KR102387646B1 - Bubble flotation sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles - Google Patents

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KR102387646B1
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김일호
이재엽
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한국건설기술연구원
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Abstract

The present invention provides a bubble floatation sterilization system using ultraviolet and ozone micro-bubbles having excellent sterilization efficiency against virus included in discharge water of a sewage treatment plant using ultraviolet and ozone micro-bubbles in order to solve a demerit of a single sterilization system in an ultraviolet sterilization method. The bubble floatation sterilization system using ultraviolet and ozone micro-bubbles for sterilizing virus in discharge water leaked from a sewage treatment plant comprises: a reaction chamber to introduce the discharge water and to flow out treated water and backwash water from which the virus is sterilized; an ultraviolet illuminator installed in the reaction chamber to illuminate ultraviolet ray to discharge water introduced in the reaction chamber; a spray nozzle for spraying ozone micro-bubbles inside the reaction chamber to generate OH radical in the discharge water by mutual reaction of the ozone micro-bubbles with the ultra violet illuminated from the ultraviolet illuminator; an ozone micro-bubble supply part to supply the ozone micro-bubble to the spray nozzle; a diffuse reflection part provided a side and a lower inner surface of the reaction chamber to diffuse-reflect the ultraviolet ray illuminated from the ultraviolet illuminator; a backwash nozzle to spray the backwash water inside the reaction chamber; and a backwash supply part to supply the backwash to the backwash nozzle.

Description

자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템{Bubble flotation sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles}Bubble flotation sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles

본 발명은 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 자외선과 오존 미세기포를 이용하여 하수처리장에서 유출된 방류수의 바이러스를 살균처리할 수 있는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles. It relates to a floating bubble sterilization system using

일반적으로, 하폐수의 살균법은 염소 살균법, 자외선 살균법, 오존 살균법이 있다.In general, sterilization of wastewater includes chlorine sterilization, ultraviolet sterilization, and ozone sterilization.

하폐수의 살균은 주로 염소에 의존하고 있었으나, 염소와 방류수의 유기물 간 상호반응으로 인해 발암물질인 THM(Trihalomethane)의 발생과 잔류염소로 인해 하류 및 하천의 생태계를 파괴하는 악영향을 끼치는 것으로 알려지면서 하폐수의 살균법으로부터 염소 살균법은 배제되기 시작하였다.The sterilization of wastewater relied mainly on chlorine. However, due to the interaction between chlorine and organic matter in the effluent, the generation of carcinogen THM (Trihalomethane) and residual chlorine are known to have adverse effects that destroy the ecosystem of downstream and rivers. Chlorine sterilization began to be excluded from the sterilization method of

염소 살균법의 단점으로 인해 염소 살균법을 대체하는 살균법인 자외선 살균법을 이용하는 자외선 살균장치는 물이 흐르는 수로에 수평으로 램프를 침지시켜 자외선 조사영역을 통과하는 물 속의 미생물을 살균하는 것이 특징이다.Due to the disadvantages of the chlorine sterilization method, the ultraviolet sterilization device using the ultraviolet sterilization method, which is a sterilization method that replaces the chlorine sterilization method, sterilizes the microorganisms in the water passing through the ultraviolet irradiation area by immersing the lamp horizontally in the water passage. .

자외선 살균법은 환경친화적인 장점이 있으며, 파장이 253.7 mm인 자외선을 이용함에 따라 미생물의 DNA를 파괴하여 미생물을 비활성화시키고, 적정 조사강도에서는 수초의 접촉시간으로도 살균이 가능하면서 설치가 용이하고 살균효율이 우수한 장점이 있다. 다만, 전체 처리 대상수의 수량이 매우 큰 하수 처리 내지 폐수 처리에는 다수의 자외선 램프가 필요하며, 탁도가 높은 경우에 자외선의 조사강도의 급감과 도달거리의 축소 및 자외선 램프를 감싸고 있는 석영관의 표면에 오염물질의 부착이 가속화되어 자외선에 의한 미생물의 살균효율이 급속히 떨어지는 단점이 있다.Ultraviolet sterilization has the advantage of being environmentally friendly, and by using ultraviolet rays with a wavelength of 253.7 mm, it inactivates microorganisms by destroying DNA of microorganisms. It has the advantage of excellent sterilization efficiency. However, a large number of UV lamps are required for sewage treatment or wastewater treatment with a very large amount of water to be treated. There is a disadvantage that the adhesion of contaminants to the surface is accelerated, and the sterilization efficiency of microorganisms by ultraviolet rays is rapidly reduced.

오존 살균법은 오존의 강한 산화력을 미생물의 살균에 이용하는 것으로서, 오존은 특유의 강한 산화력으로 용이하게 미생물의 세포벽을 파괴하여 미생물을 비활성화시킨다. 그러나 오존은 유기물과의 반응에서 미생물보다 앞서 반응을 하기 때문에 유기물이 다량 함유된 하수처리장 내지 폐수처리장 방류수에는 매우 높은 농도의 오존 주입율이 유지되어야 한다. 즉, 살균력은 우수하지만 고농도의 주입과 오존 발생장치의 운전 안정성이 미확보되어 대부분의 처리장에서 적용을 회피하고 있는 단점이 있다.The ozone sterilization method uses the strong oxidizing power of ozone to sterilize microorganisms, and ozone inactivates microorganisms by easily destroying the cell walls of microorganisms with its unique strong oxidizing power. However, since ozone reacts ahead of microorganisms in the reaction with organic matter, a very high ozone injection rate must be maintained in sewage treatment plant or wastewater treatment plant effluent containing a large amount of organic matter. That is, although the sterilization power is excellent, there is a disadvantage of avoiding application in most treatment plants because high concentration injection and operation stability of the ozone generator are not secured.

