KR102395229B1 - Batch reactor with baffle - Google Patents

Batch reactor with baffle Download PDF

Info

Publication number
KR102395229B1
KR102395229B1 KR1020180108360A KR20180108360A KR102395229B1 KR 102395229 B1 KR102395229 B1 KR 102395229B1 KR 1020180108360 A KR1020180108360 A KR 1020180108360A KR 20180108360 A KR20180108360 A KR 20180108360A KR 102395229 B1 KR102395229 B1 KR 102395229B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pipe
baffle
pipes
reactor body
discharge nozzle
Prior art date
Application number
KR1020180108360A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20200029840A (en
Inventor
이혜원
이신범
안우열
한기도
Original Assignee
한화솔루션 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한화솔루션 주식회사 filed Critical 한화솔루션 주식회사
Priority to KR1020180108360A priority Critical patent/KR102395229B1/en
Priority to PCT/KR2019/011749 priority patent/WO2020055115A1/en
Priority to CN201980058595.7A priority patent/CN112654424B/en
Publication of KR20200029840A publication Critical patent/KR20200029840A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102395229B1 publication Critical patent/KR102395229B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/18Stationary reactors having moving elements inside
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/006Baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0053Details of the reactor
    • B01J19/0066Stirrers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/00002Chemical plants
    • B01J2219/00027Process aspects
    • B01J2219/00029Batch processes

Abstract

본 발명의 실시예들은, 더블 파이프 방식의 배플 구조 및 복수의 교반기에 의한 다단 구조를 통해 산업 현장에서의 최적의 유동 성능 및 제열 성능을 유지하는 회분식 반응기를 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 회분식 반응기는 원통형 반응기 본체; 교반 장치; 배출 노즐; 및 상기 반응기 본체의 내벽과 상기 교반 장치 사이에서 상기 반응기 본체의 원주 방향을 따라 위치하는 배플을 포함하고, 상기 교반 장치는 적어도 둘 이상의 교반기 및 하나의 회전축을 포함하며, 상기 배플은 적어도 둘 이상의 배관을 포함하고, 상기 배관들은 서로 분리되어 있으며, 상기 반응기 본체의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다.Embodiments of the present invention provide a batch reactor that maintains optimal flow performance and heat removal performance in an industrial field through a double pipe type baffle structure and a multi-stage structure by a plurality of agitators. A batch reactor according to an embodiment of the present invention includes a cylindrical reactor body; stirring device; discharge nozzle; and a baffle positioned along a circumferential direction of the reactor body between the inner wall of the reactor body and the stirring device, wherein the stirring device includes at least two stirrers and one rotation shaft, wherein the baffle is at least two or more pipes Including, the pipes are separated from each other, and located in a line along the radial direction of the reactor body.

Description

배플을 구비한 회분식 반응기{BATCH REACTOR WITH BAFFLE}BATCH REACTOR WITH BAFFLE

본 발명은 회분식 반응기에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 배플을 구비한회분식 반응기에 관한 것이다.The present invention relates to a batch reactor, and more particularly to a batch reactor having a baffle.

통상의 회분식 반응기는 반응물을 담는 반응기 본체와, 반응기 본체의 내부에 설치되어 반응물을 교반시키는 교반기와 교반기를 회전시키는 구동 모터를 포함한다. A typical batch reactor includes a reactor body containing reactants, a stirrer installed inside the reactor body to stir the reactants, and a drive motor for rotating the stirrer.

일반적으로 회분식 발열 반응 공정은 균일한 생성물을 생산하고, 생산성을 높이며, 생성물 품질의 안정성을 향상시키기 위해서 반응 챔버의 내부 온도를 적절하게 제어할 필요가 있다. 따라서, 회분식 반응기는 반응물의 온도를 제어하기 위한 구성으로서 반응기 자켓과 배플 및 리플럭스 콘덴서 등을 포함할 수 있다.In general, the batch exothermic reaction process needs to properly control the internal temperature of the reaction chamber in order to produce a uniform product, increase productivity, and improve product quality stability. Accordingly, the batch reactor may include a reactor jacket, a baffle, and a reflux condenser as components for controlling the temperature of the reactants.

배플은 유체가 흐르는 관으로 구성되며, 교반기의 외측에서 반응기 본체의 내벽에 가깝게 위치한다. 배플은 교반기의 회전에 따른 반응물의 원주 방향 흐름을 상하 방향으로 바꾸어 반응물의 혼합을 양호하게 하고, 반응물과 관 내부에 흐르는 유체와의 열교환을 통해 반응물의 온도를 일정하게 유지시키는 제열 기능을 한다.The baffle consists of a tube through which the fluid flows, and is located on the outside of the agitator and close to the inner wall of the reactor body. The baffle changes the circumferential flow of the reactants according to the rotation of the stirrer in the vertical direction to improve the mixing of the reactants and to maintain a constant temperature of the reactants through heat exchange between the reactants and the fluid flowing inside the tube.

하지만 교반기 및 배플의 설치 형태를 변화할 경우, 내부 유동특성의 변화 및 이에 따른 제품의 품질변화가 발생할 수 있으며, 반응물의 교반 성능 및 제열 성능에 큰 차이를 일으킨다. However, if the installation form of the stirrer and the baffle is changed, the internal flow characteristics may change and product quality may change accordingly, causing a big difference in the stirring performance and heat removal performance of the reactants.

이에, 최적의 교반 성능 및 제열 성능을 발휘하면서도 산업 현장에서의 제약을 최소화할 수 있는 회분식 반응기에 대한 연구가 진행되고 있다.Accordingly, research on a batch-type reactor capable of minimizing restrictions in an industrial field while exhibiting optimal stirring performance and heat removal performance is in progress.

