KR102447393B1 - Gas purge system - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템은 잔류 가스가 체류하는 제1 가스 배관의 양단에 설치되어 잔류 가스의 유동을 차단하는 수봉 밸브; 상기 제1 가스 배관의 일단에 연결되어 퍼지 가스를 상기 제1 가스 배관의 내부로 유입시키는 유입 방산관; 상기 제1 가스 배관의 타단에 연결되어 상기 퍼지 가스와 상기 잔류 가스가 혼합된 합성 가스를 상기 제1 가스 배관의 외부로 유출시키는 유출 방산관; 상기 유출 방산관을 상기 제1 가스 배관과 이격되어 설치되는 제2 가스 배관에 연결하는 합성 가스 배관; 그리고 상기 합성 가스 배관에 설치되어 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량을 측정하는 물질 함량 측정기를 포함한다.A gas purge system according to an embodiment of the present invention includes a water seal valve installed at both ends of a first gas pipe in which the residual gas resides to block the flow of the residual gas; an inlet radiation pipe connected to one end of the first gas pipe to introduce a purge gas into the first gas pipe; an outflow radiation pipe connected to the other end of the first gas pipe to discharge the synthesis gas in which the purge gas and the residual gas are mixed to the outside of the first gas pipe; a synthesis gas pipe connecting the outflow radiation pipe to a second gas pipe installed to be spaced apart from the first gas pipe; and a substance content meter installed in the synthesis gas pipe to measure the content of harmful chemical substances in the synthesis gas.

Description

가스 퍼지 시스템{GAS PURGE SYSTEM}Gas Purge System {GAS PURGE SYSTEM}

본 발명은 가스 퍼지 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 가스 배관 내 가스 퍼지 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a gas purge system, and more particularly, to a gas purge system in a gas pipe.

일반적으로 연소로 또는 보일러가 설치된 곳에는 연료, 산화제 등을 공급하기 위한 배관이 설치된다. 고체 연료 또는 액체 연료와 달리 기체 연료는 배관 사용이 종료되거나 배관 작업을 위해 배관 내 잔류물을 포함하는 가스를 대기로 방출한다. In general, a pipe for supplying fuel, an oxidizing agent, etc. is installed where a combustion furnace or a boiler is installed. Unlike solid fuels or liquid fuels, gaseous fuels release gases containing residues in the pipeline to the atmosphere when the pipeline is out of service or for plumbing work.

일반적인 가스 퍼지 시스템은 가스 배관의 양단에 설치되어 잔류 가스의 유동을 차단하는 수봉 밸브, 가스 배관의 양단에 연결되어 불활성 가스인 퍼지 가스를 가스 배관 내부로 유입하거나 가스 배관 내부로부터 유출하는 유입 방산관 및 유출 방산관, 그리고 방산관에 설치되어 퍼지 가스의 유입을 조절한 유입 차단 밸브, 퍼지 가스 및 잔류 가스를 포함하는 합성 가스의 유출을 조절하는 유출 차단 밸브를 포함한다. 유입 방산관으로 유입된 퍼지 가스는 가스 배관 내부의 잔류 가스와 함께 합성 가스가 되어 유출 방산관을 통해 배출된다. 가스 배관 내부에 잔류 가스가 제거될 때까지 퍼지 공정을 진행하게 된다. A general gas purge system includes a water seal valve installed at both ends of a gas pipe to block the flow of residual gas, and an inlet diffusion pipe connected to both ends of the gas pipe to introduce an inert gas purge gas into or out of the gas pipe. and an outflow radiation pipe, an inflow shutoff valve installed in the radiation pipe to control the inflow of the purge gas, and an outflow shutoff valve configured to control the outflow of the synthesis gas including the purge gas and the residual gas. The purge gas flowing into the inlet diffuser becomes a synthesis gas together with the residual gas in the gas pipe, and is discharged through the outlet diffuser. The purge process is performed until the residual gas is removed from the inside of the gas pipe.

