KR102396180B1 - Sulfenamide compound and method for producing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 설펜아마이드 화합물 및 이의 제조 방법에 대한 것으로, 전이금속 및/또는 할로겐 시약의 부재 하에서, 아조 시약을 이용하여 싸이올 및 아민의 S-N 결합을 통해 설펜아마이드를 합성하는 방법에 관한 것이다. 종래에 합성하기 어려웠던 신규한 설펜아마이드 화합물을 제공하여, 제약 및 재료 합성에 다양하게 응용될 수 있다.The present invention relates to a sulfenamide compound and a method for preparing the same, and to a method for synthesizing sulfenamide through S-N bonding of a thiol and an amine using an azo reagent in the absence of a transition metal and/or a halogen reagent. By providing a novel sulfenamide compound that has been difficult to synthesize in the prior art, it can be variously applied to pharmaceuticals and material synthesis.

Description

설펜아마이드 화합물 및 이의 제조 방법{SULFENAMIDE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME}SULFENAMIDE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME

본 발명은 설펜아마이드 화합물 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 전이금속 및/또는 할로겐 시약의 부재 하에서 다이알킬 아조다이카르복실레이트를 매개로 하여 싸이올과 아민의 커플링 반응을 통해 설펜아마이드 유도체를 합성하며, 높은 수율을 나타내는 합성 방법이다. The present invention relates to a sulfenamide compound and a method for preparing the same. Specifically, a sulfenamide derivative is synthesized through a coupling reaction between a thiol and an amine through a dialkyl azodicarboxylate in the absence of a transition metal and/or a halogen reagent, and it is a synthesis method showing a high yield.

S-N(sulfur-nitrogen) 결합은 합성, 의약 화학, 농약, 산업응용 등 다양한 분야에서 응용되고 있다. 이러한 S-N 결합을 갖는 대표적인 화합물인 설펜아마이드(sulfonamide)는 설파이드(sulfide), 다이설파이드(disulfide), 트리설파이드(trisulfide) 등의 설페닐-전이 시약(sulfenyl-transfer agent), 유기화합물 합성의 중간체, 방사선 방지제, 고분자 중합, 고무산업의 가황촉진제 등에 이용되고 있다. 특히, 설펜아마이드 유도체는 다양한 생화학적 활성을 가지고 있어 다양한 의약품 후보 물질의 합성을 가능하게 하고, 이에 따른 신약 개발에 적용될 수 있다. 또한, 설펜아마이드를 산화시킨 설폰아마이드를 살충제, 제초제 등에 사용할 수 있어 새로운 재료 물질 개발에 다양하게 활용될 수 있다. S-N (sulfur-nitrogen) bonding has been applied in various fields such as synthesis, pharmaceutical chemistry, pesticides, and industrial applications. A representative compound having such an S-N bond, sulfonamide, is a sulfenyl-transfer agent such as sulfide, disulfide, and trisulfide, an intermediate of organic compound synthesis, It is used as an anti-radiation agent, polymer polymerization, and vulcanization accelerator in the rubber industry. In particular, sulfenamide derivatives have various biochemical activities, enabling the synthesis of various drug candidates, and thus can be applied to new drug development. In addition, since sulfonamide obtained by oxidizing sulfenamide can be used in pesticides and herbicides, it can be used in various ways to develop new materials.

이러한 설펜아마이드 유도체는 산화가 쉬운 황을 선택적으로 황-질소 결합 형성으로 유도해야 하지만, 이를 조절하기가 쉽지 않기 때문에 설펜아마이드를 합성하는 방법은 드물다. 설펜아마이드의 합성은 일반적으로 값비싼 전이 금속 촉매를 사용하거나 독성을 나타내는 할로겐족 시약을 사용하여 합성된다. Such sulfenamide derivatives should selectively induce oxidized sulfur to form a sulfur-nitrogen bond, but since it is difficult to control this, a method for synthesizing sulfenamide is rare. The synthesis of sulfenamides is generally synthesized using expensive transition metal catalysts or using toxic halogenated reagents.

따라서, 전이 금속 또는 할로겐족 시약을 사용하지 않고 설펜아마이드를 제조하는 방법이 요구되고 있는 상황이다. Accordingly, there is a need for a method for preparing sulfenamide without using a transition metal or a halogen reagent.

대한민국공개특허공보 제10-2001-0046567호Korean Patent Publication No. 10-2001-0046567

본원은 전술한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 설펜아마이드 화합물에 대한 것으로, 종래에 합성하기 어려웠던 신규한 설펜아마이드 화합물을 제공하여, 제약 및 재료 합성에 다양하게 응용될 수 있다. The present application relates to a sulfenamide compound for solving the problems of the prior art, and by providing a novel sulfenamide compound that was difficult to synthesize in the prior art, it can be variously applied to pharmaceuticals and material synthesis.

또한, 본 발명의 두 번째 목적은 설펜아마이드 화합물의 제조 방법에 대한 것으로, 전이금속 및/또는 할로겐 시약의 부재 하에서 다이알킬 아조다이카르복실레이트를 매개로 하여 싸이올과 아민의 커플링 반응을 통해 설펜아마이드 유도체를 높은 수율로 합성할 수 있다. 나아가, 다이알킬 아조다이카르복실레이트의 재사용과 대량 스케일의 합성이 가능한 장점이 있다. In addition, a second object of the present invention is to provide a method for preparing a sulfenamide compound, through a coupling reaction between a thiol and an amine via a dialkyl azodicarboxylate in the absence of a transition metal and/or a halogen reagent. A sulfenamide derivative can be synthesized in high yield. Furthermore, there is an advantage in that the reuse of dialkyl azodicarboxylate and the synthesis of a large scale are possible.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 설펜아마이드 화합물은 하기 화학식 1 또는 화학식 2로서 표시되는 화합물을 제공한다. The sulfenamide compound of the present invention for achieving the above technical object provides a compound represented by the following Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112020056621466-pat00001
Figure 112020056621466-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112020056621466-pat00002
Figure 112020056621466-pat00002

상기 화학식 1 및 2에서, R1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formulas 1 and 2, R 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic hetero ring, and an optionally substituted At least one ring selected from the group consisting of 6-membered unsaturated or aromatic heterocycles, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 2 and R 3 are each independently H, which may be substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 ring, A 1 is optionally substituted 5-membered unsaturated or at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocycle and an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring. Or is a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, the hetero ring includes at least one selected from the group consisting of N, O and S, and the substitution is C 1 -C 6 Alkyl or C 6 -C 20 It may be substituted with aryl, but is not limited thereto.

상기 화학식 1로서 표시되는 설펜아마이드 화합물은 하기 화학식 3으로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The sulfenamide compound represented by Formula 1 may include a compound represented by Formula 3 below, but is not limited thereto.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112020056621466-pat00003
Figure 112020056621466-pat00003

상기 화학식 3에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것이고, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 3, R 2 and R 3 are each independently H, optionally substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 a ring, wherein the substitution is substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, wherein X is O, S, Se, Te, and combinations thereof. It may be an element selected from, but is not limited thereto.

상기 R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 에틸, 벤질, 사이클로프로페인, 사이클로펜테인, 사이클로헥세인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 2 and R 3 may each independently include one selected from the group consisting of H, ethyl, benzyl, cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, and combinations thereof, but is not limited thereto .

상기 화학식 2로서 표시되는 설펜아마이드 화합물은 하기 화학식 4로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The sulfenamide compound represented by Formula 2 may include a compound represented by Formula 4 below, but is not limited thereto.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112020056621466-pat00004
Figure 112020056621466-pat00004

상기 화학식 4에서, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것이고, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 4, A 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring, and an optionally substituted 6- At least one ring selected from the group consisting of a membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, the hetero ring is at least one selected from the group consisting of N, O and S including, wherein the substitution is substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, wherein X is an element selected from the group consisting of O, S, Se, Te, and combinations thereof. may be, but is not limited thereto.

상기 A1

Figure 112020056621466-pat00005
,
Figure 112020056621466-pat00006
,
Figure 112020056621466-pat00007
,
Figure 112020056621466-pat00008
,
Figure 112020056621466-pat00009
또는
Figure 112020056621466-pat00010
인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The A 1 is
Figure 112020056621466-pat00005
,
Figure 112020056621466-pat00006
,
Figure 112020056621466-pat00007
,
Figure 112020056621466-pat00008
,
Figure 112020056621466-pat00009
or
Figure 112020056621466-pat00010
may be, but is not limited thereto.

상기 설펜아마이드 화합물은 하기 화합물로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 어느 하나인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다: The sulfenamide compound may be any one selected from the group consisting of the following compounds, but is not limited thereto:

Figure 112020056621466-pat00011
;
Figure 112020056621466-pat00012
;
Figure 112020056621466-pat00013
;
Figure 112020056621466-pat00014
;
Figure 112020056621466-pat00015
;
Figure 112020056621466-pat00016
;
Figure 112020056621466-pat00017
;
Figure 112020056621466-pat00018
;
Figure 112020056621466-pat00019
;
Figure 112020056621466-pat00020
;
Figure 112020056621466-pat00021
;
Figure 112020056621466-pat00022
;
Figure 112020056621466-pat00023
.
Figure 112020056621466-pat00011
;
Figure 112020056621466-pat00012
;
Figure 112020056621466-pat00013
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Figure 112020056621466-pat00014
;
Figure 112020056621466-pat00015
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Figure 112020056621466-pat00016
;
Figure 112020056621466-pat00017
;
Figure 112020056621466-pat00018
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Figure 112020056621466-pat00019
;
Figure 112020056621466-pat00020
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Figure 112020056621466-pat00021
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Figure 112020056621466-pat00022
;
Figure 112020056621466-pat00023
.

본 발명의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 하기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 6으로서 표시되는 화합물; 하기 화학식 7로서 표시되는 화합물; 및 합성시약;을 용매 하에서 반응시키는 것을 포함하며, 상기 합성시약은 하기 화학식 8로서 표시되는 화합물을 포함하는 것을 제공한다. The method for preparing a sulfenamide compound of the present invention includes a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6); a compound represented by the following formula (7); and a synthetic reagent; and reacting in a solvent, wherein the synthetic reagent includes a compound represented by the following formula (8).

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112020056621466-pat00024
Figure 112020056621466-pat00024

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112020056621466-pat00025
Figure 112020056621466-pat00025

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112020056621466-pat00026
Figure 112020056621466-pat00026

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112020056621466-pat00027
Figure 112020056621466-pat00027

상기 화학식 5 내지 8에서, R1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R4 및 R5는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴, 치환될 수 있는 C3-C20의 고리 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 헤테로 고리이고, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formulas 5 to 8, R 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic hetero ring, and an optionally substituted At least one ring selected from the group consisting of 6-membered unsaturated or aromatic heterocycles, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 2 and R 3 are each independently H, which may be substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 ring, A 1 is optionally substituted 5-membered unsaturated or at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocycle and an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring. Or is a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 4 and R 5 are each independently H, optionally substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, which may be substituted C 6 -C 20 aryl, optionally substituted C 3 -C 20 ring, or optionally substituted C 3 -C 20 heterocyclic ring, wherein the hetero ring is at least one selected from the group consisting of N, O and S Including, the substitution may be one substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, but is not limited thereto.