본 발명의 실시예들이 해결하고자 하는 과제는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 배플의 배열 및 교반기 구조의 개선에 따른 유동 특성 및 제열 특성을 분석하여 최적의 제열 성능을 확보하고, 산업 현장에서 우려되는 공정 트러블을 최소화 하는 반응기를 제공하는 것이다.The problem to be solved by the embodiments of the present invention is to solve the above problems, and by analyzing the flow characteristics and heat removal characteristics according to the improvement of the arrangement of the baffle and the structure of the stirrer, the optimum heat removal performance is secured, and in the industrial field It is to provide a reactor that minimizes the process troubles concerned.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 회분식 반응기는 원통형 반응기 본체; 교반 장치; 배출 노즐; 및 상기 반응기 본체의 내벽과 상기 교반 장치 사이에서 상기 반응기 본체의 원주 방향을 따라 위치하는 배플을 포함하고, 상기 교반 장치는 적어도 둘 이상의 교반기 및 하나의 회전축을 포함하며, 상기 배플은 적어도 둘 이상의 배관을 포함하고, 상기 배관들은 서로 분리되어 있으며, 상기 반응기 본체의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다.Batch reactor according to an embodiment of the present invention for solving the above problems is a cylindrical reactor body; stirring device; discharge nozzle; and a baffle positioned along a circumferential direction of the reactor body between the inner wall of the reactor body and the stirring device, wherein the stirring device includes at least two stirrers and one rotation shaft, wherein the baffle is at least two or more pipes Including, the pipes are separated from each other, and located in a line along the radial direction of the reactor body.

상기 적어도 둘 이상의 교반기는 상기 회전축의 높이 방향을 따라 일정한 간격을 두고 위치할 수 있다.The at least two stirrers may be positioned at regular intervals along the height direction of the rotation shaft.

상기 배관들 각각은 원통형이고, 서로 이웃하는 상기 원통형 배관들 사이 간격은 상기 원통형 배관의 지름의 0.5배 내지 2배일 수 있다.Each of the pipes may have a cylindrical shape, and an interval between the adjacent cylindrical pipes may be 0.5 to 2 times the diameter of the cylindrical pipe.

상기 반응기 본체는 측벽부, 덮개부 및 바닥부를 포함하고, 상기 배출 노즐은 상기 바닥부 중에서 상기 회전축과 상기 측벽부 사이에 위치할 수 있다.The reactor body may include a side wall part, a cover part, and a bottom part, and the discharge nozzle may be located in the bottom part between the rotation shaft and the side wall part.

상기 회분식 반응기는 상기 회전축을 중심으로 서로 이격되어 위치하는 한 쌍의 배플을 적어도 하나 이상 포함하고, 상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐과 가까이 위치하는 배플에서 상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플보다 서로 이웃하는 배관들 사이의 간격이 작을 수 있다.The batch reactor includes at least one pair of baffles positioned to be spaced apart from each other about the rotation axis, and from the discharge nozzle of the pair of baffles in a baffle positioned close to the discharge nozzle among the pair of baffles The distance between the adjacent pipes may be smaller than that of the baffles located farther away.

상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐과 가까이 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관들 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 0.5배 내지 1배일 수 있다.In the baffle positioned close to the discharge nozzle among the pair of baffles, a distance between adjacent pipes may be 0.5 to 1 times a diameter of the pipe.

상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 0.5배 내지 2배일 수 있다.A distance between adjacent pipes in a baffle positioned far from the discharge nozzle among the pair of baffles may be 0.5 to 2 times a diameter of the pipe.

상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 1배 내지 1.3배일 수 있다.A distance between adjacent pipes in a baffle positioned far from the discharge nozzle among the pair of baffles may be 1 to 1.3 times a diameter of the pipe.

본 발명의 실시예들에 따르면, 더블 파이프 방식의 배플 구조를 통해 산업 현장에서의 최적의 유동 성능 및 제열 성능을 유지하는 회분식 반응기를 제공할 수 있다.According to embodiments of the present invention, it is possible to provide a batch reactor that maintains optimal flow performance and heat removal performance in an industrial site through a double pipe type baffle structure.

또한, 복수의 교반기에 의한 다단 구조를 통해 반응 유체의 효율적 교반이 가능하고, 반응 유체의 유동을 균일하게 유지할 수 있는 회분식 반응기를 제공할 수 있다.In addition, it is possible to provide a batch-type reactor capable of efficiently stirring the reaction fluid through a multi-stage structure by a plurality of stirrers and maintaining a uniform flow of the reaction fluid.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 회분식 반응기의 개략도이다.
도 2는 도 1의 I-I'선을 기준으로 절개한 회분식 반응기의 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 회분식 반응기의 개략 단면도이다.
도 4는 비교예에 따른 회분식 반응기를 나타낸 개략 단면도이다.
도 5는 실시예 1, 실시예 2 및 비교예의 난류소산율 분포도이다.
도 6은 도 1의 하단부를 나타내는 회분식 반응기의 개략도이다.
도 7은 도 6의 P1 내지 P10에서의 시간에 따른 슬러리 부피분율을 나타낸 것이다.
도 8은 도 6의 P1 내지 P10에서의 초기 20초 동안의 슬러리 누적량을 나타낸 것이다.
1 is a schematic diagram of a batch reactor according to Example 1 of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a batch reactor taken along line I-I' of FIG. 1 .
3 is a schematic cross-sectional view of a batch reactor according to Example 2 of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view showing a batch reactor according to a comparative example.
5 is a turbulent dissipation rate distribution diagram of Examples 1, 2 and Comparative Examples.
6 is a schematic diagram of a batch reactor showing the lower end of FIG. 1 .
7 shows the volume fraction of the slurry according to time at P1 to P10 of FIG. 6 .
FIG. 8 shows the accumulated amount of slurry during the initial 20 seconds in P1 to P10 of FIG. 6 .

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, various embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. The present invention may be embodied in several different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly explain the present invention, parts irrelevant to the description are omitted, and the same reference numerals are assigned to the same or similar components throughout the specification.