상기 하폐수의 살균법은 각각의 장단점을 가지고 있으나, 이중 자외선 살균법이 가장 많이 적용되고 있는 실정이다.Although the sterilization method of the wastewater has advantages and disadvantages, among them, the ultraviolet sterilization method is the most applied.

그러나 상기와 같이, 자외선 살균법은 미생물의 살균효율이 떨어지는 단점이 있으므로, 이러한 단점을 보완할 수 있는 하폐수의 살균법의 적용이 필요하다.However, as described above, since the ultraviolet sterilization method has a disadvantage in that the sterilization efficiency of microorganisms is lowered, it is necessary to apply a sterilization method for wastewater that can compensate for this disadvantage.

대한민국 등록특허공보 제10-2036332호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2036332

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 자외선 살균법 단독의 살균시스템의 단점을 보완하기 위해 자외선 및 오존 미세기포를 이용하여 하수처리장의 방류수에 존재하는 바이러스에 대한 우수한 살균효율을 갖는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템을 제공하는데 목적이 있다.Therefore, the present invention has been devised to solve the above problems, and in order to compensate for the disadvantages of the sterilization system using the ultraviolet sterilization method alone, it uses ultraviolet rays and ozone microbubbles to provide excellent sterilization of viruses present in the effluent of a sewage treatment plant. An object of the present invention is to provide a bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles with efficiency.

또한, 본 발명은 방류수의 처리과정동안 자외선 조사기에 부착되는 오염물질을 제거하여 살균효율을 최적의 상태로 유지할 수 있는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템을 제공하는데 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles that can maintain sterilization efficiency in an optimal state by removing contaminants adhering to the ultraviolet irradiator during the treatment of effluent.

다만, 본 발명에서 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the technical problems to be achieved in the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned are clearly to those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the description below. can be understood

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템은, 하수처리장에서 유출되는 방류수의 바이러스를 살균하기 위한 살균시스템에 있어서, 상기 방류수의 유입, 상기 바이러스가 살균된 처리수 및 역세수의 유출이 이루어지는 반응챔버; 상기 반응챔버 내에 구비되어 상기 반응챔버에 유입되는 방류수에 자외선을 조사하는 자외선 조사기; 상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선과 상호반응에 의해 상기 방류수에 OH라디칼이 생성되도록 하기 위한 오존 미세기포를 상기 반응챔버의 내부에 분사하는 분사노즐; 상기 오존 미세기포를 상기 분사노즐에 공급하는 오존 미세기포 공급부; 상기 반응챔버의 측부 및 하부 내면에 구비되어 상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선을 난반사시키는 난반사부; 상기 역세수를 상기 반응챔버의 내부에 분사하는 역세노즐; 및 상기 역세수를 상기 역세노즐에 공급하는 역세수 공급부;를 포함할 수 있다.As a technical means for achieving the above object, the bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles according to an embodiment of the present invention is a sterilization system for sterilizing viruses in effluent discharged from a sewage treatment plant. , a reaction chamber in which the inflow of the effluent, the virus-sterilized treated water and the backwashing water are discharged; an ultraviolet irradiator provided in the reaction chamber to irradiate ultraviolet rays to the effluent flowing into the reaction chamber; an injection nozzle for injecting ozone microbubbles into the reaction chamber so that OH radicals are generated in the effluent by interaction with the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiator; an ozone microbubble supply unit for supplying the ozone microbubbles to the injection nozzle; a diffuse reflector provided on the side and lower inner surfaces of the reaction chamber to diffusely reflect the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiator; a backwash nozzle for spraying the backwashing water into the reaction chamber; and a backwash water supply unit supplying the backwashing water to the backwashing nozzle.

또한, 상기 난반사부는, 상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선이 난반사되도록, 산과 골을 구비하는 지그재그형의 거울일 수 있다.In addition, the diffuse reflection unit may be a zigzag mirror having mountains and valleys so that the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet ray irradiator are diffusely reflected.

그리고 상기 역세노즐은, 상기 반응챔버의 상부에 결합되며, 일방향으로 회전되면서 신장되거나 타방향으로 회전되면서 신축되는동안 상기 역세수를 상기 반응챔버 내부에 분사할 수 있다.The backwash nozzle may be coupled to the upper portion of the reaction chamber, and may spray the backwashing water into the reaction chamber while it is extended while rotating in one direction or expanded and contracted while rotating in the other direction.

또한, 상기 분사노즐은, 상기 자외선 조사기에서 자외선이 투과되도록 하는 석영관과 이격되되, 상기 석영관을 둘러싸는 형태로 배치되어 상기 석영관과의 이격공간에 오존 미세기포를 분사하여 상기 이격공간에 우선적으로 OH라디칼이 생성되도록 할 수 있다.In addition, the injection nozzle is spaced apart from a quartz tube through which ultraviolet rays are transmitted in the ultraviolet irradiator, and is disposed to surround the quartz tube and sprays ozone microbubbles into the space spaced apart from the quartz tube to the spaced space. It is possible to preferentially generate OH radicals.

그리고 상기 살균시스템은, 상기 반응챔버의 상부에 결합되며, 일방향의 회전동안 상측으로 이동하거나 타방향의 회전동안 하측으로 이동하여 상기 자외선 조사기가 중심부를 관통할 때, 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질을 세정하는 세정부;를 더 포함할 수 있다.And the sterilization system is coupled to the upper part of the reaction chamber, and moves upward during rotation in one direction or moves downward during rotation in the other direction so that when the UV irradiator passes through the center, it is attached to the outside of the UV irradiator. It may further include; a cleaning unit for cleaning contaminants.