상기 R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 에틸, 벤질, 사이클로프로페인, 사이클로펜테인, 사이클로헥세인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 2 and R 3 may each independently include one selected from the group consisting of H, ethyl, benzyl, cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, and combinations thereof, but is not limited thereto .

상기 A1

Figure 112020056621466-pat00028
,
Figure 112020056621466-pat00029
,
Figure 112020056621466-pat00030
,
Figure 112020056621466-pat00031
,
Figure 112020056621466-pat00032
또는
Figure 112020056621466-pat00033
인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The A 1 is
Figure 112020056621466-pat00028
,
Figure 112020056621466-pat00029
,
Figure 112020056621466-pat00030
,
Figure 112020056621466-pat00031
,
Figure 112020056621466-pat00032
or
Figure 112020056621466-pat00033
may be, but is not limited thereto.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물은 하기 화학식 9로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The compound represented by Formula 7 may include a compound represented by Formula 9 below, but is not limited thereto.

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112020056621466-pat00034
Figure 112020056621466-pat00034

상기 화학식 9에서, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 9, X may be an element selected from the group consisting of O, S, Se, Te, and combinations thereof, but is not limited thereto.

상기 R4 및 R5는 각각 독립적으로 페닐, 벤질, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 터틀부틸 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 4 and R 5 may each independently include one selected from the group consisting of phenyl, benzyl, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, turtlebutyl, and combinations thereof, but is limited thereto it's not going to be

상기 화학식 8로서 표시되는 화합물은 하기 화합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 어느 하나인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다: The compound represented by Formula 8 may be any one selected from the group consisting of the following compounds, but is not limited thereto:

Figure 112020056621466-pat00035
;
Figure 112020056621466-pat00036
;
Figure 112020056621466-pat00037
;
Figure 112020056621466-pat00038
.
Figure 112020056621466-pat00035
;
Figure 112020056621466-pat00036
;
Figure 112020056621466-pat00037
;
Figure 112020056621466-pat00038
.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 상기 화학식 6으로서 표시되는 화합물이 4 당량 내지 10 당량으로 반응하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the compound represented by Formula 5 or the compound represented by Formula 6 may be reacted in an amount of 4 to 10 equivalents, but is not limited thereto.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 합성시약이 1 당량 내지 3 당량으로 반응하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the synthetic reagent may be reacted with 1 to 3 equivalents, but is not limited thereto.

상기 용매는 디메틸포름아마이드, 톨루엔, 다이클로로메테인, 테트라하이드로퓨란, 클로로벤젠, 아세토나이트릴, 에탄올, 아세톤, 이소프로필알코올, 에틸에테르 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The solvent includes a solvent selected from the group consisting of dimethylformamide, toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, chlorobenzene, acetonitrile, ethanol, acetone, isopropyl alcohol, ethyl ether, and combinations thereof. may be, but is not limited thereto.

상기 반응은 1 시간 내지 5 시간 동안 이루어지는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The reaction may be carried out for 1 hour to 5 hours, but is not limited thereto.

상술한 과제 해결 수단은 단지 예시적인 것으로서, 본원을 제한하려는 의도로 해석되지 않아야 한다. 상술한 예시적인 실시예 외에도, 도면 및 발명의 상세한 설명에 추가적인 실시예가 존재할 수 있다. The above-described problem solving means are merely exemplary, and should not be construed as limiting the present application. In addition to the exemplary embodiments described above, additional embodiments may exist in the drawings and detailed description.

개시된 기술은 다음의 효과를 가질 수 있다. 다만, 특정 실시예가 다음의 효과를 전부 포함하여야 한다거나 다음의 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 개시된 기술의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.The disclosed technology may have the following effects. However, this does not mean that a specific embodiment should include all of the following effects or only the following effects, so the scope of the disclosed technology should not be understood as being limited thereby.

전술한 본원의 과제 해결 수단에 의하면, 본원에 따른 설펜아마이드 화합물은 종래에 합성하기 어려웠던 신규한 설펜아마이드 화합물을 제공하여, 제약, 재료 등의 합성에 다양하게 응용될 수 있다.According to the above-described means for solving the problems of the present application, the sulfenamide compound according to the present application provides a novel sulfenamide compound that was difficult to synthesize in the prior art, and thus can be variously applied to the synthesis of pharmaceuticals, materials, and the like.

본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 전이금속 및/또는 할로겐 시약의 부재 하에서 합성시약(다이알킬 아조다이카르복실레이트)을 매개로 하여 싸이올과 아민의 커플링 반응을 통해 설펜아마이드 유도체를 높은 수율로 합성할 수 있다. 특히, 상기 합성시약을 사용하여 산화되기 쉬운 황을 선택적으로 황-질소 결합으로 형성하도록 유도하여 원자 경제적인 반응조건에서 제조할 수 있다. The method for preparing a sulfenamide compound of the present application is a sulfenamide derivative through a coupling reaction between a thiol and an amine through a synthetic reagent (dialkyl azodicarboxylate) in the absence of a transition metal and/or halogen reagent in high yield can be synthesized with In particular, by using the synthetic reagent to selectively form sulfur, which is easily oxidized, through a sulfur-nitrogen bond, it can be prepared under atom-economical reaction conditions.

종래에는 황의 산화가 쉽게 일어나, 이를 조절하여 설펜아마이드 화합물을 합성하기 어려웠다. 하지만, 본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 합성시약을 사용하여 싸이올 및 아민의 치환기를 조절함으로써 다양한 설펜아마이드 화합물을 간단하게 제조할 수 있다. Conventionally, oxidation of sulfur occurs easily, and it is difficult to control this to synthesize a sulfenamide compound. However, in the method for preparing sulfenamide compounds of the present application, various sulfenamide compounds can be prepared simply by adjusting the substituents of thiols and amines using synthetic reagents.

나아가, 값비싼 전이금속을 사용하지 않고, 상기 합성시약은 재사용이 가능하여 공정의 저가화에 용이하다. Furthermore, without using an expensive transition metal, the synthetic reagent can be reused, thereby making it easy to reduce the cost of the process.

더욱이, 본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 대량 스케일의 합성이 가능하여 다양한 산업에 응용될 수 있다. Moreover, the method for preparing the sulfenamide compound of the present application can be applied to various industries because it can be synthesized on a large scale.

또한, 실험자의 건강 및 환경 오염에 좋지 않은 영향을 끼칠 수 있는 극약시약인 할로겐 시약을 사용하지 않고, 설펜아마이드 화합물을 제조할 수 있다.In addition, the sulfenamide compound can be prepared without using a halogen reagent, which is a very weak reagent that can adversely affect the health and environmental pollution of the experimenter.

도 1a 및 1b는 본원의 일 구현예에 따른 설펜아마이드 화합물의 제조 방법의 메커니즘을 나타낸 도면이다.1A and 1B are diagrams showing the mechanism of a method for preparing a sulfenamide compound according to an embodiment of the present application.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 구체적으로 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Since the present invention can have various changes and can have various embodiments, specific embodiments are illustrated in the drawings and will be described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용한다. 제 1, 제 2등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.In describing each figure, like reference numerals are used for like elements. Terms such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the elements should not be limited by the terms. The above terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제 1 구성요소는 제 2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제 2 구성요소도 제 1 구성요소로 명명될 수 있다. "및/또는" 이라는 용어는 복수의 관련된 기재된 항목들의 조합 또는 복수의 관련된 기재된 항목들 중의 어느 항목을 포함한다. For example, without departing from the scope of the present invention, a first component may be referred to as a second component, and similarly, a second component may also be referred to as a first component. The term “and/or” includes a combination of a plurality of related listed items or any of a plurality of related listed items.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미가 있다. Unless defined otherwise, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs.

일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미가 있는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않아야 한다. Terms such as those defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art, and should not be interpreted in an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present application. shouldn't

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에", "상부에", "상단에", "하에", "하부에", "하단에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.Throughout this specification, when a member is positioned “on”, “on”, “on”, “on”, “under”, “under”, or “under” another member, this means that a member is positioned on the other member. It includes not only the case where they are in contact, but also the case where another member exists between two members.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout this specification, when a part "includes" a certain component, it means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

본 명세서에서 사용되는 정도의 용어 "약", "실질적으로" 등은 언급된 의미에 고유한 제조 및 물질 허용오차가 제시될 때 그 수치에서 또는 그 수치에 근접한 의미로 사용되고, 본원의 이해를 돕기 위해 정확하거나 절대적인 수치가 언급된 개시 내용을 비양심적인 침해자가 부당하게 이용하는 것을 방지하기 위해 사용된다. 또한, 본원 명세서 전체에서, "~ 하는 단계" 또는 "~의 단계"는 "~를 위한 단계"를 의미하지 않는다. As used herein, the terms "about," "substantially," and the like are used in a sense at or close to the numerical value when the manufacturing and material tolerances inherent in the stated meaning are presented, and to aid in the understanding of the present application. It is used to prevent an unconscionable infringer from using the mentioned disclosure in an unreasonable way. Also, throughout this specification, "step to" or "step to" does not mean "step for".

본원 명세서 전체에서, 마쿠시 형식의 표현에 포함된 "이들의 조합"의 용어는 마쿠시 형식의 표현에 기재된 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 혼합 또는 조합을 의미하는 것으로서, 상기 구성 요소들로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는 것을 의미한다.Throughout this specification, the term "combination of these" included in the expression of the Markush form means one or more mixtures or combinations selected from the group consisting of the components described in the expression of the Markush form, and the components It is meant to include one or more selected from the group consisting of.

본원 명세서 전체에서, "A 및/또는 B" 의 기재는, "A 또는 B", 또는, "A 및 B" 를 의미한다.Throughout this specification, reference to “A and/or B” means “A or B”, or “A and B”.