가스 퍼지 시스템에 의해 배출되는 합성 가스의 경우 국내 법규상 유해 화학 물질로 규정되지 않는다면 대기 배출에 문제가 없으나, 유해 화학 물질이 포함된 합성 가스의 경우에는 인체 유해성 때문에 그대로 배출되면 안되며 법적 규제를 받게 된다. 가스 연료 내 유해 화학 물질이 포함된 경우 가스 퍼지 공정에서 배출된 합성 가스에 유해 화학 물질이 포함된 경우 합성 가스는 대기 조건에 의해 확산되며, 유해 조건 내 사람이 있다면 안전 사고가 발생할 수 있다. 이에 따라 가스 퍼지 공정에서 유해 화학 물질의 배출을 최대한 억제하여야 한다.In the case of syngas emitted by the gas purge system, unless it is stipulated as a hazardous chemical under domestic laws, there is no problem in air emission. do. If hazardous chemicals are included in gaseous fuel If hazardous chemicals are included in the synthesis gas discharged from the gas purge process, the synthesis gas is diffused by atmospheric conditions, and if there are people in the hazardous conditions, a safety accident may occur. Accordingly, the emission of hazardous chemicals in the gas purge process should be suppressed as much as possible.

가스가 배출되는 방산관의 높이를 높여 가스 확산을 촉진하고 인체와 접촉하는 높이에서는 문제가 없도록 하고 있으나, 대기 조건에 따라 영향을 받기 때문에 모든 조건에서 무해하다고 확신하기 어렵다. 특히, 가스 퍼지 공정에서 배출되는 합성 가스의 발열량은 질소 투입에 따라 점차 하락된다.The height of the diffuser tube through which the gas is discharged is raised to promote gas diffusion and to ensure that there is no problem at the height in contact with the human body. In particular, the calorific value of the synthesis gas discharged from the gas purge process is gradually decreased according to the nitrogen input.

본 발명에서는 합성 가스의 대기 방출에 의한 안전 사고를 방지할 수 있는 가스 퍼지 시스템을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a gas purge system capable of preventing a safety accident due to the release of synthesis gas to the atmosphere.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템은 잔류 가스가 체류하는 제1 가스 배관의 양단에 설치되어 잔류 가스의 유동을 차단하는 수봉 밸브; 상기 제1 가스 배관의 일단에 연결되어 퍼지 가스를 상기 제1 가스 배관의 내부로 유입시키는 유입 방산관; 상기 제1 가스 배관의 타단에 연결되어 상기 퍼지 가스와 상기 잔류 가스가 혼합된 합성 가스를 상기 제1 가스 배관의 외부로 유출시키는 유출 방산관; 상기 유출 방산관을 상기 제1 가스 배관과 이격되어 설치되는 제2 가스 배관에 연결하는 합성 가스 배관; 그리고 상기 합성 가스 배관에 설치되어 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량을 측정하는 물질 함량 측정기를 포함한다.A gas purge system according to an embodiment of the present invention includes a water seal valve installed at both ends of a first gas pipe in which the residual gas resides to block the flow of the residual gas; an inlet radiation pipe connected to one end of the first gas pipe to introduce a purge gas into the first gas pipe; an outflow radiation pipe connected to the other end of the first gas pipe to discharge the synthesis gas in which the purge gas and the residual gas are mixed to the outside of the first gas pipe; a synthesis gas pipe connecting the outflow radiation pipe to a second gas pipe installed to be spaced apart from the first gas pipe; and a substance content meter installed in the synthesis gas pipe to measure the content of harmful chemical substances in the synthesis gas.

상기 물질 함량 측정기에 의해 측정된 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높은 경우, 상기 제2 가스 배관으로 상기 합성 가스를 이송시킬 수 있다.When the content of harmful chemicals in the synthesis gas measured by the substance content meter is higher than the atmospheric emission standard, the synthesis gas may be transferred to the second gas pipe.

상기 합성 가스 배관에 연결되며 상기 합성 가스를 대기로 배출하는 대기 배출 배관을 더 포함하고, 상기 물질 함량 측정기에 의해 측정된 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량이 상기 대기 배출 기준보다 낮은 경우, 상기 대기 배출 배관을 통해 대기로 합성 가스를 배출할 수 있다.Further comprising an atmospheric discharge pipe connected to the synthesis gas pipe and discharging the synthesis gas to the atmosphere, wherein the content of harmful chemicals in the synthesis gas measured by the substance content meter is lower than the air emission standard, The synthesis gas may be discharged to the atmosphere through the air discharge pipe.

