KR102388789B1 - Anti-plating agent and selective hot-dip plating method using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 용융 도금 시, 피도금체에 용접이 필요한 부분 등 선택적으로 금속이 도금되는 것을 방지하기 위한 도금 방지제 및 이를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 선택적 용융 도금 방법은 철 산화물을 포함하는 도금 방지제를 제조하는 단계, 도금 방지제를 피도금체에 코팅하는 단계, 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 도금하는 단계, 도금된 피도금체에서 도금 방지제를 제거하는 단계를 포함한다.The present invention relates to a plating inhibitor and a selective hot-dip plating method using the same for preventing metal from being selectively plated, such as a part that requires welding on a body to be plated during hot-dip plating. The selective hot-dip plating method according to the present invention comprises the steps of preparing an anti-plating agent containing iron oxide, coating the anti-plating agent on a body to be plated, plating the body coated with the anti-plating agent, and plated body. Including the step of removing the plating inhibitor.

Description

도금 방지제 및 이를 이용한 선택적 용융 도금 방법{Anti-plating agent and selective hot-dip plating method using the same}Anti-plating agent and selective hot-dip plating method using the same

본 발명은 도금 방지제에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 용융 도금 시, 피도금체에 용접이 필요한 부분 등 선택적으로 금속이 도금되는 것을 방지하기 위한 도금 방지제 및 이를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a plating inhibitor, and more particularly, to a plating inhibitor and a selective hot-dip plating method using the same for selectively preventing metal from being selectively plated, such as a portion requiring welding on a body to be plated during hot-dip plating.

용융 도금 기술은 대표적으로 용융 아연 도금이 있으며, 용융 아연 도금은 철강재에 아연(Zn)을 도금함으로써, 부식환경과의 차폐를 통해 barrier효과와 피도금체보다 낮은 부식 전위로 희생 방식을 통해 내식성을 향상시키는 것을 주 목적으로 한다.Hot-dip galvanizing technology is representative of hot-dip galvanizing, and by plating zinc (Zn) on steel, it has a barrier effect through shielding from the corrosive environment and corrosion resistance through a sacrificial method with a lower corrosion potential than the object to be plated. Its main purpose is to improve.

또한 용융아연도금에 사용되는 도금재는 피도금체와 아연을 반응시켜 피도금체와 아연 사이에 금속간 화합물을 형성시킴으로써, 도금 밀착성을 향상시킬 수 있다. 이때 형성된 금속간 화합물은 Fe-Zn 합금상으로 철(Fe)부터 Γ-Zn10Fe3/Zn40Fell, δ-Zn9Fe. ζ-Zn13Fe, η-Zn 순으로 구성되며 자동차, 선박, 가전제품 및 건자재 등에 사용된다.In addition, the plating material used for hot-dip galvanizing may improve plating adhesion by reacting the body to be plated with zinc to form an intermetallic compound between the body to be plated and zinc. The intermetallic compound formed at this time is a Fe-Zn alloy phase from iron (Fe) to Γ-Zn 10 Fe 3 /Zn 40 Fe ll , δ-Zn 9 Fe. It is composed of ζ-Zn 13 Fe and η-Zn in order and is used for automobiles, ships, home appliances and construction materials.

특히 이러한 용융 아연 도금이 주로 사용되는 선박제조, 건설 및 자동차 제작과정에는 강판 사이의 체결을 위해 용접 가공이 필수적이다. 하지만 용접할 때 아연이 도금이 되어 있으면, 인체에 유해한 가스(fume)가 발생하여 현장 인부들의 건강을 해칠 수 있고 아연의 비등점이 낮아 용접 불량이 발생된다.In particular, welding is essential for fastening between steel plates in ship manufacturing, construction, and automobile manufacturing processes in which hot-dip galvanizing is mainly used. However, if zinc is plated during welding, fumes harmful to the human body may be generated, which may harm the health of field workers, and poor welding occurs due to the low boiling point of zinc.

이러한 문제점 때문에 도금된 아연을 그라인더(grinder)로 벗겨내어 사용하고 있지만, 도금된 아연을 그라인더로 벗겨내는 과정은 많은 시간, 비용 및 노동력이 들어가기 때문에 비효율적이며, 볼트나 관 같은 형상이 복잡한 제품에는 적용하기 어렵다.Because of this problem, plated zinc is peeled off with a grinder and used, but the process of peeling off plated zinc with a grinder is inefficient because it takes a lot of time, money and labor, and it is applied to products with complicated shapes such as bolts and tubes. hard to do

이러한 문제점을 해결하기 위하여, 한국등록특허 제10-0956026호에는 아연도금강판의 레이저 용접 방법을 개시하고 있다. 개시된 용접 방법은 아연도금강판에 용접부 아연도금층을 레이저로 태워서 박리함으로써, 태워진 아연도금 부산물이 잔존하게 된다. 이때 잔돈한 부산물은 용접성에 영향을 미치기 때문에 부산물 제거 공정이 추가로 수행되어야만 하는 문제점이 있었다.In order to solve this problem, Korean Patent No. 10-0956026 discloses a laser welding method of a galvanized steel sheet. In the disclosed welding method, the galvanized by-product remains in the galvanized steel sheet by burning the galvanized layer in the weld zone with a laser and peeling it off. At this time, there was a problem that the by-product removal process must be additionally performed because the loose by-products affect weldability.