본원 명세서 전체에서, 용어 "방향족 고리"는 C6-30의 방향족 탄화수소 고리기, 예를 들어, 페닐, 나프틸, 비페닐, 터페닐, 플루오렌, 페난트레닐, 트리페닐레닐, 페릴레닐, 크리세닐, 플루오란테닐, 벤조플루오레닐, 벤조트리페닐레닐, 벤조크리세닐, 안트라세닐, 스틸베닐, 파이레닐 등의 방향족 고리를 포함하는 것을 의미하며, "방향족 헤테로 고리"는 적어도 1 개의 헤테로 원소를 포함하는 방향족 고리로서, 예를 들어, 피롤릴, 피라지닐, 피리디닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 푸릴, 벤조푸라닐, 이소벤조푸라닐, 디벤조푸라닐, 디벤조티오페닐, 퀴놀릴기, 이소퀴놀릴, 퀴녹살리닐, 카르바졸릴, 페난트리디닐, 아크리디닐, 페난트롤리닐, 티에닐, 및 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 피리다진 고리, 트리아진 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 아크리딘고리, 피롤리딘 고리, 디옥산 고리, 피페리딘 고리, 모르폴린 고리, 피페라진 고리, 카르바졸 고리, 푸란 고리, 티오펜 고리, 옥사졸 고리, 옥사디아졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 티아졸 고리, 티아디아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 트리아졸 고리, 이미다졸 고리, 벤조이미다졸 고리, 피란 고리, 디벤조푸란 고리로부터 형성되는 방향족 헤테로고리기를 포함하는 것을 의미한다.Throughout this specification, the term "aromatic ring" refers to a C 6-30 aromatic hydrocarbon ring group, for example, phenyl, naphthyl, biphenyl, terphenyl, fluorene, phenanthrenyl, triphenylenyl, perylenyl , chrysenyl, fluoranthenyl, benzofluorenyl, benzotriphenylenyl, benzochrysenyl, anthracenyl, stilbenyl, means including an aromatic ring such as pyrenyl, "aromatic heterocyclic ring" is at least one As an aromatic ring containing a hetero element, for example, pyrrolyl, pyrazinyl, pyridinyl, indolyl, isoindolyl, furyl, benzofuranyl, isobenzofuranyl, dibenzofuranyl, dibenzothiophenyl, quinolyl group, isoquinolyl, quinoxalinyl, carbazolyl, phenanthridinyl, acridinyl, phenanthrolinyl, thienyl, and pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, triazine ring, Indole ring, quinoline ring, acridine ring, pyrrolidine ring, dioxane ring, piperidine ring, morpholine ring, piperazine ring, carbazole ring, furan ring, thiophene ring, oxazole ring, oxadia Contains an aromatic heterocyclic group formed from a azole ring, a benzoxazole ring, a thiazole ring, a thiadiazole ring, a benzothiazole ring, a triazole ring, an imidazole ring, a benzoimidazole ring, a pyran ring, and a dibenzofuran ring means to do

본원 명세서 전체에서, 용어 "융합"은 2개 이상의 고리에 관하여, 적어도 한 쌍 이상의 인접 원자가 두 고리에 포함되는 것을 의미한다.Throughout this specification, the term "fused", with respect to two or more rings, means that at least one pair of adjacent atoms is included in both rings.

본원 명세서 전체에서, 용어 “알킬”은 선형 또는 분지형의, 포화 또는 불포화의 C1-C6 알킬을 포함하는 것일 수 있으며, 예를 들어 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실 또는 이들의 가능한 모든 이성질체를 포함하는 것일 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.Throughout this specification, the term “alkyl” may include linear or branched, saturated or unsaturated C 1 -C 6 alkyl, for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl or their It may include all possible isomers, but may not be limited thereto.

본원의 명세서 전체에서, 용어 "할로겐"은 주기율표의 17족 원소로서, 예를 들어, F, Cl, Br, 또는 I를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않을 수 있다.Throughout the specification of the present application, the term "halogen" is a group 17 element of the periodic table, and may include, for example, F, Cl, Br, or I, but may not be limited thereto.

이하에서는 본원의 설펜아마이드 화합물 및 이의 제조 방법에 대하여 구현예 및 실시예와 도면을 참조하여 구체적으로 설명하도록 한다. 그러나, 본원이 이러한 구현예 및 실시예와 도면에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the sulfenamide compound of the present application and a method for preparing the same will be described in detail with reference to embodiments, examples, and drawings. However, the present application is not limited to these embodiments and examples and drawings.

본원은, 하기 화학식 1 또는 화학식 2로서 표시되는 설펜아마이드 화합물에 관한 것이다. The present application relates to a sulfenamide compound represented by the following formula (1) or formula (2).

Figure 112020056621466-pat00039
Figure 112020056621466-pat00039

Figure 112020056621466-pat00040
Figure 112020056621466-pat00040

상기 화학식 1 및 2에서, R1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formulas 1 and 2, R 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic hetero ring, and an optionally substituted At least one ring selected from the group consisting of 6-membered unsaturated or aromatic heterocycles, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 2 and R 3 are each independently H, which may be substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 ring, A 1 is optionally substituted 5-membered unsaturated or at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocycle and an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring. Or is a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, the hetero ring includes at least one selected from the group consisting of N, O and S, and the substitution is C 1 -C 6 Alkyl or C 6 -C 20 It may be substituted with aryl, but is not limited thereto.

본원의 설펜아마이드 화합물은 종래에 합성하기 어려웠던 신규한 설펜아마이드 화합물을 제공하여, 제약, 재료 등의 합성에 다양하게 응용될 수 있다. The sulfenamide compound of the present application provides a novel sulfenamide compound that has been difficult to synthesize in the prior art, and thus can be variously applied to the synthesis of pharmaceuticals, materials, and the like.

상기 화학식 1로서 표시되는 설펜아마이드 화합물은 하기 화학식 3으로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The sulfenamide compound represented by Formula 1 may include a compound represented by Formula 3 below, but is not limited thereto.

Figure 112020056621466-pat00041
Figure 112020056621466-pat00041

상기 화학식 3에서, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것이고, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 3, R 2 and R 3 are each independently H, optionally substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 a ring, wherein the substitution is substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, wherein X is O, S, Se, Te, and combinations thereof. It may be an element selected from, but is not limited thereto.

상기 R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 에틸, 벤질, 사이클로프로페인, 사이클로펜테인, 사이클로헥세인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 2 and R 3 may each independently include one selected from the group consisting of H, ethyl, benzyl, cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, and combinations thereof, but is not limited thereto .

상기 화학식 2로서 표시되는 설펜아마이드 화합물은 하기 화학식 4로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The sulfenamide compound represented by Formula 2 may include a compound represented by Formula 4 below, but is not limited thereto.

Figure 112020056621466-pat00042
Figure 112020056621466-pat00042

상기 화학식 4에서, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것이고, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 4, A 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring, and an optionally substituted 6- At least one ring selected from the group consisting of a membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, the hetero ring is at least one selected from the group consisting of N, O and S including, wherein the substitution is substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, wherein X is an element selected from the group consisting of O, S, Se, Te, and combinations thereof. may be, but is not limited thereto.

상기 A1

Figure 112020056621466-pat00043
,
Figure 112020056621466-pat00044
,
Figure 112020056621466-pat00045
,
Figure 112020056621466-pat00046
,
Figure 112020056621466-pat00047
또는
Figure 112020056621466-pat00048
인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The A 1 is
Figure 112020056621466-pat00043
,
Figure 112020056621466-pat00044
,
Figure 112020056621466-pat00045
,
Figure 112020056621466-pat00046
,
Figure 112020056621466-pat00047
or
Figure 112020056621466-pat00048
may be, but is not limited thereto.

상기 설펜아마이드 화합물은 하기 화합물 중 어느 하나를 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다: The sulfenamide compound may include any one of the following compounds, but is not limited thereto:

Figure 112020056621466-pat00049
Figure 112020056621466-pat00049

더욱 바람직하게는, 상기 설펜아마이드 화합물은 하기 화합물로 구성되는 그룹 중에서 선택되는 어느 하나인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다: More preferably, the sulfenamide compound may be any one selected from the group consisting of the following compounds, but is not limited thereto:

Figure 112020056621466-pat00050
;
Figure 112020056621466-pat00051
;
Figure 112020056621466-pat00052
;
Figure 112020056621466-pat00053
;
Figure 112020056621466-pat00054
;
Figure 112020056621466-pat00055
;
Figure 112020056621466-pat00056
;
Figure 112020056621466-pat00057
;
Figure 112020056621466-pat00058
;
Figure 112020056621466-pat00059
;
Figure 112020056621466-pat00060
;
Figure 112020056621466-pat00061
;
Figure 112020056621466-pat00062
.
Figure 112020056621466-pat00050
;
Figure 112020056621466-pat00051
;
Figure 112020056621466-pat00052
;
Figure 112020056621466-pat00053
;
Figure 112020056621466-pat00054
;
Figure 112020056621466-pat00055
;
Figure 112020056621466-pat00056
;
Figure 112020056621466-pat00057
;
Figure 112020056621466-pat00058
;
Figure 112020056621466-pat00059
;
Figure 112020056621466-pat00060
;
Figure 112020056621466-pat00061
;
Figure 112020056621466-pat00062
.

본원은 하기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 6으로서 표시되는 화합물; 하기 화학식 7로서 표시되는 화합물; 및 합성시약;을 용매 하에서 반응시키는 것을 포함하며, 상기 합성시약은 하기 화학식 8로서 표시되는 화합물을 포함하는 설펜아마이드 화합물의 제조 방법에 관한 것이다. The present application relates to a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6); a compound represented by the following formula (7); and a synthetic reagent; and reacting the synthetic reagent in a solvent, wherein the synthetic reagent relates to a method for preparing a sulfenamide compound comprising a compound represented by the following formula (8).

Figure 112020056621466-pat00063
Figure 112020056621466-pat00063

Figure 112020056621466-pat00064
Figure 112020056621466-pat00064

Figure 112020056621466-pat00065
Figure 112020056621466-pat00065

Figure 112020056621466-pat00066
Figure 112020056621466-pat00066

상기 화학식 5 내지 8에서, R1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 고리이고, A1은 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 6원 불포화 또는 방향족 고리, 치환될 수 있는 5-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리 및 치환될 수 있는 6-원 불포화 또는 방향족 헤테로 고리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1개 이상의 고리이거나 또는 상기 군에서 선택되는 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며, R4 및 R5는 각각 독립적으로 H, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-C20의 알킬, 치환될 수 있는 C6-C20의 아릴, 치환될 수 있는 C3-C20의 고리 또는 치환될 수 있는 C3-C20의 헤테로 고리이고, 상기 헤테로 고리는 N, O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상을 포함하며, 상기 치환은 C1-C6의 알킬 또는 C6-C20의 아릴에 의해 치환되는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formulas 5 to 8, R 1 is an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic hetero ring, and an optionally substituted At least one ring selected from the group consisting of 6-membered unsaturated or aromatic heterocycles, or a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 2 and R 3 are each independently H, which may be substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, optionally substituted C 6 -C 20 aryl, or optionally substituted C 3 -C 20 ring, A 1 is optionally substituted 5-membered unsaturated or at least one ring selected from the group consisting of an aromatic ring, an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic ring, an optionally substituted 5-membered unsaturated or aromatic heterocycle and an optionally substituted 6-membered unsaturated or aromatic heterocyclic ring. Or is a polycyclic ring in which two or more rings selected from the group are fused, R 4 and R 5 are each independently H, optionally substituted linear or branched C 1 -C 20 alkyl, which may be substituted C 6 -C 20 aryl, optionally substituted C 3 -C 20 ring, or optionally substituted C 3 -C 20 heterocyclic ring, wherein the hetero ring is at least one selected from the group consisting of N, O and S Including, the substitution may be one substituted by C 1 -C 6 alkyl or C 6 -C 20 aryl, but is not limited thereto.

도 1a 및 1b는 본원의 일 구현예에 따른 설펜아마이드 화합물의 제조 방법의 메커니즘을 나타낸 도면이다. 1A and 1B are diagrams showing the mechanism of a method for preparing a sulfenamide compound according to an embodiment of the present application.

