KR102442313B1

KR102442313B1 - Foot care implement and manufacturing method for the same

Info

Publication number: KR102442313B1
Application number: KR1020210021106A
Authority: KR
Inventors: 정철진
Original assignee: (주)알파옵트론
Priority date: 2021-02-17
Filing date: 2021-02-17
Publication date: 2022-09-14
Also published as: KR20220117581A

Abstract

본 발명은 파일(Fhile), 에머리보드(emery board), 또는 버퍼(buffer) 등으로 알려진 발각질손질 미용기구 또는 손이나 발 등의 각질제거를 위한 손질기구를 제조함에 있어 기판, 특히 유리기판에 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 불규칙 패턴이 형성되도록 하여 다양한 발각질 상태나 피부 부위에도 불구하고 높은 품질의 미용 시술이 가능하고, 기판의 표면에 전처리공정으로 크롬박막층을 형성하여서 미세패턴의 형상이 보다 정밀하게 형성되고, 미세패턴의 마모도를 개선하여 장기간 갈질을 효과적으로 제거하도록 한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구의 그 제조방법은 통상의 노광, 현상, 에칭 단계을 거쳐 기판에 미세패턴을 형성하는 공정에 있어서, 상기 미세패턴은 패턴의 크기 또는 형상, 또는 이 둘 모두가 달라 불규칙 패턴을 이루고, 기판에 크롬을 코팅한 후에 노광, 현상, 에칭 단계를 거쳐서, 상기 미세패턴의 표면에는 크롬박막층이 형성되는 것을 특징으로 한다.
그리고 발각질손질 미용기구는 위와 같은 제조방법에 의하여 제조되며, 불규칙 패턴의 미세패턴이 형성된 기판;상기 기판이 교체 가능하게 결합되는 연마헤드를 구비하고, 사용자가 파지하는 핸들;을 포함하여 이루어진다. The present invention relates to a substrate, particularly a glass substrate, in manufacturing a cosmetic device for exfoliating the feet, known as a file, an emery board, or a buffer, or a device for removing dead skin cells, such as hands or feet. By using exposure, development, and etching techniques to form irregular patterns, high-quality cosmetic procedures are possible in spite of various dead skin conditions or skin areas. It is formed more precisely, and relates to a cosmetic device for baldness care and a method for manufacturing the same, which improves the abrasion degree of the fine pattern to effectively remove the browning for a long period of time.
In the process of forming a fine pattern on a substrate through the normal exposure, development, and etching steps, the manufacturing method of the cosmetic device for exfoliating the skin having an irregular pattern on which the chrome thin film layer is formed according to the present invention, the fine pattern is the size of the pattern Alternatively, the shape or both are different to form an irregular pattern, and after coating chromium on a substrate, exposure, development, and etching are performed, and a chromium thin film layer is formed on the surface of the fine pattern.
And the skin exfoliation care cosmetic device is manufactured by the above manufacturing method, the substrate on which irregular patterns are formed; it has a polishing head to which the substrate is replaceably coupled, and a handle held by the user.

Description

Skin care cosmetic device having an irregular pattern formed with a thin chrome layer and manufacturing method thereof

본 발명은 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 파일(Fhile), 에머리보드(emery board), 또는 버퍼(buffer) 등으로 알려진 발각질손질 미용기구 또는 손이나 발 등의 각질제거를 위한 손질기구를 제조함에 있어 기판, 특히 유리기판에 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 미세패턴을 형성하며, 무엇보다도 불규칙 패턴이 형성되도록 하여 다양한 발각질 상태나 피부 부위에도 불구하고 높은 품질의 미용 시술이 가능하고, 기판의 표면에 전처리공정으로 크롬박막층을 형성하여서 미세패턴의 형상이 보다 정밀하게 형성되고, 미세패턴의 마모도를 개선하여 장기간 각질을 효과적으로 제거하도록 한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a skin care cosmetic device having an irregular pattern with a chrome thin film layer formed thereon and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a foot known as a file, an emery board, or a buffer. In manufacturing a keratin exfoliating beauty device or a keratin removal device for exfoliating hands or feet, micro-patterns are formed on a substrate, especially a glass substrate, using exposure, development, and etching techniques, and above all, irregular patterns are formed so that various High-quality cosmetic treatment is possible despite the presence of dead skin cells or skin areas, and by forming a thin chromium film layer on the surface of the substrate as a pre-treatment process, the shape of the micro-pattern is formed more precisely, and the abrasion of the micro-pattern is improved for a long-term keratin It relates to a cosmetic device for removing dead skin cells and a method for manufacturing the same.

특허등록 제10-0914057호(등록일자 2009년08월19일) [손발톱 손질기구를 위한 잉크를 이용한 손발톱 손질기구의 제조방법]과 같이, 전통적으로 접착제를 이용하여 미세 연마재를 합성수지 기판에 부착하여 제조하는 손발톱 손질기구나 각질제거기구에서 벗어나 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 미세패턴 형성하는 기술이 제시된 바 있다.Patent Registration No. 10-0914057 (Registration date August 19, 2009) As in [Manufacturing method of nail care tools using ink for nail care tools], traditionally, fine abrasives are attached to synthetic resin substrates using adhesives. Techniques for forming micropatterns using exposure, development, and etching techniques have been proposed, away from the nail trimming device or exfoliating device manufactured.

이와 관련하여 특허등록 제10-0723456호(등록일자 2007년05월23일) [손톱 미용기구 제조방법 및 그 제품]이 있는데,In this regard, there is Patent Registration No. 10-0723456 (registration date May 23, 2007) [Method for manufacturing nail beauty device and its product],

이 등록특허는 손톱 미용기구를 사용하여 손톱 끝단 및 손톱 표면을 손질할 때 샌드페이퍼에 의해 연마한 후 광택제로 손톱에 다시 광택을 내는 과정을 생략하고 연마 및 광택과정을 한 번에 할 수 있도록 절삭 칼날에 의해 손톱을 미세하게 절삭하는 것과 관련되며,This patent is a cutting blade that omits the process of polishing the nail with sandpaper and then re-glossing the nail with varnish when trimming the nail tip and the nail surface using a nail beauty device, so that the grinding and polishing process can be performed at once. It is related to the fine cutting of the nails by

구체적으로 판형상의 유리 표면에 동일한 형상으로 반복되게 배열된 절삭구조로, 상기 절삭구조는 다각형 형태로 표면에서 내측으로 부식된 부식홈부와, 상기 표면에는 부식홈부의 사방(四方)으로 정방형(正方形)형태의 평면부를 형성하여 표면에서 평면부와 부식홈부가 만나는 경계선이 절삭 칼날인 것을 특징으로 한다.Specifically, a cutting structure repeatedly arranged in the same shape on a plate-shaped glass surface, wherein the cutting structure has a polygonal shape and a corroded groove inwardly corroded from the surface, and a corroded groove on the surface. It is characterized in that the boundary line where the plane part and the corrosion groove part meet on the surface by forming a flat part of the shape is the cutting edge.