또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다. 도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다.In addition, since the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily indicated for convenience of description, the present invention is not necessarily limited to the illustrated bar. In order to clearly express various layers and regions in the drawings, the thicknesses are enlarged. And in the drawings, for convenience of description, the thickness of some layers and regions are exaggerated.

또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 위에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다. 반대로 어떤 부분이 다른 부분 "바로 위에" 있다고 할 때에는 중간에 다른 부분이 없는 것을 뜻한다. 또한, 기준이 되는 부분 "위에" 또는 "상에" 있다고 하는 것은 기준이 되는 부분의 위 또는 아래에 위치하는 것이고, 반드시 중력 반대 방향을 향하여 "위에" 또는 "상에" 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.Further, when a part of a layer, film, region, plate, etc. is said to be “on” or “on” another part, it includes not only cases where it is “directly on” another part, but also cases where another part is in between. . Conversely, when we say that a part is "just above" another part, we mean that there is no other part in the middle. In addition, to be "on" or "on" the reference part means to be located above or below the reference part, and to necessarily mean to be located "on" or "on" in the direction opposite to the gravitational force not.

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.In addition, throughout the specification, when a part "includes" a certain component, this means that other components may be further included, rather than excluding other components, unless otherwise stated.

또한, 명세서 전체에서, "평면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 위에서 보았을 때를 의미하며, "단면상"이라 할 때, 이는 대상 부분을 수직으로 자른 단면을 옆에서 보았을 때를 의미한다.In addition, throughout the specification, when referring to "planar", it means when the target part is viewed from above, and "cross-sectional" means when viewed from the side when a cross-section of the target part is vertically cut.

도 1은 본 발명의 실시예 1에 따른 회분식 반응기의 개략도이고, 도 2는 도 1의 I-I’ 선을 기준으로 절개한 회분식 반응기의 개략 단면도이다. 1 is a schematic diagram of a batch reactor according to Example 1 of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the batch reactor taken along line I-I' in FIG. 1 .

도 1 및 도 2를 참고하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 회분식 반응기(100)는 반응기 본체(120), 교반 장치(130), 배출 노즐(150) 및 반응기 본체(120)의 내벽과 교반 장치(130) 사이에서 반응기 본체(120)의 원주 방향을 따라 위치하는 배플(140)을 포함한다.1 and 2, the batch reactor 100 according to Example 1 of the present invention is stirred with the reactor body 120, the stirring device 130, the discharge nozzle 150, and the inner wall of the reactor body 120. and a baffle 140 positioned between the apparatus 130 along the circumferential direction of the reactor body 120 .

회분식 반응기(100)는 예를 들어 고분자 중합을 위한 중합 반응기일 수 있다. 반응기 본체(120)는 모양에 제한이 없으나, 원통형 구조임이 바람직하고, 측벽부(121), 바닥부(122) 및 덮개부(123)를 포함할 수 있다. 도시는 생략하였으나 반응기 본체(120)는 이중벽 구조로 형성되어 이중벽 내부에 유체가 순환할 수 있고, 유체와 반응물 사이 열교환이 이루어질 수 있다. 즉 반응기 본체(120)에 열교환 자켓이 설치될 수 있다.The batch reactor 100 may be, for example, a polymerization reactor for polymer polymerization. The reactor body 120 is not limited in shape, but preferably has a cylindrical structure, and may include a side wall portion 121 , a bottom portion 122 , and a cover portion 123 . Although not shown, the reactor body 120 is formed in a double-wall structure so that a fluid can circulate inside the double-wall, and heat exchange between the fluid and the reactant can be made. That is, a heat exchange jacket may be installed in the reactor body 120 .

교반 장치(130)는 반응기 본체(120)의 내부에 설치되어 반응물(110)을 회전시키는 교반기(133, 134, 135), 교반기(133, 134, 135)를 회전시키는 모터(131) 및 모터(131)와 교반기(133, 134, 135)를 연결하는 하나의 회전축(132)를 포함한다.The stirring device 130 is installed inside the reactor body 120 to rotate the reactants 110, stirrers 133, 134, 135, and a motor 131 for rotating the stirrers 133, 134, 135 and a motor ( 131) and a single rotating shaft 132 connecting the stirrers 133, 134, and 135.

본 발명의 실시예 1에 따르면, 교반 장치(130)는 세 개의 교반기(133, 134, 135)를 포함하고 있으나, 적어도 둘 이상의 교반기가 회전축(132)의 높이 방향을 따라 일정 간격을 두고 위치하여 다단 구조의 회분식 반응기를 형성하면 교반기 개수는 특별히 제한 되지 않는다. 회분식 반응 공정은 균일한 생성물을 생성하는 것이 중요한데, 본 발명의 실시예 1에 따른 교반기(133, 134, 135)는 회전축(132)의 높이 방향에 따라 일정한 간격을 두고 위치하여 다단 구조를 형성함으로써, 하나의 교반기를 갖는 일단 구조에 비하여 반응물의 효과적인 교반이 가능하고, 반응물의 유동을 구역마다 균일하게 유지할 수 있다. 따라서, 궁극적으로 균일한 생성물을 생산하여, 생산성을 높일 수 있고, 생성물 품질의 안정성을 향상시킬 수 있다.According to Embodiment 1 of the present invention, the stirring device 130 includes three stirrers 133, 134, and 135, but at least two stirrers are positioned at regular intervals along the height direction of the rotating shaft 132 at regular intervals. When a batch reactor of a multi-stage structure is formed, the number of stirrers is not particularly limited. It is important for the batch reaction process to produce a uniform product, and the stirrers 133 , 134 , 135 according to Example 1 of the present invention are positioned at regular intervals along the height direction of the rotation shaft 132 to form a multi-stage structure. , it is possible to effectively stir the reactants compared to the one end structure having one stirrer, and to maintain the flow of the reactants uniformly in each zone. Therefore, it is possible to ultimately produce a uniform product, increase productivity, and improve product quality stability.