또한, 상기 세정부는, 상기 반응챔버의 상부와 결합되며, 상기 일방향으로 회전하면서 신축 또는 상기 타방향으로 신장되는 회전축; 상기 회전축에 의해 상기 일방향으로 회전하면서 상측 또는 상기 타방향으로 회전하면서 하측으로 이동하며, 상기 자외선 조사기가 관통되도록 하기 위한 관통구가 중심부에 형성되는 회전프레임; 및 상기 자외선 조사기가 상기 관통구를 관통할 때, 상기 자외선 조사기의 외측을 둘러싸면서 접촉되도록 상기 관통구의 내면에 복수로 구비되며, 상기 회전프레임의 상기 일방향 또는 상기 타방향 회전을 통해 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질을 세정하는 세정솔;을 포함할 수 있다.In addition, the cleaning unit may include a rotating shaft coupled to the upper portion of the reaction chamber and extending and contracting while rotating in the one direction or extending in the other direction; a rotating frame that moves upward while rotating in the one direction by the rotating shaft or downward while rotating in the other direction, and having a through hole formed in the center to allow the ultraviolet irradiator to pass therethrough; and a plurality of UV irradiators are provided on the inner surface of the through-holes so as to surround and contact the outside of the UV irradiator when the UV irradiator passes through the through-hole, and through the rotation of the rotating frame in the one direction or the other direction of the UV irradiator It may include; a cleaning brush for cleaning the contaminants attached to the outside.

그리고 상기 세정부는, 상기 반응챔버 내에서 상기 방류수의 처리가 완료된 후에 역세과정 전까지 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질에 세정할 수 있다.In addition, the cleaning unit may clean the contaminants attached to the outside of the UV irradiator after the treatment of the effluent in the reaction chamber is completed and before the backwashing process.

또한, 상기 오존 미세기포 공급부는, 상기 반응챔버에서 상기 처리수가 생성되기 전인 경우, 유체공급부와 연결되는 제1 바이패스관을 통해 공급받는 유체를 이용하여 오존 미세기포를 생성하고, 상기 반응챔버에서 상기 처리수가 생성되는 경우, 상기 반응챔버로부터 상기 처리수를 유출시키기 위한 처리수유출관과 연결되는 제2 바이패스관을 통해 공급받는 처리수의 일부를 이용하여 오존 미세기포를 생성할 수 있다.In addition, the ozone microbubble supply unit generates ozone microbubbles using the fluid supplied through the first bypass pipe connected to the fluid supply unit before the treatment water is generated in the reaction chamber, and in the reaction chamber When the treated water is generated, ozone microbubbles may be generated using a portion of the treated water supplied through the second bypass pipe connected to the treated water outlet pipe for discharging the treated water from the reaction chamber.

본 발명에 따르면, 자외선과 오존 미세기포를 이용하여 자외선 살균법 단독의 살균시스템의 단점을 보완함으로써, 하수처리장의 방류수 살균효율이 향상될 수 있다.According to the present invention, the sterilization efficiency of effluent from a sewage treatment plant can be improved by supplementing the disadvantages of the sterilization system using the ultraviolet sterilization method alone using ultraviolet rays and ozone microbubbles.

또한, 본 발명에 따르면, 자외선 조사기에 부착된 오염물질을 제거하여 방류수 살균효율을 최적의 상태로 유지할 수 있다.In addition, according to the present invention, it is possible to maintain the effluent sterilization efficiency in an optimal state by removing the contaminants attached to the ultraviolet irradiator.

다만, 본 발명에서 얻을 수 있는 효과는 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급하지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the effects obtainable in the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those of ordinary skill in the art to which the present invention belongs from the following description. will be able

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템의 개략적인 설명도이다.
도 2는 도 1에 도시된 분사노즐의 오존 미세기포 분사방식을 설명하기 위한 개략적인 설명도이다.
도 3은 도 1에 도시된 세정부의 오염물질 세정방식을 설명하기 위한 개략적인 설명도이다.
1 is a schematic explanatory view of a bubble floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic explanatory view for explaining the ozone microbubble injection method of the injection nozzle shown in FIG. 1 .
FIG. 3 is a schematic explanatory view for explaining a method for cleaning contaminants of the cleaning unit shown in FIG. 1 .

이하에서는, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명에 관한 설명은 구조적 내지 기능적 설명을 위한 실시예에 불과하므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, embodiments of the present invention will be described in detail so that those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains can easily implement them. However, since the description of the present invention is merely an embodiment for structural or functional description, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiment described in the text. That is, since the embodiment may have various changes and may have various forms, it should be understood that the scope of the present invention includes equivalents capable of realizing the technical idea. In addition, since the object or effect presented in the present invention does not mean that a specific embodiment should include all of them or only such effects, it should not be understood that the scope of the present invention is limited thereby.

본 발명에서 서술되는 용어의 의미는 다음과 같이 이해되어야 할 것이다.The meaning of the terms described in the present invention should be understood as follows.

"제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위한 것으로, 이들 용어들에 의해 권리범위가 한정되어서는 아니 된다. 예를 들어, 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결될 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다고 언급된 때에는 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 한편, 구성요소들 간의 관계를 설명하는 다른 표현들, 즉 "~사이에"와 "바로 ~사이에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.Terms such as “first” and “second” are for distinguishing one component from another, and the scope of rights should not be limited by these terms. For example, a first component may be termed a second component, and similarly, a second component may also be termed a first component. When a component is referred to as being “connected to” another component, it may be directly connected to the other component, but it should be understood that other components may exist in between. On the other hand, when it is mentioned that a certain element is "directly connected" to another element, it should be understood that the other element does not exist in the middle. Meanwhile, other expressions describing the relationship between elements, that is, "between" and "between" or "neighboring to" and "directly adjacent to", etc., should be interpreted similarly.

