 600 can be created.

다시 도 2를 설명하면, 유닛 결정 인스트럭션(420)은 복수의 반도체 공정 설비(100) 중 선택된 반도체 공정 설비(100)에 포함된 복수의 유닛 중 작업을 수행할 유닛을 결정하고, 작업 지시 인스트럭션(430)은 결정된 유닛에 작업을 지시할 수 있다. 유닛 결정 인스트럭션(420) 및 작업 지시 인스트럭션(430)은 스케줄러 생성 인스트럭션(410)에 의해 생성된 스케줄러(600)를 기초로 동작을 수행할 수 있다.Referring back to FIG. 2 , the unit determination instruction 420 determines a unit to perform a task among a plurality of units included in the selected semiconductor processing facility 100 among a plurality of semiconductor processing facilities 100, and provides a work instruction instruction ( 430) may instruct the determined unit to work. The unit determine instruction 420 and the work order instruction 430 may perform operations based on the scheduler 600 generated by the create scheduler instruction 410 .

네트워크 인터페이스(250)는 반도체 공정 설비(100)와 통신을 수행할 수 있다. 네트워크 인터페이스(250)는 반도체 공정 설비(100)로 제어 명령을 송신하고, 반도체 공정 설비(100)로부터 모니터링 정보를 수신할 수 있다. 여기서, 제어 명령은 작업 지시 인스트럭션(430)에 의한 작업 지시가 포함될 수 있고, 모니터링 정보는 해당 반도체 공정 설비(100)에서 수행되는 작업에 대한 정보가 포함될 수 있다.The network interface 250 may communicate with the semiconductor processing equipment 100 . The network interface 250 may transmit a control command to the semiconductor processing facility 100 and receive monitoring information from the semiconductor processing facility 100 . Here, the control command may include a work instruction by the work instruction instruction 430 , and the monitoring information may include information about work performed in the semiconductor process facility 100 .

입력 수단(260)은 사용자 명령을 입력할 수 있다. 예를 들어, 사용자는 입력 수단(260)을 통하여 복수의 반도체 공정 설비(100) 중 특정 반도체 공정 설비(100)에 대한 선택 명령을 입력할 수 있다. 스케줄러 생성 인스트럭션(410)은 입력 수단(260)을 통하여 입력된 반도체 공정 설비(100)에 대한 스케줄러(600)를 생성하게 된다.The input unit 260 may input a user command. For example, a user may input a selection command for a specific semiconductor process facility 100 among a plurality of semiconductor process facilities 100 through the input means 260 . The scheduler generation instruction 410 generates the scheduler 600 for the semiconductor process facility 100 input through the input means 260 .

출력 수단(270)은 공정 스케줄링 장치(200)의 동작 상태를 표시할 수 있다. 예를 들어, 출력 수단(270)은 시각적 또는 청각적 방식으로 공정 스케줄링 장치(200)의 동작 상태를 표시할 수 있다. 이를 위하여, 출력 수단(270)은 디스플레이 장치(미도시) 및 스피커 장치(미도시)를 포함할 수 있다.The output means 270 may display the operating state of the process scheduling device 200 . For example, the output means 270 may display the operating state of the process scheduling device 200 in a visual or auditory manner. To this end, the output unit 270 may include a display device (not shown) and a speaker device (not shown).

출력 수단(270)에서 표시된 정보를 통하여 사용자는 스케줄러(600)의 생성 상황, 유닛 결정 상황 및 작업 지시 상황 등을 확인할 수 있게 된다.Through the information displayed on the output means 270, the user can check the generation status of the scheduler 600, the unit determination status, and the work instruction status.

이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the above and accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains can implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features. You will understand that there is Therefore, the embodiments described above should be understood as illustrative in all respects and not limiting.

