KR102436187B1 - Method For Manufacturing Of Antistatic Film And Method For Manufacturing Of Display Device Using The Same - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 정전기 방지막의 제조방법은 알콕시실란 화합물의 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 정전기 방지막의 제조를 위한 전도성 코팅액 조성물의 안정성을 향상시킨다. 이를 위해, 알콕시실란 화합물, 알코올계 용매, 및 물을 혼합하여 알콕시실란 화합물을 졸 반응시킨 후, 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 실란졸을 형성한다. 그리고, 탄소나노튜브 분산액 조성물과 실란졸을 혼합하여 전도성 코팅액 조성물을 제조하고, 기판 상에 코팅하여 정전기 방지막을 제조한다.The method of manufacturing an antistatic film according to an embodiment of the present invention improves the stability of the conductive coating solution composition for the preparation of the antistatic film by removing ethanol generated during the sol reaction of the alkoxysilane compound. To this end, an alkoxysilane compound, an alcohol-based solvent, and water are mixed to react the alkoxysilane compound with the sol, and then ethanol generated during the sol reaction is removed to form a silane sol. Then, a conductive coating composition is prepared by mixing the carbon nanotube dispersion composition and the silane sol, and coated on a substrate to prepare an antistatic film.

Description

정전기 방지막의 제조방법 및 표시장치의 제조방법{Method For Manufacturing Of Antistatic Film And Method For Manufacturing Of Display Device Using The Same}Method For Manufacturing Of Antistatic Film And Method For Manufacturing Of Display Device Using The Same

본 발명은 정전기 방지막의 제조방법 및 표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an antistatic film and a method of manufacturing a display device.

최근 정보화 사회로 시대가 급발전함에 따라 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성을 가지는 평판표시장치(flat panel display)의 필요성이 대두되었는데, 이 중 액정표시장치(liquid crystal display)가 해상도, 컬러표시, 화질 등에서 우수하여 노트북이나 데스크탑 모니터에 활발하게 적용되고 있다.With the recent rapid development of the information society, the need for a flat panel display with excellent characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption has emerged. Because of its excellent color display and picture quality, it is being actively applied to laptops and desktop monitors.

일반적으로 액정표시장치는 일면에 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 상기 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고, 두 기판 사이에 액정 물질을 개재한 후, 각 기판에 형성된 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다. 이때, 액정표시장치의 각 기판의 제조 시 단위 공정을 진행하는 과정에서 많은 정전기가 발생하고 있다.In general, in a liquid crystal display device, two substrates each having electrodes formed on one surface are arranged so that the surfaces on which the electrodes are formed face each other, a liquid crystal material is interposed between the two substrates, and then a voltage is applied to the electrodes formed on each substrate. It is a device that expresses an image by the transmittance of light that changes according to the movement of liquid crystal molecules by the electric field generated by the application. In this case, a lot of static electricity is generated in the process of performing a unit process in manufacturing each substrate of the liquid crystal display device.

따라서, 이러한 정전기를 방전시키고, 완성된 제품 형성 시에 충친된 전하를 효과적으로 방출시키고자 상부기판의 외측면에 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)를 정전기 방지막으로 활용하고 있다. 하지만, 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)는 매우 값비싼 투명 도전성 금속물질이므로 제조 비용을 향상시키는 요인이 되고 있다. 특히, 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 주원료인 인듐(Indium)은 희소금속으로 근래들어 그 가격이 급상승하고 있으며, 자원 보유국의 수출억제 정책 등으로 현재 그 수급이 어려워지고 있는 실정이다.Accordingly, indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), which is a transparent conductive material, is applied to the outer surface of the upper substrate to discharge static electricity and effectively discharge the charged charges during the formation of a finished product. It is used as an antistatic film. However, since indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is a very expensive transparent conductive metal material, it is a factor in improving the manufacturing cost. In particular, indium, the main raw material of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), is a rare metal and its price has risen sharply in recent years. This is becoming difficult.

최근에 들어서는 개인 휴대가 가능한 휴대폰, PDA 또는 노트북 등에서 터치 센서가 내장되어 화면을 터치하여 동작할 수 있는 기능을 갖는 제품이 출시되어 사용자의 많은 관심을 끌고 있다. 이러한 추세에 편승하여 다양한 응용제품에 표시소자로서 이용되고 있는 액정표시장치에 있어서도 터치 기능을 갖도록 하기 위해 최근 다양한 시도가 진행되고 있다. 이 중 터치 기능이 내부에 탑재된 인셀 타입(In Cell Type)의 액정표시장치의 수요가 증가하고 있다. 인셀 터치 방식의 액정표시장치는 액정표시장치 위에 별도의 터치 패널을 부착하지 않고 표시패널 내부에 터치 전극을 형성하기 때문에 제품의 슬림화, 재료비 절감으로 인한 원가 구조 개선, 경량화 등의 장점을 갖는다.In recent years, a product having a function that can be operated by touching a screen in which a touch sensor is built-in in a personal mobile phone, PDA, or laptop has been released, attracting a lot of attention from users. Taking advantage of this trend, various attempts have been made recently in order to have a touch function even in a liquid crystal display device used as a display device in various application products. Among them, the demand for an in-cell type liquid crystal display with a touch function mounted therein is increasing. The in-cell touch type liquid crystal display device forms a touch electrode inside the display panel without attaching a separate touch panel on the liquid crystal display device, so it has advantages such as product slimness, cost structure improvement due to material cost reduction, and weight reduction.

하지만, 표시패널 내부에 인셀 형식으로 터치센서가 구비된다 하더라도 전술한 정전기 방지막에 의해 방전됨으로써, 손가락 등의 터치에 의해 발생하는 정전용량 변화를 감지할 수 없게 되어 터치 센서의 터치 감도가 저하되는 문제가 발생하고 있다. 다시 말해서, 손가락 터치에 의해 발생되는 정전용량의 크기에 비해 정전기 방지막이 상대적으로 전기 전도도가 크게 형성되어 있기 때문에, 정전기 방지막이 도체로서 작용하여 방전을 일으켜 터치센서가 작업자의 손가락 등의 터치를 인식하지 못하게 되는 것이다.However, even if the touch sensor is provided in an in-cell type inside the display panel, it is discharged by the above-described antistatic film, so that the change in capacitance generated by the touch of a finger cannot be sensed, and the touch sensitivity of the touch sensor is lowered. is occurring In other words, since the antistatic film has relatively high electrical conductivity compared to the size of the capacitance generated by the finger touch, the antistatic film acts as a conductor to generate a discharge, and the touch sensor recognizes the touch of the operator's finger, etc. won't be able to do it.

따라서, 이러한 문제를 해결하기 위해 정전기 방지막을 삭제하게 되면 제조 공정 중 정전기 발생으로 인해 불량률이 상승하며 이로 인해 실패비용 증가로 인해 또 다시 제조 비용이 상승하고 있으며, 표시품질이 저하되고 있는 실정이다.Therefore, if the antistatic film is removed to solve this problem, the defect rate increases due to the generation of static electricity during the manufacturing process.

본 발명은 상온 보관 안정성이 우수한 전도성 코팅액 조성물을 제공하기 위한 정전기 방지막의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an antistatic film for providing a conductive coating solution composition having excellent storage stability at room temperature.

또한, 본 발명은 정전기 방지막의 제조방법에 따라 제조된 정전기 방지막을 구비하는 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a display device including an antistatic film manufactured according to a method for manufacturing an antistatic film.

또한, 본 발명은 제조 공정 시 발생되는 정전기를 외부로 용이하게 방전시켜 정전기에 의한 불량을 억제하고, 터치 감도의 저하를 방지하며, 면저항 균일도, 내열성 및 신뢰성을 향상시키고, 제조 비용을 절감시키는 정전기 방지막 및 표시장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, the present invention easily discharges static electricity generated during the manufacturing process to the outside to suppress defects caused by static electricity, prevent a decrease in touch sensitivity, improve sheet resistance uniformity, heat resistance and reliability, and reduce manufacturing costs. An object of the present invention is to provide a barrier film and a display device.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 정전기 방지막의 제조방법은 알콕시실란 화합물의 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 정전기 방지막의 제조를 위한 전도성 코팅액 조성물의 안정성을 향상시킨다. 이를 위해, 알콕시실란 화합물, 알코올계 용매, 및 물을 혼합하여 알콕시실란 화합물을 졸 반응시킨 후, 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 실란졸을 형성한다. 그리고, 탄소나노튜브 분산액 조성물과 실란졸을 혼합하여 전도성 코팅액 조성물을 제조하고, 기판 상에 코팅하여 정전기 방지막을 제조한다. 에탄올은 회전 증발법을 이용하여 제거하고, 제거된 에탄올의 양에 해당하는 추가의 용매를 첨가하되, 추가의 용매는 극성도가 1.0 내지 5.9 미만일 수 있다.In order to achieve the above object, the method for manufacturing an antistatic film according to an embodiment of the present invention removes ethanol generated during the sol reaction of the alkoxysilane compound to improve the stability of the conductive coating solution composition for the preparation of the antistatic film. To this end, an alkoxysilane compound, an alcohol-based solvent, and water are mixed to react the alkoxysilane compound with the sol, and then ethanol generated during the sol reaction is removed to form a silane sol. Then, a conductive coating composition is prepared by mixing the carbon nanotube dispersion composition and the silane sol, and coated on a substrate to prepare an antistatic film. Ethanol is removed using rotary evaporation, and an additional solvent corresponding to the amount of ethanol removed is added, wherein the additional solvent may have a polarity of 1.0 to less than 5.9.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치의 제조방법은 전술한 정전기 방지막을 표시패널의 일면에 형성하여, 정전기에 의한 불량을 방지하고 터치 감도 저하를 방지한다. In addition, in the method of manufacturing a display device according to an embodiment of the present invention, the above-described antistatic film is formed on one surface of the display panel to prevent defects due to static electricity and decrease touch sensitivity.

본 발명은 전도성 코팅액 조성물의 상온에서 보관 시 점도가 변화되는 것을 방지하고, 전도성 코팅액 조성물로 형성된 정전기 방지막의 상온에서의 표면 저항이 변화되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 정전기 방지막의 제조방법은 전도성 코팅액 조성물의 상온에서의 보관 안정성 및 정전기 방지막의 상온 안정성을 향상시킬 수 있다. The present invention can prevent a change in the viscosity of the conductive coating solution composition when stored at room temperature, and prevent a change in the surface resistance of the antistatic film formed of the conductive coating solution composition at room temperature. Therefore, the method for producing an antistatic film of the present invention can improve the storage stability of the conductive coating liquid composition at room temperature and the room temperature stability of the antistatic film.

본 발명에 따라 제조된 정전기 방지막은 우수한 전기전도도를 나타내며, 기계적 강도 및 투과도 또한 우수하여, 터치스크린 패널 및 화상표시장치의 정전기 방지용 코팅막으로 사용될 수 있다.The antistatic film prepared according to the present invention exhibits excellent electrical conductivity, and also has excellent mechanical strength and transmittance, and can be used as an antistatic coating film for touch screen panels and image display devices.

본 발명에 따라 제조된 표시장치는, 제조 공정시 발생되는 정전기를 외부로 용이하게 방전시켜 정전기에 의한 불량을 억제하고, 터치 감도의 저하를 방지하며, 면저항 균일도, 내열성 및 신뢰성을 향상시키고, 제조 비용을 절감시킬 수 있다.The display device manufactured according to the present invention easily discharges static electricity generated during the manufacturing process to the outside to suppress defects caused by static electricity, prevent a decrease in touch sensitivity, improve surface resistance uniformity, heat resistance and reliability, and manufacture cost can be reduced.

도 1은 일반적인 표시장치를 나타낸 단면도.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도.
도 3은 도 2의 표시장치의 정면을 나태낸 도면.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 정전기 방지막의 평면을 나타낸 도면.
도 5a는 실시예에 따른 탄소나노튜브의 면저항에 대한 정전기 방지막의 면저항 값과 면저항 균일도를 나타내는 표이고, 도 5b는 도 5a의 면저항 균일도를 나타내는 그래프.
도 6은 실시예에 따른 탄소나노튜브의 함량에 대한 정전기 방지막의 면저항 값을 나타내는 그래프.
도 7은 실시예에 따른 탄소나노튜브의 함량과 면저항 값에 대한 광 투과율을 나타내는 표.
도 8a는 일반적인 정전기 방지막의 시간에 따른 면저항 값의 변화를 나타내는 그래프이고, 도 8b는 실시예에 따른 정전기 방지막의, 고온, 고습 환경에서의 면저항 값의 변화를 나타내는 그래프.
도 9는 일반적인 정전기 방지막의 온도에 따른 중량%와, 실시예에 따른 정전기 방지막의 온도에 따른 중량%를 비교한 그래프.
도 10은 본 발명의 알콕시실란 화합물의 졸 반응을 나타낸 반응식.
도 11 및 도 12는 본 발명의 표시장치를 개략적으로 보여 주는 도면들.
도 13은 도 11에 도시된 터치 센서(Cs)에 인가되는 공통 전압(Vcom)과 터치 구동 신호(Tdrv)를 보여 주는 파형도.
도 14는 본 발명의 표시패널을 나타낸 단면도.
도 15는 본 발명의 표시장치의 제조방법을 나타낸 흐름도.
1 is a cross-sectional view showing a general display device;
2 is a cross-sectional view illustrating a display device according to an embodiment of the present invention;
FIG. 3 is a front view of the display device of FIG. 2 ;
4 is a view showing a plan view of an antistatic film according to an embodiment of the present invention.
5A is a table showing the sheet resistance value and the sheet resistance uniformity of the antistatic film with respect to the sheet resistance of the carbon nanotube according to the embodiment, and FIG. 5B is a graph showing the sheet resistance uniformity of FIG. 5A.
6 is a graph showing the sheet resistance value of the antistatic film with respect to the content of carbon nanotubes according to the embodiment.
7 is a table showing light transmittance with respect to the content and sheet resistance of carbon nanotubes according to the embodiment;
8A is a graph showing the change in the sheet resistance value of a general antistatic film with time, and FIG. 8B is a graph showing the change in the sheet resistance value of the antistatic film according to the embodiment in a high temperature and high humidity environment.
9 is a graph comparing the weight % according to the temperature of the general antistatic film and the weight % according to the temperature of the antistatic film according to the embodiment.
10 is a reaction scheme showing the sol reaction of the alkoxysilane compound of the present invention.
11 and 12 are views schematically showing a display device according to the present invention.
13 is a waveform diagram illustrating a common voltage Vcom and a touch driving signal Tdrv applied to the touch sensor Cs shown in FIG. 11 .
14 is a cross-sectional view of a display panel according to the present invention;
15 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to the present invention.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 통해 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명의 실시예들을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same components are given the same reference numerals as much as possible even though they are indicated on different drawings. In addition, in describing the embodiments of the present invention, if it is determined that a detailed description of a related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

또한, 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 같은 맥락에서, 어떤 구성 요소가 다른 구성 요소의 "상"에 또는 "아래"에 형성된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접 또는 또 다른 구성 요소를 개재하여 간접적으로 형성되는 것을 모두 포함하는 것으로 이해되어야 할 것이다.Also, in describing the components of the invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b), etc. may be used. These terms are only for distinguishing the elements from other elements, and the essence, order, or order of the elements are not limited by the terms. When it is described that a component is “connected”, “coupled” or “connected” to another component, the component may be directly connected or connected to the other component, but another component is between each component. It should be understood that elements may be “connected,” “coupled,” or “connected.” In the same vein, when it is described that a component is formed "on" or "below" another component, the component is both formed directly or indirectly through another component on the other component. should be understood as including

도 1은 일반적인 표시장치를 나타낸 단면도이다. 1 is a cross-sectional view showing a general display device.

도 1을 참조하면, 표시장치(100)는, 하부기판(120), 하부기판(120)에 대향하는 상부기판(140) 및 상부기판(140) 상에 위치하는 정전기 방지막(150)을 포함한다. 하부기판(120)의 외측면(도면에서 아래쪽 방향)에는 하부편광판(110a)이 위치하고, 하부기판(120)과 상부기판(130) 사이에는 셀(Cell, 130)이 위치하며, 셀(130) 내부에는 터치전극(Touch Electrode, TE)이 배치될 수 있다. 한편, 상부기판(140) 상에는 상부편광판(110b)이 위치하고, 상부편광판(110b) 상에는 정전기 방지막(150)이 위치한다.Referring to FIG. 1 , the display device 100 includes a lower substrate 120 , an upper substrate 140 facing the lower substrate 120 , and an antistatic film 150 positioned on the upper substrate 140 . . A lower polarizing plate 110a is positioned on the outer surface (downward direction in the drawing) of the lower substrate 120, and a cell 130 is positioned between the lower substrate 120 and the upper substrate 130, and the cell 130. A touch electrode (TE) may be disposed therein. Meanwhile, an upper polarizing plate 110b is positioned on the upper substrate 140 , and an antistatic film 150 is positioned on the upper polarizing plate 110b.

도 1의 표시장치(100)는 터치전극(TE)이 셀(130) 내부에 위치하는 인셀 타입의 표시장치(100)이다. 다만, 이는 예시적인 것으로서, 설명의 편의를 위한 것이다. 셀(130)은, 예를 들어, 액정층일 수 있고, 표시장치(100)는 액정표시장치일 수 있다. The display device 100 of FIG. 1 is an in-cell type display device 100 in which the touch electrode TE is located inside the cell 130 . However, this is an example, and is for convenience of description. The cell 130 may be, for example, a liquid crystal layer, and the display device 100 may be a liquid crystal display.

한편, 정전기 방지막(150)은, 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)로 이루어지거나, 도전성 고분자, 예를 들면, PEDOT:PSS(polyethylenedioxythiphene:polystyrene sulfonic acid)로 이루어질 수 있다. 하지만, 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)는 매우 값비싼 금속물질이므로 제조 비용을 향상시키는 요인이 되고 있다. 특히, 인듐-틴-옥사이드(ITO) 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)의 주원료인 인듐(Indium)은 희소 금속으로 근래들어 그 가격이 급상승하고 있으며, 자원 보유국의 수출억제 정책 등으로 현재 그 수급이 어려워지고 있는 실정이다. 또한, 또는 인듐-징크-옥사이드(IZO)는 면저항(Sheet Resistance) 값이 상대적으로 낮고, 전기 전도도가 높기 때문에, 손가락 등의 터치에 의해 발생되는 전압이 정전기 방지막(150)으로 인해 방전되어 버리게 되고, 이로 인해 터치센서가 터치를 인식할 수 없게 되는 문제점이 발생한다. 또한, 정전기 방지막(150)이 PEDOT:PSS와 같은 물질로 이루어지는 경우, 고온 또는 다습(또는 고습) 환경에서 신뢰성이 저하되는 문제점이 발생한다. Meanwhile, the antistatic film 150 is made of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), which is a transparent conductive material, or a conductive polymer, for example, PEDOT:PSS (polyethylenedioxythiphene:polystyrene sulfonic acid). ) can be made. However, since indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO) is a very expensive metal material, it is a factor for improving the manufacturing cost. In particular, indium, the main raw material of indium-tin-oxide (ITO) or indium-zinc-oxide (IZO), is a rare metal and its price has risen sharply in recent years. This is becoming difficult. Also, since indium-zinc-oxide (IZO) has a relatively low sheet resistance and high electrical conductivity, a voltage generated by a touch of a finger or the like is discharged due to the antistatic film 150 , , this causes a problem that the touch sensor cannot recognize the touch. In addition, when the antistatic film 150 is made of a material such as PEDOT:PSS, reliability is deteriorated in a high temperature or high humidity (or high humidity) environment.