따라서, 현재 용융 도금을 하는 산업현장에서는 피도금체와 아연 사이에 중간층을 두어 앞서 언급했던 금속간 화합물을 억제하여 피도금체와 아연을 분리하고자 임시방편으로 용접 부위에 프라이머 페인트 혹은 테이프를 이용한 마스킹(Masking) 방법이 주로 실행되고 있다. 하지만 이들은 모두 융점이 낮아 높은 온도(약 430 ~ 470℃)의 아연도금 조 내에서 반응을 일으켜 피도금체 표면에 부산물을 남기고 이는 그라인더를 이용한 추가적인 공정을 수행되어야 하는 불편함이 있다.Therefore, in industrial sites currently performing hot dip plating, an intermediate layer is placed between the body to be plated and zinc to suppress the above-mentioned intermetallic compound, and as a temporary measure to separate the body and zinc from the body to be plated, masking using primer paint or tape on the welded area (Masking) method is mainly implemented. However, they all have a low melting point and cause a reaction in a galvanizing bath at a high temperature (about 430 ~ 470 °C), leaving by-products on the surface of the object to be plated, which is inconvenient to perform an additional process using a grinder.

이러한 문제점을 해결하기 위해 한국등록특허 제10-1988631호는 선택적으로 도금을 수행하기 위한 용융아연도금 부분방지제 제조 방법을 개시하고 있다. 개시된 부분방지제는 Polycarbonate계 우레탄 바인더에 Polytetrafluoroethylene 및 Molybdenum Disulphide계 합성물이 이형제로 구성된다. 하지만 개시된 합성물은 고가의 원재료를 사용하여 상용화 하기엔 경제적으로 불리하며 복잡한 구조물의 경우 도금 방지 효율이 저하되는 문제점이 있다.In order to solve this problem, Korean Patent Registration No. 10-1988631 discloses a method for manufacturing a hot-dip galvanizing partial inhibitor for selectively performing plating. The disclosed anti-partial agent consists of a polycarbonate-based urethane binder and a polytetrafluoroethylene and Molybdenum Disulphide-based compound as a release agent. However, the disclosed compound is economically disadvantageous to commercialize using expensive raw materials, and there is a problem in that plating prevention efficiency is lowered in the case of a complex structure.

또한 미국등록특허 제4,421,793호는 Calcium carbonate를 단독 혹은 염화물과 혼합하여 용융아연 조에 침지시키기 전에 적용하는 것을 특정으로 하는 방법이 제시되었다. 하지만 개시된 화합물은 피도금체와 Calcium carbonate를 분리하는 기술이 제시되지 않아 피도금체에 불필요한 잔여물이 존재하는 문제점이 있다.In addition, U.S. Patent No. 4,421,793 proposes a method in which calcium carbonate is applied alone or mixed with chloride before being immersed in a molten zinc bath. However, the disclosed compound has a problem in that unnecessary residues exist on the object to be plated because a technology for separating the body to be plated and calcium carbonate is not presented.

따라서 본 발명의 목적은 용융 도금 시, 피도금체에 용접이 필요한 부분 등 선택적으로 금속이 도금되는 것을 방지하기 위한 도금 방지제 및 이를 이용한 선택적 용융 도금 방법을 제공하는 데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide a plating inhibitor and a selective hot-dip plating method using the same for preventing metal from being selectively plated, such as a portion requiring welding on a body to be plated during hot-dip plating.

