KR102400072B1 - Large air bubble generating device and apparatus for purifying sewage or waste water comprising the same - Google Patents

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Abstract

A bubble generator and a wastewater purification device including the same are provided. The bubble generator is installed at the bottom of a septic tank in the wastewater purification device including the septic tank for receiving and treating introduced water containing organic matter, nitrogen and phosphorus. The bubble generator includes: i) a discharge unit having an opening through which air bubbles are discharged; and ii) a flipper unit that is positioned above the discharge unit, discharges air bubbles by operating in a direction away from the bottom when the buoyancy of the air bubbles is greater than a predetermined value, and covers the discharge unit after the air bubbles are discharged.

Description

기포발생장치 및 이를 포함하는 하폐수 정화 장치 {LARGE AIR BUBBLE GENERATING DEVICE AND APPARATUS FOR PURIFYING SEWAGE OR WASTE WATER COMPRISING THE SAME}Bubbling device and wastewater purification device including same {LARGE AIR BUBBLE GENERATING DEVICE AND APPARATUS FOR PURIFYING SEWAGE OR WASTE WATER COMPRISING THE SAME}

본 발명은 기포발생장치 및 이를 포함하는 하폐수 정화 장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 대형 기포를 발생시켜 하폐수의 생물학적 처리시 유기물, 질소 및 인 등의 영양 염류를 동시에 처리할 수 있고, 유량에 따라 대규모 또는 소규모로 선택 처리 가능한 기포발생장치 및 유입 및 간헐배출용 하폐수 정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a bubble generator and a wastewater purification device including the same. More specifically, it is possible to simultaneously process nutrient salts such as organic matter, nitrogen and phosphorus in the biological treatment of wastewater by generating large bubbles, and a bubble generator that can be selectively processed on a large or small scale according to the flow rate and for inflow and intermittent discharge It relates to a wastewater purification system.

일반적인 하폐수 처리 장치는 주로 균등조와 생물학적 처리 반응조로 이루어진다. 균등조는 날마다 발생하는 하수 또는 폐수를 저장한다. 생물학적 처리 반응조는 균등조에 저장된 하수 또는 폐수를 처리할 양만큼 유입시킨다. 하수 또는 폐수는 혐기 처리, 호기 처리, 무산소 처리, 침전을 거친 후 배출된다. 그리고 하수 또는 폐수를 다시 유입하여 동일한 과정을 반복한다. 즉, 단일 반응조에서 혐기, 호기, 무산소 처리를 진행한다.A general wastewater treatment system mainly consists of an equalization tank and a biological treatment reactor. The equalization tank stores the sewage or wastewater generated on a daily basis. The biological treatment reactor introduces an amount of sewage or wastewater stored in the equalization tank to be treated. Sewage or wastewater is discharged after anaerobic treatment, aerobic treatment, anaerobic treatment and sedimentation. Then, sewage or wastewater is introduced again and the same process is repeated. That is, anaerobic, aerobic, and anaerobic treatment are performed in a single reactor.

그러나 이러한 방법은 무인으로 운전되는 소규모 처리 시설에서는 운전이 용이하지 않아 그 처리 효율이 저하된다. 따라서 연속 회분식 반응조(sequencing batch rector, SBR) 전단에 혐기조와 무산소조를 별도로 설치하거나 단일 반응조내에 슬러지층 확보를 통해 혐기 조건 및 무산소 조건 조성의 효율을 높이고 있다.However, this method is not easy to operate in a small-scale treatment facility operated unmanned, and thus the treatment efficiency is lowered. Therefore, the anaerobic and anaerobic tanks are installed separately in front of the sequencing batch reactor (SBR) or the sludge layer is secured in a single reactor to increase the efficiency of creating anaerobic and anaerobic conditions.

한국등록특허 제10-0463631호Korean Patent No. 10-0463631

한국등록특허 제10-2094020호Korean Patent Registration No. 10-2094020

한국등록특허 제10-1911504호Korean Patent Registration No. 10-1911504

하폐수의 생물학적 처리시 유기물, 질소 및 인 등의 영양 염류의 동시 제거에 유용한 대형 기포발생장치를 제공한다. 또한, 기포발생장치를 포함하는 하폐수 정화 장치를 제공한다.To provide a large bubble generator useful for the simultaneous removal of nutrients such as organic matter, nitrogen, and phosphorus in the biological treatment of wastewater. In addition, there is provided a wastewater purification device including a bubble generator.

본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생장치는 유기물, 질소 및 인을 함유한 유입수를 공급받아 처리하는 정화조를 포함하는 하폐수 정화 장치에서 정화조의 바닥에 설치된다. 기포발생장치는 i) 공기 방울이 토출되는 개구부를 가진 토출부, 및 ii) 토출부 위에 위치하고, 공기 방울의 부력이 기설정치 이상인 경우, 바닥과 멀어지는 방향으로 작동되어 공기 방울을 배출시키고, 공기 방울이 배출된 후 토출부를 덮도록 적용된 플리퍼부를 포함한다.The bubble generator according to an embodiment of the present invention is installed at the bottom of a septic tank in a wastewater purification device including a septic tank that receives and processes influent water containing organic matter, nitrogen and phosphorus. The bubbler is i) a discharging unit having an opening through which air bubbles are discharged, and ii) located above the discharging unit, and when the buoyancy of the air bubble is greater than a preset value, it is operated in a direction away from the floor to discharge the air bubble, and the air bubble is discharged and a flipper part applied to cover the discharge part after being discharged.

본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생장치는 개구부와 마주하고 개구부보다 큰 또다른 개구부를 가진 지지부를 더 포함할 수 있다. 플리퍼부는 지지부 위에 위치할 수 있다. 플리퍼부는, i) 상호 마주하는 한 쌍의 측면들, ii) 한 쌍의 측면들을 플리퍼의 한 모서리 부근에서 상호 연결하는 힌지축, 및 iii) 힌지축의 양단이 삽입되는 홀이 형성되고, 지지부 위에 수직 고정된 한 쌍의 고정편들을 포함할 수 있다. 플리퍼부는 한 쌍의 측면들을 상호 연결하는 상면을 더 포함하고, 상면과 지지부가 이루는 예각은 20˚ 내지 40˚일 수 있다. 지지부는 플리퍼부와 최대로 이격되어 위치하는 에지부를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생장치는 지지부 위에 플리퍼부의 주위 아래에 지지부와 수직인 방향으로 상호 이격되어 설치되고 지지부와 상면의 접선으로부터 에지부로 갈수록 상호간의 이격 거리가 점차 더 커지고 상호 대칭인 한 쌍 이상의 가이드판들을 더 포함할 수 있다. 한 쌍 이상의 가이드판들 중 하나 이상의 가이드판의 높이는 플리퍼부의 평균 높이보다 낮을 수 있다.The bubble generator according to an embodiment of the present invention may further include a support part facing the opening and having another opening larger than the opening. The flipper part may be positioned on the support part. The flipper part includes: i) a pair of mutually facing side surfaces, ii) a hinge shaft interconnecting the pair of side surfaces in the vicinity of one edge of the flipper, and iii) a hole into which both ends of the hinge shaft are inserted, and perpendicular to the support part It may include a pair of fixed fixing pieces. The flipper part may further include an upper surface connecting the pair of side surfaces, and an acute angle between the upper surface and the support part may be 20° to 40°. The support part may include an edge part positioned to be spaced apart from the flipper part at the maximum. The bubble generating device according to an embodiment of the present invention is installed to be spaced apart from each other in a direction perpendicular to the support part under the periphery of the flipper part on the support part, and the distance from each other gradually increases from the tangent line between the support part and the upper surface to the edge part. It may further include one or more pairs of guide plates. A height of one or more of the pair of guide plates may be lower than an average height of the flipper part.

본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생장치는 지지부 위에 접하는 고정부를 더 포함할 수 있다. 플리퍼부는, i) 상호 마주하고 지지부에 수직인 방향으로 길게 뻗은 레일홈이 형성된 한 쌍의 제1 측면들, 및 ii) 한 쌍의 제1 측면들을 상호 연결하고, 고정부와 접하는 제2 측면을 포함할 수 있다. 고정부는 레일홈과 교차하는 방향으로 레일홈에 삽입되며, 고정부의 상측에 위치한 고정 로드를 포함할 수 있다. 플리퍼부는 지지부와 이격되어 레일홈을 따라 상하 운동하도록 적용될 수 있다. 고정부에는 제2 측면이 삽입되어 플리퍼부가 상하로 슬라이딩되도록 적용된 오목홈이 형성되고, 오목홈은 제2 측면과 접할 수 있다. 고정부는 그 상부에 형성된 경사면을 더 포함하고, 경사면은 고정 로드의 높이 이상의 위치에 형성되며, 플리퍼부가 최대로 상승한 경우, 고정부는 경사면에 접하도록 적용될 수 있다.The bubble generating device according to an embodiment of the present invention may further include a fixing part in contact with the support part. The flipper part includes: i) a pair of first side surfaces facing each other and having a rail groove extending in a direction perpendicular to the support part, and ii) a second side surface that interconnects the pair of first side surfaces and contacts the fixing part may include The fixing part is inserted into the rail groove in a direction crossing the rail groove, and may include a fixing rod positioned above the fixing part. The flipper part is spaced apart from the support part and may be applied to move up and down along the rail groove. A second side surface is inserted into the fixing part to form a concave groove adapted to slide the flipper part up and down, and the concave groove may be in contact with the second side surface. The fixing part further includes an inclined surface formed thereon, the inclined surface is formed at a position higher than the height of the fixing rod, and when the flipper part is maximally raised, the fixing part may be applied so as to be in contact with the inclined surface.