또 특허등록 제10-1672525호(등록일자 2016년10월28일) [손톱미용기구 및 그 제조방법]이 있는데,Also, there is a patent registration No. 10-1672525 (registration date October 28, 2016) [nail beauty device and its manufacturing method],

이 등록특허는 기판 표면에 에칭(etching)으로 원형홈부를 사각배열 또는 삼각배열이 되도록 종횡으로 반복 형성하되 상기 사각배열 또는 삼각배열의 중심마다 상기 원형홈부보다 작은 직경의 중심홈부를 마련함으로써, 각 배열의 중심에서도 연마가 이뤄지므로 연마효율이 향상되고, 또한 감광성수지가 기판 표면에 잘 달라붙도록 조성하여 크롬 코팅공정을 생략할 수 있는 손톱미용기구 및 그 제조방법에 관한 것이다.This registered patent discloses that circular grooves are repeatedly formed vertically and horizontally to form a rectangular or triangular arrangement by etching on the surface of the substrate. The present invention relates to a nail beauty tool and a method for manufacturing the same, which improves the polishing efficiency because polishing is also performed at the center of the array, and can omit the chrome coating process by forming a photosensitive resin to adhere well to the surface of the substrate.

상기 등록특허들은 모두 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 미세패턴을 형성함에 있어, 규칙적인 패턴을 형성하므로 손발톱 상태나 피부 부위 변화, 피부 상태 변화에 따라 균일하고 높은 품질의 손질이나 광택부여(샤이닝, shining)가 어려운 경우가 발생되는 것으로 확인되어 개선이 요구되어 왔다.All of the above registered patents form regular patterns in forming micropatterns using exposure, development, and etching techniques. , shining) has been confirmed to occur in difficult cases, and improvement has been requested.

이에 본 출원인은 등록특허 제10-1914210호(등록일자 2018년10월26일) [불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법]을 통해 손발톱 상태나 피부 부위 변화, 피부 상태 변화에 따라 균일하고 높은 품질의 손질이나 광택이 가능한 미용기구를 제안하였다. Accordingly, the present applicant has applied to the condition of nails, changes in skin areas, and changes in skin conditions through registered patent No. 10-1914210 (registration date October 26, 2018) [a cosmetic device for exfoliating feet having irregular patterns and a manufacturing method thereof] Accordingly, we proposed a cosmetic device capable of uniform and high-quality grooming or gloss.

본 출원인의 등록특허 제10-1914210호는 마모도가 다소 떨어지고, 장기간 사용시 각질제거 효율이 떨어진다. The applicant's Patent Registration No. 10-1914210 has somewhat lower abrasion and lower exfoliation efficiency when used for a long period of time.

본 발명은 기판의 표면에 크롬박막층을 형성하여 미세패턴이 보다 정밀하게 형성되어 각질제거 효율이 우수하고, 미세패턴의 마모도를 개선하고 장기간 사용해도 각질제거 효율이 우수하게 유지되는 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법을 제공함을 목적으로 한다. The present invention is a cosmetic device for exfoliating dead skin cells that forms a thin layer of chromium on the surface of a substrate to form a fine pattern more precisely, so that the exfoliation efficiency is excellent, the abrasion of the fine pattern is improved, and the exfoliation efficiency is maintained even after long-term use and to provide a method for manufacturing the same.

나아가 본 발명은 제거되는 각질을 진공흡입하여서 각질의 비산을 방지한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법을 목적으로 한다. Furthermore, an object of the present invention is to provide a cosmetic device for exfoliating dead skin cells and a method for manufacturing the same, which prevent scattering of dead skin cells by vacuum suctioning the removed dead skin cells.

아울러 본 발명은 기판이 원터치방식으로 연마헤드에서 간편신속하게 탈부착되어서 교체가 편리하고 유지보수가 효율적인 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법을 제공함을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide a skin care cosmetic device and a method for manufacturing the same, since the substrate is easily and quickly attached and detached from the polishing head in a one-touch method, so that the replacement is convenient and the maintenance is efficient.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구의 그 제조방법은 The method of manufacturing a skin care cosmetic device having an irregular pattern in which a chrome thin film layer is formed according to the present invention for achieving the above object is

통상의 노광, 현상, 에칭 단계을 거쳐 기판에 미세패턴을 형성하는 공정에 있어서, In the process of forming a fine pattern on a substrate through normal exposure, development, and etching steps,

상기 미세패턴은 패턴의 크기 또는 형상, 또는 이 둘 모두가 달라 불규칙 패턴을 이루고,The fine pattern forms an irregular pattern because the size or shape of the pattern, or both, are different,

기판에 크롬을 코팅한 후에 노광, 현상, 에칭 단계를 거쳐서, 상기 미세패턴의 표면에는 크롬박막층이 형성되는 것을 특징으로 한다. After coating chromium on the substrate, exposure, development, and etching are performed, and a chromium thin film layer is formed on the surface of the micropattern.

그리고 발각질손질 미용기구는 위와 같은 제조방법에 의하여 제조되며, And the skin care device for exfoliation is manufactured by the above manufacturing method,

불규칙 패턴의 미세패턴이 형성된 기판;a substrate on which a fine pattern of irregular patterns is formed;

상기 기판이 교체 가능하게 결합되는 연마헤드를 구비하고, 사용자가 파지하는 핸들;을 포함하여 이루어지고, and a handle to which the substrate is substituted and provided with a polishing head, which is gripped by a user; and

상기 기판에는 흡기공들이 형성되고, Intake holes are formed in the substrate,

상기 본체에 내장되고, 상기 기판 위의 발각질을 상기 흡기공을 통해 흡입하여 제거하는 진공펌프;를 더 포함하는 것을 특징으로 하고, It characterized in that it further comprises; a vacuum pump which is built into the main body and removes the keratin on the substrate by suctioning it through the intake hole,

상기 기판을 상기 연마헤드의 결합판에 원터치 방식으로 교체 가능하게 결합시키는 원터치결합블록;을 더 포함하되, A one-touch coupling block for replaceably coupling the substrate to the bonding plate of the polishing head in a one-touch manner; further comprising,

상기 원터치결합블록은 The one-touch coupling block is

상기 결합판에 구비되고, 양측으로 돌출 가능하게 구비되는 한 쌍의 고정팔이 구비되는 제1블록과,a first block provided on the coupling plate and provided with a pair of fixed arms protruding from both sides;