한편, 정전기 방지막(150)은 제1도전부재(170a), 도전성 연결부재(172) 및 제2도전부재(170b)를 통해 하부기판(120)의 가장자리에 연결된다. 하부기판(120)의 가장자리에는, 도시되지는 않았지만, 도전성 물질로 이루어진 접지패드 등이 위치할 수 있다. 표시장치(100)에서 발생한 정전기는 정전기 방지막(150), 제1도전부재(170a), 도전성 연결부재(172), 제2도전부재(170b) 및 하부기판(120)의 도전성 물질로 인해 외부로 방전된다.Meanwhile, the antistatic film 150 is connected to the edge of the lower substrate 120 through the first conductive member 170a, the conductive connecting member 172, and the second conductive member 170b. Although not shown, a ground pad made of a conductive material may be positioned on the edge of the lower substrate 120 . Static electricity generated in the display device 100 is discharged to the outside due to the conductive material of the antistatic film 150 , the first conductive member 170a , the conductive connection member 172 , the second conductive member 170b , and the lower substrate 120 . discharged

제1도전부재(170a) 및 제2도전부재(170b)는, 예를 들어, 은(Ag) 등의 금속재질로 이루어질 수 있고, 도전성 연결부재(172) 또한 금속재질로 이루어질 수 있다. 다만, 제1도전부재(170a), 도전성 연결부재(172) 및 제2도전부재(170b)를 각각 형성해야 하기 때문에, 공정 수가 증가하고, 제조 원가가 상승하는 문제점이 발생한다.The first conductive member 170a and the second conductive member 170b may be made of, for example, a metal material such as silver (Ag), and the conductive connecting member 172 may also be made of a metal material. However, since the first conductive member 170a, the conductive connecting member 172, and the second conductive member 170b must be respectively formed, the number of processes increases and the manufacturing cost increases.

이하, 후술하는 본 발명의 실시예들에 따른 정전기 방지막 및 이를 포함하는 표시장치는, 전술한 문제점을 해결하는 구조를 갖는다. Hereinafter, an antistatic film and a display device including the same according to embodiments of the present invention, which will be described later, have a structure that solves the above-described problems.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 대해 자세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

<제1 실시예><First embodiment>

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이고, 도 3은 도 2의 표시장치의 정면을 나타낸 도면이며, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 정전기 방지막의 평면을 나타낸다.2 is a cross-sectional view of a display device according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a front view of the display device of FIG. 2, and FIG. 4 is a plan view of an antistatic film according to an embodiment of the present invention.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 표시장치(200)는, 하부편광판(210a) 상에 위치하는 표시패널(205), 표시패널(205) 상에 위치하는 상부편광판(210b) 및 표시패널(205)의 상부기판(240)과 상부편광판(210b) 사이에 배치된 정전기 방지막(250)을 포함한다. 2 to 4 , the display device 200 includes a display panel 205 positioned on a lower polarizing plate 210a , an upper polarizing plate 210b positioned on the display panel 205 , and a display panel 205 . ) and an antistatic film 250 disposed between the upper substrate 240 and the upper polarizing plate 210b.

보다 자세하게, 표시패널(205)은, 순차적으로 적층된 하부기판(220), 셀(Cell, 230) 및 상부기판(240)을 포함한다. 여기서, 하부기판(220)은 셀(230)을 구동하는 트랜지스터와 각종 신호배선과 전극이 형성된 어레이 기판(220)일 수 있고, 상부기판(240)은 컬러필터(Color Filter, 미도시) 및 블랙매트릭스(Black Matrix, 미도시)를 컬러필터 기판(240)일 수 있다. 본 명세서에서 하부기판(220)은 어레이 기판(220)과 동일한 의미로 사용될 수 있고, 상부기판(240)은 컬러필터 기판(240)과 동일한 의미로 사용될 수 있다. 하부기판(220) 및 상부기판(240)은, 예를 들어, 글래스(Glass)로 이루질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.In more detail, the display panel 205 includes a lower substrate 220 , a cell 230 , and an upper substrate 240 sequentially stacked. Here, the lower substrate 220 may be an array substrate 220 on which transistors for driving the cells 230 and various signal wirings and electrodes are formed, and the upper substrate 240 includes a color filter (not shown) and black The matrix (Black Matrix, not shown) may be the color filter substrate 240 . In this specification, the lower substrate 220 may be used in the same meaning as the array substrate 220 , and the upper substrate 240 may be used in the same meaning as the color filter substrate 240 . The lower substrate 220 and the upper substrate 240 may be made of, for example, glass, but is not limited thereto.

표시패널(205)은 액정층을 포함하는 액정표시패널(205)이고, 표시장치(200)는 액정표시장치(200)일 수 있다. 다만, 본 명세서에서는 주로 액정표시장치(200)에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 셀(230)은 유기발광표시장치의 유기층일 수도 있다. 표시장치(200)가 액정표시장치(200)인 경우, 셀(230)에는 액정이 포함될 수 있다. 이에 따라 각 기판(220, 240)에 형성된 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정을 움직이게 함으로써 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하게 된다.The display panel 205 may be a liquid crystal display panel 205 including a liquid crystal layer, and the display device 200 may be a liquid crystal display device 200 . However, in this specification, the liquid crystal display 200 is mainly described, but the present invention is not limited thereto. For example, the cell 230 may be an organic layer of an organic light emitting display device. When the display device 200 is the liquid crystal display device 200 , the cell 230 may include liquid crystal. Accordingly, by applying a voltage to the electrodes formed on each of the substrates 220 and 240 to move the liquid crystal by an electric field generated, an image is expressed by the light transmittance that varies accordingly.

셀(230)에는 터치 전극이 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 표시장치(200)는 인셀 타입의 표시장치(200)일 수 있고, 이에 따라 터치 기능을 위한 전극들(Touch Electrodes, TE), 예를 들면, Rx, Tx 전극이 셀(230)에 내장되어 있다. 인셀 터치 방식의 액정표시장치(200)는 액정표시장치(200) 위에 별도의 터치패널을 부착하지 않고 표시패널(205) 내부에 터치 전극을 형성하기 때문에 제품의 슬림화, 재료비 절감으로 인한 원가 구조 개선, 경량화 등의 장점을 갖는다. 예를 들면, 터치 기능을 위한 구조는, 도시되지는 않았지만, 횡전계방식(In-Plane Switching mode, IPS mode)일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A touch electrode may be formed in the cell 230 . As described above, the display device 200 may be an in-cell type display device 200 , and accordingly, electrodes for a touch function (Touch Electrodes, TE), for example, Rx and Tx electrodes, are formed in the cell 230 . ) is built in. Since the in-cell touch type liquid crystal display 200 forms a touch electrode inside the display panel 205 without attaching a separate touch panel on the liquid crystal display 200, the cost structure is improved by slimming the product and reducing material costs. , light weight, etc. For example, although not shown, the structure for the touch function may be an In-Plane Switching mode (IPS mode), but is not limited thereto.

하부편광판(210a) 및 상부편광판(210b)은 광을 편광시켜 액정표시장치(200)의 외부로 출사시키는 기능을 수행한다. 다만, 표시패널(205)에 하부편광판(210a) 및 상부편광판(210b)을 부착할 때, 정전기가 발생될 수 있다. 또한 화상의 표시를 위한 구동 중에도 정전기가 발생되는 문제가 발생할 수 있다.The lower polarizing plate 210a and the upper polarizing plate 210b polarize light and emit it to the outside of the liquid crystal display 200 . However, when the lower polarizing plate 210a and the upper polarizing plate 210b are attached to the display panel 205 , static electricity may be generated. In addition, there may be a problem in that static electricity is generated even during driving for image display.

이러한, 정전기를 제거시키기 위해 정전기 방지막(250)이 배치된다. 정전기 방지막(250)은, 매트릭스(Matrix) 물질(252) 및 매트릭스 물질(252)에 분산되어 있는 탄소나노튜브(Carbon Nano Tube, CNT, 254)를 포함하고, 정전기 방지막(250)의 면저항(Sheet Resistance) 값은 104Ω/□ 내지 109Ω/□ 일 수 있으며, 바람직하게는 107Ω/□ 내지 109Ω/□ 일 수 있다.An antistatic film 250 is disposed to remove static electricity. The antistatic film 250 includes a matrix material 252 and carbon nanotubes (CNTs, 254) dispersed in the matrix material 252 , and the sheet resistance of the antistatic film 250 . Resistance) value may be 10 4 Ω/□ to 10 9 Ω/□, preferably 10 7 Ω/□ to 10 9 Ω/□.

다. 보다 자세하게, 정전기 방지막(250)은 매트릭스 물질(252), 매트릭스 물질에 분산되어 있는 탄소나노튜브(254), 용매 및 분산 첨가제 등을 포함하는 용액이 경화되어 형성될 수 있다. 매트릭스 물질(252)에 분산된 탄소나노튜브(254)를 포함함으로써, 내열성 및 신뢰성이 향상되는 효과를 발생시킨다. 보다 자세한 정전기 방지막(250)의 구성에 대한 설명은 후술하기로 한다. All. In more detail, the antistatic film 250 may be formed by curing a solution including the matrix material 252 , the carbon nanotubes 254 dispersed in the matrix material, a solvent, and a dispersion additive. By including the carbon nanotubes 254 dispersed in the matrix material 252 , heat resistance and reliability are improved. A more detailed description of the configuration of the antistatic film 250 will be described later.

정전기 방지막(250)의 전면에 걸쳐 분산되어 있는 탄소나노튜브(254)는, 탄소와 탄소간에 sp2결합을 이루고 있어서 구조적으로 매우 높은 강성과 강도를 나타내며, 특히, 단일벽 탄소나노튜브(SWCNT)의 경우 영률 5.5 TPa, 인장강도를 45 GPa 까지 확보할 수 있어, 고강도/초경량 복합재료가 될 수 있다.The carbon nanotubes 254 dispersed over the entire surface of the antistatic film 250 have sp 2 bonds between carbon and carbon, and thus exhibit very high rigidity and strength structurally, particularly, single-walled carbon nanotubes (SWCNTs). In the case of , a Young's modulus of 5.5 TPa and tensile strength of up to 45 GPa can be secured, making it a high-strength/ultra-light composite material.

탄소나노튜브(254)의 면저항 값은 1000Ω/□ 내지 20000Ω/□ 일 수 있다. 표시장치(200)가 인셀 터치 방식의 액정표시장치(200)인 경우에 있어서, 정전기 방지막(250)의 면저항 값이 지나치게 작은 경우(104Ω/□ 미만)에는 손가락 등의 터치에 의해 발생되는 전압이 정전기 방지막(250)으로 인해 방전되어 버리게 되고, 이로 인해 터치센서가 터치를 인식할 수 없게 되는 문제점이 발생한다. 따라서 정전기 방지막(250)의 면저항 값을 상승시킬 필요가 있고, 이에 따라 탄소나노튜브(254) 자체의 면저항 값을 증가시켜, 1000Ω/□ 내지 20000Ω/□ 의 면저항 값을 구현할 필요가 있다.The sheet resistance value of the carbon nanotubes 254 may be 1000Ω/□ to 20000Ω/□. In the case where the display device 200 is an in-cell touch type liquid crystal display device 200, when the sheet resistance value of the antistatic film 250 is too small (less than 10 4 Ω/□), The voltage is discharged due to the antistatic film 250 , and this causes a problem in that the touch sensor cannot recognize the touch. Therefore, it is necessary to increase the sheet resistance value of the antistatic film 250, and accordingly, it is necessary to increase the sheet resistance value of the carbon nanotube 254 itself to implement a sheet resistance value of 1000Ω/□ to 20000Ω/□.

탄소나노튜브(254)의 면저항 값이 1000Ω/□ 보다 작은 경우, 정전기 방지막(250)의 면저항 값이 작아지고, 이에 따라 방전으로 인한 터치 감도 저하의 문제점이 발생한다. 반면, 탄소나노튜브(254)의 면저항 값이 20000Ω/□ 보다 큰 경우에는, 정전기 방지막(250)의 면저항 값이 지나치게 커짐으로 인해서, 방전의 효과가 감소하는 문제점이 발생할 수 있다.When the sheet resistance value of the carbon nanotubes 254 is less than 1000 Ω/□, the sheet resistance value of the antistatic film 250 is decreased, and accordingly, a problem of a decrease in touch sensitivity due to discharge occurs. On the other hand, when the sheet resistance value of the carbon nanotubes 254 is greater than 20000Ω/□, the sheet resistance value of the antistatic film 250 is excessively increased, so that the effect of discharging may be reduced.

정전기 방지막(250)에서의 탄소나노튜브(254)의 함량은, 광 투과율에 대한 설계 값에 따라 조절될 수 있다. 탄소나노튜브(254)의 함량이 높아짐에 따라 정전기 방지막(250)의 광 투과율이 감소하기 때문에, 제품에 요구되는 광 투과율에 따라 함량을 조절할 수 있다.The content of the carbon nanotubes 254 in the antistatic film 250 may be adjusted according to a design value for light transmittance. Since the light transmittance of the antistatic film 250 decreases as the content of the carbon nanotubes 254 increases, the content may be adjusted according to the light transmittance required for the product.

한편, 정전기 방지막(250)의 면저항(Sheet Resistance) 값은, 전면에 걸쳐 균일하게 형성되고, 구체적으로 면저항 값은, 104Ω/□ 내지 109Ω/□ 일 수 있으며 바람직하게 107Ω/□ 내지 109Ω/□ 일 수 있다. 표시장치(200)가 인셀 터치 방식의 액정표시장치(200)인 경우에 있어서, 정전기 방지막(250)의 면저항 값이 지나치게 작은 경우(104Ω/□ 미만)에는 손가락 등의 터치에 의해 발생되는 전압이 정전기 방지막(250)으로 인해 방전되어 버리게 되고, 이로 인해 터치센서가 터치를 인식할 수 없게 되는 문제점이 발생한다. 따라서 상대적으로 고저항 값을 갖는 정전기 방지막(250)이 사용되어야 한다. 반면, 정전기 방지막(250)의 면저항 값이 지나치게 큰 경우(109Ω/□ 초과)에는, 터치 감도는 우수하지만 정전기 방전 현상이 늦어서 방전의 효과가 감소하는 문제점이 발생한다.On the other hand, the sheet resistance value of the antistatic film 250 is uniformly formed over the entire surface, and specifically, the sheet resistance value may be 10 4 Ω/□ to 10 9 Ω/□, preferably 10 7 Ω/□. □ to 10 9 Ω/□. In the case where the display device 200 is an in-cell touch type liquid crystal display device 200, when the sheet resistance value of the antistatic film 250 is too small (less than 10 4 Ω/□), The voltage is discharged due to the antistatic film 250 , and this causes a problem in that the touch sensor cannot recognize the touch. Therefore, the antistatic film 250 having a relatively high resistance value should be used. On the other hand, when the sheet resistance of the antistatic layer 250 is excessively large (more than 10 9 Ω/□), although the touch sensitivity is excellent, the electrostatic discharge phenomenon is delayed, so that the effect of the discharge is reduced.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 표시장치(200)의 정전기 방지막(250)의 면저항 값은, 104Ω/□ 내지 109Ω/□ 이어야 하고, 이에 따라 표시장치(200)는, 정전기를 외부로 용이하게 방전시켜 정전기에 의한 불량을 억제하고, 동시에 터치 감도의 저하를 방지하는 효과를 갖는다.Accordingly, the sheet resistance value of the antistatic film 250 of the display device 200 according to the embodiment of the present invention should be in the range of 10 4 Ω/□ to 10 9 Ω/□, and accordingly, the display device 200 reduces static electricity. It has the effect of suppressing defects caused by static electricity by easily discharging to the outside, and at the same time preventing a decrease in touch sensitivity.

한편, 정전기 방지막(250)의 일단은, 도전부재(270)를 통해, 표시패널(205)의 하부기판(220)의 가장자리에 연결된다. 여기서, 도전부재(270)는 정전기 방지막(250)과 표시패널(205)의 하부기판(220)의 금속패드(또는 접지패드, 미도시)를 연결시킨다. 구체적으로, 도전부재(270)는, 정전기 방지막(250)의 외면의 가장자리를 덮고, 연결부(270')를 통해 금속패드(미도시)와 접촉되어 정전기를 기기 외부로 방출시키는 통로 역할을 한다. 도전부재(270)는, 예를 들어, 금, 은 또는 구리 등의 금속 재질로 이루어질 수 있다. Meanwhile, one end of the antistatic layer 250 is connected to the edge of the lower substrate 220 of the display panel 205 through the conductive member 270 . Here, the conductive member 270 connects the antistatic layer 250 and the metal pad (or ground pad, not shown) of the lower substrate 220 of the display panel 205 . Specifically, the conductive member 270 covers the edge of the outer surface of the antistatic film 250 , and comes in contact with a metal pad (not shown) through the connection part 270 ′ to serve as a passage for discharging static electricity to the outside of the device. The conductive member 270 may be made of, for example, a metal material such as gold, silver, or copper.

이러한 도전부재(270)를 도 1에 도시된 일반적인 표시장치(200)의 제1도전부재(170a), 도전성 연결부재(172) 및 제2도전부재(170b)와 비교하면, 단일의 도전부재(270)로 정전기 방출의 기능을 수행하기 때문에, 공정의 수가 줄고, 공정 시간이 단축되어 제조 원가가 절감되는 효과를 발생시킬 수 있다.Comparing this conductive member 270 with the first conductive member 170a, the conductive connection member 172, and the second conductive member 170b of the general display device 200 shown in FIG. 1, a single conductive member ( 270), so the number of processes is reduced and the process time is shortened, thereby reducing the manufacturing cost.

다만, 도 2 및 도 3에 도시된 표시장치(200)의 도전부재(270)의 형상이나 배치 등은, 예를 들어 도시된 것이고, 실시예들은 이에 제한되지 않음에 유의하여야 한다. However, it should be noted that the shape or arrangement of the conductive member 270 of the display device 200 shown in FIGS. 2 and 3 is illustrated, for example, and embodiments are not limited thereto.

<제1 실험예><First Experimental Example>

이하, 첨부된 표와 그래프들을 참조하여, 본 발명의 실시예의 효과를 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying tables and graphs, the effect of the embodiment of the present invention will be described.

도 5a는 실시예에 따른 탄소나노튜브의 면저항에 대한 정전기 방지막의 면저항 값과 면저항 균일도를 나타내는 표이고, 도 5b는 도 5a의 면저항 균일도를 나타내는 그래프이다.5A is a table showing the sheet resistance value and the sheet resistance uniformity of the antistatic film with respect to the sheet resistance of the carbon nanotubes according to the embodiment, and FIG. 5B is a graph showing the sheet resistance uniformity of FIG. 5A .

도 5a를 참조하면, 탄소나노튜브 자체의 면저항 값을 477Ω/□에서 1800Ω/□ 까지 증가시킴에 따라 정전기 방지막의 면저항 균일도(Uniformity)가 17.32% 에서 6.67%로 향상되는 것을 볼 수 있다. 다시 말해서, 정전기 방지막에서의 각 영역별 면저항 값의 편차가 줄어드는 것을 의미한다.Referring to FIG. 5A , it can be seen that the sheet resistance uniformity of the antistatic film is improved from 17.32% to 6.67% as the sheet resistance value of the carbon nanotube itself is increased from 477Ω/□ to 1800Ω/□. In other words, it means that the deviation of the sheet resistance value for each region in the antistatic film is reduced.

전술한 바와 같이, 표시장치가 인셀 방식의 액정표시장치인 경우에 있어서, 터치 감도를 유지하면서 동시에 방전의 기능도 수행하기 위해서는, 정전기 방지막의 면저항 값의 범위가 104Ω/□ 내지 109Ω/□ 이어야 한다.As described above, in the case where the display device is an in-cell type liquid crystal display device, in order to maintain touch sensitivity and simultaneously perform a discharge function, the range of the sheet resistance value of the antistatic film is 10 4 Ω/□ to 10 9 Ω. It should be /□.

다만, 샘플1(Sample 1)의 경우, 면저항 값이 107. 4Ω/□ 내지 1010. 5Ω/□의 편차가 큰 범위에서 형성되어 있고, 샘플2(Sample 2)의 경우에도, 면저항 값이 107.7Ω/□ 내지 1010. 1Ω/□의 편차가 큰 범위에서 형성되어 있는 것을 볼 수 있다. 따라서 샘플1 및 샘플2는 영역별로 면저항의 편차가 크고, 면저항 값이 지나치게 크게 형성된 영역에서는 방전의 기능이 저하되는 문제점이 발생한다.However, in the case of sample 1 (Sample 1), the sheet resistance value is formed in a large range of 10 7.4 Ω/□ to 10 10. 5 Ω / , and in the case of sample 2 (Sample 2), the sheet resistance It can be seen that the value is formed in a large range of 10 7.7 Ω/□ to 10 10. 1 Ω/□. Accordingly, in Sample 1 and Sample 2, the variation of the sheet resistance is large for each region, and the discharge function is deteriorated in the region where the sheet resistance value is excessively large.