단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한 복수의 표현을 포함하는 것으로 이해되어야 하고, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이며, 하나 또는 그 이상의 다른 특징이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The singular expression is to be understood to include the plural expression unless the context clearly dictates otherwise, and terms such as "comprise" or "have" are not intended to refer to the specified feature, number, step, action, component, part or any of them. It is intended to indicate that a combination exists, and it should be understood that it does not preclude the possibility of the existence or addition of one or more other features or numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 한 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.All terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs, unless otherwise defined. Terms defined in the dictionary should be interpreted as being consistent with the meaning of the context of the related art, and cannot be interpreted as having an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in the present invention.

이하에서는, 첨부된 도면들을 참조하여 바람직한 실시예의 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템(이하에서는 '살균시스템')에 대해 자세히 설명하도록 하겠다.Hereinafter, a bubble floating sterilization system (hereinafter, 'sterilization system') using ultraviolet and ozone microbubbles of a preferred embodiment will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 살균시스템은 하수처리장에서 유출되는 방류수를 살균처리함과 동시에 방류수의 살균효율을 유지하기 위해 반응챔버(10), 자외선 조사기(20), 분사노즐(30), 오존 미세기포 공급부(40), 난반사부(50), 역세노즐(60), 역세수 공급부(70), 세정부(80) 및 유체공급부(90)를 포함한다.1 to 3, the sterilization system sterilizes the effluent discharged from the sewage treatment plant and at the same time maintains the sterilization efficiency of the effluent, the reaction chamber 10, the ultraviolet irradiator 20, the spray nozzle 30, It includes an ozone microbubble supply unit 40 , a diffuse reflection unit 50 , a backwash nozzle 60 , a backwash water supply unit 70 , a washing unit 80 , and a fluid supply unit 90 .

반응챔버(10)는 하수처리장에서 유출되는 방류수의 유입을 위한 방류수유입관(11)이 일측부에 구비되며, 자외선과 오존 미세기포(오존)의 상호반응에 의해 바이러스가 살균된 처리수의 유출을 위한 처리수유출관(12)이 타측부에 구비되고, 반응챔버(10)의 내부 역세에 이용되는 역세수의 유출을 위한 역세수유출관(13)이 하부에 구비된다.The reaction chamber 10 is provided with a effluent inlet pipe 11 for inflow of effluent discharged from the sewage treatment plant on one side, and the outflow of treated water in which the virus is sterilized by the interaction between ultraviolet rays and ozone microbubbles (ozone). A treated water outlet pipe 12 for

자외선 조사기(20)는 반응챔버(10)에서 자외선 고도산화처리 공정(Advanced Oxidation Process, AOP)에 의한 방류수의 바이러스 살균이 이루어지도록 하기 위해 자외선 램프(21), 석영관(22), 소켓(23) 및 케이블(24)을 포함한다.The ultraviolet irradiator 20 includes an ultraviolet lamp 21, a quartz tube 22, and a socket 23 in order to sterilize the virus of the effluent by the ultraviolet Advanced Oxidation Process (AOP) in the reaction chamber 10 . ) and a cable 24 .

자외선 램프(21)는 분사노즐(30)에서 분사될 오존 미세기포와 상호반응을 일으킬 자외선(Ultraviolet, UV)을 반응챔버(310) 내로 조사한다.The ultraviolet lamp 21 irradiates ultraviolet (Ultraviolet, UV) to cause interaction with the ozone microbubbles to be sprayed from the injection nozzle 30 into the reaction chamber 310 .

석영관(22)은 자외선 램프(21)를 감싸 보호하며, 자외선 램프(21)로부터 반응챔버(10) 내로 조사되는 자외선을 투과(굴절)시키기 위한 석영 재질로 이루어진다.The quartz tube 22 surrounds and protects the ultraviolet lamp 21 , and is made of a quartz material for transmitting (refracting) ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet lamp 21 into the reaction chamber 10 .

여기서, 석영관(22)의 투과는 자외선 램프(21)로부터 조사되는 자외선이 반응챔버(10) 내의 전체 영역으로 확산되도록 하기 위한 확산투과일 수 있으며, 이러한 자외선 확산투과에 따라 반응챔버(10) 내에서는 자외선과 오존미세기포의 상호반응 효율이 향상되어 OH라디칼의 생성이 극대화됨에 따라, 반응챔버(10) 내에서는 바이러스 및 난분해성 유기물질의 제거가 용이하게 이루어질 수 있다.Here, the transmission of the quartz tube 22 may be diffusion transmission for allowing the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet lamp 21 to be diffused to the entire area within the reaction chamber 10, and according to this ultraviolet diffusion transmission, the reaction chamber 10 As the interaction efficiency of ultraviolet rays and ozone microbubbles is improved in the inside, the generation of OH radicals is maximized, viruses and difficult-to-decompose organic substances can be easily removed in the reaction chamber 10 .

소켓(23)은 자외선 램프(21)에 전기를 공급하기 위한 투입구이면서, 자외선 램프(21)의 끝단 및 석영관(22)의 끝단과 결합되어 반응챔버(10) 내에 유입되는 방류수로부터 자외선 램프(21) 및 석영관(22)을 지지한다.The socket 23 is an inlet for supplying electricity to the ultraviolet lamp 21, and is coupled to the end of the ultraviolet lamp 21 and the end of the quartz tube 22, and from the effluent flowing into the reaction chamber 10, the ultraviolet lamp ( 21) and the quartz tube 22 are supported.