상기 기판에에 구비되고, 상기 제1블록이 인입되는 끼움홈과 상기 끼움홈에 구비되어 상기 고정팔이 인입되는 인입홈이 형성된 제2블록과,a second block provided in the substrate, a fitting groove into which the first block is inserted, and a second block provided in the fitting groove and having an inlet groove into which the fixed arm is drawn in;

상기 제1블록에 구비되어 상기 고정팔의 후퇴를 불허하는 인입방지추 및 상기 인입방지추의 승하강을 유도하며 상기 제1블록에 힌지 가능하게 결합되는 핸들러 및 상기 핸들러와 인입방지추를 연결하는 와이어를 포함하는 인입방지수단을 포함하여 이루어져,A wire connecting the handler and the pull-in prevention weight provided in the first block to induce the lifting and lowering of the pull-in prevention weight and the pull-in prevention weight that do not allow the retreat of the fixed arm and are hingeably coupled to the first block It consists of a means for preventing ingress comprising a

상기 제1블록을 상기 끼움홈에 삽입하고, 상기 핸들러를 동작하면, 상기 인입방지추가 상기 한 쌍의 고정팔 사이로 이동하면서 상기 한 쌍의 고정팔을 상기 인입홈에 내삽시켜 상기 제1블록을 제2블록에 고정하고,When the first block is inserted into the fitting groove and the handler is operated, the inlet prevention weight moves between the pair of fixed arms and inserts the pair of fixed arms into the inlet groove to insert the first block into the second block. fixed to,

상기 한 쌍의 고정팔 사이에 인입방지추가 위치하여 상기 한 쌍의 고정팔의 후퇴를 불허하는 것을 특징으로 한다. An anti-retraction weight is positioned between the pair of fixed arms to disallow retreat of the pair of fixed arms.

본 발명에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법은 발각질손질 미용기구 또는 손이나 발 등의 각질제거를 위한 손질기구를 제조함에 있어 기판, 특히 유리기판에 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 미세패턴을 형성하며, 무엇보다도 불규칙 패턴이 형성되도록 하여 다양한 발각질 상태나 피부 부위에도 불구하고 높은 품질의 미용 시술이 가능하며, 기판에 전처리 공정으로 형성되는 크롬박막층이 에칭공정의 불산에 강력하여 미세패턴이 설계형상대로 정밀하게 형성되고, 미세패턴의 표면에 남은 크롬박막층이 미세패턴의 마모를 억제하고 발각질의 절삭 또는 샤이닝 효과를 향상시키다.The cosmetic device for exfoliating skin and having an irregular pattern with a thin chrome layer according to the present invention and a method for manufacturing the same are applied to a substrate, particularly a glass substrate, in manufacturing a cosmetic device for exfoliating a dead skin cell or a device for removing dead skin cells such as hands or feet. Fine patterns are formed using exposure, development, and etching techniques, and above all, irregular patterns are formed so that high-quality cosmetic procedures are possible despite various dead skin conditions or skin areas. The thin film layer is strong against hydrofluoric acid in the etching process, so that the fine pattern is precisely formed as designed, and the chrome thin film layer remaining on the surface of the fine pattern suppresses the abrasion of the fine pattern and improves the cutting or shining effect of the keratin.

그리고 제거되는 각질은 바로바로 진공흡입으로 제거되어 각질의 비산 문제가 방지되고, 기판은 원터치방식으로 간편신속하게 연마헤드에서 탈부착되어서 교체와 유지보수가 용이한 제품으로서, 산업발전에 매우 유용한 발명이다. In addition, the removed dead skin cells are immediately removed by vacuum suction to prevent the scattering of dead skin cells, and the substrate is easily and quickly detached from the polishing head in a one-touch method, making it easy to replace and maintain. .

도 1 은 본 발명의 일례에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구의 사시도.
도 2 는 도1의 분해 사시도.
도 3 은 기판에 형성되는 미세패턴의 구조를 보여주는 도면.
도 4 는 기판과 연마헤드의 구조를 보여주는 도면.
도 5 는 원터치결합블록의 구조와 작동 매커니즘을 보여주는 도면.1 is a perspective view of a skin care cosmetic device having an irregular pattern in which a chrome thin film layer is formed according to an example of the present invention.
Figure 2 is an exploded perspective view of Figure 1;
3 is a view showing the structure of a fine pattern formed on a substrate.
4 is a view showing the structure of a substrate and a polishing head;
5 is a view showing the structure and operation mechanism of the one-touch coupling block.

이하, 도면을 참조하여 본 발명에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 대하여 보다 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the drawings, it will be described in more detail with respect to the skin care cosmetic device and its manufacturing method having an irregular pattern in which a chrome thin film layer is formed according to the present invention.

본 발명에 따른 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 관하여 보다 구체적으로 설명하기에 앞서, Before explaining in more detail with respect to the skin care cosmetic device and its manufacturing method having an irregular pattern in which a chrome thin film layer is formed according to the present invention,

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 구현예(態樣, aspect)(또는 실시예)들을 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Since the present invention can have various changes and can have various forms, implementation examples (態樣, aspects) (or embodiments) will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

각 도면에서 동일한 참조부호, 특히 십의 자리 및 일의 자리 수, 또는 십의 자리, 일의 자리 및 알파벳이 동일한 참조부호는 동일 또는 유사한 기능을 갖는 부재를 나타내고, 특별한 언급이 없을 경우 도면의 각 참조부호가 지칭하는 부재는 이러한 기준에 준하는 부재로 파악하면 된다.In each drawing, the same reference sign, particularly the number of the tens and one digit, or the reference numerals having the same tens, one, and alphabet, indicates a member having the same or similar function, and unless otherwise specified, each of the figures in the drawings The member indicated by the reference sign may be understood as a member conforming to these standards.

또 각 도면에서 구성요소들은 이해의 편의 등을 고려하여 크기나 두께를 과장되게 크거나(또는 두껍게) 작게(또는 얇게) 표현하거나, 단순화하여 표현하고 있으나 이에 의하여 본 발명의 보호범위가 제한적으로 해석되어서는 안 된다.In addition, in each drawing, in consideration of the convenience of understanding, the size or thickness is exaggeratedly large (or thick) small (or thin) or simplified, but the protection scope of the present invention is limited by this. it shouldn't be

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 구현예(태양, 態樣, aspect)(또는 실시예)를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, ~포함하다~ 또는 ~이루어진다~ 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is only used to describe a specific embodiment (aspect, aspect, aspect) (or embodiment), and is not intended to limit the present invention. The singular expression includes the plural expression unless the context clearly dictates otherwise. In the present application, terms such as comprises or consists of are intended to designate that the features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification exist, but one or more other features It is to be understood that it does not preclude the possibility of the presence or addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. does not

본 발명에 따른 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구의 제조방법은 통상의 노광, 현상, 에칭 단계을 거쳐 기판에 미세패턴을 형성하는 공정에 있어서, 상기 미세패턴은 패턴의 크기 또는 형상, 또는 이 둘 모두가 달라 불규칙 패턴을 이루게 된다.In the process of forming a fine pattern on a substrate through the normal exposure, development, and etching steps, the method for manufacturing a skin care cosmetic device having an irregular pattern according to the present invention, wherein the fine pattern is the size or shape of the pattern, or Both are different, resulting in an irregular pattern.