본 발명의 일 실시예에 따른 하폐수 정화 장치는 전술한 기포발생장치와 복수의 정화조들을 포함한다. 복수의 정화조들은, i) 유입수를 공급받아 처리하는 하나 이상의 혐기조, ii) 혐기조와 연결되어 유입수를 공급받아 처리하는 하나 이상의 무산소조, iii) 무산소조와 연결되어 유입수를 공급받아 처리수에 공기를 공급해 침전물을 생성한 후 침전물 위에 위치한 처리수는 배출하는 하나 이상의 폭기조, 및 iv) 혐기조, 무산소조 및 폭기조로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 정화조의 바닥에 설치된 복수의 기포발생장치들을 포함한다.A wastewater purification apparatus according to an embodiment of the present invention includes the above-described bubble generator and a plurality of septic tanks. The plurality of septic tanks include: i) one or more anaerobic tanks that receive and treat influent water, ii) one or more anaerobic tanks connected to an anaerobic tank to receive and treat influent water, iii) one or more anaerobic tanks connected to anoxic tanks to receive influent water and supply air to the treated water for sedimentation After generating the treated water located on the sediment, one or more aeration tanks are discharged, and iv) an anaerobic tank, an anaerobic tank and a plurality of bubble generators installed at the bottom of one or more septic tanks selected from the group consisting of an aeration tank.

하나 이상의 기포발생장치는 복수의 기포발생장치들을 포함할 수 있다. 복수의 기포발생장치들은 바닥에 하나 이상의 방향으로 상호 동일한 간격으로 이격 배열되고, 복수의 기포발생장치들 사이에 하나 이상의 또다른 토출부가 위치할 수 있다.The one or more bubblers may include a plurality of bubblers. The plurality of bubble generators may be arranged to be spaced apart from each other at the same distance in one or more directions on the floor, and one or more other discharge units may be positioned between the plurality of bubble generators.

유입 및 간헐배출식 하폐수 처리시에 기포발생장치를 이용하여 유기물, 질소, 및 인 등의 제거 효율을 높일 수 있다. 또한, 소용량의 하폐수 정화시에는 혐기조, 무산소조, SBR을 각각 하나만 이용할 수 있다. 그리고 부하 변동이 심할 것으로 예상되는 현장에는 혐기조와 무산소조를 하나씩 설치하고, SBR을 2개 설치하여 선택 운전할 수 있다. 한편, 중대형 시설에서는 고장 등에 대비하기 위해 혐기조, 무산소조, SBR을 각각 2개씩 설치할 수 있고 현장 여건에 따라 다른 배열 방법을 적용할 수도 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기포발생장치를 SBR에 설치하여 대형 기포를 생성할 수 있다. 대형 기포에 의한 수류 발생에 따라 산기 장치에서 발생하는 미세 기포의 수조내 체류 시간이 증가된다. 그 결과, 산소 전달률을 높여서 송풍량을 저감한다. 이에 따라 전력비를 절감하고 하부 슬러지를 교란시켜 하수 처리 효율을 향상시킬 수 있다.It is possible to increase the removal efficiency of organic matter, nitrogen, phosphorus, etc. by using a bubble generator during inflow and intermittent discharge type wastewater treatment. In addition, only one anaerobic tank, an anaerobic tank, and SBR can be used when purifying a small volume of wastewater. In addition, an anaerobic tank and an anaerobic tank are installed at the site where the load fluctuation is expected to be severe, and two SBRs can be installed for selective operation. Meanwhile, in medium-to-large facilities, two anaerobic tanks, anoxic tanks, and SBRs can be installed each to prepare for breakdowns, and different arrangement methods can be applied depending on site conditions. By installing the bubble generating device according to an embodiment of the present invention in the SBR, it is possible to generate large bubbles. As the water flow is generated by the large bubbles, the residence time of the microbubbles generated in the aeration device in the water tank is increased. As a result, the oxygen transfer rate is increased to reduce the air flow rate. Accordingly, it is possible to reduce the power cost and improve the sewage treatment efficiency by disturbing the lower sludge.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 하폐수 정화 장치의 개략적인 블록도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 하폐수 정화 장치의 개략적인 블록도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 하폐수 정화 장치의 개략적인 블록도이다.
도 4는 도 1의 하폐수 정화 장치에 포함된 정화조의 바닥의 개략적인 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기포발생장치의 개략적인 사시도이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기포발생장치의 개략적인 사시도이다.
도 7은 도 6의 기포발생장치의 작동 상태도이다.
도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기포발생장치의 개략적인 사시도이다.
1 is a schematic block diagram of a wastewater purification apparatus according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic block diagram of a wastewater purification apparatus according to a second embodiment of the present invention.
3 is a schematic block diagram of a wastewater purification apparatus according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view of the bottom of a septic tank included in the wastewater purification apparatus of FIG. 1 .
5 is a schematic perspective view of a bubble generator according to a first embodiment of the present invention.
6 is a schematic perspective view of a bubble generator according to a second embodiment of the present invention.
7 is an operation state diagram of the bubble generator of FIG. 6 .
8 is a schematic perspective view of a bubble generator according to a third embodiment of the present invention.

여기서 사용되는 전문용어는 단지 특정 실시예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하는 것을 의도하지 않는다. 여기서 사용되는 단수 형태들은 문구들이 이와 명백히 반대의 의미를 나타내지 않는 한 복수 형태들도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함하는"의 의미는 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소 및/또는 성분을 구체화하며, 다른 특정 특성, 영역, 정수, 단계, 동작, 요소, 성분 및/또는 군의 존재나 부가를 제외시키는 것은 아니다.The terminology used herein is for the purpose of referring to specific embodiments only, and is not intended to limit the invention. As used herein, the singular forms also include the plural forms unless the phrases clearly indicate the opposite. The meaning of "comprising," as used herein, specifies a particular characteristic, region, integer, step, operation, element and/or component, and other specific characteristic, region, integer, step, operation, element, component, and/or group. It does not exclude the existence or addition of

다르게 정의하지는 않았지만, 여기에 사용되는 기술용어 및 과학용어를 포함하는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 일반적으로 이해하는 의미와 동일한 의미를 가진다. 보통 사용되는 사전에 정의된 용어들은 관련기술문헌과 현재 개시된 내용에 부합하는 의미를 가지는 것으로 추가 해석되고, 정의되지 않는 한 이상적이거나 매우 공식적인 의미로 해석되지 않는다.Although not defined otherwise, all terms including technical terms and scientific terms used herein have the same meaning as those commonly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Commonly used terms defined in the dictionary are additionally interpreted as having a meaning consistent with the related technical literature and the presently disclosed content, and unless defined, are not interpreted in an ideal or very formal meaning.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art can easily carry out the present invention. However, the present invention may be embodied in several different forms and is not limited to the embodiments described herein.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 하폐수 정화 장치(100)의 블록도를 개략적으로 나타낸다. 도 1의 하폐수 정화 장치(100)의 블록도는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 하폐수 정화 장치(100)를 다른 형태로도 변형할 수 있다. 하폐수 정화 장치(100)는 간헐 배출 방식으로 작동한다. 1 schematically shows a block diagram of a wastewater purification apparatus 100 according to a first embodiment of the present invention. The block diagram of the wastewater purification apparatus 100 of FIG. 1 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Accordingly, the wastewater purification apparatus 100 may be modified into other forms. The wastewater purification apparatus 100 operates in an intermittent discharge manner.

도 1에 도시한 바와 같이, 하폐수 정화 장치(100)는 혐기조(52), 무산소조(60), 폭기조(70) 및 처리 수조(80)를 하나씩 포함한다. 도 1의 하폐수 정화 장치(100)는 소용량의 하폐수를 처리하는 경우 사용하기에 적합하다. 유입수는 하수 또는 폐수로서, 유기물, 질소 및 인 등을 포함한다. 유입수는 혐기조(50), 무산소조(60) 및 폭기조(70)를 차례로 거치면서 정화된 후 처리 수조(80)로 배출된다.As shown in FIG. 1 , the wastewater purification apparatus 100 includes an anaerobic tank 52 , an anoxic tank 60 , an aeration tank 70 , and a treatment tank 80 . The wastewater purification apparatus 100 of FIG. 1 is suitable for use when treating a small volume of wastewater. The influent is sewage or wastewater, and includes organic matter, nitrogen, phosphorus, and the like. The influent is purified while passing through the anaerobic tank 50 , the anoxic tank 60 , and the aeration tank 70 in sequence, and then is discharged to the treatment tank 80 .

도 1의 상측에 점선 화살표로 나타낸 바와 같이, 유입수는 혐기조(50)로 유입된다. 혐기조(50)에 설치된 교반기(미도시)가 회전하면서 유입수와 폭기조(70)에서 반송된 슬러지가 함께 혼합된다. 유입수에 포함된 탄소원에 의해 미생물 세포내의 인이 방출된다. 그리고 슬러지에 함유된 질소 성분은 질소 가스로 환원되어 제거된다.As indicated by the dotted arrow on the upper side of FIG. 1 , the influent flows into the anaerobic tank 50 . As the agitator (not shown) installed in the anaerobic tank 50 rotates, the influent water and the sludge returned from the aeration tank 70 are mixed together. The phosphorus in the microbial cells is released by the carbon source contained in the influent. And the nitrogen component contained in the sludge is reduced to nitrogen gas and removed.