반면, 샘플4(Sample 4)에서 볼 수 있듯이, 탄소나노튜브의 자체 면저항 값을 1800Ω/□ 로 형성하면, 면저항 값이 107. 7Ω/□ 내지 108. 8Ω/□로 형성되어, 터치 감도를 유지하면서 동시에 방전의 기능을 수행할 수 있게 된다.On the other hand, as can be seen in Sample 4, when the sheet resistance value of the carbon nanotube is formed as 1800Ω/□, the sheet resistance value is formed from 10 7. 7 Ω/□ to 10 8. 8 Ω/□, It is possible to perform the function of discharging while maintaining the touch sensitivity.

정전기 방지막의 면저항 균일도에 관한 그래프가 도 5b에 도시되어 있다. 샘플1(Sample 1)에서 샘플4(Sample 4)로 가면서, 탄소나노튜브의 자체 저항 값이 상승하고, 이에 따라 면저항 균일도가 개선되는 것을 볼 수 있다.A graph regarding the sheet resistance uniformity of the antistatic film is shown in FIG. 5B . From Sample 1 to Sample 4, it can be seen that the self-resistance value of the carbon nanotube increases, and thus the sheet resistance uniformity is improved.

도 6은 실시예에 따른 탄소나노튜브의 함량에 대한 정전기 방지막의 면저항 값을 나타내는 그래프이다.6 is a graph showing the sheet resistance value of the antistatic film with respect to the content of carbon nanotubes according to the embodiment.

도 6을 참조하면, 제1라인(L1)은 일반적인 표시장치의 정전기 방지막의 면저항 값을 나타낸 것이고, 제2라인(L2)는 실시예에 따른 표시장치의 정전기 방지막의 면저항 값을 나타낸 것이다. 또한 도 6의 표시장치는 인셀 방식의 액정표시장치이다.Referring to FIG. 6 , the first line L1 represents the sheet resistance value of the antistatic layer of the general display device, and the second line L2 represents the sheet resistance value of the antistatic layer of the display device according to the embodiment. Also, the display device of FIG. 6 is an in-cell type liquid crystal display device.

제1라인(L1)에서 A 영역을 검토하면, 터치 감도를 유지하면서 동시에 방전의 기능을 수행할 수 있는 정전기 방지막의 면저항 값인 108Ω/□ 부근에서의 기울기가 매우 급격한 것을 볼 수 있다. 이는 탄소나노튜브의 함량의 미세한 변화에도 정전기 방지막의 면저항 값이 크게 변할 수 있다는 것을 의미하고, 다시 말하면, 면저항 값의 균일도가 상대적으로 낮게 형성된다는 것을 의미한다.Examining region A in the first line L1, it can be seen that the slope is very sharp near the sheet resistance value of the antistatic film, which is the antistatic film, which can perform the function of discharging while maintaining touch sensitivity. This means that the sheet resistance value of the antistatic film can be greatly changed even with a slight change in the content of carbon nanotubes, in other words, the sheet resistance value uniformity is formed to be relatively low.

반면, 제2라인(L2)의 B 영역을 검토하면, 정전기 방지막의 면저항 값이 108Ω/□ 부근일 경우의 기울기가 매우 완만한 것을 볼 수 있다. 이는 탄소나노튜브의 함량에 변화가 있더라도 면저항 값의 균일도가 상대적으로 높기 때문에, 면저항 값의 변화가 미세한 것을 의미한다. 따라서 실시예에 따른 표시장치는, 탄소나노튜브의 함량이 변화하더라도, 터치 감도가 유지되고, 동시에 정전기 방지 기능을 원활하게 수행할 수 있는 효과를 갖는다.On the other hand, examining the B region of the second line L2, it can be seen that the slope of the antistatic film is very gentle when the sheet resistance value is around 10 8 Ω/□. This means that even if there is a change in the content of carbon nanotubes, since the uniformity of the sheet resistance value is relatively high, the change in the sheet resistance value is minute. Accordingly, the display device according to the embodiment maintains the touch sensitivity even when the content of carbon nanotubes is changed, and at the same time has the effect of smoothly performing the antistatic function.

도 7은 일 실시예에 따른 탄소나노튜브의 함량과 면저항 값에 대한 광 투과율을 나타내는 표이다.7 is a table showing light transmittance with respect to a content of carbon nanotubes and a sheet resistance value according to an embodiment.

도 7을 참조하면, 광 투과율의 설계 값에 따른 탄소나노튜브의 함량 및 면저항 값을 볼 수 있다. 구체적으로, 광 투과율 100%가 요구되는 표시장치의 경우에는, 탄소나노튜브가 0.13% 포함되고, 탄소나노튜브의 면저항 값이 1800Ω/□로 설계될 수 있다. 또한 광 투과율이 99% 이상이 요구되는 표시장치의 경우에는, 탄소나노튜브가 0.26% 포함되고, 탄소나노튜브의 면저항 값이 5000Ω/□ 로 설계될 수 있다.Referring to FIG. 7 , the content and sheet resistance value of carbon nanotubes according to the design value of the light transmittance can be seen. Specifically, in the case of a display device requiring 100% light transmittance, 0.13% of carbon nanotubes may be included, and a sheet resistance value of the carbon nanotubes may be designed to be 1800 Ω/□. In addition, in the case of a display device requiring a light transmittance of 99% or more, 0.26% of carbon nanotubes may be included, and a sheet resistance value of the carbon nanotubes may be designed to be 5000Ω/□.

여기서, 도 7에 나타난 바와 같이, 터치 감도가 유지되고, 동시에 방전 기능을 원활하게 수행할 수 있는 정전기 방지막의 면저항 값이 유지된다면, 탄소나노튜브의 함량 및 면저항 값을 조절하여, 광 투과율을 조절할 수 있다는 것을 알 수 있다.Here, as shown in FIG. 7 , if the touch sensitivity is maintained and the sheet resistance value of the antistatic film capable of smoothly performing the discharge function is maintained, the light transmittance is adjusted by adjusting the carbon nanotube content and sheet resistance value. it can be seen that

도 8a는 일반적인 정전기 방지막의 시간에 따른 면저항 값의 변화를 나타내는 그래프이고, 도 8b는 정전기 방지막의, 고온, 고습 환경에서의 면저항 값의 변화를 나타내는 그래프이다.8A is a graph showing a change in the sheet resistance value of a general antistatic film with time, and FIG. 8B is a graph showing a change in the sheet resistance value of the antistatic film in a high temperature and high humidity environment.

도 8a는, 정전기 방지막이 PEDOT:PSS의 도전성 고분자 물질로 이루어지고, 95℃의 환경에서, 시간에 따른 정전기 방지막의 면저항 값의 변화를 나타낸다. 그래프를 참조하면, 시간이 지남에 따라 면저항 값이 계속 증가하는 것을 볼 수 있다. 구체적으로, 초기 면저항 값을 대략 8.5Ω/□로 설정한 경우 9.7Ω/□ 까지 값이 상승하였고, 초기 면저항 값을 대략 8.0Ω/□로 설정한 경우 9.2Ω/□ 까지 값이 상승한 것을 볼 수 있다.FIG. 8A shows the change in sheet resistance of the antistatic film with time in an environment at 95° C. in which the antistatic film is made of a PEDOT:PSS conductive polymer material. Referring to the graph, it can be seen that the sheet resistance value continues to increase over time. Specifically, it can be seen that when the initial sheet resistance value is set to approximately 8.5Ω/□, the value rises to 9.7Ω/□, and when the initial sheet resistance value is set to approximately 8.0Ω/□, the value rises to 9.2Ω/□. have.

반면, 도 8b를 참조하면, 실시예에 따른 정전기 방지막의 경우, 8Ω/□ 정도의 초기 면저항 값을 갖는 정전기 방지막을 105℃에서 1500시간에 걸쳐 노출시켰을 때, 면저항 값의 변화가 거의 없는 것을 알 수 있다. 이는 정전기 방지막을 다습(또는 고습)한 환경에 노출시켰을 경우에도 마찬가지이다.On the other hand, referring to FIG. 8B , in the case of the antistatic film according to the embodiment, when the antistatic film having an initial sheet resistance value of about 8Ω/□ was exposed at 105° C. for 1500 hours, it was found that there was little change in the sheet resistance value. can This is also the case when the antistatic film is exposed to a high humidity (or high humidity) environment.

따라서, 실시예에 따른 정전기 방지막은, 일반적인 정전기 방지막에 비해 내열성 및 신뢰성이 우수한 것을 알 수 있다.Accordingly, it can be seen that the antistatic film according to the embodiment has superior heat resistance and reliability compared to a general antistatic film.

도 9는 일반적인 정전기 방지막의 온도에 따른 중량%와, 실시예에 따른 정전기 방지막의 온도에 따른 중량%를 비교한 그래프이다.9 is a graph comparing the weight % according to the temperature of a general antistatic film and the weight % according to the temperature of the antistatic film according to the embodiment.

도 9를 참조하면, 일반적인 정전기 방지막과 실시예에 따른 정전기 방지막을 열중량 분석기(Thermo Gravimetric Analyzer, TGA)에 의해 분석한 결과를 볼 수 있다. 열중량 분석기는 시료에 열을 가하여 시료의 질량변화를 온도의 함수로써 측정하는 장비이다.Referring to FIG. 9 , results of analysis of the general antistatic film and the antistatic film according to the embodiment by a thermogravimetric analyzer (TGA) can be seen. A thermogravimetric analyzer is a device that measures the change in mass of a sample as a function of temperature by applying heat to the sample.

일반적인 표시장치의 정전기 방지막의 경우, 정전기 방지막에 포함된 전도성 고분자인 PEDOT:PSS는 대략 500℃의 온도에서, 열에 의해 모두 소실된 것을 볼 수 있다. 반면, 실시예에 따른 표시장치에 포함된 정전기 방지막의 경우에는, 탄소나노튜브가 대략 900℃까지 소실되지 않고 잔류하는 것을 볼 수 있다.In the case of an antistatic film of a general display device, it can be seen that PEDOT:PSS, a conductive polymer included in the antistatic film, is all lost by heat at a temperature of approximately 500°C. On the other hand, in the case of the antistatic film included in the display device according to the embodiment, it can be seen that the carbon nanotubes remain without being lost up to about 900°C.

따라서 실시예에 따른 정전기 방지막은, 일반적인 정전기 방지막에 비해 내열성이 우수한 것을 알 수 있다.Therefore, it can be seen that the antistatic film according to the embodiment has excellent heat resistance compared to a general antistatic film.

정리하면, 표시장치가 터치 기능을 포함하는 액정표시장치인 경우, 104Ω/□ 내지 109Ω/□의 면저항 값을 갖고, 전면에 걸쳐 균일한 면저항 값을 갖는 정전기 방지막(250)에 의해, 표시장치는 제조 공정시 발생되는 정전기를 외부로 용이하게 방전시켜 정전기에 의한 불량을 억제하고, 터치 감도의 저하를 방지하며, 면저항 균일도, 내열성 및 신뢰성을 향상시키고, 제조 비용을 절감시키는 효과를 갖는다.In summary, when the display device is a liquid crystal display device including a touch function, it has a sheet resistance value of 10 4 Ω/□ to 10 9 Ω/□, and is formed by the antistatic film 250 having a uniform sheet resistance value over the entire surface. , the display device easily discharges static electricity generated during the manufacturing process to the outside to suppress defects caused by static electricity, prevent a decrease in touch sensitivity, improve sheet resistance uniformity, heat resistance and reliability, and reduce manufacturing costs. have

<제2 실시예><Second embodiment>

이하, 전술한 본 발명의 제1 실시예에 따른 정전기 방지막을 제조하기 위한, 탄소나노튜브 분산액 조성물 이를 포함하는 전도성 코팅액 조성물에 대해 설명한다.Hereinafter, a carbon nanotube dispersion composition for preparing the antistatic film according to the first embodiment of the present invention described above, a conductive coating liquid composition including the same will be described.

도 10은 본 발명의 알콕시실란 화합물의 졸 반응을 나타낸 반응식이다.10 is a reaction scheme showing the sol reaction of the alkoxysilane compound of the present invention.

본 발명은 탄소나노튜브 분산액 조성물 및 이를 포함하는 전도성 코팅액 조성물에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 탄소나노튜브, 폴리아크릴산 수지 및 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올을 포함함으로써, 탄소나노튜브의 분산성 및 분산 후 안정성을 현저히 향상시킬 수 있으며, 실란졸과 함께 전도성 코팅액 조성물에 사용되어, 화학적 안정성 및 전기전도도가 뛰어난 코팅막을 형성시킬 수 있고, 형성된 코팅막의 균일성도 향상시킬 수 있다. The present invention relates to a carbon nanotube dispersion composition and a conductive coating liquid composition comprising the same, and more specifically, to a carbon nanotube dispersion composition comprising the same, and more particularly, by including carbon nanotubes, polyacrylic acid resin, and a straight-chain alkanol having 2 to 5 carbon atoms. Stability after acidity and dispersion can be significantly improved, and when used in a conductive coating liquid composition together with silane sol, a coating film having excellent chemical stability and electrical conductivity can be formed, and the uniformity of the formed coating film can be improved.

<탄소나노튜브 분산액 조성물><Carbon nanotube dispersion composition>

본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액 조성물은 탄소나노튜브, 폴리아크릴산 수지 및 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올을 포함한다.The carbon nanotube dispersion composition according to the present invention includes carbon nanotubes, a polyacrylic acid resin, and a linear alkanol having 2 to 5 carbon atoms.

탄소나노튜브carbon nanotube

탄소나노튜브는 전도성이 뛰어난 물질로서, 이를 포함하여 코팅막을 형성하는 경우, 우수한 전기전도도를 나타낼 뿐 아니라, 기계적 강도도 확보할 수 있어 표시장치 등의 전자 제품에 전도성층, 정전기 방지막 등에 다양하게 적용될 수 있다. Carbon nanotube is a material with excellent conductivity, and when a coating film is formed with it, not only exhibits excellent electrical conductivity, but also mechanical strength can be secured, so it can be variously applied to conductive layers, antistatic films, etc. in electronic products such as display devices. can

상기 탄소나노튜브(CNT)는 통상의 아크(arc) 방전법, 레이저 증착법, 플라즈마 화학기상증착법, 기상 합성법, 열분해법 등과 같은 방법으로 제조된 후 열처리된 것일 수 있다. 위 합성법에 의해 제조된 생성물에는 합성된 탄소나노튜브와 함께 비정질 탄소 또는 결정성 흑연 입자와 같은 탄소 불순물과 촉매 전이금속 입자 등이 존재한다. 예컨대, 아크 방전법으로 제조되는 경우 생성물 100중량% 중에 탄소나노튜브 15 내지 30중량%, 탄소 불순물 45 내지 70중량% 및 촉매 전이금속 입자 5 내지 25중량%가 포함된다. 이와 같이 불순물이 함유된 탄소나노튜브를 정제과정 없이 사용하는 경우, 함침액의 분산성과 코팅성이 저하되고 탄소나노튜브 고유의 독특한 물성이 제대로 발현되기 어렵다. 따라서, 본 발명에서는 아크 방전법으로 제조된 생성물을 열처리하여 불순물을 최대한 제거시킨 탄소나노튜브를 사용한다.The carbon nanotubes (CNTs) may be manufactured by a conventional arc discharge method, a laser deposition method, a plasma chemical vapor deposition method, a vapor phase synthesis method, a thermal decomposition method, and the like, and then heat-treated. In the product prepared by the above synthesis method, carbon impurities such as amorphous carbon or crystalline graphite particles and catalyst transition metal particles are present together with the synthesized carbon nanotubes. For example, when manufactured by an arc discharge method, 15 to 30% by weight of carbon nanotubes, 45 to 70% by weight of carbon impurities, and 5 to 25% by weight of catalytic transition metal particles are included in 100% by weight of the product. When the carbon nanotubes containing impurities are used without a purification process as described above, the dispersibility and coating properties of the impregnating liquid are deteriorated, and it is difficult to properly express the unique properties of the carbon nanotubes. Therefore, in the present invention, carbon nanotubes in which impurities are removed as much as possible by heat treatment of a product manufactured by an arc discharge method are used.

구체적으로, 위 합성법에 의해 제조된 생성물을 시트 또는 평균직경이 2 내지 5㎜인 과립 형상으로 만든 후 진행방향(수평 기준)에 대하여 아래쪽으로 1 내지 5°각도로 경사진 회전성 반응기에 투입하고, 회전성 반응기를 350 내지 500℃로 가열하면서 산화성 가스를 위 투입된 생성물 1g에 대하여 200 내지 500㏄/분의 속도로 공급하여 60 내지 150분 동안 열처리한다. 이때, 경사진 회전성 반응기가 5 내지 20rpm의 속도로 회전함으로써 생성물이 분산되면서 접촉 표면적이 최대화되는 동시에 자동적으로 진행방향으로 이동하여 산화성 가스와의 접촉 표면적이 최대화되고 국부적인 산화가 방지된 상태로 열처리된다. 이 방법에 의하면, 투입된 생성물의 무게가 60 내지 85% 감소되어 고순도의 탄소나노튜브가 수득된다.Specifically, the product prepared by the above synthesis method is made in the form of a sheet or granules having an average diameter of 2 to 5 mm, and then put into a rotary reactor inclined at an angle of 1 to 5 ° downward with respect to the progress direction (horizontal basis), and , while heating the rotary reactor to 350 to 500 ℃ oxidizing gas is supplied at a rate of 200 to 500 cc / min with respect to 1 g of the above-injected product, and heat treatment is performed for 60 to 150 minutes. At this time, by rotating the inclined rotary reactor at a speed of 5 to 20 rpm, the product is dispersed and the contact surface area is maximized, and at the same time, it automatically moves in the moving direction to maximize the contact surface area with the oxidizing gas and to prevent local oxidation. heat-treated According to this method, the weight of the input product is reduced by 60 to 85%, thereby obtaining high-purity carbon nanotubes.

탄소나노튜브는 총 100중량% 중에 탄소 불순물이 40중량% 이하, 보다 바람직하게는 25중량% 이하로 포함된 것이 분산성과 안정성뿐만 아니라 전도성 확보에 있어서 좋다.Carbon nanotubes containing 40 wt% or less, more preferably 25 wt% or less, of carbon impurities in a total of 100 wt% are good for dispersibility and stability as well as securing conductivity.

탄소나노튜브는 단일벽 탄소나노튜브, 이중벽 탄소나노튜브 또는 다중벽 탄소나노튜브일 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있으며, 후술하는 다른 성분들과의 상호작용 향상 측면에서 단일벽 탄소나노튜브가 보다 바람직하다.The carbon nanotubes may be single-walled carbon nanotubes, double-walled carbon nanotubes, or multi-walled carbon nanotubes, which may be used alone or in combination of two or more, and single-walled carbon nanotubes in terms of improving interaction with other components to be described later Carbon nanotubes are more preferable.

본 발명에 따른 탄소나노튜브의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 분산액 조성물 총 중량에 대하여, 예를 들면, 0.05 내지 20중량%일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 1중량%일 수 있다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 우수한 분산성을 나타낼 수 있으며, 코팅막으로 형성시 코팅막의 전기전도도, 내스크래치성, 투과도가 확보에 용이하다.The content of the carbon nanotubes according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, from 0.05 to 20% by weight, preferably from 0.1 to 10% by weight, more preferably from 0.1 to 20% by weight, based on the total weight of the dispersion composition. It may be 1% by weight. When included in the above content range, excellent dispersibility may be exhibited, and it is easy to secure electrical conductivity, scratch resistance, and transmittance of the coating film when formed into a coating film.