상기 불규칙 패턴은 불규칙 패턴은 어느 한 패턴의 크기는 상대적으로 크고, 이에 인접한 다른 패턴의 크기는 상대적으로 작은 형태이고, 개별 패턴은 평단면 형상이 원형 또는 다각형, 또는 이 둘 모두인 것이 바람직하다.As for the irregular pattern, it is preferable that the size of one pattern is relatively large, the size of another pattern adjacent thereto is relatively small, and the individual pattern has a flat cross-sectional shape of a circle or a polygon, or both.

본 발명은 파일(Fhile), 에머리보드(emery board), 또는 버퍼(buffer) 등으로 알려진 발각질손질 미용기구를 기본으로 설명하나, 필요에 따라 본 발명에 따른 미용기구는 손이나 기타 피부 부위의 각질제거를 위한 미용기구를 제조와 관련된 것일 수 있고, 이 또한 본 발명의 보호범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Although the present invention is basically described as a cosmetic device for exfoliating skin known as a file, an emery board, or a buffer, if necessary, the cosmetic device according to the present invention can be applied to the hands or other skin areas. It may be related to manufacturing a cosmetic device for exfoliating dead skin cells, and this should also be construed as being included in the protection scope of the present invention.

한편, 기판, 특히 유리기판에 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 미세패턴을 형성함에 있어 전처리공정으로 크롬 코팅 공정을 사용하여 유리기판 표면에 크롬박막층을 형성할 수 있다. 크롬박막층 위에는 포토레지스터(감광성수지)가 도포되고, 이후 노광, 현상, 에칭 기법을 이용하여 유리기판 위에 미세패턴이 만들어지고, 미세패턴 표면에는 크롬박막층이 형성된다. Meanwhile, a chromium thin film layer may be formed on the surface of a glass substrate by using a chromium coating process as a pretreatment process in forming a fine pattern on a substrate, particularly a glass substrate using exposure, development, and etching techniques. A photoresist (photosensitive resin) is applied on the chromium thin film layer, and then a fine pattern is made on a glass substrate using exposure, development, and etching techniques, and a chromium thin film layer is formed on the surface of the fine pattern.

크롬박막층은 에칭공정에 사용되는 불산에 잘 견디어서, 에칭으로 형성되는 미세패턴이 설계된 모양과 형상대로 정밀하게 형성되고, 크롬은 마모도가 우수하여 미세패턴 위에 잔존하는 크롬막박층이 해당 미세패턴이 마모되는 것을 방지하여 발각질손질 미용기구의 수명을 늘려준다. The chromium thin film layer is resistant to hydrofluoric acid used in the etching process, so the fine pattern formed by etching is precisely formed in the designed shape and shape, and the chromium thin film layer has excellent wear and tear, so the thin chromium film layer remaining on the fine pattern is It prevents abrasion and prolongs the lifespan of skin care equipment.

도3을 참조하면, 이와 같은 제조방법에 의한 발각질손질 미용기구, 특히 기판형 경질 미용기구는 미세패턴이 패턴의 크기 또는 형상, 또는 이 둘 모두가 달라 불규칙 패턴을 이루는데, Referring to Figure 3, the skin care cosmetic device by such a manufacturing method, in particular, a substrate-type hard cosmetic device forms an irregular pattern because the fine pattern is different in size or shape, or both,

특히 불규칙 패턴이 이루는 패턴부(10)는 어느 한 패턴(11)의 크기는 상대적으로 크고, 이에 인접한 다른 패턴(13)의 크기는 상대적으로 작은 형태이고, 개별 패턴은 평단면 형상이 원형 또는 다각형, 또는 이 둘 모두일 수 있다.In particular, in the pattern portion 10 formed by the irregular pattern, the size of one of the patterns 11 is relatively large, the size of the other pattern 13 adjacent thereto is relatively small, and the individual patterns have a circular or polygonal flat cross-sectional shape. , or both.

도3의 하부 일점 쇄선 원 내 두 확대 평면 개략도 및 확대 종단면 개략도와 같이, 예를 들어 대형 패턴(11)은 원형이고, 인접 소형 패턴(13)은 육각형일 수 있다. 아울러 각 패턴의 높이는 60~90㎛ 일 수 있고, 패턴(11, 13)의 표면에 형성되는 크롬박막층(15)의 높이는 200~300nm 일 수 있다. For example, the large pattern 11 may be circular and the adjacent small pattern 13 may be hexagonal, such as two enlarged plan view schematics and an enlarged longitudinal cross-sectional schematic view in the lower dash-dotted circle in FIG. 3 . In addition, the height of each pattern may be 60 ~ 90㎛, the height of the chromium thin film layer 15 formed on the surface of the patterns (11, 13) may be 200 ~ 300nm.

대형 패턴(11)은 원형이고 소형 패턴(13)이 육각형 등 다각형인 경우 발각질제거시 주로 대형 패턴이 절삭기능을 수형하고, 소형 패턴이 미세 스크레치를 수행하여 각각 절삭 및 샤이닝에 최적화된 연마 성능을 발휘할 수 있다.When the large pattern 11 is circular and the small pattern 13 is polygonal, such as a hexagon, the large pattern mainly performs a cutting function when removing dead skin cells, and the small pattern performs fine scratches to optimize polishing performance for cutting and shining, respectively. can exert

아울러 도3의 최하부 일점 쇄선 타원 내 변형예와 같이, 필요에 따라 원형 대형 패턴(11)의 높이 보다 다각형 소형 패턴(13)의 높이를 더 낮게 하여 대형 패턴에 의한 절삭 성능을 상대적으로 더 확보한 제품을 제공할 수 있다.In addition, as in the modified example in the lowermost dashed-dotted line oval of FIG. 3, if necessary, the height of the polygonal small pattern 13 is lower than the height of the circular large pattern 11, and the cutting performance by the large pattern is relatively more secured. products can be provided.

이처럼 불규칙 패턴의 미용기구를 통하여 발각질 상태나 피부 부위 변화, 피부 상태 변화에 따라 균일하고 높은 품질의 손질이나 광택부여(샤이닝, shining)가 가능하게 된다.As such, it is possible to provide uniform and high-quality trimming or lustering (shining) according to the condition of exfoliation, changes in skin areas, and changes in skin conditions through irregular patterned beauty devices.