특히 본 발명은 저가형이면서 공정의 간소화와 도금방지 효과가 높으며, 제거가 용이한 도금 방지제를 제공하는데 그 목적이 있다.In particular, an object of the present invention is to provide an anti-plating agent that is inexpensive, has a simplification of a process, has a high anti-plating effect, and is easy to remove.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법은 철 산화물 및 용매를 포함하는 도금 방지제를 제조하는 단계, 상기 도금 방지제를 피도금체에 코팅하는 단계, 상기 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 도금하는 단계, 상기 도금된 피도금체에서 상기 도금 방지제를 제거하는 단계를 포함한다.The selective hot-dip plating method using the anti-plating agent according to the present invention comprises the steps of preparing a plating inhibitor including iron oxide and a solvent, coating the anti-plating agent on a body to be plated, and plating the body coated with the anti-plating agent. and removing the plating inhibitor from the plated object to be plated.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 제조하는 단계는, 상기 철 산화물, 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물 및 용매를 포함하는 상기 도금 방지제를 제조하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the plating inhibitor according to the present invention, the manufacturing step is characterized in that the preparation of the plating inhibitor comprising the iron oxide, aluminum oxide, silicon oxide and a solvent.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 도금 방지제를 제조하는 단계에서, 상기 도금 방지제는 상기 철 산화물 2 ~ 50wt%, 상기 알루미늄 산화물 20 ~ 70wt%, 잔부 실리콘 산화물 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the anti-plating agent according to the present invention, in the step of preparing the anti-plating agent, the anti-plating agent comprises 2 to 50 wt % of the iron oxide, 20 to 70 wt % of the aluminum oxide, and the remainder of silicon oxide and a solvent. characterized by including.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 도금 방지제를 제조하는 단계에서, 상기 철 산화물, 상기 알루미늄 산화물 및 상기 실리콘 산화물을 포함하는 혼합물과 용매의 제조 비율은 1 < 혼합물(g)/용매(ml) < 2.5 인 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the anti-plating agent according to the present invention, in the step of preparing the anti-plating agent, the ratio of the mixture containing the iron oxide, the aluminum oxide and the silicon oxide to the solvent is 1 < mixture (g )/solvent (ml) < 2.5.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 코팅하는 단계는, 상기 도금 방지제에 상기 피도금체를 침지시키거나, 도포하여 상기 도금 방지제를 선택적으로 코팅하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the plating inhibitor according to the present invention, the coating step is characterized in that the plating inhibitor is selectively coated with the plating inhibitor by immersing or coating the object to be plated in the plating inhibitor.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 도금하는 단계는, 상기 도금 방지제가 선택적으로 코팅된 피도금체를 300 ~ 650℃ 에서 용융 금속에 침지하여 도금하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the plating inhibitor according to the present invention, the plating step is characterized in that the plating is performed by immersing the object to be plated selectively coated with the plating inhibitor in the molten metal at 300 to 650°C.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 용융 금속은 아연(Zn), 알루미늄(Al) 또는 마그네슘(Mg)을 포함하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the plating inhibitor according to the present invention, the molten metal is characterized in that it comprises zinc (Zn), aluminum (Al) or magnesium (Mg).

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 도금 방지제를 제거하는 단계는, 상기 도금된 피도금체에서 상기 도금 방지제가 코팅된 부분을 제거하는 단계, 상기 도금 방지제가 제거된 피도금체를 수세하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the anti-plating agent according to the present invention, the step of removing the anti-plating agent comprises: removing the portion coated with the anti-plating agent from the plated body to be plated; It characterized in that it comprises the step of washing the plating body.

본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법에 있어서, 상기 제거하는 단계는, 상기 도금된 피도금체에 외부 충격을 가하거나, 긁어내어 상기 도금 방지제가 코팅된 부분을 제거하는 것을 특징으로 한다.In the selective hot-dip plating method using the plating inhibitor according to the present invention, the removing step is characterized in that the portion coated with the anti-plating agent is removed by applying an external impact to the plated object to be plated or by scraping it. .

본 발명에 따른 도금 방지제는 철 산화물을 포함하는 것을 특징으로 한다.The anti-plating agent according to the present invention is characterized in that it contains iron oxide.

본 발명에 따른 도금 방지제에 있어서, 철 산화물, 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the plating inhibitor according to the present invention, it is characterized in that it contains iron oxide, aluminum oxide, silicon oxide and a solvent.

본 발명에 따른 도금 방지제에 있어서, 상기 도금 방지제의 조성비는 상기 철 산화물 2 ~ 50wt%, 상기 알루미늄 산화물 20 ~ 70wt% 및 잔부 실리콘 산화물인 것을 특징으로 한다.In the anti-plating agent according to the present invention, the composition ratio of the anti-plating agent is 2 to 50 wt % of the iron oxide, 20 to 70 wt % of the aluminum oxide, and the remainder of the silicon oxide.

본 발명에 따른 도금 방지제에 있어서, 상기 철 산화물, 상기 알루미늄 산화물 및 상기 실리콘 산화물을 포함하는 혼합물과 용매의 제조 비율은 1 < 혼합물(g)/용매(ml) < 2.5 인 것을 특징으로 한다.In the anti-plating agent according to the present invention, the ratio of the mixture containing the iron oxide, the aluminum oxide, and the silicon oxide to the solvent is 1 < mixture (g)/solvent (ml) < 2.5.

본 발명에 따른 도금 방지제에 있어서, 마그네슘 산화물, 칼륨 산화물, 티타늄 산화물 및 구리 산화물 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the anti-plating agent according to the present invention, it is characterized in that it further comprises at least one of magnesium oxide, potassium oxide, titanium oxide, and copper oxide.

본 발명에 따른 도금 방지제는 용융 도금 시, 피도금체에 용접이 필요한 부분 등 선택적으로 금속이 도금되는 것을 방지하면서, 저가형이면서 공정의 간소화와 도금방지 효과가 높으며, 제거가 용이하다.The anti-plating agent according to the present invention prevents metal from being selectively plated on a body to be plated, such as a part requiring welding, during hot-dip plating, while being low-cost, simplifies the process, has a high anti-plating effect, and is easy to remove.