상기 합성 가스의 대기 배출 기준은 상기 합성 가스의 발열량이 650kcal/Nm3인 경우일 수 있다.The emission standard of the synthesis gas may be a case in which the calorific value of the synthesis gas is 650 kcal/Nm 3 .

상기 유입 방산관에 설치되어 상기 퍼지 가스의 유입을 조절하는 유입 차단 밸브, 그리고 상기 유출 방산관에 설치되어 상기 합성 가스의 유출을 조절하는 유출 차단 밸브를 포함할 수 있다.It may include an inlet shutoff valve installed in the inlet diffuser to control the inflow of the purge gas, and an outlet shutoff valve installed in the outlet diffuser to control the outflow of the synthesis gas.

상기 제2 가스 배관에 연결되며 상기 합성 가스 배관과 연결되는 방산관, 상기 방산관에 설치되는 제1 차단 밸브, 상기 합성 가스 배관 사이에 설치되는 제2 차단 밸브를 더 포함할 수 있다.It may further include a radiation pipe connected to the second gas pipe and connected to the synthesis gas pipe, a first shutoff valve installed in the radiation pipe, and a second shutoff valve installed between the synthesis gas pipe.

상기 대기 배출 배관에 설치되는 제3 차단 밸브를 더 포함할 수 있다.It may further include a third shut-off valve installed on the air exhaust pipe.

상기 제1 가스 배관에 설치되는 압력계를 더 포함할 수 있다.It may further include a pressure gauge installed on the first gas pipe.

상기 물질 함량 측정기는 가스 분석기 또는 열량계를 포함할 수 있다.The substance content meter may include a gas analyzer or a calorimeter.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템은 제1 가스 배관으로부터 퍼지된 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높으면 제2 가스 배관으로 합성 가스를 이송시키고, 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 낮으면 대기 배출 배관을 통해 대기로 합성 가스를 배출함으로써, 대기로 배출되는 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량을 최소화하여 안전 사고를 방지할 수 있다. In the gas purge system according to an embodiment of the present invention, if the content of hazardous chemicals in the synthesis gas purged from the first gas pipe is higher than the atmospheric emission standard, the synthesis gas is transferred to the second gas pipe, and harmful chemicals in the synthesis gas When the content of is lower than the air emission standard, the synthesis gas is discharged to the atmosphere through the air exhaust pipe, thereby minimizing the content of harmful chemicals in the synthesis gas discharged to the atmosphere, thereby preventing safety accidents.

또한, 합성 가스가 배출되는 합성 가스 배관에 물질 함량 측정기를 설치함으로써, 간편하게 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하는 지 판단할 수 있다.In addition, by installing a substance content meter in the synthesis gas pipe from which the synthesis gas is discharged, it is possible to easily determine whether the synthesis gas satisfies the air emission standard.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템의 개략적인 도면이다.
도 2는 도 1의 가스 퍼지 시스템에서 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하는 경우의 경로를 표시한 도면이다.
도 3은 도 1의 가스 퍼지 시스템에서 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하지 못하는 경우의 경로를 표시한 도면이다.1 is a schematic diagram of a gas purge system according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view showing a path when the synthesis gas satisfies the air emission standard in the gas purge system of FIG. 1 .
FIG. 3 is a view showing a path in the case where the synthesis gas does not satisfy the air emission standard in the gas purge system of FIG. 1 .

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템의 개략적인 도면이다.1 is a schematic diagram of a gas purge system according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템은 수봉 밸브(V), 유입 방산관(L1), 유출 방산관(L2), 합성 가스 배관(L3), 물질 함량 측정기(HV), 유입 차단 밸브(V4), 유출 차단 밸브(V5), 방산관(L4), 대기 배출 배관(L5), 제1 차단 밸브(CV1), 제2 차단 밸브(CV2), 제3 차단 밸브(CV3), 그리고 압력계(P)를 포함한다. As shown in FIG. 1 , the gas purge system according to an embodiment of the present invention includes a water seal valve (V), an inlet diffuser pipe (L1), an outlet diffuser pipe (L2), a synthesis gas pipe (L3), and a substance content meter (HV), Inlet Shutoff Valve (V4), Outflow Shutoff Valve (V5), Dissipation Pipe (L4), Atmospheric Exhaust Line (L5), First Shutoff Valve (CV1), Second Shutoff Valve (CV2), Third Shutoff valve (CV3), and a pressure gauge (P).