도1과 도2를 참조하면, 본 발명에 따른 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구는 기판(20), 연마헤드(30), 핸들(40)을 포함하여 이루어진다. Referring to Figures 1 and 2, the cosmetic device for hair removal having an irregular pattern according to the present invention comprises a substrate 20, a polishing head 30, and a handle 40.

상기 기판(20)의 표면에는 위와 같은 제조방법에 의해 불규칙 패턴의 미세패턴이 형성된 패턴부(10)가 구비된다. The surface of the substrate 20 is provided with a pattern portion 10 in which a fine pattern of an irregular pattern is formed by the above manufacturing method.

상기 기판(20)은 상기 연마헤드(30)에 탈부착 가능하게 결합되어 교체 가능하다. 상기 기판(20)을 연마헤드(30)에 탈부착시키는 원터치결합블록(TB)에 대하여는 후술한다. The substrate 20 is detachably coupled to the polishing head 30 and is replaceable. The one-touch coupling block TB for attaching and detaching the substrate 20 to the polishing head 30 will be described later.

상기 연마헤드(30)는 상기 핸들(40)에 탈부착 가능하게 결합된다. The polishing head 30 is detachably coupled to the handle 40 .

상기 핸들(40)은 사용자가 파지하는 부위로서, 내부에 모터(미도시)와 배터리(미도시)를 내장할 수 있고, 모터의 회전축에는 상기 연마헤드(30)가 연결되어서, 전동식으로 발각질을 제거할 수 있다. The handle 40 is a part gripped by the user, and a motor (not shown) and a battery (not shown) can be built therein, and the polishing head 30 is connected to the rotation shaft of the motor to electrically remove the skin. can be removed.

상기 핸들(40)에는 진공펌프(미도시)를 내장하고, 상기 기판(20)에는 흡기공(21)들이 형성되어서, 미세패턴에 의해 제거되는 발각질은 즉시로 흡기공(21)을 통해 진공펌프로 흡입되어 제거될 수 있다. 그리하여 발각질의 비산을 방지하여 주변이 지저분해지는 것을 예방할 수 있다. A vacuum pump (not shown) is built in the handle 40 , and intake holes 21 are formed in the substrate 20 . It can be removed by suction with a pump. Thus, it is possible to prevent the scattering of dead skin cells and prevent the surrounding area from becoming dirty.

발각질을 제거하는 미세패턴이 마모되면 기판(20)을 새것으로 교체해야 하고, 제거하고자하는 발각질의 상태에 따른 효율이 우수한 다른 미세패턴이 형성된 기판(20)으로 교체할 필요가 있다. When the micropattern for removing keratin is worn, the substrate 20 needs to be replaced with a new one, and it is necessary to replace the substrate 20 with another micropattern having excellent efficiency according to the state of the keratin to be removed.

이에 본 발명은 원터치결합블록(TB)을 통해 기판(20)이 연마헤드(30)에 원터치 방식으로 간편신속하게 탈부착되도록 한다. Accordingly, the present invention allows the substrate 20 to be easily and quickly attached to and detached from the polishing head 30 in a one-touch manner through the one-touch coupling block TB.

도4를 참조하면, 상기 연마헤드(30)의 내부에는 결합판(33)이 구비된다. 상기 결합판(33)에는 모터의 회전축이 결합되는 결합구(34)가 구비되고, 상기 결합구(34)의 양옆으로는 결합홀(35)이 형성된다. 상기 기판(20)과 결합판(33)에는 제거된 발각질이 흡입되어 통과되는 흡기공(21, 31)들이 형성된다. Referring to FIG. 4 , a coupling plate 33 is provided inside the polishing head 30 . The coupling plate 33 is provided with a coupling hole 34 to which the rotation shaft of the motor is coupled, and coupling holes 35 are formed on both sides of the coupling hole 34 . Intake holes 21 and 31 through which the removed keratin is sucked through are formed in the substrate 20 and the coupling plate 33 .

상기 기판(20)과 결합판(33)을 원터치 방식으로 간편신속하게 결합 및 분리시키는 원터치결합블록(TB)은 도4에서 보는 바와 같이, 상기 결합홀(35)을 관통하여 결합판(33)에 구비되는 제1블록(B1)과, 상기 기판(20)에 구비되는 제2블록(B2)으로 구성된다. As shown in FIG. 4, the one-touch coupling block TB, which simply and quickly couples and separates the substrate 20 and the coupling plate 33 in a one-touch manner, penetrates the coupling hole 35 to the coupling plate 33. It is composed of a first block (B1) provided in the and a second block (B2) provided in the substrate (20).

도5를 참조하면, 상기 원터치결합블록(TB)의 구체적인 구성은 아래와 같다. Referring to Figure 5, the specific configuration of the one-touch coupling block (TB) is as follows.

결합판(33)의 전면에 구비되며 양측으로 돌출 가능하게 구비되는 한 쌍의 고정팔(B13)이 구비되는 제1블록(B1)과, 기판(20)에 구비되어 상기 제1블록(B1)이 인입되는 끼움홈(B21)과 상기 끼움홈(B21)에 구비되어 상기 고정팔(B13)이 인입되는 인입홈(B23)이 형성된 제2블록(B2)과, 상기 제1블록(B1)에 구비되어 상기 고정팔(B13)의 후퇴를 불허하는 인입방지추(B33) 및 상기 인입방지추(B33)의 승하강을 유도하며 상기 제1블록(B1)에 힌지 가능하게 결합되는 핸들러(B31) 및 상기 핸들러(B31)와 인입방지추(B33)를 연결하는 와이어(B35)를 포함하는 인입방지수단(B3)을 포함하여 이루어져,A first block (B1) provided on the front surface of the coupling plate (33) and provided with a pair of fixed arms (B13) provided to protrude from both sides, and a first block (B1) provided on the substrate (20) A second block (B2) provided in the fitting groove (B21) to be inserted and an insertion groove (B23) into which the fixed arm (B13) is inserted is provided in the fitting groove (B21), and is provided in the first block (B1). A handler (B31) and the handler that are hingedly coupled to the first block (B1) while inducing the lifting and lowering of the pull-in prevention weight (B33) and the pull-in prevention weight (B33) that do not allow the retreat of the fixed arm (B13) (B31) and the pull-in prevention means (B3) comprising a wire (B35) connecting the pull-in prevention weight (B33) is made,

상기 제1블록(B1)을 상기 끼움홈(B21)에 삽입하고, 상기 핸들러(B31)를 동작하면, 상기 인입방지추(B33)가 상기 한 쌍의 고정팔(B13) 사이로 이동하면서 상기 한 쌍의 고정팔(B13)을 상기 인입홈(B23)에 내삽시켜 상기 제1블록(B1)을 제2블록(B2)에 고정하고, 상기 한 쌍의 고정팔(B13) 사이에 인입방지추(B33)가 위치하여 상기 한 쌍의 고정팔(B13)의 후퇴를 불허하는 것을 특징으로 한다.When the first block (B1) is inserted into the fitting groove (B21) and the handler (B31) is operated, the inlet prevention weight (B33) moves between the pair of fixed arms (B13) while moving between the pair of fixed arms (B13). A fixed arm (B13) is inserted into the inlet groove (B23) to fix the first block (B1) to the second block (B2), and a pull-in prevention weight (B33) is positioned between the pair of fixed arms (B13). It is characterized in that it does not allow the retreat of the pair of fixed arms (B13).