도 1은 본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 도금 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2는 도 1의 제거하는 단계를 상세히 나타낸 순서도이다.
도 3은 본 발명의 실시예와 비교예에 따른 도금 방지제의 조성에 따른 특성을 나타낸 표이다.
도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제의 성능을 나타낸 도면이다.
도 7은 도 6의 도금 방지제 제거 후 표면 성분 분석(GDS) 결과를 나타낸 그래프이다.
1 is a flowchart illustrating a selective plating method using a plating inhibitor according to the present invention.
FIG. 2 is a flowchart illustrating in detail the removing step of FIG. 1 .
3 is a table showing characteristics according to the composition of the anti-plating agent according to Examples and Comparative Examples of the present invention.
4 to 6 are views showing the performance of the plating inhibitor according to the embodiment of the present invention.
7 is a graph showing the results of surface component analysis (GDS) after removing the plating inhibitor of FIG. 6 .

하기의 설명에서는 본 발명의 실시예를 이해하는데 필요한 부분만이 설명되며, 그 이외 부분의 설명은 본 발명의 요지를 흩트리지 않는 범위에서 생략될 것이라는 것을 유의하여야 한다.It should be noted that, in the following description, only the parts necessary for understanding the embodiments of the present invention will be described, and descriptions of other parts will be omitted in the scope not disturbing the gist of the present invention.

이하에서 설명되는 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념으로 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.The terms or words used in the present specification and claims described below should not be construed as being limited to their ordinary or dictionary meanings, and the inventors have appropriate concepts of terms to describe their invention in the best way. It should be interpreted as meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention based on the principle that it can be defined in Accordingly, the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only preferred embodiments of the present invention, and do not represent all of the technical spirit of the present invention, so various equivalents that can be substituted for them at the time of the present application It should be understood that there may be variations and variations.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

먼저 본 발명에 따른 도금 방지제는 철 산화물(Fe Oxide)을 포함한다. 바람직하게 본 발명에 따른 도금 방지제는 철 산화물, 알루미늄 산화물(Al Oxide), 실리콘 산화물(Si Oxide) 및 용매를 혼합하여 제조될 수 있다.First, the anti-plating agent according to the present invention includes iron oxide (Fe Oxide). Preferably, the anti-plating agent according to the present invention may be prepared by mixing iron oxide, aluminum oxide (Al Oxide), silicon oxide (Si Oxide) and a solvent.

이하 본 발명에 따른 도금 방지제를 통한 선택적 도금 방법에 대하여 상세히 살펴보도록 한다.Hereinafter, the selective plating method using the plating inhibitor according to the present invention will be described in detail.

도 1은 본 발명에 따른 도금 방지제를 이용한 선택적 도금 방법을 나타낸 순서도이고, 도 2는 도 1의 제거하는 단계를 상세히 나타낸 순서도이다.1 is a flowchart illustrating a selective plating method using a plating inhibitor according to the present invention, and FIG. 2 is a flowchart illustrating the removing step of FIG. 1 in detail.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 먼저 S10 단계에서 알루미늄 산화물, 철 산화물 및 실리콘 산화물을 포함하는 혼합물에 용매를 첨가하여 도금 방지제를 제조한다.1 to 2, first, in step S10, a solvent is added to a mixture including aluminum oxide, iron oxide, and silicon oxide to prepare an anti-plating agent.

이때 철 산화물 2 ~ 50wt%, 알루미늄 산화물 20 ~ 70wt% 및 잔부 실리콘 산화물을 혼합하여 혼합물을 제조할 수 있다. 여기서 철 산화물, 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물 외에 미량 원소 즉, 마그네슘 산화물, 칼륨 산화물, 티타늄 산화물, 구리 산화물 등을 0 ~ 2wt% 포함할 수 있다.At this time, 2 to 50 wt% of iron oxide, 20 to 70 wt% of aluminum oxide, and the remainder of silicon oxide may be mixed to prepare a mixture. Here, in addition to iron oxide, aluminum oxide, and silicon oxide, trace elements such as magnesium oxide, potassium oxide, titanium oxide, copper oxide, and the like may be included in an amount of 0 to 2 wt%.

여기서 알루미늄 산화물이 20wt%보다 낮은 경우, 피도금체의 표면 위의 산화층이 충분히 형성되지 않아 용융된 아연과 철이 계면 반응을 통해 합금상을 형성하고, 도금 방지제가 필요한 부분에 아연이 도금이 되는 문제점이 발생될 수 있고, 이에 따라 용접 시 유해가스(fume)의 원인이 되는 문제가 발생된다. 또한 알루미늄 산화물이 70wt%를 초과하는 경우, 도금 방지제 농도를 증가시키며, 도금 방지 효율은 좋으나 비용 측면에서 분리한 문제점이 있다.Here, when the aluminum oxide content is lower than 20 wt%, the oxide layer on the surface of the object to be plated is not sufficiently formed, so the molten zinc and iron form an alloy phase through an interfacial reaction, and zinc is plated on the part requiring an anti-plating agent. can be generated, and accordingly, a problem of causing harmful gases (fumes) during welding occurs. In addition, when the aluminum oxide exceeds 70 wt%, the concentration of the anti-plating agent is increased, and the plating-preventing efficiency is good, but there is a problem of separation in terms of cost.