도 1a를 참조하면, 상기 화학식 7로서 표시되는 화합물의 싸이올기의 수소가 상기 화학식 8로서 표시되는 합성시약(Ⅰ)과 반응하여 중간체(Ⅱ)를 형성한다. 상기 중간체(Ⅱ)는 화학식 5로서 표시되는 화합물의 아민기와 반응하여 설펜아마이드 화합물(화학식 1)을 합성한다. 이때, 상기 중간체(Ⅱ)는 화합물(Ⅲ)으로 빠져나가게 된다. 상기 화합물(Ⅲ)은 페닐아이오딘 다이아세테이트(phenyliodine diacetate, PIDA)의 존재 하에서 상기 화학식 8로서 표시되는 합성시약(Ⅰ)으로 재생될 수 있다. 재생된 상기 합성시약을 설펜아마이드 화합물을 합성하기 위해 재사용할 수 있다. Referring to FIG. 1A , the hydrogen of the thiol group of the compound represented by Formula 7 reacts with the synthetic reagent (I) represented by Formula 8 to form an intermediate (II). The intermediate (II) reacts with the amine group of the compound represented by Formula 5 to synthesize a sulfenamide compound (Formula 1). At this time, the intermediate (II) is released as compound (III). The compound (III) can be regenerated as the synthetic reagent (I) represented by the above formula (8) in the presence of phenyliodine diacetate (PIDA). The regenerated synthetic reagent can be reused for synthesizing the sulfenamide compound.

도 1b를 참조하면, 상기 화학식 7로서 표시되는 화합물의 싸이올기의 수소가 상기 화학식 8로서 표시되는 합성시약(Ⅰ)과 반응하여 중간체(Ⅱ)를 형성한다. 상기 중간체(Ⅱ)는 화학식 6으로서 표시되는 화합물의 아민기와 반응하여 설펜아마이드 화합물(화학식 2)을 합성한다. 이때, 상기 중간체(Ⅱ)는 화합물(Ⅲ)으로 빠져나가게 된다. 상기 화합물(Ⅲ)은 페닐아이오딘 다이아세테이트(phenyliodine diacetate, PIDA)의 존재 하에서 상기 화학식 8로서 표시되는 합성시약(Ⅰ)으로 재생될 수 있다. 재생된 상기 합성시약을 설펜아마이드 화합물을 합성하기 위해 재사용할 수 있다. Referring to FIG. 1B, the hydrogen of the thiol group of the compound represented by Formula 7 reacts with the synthetic reagent (I) represented by Formula 8 to form an intermediate (II). The intermediate (II) reacts with the amine group of the compound represented by Formula 6 to synthesize a sulfenamide compound (Formula 2). At this time, the intermediate (II) is released as compound (III). The compound (III) can be regenerated as the synthetic reagent (I) represented by the above formula (8) in the presence of phenyliodine diacetate (PIDA). The regenerated synthetic reagent can be reused for synthesizing the sulfenamide compound.

본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 전이금속 및/또는 할로겐 시약의 부재 하에서 합성시약(다이알킬 아조다이카르복실레이트)를 매개로 하여 싸이올과 아민의 커플링 반응을 통해 설펜아마이드 유도체를 높은 수율로 합성할 수 있다. 특히, 상기 합성시약을 사용하여 산화되기 쉬운 황을 선택적으로 황-질소 결합으로 형성하도록 유도하여 원자 경제적인 반응조건에서 제조할 수 있다. The method for preparing a sulfenamide compound of the present application provides a high yield of a sulfenamide derivative through a coupling reaction between a thiol and an amine through a synthetic reagent (dialkyl azodicarboxylate) in the absence of a transition metal and/or halogen reagent. can be synthesized with In particular, by using the synthetic reagent to selectively form sulfur, which is easily oxidized, through a sulfur-nitrogen bond, it can be prepared under atom-economical reaction conditions.

종래에는 황의 산화가 쉽게 일어나, 이를 조절하여 설펜아마이드 화합물을 합성하기 어려웠다. 하지만, 본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 합성시약을 사용하여 싸이올 및 아민의 치환기를 조절함으로써 다양한 설펜아마이드 화합물을 간단하게 제조할 수 있다. Conventionally, oxidation of sulfur occurs easily, and it is difficult to control this to synthesize a sulfenamide compound. However, in the method for preparing sulfenamide compounds of the present application, various sulfenamide compounds can be prepared simply by adjusting the substituents of thiols and amines using synthetic reagents.

나아가, 값비싼 전이금속을 사용하지 않고, 상기 합성시약은 재사용이 가능하여 공정의 저가화에 용이하다. Furthermore, without using an expensive transition metal, the synthetic reagent can be reused, thereby making it easy to reduce the cost of the process.

더욱이, 본원의 설펜아마이드 화합물의 제조 방법은 대량 스케일의 합성이 가능하여 다양한 산업에 응용될 수 있다. Moreover, the method for preparing the sulfenamide compound of the present application can be applied to various industries because it can be synthesized on a large scale.

또한, 실험자의 건강 및 환경 오염에 좋지 않은 영향을 끼칠 수 있는 극약시약인 할로겐 시약을 사용하지 않고, 설펜아마이드 화합물을 제조할 수 있다.In addition, the sulfenamide compound can be prepared without using a halogen reagent, which is a very weak reagent that can adversely affect the health and environmental pollution of the experimenter.

상기 R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 에틸, 벤질, 사이클로프로페인, 사이클로펜테인, 사이클로헥세인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 2 and R 3 may each independently include one selected from the group consisting of H, ethyl, benzyl, cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, and combinations thereof, but is not limited thereto .

상기 A1

Figure 112020056621466-pat00067
,
Figure 112020056621466-pat00068
,
Figure 112020056621466-pat00069
,
Figure 112020056621466-pat00070
,
Figure 112020056621466-pat00071
또는
Figure 112020056621466-pat00072
인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The A 1 is
Figure 112020056621466-pat00067
,
Figure 112020056621466-pat00068
,
Figure 112020056621466-pat00069
,
Figure 112020056621466-pat00070
,
Figure 112020056621466-pat00071
or
Figure 112020056621466-pat00072
may be, but is not limited thereto.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물은 하기 화학식 9로서 표시되는 화합물을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The compound represented by Formula 7 may include a compound represented by Formula 9 below, but is not limited thereto.

Figure 112020056621466-pat00073
Figure 112020056621466-pat00073

상기 화학식 9에서, 상기 X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. In Formula 9, X may be an element selected from the group consisting of O, S, Se, Te, and combinations thereof, but is not limited thereto.

상기 R4 및 R5는 각각 독립적으로 페닐, 벤질, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 터틀부틸 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. R 4 and R 5 may each independently include one selected from the group consisting of phenyl, benzyl, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, turtlebutyl, and combinations thereof, but is limited thereto it's not going to be

상기 화학식 8로서 표시되는 화합물은 하기 화합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 어느 하나인 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다: The compound represented by Formula 8 may be any one selected from the group consisting of the following compounds, but is not limited thereto:

Figure 112020056621466-pat00074
;
Figure 112020056621466-pat00075
;
Figure 112020056621466-pat00076
;
Figure 112020056621466-pat00077
.
Figure 112020056621466-pat00074
;
Figure 112020056621466-pat00075
;
Figure 112020056621466-pat00076
;
Figure 112020056621466-pat00077
.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 상기 화학식 6으로서 표시되는 화합물이 4 당량 내지 10 당량으로 반응하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the compound represented by Formula 5 or the compound represented by Formula 6 may be reacted in an amount of 4 to 10 equivalents, but is not limited thereto.

상기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 상기 6으로서 표시되는 화합물이 상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 4 당량 미만 또는 10 당량 초과로 반응하는 경우, 수율이 감소되고 부산물이 증가할 수 있다. When the compound represented by Formula 5 or the compound represented by 6 reacts in less than 4 equivalents or more than 10 equivalents based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the yield may decrease and by-products may increase.

상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 합성시약이 1 당량 내지 3 당량으로 반응하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. Based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the synthetic reagent may be reacted with 1 to 3 equivalents, but is not limited thereto.

상기 합성시약이 상기 화학식 7로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 1 당량 미만 또는 3 당량 초과로 반응하는 경우, 수율이 감소되고 부산물이 증가할 수 있다. When the synthetic reagent reacts in less than 1 equivalent or more than 3 equivalents based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 7, the yield may decrease and by-products may increase.

상기 용매는 디메틸포름아마이드, 톨루엔, 다이클로로메테인, 테트라하이드로퓨란, 클로로벤젠, 아세토나이트릴, 에탄올, 아세톤, 이소프로필알코올, 에틸에테르 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The solvent includes a solvent selected from the group consisting of dimethylformamide, toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, chlorobenzene, acetonitrile, ethanol, acetone, isopropyl alcohol, ethyl ether, and combinations thereof. may be, but is not limited thereto.

더욱 바람직하게는, 상기 용매는 디메틸포름아마이드, 테트라하이드로퓨란, 아세토나이트릴 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. More preferably, the solvent may include a solvent selected from the group consisting of dimethylformamide, tetrahydrofuran, acetonitrile, and combinations thereof, but is not limited thereto.

상기 반응은 1 시간 내지 5 시간 동안 이루어지는 것 일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The reaction may be carried out for 1 hour to 5 hours, but is not limited thereto.

상기 반응이 1 시간 미만 동안 이루어지는 경우 반응물이 충분히 생성되지 않아 수율이 감소될 수 있다. 또한, 상기 반응이 5 시간 초과로 반응이 이루어지는 경우 부산물이 증가할 수 있다. 다만, 상기 반응 시간은 특별히 한정되지 않으며, 상기 반응 시간은 제조하고자 하는 화합물의 치환기에 따라 조절될 수 있다. 즉, 필요에 따라서는 상기에 개시한 반응 시간 범위 외의 반응 시간으로 이루어질 수 있다. If the reaction is carried out for less than 1 hour, the reactant may not be sufficiently generated, and thus the yield may be reduced. In addition, when the reaction is carried out for more than 5 hours, by-products may increase. However, the reaction time is not particularly limited, and the reaction time may be adjusted according to the substituent of the compound to be prepared. That is, if necessary, the reaction time may be outside the above-described reaction time range.

이하 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하고자 하나, 하기의 실시예는 단지 설명의 목적을 위한 것이며 본원의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다.The present invention will be described in more detail through the following examples, but the following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present application.

1. 반응 조건 최적화를 위한 실시예 1. Examples for Optimizing Reaction Conditions

먼저, 하기 반응식 1에서 1 당량(eq)(30 mg, 0.18 mmol)의 하기 화합물 1a와 용매로서 1 ml의 DMF(dimethylformamide)를 반응용기에 넣었다. 이어서, 2 ml의 DMF에 용해된 6 당량(eq)(111.1 mg, 1.08 mmol)의 하기 화합물 2a 및 합성시약으로서 1.5 당량(eq)(85.4 mg, 0.29 mmol)의 DBAD(dibenzyl azodicarboxylate)를 상기 반응 용기에 넣고, 상온에서 3시간동안 교반하면서 반응시켜 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(45 mg, 0.168 mmol, 수율 93%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.84 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.80 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.40 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.55 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 2.79 (t, J = 5.0 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 175.9, 155.3, 135.1, 126.1, 124.0, 121.9, 121.1, 58.7, 28.7.First, in Scheme 1, 1 equivalent (eq) (30 mg, 0.18 mmol) of the following compound 1a and 1 ml of DMF (dimethylformamide) as a solvent were placed in a reaction vessel. Then, 6 equivalents (eq) (111.1 mg, 1.08 mmol) of the following compound 2a dissolved in 2 ml of DMF and 1.5 equivalents (eq) (85.4 mg, 0.29 mmol) of DBAD (dibenzyl azodicarboxylate) as a synthetic reagent were reacted with the above reaction It was placed in a container and reacted with stirring at room temperature for 3 hours to prepare a sulfenamide compound (Compound 3a) (45 mg, 0.168 mmol, yield 93%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.84 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.80 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.40 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.55 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 2.79 (t, J = 5.0 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 175.9, 155.3, 135.1, 126.1, 124.0, 121.9, 121.1, 58.7, 28.7.