다시 도 1의 상측에 표시한 점선 화살표 방향을 따라 유입수와 슬러지는 혐기조(50)로부터 무산소조(60)로 이송된다. 무산소조(60)에서는 질소 성분을 질소 가스화하여 그 환원 제거를 더욱 극대화한다. 무산소조(60)에서 반응이 완료된 유입수와 반송 슬러지는 폭기조(70)로 이송된다. 무산소조(60)와 폭기조(70) 사이에는 밸브(90)가 설치된다. 따라서 밸브(90)의 작동에 의해 무산소조(60)와 폭기조(70)를 상호 연통시키거나 차단할 수 있다. 밸브(90)로서 솔레노이드 밸브를 사용할 수 있다.Again, inflow water and sludge are transferred from the anaerobic tank 50 to the anaerobic tank 60 along the dotted arrow direction indicated on the upper side of FIG. 1 . In the anoxic tank 60, the nitrogen component is converted into nitrogen gas to further maximize the reduction and removal thereof. The influent and returned sludge, which have been reacted in the anoxic tank (60), are transferred to the aeration tank (70). A valve 90 is installed between the anoxic tank 60 and the aeration tank 70 . Therefore, the anaerobic tank 60 and the aeration tank 70 may be communicated with each other or blocked by the operation of the valve 90 . A solenoid valve may be used as the valve 90 .

폭기조(70)에서는 공기가 공급되어 유입수를 생물학적으로 처리한다. 즉, 유입수에 함유된 유기물의 산화, 유입수에 함유된 질소 성분의 질산화, 그리고 인의 과잉 흡수가 이루어진다. 폭기조(70)에서 공기 공급이 완료된 경우, 처리수와 슬러지가 고액 분리되면서 침전이 이루어진다.In the aeration tank 70, air is supplied to biologically treat the inflow water. That is, oxidation of organic matter contained in influent, nitrification of nitrogen contained in influent, and excessive absorption of phosphorus occur. When the air supply is completed in the aeration tank 70, the treated water and the sludge are solid-liquid separated and settling occurs.

도 1의 상측에 점선 화살표로 도시한 바와 같이, 유입수는 혐기조(50), 무산소조(60) 및 폭기조(70)를 순환하면서 정화되고, 위 침전 과정이 반복되면서 침전물은 계속 쌓인다. 도 1의 하측에 점선 화살표로 도시한 바와 같이, 침전 과정이 완료된 경우, 처리수는 처리 수조(80)로 간헐 배출된다. 예를 들면, 폭기조(70)에는 디캔터 등의 고정식 배출 장치(미도시)가 설치되어 침전물 위에 위치한 처리수를 처리 수조(80)로 간헐 배출한다. 폭기조(70)와 처리 수조(80) 사이에는 밸브(96)를 설치하여 처리수의 배출을 조절할 수 있다.As shown by the dotted arrow on the upper side of FIG. 1, the influent is purified while circulating the anaerobic tank 50, the anoxic tank 60 and the aeration tank 70, and the sediment continues to accumulate while the above precipitation process is repeated. 1 , when the precipitation process is completed, the treated water is intermittently discharged to the treatment tank 80 . For example, a fixed discharge device (not shown) such as a decanter is installed in the aeration tank 70 to intermittently discharge the treated water located on the sediment to the treatment tank 80 . A valve 96 may be installed between the aeration tank 70 and the treatment water tank 80 to control discharge of treated water.

도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 하폐수 정화 장치(200)의 블록도를 개략적으로 나타낸다. 도 2의 하폐수 정화 장치(200)의 구조는 도 1의 하폐수 정화 장치(100)의 구조와 유사하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며 그 상세한 설명을 생략한다.2 schematically shows a block diagram of a wastewater purification apparatus 200 according to a second embodiment of the present invention. Since the structure of the wastewater purification apparatus 200 of FIG. 2 is similar to the structure of the wastewater purification apparatus 100 of FIG. 1 , the same reference numerals are used for the same parts, and a detailed description thereof is omitted.

도 2에 도시한 바와 같이, 하폐수 정화 장치(100)는 혐기조(50), 무산소조(60), 폭기조(70, 72), 및 처리 수조(80)를 포함한다. 하나의 혐기조(50), 무산소조(60), 및 처리 수조(80)를 중앙에 설치하고, 그 양측에 각각 폭기조(70, 72)를 설치한다. 따라서 폭기조(70, 72)는 양쪽을 전부 사용하거나 교번하여 어느 한 쪽만 사용할 수 있다. 즉, 폭기조(70, 72) 중 어느 하나에 고장이 발생하거나 유지 보수 등으로 인해 정지가 필요한 경우, 어느 한 폭기조(70, 72)를 정지시키고 다른 폭기조(72, 70)를 사용할 수 있다.As shown in FIG. 2 , the wastewater purification apparatus 100 includes an anaerobic tank 50 , an anoxic tank 60 , aeration tanks 70 and 72 , and a treatment tank 80 . One anaerobic tank 50, an anaerobic tank 60, and a treatment tank 80 are installed in the center, and aeration tanks 70 and 72 are installed on both sides thereof, respectively. Accordingly, both of the aeration tanks 70 and 72 may be used or only one of them may be used alternately. That is, when a failure occurs in any one of the aeration tanks 70 and 72 or a stop is required due to maintenance, one of the aeration tanks 70 and 72 may be stopped and the other aeration tanks 72 and 70 may be used.

무산소조(60)와 폭기조(70, 72) 사이에는 밸브(90, 92)가 각각 설치된다. 따라서 밸브(90, 92)의 작동에 의해 무산소조(60)와 폭기조(70, 72)를 상호 연통시키거나 차단할 수 있다. 밸브(90, 92)로서 솔레노이드 밸브를 사용할 수 있다.Valves 90 and 92 are installed between the anoxic tank 60 and the aeration tanks 70 and 72, respectively. Accordingly, the anoxic tank 60 and the aeration tanks 70 and 72 may be communicated with each other or blocked by the operation of the valves 90 and 92 . As the valves 90 and 92, a solenoid valve may be used.

도 2의 하측에 점선 화살표로 도시한 바와 같이, 침전 과정이 완료되면 처리수는 처리 수조(80)로 간헐 배출된다. 폭기조(70, 72)와 처리 수조(80) 사이에는 각각 밸브(96, 98)를 설치하여 처리수의 배출을 조절한다. 즉, 폭기조(70)를 이용한 경우, 밸브(96)를 열어서 처리수를 처리 수조(80)로 배출하고, 폭기조(72)를 이용한 경우, 밸브(98)를 열어서 처리수를 처리 수조(80)로 배출한다.2 , when the precipitation process is completed, the treated water is intermittently discharged to the treatment tank 80 . Valves 96 and 98 are respectively installed between the aeration tanks 70 and 72 and the treatment water tank 80 to control the discharge of treated water. That is, when the aeration tank 70 is used, the valve 96 is opened to discharge the treated water to the treatment water tank 80 , and when the aeration tank 72 is used, the valve 98 is opened and the treated water is discharged into the treatment water tank 80 . discharged with

도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 하폐수 정화 장치(300)의 블록도를 개략적으로 나타낸다. 도 3의 하폐수 정화 장치(300)의 구조는 도 2의 하폐수 정화 장치(200)의 구조와 유사하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며 그 상세한 설명을 생략한다.3 schematically shows a block diagram of a wastewater purification apparatus 300 according to a third embodiment of the present invention. Since the structure of the wastewater purification apparatus 300 of FIG. 3 is similar to that of the wastewater purification apparatus 200 of FIG. 2 , the same reference numerals are used for the same parts, and detailed descriptions thereof are omitted.

도 3에 도시한 바와 같이, 하폐수 정화 장치(100)는 혐기조(50, 52), 무산소조(60, 62), 폭기조(70, 72), 및 처리 수조(80, 82)를 포함한다. 즉, 하폐수 정화 장치(100)에 포함된 모든 정화조들을 한 쌍으로 설치한다. As shown in FIG. 3 , the wastewater purification apparatus 100 includes anaerobic tanks 50 and 52 , anoxic tanks 60 and 62 , aeration tanks 70 and 72 , and treatment tanks 80 and 82 . That is, all the septic tanks included in the wastewater purification apparatus 100 are installed as a pair.

혐기조(50), 무산소조(60), 폭기조(70), 및 처리 수조(80)는 하폐수 정화 장치(100)의 좌측에 위치하고, 혐기조(52), 무산소조(62), 폭기조(72), 및 처리 수조(82)는 하폐수 정화 장치(100)의 우측에 위치한다. 좌측과 우측의 혐기조(50, 52), 무산소조(60, 62), 폭기조(70, 72), 및 처리 수조(80, 82)를 모두 사용하거나 어느 한 측만 사용할 수도 있다.Anaerobic tank 50, anoxic tank 60, aeration tank 70, and treatment tank 80 are located on the left side of wastewater purification apparatus 100, anaerobic tank 52, anaerobic tank 62, aeration tank 72, and treatment The water tank 82 is located on the right side of the wastewater purification apparatus 100 . The left and right anaerobic tanks 50 and 52, anoxic tanks 60 and 62, aeration tanks 70 and 72, and treatment tanks 80 and 82 may all be used, or only one side may be used.