또한 철 산화물의 함량이 2wt%보다 낮은 경우, 피도금체 표면에 산화물이 형성되지 않고 떨어져버리기 때문에 도금 방지제의 역할을 수행할 수 없다. 철 산화물의 함량이 50wt%를 초과하는 경우, 피도금체에 실리콘 산화물 및 알루미늄 산화물을 국부적으로 분산시켜 피도금체에 균일하게 코팅되지 못하는 문제점이 발생한다.In addition, when the content of iron oxide is lower than 2 wt%, the oxide is not formed on the surface of the object to be plated and falls off, so that it cannot serve as a plating inhibitor. When the content of iron oxide exceeds 50 wt %, silicon oxide and aluminum oxide are locally dispersed on the object to be plated, so that the object to be plated cannot be uniformly coated.

또한 혼합물과 용매의 제조 비율은 1 < 혼합물(g)/용매(ml) < 2.5 가 될 수 있으며, 혼합물과 용매를 혼합한 후 교반하여 도금 방지제를 제조할 수 있다. 예를 들어 용매는 물을 포함하는 극성 용매가 적용될 수 있다.In addition, the preparation ratio of the mixture and the solvent may be 1 < mixture (g)/solvent (ml) < 2.5, and the anti-plating agent may be prepared by mixing the mixture and the solvent and then stirring. For example, a polar solvent including water may be applied as the solvent.

한편 도금 방지제의 성분 중 안정한 실리콘 산화물 및 알루미늄 산화물은 피도금체와 아연의 반응을 방해하는 역할을 하는 화합물로서, 용융된 아연이 피도금체와 직접적으로 접촉하지 못하고 계면 반응을 억제하여 합금상 형성을 제한하고, 도금 방지제 표면과의 반응이 없어 아연이 피도금체로부터 분리된다.Meanwhile, among the components of the anti-plating agent, stable silicon oxide and aluminum oxide are compounds that interfere with the reaction between the object to be plated and zinc, and the molten zinc cannot directly contact the object to be plated, and the interfacial reaction is suppressed to form an alloy phase. , and there is no reaction with the anti-plating agent surface, so that zinc is separated from the body to be plated.

또한 도금 방지제의 성분 중 철 산화물은 도금 방지제의 점성을 조절해주는 역할을 하며, 실리콘 산화물 및 알루미늄 산화물의 혼합을 도와주고, 용매와 함께 도금 방지제를 피도금체의 표면에 점착시키는 역할을 한다.In addition, among the components of the anti-plating agent, iron oxide plays a role in controlling the viscosity of the anti-plating agent, helping the mixing of silicon oxide and aluminum oxide, and adhering the anti-plating agent together with the solvent to the surface of the object to be plated.

다음으로 S20 단계에서 도금 방지제를 피도금체에 코팅한다. 즉 S20 단계에서는 용융 도금을 수행하기 전에, 도금이 불필요한 부분에 도금 방지제를 코팅한다.Next, in step S20, a plating inhibitor is coated on the object to be plated. That is, in step S20, before performing hot-dip plating, a plating inhibitor is coated on a portion where plating is unnecessary.

예를 들어, S20 단계에서는 도금 방지제욕에 피도금체를 침지하여 코팅하거나, 도금 방지제를 피도금체 표면에 도포하여 코팅할 수 있으며, 코팅하는 방법에 따라 도금 방지제에 포함된 알루미늄 산화물, 철 산화물 및 실리콘 산화물의 함량을 결정할 수 있다. 즉 도금 방지제의 농도를 결정할 수 있다.For example, in step S20, coating may be performed by dipping the object to be plated in a plating inhibitor bath, or coating may be performed by applying an anti-plating agent to the surface of the object to be plated. and the content of silicon oxide may be determined. That is, the concentration of the plating inhibitor can be determined.

이 후 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 건조시킨다. 이때 건조 온도는 용매가 증발할 정도의 건조 온도인 100 ~ 140℃이나 이에 한정된 것은 아니고, 용매의 종류에 따라 달라질 수 있다.After that, the plated body coated with the anti-plating agent is dried. At this time, the drying temperature is not limited to 100 ~ 140 ℃, which is a drying temperature at which the solvent evaporates, and may vary depending on the type of the solvent.

다음으로, S30 단계에서 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 도금할 수 있다. 즉 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 용융 금속에 침지하여 도금을 하는 단계로 통상의 용융 도금과 동일하게 진행될 수 있다. 한편 하기의 설명에서는 아연을 이용한 용융 도금을 설명하나, 이에 한정된 것은 아니고, 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg) 등 다양한 도금이 적용될 수 있다.Next, in step S30, the plated body coated with the anti-plating agent may be plated. That is, the plating is performed by immersing the object to be plated with the anti-plating agent in the molten metal. Meanwhile, in the following description, although hot-dip plating using zinc is described, the present invention is not limited thereto, and various plating methods such as aluminum (Al) and magnesium (Mg) may be applied.