교반기(133, 134, 135)의 교반 성능은 회분식 반응기(100)의 반응 성능에 영향을 미친다. 교반기(133, 134, 135)는 패들(paddle) 타입, 프로펠라(propeller) 타입, 및 터빈(turbine) 타입의 교반 날개 형태로 구성될 수 있으며, 도 1과 도 2에서는 패들 타입의 교반 날개로 구성된 교반기(133, 134, 135)를 예로 들어 도시하였으나, 반응물(110)을 효과적으로 혼합할 수 있는 구조이면 특별히 제한되지 않는다. 교반 날개의 개수는 특별히 제한되지 않으나, 2개 내지 4개의 날개로 구성될 수 있다.The stirring performance of the stirrers 133 , 134 , 135 affects the reaction performance of the batch reactor 100 . The agitators 133, 134, and 135 may be configured in the form of a paddle type, a propeller type, and a turbine type stirring blade form, and in FIGS. 1 and 2, a paddle type stirring blade is configured. Although the stirrers 133 , 134 , and 135 are illustrated as an example, it is not particularly limited as long as it has a structure capable of effectively mixing the reactants 110 . The number of stirring blades is not particularly limited, but may consist of 2 to 4 blades.

배플(140)은 교반기(133, 134, 135)의 회전에 따른 반응물(110)의 원주 방향 흐름을 상하 방향 흐름으로 바꾸어 반응물(110)의 혼합을 양호하게 하는 기능을 한다. 또한, 배플(140)은 그 내부로 냉각수와 같은 열교환을 위한 유체가 흐르는 배관으로 구성되어, 반응물(110)과의 열교환을 통해 반응물(110)의 온도를 일정하게 유지시켜 온도를 제어 할 수 있는 기능, 즉 제열 기능을 담당한다.The baffle 140 changes the circumferential flow of the reactant 110 according to the rotation of the stirrers 133 , 134 , and 135 into a vertical flow to improve mixing of the reactant 110 . In addition, the baffle 140 is composed of a pipe through which a fluid for heat exchange, such as cooling water, flows therein. It is responsible for the function, that is, the heat removal function.

열교환을 위한 유체는 저온의 경우 대략 섭씨 4도 내지 35도의 온도를 가질 수 있으며, 고온의 경우 대략 섭씨 50도 내지 200도의 온도를 가질 수 있다.The fluid for heat exchange may have a temperature of about 4 to 35 degrees Celsius in the case of a low temperature, and may have a temperature of about 50 to 200 degrees Celsius in the case of a high temperature.

배플(140)은 반응기 본체(120)의 원주 방향을 따라 서로간 거리를 두고 복수개로 배치된다. 즉 복수의 배플(140)은 교반기(133, 134, 135)와 일정한 거리를 두고 반응기 본체(120)의 원주 방향을 따라 설치되며, 바람직하게 원주 방향을 따라 등간격으로 설치된다.A plurality of baffles 140 are disposed at a distance from each other along the circumferential direction of the reactor body 120 . That is, the plurality of baffles 140 are installed along the circumferential direction of the reactor body 120 at a predetermined distance from the stirrers 133 , 134 , and 135 , and are preferably installed at equal intervals along the circumferential direction.

각각의 배플(140)은 복수의 배관을 포함할 수 있으며, 배관들 각각은 원통형일 수 있다. 각각의 배플(140)의 배관들은 서로 분리되어 있으며, 평면적으로 보았을 때 반응기 본체(120)의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다. 본 발명의 실시예 1에 따른 배플(140)은 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)으로 구성된 2개의 배관을 포함하는 구조로 이루어진다. 도 1을 참조하면, 제1 배관(141)과 제2 배관(142)은 서로 분리되어 있고, 열교환을 위한 유체가 각각의 경로를 따라 흐른다. 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)은 각각 반응기 본체(120)의 바닥부(122)를 통해 관통하여 냉각수 배출구(미도시)와 연결될 수 있으며, 각각 반응기 본체(120)의 측벽부(121)를 통해 관통하여 냉각수 유입구(미도시)와 연결될 수 있다. 다만, 반응기 본체(120)에서 관통되는 부분은 크게 제한되지 않아, 덮개부(123) 및 바닥부(122), 덮개부(123) 및 측벽부(121), 측벽부(121) 및 측벽부(121)를 관통할 수 있다. 냉각수 배출구 및 냉각수 유입구 역시 각 배관당 하나씩 연결된다면, 위치는 제한되지 않으므로, 반응기 본체(120)의 바닥부(122)를 관통한 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)이 냉각수 유입구와 연결되고, 반응기 본체(120)의 측벽부(121)를 관통한 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)이 냉각수 배출구와 연결될 수 있다.Each baffle 140 may include a plurality of pipes, and each of the pipes may have a cylindrical shape. The pipes of each baffle 140 are separated from each other and are located in a line along the radial direction of the reactor body 120 when viewed in a plan view. The baffle 140 according to the first embodiment of the present invention has a structure including two pipes composed of a first pipe 141 and a second pipe 142 . Referring to FIG. 1 , the first pipe 141 and the second pipe 142 are separated from each other, and a fluid for heat exchange flows along each path. The first pipe 141 and the second pipe 142 may each penetrate through the bottom 122 of the reactor body 120 and be connected to a cooling water outlet (not shown), and may each be connected to a side wall of the reactor body 120 . It may be connected to a cooling water inlet (not shown) by passing through 121 . However, the portion penetrating through the reactor body 120 is not significantly limited, and the cover portion 123 and the bottom portion 122, the cover portion 123 and the sidewall portion 121, the sidewall portion 121 and the sidewall portion ( 121) can be penetrated. If the cooling water outlet and the cooling water inlet are also connected one by one for each pipe, the location is not limited, so the first pipe 141 and the second pipe 142 passing through the bottom 122 of the reactor body 120 are connected to the cooling water inlet. The first pipe 141 and the second pipe 142 passing through the side wall portion 121 of the reactor body 120 may be connected to the cooling water outlet.