케이블(24)은 소켓(23)의 일측을 관통하며, 자외선 램프(21)와 연결되어 전기공급 회로를 구성함으로써, 자외선 램프(21)에 전기를 공급하여 자외선 램프(21)로부터 자외선이 조사되도록 한다.The cable 24 passes through one side of the socket 23 , and is connected to the UV lamp 21 to constitute an electricity supply circuit, thereby supplying electricity to the UV lamp 21 so that UV rays are irradiated from the UV lamp 21 . do.

분사노즐(30)은 반응챔버(10)에서 자외선 고도산화처리 공정에 의한 방류수의 바이러스 살균이 이루어지도록 하기 위해 오존 미세기포를 반응챔버(10) 내에 분사한다.The injection nozzle 30 injects ozone microbubbles into the reaction chamber 10 in order to sterilize the virus of the effluent by the UV advanced oxidation treatment process in the reaction chamber 10 .

이러한 분사노즐(30)이 오존 미세기포를 분사함에 따라, 방류수의 미생물이나 유기물 등의 바이러스는 오존 미세기포와 물의 계면에 부착되는 액적효과에 따라 오존 미세기포에 의해 수면으로 부상되어 제거될 수 있다.As the spray nozzle 30 sprays the ozone microbubbles, viruses such as microorganisms or organic matter in the effluent are floated to the surface by the ozone microbubbles according to the droplet effect attached to the interface between the ozone microbubbles and water and can be removed.

또한, 분사노즐(30)은 오존 미세기포를 분사하여 반응챔버(10) 내에서 자외선과의 상호반응에 의해 OH라디칼이 생성되도록 한다.In addition, the injection nozzle 30 injects ozone microbubbles to generate OH radicals by interaction with ultraviolet rays in the reaction chamber 10 .

그리고 분사노즐(30)은 도 2에 도시된 바와 같이 석영관(22)과 이격되되, 석영관(22)을 둘러싸는 형태로 배치되어 석영관(22)과의 이격공간(A)에 우선적으로 오존 미세기포를 분사함에 따라, 석영관(22)과의 이격공간(A)에 우선적으로 OH라디칼이 생성되도록 한다.And the injection nozzle 30 is spaced apart from the quartz tube 22, as shown in FIG. 2, is disposed in a form surrounding the quartz tube 22, preferentially in the space A separated from the quartz tube 22 As ozone microbubbles are sprayed, OH radicals are preferentially generated in the space A separated from the quartz tube 22 .

이에, 반응챔버(10)는 분사노즐(30)과 석영관(22)의 이격공간(A)의 부근에서 우선적으로 OH라디칼이 생성될 수 있으며, 그 후에는 자외선과 오존 미세기포가 확산되어 반응챔버(10) 내의 전체 방류수에 OH라디칼이 생성되어 바이러스의 살균이 이루어질 수 있다.Accordingly, in the reaction chamber 10, OH radicals may be preferentially generated in the vicinity of the separation space A between the injection nozzle 30 and the quartz tube 22, and thereafter, ultraviolet and ozone microbubbles are diffused and reacted. OH radicals are generated in the entire effluent in the chamber 10 to sterilize the virus.

또한, 이격공간(A)은 우선적으로 OH라디칼이 생성되는 공간일 뿐만 아니라, 세정부(80)가 반응챔버(10)의 하부를 향해 하측으로 이동될 수 있도록 하는 공간이기도 하다.In addition, the separation space A is not only a space in which OH radicals are preferentially generated, but also a space in which the cleaning unit 80 can be moved downward toward the lower portion of the reaction chamber 10 .

오존 미세기포 공급부(40)는 분사노즐(30)에 오존 미세기포를 공급하기 위해 분사노즐(30)과 연결되는 오존 미세기포 공급관(41)을 구비한다.The ozone microbubble supply unit 40 is provided with an ozone microbubble supply pipe 41 connected to the jetting nozzle 30 in order to supply ozone microbubbles to the jetting nozzle 30 .

이러한 오존 미세기포 공급부(40)는 살균시스템에서의 수처리가 이루어졌는지 여부에 따라 다른 방식으로 오존 미세기포를 생성한다.The ozone microbubble supply unit 40 generates ozone microbubbles in a different way depending on whether the water treatment in the sterilization system is performed.

만약, 반응챔버(10)에서 바이러스가 살균된 처리수가 생성되기 전인 경우, 오존 미세기포 공급부(40)는 유체공급부(90)와 연결되는 제1 바이패스관(91)을 통해 공급받는 유체를 이용하여 오존과 공기가 용존된 오존 미세기포를 생성할 수 있다.If, before the virus-sterilized treated water is generated in the reaction chamber 10 , the ozone microbubble supply unit 40 uses the fluid supplied through the first bypass pipe 91 connected to the fluid supply unit 90 . This can create ozone microbubbles in which ozone and air are dissolved.

이와 달리, 반응챔버(10)에서 처리수가 생성되는 경우, 오존 미세기포 공급부(40)는 처리수유출관(12)과 연결되는 제2 바이패스관(100)을 통해 공급받는 처리수의 일부를 이용하여 오존과 공기가 용존된 오존 미세기포를 생성할 수 있다.In contrast, when the treated water is generated in the reaction chamber 10 , the ozone microbubble supply unit 40 uses a portion of the treated water supplied through the second bypass pipe 100 connected to the treated water outlet pipe 12 . This can create ozone microbubbles in which ozone and air are dissolved.

또한, 오존 미세기포 공급부(40)는 저온 및 고압에서 오존이 용해된 과포화 오존수에서 기포를 발생시켜 오존 미세기포를 생성하며, 온도 및 압력의 조절을 통해 오존 미세기포의 량과 크기를 조절한 후에 분사노즐(30)에 공급할 수 있다.In addition, the ozone microbubble supply unit 40 generates ozone microbubbles by generating bubbles in supersaturated ozone water in which ozone is dissolved at low temperature and high pressure, and after adjusting the amount and size of ozone microbubbles through temperature and pressure control It can be supplied to the injection nozzle (30).