[반응식 1][Scheme 1]

Figure 112020056621466-pat00078
Figure 112020056621466-pat00078

상기 화합물 2a를 5 당량 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 88%).A sulfenamide compound (compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5 equivalents of the compound 2a was used (yield 88%).

상기 실시예 2에서 제조한 설펜아마이드 화합물은 부산물로서 다이설파이드 화합물이 12% 합성되었다.In the sulfenamide compound prepared in Example 2, 12% of the disulfide compound was synthesized as a by-product.

용매로서 톨루엔을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 85%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that toluene was used as a solvent (yield 85%).

상기 실시예 3에서 제조한 설펜아마이드 화합물은 부산물로서 다이설파이드 화합물이 15% 합성되었다.In the sulfenamide compound prepared in Example 3, 15% of the disulfide compound was synthesized as a by-product.

용매로서 DCM(dichloromethane)을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 86%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that DCM (dichloromethane) was used as a solvent (yield 86%).

상기 실시예 4에서 제조한 설펜아마이드 화합물은 부산물로서 다이설파이드 화합물이 14% 합성되었다.In the sulfenamide compound prepared in Example 4, 14% of the disulfide compound was synthesized as a by-product.

용매로서 THF(tetrahydrofuran)을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 92%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that tetrahydrofuran (THF) was used as a solvent (yield 92%).

용매로서 클로로벤젠을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 85%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that chlorobenzene was used as a solvent (yield 85%).

상기 실시예 6에서 제조한 설펜아마이드 화합물은 부산물로서 다이설파이드 화합물이 15% 합성되었다.In the sulfenamide compound prepared in Example 6, 15% of the disulfide compound was synthesized as a by-product.

용매로서 아세토나이트릴을 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 89%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that acetonitrile was used as a solvent (yield 89%).

합성시약으로서 DIAD(diisopropyl azodicarboxylate)를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)를 제조하였다(수율 91%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that diisopropyl azodicarboxylate (DIAD) was used as a synthetic reagent (yield 91%).

합성시약으로서 DEAD(diethyl azodicarboxylate)를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)를 제조하였다(수율 89%).A sulfenamide compound (compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that DEAD (diethyl azodicarboxylate) was used as a synthetic reagent (yield 89%).

합성시약으로서 DtBAD(Di-tert-butyl azodicarboxylate)를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)를 제조하였다(수율 86%).A sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that Di-tert-butyl azodicarboxylate (DtBAD) was used as a synthetic reagent (yield 86%).

[비교예 1][Comparative Example 1]

상기 화합물 2a를 3 당량 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)을 제조하였다(수율 42%).A sulfenamide compound (compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that 3 equivalents of the compound 2a were used (yield 42%).

상기 비교예 1에서 제조한 설펜아마이드 화합물은 부산물로서 다이설파이드 화합물이 42% 합성되었다. In the sulfenamide compound prepared in Comparative Example 1, 42% of the disulfide compound was synthesized as a by-product.

[비교예 2][Comparative Example 2]

합성시약을 사용하지 않는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3a)를 제조하였을 때, 반응이 일어나지 않은 것을 확인하였다. When the sulfenamide compound (Compound 3a) was prepared in the same manner as in Example 1, except that no synthetic reagent was used, it was confirmed that no reaction occurred.

상기 실시예 1, 2 및 비교예 1에서 나타난 결과에 따르면, 상기 화합물 2a를 3당량으로 사용했을 때, 수율이 낮아지고 부산물이 증가하는 것을 확인할 수 있다(비교예 1). 반면, 상기 화합물 2a를 6 당량 사용한 실시예 1의 경우, 수율이 93%로 높게 나오면서, 부산물이 합성되지 않았다. According to the results shown in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, when the compound 2a was used in 3 equivalents, it was confirmed that the yield decreased and the by-products increased (Comparative Example 1). On the other hand, in the case of Example 1 using 6 equivalents of the compound 2a, the yield was as high as 93%, and no by-products were synthesized.

상기 실시예 1, 3 내지 7에서 나타난 결과에 따르면, 용매로서 DMF, 톨루엔, DCM, THF, 클로로벤젠 또는 아세토 나이트릴을 사용했을 때 모두 수율이 80% 이상으로 높은 것을 확인할 수 있다. 특히, 용매로서 DMF, THF 또는 아세토나이트릴을 사용했을 때에는 부산물이 생성되지 않은 것을 확인할 수 있다. According to the results shown in Examples 1 and 3 to 7, when DMF, toluene, DCM, THF, chlorobenzene, or acetonitrile was used as a solvent, it can be confirmed that all yields were as high as 80% or more. In particular, when using DMF, THF or acetonitrile as a solvent, it can be confirmed that by-products are not generated.

상기 실시예 1, 8 내지 10에 나타난 결과에 따르면, 합성시약으로서 DBAD, DIAD, DEAD 또는 DtBAD을 사용했을 때 모두 수율이 85% 이상으로 높으면서, 부산물이 생성되지 않는 것을 확인할 수 있다. According to the results shown in Examples 1 and 8 to 10, when DBAD, DIAD, DEAD, or DtBAD was used as a synthetic reagent, all yields were as high as 85% or more, and it was confirmed that no by-products were produced.

2.1 화합물 2에 따른 합성 결과 2.1 Synthesis result according to compound 2

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3b)를 제조하였다(수율87%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.42 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.29 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.83 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 3.29 (t, J = 4.5 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 175.1, 155.2, 135.1, 126.1, 124.1, 122.0, 121.2, 68.0, 56.7.A sulfenamide compound (Compound 3b) was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 2b below was used instead of Compound 2a (yield 87%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.42 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.29 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.83 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 3.29 (t, J = 4.5 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 175.1, 155.2, 135.1, 126.1, 124.1, 122.0, 121.2, 68.0, 56.7.

[화합물 2b][Compound 2b]

Figure 112020056621466-pat00079
Figure 112020056621466-pat00079

[화합물 3b][Compound 3b]

Figure 112020056621466-pat00080
Figure 112020056621466-pat00080

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2c를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3c)를 제조하였다(수율66%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.42 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.29 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.83 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 3.29 (t, J = 4.5 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 175.1, 155.2, 135.1, 126.1, 124.1, 122.0, 121.2, 68.0, 56.7.A sulfenamide compound (Compound 3c) was prepared in the same manner as in Example 1 (yield 66%), except that Compound 2c below was used instead of Compound 2a. 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.85 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.42 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.29 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.83 (t, J = 4.8 Hz, 4H), 3.29 (t, J = 4.5 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 175.1, 155.2, 135.1, 126.1, 124.1, 122.0, 121.2, 68.0, 56.7.

[화합물 2c][Compound 2c]

Figure 112020056621466-pat00081
Figure 112020056621466-pat00081

[화합물 3c][Compound 3c]

Figure 112020056621466-pat00082
Figure 112020056621466-pat00082

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2d를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3d)를 제조하였다(수율 68%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.7, 0.8 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 3.22 (t, J = 5.2 Hz, 4H), 1.74 (quin, J = 5.6 Hz, 4H), 1.52 (quin, J = 5.9 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3)δ 177.7, 155.4, 135.2, 125.8, 123.6, 121.7, 121.1, 58.2, 27.5, 23.1. IR: v 3061, 2935, 2849, 1470, 1428, 1271, 1021, 925, 755, 667 cm-1; HRMS (EI) calcd for C12H14N2S2 [M]+: 250.0598. Found: 250.0598. A sulfenamide compound (Compound 3d) was prepared in the same manner as in Example 1 (yield 68%), except that Compound 2d below was used instead of Compound 2a. 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.79 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.7, 0.8 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 3.22 (t, J = 5.2 Hz, 4H), 1.74 (quin, J = 5.6 Hz, 4H), 1.52 (quin, J = 5.9 Hz, 2H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 )δ 177.7, 155.4, 135.2, 125.8, 123.6, 121.7, 121.1, 58.2, 27.5, 23.1. IR: v 3061, 2935, 2849, 1470, 1428, 1271, 1021, 925, 755, 667 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 12 H 14 N 2 S 2 [M] + : 250.0598. Found: 250.0598.

[화합물 2d][Compound 2d]

Figure 112020056621466-pat00083
Figure 112020056621466-pat00083

[화합물 3d][Compound 3d]

Figure 112020056621466-pat00084
Figure 112020056621466-pat00084

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2e를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3e)를 제조하였다(수율 47%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 7.24 (td, J = 7.6, 0.7 Hz, 1H), 3.32 (t, J = 5.8 Hz, 4H), 1.94 (quin, J = 3.3 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 178.3, 155.2, 135.0, 125.8, 123.6, 121.6, 121.0, 55.7, 26.2.A sulfenamide compound (compound 3e) was prepared in the same manner as in Example 1 (yield 47%), except that the following compound 2e was used instead of the compound 2a. 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 7.24 (td, J = 7.6, 0.7 Hz, 1H), 3.32 (t, J = 5.8 Hz, 4H), 1.94 (quin, J = 3.3 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 178.3, 155.2, 135.0, 125.8, 123.6, 121.6, 121.0, 55.7, 26.2.

[화합물 1e][Compound 1e]

Figure 112020056621466-pat00085
Figure 112020056621466-pat00085

[화합물 3e][Compound 3e]

Figure 112020056621466-pat00086
Figure 112020056621466-pat00086

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2f를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3f)를 제조하였다(수율 42%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.25 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 3.38 (t, J = 5.8 Hz, 4H), 1.77 (s, 4H), 1.65 (quin, J = 3.0 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 180.3, 155.6, 135.1, 125.8, 123.5, 121.6, 121.1, 59.2, 29.9, 27.2. IR: v 3061, 2925, 2852, 1468, 1428, 1236, 1006, 755, 727, 667 cm-1; HRMS (EI) calcd for C13H16N2S2 [M]+: 264.0755. Found: 264.0755.A sulfenamide compound (compound 3f) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following compound 2f was used instead of the compound 2a (yield 42%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.25 (t) , J = 7.7 Hz, 1H), 3.38 (t, J = 5.8 Hz, 4H), 1.77 (s, 4H), 1.65 (quin, J = 3.0 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 180.3, 155.6, 135.1, 125.8, 123.5, 121.6, 121.1, 59.2, 29.9, 27.2. IR: v 3061, 2925, 2852, 1468, 1428, 1236, 1006, 755, 727, 667 cm −1 ; HRMS (EI) calcd for C 13 H 16 N 2 S 2 [M] + : 264.0755. Found: 264.0755.