이하 도4을 참조하여 각각의 구성에 대하여 보다 상세하게 설명하면,Hereinafter, each configuration will be described in more detail with reference to FIG. 4 ,

우선 상기 제1블록(B1)과 제2블록(B2)은 도면에 자세한 사시도는 도시하지 않았으나, 원기둥 또는 다각기둥으로 이루어지는 것으로,First, the first block (B1) and the second block (B2) are not shown in detailed perspective views in the drawings, but are made of a cylinder or a polygonal pillar,

우선 상기 제2블록(B2)은 기판(20)에 구비되며, 중앙에 상기 제1블록(B1)이 인입되는 끼움홈(B21)이 형성되어 있으며, 상기 끼움홈(B21)의 양측에는 인입홈(B23)이 형성되어 있으며, 이 인입홈(B23)은 상기 제1블록(B1)이 끼움홈(B21)에 끼워질 때, 상기 고정팔(B13)의 위치에 대응되는 위치에 구비되게 된다.First, the second block B2 is provided on the substrate 20, and a fitting groove B21 into which the first block B1 is inserted is formed in the center, and an insertion groove is formed on both sides of the fitting groove B21. (B23) is formed, and this lead-in groove (B23) is provided at a position corresponding to the position of the fixed arm (B13) when the first block (B1) is inserted into the fitting groove (B21).

다시, 제1블록(B1)은 앞서 언급한 바와 같이 원기둥 또는 다각기둥의 블록으로, 하부는 상기 끼움홈(B21)에 삽입되도록 이루어지며, 도면과 같이, 중앙에는 T자형의 T형공간부(B11)가 형성되어 있으며, 상기 T형공간부(B11)와 연통되되 상기 제2블록(B2)의 양측으로 개방되는 인출로(B12)가 형성되고, 상기 인출로(B12)의 중앙에는 후술하는 인입방지추(B33)가 구비되는 수납부(B335)가 형성된다.Again, the first block (B1) is a block of a cylindrical or polygonal column as mentioned above, and the lower part is made to be inserted into the fitting groove (B21), and, as shown in the figure, a T-shaped T-shaped space in the center ( B11) is formed, and a draw-out path B12 communicated with the T-shaped space part B11 and open to both sides of the second block B2 is formed, and at the center of the take-out path B12, which will be described later An accommodating portion (B335) provided with a pull-in prevention weight (B33) is formed.

먼저 고정팔(B13)에 대하여 설명하면, 상기 제1블록(B1)에는 양측으로 돌출 가능하게 구비되는 고정팔(B13)이 구비되게 되는데, 상기 고정팔(B13)은 상기 인출로(B12)에 구비되어, 상기 인입방지추(B33)의 동작에 의해 제1블록(B1) 양측으로 돌출되어 상기 인입홈(B23)에 끼워질 수 있도록 이루어진다.First, the fixed arm (B13) is described. The first block (B1) is provided with a fixed arm (B13) provided to protrude from both sides, the fixed arm (B13) is provided in the withdrawal path (B12), The first block (B1) protrudes from both sides by the operation of the pull-in prevention weight (B33) so that it can be fitted into the inlet groove (B23).

상기 고정팔(B13)의 외측에는 각각 지지날개(B131)가 더 구비되어 있으며, 상기 고정팔(B13)을 감싸는 복귀탄성체(B133)가 상기 지지날개(B131)와 제1블록(B1)의 가장자리 사이에 구비되어, 상기 고정팔(B13)이 제1블록(B1) 내측방향으로 복원되도록 탄성력을 받도록 이루어져, 상기 제1블록(B1)을 제2블록(B2)에 삽입하거나 뺄 때 고정팔(B13)이 돌출되지 않아 원활하게 동작을 수행할 수 있도록 이루어진다.A support wing B131 is further provided on the outside of the fixed arm B13, respectively, and a return elastic body B133 surrounding the fixed arm B13 is provided between the support wing B131 and the edge of the first block B1. It is provided so that the fixed arm (B13) receives an elastic force to be restored in the inner direction of the first block (B1), so that the fixed arm (B13) protrudes when the first block (B1) is inserted or removed from the second block (B2) This is done so that the operation can be performed smoothly.

또한 상기 고정팔(B13)의 내측 일단에는 대응경사부(B135)가 더 구비되어 있는데, 이는 후술하는 인입방지추(B33)가 이동할 때 상기 고정팔(B13)을 자연스럽게 양측으로 밀기 위한 것이다.In addition, a corresponding inclined portion B135 is further provided at one end of the inner end of the fixed arm B13, which is to naturally push the fixed arm B13 to both sides when the pull-in prevention weight B33, which will be described later, moves.

상기 제1블록(B1)의 외주연에는 상기 본체(1)의 전면의 표면을 가압하여 눌러주는 가압판(B17)이 구비되고, 상기 가압판(B17)은 스프링(B18)으로 탄성지지된다.A pressure plate (B17) for pressing and pressing the front surface of the body (1) is provided on the outer periphery of the first block (B1), and the pressure plate (B17) is elastically supported by a spring (B18).

상기 제1블록(B1)의 양측, 보다 정확하게는 도5a를 준으로 제1블록(B1)의 상부 양측에는 각각 핸들러(B31)가 더 구비되어 있으며, 상기 핸들러(B31)는 인입방지수단(B3)의 한 구성으로, 이하, 인입방지수단(B3)에 대하여 보다 상세하게 설명하도록 한다.Handlers B31 are further provided on both sides of the first block B1, more precisely, on both upper sides of the first block B1 according to FIG. ), as one configuration, below, the intrusion prevention means (B3) will be described in more detail.

상기 인입방지수단(B3)은 상기 제1블록(B1)에 구비되어 상기 한 쌍의 고정팔(B13)을 양측으로 돌출시킨 후, 이들의 후퇴를 방지하는 인입방지추(B33)와, 상기 제1블록(B1)에 힌지결합되는 핸들러(B31), 상기 핸들러(B31)와 인입방지추(B33)를 연결하는 와이어(B35)를 포함하여 이루어진다.The pull-in preventing means (B3) is provided in the first block (B1) to protrude the pair of fixed arms (B13) to both sides, and then the pull-in prevention weight (B33) to prevent their retreat, and the first A handler (B31) hinged to the block (B1), and a wire (B35) connecting the handler (B31) and the pull-in prevention weight (B33).