무산소조(60, 62)와 폭기조(70, 72) 사이에는 밸브(90, 92)가 설치된다. 따라서 밸브(90, 92)의 작동에 의해 무산소조(60, 62)와 폭기조(70, 72)를 상호 연통시키거나 차단할 수 있다. 한편, 밸브(94)는 무산소조(60, 62) 사이에 설치된다. 밸브(94)는 폭기조(70, 72) 중 어느 한 폭기조만 사용하는 경우에 오픈한다. 이 경우, 다른 폭기조는 휴지하여 유지 보수할 수 있다. 밸브(90, 92, 94)로서 솔레노이드 밸브를 사용할 수 있다. 폭기조(70, 72)와 처리 수조(80, 82) 사이에는 밸브(96, 98) 등을 설치하여 처리수의 배출을 조절할 수 있다.Valves 90 and 92 are installed between the anoxic tanks 60 and 62 and the aeration tanks 70 and 72 . Accordingly, the anoxic tanks 60 and 62 and the aeration tanks 70 and 72 may be mutually communicated or blocked by the operation of the valves 90 and 92 . Meanwhile, the valve 94 is installed between the anoxic tanks 60 and 62 . The valve 94 is opened when only one of the aeration tanks 70 and 72 is used. In this case, the other aeration tank can be stopped for maintenance. As the valves 90, 92, 94, a solenoid valve may be used. Valves 96 and 98 may be installed between the aeration tanks 70 and 72 and the treatment tanks 80 and 82 to control the discharge of treated water.

한편, 도 1 내지 도 3에는 도시하지 않았지만, 하수를 정화조에 채우고 내부 순환시켜 고도 처리한 후 배출시키는 하폐수 정화 장치에도 사용할 수 있다. 즉, 포기 전후로 반응이 일어나는 정화조 상등수를 각각 일정 시간동안 정화조 하부로 반송시켜 정화조 하부에 압밀 침전된 슬러지와 상등수와의 접촉 기회를 증가시켜 좀더 빠르게 무산소 조건에 도달시킨다. 따라서 높은 탈질 효과를 얻을 수 있어서 인의 방출 조건 조성에 효과적이다. 나아가, 전술한 기포발생장치(10)를 정화조의 바닥에 설치하여 하폐수 정화 효율을 더욱 높일 수 있다.On the other hand, although not shown in FIGS. 1 to 3, it can also be used in a wastewater purification apparatus that fills a septic tank with sewage, circulates it internally, undergoes advanced treatment, and then discharges it. That is, by returning the septic tank supernatant, in which the reaction occurs before and after aeration, to the lower part of the septic tank for a certain period of time, the chance of contact between the sludge consolidated in the lower part of the septic tank and the supernatant is increased to reach an anaerobic condition more quickly. Therefore, a high denitrification effect can be obtained, so it is effective in the composition of phosphorus emission conditions. Furthermore, by installing the above-described bubble generator 10 at the bottom of the septic tank, it is possible to further increase the efficiency of wastewater purification.

이하에서는 도 4 내지 도 8을 참조하여 혐기조(50, 52), 무산소조(60, 62) 또는 폭기조(70, 72) 등의 정화조에 설치될 수 있는 기포발생장치(10)(도 4에 도시)에 대하여 좀더 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to FIGS. 4 to 8, a bubble generator 10 that can be installed in a septic tank such as anaerobic tanks 50 and 52, anoxic tanks 60 and 62, or aeration tanks 70 and 72 (shown in FIG. 4) will be described in more detail.

도 4는 도 1의 하폐수 정화 장치(100)의 정화조의 바닥(40)을 개략적으로 나타낸다. 도 4의 바닥(40)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 바닥(40)을 다른 형태로도 변형할 수 있다. 또한, 바닥(40)은 혐기조, 무산소조, 폭기조 또는 반응조 등의 정화조의 바닥이 될 수 있다. 이러한 정화조의 유형은 단지 기포발생장치(10)가 설치되는 위치를 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기포발생장치(10)는 하폐수를 정화하는 다양한 조들의 바닥에 설치될 수 있다.4 schematically shows the bottom 40 of the septic tank of the wastewater purification apparatus 100 of FIG. 1 . The structure of the bottom 40 of FIG. 4 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Therefore, the floor 40 can be transformed into other shapes. Also, the bottom 40 may be the bottom of a septic tank such as an anaerobic tank, anoxic tank, aeration tank or reaction tank. This type of septic tank is merely to illustrate the location where the bubble generator 10 is installed, and the present invention is not limited thereto. Therefore, the bubble generator 10 may be installed at the bottom of various tanks for purifying wastewater.

도 4에 도시한 바와 같이, 바닥(40)에는 기포발생장치(10)와 토출부(101)가 배열된다. 도 4의 x축 및 y축 방향을 따라 토출부(101)와 기포발생장치(10)가 나란히 배열되어 설치된다. 기포발생장치(10)는 x축 방향으로 상호 동일한 간격으로 이격되어 배열된다. 또한, 기포발생장치(10)는 y축 방향으로도 상호 동일한 간격으로 이격되어 배열된다. 도 4와 달리 기포발생장치(10)는 x축 방향과 y축 방향으로도 모두 동일한 간격으로 이격되어 배열될 수 있다. 즉, 도 4에는 기포발생장치(10)가 x축 또는 y축의 한 방향으로만 동일한 간격으로 이격되어 배열된 것으로 도시하였지만, x축 또는 y축의 모든 방향으로 동일한 간격으로 이격될 수도 있다. 그리고 다수의 토출부(101)가 기포발생장치(10) 사이에 위치한다. 이와는 달리 하나의 토출부(101)만 기포발생장치(10) 사이에 위치할 수도 있다.As shown in FIG. 4 , the bubble generator 10 and the discharge unit 101 are arranged on the floor 40 . The discharge unit 101 and the bubble generator 10 are arranged side by side along the x-axis and y-axis directions of FIG. 4 . The bubble generator 10 is arranged to be spaced apart from each other at equal intervals in the x-axis direction. In addition, the bubble generator 10 is arranged to be spaced apart from each other at the same distance in the y-axis direction. Unlike FIG. 4 , the bubble generator 10 may be arranged to be spaced apart from each other at the same distance in both the x-axis direction and the y-axis direction. That is, although FIG. 4 shows that the bubble generator 10 is arranged to be spaced apart at the same distance in only one direction of the x-axis or the y-axis, they may be spaced apart at the same distance in all directions of the x-axis or the y-axis. And a plurality of discharge units 101 are located between the bubble generating device (10). Alternatively, only one discharge unit 101 may be positioned between the bubble generator 10 .

도 4에 도시한 바와 같이, 토출부(101)를 통해서는 작은 공기방울들(SB)이 배출되고, 기포발생장치(10)을 통해서는 큰 공기방울들(LB)이 배출된다. 따라서 기포발생장치(10)을 규칙적으로 배열하여 큰 공기방울들(LB)을 작은 공기방울들(SB)과 균일하게 혼합한다. 도 4에 점선 화살표로 도시한 바와 같이, 큰 공기방울들(LB)이 배출되는 경우 작은 공기방울들(SB)이 큰 공기방울들(LB)을 추종한다. 그 결과, 작은 공기방울들(SB)이 하폐수내에 머무르는 시간을 증대시켜 하폐수의 정화 효율을 향상시킬 수 있다. 토출부(101)의 높이는 실질적으로 약 200mm일 수 있다. 도 4에는 도시하지 않았지만, 기포발생장치(10)과 토출부(101)에는 각각 별도의 라인들을 설치하여 각각 별도로 공기를 공급할 수 있다.As shown in FIG. 4 , small air bubbles SB are discharged through the discharge unit 101 , and large air bubbles LB are discharged through the bubble generator 10 . Therefore, by arranging the bubble generator 10 regularly, the large air bubbles LB are uniformly mixed with the small air bubbles SB. As shown by a dotted arrow in FIG. 4 , when the large air bubbles LB are discharged, the small air bubbles SB follow the large air bubbles LB. As a result, it is possible to improve the purification efficiency of the wastewater by increasing the time the small air bubbles SB stay in the wastewater. The height of the discharge unit 101 may be substantially about 200 mm. Although not shown in FIG. 4 , separate lines may be installed in the bubble generator 10 and the discharge unit 101 to separately supply air.

기포발생장치(10)와 토출부(101)는 혐기조, 무산소조 또는 폭기조의 바닥(40)에 설치되어 공기를 배출함으로써 유입수에 함유된 유기물, 질소 및 인을 제거한다. 토출부(10)에서 배출되는 작은 부피의 공기방울들(SB)과 기포발생장치(10)에서 배출되는 큰 부피의 공기방울들(LB)이 함께 사용된다. 이 경우, 혐기조와 무산소조의 하폐수를 잘 교반할 수 있다. 즉, 기포발생장치(10)가 큰 공기 방울을 토출하고, 작은 공기방울들이 이를 추종하면서 이동하므로, 유입수의 순환률을 더 높일 수 있다. 또한, 큰 공기 방울이 처리수를 밀어 하부로 강제 순환시킴으로써 바닥(40)에 쌓인 슬러지들을 제거할 수 있다.The bubble generator 10 and the discharge unit 101 are installed at the bottom 40 of the anaerobic tank, anoxic tank or aeration tank to discharge air to remove organic matter, nitrogen and phosphorus contained in the influent water. The small volume air bubbles SB discharged from the discharge unit 10 and the large volume air bubbles LB discharged from the bubble generator 10 are used together. In this case, the wastewater of the anaerobic tank and the anaerobic tank can be well stirred. That is, since the bubble generating device 10 discharges large air bubbles and the small air bubbles move while following them, the circulation rate of the inflow water can be further increased. In addition, the sludge accumulated on the floor 40 can be removed by forcibly circulating the water to the bottom by pushing the large air bubbles to the bottom.