이때 용융 금속 도금욕 내에서 피도금체를 침지하여 도금을 수행할 시, 도금할 금속의 온도에 따라 용융 도금욕 온도를 결정한다. 예를 들어 용융 아연 도금 온도인 430 ~ 480℃부터 용융 알루미늄 도금 온도인 650℃까지 다양하게 적용가능하다.At this time, when plating is performed by immersing the object to be plated in the hot-dip metal plating bath, the hot-dip plating bath temperature is determined according to the temperature of the metal to be plated. For example, it can be applied variously from 430 to 480°C, which is the hot-dip galvanizing temperature, to 650°C, which is the hot-dip aluminum plating temperature.

그리고 S40 단계에서, 도금된 피도금체에서 도금 방지제를 제거한다.And in step S40, the plating inhibitor is removed from the plated object.

여기서 S40 단계는 도 2에 도시된 바와 같이, 도금된 피도금체에서 도금 방지제가 코팅된 부분을 제거하는 단계(S41) 및 도금 방지제가 제거된 피도금체를 수세하는 단계(S42)를 포함한다.Here, step S40 includes, as shown in FIG. 2 , removing the portion coated with the anti-plating agent from the plated body to be plated (S41) and washing the body from which the anti-plating agent has been removed (S42). .

S41 단계에서는 피도금체 표면위에 형성된 도금 방지제를 물리척 충격을 주거나, 스크래퍼 등을 이용하여 긁어내어 도금 방지제를 제거할 수 있다.In step S41, the plating inhibitor formed on the surface of the object to be plated may be removed by applying a physical chuck shock or scraping it using a scraper or the like.

그리고 S42 단계에서는 피도금체에 남아있는 도금 방지제의 일부를 완전히 제거하는 단계로, 수세를 하지 않았을 경우 남아있는 도금 방지제가 용접에 불리하게 작용될 수 있다.In step S42, a part of the plating inhibitor remaining on the object to be plated is completely removed.

이하 실시예를 통해 본 발명에 따른 도금 방지제의 특성에 대하여 더욱 상세히 설명하도록 한다.Hereinafter, the characteristics of the anti-plating agent according to the present invention will be described in more detail through Examples.

도 3은 본 발명의 실시예와 비교예에 따른 도금 방지제의 조성에 따른 특성을 나타낸 표이다.3 is a table showing characteristics according to the composition of the anti-plating agent according to Examples and Comparative Examples of the present invention.

도 3을 참조하면, 피도금체의 두께, 폭 및 길이가 각각 0.8mm * 150mm * 30mm 인 CQ재를 아세톤, 메탄올, 에탄올을 사용하여 세척하여 표면의 이물질과 기름을 제거하여 시편을 준비한 후 탈지하였다. 여기서 탈지는 60℃ 10%NaOH 용액에 10분간 침지하여 진행하여 세척 단계에서 미처 세척되지 않은 기름을 제거하였다.Referring to FIG. 3, the CQ material having the thickness, width and length of the object to be plated is 0.8mm * 150mm * 30mm, respectively, by washing it with acetone, methanol, and ethanol to remove foreign substances and oil on the surface to prepare the specimen and then degreasing did. Here, degreasing was performed by immersion in 10% NaOH solution at 60° C. for 10 minutes to remove oil that was not washed in the washing step.

이후 탈지 처리된 피도금체는 상온의 10%HCL에서 10분간 침지하여 산세 처리를 진행하였다. 여기서 산세 처리는 피도금체 표면의 녹을 제거하여 깨끗한 도금 표면을 만든다.After that, the degreased body to be plated was immersed in 10% HCL at room temperature for 10 minutes to perform pickling treatment. Here, the pickling treatment removes rust from the surface of the object to be plated to make a clean plating surface.

이후 산세된 피도금체를 Flux 처리한다. Flux는 ZnCl2와 NH4CL을 1:3 비율로 혼합하여 10% Flux액을 제조하고 60℃에서 10초간 침지한 후 건조하였다. Flux는 용융 도금시 용융된 금속 표면의 산화막과 반응하여 상쇄시키는 역할을 하여 도금 표면 개선의 효과가 있다.Thereafter, the pickled object is subjected to flux treatment. Flux was prepared by mixing ZnCl 2 and NH 4 CL in a 1:3 ratio to prepare a 10% flux solution, immersed at 60° C. for 10 seconds, and then dried. Flux reacts with the oxide film on the surface of the molten metal during hot-dip plating to offset it, thereby improving the plating surface.

이후 Flux 처리된 피도금체를 실리콘 산화물, 철 산화물 및 알루미늄 산화물의 조성을 달리하여 도금 방지 처리를 진행하였다.Thereafter, the flux-treated body to be plated was treated to prevent plating by varying the composition of silicon oxide, iron oxide, and aluminum oxide.

이후 용융 아연 도금을 실시하였으며, 도금 방지 처리된 피도금체의 도막 특성(표면 부착성)과 도금 방지 여부를 확인하였다.After that, hot-dip galvanizing was performed, and the coating film characteristics (surface adhesion) of the object to be plated with anti-plating treatment were checked and whether or not plating was prevented.