우선 상기 인입방지추(B33)는 앞서 언급한 바와 같이, 수납부(B335)에 안착되어 있으며, 도5a를 기준으로 상기 한 쌍의 고정팔(B13) 사이 하부에 위치하고, 상기 인입방지추(B33)의 단부에는 상기 대응경사부(B135)와 밀착되는 진입경사부(B331)가 구비되어 있으며, 상기 수납부(B335)에는 상기 인입방지추(B33)를 지지하는 압축스프링(B333)이 더 구비되어 있다.First, as mentioned above, the anti-retraction weight (B33) is seated in the receiving part (B335), and is located below between the pair of fixed arms (B13) with reference to FIG. 5A, and the pull-in prevention weight (B33) An entry slope portion (B331) in close contact with the corresponding slope portion (B135) is provided at the end of the accommodating portion (B335), and a compression spring (B333) for supporting the entry prevention weight (B33) is further provided. have.

상기 압축스프링(B333)은 인입방지추(B33)를 복원시키는 방향으로 탄성력을 갖는 스프링으로, 여기서 복원시키는 방향은 도5a와 같이, 고정팔(B13)이 돌출되지 않았을 때의 상태의 위치를 의미한다.The compression spring (B333) is a spring having an elastic force in the direction of restoring the pull-in prevention weight (B33), where the restoring direction means the position of the state when the fixed arm (B13) does not protrude, as shown in FIG. 5A .

따라서 상기 인입방지추(B33)가 도5b와 같이, 한 쌍의 고정팔(B13) 사이로 이동하면, 상기 진입안내부 및 대응경사부(B135)에 의해 자연스럽게 상기 고정팔(B13)들이 벌어져 제1블록(B1) 양측으로 돌출되게 되고, 상기 인이방지추의 위치가 변동되지 않는 한, 상기 고정팔(B13)들은 다시 내측으로 후퇴할 수 없어 제1블록(B1)과 제2블록(B2)의 고정력을 유지할 수 있다.Therefore, when the pull-in prevention weight (B33) moves between a pair of fixed arms (B13) as shown in FIG. 5B, the fixed arms (B13) are naturally spread apart by the entry guide part and the corresponding inclined part (B135) to the first block ( B1) is protruded to both sides, and unless the position of the anti-seismic weight is changed, the fixed arms (B13) cannot retreat to the inside again, thereby increasing the fixing force of the first block (B1) and the second block (B2). can keep

다시 상기 핸들러(B31)는 도5a의 방향을 기준으로 상기 제1블록(B1)의 상부 양측에 제1힌지부(B311)를 통하여 힌지결합된 부재로, 상기 핸들러(B31)는 도3의 [B]와 같이 일면이 상기 제1블록(B1) 측방향에 밀착되도록 움직일 수 있다.Again, the handler (B31) is a member hinged through the first hinge parts (B311) on both upper sides of the first block (B1) based on the direction of FIG. 5A, and the handler (B31) is [ B] as shown in the first block (B1) can be moved so as to be in close contact with the lateral direction.

상기 핸들러(B31)는 상기 인입방지추(B33)의 움직임을 제어하는 부재로, 상기 핸들러(B31)와 인입방지추(B33)는 도면과 같이 와이어(B35)로 연결되어 있으며, 상기 와이어(B35)의 파손을 방지하기 위하여, 상기 T형공간부(B11)의 내측 모서리부분에는 제1롤러(B15)가 구비되어 와이어(B35)를 지지하고, 상기 T형공간부(B11)의 단부, 즉 와이어(B35)가 노출되는 부분에도 제2롤러(B16)가 구비되게 된다.The handler (B31) is a member for controlling the movement of the pull-in prevention weight (B33), the handler (B31) and the pull-in prevention weight (B33) are connected by a wire (B35) as shown in the figure, and the wire (B35) ), a first roller (B15) is provided at the inner edge of the T-shaped space (B11) to support the wire (B35), and the end of the T-shaped space (B11), that is, A second roller B16 is also provided in the portion where the wire B35 is exposed.

상기와 같은 구성으로, 도5b와 같이, 제1블록(B1)을 제2블록(B2)에 삽입한 후, 상기 한 쌍의 핸들러(B31)를 접으면, 상기 와이어(B35)가 당겨지게 되어 상기 인입방지추(B33)를 이동시키게 되고, 상기 인입방지추(B33)의 이동으로 인해 상기 한 쌍의 고정팔(B13)은 제1블록(B1) 양측으로 돌출되어 인입홈(B23)에 끼워져 제1블록(B1)이 제2블록(B2)으로부터 분리되는 것을 방지하게 된다.With the above configuration, as shown in Fig. 5b, when the first block B1 is inserted into the second block B2 and the pair of handlers B31 are folded, the wire B35 is pulled. The pull-in prevention weight (B33) is moved, and due to the movement of the pull-in prevention weight (B33), the pair of fixed arms (B13) protrude from both sides of the first block (B1) and are inserted into the inlet groove (B23). It prevents the first block (B1) from being separated from the second block (B2).

이 때 상기 핸들러(B31)가 접힌 상태를 유지하기 위하여 상기 제1블록(B1)과 상기 핸들러(B31)에는 상기 핸들러(B31)가 접힌 상태를 기준으로 서로 밀착되는 면에 각각 제1마그넷(M1) 및 제2마그넷(M2)을 구비하고, 이들이 인력에 의해 고정될 수 있도록 하여 핸들러(B31)가 임의로 펼쳐지는 것을 방지하여 인입방지추(B33)가 복귀되는 것을 방지한다.At this time, in order to maintain the folded state of the handler (B31), the first block (B1) and the handler (B31) have first magnets (M1) respectively on surfaces that are in close contact with each other based on the folded state of the handler (B31). ) and the second magnet (M2), and prevent the handler (B31) from being arbitrarily unfolded so that they can be fixed by manpower, thereby preventing the retraction prevention weight (B33) from returning.