난반사부(50)는 석영관(22)으로부터 확산투과되는 자외선을 반응챔버(10) 내에서 난반사시키기 위해 반응챔버(10)의 측부 및 하부 내면에 구비된다.The diffuse reflector 50 is provided on the side and lower inner surfaces of the reaction chamber 10 to diffusely reflect the ultraviolet rays diffusely transmitted from the quartz tube 22 in the reaction chamber 10 .

또한, 난반사부(50)는 자외선의 난반사가 이루어지도록 하기 위해 산(51)과 골(52)이 복수로 구비되는 지그재그형의 거울로 이루어질 수 있다.In addition, the diffuse reflection unit 50 may be formed of a zigzag mirror in which a plurality of mountains 51 and valleys 52 are provided in order to achieve diffuse reflection of ultraviolet rays.

역세노즐(60)은 역세수 공급부(70)로부터 공급받는 역세수를 반응챔버(10)의 내부에 분사한다.The backwash nozzle 60 injects backwash water supplied from the backwash water supply unit 70 into the reaction chamber 10 .

또한, 역세노줄(60)은 반응챔버(10)의 상부에 결합되며, 일방향으로 회전되면서 신장되거나 타방향으로 회전되면서 신축되는동안 역세수를 반응챔버(10)의 내부에 분사하여 반응챔버(10)의 내면, 자외선 조사기(20), 분사노즐(30) 및 난분사부(50)의 역세가 이루어지도록 한다.In addition, the backwash nozzle 60 is coupled to the upper portion of the reaction chamber 10, and is rotated in one direction to expand and contract while rotating in the other direction by spraying backwashing water into the reaction chamber 10 to the reaction chamber ( 10) backwashing of the inner surface, the ultraviolet irradiator 20 , the spray nozzle 30 and the non-jet part 50 .

이러한 역세노즐(60)은 신장 및 신축이 가능함에 따라 도 1에 도시된 것보다 반응챔버(10)의 상부를 향해 상측이동 또는 반응챔버(10)의 하부를 향해 하측이동되는 것이 가능하며, 여기서 하측이동은 분사노즐(30)의 파손을 방지하기 위해 분사노즐(30)과 접촉되기 전까지 이루어지는 것이 바람직하다.This backwashing nozzle 60 can be moved upwards toward the upper portion of the reaction chamber 10 or downward toward the lower portion of the reaction chamber 10 than shown in FIG. 1 as it can be stretched and contracted, where The downward movement is preferably made until it comes into contact with the injection nozzle 30 in order to prevent damage to the injection nozzle 30 .

역세수 공급부(70)는 역세노즐(60)에 역세수를 공급하기 위해 역세노즐(60)과 연결되는 역세수 공급관(71)을 구비한다.The backwash water supply unit 70 includes a backwash water supply pipe 71 connected to the backwash nozzle 60 to supply backwash water to the backwash nozzle 60 .

세정부(80)는 도 3에 도시된 바와 같이, 방류수의 바이러스 살균 과정동안 석영관(22)의 외주연에 부착되는 오염물질을 세정하기 위해 회전축(81), 회전프레임(82) 및 세정솔(83)을 포함한다.As shown in FIG. 3 , the cleaning unit 80 includes a rotating shaft 81 , a rotating frame 82 and a cleaning brush ( 83).

회전축(81)은 반응챔버(10)의 상부와 결합되며, 일방향으로 회전하면서 신축 또는 타방향으로 회전하면서 신장된다.The rotating shaft 81 is coupled to the upper portion of the reaction chamber 10 and expands and contracts while rotating in one direction or extended while rotating in the other direction.

회전프레임(82)은 회전축(81)과 연결되어 회전축(81)에 의해 일방향으로 회전하면서 상측 또는 타방향으로 회전하면서 하측으로 이동하며, 석영관(22)이 관통되도록 하기 위한 관통구(82a)가 중심부에 형성된다.The rotating frame 82 is connected to the rotating shaft 81 and rotates in one direction by the rotating shaft 81 while rotating upward or downward while rotating in the other direction, and a through hole 82a for allowing the quartz tube 22 to pass therethrough. is formed in the center.

세정솔(83)은 회전프레임(82)의 상하이동에 따라 석영관(22)이 관통구(82a)를 관통할 때, 석영관(22)의 외측을 둘러싸면서 접촉되기 위해 관통구(82a)의 내면에 복수로 구비된다.When the quartz tube 22 passes through the through hole 82a according to the vertical movement of the rotating frame 82 , the cleaning brush 83 surrounds the outside of the quartz tube 22 and is in contact with the through hole 82a. It is provided in plurality on the inside.

또한, 세정솔(83)은 회전프레임(82)의 일방향 또는 타방향의 회전을 통해 석영관(22)의 외주연에 부착된 오염물질에 압력을 가하여 오염물질을 세정한다.In addition, the cleaning brush 83 cleans the contaminants by applying pressure to the contaminants attached to the outer periphery of the quartz tube 22 through rotation of the rotating frame 82 in one direction or the other direction.

그리고 세정솔(83)은 오염물질의 세정에 용이한 소수성 소재(예: 메탈릴트리메틸실란, 알릴트리메틸실란, 비닐트리메틸실란 등) 또는 엘라스토머 소재(예: 스티렌계, PVC계, 폴리아미드계, 폴리에스터계 등) 등으로 이루어질 수 있다.In addition, the cleaning brush 83 is a hydrophobic material (eg, methallyltrimethylsilane, allyltrimethylsilane, vinyltrimethylsilane, etc.) or an elastomer material (eg, styrene-based, PVC-based, polyamide-based, polyester) that is easy to clean contaminants. system, etc.), and the like.