한편, 폭기조에서는 유지비를 절감할 수 있다. 예를 들면, 폭기조에 기포발생장치(10)을 설치하는 경우, 폭기 시간을 3시간에서 2.5시간으로 단축할 수 있다. 그 결과, 전체적으로 하폐수의 정화 효율을 극대화할 수 있다.On the other hand, maintenance costs can be reduced in the aeration tank. For example, when the bubble generator 10 is installed in the aeration tank, the aeration time can be reduced from 3 hours to 2.5 hours. As a result, it is possible to maximize the purification efficiency of wastewater as a whole.

도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 기포발생장치(10)를 개략적으로 나타낸다. 도 5는 도 4의 기포발생장치(10)을 확대하여 나타낸다. 도 5의 기포발생장치(10)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기포발생장치(10)의 구조를 다른 형태로도 변형할 수 있다.5 schematically shows a bubble generator 10 according to a first embodiment of the present invention. 5 is an enlarged view of the bubble generator 10 of FIG. 4 . The structure of the bubble generator 10 of FIG. 5 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Accordingly, the structure of the bubble generator 10 may be modified into other forms.

도 5에 도시한 바와 같이, 토출부(102)를 통해 플리퍼부(103)에 공기가 공급된다. 도 5에는 +z축 방향으로 공기가 공급되는 것으로 도시하였지만, y축 방향 또는 x축 방향으로도 공기를 공급할 수 있다. 플리퍼부(103)는 커버 형상의 부품으로서, 그 일측에 힌지가 형성되어 이를 축으로 해 뒤집어지면서 열린다. 즉, 플리퍼부(103)는 바닥(40)과 멀어지는 방향으로 작동된다. 따라서 플리퍼부(103) 내부에 토출부(101)로부터 배출되는 공기 방울들이 모여 큰 공기 방울들을 형성한다. 이러한 공기 방울의 부피가 점차 커지면서 그 부력이 기설정치 이상이 되는 경우, 플리퍼부(103)가 회전해 뒤집어지면서 큰 공기 방울이 배출된다. 공기 방울이 배출된 후 플리퍼부(103)는 다시 토출부(101)를 덮는다. 여기서, 공기 방울의 부력은 12N 내지 13N일 수 있다. 이러한 공기 방울의 부력의 범위에 맞게 플리퍼부(103)의 질량을 결정한다. 플리퍼부(103)의 무게는 10kg 내지 20kg일 수 있다. 플리퍼부(103)의 무게가 너무 작은 경우, 플리퍼부(103)가 뒤집어졌다가 다시 제자리로 돌아오기 어렵다. 또한, 플리퍼부(103)의 무게가 너무 큰 경우, 플리퍼부(103)가 뒤집어지지 않는다. 따라서 플리퍼부(103)의 무게를 전술한 범위로 조절한다.As shown in FIG. 5 , air is supplied to the flipper unit 103 through the discharge unit 102 . Although it is illustrated in FIG. 5 that air is supplied in the +z-axis direction, air may also be supplied in the y-axis direction or the x-axis direction. The flipper part 103 is a cover-shaped part, a hinge is formed on one side thereof, and is opened while turning over as an axis. That is, the flipper unit 103 is operated in a direction away from the floor 40 . Accordingly, air bubbles discharged from the discharge unit 101 gather inside the flipper unit 103 to form large air bubbles. When the volume of these air bubbles gradually increases and the buoyancy becomes greater than or equal to a preset value, the flipper unit 103 rotates and turns over to discharge large air bubbles. After the air bubbles are discharged, the flipper unit 103 covers the discharge unit 101 again. Here, the buoyancy force of the air bubble may be 12N to 13N. The mass of the flipper unit 103 is determined according to the range of the buoyancy force of the air bubble. The weight of the flipper unit 103 may be 10 kg to 20 kg. When the weight of the flipper part 103 is too small, it is difficult to return the flipper part 103 to its original position after being turned over. In addition, when the weight of the flipper part 103 is too large, the flipper part 103 is not turned over. Accordingly, the weight of the flipper unit 103 is adjusted within the above-described range.

도 5에 도시한 바와 같이, 지지부(105)는 xy 평면 방향에 평행하게 위치하고, 판형으로 형성된다. 지지부(105)는 바닥(40) 위에 빔(107)에 의해 고정된다. 도 5에는 도시하지 않았지만 빔들(107)은 x축 방향을 따라 지지부(105)의 앞측뿐만 아니라 뒤측에도 위치한다. 즉, 플리퍼부(103)가 화살표 방향, 즉 x축 방향을 따라 회전 운동하므로 x축 방향으로 큰 힘을 받는다. 따라서 한 쌍의 빔들(107)은 x축 방향을 따라 나란히 위치하는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 5 , the support part 105 is positioned parallel to the xy plane direction and is formed in a plate shape. The support 105 is fixed by a beam 107 above the floor 40 . Although not shown in FIG. 5 , the beams 107 are positioned not only on the front side but also on the rear side of the support part 105 along the x-axis direction. That is, since the flipper unit 103 rotates along the arrow direction, that is, the x-axis direction, it receives a large force in the x-axis direction. Therefore, it is preferable that the pair of beams 107 are positioned side by side along the x-axis direction.

지지부(105)는 또다른 개구부(1051)(점선 도시)를 가진다. 또다른 개구부(1051)는 개구부(1011)와 마주하고, 개구부(1011)보다 크다. 따라서 개구부(1011)를 통해 토출된 공기 방울은 개구부(1051)를 통과하여 플리퍼부(103)의 아래에 갇힌다. 도 5에는 지지부(105)가 존재하는 것으로 도시하였지만, 지지부(105)를 생략할 수도 있다.The support 105 has another opening 1051 (shown in dashed line). Another opening 1051 faces the opening 1011 and is larger than the opening 1011 . Accordingly, air bubbles discharged through the opening 1011 pass through the opening 1051 and are trapped under the flipper unit 103 . Although the support part 105 is illustrated in FIG. 5 as being present, the support part 105 may be omitted.

플리퍼부(103)는 상면(1031), 한 쌍의 제1 측면들(1033), 제2 측면(1035), 힌지축(1037), 그리고 한 쌍의 고정편들(1039)를 포함한다. 이외에, 플리퍼부(103)는 필요에 따라 다른 구성요소들을 더 포함할 수 있다. 플리퍼부(103)의 아래는 토출부(101)의 개구부(1011)와 연통된다. 따라서 개구부(1011)로부터 토출되는 공기 방울들은 일단 플리퍼부(103) 내에 갇힌다.The flipper unit 103 includes an upper surface 1031 , a pair of first side surfaces 1033 , a second side surface 1035 , a hinge shaft 1037 , and a pair of fixing pieces 1039 . In addition, the flipper unit 103 may further include other components as necessary. A lower portion of the flipper unit 103 communicates with the opening 1011 of the discharge unit 101 . Accordingly, air bubbles discharged from the opening 1011 are once trapped in the flipper unit 103 .

상면(1031)은 한 쌍의 제1 측면들(1033)을 상호 연결한다. 상면(1031)은 지지부(105)와 예각(α)을 이룬다. 예각(α)은 20˚ 내지 40˚일 수 있다. 예각(α)이 너무 작은 경우, 플리퍼부(103)가 너무 잘 열릴 수 있다. 또한, 예각(α)이 너무 큰 경우, 플리퍼부(103)가 잘 열리지 않을 수 있다. 따라서 예각(α)을 전술한 범위로 조절한다. 상면(1031)에는 공기방울구멍(1031a)을 형성하여 플리퍼부(103)에 포집된 공기를 배출시킨다. 이러한 배출 과정이 포기 공정에서는 불필요하지만 침전 공정과 배출 공정에서는 수압이 변동된다. 이 경우, 플리퍼부(103)에 잔존하는 잔여 공기에 의해 플리퍼부(103)가 열려 슬러지가 부상되는 현상을 방지하기 위해 공기방울구멍(1031a)을 통해 잔여 공기를 배출시킨다. 공기방울구멍(1031a)은 상면(1031) 중 지지부(105)와 가장 먼 위치에 형성된다. 공기방울구멍(1031a)의 직경은 1mm 내지 10mm일 수 있다. 공기방울구멍(1031a)의 직경이 너무 큰 경우, 플리퍼부(103)에 공기가 포집되지 않을 수 있다. 또한, 공기방울구멍(1031a)의 직경이 너무 작은 경우, 슬러지에 의해 공기방울구멍(1031a)이 폐색될 수 있다. 따라서 공기방울구멍(1031a)의 직경을 전술한 범위로 조절한다.The upper surface 1031 interconnects the pair of first side surfaces 1033 . The upper surface 1031 forms an acute angle α with the support 105 . The acute angle α may be 20° to 40°. If the acute angle α is too small, the flipper part 103 may open too well. Also, when the acute angle α is too large, the flipper unit 103 may not open well. Therefore, the acute angle α is adjusted within the above-described range. Air bubble holes 1031a are formed on the upper surface 1031 to discharge the air collected in the flipper part 103 . Although this discharge process is not necessary in the aeration process, the water pressure fluctuates in the sedimentation process and the discharge process. In this case, the residual air is discharged through the air bubble hole 1031a in order to prevent the flipper part 103 from being opened by the residual air remaining in the flipper part 103 and the sludge is floating. The air bubble hole (1031a) is formed in the position farthest from the support part (105) of the upper surface (1031). The diameter of the air bubble hole (1031a) may be 1mm to 10mm. When the diameter of the air bubble hole 1031a is too large, air may not be collected in the flipper part 103 . In addition, when the diameter of the air bubble hole 1031a is too small, the air bubble hole 1031a may be blocked by sludge. Therefore, the diameter of the air bubble hole (1031a) is adjusted to the above-mentioned range.