아울러 상기 제1블록(B1)을 제2블록(B2)으로부터 분리시키기 위해서는 역으로 상기 핸들러(B31)를 다시 펼쳐야 하는데, 상기 핸들러(B31)는 상기 제1블록(B1)에 자성에 의해 견고하게 부착되어 있음에 따라 사용자가 핸들러(B31)를 펼치는데 어려움이 있으며, 본 발명은 이를 보완하기 위하여 상기 핸들러(B31)에 제2힌지부(B312)에 힌지결합되는 홀딩손잡이(B313)를 더 구비하고 있다.In addition, in order to separate the first block (B1) from the second block (B2), the handler (B31) must be unfolded again in reverse, and the handler (B31) is firmly attached to the first block (B1) by magnetism. As it is attached, it is difficult for the user to unfold the handler B31, and the present invention further includes a holding handle B313 hinged to the second hinge part B312 in the handler B31 to compensate for this. are doing

따라서 도5b와 같이 상기 홀딩손잡이(B313)를 젖힌 후, 사용자가 이 홀딩손잡이(B313)를 잡고 손쉽게 핸들러(B31)를 펼칠 수 있고, 상기 핸들러(B31)가 펼쳐지면, 상기 인입방지추(B33)를 지지하던 압축스프링(B333)의 탄성 복원력에 의해 상기 인입방지추(B33)가 수납부(B335)로 원위치되고, 상기 한 쌍의 고정팔(B13)은 복귀탄성체(B133)의 탄성력에 의해 제1블록(B1) 내측으로 인입되어, 제1블록(B1)을 제2블록(B2)으로부터 분리시킬 수 있는 상태를 유지하게 된다.Therefore, after folding the holding handle (B313) as shown in Figure 5b, the user can easily open the handler (B31) by holding the holding handle (B313), and when the handler (B31) is unfolded, the pull-in prevention weight (B33) ), the pull-in prevention weight (B33) is returned to the receiving portion (B335) by the elastic restoring force of the compression spring (B333) that was supporting it, and the pair of fixed arms (B13) are released by the elastic force of the return elastic body (B133). It is introduced into the first block (B1) to maintain a state in which the first block (B1) can be separated from the second block (B2).

즉, 본 발명은 상기와 같은 원터치결합블록(TB)에 의해, 보다 손쉽게 기판(20)을 연마헤드(30)에 고정 및 분리할 수 있어, 사용 편의성을 대폭 향상시키는 효과를 기대할 수 있다.That is, according to the present invention, the substrate 20 can be more easily fixed and separated from the polishing head 30 by the one-touch coupling block TB as described above, and thus, the effect of greatly improving the usability can be expected.

이상에서 본 발명을 설명함에 있어 첨부된 도면을 참조하여 특정 형상과 구조를 갖는 크롬박막층이 형성된 불규칙 패턴을 구비한 발각질손질 미용기구 및 그 제조방법에 대해 설명하였으나 본 발명은 당업자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 보호범위에 속하는 것으로 해석되어야 한다.In the above, in describing the present invention, with reference to the accompanying drawings, a cosmetic device for exfoliating the skin with an irregular pattern in which a chrome thin film layer having a specific shape and structure is formed and a method for manufacturing the same have been described, but the present invention has been modified in various ways by those skilled in the art. and modifications are possible, and such modifications and changes should be construed as falling within the protection scope of the present invention.

10 : 패턴부 20 : 기판
30 : 연마헤드 40 : 핸들
TB : 원터치결합블록
B1 : 제1블록
B11 : T형공간부 B12 : 인출로
B13 : 고정팔 B131 : 지지날개
B133 : 복귀탄성체 B135 : 대응경사부
B15 : 제1롤러 B16 : 제2롤러
B2 : 제2블록
B21 : 끼움홈 B23 : 인입홈
B3 : 인입방지수단
B31 : 핸들러 B311 : 제1힌지부
B312 : 제2힌지부 B313 : 홀딩손잡이
B33 : 인입방지추 B331 : 진입경사부
B333 : 압축스프링 B335 : 수납부
B35 : 와이어
M1 : 제1마그넷 M2 : 제2마그넷10: pattern portion 20: substrate
30: polishing head 40: handle
TB : One-touch combination block
B1: 1st block
B11: T-shaped space B12: Draw-out path
B13: fixed arm B131: support wing
B133: Return elastic body B135: Corresponding inclined part
B15: first roller B16: second roller
B2: 2nd block
B21 : Fitting groove B23 : Inlet groove
B3: Entry prevention means
B31: handler B311: first hinge part
B312: second hinge part B313: holding handle
B33: Intrusion prevention weight B331: Entry slope
B333: Compression spring B335: Receiving part
B35 : Wire
M1: 1st magnet M2: 2nd magnet

Claims

In the process of forming a fine pattern on a substrate through normal exposure, development, and etching steps,
The fine pattern forms an irregular pattern because the size or shape of the pattern, or both, are different,
After coating chromium on the substrate, exposure, development, and etching are performed, and a chromium thin film layer is formed on the surface of the micropattern,

The substrate is coupled to the coupling plate provided in the polishing head of the handle through the one-touch coupling block to be replaced in a one-touch manner,

The one-touch coupling block is
a first block provided on the coupling plate and provided with a pair of fixed arms protruding from both sides;
a second block provided in the substrate, a fitting groove into which the first block is inserted, and a second block provided in the fitting groove and having an inlet groove into which the fixed arm is drawn in;
A wire connecting the handler and the pull-in prevention weight provided in the first block to induce the lifting and lowering of the pull-in prevention weight and the pull-in prevention weight that do not allow the retreat of the fixed arm and are hingeably coupled to the first block It consists of a means for preventing ingress comprising a
When the first block is inserted into the fitting groove and the handler is operated, the inlet prevention weight moves between the pair of fixed arms and inserts the pair of fixed arms into the inlet groove to insert the first block into the second block. fixed on,
A method of manufacturing a keratin care cosmetic device, characterized in that the retraction prevention weight is positioned between the pair of fixed arms to disallow the retreat of the pair of fixed arms.

It is manufactured by the manufacturing method according to claim 1,
a substrate on which a fine pattern of irregular patterns is formed;
a handle having a polishing head to which the substrate is interchangeably coupled and gripped by a user;
A one-touch coupling block for replacing the substrate with the bonding plate of the polishing head in a one-touch manner;

The one-touch coupling block is
a first block provided on the coupling plate and provided with a pair of fixed arms protruding from both sides;
a second block provided in the substrate, a fitting groove into which the first block is inserted, and a second block provided in the fitting groove and having an inlet groove into which the fixed arm is drawn in;
A wire connecting the handler and the pull-in prevention weight provided in the first block to induce the lifting and lowering of the pull-in prevention weight and the pull-in prevention weight that do not allow the retreat of the fixed arm and are hingeably coupled to the first block It consists of a means for preventing ingress comprising a
When the first block is inserted into the fitting groove and the handler is operated, the inlet prevention weight moves between the pair of fixed arms and inserts the pair of fixed arms into the inlet groove to insert the first block into the second block. fixed on,
An anti-retraction weight is positioned between the pair of fixed arms to disallow retraction of the pair of fixed arms.

3. The method of claim 2,
Intake holes are formed in the substrate,
A vacuum pump built into the handle and sucking and removing the dead skin cells on the substrate through the intake holes;

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