10: 공정 스케줄링 시스템 100: 반도체 공정 설비
200: 공정 스케줄링 장치 210: 시스템 버스
220: 프로세서 230: 메모리
240: 스토리지 250: 네트워크 인터페이스
260: 입력 수단 270: 출력 수단
10: process scheduling system 100: semiconductor process equipment
200: process scheduling device 210: system bus
220: processor 230: memory
240: storage 250: network interface
260: input means 270: output means

Claims (11)

반도체 공정 설비별로 스케줄링을 하는 공정 스케줄링 장치에 있어서,
프로세서;
복수의 인스트럭션, 및 상기 복수의 인스트럭션을 이용하여 상기 스케줄링을 하는 스케줄링 어플리케이션을 포함하는 스토리지;
상기 스토리지에 저장된 정보를 임시 저장하는 메모리;
각각의 반도체 공정 설비와 통신하는 네트워크 인터페이스;
각각의 반도체 공정 설비에 명령을 입력하는 입력 수단;
상기 공정 스케줄링 장치의 동작 상태를 표시하는 출력 수단; 및
상기 프로세서, 상기 스토리지, 상기 메모리, 상기 네트워크 인터페이스, 상기 입력 수단 및 상기 출력 수단 간 데이터 송수신 통로인 시스템 버스를 포함하며,
상기 스케줄링 어플리케이션은 상기 메모리에 로딩되어 동작하고, 서로 다른 복수의 반도체 공정 설비에 대하여 공통적으로 적용되는 설비 공통 정보 및 상기 복수의 반도체 공정 설비 각각에 대하여 개별적으로 특화되어 적용되는 설비 특화 정보를 기초로 상기 스케줄링을 하며, 상기 설비 공통 정보에 상기 설비 특화 정보를 적용하여 상기 스케줄링을 하는 공정 스케줄링 장치.
In the process scheduling device for scheduling for each semiconductor process facility,
processor;
a storage including a plurality of instructions and a scheduling application that performs the scheduling using the plurality of instructions;
a memory for temporarily storing the information stored in the storage;
a network interface communicating with each semiconductor processing facility;
input means for inputting a command to each semiconductor processing facility;
an output means for displaying an operating state of the process scheduling device; and
A system bus that is a data transmission/reception path between the processor, the storage, the memory, the network interface, the input unit, and the output unit,
The scheduling application is loaded into the memory and operates, based on equipment common information commonly applied to a plurality of different semiconductor process equipment and equipment specific information individually specialized and applied to each of the plurality of semiconductor process equipment. A process scheduling device that performs the scheduling and performs the scheduling by applying the equipment-specific information to the equipment-common information.
제 1 항에 있어서,
상기 스토리지는 상기 설비 공통 정보를 포함하며,
상기 설비 공통 정보는 고정된 위치에서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛에 대한 정보, 및 이동하면서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛에 대한 정보를 포함하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 1,
The storage includes the equipment common information,
The facility common information includes information on a fixed unit performing a semiconductor process-related task at a fixed location and information on a mobile unit performing a semiconductor process-related task while moving.
제 1 항에 있어서,
상기 스토리지는 상기 설비 특화 정보를 포함하며,
상기 설비 특화 정보는,
반도체 공정 설비 중 세정 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제1 정보;
반도체 공정 설비 중 포토 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제2 정보;
반도체 공정 설비 중 증착 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제3 정보; 및
반도체 공정 설비 중 식각 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제4 정보를 포함하거나, 또는
반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 경로를 포함하는 제5 정보; 및
반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 속도를 포함하는 제6 정보를 포함하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 1,
The storage includes the facility-specific information,
The facility-specific information,
First information including information of each unit included in a cleaning facility among semiconductor processing facilities;
Second information including information of each unit included in a photo facility among semiconductor processing facilities;
Third information including information on each unit included in a deposition facility among semiconductor processing facilities; and
Fourth information including information of each unit included in an etching facility among semiconductor processing facilities, or
Fifth information including a movement path of a unit included in a semiconductor processing facility; and
A process scheduling device comprising sixth information including moving speeds of units included in semiconductor processing equipment.
제 1 항에 있어서,
상기 스토리지는 스케줄러 생성을 위해 조건별로 우선순위가 부여된 스케줄러 알고리즘을 포함하며,
상기 조건은 품질, 생산량 및 다중 작업 중 적어도 하나를 포함하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 1,
The storage includes scheduler algorithms prioritized according to conditions for creating a scheduler,