수봉 밸브(V)는 잔류 가스가 체류하는 제1 가스 배관(GL1)의 양단에 설치되어 잔류 가스의 유동을 차단할 수 있다. 수봉 밸브(V)는 제1 가스 배관(GL1)의 일단에 설치되는 제1 수봉 밸브(V1), 그리고 제1 가스 배관(GL1)의 타단에 설치되는 제2 수봉 밸브(V2)를 포함할 수 있다. The water seal valve V may be installed at both ends of the first gas pipe GL1 in which the residual gas resides to block the flow of the residual gas. The water seal valve V may include a first water seal valve V1 installed at one end of the first gas pipe GL1, and a second water seal valve V2 installed at the other end of the first gas pipe GL1. have.

유입 방산관(L1)은 제1 가스 배관(GL1)의 일단에 연결되어 퍼지 가스(PG)를 제1 가스 배관(GL1)의 내부로 유입시킬 수 있다. 유입 방산관(L1)은 제1 수봉 밸브(V1)에 인접하여 설치될 수 있다. 퍼지 가스(PG)는 질소(N2)와 같은 불활성 가스를 포함할 수 있다.The inflow dissipation pipe L1 may be connected to one end of the first gas pipe GL1 to introduce the purge gas PG into the first gas pipe GL1 . The inlet radiation pipe L1 may be installed adjacent to the first water seal valve V1. The purge gas PG may include an inert gas such as nitrogen (N 2 ).

유출 방산관(L2)은 제1 가스 배관(GL1)의 타단에 연결되어 퍼지 가스(PG)와 잔류 가스가 혼합된 합성 가스(CG)를 제1 가스 배관(GL1)의 외부로 유출시킬 수 있다. 유출 방산관(L2)은 제2 수봉 밸브(V2)에 인접하여 설치될 수 있다.The outflow dissipation pipe L2 may be connected to the other end of the first gas pipe GL1 to flow the synthesis gas CG in which the purge gas PG and the residual gas are mixed to the outside of the first gas pipe GL1 . . The outflow dissipation pipe L2 may be installed adjacent to the second water seal valve V2.

유입 차단 밸브(V4)는 유입 방산관(L1)에 설치되어 퍼지 가스(PG)가 제1 가스 배관(GL1)으로 유입되는 것을 조절할 수 있다. The inflow blocking valve V4 may be installed in the inflow dissipation pipe L1 to control the flow of the purge gas PG into the first gas pipe GL1 .

유출 차단 밸브(V5)는 유출 방산관(L2)에 설치되어 퍼지 가스(PG)와 잔류 가스가 혼합된 합성 가스(CG)가 유출 방산관(L2)을 통해 유출되는 것을 조절할 수 있다.The outflow shutoff valve V5 is installed in the outflow diffuser L2 to control the outflow of the purge gas PG and the synthesis gas CG in which the residual gas is mixed through the outflow diffuser L2.

압력계(P)는 제1 가스 배관(GL1)에 설치되어 퍼지 가스(PG)의 압력을 측정할 수 있다. 제1 가스 배관(GL1) 내부의 압력이 과도할 경우, 가스 누출 또는 배관 손상 등이 발생할 수 있으므로, 압력계(P)를 이용하여 제1 가스 배관(GL1) 내부의 퍼지 가스(PG)의 압력을 조절하면서 가스 퍼지 공정을 수행하게 된다. The pressure gauge P may be installed in the first gas pipe GL1 to measure the pressure of the purge gas PG. If the pressure inside the first gas pipe GL1 is excessive, gas leakage or pipe damage may occur. Therefore, use the pressure gauge P to measure the pressure of the purge gas PG inside the first gas pipe GL1. While adjusting, the gas purge process is performed.

잔류 가스가 체류하여 퍼지 공정이 진행되는 제1 가스 배관(GL1)과 이격되어 제2 가스 배관(GL2)이 설치될 수 있다.The second gas pipe GL2 may be installed to be spaced apart from the first gas pipe GL1 in which the residual gas is retained and the purge process is performed.