더 나아가, 세정솔(83)은 석영관(22)의 세정을 통해 석영관(22)에 부착되어 반응챔버(10) 내에 잔존하게 되는 난분해성 유기물질의 제거가 가능하며, 이를 통해 자외선 조사기(20)의 교체시기를 늦춰 살균시스템의 자외선 고도산화처리 공정 비용을 절감할 수 있다.Furthermore, the cleaning brush 83 is attached to the quartz tube 22 through the cleaning of the quartz tube 22 and it is possible to remove the hardly decomposable organic material remaining in the reaction chamber 10, through which the ultraviolet irradiator 20 ), it is possible to reduce the cost of the advanced UV oxidation treatment process of the sterilization system by delaying the replacement time.

상술한 바와 같이 개시된 본 발명의 바람직한 실시예들에 대한 상세한 설명은 당업자가 본 발명을 구현하고 실시할 수 있도록 제공되었다. 상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 본 발명의 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. 예를 들어, 당업자는 상술한 실시예들에 기재된 각 구성을 서로 조합하는 방식으로 이용할 수 있다. 따라서, 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최광의 범위를 부여하려는 것이다.The detailed description of the preferred embodiments of the present invention disclosed as described above is provided to enable any person skilled in the art to make and practice the present invention. Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made to the present invention without departing from the scope of the present invention. For example, those skilled in the art can use each configuration described in the above-described embodiments in a way in combination with each other. Accordingly, the present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein.

본 발명은 본 발명의 정신 및 필수적 특징을 벗어나지 않는 범위에서 다른 특정한 형태로 구체화될 수 있다. 따라서, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니 되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다. 본 발명은 여기에 나타난 실시형태들에 제한되려는 것이 아니라, 여기서 개시된 원리들 및 신규한 특징들과 일치하는 최광의 범위를 부여하려는 것이다. 또한, 특허청구범위에서 명시적인 인용 관계가 있지 않은 청구항들을 결합하여 실시예를 구성하거나 출원 후의 보정에 의해 새로운 청구항으로 포함할 수 있다.The present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit and essential characteristics of the present invention. Accordingly, the above detailed description should not be construed as restrictive in all respects but as exemplary. The scope of the present invention should be determined by a reasonable interpretation of the appended claims, and all modifications within the equivalent scope of the present invention are included in the scope of the present invention. The present invention is not intended to be limited to the embodiments shown herein but is to be accorded the widest scope consistent with the principles and novel features disclosed herein. In addition, claims that are not explicitly cited in the claims may be combined to form an embodiment, or may be included as new claims by amendment after filing.

10: 반응챔버, 11: 방류수유입관,
12: 처리수유출관, 13: 역세수유출관,
20: 자외선 조사기, 21: 자외선 램프,
22: 석영관, 23: 소켓,
24: 케이블, 30: 분사노즐,
40: 오존 미세기포 공급부, 41: 오존 미세기포 공급관,
50: 난분사부, 51: 산,
52: 골, 60: 역세노즐,
70: 역세수 공급부, 71: 역세수 공급관,
80: 세정부, 81: 회전축,
82: 회전프레임, 82a: 관통구,
83: 세정솔, 90: 유체공급부,
91: 제1 바이패스관, 100: 제2 바이패스관.
10: reaction chamber, 11: discharge water inlet pipe,
12: treated water outflow pipe, 13: backwash water outflow pipe,
20: ultraviolet irradiator, 21: ultraviolet lamp,
22: quartz tube, 23: socket,
24: cable, 30: spray nozzle,
40: ozone microbubble supply unit, 41: ozone microbubble supply pipe,
50: difficult ejection part, 51: acid,
52: goal, 60: backwash nozzle,
70: backwash water supply unit, 71: backwash water supply pipe,
80: cleaning unit, 81: rotating shaft,
82: rotating frame, 82a: through hole,
83: cleaning brush, 90: fluid supply,
91: a first bypass tube, 100: a second bypass tube.

Claims (8)