한 쌍의 제1 측면들(1033)은 y축 방향을 따라 상호 마주한다. 한 쌍의 제1 측면들(1033)은 직각 삼각형 형상을 가진다. 따라서 상면(1031)은 경사진 형태로 형성된다. 제2 측면(1035)은 -x축 방향을 향한다. 제2 측면(1035)은 한 쌍의 제1 측면들(1033)과 상호 연결되고, 상면(1031)과 접한다.The pair of first side surfaces 1033 face each other along the y-axis direction. The pair of first side surfaces 1033 have a right-angled triangle shape. Accordingly, the upper surface 1031 is formed in an inclined shape. The second side surface 1035 faces the -x-axis direction. The second side surface 1035 is interconnected with the pair of first side surfaces 1033 and is in contact with the upper surface 1031 .

힌지축(1037)은 한 쌍의 측면들(1033)을 상호 연결한다. 힌지축(1037)은 플리퍼(103)의 한 모서리 부근에 위치한다. 여기서, 모서리는 제2 측면(1035)과 지지부(105)가 만나는 선일 수 있다.The hinge shaft 1037 interconnects the pair of side surfaces 1033 . The hinge shaft 1037 is located near one edge of the flipper 103 . Here, the corner may be a line where the second side surface 1035 and the support part 105 meet.

한 쌍의 고정편들(1039)은 지지부(105) 위에 수직 고정된다. 즉, 한 쌍의 고정편들(1039)은 +z축 방향으로 돌출되어 있다. 한 쌍의 고정편들(1039)에는 홀(1039a)이 형성된다. 힌지축(1037)의 양단은 홀(1039a)에 삽입되어 고정된다. 따라서 플리퍼(103)는 힌지축(1037)에 의해 뒤집어지면서 화살표 방향을 따라 회전한다.A pair of fixing pieces 1039 are vertically fixed on the support 105 . That is, the pair of fixing pieces 1039 protrude in the +z-axis direction. A hole 1039a is formed in the pair of fixing pieces 1039 . Both ends of the hinge shaft 1037 are inserted and fixed in the hole 1039a. Accordingly, the flipper 103 rotates in the direction of the arrow while being turned over by the hinge shaft 1037 .

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 기포발생장치(20)를 개략적으로 나타낸다. 도 6의 확대원에는 기포발생장치(20)을 z축 방향에서 본 부분 평면 구조를 나타낸다. 도 6의 기포발생장치(20)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기포발생장치(20)의 구조를 다른 형태로 변형할 수 있다. 한편, 도 6의 기포발생장치(20)의 구조는 도 5의 기포발생장치(10)의 구조와 유사하므로 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며, 그 상세한 설명을 생략한다.6 schematically shows a bubble generator 20 according to a second embodiment of the present invention. The enlarged circle of FIG. 6 shows the partial planar structure of the bubble generator 20 as viewed from the z-axis direction. The structure of the bubble generator 20 of FIG. 6 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Accordingly, the structure of the bubble generator 20 may be modified into other forms. Meanwhile, since the structure of the bubble generator 20 of FIG. 6 is similar to that of the bubble generator 10 of FIG. 5 , the same reference numerals are used for the same parts, and a detailed description thereof will be omitted.

도 6에 도시한 바와 같이, 플리퍼부(203)는 제1 상면(2031), 제2 상면(2032), 한 쌍의 제1 측면들(2033) 및 제2 측면(2035)을 포함한다. 제1 상면(2031)은 경사져서 형성되고, 제2 상면(2032)은 xy 평면에 평행한 방향으로 형성되어 제1 상면(2031)과 연결된다. 한 쌍의 제1 측면들(2033)에는 z축 방향, 즉 지지부(105)에 수직인 방향으로 길게 뻗은 한 쌍의 레일홈들(2033a)이 형성된다. 제2 측면(2035)은 한 쌍의 제1 측면들(2033)을 상호 연결한다.6 , the flipper unit 203 includes a first upper surface 2031 , a second upper surface 2032 , a pair of first side surfaces 2033 , and a second side surface 2035 . The first upper surface 2031 is inclined, and the second upper surface 2032 is formed in a direction parallel to the xy plane and connected to the first upper surface 2031 . A pair of rail grooves 2033a extending long in the z-axis direction, that is, in a direction perpendicular to the support part 105 are formed on the pair of first side surfaces 2033 . The second side 2035 interconnects the pair of first sides 2033 .

고정부(207)는 지지부(105) 위에 접하여 위치한다. 플리퍼부(203)가 고정부(207)에 의해 지지되어 z축 방향을 따라 상하 운동하므로, 고정부(207)는 용접 등에 의해 지지부(105)에 견고하게 고정될 필요가 있다. 고정부(207)는 제2 측면(2037)과 접한다. 플리퍼부(203)가 상하 운동하는 경우, 제2 측면(2037)은 고정부(207)를 타고 z축 방향을 따라 움직인다.The fixing part 207 is positioned in contact with the support part 105 . Since the flipper part 203 is supported by the fixing part 207 and moves up and down along the z-axis direction, the fixing part 207 needs to be firmly fixed to the support part 105 by welding or the like. The fixing part 207 is in contact with the second side surface 2037 . When the flipper part 203 moves up and down, the second side surface 2037 rides on the fixing part 207 and moves along the z-axis direction.

고정부(207)는 고정 로드(2071), 지지 로드(2073) 및 경사면(2075)을 포함한다. 지지 로드(2073)는 고정부(207)의 상측에 위치하고 x축 방향을 따라 뻗어 있다. 고정 로드(2071)는 지지 로드(2073)와 교차하는 방향인 y축 방향을 따라 길게 뻗어 있다. 고정 로드(2071)는 레일홈(2035a)과 교차하는 방향으로 레일홈(2035a)에 삽입된다. 고정 로드(2071)는 y축 방향으로 길게 뻗어서 고정부(207)의 다른 상측과 연결되거나 끊어진 형태로 형성될 수 있다.The fixing portion 207 includes a fixing rod 2071 , a support rod 2073 , and an inclined surface 2075 . The support rod 2073 is located above the fixing part 207 and extends along the x-axis direction. The fixed rod 2071 extends long along the y-axis direction, which is a direction crossing the support rod 2073 . The fixing rod 2071 is inserted into the rail groove 2035a in a direction crossing the rail groove 2035a. The fixing rod 2071 may extend long in the y-axis direction and be connected to the other upper side of the fixing part 207 or may be formed in a broken shape.

도 6의 확대원에 도시한 바와 같이, 제2 측면(2035)은 오목홈(207a)과 인접하여 위치한다. 즉, 제2 측면(2035)은 고정부(207)에 삽입된 형태로 형성된다. 고정부(207)에는 오목홈(207a)이 형성된다. 따라서 플리퍼부(203)는 오목홈(207a)에 고정 삽입된다. 따라서 플리퍼부(203)는 오목홈(207a)을 따라 상하로 슬라이딩되면서 움직인다. 한편, 고정부(207)의 상면에는 경사면(2075)이 형성되어 플리퍼부(203)가 젖혀지는 경우 이를 지지한다. 이하에서는 도 7을 통하여 경사면(2075)에 대하여 좀더 상세하게 설명한다.As shown in the enlarged circle of FIG. 6 , the second side surface 2035 is positioned adjacent to the concave groove 207a. That is, the second side surface 2035 is formed to be inserted into the fixing part 207 . A concave groove 207a is formed in the fixing part 207 . Accordingly, the flipper part 203 is fixedly inserted into the concave groove 207a. Accordingly, the flipper part 203 moves while sliding up and down along the concave groove 207a. On the other hand, an inclined surface 2075 is formed on the upper surface of the fixing part 207 to support the flipper part 203 when it is turned. Hereinafter, the inclined surface 2075 will be described in more detail with reference to FIG. 7 .

도 7은 도 6의 기포발생장치(20)의 작동 상태를 순서대로 나타낸다. 도 7의 (a)는 플리퍼부(203)가 정지한 상태를 나타내고, 도 7의 (b)는 큰 공기 방울(LB)이 부력에 의해 상승하면서 플리퍼부(203)가 상승하는 상태를 나타내며, 도 7의 (c)는 플리퍼부(203)가 경사면(2075)을 타고 뒤집어지는 상태를 나타낸다. 도 7의 기포발생장치(20)의 작동 상태는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기포발생장치(20)의 작동 상태는 다른 형태로도 변형될 수 있다.7 shows the operation state of the bubble generator 20 of FIG. 6 in order. 7 (a) shows a state in which the flipper part 203 is stopped, and FIG. 7 (b) shows a state in which the flipper part 203 rises while a large air bubble LB rises by buoyancy, 7C illustrates a state in which the flipper part 203 is turned over while riding on the inclined surface 2075 . The operation state of the bubble generator 20 of FIG. 7 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Accordingly, the operating state of the bubble generator 20 may be modified in other forms.