방산관(L4)은 제2 가스 배관(GL2)에 연결되며 합성 가스 배관(L3)과 연결될 수 있다. 그리고, 제1 차단 밸브(CV1)는 방산관(L4)에 설치되어 방산관(L4)을 통해 흐르는 합성 가스(CG)의 양을 조절할 수 있다.The radiation pipe L4 may be connected to the second gas pipe GL2 and may be connected to the synthesis gas pipe L3 . In addition, the first shut-off valve CV1 may be installed in the radiation pipe L4 to control the amount of the synthesis gas CG flowing through the radiation pipe L4 .

합성 가스 배관(L3)은 유출 방산관(L2)을 제2 가스 배관(GL2)에 연결할 수 있다. 유출 방산관(L2)을 통해 유출되는 합성 가스(CG)가 합성 가스 배관(L3)을 통해 흐를 수 있다. The synthesis gas pipe L3 may connect the outflow diffuser pipe L2 to the second gas pipe GL2 . Synthesis gas (CG) flowing out through the outlet diffuser pipe (L2) may flow through the synthesis gas pipe (L3).

제2 차단 밸브(CV2)는 합성 가스 배관(L3)에 설치되어 합성 가스 배관(L3)을 통해 흐르는 합성 가스(CG)의 양을 조절할 수 있다.The second shutoff valve CV2 may be installed in the synthesis gas pipe L3 to control the amount of the synthesis gas CG flowing through the synthesis gas pipe L3 .

물질 함량 측정기(HV)는 합성 가스 배관(L3)에 설치되어 합성 가스(CG) 내부의 유해 화학 물질의 함량을 측정할 수 있다. The substance content meter (HV) may be installed in the synthesis gas pipe (L3) to measure the content of hazardous chemicals in the synthesis gas (CG).

물질 함량 측정기(HV)는 가스 분석기 또는 열량계를 포함할 수 있다. The substance content meter (HV) may comprise a gas analyzer or a calorimeter.

가스 분석기는 합성 가스(CG)의 성분을 분석하여 합성 가스(CG) 내부의 유해 화학 물질의 함량을 측정할 수 있다. 또한, 열량계는 실시간으로 가스 성분의 측정이 불가능한 경우, 총 가스 열량 내 유해 화학 물질의 열량비 또는 측정 가능한 가스 성분과의 유해 화학 물질 성분비로부터 배출되는 합성 가스(CG) 내부의 유해 화학 물질의 함량을 추정할 수 있다. The gas analyzer may analyze the composition of the synthesis gas (CG) to measure the content of harmful chemicals in the synthesis gas (CG). In addition, when the calorimeter cannot measure the gas component in real time, the calorific value of hazardous chemicals in the total gas calorific value or the content of hazardous chemical substances in the synthesis gas (CG) emitted from the measurable gas component and hazardous chemical component ratio can be estimated.

대기 배출 배관(L5)은 합성 가스 배관(L3)에 연결되며 합성 가스(CG)를 대기로 배출할 수 있다. 제3 차단 밸브(CV3)는 대기 배출 배관(L5)에 설치되어 합성 가스(CG)의 배출량을 조절할 수 있다. The atmospheric discharge pipe L5 is connected to the synthesis gas pipe L3 and may discharge the synthesis gas CG to the atmosphere. The third shutoff valve CV3 may be installed in the atmospheric discharge pipe L5 to control the amount of the synthesis gas CG.

이와 같이, 합성 가스가 배출되는 합성 가스 배관에 물질 함량 측정기를 설치함으로써, 간편하게 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하는 지 판단할 수 있다In this way, by installing a substance content meter in the synthesis gas pipe from which the synthesis gas is discharged, it can be easily determined whether the synthesis gas satisfies the air emission standard.

도 2는 도 1의 가스 퍼지 시스템에서 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하는 경우의 경로를 표시한 도면이고, 도 3은 도 1의 가스 퍼지 시스템에서 합성 가스가 대기 배출 기준을 만족하지 못하는 경우의 경로를 표시한 도면이다.2 is a view showing a path when the synthesis gas satisfies the air emission standard in the gas purge system of FIG. 1, and FIG. 3 is a case in which the synthesis gas does not satisfy the atmospheric emission standard in the gas purge system of FIG. 1 A drawing showing the route.