[화합물 2f][Compound 2f]

Figure 112020056621466-pat00087
Figure 112020056621466-pat00087

[화합물 3f][Compound 3f]

Figure 112020056621466-pat00088
Figure 112020056621466-pat00088

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2g를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3g)를 제조하였다(수율 96%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.24 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 3.39 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 3.18-3.12 (m, 2H), 1.22 (td, J = 7.0, 1.8 Hz, 3H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 178.8, 154.9, 135.0, 125.8, 123.6, 121.5, 121.1, 47.4, 15.7. A sulfenamide compound (compound 3g) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following compound 2g was used instead of the compound 2a (yield 96%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.77 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.24 (t) , J = 7.7 Hz, 1H), 3.39 (d, J = 4.5 Hz, 1H), 3.18-3.12 (m, 2H), 1.22 (td, J = 7.0, 1.8 Hz, 3H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 178.8, 154.9, 135.0, 125.8, 123.6, 121.5, 121.1, 47.4, 15.7.

[화합물 2g][Compound 2 g]

Figure 112020056621466-pat00089
Figure 112020056621466-pat00089

[화합물 3g][Compound 3g]

Figure 112020056621466-pat00090
Figure 112020056621466-pat00090

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2h를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3h)를 제조하였다(수율 88%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.86 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.44-7.38 (m, 5H), 7.35-7.28 (m, 2H), 4.29 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 3.56 (t, J = 5.8 Hz, 1H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 177.4, 154.9, 138.6, 135.2, 128.9, 128.6, 128.1, 126.1, 123.9, 121.8, 121.3, 57.2. A sulfenamide compound (Compound 3h) was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 2h was used instead of Compound 2a (yield 88%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.86 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.44-7.38 (m, 5H), 7.35-7.28 (m, 2H), 4.29 (d, J = 6.0 Hz, 2H), 3.56 (t, J = 5.8 Hz, 1H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 177.4, 154.9, 138.6, 135.2, 128.9, 128.6, 128.1, 126.1, 123.9, 121.8, 121.3, 57.2.

[화합물 2h][Compound 2h]

Figure 112020056621466-pat00091
Figure 112020056621466-pat00091

[화합물 3h][Compound 3h]

Figure 112020056621466-pat00092
Figure 112020056621466-pat00092

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2i를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3i)를 제조하였다(수율 88%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.97 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.40 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.29 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 6.08 (s, 1H), 2.76-2.50 (m, 1H), 0.59 (d, J = 6.5 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, DMSOd6) δ 179.4, 154.6, 134.3, 126.0, 123.6, 121.6, 121.0, 33.1, 7.9.A sulfenamide compound (compound 3i) was prepared in the same manner as in Example 1 (yield 88%), except for using the following compound 2i instead of the compound 2a. 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.97 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.40 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.29 (t) , J = 7.5 Hz, 1H), 6.08 (s, 1H), 2.76-2.50 (m, 1H), 0.59 (d, J = 6.5 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, DMSOd6) δ 179.4, 154.6, 134.3, 126.0, 123.6, 121.6, 121.0, 33.1, 7.9.

[화합물 2i][Compound 2i]

Figure 112020056621466-pat00093
Figure 112020056621466-pat00093

[화합물 3i][Compound 3i]

Figure 112020056621466-pat00094
Figure 112020056621466-pat00094

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2j를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3j)를 제조하였다(수율 91%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.25 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 3.64-3.59 (m, 1H), 3.39 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 1.89-1.81 (m, 2H), 1.80-1.71 (m, 2H), 1.64-1.54 (m, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 179.5, 155.0, 135.0, 125.9, 123.6, 121.5, 121.1, 62.8, 33.3, 23.9. IR: v 3223, 2956, 2868, 1463, 1428, 1238, 1026, 1010, 755, 727 cm-1; HRMS (EI) calcd for C12H14N2S2 [M]+: 250.0598. Found: 250.0598. A sulfenamide compound (Compound 3j) was prepared in the same manner as in Example 1 (yield 91%), except that Compound 2j was used instead of Compound 2a. 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.82 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.25 (t) , J = 7.5 Hz, 1H), 3.64-3.59 (m, 1H), 3.39 (d, J = 2.5 Hz, 1H), 1.89-1.81 (m, 2H), 1.80-1.71 (m, 2H), 1.64- 1.54 (m, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 179.5, 155.0, 135.0, 125.9, 123.6, 121.5, 121.1, 62.8, 33.3, 23.9. IR: v 3223, 2956, 2868, 1463, 1428, 1238, 1026, 1010, 755, 727 cm −1 ; HRMS (EI) calcd for C 12 H 14 N 2 S 2 [M] + : 250.0598. Found: 250.0598.

[화합물 2j][Compound 2j]

Figure 112020056621466-pat00095
Figure 112020056621466-pat00095

[화합물 3j][Compound 3j]

Figure 112020056621466-pat00096
Figure 112020056621466-pat00096

상기 화합물 2a 대신 하기 화합물 2k를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3k)을 제조하였다(수율 25%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.5, 0.8 Hz, 1H), 3.27 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 2.91-2.86 (m, 1H), 2.08 (d, J = 10.0 Hz, 2H), 1.78-1.75 (m, 2H), 1.62-1.59 (m, 1H), 1.31-1.14 (m, 5H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 180.1, 155.2, 135.0, 125.9, 123.6, 121.6, 121.1, 60.4, 33.8, 25.7, 25.0.A sulfenamide compound (compound 3k) was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following compound 2k was used instead of the compound 2a (yield 25%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.81 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.38 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.5, 0.8 Hz, 1H), 3.27 (d, J = 5.0 Hz, 1H), 2.91-2.86 (m, 1H), 2.08 (d, J = 10.0 Hz, 2H), 1.78-1.75 ( m, 2H), 1.62-1.59 (m, 1H), 1.31-1.14 (m, 5H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 180.1, 155.2, 135.0, 125.9, 123.6, 121.6, 121.1, 60.4, 33.8, 25.7, 25.0.

[화합물 2k][Compound 2k]

Figure 112020056621466-pat00097
Figure 112020056621466-pat00097

[화합물 3k][Compound 3k]

Figure 112020056621466-pat00098
Figure 112020056621466-pat00098

2.2 화합물 2에 따른 합성 결과 2.2 Synthesis result according to compound 2

상기 화합물 1a 대신 하기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3l)을 제조하였다(수율 92%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.65 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.49 (dd, J = 7.0, 1.5 Hz, 1H), 7.33-7.26 (m, 2H), 3.70 (t, J = 5.2 Hz, 4H), 2.76 (t, J = 4.2 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 165.8, 151.6, 141.9, 124.5, 124.4, 119.3, 110.3, 58.5, 29.3. IR: v 3061, 2913, 2852, 1496, 1451, 1235, 1122, 1089, 756, 743 cm-1; HRMS (EI) calcd for C11H12N2OS2 [M]+: 252.0391. Found: 252.0389.A sulfenamide compound (Compound 3l) was prepared in the same manner as in Example 1, except that Compound 1b below was used instead of Compound 1a (yield 92%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.65 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.49 (dd, J = 7.0, 1.5 Hz, 1H), 7.33-7.26 (m, 2H), 3.70 ( t, J = 5.2 Hz, 4H), 2.76 (t, J = 4.2 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 165.8, 151.6, 141.9, 124.5, 124.4, 119.3, 110.3, 58.5, 29.3. IR : v 3061, 2913, 2852, 1496, 1451, 1235, 1122, 1089, 756, 743 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 11 H 12 N 2 OS 2 [M] + : 252.0391. Found: 252.0389.

[화합물 1b][Compound 1b]

Figure 112020056621466-pat00099
Figure 112020056621466-pat00099

[화합물 3l][Compound 3l]

Figure 112020056621466-pat00100
Figure 112020056621466-pat00100

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 11과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3m)을 제조하였다(수율 76%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) 7.66 (dd, J = 7.2, 1.8 Hz, 1H), 7.50 (dd, J = 7.2, 1.7 Hz, 1H), 7.33-7.27 (m, 2H), 3.77 (t, J = 4.5 Hz, 4H), 3.44 (t, J = 4.0 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) 165.3, 151.5, 141.8, 124.6, 124.5, 119.3, 110.3, 67.9, 55.9. A sulfenamide compound (compound 3m) was prepared in the same manner as in Example 11, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 76%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) 7.66 (dd, J = 7.2, 1.8 Hz, 1H), 7.50 (dd, J = 7.2, 1.7 Hz, 1H), 7.33-7.27 (m, 2H), 3.77 (t) , J = 4.5 Hz, 4H), 3.44 (t, J = 4.0 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) 165.3, 151.5, 141.8, 124.6, 124.5, 119.3, 110.3, 67.9, 55.9.

[화합물 3m][compound 3m]

Figure 112020056621466-pat00101
Figure 112020056621466-pat00101

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 12와 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3n)을 제조하였다(수율 51%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.57 (dd, J = 6.5, 1.5 Hz, 1H), 7.41 (dd, J = 7.2, 1.2 Hz, 1H), 7.25-7.18 (m, 2H), 3.42 (s, 4H), 2.45 (s, 4H), 2.25 (s, 3H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) 165.6, 151.4, 141.6, 124.3, 124.2, 119.1, 110.1, 56.0, 55.6, 46.0. IR: v 3052, 2937, 2842, 2793, 1504, 1454, 1284, 1236, 1006, 744 cm-1; HRMS (EI) calcd for C12H15N3OS [M]+: 249.0936. Found: 249.0932.A sulfenamide compound (Compound 3n) was prepared in the same manner as in Example 12, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 51%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.57 (dd, J = 6.5, 1.5 Hz, 1H), 7.41 (dd, J = 7.2, 1.2 Hz, 1H), 7.25-7.18 (m, 2H), 3.42 ( s, 4H), 2.45 (s, 4H), 2.25 (s, 3H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) 165.6, 151.4, 141.6, 124.3, 124.2, 119.1, 110.1, 56.0, 55.6, 46.0. IR: v 3052, 2937, 2842, 2793, 1504, 1454, 1284, 1236, 1006, 744 cm −1 ; HRMS (EI) calcd for C 12 H 15 N 3 OS [M] + : 249.0936. Found: 249.0932.

[화합물 3n][Compound 3n]

Figure 112020056621466-pat00102
Figure 112020056621466-pat00102

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 13와 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3o)을 제조하였다(수율 51%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.64 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.47 (dd, J = 7.2, 0.8 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 3.40 (t, J = 5.5 Hz, 4H), 1.66 (quin, J = 5.8 Hz, 4H), 1.49 (quin, J = 5.8 Hz, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 166.5, 151.4, 141.9, 124.3, 124.1, 119.0, 110.1, 57.4, 27.4, 22.8. IR: v 3062, 2937, 2851, 1496, 1451, 1236, 1119, 1088, 801, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C12H14N2OS [M]+: 234.0827. Found: 234.0832. A sulfenamide compound (Compound 3o) was prepared in the same manner as in Example 13, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 51%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.64 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.47 (dd, J = 7.2, 0.8 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.25 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 3.40 (t, J = 5.5 Hz, 4H), 1.66 (quin, J = 5.8 Hz, 4H), 1.49 (quin, J = 5.8 Hz, 2H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 166.5, 151.4, 141.9, 124.3, 124.1, 119.0, 110.1, 57.4, 27.4, 22.8. IR : v 3062, 2937, 2851, 1496, 1451, 1236, 1119, 1088, 801, 742 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 12 H 14 N 2 OS [M] + : 234.0827. Found: 234.0832.