먼저, 도 7의 (a)에는 플리퍼부(203)가 고정부(207)에 고정된 상태를 나타낸다. 고정 로드(2071)는 레일홈(2035a)에 삽입 고정된다. 따라서 플리퍼부(203)는 레일홈(2035a)을 타고 +z축 방향을 따라 상승할 수 있다.First, FIG. 7A shows a state in which the flipper unit 203 is fixed to the fixing unit 207 . The fixing rod 2071 is inserted and fixed in the rail groove 2035a. Accordingly, the flipper unit 203 may ride the rail groove 2035a and rise along the +z-axis direction.

다음으로, 도 7의 (b)에서는 플리퍼부(203) 내부에 공기 방울이 점점 많아진다. 공기 방울이 점점 많아지면서 공기 방울이 화살표 방향으로 상승하여 플리퍼부(203)를 부상시킨다. 따라서 플리퍼부(203)는 레일홈(2035a)을 따라 상승한다. 고정부(207)에는 오목홈(207a)(도 6에 도시)이 형성되어 있다. 따라서 오목홈(207a)에 삽입 고정된 플리퍼부(203)는 오목홈(207a)을 따라 가이드되어 안정적으로 상승한다.Next, in FIG. 7B , the number of air bubbles inside the flipper part 203 gradually increases. As the number of air bubbles increases, the air bubbles rise in the direction of the arrow to float the flipper unit 203 . Accordingly, the flipper part 203 rises along the rail groove 2035a. A concave groove 207a (shown in FIG. 6 ) is formed in the fixing portion 207 . Accordingly, the flipper part 203 inserted and fixed in the concave groove 207a is guided along the concave groove 207a to rise stably.

마지막으로, 도 7의 (c)에 도시한 바와 같이, 플리퍼부(203)가 고정부(207)의 상단에 도달하여 최대로 상승한 경우, 경사면(2075)(도 7의 (c)의 확대원에 도시)에 닿아 화살표 방향으로 회전한다. 이를 위해 경사면(2075)은 고정 로드(2071)의 높이 이상의 위치에 형성된다. 따라서 플리퍼부(203)가 최대로 상승한 후 회전하면서 뒤집어지고, 공기 방울은 화살표 방향을 따라 외부로 배출된다. 이 경우, 플리퍼부(203)에는 공기 방울에 의한 부력이 더 이상 작용하지 않으므로, 플리퍼부(203)는 다시 하강하여 도 7의 (a)와 같은 상태로 되돌아간다. 이러한 과정을 통하여 플리퍼부(203)가 작동한다.Finally, as shown in FIG. 7C , when the flipper part 203 reaches the upper end of the fixing part 207 and rises to the maximum, the inclined surface 2075 (the enlarged source of FIG. 7C ) shown in) and rotate in the direction of the arrow. To this end, the inclined surface 2075 is formed at a position higher than the height of the fixing rod 2071 . Therefore, after the flipper unit 203 rises to the maximum, it is turned over while rotating, and the air bubbles are discharged to the outside in the direction of the arrow. In this case, since the buoyancy force caused by air bubbles no longer acts on the flipper part 203 , the flipper part 203 descends again and returns to the state shown in FIG. 7A . Through this process, the flipper unit 203 operates.

도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 기포발생장치(30)를 개략적으로 나타낸다. 도 8의 기포발생장치(30)의 구조는 단지 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 본 발명이 여기에 한정되는 것은 아니다. 따라서 기포발생장치(30)을 다른 형태로도 변형할 수 있다. 한편, 도 8의 기포발생장치(30)은 도 5의 기포발생장치(10) 및 도 6의 기포발생장치(20)과 유사하므로, 동일한 부분에는 동일한 도면 부호를 사용하며, 그 상세한 설명을 생략한다.8 schematically shows a bubble generator 30 according to a third embodiment of the present invention. The structure of the bubble generator 30 of FIG. 8 is only for illustrating the present invention, and the present invention is not limited thereto. Accordingly, the bubble generator 30 may be modified into other shapes. Meanwhile, since the bubble generator 30 of FIG. 8 is similar to the bubble generator 10 of FIG. 5 and the bubble generator 20 of FIG. 6 , the same reference numerals are used for the same parts, and detailed descriptions thereof are omitted. do.

도 8에 도시한 바와 같이, 지지부(305)는 에지부(3051)를 포함한다. 에지부(3051)는 플리퍼부(103)와 최대로 이격되어 위치한다. 즉, 에지부(3051)는 지지부(305)의 x축 방향의 전면 아래에 위치한다. 한편, 지지부(305) 위에는 다수의 가이드판들(3053a, 3053b)이 위치한다. 가이드판들(3053a, 3053b)의 높이(h)는 플리퍼부(103)의 평균 높이보다 낮다. 가이드판들(3053a, 3053b)은 플리퍼부(103)가 열리는 경우, 배출되는 공기 방울을 화살표 방향으로 가이드한다. 그 결과, 공기 방울을 분산시켜 더 넓은 면을 교란시킬 수 있다.As shown in FIG. 8 , the support portion 305 includes an edge portion 3051 . The edge portion 3051 is positioned to be maximally spaced apart from the flipper portion 103 . That is, the edge portion 3051 is located below the front surface of the support portion 305 in the x-axis direction. Meanwhile, a plurality of guide plates 3053a and 3053b are positioned on the support 305 . The height h of the guide plates 3053a and 3053b is lower than the average height of the flipper part 103 . The guide plates 3053a and 3053b guide air bubbles discharged when the flipper unit 103 is opened in the direction of the arrow. As a result, air bubbles can be dispersed and disturbed over a larger surface.

가이드판들(3053a, 3053b)은 상호 이격되어 위치한다. 가이드판들(3053a, 3053b) 사이의 간격(d)은 40mm 내지 60mm일 수 있다. 바람직하게는, 간격(d)은 실질적으로 50mm일 수 있다. 간격(d)이 너무 작거나 너무 큰 경우, 플리퍼부(103)로부터 배출되는 공기 방울이 가이드판들(3053a, 3053b)에 의해 잘 가이드되지 않는다. 따라서 간격(d)을 전술한 범위로 조절하는 것이 바람직하다.The guide plates 3053a and 3053b are positioned to be spaced apart from each other. The distance d between the guide plates 3053a and 3053b may be 40 mm to 60 mm. Preferably, the spacing d may be substantially 50 mm. When the distance d is too small or too large, the air bubbles discharged from the flipper part 103 are not well guided by the guide plates 3053a and 3053b. Therefore, it is preferable to adjust the interval (d) in the above-mentioned range.

가이드판들(3053a, 3053b)은 플리퍼부(103) 주위의 아래에 위치한다. 가이드판들(3053a, 3053b)은 상호 대칭으로 한 쌍 이상으로 형성되며 사선 방향으로 뻗어 있다. 상면(3031)은 지지부(305)와 접하는 접선(3031a)을 포함한다. 가이드판들(3053a, 3053b)은 접선(3031a)으로부터 에지부(3051)로 갈수록 상호간의 이격 거리가 점차 더 커진다.The guide plates 3053a and 3053b are located below the circumference of the flipper part 103 . The guide plates 3053a and 3053b are formed in pairs or more symmetrically and extend in an oblique direction. The upper surface 3031 includes a tangent line 3031a in contact with the support 305 . The guide plates 3053a and 3053b gradually increase in distance from each other toward the edge portion 3051 from the tangent line 3031a.

한편, 플리퍼부(103)는 고정 로드(3031)를 포함한다. 고정 로드(3031)는 y축 방향을 따라 뻗어 있다. 3개의 고정편(3059)은 동일한 간격으로 이격되어 지지부(305) 위에 고정된다. 고정편(3059)에는 레일홈(3059a)가 z축 방향을 따라 형성된다. 따라서 플리퍼부(103)는 레일홈(3059a)에 삽입된 고정 로드(3031)에 의해 z축 방향으로 상하 운동한다. 그 결과, 플리퍼부(103)로부터 큰 공기 방울이 배출되어 가이드되어 상승한다. 따라서 다양한 방향으로 가이드되는 공기 방울들에 의해 전력비 등을 절감할 수 있다.Meanwhile, the flipper unit 103 includes a fixing rod 3031 . The fixed rod 3031 extends along the y-axis direction. The three fixing pieces 3059 are spaced apart at equal intervals and fixed on the support 305 . A rail groove 3059a is formed in the fixing piece 3059 along the z-axis direction. Accordingly, the flipper part 103 moves up and down in the z-axis direction by the fixing rod 3031 inserted into the rail groove 3059a. As a result, large air bubbles are discharged from the flipper unit 103 and are guided and ascended. Accordingly, it is possible to reduce power cost and the like by air bubbles guided in various directions.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 설명하였지만, 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.Although the present invention has been described as described above, it will be readily understood by those skilled in the art to which the present invention pertains that various modifications and variations are possible without departing from the spirit and scope of the appended claims.