제1 배관(141) 및 제2 배관(142) 서로 연결되지 않고 열교환을 위한 유체가 각각의 경로를 따라 흐름으로써, 제열 성능 향상을 위한 표면 처리 공정을 용이하게 실시 할 수 있다.Since the first pipe 141 and the second pipe 142 are not connected to each other and the fluid for heat exchange flows along each path, a surface treatment process for improving heat removal performance can be easily performed.

각각의 배플(140)은 복수의 배관을 포함할 수 있으며, 평면적으로 보았을 때 반응기 본체(120)의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다. 도 2를 참고하면, 본 발명의 실시예 1는 배플(140)이 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)을 포함하며, 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)은 반응기 본체(120)의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다. Each of the baffles 140 may include a plurality of pipes, and are positioned in a line along the radial direction of the reactor body 120 when viewed in a plan view. Referring to FIG. 2 , in Example 1 of the present invention, the baffle 140 includes a first pipe 141 and a second pipe 142 , and the first pipe 141 and the second pipe 142 are the reactors. They are positioned in a line along the radial direction of the body 120 .

도 3은 본 발명의 실시예 2에 따른 회분식 반응기의 개략 단면도이다. 본 발명의 실시예 2에 따른 회분식 반응기(200)는 각 배플이 포함하는 배관의 개수를 제외하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 회분식 반응기(100)과 상호 동일 내지 유사한 구성을 갖는다. 도 3을 참고하면, 회분식 반응기(200)는 반응기 본체(220) 및 배플(240)을 포함하며, 배플(240)은 제1 배관(241), 제2 배관(242) 및 제3 배관(243)을 포함한다. 1 배관(241), 제2 배관(242) 및 제3 배관(243)은 반응기 본체(220)의 반경 방향을 따라 일렬로 위치한다. 3 is a schematic cross-sectional view of a batch reactor according to Example 2 of the present invention. The batch reactor 200 according to the second embodiment of the present invention has the same or similar configuration to the batch reactor 100 according to the first embodiment of the present invention, except for the number of pipes included in each baffle. Referring to FIG. 3 , the batch reactor 200 includes a reactor body 220 and a baffle 240 , and the baffle 240 includes a first pipe 241 , a second pipe 242 , and a third pipe 243 . ) is included. The first pipe 241 , the second pipe 242 , and the third pipe 243 are positioned in a line along the radial direction of the reactor body 220 .

도 4는 본 발명의 비교예에 따른 회분식 반응기를 나타낸 개략 단면도이다. 도 4를 참고하면, 본 발명의 비교예에 따른 회분식 반응기(300)는 반응기 본체(320) 및 배플(340)을 포함하며, 배플(340)은 제1 배관(341), 제2 배관(342) 및 제3 배관(343)을 포함한다. 제1 배관(341), 제2 배관(342) 및 제3 배관(343)은 서로 일정한 거리를 두고 삼각 패턴으로 형성되어 교차배열 구조를 형성한다.4 is a schematic cross-sectional view showing a batch reactor according to a comparative example of the present invention. Referring to FIG. 4 , the batch reactor 300 according to the comparative example of the present invention includes a reactor body 320 and a baffle 340 , and the baffle 340 includes a first pipe 341 and a second pipe 342 . ) and a third pipe 343 . The first pipe 341 , the second pipe 342 , and the third pipe 343 are formed in a triangular pattern at a predetermined distance from each other to form a cross-array structure.

도 5는 실시예 1, 실시예 2 및 비교예의 난류소산율 분포도이다. 도 5를 참고하면, 본 발명의 비교예에 따른 교차 배열 구조의 배관은 본 발명의 실시예 1 및 실시예 2에 따른 일렬 구조의 배관에 비해 가장 외측에 위치한 배관에 충분한 난류 에너지가 전달되지 않음을 확인할 수 있다. 따라서, 교차 배열 구조의 배관은 일렬 구조의 배관에 비해 저하된 제열 성능을 갖는 것을 확인할 수 있다.5 is a turbulent dissipation rate distribution diagram of Examples 1, 2 and Comparative Examples. Referring to FIG. 5 , in the pipe of the cross-arranged structure according to the comparative example of the present invention, sufficient turbulence energy is not transmitted to the pipe located at the outermost side compared to the pipe of the line structure according to Examples 1 and 2 of the present invention. can confirm. Accordingly, it can be confirmed that the pipe of the cross-arranged structure has lower heat removal performance compared to the pipe of the in-line structure.

제열 성능 측면에서 배플은 일렬 구조의 배관을 포함하는 것이 바람직하며, 배관의 개수는 적어도 둘 이상이라면 특별히 제한 되지 않는다. 다만, 배관의 개수가 많을수록 냉각수가 흐르는 경로가 증가하여 제열 성능에 있어 효과적인 측면이 있을 수 있으나, 산업 현장에 있어서 각 배플에 포함되는 배관의 개수가 많을수록 설치하는 냉각수 노즐의 개수가 증가하고, 반응물과 배관 사이에 형성되는 슬러리의 양이 증가할 수 있다. 증가된 슬러리의 양에 의해 원활한 세척이 제대로 이루어 지지 않은 경우, 다음 중합 과정에서의 비이상적인 반응을 야기할 수 있다. 따라서, 상기와 같은 산업 현장에서의 제약을 최소화하기 위해서 배관의 개수는 2개임이 바람직하다.In terms of heat removal performance, it is preferable that the baffle includes a pipe in a line structure, and the number of pipes is not particularly limited as long as it is at least two or more. However, as the number of pipes increases, the path through which the coolant flows increases, which may be effective in heat removal performance. The amount of slurry formed between the tubing and the tubing may increase. If smooth washing is not performed properly due to the increased amount of slurry, non-ideal reactions may occur in the subsequent polymerization process. Therefore, in order to minimize the restrictions in the industrial field as described above, it is preferable that the number of pipes is two.