폴리아크릴산polyacrylic acid 수지 Suzy

본 발명에 따른 폴리아크릴산 수지는 탄소나노튜브를 효과적으로 분산시키기 위한 분산제 역할을 수행하는 성분이다. 폴리아크릴산 수지는 후술하는 특정 분산매에 잘 용해되며, 소수성인 탄소나노튜브와 잘 결합될 수 있다. 또한 탄소나노튜브 가닥과 가닥 사이에 정전기적 반발력과 고분자 사슬 고유 특성에 의한 입체적 장애 효과를 통해 탄소나노튜브의 분산성을 향상시키고, 재응집을 막을 수 있다. The polyacrylic acid resin according to the present invention is a component serving as a dispersing agent for effectively dispersing carbon nanotubes. The polyacrylic acid resin is well soluble in a specific dispersion medium to be described later, and can be well combined with hydrophobic carbon nanotubes. In addition, the dispersibility of carbon nanotubes can be improved and re-aggregation can be prevented through the electrostatic repulsion between the carbon nanotube strands and the steric hindrance effect due to the intrinsic properties of the polymer chain.

본 발명에 따른 폴리아크릴산 수지의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 분산액 조성물 총 중량에 대하여, 0.02 내지 40중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.05내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 1중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 조성물 내에서 적정 범위로 용해된 상태로 존재함으로써, 탄소나노튜브를 분산시키기 위한 활성도가 현저히 향상될 수 있다.The content of the polyacrylic acid resin according to the present invention is not particularly limited, but may be included in an amount of 0.02 to 40% by weight, preferably 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight, based on the total weight of the dispersion composition. may be included as When included in the above content range, by being dissolved in an appropriate range in the composition, the activity for dispersing the carbon nanotubes can be significantly improved.

본 발명에 따른 폴리아크릴산 수지의 중량평균분자량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 2,000 내지 3,000,000일 수 있으며, 바람직하게는 8,000 내지 12,000일 수 있다. 상기 범위의 중량평균분자량을 가지는 경우, 탄소나노튜브의 가닥과 가닥 사이에 침투하기 용이하며 재응집에 적합한 입체적 장애 효과를 가질 수 있다. 또한, 분산액 조성물 내에서 분산매에 잘 용해된 상태로 존재할 수 있어서 탄소나노튜브를 효과적으로 분산시킬 수 있다.The weight average molecular weight of the polyacrylic acid resin according to the present invention is not particularly limited, but may be, for example, 2,000 to 3,000,000, preferably 8,000 to 12,000. When it has a weight average molecular weight in the above range, it is easy to penetrate between the strands of carbon nanotubes and may have a steric hindrance effect suitable for re-aggregation. In addition, in the dispersion composition, the carbon nanotubes can be effectively dispersed because they can exist in a well-dissolved state in the dispersion medium.

본 발명의 분산액 조성물은 미량의 물을 포함할 수 있는 바, 상기 폴리아크릴산 수지는 물에 용해 또는 유화된 형태로 분산액에 포함될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The dispersion composition of the present invention may contain a small amount of water, and the polyacrylic acid resin may be included in the dispersion in the form of being dissolved or emulsified in water, but is not limited thereto.

탄소수carbon number 2 내지 5의 2 to 5 직쇄의straight chain 알칸올alkanol

본 발명에 따른 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올은 탄소나노튜브를 효과적으로 분산시키기 위한 분산매로서, 또한 친수성 알코올계 용매로서 전술한 폴리아크릴산 수지와 상호작용으로 탄소나노튜브의 분산 안정성을 현저히 향상시킬 수 있다. 분산매로서 직쇄가 아닌 분지쇄의 알칸올을 사용하는 경우 폴리아크릴산 수지의 분산매에 대한 용해도 및 안정성이 현저하게 저하되어 분산 안정성을 적정 범위로 유지하기 어려우나 이에 한정되어 해석되어서는 안 된다.The straight-chain alkanol having 2 to 5 carbon atoms according to the present invention is a dispersion medium for effectively dispersing carbon nanotubes, and as a hydrophilic alcohol solvent, it interacts with the polyacrylic acid resin described above to significantly improve the dispersion stability of carbon nanotubes. can In the case of using a branched chain alkanol rather than a straight chain as a dispersion medium, the solubility and stability of the polyacrylic acid resin in the dispersion medium are remarkably reduced, making it difficult to maintain the dispersion stability in an appropriate range, but it should not be interpreted as being limited thereto.

본 발명에 따른 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올의 구체적인 예로는, 에탄올, n-프로판올, n-부탄올, n-펜탄올 등을 들 수 있으며, 바람직하게는 에탄올, n-프로판올, n-부탄올 및 n-펜탄올 중 적어도 하나를 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 n-프로판올을 들 수 있다.Specific examples of the linear alkanol having 2 to 5 carbon atoms according to the present invention include ethanol, n-propanol, n-butanol, n-pentanol, and the like, and preferably ethanol, n-propanol, n-butanol. and at least one of n-pentanol, more preferably n-propanol.

본 발명에 따른 알칸올의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 조성물 총 중량에 대하여, 50 내지 99.93중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 80 내지 99중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내로 포함되는 경우, 분산액의 점도를 낮게 유지할 수 있어, 탄소나노튜브의 분산 안정성을 더욱 향상시킬 수 있으며, 코팅막에 적용시 바인더 성분과 효과적으로 혼합시킬 수 있다. The content of the alkanol according to the present invention is not particularly limited, but, for example, may be included in an amount of 50 to 99.93% by weight, preferably 80 to 99% by weight, based on the total weight of the composition. When included within the above range, the viscosity of the dispersion can be kept low, the dispersion stability of the carbon nanotubes can be further improved, and when applied to the coating film, it can be effectively mixed with the binder component.

추가 분산제additional dispersant

본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액 조성물은 필요에 따라 추가 분산제를 더 포함할 수 있으며, 추가 분산제의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 아크릴계 블록 공중합체 분산제일 수 있다.The carbon nanotube dispersion composition according to the present invention may further include an additional dispersant if necessary, and the type of the additional dispersant is not particularly limited, but may be, for example, an acrylic block copolymer dispersant.

본 발명에서 아크릴계 블록 공중합체란, 서로 다른 아크릴계 단량체가 중합 반응을 하여, 각각 블록을 이룬 공중합체로서, 각각의 단위체가 A와 B인 경우, AAAAAABBBBBB로 형성된 공중합체를 의미한다. 상기 아크릴계 블록 공중합체 분산제는 공중합체 내의 카보닐기 극성 분리에 의해 분산 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다. 또한, 바람직하게는 아크릴계 블록 공중합체는 각각의 단위체에 아민기, 카르복실기 등의 작용기가 적어도 하나 포함될 수 있으며, 상기 치환기를 함유하는 단위체의 함량을 조절함으로써, 친수성 및 소수성 성분비를 조절하여, 탄소나노튜브의 분산성을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 아크릴계 공중합체 분산제의 시판되는 구체적인 예로는 BYK사의 DISPERBYK 2001 또는 DISPERBYK 2155의 고분자 분산제 등을 들 수 있다.In the present invention, the acrylic block copolymer refers to a copolymer formed by a polymerization reaction of different acrylic monomers to form a block, and when each unit is A and B, it means a copolymer formed of AAAAAABBBBBB. The acrylic block copolymer dispersant may further improve dispersion stability by separation of polarity of carbonyl groups in the copolymer. In addition, preferably, in the acrylic block copolymer, at least one functional group such as an amine group or a carboxyl group may be included in each unit, and by controlling the content of the unit containing the substituent, the hydrophilicity and hydrophobic component ratio are adjusted, so that carbon nano The dispersibility of the tube can be further improved. Specific commercially available examples of the acrylic copolymer dispersant include a polymer dispersant of DISPERBYK 2001 or DISPERBYK 2155 manufactured by BYK.

추가 분산제의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 조성물 총 중량에 대하여, 0.1 내지 2중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.5 내지 1중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 내로 포함되는 경우, 추가 분산제 사용에 의한 내스크래치성 저하 및 점도 증가를 방지할 수 있으며 효과적으로 분산 안정성을 유지 할 수 있다.The content of the additional dispersant is not particularly limited, but may be included in an amount of 0.1 to 2% by weight, preferably 0.5 to 1% by weight, based on the total weight of the composition. When included within the above range, it is possible to prevent a decrease in scratch resistance and an increase in viscosity due to the use of an additional dispersant, and effectively maintain dispersion stability.

본 발명에 따른 탄소나노튜브 분산액 조성물은 필요에 따라 미량의 물을 더 포함할 수 있다. 물은 전술한 성분의 용해성 및 분산성 향상을 위해 사용될 수 있으며, 예를 들면, 폴리아크릴산 수지의 분산 활성도를 향상시키기 위한 용매로 사용될 수 있으나, 이에 특별히 한정되는 것은 아니다.The carbon nanotube dispersion composition according to the present invention may further include a trace amount of water if necessary. Water may be used to improve the solubility and dispersibility of the above-described components, for example, may be used as a solvent for improving the dispersion activity of the polyacrylic acid resin, but is not particularly limited thereto.

<탄소나노튜브 분산액 조성물의 제조방법><Method for producing carbon nanotube dispersion composition>

전술한 성분을 포함하는 탄소나노튜브 분산액 조성물의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다. A method for preparing a carbon nanotube dispersion composition including the above-described components will be described as follows.

먼저, 탄소나노튜브, 폴리아크릴산 수지 및 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올을 혼합한다. 폴리아크릴산 수지는 혼합 전에 미리 수용핵 형태로 제조되어 사용될 수 있으며, 수용액의 농도는 특별히 한정되지 않으나, 폴리아크릴산 수지의 고형분 함량이 탄소나노튜브 분산액 조성물 총 함량에 대하여 0.02 내지 40%로 포함되는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 20 내지 30중량%로 포함될 수 있다. 상기 탄소나노튜브 분산액 조성물의 각 성분의 구체적인 종류 혼합 함량 역시 전술한 바와 같다.First, a carbon nanotube, a polyacrylic acid resin, and a linear alkanol having 2 to 5 carbon atoms are mixed. The polyacrylic acid resin may be prepared and used in the form of a receiving nucleus before mixing, and the concentration of the aqueous solution is not particularly limited, but the solid content of the polyacrylic acid resin is 0.02 to 40% with respect to the total content of the carbon nanotube dispersion composition. good, and more preferably 20 to 30% by weight. Specific types and mixing contents of each component of the carbon nanotube dispersion composition are also the same as described above.

다음으로, 탄소나노튜브 분산액 조성물의 각 성분들을 혼합한 후, 1000 내지 1800bar로 고압 분산을 수행한다. 1000 내지 1800bar의 고압하에서 분산을 수행하는 경우, 적정 전단응력으로 탄소나노튜브를 충돌시킬 수 있으며, 이에 따라, 탄소나노튜브의 가닥 가닥을 효과적으로 분산시킬 수 있어, 조성물 내에서 탄소나노튜브의 응집 없이 고르게 분산되어, 폴리아크릴산 수지 및 알칸올과의 상호작용이 효과적으로 수행될 수 있다.Next, after mixing each component of the carbon nanotube dispersion composition, high-pressure dispersion is performed at 1000 to 1800 bar. When the dispersion is performed under a high pressure of 1000 to 1800 bar, the carbon nanotubes can collide with an appropriate shear stress, and thus, the strands of the carbon nanotubes can be effectively dispersed, without aggregation of the carbon nanotubes in the composition. Evenly dispersed, the interaction with the polyacrylic acid resin and the alkanol can be effectively performed.

분산시 압력이 1000bar 미만인 경우, 탄소나노튜브에 전달되는 에너지가 낮아 분산 효과가 현저히 저하될 수 있으며, 1800bar를 초과하는 경우, 폴리아크릴산 수지가 너무 높은 에너지에 의해 고분자 사슬이 끊어져 입체적 장애 효과가 떨어져 분산 안정성이 떨어지는 문제가 발생할 수 있다. 상기 분안 압력은 더욱 바람직하게는 1200 내지 1600bar로 수행할 수 있으며, 이 경우, 전술한 효과가 더욱 향상될 수 있다.If the pressure during dispersion is less than 1000 bar, the energy delivered to the carbon nanotubes is low, so the dispersion effect may be significantly reduced. A problem of poor dispersion stability may occur. The injection pressure may be more preferably 1200 to 1600 bar, and in this case, the above-described effect may be further improved.

상기 분산은 소정 입경의 노즐로 조성물을 전술한 압력 범위로 분사하여 수행될 수 있으며, 이때, 조성물이 분사되는 노즐의 직경은 50㎛내지 400㎛일 수 있으며, 바람직하게는 80㎛내지 200㎛일 수 있다. 또한, 상기 분산은 크기가 다른 노즐을 직렬 연결하여 동시에 수행하거나 각각의 노즐을 이용하여 두번에 걸쳐서 별도 수행할 수 있다. The dispersion may be performed by spraying the composition in the above-mentioned pressure range with a nozzle of a predetermined particle diameter, in this case, the diameter of the nozzle to which the composition is sprayed may be 50 μm to 400 μm, preferably 80 μm to 200 μm. can In addition, the dispersion may be performed simultaneously by connecting nozzles of different sizes in series or separately performed twice using each nozzle.

상기 범위의 노즐을 사용하는 경우, 전술한 바와 같이 1,000bar내지 1,800bar의 고압으로 공정을 용이하게 수행할 수 있어, 효과적으로 분산이 이루어질 수 있게 한다. When using the nozzle in the above range, as described above, the process can be easily performed at a high pressure of 1,000 bar to 1,800 bar, so that dispersion can be made effectively.

노즐의 구경은 및 유량은 상기 압력 범위에 적합하게, 적정 범위로 선택될 수 있다.The diameter and flow rate of the nozzle may be selected in an appropriate range to suit the pressure range.

또한, 상기 고압 분산 공정 전에 교반 공정을 더 수행할 수도 있으며, 이 경우, 조성물의 혼합을 최적화하여 고압 분산 공정 효율성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, a stirring process may be further performed before the high-pressure dispersion process, and in this case, the mixing of the composition may be optimized to further improve the high-pressure dispersion process efficiency.

<전도성 코팅액 조성물><Conductive coating solution composition>

이하, 전술한 탄소나노튜브 분산액 조성물 100중량부에 대하여, 실란졸 10 내지 100중량부를 포함하는 전도성 코팅액 조성물에 대해 설명한다. Hereinafter, with respect to 100 parts by weight of the aforementioned carbon nanotube dispersion composition, a conductive coating composition comprising 10 to 100 parts by weight of silane sol will be described.

탄소나노튜브 분산액 조성물Carbon nanotube dispersion composition

상기 탄소나노튜브 분산액 조성물은 전술한 성분 및 함량이 동일하게 적용될 수 있으며, 전술한 바와 같이, 고압 분산에 의해 제조된 것을 사용할 수 있다.The carbon nanotube dispersion composition may have the same components and contents as described above, and as described above, one prepared by high-pressure dispersion may be used.

실란졸Silanzole

본 발명에 따른 실란졸은 코팅액 조성물에서 바인더 역할을 수행하는 것으로서, 알콕시실란 화합물, 산촉매, 알코올계 용매 및 물을 포함할 수 있다.The silane sol according to the present invention serves as a binder in the coating solution composition, and may include an alkoxysilane compound, an acid catalyst, an alcohol-based solvent, and water.

알콕시실란alkoxysilane 화합물 compound

본 발명에 따른 알콕시실란 화합물은 바인더 수지로서, 그 종류는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 테트라에톡시실란, 테트라메톡시실란, 테트라-n-프로폭시실란 등의 테트라알콕시실란 화합물; 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 프로필트리메톡시실란, 프로필트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 옥틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시데실트리메톡시실란 등의 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 분지쇄인 알킬기의 알킬알콕시실란; 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리프로폭시실란, 페닐트리부톡시실란; 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노에틸-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-(n-부틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란; 디메틸디메톡시실란, 디에틸디에톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 3-머캡토프로필트리메톡시실란; 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라히드로옥틸프리에톡시실란, 트리플루오로프로필트리메톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리메톡시실란, 헵타데카플루오로데실트리이소프로폭시실란 등의 플루오로알킬실란 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The alkoxysilane compound according to the present invention is a binder resin, and the type thereof is not particularly limited. For example, tetraalkoxysilane compounds such as tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, tetra-n-propoxysilane; Methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, isobutylt substituted or unsubstituted linear or branched alkyl alkoxysilanes such as ethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, octyltrimethoxysilane and methacryloxydecyltrimethoxysilane; phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, phenyltributoxysilane; 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-(n-butyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane; Dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-mer captopropyltrimethoxysilane; Tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctylpreethoxysilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, heptadecafluorodecyltriisopropoxysilane, etc. of fluoroalkylsilane, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

이 중에서, 알킬기의 탄소수가 1 내지 20인 알킬알콕시실란 화합물이 가장 바람직하며, 더욱 바람직하게는 테트라에톡시실란 화합물을 사용할 수 있다. Among them, an alkylalkoxysilane compound having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group is most preferable, and more preferably, a tetraethoxysilane compound may be used.

본 발명에 따른 알콕시실란 화합물의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 실란졸 총 중량에 대하여, 20 내지 60중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 30 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 졸-겔 반응이 잘 일어나, 얻어진 실란졸의 물성이 좋고, 밀착성이 뛰어나 코팅막 형성에 용이하며, 특히, 유리 기판에 코팅시 더욱 적합하다.The content of the alkoxysilane compound according to the present invention is not particularly limited, but may be included in an amount of 20 to 60% by weight, preferably 30 to 50% by weight, based on the total weight of the silane sol. When included in the above content range, the sol-gel reaction occurs well, the obtained silane sol has good physical properties, excellent adhesion, and easy to form a coating film, and is particularly suitable for coating on a glass substrate.

산촉매acid catalyst

본 발명에 따른 산촉매는 물과 알콕사 실란의 가수분해를 촉진시키며 적정 가교도를 부여하기 위한 것으로서, 그 종류는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 염산, 황산, 인산, 질산, 초산, 희석된 플루오르화 수소산 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 사용되는 산촉매는 혼합시 수용액 형태로 포함될 수 있다.The acid catalyst according to the present invention promotes hydrolysis of water and alkoxa silane and is for imparting an appropriate degree of crosslinking, and the type is not particularly limited, but for example, hydrochloric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, acetic acid, diluted fluorine and hydrochloric acid, and these may be used alone or in a mixture of two or more, and the acid catalyst used may be included in the form of an aqueous solution upon mixing.

본 발명에 따른 산촉매의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 실란졸 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 0.05 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 적정 가교도로 코팅막을 형성할 수 있게 된다.The content of the acid catalyst according to the present invention is not particularly limited, but may be included in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 5% by weight, based on the total weight of the silane sol. When included in the above content range, it is possible to form a coating film with an appropriate degree of crosslinking.

알코올계 용매alcohol solvent

본 발명에 따른 알코올계 용매의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 탄소나노튜브 분산액과의 상용성 측면에서 친수성 알코올계 용매를 사용하는 것이 좋으며, 예를 들면, 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부탄올, 이소부탄올, sec-부탄올, tert-부탄올, n-아밀알코올, 이소아밀알코올, sec-아밀알코올, tert-아밀알코올, 1-에틸-1-프로판올, 2-메틸-1-부탄올, n-헥산올 또는 시클로헥산올 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서, 탄소나노튜브 분산액과의 안정성 향상 측면에서, 에탄올, n-부탄올, n-프로판올, n-펜탄올 등이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 n-프로판올을 사용할 수 있다. The type of the alcohol-based solvent according to the present invention is not particularly limited, but it is preferable to use a hydrophilic alcohol-based solvent in terms of compatibility with the carbon nanotube dispersion, for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n -Butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec-amyl alcohol, tert-amyl alcohol, 1-ethyl-1-propanol, 2-methyl-1-butanol, n -hexanol, cyclohexanol, etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among them, ethanol, n-butanol, n-propanol, n-pentanol, etc. are preferable from the viewpoint of improving stability with the carbon nanotube dispersion, and more preferably n-propanol can be used.