도 3에 도시된 바와 같이, 철 산화물의 함량이 2% 이하인 경우 도금 방지제의 점성이 낮아 피도금체의 표면에 부착되지 않고 떨어지는 것을 확인하였다. 반면에 철 산화물의 함량이 50wt% 이상의 경우 실리콘 산화물 및 알루미늄 산화물의 국부적인 형성으로 도금방지 효율이 떨어진 것을 확인하였다.As shown in FIG. 3 , when the iron oxide content was 2% or less, it was confirmed that the anti-plating agent had a low viscosity and did not adhere to the surface of the object to be plated and fell. On the other hand, when the iron oxide content was 50 wt% or more, it was confirmed that the plating prevention efficiency was lowered due to the local formation of silicon oxide and aluminum oxide.

또한 실리콘 산화물 및 알루미늄 산화물의 함량이 낮은 경우 표면에 산화물이 형성되지 않아 도금 방지 효과가 현격히 떨어지며, 함량이 높은 경우 도금방지제의 제거가 어려운 문제점이 있었다.In addition, when the content of silicon oxide and aluminum oxide is low, no oxide is formed on the surface, so the plating prevention effect is significantly reduced, and when the content is high, there is a problem in that it is difficult to remove the plating inhibitor.

도 4 내지 도 6은 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제의 성능을 나타낸 도면이고, 도 7은 도 6의 도금 방지제 제거 후 표면 성분 분석(GDS) 결과를 나타낸 그래프이다.4 to 6 are diagrams showing the performance of the anti-plating agent according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a graph showing the results of surface component analysis (GDS) after removing the anti-plating agent of FIG. 6 .

도 4 내지 도 7을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제의 특성을 살펴보기 위하여 프라이머 페인팅(a), 접착 테이프(b) 및 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제(c)를 이용하여 철(Fe) 재질의 피도금체에 도금 방지층을 형성한 후 용융 도금을 실시하고, 물리적 충격을 가해 도금 방지층을 제거한 후 표면 특성을 관찰하였다. 여기서 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제(c)는 철 산화물 48wt%, 알루미늄 산화물 21% 및 잔부 실리콘 산화물을 통해 제조하였다.4 to 7, in order to examine the properties of the anti-plating agent according to the embodiment of the present invention, primer painting (a), an adhesive tape (b) and the anti-plating agent (c) according to the embodiment of the present invention are used. After forming a plating prevention layer on an iron (Fe) material to be plated, hot-dip plating was performed, and after removing the plating prevention layer by applying a physical impact, the surface properties were observed. Here, the anti-plating agent (c) according to an embodiment of the present invention was prepared using 48 wt% of iron oxide, 21% of aluminum oxide, and the remainder of silicon oxide.

실험 결과, 도 6에 도시된 바와 같이, 육안으로 살펴보아도 프라이머(a)의 경우, 도금 방지층을 형성하였음에도 불구하고, 도금 방지가 수행되지 않음을 관찰할 수 있으며, 접착 테이프(b)의 경우 도금 방지가 일부 수행되었으나 표면에 불순물이 존재하는 것을 확인할 수 있다.As a result of the experiment, as shown in FIG. 6 , it can be observed that, in the case of the primer (a), plating prevention is not performed even though the plating prevention layer is formed, and in the case of the adhesive tape (b), plating Although some prevention was performed, it can be confirmed that impurities are present on the surface.

반면에 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제(c)를 이용하여 도금 방지층을 형성하였을 경우, 용융 도금을 실시하기 이전의 표면과 같은 깨끗한 표면을 확인할 수 있다.On the other hand, when the anti-plating layer is formed using the anti-plating agent (c) according to the embodiment of the present invention, a clean surface such as the surface before hot-dip plating can be confirmed.

또한 도 7을 참조하면, 도금 방지제 제거 후 표면 성분 분석(GDS)을 수행한 결과, 프라이머(a) 및 접착 테이프(b)의 경우 표면에 잔유물인 카본(C)이 남아있음을 확인할 수 있으며, 본 발명의 실시예에 따른 도금 방지제(c)의 경우 실리콘이 일부 검출되었으나, 아연도금층이 완벽히 제거되어 균일한 강판 표면이 노출되었음을 확인할 수 있다.Also, referring to FIG. 7 , as a result of performing surface component analysis (GDS) after removing the plating inhibitor, it can be confirmed that carbon (C), a residue, remains on the surface in the case of the primer (a) and the adhesive tape (b), In the case of the anti-plating agent (c) according to the embodiment of the present invention, silicon was partially detected, but it can be confirmed that the galvanized layer was completely removed to expose a uniform surface of the steel sheet.

한편, 본 명세서와 도면에 개시된 실시예들은 이해를 돕기 위해 특정 예를 제시한 것에 지나지 않으며, 본 발명의 범위를 한정하고자 하는 것은 아니다. 여기에 개시된 실시예들 이외에도 본 발명의 기술적 사상에 바탕을 둔 다른 변형예들이 실시 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게는 자명한 것이다.On the other hand, the embodiments disclosed in the present specification and drawings are merely presented as specific examples to aid understanding, and are not intended to limit the scope of the present invention. It is apparent to those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains that other modifications based on the technical spirit of the present invention can be implemented in addition to the embodiments disclosed herein.