[화합물 3o][Compound 3o]

Figure 112020056621466-pat00103
Figure 112020056621466-pat00103

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 14와 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3p)를 제조하였다(수율 26%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.62 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.46 (dd, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.24 (td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H), 3.38 (t, J = 6.8 Hz, 4H), 1.98 (quin, J = 3.4 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 166.9, 151.6, 142.0, 124.3, 123.9, 118.9, 110.1, 55.4, 26.3. IR: v 3051, 2925, 2871, 1501, 1452, 1235, 1121, 1089, 1002, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C11H12N2OS [M]+: 220.0670. Found:220.0670.A sulfenamide compound (Compound 3p) was prepared in the same manner as in Example 14, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 26%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62 (dd, J = 7.5, 1.5 Hz, 1H), 7.46 (dd, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.28 (td, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.24 (td, J = 7.7, 1.5 Hz, 1H), 3.38 (t, J = 6.8 Hz, 4H), 1.98 (quin, J = 3.4 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 166.9, 151.6, 142.0, 124.3, 123.9, 118.9, 110.1, 55.4, 26.3. IR : v 3051, 2925, 2871, 1501, 1452, 1235, 1121, 1089, 1002, 742 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 11 H 12 N 2 OS [M] + : 220.0670. Found:220.0670.

[화합물 3p][Compound 3p]

Figure 112020056621466-pat00104
Figure 112020056621466-pat00104

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 15와 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3q)를 제조하였다(수율 53%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.63 (dd, J = 8.0, 1.0 Hz, 1H), 7.46 (dd, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 7.23 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 3.49 (s, 4H), 1.72 (s, 4H), 1.62 (quin, J = 2.8 Hz, 4H). 13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 168.4, 151.8, 142.2, 124.2, 123.7, 118.9, 110.1, 59.6, 30.0, 27.5. IR: v 3052, 2926, 2853, 1497, 1452, 1235, 1122, 1090, 1038, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C13H16N2OS [M]+: 248.0983. Found:248.0980.A sulfenamide compound (Compound 3q) was prepared in the same manner as in Example 15, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 53%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.63 (dd, J = 8.0, 1.0 Hz, 1H), 7.46 (dd, J = 7.5, 1.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 7.23 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 3.49 (s, 4H), 1.72 (s, 4H), 1.62 (quin, J = 2.8 Hz, 4H). 13 C NMR (100 MHz, CDCl 3 ) δ 168.4, 151.8, 142.2, 124.2, 123.7, 118.9, 110.1, 59.6, 30.0, 27.5. IR : v 3052, 2926, 2853, 1497, 1452, 1235, 1122, 1090, 1038, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C13H16N2OS [M]+: 248.0983. Found:248.0980.

[화합물 3q][Compound 3q]

Figure 112020056621466-pat00105
Figure 112020056621466-pat00105

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 16과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3r)를 제조하였다(수율 91%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.62 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.6, 0.8 Hz, 1H), 7.22 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.42 (s, 1H), 3.42-3.18 (m, 2H), 1.21 (t, J = 7.3 Hz, 3H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 168.0, 151.9, 142.9, 124.4, 123.9, 118.7, 110.1, 47.0, 15.1. A sulfenamide compound (Compound 3r) was prepared in the same manner as in Example 16, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 91%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.6, 0.8 Hz, 1H), 7.22 (td, J = 7.8, 1.0 Hz, 1H), 3.42 (s, 1H), 3.42-3.18 (m, 2H), 1.21 (t, J = 7.3 Hz, 3H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 168.0, 151.9, 142.9, 124.4, 123.9, 118.7, 110.1, 47.0, 15.1.

[화합물 3r][Compound 3r]

Figure 112020056621466-pat00106
Figure 112020056621466-pat00106

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 17과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3s)를 제조하였다(수율 76%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.67 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.48 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.41-7.33 (m, 5H), 7.32-7.30 (m, 1H), 7.29-7.26 (m, 1H), 4.34 (d, J = 5.5 Hz, 2H), 3.64 (t, J = 5.0 Hz, 1H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 167.6, 152.0, 142.0, 138.3, 128.7, 128.6, 127.9, 124.5, 124.1, 118.8, 110.3, 56.5. A sulfenamide compound (Compound 3s) was prepared in the same manner as in Example 17, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 76%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.67 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.48 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.41-7.33 (m, 5H), 7.32-7.30 (m, 1H), 7.29-7.26 (m, 1H), 4.34 (d, J = 5.5 Hz, 2H), 3.64 (t, J = 5.0 Hz, 1H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 167.6, 152.0, 142.0, 138.3, 128.7, 128.6, 127.9, 124.5, 124.1, 118.8, 110.3, 56.5.

[화합물 3s][Compound 3s]

Figure 112020056621466-pat00107
Figure 112020056621466-pat00107

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 18과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3t)를 제조하였다(수율 90%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ (500 MHz, CDCl3) δ 7.63 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.22 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 4.24 (s, 1H), 3.07-3.03 (m, 1H), 0.66-0.63 (m, 2H), 0.62-0.58 (m, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 168.1, 151.9, 141.9, 124.3, 123.9, 118.6, 110.1, 33.0, 8.6. IR: v 3224, 3089, 1504, 1454, 1236, 1129, 1018, 802, 742, 624 cm-1; HRMS (EI) calcd for C10H10N2OS [M]+:206.0514. Found: 206.0511.A sulfenamide compound (compound 3t) was prepared in the same manner as in Example 18, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 90%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.63 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.27 (td, J = 7.7, 1.0 Hz, 1H), 7.22 (td, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 4.24 (s, 1H), 3.07-3.03 (m, 1H), 0.66-0.63 (m, 2H), 0.62-0.58 (m) , 2H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 168.1, 151.9, 141.9, 124.3, 123.9, 118.6, 110.1, 33.0, 8.6. IR : v 3224, 3089, 1504, 1454, 1236, 1129, 1018, 802, 742, 624 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 10 H 10 N 2 OS [M] + :206.0514. Found: 206.0511.

[화합물 3t][Compound 3t]

Figure 112020056621466-pat00108
Figure 112020056621466-pat00108

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 19와 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3u)를 제조하였다(수율 90%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.62 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.23 (t, J = 7.8, 1H), 3.80-3.75 (m, 1H), 3.41 (s, 1H), 1.83-1.72 (m, 4H), 1.69-1.65 (m, 2H), 1.58-1.55 (m, 2H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 168.0, 151.9, 142.0, 124.3, 123.9, 118.7, 110.1, 61.3, 33.0, 23.8. IR: v 3239, 3052, 2958, 2870, 1501, 1453, 1236, 1127, 1093, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C12H14N2OS [M]+: 234.0827. Found: 234.0826.A sulfenamide compound (Compound 3u) was prepared in the same manner as in Example 19, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 90%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.44 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.23 (t) , J = 7.8, 1H), 3.80-3.75 (m, 1H), 3.41 (s, 1H), 1.83-1.72 (m, 4H), 1.69-1.65 (m, 2H), 1.58-1.55 (m, 2H) . 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 168.0, 151.9, 142.0, 124.3, 123.9, 118.7, 110.1, 61.3, 33.0, 23.8. IR : v 3239, 3052, 2958, 2870, 1501, 1453, 1236, 1127, 1093, 742 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 12 H 14 N 2 OS [M] + : 234.0827. Found: 234.0826.

[화합물 3u][Compound 3u]

Figure 112020056621466-pat00109
Figure 112020056621466-pat00109

상기 화합물 1a 대신 상기 화합물 1b를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 20과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물 (화합물 3v)를 제조하였다(수율 83%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.62 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.23 (t, J = 7.5, 1H), 3.34 (s, 1H), 3.04 (s, 1H), 2.05-2.03 (m, 2H), 1.75-1.73 (m, 2H), 1.59-1.56 (m, 1H), 1.30-1.17 (m, 5H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 168.3, 151.9, 142.0, 124.3, 123.9, 118.8, 110.1, 58.3, 32.8, 25.9, 24.4. IR: v 3240, 3053, 2930, 2854, 1503, 1453, 1236, 1127, 1093, 742 cm-1; HRMS (EI) calcd for C13H16N2OS [M]+: 248.0983. Found: 248.0980.A sulfenamide compound (Compound 3v) was prepared in the same manner as in Example 20, except that Compound 1b was used instead of Compound 1a (yield 83%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.62 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 7.45 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.23 (t) , J = 7.5, 1H), 3.34 (s, 1H), 3.04 (s, 1H), 2.05-2.03 (m, 2H), 1.75-1.73 (m, 2H), 1.59-1.56 (m, 1H), 1.30 -1.17 (m, 5H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 168.3, 151.9, 142.0, 124.3, 123.9, 118.8, 110.1, 58.3, 32.8, 25.9, 24.4. IR : v 3240, 3053, 2930, 2854, 1503, 1453, 1236, 1127, 1093, 742 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 13 H 16 N 2 OS [M] + : 248.0983. Found: 248.0980.

[화합물 3v][Compound 3v]

Figure 112020056621466-pat00110
Figure 112020056621466-pat00110

2.3 화합물 1에 따른 합성 결과2.3 Synthesis result according to compound 1

상기 화합물 1a 대신 하기 화합물 1c를 사용하는 것을 제외하고, 상기 실시예 11과 동일한 방법으로 설펜아마이드 화합물(화합물 3w)을 제조하였다(수율 56%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 8.15 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.41 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 3.79 (t, J = 4.5 Hz, 4H), (t, J = 3.10 Hz, 4H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ (125 MHz, CDCl3) δ 150.3, 145.4, 124.2, 122.7, 67.8, 56.3. A sulfenamide compound (compound 3w) was prepared in the same manner as in Example 11, except that the following compound 1c was used instead of the compound 1a (yield 56%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 8.15 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.41 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 3.79 (t, J = 4.5 Hz, 4H), (t, J = 3.10 Hz, 4H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ (125 MHz, CDCl 3 ) δ 150.3, 145.4, 124.2, 122.7, 67.8, 56.3.