본 발명에 따른 알코올계 용매의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 실란졸 총 중량에 대하여, 10 내지 70중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 20 내지 50중량%인 것이 좋다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 졸-겔 반응의 반응성을 더욱 향상시킬 수 있다.The content of the alcohol-based solvent according to the present invention is not particularly limited, but may be included in an amount of 10 to 70% by weight, preferably 20 to 50% by weight, based on the total weight of the silane sol. When included in the above content range, the reactivity of the sol-gel reaction may be further improved.

water

본 발명에 따른 물은 알콕시 실란과 가수분해 반응을 하는 성분으로, 그 함량은 특별히 한정되지 않으나, 실란졸 총 중량에 대하여, 5 내지 60중량%로 포함될 수 있으며, 바람직하게는 8 내지 35중량%인 것이 좋다. 상기 함량 범위로 포함되는 경우, 충분한 가수분해가 이뤄져 기재에 우수한 밀착력을 가질 수 있다.Water according to the present invention is a component that undergoes a hydrolysis reaction with an alkoxysilane, and its content is not particularly limited, but may be included in an amount of 5 to 60% by weight, preferably 8 to 35% by weight, based on the total weight of the silane sol. it is good to be When included in the above content range, sufficient hydrolysis may be made to have excellent adhesion to the substrate.

첨가제additive

본 발명에 따른 전도성 코팅액 조성물은 전술한 탄소나노튜브 분산액 및 실란졸 외에 필요에 따라 첨가제를 더 포함할 수 있다.The conductive coating liquid composition according to the present invention may further include an additive, if necessary, in addition to the carbon nanotube dispersion and silane sol described above.

사용 가능한 첨가제로는, 분산제, 실란 커플링제, 레벨링제, 슬립제, 계면활성제, pH 조절제, 지건제, 점도 조절제 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 이들은 단독으로 또는 2종이상 혼합되어 사용될 수 있다.The usable additives include, but are not limited to, a dispersant, a silane coupling agent, a leveling agent, a slip agent, a surfactant, a pH adjuster, a drying agent, a viscosity adjuster, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. can be used

보다 구체적인 예로, 코팅막의 슬립성 향상을 위해 슬립제를 더 포함할 수 있으며, 상기 슬립제의 종류는 특별히 한정되지 않으나, 시판되는 예로서 BYK사의 BKY 333을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 전술한 BYK 2001의 분산제가 더 사용될 수도 있다.As a more specific example, a slip agent may be further included to improve the slip property of the coating film, and the type of the slip agent is not particularly limited, but a commercially available example may include BYK's BKY 333, but is not limited thereto. In addition, the dispersant of BYK 2001 described above may be further used.

또한, 에틸렌 글리콜 또는 디메틸포름아마이드, 1- 메틸 -2- 피롤리돈등의 극성용매는 분산액내에서 탄소나노튜브를 둘러싼 폴리아크릴산수지의 카르복실기에 의한 반발력을 높여 분산성을 극대화 시키며 이를 통해 코팅막 상태의 전도성 필러인 탄소나노튜브의 산포를 좋게하여 전기 전도성을 향상시킨다. 또한 이들은 코팅시에 적정 점도를 확보하는데 도움이 되고, 코팅시 건조 속도를 적정 범위로 조절하여 균일한 코팅막을 구현할 수 있다. 또한, 에틸렌글리콜, 디메틸포름아마이드, 1- 메틸 -2- 피롤리돈이 가지는 고유의 유전율로 전도성을 더욱 향상시킬 수 있어, 저저항의 코팅막을 구현하는데 보다 적합하다.In addition, polar solvents such as ethylene glycol, dimethylformamide, and 1-methyl-2-pyrrolidone maximize dispersibility by increasing the repulsive force of the carboxyl group of the polyacrylic acid resin surrounding the carbon nanotubes in the dispersion, and through this, the state of the coating film It improves the electrical conductivity by improving the dispersion of carbon nanotubes, which are conductive fillers. In addition, they help to secure an appropriate viscosity during coating, and a uniform coating film can be realized by controlling the drying rate during coating to an appropriate range. In addition, the intrinsic dielectric constant of ethylene glycol, dimethylformamide, and 1-methyl-2-pyrrolidone can further improve conductivity, which is more suitable for implementing a low-resistance coating film.

상기 추가 첨가제들은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용될 수 있으며, 그 함량은 특별히 한정되지 않으나, 전도성 코팅액 조성물 총 중량에 대하여, 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.1 내지 5중량%로 포함될 수 있으며, 상기 범위로 포함되는 경우, 본 발명의 효과를 저해하지 않고, 전술한 첨가제의 고유의 효과를 구현할 수 있다.The additional additives may be used alone or in mixture of two or more types, and the content thereof is not particularly limited, but may be included in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, based on the total weight of the conductive coating solution composition. , when included in the above range, it is possible to implement the inherent effects of the above-described additives without impairing the effects of the present invention.

실란졸의 제조Preparation of Silansol

본 발명에 따른 실란졸은 전술한 성분들을 소정 조건에서 반응시킴으로써 제조될 수 있다. 전술한 성분들 즉 알콕시실란 화합물, 알코올계 용매, 산촉매, 물, 첨가제 등을 혼합한 후, 소정 조건에서 반응시키면 알콕시실란 화합물 예를 들어 TESO는 알코올계 용매에서 졸(sol) 반응을 한다. The silane sol according to the present invention can be prepared by reacting the above-mentioned components under predetermined conditions. After mixing the above-mentioned components, that is, an alkoxysilane compound, an alcohol-based solvent, an acid catalyst, water, an additive, and the like, and reacting under a predetermined condition, the alkoxysilane compound, for example, TESO, undergoes a sol reaction in an alcohol-based solvent.

도 10을 참조하면, TESO의 졸 반응 시 가수분해와 축합 반응이 일어나고, 가수분해 반응에서 에탄올이 생성되고 축합 반응에서 물이 생성된다. TEOS의 졸 반응은 용매의 극성도에 따라 반응 속도가 빨라진다. 즉, 용매의 극성도가 높으면 반응 속도가 빨라지고 낮으면 반응속도가 느려진다. 여기서, TEOS가 졸 상태로 있어야 안정성이 유지될 수 있으나, 졸 반응 속도가 빠르면 겔화(gelation)가 진행되어 코팅이 어려워진다. 에탄올은 극성도가 5.9로 극성도가 높기 때문에 용매의 극성도가 높아지게 된다. 전도성 코팅액 조성물에 분산된 탄소나노튜브는 소수성을 가지고 있어 극성 용매에 분산이 어렵다. TEOS의 졸 반응시 생성되는 에탄올로 인해 탄소나노튜브의 분산 특성이 떨어지게 된다.Referring to FIG. 10 , hydrolysis and condensation reactions occur during the sol reaction of TESO, ethanol is generated in the hydrolysis reaction, and water is generated in the condensation reaction. The sol reaction of TEOS is accelerated according to the polarity of the solvent. That is, when the polarity of the solvent is high, the reaction rate is increased, and when the polarity of the solvent is low, the reaction rate is slowed. Here, stability can be maintained only when the TEOS is in a sol state, but if the sol reaction rate is fast, gelation proceeds and coating becomes difficult. Since ethanol has a high polarity of 5.9, the polarity of the solvent increases. The carbon nanotubes dispersed in the conductive coating liquid composition have hydrophobicity and are difficult to disperse in a polar solvent. Due to the ethanol generated during the sol reaction of TEOS, the dispersion properties of carbon nanotubes are deteriorated.

따라서, 본 발명에서는 알콕시실란 화합물의 졸 반응 시 생성되는 에탄올을 제거하는 공정을 수행한다. 에탄올을 제거하기 위한 공정으로 회전 증발법(rotary evaporation)을 이용한다. 회전 증발법은 유기용매를 일정한 압력에서 끊는점까지 가열하여 증류 및 제거하는 방법이다. 본 발명에서는 알콕시실란 화합물의 졸 반응이 종료되면 회전 증발법을 이용하여 생성된 에탄올을 제거한다. 에탄올의 끓는 점은 약 78℃로 본 발명의 용액(solution)에 포함된 성분 중에서 가장 낮기 때문에 끓는점이 가장 낮은 에탄올을 가장 먼저 제거할 수 있다. Therefore, in the present invention, a process of removing ethanol generated during the sol reaction of the alkoxysilane compound is performed. As a process for removing ethanol, rotary evaporation is used. Rotary evaporation is a method of distilling and removing an organic solvent by heating it to a boiling point at a constant pressure. In the present invention, when the sol reaction of the alkoxysilane compound is completed, the generated ethanol is removed by using a rotary evaporation method. Since the boiling point of ethanol is about 78°C, which is the lowest among the components included in the solution of the present invention, ethanol having the lowest boiling point can be removed first.

그리고, 회전 증발법을 이용하여 에탄올을 제거한 실란졸에 용매를 보충한다. 실란졸에서 생성된 에탄올이 제거되면 총 용매의 함량이 적어지기 때문에 에탄올이 제거된만큼 용매가 보충되야 한다. 실란졸에 보충할 수 있는 용매는 극성도가 낮은 용매를 사용할 수 있으며 에탄올보다 낮은 극성도를 가진 용매를 사용할 수 있다. 본 발명의 용매는 극성도가 1.0 이상 5.9 미만의 용매를 사용할 수 있으며, 예를 들어, n-프로판올, 부탄올, 아세토니트릴, 아세톤, 에틸아세테이트, 디클로로메탄, 클로로포름 등을 들 수 있다. Then, the solvent is supplemented with the silane sol from which ethanol has been removed by rotary evaporation. When the ethanol produced from the silansol is removed, the total solvent content is reduced, so the solvent must be replenished as much as the ethanol is removed. A solvent with a lower polarity may be used as a solvent that can be supplemented with silanazole, and a solvent with a lower polarity than ethanol may be used. The solvent of the present invention may use a solvent having a polarity of 1.0 or more and less than 5.9, for example, n-propanol, butanol, acetonitrile, acetone, ethyl acetate, dichloromethane, chloroform, and the like.

상기 졸 반응 조건은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 30 내지 90℃로 가열 및 교반하는 과정을 포함할 수 있고, 반응 시간은 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 4 내지 30시간 동안 수행할 수 있다. The sol reaction conditions are not particularly limited, but, for example, may include a process of heating and stirring at 30 to 90° C., and the reaction time is not particularly limited, and may be performed for, for example, 4 to 30 hours. .

또한, 반응이 일어나는 반응기는 환류 냉각관을 포함하는 것일 수 있다. 반응 후 생성물을 회전 증발 농축한 후 특정 용매에 희석하여 사용될 수도 있다. 이에 따라, 제조된 실란졸은 특히 코팅액을 유리 기재에 적용하는 경우 강한 밀착성을 부여하여 우수한 강도 특성을 확보할 수 있게 된다.In addition, the reactor in which the reaction occurs may include a reflux cooling pipe. After the reaction, the product may be concentrated by rotary evaporation and diluted in a specific solvent. Accordingly, the prepared silane sol can secure excellent strength properties by imparting strong adhesion, particularly when a coating solution is applied to a glass substrate.

<전도성 코팅액 조성물의 제조><Preparation of conductive coating liquid composition>

본 발명의 전도성 코팅액 조성물은 탄소나노튜브 분산액 조성물 100중량부에 대하여, 실란졸 10 내지 100중량부로 혼합하여 제조될 수 있다. The conductive coating composition of the present invention may be prepared by mixing 10 to 100 parts by weight of a silane sol with respect to 100 parts by weight of the carbon nanotube dispersion composition.

혼합시에 실란졸의 함량이 10중량부 미만으로 포함되는 경우, 코팅층의 밀착력 확보가 어려우며, 100중량부를 초과하여 혼합되는 경우, 코팅층의 도포성이 저하될 수 있다. 또한, 상기 혼합비는 탄소나노튜브 분산액 조성물 100중량부에 대하여, 실란졸 25 내지 60 중량부일 수 있으며, 또는 실란졸 10 내지 20중량부일 수 있다. 실란졸을 25 내지 60 중량부로 혼합하는 경우, 고저항의 코팅막 구현에 적합하며, 실란졸 10 내지 20중량부로 혼합하는 경우, 저저항의 코팅막 구현에 적합하다.When the content of the silane sol is included in less than 10 parts by weight at the time of mixing, it is difficult to secure the adhesion of the coating layer, and when mixed in excess of 100 parts by weight, the applicability of the coating layer may be deteriorated. In addition, the mixing ratio may be 25 to 60 parts by weight of silane sol, or 10 to 20 parts by weight of silane sol, based on 100 parts by weight of the carbon nanotube dispersion composition. When the silane sol is mixed in 25 to 60 parts by weight, it is suitable to implement a high resistance coating film, and when mixed in 10 to 20 parts by weight of the silane sol, it is suitable to implement a low resistance coating film.

혼합 방법은 특별히 한정되지 않으나, 초음파분산기, 고압분산기, 균질기, 밀 등을 이용하여 수행될 수 있으며, 바람직하게는 탄소나노튜브분산액 제조시와 동일한 고압 분산 공정을 적용하는 경우, 최종 코팅액의 분산성 및 안정성을 확보할 수 있다.The mixing method is not particularly limited, but may be performed using an ultrasonic disperser, a high-pressure disperser, a homogenizer, a mill, and the like, and preferably, when the same high-pressure dispersion process as in preparing the carbon nanotube dispersion is applied, the final coating solution Acidity and stability can be ensured.

<표시장치><Display device>

전술한 전도성 코팅액 조성물로 형성된 정전기 방지막을 구비하는 표시장치에 대해 설명한다. 하기에서는 전술한 본 발명의 실시예에서 인셀 터치 표시장치에 대해 보다 자세히 설명하기로 한다. A display device including an antistatic film formed of the aforementioned conductive coating liquid composition will be described. Hereinafter, the in-cell touch display device in the above-described embodiment of the present invention will be described in more detail.

도 11 및 도 12는 본 발명의 표시장치를 개략적으로 보여 주는 도면들이다. 도 13은 도 11에 도시된 터치 센서(Cs)에 인가되는 공통 전압(Vcom)과 터치 구동 신호(Tdrv)를 보여 주는 파형도이다.11 and 12 are diagrams schematically illustrating a display device according to the present invention. 13 is a waveform diagram illustrating a common voltage Vcom and a touch driving signal Tdrv applied to the touch sensor Cs shown in FIG. 11 .

도 11 내지 도 13을 참조하면, 본 발명의 표시장치는 터치 센싱 장치를 포함한다. 터치 센싱 장치는 표시패널(300)에 내장된 터치 센서들(Cs)을 이용하여 터치 입력을 감지한다. 터치 센싱 장치는 자기 정전 용량 타입의 터치 센서(Cs)에 손가락이 접촉될 때 정전 용량이 증가하기 때문에 터치 센서(Cs)의 정전 용량 변화를 바탕으로 터치 입력을 감지할 수 있다. 11 to 13 , the display device of the present invention includes a touch sensing device. The touch sensing device senses a touch input using the touch sensors Cs built into the display panel 300 . The touch sensing device may sense a touch input based on a change in capacitance of the touch sensor Cs because capacitance increases when a finger touches the self-capacitance type touch sensor Cs.

표시패널(300)에서 두 장의 기판들 사이에는 액정층이 형성된다. 액정 분자들은 픽셀 전극(12)에 인가되는 데이터전압과, 센서 전극(13)에 인가되는 공통 전압(Vcom)의 전위차로 발생되는 전계에 의해 구동된다. 표시패널(300)의 픽셀 어레이는 데이터 라인들(S, S1~Sm, m은 양의 정수)과 게이트 라인들(G, G1~Gn, n은 양의 정수)에 의해 정의된 픽셀들, 픽셀들에 연결된 터치 센서들(Cs)을 포함한다. In the display panel 300 , a liquid crystal layer is formed between two substrates. The liquid crystal molecules are driven by an electric field generated by a potential difference between the data voltage applied to the pixel electrode 12 and the common voltage Vcom applied to the sensor electrode 13 . The pixel array of the display panel 300 includes pixels and pixels defined by data lines (S, S1 to Sm, m is a positive integer) and gate lines (G, G1 to Gn, n is a positive integer). and touch sensors (Cs) connected to them.

터치 센서(Cs)는 센서 전극과, 센서 전극에 연결된 센서 배선(M3)을 포함한다. 센서 전극들(COM, C1~C4)은 기존의 공통 전극을 분할하는 방법으로 패터닝될 수 있다. 센서 전극들(COM, C1~C4) 각각은 다수의 픽셀들과 중첩된다. 센서 전극들(COM, C1~C4)은 센서 배선(M3)을 통해 디스플레이 구동 기간(Td) 동안 공통 전압(Vcom)을 공급 받고, 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 터치 구동 신호(Tdrv)를 공급 받는다. 공통 전압(Vcom)은 센서 전극들을 통해 픽셀들에 공통으로 인가된다. The touch sensor Cs includes a sensor electrode and a sensor wire M3 connected to the sensor electrode. The sensor electrodes COM and C1 to C4 may be patterned by dividing an existing common electrode. Each of the sensor electrodes COM and C1 to C4 overlaps a plurality of pixels. The sensor electrodes COM and C1 to C4 receive the common voltage Vcom during the display driving period Td through the sensor wiring M3 and supply the touch driving signal Tdrv during the touch sensor driving period Tt. receive The common voltage Vcom is commonly applied to the pixels through the sensor electrodes.

센서 배선들(M3)은 스페이서(spacer)의 위치를 회피하여 서브 픽셀들 간의 경계에 배치된다. 센서 배선들(M3)은 픽셀들의 개구 영역 감소 문제가 없도록 절연층(미도시)을 사이에 두고 데이터 라인(S1~Sm)과 중첩될 수 있다. The sensor wirings M3 are disposed at the boundary between the sub-pixels while avoiding the position of the spacer. The sensor wirings M3 may overlap the data lines S1 to Sm with an insulating layer (not shown) interposed therebetween so that there is no problem of reducing the opening area of the pixels.

터치 센서들이 표시패널(300)의 픽셀 어레이에 내장되기 때문에 터치 센서들(Cs)은 기생 용량을 통해 픽셀들에 연결된다. 본 발명은 픽셀들과 터치 센서들(Cs)의 커플링(Coupling)으로 인한 상호 영향을 줄이기 위하여, 도 13과 같이 1 프레임 기간을 픽셀들을 구동하는 기간(이하, "디스플레이 구동 기간"이라 함)과 터치 센서들을 구동하는 기간(이하, "터치 센서 구동 기간"이라 함)으로 시분할하여 표시패널(300)을 구동한다. 1 프레임 기간은 하나 이상의 디스플레이 구동 기간(Td)과 하나 이상의 터치 센서 구동 기간(Tt)으로 분할될 수 있다. 디스플레이 구동 기간(Td) 동안 픽셀들에 입력 영상의 데이터가 기입된다. 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안, 터치 센서들이 구동되어 터치 입력이 감지된다.Since the touch sensors are embedded in the pixel array of the display panel 300 , the touch sensors Cs are connected to the pixels through parasitic capacitance. According to the present invention, in order to reduce the mutual influence due to the coupling between the pixels and the touch sensors Cs, a period of driving pixels for one frame period as shown in FIG. 13 (hereinafter referred to as a "display driving period") The display panel 300 is driven by time division into a period for driving the touch sensors (hereinafter, referred to as a “touch sensor driving period”). One frame period may be divided into one or more display driving periods Td and one or more touch sensor driving periods Tt. During the display driving period Td, the data of the input image is written to the pixels. During the touch sensor driving period Tt, the touch sensors are driven to sense a touch input.

픽셀들 각각은 데이터 라인들(S1~Sm)과 게이트 라인들(G1~Gn)의 교차부들에 형성된 픽셀 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT), 픽셀 TFT를 통해 데이터전압을 공급받는 픽셀 전극, 공통 전압(Vcom)이 인가되는 공통전극, 픽셀 전극에 접속되어 액정셀의 전압을 유지시키기 위한 스토리지 커패시터(Storage Capacitor, Cst) 등을 포함한다. Each of the pixels includes a pixel thin film transistor (TFT) formed at intersections of the data lines S1 to Sm and the gate lines G1 to Gn, a pixel electrode receiving a data voltage through the pixel TFT, and a common and a common electrode to which the voltage Vcom is applied, and a storage capacitor (Cst) connected to the pixel electrode to maintain the voltage of the liquid crystal cell.