도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 물질 함량 측정기(HV)에 의해 측정된 합성 가스(CG) 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높으면 제2 가스 배관(GL2)으로 합성 가스(CG)를 이송시키고, 합성 가스(CG) 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 낮으면 대기 배출 배관을 통해 대기로 방출할 수 있다. 여기서, 합성 가스(CG)의 대기 배출 기준은 합성 가스(CG)의 발열량이 650kcal/Nm3인 경우일 수 있다. 2 and 3, if the content of hazardous chemicals in the synthesis gas (CG) measured by the substance content meter (HV) is higher than the air emission standard, the synthesis gas (CG) is sent to the second gas pipe (GL2). ), and if the content of hazardous chemicals in synthesis gas (CG) is lower than the air emission standard, it can be discharged to the atmosphere through an air discharge pipe. Here, the emission standard of the synthesis gas (CG) may be a case in which the calorific value of the synthesis gas (CG) is 650 kcal/Nm 3 .

합성 가스(CG)의 대기 배출 기준은 제2 가스 배관(GL2)에 공급되는 합성 가스(CG)의 발열량 또는 합성 가스(CG) 성분의 농도 하한 기준으로서, 제2 가스 배관(GL2)을 흐르는 가스와 합성 가스(CG)의 유량비, 합성 가스(CG)의 발열량 등을 이용하여 설정될 수 있으므로, 안정적이다.The emission standard of the synthesis gas (CG) to the atmosphere is the calorific value of the synthesis gas (CG) supplied to the second gas pipe GL2 or the lower limit of the concentration of the synthesis gas (CG) component, and the gas flowing through the second gas pipe GL2 Since it can be set using the flow rate ratio of the synthesis gas (CG) and the calorific value of the synthesis gas (CG), it is stable.

본 발명에서는 물질 함량 측정기(HV)를 이용하여 제1 가스 배관(GL1)에서 배출되는 합성 가스(CG)의 발열량 또는 유해 화학 물질 등의 가스 농도를 지속적으로 측정하여 합성 가스(CG)가 대기 배출 기준에 도달되었을 때 대기로 배출하기 때문에 안정적이다.In the present invention, the calorific value of the synthesis gas (CG) discharged from the first gas pipe (GL1) or the gas concentration such as harmful chemicals are continuously measured using a substance content measuring device (HV) to release the synthesis gas (CG) to the atmosphere. It is stable because it is released into the atmosphere when the standard is reached.

제2 가스 배관(GL2)은 제1 가스 배관(GL1)의 가스 퍼지 공정 중 가스 유동이 있을 수 있다. 합성 가스(CG)가 합성 가스 배관(L3)을 통해 이송되는 동안 합성 가스(CG)의 발열량은 점차 하락하므로, 제2 가스 배관(GL2)을 이용하여 공급받은 가스는 발열량의 변동이 클 수 있다. 이 때, 제2 가스 배관(GL2)을 이용하여 공급받은 가스가 가스 유동이 있는 경우에는 발열량의 변동이 있어도 그 하락 정도가 적어서 운용하는 열 설비에 영향이 적을 수 있다.The second gas pipe GL2 may have a gas flow during the gas purge process of the first gas pipe GL1 . Since the calorific value of the synthesis gas CG gradually decreases while the synthesis gas CG is transported through the synthesis gas pipe L3, the gas supplied through the second gas pipe GL2 may have a large variation in the calorific value. . In this case, when the gas supplied through the second gas pipe GL2 has a gas flow, even if there is a change in the calorific value, the degree of decrease thereof is small, so that the operating thermal equipment may be less affected.

도 2에 도시된 바와 같이, 합성 가스(CG) 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높은 경우, 제3 차단 밸브(CV3)를 닫아 합성 가스(CG)가 대기로 배출되지 못하도록 한다. 그리고, 제1 차단 밸브(CV1) 및 제2 차단 밸브(CV2)를 열어 제2 가스 배관(GL2)으로 합성 가스(CG)가 공급되도록 한다. 따라서, 제1 경로(X1)를 통해 제2 가스 배관(GL2)에 공급된 합성 가스(CG)는 타 연료와 혼합된 후 열 설비에 공급되어 사용될 수 있다. As shown in FIG. 2 , when the content of hazardous chemicals in the synthesis gas CG is higher than the atmospheric emission standard, the third shutoff valve CV3 is closed to prevent the synthesis gas CG from being discharged to the atmosphere. Then, the first shutoff valve CV1 and the second shutoff valve CV2 are opened so that the synthesis gas CG is supplied to the second gas pipe GL2 . Accordingly, the synthesis gas CG supplied to the second gas pipe GL2 through the first path X1 may be mixed with other fuels and then supplied to and used in a thermal facility.