[화합물 1c][Compound 1c]

Figure 112020056621466-pat00111
Figure 112020056621466-pat00111

[화합물 3w][Compound 3w]

Figure 112020056621466-pat00112
Figure 112020056621466-pat00112

먼저, 하기 반응식 2에서 1 당량(eq)의 하기 화합물 1d, 합성시약으로서 1.5 당량(eq) 의 DBAD(dibenzyl azodicarboxylate) 및 용매로서 DMF(dimethylformamide)를 반응용기에 넣고, 60℃의 온도에서 30분동안 교반하면서 반응시켜 설펜아마이드 화합물(화합물 3x)을 제조하였다(수율 8%). 1H NMR (500 MHz, CDCl3) δ 7.33 (s, 10H), 7.20 (t, J = 1.8 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 1.7 Hz, 2H), 7.02 (s, 0.7H), 6.79 (s, 0.3H), 5.18 (d, J = 3.6 Hz, 3.4H), 5.00 (d, J = 9.9 Hz, 0.6H), 2.51 (s, 6H). 13C NMR (125 MHz, CDCl3) δ 156.6, 156.3, 155.4, 155.2, 144.1, 143.9, 135.6, 135.3, 132.8, 132.4, 131.0, 130.9, 128.6, 128.5, 128.4, 127.8, 69.7, 69.6, 68.0, 67.9, 22.1. IR: v 3062, 2360, 1732, 1498, 1381, 1287, 983, 775, 697, 588, 455 cm-1; HRMS (EI) calcd for C24H24N2O4S [M]+: 436.1457. Found: 436.1456.First, in Reaction Scheme 2, 1 equivalent (eq) of the following compound 1d, 1.5 equivalents (eq) of DBAD (dibenzyl azodicarboxylate) as a synthetic reagent, and DMF (dimethylformamide) as a solvent were placed in a reaction vessel, and 30 minutes at a temperature of 60 ° C. The reaction was stirred while stirring to prepare a sulfenamide compound (compound 3x) (yield 8%). 1 H NMR (500 MHz, CDCl 3 ) δ 7.33 (s, 10H), 7.20 (t, J = 1.8 Hz, 1H), 7.09 (d, J = 1.7 Hz, 2H), 7.02 (s, 0.7H), 6.79 (s, 0.3H), 5.18 (d, J = 3.6 Hz, 3.4H), 5.00 (d, J = 9.9 Hz, 0.6H), 2.51 (s, 6H). 13 C NMR (125 MHz, CDCl 3 ) δ 156.6, 156.3, 155.4, 155.2, 144.1, 143.9, 135.6, 135.3, 132.8, 132.4, 131.0, 130.9, 128.6, 128.5, 128.4, 127.8, 69.7, 69.6, 68.0, 67.9 , 22.1. IR : v 3062, 2360, 1732, 1498, 1381, 1287, 983, 775, 697, 588, 455 cm -1 ; HRMS (EI) calcd for C 24 H 24 N 2 O 4 S [M] + : 436.1457. Found: 436.1456.

[반응식 2][Scheme 2]

Figure 112020056621466-pat00113
Figure 112020056621466-pat00113

상기 반응식 2에서 화합물 3x 뿐만 아니라 화합물 4 및 5도 생성되는 것을 확인할 수 있다. 화합물 4의 합성을 통해, 본 발명의 합성 발명이 다이설파이드(disulfide)를 합성하는 데에도 응용될 수 있다고 유추할 수 있다. 또한, 상기 화합물 3x 및 화합물 5가 생성되는 것을 통해서 본 발명의 메커니즘을 확인할 수 있다. In Scheme 2, it can be seen that not only compound 3x but also compounds 4 and 5 are produced. Through the synthesis of compound 4, it can be inferred that the synthetic invention of the present invention can also be applied to the synthesis of disulfide. In addition, the mechanism of the present invention can be confirmed through the formation of the compounds 3x and 5.

상기 실시예 1 내지 33에서는 다양한 기능기를 가진 싸이올 및 아민의 S-N 커플링 반응을 통해서 설펜아마이드 화합물을 합성하였다. 이를 통해 다양한 기능기를 가진 설펜아마이드 화합물을 제조하기 위해서 본 발명에 따른 합성 방법을 사용할 수 있다는 것을 확인할 수 있다. 또한, 전이금속 및/또는 할로겐 시약을 사용하지 않고 설펜아마이드 화합물을 합성함으로써 경제적인 효과를 달성할 수 있다. In Examples 1 to 33, sulfenamide compounds were synthesized through the S-N coupling reaction of thiols and amines having various functional groups. Through this, it can be confirmed that the synthesis method according to the present invention can be used to prepare sulfenamide compounds having various functional groups. In addition, economical effects can be achieved by synthesizing a sulfenamide compound without using a transition metal and/or a halogen reagent.

3. 합성 시약의 재사용3. Reuse of Synthetic Reagents

[실험예 1][Experimental Example 1]

상기 화합물 5에 PIDA(phenyliodine diacetate) 및 DCM(dichloromethane)을 첨가하고, 상기 혼합물을 상온에서 30분동안 교반하면서 반응시켜 DBAD(dibenzyl azodicarboxylate)를 97%의 수율로 수득하였다. PIDA (phenyliodine diacetate) and DCM (dichloromethane) were added to Compound 5, and the mixture was reacted with stirring at room temperature for 30 minutes to obtain DBAD (dibenzyl azodicarboxylate) in a yield of 97%.

[실험예 2][Experimental Example 2]

상기 실험예 1에서 수득한 DBAD를 상기 반응식 2(실시예 33)와 동일한 방법으로 실험을 진행한 결과, 화합물 4 및 5가 각각 83% 및 77%의 수율로 합성되었다. The DBAD obtained in Experimental Example 1 was tested in the same manner as in Scheme 2 (Example 33), and as a result, compounds 4 and 5 were synthesized in yields of 83% and 77%, respectively.

[실험예 3][Experimental Example 3]

상기 실험예 2에서 수득한 화합물 5를 상기 실험예 1과 동일한 방법으로 DBAD를 수득하고, 상기 반응식 2(실시예 33)와 동일한 방법으로 실험을 진행한 결과, 화합물 4 및 5가 각각 83% 및 77%의 수율로 합성되었다. Compound 5 obtained in Experimental Example 2 was obtained DBAD in the same manner as in Experimental Example 1, and as a result of the experiment in the same manner as in Scheme 2 (Example 33), compounds 4 and 5 were each 83% and It was synthesized in a yield of 77%.

상기 실험예 1 내지 3의 결과, 본 발명에서 사용한 합성시약인 DBAD는 PIDA를 이용하여 재생할 수 있으며, 재생된 DBAD를 합성시약으로서 사용했을 때, 같은 수율의 화합물이 합성되는 것을 확인할 수 있다. 즉, 상기 합성 시약을 설펜아마이드 화합물을 합성하기 위해 재사용할 수 있어, 공정의 저가화에 용이하다. As a result of Experimental Examples 1 to 3, it can be confirmed that DBAD, a synthetic reagent used in the present invention, can be regenerated using PIDA, and when the regenerated DBAD is used as a synthetic reagent, a compound with the same yield is synthesized. That is, since the synthetic reagent can be reused to synthesize the sulfenamide compound, it is easy to reduce the cost of the process.

전술한 본원의 설명은 예시를 위한 것이며, 본원이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본원의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present application is for illustration, and those of ordinary skill in the art to which the present application pertains will understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present application. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a dispersed form, and likewise components described as distributed may also be implemented in a combined form.

본원의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본원의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present application is indicated by the following claims rather than the above detailed description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present application.

Claims (16)

삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 하기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 6으로서 표시되는 화합물;
하기 화학식 9로서 표시되는 화합물; 및
합성시약;을 용매 하에서 반응시키는 것을 포함하며,
상기 합성시약은 하기 화학식 8로서 표시되는 화합물을 포함하는 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법:
[화학식 5]
Figure 112022000461841-pat00137

[화학식 6]
Figure 112022000461841-pat00138

[화학식 8]
Figure 112022000461841-pat00140

[화학식 9]
Figure 112022000461841-pat00154

상기 화학식 5, 6, 8 및 9에서,
R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, 에틸, 벤질, 사이클로프로페인, 사이클로펜테인, 사이클로헥세인 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하고,
A1
Figure 112022000461841-pat00155
,
Figure 112022000461841-pat00156
,
Figure 112022000461841-pat00157
,
Figure 112022000461841-pat00158
,
Figure 112022000461841-pat00159
Figure 112022000461841-pat00160
으로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 이상의 고리이거나 2개 이상의 고리가 융합된 다환 고리이며,
R4 및 R5는 각각 독립적으로 페닐, 벤질, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 터틀부틸 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하고,
X는 O, S, Se, Te 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 원소이다.
a compound represented by the following formula (5) or a compound represented by the following formula (6);
a compound represented by the following formula (9); and
Synthetic reagent; including reacting in a solvent,
The method for preparing a sulfenamide compound, wherein the synthetic reagent includes a compound represented by the following formula (8):
[Formula 5]
Figure 112022000461841-pat00137

[Formula 6]
Figure 112022000461841-pat00138

[Formula 8]
Figure 112022000461841-pat00140

[Formula 9]
Figure 112022000461841-pat00154

In Formulas 5, 6, 8 and 9,
R 2 and R 3 are each independently selected from the group consisting of H, ethyl, benzyl, cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, and combinations thereof,
A 1 is
Figure 112022000461841-pat00155
,
Figure 112022000461841-pat00156
,
Figure 112022000461841-pat00157
,
Figure 112022000461841-pat00158
,
Figure 112022000461841-pat00159
and
Figure 112022000461841-pat00160
At least one ring selected from the group consisting of, or a polycyclic ring in which two or more rings are fused,
R 4 and R 5 are each independently selected from the group consisting of phenyl, benzyl, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, turtlebutyl, and combinations thereof;
X is an element selected from the group consisting of O, S, Se, Te, and combinations thereof.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 7 항에 있어서,
상기 화학식 8로서 표시되는 화합물은 하기 화합물로 구성된 그룹 중에서 선택되는 어느 하나인 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법:
Figure 112022000461841-pat00148
;
Figure 112022000461841-pat00149
;
Figure 112022000461841-pat00150
;
Figure 112022000461841-pat00151
.
8. The method of claim 7,
The method for preparing a sulfenamide compound, wherein the compound represented by Formula 8 is any one selected from the group consisting of the following compounds:
Figure 112022000461841-pat00148
;
Figure 112022000461841-pat00149
;
Figure 112022000461841-pat00150
;
Figure 112022000461841-pat00151
.
제 7 항에 있어서,
상기 화학식 9로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 화학식 5로서 표시되는 화합물 또는 상기 화학식 6으로서 표시되는 화합물이 4 당량 내지 10 당량으로 반응하는 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The method for producing a sulfenamide compound, wherein the compound represented by Formula 5 or the compound represented by Formula 6 reacts in an amount of 4 to 10 equivalents based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 9.
제 7 항에 있어서,
상기 화학식 9로서 표시되는 화합물 1 당량을 기준으로 상기 합성시약이 1 당량 내지 3 당량으로 반응하는 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The method for producing a sulfenamide compound, wherein 1 to 3 equivalents of the synthetic reagent are reacted based on 1 equivalent of the compound represented by Formula 9.
제 7 항에 있어서,
상기 용매는 디메틸포름아마이드, 톨루엔, 다이클로로메테인, 테트라하이드로퓨란, 클로로벤젠, 아세토나이트릴, 에탄올, 아세톤, 이소프로필알코올, 에틸에테르 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 용매를 포함하는 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The solvent includes a solvent selected from the group consisting of dimethylformamide, toluene, dichloromethane, tetrahydrofuran, chlorobenzene, acetonitrile, ethanol, acetone, isopropyl alcohol, ethyl ether, and combinations thereof. A method for preparing a phosphorus, sulfenamide compound.
제 7 항에 있어서,
상기 반응은 1 시간 내지 5 시간 동안 이루어지는 것인, 설펜아마이드 화합물의 제조 방법.
8. The method of claim 7,
The method for producing a sulfenamide compound, wherein the reaction is carried out for 1 hour to 5 hours.
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