표시패널(300)의 상부 기판에는 블랙매트릭스, 컬러필터 등이 형성될 수 있다. 표시패널(300)의 하부 기판은 COT(Color filter On TFT) 구조로 구현될 수 있다. 이 경우에, 컬러필터는 표시패널(100)의 하부 기판에 형성될 수 있다. 표시패널(300)의 상부 기판과 하부 기판 각각에는 편광판이 부착되고 액정과 접하는 내면에 액정의 프리틸트각을 설정하기 위한 배향막이 형성된다. 표시패널(300)의 상부 기판과 하부 기판 사이에는 액정층의 셀갭(Cell gap)을 유지하기 위한 스페이서가 형성된다. A black matrix, a color filter, etc. may be formed on the upper substrate of the display panel 300 . The lower substrate of the display panel 300 may be implemented in a color filter on TFT (COT) structure. In this case, the color filter may be formed on the lower substrate of the display panel 100 . A polarizing plate is attached to each of the upper and lower substrates of the display panel 300 , and an alignment layer for setting a pretilt angle of the liquid crystal is formed on the inner surface in contact with the liquid crystal. A spacer for maintaining a cell gap of the liquid crystal layer is formed between the upper substrate and the lower substrate of the display panel 300 .

표시패널(300)의 배면 아래에는 백라이트 유닛이 배치될 수 있다. 백라이트 유닛은 에지형(edge type) 또는 직하형(Direct type) 백라이트 유닛으로 구현되어 표시패널(300)에 빛을 조사한다. 표시패널(300)은 TN(Twisted Nematic) 모드, VA(Vertical Alignment) 모드, IPS(In Plane Switching) 모드, FFS(Fringe Field Switching) 모드 등 공지된 어떠한 액정 모드로도 구현될 수 있다. 유기발광 다이오드 표시장치와 같은 자발광 표시장치에서 백라이트 유닛은 필요 없다.A backlight unit may be disposed under the rear surface of the display panel 300 . The backlight unit is implemented as an edge type or direct type backlight unit to irradiate light to the display panel 300 . The display panel 300 may be implemented in any known liquid crystal mode, such as a twisted nematic (TN) mode, a vertical alignment (VA) mode, an in plane switching (IPS) mode, and a fringe field switching (FFS) mode. In a self-light emitting display device such as an organic light emitting diode display, a backlight unit is not required.

본 발명의 표시장치는 픽셀들에 입력 영상의 데이터를 기입하는 디스플레이 구동부(302, 304, 306), 및 터치 센서들(Cs)을 구동하는 터치 센서 구동부(310)를 더 포함한다. 디스플레이 구동부(302, 304, 306)와 터치 센서 구동부(310)는 동기 신호(Tsync)에 응답하여 서로 동기된다. The display device of the present invention further includes a display driver 302 , 304 , 306 for writing input image data to pixels, and a touch sensor driver 310 for driving the touch sensors Cs. The display drivers 302 , 304 , and 306 and the touch sensor driver 310 are synchronized with each other in response to the synchronization signal Tsync.

디스플레이 구동부(302, 304, 306)는 디스플레이 구동 기간(Td) 동안 픽셀들에 데이터를 기입한다. 픽셀들은 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 TFT가 오프 상태이기 때문에 앞선 디스플레이 구동 기간(Td)에 충전하였던 데이터 전압을 유지(hold)한다. 디스플레이 구동부(302, 304, 306)는 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 터치 센서들(Cs)과, 픽셀들에 연결된 신호 라인들 사이의 기생 용량을 최소화하기 위하여, 터치 센서들(Cs)에 인가되는 터치 구동 신호(Tdrv)와 같은 위상의 교류 신호를 신호 라인들(S1~Sm, G1~Gn)에 공급할 수 있다. 여기서, 픽셀들에 연결된 신호 라인들은 데이터 라인 라인들(S1~Sm)과 게이트 라인들(G1~Gn)이다. The display drivers 302 , 304 , and 306 write data to pixels during the display driving period Td. The pixels hold the data voltage charged in the previous display driving period Td because the TFT is in an off state during the touch sensor driving period Tt. The display drivers 302 , 304 , and 306 are applied to the touch sensors Cs to minimize parasitic capacitance between the touch sensors Cs and signal lines connected to the pixels during the touch sensor driving period Tt. An AC signal having the same phase as the touch driving signal Tdrv may be supplied to the signal lines S1 to Sm and G1 to Gn. Here, the signal lines connected to the pixels are the data line lines S1 to Sm and the gate lines G1 to Gn.

디스플레이 구동부(302, 304, 306)는 데이터 구동부(302), 게이트 구동부(304) 및 타이밍 콘트롤러(306)를 포함한다. The display drivers 302 , 304 , and 306 include a data driver 302 , a gate driver 304 , and a timing controller 306 .

데이터 구동부(302)는 디스플레이 구동 기간(Td) 동안 타이밍 콘트롤러(306)로부터 수신되는 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB, RGBW)를 아날로그 정극성/부극성 감마보상전압으로 변환하여 데이터전압을 출력한다. 데이터 구동부(302)로부터 출력된 데이터전압은 데이터 라인들(S1~Sm)에 공급된다. 데이터 구동부(302)는 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 터치 센서들에 인가되는 터치 구동 신호(Tdrv)와 같은 위상의 교류 신호를 데이터 라인들(S1~Sm)에 인가할 수 있다. 이는 기생 용량의 양단 전압이 동시에 변하고 그 전압 차이가 작을수록 기생 용량에 충전되는 전하 양이 작아지기 때문이다.The data driver 302 converts digital video data (RGB, RGBW) of an input image received from the timing controller 306 during the display driving period Td into analog positive/negative gamma compensation voltages and outputs a data voltage. . The data voltage output from the data driver 302 is supplied to the data lines S1 to Sm. The data driver 302 may apply an AC signal having the same phase as the touch driving signal Tdrv applied to the touch sensors during the touch sensor driving period Tt to the data lines S1 to Sm. This is because the voltage across both ends of the parasitic capacitance changes at the same time, and the smaller the voltage difference, the smaller the amount of charge charged in the parasitic capacitance.

게이트 구동부(304)는 디스플레이 구동 기간(Td) 동안, 데이터전압에 동기되는 게이트 펄스(또는 스캔펄스)를 게이트 라인들(G1~Gn)에 순차적으로 공급하여 데이터 전압이 기입되는 표시패널(300)의 라인을 선택한다. 게이트 펄스는 게이트 하이 전압(VGH)과 게이트 로우 전압(VGL) 사이에서 스윙한다. 게이트 펄스는 게이트 라인들(G1~Gn)을 통해 픽셀 TFT들의 게이트에 인가된다. 게이트 하이 전압(VGL)은 픽셀 TFT의 문턱 전압 보다 높은 전압으로 설정되어 픽셀 TFT를 턴온(turn-on)시킨다. 게이트 로우 전압(VGL)은 픽셀 TFT의 문턱 전압 보다 낮은 전압이다. 게이트 구동부(304)는 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 터치 센서들에 인가되는 터치 구동 신호(Tdrv)와 같은 위상의 교류 신호를 게이트 라인들(G1~Gn)에 인가할 수 있다. The gate driver 304 sequentially supplies a gate pulse (or scan pulse) synchronized with the data voltage to the gate lines G1 to Gn during the display driving period Td to write the data voltage to the display panel 300 . select the line of The gate pulse swings between the gate high voltage VGH and the gate low voltage VGL. The gate pulse is applied to the gates of the pixel TFTs through the gate lines G1 to Gn. The gate high voltage VGL is set to a voltage higher than the threshold voltage of the pixel TFT to turn on the pixel TFT. The gate low voltage VGL is a voltage lower than the threshold voltage of the pixel TFT. The gate driver 304 may apply an AC signal having the same phase as the touch driving signal Tdrv applied to the touch sensors during the touch sensor driving period Tt to the gate lines G1 to Gn.

타이밍 콘트롤러(306)는 호스트 시스템(308)으로부터 입력되는 수직 동기신호, 수평 동기신호, 데이터 인에이블 신호, 메인 클럭 등의 타이밍신호를 입력받아 데이터 구동부(302), 게이트 구동부(304) 및 터치 센서 구동부(310)의 동작 타이밍을 동기시킨다. 스캔 타이밍 제어신호는 게이트 스타트 펄스(Gate Start Pulse, GSP), 게이트 쉬프트 클럭(Gate Shift Clock), 게이트 출력 인에이블신호(Gate Output Enable, GOE) 등을 포함한다. 데이터 타이밍 제어신호는 소스 샘플링 클럭(Source Sampling Clock, SSC), 극성제어신호(Polarity, POL), 소스 출력 인에이블신호(Source Output Enable, SOE) 등을 포함한다.The timing controller 306 receives timing signals such as a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, a data enable signal, and a main clock input from the host system 308 , and receives the data driver 302 , the gate driver 304 , and the touch sensor. The operation timing of the driving unit 310 is synchronized. The scan timing control signal includes a gate start pulse (GSP), a gate shift clock (Gate Shift Clock), a gate output enable signal (Gate Output Enable, GOE), and the like. The data timing control signal includes a source sampling clock (SSC), a polarity control signal (Polarity, POL), and a source output enable signal (SOE).

타이밍 콘트롤러(306)는 호스트 시스템(308)으로부터의 입력 영상 데이터(RGB)를 데이터 구동부(302)로 전송한다. 타이밍 콘트롤러(306)는 공지된 화이트 게인 산출 알고리즘을 이용하여 RGB 데이터를 RGBW 데이터로 변환하여 데이터 구동부(302)로 전송할 수 있다. The timing controller 306 transmits input image data RGB from the host system 308 to the data driver 302 . The timing controller 306 may convert RGB data into RGBW data using a well-known white gain calculation algorithm and transmit it to the data driver 302 .

호스트 시스템(308)은 텔레비젼 시스템, 셋톱박스, 네비게이션 시스템, DVD 플레이어, 블루레이 플레이어, 개인용 컴퓨터(PC), 홈 시어터 시스템, 폰 시스템(Phone system) 중 어느 하나로 구현될 수 있다. 호스트 시스템(308)은 스케일러(scaler)를 내장한 SoC(System on chip)을 포함하여 입력 영상의 디지털 비디오 데이터를 표시패널(300)의 해상도에 적합한 포맷으로 변환한다. 호스트 시스템(308)은 입력 영상의 디지털 비디오 데이터(RGB, RGBW)와 함께 타이밍 신호들을 타이밍 콘트롤러(306)로 전송한다. 또한, 호스트 시스템(308)은 터치 센서 구동부(310)로부터 입력되는 터치 입력의 좌표 정보(XY)와 연계된 응용 프로그램을 실행한다.The host system 308 may be implemented as any one of a television system, a set-top box, a navigation system, a DVD player, a Blu-ray player, a personal computer (PC), a home theater system, and a phone system. The host system 308 includes a system on chip (SoC) having a built-in scaler and converts digital video data of an input image into a format suitable for the resolution of the display panel 300 . The host system 308 transmits timing signals together with digital video data (RGB, RGBW) of the input image to the timing controller 306 . In addition, the host system 308 executes an application program associated with the coordinate information XY of the touch input input from the touch sensor driver 310 .

타이밍 콘트롤러(306) 또는 호스트 시스템(308)은 디스플레이 구동부(302, 304, 306)와 터치 센서 구동부(310)를 동기시키기 위한 동기 신호(Tsync)를 발생할 수 있다. The timing controller 306 or the host system 308 may generate a synchronization signal Tsync for synchronizing the display drivers 302 , 304 , and 306 with the touch sensor driver 310 .

터치 센서 구동부(310)는 터치 센서 구동 기간(Tt) 동안 터치 구동 신호(Tdrv)를 발생한다. 터치 구동 신호(Tdrv)는 센서 배선(M3)을 통해 센서 전극들(13, C1~C4)에 공급된다. 터치 센서 구동부(310)는 터치 센서(Cs)의 정전 용량 변화를 측정하여 터치 위치와 터치 면적을 감지할 수 있다. 터치 센서 구동부(310)는 터치 입력의 좌표 정보(XY)를 계산하여 호스트 시스템(308)으로 전송한다. The touch sensor driver 310 generates the touch driving signal Tdrv during the touch sensor driving period Tt. The touch driving signal Tdrv is supplied to the sensor electrodes 13 and C1 to C4 through the sensor wiring M3 . The touch sensor driver 310 may detect a touch position and a touch area by measuring a change in capacitance of the touch sensor Cs. The touch sensor driver 310 calculates the coordinate information XY of the touch input and transmits it to the host system 308 .

데이터 구동 회로(12)와 터치 센서 구동부(310)는 하나의 IC(Integrated Circuit) 내에 집적될 수 있다.The data driving circuit 12 and the touch sensor driving unit 310 may be integrated into one integrated circuit (IC).

도 14는 표시패널(300)의 단면 구조를 보여 주는 단면도이고, 도 15는 본 발명의 표시장치의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.14 is a cross-sectional view illustrating a cross-sectional structure of the display panel 300, and FIG. 15 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a display device according to the present invention.

도 14를 참조하면, 표시패널(300)의 하판은 하부 기판(SUBS1) 상에 TFT 어레이를 포함한다. 표시패널(300)의 상판은 상부 기판(SUBS2) 상에 컬러필터 어레이를 포함한다. 표시패널(300)의 상판과 하판 사이에는 액정층(LC)이 형성된다. Referring to FIG. 14 , a lower plate of the display panel 300 includes a TFT array on a lower substrate SUBS1 . The upper plate of the display panel 300 includes a color filter array on the upper substrate SUBS2 . A liquid crystal layer LC is formed between the upper and lower plates of the display panel 300 .

하부 기판(SUBS1) 상에 버퍼 절연막(BUF), 반도체 패턴(ACT) 및 게이트 절연막(GI)이 형성된다. 게이트 절연막(GI) 위에 제1 금속 패턴이 형성된다. 게이트 금속 패턴은 TFT의 게이트(GE)와, 그 게이트(GE)와 연결된 게이트 라인(G1~Gn)을 포함한다. 층간 절연막(INT)은 제2 금속 패턴을 덮는다. 소스-드레인 금속 패턴은 층간 절연막(INT) 상에 형성된다. 제2 금속 패턴은 데이터 라인(S1~Sm)과, TFT의 소스(SE) 및 드레인(DE)을 포함한다. 드레인(DE)은 데이터 라인(S1~Sm)과 연결된다. TFT의 소스(SE) 및 드레인(DE)은 층간 절연막(INT)을 관통하는 콘택홀(contact hole)을 통해 TFT의 반도체 패턴(ACT)에 접촉된다. A buffer insulating layer BUF, a semiconductor pattern ACT, and a gate insulating layer GI are formed on the lower substrate SUBS1 . A first metal pattern is formed on the gate insulating layer GI. The gate metal pattern includes a gate GE of the TFT and gate lines G1 to Gn connected to the gate GE. The interlayer insulating layer INT covers the second metal pattern. The source-drain metal pattern is formed on the interlayer insulating layer INT. The second metal pattern includes data lines S1 to Sm and a source SE and a drain DE of the TFT. The drain DE is connected to the data lines S1 to Sm. The source SE and the drain DE of the TFT are in contact with the semiconductor pattern ACT of the TFT through a contact hole penetrating the interlayer insulating layer INT.

제1 보호막(PAS1)은 제2 금속 패턴을 덮는다. 제1 보호막(PAS1) 위에 제2 보호막(PAS2)이 형성된다. 제2 보호막(PAS2)에는 TFT의 소스(SE)를 노출하는 콘택홀이 형성된다. 제2 보호막(PAS2) 상에 제3 보호막(PAS2)이 형성되고, 제3 보호막(PAS3) 상에 제3 금속 패턴이 형성된다. 제3 금속 패턴은 센서 배선(M3)을 포함한다. 제4 보호막(PAS4)은 제3 금속 패턴을 덮도록 제3 보호막(PAS3) 상에 형성된다. 제4 보호막(PAS4) 상에 제4 금속 패턴이 형성된다. 제4 금속 패턴은 ITO(Indium-Tin Oxide)와 같은 투명 전극 재료로 형성된 센서 전극(13, COM)을 포함한다. 제5 보호막(PAS5)은 제4 금속 패턴을 덮도록 제4 보호막(PAS4) 상에 형성된다. 제1, 제3, 제4 및 제5 보호막(PAS1, PAS3, PAS4, PAS5)은 SiOx 또는 SiNx 등의 무기 절연물질로 형성될 수 있다. 제2 보호막(PAS2)은 포토 아크릴(Photo-acryl)과 같은 유기 절연 물질로 형성될 수 있다.The first passivation layer PAS1 covers the second metal pattern. A second passivation layer PAS2 is formed on the first passivation layer PAS1 . A contact hole exposing the source SE of the TFT is formed in the second passivation layer PAS2 . A third passivation layer PAS2 is formed on the second passivation layer PAS2 , and a third metal pattern is formed on the third passivation layer PAS3 . The third metal pattern includes the sensor wiring M3. The fourth passivation layer PAS4 is formed on the third passivation layer PAS3 to cover the third metal pattern. A fourth metal pattern is formed on the fourth passivation layer PAS4 . The fourth metal pattern includes a sensor electrode 13 (COM) formed of a transparent electrode material such as Indium-Tin Oxide (ITO). The fifth passivation layer PAS5 is formed on the fourth passivation layer PAS4 to cover the fourth metal pattern. The first, third, fourth, and fifth passivation layers PAS1 , PAS3 , PAS4 , and PAS5 may be formed of an inorganic insulating material such as SiOx or SiNx. The second passivation layer PAS2 may be formed of an organic insulating material such as photo-acryl.

제3, 제4 및 제5 보호막(PAS1, PAS3, PAS4, PAS5)은 패터닝되어 TFT의 소스(SE)를 노출하는 콘택홀을 포함한다. 제5 보호막(PAS5) 상에 제5 금속 패턴이 형성된다. 제5 금속 패턴은 ITO와 같은 투명 전극 재료로 형성된 픽셀 전극(12, PXL)을 포함한다. 배향막(ALM)은 제5 금속 패턴을 덮도록 제5 보호막(PAS5) 상에 형성된다.The third, fourth, and fifth passivation layers PAS1 , PAS3 , PAS4 , and PAS5 are patterned to include contact holes exposing the source SE of the TFT. A fifth metal pattern is formed on the fifth passivation layer PAS5 . The fifth metal pattern includes a pixel electrode 12 (PXL) formed of a transparent electrode material such as ITO. The alignment layer ALM is formed on the fifth passivation layer PAS5 to cover the fifth metal pattern.

상부 기판(SUBS2) 상에 블랙 매트릭스(BM)와 컬러 필터(CF)가 형성되고, 그 위에 평탄화막(OC)이 형성된다. 평탄화막(OC)은 유기 절연물질로 형성될 수 있다. 도시하지 않았지만, 상부 기판과 하부 기판 사이에 스페이서가 형성되어 액정층의 셀갭(cell gap)을 유지한다. A black matrix BM and a color filter CF are formed on the upper substrate SUBS2 , and a planarization layer OC is formed thereon. The planarization layer OC may be formed of an organic insulating material. Although not shown, a spacer is formed between the upper substrate and the lower substrate to maintain a cell gap of the liquid crystal layer.

상부 기판(SUBS2) 상에 본 발명의 정전기 방지막(250)이 형성된다. 본 발명에 따른 정전기 방지막(250)은 우수한 전기전도도를 나타내며, 기계적 강도 및 투과도 또한 우수하여, 터치스크린 패널 및 표시장치의 정전기 방지용 코팅막으로 사용될 수 있다. An antistatic layer 250 of the present invention is formed on the upper substrate SUBS2 . The antistatic film 250 according to the present invention exhibits excellent electrical conductivity, and also has excellent mechanical strength and transmittance, so that it can be used as an antistatic coating film for touch screen panels and display devices.