그리고, 도 3에 도시된 바와 같이, 합성 가스(CG) 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 낮은 경우, 제1 차단 밸브(CV1) 및 제2 차단 밸브(CV2)를 닫고 제3 차단 밸브(CV3)를 열어 합성 가스(CG)가 대기 배출 배관(L5)을 통해 대기로 배출되도록 한다. 따라서, 합성 가스(CG)는 제2 경로(X2)를 통해 대기로 배출될 수 있다. 이 때, 대기 배출 배관(L5)의 연장 방향을 상부 방향으로 설치함으로써, 합성 가스(CG)의 확산 범위를 넓혀 합성 가스(CG)의 농도를 낮출 수 있다. And, as shown in FIG. 3 , when the content of hazardous chemicals in the synthesis gas (CG) is lower than the atmospheric emission standard, the first shutoff valve CV1 and the second shutoff valve CV2 are closed and the third shutoff valve Open (CV3) so that the syngas (CG) is discharged to the atmosphere through the atmospheric exhaust pipe (L5). Accordingly, the synthesis gas CG may be discharged to the atmosphere through the second path X2 . At this time, by providing the extension direction of the air exhaust pipe L5 upward, the diffusion range of the synthesis gas CG can be widened, and the concentration of the synthesis gas CG can be lowered.

이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 퍼지 시스템은 제1 가스 배관으로부터 퍼지된 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높으면 제2 가스 배관으로 합성 가스를 이송시키고, 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 낮으면 대기 배출 배관을 통해 대기로 합성 가스를 배출함으로써, 대기로 배출되는 합성 가스 내의 유해 화학 물질의 함량을 최소화하여 안전 사고를 방지할 수 있다. As such, in the gas purge system according to an embodiment of the present invention, when the content of harmful chemicals in the synthesis gas purged from the first gas pipe is higher than the atmospheric emission standard, the synthesis gas is transferred to the second gas pipe, and the When the content of hazardous chemicals is lower than the air emission standard, the synthesis gas is discharged to the atmosphere through an air discharge pipe, thereby minimizing the content of hazardous chemicals in the synthesis gas discharged to the atmosphere, thereby preventing safety accidents.

본 개시를 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.Although the present disclosure has been described through preferred embodiments as described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and variations are possible without departing from the scope of the claims set forth below. Those in the field will understand easily.

V1: 제1 수봉 밸브 V2: 제2 수봉 밸브
L1: 유입 방산관 L2: 유출 방산관
L3: 합성 가스 배관 HV: 물질 함량 측정기
V4: 유입 차단 밸브 V5: 유출 차단 밸브
L4: 방산관 L5: 대기 배출 배관
CV1: 제1 차단 밸브 CV2: 제2 차단 밸브
CV3: 제3 차단 밸브 P: 압력계V1: first water seal valve V2: second water seal valve
L1: Inlet diffuser L2: Outflow diffuser
L3: Syngas piping HV: Substance content meter
V4: Inlet shutoff valve V5: Outflow shutoff valve
L4: Dissipation pipe L5: Air exhaust pipe
CV1: first shut-off valve CV2: second shut-off valve
CV3: 3rd shut-off valve P: pressure gauge

Claims (9)