도 1을 다시 참고하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 회분식 반응기(100)는 배출 노즐(150)을 더 포함할 수 있다. 배출 노즐(150)은 반응기 본체(120)의 바닥부(122)에 위치할 수 있다. 구체적으로, 배출 노즐(150)은 반응기 본체(120)의 바닥부(122) 중에서 회전축(132)과 측벽부(121) 사이에 위치할 수 있다. 배출 노즐(150)은 반응이 완료된 반응물(110)의 배수를 담당하며, 반응이 모두 완료된 반응물(110)이 배출 노즐(150)을 통해 배수된 후, 정제 및 건조 공정을 거쳐 최종 제품으로 생산된다. Referring back to FIG. 1 , the batch reactor 100 according to Embodiment 1 of the present invention may further include a discharge nozzle 150 . The discharge nozzle 150 may be located at the bottom 122 of the reactor body 120 . Specifically, the discharge nozzle 150 may be located between the rotation shaft 132 and the side wall portion 121 in the bottom portion 122 of the reactor body 120 . The discharge nozzle 150 is responsible for draining the reactant 110 in which the reaction is completed, and after the reactant 110 in which the reaction is completed is drained through the discharge nozzle 150, it is produced as a final product through purification and drying processes. .

도 2을 다시 참고하면, 각 배플(140)을 구성하는 배관 중 서로 이웃하는 배관 사이의 간격(X)은 배관의 지름의 0.5배 내지 2배인 것이 바람직하다. 배관 사이의 간격(X)이 지름의 0.5배 미만이면 배관 하단에 반응물과 배관 사이에 형성되는 슬러리의 양이 증가할 수 있고, 배관 사이의 간격(X)이 지름의 2배를 초과하면 교반기와 근접한 배관 사이 충분한 공간이 확보되지 않으므로, 전반적인 유동 특성의 불균형을 야기한다.Referring again to FIG. 2 , it is preferable that the interval (X) between adjacent pipes among the pipes constituting each baffle 140 is 0.5 to 2 times the diameter of the pipe. If the gap (X) between the pipes is less than 0.5 times the diameter, the amount of slurry formed between the reactant and the pipe at the bottom of the pipe may increase. Since sufficient space between adjacent pipes is not secured, it causes an imbalance in the overall flow characteristics.

도 6은 도 1의 하단부를 나타내는 회분식 반응기의 개략도이다. 한 쌍의 배플(140)이 회전축(132)을 기준으로 서로 대응하는 부분에 이격되어 위치하고 있으며, 한 쌍의 배플 중에서 어느 하나의 배플(140)을 구성하는 제1 배관(141) 및 제2 배관(142)도 회전축(132)에 실질적으로 평행하게 배열되며, 회전축(132)을 기준으로 다른 하나의 배플(140)을 구성하는 제1 배관(141) 및 제2 배관(142) 각각에 대해 서로 대응하는 부분에 위치할 수 있다. 제1 배관(141)과 제2 배관(142)은 서로 분리되어 배열될 수 있다.6 is a schematic diagram of a batch reactor showing the lower end of FIG. 1 . A pair of baffles 140 are spaced apart from each other at portions corresponding to each other with respect to the rotation shaft 132 , and a first pipe 141 and a second pipe constituting one baffle 140 among the pair of baffles. 142 is also arranged substantially parallel to the axis of rotation 132, with respect to each of the first pipe 141 and the second pipe 142 constituting the other baffle 140 with respect to the axis of rotation 132, respectively. It may be located in the corresponding part. The first pipe 141 and the second pipe 142 may be arranged separately from each other.

P1, P3, P5, P7 및 P9는 배출 노즐(150)과 더 가까이 위치하는 배플(140)에 포함된 제1 배관(141)과 제2 배관(142), 측벽부(121) 및 배출 노즐(150)들 중에서 서로 이웃하는 구성 사이의 지점을 나타낸 것이다. P2, P4, P6, P8 및 P10은 배출 노즐(150)로부터 상대적으로 멀리 위치하는 배플(140)에 포함된 제1 배관(141)과 제2 배관(142), 회전축(132) 및 측벽부(121)들 중에서 서로 이웃하는 구성 사이의 지점을 나타낸 것이다. P1, P3, P5, P7 and P9 are the first pipe 141 and the second pipe 142, the side wall part 121 and the discharge nozzle ( 150), points between neighboring components are shown. P2, P4, P6, P8, and P10 are the first pipe 141 and the second pipe 142 included in the baffle 140 located relatively far from the discharge nozzle 150, the rotation shaft 132 and the side wall part ( 121), points between neighboring components are shown.

도 7은 도 6의 P1 내지 P10에서의 시간에 따른 슬러리 부피율을 나타낸 것이다. 구체적으로, 배관 사이의 간격이 배관 지름과 동일한 경우와 배관 지름의 1.3배인 경우로 나누어 P1 내지 P10에서의 시간에 따른 슬러리 부피율을 나타낸 것이다. 7 is a graph showing the volume fraction of the slurry according to time at P1 to P10 of FIG. 6 . Specifically, the volume ratio of the slurry according to time in P1 to P10 is shown by dividing the case where the interval between the pipes is the same as the pipe diameter and 1.3 times the pipe diameter.