The condition is a process scheduling device including at least one of quality, yield, and multiple jobs.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 인스트럭션 중 어느 하나의 인스트럭션은 상기 스케줄링을 위한 스케줄러를 생성하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 1,
Any one of the plurality of instructions creates a scheduler for the scheduling process scheduling device.
제 5 항에 있어서,
상기 어느 하나의 인스트럭션은 이동하면서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛의 이동 속도, 고정된 위치에서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛의 작업 시간, 및 동시에 투입되는 상기 고정 유닛의 수 중에서 적어도 하나를 조절하여 상기 스케줄러를 생성하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 5,
Any one of the above instructions may include the moving speed of a mobile unit that performs work related to the semiconductor process while moving, the working time of the fixed unit that performs work related to the semiconductor process at a fixed location, and the number of the fixed units that are simultaneously inputted. A process scheduling device for generating the scheduler by adjusting at least one of
제 5 항에 있어서,
상기 어느 하나의 인스트럭션은 우선순위가 부여된 조건과 관련된 정보를 상기 설비 공통 정보에서 추출하고, 추출된 정보를 기초로 상기 스케줄러를 생성하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 5,
The process scheduling apparatus of claim 1 , wherein the one of the instructions extracts information related to a condition to which priorities are assigned from the equipment common information, and generates the scheduler based on the extracted information.
삭제delete 제 5 항에 있어서,
상기 어느 하나의 인스트럭션은 상기 설비 공통 정보가 고정된 위치에서 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 고정 유닛에 대한 정보를 포함하는 경우, 반도체 공정 설비 중 세정 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제1 정보, 반도체 공정 설비 중 포토 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제2 정보, 반도체 공정 설비 중 증착 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제3 정보, 및 반도체 공정 설비 중 식각 설비에 포함된 각 유닛의 정보를 포함하는 제4 정보 중 적어도 하나의 정보를 상기 설비 특화 정보로 적용하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 5,
The one instruction includes information on each unit included in a cleaning facility among semiconductor processing facilities when the facility common information includes information on a fixed unit performing a semiconductor process-related operation at a fixed location. 1 information, 2nd information including information on each unit included in photo equipment among semiconductor process equipment, 3rd information including information on each unit included in deposition equipment among semiconductor process equipment, and etching equipment among semiconductor process equipment A process scheduling device for applying at least one piece of information among fourth information including information of each unit included in the equipment-specific information.
제 5 항에 있어서,
상기 어느 하나의 인스트럭션은 상기 설비 공통 정보가 이동하면서 상기 반도체 공정과 관련된 작업을 수행하는 이동 유닛에 대한 정보를 포함하는 경우, 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 경로를 포함하는 제5 정보, 및 반도체 공정 설비에 포함된 유닛의 이동 속도를 포함하는 제6 정보 중 적어도 하나의 정보를 상기 설비 특화 정보로 적용하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 5,
Fifth information including a moving path of a unit included in a semiconductor processing facility when the facility common information includes information about a moving unit that performs work related to the semiconductor process while moving; and A process scheduling device for applying at least one of the sixth information including a movement speed of a unit included in a semiconductor processing facility as the facility-specific information.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 인스트럭션은,
상기 설비 공통 정보 및 상기 설비 특화 정보를 기초로 스케줄러를 생성하는 스케줄러 생성 인스트럭션;
상기 선택된 반도체 공정 설비에 포함된 복수의 유닛 중 작업을 수행할 유닛을 결정하는 유닛 결정 인스트럭션; 및
상기 결정된 유닛에 작업을 지시하는 작업 지시 인스트럭션을 포함하는 공정 스케줄링 장치.
According to claim 1,
The plurality of instructions,
a scheduler generation instruction for generating a scheduler based on the equipment common information and the equipment specific information;
a unit determination instruction for determining a unit to perform an operation among a plurality of units included in the selected semiconductor processing equipment; and
Process scheduling apparatus comprising a work instruction instruction for instructing work to the determined unit.
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