잔류 가스가 체류하는 제1 가스 배관의 양단에 설치되어 잔류 가스의 유동을 차단하는 수봉 밸브;
상기 제1 가스 배관의 일단에 연결되어 퍼지 가스를 상기 제1 가스 배관의 내부로 유입시키는 유입 방산관;
상기 제1 가스 배관의 타단에 연결되어 상기 퍼지 가스와 상기 잔류 가스가 혼합된 합성 가스를 상기 제1 가스 배관의 외부로 유출시키는 유출 방산관;
상기 유출 방산관을 상기 제1 가스 배관과 이격되어 설치되는 제2 가스 배관에 연결하는 합성 가스 배관; 그리고
상기 합성 가스 배관에 설치되어 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량을 측정하는 물질 함량 측정기
를 포함하고,
상기 물질 함량 측정기에 의해 측정된 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량이 대기 배출 기준보다 높은 경우, 상기 제2 가스 배관으로 상기 합성 가스를 이송시키는 가스 퍼지 시스템.a water seal valve installed at both ends of the first gas pipe in which the residual gas resides to block the flow of the residual gas;
an inlet radiation pipe connected to one end of the first gas pipe to introduce a purge gas into the first gas pipe;
an outflow radiation pipe connected to the other end of the first gas pipe to discharge the synthesis gas in which the purge gas and the residual gas are mixed to the outside of the first gas pipe;
a synthesis gas pipe connecting the outflow radiation pipe to a second gas pipe installed to be spaced apart from the first gas pipe; and
A substance content meter installed in the synthesis gas pipe to measure the content of harmful chemicals in the synthesis gas
including,
A gas purge system for transferring the synthesis gas to the second gas pipe when the content of harmful chemical substances in the synthesis gas measured by the substance content meter is higher than an air emission standard. 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 합성 가스 배관에 연결되며 상기 합성 가스를 대기로 배출하는 대기 배출 배관을 더 포함하고,
상기 물질 함량 측정기에 의해 측정된 상기 합성 가스 내부의 유해 화학 물질의 함량이 상기 대기 배출 기준보다 낮은 경우, 상기 대기 배출 배관을 통해 대기로 합성 가스를 배출하는 가스 퍼지 시스템.According to claim 1,
Further comprising an atmospheric discharge pipe connected to the synthesis gas pipe for discharging the synthesis gas to the atmosphere,
When the content of harmful chemical substances in the synthesis gas measured by the substance content meter is lower than the air emission standard, the gas purge system for discharging the synthesis gas to the atmosphere through the air discharge pipe. 제3항에 있어서,
상기 합성 가스의 대기 배출 기준은 상기 합성 가스의 발열량이 650kcal/Nm3인 경우인 가스 퍼지 시스템.4. The method of claim 3,
The gas purge system is a gas purge system in which the emission standard of the synthesis gas is a calorific value of the synthesis gas of 650 kcal/Nm 3 . 제3항에 있어서,
상기 유입 방산관에 설치되어 상기 퍼지 가스의 유입을 조절하는 유입 차단 밸브, 그리고
상기 유출 방산관에 설치되어 상기 합성 가스의 유출을 조절하는 유출 차단 밸브
를 포함하는 가스 퍼지 시스템.4. The method of claim 3,
an inlet shutoff valve installed in the inlet diffuser to control the inflow of the purge gas; and
An outflow shutoff valve installed in the outflow diffuser to control the outflow of the synthesis gas
A gas purge system comprising a. 제5항에 있어서,
상기 제2 가스 배관에 연결되며 상기 합성 가스 배관과 연결되는 방산관,
상기 방산관에 설치되는 제1 차단 밸브, 그리고
상기 합성 가스 배관 사이에 설치되는 제2 차단 밸브를 더 포함하는 가스 퍼지 시스템.6. The method of claim 5,
a radiation pipe connected to the second gas pipe and connected to the synthesis gas pipe;
a first shut-off valve installed in the radiation pipe; and
The gas purge system further comprising a second shut-off valve installed between the synthesis gas pipe. 제6항에 있어서,
상기 대기 배출 배관에 설치되는 제3 차단 밸브를 더 포함하는 가스 퍼지 시스템.7. The method of claim 6,
The gas purge system further comprising a third shut-off valve installed on the air exhaust pipe. 제1항에 있어서,
상기 제1 가스 배관에 설치되는 압력계를 더 포함하는 가스 퍼지 시스템.According to claim 1,
The gas purge system further comprising a pressure gauge installed on the first gas pipe. 제1항에 있어서,
상기 물질 함량 측정기는 가스 분석기 또는 열량계를 포함하는 가스 퍼지 시스템.
According to claim 1,
The substance content meter is a gas purge system comprising a gas analyzer or a calorimeter.
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