Claims (14)

철 산화물, 알루미늄 산화물, 잔부 실리콘 산화물 및 용매를 포함하는 도금 방지제를 제조하는 단계;
상기 도금 방지제를 피도금체에 코팅하는 단계;
상기 도금 방지제가 코팅된 피도금체를 도금하는 단계;
상기 도금된 피도금체에서 상기 도금 방지제를 제거하는 단계; 를 포함하고,
상기 도금 방지제를 제조하는 단계에서,
상기 도금 방지제는 상기 철 산화물 2 ~ 50wt%, 상기 알루미늄 산화물 20 ~ 70wt%, 상기 잔부 실리콘 산화물 및 상기 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
Preparing an anti-plating agent comprising iron oxide, aluminum oxide, the remainder silicon oxide and a solvent;
coating the anti-plating agent on a body to be plated;
plating the object to be plated onto which the anti-plating agent is coated;
removing the plating inhibitor from the plated object; including,
In the step of preparing the anti-plating agent,
The plating inhibitor is a selective hot-dip plating method using a plating inhibitor, characterized in that it comprises 2 to 50 wt% of the iron oxide, 20 to 70 wt% of the aluminum oxide, the remainder of the silicon oxide and the solvent.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 도금 방지제를 제조하는 단계에서,
상기 철 산화물, 상기 알루미늄 산화물 및 상기 실리콘 산화물을 포함하는 혼합물과 용매의 제조 비율은 1 < 혼합물(g)/용매(ml) < 2.5 인 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
The method of claim 1,
In the step of preparing the anti-plating agent,
The selective hot-dip plating method using a plating inhibitor, characterized in that the ratio of the mixture containing the iron oxide, the aluminum oxide, and the silicon oxide to the solvent is 1 < mixture (g)/solvent (ml) < 2.5.
제1항에 있어서,
상기 코팅하는 단계는,
상기 도금 방지제에 상기 피도금체를 침지시키거나, 도포하여 상기 도금 방지제를 선택적으로 코팅하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
The method of claim 1,
The coating step is
A selective hot-dip plating method using a plating inhibitor, characterized in that the plating inhibitor is selectively coated with the plating inhibitor by immersing or applying the plating inhibitor in the plating inhibitor.
제5항에 있어서,
상기 도금하는 단계는,
상기 도금 방지제가 선택적으로 코팅된 피도금체를 300 ~ 650℃ 에서 용융 금속에 침지하여 도금하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
6. The method of claim 5,
The plating step is
Selective hot-dip plating method using an anti-plating agent, characterized in that the plating by immersing the object to be plated selectively coated with the anti-plating agent in molten metal at 300 ~ 650 ℃.
제6항에 있어서,
상기 용융 금속은 아연(Zn), 알루미늄(Al) 또는 마그네슘(Mg)을 포함하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
7. The method of claim 6,
The molten metal is a selective hot-dip plating method using a plating inhibitor, characterized in that it comprises zinc (Zn), aluminum (Al) or magnesium (Mg).
제1항에 있어서,
상기 도금 방지제를 제거하는 단계는,
상기 도금된 피도금체에서 상기 도금 방지제가 코팅된 부분을 제거하는 단계;
상기 도금 방지제가 제거된 피도금체를 수세하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
The method of claim 1,
The step of removing the plating inhibitor is,
removing the portion coated with the anti-plating agent from the plated body;
washing the object to be plated from which the plating inhibitor has been removed;
Selective hot-dip plating method using a plating inhibitor comprising a.
제8항에 있어서,
상기 제거하는 단계는,
상기 도금된 피도금체에 외부 충격을 가하거나, 긁어내어 상기 도금 방지제가 코팅된 부분을 제거하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제를 이용한 선택적 용융 도금 방법.
9. The method of claim 8,
The removing step is
Selective hot-dip plating method using an anti-plating agent, characterized in that removing the portion coated with the anti-plating agent by applying an external impact to the plated object to be plated or by scraping it.
삭제delete 철 산화물 2 ~ 50wt%, 알루미늄 산화물 20 ~ 70wt% 및 잔부 실리콘 산화물 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제.An anti-plating agent comprising 2 to 50 wt% of iron oxide, 20 to 70 wt% of aluminum oxide, and the remainder of silicon oxide and a solvent. 삭제delete 제11항에 있어서,
상기 철 산화물, 상기 알루미늄 산화물 및 상기 실리콘 산화물을 포함하는 혼합물과 용매의 제조 비율은 1 < 혼합물(g)/용매(ml) < 2.5 인 것을 특징으로 하는 도금 방지제.
12. The method of claim 11,
The preparation ratio of the mixture containing the iron oxide, the aluminum oxide, and the silicon oxide to the solvent is 1 < mixture (g)/solvent (ml) < 2.5.
제13항에 있어서,
마그네슘 산화물, 칼륨 산화물, 티타늄 산화물 및 구리 산화물 중 적어도 하나를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도금 방지제.
14. The method of claim 13,
Magnesium oxide, potassium oxide, titanium oxide, and at least one of copper oxide is characterized in that it further comprises an anti-plating agent.
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