도 15를 참조하여, 본 발명의 표시장치의 제조방법을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 전술한 전도성 코팅액 조성물을 제조한다.(S1) 전도성 코팅액 조성물은 탄소나노튜브 분산액 조성물과 실란졸을 혼합하여 형성한다. 전도성 코팅액 조성물에 대한 자세한 설명은 전술하였으므로 생략한다.A method of manufacturing a display device of the present invention will be described with reference to FIG. 15 as follows. First, the conductive coating solution composition described above is prepared. (S1) The conductive coating solution composition is formed by mixing a carbon nanotube dispersion composition and a silane sol. A detailed description of the conductive coating liquid composition is omitted since it has been described above.

전술한 표시패널의 상면에 제조된 전도성 코팅액 조성물을 코팅하여 정전기 방지막을 제조한다.(S2) 정전기 방지막의 형성 방법은 특별히 한정되지 않으나, 본 발명에 따른 전도성 코팅액 조성물을 도포하고, 경화시켜 형성된 것일 수 있다. 전도성 코팅액 조성물의 도포 방법으로 특별히 한정되지 않으나, 슬릿 코팅법, 나이프 코팅법, 스핀 코팅법, 캐스팅법, 마이크로 그라비아 코팅법, 그라비아 코팅법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 와이어 바 코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 스크린 인쇄법, 그라비아 인쇄법, 플렉소 인쇄법, 오프셋 인쇄법, 잉크젯 코팅법, 디스펜서 인쇄법, 노즐 코팅법, 모세관 코팅법 등의 공지된 방법이 사용 가능하다. 도포 이후에 소정 온도에서 건조 공정을 거쳐, 코팅막을 경화시킴으로써 정전기 방지막을 형성할 수 있다. An antistatic film is prepared by coating the conductive coating liquid composition prepared on the upper surface of the display panel as described above. (S2) The method of forming the antistatic film is not particularly limited, but one formed by applying and curing the conductive coating liquid composition according to the present invention. can The method for applying the conductive coating liquid composition is not particularly limited, but slit coating method, knife coating method, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip A coating method, a spray coating method, a screen printing method, a gravure printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, an inkjet coating method, a dispenser printing method, a nozzle coating method, a known method such as a capillary coating method can be used. After application, the antistatic film can be formed by curing the coating film through a drying process at a predetermined temperature.

이어, 정전기 방지막이 형성된 표시패널 상에 상부 편광판을 부착한다.(S3) 그리고, 상부 편광판이 부착된 반대의 표시패널의 하면에 하부 편광판을 부착하여 표시장치를 제조한다.(S4) Then, an upper polarizing plate is attached to the display panel on which the antistatic film is formed. (S3) Then, a lower polarizing plate is attached to the lower surface of the opposite display panel to which the upper polarizing plate is attached to manufacture a display device. (S4)

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, preferred embodiments are presented to help the understanding of the present invention, but these examples are merely illustrative of the present invention and do not limit the appended claims, and are within the scope and spirit of the present invention. It is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible, and it is natural that such variations and modifications fall within the scope of the appended claims.

<제2 실험예><Second Experimental Example>

이하, 전술한 탄소나노튜브 분산액 및 이를 포함하는 전도성 코팅액 조성물을 이용하여 정전기 방지막을 형성하는 실험예를 개시한다.Hereinafter, an experimental example of forming an antistatic film using the aforementioned carbon nanotube dispersion and a conductive coating liquid composition including the same will be disclosed.

실험 1 : 전도성 코팅액 조성물 및 이로 제조된 Experiment 1: Conductive coating liquid composition and prepared therefrom 코팅막(정전기 방지막)의of the coating film (antistatic film) 특성 측정 Characteristic measurement

실시예Example 1 One

<탄소나노튜브 분산액의 제조><Preparation of carbon nanotube dispersion>

아크 방전법으로 합성된 탄소나노튜브(SA100, ㈜나노솔루션)를 경사각도가 3°인 로터리 킬른 회전성 반응기를 이용하여 5-20rpm의 회전속도, 420℃의 온도, 250㏄/분의 산화성 가스 공급 속도로 100분 동안 열처리하여 탄소 불순물의 함량이 15%인 탄소나노튜브A를 사용하였다.Carbon nanotubes (SA100, Nanosolution Co., Ltd.) synthesized by arc discharge method were used in a rotary kiln rotational reactor with an inclination angle of 3° at a rotation speed of 5-20rpm, a temperature of 420°C, and an oxidizing gas of 250cc/min. A carbon nanotube A having a carbon impurity content of 15% was used by heat treatment for 100 minutes at a feed rate.

이후, 탄소나노튜브A 0.15중량부, 폴리아크릴산 수지 수용액(고형분 25%/ 폴리아크릴산 수지 Mw = (250,000)) 0.24중량부, 아크릴블록공중합체(상품명 DISPERBYK2001 산가 19mg KOH/g, 아민가 29mg KOH/g) 0.23 중량부, n-프로판올99.61중량부를 혼합하고, 노즐의 직경이 100㎛인 분사기를 사용하여 1500bar의 압력으로 분산하여 탄소나노튜브 분산액을 제조하였다.Then, 0.15 parts by weight of carbon nanotube A, polyacrylic acid resin aqueous solution (solid content 25%/ polyacrylic acid resin Mw = (250,000)) 0.24 parts by weight, acrylic block copolymer (brand name DISPERBYK2001 acid value 19mg KOH/g, amine value 29mg KOH/g ) 0.23 parts by weight and 99.61 parts by weight of n-propanol were mixed, and dispersed at a pressure of 1500 bar using a sprayer having a nozzle diameter of 100 μm to prepare a carbon nanotube dispersion.

<실란졸의 제조><Preparation of silane sol>

노르말 프로판올 21.7중량부와 TEOS 62.6중량부를 환류관을 구비한 반응기에 넣고 30분간 교반기를 이용하여 상온(25℃)하에서 300rpm으로 교반하고 물 15.2중량부를 넣고 500rpm으로 교반한 후, 3.5% 염산 수용액 0.5중량부를 서서히 적하하였다. 21.7 parts by weight of n-propanol and 62.6 parts by weight of TEOS were put into a reactor equipped with a reflux tube, stirred at 300 rpm at room temperature (25° C.) using a stirrer for 30 minutes, 15.2 parts by weight of water was stirred at 500 rpm, and then 3.5% aqueous hydrochloric acid solution 0.5 A weight part was dripped gradually.

<전도성 코팅액 조성물><Conductive coating solution composition>

제조된 탄소나노튜브 분산액 66 중량부에 바인더 33중량부, BYK2001 0.95중량부, 표면 슬립제로 BYK333 0.05중량부를 넣고 고압분산기를 이용하여 1500기압하에서 100㎛의 노즐을 통과시키는 과정을 5번 수행하여 코팅액을 제조하였으며, 이때 액의 온도가 올라가지 않도록 냉각 장치를 이용하였다.33 parts by weight of binder, 0.95 parts by weight of BYK2001, and 0.05 parts by weight of BYK333 as a surface slip agent were added to 66 parts by weight of the prepared carbon nanotube dispersion solution, and the process of passing a 100 μm nozzle under 1500 atm using a high pressure disperser was performed 5 times to perform the coating solution was prepared, and at this time, a cooling device was used so that the temperature of the liquid did not rise.

실시예Example 2 ( 2 ( 분산매의dispersion medium 종류가 상이한 경우) different types)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 분산매로서, 에탄올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that ethanol was used as a dispersion medium when preparing the carbon nanotube dispersion.

실시예Example 3 ( 3 ( 분산매의dispersion medium 종류가 상이한 경우) different types)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 분산매로서, 부탄올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that butanol was used as a dispersion medium when preparing the carbon nanotube dispersion.

실시예Example 4 ( 4 ( 분산매의dispersion medium 종류가 상이한 경우) different types)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 분산매로서, 펜탄올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that pentanol was used as a dispersion medium when preparing the carbon nanotube dispersion.

실시예Example 5 ( 5 ( PAA의PAA's 중량평균분자량이 다른 경우) When the weight average molecular weight is different)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 폴리아크릴산 수지의 중량평균분자량이 1,250,000인 것을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the polyacrylic acid resin having a weight average molecular weight of 1,250,000 was used in preparing the carbon nanotube dispersion.

실시예Example 6 ( 6 ( BYKBYK 2155를 사용한 경우) 2155 is used)

탄소나노튜브 분산액 제조시, DISPERBYK 2001 대신 DISPERBYK 2155를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that DISPERBYK 2155 was used instead of DISPERBYK 2001 when preparing the carbon nanotube dispersion.

실시예Example 7 (분사 압력이 상이한 경우) 7 (in case of different injection pressure)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 1000bar의 압력으로 분사한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed at a pressure of 1000 bar.

실시예Example 8 (분사 압력이 상이한 경우) 8 (in case of different injection pressure)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 1800bar의 압력으로 분사한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed at a pressure of 1800 bar.

실시예Example 9 (분사 노즐 9 (Spray nozzle 직경이diameter 상이한 경우) if different)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 직경이 500㎛의 노즐을 사용하여 분사한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed using a nozzle having a diameter of 500 μm.

실시예Example 10 (분사 노즐 10 (Spray nozzle 직경이diameter 상이한 경우) if different)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 직경이 300㎛의 노즐을 사용하여 분사한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed using a nozzle having a diameter of 300 μm.

실시예Example 11 11

제조된 탄소나노튜브분산액 80중량부에 바인더14중량부, BYK 2001 0.95중량부, 에틸렌글리콜 5중량부, 표면 슬립제로 BYK 333 0.05중량부를 넣고 고압분산기를 이용하여 1500기압하에서 100㎛의 노즐을 통과시키는 과정을 5번 수행하여, 코팅액을 제조하였으며 이때 액의 온도가 올라가지 않도록 냉각 장치를 이용하였다.14 parts by weight of binder, 0.95 parts by weight of BYK 2001, 5 parts by weight of ethylene glycol, and 0.05 parts by weight of BYK 333 as a surface slip agent were put into 80 parts by weight of the prepared carbon nanotube dispersion, and passed through a 100 μm nozzle under 1500 atm using a high pressure disperser. This process was performed 5 times to prepare a coating solution, and a cooling device was used to prevent the temperature of the solution from rising.

비교예comparative example 1 ( One ( 분산매의dispersion medium 종류가 본 발명의 범위를 벗어나는 경우) kind outside the scope of the present invention)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 분산매로서, 이소프로판올을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that isopropanol was used as a dispersion medium when preparing the carbon nanotube dispersion.

비교예comparative example 2 (분산제로 2 (as a dispersant PAAPAA 대신 instead 도데실술폰산나트륨을sodium dodecylsulfonate 사용한 경우) if used)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 폴리아크릴산 수용액 대신 도데실술폰산나트륨 수용액을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that an aqueous sodium dodecylsulfonate solution was used instead of an aqueous polyacrylic acid solution when preparing the carbon nanotube dispersion.

비교예comparative example 3 (이소프로판올을 사용하고, 분사 압력이 본 발명의 범위를 벗어나는 경우) 3 (when isopropanol is used and the injection pressure is outside the scope of the present invention)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 900bar의 압력으로 분사한 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed at a pressure of 900 bar.

비교예comparative example 4 (이소프로판올을 사용하고, 분사 압력이 본 발명의 범위를 벗어나는 경우) 4 (when isopropanol is used and the injection pressure is outside the scope of the present invention)

탄소나노튜브 분산액 제조시, 2000bar의 압력으로 분사한 것을 제외하고는 비교예 1과 동일한 방법으로 전도성 코팅액 조성물을 제조하였다.A conductive coating composition was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the carbon nanotube dispersion was sprayed at a pressure of 2000 bar.

시험 방법Test Methods

(1) 분산성 평가(1) Dispersibility evaluation

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 탄소나노튜브 분산액 조성물을 평가하기 위해 제타 포텐셜을 측정하였으며, 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.In order to evaluate the carbon nanotube dispersion composition prepared according to Examples and Comparative Examples, the zeta potential was measured and evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 절대값이 25mV를 초과하는 경우○: When the absolute value exceeds 25mV

△: 절대값이 10 내지 25mV 범위인 경우△: when the absolute value is in the range of 10 to 25 mV

Ⅹ: 절대값이 10mV 미만인 경우Ⅹ: When the absolute value is less than 10mV

(2) 분산 안정성 평가(2) Evaluation of dispersion stability

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 탄소나노튜브 분산액 조성물을 유리병에 넣어 상온에서 30일 동안 응집되는지 여부를 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.Whether the carbon nanotube dispersion composition prepared according to Examples and Comparative Examples was put into a glass bottle and aggregated at room temperature for 30 days was evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 14일 후 응집 발생○: Aggregation occurred after 14 days

△: 7일 후 응집 발생△: Aggregation occurred after 7 days

Ⅹ: 2일 이내 응집 발생X: Aggregation occurred within 2 days

(3) (3) 코팅성coatability 평가 evaluation

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 전도성 코팅액 조성물을 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 400rpm, 15초 동안 도포한 후, 핫 플레이트를 이용하여 140℃에서 10분 동안 건조한 후, 열풍 건조기를 이용하여 30분 동안 추가 건조를 실시하여 전도성 코팅막을 형성하였다. 형성된 코팅막의 균일성을 육안으로 관찰하고, 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.After applying the conductive coating solution composition prepared according to Examples and Comparative Examples on a glass substrate using a spin coater at 400 rpm for 15 seconds, and then drying at 140° C. for 10 minutes using a hot plate, a hot air dryer was used. Further drying was performed for 30 minutes using a conductive coating film. The uniformity of the formed coating film was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 핀홀 없는 경우○: When there is no pinhole

△: 핀홀이 2개 미만인 경우△: When there are less than two pinholes

Ⅹ: 핀홀이 2개 이상인 경우Ⅹ: When there are two or more pinholes

(4) 표면 비저항 평가(4) Surface resistivity evaluation

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 전도성 코팅액 조성물을 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 400rpm, 15초 동안 도포한 후, 핫 플레이트를 이용하여 140℃에서 10분 동안 건조한 후, 열풍 건조기를 이용하여 30분 동안 추가 건조를 실시하여 전도성 코팅막을 형성하였다. 형성된 코팅막을 표면저항 특정기를 이용하 표면비저항을 측정하였다. 이때, 표면비저항의 측정은 4-point probe 방식으로 수행하였으며, 코팅막을 길이 방향으로 삼등분으로 나누고, 그 중앙부에서 측정하였다.After applying the conductive coating solution composition prepared according to Examples and Comparative Examples on a glass substrate using a spin coater at 400 rpm for 15 seconds, and then drying at 140° C. for 10 minutes using a hot plate, a hot air dryer was used. Further drying was performed for 30 minutes using a conductive coating film. The surface resistivity of the formed coating film was measured using a surface resistance specifier. At this time, the measurement of the surface resistivity was performed by a 4-point probe method, the coating film was divided into thirds in the longitudinal direction, and measured at the center portion.

(5) 투과도(5) Permeability

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 전도성 코팅액 조성물을 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 400rpm, 15초 동안 도포한 후, 핫 플레이트를 이용하여 140℃에서 10분 동안 건조한 후, 열풍 건조기를 이용하여 30분 동안 추가 건조를 실시하여 전도성 코팅막을 형성하였다. 형성된 코팅막을 분광광도계를 이용하여, 550nm에서 투과도를 측정하였으며, 코팅막을 형성하지 않은 유리 기판의 투과도인 90.5%에 대하여 하기 평가 기준에 따라 평가하였다.After applying the conductive coating solution composition prepared according to Examples and Comparative Examples on a glass substrate using a spin coater at 400 rpm for 15 seconds, and then drying at 140° C. for 10 minutes using a hot plate, a hot air dryer was used. Further drying was performed for 30 minutes using a conductive coating film. Transmittance of the formed coating film was measured at 550 nm using a spectrophotometer, and the transmittance of 90.5% of the glass substrate on which the coating film was not formed was evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 89.5 ≤ 투과도(%) ○: 89.5 ≤ transmittance (%)

△: 87.5≤ 투과도(%) < 89.5△: 87.5≤ transmittance (%) < 89.5

Ⅹ: 투과도(%) < 87.5X: Transmittance (%) < 87.5

(6) (6) 내스크래치성scratch resistance

실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 전도성 코팅액 조성물을 유리 기판 상에 스핀 코터를 이용하여 400rpm, 15초 동안 도포한 후, 핫 플레이트를 이용하여 140℃에서 10분 동안 건조한 후, 열풍 건조기를 이용하여 30분 동안 추가 건조를 실시하여 전도성 코팅막을 형성하였다. 형성된 코팅막의 표면을 연필경도시험기(221-D, Yoshimitsu사)를 사용하여 측정하였다.After applying the conductive coating solution composition prepared according to Examples and Comparative Examples on a glass substrate using a spin coater at 400 rpm for 15 seconds, and then drying at 140° C. for 10 minutes using a hot plate, a hot air dryer was used. Further drying was performed for 30 minutes using a conductive coating film. The surface of the formed coating film was measured using a pencil hardness tester (221-D, Yoshimitsu Corporation).

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 8~9 H○: 8-9H

△: 6~7 H△: 6-7H

Ⅹ: ~5 HX: ~5 H

전술한 실시예들 및 비교예들에 따라 제조된 코팅막의 분산 특성, 코팅성, 표면비저항, 투과도 및 내스크래치성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 하기 표 1에서는 ○는 우수, △는 양호, Ⅹ는 나쁨으로 설명한다. Dispersion properties, coating properties, surface resistivity, transmittance and scratch resistance of the coating films prepared according to the above-described Examples and Comparative Examples were measured and shown in Table 1 below. In Table 1 below, ○ indicates excellent, △ indicates good, and X indicates poor.


분산 특성Dispersion Characteristics 코팅성coatability 표면비저항(Ω/□)Surface resistivity (Ω/□) 투과도(%)
Transmittance (%)

스크래치성
my
scratchability
분산성dispersibility 분산 안정성dispersion stability 실시예 1Example 1 108.0 10 8.0 실시예 2Example 2 108.0 10 8.0 실시예 3Example 3 108.2 10 8.2 실시예 4Example 4 108.7 10 8.7 실시예 5Example 5 108.2 10 8.2 실시예 6Example 6 108.1 10 8.1 실시예 7Example 7 108.1 10 8.1 실시예 8Example 8 108.3 10 8.3 실시예 9Example 9 108.1 10 8.1 실시예 10Example 10 108.3 10 8.3 실시예 11Example 11 105.0 10 5.0 비교예 1Comparative Example 1 X 108.2 10 8.2 비교예 2Comparative Example 2 X X X 109.4 10 9.4 X 비교예 3Comparative Example 3 X 108.3 10 8.3 비교예 4Comparative Example 4 X 108.5 10 8.5

상기 표 1을 참조하면, 탄소나노튜브 분산액 제조시 용매로 프로판올, 에탄올 및 부탄올을 각각 사용한 실시예 1 내지 3은 분산성, 분산 안정성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났고, 표면비저항은 각각 108.0, 108.0 및 108.2(Ω/□)로 나타났다. 실시예 4는 분산성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났고 분산 안정성이 양호로 나타났으며, 표면비저항은 108.7로 나타났다.Referring to Table 1, Examples 1 to 3 in which propanol, ethanol, and butanol were used as solvents in the preparation of the carbon nanotube dispersion were excellent in dispersibility, dispersion stability, coating property, transmittance and scratch resistance, and the surface The resistivity was 10 8.0 , 10 8.0 and 10 8.2 (Ω/□), respectively. Example 4 showed excellent dispersibility, coating property, transmittance and scratch resistance, and good dispersion stability, and a surface resistivity of 10 8.7 .

또한, 탄소나노튜브 분산액 제조시 폴리아크릴산 수지의 중량평균분자량 1,250,000인 것을 사용한 실시예 5와, DISPERBYK 2155를 사용한 실시예 6은 분산성, 분산 안정성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났고, 표면비저항은 각각 108.2 및 108.1(Ω/□)로 각각 나타났다.In addition, Example 5 using a polyacrylic acid resin having a weight average molecular weight of 1,250,000 and Example 6 using DISPERBYK 2155 when preparing a carbon nanotube dispersion showed excellent dispersibility, dispersion stability, coating property, transmittance and scratch resistance and the surface resistivity was 10 8.2 and 10 8.1 (Ω/□), respectively.