하수처리장에서 유출되는 방류수의 바이러스를 살균하기 위한 살균시스템에 있어서,
상기 방류수의 유입, 상기 바이러스가 살균된 처리수 및 역세수의 유출이 이루어지는 반응챔버;
상기 반응챔버 내에 구비되어 상기 반응챔버에 유입되는 방류수에 자외선을 조사하는 자외선 조사기;
상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선과 상호반응에 의해 상기 방류수에 OH라디칼이 생성되도록 하기 위한 오존 미세기포를 상기 반응챔버의 내부에 분사하는 분사노즐;
상기 오존 미세기포를 상기 분사노즐에 공급하는 오존 미세기포 공급부;
상기 반응챔버의 측부 및 하부 내면에 구비되어 상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선을 난반사시키는 난반사부;
상기 역세수를 상기 반응챔버의 내부에 분사하는 역세노즐; 및
상기 역세수를 상기 역세노즐에 공급하는 역세수 공급부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
In the sterilization system for sterilizing viruses in effluent discharged from a sewage treatment plant,
a reaction chamber in which the inflow of the effluent, the virus-sterilized treated water and the backwashing water are discharged;
an ultraviolet irradiator provided in the reaction chamber to irradiate ultraviolet rays to the effluent flowing into the reaction chamber;
an injection nozzle for injecting ozone microbubbles into the reaction chamber so that OH radicals are generated in the effluent by interaction with the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiator;
an ozone microbubble supply unit for supplying the ozone microbubbles to the injection nozzle;
a diffuse reflector provided on the side and lower inner surfaces of the reaction chamber to diffusely reflect the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiator;
a backwash nozzle for spraying the backwashing water into the reaction chamber; and
A bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, comprising: a backwash water supply unit that supplies the backwashing water to the backwashing nozzle.
제 1 항에 있어서,
상기 난반사부는,
상기 자외선 조사기로부터 조사되는 자외선이 난반사되도록, 산과 골을 구비하는 지그재그형의 거울인 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
The method of claim 1,
The diffuse reflector,
Bubble floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, characterized in that it is a zigzag mirror having mountains and valleys so that the ultraviolet rays irradiated from the ultraviolet irradiator are diffusely reflected.
제 1 항에 있어서,
상기 역세노즐은,
상기 반응챔버의 상부에 결합되며, 일방향으로 회전되면서 신장되거나 타방향으로 회전되면서 신축되는 동안 상기 역세수를 상기 반응챔버 내부에 분사하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
The method of claim 1,
The backwashing nozzle is
A bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, which is coupled to the upper portion of the reaction chamber and sprays the backwashing water into the reaction chamber while it is extended while rotating in one direction or expanded and contracted while rotating in the other direction. .
제 1 항에 있어서,
상기 분사노즐은,
상기 자외선 조사기에서 자외선이 투과되도록 하는 석영관과 이격되되, 상기 석영관을 둘러싸는 형태로 배치되어 상기 석영관과의 이격공간에 오존 미세기포를 분사하여 상기 이격공간에 우선적으로 OH라디칼이 생성되도록 하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
The method of claim 1,
The spray nozzle is
The ultraviolet irradiator is spaced apart from a quartz tube through which ultraviolet rays are transmitted, and is disposed to surround the quartz tube so that ozone microbubbles are sprayed into the space spaced apart from the quartz tube so that OH radicals are preferentially generated in the space spaced apart. Bubble floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, characterized in that
제 1 항에 있어서,
상기 살균시스템은,
상기 반응챔버의 상부에 결합되며, 일방향의 회전동안 상측으로 이동하거나 타방향의 회전동안 하측으로 이동하여 상기 자외선 조사기가 중심부를 관통할 때, 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질을 세정하는 세정부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
The method of claim 1,
The sterilization system is
It is coupled to the upper part of the reaction chamber, and moves upward during rotation in one direction or moves downward during rotation in the other direction to clean contaminants attached to the outside of the UV irradiator when the UV irradiator passes through the center. Government; bubble floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, characterized in that it further comprises.
제 5 항에 있어서,
상기 세정부는,
상기 반응챔버의 상부와 결합되며, 상기 일방향으로 회전하면서 신축 또는 상기 타방향으로 신장되는 회전축;
상기 회전축에 의해 상기 일방향으로 회전하면서 상측 또는 상기 타방향으로 회전하면서 하측으로 이동하며, 상기 자외선 조사기가 관통되도록 하기 위한 관통구가 중심부에 형성되는 회전프레임; 및
상기 자외선 조사기가 상기 관통구를 관통할 때, 상기 자외선 조사기의 외측을 둘러싸면서 접촉되도록 상기 관통구의 내면에 복수로 구비되며, 상기 회전프레임의 상기 일방향 또는 상기 타방향 회전을 통해 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질을 세정하는 세정솔;을 포함하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
6. The method of claim 5,
The cleaning unit,
a rotation shaft coupled to the upper portion of the reaction chamber and extending or contracting while rotating in the one direction or extending in the other direction;
a rotating frame that moves upward while rotating in the one direction by the rotation shaft or downward while rotating in the other direction, and a through hole for allowing the ultraviolet irradiator to pass therethrough is formed in the center; and
When the ultraviolet irradiator passes through the through hole, a plurality of are provided on the inner surface of the through hole so as to surround and contact the outside of the ultraviolet irradiator, and the outer side of the ultraviolet irradiator through the rotation of the rotating frame in the one direction or the other direction A bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, including a cleaning brush that cleans contaminants attached to the .
제 5 항에 있어서,
상기 세정부는,
상기 반응챔버 내에서 상기 방류수의 처리가 완료된 후에 역세과정 전까지 상기 자외선 조사기의 외측에 부착된 오염물질을 세정하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
6. The method of claim 5,
The cleaning unit,
A bubble-floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, characterized in that after the treatment of the effluent in the reaction chamber is completed, the contaminants attached to the outside of the ultraviolet irradiator are cleaned before the backwashing process.
제 1 항에 있어서,
상기 오존 미세기포 공급부는,
상기 반응챔버에서 상기 처리수가 생성되기 전인 경우, 유체공급부와 연결되는 제1 바이패스관을 통해 공급받는 유체를 이용하여 오존 미세기포를 생성하고,
상기 반응챔버에서 상기 처리수가 생성되는 경우, 상기 반응챔버로부터 상기 처리수를 유출시키기 위한 처리수유출관과 연결되는 제2 바이패스관을 통해 공급받는 처리수의 일부를 이용하여 오존 미세기포를 생성하는 것을 특징으로 하는 자외선 및 오존 미세기포를 이용한 기포부상식 살균시스템.
The method of claim 1,
The ozone microbubble supply unit,
When the treated water is generated in the reaction chamber, ozone microbubbles are generated using the fluid supplied through the first bypass pipe connected to the fluid supply unit,
When the treated water is generated in the reaction chamber, ozone microbubbles are generated using a portion of the treated water supplied through a second bypass pipe connected to the treated water outlet pipe for discharging the treated water from the reaction chamber. Bubble floating sterilization system using ultraviolet and ozone microbubbles, characterized in that.
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