도 8은 도 6의 P1 내지 P10에서의 초기 20초 동안의 슬러리 축적도를 나타낸 것이다. 구체적으로, 배관 사이의 간격이 배관 지름과 동일한 경우와 배관 지름의 1.3배인 경우로 나누어 P1 내지 P10에서의 초기 20초 동안의 슬러리 축적도를 나타낸 것이다.FIG. 8 shows the slurry accumulation during the initial 20 seconds in P1 to P10 of FIG. 6 . Specifically, the slurry accumulation during the initial 20 seconds in P1 to P10 is shown by dividing the case where the distance between the pipes is equal to the pipe diameter and 1.3 times the pipe diameter.

도 7과 도 8을 참고하면, 반응 시작 후 20초까지의 반응 초기에 슬러리가 축적되는 현상이 발생하고, 시간이 지남에 따라 반응물 유체와 함께 배수된다. 초기에 축적되는 슬러리는 반응물의 혼합을 저해하는 요인이 된다. Referring to FIGS. 7 and 8 , a phenomenon in which the slurry is accumulated at the beginning of the reaction up to 20 seconds after the start of the reaction occurs, and is drained together with the reactant fluid over time. The initially accumulated slurry is a factor that inhibits the mixing of reactants.

배출 노즐(150)과 상대적으로 근접한 P1, P3, P5, P7 및 P9 지점의 경우 배관 사이의 간격이 배관 지름과 동일하면 축적되는 슬러리의 양이 상대적으로 적고, 배출 노즐(150)과 상대적으로 먼 P2, P4, P6, P8 및 P10 지점의 경우 배관 사이의 간격이 배관 지름의 1.3배인 경우 축적되는 슬러리의 양이 상대적으로 적다.In the case of points P1, P3, P5, P7 and P9 that are relatively close to the discharge nozzle 150, if the distance between the pipes is the same as the pipe diameter, the amount of accumulated slurry is relatively small, and the amount of slurry is relatively small and relatively far from the discharge nozzle 150 At points P2, P4, P6, P8, and P10, the amount of accumulated slurry is relatively small when the spacing between the pipes is 1.3 times the pipe diameter.

따라서, 배출 노즐(150)과 가까이 위치하는 배플(140)이 배출 노즐(150)로부터 멀리 위치하는 배플(140)보다 서로 이웃하는 배관 사이 간격이 더 작은 것이 바람직하며, 구체적으로, 배출 노즐(150)과 가까이 위치하는 배플(140)은 배관 사이 간격이 배관의 지름의 0.5배 내지 1배이고, 배출 노즐(150)로부터 멀리 위치하는 배플(140)은 배관 사이 간격이 배관의 지름의 0.5배 내지 2배, 혹은 1배 내지 1.3배인 것이 더욱 바람직하다. Therefore, it is preferable that the distance between the adjacent pipes of the discharge nozzle 150 and the baffle 140 located closer to each other than the baffle 140 located far from the discharge nozzle 150 is smaller, specifically, the discharge nozzle 150 . ) and the baffle 140 located close to the pipe has a spacing of 0.5 to 1 times the diameter of the pipe, and the baffle 140 positioned far from the discharge nozzle 150 has a spacing between the pipes 0.5 to 2 times the diameter of the pipe. It is more preferable that it is 2 times, or 1 times to 1.3 times.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.Although preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the scope of the present invention is not limited thereto, and various modifications and improvements by those skilled in the art using the basic concept of the present invention as defined in the following claims are also provided. is within the scope of the

100: 회분식 반응기
120: 반응기 본체
133, 134, 135: 교반기
140: 배플
141: 제1 배관
142: 제2 배관
100: batch reactor
120: reactor body
133, 134, 135: agitator
140: baffle
141: first pipe
142: second pipe

Claims (8)

원통형 반응기 본체;
교반 장치;
배출 노즐; 및
상기 반응기 본체의 내벽과 상기 교반 장치 사이에서 상기 반응기 본체의 원주 방향을 따라 위치하는 배플을 포함하고,
상기 교반 장치는 적어도 둘 이상의 교반기 및 하나의 회전축을 포함하며,
상기 배플은 적어도 둘 이상의 배관을 포함하고,
상기 배관들은 서로 분리되어 있으며, 상기 반응기 본체의 반경 방향을 따라 일렬로 위치하고,
상기 반응기 본체는 측벽부, 덮개부 및 바닥부를 포함하며,
상기 배출 노즐은 상기 바닥부 중에서 상기 회전축과 상기 측벽부 사이에 위치하고
적어도 하나 이상의 한 쌍의 배플이 상기 회전축을 중심으로 서로 이격되어 위치하며,
상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐과 가까이 위치하는 배플에서 상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플보다 서로 이웃하는 배관들 사이의 간격이 작은 회분식 반응기.
cylindrical reactor body;
stirring device;
discharge nozzle; and
and a baffle positioned along the circumferential direction of the reactor body between the inner wall of the reactor body and the stirring device,
The stirring device includes at least two stirrers and one rotating shaft,
The baffle includes at least two or more pipes,
The pipes are separated from each other and located in a line along the radial direction of the reactor body,
The reactor body includes a side wall portion, a cover portion and a bottom portion,
The discharge nozzle is located between the rotation shaft and the side wall part of the bottom part.
At least one pair of baffles are positioned to be spaced apart from each other about the axis of rotation,
In a baffle located closer to the discharge nozzle among the pair of baffles, a distance between adjacent pipes is smaller than that of the pair of baffles located farther from the discharge nozzle among the pair of baffles.
제1항에서,
상기 적어도 둘 이상의 교반기는 상기 회전축의 높이 방향을 따라 일정한 간격을 두고 위치하는 회분식 반응기.
In claim 1,
The at least two or more stirrers are positioned at regular intervals along the height direction of the rotation shaft.
제1항에서,
상기 배관들 각각은 원통형이고,
서로 이웃하는 상기 원통형 배관들 사이 간격은 상기 원통형 배관의 지름의 0.5배 내지 2배인 회분식 반응기.
In claim 1,
Each of the pipes is cylindrical,
A spacing between the adjacent cylindrical pipes is 0.5 to 2 times the diameter of the cylindrical pipe.
삭제delete 삭제delete 제1항에서,
상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐과 가까이 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관들 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 0.5배 내지 1배인 회분식 반응기.
In claim 1,
In a baffle positioned close to the discharge nozzle among the pair of baffles, an interval between adjacent pipes is 0.5 to 1 times the diameter of the pipe.
제1항에서,
상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 0.5배 내지 2배인 회분식 반응기.
In claim 1,
In a baffle positioned far from the discharge nozzle among the pair of baffles, an interval between adjacent pipes is 0.5 to 2 times the diameter of the pipe.
제7항에서,
상기 한 쌍의 배플 중 상기 배출 노즐로부터 멀리 위치하는 배플에서 서로 이웃하는 배관 사이의 간격은 상기 배관의 지름의 1배 내지 1.3배인 회분식 반응기.
In claim 7,
In a baffle positioned far from the discharge nozzle among the pair of baffles, an interval between adjacent pipes is 1 to 1.3 times the diameter of the pipe.
KR1020180108360A 2018-09-11 2018-09-11 Batch reactor with baffle KR102395229B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180108360A KR102395229B1 (en) 2018-09-11 2018-09-11 Batch reactor with baffle
PCT/KR2019/011749 WO2020055115A1 (en) 2018-09-11 2019-09-10 Batch reactor having baffle
CN201980058595.7A CN112654424B (en) 2018-09-11 2019-09-10 Batch reactor with baffles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180108360A KR102395229B1 (en) 2018-09-11 2018-09-11 Batch reactor with baffle