또한, 탄소나노튜브 분산액 제조시 1000bar의 압력으로 분사한 실시예 7은 분산성, 분산 안정성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났고, 표면비저항은 108.1(Ω/□)로 나타났다. 그리고, 1800bar의 압력으로 분사한 실시예 8은 분산 안정성이 양호로 나타난 것을 제외하고 분산성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났고, 표면비저항은 108.3(Ω/□)으로 나타났다.In addition, Example 7 sprayed at a pressure of 1000 bar during the preparation of the carbon nanotube dispersion showed excellent dispersibility, dispersion stability, coating property, transmittance and scratch resistance, and the surface resistivity was 10 8.1 (Ω/□). . And, Example 8 sprayed at a pressure of 1800 bar showed excellent dispersibility, coating property, transmittance and scratch resistance, except that dispersion stability was shown to be good, and the surface resistivity was 10 8.3 (Ω/□). .

또한, 탄소나노튜브 분산액 제조시 직경이 각각 500㎛와 300㎛의 노즐을 사용하여 분사한 실시예 9와 10은 표면비저항이 각각 108.1과 108.3(Ω/□)으로 나타났고, 분산 안정성이 양호로 나타난 것을 제외하고 분산성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났다.In addition, when preparing the carbon nanotube dispersion, Examples 9 and 10 sprayed using nozzles with diameters of 500 μm and 300 μm, respectively, showed surface resistivity of 10 8.1 and 10 8.3 (Ω/□), respectively, and dispersion stability was excellent. Dispersibility, coating property, transmittance and scratch resistance were found to be excellent, except for those indicated as good.

또한, 탄소나노튜브분산액 80중량부에 바인더 14중량부, BYK 2001 0.95중량부 및 에틸렌글리콜 5중량부로 달리 제조한 실시예 11은 표면비저항이 105.0(Ω/□)으로 나타났고, 분산성, 분산 안정성, 코팅성, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났다. In addition, Example 11 prepared differently with 14 parts by weight of the binder, 0.95 parts by weight of BYK 2001 and 5 parts by weight of ethylene glycol to 80 parts by weight of the carbon nanotube dispersion had a surface resistivity of 10 5.0 (Ω/□), and dispersibility, It was found to be excellent in dispersion stability, coating properties, permeability and scratch resistance.

반면, 탄소나노튜브 분산액 제조시 분산매로 이소프로판올을 사용한 비교예 1은 표면비저항이 108.2(Ω/□)로 나타났고, 투과도 및 내스크래치성이 우수로 나타났으며 분산성과 코팅성이 양호로 나타났으나, 분산 안정성이 나쁨으로 나타났다. On the other hand, Comparative Example 1 using isopropanol as a dispersion medium when preparing a carbon nanotube dispersion had a surface resistivity of 10 8.2 (Ω/□), excellent transmittance and scratch resistance, and good dispersibility and coating properties. However, the dispersion stability was found to be poor.

또한, 탄소나노튜브 분산액 제조시 폴리아크릴산 수용액 대신 도데실술폰산나트륨 수용액을 사용한 비교예 2는 표면비저항이 109.4(Ω/□)로 나타났고, 내스크래치성이 양호로 나타났으나 분산성, 분산 안정성, 코팅성 및 투과도가 나쁨으로 나타났다. In addition, Comparative Example 2, in which an aqueous sodium dodecylsulfonate solution was used instead of an aqueous polyacrylic acid solution when preparing a carbon nanotube dispersion, had a surface resistivity of 10 9.4 (Ω/□) and had good scratch resistance, but dispersibility and dispersion Stability, coating properties and transmittance were found to be poor.

또한, 탄소나노튜브 분산액 제조시 이소프로판올을 사용하고 각각 900bar와 2000bar의 압력으로 분사한 비교예 3과 4는 표면비저항이 각각 108.3과 108.5(Ω/□)로 나타났고 투과도가 우수로 나타났으나, 분산성 및 코팅성이 양호로 나타났고, 분산 안정성이 나쁨으로 나타났다. 그리고, 비교예 3의 내스크래치성은 양호로 나타났고 비교예 4의 내스크래치성은 우수로 나타났다.In addition, Comparative Examples 3 and 4 using isopropanol to prepare carbon nanotube dispersions and spraying at 900 bar and 2000 bar, respectively, showed surface resistivity of 10 8.3 and 10 8.5 (Ω/□), respectively, and excellent transmittance. However, dispersibility and coating properties were found to be good, and dispersion stability was found to be poor. And, the scratch resistance of Comparative Example 3 was good, and the scratch resistance of Comparative Example 4 was excellent.

이 결과를 통해, 본 발명의 탄소나노튜브 분산액의 제조 공정에 따라 제조된 코팅막은 분산성, 분산 안정성, 코팅성, 표면비저항, 투과도 및 내스크래치성 특성이 우수한 것을 확인할 수 있다.Through this result, it can be confirmed that the coating film prepared according to the manufacturing process of the carbon nanotube dispersion of the present invention is excellent in dispersibility, dispersion stability, coatability, surface resistivity, transmittance and scratch resistance.

실험 2 : 전도성 코팅액 조성물 및 이로 제조된 정전기 방지막의 특성 측정Experiment 2: Measurement of properties of conductive coating liquid composition and antistatic film prepared therefrom

실시예 12Example 12

전술한 실시예 1의 탄소나노튜브 분산액 67중량부에 TEOS 졸(sol) 바인더 32.95중량부, 첨가제 0.05중량부를 넣고 고압분산기를 이용하여 1500기압하에서 100㎛의 노즐을 통과시키는 과정을 5번 수행하여 전도성 코팅액을 제조하였다. 여기서, TEOS 졸 바인더는 25℃ 40mmHg에서 1시간 동안 회전 증발법을 수행하여 에탄올을 제거하고 제거된 에탄올만큼 n-프로판올을 보충하여 제조하였다.32.95 parts by weight of TEOS sol binder and 0.05 parts by weight of additives were added to 67 parts by weight of the carbon nanotube dispersion of Example 1, and the process of passing a nozzle of 100 μm under 1500 atm using a high pressure disperser was performed 5 times. A conductive coating solution was prepared. Here, the TEOS sol binder was prepared by removing ethanol by rotary evaporation at 25° C. 40 mmHg for 1 hour and supplementing n-propanol as much as the removed ethanol.

비교예 5Comparative Example 5

상기 실시예 12와 동일한 공정 조건 하에, TEOS 졸 바인더에 회전 증발법을 수행하지 않고 전도성 코팅액을 제조하였다.Under the same process conditions as in Example 12, a conductive coating solution was prepared without performing rotary evaporation on the TEOS sol binder.

전술한 실시예 12 및 비교예 5에 따라 제조된 전도성 코팅액 조성물의 초기와 7일 후의 점도를 측정하였고, 전도성 코팅액 조성물을 이용하여 코팅막을 제조하고 코팅막의 초기와 7일 후의 표면 저항을 측정하여 하기 표 2에 나타내었다. The viscosity of the conductive coating solution composition prepared according to Example 12 and Comparative Example 5 was measured at the initial stage and after 7 days, and the coating film was prepared using the conductive coating solution composition, and the surface resistance of the coating film was measured at the initial stage and after 7 days. Table 2 shows.


표면 저항(Ω/□)Surface resistance (Ω/□) 점도(cp)Viscosity (cp)
초기Early 7일 후after 7 days 변화량amount of change 초기Early 7일 후after 7 days 변화량amount of change 실시예 12Example 12 8.18.1 7.57.5 -0.6-0.6 3.513.51 4.294.29 0.780.78 비교예 5Comparative Example 5 8.18.1 77 -1.1-1.1 3.543.54 4.544.54 1One

상기 표 2를 참조하면, TEOS 졸의 제조 시 회전 증발법을 수행한 실시예 12는 조성물의 초기와 7일 후의 점도 변화량이 0.78로 나타났고, 코팅막의 초기와 7일 후의 표면 저항 변화량이 -0.6으로 나타났다. 반면, TEOS 졸의 제조 시 회전 증발법을 수행하지 않은 비교예 5는 조성물의 초기와 7일 후의 점도 변화량이 1로 나타났고, 코팅막의 초기와 7일 후의 표면 저항 변화량이 -1.1로 나타났다. 즉, 비교예 5에 비해 실시예 12의 점도 변화량이 0.22 만큼 작았고, 표면 저항의 변화량이 -0.5만큼 작았다.Referring to Table 2, in Example 12, in which the rotary evaporation method was performed during the preparation of the TEOS sol, the viscosity change at the initial stage and after 7 days of the composition was 0.78, and the surface resistance change at the initial stage and after 7 days of the coating film was -0.6 appeared as On the other hand, in Comparative Example 5, in which the rotary evaporation method was not performed during the preparation of the TEOS sol, the viscosity change at the initial stage and after 7 days of the composition was 1, and the change in the surface resistance of the coating film at the beginning and after 7 days was -1.1. That is, compared with Comparative Example 5, the change in the viscosity of Example 12 was as small as 0.22, and the change in the surface resistance was as small as -0.5.

이 결과를 통해, 실란졸의 제조 시 회전 증발법을 이용하여 에탄올을 제거한 실시예 12는 에탄올을 제거하지 않은 비교예 5에 비해 코팅막의 표면 저항의 변화량이 작았고, 점도 변화량 또한 작은 것을 확인하였다.Through these results, Example 12, in which ethanol was removed using rotary evaporation during the preparation of the silane sol, had a small change in the surface resistance of the coating film and a small change in viscosity compared to Comparative Example 5 in which ethanol was not removed.

따라서, 본 발명은 실란졸의 제조시 회전 증발법을 이용하여 에탄올을 제거함으로써, 전도성 코팅액 조성물의 상온에서의 보관 안정성을 향상시키고 코팅막의 표면 저항 특성을 유지할 수 있는 이점이 있다.Therefore, the present invention has the advantage of improving the storage stability of the conductive coating liquid composition at room temperature and maintaining the surface resistance properties of the coating film by removing ethanol using the rotary evaporation method during the preparation of the silane sol.

상기와 같이, 본 발명의 전도성 코팅액 조성물은 상온에서 보관 시 표면 저항 및 점도가 변화되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 본 발명의 전도성 코팅액 조성물은 상온에서의 보관 안정성을 향상시킬 수 있다. As described above, the conductive coating liquid composition of the present invention can prevent changes in surface resistance and viscosity when stored at room temperature. Therefore, the conductive coating liquid composition of the present invention can improve storage stability at room temperature.

본 발명에 따른 전도성 코팅액 조성물로 형성된 정전기 방지막은 우수한 전기전도도를 나타내며, 기계적 강도 및 투과도 또한 우수하여, 터치스크린 패널 및 화상표시장치의 정전기 방지용 코팅막으로 사용될 수 있다.The antistatic film formed of the conductive coating liquid composition according to the present invention exhibits excellent electrical conductivity and also has excellent mechanical strength and transmittance, so that it can be used as an antistatic coating film for touch screen panels and image display devices.

본 발명에 따른 정전기 방지막 및 이를 포함하는 표시장치는, 제조 공정시 발생되는 정전기를 외부로 용이하게 방전시켜 정전기에 의한 불량을 억제하고, 터치 감도의 저하를 방지하며, 면저항 균일도, 내열성 및 신뢰성을 향상시키고, 제조 비용을 절감시킬 수 있다.The antistatic film according to the present invention and a display device including the same can easily discharge static electricity generated during a manufacturing process to the outside, thereby suppressing defects caused by static electricity, preventing a decrease in touch sensitivity, and providing uniformity of sheet resistance, heat resistance and reliability. can be improved and the manufacturing cost can be reduced.

이상에서 기재된 "포함하다", "구성하다" 또는 "가지다" 등의 용어는, 특별히 반대되는 기재가 없는 한, 해당 구성 요소가 내재될 수 있음을 의미하는 것이므로, 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것으로 해석되어야 한다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함한 모든 용어들은, 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥 상의 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Terms such as "include", "compose" or "have" described above mean that the corresponding component may be embedded unless otherwise stated, so it does not exclude other components. It should be construed as being able to further include other components. All terms, including technical and scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless otherwise defined. Terms commonly used, such as those defined in the dictionary, should be interpreted as being consistent with the meaning in the context of the related art, and are not interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present invention.

210a: 하부편광판 210b: 상부편광판
220: 하부기판 230: 셀
240: 상부기판 250: 정전기 방지막
210a: lower polarizing plate 210b: upper polarizing plate
220: lower substrate 230: cell
240: upper substrate 250: antistatic film

Claims (14)

알콕시실란 화합물, 알코올계 용매, 및 물을 혼합하여 알콕시실란 화합물을 졸 반응시킨 후, 상기 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 실란졸을 형성하는 단계;
탄소나노튜브 분산액 조성물을 형성하는 단계;
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물과 상기 실란졸을 혼합하여 전도성 코팅액 조성물을 제조하는 단계; 및
기판 상에 상기 전도성 코팅액 조성물을 코팅하는 단계를 포함하고,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물을 형성하는 단계는 분사기를 사용하여 상기 탄소나노튜브 분산액 조성물을 1000bar 내지 1800bar의 압력하에 분사하는 단계를 포함하는 정전기 방지막의 제조방법.
forming a silane sol by mixing an alkoxysilane compound, an alcohol-based solvent, and water to react the alkoxysilane compound with a sol, and then removing ethanol generated during the sol reaction;
forming a carbon nanotube dispersion composition;
preparing a conductive coating composition by mixing the carbon nanotube dispersion composition with the silane sol; and
Comprising the step of coating the conductive coating liquid composition on a substrate,
The step of forming the carbon nanotube dispersion composition comprises spraying the carbon nanotube dispersion composition under a pressure of 1000 bar to 1800 bar using a sprayer.
제1 항에 있어서,
상기 에탄올은 회전 증발법을 이용하여 제거하는 정전기 방지막의 제조방법.
The method of claim 1,
The ethanol is a method of manufacturing an antistatic film that is removed using a rotary evaporation method.
제1 항에 있어서,
상기 제거된 에탄올의 양에 해당하는 추가의 용매를 첨가하되, 상기 추가의 용매는 극성도가 1.0 내지 5.9 미만인 정전기 방지막의 제조방법.
The method of claim 1,
An additional solvent corresponding to the amount of the removed ethanol is added, wherein the additional solvent has a polarity of 1.0 to less than 5.9.
제1 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물은 탄소나노튜브 0.05 내지 20중량%, 폴리아크릴산 수지 0.02 내지 40중량%, 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올 50 내지 99중량%로 포함하는 정전기 방지막의 제조방법.
The method of claim 1,
The carbon nanotube dispersion composition is a method of producing an antistatic film comprising 0.05 to 20% by weight of carbon nanotubes, 0.02 to 40% by weight of polyacrylic acid resin, and 50 to 99% by weight of a linear alkanol having 2 to 5 carbon atoms.
제1 항에 있어서,
상기 실란졸 총 중량에 대하여, 알콕시실란 화합물 20 내지 60중량%, 알코올계 용매 10 내지 70중량% 및 물 5 내지 60중량%로 포함하는 정전기 방지막의 제조방법.
The method of claim 1,
Based on the total weight of the silane sol, 20 to 60% by weight of an alkoxysilane compound, 10 to 70% by weight of an alcohol-based solvent, and 5 to 60% by weight of water.
제1 항에 있어서,
상기 전도성 코팅액 조성물은 상기 탄소나노튜브 분산액 조성물 100중량부에 대해 상기 실란졸 10 내지 100 중량부를 포함하는 정전기 방지막의 제조방법.
The method of claim 1,
The conductive coating solution composition is a method for producing an antistatic film comprising 10 to 100 parts by weight of the silane sol based on 100 parts by weight of the carbon nanotube dispersion composition.
표시패널 상에 정전기 방지막을 형성하는 단계;
상기 정전기 방지막 상에 상부편광판을 부착하는 단계; 및
상기 표시패널 하부에 하부편광판을 부착하는 단계;를 포함하며,
상기 정전기 방지막을 형성하는 단계는,
알콕시실란 화합물, 알코올계 용매, 및 물을 혼합하여 알콕시실란 화합물을 졸 반응시킨 후, 상기 졸 반응시 생성된 에탄올을 제거하여 실란졸을 형성하는 단계;
탄소나노튜브 분산액 조성물을 형성하는 단계;
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물과 상기 실란졸을 혼합하여 전도성 코팅액 조성물을 제조하는 단계; 및
상기 표시패널 상에 상기 전도성 코팅액 조성물을 코팅하는 단계를 포함하고,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물을 형성하는 단계는 분사기를 사용하여 상기 탄소나노튜브 분산액 조성물을 1000bar 내지 1800bar의 압력하에 분사하는 단계를 포함하는 표시장치의 제조방법.
forming an antistatic film on the display panel;
attaching an upper polarizing plate on the antistatic film; and
Including; attaching a lower polarizing plate to the lower portion of the display panel;
The step of forming the antistatic film,
forming a silane sol by mixing an alkoxysilane compound, an alcohol-based solvent, and water to react the alkoxysilane compound with a sol, and then removing ethanol generated during the sol reaction;
forming a carbon nanotube dispersion composition;
preparing a conductive coating composition by mixing the carbon nanotube dispersion composition with the silane sol; and
and coating the conductive coating solution composition on the display panel,
The forming of the carbon nanotube dispersion composition includes spraying the carbon nanotube dispersion composition under a pressure of 1000 bar to 1800 bar using a sprayer.
제7 항에 있어서,
상기 에탄올은 회전 증발법을 이용하여 제거하는 표시장치의 제조방법.
8. The method of claim 7,
A method of manufacturing a display device wherein the ethanol is removed using a rotary evaporation method.
제7 항에 있어서,
상기 제거된 에탄올의 양에 해당하는 추가의 용매를 첨가하되, 상기 추가의 용매는 극성도가 1.0 내지 5.9 미만인 표시장치의 제조방법.
8. The method of claim 7,
An additional solvent corresponding to the amount of the removed ethanol is added, wherein the additional solvent has a polarity of 1.0 to less than 5.9.
제7 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물은 탄소나노튜브 0.05 내지 20중량%, 폴리아크릴산 수지 0.02 내지 40중량%, 탄소수 2 내지 5의 직쇄의 알칸올 50 내지 99중량%로 포함하는 표시장치의 제조방법.
8. The method of claim 7,
The carbon nanotube dispersion composition comprises 0.05 to 20% by weight of carbon nanotubes, 0.02 to 40% by weight of polyacrylic acid resin, and 50 to 99% by weight of a linear alkanol having 2 to 5 carbon atoms.
제7 항에 있어서,
상기 실란졸 총 중량에 대하여, 알콕시실란 화합물 20 내지 60중량%, 알코올계 용매 10 내지 70중량% 및 물 5 내지 60중량%로 포함하는 표시장치의 제조방법.
8. The method of claim 7,
A method of manufacturing a display device comprising 20 to 60% by weight of an alkoxysilane compound, 10 to 70% by weight of an alcohol-based solvent, and 5 to 60% by weight of water, based on the total weight of the silane sol.
제7 항에 있어서,
상기 전도성 코팅액 조성물은 상기 탄소나노튜브 분산액 조성물 100중량부에 대해 상기 실란졸 10 내지 100 중량부를 포함하는 표시장치의 제조방법.
8. The method of claim 7,
The method for manufacturing a display device, wherein the conductive coating composition includes 10 to 100 parts by weight of the silane sol based on 100 parts by weight of the carbon nanotube dispersion composition.
제4 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물은 추가 분산제 0.1 내지 2중량%를 더 포함하고,
상기 추가 분산제는 아크릴계 블록 공중합체인 정전기 방지막의 제조방법.
5. The method of claim 4,
The carbon nanotube dispersion composition further comprises 0.1 to 2% by weight of an additional dispersant,
The additional dispersant is an acrylic block copolymer, a method for producing an antistatic film.
제10 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브 분산액 조성물은 추가 분산제 0.1 내지 2중량%를 더 포함하고,
상기 추가 분산제는 아크릴계 블록 공중합체인 표시장치의 제조방법.
11. The method of claim 10,
The carbon nanotube dispersion composition further comprises 0.1 to 2% by weight of an additional dispersant,
The method of manufacturing a display device wherein the additional dispersant is an acrylic block copolymer.
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