10, 20, 30. 기포발생장치
40. 바닥
50, 52. 혐기조
60, 62. 무산소조
70, 72. 폭기조
80, 82. 처리 수조
100, 200, 300. 하·폐수 처리 장치
101, 102. 토출부
103, 203, 303. 플리퍼부
105. 지지부
107. 한 쌍의 빔들
207. 고정부
207a. 오목홈
1031, 2031, 2033, 3031. 상면
1033. 한 쌍의 제1 측면들
1035, 2035. 제2 측면
1037. 힌지축
1039, 3059. 고정편
2035a, 3059a. 레일홈
2071, 3031. 고정 로드
2073. 지지 로드
2075. 경사면
3031a. 접선
3051. 에지부
3053a, 3053b. 가이드판
LB. 큰 공기 방울
SB. 작은 공기 방울
10, 20, 30. Bubble generator
40. Floor
50, 52. Anaerobic
60, 62. Anaerobic
70, 72. Aeration tank
80, 82. Treatment tank
100, 200, 300. Sewage and wastewater treatment equipment
101, 102. Discharge part
103, 203, 303. Flipper part
105. Support
107. A pair of beams
207. Fixed part
207a. concave groove
1031, 2031, 2033, 3031. Top
1033. A pair of first aspects
1035, 2035. Second Aspect
1037. Hinge shaft
1039, 3059. Batten
2035a, 3059a. rail home
2071, 3031. Fixed rod
2073. Support Rod
2075. Slope
3031a. tangent
3051. Edge part
3053a, 3053b. guide plate
LB. big air bubble
SB. small air bubbles

Claims (10)

유기물, 질소 및 인을 함유한 유입수와 슬러지를 공급받아 처리하는 정화조를 포함하는 하폐수 정화 장치에서 상기 정화조의 바닥에 설치되는 하나 이상의 기포발생장치로서,
공기 방울이 토출되는 개구부를 가진 토출부, 및
상기 토출부 위에 위치하고, 상기 공기 방울의 부력이 기설정치 이상인 경우, 상기 바닥과 멀어지는 방향으로 작동되어 상기 공기 방울을 배출시키고, 상기 공기 방울이 배출된 후 상기 토출부를 덮도록 적용된 플리퍼(flipper)부,
상기 개구부와 마주하고 상기 개구부보다 크고 상기 개구부를 둘러싸는 또다른 개구부를 가진 지지부, 및
상기 바닥 위에 설치되고, 상기 지지부의 하부 앞측 및 하부 뒤측에 각각 위치하여 상기 지지부를 상기 바닥과 이격시켜 지지하는 한 쌍의 빔들
을 포함하고,
상기 플리퍼부는 상기 지지부 위에 위치하며,
상기 플리퍼부는,
상호 마주하는 한 쌍의 측면들,
상기 한 쌍의 측면들을 상기 플리퍼의 한 모서리 부근에서 상호 연결하는 힌지축,
상기 힌지축의 양단이 삽입되는 홀이 형성되고, 상기 지지부 위에 수직 고정된 한 쌍의 고정편들, 및
상기 한 쌍의 측면들을 상호 연결하는 상면
을 포함하며,
상기 플리퍼부 내의 잔여 공기를 배출시켜 상기 슬러지의 부상을 방지하는 공기방울구멍이 상기 상면에 형성되고,
상기 공기방울구멍의 직경은 1mm 내지 10mm이며,
상기 한 쌍의 빔들은 상기 한 쌍의 측면들에 평행한 방향을 따라 상호 이격되어 위치하는 기포발생장치.
At least one bubble generating device installed at the bottom of the septic tank in a wastewater purification device including a septic tank for receiving and treating influent water and sludge containing organic matter, nitrogen and phosphorus,
a discharge portion having an opening through which air bubbles are discharged, and
It is located on the discharge unit, and when the buoyancy of the air bubble is greater than or equal to a preset value, it is operated in a direction away from the floor to discharge the air bubble, and after the air bubble is discharged, a flipper part applied to cover the discharge unit,
a support portion facing the opening and having another opening larger than the opening and surrounding the opening; and
A pair of beams installed on the floor, respectively positioned at the lower front side and lower rear side of the support part to support the support part by being spaced apart from the floor
including,
The flipper part is located on the support part,
The flipper part,
a pair of sides facing each other,
a hinge shaft interconnecting the pair of side surfaces in the vicinity of one edge of the flipper;
A pair of fixing pieces having holes into which both ends of the hinge shaft are inserted, and vertically fixed on the support part, and
an upper surface interconnecting the pair of side surfaces
includes,
Air bubble holes for preventing the sludge from floating by discharging residual air in the flipper part are formed in the upper surface,
The diameter of the air bubble hole is 1mm to 10mm,
The pair of beams are positioned to be spaced apart from each other in a direction parallel to the pair of side surfaces.
삭제delete 삭제delete 제1항에서,
상기 상면과 상기 지지부가 이루는 예각은 20˚ 내지 40˚인 기포발생장치.
In claim 1,
An acute angle between the upper surface and the support part is 20 to 40 degrees.
제4항에서,
상기 지지부는 상기 플리퍼부와 최대로 이격되어 위치하는 에지부를 포함하고,
상기 지지부 위에 상기 플리퍼부의 주위 아래에 상기 지지부와 수직인 방향으로 상호 이격되어 설치되고 상기 지지부와 상기 상면의 접선으로부터 상기 에지부로 갈수록 상호간의 이격 거리가 점차 더 커지고 상호 대칭인 한 쌍 이상의 가이드판들을 더 포함하며,
상기 한 쌍 이상의 가이드판들 중 하나 이상의 가이드판의 높이는 상기 플리퍼부의 평균 높이보다 낮은 기포발생장치.
In claim 4,
The support portion includes an edge portion positioned to be spaced apart from the flipper portion at the maximum,
A pair of mutually symmetrical guide plates are installed on the support part and spaced apart from each other in a direction perpendicular to the support part under the circumference of the flipper part, and the distance from each other increases gradually from the tangent line between the support part and the upper surface to the edge part. including more,
A height of at least one guide plate among the pair of or more guide plates is lower than an average height of the flipper part.
제1항에서,
상기 지지부 위에 접하는 고정부를 더 포함하고,
상기 플리퍼부는,
상호 마주하고 상기 지지부에 수직인 방향으로 길게 뻗은 레일홈이 형성된 한 쌍의 제1 측면들, 및
상기 한 쌍의 제1 측면들을 상호 연결하고, 상기 고정부와 접하는 제2 측면
을 포함하며,
상기 고정부는 상기 레일홈과 교차하는 방향으로 상기 레일홈에 삽입되며, 상기 고정부의 상측에 위치한 고정 로드를 포함하고,
상기 플리퍼부는 상기 지지부와 이격되어 상기 레일홈을 따라 상하 운동하도록 적용된 기포발생장치.
In claim 1,
Further comprising a fixing portion in contact with the support portion,
The flipper part,
A pair of first side surfaces facing each other and having rail grooves extending in a direction perpendicular to the support part, and
a second side connecting the pair of first side surfaces and contacting the fixing part
includes,
The fixing part is inserted into the rail groove in a direction crossing the rail groove, and includes a fixing rod located above the fixing part,
The flipper part is spaced apart from the support part and is applied to move up and down along the rail groove.
제6항에서,
상기 고정부에는 상기 제2 측면이 삽입되어 상기 플리퍼부가 상하로 슬라이딩되도록 적용된 오목홈이 형성되고, 상기 오목홈은 상기 제2 측면과 접하는 기포발생장치.
In claim 6,
A concave groove is formed in the fixing part so that the second side surface is inserted and the flipper part slides up and down, and the concave groove is in contact with the second side surface.
제6항에서,
상기 고정부는 그 상부에 형성된 경사면을 더 포함하고, 상기 경사면은 상기 고정 로드의 높이 이상의 위치에 형성되며, 상기 플리퍼부가 최대로 상승한 경우, 상기 고정부는 상기 경사면에 접하도록 적용된 기포발생장치.
In claim 6,
The fixing unit further includes an inclined surface formed thereon, the inclined surface is formed at a position higher than the height of the fixing rod, and when the flipper part is maximally raised, the fixing part is applied to come into contact with the inclined surface.
제1항 , 및 제4항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 기포발생장치, 및
복수의 정화조들
을 포함하는 하폐수 정화 장치로서,
상기 복수의 정화조들은,
상기 유입수를 공급받아 처리하는 하나 이상의 혐기조,
상기 혐기조와 연결되어 상기 유입수를 공급받아 처리하는 하나 이상의 무산소조,
상기 무산소조와 연결되어 상기 유입수를 공급받아 처리수에 공기를 공급해 침전물을 생성한 후 상기 침전물 위에 위치한 처리수는 배출하는 하나 이상의 폭기조, 및
상기 폭기조의 바닥에 설치된 복수의 기포발생장치들
을 포함하는 하폐수 정화 장치.
at least one bubbler according to any one of claims 1 and 4 to 8, and
multiple septic tanks
As a wastewater purification device comprising a,
The plurality of septic tanks,
One or more anaerobic tanks for receiving and treating the influent,
One or more anaerobic tanks connected to the anaerobic tank to receive and process the influent;
One or more aeration tanks connected to the anaerobic tank to receive the inflow water, supply air to the treated water to generate sediment, and then discharge the treated water located above the sediment;
A plurality of bubble generators installed on the bottom of the aeration tank
A wastewater purification device comprising a.
제9항에 있어서,
상기 하나 이상의 기포발생장치는 복수의 기포발생장치들을 포함하고,
상기 복수의 기포발생장치들은 상기 폭기조의 바닥에 하나 이상의 방향으로 상호 동일한 간격으로 이격 배열되고, 상기 복수의 기포발생장치들 사이에 하나 이상의 또다른 토출부가 위치하는 하폐수 정화 장치.
10. The method of claim 9,
wherein the at least one bubbler comprises a plurality of bubbler;
The plurality of bubble generators are arranged to be spaced apart from each other at equal intervals in one or more directions on the bottom of the aeration tank, and at least one other discharge unit is positioned between the plurality of bubble generators.
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