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20200029840A KR20200029840A (en) 2020-03-19
KR102395229B1 true KR102395229B1 (en) 2022-05-04

Family

ID=69776550

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180108360A KR102395229B1 (en) 2018-09-11 2018-09-11 Batch reactor with baffle

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR102395229B1 (en)
CN (1) CN112654424B (en)
WO (1) WO2020055115A1 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040254397A1 (en) 2003-06-13 2004-12-16 Tereftalatos Mexicanos, S.A. De C.V. Process and apparatus for the efficient oxidation of alkyl aromatic compounds
JP2005002194A (en) * 2003-06-11 2005-01-06 Chisso Corp Reactor, apparatus for olefin polymerization including it and manufacturing process for olefin polymer using the polymerization apparatus
US20160031770A1 (en) 2014-07-29 2016-02-04 Honeywell International Inc. Reactor with baffle configuration

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI73148C (en) * 1982-08-24 1987-09-10 Outokumpu Oy SAETT ATT DISPERGERA EN GAS I EN VAETSKA INNEHAOLLANDE FAST MATERIAL OCH EN ANORDNING DAERFOER.
CN103007866B (en) * 2011-09-28 2015-02-25 中国石油化工股份有限公司 Agitation reactor
KR101572126B1 (en) * 2014-01-02 2015-11-26 한화케미칼 주식회사 Batch reactor with baffle
JP6151869B2 (en) * 2014-09-22 2017-06-21 株式会社クレハ Polyarylene sulfide production equipment with baffle and baffle support
CN104437286B (en) * 2014-12-09 2017-01-25 内蒙古科技大学 Precipitation reactor for producing ultra-fine cerium carbonate
WO2017178323A1 (en) * 2016-04-12 2017-10-19 Sabic Global Technologies B.V. Small scale polymerization reactor
KR102553750B1 (en) * 2016-05-20 2023-07-11 에스케이이노베이션 주식회사 Chemical reactor and preparation method of olefin using the same
CN108079926A (en) * 2017-12-27 2018-05-29 郑州仁宏医药科技有限公司 A kind of environment-friendly type reaction kettle

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005002194A (en) * 2003-06-11 2005-01-06 Chisso Corp Reactor, apparatus for olefin polymerization including it and manufacturing process for olefin polymer using the polymerization apparatus
US20040254397A1 (en) 2003-06-13 2004-12-16 Tereftalatos Mexicanos, S.A. De C.V. Process and apparatus for the efficient oxidation of alkyl aromatic compounds
US20160031770A1 (en) 2014-07-29 2016-02-04 Honeywell International Inc. Reactor with baffle configuration

Also Published As

Publication number Publication date
CN112654424B (en) 2023-05-23
WO2020055115A1 (en) 2020-03-19
CN112654424A (en) 2021-04-13
KR20200029840A (en) 2020-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100207346B1 (en) Polymerisation reactor
US5478535A (en) Apparatus for gas - liquid reactions
KR101572126B1 (en) Batch reactor with baffle
WO2014201767A1 (en) Melt condensation polymerization reaction method, reactor for same, and falling film tube thereof
CN209934501U (en) Self-circulation stirring device for tank body
KR20200029003A (en) Reactor and method for continuous polymerization
JP2022514854A (en) Batch reactor
TW201300169A (en) Improved polymerization reactor for butyl rubber production
KR102395229B1 (en) Batch reactor with baffle
KR102553750B1 (en) Chemical reactor and preparation method of olefin using the same
CN110639461A (en) Falling film devolatilizer and falling film element thereof
CN111790333A (en) Vortex continuous flow type reactor
JP2015054272A (en) Agitation device
CN104923110A (en) Fast homogenizing equipment
JP2023501676A (en) polymerization reactor
CN213314886U (en) Vortex continuous flow type reactor
CN210787321U (en) Stirring reaction kettle
EP0878231A1 (en) A process vessel and processes conducted therein
KR101340712B1 (en) Mix apparatus including draft tube
JP3880461B2 (en) Multi-tube heat transfer stirrer
KR20240020889A (en) Reactor
KR20240001691A (en) Cooling baffle and reactor including the same
RU2532814C1 (en) Polymerisation reactor
CN216727239U (en) Polymeric kettle of polyolefin elastomer preparation
CN213222146U (en) Novel high-speed rotary reactor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant